JP2001020100A - Electrolytic working device for disk for magnetic recording medium and working method thereof - Google Patents

Electrolytic working device for disk for magnetic recording medium and working method thereof

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JP2001020100A
JP2001020100A JP11194224A JP19422499A JP2001020100A JP 2001020100 A JP2001020100 A JP 2001020100A JP 11194224 A JP11194224 A JP 11194224A JP 19422499 A JP19422499 A JP 19422499A JP 2001020100 A JP2001020100 A JP 2001020100A
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Japan
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disk
electrolytic solution
electrolyte
electrolytic
spindle
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JP11194224A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuyoshi Ogasawara
和義 小笠原
Kenji Katagiri
賢司 片桐
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Hitachi High Tech Corp
Original Assignee
Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To electrolytically etch the surface of a disk extremely precisely with a single disk processing by supplying an electrolytic liquid from a nozzle to the disk while driving to rotate the disk by a spindle. SOLUTION: Both surfaces of the front and the back of the disk 1 are electorlytically etched simultaneously by supporting the disk 1 with the spindle to drive to rotate the disk 1 and pressing an electrolytic liquid holding tape 10 on the surface of the disk 1 at a prescribed load by a pressing roller 11. The pressing roller 11 and the disk 1 are connected to DC power source to be worked as electrodes. The electrolytic liquid is supplied from the nozzle 19 constituting a nozzle unit toward an gap between the electrolytic liquid holding tape 10 and the pressing roller 11 to impregnate the electrolytic liquid holding tape 10 with the electrolytic liquid, the excess electrolytic liquid is retained in a nearly V-shaped groove formed between the electrolytic liquid holding tape 10 and the pressing roller 11 and the electrolytic liquid holding tape 10 is travelled in the direction to be drawn downward from an electrolytic liquid retaining part.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体用デ
ィスクの製造工程において、電解液による表面処理を行
うための磁気記録媒体用ディスクの電解加工装置及び電
解加工方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic recording medium disk electrolytic processing apparatus and method for performing a surface treatment with an electrolytic solution in a magnetic recording medium disk manufacturing process.

【0002】[0002]

【従来の技術】コンピュータ等の情報記録媒体として用
いられる磁気記録媒体用ディスクは、一般に円環状の磁
気ディスクで構成される。磁気ディスクとしては、例え
ばアルミニウム合金等からなる基板にアルマイト処理や
非磁性メッキ処理等を施してなる非磁性基板の表裏両面
にクロム等の下地層を積層した上で、磁気記録膜を形成
し、さらにこの磁気記録膜の表面に保護膜を積層する構
成としたものがある。このように、複数層の成膜を行う
前後には、ディスク(以下の説明では、基板から最終製
品としての磁気ディスクが製造されるまでのワークをデ
ィスクという)の表面に対して様々な表面処理が施され
る。この表面処理としては、例えばディスク表面を平滑
化して鏡面仕上げを行うポリッシング工程、磁気ヘッド
の浮上特性(CSS特性)を向上させる等のために、デ
ィスクの表面に微小な溝を形成するテクスチャ工程等が
あり、これらの工程の少なくとも一部をケミカルエッチ
ング処理の一種である電解エッチング加工を行うように
することは、例えば特開平8−171719号公報等に
示されているように、従来から広く知られている。
2. Description of the Related Art A disk for a magnetic recording medium used as an information recording medium of a computer or the like is generally constituted by an annular magnetic disk. As a magnetic disk, for example, a base layer made of aluminum alloy or the like is subjected to alumite treatment or non-magnetic plating treatment, etc. Furthermore, there is a configuration in which a protective film is laminated on the surface of the magnetic recording film. As described above, before and after the formation of a plurality of layers, various surface treatments are performed on the surface of a disk (in the following description, a work until a magnetic disk as a final product is manufactured from a substrate is referred to as a disk). Is applied. The surface treatment includes, for example, a polishing step of smoothing the disk surface to achieve a mirror finish, and a texturing step of forming minute grooves on the disk surface to improve the flying characteristics (CSS characteristics) of the magnetic head. It has been widely known that at least a part of these steps is subjected to electrolytic etching, which is a kind of chemical etching, as disclosed in, for example, JP-A-8-171719. Have been.

【0003】この従来技術に示されている電解エッチン
グ加工は、ディスクの表面に対して行われるテクスチャ
加工に引き続いて、ディスクを洗浄した後に、電解エッ
チング加工を施すようにしている。この処理によって、
テクスチャ加工後にディスク表面に存在する突起やバリ
等を取り除いて、鏡面状態に仕上げるようになし、かる
ディスクの表面にピット等を発生させずに突起,バリ等
を取り除くことができるようになる。
In the electrolytic etching shown in the prior art, after the texturing performed on the surface of the disk, the disk is washed and then subjected to the electrolytic etching. With this process,
After texture processing, protrusions, burrs, and the like existing on the disk surface are removed so that the disk is finished in a mirror-like state, and protrusions, burrs, and the like can be removed without generating pits and the like on the surface of the disk.

【0004】電解エッチング加工はディッピング方式で
行うのが一般的である。即ち、電解槽内に電解液を注入
し、ディスクをこの電解槽内において、その全体が電解
液に完全に浸漬させるようにセットし、電解液に電流を
流すことによって、電解エッチングが行われる。電解槽
内ではディスクは鉛直状態に支持されるものであり、デ
ィスクの下部側を3点で支持するようになし、複数枚の
ディスクを同時に浸漬させて処理を行うのが一般的であ
る。電解エッチング加工を行う際には、電解液に電流を
流す必要があるが、前述した特開平8−171719号
公報に開示されている装置では、電解槽内に浸漬させた
複数のディスクにおいて、相隣接するディスクが、つま
り奇数番目のディスクと偶数番目のディスクとが互に反
対の極性となる電極として機能させるようになし、交流
電源または直流電源から奇数番目と偶数番目との各ディ
スク間に電流を流すように構成している。しかも、電解
槽内で、多数のディスクをそれぞれ狭い間隔となるよう
に配置することによって、ディスク間の加工にばらつき
が生じるのを最小限に抑制している。
[0004] Generally, the electrolytic etching process is performed by a dipping method. That is, electrolytic etching is performed by injecting an electrolytic solution into the electrolytic bath, setting the disk in the electrolytic bath so that the disk is entirely immersed in the electrolytic bath, and passing a current through the electrolytic bath. In the electrolytic cell, the disk is supported vertically, and the lower side of the disk is generally supported at three points, and a plurality of disks are generally immersed at the same time for processing. When performing an electrolytic etching process, it is necessary to supply a current to the electrolytic solution. However, in the apparatus disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-171719, a plurality of disks immersed in an electrolytic cell are used. The adjacent disks, that is, the odd-numbered disks and the even-numbered disks function as electrodes having opposite polarities, and the electric current flows between the odd-numbered and even-numbered disks from the AC power supply or the DC power supply. Is configured to flow. In addition, by arranging a large number of disks at narrow intervals in the electrolytic cell, variations in processing between disks are minimized.

