JP2001013099A - Gas measuring apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、１つ又は複数の酸
化物半導体センサを備え、サンプルガス検出時の酸化物
半導体センサの電気抵抗値の変化に基づいてサンプルガ
スの定性又は定量を行なうガス測定装置に関するもので
ある。このようなガス測定装置は、有毒ガスや都市ガ
ス、一酸化炭素、一酸化窒素などの測定や、気体の香
気、臭気などのにおいの測定、脱臭装置の脱臭効果の判
定などに適用される。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a gas comprising one or a plurality of oxide semiconductor sensors, which qualitatively or quantitatively determines a sample gas based on a change in the electric resistance of the oxide semiconductor sensor when detecting the sample gas. It relates to a measuring device. Such a gas measuring device is applied to measurement of toxic gas, city gas, carbon monoxide, nitric oxide, etc., measurement of odor of gas odor, odor, etc., determination of the deodorizing effect of a deodorizing device, and the like.
【０００２】[0002]
【従来の技術】ガスセンサとして、サンプルガス中のに
おい成分との酸化還元反応により酸化物半導体の電気抵
抗が変化する現象を利用する酸化物半導体センサがあ
る。酸化物半導体センサを用いてサンプルガス中のにお
い成分を測定するガス測定装置（におい測定装置）は、
１つ又は複数の酸化物半導体センサを備えており、酸化
物半導体センサからの信号をそのまま表示するか、又は
複数の信号を多変量解析に持ち込む、いわゆるケモメト
リクスと呼ばれる技術を応用してサンプルガス中のにお
い成分を測定している。2. Description of the Related Art As a gas sensor, there is an oxide semiconductor sensor that utilizes a phenomenon in which the electrical resistance of an oxide semiconductor changes due to an oxidation-reduction reaction with an odor component in a sample gas. A gas measurement device (odor measurement device) that measures an odor component in a sample gas using an oxide semiconductor sensor is:
A sample gas is provided with one or more oxide semiconductor sensors, and the signal from the oxide semiconductor sensor is displayed as it is, or a plurality of signals are brought into a multivariate analysis by applying a technique called chemometrics. Measures the odor components inside.
【０００３】酸化物半導体センサを用いたガス測定装置
では、酸素を含むゼロガス供給時のセンサの電気抵抗値
（ベース抵抗値）が安定した後、サンプルガスをセンサ
に接触させ、センサの電気抵抗値の変化を測定する。測
定後、ガスセンサにゼロガスを流してガスセンサのクリ
ーニングを行ない、センサの電気抵抗値がベース抵抗値
まで回復し安定するのを待って次の測定を行なう。In a gas measuring device using an oxide semiconductor sensor, after the electrical resistance (base resistance) of the sensor when oxygen-containing zero gas is supplied, a sample gas is brought into contact with the sensor, and the electrical resistance of the sensor is measured. Measure the change in After the measurement, zero gas is supplied to the gas sensor to clean the gas sensor, and the next measurement is performed after the electric resistance value of the sensor recovers to the base resistance value and stabilizes.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来のよう
に、センサの電気抵抗値がベース抵抗値に戻るのを待っ
ていると、次の測定までに非常に時間がかかる。測定時
間を短縮すべく、ベース抵抗値が回復したか否かを確認
をせずに次の測定を行なうと、測定ごとに異なった出力
がでることがあり、再現性が低下するという問題があっ
た。さらに、未知のサンプルガスであれば、電気抵抗値
がベース抵抗値に戻るまでの時間を予測できないという
問題もあった。そこで本発明は、ガス測定装置におい
て、再現性を低下させることなく測定間隔を短縮するこ
とを目的とするものである。However, if the electric resistance value of the sensor is waiting for the resistance value to return to the base resistance value as in the prior art, it takes a very long time until the next measurement. If the next measurement is performed without confirming whether or not the base resistance has recovered to shorten the measurement time, a different output may be obtained for each measurement, and the reproducibility may be reduced. Was. Further, if the sample gas is unknown, there is a problem that it is impossible to predict a time until the electric resistance value returns to the base resistance value. Therefore, an object of the present invention is to shorten a measurement interval without reducing reproducibility in a gas measurement device.
