JP2001012914A - Method and apparatus for positioning and ball mount inspection - Google Patents

Method and apparatus for positioning and ball mount inspection

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JP2001012914A
JP2001012914A JP11186090A JP18609099A JP2001012914A JP 2001012914 A JP2001012914 A JP 2001012914A JP 11186090 A JP11186090 A JP 11186090A JP 18609099 A JP18609099 A JP 18609099A JP 2001012914 A JP2001012914 A JP 2001012914A
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JP
Japan
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wafer
ball
work
positioning
stage
Prior art date
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Application number
JP11186090A
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Japanese (ja)
Inventor
Tatsuharu Kobayashi
樹治 小林
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Shibuya Corp
Original Assignee
Shibuya Kogyo Co Ltd
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Publication date
Application filed by Shibuya Kogyo Co Ltd filed Critical Shibuya Kogyo Co Ltd
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  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To eliminate the uselessness of providing optical units individually by an arrangement wherein an optical system recognizing means moves relatively to a work stage to pick up the image of a work and performs both positioning of the work and ball mount inspection after mounting. SOLUTION: A wafer is provided on a wafer stage 30 at a wafer positioning position 8 and positioning data is obtained from the attitude of the wafer where the image of an alignment mark on the surface of the wafer is picked up by means of CCD cameras 23, 23'. Subsequently, the wafer stage 30 moves to a flux transfer position 11 and stops thereat, the CCD cameras 23, 23' pick up the image of a transfer head and then the transfer head is aligned with the wafer while taking account of wafer position data. The wafer stage 30 moves to a mount position 20 after transfer and the CCD cameras 23, 23' position the mount head before solder balls are mounted on the wafer. Subsequently, the wafer stage 30 returns back to the wafer positioning position 8 and the CCD cameras 23, 23' inspect the mounting state of the solder balls on the wafer.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ウエハや基板に半
田ボールや半田バンプ等をマウントするボールマウント
装置において利用されるワークの位置決めとマウント後
のボールマウント検査を行う装置及び方法の改良に関す
るものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an improvement in an apparatus and method for positioning a work and inspecting a ball mount after the work is used in a ball mount apparatus for mounting a solder ball or a solder bump on a wafer or a substrate. It is.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、半田ボールマウント装置にお
けるワークの位置決めに光学装置を使用するものは知ら
れている。又、マウント後に光学装置にてボールマウン
ト検査を行うものも知られている。しかし、いずれも光
学装置は各々別個に設けられており、無駄が多かった。
2. Description of the Related Art Conventionally, there has been known an apparatus using an optical device for positioning a work in a solder ball mounting apparatus. There is also known an apparatus that performs a ball mount inspection by an optical device after mounting. However, in each case, the optical devices are provided separately, which is wasteful.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、ワークの位
置決め用の光学装置とマウント後のボールマウント検査
用の光学装置を各々別々に設けるといった無駄をなく
し、同じ光学系認識手段によりワークの位置決めとマウ
ント後のボールマウント検査を行う装置及び方法を提供
することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention eliminates the waste of separately providing an optical device for positioning a work and an optical device for inspecting a ball mount after mounting, and uses the same optical system recognition means to position the work. And an apparatus and a method for performing ball mounting inspection after mounting.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】第1の発明は、上記課題
を解決するため、ワークを保持するワークステージと、
ワークステージのワークを撮像して位置決めとマウント
後のボールマウント検査の両方を行う光学系認識手段
と、光学系認識手段とワークステージを相対移動させる
駆動手段とを有することを特徴とするワークの位置決め
とボールマウントの検査装置を提供するものである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a work stage for holding a work;
An optical system recognizing unit that performs both positioning and ball mounting inspection after mounting by imaging a work on a work stage, and a driving unit that relatively moves the optical system recognizing unit and the work stage. And a ball mount inspection device.