【0005】前述した従来技術による電解加工装置にあ
っては、所謂バッチ式でディッピング処理が行われる
が、ディスクの処理なり加工をバッチ式で行うのは適切
ではなく、1枚ずつ枚葉処理で行う方が望ましい場合が
ある。例えば、テクスチャ加工において、研磨テープと
ダイアモンドパウダ等からなる遊離砥粒を溶液に分散さ
せたスラリ液とを用い、ディスクをスピンドルに装着し
て、このディスクを回転駆動する間に、研磨テープを押
し付けローラによりディスク表面に所定の加圧力で押し
付けて、研磨テープを走行させると共に、この研磨テー
プにスラリ液を供給するテープ研磨方式により行うのが
一般的である。従って、このようなディスクの枚葉処理
を行う製造ラインの途中に、バッチ式の処理を行う電解
加工装置を組み込むのは、処理の効率化、装置構成の簡
略化の観点から望ましくはない。また、電解槽内に同時
に多数のディスクを浸漬させるのではなく、1枚ずつデ
ィスクを浸漬させるようにすれば一応は枚葉処理となる
が、スピンドルから取り出したディスクを槽に浸漬さ
せ、次いで槽から引き上げて、次の工程に送り出すとい
う操作が必要になることから、工数が増えて処理に時間
がかかるだけでなく、ハンドリング手段等の構成が複雑
になる等といった問題点がある。
In the above-described electrolytic processing apparatus according to the prior art, the so-called batch type dipping process is performed. However, it is not appropriate to perform the disk processing or the processing in a batch type. It may be desirable to do so. For example, in texture processing, using a polishing tape and a slurry liquid in which free abrasive grains composed of diamond powder or the like are dispersed in a solution, the disc is mounted on a spindle, and the polishing tape is pressed while the disc is driven to rotate. Generally, the polishing is carried out by a tape polishing method in which a polishing tape is run by being pressed against a disk surface by a roller with a predetermined pressing force, and a slurry liquid is supplied to the polishing tape. Therefore, it is not desirable to incorporate an electrolytic processing apparatus for performing batch-type processing in the middle of a production line for performing such single-wafer processing of disks from the viewpoint of processing efficiency and simplifying the apparatus configuration. Also, if a large number of disks are immersed in the electrolytic cell at the same time, instead of immersing the disks one by one, single-wafer processing will be performed, but the disk taken out from the spindle is immersed in the tank, It is necessary to perform an operation of pulling out from the next step and sending it out to the next step, so that there are problems that not only the number of steps is increased and the processing takes time, but also that the configuration of the handling means and the like becomes complicated.

【0006】ディスクをスピンドルに装架した状態で、
テクスチャ加工と電解エッチング加工とを同時に行える
ようにしたものが、特開平11−58205号公報に提
案されている。この公報に示されている加工装置は、ス
ピンドルにより回転駆動されるディスクの表面に加工テ
ープを押し付けローラで押し付けた状態で、ディスクを
回転駆動すると共に、テープをディスク表面に沿って走
行させ、この間にノズルから研磨砥粒を含むスラリ液か
らなる加工液と、電解液との混合液をテープとディスク
との間に供給することによって、ディスクに対してテク
スチャ加工と電解によるエッチングとを行えるように構
成したものである。
With the disk mounted on the spindle,
Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-58205 proposes an apparatus which can simultaneously perform texture processing and electrolytic etching processing. The processing device disclosed in this publication drives the disk in a state where the processing tape is pressed against the surface of the disk that is rotationally driven by the spindle with a pressing roller, and at the same time, moves the tape along the disk surface. By supplying a mixed solution of a slurry solution containing abrasive grains from the nozzle to the tape and the disk from the nozzle, the disk can be subjected to texturing and electrolytic etching. It is composed.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この特
開平11−58205号公報に示された加工装置なり加
工方式には、極めて重大な問題点がある。即ち、ノズル
から滴下させた電解液は直接ディスクの表面と接触する
ことになり、従ってディスクの半径方向全体にわたって
均一に電解液を供給するのは極めて困難である。通常、
ノズルから滴下した電解液は、ノズルの下部位置からデ
ィスクの内周側及び外周側に広がるようになるが、電解
液の供給量は常にノズルの下部位置であるから、その位
置で最大となり、ディスクの内周側及び外周側で最小と
なる。従って、ディスク表面における電解液の供給量の
ばらつきに起因して加工むらが発生することになる。そ
こで、ノズルの本数を増やせば、ディスクの半径方向に
おける電解液の量のばらつきはある程度抑制されるが、
それでもディスクと接触する電解液の量を一定化するこ
とができず、加工後における同一ディスクの面内での加
工精度にばらつきが生じるのを防止できない。特に、近
年においては、磁気ディスクにおける情報記録密度の高
密度化を図るために、磁気ヘッドの浮上量は極めて微小
になり、従って磁気ディスクの表面に僅かな凹凸があっ
ても、ヘッドクラッシュを引き起こすおそれがある等と
いった不都合が生じる。
However, the processing apparatus and processing method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-58205 has a very serious problem. That is, the electrolytic solution dropped from the nozzle comes into direct contact with the surface of the disk, and it is extremely difficult to supply the electrolytic solution uniformly over the entire radial direction of the disk. Normal,
The electrolytic solution dropped from the nozzle spreads from the lower position of the nozzle to the inner peripheral side and the outer peripheral side of the disk.However, since the supply amount of the electrolytic solution is always at the lower position of the nozzle, the electrolytic liquid becomes the maximum at that position, Are minimum on the inner peripheral side and the outer peripheral side. Therefore, processing unevenness occurs due to variation in the supply amount of the electrolytic solution on the disk surface. Therefore, if the number of nozzles is increased, the variation in the amount of electrolyte in the radial direction of the disk is suppressed to some extent,
Nevertheless, the amount of the electrolytic solution in contact with the disk cannot be made constant, and it is impossible to prevent the processing accuracy within the same disk surface from being varied after the processing. In particular, in recent years, the flying height of the magnetic head has become extremely small in order to increase the information recording density of the magnetic disk. Therefore, even if there are slight irregularities on the surface of the magnetic disk, a head crash is caused. Inconveniences, such as the possibility of occurrence, occur.

