JP2001024288A - Semiconductor optical control element - Google Patents

Semiconductor optical control element

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JP2001024288A
JP2001024288A JP19226399A JP19226399A JP2001024288A JP 2001024288 A JP2001024288 A JP 2001024288A JP 19226399 A JP19226399 A JP 19226399A JP 19226399 A JP19226399 A JP 19226399A JP 2001024288 A JP2001024288 A JP 2001024288A
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active layer
wavelength
layer portion
band
thickness
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JP19226399A
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Japanese (ja)
Inventor
Takaaki Kakitsuka
孝明 硴塚
Takuo Hirono
卓夫 廣野
Shunji Seki
関  俊司
Yuzo Yoshikuni
裕三 吉國
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Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor optical control element having optical amplification function in a wire wavelength bandwidth. SOLUTION: A first active layer 21 wherein the band gap wavelength is λ1 and the thickness is w1, and a second active layer part 23 wherein the band gap wavelength is λ2 and the thickness is w2, sandwich a barrier layer 22. The relation of band gap wavelength is λ1<λ2. The relation of thickness is w1>w2. A wavelength bandwidth of the whole gain spectrum wherein gain spectrums obtained from the respective active layer parts 21-23 are superposed is spread by the sum of gain spectrums different in the wavelength band, an optical amplification region of wide band can be realized.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光増幅機能を有す
る半導体光制御素子に関し、より詳細には、複数の活性
層部分を積層形成した活性層により広帯域の光増幅領域
を実現する半導体光制御素子に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor light control device having an optical amplification function, and more particularly, to a semiconductor light control device for realizing a wide band optical amplification region by using an active layer in which a plurality of active layers are stacked. Related to the element.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、マルチメディア情報社会の発展に
ともない、情報通信におけるデータ量が飛躍的に増加し
ているため、高速でかつ大容量の通信システムの実現が
望まれている。このような急激に増大する情報データ量
の伝送を可能とするために、光ファイバを用いた光通信
システムが採用されている。また、従来の単一波長光を
用いた光通信システムに加えて、単一の光ファイバ中に
複数の異なる波長の信号光を通し、各波長光毎にデータ
をのせて伝送する波長分割多重(WDM)通信技術が進
んでいる。この波長分割多重通信技術は、帯域中に多く
の信号を詰め込んで通信量を飛躍的に増大させることに
よって、テラビット級の伝送システムを可能としたもの
である。
2. Description of the Related Art In recent years, with the development of the multimedia information society, the amount of data in information communication has been dramatically increased, so that a high-speed and large-capacity communication system has been desired. In order to enable the transmission of such a rapidly increasing amount of information data, an optical communication system using an optical fiber has been adopted. Further, in addition to the conventional optical communication system using single wavelength light, wavelength division multiplexing (hereinafter referred to as wavelength division multiplexing) that transmits signal light of a plurality of different wavelengths through a single optical fiber and carries data for each wavelength light and transmits the data. WDM) communication technology is advancing. This wavelength division multiplexing communication technology enables a terabit-class transmission system by packing a large number of signals in a band to dramatically increase the amount of communication.

【0003】このような光通信システムにおいては、光
の伝播にともなってシステム内で発生する光損失が大き
な問題となるが、これまで半導体光増幅器やファイバ増
幅器等を用いることによりその光損失を補っていた。特
に半導体光増幅器は、小型であることや集積化が容易で
あること等の理由から、光通信システムにおける重要な
地位を占めるものとして位置付けられ、その高性能化が
期待されている。
In such an optical communication system, light loss occurring in the system due to propagation of light is a major problem, but the light loss has been compensated for by using a semiconductor optical amplifier or fiber amplifier. I was In particular, semiconductor optical amplifiers are positioned as occupying an important position in optical communication systems because of their small size and easy integration, and their high performance is expected.

