JP2001009239A - Waste gas treating device and waste gas purifying method - Google Patents

Waste gas treating device and waste gas purifying method

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JP2001009239A
JP2001009239A JP11185593A JP18559399A JP2001009239A JP 2001009239 A JP2001009239 A JP 2001009239A JP 11185593 A JP11185593 A JP 11185593A JP 18559399 A JP18559399 A JP 18559399A JP 2001009239 A JP2001009239 A JP 2001009239A
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JP
Japan
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exhaust gas
gas treatment
film
treatment device
inorganic compound
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JP11185593A
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Japanese (ja)
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Masakatsu Yamada
昌克 山田
Hiroshi Kokuta
博 穀田
Nobuyuki Yasushi
信行 安士
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Individual
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To previously remove dioxin precursors and to effectively prevent the generation of dioxins by applying a heat resistant filter consisting of an aqueous film-formable inorg. compd. soln. to a waste gas treating stage of an incinerator. SOLUTION: This device is provided with a second waste gas treating device 30 arranged succeeding by to a first waste gas treating device 3, and the first waste gas treating device 3 Is constituted so that aqueous filme-formable inorg. compd. soln. consisting of a silanol salt and siloxane consisting essentially of Si, having film-formable property and working as the heat resistant filter may be jetted from a jetting part 9 into the waste gas. The second waste gas treating device 30 is provided with a shower feed unit 31 for feeding the soln. into a waste gas flow passage in a from like shower and a liq. film forming device for forming the liq. film formed by the soln. so as to Intercept the waste gas flow passage and for allowing the waste gas to pass by breaking the liq. film and the waste gas is purified by allowing the aqueous film-formable inorg. compd. soln. to contact stepwise with the waste gas.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、焼却炉で発生する
排ガスの処理装置および浄化方法に係り、特に排ガス処
理工程でダイオキシンの発生を効果的に防止する排ガス
処理装置および排ガス浄化方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus and a method for treating exhaust gas generated in an incinerator and, more particularly, to an apparatus and a method for purifying exhaust gas that effectively prevent the generation of dioxin in an exhaust gas treatment process. is there.

【0002】[0002]

【従来の技術】ダイオキシンは、非常に強い毒性を有
し、「人類が作り出した最強、最悪の毒物」ともいわれ
ている。ダイオキシンはポリクロロジベンゾパラダイオ
キシンの略称であり、これは過去に多くのゴミ焼却場か
ら検出されている。また愛媛大学の調査によれば、家庭
ゴミの焼却過程で生成したとみられるダイオキシンが、
大気中に拡散して降下していることが明らかにされてい
る。
2. Description of the Related Art Dioxin has a very high toxicity, and is said to be "the strongest and worst poison produced by mankind". Dioxin is an abbreviation for polychlorodibenzoparadioxin, which has been detected in many garbage incineration plants in the past. According to a study by Ehime University, dioxin, which is thought to be generated during the incineration of household waste,
It has been found that it has diffused and descended into the atmosphere.

【0003】焼却炉では、排ガス温度が650℃以下で
200℃以上のときにダイオキシンが発生するといわれ
ており、焼却開始時や焼却終了時の他、焼却後の排ガス
処理工程で排ガス温度が650℃以下になるとダイオキ
シンを生成する。特に排ガス処理工程において、排ガス
はバグフィルタへ到達する前に強制冷却されるため、そ
の冷却の際にダイオキシンが生成される可能性が高い。
従って排ガス処理工程では、排ガスの温度が650℃以
下になる前にダイオキシンの前駆体(塩化水素など)を
除去することが望ましい。
It is said that in an incinerator, dioxin is generated when the exhaust gas temperature is 650 ° C. or lower and 200 ° C. or higher, and the exhaust gas temperature is 650 ° C. at the start of incineration, at the end of incineration, and in the exhaust gas treatment process after incineration. Dioxin is produced when: Particularly, in the exhaust gas treatment step, the exhaust gas is forcibly cooled before reaching the bag filter, so that there is a high possibility that dioxin is generated during the cooling.
Therefore, in the exhaust gas treatment step, it is desirable to remove the dioxin precursor (such as hydrogen chloride) before the temperature of the exhaust gas becomes 650 ° C. or lower.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来は650
℃以上の高温にも耐えうるフィルターは無いため、高温
の排ガスを常温まで冷却してバグフィルターにかけると
いうのが通常である。そのため、ダイオキシンの生成を
効果的に防止することができなかった。なお、650℃
以上の温度でも耐えうる活性炭や消石灰によりダイオキ
シン前駆体を吸着除去する方法が従来試みられている
が、この方法は吸着除去率が高くないと共に、使用後の
吸着剤の処理の問題があり、実用的とは言えなかった。
However, the conventional 650
Since there is no filter that can withstand a high temperature of more than ℃, it is usual to cool the high temperature exhaust gas to normal temperature and apply it to a bag filter. Therefore, the generation of dioxin could not be effectively prevented. In addition, 650 ° C
Conventionally, a method of adsorbing and removing dioxin precursors using activated carbon or slaked lime that can withstand the above temperatures has been tried. It was not a target.

【0005】ところで、本発明者等は、650℃以上の
高温でも充分に耐えうる泡沸性(intumescence)の水性
造膜性無機化合物を先に開発した(特公平7−1480
1号公報)。そして、この水性造膜性無機化合物が65
0℃以上の高温でダイオキシン前駆体を除去する耐熱フ
ィルターとして機能することを見いだし、本願発明完成
に至ったものである。
The present inventors have previously developed an intumescent aqueous film-forming inorganic compound which can sufficiently withstand high temperatures of 650 ° C. or higher (Japanese Patent Publication No. 7-1480).
No. 1). And this aqueous film-forming inorganic compound is 65
It has been found that it functions as a heat-resistant filter for removing dioxin precursor at a high temperature of 0 ° C. or higher, and the present invention has been completed.

【0006】すなわち本発明の課題は、水性造膜性無機
化合物の溶液から成る耐熱フィルタを焼却炉の排ガス処
理工程に適用して、ダイオキシン前駆体を前もって除去
し、ダイオキシンの発生を効果的に防止できる排ガス処
理装置および排ガス処理方法を提供することにある。
That is, an object of the present invention is to apply a heat-resistant filter comprising a solution of an aqueous film-forming inorganic compound to an exhaust gas treatment step of an incinerator to remove a dioxin precursor in advance and effectively prevent the generation of dioxin. An object of the present invention is to provide an exhaust gas treatment device and an exhaust gas treatment method that can be used.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記課題を達成するた
め、本願請求項1に記載の発明に係る排ガス処理装置
は、第1排ガス処理装置と、この第1排ガス処理装置に
続いて配置された第2排ガス処理装置とを備え、前記第
1排ガス処理装置は、ケイ素(Si)を主成分とした、
シラノール塩と、シロキサンとから成り、造膜性を有
し、耐熱フィルターとして機能する水性造膜性無機化合
物の溶液を噴射部から排ガス中に噴射するよう構成さ
れ、前記第2排ガス処理装置は、前記水性造膜性無機化
合物の溶液を前記排ガスの流路中にシャワー状に供給す
るシャワー供給装置と、前記水性造膜性無機化合物の溶
液により形成された液膜を前記排ガスの流路を遮るよう
に形成して、前記排ガスが前記液膜を破って通過するよ
うにした液膜形成装置とを備え、前記水性造膜性無機化
合物が前記排ガスと前記第1排ガス処理装置および第2
排ガス処理装置にて段階的に接触して排ガスを浄化処理
することを特徴とするものである。
To achieve the above object, an exhaust gas treatment apparatus according to the first aspect of the present invention is provided with a first exhaust gas treatment apparatus and a second exhaust gas treatment apparatus. A second exhaust gas treatment device, wherein the first exhaust gas treatment device contains silicon (Si) as a main component,
It comprises a silanol salt and a siloxane, has a film forming property, and is configured to inject a solution of an aqueous film forming inorganic compound that functions as a heat resistant filter into an exhaust gas from an injection unit. A shower supply device for supplying a solution of the aqueous film-forming inorganic compound into the flow path of the exhaust gas in a shower form, and a liquid film formed by the solution of the aqueous film-forming inorganic compound blocking the flow path of the exhaust gas. A liquid film forming device formed so that the exhaust gas breaks through the liquid film and passes therethrough, wherein the aqueous film-forming inorganic compound comprises the exhaust gas, the first exhaust gas treatment device, and the second exhaust gas treatment device.
The exhaust gas is purified by contacting the exhaust gas in a stepwise manner with an exhaust gas treatment device.

【0008】本発明によれば、噴射部から第1排ガス処
理装置内に水性造膜性無機化合物の溶液が噴射されるこ
とにより、該溶液が高温の排ガスに接触した瞬間にゲル
化造膜して泡沸し、その排ガス流路内に充満し、排ガス
中含まれているダイオキシン前駆体、更には悪臭成分、
黒煙および重金属を耐熱フィルターとなって捕捉して包
含する。ダイオキシンが一部生成している場合はダイオ
キシンも捕捉して包含する。また水性造膜性無機化合物
の溶液を第1排ガス処理装置内に供給することにより、
排ガスの冷却効果も得られる。高温排ガスと接触し、泡
沸し、ダイオキシン前駆体等を捕捉する工程で当該溶液
は水分が蒸発して乾燥され、ダイオキシン前駆体等を包
含した包含物は、粉粒体(固形部分)となって排ガス流
路から分かれ、該第1排ガス処理装置の底部に殆どが落
下し、一部は排ガスの流れに乗って下流に向かう。
According to the present invention, a solution of the aqueous film-forming inorganic compound is sprayed from the spraying section into the first exhaust gas treatment apparatus, so that the solution is gelled at the moment when the solution comes into contact with the high-temperature exhaust gas. Boiled, filled in the exhaust gas flow path, the dioxin precursor contained in the exhaust gas, and further the odorous component,
Black smoke and heavy metals are captured and included as heat resistant filters. When dioxin is partially generated, dioxin is captured and included. Also, by supplying the solution of the aqueous film-forming inorganic compound into the first exhaust gas treatment device,
An exhaust gas cooling effect is also obtained. In the process of contacting with high-temperature exhaust gas, bubbling, and capturing the dioxin precursor and the like, the solution is evaporated and dried, and the inclusion including the dioxin precursor and the like becomes a powder (solid portion). Most of the water falls off the bottom of the first exhaust gas treatment device, and a part of the first exhaust gas treatment device travels downstream along the flow of the exhaust gas.