【0008】本発明は以上の点に鑑みてなされたもので
あって、その目的とするところは、ディスクをスピンド
ルにより回転駆動する間に、電解液をノズルからディス
クに供給することにより枚葉処理で電解エッチング加工
を行うに当って、高精度な加工を可能にする電解加工装
置を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to provide a single-wafer processing by supplying an electrolytic solution from a nozzle to a disk while rotating the disk by a spindle. An object of the present invention is to provide an electrolytic processing apparatus that enables high-precision processing when performing electrolytic etching processing.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】前述した目的を達成する
ために、本発明は、磁気記録媒体用のディスクを回転駆
動するスピンドルと、電解液に対する浸透性のある電気
絶縁部材からなり、前記ディスクの表面に当接する電解
液保持部材と、前記電解液保持部材を所定の荷重を作用
させて前記ディスク表面に押し付ける押し付け部材と、
前記電解液保持部材と押し付け部材との間に電解液を供
給するノズルと、前記ディスクと前記押し付け部材とを
相対向する電極として、これら両電極間に電流を流すた
めの電源手段とを備える構成としたことをその特徴とす
るものである。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to achieve the above-mentioned object, the present invention comprises a spindle for rotating a disk for a magnetic recording medium and an electrically insulating member permeable to an electrolytic solution. An electrolyte holding member that abuts against the surface of the disk, a pressing member that presses the electrolyte holding member against the disk surface by applying a predetermined load.
A configuration comprising: a nozzle for supplying an electrolytic solution between the electrolytic solution holding member and the pressing member; and a power supply means for flowing an electric current between the disk and the pressing member as electrodes facing each other. The feature is that it is.

【0010】ここで、磁気記録媒体用のディスクは、磁
気ディスクとして構成されるものであるが、その基板と
しては、アルミニウム,銅等の金属で構成できる。ま
た、近年においては、磁気ディスク用の基板としてガラ
スを用いるようにしたものもあるが、ガラス製の基板に
はこの処理を適用することはできない。電解液として
は、硫酸,硝酸,りん酸等を含む種々のものから選択で
きる。そして、電解液保持部材が備えなければならない
特性としては、電気絶縁性を有するものであるが、さら
に電解液に対する浸透性が良好なもので構成する必要が
ある。従って、電解液保持部材は、所定の厚みを有する
シート状,テープ状等種々の形状のものとすることがで
きる。また、押し付け部材はブロック状、円弧状、ロー
ラ等の形状とすることができる。電解液保持部材はディ
スク表面に沿って走行させるのが望ましい。このために
は、電解液保持テープとして構成し、また押し付け部材
はこの電解液保持テープが巻回される押し付けローラで
構成する。電解液保持テープの走行方向はディスクの回
転方向に対して順方向でも、逆方向でも良いが、下方に
向けて走行させる。
Here, the disk for the magnetic recording medium is configured as a magnetic disk, and its substrate can be formed of a metal such as aluminum or copper. Further, in recent years, glass has been used as a substrate for a magnetic disk, but this process cannot be applied to a glass substrate. The electrolyte can be selected from various electrolytes including sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid and the like. The characteristic that the electrolytic solution holding member must have is that it has electrical insulation properties, but it is necessary to further configure the electrolytic solution holding member with good permeability to the electrolytic solution. Therefore, the electrolyte holding member can be formed into various shapes such as a sheet shape and a tape shape having a predetermined thickness. Further, the pressing member may be formed in a block shape, an arc shape, a roller shape or the like. The electrolyte holding member is desirably run along the disk surface. For this purpose, it is constituted as an electrolyte holding tape, and the pressing member is constituted by a pressing roller around which the electrolyte holding tape is wound. The running direction of the electrolytic solution holding tape may be either forward or backward with respect to the rotation direction of the disk, but the tape is run downward.

【0011】ディスクを鉛直状態に保持するためにスピ
ンドルを水平方向に向くように配置する。また、押し付
け部材はスピンドルの回転中心軸線に対して直交する方
向に向けて配置する。これによって、電解液保持部材と
押し付け部材との当接部の上部側に電解液溜め部を形成
することができる。電解液保持部材及び押し付け部材
は、ディスクの半径方向に向けて移動可能な構成として
も良いが、ディスクの内周側から外周部に及ぶ幅全体の
長さを持たせる方が望ましい。ノズルはこの電解液溜め
部に向けて電解液を供給するためのものである。ノズル
は1本でも良いが、ディスクの内周部から外周部までの
寸法にもよるが、ディスクの表面に沿う方向に向けて所
定のピッチ間隔で複数本設けるのが望ましい。さらに、
電源手段はスピンドルを介してディスクと電気的に接続
するようになし、また電源手段は直流電源または交流電
源のいずれから電源するようにしても良い。そして、デ
ィスクに対して電解エッチング加工を行うに当っては、
片面ずつ加工しても良いが、表裏両面を同時に加工する
こともできる。表裏両面同時加工を行う場合には、電解
液保持部材、押し付け部材及びノズルはディスクの表裏
両面側に2組設ければ良い。
In order to hold the disk in a vertical state, the spindle is arranged so as to be horizontally oriented. The pressing member is arranged in a direction orthogonal to the rotation center axis of the spindle. Thus, an electrolyte reservoir can be formed above the contact portion between the electrolyte holding member and the pressing member. The electrolyte holding member and the pressing member may be configured to be movable in the radial direction of the disk, but it is desirable that the entire length of the disk extends from the inner peripheral side to the outer peripheral side. The nozzle is for supplying the electrolyte toward the electrolyte reservoir. A single nozzle may be used, but it is desirable to provide a plurality of nozzles at a predetermined pitch in the direction along the surface of the disk, depending on the size from the inner peripheral portion to the outer peripheral portion of the disk. further,
The power supply means may be electrically connected to the disk via the spindle, and the power supply means may be powered from either a DC power supply or an AC power supply. Then, when performing electrolytic etching on the disk,
One side may be processed at a time, but both sides may be processed simultaneously. In the case of simultaneous processing on the front and back surfaces, two sets of the electrolyte holding member, the pressing member, and the nozzle may be provided on both the front and back surfaces of the disk.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、図面に基づいて本発明の実
施の形態について説明する。なお、本発明はこの実施の
形態に限定されるものではないことは言うまでもない。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. It goes without saying that the present invention is not limited to this embodiment.

【0013】まず、図1において、1は電解エッチング
加工による表面処理が行われるディスクであって、この
ディスク1は円環状の金属基板からなり、スピンドル2
の先端に装架されて、このスピンドル2により回転駆動
される。スピンドル2は軸受3を介して支持部材4に支
持されており、このスピンドル2の基端部には図示しな
いモータ等の回転駆動手段からの回転動力が伝達される
伝達ベルト5が巻回されるプーリ6が取り付けられてい
る。ここで、支持部材4は垂直方向に設けられ、スピン
ドル2の回転中心線は水平方向に向いている。そして、
スピンドル2の先端にはクランプ部材2aが着脱可能に
連結され、ディスク1はスピンドル2の先端面とクラン
プ部材2aとの間に挾持されることになる。
First, in FIG. 1, reference numeral 1 denotes a disk to be subjected to a surface treatment by electrolytic etching, and this disk 1 is made of an annular metal substrate and has a spindle 2
And is rotationally driven by the spindle 2. The spindle 2 is supported by a support member 4 via a bearing 3, and a transmission belt 5 to which rotation power from rotation driving means such as a motor (not shown) is transmitted is wound around a base end of the spindle 2. A pulley 6 is attached. Here, the support member 4 is provided in the vertical direction, and the rotation center line of the spindle 2 is oriented in the horizontal direction. And
A clamp member 2a is detachably connected to the tip of the spindle 2, and the disk 1 is held between the tip surface of the spindle 2 and the clamp member 2a.