【0004】また、波長分割多重通信システム内におけ
る半導体光増幅器の動作を考慮した場合、全ての使用波
長帯域に対して均一の光増幅機能を有することが要求さ
れている。つまり、広い波長帯域にわたり平坦化された
利得スペクトルを得ることが求められている。
Further, in consideration of the operation of a semiconductor optical amplifier in a wavelength division multiplexing communication system, it is required to have a uniform optical amplification function for all wavelength bands used. That is, it is required to obtain a flat gain spectrum over a wide wavelength band.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、波長分
割多重通信システム内における半導体光増幅器の動作を
考慮した場合、現在、波長分割多重通信技術における使
用波長帯域は、光損失が最も小さい波長1550nmを
中心とするMバンド、つまり1530〜1570nmの
波長帯域が主として用いられているものであり、Lバン
ドである1570〜1610nmの波長帯の使用が検討
されているものの、より広い波長帯域を得るために、全
ての使用波長帯域に対して均一の光増幅機能を有するも
のとはなっていない。また、現存の半導体光増幅器、例
えば、バルク構造の活性層からなる半導体光増幅器は、
20nm程度の波長帯域であり、MバンドやLバンド、
さらにそれ以上のバンドにわたる広い波長帯域で平坦化
された利得スペクトルを得ることによって、飛躍的に増
大する通信量に対処できる状況にはなっていないという
問題がある。
However, in consideration of the operation of the semiconductor optical amplifier in the wavelength division multiplex communication system, the wavelength band currently used in the wavelength division multiplex communication technology is centered on the wavelength of 1550 nm where the optical loss is the smallest. The M band, that is, the wavelength band of 1530 to 1570 nm is mainly used, and although the use of the L band of 1570 to 1610 nm wavelength band is being studied, in order to obtain a wider wavelength band, It does not have a uniform optical amplification function for all the used wavelength bands. Also, existing semiconductor optical amplifiers, for example, a semiconductor optical amplifier comprising an active layer having a bulk structure,
It is a wavelength band of about 20 nm, M band, L band,
Furthermore, there is a problem that it is not possible to cope with a drastic increase in communication traffic by obtaining a gain spectrum that is flattened in a wide wavelength band over a further band.

【0006】本発明は、このような問題に鑑みてなされ
たもので、その目的とするところは、広い波長帯域にわ
たって光増幅機能を有する半導体光制御素子を提供する
ことにある。
The present invention has been made in view of such a problem, and an object of the present invention is to provide a semiconductor light control element having an optical amplification function over a wide wavelength band.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は、このような課
題を達成するために、電流注入による光増幅機能を有す
る活性層を備えた半導体光制御素子において、前記活性
層は、バンドギャップ波長の異なる複数の活性層部分を
有するとともに、該活性層部分よりも小さいバンドギャ
ップ波長を有する障壁層を介して互いに積層して構成さ
れているものである。
According to the present invention, there is provided a semiconductor light control device having an active layer having an optical amplification function by current injection, wherein the active layer has a band gap wavelength. And a plurality of active layer portions having different band gap wavelengths than the active layer portions.

【0008】また、前記活性層は、第1の活性層部分
と、該第1の活性層部分上に積層され、かつ該第1の活
性層部分よりも小さなバンドギャップ波長を有する障壁
層と、該障壁層上に積層され、かつ前記第1の活性層部
分よりも大きいバンドギャップ波長を有する第2の活性
層部分とを有するものである。
The active layer includes a first active layer portion, a barrier layer laminated on the first active layer portion and having a smaller bandgap wavelength than the first active layer portion. A second active layer portion having a bandgap wavelength larger than that of the first active layer portion, the second active layer portion being stacked on the barrier layer.

【0009】[0009]