【0005】第2の発明は、駆動手段により光学系認識
手段とワークが保持されているワークステージを相対移
動させ、光学系認識手段によりワークステージのワーク
を撮像し、マウント前の位置決めとマウント後のボール
マウント検査を同一の光学系認識手段で行うことを特徴
とするワークの位置決めとボールマウント検査の方法を
提供するものである。
According to a second aspect of the present invention, the optical system recognizing means and the work stage holding the work are relatively moved by the driving means, the work of the work stage is imaged by the optical system recognizing means, and positioning before mounting and after mounting are performed. And a ball mounting inspection method using the same optical system recognizing means.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】以下、図面に従って、実施例と共
に本発明の実施の形態について説明する。図1は、本発
明が実施される半田ボールマウント装置の平面図であ
る。該半田ボールマウント装置は、ウエハ供給部1と、
フラックス転写部2と、ボールマウント部3と、ワーク
駆動機構4とで構成される。本発明であるワークの位置
決め及びボールマウント検査装置は、ワーク駆動機構4
に存在する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a plan view of a solder ball mounting apparatus according to the present invention. The solder ball mounting device includes: a wafer supply unit 1;
It comprises a flux transfer section 2, a ball mount section 3, and a work drive mechanism 4. The work positioning and ball mount inspection apparatus according to the present invention comprises a work drive mechanism 4.
Exists.

【0007】本実施例におけるワークはウエハ18であ
り、ウエハ18表面には、図5に示されるように、位置
決めに用いられるアライメントマーク17が、ウエハ1
8の輪郭付近内側で、半田ボールがマウントされない位
置である4カ所に設けられている。
In this embodiment, the work is a wafer 18, and an alignment mark 17 used for positioning is provided on the surface of the wafer 18 as shown in FIG.
The solder balls are provided at four positions inside the vicinity of the outline of No. 8 where the solder balls are not mounted.

【0008】ウエハ供給部1は、供給用のウエハカセッ
ト5と、搬出用のウエハカセット6と、不良用のウエハ
カセット7との各ウエハカセットと、ウエハ18の搬送
を行うクリーンルーム用スカラー型ロボット9と、ワー
ク駆動機構4上のウエハ位置決め位置8とでなる。
The wafer supply unit 1 includes a wafer cassette 5 for supply, a wafer cassette 6 for unloading, a wafer cassette 7 for defective wafers, and a scalar robot 9 for a clean room for transferring wafers 18. And the wafer positioning position 8 on the work drive mechanism 4.

【0009】本発明の特徴はワーク駆動機構4のウエハ
位置決め位置8にある。ウエハ位置決め位置8の上方
に、図2に示されるように、ラインCCDカメラ31が
配置される。CCDカメラ31は、ワークステージのワ
ーク位置決め用のアライメントマーク17を認識するこ
とと、マウント後のボールマウント検査を行うことを目
的とする光学系認識手段である。
A feature of the present invention resides in a wafer positioning position 8 of the work drive mechanism 4. A line CCD camera 31 is disposed above the wafer positioning position 8 as shown in FIG. The CCD camera 31 is an optical system recognizing means for recognizing the alignment mark 17 for work positioning on the work stage and performing a ball mount inspection after mounting.

【0010】CCDカメラ31は、図2上前後に重なり
合うように2台配置されており(図面上は前方の1台の
みが表れている)、該2台のCCDカメラ31でウエハ
18全幅をカバーすることができる。CCDカメラ31
の下方には、ウエハ18上に向いた照明器32がCCD
カメラ31と一体的に移動可能なように配備されてい
る。
Two CCD cameras 31 are arranged so as to overlap each other in FIG. 2 (only one in front is shown in the drawing), and the two CCD cameras 31 cover the entire width of the wafer 18. can do. CCD camera 31
An illuminator 32 facing the wafer 18 is below the CCD.
It is provided so as to be movable integrally with the camera 31.

【0011】CCDカメラ31は、ワーク駆動機構4上
のウエハ位置決め位置8上方で、ワーク駆動機構4と平
行な方向(X軸方向)に、X軸駆動機構の駆動源となる
モータ33により移動可能とされている。
The CCD camera 31 is movable above the wafer positioning position 8 on the work drive mechanism 4 in a direction parallel to the work drive mechanism 4 (X-axis direction) by a motor 33 serving as a drive source of the X-axis drive mechanism. It has been.