【0009】更に、第2排ガス処理装置内に設けられた
シャワー供給装置から排ガスの流路中に水性造膜性無機
化合物の溶液をシャワー状に供給することにより、滴下
して表面積が増大した水性造膜性無機化合物の溶液に、
排ガス中のダイオキシン前駆体が高い確率で接触するよ
うになり、ここでも耐熱フィルターとなって第1排ガス
処理装置内で捕捉されなかったダイオキシン前駆体や前
記粉粒体等を効率的に捕捉できる。この工程でも該溶液
が高温の排ガスに接触した瞬間にゲル化造膜して泡沸
し、排ガス中含まれているダイオキシン前駆体等を捕捉
して包含して包含物となる現象は前記と同様である。た
だし、第1排ガス処理装置内より排ガス温度が低下して
いる分だけ、泡沸現象も小規模となり、シャワー状態が
安定に維持されつつ泡沸してダイオキシン前駆体等を包
含した包含物はシャワーとともに落下する。ダイオキシ
ンが一部生成している場合はダイオキシンも捕捉して包
含する。
Further, a solution of the aqueous film-forming inorganic compound is supplied in a shower form from the shower supply device provided in the second exhaust gas treatment device into the flow path of the exhaust gas, so that the aqueous solution having the increased surface area is dropped. In the solution of the film forming inorganic compound,
The dioxin precursor in the exhaust gas comes into contact with a high probability, and also here becomes a heat-resistant filter, which can efficiently capture the dioxin precursor and the powders and the like that have not been captured in the first exhaust gas treatment device. Also in this step, the phenomenon that the solution is gelled to form a film at the moment of contact with the high-temperature exhaust gas and bubbling occurs, and the dioxin precursor and the like contained in the exhaust gas are captured and included to become inclusions as described above. It is. However, since the temperature of the exhaust gas is lower than that in the first exhaust gas treatment apparatus, the bubbling phenomenon is also small, and the inclusion containing the dioxin precursor and the like is bubbled while the shower state is stably maintained. Fall with. When dioxin is partially generated, dioxin is captured and included.

【0010】更にまた、第2排ガス処理装置内に水性造
膜性無機化合物の溶液により形成された液膜を排ガスの
流路を遮るように形成する液膜形成装置が設けられるこ
とにより、水性造膜性無機化合物の溶液の液膜を破って
排ガスがそこを通過するため、排ガス中に存在する残り
のダイオキシン前駆体等が確実に溶液中に捕捉される。
なお、この液膜形成装置を最終的に通過した段階で浄化
処理された排ガスの温度が、常温となるように制御され
ているのが好ましい。
Furthermore, a liquid film forming apparatus for forming a liquid film formed by the solution of the aqueous film-forming inorganic compound in the second exhaust gas treatment apparatus so as to block the flow path of the exhaust gas is provided. Since the exhaust gas passes through the liquid film of the solution of the film-forming inorganic compound, the remaining dioxin precursor and the like present in the exhaust gas are surely captured in the solution.
In addition, it is preferable that the temperature of the exhaust gas purified at the stage when the exhaust gas finally passes through the liquid film forming apparatus is controlled to be normal temperature.

【0011】また、本願請求項2に記載の発明は、請求
項1に記載された排ガス処理装置において、前記第1排
ガス処理装置は、焼却炉から排出される高温排ガスを冷
却しつつ浄化処理するが、その際の排ガス温度が略65
0℃以下とならない温度領域で処理するように制御され
ていることを特徴とするものである。
According to a second aspect of the present invention, in the exhaust gas treatment apparatus according to the first aspect, the first exhaust gas treatment apparatus purifies the high-temperature exhaust gas discharged from the incinerator while cooling it. However, the exhaust gas temperature at that time is about 65
The process is controlled so that the process is performed in a temperature range not lower than 0 ° C.

【0012】本発明によれば、第1排ガス処理装置内で
は、排ガスの温度は略650℃以下とならないので、そ
もそもダイオキシン生成反応が殆ど起こらない。従っ
て、ダイオキシン前駆体を効率的に捕捉除去することが
できる。ここで、「略650℃」とは、厳密に650℃
に限定されないという意味で用いられ、例えば600℃
程度でもダイオキシンの生成反応は起こりにくければ、
それでも良いことを意味している。
According to the present invention, in the first exhaust gas treatment apparatus, since the temperature of the exhaust gas does not become approximately 650 ° C. or less, the dioxin generation reaction hardly occurs in the first place. Therefore, the dioxin precursor can be efficiently captured and removed. Here, “approximately 650 ° C.” means strictly 650 ° C.
It is used in the sense that it is not limited to, for example, 600 ° C.
If the dioxin formation reaction is unlikely to occur,
It still means good.

【0013】また、本願請求項3に記載の発明は、請求
項1または2に記載された排ガス処理装置において、前
記噴射部、前記シャワー供給装置および前記液膜形成装
置から供給される前記水性造膜性無機化合物の溶液の供
給量は、前記第1排ガス処理装置および第2排ガス処理
装置への排ガスの流量に応じて制御されていることを特
徴とするものである。本発明によれば、水性造膜性無機
化合物の溶液を必要に応じて増減させることができるか
ら、経済効率良く排ガス処理を行うことができる。
According to a third aspect of the present invention, in the exhaust gas treatment apparatus according to the first or second aspect, the aqueous solution supplied from the injection unit, the shower supply device, and the liquid film forming device is provided. A supply amount of the solution of the film-forming inorganic compound is controlled according to a flow rate of the exhaust gas to the first exhaust gas treatment device and the second exhaust gas treatment device. According to the present invention, since the amount of the aqueous film-forming inorganic compound solution can be increased or decreased as necessary, the exhaust gas treatment can be performed economically efficiently.

【0014】また、本願請求項4に記載の発明は、請求
項1から3のいずれか1つに記載された排ガス処理装置
において、前記シャワー供給装置および前記液膜形成装
置は、単一の吸収搭内に設けられていることを特徴とす
るものである。本発明によれば、例えば液膜形成装置で
使用された水性造膜性無機化合物の溶液を直ちにシャワ
ー供給装置で再使用することが可能になり、水性造膜性
無機化合物の溶液を効率良く使用することが可能とな
る。
According to a fourth aspect of the present invention, in the exhaust gas treatment apparatus according to any one of the first to third aspects, the shower supply device and the liquid film forming device have a single absorption device. It is characterized in that it is provided inside the cabin. According to the present invention, for example, the solution of the aqueous film-forming inorganic compound used in the liquid film forming apparatus can be immediately reused in the shower supply device, and the aqueous film-forming inorganic compound solution can be efficiently used. It is possible to do.

【0015】また、本願請求項5に記載の発明は、請求
項1から4のいずれか1つにおいて、前記噴射部、前記
シャワー供給装置および前記液膜形成装置へは、同一貯
槽から前記水性造膜性無機化合物の溶液が供給されるこ
とを特徴とするものである。本発明によれば、全てに同
一濃度の水性造膜性無機化合物の溶液を供給することが
できる。これにより、水性造膜性無機化合物の溶液の濃
度管理が一元的に容易に行えるとともに、同じ濃度の溶
液をその第1排ガス処理工程から続く全工程に亘り、何
度も排ガスに接触させる機会を与えることにより、排ガ
ス中のダイオキシン前駆体等を次第に着実に減らしてい
き、最後には有害物質をほぼ0に近い濃度にまで近づけ
ることが可能となる。
According to a fifth aspect of the present invention, in any one of the first to fourth aspects, the jetting unit, the shower supply device, and the liquid film forming device are supplied from the same storage tank to the aqueous forming device. A solution of a film-forming inorganic compound is supplied. ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the solution of the aqueous film-forming inorganic compound of the same concentration can be supplied to all. As a result, the concentration of the aqueous film-forming inorganic compound solution can be easily and centrally controlled, and there is an opportunity to bring the solution having the same concentration into contact with the exhaust gas many times over the entire process following the first exhaust gas treatment process. By giving it, the dioxin precursor and the like in the exhaust gas can be gradually reduced steadily, and finally, the concentration of harmful substances can be reduced to almost zero.

【0016】また、本願請求項6に記載の発明は、請求
項1から5のいずれか1つにおいて、前記第2排ガス処
理装置の下端部には、使用後の前記水性造膜性無機化合
物の溶液を受け入れる回収受槽が形成され、該回収受槽
に隣接する位置に、該回収受槽内に沈降した成分を回収
受槽に残し、該回収受槽からオーバーフローした前記水
性造膜性無機化合物の溶液の上澄み液を受け入れる上澄
み液受槽を備えていることを特徴とするものである。本
発明によれば、ダイオキシン前駆体等を包含した水性造
膜性無機化合物の溶液は回収受槽内に沈降して残り、再
使用可能な溶液だけが回収受槽からオーバーフローして
上澄み液受槽内に溜まる。従って上澄み液受槽内の溶液
を容易に再利用することができる。
According to a sixth aspect of the present invention, in any one of the first to fifth aspects, the lower end of the second exhaust gas treatment device is provided with the aqueous film-forming inorganic compound after use. A collection receiving tank for receiving the solution is formed, and a component settled in the collection receiving tank is left in the collecting receiving tank at a position adjacent to the collecting receiving tank, and the supernatant of the aqueous film-forming inorganic compound solution overflowing from the collecting receiving tank is removed. A supernatant liquid receiving tank for receiving the liquid is provided. According to the present invention, the solution of the aqueous film-forming inorganic compound containing the dioxin precursor and the like is settled in the collection receiving tank, and only the reusable solution overflows from the collecting receiving tank and is in the supernatant liquid receiving tank. Accumulate in Therefore, the solution in the supernatant liquid receiving tank can be easily reused.

【0017】また、本願請求項7に記載の発明は、請求
項6において、前記第2排ガス処理装置の前記回収受け
槽には、前記沈降した成分を装置外に分離する装置が設
けられていることを特徴とするものである。本発明によ
れば、ダイオキシン前駆体等を捕捉して沈降した前記水
性造膜性無機化合物の溶液成分だけを分離して取り出
し、廃棄物として処理する工程に回すことが容易に行え
る。
According to a seventh aspect of the present invention, in the sixth aspect, a device for separating the settled components out of the second exhaust gas treatment device is provided in the recovery receiving tank of the second exhaust gas treatment device. It is characterized by the following. According to the present invention, only the solution component of the aqueous film-forming inorganic compound that has captured and settled the dioxin precursor or the like can be easily separated and taken out, and then sent to a step of treating it as waste.