【作用】電流注入による光増幅機能を有する活性層が、
バンドギャップ波長の異なる複数の活性層部分により積
層されていて、各活性層部分から得られる利得スペクト
ルを重ね合わせた全体の利得スペクトルが、異なる波長
帯域の利得スペクトルの和によってその波長帯域が広が
り、広帯域の光増幅領域を実現する。
The active layer having a light amplification function by current injection is
Stacked by a plurality of active layer portions having different bandgap wavelengths, the entire gain spectrum obtained by superimposing the gain spectra obtained from each active layer portion has its wavelength band expanded by the sum of the gain spectra of different wavelength bands, A wide-band optical amplification region is realized.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施例について説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0011】図1は、本発明の半導体光制御素子の一実
施例を示す斜視図で、図中符号1はn−InPからなる
基板で、基板1上には、幅0.4μmのメサストライプ
層2が配設されている。メサストライプ層2は、n−I
nPからなる厚さ1μmのクラッド層3と、その上に積
層された活性層4と、さらにその上に積層された厚さ
0.2μmのp−InP層5とにより構成されている。
FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of a semiconductor light control device according to the present invention. In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a substrate made of n-InP, and a mesa stripe having a width of 0.4 μm is formed on the substrate 1. Layer 2 is provided. The mesa stripe layer 2 has nI
It comprises a 1 μm thick cladding layer 3 of nP, an active layer 4 laminated thereon, and a 0.2 μm thick p-InP layer 5 further laminated thereon.

【0012】また、メサストライプ層2は、基板1上に
積層されたp−InPクラッド層7によって埋め込まれ
ており、さらにメサストライプ層2上には、n−InP
電流搾取層6が配設されている。さらに、p−InPク
ラッド層7上にはp電極8が配設されている。このよう
に構成された半導体光制御素子の素子長は600μmで
ある。
The mesa stripe layer 2 is buried by a p-InP clad layer 7 laminated on the substrate 1, and the n-InP
A current exploitation layer 6 is provided. Further, a p-electrode 8 is provided on the p-InP clad layer 7. The element length of the semiconductor light control element thus configured is 600 μm.

【0013】図2は、図1に示した半導体光制御素子を
構成する活性層の断面図で、図中符号13は第2の活性
層部分であり、バンドギャップ波長1.62μm、厚さ
0.1μmのInGaAsPで構成されている。符号1
2は第2の活性層部分13上に配設された障壁層であ
り、バンドギャップ波長1.3μm、厚さ0.05μm
のInGaAsPで構成されている。符号11は障壁層
12上に配設された第1の活性層部分であり、バンドギ
ャップ波長1.58μm、厚さ0.2μmのInGaA
sPで構成されている。この場合、活性層4の幅は0.
4μmである。
FIG. 2 is a cross-sectional view of the active layer constituting the semiconductor light control device shown in FIG. 1. In FIG. 2, reference numeral 13 denotes a second active layer portion, which has a band gap wavelength of 1.62 μm and a thickness of 0. .1 .mu.m InGaAsP. Sign 1
Reference numeral 2 denotes a barrier layer disposed on the second active layer portion 13, which has a band gap wavelength of 1.3 μm and a thickness of 0.05 μm.
Of InGaAsP. Reference numeral 11 denotes a first active layer portion disposed on the barrier layer 12, and has a bandgap wavelength of 1.58 μm and a thickness of 0.2 μm of InGaAs.
sP. In this case, the width of the active layer 4 is 0.
4 μm.

【0014】図3は、図2に示した活性層のバンド構造
を示す図で、図中符号21は第1の活性層部分で、図2
における第1の活性層部分11に相当し、また、符号2
2は障壁層で、図2における障壁層12に相当し、さら
に、符号23は第2の活性層部分で、図2における第2
の活性層部分13に相当する。
FIG. 3 is a diagram showing the band structure of the active layer shown in FIG. 2. In FIG. 3, reference numeral 21 denotes a first active layer portion.
Corresponds to the first active layer portion 11 in FIG.
Reference numeral 2 denotes a barrier layer, which corresponds to the barrier layer 12 in FIG. 2, and reference numeral 23 denotes a second active layer portion,
Of the active layer 13.

【0015】障壁層32を挟んでバンドギャップ波長λ
1、厚さw1の第1の活性層部分21と、バンドギャッ
プ波長λ2、厚さw2の第2の活性層部分23とからな
り、バンドギャップ波長の関係がλ1<λ2、厚さの関
係がw1>w2となるように構成されている。
The band gap wavelength λ sandwiching the barrier layer 32
1. Consisting of a first active layer portion 21 having a thickness w1 and a second active layer portion 23 having a band gap wavelength λ2 and a thickness w2, the band gap wavelength relationship is λ1 <λ2, and the thickness relationship is It is configured such that w1> w2.