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明のガスセンサは、
１つ又は複数の酸化物半導体センサが配置されたセンサ
部と、センサ部に酸素を含むゼロガスを供給するゼロガ
ス供給手段と、センサ部にサンプルガスを供給するサン
プルガス供給手段と、センサ部にサンプルガスを供給し
た後、そのサンプルガスの履歴が残っている間に続けて
同じサンプルガスをセンサ部に供給するようにサンプル
ガス供給手段の動作を制御する制御部とを備え、１回目
のサンプルガス供給後のサンプルガス供給停止時のベー
ス抵抗値と２回目以降のサンプルガス供給時のピーク抵
抗値に基づいて定量測定を行なうものである。A gas sensor according to the present invention comprises:
A sensor unit in which one or more oxide semiconductor sensors are disposed; a zero gas supply unit that supplies a zero gas containing oxygen to the sensor unit; a sample gas supply unit that supplies a sample gas to the sensor unit; And a controller for controlling the operation of the sample gas supply means so as to continuously supply the same sample gas to the sensor unit while the history of the sample gas remains after supplying the gas. The quantitative measurement is performed based on the base resistance value when the supply of the sample gas is stopped after the supply and the peak resistance value when the sample gas is supplied after the second time.
【０００６】ゼロガス供給手段により、センサ部に酸素
を含むゼロガスを供給しておく。制御部によりサンプル
ガス供給手段を制御して、所定の一定時間（予備測定時
間）だけセンサ部に１回目のサンプルガスの供給を行な
う（予備測定）。センサにサンプルガス中のにおい成分
が接触すると、センサの電気抵抗値が低下する。予備測
定時間が経過した後、所定の一定時間（準安定化時間）
の間、サンプルガスの供給を停止し、ゼロガス供給手段
によりセンサ部にゼロガスを供給する。準安定化時間の
間にセンサの電気抵抗値は上昇し、サンプルガスの種類
や流量、圧力、準安定化時間の長さなどに応じた一定の
値（準安定ベース抵抗値）に近づく。The zero gas containing oxygen is supplied to the sensor section by the zero gas supply means. The control unit controls the sample gas supply means to supply the sample gas for the first time to the sensor unit for a predetermined fixed time (preliminary measurement time) (preliminary measurement). When an odor component in the sample gas comes into contact with the sensor, the electric resistance value of the sensor decreases. After the pre-measurement time has passed, a predetermined time (metastabilization time)
During this period, the supply of the sample gas is stopped, and the zero gas is supplied to the sensor unit by the zero gas supply unit. During the meta-stabilization time, the electric resistance value of the sensor increases and approaches a constant value (metastabilization base resistance value) according to the type, flow rate, pressure, and length of the meta-stabilization time of the sample gas.
【０００７】準安定時間経過後、所定の一定時間（実測
定時間）だけ、予備測定において供給したのと同じサン
プルガスを２回目のサンプルガス供給としてセンサ部に
供給する（実測定）。このとき得られるセンサのピーク
抵抗値（実測値）は、予備測定前のセンサの電気抵抗値
がベース抵抗値まで回復していたか否かにかかわらず安
定する。その結果、異なるサンプルガスの測定間隔の時
間を短縮しても、再現性よく測定することができる。１
回の予備測定の後、１回だけの実測定よりも、続けて複
数回の実測定を繰り返すことにより、実測値をさらに安
定させることができる。After the metastable time has elapsed, the same sample gas supplied in the preliminary measurement is supplied to the sensor unit as a second sample gas supply for a predetermined fixed time (actual measurement time) (actual measurement). The peak resistance value (actually measured value) of the sensor obtained at this time is stable regardless of whether or not the electric resistance value of the sensor before the preliminary measurement has recovered to the base resistance value. As a result, the measurement can be performed with good reproducibility even if the time between measurement intervals of different sample gases is shortened. 1
By repeating the actual measurement a plurality of times successively after the preliminary measurement is performed more than once, the actual measured value can be further stabilized.