【0014】而して、図2に示したように、ディスク1
の表裏両面に対して同時に電解エッチング加工が行われ
るようになっている。このために、ディスク1の表裏両
面側には、それぞれ電解液保持部材としての電解液保持
テープ10,10と、押し付け部材としての押し付けロ
ーラ11,11が対向配置される。押し付けローラ11
は電解液保持テープ10をディスク1の表裏両面に対し
て所定の荷重で押し当てるためのものである。図3に示
したように、ディスク1の内周縁と外周縁との間隔、つ
まりディスク1の幅B1 に対して、押し付けローラ11
及びこの押し付けローラ11に巻回した電解液保持テー
プ10の幅寸法B2 は十分大きいものであり、従ってデ
ィスク1の内周縁(クランプ部材2aによりクランプさ
れている部位)乃至その近傍位置からディスク1の幅B
1 の全体を覆うようになっている。また、押し付けロー
ラ11の軸線は、スピンドル2の中心軸線を含む水平面
において、このスピンドル2の中心軸線に対して直交す
る方向に延在されている。従って、この押し付けローラ
11の軸線も水平方向に配置されている。また、電解液
保持テープ10はディスク1の表面に沿って走行するよ
うになっており、従って、図示は省略するが、電解液保
持テープ10の走行方向において、押し付けローラ11
への巻回位置より下流側において、駆動ローラ及びピン
チローラ等から構成するテープ走行手段が設けられる。
Thus, as shown in FIG.
Are simultaneously subjected to electrolytic etching. For this purpose, on both front and back sides of the disk 1, electrolytic solution holding tapes 10 and 10 as electrolytic solution holding members and pressing rollers 11 and 11 as pressing members are respectively opposed to each other. Pressing roller 11
Is for pressing the electrolyte holding tape 10 against both the front and back surfaces of the disk 1 with a predetermined load. As shown in FIG. 3, the distance between the inner and outer peripheral edge of the disk 1, i.e. the width B 1 of the disk 1, the pressing roller 11
The width B 2 of the electrolytic solution holding tape 10 wound around the pressing roller 11 is sufficiently large, and therefore, the disk 1 is moved from the inner peripheral edge of the disk 1 (the portion clamped by the clamp member 2a) or its vicinity. Width B
It is designed to cover the whole of 1 . The axis of the pressing roller 11 extends on a horizontal plane including the center axis of the spindle 2 in a direction orthogonal to the center axis of the spindle 2. Therefore, the axis of the pressing roller 11 is also arranged in the horizontal direction. Further, the electrolyte holding tape 10 runs along the surface of the disk 1. Therefore, although not shown, the pressing roller 11 is moved in the running direction of the electrolyte holding tape 10.
On the downstream side of the winding position, a tape running means including a driving roller and a pinch roller is provided.

【0015】図3から明らかなように、押し付けローラ
11には軸12が連結されており、この軸12はスイン
グアーム13に回転自在に装着されている。従って、電
解液保持テープ10を走行させると、押し付けローラ1
1はこれに追従回転することになる。そして、押し付け
ローラ11は、少なくとも外周側が所定の厚みを有する
導電性ゴム11aで構成され、この導電性ゴム11aは
芯金11bに貼り付けるように装着されている。スイン
グアーム13は押し付けローラ11の連結部から上方に
延在されており、その上端部は支軸14に連結されてお
り、これによりスイングアーム13は支軸14を中心と
した振り子運動をするようになっており、所定角度だけ
往復回動させることによって、押し付けローラ11をデ
ィスク1に当接させたり、ディスク1から離間させたり
することができる。
As is apparent from FIG. 3, a shaft 12 is connected to the pressing roller 11, and the shaft 12 is rotatably mounted on the swing arm 13. Therefore, when the electrolytic solution holding tape 10 is run, the pressing roller 1
1 follows this rotation. The pressing roller 11 is formed of a conductive rubber 11a having a predetermined thickness at least on the outer peripheral side, and the conductive rubber 11a is mounted so as to be attached to the core metal 11b. The swing arm 13 extends upward from a connection portion of the pressing roller 11, and has an upper end connected to a support shaft 14, so that the swing arm 13 performs a pendulum motion about the support shaft 14. By reciprocating by a predetermined angle, the pressing roller 11 can be brought into contact with the disk 1 or separated from the disk 1.

【0016】15,15はノズルユニットを示し、これ
ら各ノズルユニット15はディスク1の両側に配置した
それぞれのスイングアーム13に支持して設けられてい
る。ノズルユニット15からは電解液保持テープ10と
押し付けローラ11との間に向けて電解液が供給され
る。ノズルユニット15は、図4に示したように、スイ
ングアーム13に連結して設けたブラケット16と、こ
のブラケット16に対して軸支部17により角度調整可
能に連結した支持ブロック18と、この支持ブロック1
8に取り付けた複数本(図4においては3本)のノズル
19とを有し、各ノズル19には電解液供給チューブ2
0が接続されている。これら3本設けたノズル19は、
その中央に位置するノズルがディスク1の幅方向の中間
位置に配置され、また左右両側のノズルは中央のものか
らディスク1の内周側及び外周側にそれぞれ等しい距離
だけ離れた位置となっている。
Numerals 15 and 15 denote nozzle units. Each of the nozzle units 15 is provided so as to be supported by a respective swing arm 13 arranged on both sides of the disk 1. The electrolytic solution is supplied from the nozzle unit 15 to between the electrolytic solution holding tape 10 and the pressing roller 11. As shown in FIG. 4, the nozzle unit 15 includes a bracket 16 connected to the swing arm 13, a support block 18 connected to the bracket 16 by a shaft support 17 so as to be adjustable in angle, and a support block 18. 1
And a plurality (three in FIG. 4) of nozzles 19 attached to each of the nozzles 8.
0 is connected. These three nozzles 19 are
The nozzle located at the center of the disk 1 is located at an intermediate position in the width direction of the disk 1, and the nozzles on both the left and right sides are located at the same distance from the center nozzle on the inner peripheral side and the outer peripheral side of the disk 1. .