【0016】このような構成された実施例において、ま
ず、活性層4に入射した光は、第1の活性層部分21及
び第2の活性層部分23で増幅を受けるが、入射光のう
ち波長λ1付近の光は、主として第1の活性層部分21
で増幅を受る一方、波長λ2付近の光は、主として第2
の活性層部分23において増幅を受ける。
In the embodiment having such a configuration, first, the light incident on the active layer 4 is amplified by the first active layer portion 21 and the second active layer portion 23. Light near λ1 is mainly emitted from the first active layer portion 21.
While the light near the wavelength λ2 is mainly
Are amplified in the active layer portion 23.

【0017】また、波長λ1の光は、第2の活性層部分
23における損失も同時に受ける。しかしながら、第1
の活性層部分21の厚さw1を第2の活性層部分23の
厚さw1よりも厚くしているため、光閉じ込めの効果が
大きく、大きい利得が得られるので、その利得により損
失を補うことができる。
Further, the light having the wavelength λ1 also suffers a loss in the second active layer portion 23 at the same time. However, the first
Since the thickness w1 of the active layer portion 21 is larger than the thickness w1 of the second active layer portion 23, the effect of light confinement is large and a large gain can be obtained. Can be.

【0018】したがって、活性層4の全体の利得スペク
トルは図4のように表される。横軸が波長で、縦軸が利
得を表わし、図中aは第1の活性層部分21から得られ
る利得スペクトル、bは第2の活性層部分23から得ら
れる利得スペクトル、cは活性層4の全体から得られる
利得スペクトルである。
Accordingly, the entire gain spectrum of the active layer 4 is represented as shown in FIG. The horizontal axis represents wavelength, and the vertical axis represents gain. In the figure, a is a gain spectrum obtained from the first active layer portion 21, b is a gain spectrum obtained from the second active layer portion 23, and c is an active layer 4. Is a gain spectrum obtained from the whole of.

【0019】図4に示したように、第1のInGaAs
P活性層部分21における波長1.55μm帯の利得ス
ペクトルと、第2のInGaAsP活性層部分23にお
ける波長1.58μm帯の利得スペクトルとの和によ
り、波長帯域の広がった全体の利得スペクトルが現れて
いる。この時1.55μm帯における利得スペクトル
は、図4から明らかなように、第2のInGaAsP活
性層部分23において吸収を受けるが、第1の活性層部
分21の厚さw1を大きくして利得を増加させることに
より、第2のInGaAsP活性層部分23における吸
収の効果を相殺している。
As shown in FIG. 4, the first InGaAs
The sum of the gain spectrum of the 1.55 μm wavelength band in the P active layer portion 21 and the gain spectrum of the 1.58 μm wavelength band in the second InGaAsP active layer portion 23 gives an overall gain spectrum with an expanded wavelength band. I have. At this time, the gain spectrum in the 1.55 μm band is absorbed in the second InGaAsP active layer portion 23 as apparent from FIG. 4, but the gain is increased by increasing the thickness w1 of the first active layer portion 21. The increase cancels out the absorption effect in the second InGaAsP active layer portion 23.

【0020】すなわち、第1の活性層部分21及び第2
の活性層部分23において、各バンドギャップ波長λ
1,λ2に対応する2個の異なる利得スペクトルが存在
し、全体の利得スペクトルはこれらの異なる利得を重ね
合わせたもの、つまり異なる波長帯の利得スペクトルの
和により、図示したように、波長帯域が平坦化されて広
がることになる。
That is, the first active layer portion 21 and the second
In the active layer portion 23, each band gap wavelength λ
1, there are two different gain spectra corresponding to λ2, and the overall gain spectrum is obtained by superimposing these different gains, that is, by summing the gain spectra of different wavelength bands, as shown in FIG. It will be flattened and spread.

【0021】図5は、本発明の半導体光制御素子におけ
る利得スペクトルと、従来構造による利得スペクトルと
を比較した図で、横軸が波長で、縦軸が利得を表わして
いる。
FIG. 5 is a diagram comparing the gain spectrum of the semiconductor light control device of the present invention with the gain spectrum of the conventional structure, wherein the horizontal axis represents the wavelength and the vertical axis represents the gain.