【０００８】[0008]
【実施例】図１は、一実施例を表す概略構成図である。
サンプルガスが収容されたサンプルガス容器１が設けら
れている。サンプルガス容器１には酸化物半導体センサ
の動作に必要な酸素も注入されている。サンプルガス容
器１は、三方電磁バルブＶ１を介して、センサセル（セ
ンサ部）３の入口側に接続されている。バルブＶ１に
は、酸素を含む清浄な空気をゼロガスとして供給するゼ
ロガス供給部７も接続されている。バルブＶ１は、セン
サセル３につながる流路をサンプルガス容器１につなが
る流路又はゼロガス供給部７につながる流路に切り換え
て接続する。FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing one embodiment.
A sample gas container 1 containing a sample gas is provided. Oxygen required for the operation of the oxide semiconductor sensor is also injected into the sample gas container 1. The sample gas container 1 is connected to an inlet side of a sensor cell (sensor unit) 3 via a three-way electromagnetic valve V1. The valve V1 is also connected to a zero gas supply unit 7 that supplies clean air containing oxygen as zero gas. The valve V1 switches and connects the flow path connected to the sensor cell 3 to the flow path connected to the sample gas container 1 or the flow path connected to the zero gas supply unit 7.
【０００９】センサセル３の内部には酸化物半導体セン
サ５が配置されている。センサセル３の出口側は、三方
電磁バルブＶ２を介して、吸引ポンプ９の吸引側に接続
されている。バルブＶ２にはガス排出流路１１も接続さ
れており、バルブＶ１２はセンサセル３につながる流路
をポンプ９につながる流路又はガス排出流路１１に切り
換えて接続する。装置の動作を制御する制御部１３が備
えられている。制御部１３には、ポンプ９及びバルブＶ
１，Ｖ２が電気的に接続されており、ポンプ９の動作及
びバルブＶ１，Ｖ２の切換え動作は制御部１３により制
御される。An oxide semiconductor sensor 5 is arranged inside the sensor cell 3. The outlet side of the sensor cell 3 is connected to the suction side of the suction pump 9 via a three-way electromagnetic valve V2. The valve V2 is also connected to a gas discharge channel 11, and the valve V12 switches the channel connected to the sensor cell 3 to the channel connected to the pump 9 or the gas discharge channel 11. A control unit 13 for controlling the operation of the apparatus is provided. The control unit 13 includes the pump 9 and the valve V
1 and V2 are electrically connected, and the operation of the pump 9 and the switching operation of the valves V1 and V2 are controlled by the control unit 13.
【００１０】センサ５には、センサ出力を表示する出力
表示部１５が接続されている。出力表示部１５で表示さ
れる数値は、−ｌｏｇ（Ｒｓ／Ｒｂ）として算出され
る。ここで、Ｒｓはサンプルガス測定時の実測値、Ｒｂ
は予備測定後のゼロガス供給時の準安定ベース抵抗値で
ある。出力表示部１５は、制御部１３にも接続されてお
り、制御部１３は、出力表示部１５を介して送られるセ
ンサ５の電気抵抗値の情報に基づいて、出力表示部１５
で表示される数値の算出も行なう。本発明のゼロガス供
給手段は、ゼロガス供給部７及びバルブＶ１，Ｖ２によ
り構成され、サンプルガス供給手段はサンプルガス容器
１、バルブＶ１，Ｖ２及びポンプ９により構成される。An output display unit 15 for displaying a sensor output is connected to the sensor 5. The numerical value displayed on the output display unit 15 is calculated as -log (Rs / Rb). Here, Rs is an actually measured value at the time of measuring the sample gas, Rb
Is a metastable base resistance value when the zero gas is supplied after the preliminary measurement. The output display unit 15 is also connected to the control unit 13, and the control unit 13 outputs the output display unit 15 based on the information on the electric resistance value of the sensor 5 transmitted via the output display unit 15.
The calculation of the numerical value displayed by is also performed. The zero gas supply means of the present invention includes a zero gas supply unit 7 and valves V1 and V2, and the sample gas supply means includes a sample gas container 1, valves V1 and V2, and a pump 9.