【0017】さらに、図2において、21は電源手段を
構成する直流電源であり、この直流電源21は、スピン
ドル2を介してディスク1と電気的に接続されており、
またこのディスク1の表裏両面に対向配設した両押し付
けローラ11とも電気的に接続されている。ここで、押
し付けローラ11は芯金11bと導電性ゴム11aとで
構成されることから、直流電源21は、最終的には導電
ゴム11aと電気的に接続される。従って、電解エッチ
ング加工を行うに当っては、ディスク1と両押し付けロ
ーラ11とが相対向する電極となる。そして、2つの押
し付けローラ11,11は同じ電位に保持される。具体
的には、押し付けローラ11の外周面が導電ゴム11a
となっているので、直流電源21と軸12との間にはス
リップリング等が設けられ、最終的には導電ゴム11a
に電源が供給される。これによって、相対向する電極を
構成するディスク1の表裏両面と押し付けローラ11,
11との間には、電解液保持テープ10及びこの電解液
保持テープ10に含浸させた電解液を介して所定の電圧
が印加されることになる。なお、電源手段は交流電源で
構成することもできる。
Further, in FIG. 2, reference numeral 21 denotes a DC power supply which constitutes power supply means. The DC power supply 21 is electrically connected to the disk 1 via the spindle 2;
The disc 1 is also electrically connected to both pressing rollers 11 disposed on both sides of the disc 1. Here, since the pressing roller 11 includes the core metal 11b and the conductive rubber 11a, the DC power supply 21 is finally electrically connected to the conductive rubber 11a. Therefore, when performing the electrolytic etching process, the disk 1 and the two pressing rollers 11 become electrodes facing each other. Then, the two pressing rollers 11, 11 are maintained at the same potential. Specifically, the outer peripheral surface of the pressing roller 11 is
Therefore, a slip ring or the like is provided between the DC power supply 21 and the shaft 12, and finally the conductive rubber 11a
Is supplied with power. As a result, both the front and back surfaces of the disk 1 constituting the electrodes facing each other and the pressing rollers 11,
11, a predetermined voltage is applied via the electrolyte holding tape 10 and the electrolyte impregnated in the electrolyte holding tape 10. Incidentally, the power supply means may be constituted by an AC power supply.

【0018】以上のように構成される電解加工装置を用
いてディスク1を電解エッチング加工を行うに当って
は、例えば前工程において、ディスク1に対してテープ
研磨を施し、次いでその表面の洗浄及び乾燥を行った後
に、スピンドル2に装架する。而して、テープ研磨及び
洗浄、さらには乾燥は、それぞれディスク1をスピンド
ルに装架した状態で行うことができる。従って、このよ
うに構成すれば、ディスクハンドリング手段によって、
ディスク1を順次各ステーションに設けたスピンドルに
移載することにより、処理を進行させることができる。
When the disk 1 is subjected to electrolytic etching using the electrolytic processing apparatus having the above-described structure, for example, in the previous step, the disk 1 is polished with a tape, and then its surface is cleaned and cleaned. After drying, the spindle 2 is mounted. Thus, the tape polishing, cleaning, and drying can be performed with the disk 1 mounted on the spindle. Therefore, with this configuration, the disk handling means
The processing can be advanced by sequentially transferring the disks 1 to the spindles provided in the respective stations.

【0019】スピンドル2にディスク1を装架するに当
っては、両スイングアーム13を開く方向に作動させ
て、スピンドル2の先端部分を開放すると共に、クラン
プ部材2aをスピンドル2の先端から離脱させる。この
状態で、適宜のディスクハンドリング手段でディスク1
をスピンドル2に接合させて、クランプ部材2aをスピ
ンドル2に接続することによって、ディスク1をクラン
プさせる。そして、スピンドル2を回転駆動してディス
ク1を回転させながら、両スイングアーム13をディス
ク1に近接する方向に変位させて、押し付けローラ11
に巻回させた電解液保持テープ10をディスク1の表裏
両面に所定の押し付け荷重となるようにして圧接させ
る。
In mounting the disk 1 on the spindle 2, both swing arms 13 are actuated in the opening direction to open the tip of the spindle 2 and to release the clamp member 2 a from the tip of the spindle 2. . In this state, the disc 1 is
Is connected to the spindle 2 and the clamp member 2 a is connected to the spindle 2 to clamp the disk 1. While rotating the spindle 2 to rotate the disk 1, both swing arms 13 are displaced in the direction approaching the disk 1, and the pressing rollers 11
The electrolytic solution holding tape 10 wound around the disk 1 is pressed against the front and back surfaces of the disk 1 so that a predetermined pressing load is applied.

【0020】この状態で、両ノズルユニット15にそれ
ぞれ設けた各3本のノズル19から電解液を供給すると
共に、直流電源21によりディスク1の表裏両面と押し
付けローラ11,11との間に所定の電圧を印加するこ
とによって、ディスク1の表裏両面に対して電解エッチ
ング加工が行われる。ここで、電解液としては、例え
ば、硫酸,硝酸,塩酸,クロム酸等からなる酸の少なく
とも1種類を所定の濃度とした水溶液を用いることがで
きる。
In this state, an electrolytic solution is supplied from each of the three nozzles 19 provided in each of the nozzle units 15, and a predetermined power is applied between the front and back surfaces of the disk 1 and the pressing rollers 11 by a DC power supply 21. By applying a voltage, electrolytic etching is performed on both the front and back surfaces of the disk 1. Here, as the electrolytic solution, for example, an aqueous solution in which at least one kind of acid composed of sulfuric acid, nitric acid, hydrochloric acid, chromic acid or the like has a predetermined concentration can be used.

【0021】而して、ノズルユニット15を構成する3
本のノズル19から供給される電解液は電解液保持テー
プ10の押し付けローラ11への巻回始端位置であり、
しかもこの電解液保持テープ10と押し付けローラ11
との間の位置に供給される。ここで、電解液保持テープ
10は、例えば不織布等からなり、電気的には絶縁部材
であり、かつ液体、つまり電解液の浸透性が良好なテー
プで構成される。しかも、この電解液保持テープ10
は、0.5〜1mm程度というように、比較的厚手のも
のを用い、加圧力が加わった時には、圧縮されてある程
度厚みが減少するものがより望ましい。ノズル19から
供給される電解液は、電解液保持テープ10と押し付け
ローラ11との間の位置であれば、どの位置に供給して
も良いが、電解液保持テープ10における巻回始端位置
の直前に向けて電解液を供給すると、電解液は電解液保
持テープ10により迅速に浸透することになる。
Thus, 3 constituting the nozzle unit 15
The electrolytic solution supplied from the nozzle 19 is a winding start end position of the electrolytic solution holding tape 10 around the pressing roller 11,
Moreover, the electrolyte holding tape 10 and the pressing roller 11
Supplied to a location between Here, the electrolytic solution holding tape 10 is made of, for example, a nonwoven fabric, is an electrically insulating member, and is formed of a liquid, that is, a tape having good permeability of the electrolytic solution. Moreover, the electrolyte holding tape 10
It is more desirable that a relatively thick material such as about 0.5 to 1 mm be used, and that the material be compressed to reduce the thickness to some extent when a pressing force is applied. The electrolytic solution supplied from the nozzle 19 may be supplied to any position as long as the position is between the electrolytic solution holding tape 10 and the pressing roller 11, but immediately before the winding start end position on the electrolytic solution holding tape 10. When the electrolytic solution is supplied to the electrolyte solution, the electrolytic solution permeates the electrolyte retaining tape 10 more quickly.