【0018】また、本願請求項8に記載の発明は、請求
項1から7のいずれか1つにおいて、前記第1排ガス処
理装置の下端部には、前記水性造膜性無機化合物が排ガ
スを浄化処理して落下した固形部分を装置外に分離する
装置が設けられていることを特徴とするものである。こ
の分離装置により分離した固形部分は、ダイオキシン前
駆体は含んでいるが、ダイオキシンは殆ど含んでいない
ため、その廃棄物としての処理が簡単に行える。
The invention according to claim 8 of the present application is the invention according to any one of claims 1 to 7, wherein the aqueous film-forming inorganic compound purifies exhaust gas at the lower end of the first exhaust gas treatment device. An apparatus for separating a solid portion that has been processed and dropped out of the apparatus is provided. Although the solid portion separated by this separation device contains a dioxin precursor, but hardly contains dioxin, it can be easily treated as waste.

【0019】また、本願請求項9に記載の発明は、請求
項1〜8のいずれか1つに記載された排ガス処理装置に
おいて、前記第1排ガス処理装置の前記噴射部には、空
気を加圧して該第1排ガス処理装置内に噴射する加圧噴
射部を備え、該加圧噴射部の噴射力によって前記噴射部
から前記水性造膜性無機化合物の溶液を噴射するように
形成されていることを特徴とするものである。本発明に
よれば、加圧された空気が噴射部から第1排ガス処理装
置内に吹き込まれることにより、負圧で吸引された排ガ
スが泡沸化した水性造膜性無機化合物の溶液に包含され
るという作用が増大するという効果をもたらすことがで
きる。
According to a ninth aspect of the present invention, in the exhaust gas treatment apparatus according to any one of the first to eighth aspects, air is applied to the injection section of the first exhaust gas treatment apparatus. A pressurizing jetting unit that pressurizes and jets into the first exhaust gas treatment device, and is formed so as to jet the solution of the aqueous film-forming inorganic compound from the jetting unit by the jetting force of the pressurizing jetting unit. It is characterized by the following. According to the present invention, when the pressurized air is blown into the first exhaust gas treatment device from the injection unit, the exhaust gas sucked at the negative pressure is included in the foamed aqueous film-forming inorganic compound solution. The effect of increasing the effect can be brought about.

【0020】また、本願請求項10に記載の発明は、請
求項1〜9のいずれか1つにおいて、前記第1排ガス処
理装置の排ガス導入部には、前記排気ガスに螺旋状の流
れを形成させるガイドが設けられていることを特徴とす
るものである。本発明によれば、第1排ガス処理装置内
に形成された螺旋状の流れが排ガスと水性造膜性無機化
合物の溶液との攪拌作用をもたらし、排ガスと該溶液と
の接触機会を多くしてダイオキシン前駆体等の回収能力
を高める。
According to a tenth aspect of the present invention, in any one of the first to ninth aspects, a spiral flow is formed in the exhaust gas at the exhaust gas introduction portion of the first exhaust gas treatment device. And a guide for causing it to be provided. According to the present invention, the helical flow formed in the first exhaust gas treatment device causes a stirring action between the exhaust gas and the solution of the aqueous film-forming inorganic compound, thereby increasing the chance of contact between the exhaust gas and the solution. Increase the ability to recover dioxin precursors and the like.

【0021】また、本願請求項11に記載の発明に係る
排ガス処理方法は、ケイ素(Si)を主成分とした、シ
ラノール塩と、シロキサンとから成り、造膜性を有し、
耐熱フィルターとして機能する水性造膜性無機化合物の
溶液を噴射部から排ガス中に噴射する排ガス第1処理工
程と、前記水性造膜性無機化合物の溶液を前記排ガス第
1処理工程を経た排ガスの流路中にシャワー状に供給す
るシャワー供給工程と、前記水性造膜性無機化合物の溶
液により形成された液膜を前記シャワー供給工程を経た
排ガスの流路を遮るように形成して、前記排ガスが前記
液膜を破って通過するようにした液膜通過工程とを有
し、前記水性造膜性無機化合物が前記排ガスと前記排ガ
ス第1処理工程、シャワー供給工程および液膜通過工程
を順次経て該排ガスを浄化処理することを特徴とするも
のである。
[0021] The exhaust gas treatment method according to the invention of claim 11 comprises a silanol salt containing silicon (Si) as a main component and siloxane, and has a film forming property.
Exhaust gas first treatment step of injecting a solution of the aqueous film-forming inorganic compound functioning as a heat-resistant filter into the exhaust gas from an injection unit, and flow of the exhaust gas passing through the exhaust gas first treatment step of applying the aqueous film-forming inorganic compound solution. A shower supply step of supplying in the form of a shower in a path, and forming a liquid film formed by a solution of the aqueous film-forming inorganic compound so as to block a flow path of the exhaust gas that has passed through the shower supply step. A liquid film passing step so as to break through the liquid film and pass the aqueous film forming inorganic compound through the exhaust gas and the exhaust gas first treatment step, a shower supply step and a liquid film passing step sequentially. It is characterized by purifying exhaust gas.

【0022】本発明によれば、請求項1に記載された排
ガス処理装置にて得られる作用効果と同様に、排ガス中
のダイオキシン前駆体等を効果的に捕捉包含して除去す
ることができる。
According to the present invention, the dioxin precursor and the like in the exhaust gas can be effectively trapped and removed, similarly to the operation and effect obtained by the exhaust gas treatment apparatus according to the first aspect.

【0023】[0023]

【発明の実施の形態】以下、本願発明の実施の形態を図
面に基づいて説明する。まず本発明で使用する水性造膜
性無機化合物(以下「LC」(Liquid Ceramics)とも称
する)について説明する。この水性造膜性無機化合物
は、本願発明者等が先に開発したもの(特公平7−14
801号公報参照)であるが、ケイ素(Si)を主成分
とした、シラノール塩と、シロキサンとから成る造膜性
を有する化合物である。更に具体的には、金属アルミニ
ウム又は金属シリコンと、水和して硼酸や弗酸を解離す
る硼砂、硼酸、弗化ソーダ又は弗酸などの鉱酸化合物
と、苛性カリ、苛性ソーダ又は苛性リチウムのアルカリ
金属とを反応させるに際し、水中又は前記鉱酸化合物の
溶液中で、前記金属固体と前記アルカリ金属との濃厚溶
液反応を生ぜしめ、更に前記鉱酸化合物を反応せしめ、
該反応熱を50℃以上100℃以内に制御すると共に、
生成物の比重を1.1以上とした造膜性を有する無機化
合物である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. First, the aqueous film-forming inorganic compound (hereinafter also referred to as “LC” (Liquid Ceramics)) used in the present invention will be described. This aqueous film-forming inorganic compound has been previously developed by the present inventors (Japanese Patent Publication No. 7-14).
No. 801), but a film-forming compound composed mainly of silicon (Si) and comprising a silanol salt and siloxane. More specifically, a metal aluminum or metal silicon, a mineral acid compound such as borax, boric acid, sodium fluoride or hydrofluoric acid which hydrates to dissociate boric acid or hydrofluoric acid, and an alkali metal of caustic potash, caustic soda or caustic lithium. When reacting, in water or in a solution of the mineral acid compound, a concentrated solution reaction between the metal solid and the alkali metal is caused, and further reacting the mineral acid compound,
While controlling the reaction heat within 50 ° C or higher and within 100 ° C,
It is an inorganic compound having a film forming property with the specific gravity of the product being 1.1 or more.

【0024】この水性造膜性無機化合物は、焼却炉の排
ガスの温度帯200〜1000℃のどの領域でも耐熱性
があり、分解することがない。水性造膜性無機化合物は
泡沸性を有しており、高温で固相前駆体となり造膜し、
保有水が蒸発すれば泡沸現象を示す。水性造膜性無機化
合物は固形分50%である液を鉄板に塗り、下部から加
熱しても上から加熱しても発泡現象を示す。この現象は
650℃まで続き、加熱温度の上昇に伴い発泡及び泡沸
は消失してペースト化し、塗膜化する。
This aqueous film-forming inorganic compound has heat resistance in any temperature range of exhaust gas from an incinerator in a temperature range of 200 to 1000 ° C. and does not decompose. The aqueous film-forming inorganic compound has an intumescent property and forms a solid-phase precursor at a high temperature to form a film.
If the retained water evaporates, a bubbling phenomenon occurs. The aqueous film-forming inorganic compound shows a foaming phenomenon when a liquid having a solid content of 50% is applied to an iron plate and heated from below or from above. This phenomenon continues up to 650 ° C., and as the heating temperature rises, the foaming and bubbling disappear, forming a paste and forming a coating.

【0025】水性造膜性無機化合物は排ガスによりバブ
ル化し、塗膜化してフィルタとなり、水蒸気、炭酸ガス
等の浄化処理ガスだけを排出する状態が高温顕微鏡で確
認されており、また水性造膜性無機化合物は常温になる
と排ガス残渣物を塗膜内包することができる。このよう
な作用により水性造膜性無機化合物は、耐熱フィルタと
しての作用を有する。水性造膜性無機化合物はセラミッ
クスであるから、排ガスが800℃の高温であっても、
200℃の低温に変動しても燃焼することなく、黒煙も
悪臭もダイオキシン前駆体も飛灰も、バブル中に包含す
ることができる。
It has been confirmed with a high-temperature microscope that the aqueous film-forming inorganic compound is bubbled by the exhaust gas, forms a coating film to form a filter, and discharges only a purification processing gas such as water vapor or carbon dioxide gas. When the inorganic compound reaches room temperature, the exhaust gas residue can be included in the coating film. By such an action, the aqueous film-forming inorganic compound has an action as a heat-resistant filter. Since the aqueous film-forming inorganic compound is a ceramic, even if the exhaust gas is at a high temperature of 800 ° C,
Even if it fluctuates to a low temperature of 200 ° C., without burning, black smoke, malodor, dioxin precursor and fly ash can be included in the bubble.

【0026】またイオン結合により、排ガス中の重金属
を捕捉することもできる。即ち水性造膜性無機化合物
は、高温処理中に−Si−O−M(Mは金属)の形にな
って、Pb、Zn、As、Cr、Ceなどの重金属とイ
オン結合して不溶化する。
Also, heavy metals in exhaust gas can be captured by ionic bonding. That is, the aqueous film-forming inorganic compound becomes in the form of -Si-OM (M is a metal) during the high-temperature treatment, and is insolubilized by ionic bonding with heavy metals such as Pb, Zn, As, Cr, and Ce.