【0012】ワーク駆動機構4には、ワークを保持する
ワークステージであるウエハステージ30が設けられて
おり、ウエハステージ30を駆動させるX軸(図1中左
右方向)とΘ軸(回転方向)の2軸の駆動機構が設けら
れる。Θ軸の駆動機構は、位置決めを主たる役割として
採用された駆動機構であるが、X軸の駆動機構は、ワー
ク移動の役割と位置決めの役割を有する。
The work drive mechanism 4 is provided with a wafer stage 30 which is a work stage for holding the work. The work stage has an X-axis (left-right direction in FIG. 1) and a Θ-axis (rotation direction) for driving the wafer stage 30. A two-axis drive mechanism is provided. The Θ-axis drive mechanism is a drive mechanism whose main role is positioning, while the X-axis drive mechanism has a role of moving the work and a role of positioning.

【0013】すなわち、CCDカメラ31とワークステ
ージであるウエハステージ30を相対移動させる駆動手
段として、CCDカメラ31のX軸駆動機構と、ウエハ
ステージ30のX軸駆動機構、及びΘ軸駆動機構が設け
られている。
That is, an X-axis driving mechanism for the CCD camera 31, an X-axis driving mechanism for the wafer stage 30, and a Θ-axis driving mechanism are provided as driving means for relatively moving the CCD camera 31 and the wafer stage 30 as a work stage. Have been.

【0014】ウエハステージ30は、そのX軸駆動機構
により、ウエハ位置決め位置8と、フラックス転写位置
11と、ボールマウント位置20の間を移動停止可能と
されている。尚、ウエハステージ30には転写ヘッド1
3とマウントヘッド25を観察するための2台のCCD
カメラ23、23′が配備されている。
The movement of the wafer stage 30 between the wafer positioning position 8, the flux transfer position 11, and the ball mount position 20 can be stopped by the X-axis drive mechanism. The transfer head 1 is mounted on the wafer stage 30.
3 and 2 CCDs for observing the mount head 25
Cameras 23 and 23 'are provided.

【0015】フラックス転写部2は、転写ヘッド13及
びその駆動機構と、フラックス供給装置10と、ワーク
駆動機構4上のフラックス転写位置11とからなり、転
写ヘッド13の移動路に転写ヘッド13のクリーニング
部12が設けられている。
The flux transfer section 2 includes a transfer head 13 and a drive mechanism thereof, a flux supply device 10, and a flux transfer position 11 on a work drive mechanism 4. A part 12 is provided.

【0016】フラックス供給装置10の転写ヘッド13
には、図3に示されるように、フラックス供給装置10
とワーク駆動機構4上のフラックス転写位置11との間
を往復するY軸と、Z軸(昇降軸)の2軸の駆動機構が
設けられている。図中34は、転写ヘッド13のZ軸駆
動モータであり、図中34′は、Y軸駆動モータであ
る。ここにおけるY軸の駆動機構は、転写ヘッド13の
移動の役割とともに、転写ヘッド13とワークの位置決
めにおいても利用される。
Transfer head 13 of flux supply device 10
As shown in FIG. 3, the flux supply device 10
There is provided a two-axis drive mechanism of a Y-axis and a Z-axis (elevation axis) which reciprocate between the flux transfer position 11 on the work drive mechanism 4 and the flux transfer position 11. In the figure, reference numeral 34 denotes a Z-axis drive motor of the transfer head 13, and reference numeral 34 'denotes a Y-axis drive motor. The Y-axis driving mechanism here is used for positioning the transfer head 13 and the work together with the role of the transfer head 13 to move.

【0017】フラックス供給装置10には、平坦なフラ
ックス均し部が設けられ、スキージ15により一定厚さ
にフラックスを均すことができる。このフラックス均し
部中には、転写ヘッド13のフラックス転写領域に対応
するフラックス供給部16が形成される。
The flux supply device 10 is provided with a flat flux leveling portion, and the squeegee 15 can level the flux to a constant thickness. A flux supply section 16 corresponding to the flux transfer area of the transfer head 13 is formed in the flux leveling section.

【0018】ボールマウント部3は、マウントヘッド2
5及びその駆動機構と、ボール供給装置19と、ワーク
駆動機構4上のボールマウント位置20と、その間に配
置される余剰ボール除去装置21と、ボール吸着ミス検
査装置と、ボール吸着ミス検査装置で余剰ボールが検知
されたときにマウントヘッド25下に侵入するボール排
出装置24とで構成される。
The ball mounting section 3 includes a mounting head 2
5 and its driving mechanism, a ball supply device 19, a ball mounting position 20 on the work driving mechanism 4, an excess ball removing device 21 disposed therebetween, a ball suction error inspection device, and a ball suction error inspection device. And a ball discharge device 24 that enters below the mount head 25 when an excess ball is detected.