【００１１】図２は、ポンプ９の動作シーケンス及びそ
の動作シーケンスに伴う酸化物半導体センサの電気抵抗
値の変化を表す波形図である。その波形図において、縦
軸は酸化物半導体センサの電気抵抗値（Ω）、横軸は時
間（秒）を表す。図１及び図２を参照してこの実施例の
動作を説明する。FIG. 2 is a waveform diagram showing an operation sequence of the pump 9 and a change in the electric resistance value of the oxide semiconductor sensor accompanying the operation sequence. In the waveform diagram, the vertical axis represents the electric resistance value (Ω) of the oxide semiconductor sensor, and the horizontal axis represents time (second). The operation of this embodiment will be described with reference to FIGS.
【００１２】（予備測定）制御部１３により、バルブＶ
１を制御してセンサセル３の入口側をゼロガス供給部７
に接続し、バルブＶ２を制御してセンサセル３をガス排
出流路１１に接続する。ゼロガス供給部７からバルブＶ
１を介してセンサセル３にゼロガスを供給する。センサ
セル３に供給されたゼロガスはバルブＶ２を介してガス
排出流路１１から排出される。制御部１３により、バル
ブＶ１を切り換えてセンサセル３の入口側をサンプルガ
ス容器１に接続し、バルブＶ２を切り換えてセンサセル
３の出口側をポンプ９に接続し、ポンプ９を動作させ
て、１２０秒の予備測定時間だけセンサセル３にサンプ
ルガスの供給を行なう。センサ５にサンプルガス中のに
おい成分が接触し、センサ５の電気抵抗値が低下する。(Preliminary measurement) The control unit 13 controls the valve V
1 to control the inlet side of the sensor cell 3 to the zero gas supply unit 7
The sensor cell 3 is connected to the gas discharge channel 11 by controlling the valve V2. From the zero gas supply unit 7 to the valve V
A zero gas is supplied to the sensor cell 3 via 1. The zero gas supplied to the sensor cell 3 is discharged from the gas discharge channel 11 via the valve V2. The control unit 13 switches the valve V1 to connect the inlet side of the sensor cell 3 to the sample gas container 1, connects the valve V2 to connect the outlet side of the sensor cell 3 to the pump 9, and operates the pump 9 for 120 seconds. The sample gas is supplied to the sensor cell 3 only for the preliminary measurement time. The odor component in the sample gas comes into contact with the sensor 5, and the electric resistance value of the sensor 5 decreases.
【００１３】（実測定１）制御部１３により、バルブＶ
１を切り換えてセンサセル３の入口側をゼロガス供給部
７に接続し、バルブＶ２を切り換えてセンサセル３をガ
ス排出流路１１に接続し、３６０秒の準安定化時間の
間、ゼロガス供給部７からバルブＶ１を介してセンサセ
ル３にゼロガスを供給する。準安定化時間の間にセンサ
５の電気抵抗値は上昇し、準安定ベース抵抗値に近づ
く。このときのセンサ５の電気抵抗値を実測定１の準安
定ベース抵抗値Ｒｂ1として制御部１３に記憶する。(Actual measurement 1) The control unit 13 controls the valve V
1, the inlet side of the sensor cell 3 is connected to the zero gas supply unit 7, and the valve V2 is switched to connect the sensor cell 3 to the gas discharge flow path 11. During the meta-stabilization time of 360 seconds, the zero gas supply unit 7 Zero gas is supplied to the sensor cell 3 via the valve V1. During the meta-stabilization time, the electrical resistance of the sensor 5 increases and approaches the meta-stable base resistance. The electrical resistance value of the sensor 5 at this time is stored in the control unit 13 as a quasi-stable base resistance Rb 1 in the actual measurement 1.