【0027】水性造膜性無機化合物は、0.5〜1ミク
ロンのコロイド状であり、顕微鏡観察の結果、450℃
の加熱ガスでノズル温度が180℃の時のスプレードラ
イヤーでパウダー化された状態では50〜80ミクロン
サイズの発泡バルーン状態となっている。過剰な水存在
下で水性造膜性無機化合物が加熱されれば、造膜泡沸
し、表面がゲル化して廃棄物固形分をフィルター作用で
内包化して残渣物を堆積化すると考えられる。このよう
なフィルタ作用により、高温排ガス中の揮発性塩酸や塩
化物も水性造膜性無機化合物に包含される。そして水性
造膜性無機化合物の(シラノール)Na塩は、ダイオキ
シン前駆体である塩素と結合してNaClとなり、シロ
キサンのSiHは塩素との反応は早く、ダイオキシン
になる前の高温中の塩素類を吸着するから、ダイオキシ
ンの生成されやすい200℃〜650℃に冷却されても
ダイオキシンを生成しない。
The aqueous film-forming inorganic compound is in the form of a colloid having a particle size of 0.5 to 1 μm.
When the nozzle is turned into powder by a spray drier when the nozzle temperature is 180 ° C. with the heated gas, a foamed balloon having a size of 50 to 80 μm is formed. It is considered that when the aqueous film-forming inorganic compound is heated in the presence of excess water, film-forming foaming occurs, the surface is gelled, the solid content of the waste is included by the filter action, and the residue is deposited. By such a filter action, volatile hydrochloric acid and chloride in high-temperature exhaust gas are also included in the aqueous film-forming inorganic compound. Then, the (silanol) Na salt of the aqueous film-forming inorganic compound is combined with chlorine as a dioxin precursor to form NaCl, and SiH 3 of the siloxane reacts quickly with chlorine, and chlorine at high temperature before becoming dioxin. Therefore, dioxin is not generated even when cooled to 200 ° C. to 650 ° C. where dioxin is easily generated.

【0028】水性造膜性無機化合物は、200℃以上の
高温排ガス中に噴霧すれば、瞬時にゲル化して造膜する
ために泡沸バブル化し、黒煙や悪臭ガスを包含する。こ
のようにゲル化したコロイド状物質はフィルター作用を
有する。
When the aqueous film-forming inorganic compound is sprayed into a high-temperature exhaust gas of 200 ° C. or higher, it instantaneously gels and foams to form a film, and contains black smoke and odorous gas. The gelled colloidal substance has a filter action.

【0029】噴霧手段では、瞬時の広がりを必要とする
ので、高圧を生じるエジェクタを使用して噴霧すれば吸
引するに足る負圧を生じ、排ガスを水性造膜性無機化合
物の造膜泡沸物中に包含し、飛灰も含んでゲル化した残
渣物を生じ、圧送されて比重差で堆積し、水蒸気のみ蒸
発する。ブロワで送風された排ガスに加圧して噴霧して
も、あるいは送風した排ガスに滴下しても同様な作用を
生じる。水性造膜性無機化合物と排ガスとの接触方法
は、吸引、送風された排ガスに水性造膜性無機化合物を
噴霧しても、滴下しても、反対に水性造膜性無機化合物
中に、高温排ガスを吹き込み接触させても、造膜泡沸し
て残渣物を包含するという効果が同様であることが確認
されている。
Since the spraying means requires instantaneous spreading, a negative pressure sufficient for suction is generated by spraying using an ejector which generates a high pressure, and the exhaust gas is converted into a film-forming foam of an aqueous film-forming inorganic compound. A gelled residue is included, including fly ash, which is pumped and deposited with a specific gravity difference, and only water vapor evaporates. A similar effect is produced by spraying the exhaust gas blown by the blower under pressure or by dripping the exhaust gas blown. The method of contacting the aqueous film-forming inorganic compound with the exhaust gas is such that the aqueous film-forming inorganic compound is sprayed or dropped onto the exhaust gas sucked or blown, and conversely, the aqueous film-forming inorganic compound has a high temperature. It has been confirmed that even when the exhaust gas is blown in and brought into contact, the effect of film-forming foaming and inclusion of the residue is the same.

【0030】有機物や重金属、土壌、水分などを含有す
る廃棄物に水性造膜性無機化合物を容易に混合できる。
有機物を燃焼すれば、これに混合された水性造膜性無機
化合物は、造膜泡沸化して燃焼ガスを包含し、且つ炭
化、ガス化したススやClガスを捕捉して、水蒸気のみ
を通す耐熱フィルタとしての作用をし、同時にボトム灰
に混合される。
An aqueous film-forming inorganic compound can be easily mixed with waste containing organic substances, heavy metals, soil, moisture and the like.
When organic matter is burned, the aqueous film-forming inorganic compound mixed with the organic matter is foamed to form a film and contains the combustion gas, and captures carbonized and gasified soot and Cl gas to pass only water vapor. It acts as a heat resistant filter and is simultaneously mixed with the bottom ash.

【0031】ここで、上記水性造膜性無機化合物すなわ
ちLCが、高温排ガス中のダイオキシン前駆体、ダイオ
キシン、更に黒煙及び煤塵を同時に浄化する能力を有す
ることを具体的に説明する(特願平第11−3050号
参照)。このLCは、重量平均分子量を測定すると、水
硝子が140以下であるのに比し、5000以上の高分
子量を示す無機高分子である。従って、当該LCは、H
+Cl=HClのような等モル反応ではなく、塩素Cl
の多数モルを捕捉する機能を有している。またLCは、
600〜800度の高温の条件でも、塩素Clを捕捉反
応する機能を有している。
Here, it will be specifically described that the above-mentioned aqueous film-forming inorganic compound, ie, LC, has an ability to simultaneously purify dioxin precursors, dioxins, black smoke and dust in high-temperature exhaust gas (Japanese Patent Application No. Hei 10-284). No. 11-3050). This LC is an inorganic polymer having a high molecular weight of 5,000 or more as compared with a water glass of 140 or less when the weight average molecular weight is measured. Therefore, the LC is H
+ Cl = Equimolar reaction like HCl but chlorine Cl
Has the function of capturing many moles of LC is
It has a function of trapping and reacting chlorine Cl even at a high temperature of 600 to 800 degrees.

【0032】LCの成分は、 シラノール塩 [Si・HOH4−n] と、 シロキサン [HSi−O−SiH] である。ここで、Mはアルカリ金属を示し、n、p、
m、qはモル数を示す。これから明らかなように、当該
LCは、塩素Clと反応しあうM、H、Siの多数の反
応基を有している。
The component of LC is a silanol salt [Si.HnOH4-n]pMm  And siloxane [H3Si-O-SiH3]q  It is. Here, M represents an alkali metal, and n, p,
m and q represent the number of moles. As is clear from this,
LC reacts with chlorine Cl in a large number of M, H, Si
It has a reactive group.

【0033】また、塩素Clの有機結合(100kca
l/mol以下)よりは、無機とのイオン結合力の方が
強い(100kcal/mol以上)から、450度以
下の温度であっても、塩素Clが有機結合しないで、当
該LCとの反応結合を生ずると推定される。
Further, an organic bond of chlorine Cl (100 kca
1 / mol or less), the chlorine (Cl) does not form an organic bond even at a temperature of 450 ° C. or less, and thus the reactive bond with the LC is performed even at a temperature of 450 ° C. or less. Is presumed to occur.

【0034】また、実験した結果によれば、650〜8
00度の排ガスが350度に低下した円筒体の入り口で
200〜350ng/TEQのダイオキシン発生があっ
ても、当該LC液(比重1.5でpH12.2)の50
倍薄め液を円筒体内に霧状に充満するようにスプレーし
たときには、発生ダイオキシンの1%以下の1.7ng
/TEQまでに減量した。
According to the results of the experiment, 650 to 8
Even if dioxin of 200 to 350 ng / TEQ is generated at the entrance of the cylindrical body in which the exhaust gas of 00 degrees is reduced to 350 degrees, the LC liquid (specific gravity 1.5 and pH 12.2) of 50
When spraying the double-thinning liquid so as to fill the inside of the cylinder in the form of a mist, 1.7 ng of 1% or less of the generated dioxin
Weight was reduced by / TEQ.

【0035】また、排ガス温度600〜700度で極端
に多い900ng/TEQのダイオキシンを発生させ
て、比重1.4、pH12のLC液を50倍に薄めて排
ガスにスプレーし、循環してLC液を再使用した場合で
あっても、発生ダイオキシンを約1%前後に減量するこ
とができた。上述実験の経験から、本発明に係る排ガス
処理装置は、排ガスとLCの接触を多段階の3回にした
ものである。
Also, 900 ng / TEQ of dioxin, which is extremely large at an exhaust gas temperature of 600 to 700 ° C., is generated, an LC liquid having a specific gravity of 1.4 and a pH of 12 is diluted 50 times, sprayed onto the exhaust gas, circulated and circulated. Even when was reused, the amount of generated dioxin could be reduced to about 1%. From the experience of the above experiments, the exhaust gas treatment apparatus according to the present invention is one in which exhaust gas and LC are contacted three times in multiple stages.

【0036】本排ガス処理装置は、600〜800度の
排ガスをLC液で冷却を兼ねて噴霧し、蒸発乾燥された
LC内にダイオキシン前駆体を捕捉し、次工程で更にL
C液を排ガスにシャワー散布し、次いでバブリングさせ
るという排ガスとLC液とを3度接触させるものであ
り、この装置が上記実験結果以上の結果を示すのはいう
までもないことである。
The present exhaust gas treatment apparatus sprays exhaust gas at 600 to 800 degrees with an LC liquid also for cooling, captures the dioxin precursor in the evaporated and dried LC, and further reduces the Loxin in the next step.
The liquid C is shower-sprayed on the exhaust gas, and then the exhaust gas and the LC liquid are contacted three times, followed by bubbling, and it goes without saying that this apparatus shows results higher than the above experimental results.

【0037】上記の実験結果においては、LCの循環水
は、pH12であったが、長時間運転すると、pHは1
1になり、更にpH10までになった。すなわちダイオ
キシンの分解塩素Clガスを捕捉し、pHを低下させた
ものである。同時にLC液は経過とともに黒煙を吸着し
て真っ黒となった。この結果、出口排ガスは無色であっ
た。この実験には、ダイオキシンや黒煙や悪臭の出やす
いように、重量比で、ゴミ固形化燃料(RDF)70、
塩化ビニル7.5、ポリエチレン22.5の混合物を使
用したが、出口からは塩化ビニルが燃焼する際に生ずる
悪臭を感じなかった。
In the above experimental results, the circulating water of the LC was pH 12, but after a long operation, the pH became 1
1 and further to pH 10. In other words, it is obtained by capturing the chlorine gas decomposed by dioxin and lowering the pH. At the same time, the LC liquid became black as it absorbed black smoke over time. As a result, the outlet exhaust gas was colorless. In this experiment, solid fuel (RDF) 70, by weight ratio, so as to easily generate dioxin, black smoke and bad smell,
A mixture of 7.5 of vinyl chloride and 22.5 of polyethylene was used, but no odor was generated from the outlet when the vinyl chloride was burned.