【0022】図5から明らかなように、従来構造のもの
と比較して広い波長帯域にわたる利得スペクトルが得ら
れ、活性層が一つである従来の光増幅器よりも利得スペ
クトルの広がりを有することは明らかである。このよう
に、広い波長帯域が得られることにより、広い波長領域
にわたる入射光を均一に増幅することが可能となる。
As is apparent from FIG. 5, a gain spectrum over a wider wavelength band can be obtained as compared with that of the conventional structure, and the gain spectrum is wider than that of the conventional optical amplifier having one active layer. it is obvious. Thus, by obtaining a wide wavelength band, it is possible to uniformly amplify incident light over a wide wavelength range.

【0023】なお、上述した実施例においては、活性層
部分を2層にして活性層を構成した場合について説明し
たが、活性層部分を3層以上に積層して活性層を構成す
る場合についても同様の効果を奏することは明らかであ
る。また、本発明の活性層は、バルク構造や量子井戸構
造のどちらに対しても適用できるので、これらの構造の
違いがあっても同様な効果が期待できる。
In the above-described embodiment, the case where the active layer is constituted by two active layers is described. However, the case where the active layer is constituted by laminating three or more active layers is also applicable. Obviously, a similar effect is achieved. Further, since the active layer of the present invention can be applied to both the bulk structure and the quantum well structure, similar effects can be expected even if there is a difference between these structures.

【0024】[0024]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、電
流注入による光増幅機能を有する活性層を備えた半導体
光制御素子において、活性層は、バンドギャップ波長の
異なる複数の活性層部分を有するとともに、活性層部分
よりも小さいバンドギャップ波長を有する障壁層を介し
て互いに積層して構成されており、また、活性層部分の
層厚は、バンドギャップ波長が大きいほど薄いので、広
帯域の光増幅領域において光増幅機能を有する光制御素
子を実現することが可能である。
As described above, according to the present invention, in a semiconductor light control device having an active layer having an optical amplification function by current injection, the active layer includes a plurality of active layer portions having different band gap wavelengths. And has a bandgap wavelength smaller than that of the active layer portion, and is stacked on each other via a barrier layer. The layer thickness of the active layer portion is thinner as the bandgap wavelength is larger. It is possible to realize a light control element having a light amplification function in the amplification region.

【0025】また、活性層は、第1の活性層部分と、第
1の活性層部分と積層され、かつ第1の活性層部分より
も小さなバンドギャップ波長を有する障壁層と、障壁層
と積層され、かつ第1の活性層部分よりも大きいバンド
ギャップ波長を有する第2の活性層部分を有するので、
全体のスペクトルが2つの形状の利得スペクトルを重ね
合わせることにより、広い波長帯域にわたる平坦化され
た利得スペクトルが実現できる。
The active layer has a first active layer portion, a barrier layer laminated with the first active layer portion, and a barrier layer having a smaller bandgap wavelength than the first active layer portion, and a laminate with the barrier layer. And has a second active layer portion having a larger bandgap wavelength than the first active layer portion,
By superimposing the gain spectrum having two shapes in the entire spectrum, a flattened gain spectrum over a wide wavelength band can be realized.

【0026】さらに、第1の活性層部分の厚さは第2の
活性層部分よりも厚いので、閉じ込め効果が大きくな
り、広帯域の光増幅機能を有する光制御素子が実現可能
である。さらに、バンドギャップ波長を任意に変化させ
ることにより、任意の使用波長に対応することができ
る。
Further, since the thickness of the first active layer is thicker than that of the second active layer, the confinement effect is increased, and an optical control element having a broadband optical amplification function can be realized. Further, by arbitrarily changing the bandgap wavelength, it is possible to cope with any used wavelength.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の半導体光制御素子の一実施例を示す斜
視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing one embodiment of a semiconductor light control element of the present invention.

【図2】図1に示した半導体光制御素子を構成する活性
層の断面図である。
FIG. 2 is a sectional view of an active layer included in the semiconductor light control device shown in FIG.