【0022】3本のノズル19から供給された電解液
は、図5からも明らかなように、電解液保持テープ10
と押し付けローラ11との間に形成される概略V字状の
溝に溜るようになる。つまり、この溝が電解液溜め部と
して機能することになり、電解液保持テープ10がこの
電解液溜め部内で、毛細管現象により幅全体にわたって
均一に電解液を含浸する。しかも、電解液溜め部内に供
給された電解液のうち、電解液保持テープ10に含浸さ
れない余剰分は、表面張力の作用で溝の長さ方向に向け
て広がるり溝の長さ方向に広がるようにして、電解液保
持テープ10と押し付けローラ11との間に保持され
る。そこで、押し付けローラ11の半径を大きくすると
共に、電解液保持テープ10を垂直方向から押し付けロ
ーラ11に巻回する方向に所定の角度傾斜するようにし
て走行させることによって、溝の幅が狭く、しかも深さ
を深くすることができる。その結果、電解液保持テープ
10は、その幅全体にわたって均一に、実質的には飽和
状態になるまで電解液が含浸される。しかも、電解液溜
め部を構成する溝の両端は開口しているものの、表面張
力の作用により所定量の電解液は溝内に確実に保持さ
れ、両端の開口部分から溢出することはない。従って、
図5において、電解液保持テープ10のディスク1に対
すると接触直前位置にDで示した深さを有する電解液溜
め部が形成されることになり、電解液保持テープ10は
この深さDに相当する距離だけ走行する間に、つまり電
解液がディスク1の表面と接触して実際に作用する前の
段階で、その幅方向の全体にわたって実質的に飽和状態
になるまで電解液が含浸される。
As is clear from FIG. 5, the electrolytic solution supplied from the three nozzles 19 is
And the pressing roller 11 collects in a substantially V-shaped groove. In other words, the groove functions as an electrolyte reservoir, and the electrolyte holding tape 10 uniformly impregnates the electrolyte throughout the entire width of the electrolyte reservoir by capillary action. In addition, of the electrolyte supplied to the electrolyte reservoir, the excess not impregnated in the electrolyte holding tape 10 spreads in the length direction of the groove due to the action of surface tension. Then, it is held between the electrolytic solution holding tape 10 and the pressing roller 11. Therefore, the width of the groove is reduced by increasing the radius of the pressing roller 11 and running the electrolytic solution holding tape 10 at a predetermined angle in the direction of winding around the pressing roller 11 from the vertical direction. The depth can be increased. As a result, the electrolyte holding tape 10 is impregnated with the electrolyte uniformly over its entire width until it is substantially saturated. In addition, although both ends of the groove forming the electrolyte reservoir are open, a predetermined amount of the electrolyte is reliably held in the groove by the action of surface tension, and does not overflow from the openings at both ends. Therefore,
In FIG. 5, an electrolytic solution storage portion having a depth indicated by D is formed at a position immediately before contact of the electrolytic solution holding tape 10 with the disk 1, and the electrolytic solution holding tape 10 corresponds to this depth D. The electrolyte is impregnated during traveling for a certain distance, that is, before the electrolyte actually comes into contact with the surface of the disk 1 until the electrolyte is substantially saturated over its entire width.

【0023】電解液を実質的に飽和状態にまで含浸した
電解液保持テープ10は押し付けローラ11により所定
の荷重をもってディスク1に圧接される。そして、この
電解液保持テープ10の送り方向は、図5に矢印で示し
たように、電解液溜め部から下方に引き込む方向となる
結果、多量の電解液を含浸させたままで、押し付けロー
ラ11との間に供給されることになる。しかも、この押
し付けローラ11は所定の押し付け力で電解液保持テー
プ10をディスク1の表面に押し付け、この押し付け力
によって、電解液保持テープ10が所定の厚みにまで圧
縮されるので、この電解液保持テープ10の圧縮作用に
より、押し付けローラ11とディスク1との間隔が一定
に保持される。そして、電解エッチング加工時に消費さ
れる電解液の量に見合った量の電解液をノズル19から
順次補給することによって、常にほぼ一定量の電解液が
電解液溜め部の内部に滞留することになる。
The electrolyte holding tape 10 impregnated with the electrolyte to a substantially saturated state is pressed against the disk 1 by a pressing roller 11 with a predetermined load. Then, as shown by an arrow in FIG. 5, the feeding direction of the electrolyte holding tape 10 is a direction in which the electrolyte holding tape 10 is drawn downward from the electrolyte reservoir, and as a result, a large amount of the electrolyte is impregnated with the pressing roller 11. Will be supplied during. In addition, the pressing roller 11 presses the electrolyte holding tape 10 against the surface of the disk 1 with a predetermined pressing force, and the pressing force compresses the electrolyte holding tape 10 to a predetermined thickness. Due to the compressing action of the tape 10, the distance between the pressing roller 11 and the disk 1 is kept constant. Then, by successively replenishing an amount of the electrolytic solution corresponding to the amount of the electrolytic solution consumed during the electrolytic etching process from the nozzle 19, a substantially constant amount of the electrolytic solution always stays inside the electrolytic solution reservoir. .

【0024】押し付けローラ11とディスク1とは、そ
れぞれ電極を構成するものであり、その間には直流電源
21により所定の電圧が印加されている。しかも、その
間には電解液保持テープ10の厚み分だけ離間してお
り、かつこの間には電解液が介在している。この結果、
ディスク1の表面において、その半径方向の全長にほぼ
均一な量の電解液が介在することになる。そして、ディ
スク1は回転することから、ディスク1の全周全面に及
ぶように、均一なエッチングが行われて表裏両面がエッ
チング作用により鏡面状態になり、しかも極めて高い面
精度を維持することになる。
The pressing roller 11 and the disk 1 constitute electrodes, respectively, and a DC power supply 21 applies a predetermined voltage between them. In addition, the gap is separated by the thickness of the electrolyte holding tape 10 therebetween, and the electrolyte is interposed therebetween. As a result,
On the surface of the disk 1, a substantially uniform amount of the electrolytic solution is interposed over the entire length in the radial direction. Then, since the disc 1 rotates, uniform etching is performed so as to cover the entire circumference of the disc 1, and the front and rear surfaces are mirror-finished by the etching action, and extremely high surface precision is maintained. .