【0019】ボール供給装置19はパーツフィーダのよ
うな構成をしており、マウントヘッド25に半田ボール
を供給するボールトレイ27には、バイブレータが取り
付けられている。バイブレータの振動により半田ボール
を斜め上方に跳ね上げ、上方からの観察では、半田ボー
ルはボールトレイ27内を廻るように移動する。
The ball supply device 19 is configured as a parts feeder, and a vibrator is attached to a ball tray 27 that supplies solder balls to the mount head 25. The vibration of the vibrator causes the solder ball to jump up obliquely upward, and when viewed from above, the solder ball moves around the inside of the ball tray 27.

【0020】ボールトレイ27の上方にはボールストッ
カ(図示されていない)からボールトレイ27内に半田
ボールを供給する供給口28が進退自在に配置される。
供給口28の先端にはボールトレイ27内のボール残量
を検知するセンサ29が取り付けられており、ボール残
量不足を検知するとボールストッカより一定量の半田ボ
ールを供給する。供給口28は、半田ボール吸着時には
マウントヘッド25との干渉を避けるため、ボールトレ
イ27外へ待避する構造となっている。
Above the ball tray 27, a supply port 28 for supplying solder balls from the ball stocker (not shown) into the ball tray 27 is arranged so as to be able to advance and retreat.
A sensor 29 for detecting the remaining amount of the ball in the ball tray 27 is attached to the tip of the supply port 28, and when a shortage of the remaining amount of the ball is detected, a fixed amount of the solder ball is supplied from the ball stocker. The supply port 28 has a structure in which the supply port 28 is retracted outside the ball tray 27 in order to avoid interference with the mount head 25 at the time of solder ball suction.

【0021】余剰ボール除去装置21は、マウントヘッ
ド25に吸着された余剰ボールを除去するための除去ノ
ズルである。
The surplus ball removing device 21 is a removal nozzle for removing excess balls adsorbed on the mount head 25.

【0022】マウントヘッド25には、図4に示される
ように、ボール供給装置19とワーク駆動機構4上のボ
ールマウント位置20との間を往復するY軸と、Z軸
(昇降軸)の2軸の駆動機構が設けられる。図中35は
Z軸駆動モータであり、図中35′はY軸駆動モータで
ある。ここにおけるY軸の駆動機構は、マウントヘッド
25の移動の役割とともに、マウントヘッド25とワー
クの位置決めにおいても利用される。
As shown in FIG. 4, the mount head 25 has a Y-axis reciprocating between the ball supply device 19 and a ball mount position 20 on the work drive mechanism 4, and a Z-axis (elevation axis). A drive mechanism for the shaft is provided. In the figure, reference numeral 35 denotes a Z-axis drive motor, and reference numeral 35 'denotes a Y-axis drive motor. The Y-axis driving mechanism here is used for positioning the mount head 25 and the work together with the role of the movement of the mount head 25.

【0023】ボール吸着ミス検査装置は、4台のライン
CCDカメラ22、22′によりミッシングボール、エ
キストラボール(余剰ボール)等の吸着ミスと、マウン
トミスであるリメインボールとを検知する。
The ball suction error inspection device detects a suction error such as a missing ball or an extra ball (excess ball) and a remaining ball as a mounting error by using four line CCD cameras 22 and 22 '.

【0024】以下、本実施例に係る半田ボールマウント
装置の作動手順について説明する。まず、供給用のウエ
ハカセット5から1枚ずつロボット9でウエハ18をウ
エハ位置決め位置8にあるウエハステージ30上に供給
する。ウエハステージ30では、ウエハ18が供給され
ると図示されていないブロアモータを通して、ウエハス
テージ30上面の穴から真空吸引を開始し、ウエハ18
を保持する。
Hereinafter, an operation procedure of the solder ball mounting apparatus according to the present embodiment will be described. First, the wafers 18 are supplied one by one from the supply wafer cassette 5 by the robot 9 onto the wafer stage 30 at the wafer positioning position 8. When the wafer 18 is supplied, the wafer stage 30 starts vacuum suction through a hole on the upper surface of the wafer stage 30 through a blower motor (not shown).
Hold.