【図3】図2に示した活性層のバンド構造を示す説明図
である。
FIG. 3 is an explanatory diagram illustrating a band structure of an active layer illustrated in FIG. 2;

【図4】活性層の全体の利得スペクトルを示す説明図で
ある。
FIG. 4 is an explanatory diagram showing an overall gain spectrum of an active layer.

【図5】本発明の半導体光制御素子における利得スペク
トルと、従来構造における利得スペクトルとを比較した
説明図である。
FIG. 5 is an explanatory diagram comparing a gain spectrum of the semiconductor light control device of the present invention with a gain spectrum of a conventional structure.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 メサストライプ層 3 クラッド層 4 活性層 5 p−InP層 6 n−InP電流搾取層 7 p−InPクラッド層 8 p電極 11、21 第1の活性層部分 12、22 障壁層 13、23 第2の活性層部分 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Mesa stripe layer 3 Cladding layer 4 Active layer 5 p-InP layer 6 n-InP current extracting layer 7 p-InP cladding layer 8 p electrode 11, 21 First active layer portion 12, 22 Barrier layer 13, 23 Second active layer portion

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 関 俊司 東京都新宿区西新宿三丁目19番2号 日本 電信電話株式会社内 (72)発明者 吉國 裕三 東京都新宿区西新宿三丁目19番2号 日本 電信電話株式会社内 Fターム(参考) 5F073 AA72 BA01 CA12 EA29  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Shunji Seki 3-19-2 Nishi-Shinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo Inside Japan Telegraph and Telephone Corporation (72) Inventor Yuzo Yoshikuni 3- 192-1 Nishishinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo No. Nippon Telegraph and Telephone Corporation F-term (reference) 5F073 AA72 BA01 CA12 EA29

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 電流注入による光増幅機能を有する活性
層を備えた半導体光制御素子において、前記活性層は、
バンドギャップ波長の異なる複数の活性層部分を有する
とともに、該活性層部分よりも小さいバンドギャップ波
長を有する障壁層を介して互いに積層して構成されてい
ることを特徴とする半導体光制御素子。
1. A semiconductor light control device comprising an active layer having an optical amplification function by current injection, wherein the active layer comprises:
A semiconductor light control element comprising: a plurality of active layer portions having different band gap wavelengths; and stacked together via a barrier layer having a band gap wavelength smaller than the active layer portion.
【請求項2】 前記活性層部分の層厚は、バンドギャッ
プ波長が大きいほど薄いことを特徴とする請求項1記載
の半導体光制御素子。
2. The semiconductor light control device according to claim 1, wherein the layer thickness of the active layer portion is smaller as the band gap wavelength is larger.
【請求項3】 前記活性層は、前記活性層部分を2層有
することを特徴とする請求項1又は2記載の半導体光制
御素子。
3. The semiconductor light control device according to claim 1, wherein the active layer has two active layer portions.
【請求項4】 電流注入による光増幅機能を有する活性
層を備えた半導体光制御素子において、前記活性層は、
第1の活性層部分と、該第1の活性層部分上に積層さ
れ、かつ該第1の活性層部分よりも小さなバンドギャッ
プ波長を有する障壁層と、該障壁層上に積層され、かつ
前記第1の活性層部分よりも大きいバンドギャップ波長
を有する第2の活性層部分とを有することを特徴とする
半導体光制御素子。
4. A semiconductor light control device having an active layer having an optical amplification function by current injection, wherein the active layer comprises:
A first active layer portion, a barrier layer laminated on the first active layer portion, and having a smaller bandgap wavelength than the first active layer portion, a barrier layer laminated on the barrier layer, and A second active layer portion having a bandgap wavelength larger than that of the first active layer portion.
【請求項5】 前記第1の活性層部分の厚さは、前記第
2の活性層部分の厚さよりも厚いことを特徴とする請求
項4記載の半導体光制御素子。
5. The semiconductor light control device according to claim 4, wherein a thickness of said first active layer portion is larger than a thickness of said second active layer portion.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2011199172A (en) * 2010-03-23 2011-10-06 Fujitsu Ltd Semiconductor optical waveform shaping device

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