【0025】ここで、加工時におけるディスク1の回転
方向は、電解液保持テープ10の走行方向と同じであっ
ても、またはそれとは反対方向であっても良い。ただ
し、電解加工を施すものであるから、ディスク1は電解
液と接触する時間を長くし、しかもディスク1の表面に
対する電解液保持テープ10の接触面積を大きくする必
要がある。このためには、ディスク1を回転駆動するス
ピンドル2の回転速度を遅くし、しかも電解液保持テー
プ10をディスク1の表面に押し付ける押し付けローラ
11の外径を大きくする。さらに、押し付けローラ11
の外周部は導電性ゴム11aで形成されているので、こ
の導電性ゴム11aをある程度押圧変形させることによ
って、電解液を含浸した電解液保持テープ10が広い面
積で相対向する電極を構成するディスク1の表面及び押
し付けローラ11に当接することになる。この結果、電
解エッチング加工をより迅速に、しかも効率的に行わせ
ることができる。
Here, the rotating direction of the disk 1 during processing may be the same as the running direction of the electrolytic solution holding tape 10, or may be the opposite direction. However, since the electrolytic processing is performed, it is necessary to increase the contact time of the disk 1 with the electrolytic solution and to increase the contact area of the electrolytic solution holding tape 10 with the surface of the disk 1. For this purpose, the rotation speed of the spindle 2 for rotating the disk 1 is reduced, and the outer diameter of the pressing roller 11 for pressing the electrolyte holding tape 10 against the surface of the disk 1 is increased. Further, the pressing roller 11
Is formed of conductive rubber 11a, the conductive rubber 11a is pressed and deformed to a certain extent, so that the electrolyte holding tape 10 impregnated with the electrolyte forms electrodes facing each other in a wide area. 1 and the pressing roller 11. As a result, the electrolytic etching can be performed more quickly and efficiently.

【0026】ディスク1に対する電解エッチング加工が
終了すると、スピンドル2にディスク1の掛け替えを行
う。このためには、まずスピンドル2の回転を停止させ
ると共に、スイングアーム13を作動させて、電解液保
持テープ10及び押し付けローラ11をディスク1の表
裏両面から離間させる。この操作は、スイングアーム1
3をディスク1から離間する方向にスイングさせること
により行われる。この時には、電解液保持テープ10は
停止状態にし、かつノズル19からの電解液の供給を遮
断する。ここで、電解エッチングが終了した後にも、電
解液保持テープ10と押し付けローラ11との間の電解
液溜め部内はある程度の量の電解液が滞留しているが、
スイングアーム13のストロークを必要最小限に抑制
し、かつスイング動作をある程度遅くすることによっ
て、電解液溜め部内の電解液が溢出することはない。
When the electrolytic etching of the disk 1 is completed, the spindle 2 is replaced with the disk 1. For this purpose, first, the rotation of the spindle 2 is stopped, and the swing arm 13 is operated to separate the electrolytic solution holding tape 10 and the pressing roller 11 from both the front and back surfaces of the disk 1. This operation is performed on the swing arm 1
3 is made to swing away from the disk 1. At this time, the electrolyte holding tape 10 is stopped, and the supply of the electrolyte from the nozzle 19 is shut off. Here, even after the electrolytic etching is completed, a certain amount of electrolyte stays in the electrolyte reservoir between the electrolyte holding tape 10 and the pressing roller 11,
By suppressing the stroke of the swing arm 13 to a necessary minimum and slowing down the swing operation to some extent, the electrolyte in the electrolyte reservoir does not overflow.

【0027】以上の状態で、クランプ部材2aをスピン
ドル2から離脱させた後に、適宜のハンドリング手段で
加工が終了したディスク1を取り出して次の工程に移載
し、次いで新たなディスク1をスピンドル2に装架し
て、クランプ部材2aによりディスク1をクランプさせ
る。そして、スピンドル2を作動させてディスク1を回
転させ、この間にスイングアーム13をディスク1に近
接する方向に変位させて、押し付けローラ11により電
解液保持テープ10をディスク1に圧接させることによ
り、当該のディスク1に対する電解エッチング加工を開
始できる。
After the clamp member 2a is detached from the spindle 2 in the above state, the processed disk 1 is taken out by an appropriate handling means and transferred to the next step. And the disk 1 is clamped by the clamp member 2a. Then, the spindle 2 is operated to rotate the disk 1, and during this time, the swing arm 13 is displaced in a direction approaching the disk 1, and the electrolytic solution holding tape 10 is pressed against the disk 1 by the pressing roller 11. Of the disk 1 can be started.

【0028】前工程として、ディスク1をスピンドルに
装架してテクスチャ加工、ディスク洗浄、ディスク乾燥
を行い、また後工程でもディスク1をスピンドルで回転
駆動しながら再び洗浄及び乾燥するようにしたラインに
おいて、前工程と後工程との間に電解エッチング工程を
設ける場合において、この電解エッチング工程でディス
ク1をスピンドル2に装架して行えるということは、工
程間にディスク1を移載する手段等の構成が簡略化さ
れ、かつディスク1の移載操作も簡単になり、装置のコ
ンパクト化も図ることができるようになる。
As a pre-process, the disk 1 is mounted on a spindle to perform texture processing, disc cleaning, and disc drying. In a post-process, the disc 1 is rotated and driven again by the spindle while cleaning and drying again. In the case where an electrolytic etching step is provided between the pre-step and the post-step, the fact that the disk 1 can be mounted on the spindle 2 in this electrolytic etching step means that the disk 1 can be transferred between steps. The configuration is simplified, the operation for transferring the disk 1 is simplified, and the apparatus can be made compact.

【0029】[0029]

【発明の効果】本発明は以上のように構成したので、デ
ィスクをスピンドルにより回転駆動する間に、電解液を
ノズルからディスクに供給することにより枚葉処理で電
解エッチング加工を行うことができるようになり、しか
もディスクの表面を極めて高精度に加工できる等の効果
を奏する。
Since the present invention is constructed as described above, it is possible to perform electrolytic etching by single-wafer processing by supplying an electrolytic solution from a nozzle to a disk while the disk is driven to rotate by a spindle. And the effect that the surface of the disk can be processed with extremely high precision.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の一形態を示すものであって、デ
ィスクを回転駆動するスピンドルの構成説明図である。
FIG. 1 illustrates an embodiment of the present invention, and is an explanatory diagram of a configuration of a spindle that rotationally drives a disk.

【図2】電解加工装置の概略構成図である。FIG. 2 is a schematic configuration diagram of an electrolytic processing apparatus.

【図3】図2のX−X断面図である。FIG. 3 is a sectional view taken along line XX of FIG. 2;

【図4】ノズルユニットの構成説明図である。FIG. 4 is a diagram illustrating the configuration of a nozzle unit.