【００１４】制御部１３により、バルブＶ１を切り換え
てセンサセル３の入口側をサンプルガス容器１に接続
し、バルブＶ２を切り換えてセンサセル３の出口側をポ
ンプ９に接続し、ポンプ９を動作させて、６０秒の実測
定時間だけ、サンプルガス容器１のサンプルガスをセン
サセル３に供給する。このときのセンサ５の電気抵抗値
を実測定１の準安定ピーク抵抗値Ｒｓ1として制御部１
３に送る。制御部１３は準安定ピーク抵抗値Ｒｓ1及び
準安定ベース抵抗値Ｒｂ1に基づいてセンサ出力値を算
出し、出力表示部１５に表示する。The control unit 13 switches the valve V1 to connect the inlet side of the sensor cell 3 to the sample gas container 1, and switches the valve V2 to connect the outlet side of the sensor cell 3 to the pump 9 to operate the pump 9. The sample gas in the sample gas container 1 is supplied to the sensor cell 3 for an actual measurement time of 60 seconds. The electric resistance value of the sensor 5 at this time is defined as the metastable peak resistance value Rs 1 of the actual measurement 1 by the control unit 1.
Send to 3. The control unit 13 calculates a sensor output value based on the metastable peak resistance value Rs 1 and the metastable base resistance value Rb 1 , and displays the sensor output value on the output display unit 15.
【００１５】（実測定２）制御部１３により、バルブＶ
１を切り換えてセンサセル３の入口側をゼロガス供給部
７に接続し、バルブＶ２を切り換えてセンサセル３をガ
ス排出流路１１に接続し、３６０秒の準安定時間の間、
ゼロガス供給部７からバルブＶ１を介してセンサセル３
にゼロガスを供給する。実測定１の後のセンサ５の電気
抵抗値は上昇し、準安定ベース抵抗値に近づく。このと
きのセンサ５の電気抵抗値を実測定２の準安定ベース抵
抗値Ｒｂ2として制御部１３に記憶する。(Actual Measurement 2) The control unit 13 controls the valve V
1 to connect the inlet side of the sensor cell 3 to the zero gas supply unit 7 and switch the valve V2 to connect the sensor cell 3 to the gas discharge channel 11. During the metastable time of 360 seconds,
Sensor cell 3 from zero gas supply unit 7 via valve V1
Is supplied with zero gas. The electrical resistance value of the sensor 5 after the actual measurement 1 increases and approaches the metastable base resistance value. The electrical resistance value of the sensor 5 at this time is stored in the control unit 13 as a quasi-stable base resistance Rb 2 real measurement 2.
【００１６】制御部１３により、バルブＶ１を切り換え
てセンサセル３の入口側をサンプルガス容器１に接続
し、バルブＶ２を切り換えてセンサセル３の出口側をポ
ンプ９に接続し、ポンプ９を動作させて、６０秒の実測
定時間だけ、サンプルガス容器１のサンプルガスをセン
サセル３に供給する。このときのセンサ５の電気抵抗値
を実測定２の準安定ピーク抵抗値Ｒｓ2として制御部１
３に送る。制御部１３は準安定ピーク抵抗値Ｒｓ2及び
準安定ベース抵抗値Ｒｂ2に基づいてセンサ出力値を算
出し、出力表示部１５に表示する。The control unit 13 switches the valve V1 to connect the inlet side of the sensor cell 3 to the sample gas container 1, and switches the valve V2 to connect the outlet side of the sensor cell 3 to the pump 9 to operate the pump 9. The sample gas in the sample gas container 1 is supplied to the sensor cell 3 for an actual measurement time of 60 seconds. The electric resistance value of the sensor 5 at this time is defined as the metastable peak resistance value Rs 2 of the actual measurement 2 by the control unit 1.
Send to 3. The control unit 13 calculates a sensor output value based on the metastable peak resistance value Rs 2 and the metastable base resistance value Rb 2 and displays the sensor output value on the output display unit 15.