【0038】この実験で、本発明で使用するLCを使用
しなかった場合、循環水のpHが3になり、更にpH2
までの強酸水になった。勿論、出口の排ガスを吸うと呼
吸困難となったし、天井屋根は煤で黒くなった。
In this experiment, when the LC used in the present invention was not used, the pH of the circulating water was 3, and the pH was 2
Until it became strong acid water. Of course, the exhaust gas at the outlet made breathing difficult, and the roof was blackened with soot.

【0039】以上のことから、高温排ガスに当該LC液
を噴射し、排ガス温度を低下させた低温排ガスにLC液
を散霧(シャワー)洗浄し、更にLC液の液膜にてバブ
リング洗浄すれば完全処理に等しい結果となることは容
易に推定できる。
From the above, it is possible to spray the LC liquid on the high-temperature exhaust gas, spray-wash the LC liquid on the low-temperature exhaust gas whose exhaust gas temperature has been lowered, and further perform bubbling cleaning with a liquid film of the LC liquid. It can be easily estimated that the result is equivalent to the complete processing.

【0040】実験装置 当該排ガス処理装置の設計に先立ち、図4に示した3段
階処理の実験装置を設置した。ダイオキシンと発生塩酸
とは、絶対的な比例関係にはないが、相関関係は有して
いるので、各段階の排ガスを水に捕集し、その塩素濃度
と酸度pHを測定した。その結果、第1段階処理後の排
ガスのClは、1100mg/Nmで、pHは3.2
第2段階処理後の排ガスのClは、 250mg/Nm
で、pHは6.3第3段階処理後の排ガスのClは、
2mg/Nmで、pHは7であった。以上のこ
とから、高温排ガスから発生するダイオキシンをほぼ完
全に処理できると推定できる。
Experimental Apparatus Prior to the design of the exhaust gas treatment apparatus, an experimental apparatus of a three-stage treatment shown in FIG. 4 was installed. Although dioxin and generated hydrochloric acid are not in an absolute proportional relationship but have a correlation, exhaust gas in each stage was collected in water, and its chlorine concentration and acidity pH were measured. As a result, the Cl of the exhaust gas after the first stage treatment was 1100 mg / Nm 3 and the pH was 3.2.
The Cl of the exhaust gas after the second stage treatment is 250 mg / Nm
The pH of the exhaust gas after the third stage treatment is 6.3.
At 2 mg / Nm 3 the pH was 7. From the above, it can be estimated that dioxin generated from high-temperature exhaust gas can be almost completely treated.

【0041】本発明は、上記のような水性造膜性無機化
合物の溶液を使用して、焼却炉の排ガス処理工程でダイ
オキシン前駆体等を確実に効率よく捕捉して、ダイオキ
シンの発生を防止し、排ガス処理工程でダイオキシンの
発生を効果的防止するための装置である。
The present invention uses the above-mentioned aqueous film-forming inorganic compound solution to reliably and efficiently capture dioxin precursors and the like in the exhaust gas treatment step of an incinerator, thereby preventing the generation of dioxin. And a device for effectively preventing the generation of dioxin in an exhaust gas treatment process.

【0042】図1に、焼却炉の排ガス処理工程における
本発明の一実施の形態に係る排ガス処理装置1の系統図
を示す。図1において、符号3は第1排ガス処理装置と
なるガス冷却室を示し、これはゴミ焼却炉(図示せず)
で発生した約800℃の高温排ガスを冷却および浄化す
るために設けられている。ガス冷却室3の上部には焼却
炉に連絡するガス導入管5が接続されており、ここから
導入された排ガスが、ガス冷却室3の上部に形成された
螺旋構造のガイド2により螺旋状回流を描いて内部に導
入され、ガス冷却室3の下方に形成されたガス排出口7
から次の工程へ排出されるまでの間に排ガスの温度を一
例として約450℃にまで冷却するようになっている。
尚、400℃であっても、或いはその他の温度であって
もよい。
FIG. 1 shows a system diagram of an exhaust gas treatment apparatus 1 according to an embodiment of the present invention in an exhaust gas treatment step of an incinerator. In FIG. 1, reference numeral 3 denotes a gas cooling chamber serving as a first exhaust gas treatment device, which is a refuse incinerator (not shown).
Is provided for cooling and purifying the high temperature exhaust gas of about 800 ° C. generated in the above. A gas introduction pipe 5 connected to the incinerator is connected to the upper part of the gas cooling chamber 3, and the exhaust gas introduced therefrom is spirally circulated by a spiral guide 2 formed in the upper part of the gas cooling chamber 3. And a gas outlet 7 formed below the gas cooling chamber 3.
The temperature of the exhaust gas is cooled to about 450 ° C. as an example between the time when the exhaust gas is discharged to the next step.
The temperature may be 400 ° C. or another temperature.

【0043】ガス冷却室3の上部には、水性造膜性無機
化合物(LC)の水溶液、即ちLC水溶液をガス冷却室
3内に噴霧供給するための噴射部であるLC噴射ノズル
9が設けられている。LC噴射ノズル9は、LC供給管
路13に接続されており、LC供給管路13の上流には
LC貯槽15が設けられている。そして、LC水溶液は
途中、LCフィルタ19を介して、LC供給ポンプ17
によりLC噴射ノズル9に供給できるようになってい
る。なおLC水溶液は、計量槽21で50倍以上に水で
希釈され、適宜、LC貯槽15に補給されるようになっ
ている。
In the upper part of the gas cooling chamber 3, there is provided an LC injection nozzle 9 which is an injection part for spraying and supplying an aqueous solution of an aqueous film-forming inorganic compound (LC), that is, an aqueous LC solution into the gas cooling chamber 3. ing. The LC injection nozzle 9 is connected to the LC supply line 13, and an LC storage tank 15 is provided upstream of the LC supply line 13. The LC aqueous solution is supplied to the LC supply pump 17 through the LC filter 19 on the way.
Thus, the liquid can be supplied to the LC injection nozzle 9. The LC aqueous solution is diluted by 50 times or more with water in the measuring tank 21, and is appropriately supplied to the LC storage tank 15.

【0044】LC噴射ノズル9から噴射されるLC水溶
液は、約800℃の高温排ガス中に噴射されることよ
り、瞬時にゲル化造膜するために泡沸バブル化して、排
ガス中の黒煙、悪臭、重金属、飛灰、ダイオキシン前駆
体等を含む有害ガス成分の殆どを包含する。また、LC
噴射ノズル9から噴射されるLC水溶液の供給量は、前
記泡沸によってガス冷却室3内の排ガス流路に充満する
程度に設定されている。なお、LC水溶液の噴射により
排ガスは冷却され、ガス冷却室3のガス排出口7におい
て約450°Cになるまで排ガスの温度が下げられるよ
うになっている。
The LC aqueous solution injected from the LC injection nozzle 9 is jetted into a high-temperature exhaust gas at about 800 ° C., so that it instantaneously foams to form a gel-forming film. Most of the harmful gas components including bad smells, heavy metals, fly ash, dioxin precursors, etc. are included. Also, LC
The supply amount of the LC aqueous solution injected from the injection nozzle 9 is set to such an extent that it fills the exhaust gas flow path in the gas cooling chamber 3 by the above-mentioned bubble boiling. The exhaust gas is cooled by the injection of the LC aqueous solution, and the temperature of the exhaust gas is reduced at the gas discharge port 7 of the gas cooling chamber 3 to about 450 ° C.

【0045】噴射ノズル9の直ぐ上流側には、LC水溶
液と共にガス冷却室3に加圧大気を導入するための加圧
大気導入部11が設けられている。加圧大気導入部11
により加圧された空気がガス冷却室3内に吹き込まれる
ことにより、後述する送風機64に基づく負圧で吸引さ
れた排ガスが泡沸バブル化したLC水溶液に包含される
という作用が増大するという効果をもたらすことができ
る。
Immediately upstream of the injection nozzle 9, there is provided a pressurized air introduction unit 11 for introducing pressurized air into the gas cooling chamber 3 together with the LC aqueous solution. Pressurized air introduction unit 11
Is blown into the gas cooling chamber 3 to increase the effect that the exhaust gas sucked by the negative pressure based on the blower 64 described later is included in the foamed LC aqueous solution. Can be brought.

【0046】またガス冷却室3の底部には包含物貯留部
23が形成されており、該包含物貯留部23には、前記
LCが造膜して排ガス中のダイオキシン前駆体や重金属
等を包含したものを一時貯留するようになっている。こ
こで、包含物は、高温排ガスにより水分は蒸発し、乾燥
した粉粒体となっている。この包含物貯留部23に一時
貯留した粉粒体(包含物)は、排出ゲート弁25を介し
てダスト受槽27に排出され、最終的にドラム缶29に
詰められるようになっている。
An inclusion storage portion 23 is formed at the bottom of the gas cooling chamber 3. The inclusion storage portion 23 contains a dioxin precursor, heavy metal and the like in the exhaust gas when the LC is formed into a film. Are temporarily stored. Here, the inclusions are dried and granulated as moisture evaporates due to the high-temperature exhaust gas. The powder (particles) temporarily stored in the inclusion storage section 23 is discharged to a dust receiving tank 27 via a discharge gate valve 25, and finally packed in a drum 29.

【0047】次に、ガス冷却室3から排出された排ガス
は、ライン8を通って次の第2排ガス処理装置である吸
収搭30に至る。吸収搭30は、排ガス中の黒煙、悪
臭、重金属、飛灰、ダイオキシン前駆体や一部生成した
ダイオキシン等の有害ガス成分を更に除去して浄化する
ための装置である。
Next, the exhaust gas discharged from the gas cooling chamber 3 passes through the line 8 and reaches the absorption tower 30, which is the next second exhaust gas treatment device. The absorption tower 30 is a device for further removing and purifying harmful gas components such as black smoke, foul odor, heavy metals, fly ash, dioxin precursor and partially generated dioxin in exhaust gas.