【図5】電解エッチング加工を行っている状態を示す作
用説明図である。
FIG. 5 is an operation explanatory view showing a state where an electrolytic etching process is being performed.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ディスク 2 スピンドル 10 電解液保持テープ 11 押し付けローラ 11a 導電性ゴム 13 スイングアーム 15 ノズルユニット 19 ノズル 21 直流電源 Reference Signs List 1 disc 2 spindle 10 electrolyte retaining tape 11 pressing roller 11a conductive rubber 13 swing arm 15 nozzle unit 19 nozzle 21 DC power supply

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 磁気記録媒体用のディスクを回転駆動す
るスピンドルと、 電解液に対する浸透性のある電気絶縁部材からなり、前
記ディスクの表面に当接する電解液保持部材と、 前記電解液保持部材を所定の荷重を作用させて前記ディ
スク表面に押し付ける押し付け部材と、 前記電解液保持部材と押し付け部材との間に電解液を供
給するノズルと、 前記ディスクと前記押し付け部材とを相対向する電極と
して、これら両電極間に電流を流すための電源手段とを
備える構成としたことを特徴とする磁気記録媒体用ディ
スクの電解加工装置。
1. A spindle for rotating and driving a disk for a magnetic recording medium, an electric insulating member permeable to an electrolytic solution, and an electrolytic solution holding member in contact with a surface of the disk; A pressing member that applies a predetermined load to press against the disk surface, a nozzle that supplies an electrolytic solution between the electrolytic solution holding member and the pressing member, and an electrode that opposes the disk and the pressing member, An electrolytic processing apparatus for a disk for a magnetic recording medium, comprising a power supply means for flowing a current between these two electrodes.
【請求項2】 前記スピンドルの回転中心軸線は水平に
設けられ、また前記押し付け部材は前記回転中心軸線を
含む水平面において、この回転中心軸線に対して直交す
る方向に向けて配置して、この押し付け部材と前記電解
液保持部材との間に前記水平面より上方に所定量の電解
液が貯留される電解液溜め部を形成する構成としたこと
を特徴とする請求項1記載の磁気記録媒体用ディスクの
電解加工装置。
2. The rotation center axis of the spindle is provided horizontally, and the pressing member is disposed on a horizontal plane including the rotation center axis in a direction orthogonal to the rotation center axis, and 2. A disk for a magnetic recording medium according to claim 1, wherein an electrolytic solution reservoir for storing a predetermined amount of electrolytic solution is formed above the horizontal plane between the member and the electrolytic solution holding member. Electrolytic processing equipment.
【請求項3】 前記電解液保持部材は所定の厚みを有す
るテープからなる電解液保持テープで構成し、また前記
押し付け部材は押し付けローラで構成し、前記電解液保
持テープは下方に向けて走行するようになし、かつ前記
押し付けローラはこの電解液保持テープの走行に追従し
て回転可能な構成としたことを特徴とする請求項2記載
の磁気記録媒体用ディスクの電解加工装置。
3. The electrolyte holding member is constituted by an electrolyte holding tape made of a tape having a predetermined thickness, and the pressing member is constituted by a pressing roller, and the electrolyte holding tape runs downward. 3. The apparatus according to claim 2, wherein the pressing roller is configured to be rotatable following the movement of the electrolyte retaining tape.
【請求項4】 前記電解液保持テープ及び前記押し付け
ローラは、少なくとも前記ディスクの内周側端部乃至そ
の近傍から外周部までの範囲にわたって当接する幅寸法
を有する構成としたことを特徴とする請求項3記載の磁
気記録媒体用ディスクの電解加工装置。
4. A structure in which the electrolytic solution holding tape and the pressing roller have a width dimension that abuts at least over a range from the inner peripheral end of the disk or its vicinity to the outer peripheral part. Item 4. An electrolytic processing apparatus for a magnetic recording medium disk according to item 3.
【請求項5】 前記ノズルは前記電解液保持テープの幅
方向に向けて複数本配列する構成としたことを特徴とす
る請求項4記載の磁気記録媒体用ディスクの電解加工装
置。
5. The apparatus according to claim 4, wherein a plurality of the nozzles are arranged in a width direction of the electrolytic solution holding tape.
【請求項6】 前記ディスクは前記スピンドルを介して
前記電源手段に接続され、このスピンドルと前記押し付
け部材との間に前記電源手段から直流電流または交流電
流を印加する構成としたことを特徴とする請求項1記載
の磁気記録媒体用ディスクの電解加工装置。
6. The disk is connected to the power supply through the spindle, and a DC or AC current is applied between the spindle and the pressing member from the power supply. An apparatus for electrolytically processing a magnetic recording medium disk according to claim 1.
【請求項7】 前記電解液保持部材と、前記押し付け部
材と、前記ノズルとは、前記ディスクの表裏両面側に設
ける構成としたことを特徴とする請求項1記載の磁気記
録媒体用ディスクの電解加工装置。
7. The electrolysis of a disk for a magnetic recording medium according to claim 1, wherein the electrolyte holding member, the pressing member, and the nozzle are provided on both front and back surfaces of the disk. Processing equipment.
【請求項8】 磁気記録媒体用のディスクを回転駆動す
る間に、電気絶縁性を有し、かつ電解液の浸透性を有す
る電解液保持部材を押し付け部材により所定の荷重でデ
ィスク表面に押し付ける間に、これらディスクと押し付
け部材との間に電流を流すと共に、電解液を供給するこ
とによって、前記ディスクの表面を電解加工するものに
おいて、前記電解液保持部材と前記押し付け部材との間
に電解液を供給することによって、電解液をこれら電解
液保持部材と押し付け部材との間に滞留させると共に電
解液保持部材に含浸させ、前記電解液保持部材を前記デ
ィスクの表面に沿って電解液を含浸させた部分を前記押
し付け部材側に引き込むように走行させ、かつこの押し
付け部材により電解液保持部材に含浸した電解液を前記
ディスクに接触させるようにしたことを特徴とする磁気
記録媒体用ディスクの電解加工方法。
8. While the disk for a magnetic recording medium is being driven to rotate, a pressing member is used to press an electrolytic solution holding member having an electrical insulation property and an electrolytic solution on the disk surface with a predetermined load. An electrolytic solution is supplied between the disk and the pressing member, and the electrolytic solution is supplied to electrolytically process the surface of the disk. The electrolytic solution is provided between the electrolytic solution holding member and the pressing member. By supplying the electrolyte solution, the electrolyte solution is retained between the electrolyte solution holding member and the pressing member and the electrolyte solution holding member is impregnated, and the electrolyte solution holding member is impregnated with the electrolyte solution along the surface of the disk. The pressed portion is caused to travel toward the pressing member side, and the electrolytic solution impregnated in the electrolytic solution holding member is brought into contact with the disc by the pressing member. A method for electrolytically processing a disk for a magnetic recording medium, characterized in that:
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2022547342A (en) * 2019-11-08 2022-11-11 マサチューセッツ インスティテュート オブ テクノロジー Laser assisted material phase change and ejection microfabrication process

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2022547342A (en) * 2019-11-08 2022-11-11 マサチューセッツ インスティテュート オブ テクノロジー Laser assisted material phase change and ejection microfabrication process
JP7279263B2 (en) 2019-11-08 2023-05-22 マサチューセッツ インスティテュート オブ テクノロジー Laser assisted material phase change and ejection microfabrication process

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