【００１７】制御部１３により、バルブＶ１を切り換え
てセンサセル３の入口側をゼロガス供給部７に接続し、
バルブＶ２を切り換えてセンサセル３をガス排出流路１
１に接続し、ゼロガス供給部７からバルブＶ１を介して
センサセル３にゼロガスを供給する。図２に示すよう
に、センサ５の電気抵抗値が準安定ベース抵抗値付近の
ときにサンプルガスを測定したときに得られる準安定ピ
ーク抵抗値Ｒｓ1，Ｒｓ2は安定している。The control unit 13 switches the valve V1 to connect the inlet side of the sensor cell 3 to the zero gas supply unit 7,
By switching the valve V2, the sensor cell 3 is connected to the gas discharge passage 1
1 and supplies zero gas from the zero gas supply unit 7 to the sensor cell 3 via the valve V1. As shown in FIG. 2, the metastable peak resistances Rs 1 and Rs 2 obtained when the sample gas is measured when the electric resistance of the sensor 5 is near the metastable base resistance are stable.
【００１８】表１に、この実施例を用いて酢酸ブチルガ
スを測定したときの酸化物半導体センサの電気抵抗値を
示す。ここでは、３回の実測定を行なった。ベース抵抗
値及び測定値の単位はオーム(Ω)である。実測定１，
２，３のベース抵抗値は準安定ベース抵抗値を表し、実
測定１，２，３のピーク抵抗値は準安定ピーク抵抗値を
表す。Table 1 shows the electrical resistance of the oxide semiconductor sensor when butyl acetate gas was measured using this example. Here, three actual measurements were performed. The unit of the base resistance value and the measured value is ohm (Ω). Actual measurement 1,
The base resistance values of 2, 3 represent metastable base resistance values, and the peak resistance values of actually measured 1, 2, 3 represent metastable peak resistance values.
【００１９】[0019]
【表１】 [Table 1]
【００２０】予備測定と実測定１，２，３とのベース抵
抗値及び測定値には多きな差があるが、実測定１，２，
３のベース抵抗値及び測定値は十分に安定している。実
測定１、２又は３の準安定ベース抵抗値と準安定ピーク
抵抗値に基づいて定量測定を行なう。このような結果
は、予備測定前のセンサ５の電気抵抗値がベース抵抗値
まで回復していたか否かにかかわらず得ることができ、
予備測定及び実測定を行なった後、かつセンサの電気抵
抗値がベース抵抗値に回復する前に他のサンプルガスを
測定しても、そのサンプルガスについて安定した測定結
果を得ることができる。その結果、測定間隔の時間を短
縮しても、再現性よく測定することができる。また、本
発明にかかる装置では、実測定の回数を多くした方が実
測値が安定するので、より精密な測定が必要な場合に
は、２回目又は３回目の実測値を測定結果とすることが
好ましい。この実施例ではセンサセルに酸化物半導体セ
ンサを１つだけ設置しているが、複数の酸化物半導体セ
ンサを設置してもよい。Although there are many differences between the base resistance values and the measured values between the preliminary measurement and the actual measurements 1, 2, and 3,
The base resistance value and measured value of No. 3 are sufficiently stable. The quantitative measurement is performed based on the metastable base resistance value and the metastable peak resistance value of the actual measurement 1, 2, or 3. Such a result can be obtained regardless of whether or not the electric resistance value of the sensor 5 before the preliminary measurement has recovered to the base resistance value,
Even if another sample gas is measured after the preliminary measurement and the actual measurement and before the electrical resistance value of the sensor returns to the base resistance value, a stable measurement result can be obtained for the sample gas. As a result, the measurement can be performed with good reproducibility even if the time of the measurement interval is shortened. In addition, in the apparatus according to the present invention, the actual measurement value is more stable when the number of actual measurements is increased. Therefore, when more precise measurement is required, the second or third actual measurement value is used as the measurement result. Is preferred. In this embodiment, only one oxide semiconductor sensor is provided in the sensor cell, but a plurality of oxide semiconductor sensors may be provided.