【0048】吸収搭30の中段には、図3に示したよう
に、複数のシャワートレイ31が該吸収搭30の内壁の
両側から交互に張り出すように形成されており、最上段
のシャワートレイ31の上方にはLC供給ノズル33が
設けられている。LC供給ノズル33は、LC供給管路
13から分岐する第1分岐管35に接続しており、LC
貯槽15のLC水溶液を最上段のシャワートレイ31に
供給するようになっている。
As shown in FIG. 3, a plurality of shower trays 31 are formed in the middle stage of the absorption tower 30 so as to alternately protrude from both sides of the inner wall of the absorption tower 30. Above 31, an LC supply nozzle 33 is provided. The LC supply nozzle 33 is connected to a first branch pipe 35 that branches off from the LC supply line 13,
The aqueous LC solution in the storage tank 15 is supplied to the uppermost shower tray 31.

【0049】各シャワートレイ31には複数の孔が形成
されており、最上段のシャワートレイ31に供給された
LC水溶液が順次、各シャワートレイの孔からシャワー
状に下方に落下するようになっている。尚、LC水溶液
を上段のシャワートレイから少しオーバーフローさせて
下段のシャワートレイ上に流下するようにしてもよい。
シャワートレイ31の最下部には孔の形成されていない
受けトレイ37が設けられており、そのほぼ中央から下
方に延びる案内管39の下端が、吸収搭30の最下部に
仕切板40によって形成されたLC回収受槽41内へ延
びている。
A plurality of holes are formed in each shower tray 31, and the aqueous LC solution supplied to the uppermost shower tray 31 sequentially falls downward from the holes of each shower tray in a shower shape. I have. Note that the LC aqueous solution may slightly overflow from the upper shower tray and flow down onto the lower shower tray.
A receiving tray 37 having no hole is provided at the lowermost portion of the shower tray 31, and the lower end of a guide tube 39 extending downward from substantially the center thereof is formed by a partition plate 40 at the lowermost portion of the absorption tower 30. Into the receiving tank 41.

【0050】ガス冷却室3で冷却された排ガスは、吸収
搭30の下方から吸収搭30内に入り、シャワートレイ
31の間を縫うように上方へ上昇していく。その過程で
各シャワートレイ31から落ちるシャワー状のLC水溶
液と気液接触するため、排ガス中の黒煙、悪臭、重金
属、飛灰、ダイオキシン前駆体などがLC水溶液に包含
される。ここでも、LC水溶液が高温(約450℃〜4
00℃)の排ガスに接触した瞬間にゲル化造膜して泡沸
し、排ガス中含まれているダイオキシン前駆体等を捕捉
して包含して包含物となる現象は前記と同様である。た
だし、第1排ガス処理装置3内より排ガス温度が低下し
ている分だけ、泡沸現象も小規模となり、シャワー状態
が安定に維持されつつ泡沸してダイオキシン前駆体等を
包含した包含物はシャワーとともに落下する。ダイオキ
シンが一部生成している場合はダイオキシンも捕捉して
包含する。
The exhaust gas cooled in the gas cooling chamber 3 enters the absorption tower 30 from below the absorption tower 30 and rises upward so as to sew between the shower trays 31. In the process, since the liquid and the shower-like LC aqueous solution falling from each shower tray 31 come into gas-liquid contact, black smoke, odor, heavy metal, fly ash, dioxin precursor, etc. in the exhaust gas are included in the LC aqueous solution. Here, too, the LC aqueous solution is at a high temperature (about 450 ° C.
(00 ° C.), the same phenomenon as described above occurs in which the film is gelled and foamed at the moment of contact with the exhaust gas, and the dioxin precursor and the like contained in the exhaust gas are captured and included to become inclusions. However, since the temperature of the exhaust gas is lower than that in the first exhaust gas treatment device 3, the bubbling phenomenon is also small, and the inclusion including the dioxin precursor and the like is bubbled while the shower state is stably maintained. Fall with shower. When dioxin is partially generated, dioxin is captured and included.

【0051】多段のシャワートレイ31から下方へシャ
ワー状に落下したLC水溶液は、このようにして排ガス
中のダイオキシン前駆体等を包含した状態で、受けトレ
イ37上に落下する。そして、そこから案内管39を介
してLC回収受槽41に溜まり、そこでダイオキシン前
駆体等を包含した不溶物が下方に沈殿し、LCの上澄み
液が仕切板40をオーバーフローして、隣の上澄み液受
槽43に一時的に溜まる。LC回収受槽41内に沈殿し
た不溶物が一定量以上溜まったときには、図1に示した
如く、吸収搭30の下端に接続したLC廃液受槽44へ
排出し、最終的にドラム缶40に詰められる。また、上
澄み液受槽43内に溜まったLCの上澄み液は、本実施
の形態では、LC循環管路45を経由してLC貯槽15
へ戻され、再度使用されるようになっている。
The aqueous LC solution which has dropped from the multi-stage shower tray 31 in a shower shape falls onto the receiving tray 37 in such a manner as to contain the dioxin precursor and the like in the exhaust gas. Then, from there, it accumulates in the LC recovery receiving tank 41 via the guide tube 39, where insolubles containing the dioxin precursor and the like precipitate downward, and the LC supernatant liquid overflows the partition plate 40, and the next supernatant liquid It temporarily accumulates in the receiving tank 43. When a predetermined amount or more of the insoluble matter settled in the LC recovery receiving tank 41 is collected, the insoluble matter is discharged to an LC waste liquid receiving tank 44 connected to the lower end of the absorption tower 30 as shown in FIG. In the present embodiment, the LC supernatant stored in the supernatant liquid receiving tank 43 passes through the LC circulation pipe 45 in the LC storage tank 15.
Has been returned to use again.

【0052】図3に示したように、吸収搭30内の上部
には、複数の多孔トレイ47が吸収搭の内壁の両側から
交互に張り出すように形成されており、最上段の多孔ト
レイ47の上方にはLC供給ノズル49が設けられてい
る。このLC供給ノズル49は、LC供給管路13から
分岐する第2分岐管51に接続しており、LC貯槽15
のLC水溶液を最上段の多孔トレイ47に供給するよう
になっている。
As shown in FIG. 3, a plurality of perforated trays 47 are formed in the upper part of the absorption tower 30 so as to alternately protrude from both sides of the inner wall of the absorption tower. The LC supply nozzle 49 is provided above. The LC supply nozzle 49 is connected to a second branch pipe 51 that branches off from the LC supply pipe 13, and is connected to the LC storage tank 15.
Is supplied to the uppermost perforated tray 47.

【0053】各多孔トレイ47には下方に延びる閉鎖板
53が形成されており、この閉鎖板53がすぐ下側の多
孔トレイ47に接近する位置まで延びている。また各多
孔トレイ47には、閉鎖板53も含めて小さな孔が複数
形成されている。LC供給ノズル49から供給されたL
C水溶液は、これらの孔を塞ぐように薄い液膜状態で多
孔トレイ47上に存在すると共に、上段から下段に少し
ずつオーバーフローして流下するように構成されてい
る。
Each of the perforated trays 47 is provided with a downwardly extending closing plate 53, which extends to a position approaching the perforated tray 47 immediately below. Each of the perforated trays 47 has a plurality of small holes including the closing plate 53. L supplied from the LC supply nozzle 49
The C aqueous solution is present on the perforated tray 47 in a thin liquid film state so as to close these holes, and is configured to overflow gradually from the upper stage to the lower stage.

【0054】そのため、多段のシャワートレイ31を通
過した排ガスは、多孔トレイ47の小孔からLC水溶液
を液膜を破って上方へ抜け出ようとする。従って排ガス
は必ずLC水溶液の中を通過しなければならず、このと
きシャワートレイ31によるシャワーで除去されなかっ
たダイオキシン前駆体や重金属等がこのLC液膜により
包含され、ほぼ完全に除去される。
For this reason, the exhaust gas that has passed through the multi-stage shower tray 31 tends to break the liquid film of the aqueous LC solution from the small holes of the perforated tray 47 and escape upward. Therefore, the exhaust gas must pass through the LC aqueous solution without fail. At this time, dioxin precursors, heavy metals, and the like that have not been removed by the shower with the shower tray 31 are included in the LC liquid film and almost completely removed.

【0055】最下部の多孔トレイ47と最上部のシャワ
ートレイ31との間には、環状のチムニトレイ55が形
成されている。チムニトレイ55の一部からは下方へ排
出管57が形成され、その下端は最上部のシャワートレ
イ31内へ延びている。すなわち、多孔トレイ47に供
給されたLC水溶液は、すべて一旦チムニトレイ55内
に溜まるようになっており、その後、排出管57を介し
てシャワートレイ31へ供給され、ここでシャワー用の
LC水溶液として再利用されるようになっている。
An annular chimney tray 55 is formed between the lowermost perforated tray 47 and the uppermost shower tray 31. A discharge pipe 57 is formed downward from a part of the chimney tray 55, and its lower end extends into the uppermost shower tray 31. That is, the LC aqueous solution supplied to the perforated tray 47 is temporarily stored in the chimney tray 55, and then is supplied to the shower tray 31 via the discharge pipe 57, where it is re-used as an LC aqueous solution for showering. It is being used.

【0056】最下部の多孔トレイ47に形成された閉鎖
板53の下端は、チムニトレイ55のLC液面下(内
側)まで延びている。すなわち該閉鎖板53の下端はチ
ムニトレイ55に溜まったLC水溶液の上面よりも常に
下方に位置するようになっている。このような構成を採
ることにより、シャワートレイ31を通過した排ガス
は、チムニトレイ55を通過した後、総て多孔トレイ4
7の孔を貫通して下流に導かれるようになっている。こ
れは排ガスをLC水溶液中に吹き込み接触させることと
同様であり、排ガスはLC水溶液中を通過する際に、シ
ャワートレイ31によるシャワーで除去されなかったダ
イオキシン前駆体や重金属等がLCにより包含され、ほ
ぼ完全に除去される。
The lower end of the closing plate 53 formed on the lowermost perforated tray 47 extends below (inside) the LC level of the chimney tray 55. That is, the lower end of the closing plate 53 is always located below the upper surface of the LC aqueous solution collected in the chimney tray 55. By adopting such a configuration, the exhaust gas that has passed through the shower tray 31 passes through the chimney tray 55, and then all of the exhaust gas passes through the perforated tray 4.
7, and is guided downstream. This is similar to blowing and contacting the exhaust gas into the LC aqueous solution, and when the exhaust gas passes through the LC aqueous solution, the dioxin precursor or heavy metal that is not removed by the shower with the shower tray 31 is included by the LC, Almost completely removed.