【0025】ウエハ18がウエハステージ30に供給さ
れるときには、ウエハ位置決め位置8の上方に配置され
た2台のCCDカメラ31は、図5にしめされるウエハ
18表面に形成されたアライメントマーク17を撮像で
きる位置に停止している。CCDカメラ31は、アライ
メントマーク17によりウエハステージ30上のウエハ
18の姿勢を認識し、位置決めデータとする。位置決め
データは図示されていない制御装置へ送られる。ウエハ
18の位置認識が終了するとウエハステージ30はフラ
ックス転写位置11へ移動する。この時、ウエハ位置決
め時に記憶したX軸のズレを加味した位置に停止する。
When the wafer 18 is supplied to the wafer stage 30, the two CCD cameras 31 arranged above the wafer positioning position 8 move the alignment marks 17 formed on the surface of the wafer 18 shown in FIG. Stopped at a position where imaging can be performed. The CCD camera 31 recognizes the attitude of the wafer 18 on the wafer stage 30 based on the alignment mark 17 and uses it as positioning data. The positioning data is sent to a control device (not shown). When the position recognition of the wafer 18 is completed, the wafer stage 30 moves to the flux transfer position 11. At this time, the wafer stops at a position that takes into account the deviation of the X axis stored at the time of wafer positioning.

【0026】次に、フラックス供給装置10では、スキ
ージ15によりフラックス表面を均し、転写ヘッド13
が下降し、転写ヘッド13とフラックス供給部16が接
触し、所定圧力以上の負荷がかかった時点でフラックス
供給の終了と判断し、転写ヘッド13の下降を停止し、
上昇する。
Next, in the flux supply device 10, the flux surface is leveled by the squeegee 15,
When the transfer head 13 comes into contact with the flux supply unit 16 and a load of a predetermined pressure or more is applied, it is determined that the supply of the flux has ended, and the lowering of the transfer head 13 is stopped.
To rise.

【0027】その後、フラックス転写位置11へ移動
し、ウエハステージ30に設けられた2台のCCDカメ
ラ23、23′で転写ヘッド13のアライメントマーク
を認識する。この認識結果に先に認識したウエハ18の
位置データを加味し、転写ヘッド13の1軸(Y軸)と
ウエハステージ30の2軸(X軸、Θ軸)でウエハ18
と転写ヘッド13の位置が整合するように位置合わせを
行う。
Thereafter, the wafer is moved to the flux transfer position 11, and the alignment marks of the transfer head 13 are recognized by the two CCD cameras 23 and 23 'provided on the wafer stage 30. Taking into account the position data of the previously recognized wafer 18 to this recognition result, the wafer 18 is moved by one axis (Y axis) of the transfer head 13 and two axes (X axis, Θ axis) of the wafer stage 30.
And the transfer head 13 are aligned.

【0028】位置合わせ後、転写ヘッド13を下降さ
せ、転写ヘッド13のZ軸駆動モータ34への負荷が一
定値に達した時点で転写終了と判断し、転写ヘッド13
を上昇させる。上昇後、転写ヘッド13はフラックス供
給装置10へ戻り、ウエハステージ30はボールマウン
ト位置20へ移動する。
After the alignment, the transfer head 13 is lowered, and when the load on the Z-axis drive motor 34 of the transfer head 13 reaches a certain value, it is determined that the transfer is completed.
To rise. After ascending, the transfer head 13 returns to the flux supply device 10, and the wafer stage 30 moves to the ball mounting position 20.

【0029】他方、マウントヘッド25は、ボール供給
装置19の上方より下降して指定位置で停止し、図示さ
れていないブロアモータより吸引力を与えられ、半田ボ
ールをマウントヘッド25下面に吸着させる。マウント
ヘッド25内圧が所定圧力より低くなった時点で、吸着
完了と判断し、マウントヘッド25を上昇させる。その
後余剰ボール除去装置21で余剰ボールを除去して、ボ
ール吸着ミス検査装置へ移動する。
On the other hand, the mount head 25 descends from above the ball supply device 19 and stops at a designated position, and is supplied with a suction force from a blower motor (not shown) to attract the solder balls to the lower surface of the mount head 25. When the internal pressure of the mount head 25 becomes lower than the predetermined pressure, it is determined that the suction is completed, and the mount head 25 is raised. Thereafter, the surplus balls are removed by the surplus ball removing device 21 and the apparatus moves to a ball suction error inspection device.