【００２１】[0021]
【発明の効果】本発明のガスセンサでは、１つ又は複数
の酸化物半導体センサが配置されたセンサ部と、センサ
部に酸素を含むゼロガスを供給するゼロガス供給手段
と、センサ部にサンプルガスを供給するサンプルガス供
給手段と、センサ部にサンプルガスを供給した後、その
サンプルガスの履歴が残っている間に続けて同じサンプ
ルガスをセンサ部に供給するようにサンプルガス供給手
段の動作を制御する制御部とを備え、１回目のサンプル
ガス供給後のサンプルガス供給停止時のベース抵抗値と
２回目以降のサンプルガス供給時のピーク抵抗値に基づ
いて定量測定を行なうようにしたので、１回目のサンプ
ルガス供給前のセンサの電気抵抗値がベース抵抗値まで
回復していたか否かにかかわらず２回目以降のサンプル
ガス供給時のピーク抵抗値が安定し、再現性を低下させ
ることなく測定間隔を短縮することができる。According to the gas sensor of the present invention, a sensor section in which one or a plurality of oxide semiconductor sensors are disposed, a zero gas supply means for supplying a zero gas containing oxygen to the sensor section, and a sample gas supply to the sensor section After supplying the sample gas to the sensor unit, and controlling the operation of the sample gas supply unit so as to continuously supply the same sample gas to the sensor unit while the history of the sample gas remains. Since a control unit is provided, the quantitative measurement is performed based on the base resistance value at the time of stopping the supply of the sample gas after the first sample gas supply and the peak resistance value at the time of the second and subsequent sample gas supply. Peak at the time of sample gas supply from the second time on, regardless of whether the electrical resistance of the sensor before supply of sample gas has recovered to the base resistance Anti value is stabilized, it is possible to shorten the measurement interval without lowering the repeatability.
【図１】 一実施例を表す概略構成図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram illustrating an embodiment.
【図２】 吸引ポンプの動作シーケンス及びその動作シ
ーケンスに伴う酸化物半導体センサの電気抵抗値の変化
を表す波形図である。FIG. 2 is a waveform diagram illustrating an operation sequence of a suction pump and a change in an electric resistance value of the oxide semiconductor sensor according to the operation sequence.
１ サンプルガス容器 ３ センサセル ５ 酸化物半導体センサ ７ ゼロガス供給部 ９ 吸引ポンプ １１ ガス排出流路 １３ 制御部 １５ 出力表示部 Ｖ１，Ｖ２ 三方電磁バルブ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Sample gas container 3 Sensor cell 5 Oxide semiconductor sensor 7 Zero gas supply part 9 Suction pump 11 Gas discharge flow path 13 Control part 15 Output display part V1, V2 Three-way electromagnetic valve
Claims (1)
置されたセンサ部と、 前記センサ部に酸素を含むゼロガスを供給するゼロガス
供給手段と、 前記センサ部にサンプルガスを供給するサンプルガス供
給手段と、 前記センサ部にサンプルガスを供給した後、そのサンプ
ルガスの履歴が残っている間に続けて同じサンプルガス
を前記センサ部に供給するように前記サンプルガス供給
手段の動作を制御する制御部と、を備え、 １回目のサンプルガス供給後のサンプルガス供給停止時
のベース抵抗値と２回目以降のサンプルガス供給時のピ
ーク抵抗値に基づいて定量測定を行なうことを特徴とす
るガス測定装置。1. A sensor unit in which one or a plurality of oxide semiconductor sensors are disposed; a zero gas supply unit that supplies a zero gas containing oxygen to the sensor unit; and a sample gas supply that supplies a sample gas to the sensor unit. Means for controlling the operation of the sample gas supply means so as to continuously supply the same sample gas to the sensor section while the history of the sample gas remains after supplying the sample gas to the sensor section. Gas measurement, wherein a quantitative measurement is performed based on a base resistance value when the sample gas supply is stopped after the first sample gas supply and a peak resistance value when the sample gas is supplied after the first time. apparatus.
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11184667A JP2001013099A (en) | 1999-06-30 | 1999-06-30 | Gas measuring apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001013099A true JP2001013099A (en) | 2001-01-19 |
Family
ID=16157261
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (1)
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|---|---|
| JP (1) | JP2001013099A (en) |
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1999
- 1999-06-30 JP JP11184667A patent/JP2001013099A/en active Pending
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|
| A977 | Report on retrieval |
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|
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