【0057】上記の如く、チムニトレイ55を通過した
排ガスは、1段目の多孔トレイ47の孔を通過し、続い
て2段目以降の多孔トレイ47の孔を通過した後、ミス
ト除去装置59でLC水溶液のミストが除去される。そ
の後、吸収搭30の上部から排気管61を通り、その途
中の排ガスKO(ノックアウト)ドラム63で水分を分
離した後、大気中に放出される。
As described above, the exhaust gas that has passed through the chimney tray 55 passes through the holes of the first-stage perforated tray 47 and then passes through the holes of the second- and subsequent-stage perforated trays 47. The mist of the aqueous LC solution is removed. Thereafter, the water passes through the exhaust pipe 61 from the upper part of the absorption tower 30 and is separated into water by an exhaust gas KO (knockout) drum 63 in the middle thereof, and then released into the atmosphere.

【0058】以上の実施の形態において、ガス冷却室3
におけるLC噴射ノズル9からのLC水溶液の噴射量お
よび吸収搭30における各LC供給ノズル33,49か
らのLC水溶液の供給量は、排ガスの流量や温度の変動
に対応して常に適切な量になるように制御されている。
In the above embodiment, the gas cooling chamber 3
The amount of the aqueous LC solution injected from the LC injection nozzle 9 and the amount of the aqueous LC solution supplied from each of the LC supply nozzles 33 and 49 in the absorption tower 30 are always appropriate in accordance with the flow rate and temperature of the exhaust gas. Is controlled as follows.

【0059】上記実施の形態に係る排ガス処理装置の作
用を説明する。先ず、噴射ノズル9からガス冷却室3内
にLC水溶液が噴射されることにより、該LC水溶液が
高温の排ガスに接触した瞬間にゲル化造膜して泡沸し、
その排ガス流路内に充満し、排ガス中含まれているダイ
オキシン前駆体、更には悪臭成分、黒煙および重金属を
耐熱フィルターとなって捕捉して包含する。ダイオキシ
ンが一部生成している場合はダイオキシンも捕捉して包
含する。また、LC水溶液をガス冷却室3内に供給する
ことにより、排ガスの冷却効果も得られる。高温排ガス
と接触し、泡沸し、ダイオキシン前駆体等を捕捉する工
程で当該LC水溶液は水分が蒸発して乾燥され、ダイオ
キシン前駆体等を包含した包含物は、粉粒体(固形部
分)となって排ガス流路から分かれ、該ガス冷却室3の
底部に落下する。
The operation of the exhaust gas treatment apparatus according to the above embodiment will be described. First, when the LC aqueous solution is injected from the injection nozzle 9 into the gas cooling chamber 3, the LC aqueous solution contacts the high-temperature exhaust gas to form a gel and form a bubble.
The dioxin precursor filled in the exhaust gas channel and contained in the exhaust gas, as well as foul odor components, black smoke and heavy metals are captured and contained as a heat-resistant filter. When dioxin is partially generated, dioxin is captured and included. Further, by supplying the LC aqueous solution into the gas cooling chamber 3, an effect of cooling the exhaust gas can be obtained. In the process of contacting with high-temperature exhaust gas and bubbling to capture the dioxin precursor and the like, the LC aqueous solution is dried by evaporating the water content, and the inclusion including the dioxin precursor and the like is powdered (solid portion). As a result, it is separated from the exhaust gas channel and falls to the bottom of the gas cooling chamber 3.

【0060】更に、第2排ガス処理装置内に設けられた
シャワートレイ31から排ガスの流路中にLC水溶液を
シャワー状に供給することにより、滴下して表面積が増
大したLC水溶液に、排ガス中のダイオキシン前駆体が
高い確率で接触するようになり、ガス冷却室3内で捕捉
されなかったダイオキシン前駆体等を効率的に捕捉でき
る。ここでもLC水溶液が高温の排ガスに接触した瞬間
にゲル化造膜して泡沸し、排ガス中含まれているダイオ
キシン前駆体等を捕捉して包含して包含物となる現象は
前記と同様である。ただし、ガス冷却室3内より排ガス
温度が低下している分だけ、泡沸現象も小規模となり、
シャワー状態が安定に維持されつつ泡沸してダイオキシ
ン前駆体等を包含した包含物はシャワーとともに落下す
る。ダイオキシンが一部生成している場合はダイオキシ
ンも捕捉して包含する。
Further, by supplying the aqueous solution of LC from the shower tray 31 provided in the second exhaust gas treatment apparatus into the flow path of the exhaust gas in the form of a shower, the LC aqueous solution whose surface area is increased by dripping is reduced. The dioxin precursor comes into contact with a high probability, and the dioxin precursor and the like that are not captured in the gas cooling chamber 3 can be efficiently captured. Here, too, the phenomenon that the LC aqueous solution comes into contact with the high-temperature exhaust gas to form a gel and form a bubble and to capture and include the dioxin precursor and the like contained in the exhaust gas is the same as described above. is there. However, as the temperature of the exhaust gas is lower than that in the gas cooling chamber 3, the bubbling phenomenon is also small,
While the shower state is maintained stably, the bubbles boil and the inclusions including the dioxin precursor and the like fall with the shower. When dioxin is partially generated, dioxin is captured and included.

【0061】更にまた、第2排ガス処理装置内に設けら
れた多孔トレイ47に形成されたLC水溶液の液膜を破
って排ガスがそこを通過するため、排ガス中に存在する
残りのダイオキシン前駆体が確実にLC水溶液中に捕捉
される。この多孔トレイ47を最終的に通過した段階で
浄化処理された排ガスの温度は、常温となるように制御
されており、前記排ガスKOドラム63を経て送風機6
4によって大気中へ放出される。
Furthermore, since the exhaust gas passes through the liquid film of the LC aqueous solution formed on the perforated tray 47 provided in the second exhaust gas treatment apparatus, the remaining dioxin precursor present in the exhaust gas is reduced. Reliably trapped in the aqueous LC solution. The temperature of the exhaust gas that has been purified at the stage when it has finally passed through the perforated tray 47 is controlled to be normal temperature.
4 to the atmosphere.

【0062】なお上記実施の形態では、シャワートレイ
31と多孔トレイ47とを1つの吸収搭30内に設けて
いるが、これはLC水溶液の循環性を良くして効率的な
排ガス処理を行うためであり、またコストを低減する目
的のためでもある。しかし本発明ではシャワートレイ3
1と多孔トレイ47とを別々の吸収搭に分けて設置する
ことも可能である。
In the above-described embodiment, the shower tray 31 and the perforated tray 47 are provided in one absorption tower 30, but this is for improving the circulation of the LC aqueous solution and performing efficient exhaust gas treatment. And for the purpose of cost reduction. However, in the present invention, the shower tray 3
1 and the perforated tray 47 can be installed separately in separate absorption towers.

【0063】また上記実施の形態では、ガス冷却室3に
おけるLC噴射ノズル9および吸収搭30における各L
C供給ノズル33,49へ供給されるLC水溶液は全て
同じ供給源(LC貯槽15)から分岐して供給されてい
る。これは換言すれば全てに同一濃度のLC供給液を供
給していることになる。このような方法を採用すること
により、LC供給液の濃度管理が一元的に容易に行える
とともに、同じ濃度のLC水溶液をその冷却工程(第1
排ガス処理工程)から吸収工程(シャワー工程および液
膜通過工程)に亘り、何度も排ガスに接触させる機会を
与えることにより、排ガス中のダイオキシン前駆体等の
有害物質を次第に着実に減らしていき、最後には有害物
質をほぼ0に近い濃度にまで近づけることができる。
In the above embodiment, each of the LC injection nozzles 9 in the gas cooling chamber 3 and each L
The aqueous LC solutions supplied to the C supply nozzles 33 and 49 are all branched and supplied from the same supply source (LC storage tank 15). This means that the LC supply liquids having the same concentration are all supplied. By adopting such a method, the concentration control of the LC supply liquid can be easily and centrally performed, and the LC aqueous solution having the same concentration is cooled in the cooling step (first step).
From the exhaust gas treatment process) to the absorption process (shower process and liquid film passing process), by giving opportunities to contact the exhaust gas many times, the harmful substances such as dioxin precursors in the exhaust gas are gradually reduced steadily. Finally, the harmful substances can be brought close to a concentration close to zero.

【0064】[0064]

【発明の効果】本発明によれば、水性造膜性無機化合物
の溶液から成る造膜性の耐熱フィルターを焼却炉の排ガ
ス処理工程に適用したので、ダイオキシン前駆体を前も
って除去し、ダイオキシンの発生を効果的に防止するこ
とができる。
According to the present invention, a film-forming heat-resistant filter made of a solution of an aqueous film-forming inorganic compound is applied to an exhaust gas treatment step of an incinerator, so that a dioxin precursor is removed in advance to generate dioxin. Can be effectively prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】焼却炉の排ガス処理工程に用いられる本発明に
係る排ガス処理装置の系統図である。
FIG. 1 is a system diagram of an exhaust gas treatment apparatus according to the present invention used in an exhaust gas treatment step of an incinerator.

【図2】本発明に係る排ガス処理装置を構成するガス冷
却室を示す縦断面図である。
FIG. 2 is a longitudinal sectional view showing a gas cooling chamber constituting the exhaust gas treatment apparatus according to the present invention.

【図3】本発明に係る排ガス処理装置を構成するシャワ
ー供給装置および液膜形成装置を示す模式的縦断面図で
ある。
FIG. 3 is a schematic longitudinal sectional view showing a shower supply device and a liquid film forming device constituting the exhaust gas treatment device according to the present invention.