【0030】ボール吸着ミスがあった場合、ミッシング
ボールなら再度ボール供給装置19へ移動し、吸着動作
を繰り返す。余剰ボールがあった場合には、ボール排出
装置24がマウントヘッド25下へ侵入し、ボール排出
装置24内へ吸着ボールを全て排出した後、再度ボール
供給装置19へ移動し、吸着動作を繰り返す。
If there is a ball suction error, if the ball is a missing ball, it is moved to the ball supply device 19 again and the suction operation is repeated. If there is an excess ball, the ball discharge device 24 enters below the mount head 25, discharges all the suction balls into the ball discharge device 24, moves to the ball supply device 19 again, and repeats the suction operation.

【0031】異常がなかった場合には、ボールマウント
位置20へ移動する。ボールマウント位置20では、ウ
エハステージ30に設けられたCCDカメラ23、2
3′でマウントヘッド25下面のアライメントマークを
認識し、フラックス転写位置同様に位置決めを行う。位
置決め後マウントヘッド25は下降し、ボールマウント
位置20のウエハ18上に半田ボールをマウントして、
その後上昇する。
If there is no abnormality, the ball is moved to the ball mounting position 20. At the ball mounting position 20, the CCD cameras 23, 2
At 3 ', the alignment mark on the lower surface of the mount head 25 is recognized, and positioning is performed in the same manner as the flux transfer position. After the positioning, the mount head 25 is lowered to mount the solder balls on the wafer 18 at the ball mounting position 20,
Then rise.

【0032】半田ボールのマウントが終了したウエハス
テージ30はウエハ位置決め位置8へ戻る。ウエハステ
ージ30がウエハ位置決め位置8へ戻ってくるときに
は、CCDカメラ31は事前にボールマウント検査位置
へ移動し停止している。ボールマウント検査位置はウエ
ハ18のアライメントマーク17を撮像できる位置と同
じでもよい。該CCDカメラ31により、ウエハ上の半
田ボールのマウント状況を検査する。
After the mounting of the solder balls is completed, the wafer stage 30 returns to the wafer positioning position 8. When the wafer stage 30 returns to the wafer positioning position 8, the CCD camera 31 has previously moved to the ball mount inspection position and stopped. The ball mount inspection position may be the same as the position where the alignment mark 17 on the wafer 18 can be imaged. The CCD camera 31 inspects the mounting state of the solder balls on the wafer.

【0033】CCDカメラ31の下をワーク駆動機構4
によりウエハステージ30が移動するときに、CCDカ
メラ31で、ウエハステージ上のウエハ18の全面をス
キャニングし、連続的にウエハ18の画像を取り込み、
ボールマウントの不良がないかを判断する。
A work drive mechanism 4 is provided below the CCD camera 31.
When the wafer stage 30 moves, the entire surface of the wafer 18 on the wafer stage is scanned by the CCD camera 31 and the image of the wafer 18 is continuously captured.
Determine if the ball mount is defective.

【0034】検査の結果、ウエハ18へのボールマウン
トが良好ならば、該ウエハ18を搬出用のウエハカセッ
ト6へ、ボールマウントが不良ならば不良用のウエハカ
セット7へ、ロボット9により挿入する。
As a result of the inspection, if the ball mount on the wafer 18 is good, the robot 9 inserts the wafer 18 into the unloading wafer cassette 6 if the ball mount is bad, and into the defective wafer cassette 7 if the ball mount is bad.

【0035】[0035]

【発明の効果】本発明は、ワークを保持するワークステ
ージと、ワークステージのワークを撮像して位置決めと
マウント後のボールマウント検査の両方を行う光学系認
識手段と、光学系認識手段とワークステージを相対移動
させる駆動手段とを有するものとしたため、ワークの位
置決め用の光学装置とマウント後のボールマウント検査
用の光学装置とを各々別々に設けるといった無駄をなく
すことができた。
According to the present invention, there is provided a work stage for holding a work, an optical system recognizing means for taking an image of the work on the work stage and performing both positioning and ball mounting inspection after mounting, an optical system recognizing means and a work stage. And a drive means for relatively moving the optical disk, thereby eliminating the need for separately providing an optical device for positioning the workpiece and an optical device for inspecting the ball mount after mounting.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】半田ボールマウント装置の平面図FIG. 1 is a plan view of a solder ball mounting device.

【図2】位置決めとボールマウント検査の装置を示す説
明図
FIG. 2 is an explanatory view showing an apparatus for positioning and ball mounting inspection.

【図3】フラックス転写部の側面図FIG. 3 is a side view of a flux transfer unit.

【図4】ボールマウント部の側面図FIG. 4 is a side view of a ball mount unit.

【図5】ウエハのアライメントマークを示す説明図FIG. 5 is an explanatory view showing an alignment mark of a wafer.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1........ウエハ供給部 2........フラックス転写部 3........ボールマウント部 4........ワーク駆動機構 5、6、7....ウエハカセット 8........ウエハ位置決め位置 9........ロボット 10.......フラックス供給装置 11.......フラックス転写位置 12.......クリーニング部 13.......転写ヘッド 15.......スキージ 16.......フラックス供給部 17.......アライメントマーク 18.......ウエハ 19.......ボール供給装置 20.......ボールマウント位置 21.......余剰ボール除去装置 22、22′、23、23′、31...CCDカメラ 24.......ボール排出装置 25.......マウントヘッド 27.......ボールトレイ 28.......供給口 29.......センサ 30.......ウエハステージ 32.......照明器 33、34、34′、35、35′...モータ 1. . . . . . . . 1. Wafer supply unit . . . . . . . Flux transfer unit 3. . . . . . . . Ball mount part 4. . . . . . . . Work drive mechanism 5, 6, 7. . . . 7. Wafer cassette . . . . . . . 8. Wafer positioning position . . . . . . . Robot 10. . . . . . . Flux supply device 11. . . . . . . 11. Flux transfer position . . . . . . Cleaning unit 13. . . . . . . Transfer head 15. . . . . . . Squeegee 16. . . . . . . Flux supply unit 17. . . . . . . Alignment mark 18. . . . . . . Wafer 19. . . . . . . Ball supply device 20. . . . . . . Ball mount position 21. . . . . . . Excess ball removing device 22, 22 ', 23, 23', 31. . . CCD camera 24. . . . . . . Ball discharge device 25. . . . . . . Mount head 27. . . . . . . Ball tray 28. . . . . . . Supply port 29. . . . . . . Sensor 30. . . . . . . Wafer stage 32. . . . . . . Illuminators 33, 34, 34 ', 35, 35'. . . motor

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2F065 AA01 AA16 AA20 AA49 BB03 BB07 BB27 CC19 CC26 DD00 FF42 HH12 HH14 JJ03 JJ05 JJ09 JJ26 MM03 NN20 PP02 PP11 PP12 PP13 QQ23 TT00 TT01 TT02 TT03 5E319 BB04 CD53  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F-term (reference)

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ワークを保持するワークステージと、ワー
クステージのワークを撮像して位置決めとマウント後の
ボールマウント検査の両方を行う光学系認識手段と、光
学系認識手段とワークステージを相対移動させる駆動手
段とを有することを特徴とするワークの位置決めとボー
ルマウント検査の装置。
1. A work stage for holding a work, an optical system recognizing means for imaging the work on the work stage to perform both positioning and ball mounting inspection after mounting, and moving the optical system recognizing means and the work stage relative to each other. A device for positioning a work and inspecting a ball mount, comprising a driving means.
【請求項2】駆動手段により光学系認識手段とワークが
保持されているワークステージを相対移動させ、光学系
認識手段によりワークステージのワークを撮像し、マウ
ント前の位置決めとマウント後のボールマウント検査を
同一の光学系認識手段で行うことを特徴とするワークの
位置決めとボールマウント検査の方法。
2. The optical system recognizing means and the work stage holding the work are relatively moved by the driving means, the work of the work stage is imaged by the optical system recognizing means, and positioning before mounting and ball mounting inspection after mounting are performed. And performing ball mounting inspection using the same optical system recognition means.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7773220B2 (en) 2008-04-02 2010-08-10 International Business Machines Corporation Method and system for collecting alignment data from coated chips or wafers

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