【図4】本発明に係る排ガス処理装置の設計に先立って
行われた実験装置の構成ブロック図を示す。
FIG. 4 shows a block diagram of a configuration of an experimental apparatus performed prior to the design of an exhaust gas treatment apparatus according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 排ガス処理装置 3 第1排ガス処理装置(ガス冷却室) 9 噴射部(LC噴射ノズル) 11 加圧大気導入部 13 LC供給管路 15 LC貯槽 17 LC供給ポンプ 23 LC貯留部 27 ダスト受槽 29 ドラム缶 30 第2排ガス処理装置(吸収搭) 31 シャワートレイ 33 LC供給ノズル 35 第1分岐管 37 受けトレイ 39 案内管 40 仕切板 41 LC回収受槽 43 上澄み液受槽 45 LC循環管路 47 多孔トレイ 49 LC供給ノズル 51 第2分岐管 53 閉鎖板 55 チムニトレイ 57 排出管 59 ミスト除去装置 REFERENCE SIGNS LIST 1 exhaust gas treatment device 3 first exhaust gas treatment device (gas cooling chamber) 9 injection unit (LC injection nozzle) 11 pressurized air introduction unit 13 LC supply line 15 LC storage tank 17 LC supply pump 23 LC storage unit 27 dust receiving tank 29 drum can Reference Signs List 30 second exhaust gas treatment device (absorption tower) 31 shower tray 33 LC supply nozzle 35 first branch pipe 37 receiving tray 39 guide pipe 40 partition plate 41 LC recovery receiving tank 43 supernatant liquid receiving tank 45 LC circulation pipeline 47 perforated tray 49 LC supply Nozzle 51 Second branch pipe 53 Closure plate 55 Chimney tray 57 Discharge pipe 59 Mist removal device

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 穀田 博 神奈川県茅ヶ崎市本村5−20−6 (72)発明者 安士 信行 東京都中央区日本橋蛎殻町1−27−5 稲 光商事株式会社内 Fターム(参考) 3K078 AA06 BA03 CA24 4D002 AA19 AA21 AA28 AC04 BA02 BA03 BA13 BA14 BA16 CA01 CA07 CA11 DA70 EA02 EA13 GA01 GA02 GA03 GB01 GB02 GB03 GB04 GB09 HA10  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Hiroshi Kanada 5-20-6 Motomura, Chigasaki-shi, Kanagawa Prefecture (72) Inventor Nobuyuki Ashi 1-27-5, Nihonbashi-Kakigashi-cho, Chuo-ku, Tokyo Inami Corporation F term (reference) 3K078 AA06 BA03 CA24 4D002 AA19 AA21 AA28 AC04 BA02 BA03 BA13 BA14 BA16 CA01 CA07 CA11 DA70 EA02 EA13 GA01 GA02 GA03 GB01 GB02 GB03 GB04 GB09 HA10

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1排ガス処理装置と、この第1排ガス
処理装置に続いて配置された第2排ガス処理装置とを備
え、 前記第1排ガス処理装置は、ケイ素(Si)を主成分と
した、シラノール塩と、シロキサンとから成り、造膜性
を有し、耐熱フィルターとして機能する水性造膜性無機
化合物の溶液を噴射部から排ガス中に噴射するよう構成
され、 前記第2排ガス処理装置は、前記水性造膜性無機化合物
の溶液を前記排ガスの流路中にシャワー状に供給するシ
ャワー供給装置と、前記水性造膜性無機化合物の溶液に
より形成された液膜を前記排ガスの流路を遮るように形
成して、前記排ガスが前記液膜を破って通過するように
した液膜形成装置とを備え、 前記水性造膜性無機化合物が前記排ガスと前記第1排ガ
ス処理装置および第2排ガス処理装置にて段階的に接触
して排ガスを浄化処理することを特徴とする排ガス処理
装置。
1. An exhaust gas treatment device comprising: a first exhaust gas treatment device; and a second exhaust gas treatment device disposed subsequent to the first exhaust gas treatment device, wherein the first exhaust gas treatment device contains silicon (Si) as a main component. , Comprising a silanol salt and siloxane, having a film forming property, and configured to inject a solution of an aqueous film forming inorganic compound that functions as a heat resistant filter into exhaust gas from an injection unit. A shower supply device for supplying a solution of the aqueous film-forming inorganic compound into the flow path of the exhaust gas in a shower, and a liquid film formed by the solution of the aqueous film-forming inorganic compound flowing through the flow path of the exhaust gas. A liquid film forming device formed so as to block and allow the exhaust gas to break through the liquid film and pass therethrough, wherein the aqueous film-forming inorganic compound comprises the exhaust gas, the first exhaust gas treatment device, and the second exhaust gas. processing An exhaust gas treatment device characterized in that exhaust gas is purified by contacting the exhaust gas in stages.
【請求項2】 請求項1において、前記第1排ガス処理
装置は、焼却炉から排出される高温排ガスを冷却しつつ
浄化処理するが、その際の排ガス温度が略650℃以下
とならない温度領域で処理するように制御されているこ
とを特徴とする排ガス処理装置。
2. The first exhaust gas treatment device according to claim 1, wherein the first exhaust gas treatment device performs a purification treatment while cooling the high-temperature exhaust gas discharged from the incinerator, but in a temperature region where the exhaust gas temperature does not become approximately 650 ° C. or less. An exhaust gas treatment device controlled to perform treatment.
【請求項3】 請求項1または2において、前記噴射
部、前記シャワー供給装置および前記液膜形成装置から
供給される前記水性造膜性無機化合物の溶液の供給量
は、前記第1排ガス処理装置および第2排ガス処理装置
への排ガスの流量に応じて制御されていることを特徴と
する排ガス処理装置。
3. The first exhaust gas treatment apparatus according to claim 1, wherein the supply amount of the aqueous film-forming inorganic compound solution supplied from the jetting unit, the shower supply device, and the liquid film formation device is the first exhaust gas treatment device. And an exhaust gas treatment device controlled in accordance with the flow rate of exhaust gas to the second exhaust gas treatment device.
【請求項4】 請求項1から3のいずれか1つにおい
て、前記シャワー供給装置および前記液膜形成装置は、
単一の吸収搭内に設けられていることを特徴とする排ガ
ス処理装置。
4. The apparatus according to claim 1, wherein the shower supply device and the liquid film forming device include:
An exhaust gas treatment device provided in a single absorption tower.
【請求項5】 請求項1から4のいずれか1つにおい
て、前記噴射部、前記シャワー供給装置および前記液膜
形成装置へは、同一貯槽から前記水性造膜性無機化合物
の溶液が供給されることを特徴とする排ガス処理装置。
5. The aqueous film-forming inorganic compound solution according to claim 1, wherein the jetting unit, the shower supply device, and the liquid film forming device are supplied from the same storage tank. An exhaust gas treatment device characterized by the above-mentioned.
【請求項6】 請求項1から5のいずれか1つにおい
て、前記第2排ガス処理装置の下端部には、使用後の前
記水性造膜性無機化合物の溶液を受け入れる回収受槽が
形成され、該回収受槽に隣接する位置に、該回収受槽内
に沈降した成分を回収受槽に残し、該回収受槽からオー
バーフローした前記水性造膜性無機化合物の溶液の上澄
み液を受け入れる上澄み液受槽を備えていることを特徴
とする排ガス処理装置。
6. A collection tank for receiving a used aqueous film-forming inorganic compound solution at a lower end of the second exhaust gas treatment device according to any one of claims 1 to 5, At a position adjacent to the collection receiving tank, a supernatant liquid receiving tank is provided which receives the supernatant liquid of the aqueous film-forming inorganic compound solution which has left the components settled in the collection receiving tank and overflows from the collection receiving tank. An exhaust gas treatment device characterized by the above-mentioned.
【請求項7】 請求項6において、前記第2排ガス処理
装置の前記回収受け槽には、前記沈降した成分を装置外
に分離する装置が設けられていることを特徴とする排ガ
ス処理装置。
7. The exhaust gas treatment device according to claim 6, wherein a device for separating the settled component out of the device is provided in the recovery receiving tank of the second exhaust gas treatment device.
【請求項8】 請求項1から7のいずれか1つにおい
て、前記第1排ガス処理装置の下端部には、前記水性造
膜性無機化合物が排ガスを浄化処理して落下した固形部
分を装置外に分離する装置が設けられていることを特徴
とする排ガス処理装置。
8. The solid part in which the aqueous film-forming inorganic compound is subjected to a purification treatment of an exhaust gas to drop a solid portion at a lower end portion of the first exhaust gas treatment apparatus outside the apparatus. An exhaust gas treatment device comprising a device for separating the waste gas from the waste gas.
【請求項9】 請求項1〜8のいずれか1つにおいて、
前記第1排ガス処理装置の前記噴射部には、空気を加圧
して該第1排ガス処理装置内に噴射する加圧噴射部を備
え、該加圧噴射部の噴射力によって前記噴射部から前記
水性造膜性無機化合物の溶液を噴射するように形成され
ていることを特徴とする排ガス処理装置。
9. The method according to claim 1, wherein:
The injection unit of the first exhaust gas treatment device includes a pressurized injection unit that pressurizes air and injects the air into the first exhaust gas treatment device. An exhaust gas treatment apparatus formed so as to spray a solution of a film forming inorganic compound.
【請求項10】 請求項1〜9のいずれか1つにおい
て、前記第1排ガス処理装置の排ガス導入部には、前記
排気ガスに螺旋状の流れを形成させるガイドが設けられ
ていることを特徴とする排ガス処理装置。
10. The exhaust gas introduction section of the first exhaust gas treatment device according to claim 1, wherein a guide for forming a spiral flow in the exhaust gas is provided. Waste gas treatment equipment.
【請求項11】 ケイ素(Si)を主成分とした、シラ
ノール塩と、シロキサンとから成り、造膜性を有し、耐
熱フィルターとして機能する水性造膜性無機化合物の溶
液を噴射部から排ガス中に噴射する排ガス第1処理工程
と、 前記水性造膜性無機化合物の溶液を前記排ガス第1処理
工程を経た排ガスの流路中にシャワー状に供給するシャ
ワー供給工程と、 前記水性造膜性無機化合物の溶液により形成された液膜
を前記シャワー供給工程を経た排ガスの流路を遮るよう
に形成して、前記排ガスが前記液膜を破って通過するよ
うにした液膜通過工程とを有し、 前記水性造膜性無機化合物が前記排ガスと前記排ガス第
1処理工程、シャワー供給工程および液膜通過工程を順
次経て該排ガスを浄化処理することを特徴とする排ガス
浄化方法。
11. A solution of an aqueous film-forming inorganic compound which comprises a silanol salt containing silicon (Si) as a main component and siloxane and has a film-forming property and functions as a heat-resistant filter is discharged from an injection section into an exhaust gas. An exhaust gas first treatment step of injecting the aqueous film-forming inorganic compound, a shower supply step of supplying a solution of the aqueous film-forming inorganic compound in a flow path of the exhaust gas having passed through the exhaust gas first treatment step, A liquid film passing step in which a liquid film formed by the solution of the compound is formed so as to block the flow path of the exhaust gas that has passed through the shower supply step, so that the exhaust gas breaks through the liquid film and passes therethrough. An exhaust gas purifying method, wherein the aqueous film-forming inorganic compound purifies the exhaust gas through the exhaust gas and the exhaust gas first treatment step, a shower supply step, and a liquid film passing step sequentially.
JP11185593A 1999-06-30 1999-06-30 Waste gas treating device and waste gas purifying method Pending JP2001009239A (en)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR101176517B1 (en) 2011-03-17 2012-08-23 신도이앤씨 (주) A exhaust gas purifying system which improved nozzle
CN115624867A (en) * 2022-12-21 2023-01-20 佛山(华南)新材料研究院 Preparation method of high-performance filter membrane

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