JP2001009206A - Multistage defoaming and degasing device - Google Patents

Multistage defoaming and degasing device

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JP2001009206A
JP2001009206A JP11179808A JP17980899A JP2001009206A JP 2001009206 A JP2001009206 A JP 2001009206A JP 11179808 A JP11179808 A JP 11179808A JP 17980899 A JP17980899 A JP 17980899A JP 2001009206 A JP2001009206 A JP 2001009206A
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JP
Japan
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processing liquid
defoaming
dispersing
supplied
plate
Prior art date
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Application number
JP11179808A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuhiro Watanabe
一弘 渡辺
Hisayasu Tachikawa
久泰 立川
Makoto Kida
真 木田
Shukuichi Shimomura
祝一 下村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Noritake Co Ltd
Original Assignee
Noritake Co Ltd
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Publication date
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D19/00Degasification of liquids
    • B01D19/0042Degasification of liquids modifying the liquid flow
    • B01D19/0052Degasification of liquids modifying the liquid flow in rotating vessels, vessels containing movable parts or in which centrifugal movement is caused
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D19/00Degasification of liquids
    • B01D19/0036Flash degasification
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D19/00Degasification of liquids
    • B01D19/0042Degasification of liquids modifying the liquid flow
    • B01D19/0047Atomizing, spraying, trickling

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a defoaming and degasing device using dispersion disks and capable of enhancing the defoaming rate by enlarging the contact area of a treating liquid with a vacuum without making the device into large size as a whole. SOLUTION: In this device, the dispersion disks S (S1, S2) are supported to be rotated around a vertical rotating shaft 1 in a vacuum chamber C, the treating liquid supplied onto the disks S (S1, S2) rotating at high speed is dispersed by the action of centrifugal force and bubbles, or the like, in the liquid are defoamed and degased. The treating liquid is distributed and supplied to each of dispersion disks S (S1, S2) disposed to form multiple stages.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、真空チャンバー内
に配設された高速回転中の分散盤上に処理液を供給し
て、遠心力の作用により処理液内の気泡、溶存気体等の
気泡類を脱泡・脱気する構成の装置に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of supplying a processing liquid onto a high-speed rotating dispersion plate provided in a vacuum chamber, and applying a centrifugal force to cause bubbles in the processing liquid and bubbles such as dissolved gas. The present invention relates to an apparatus for defoaming and degassing air.

【0002】[0002]

【従来の技術】最初に、図10を参照にして、上記構成
の従来の脱泡・脱気装置A’について説明する。真空チ
ャンバーCの内部には、分散盤Sが水平に配設され、該
分散盤Sは、モーターMにより駆動される垂直回転軸1
の下端部に連結されている。分散盤Sは、円盤体2の外
周縁に環状のスクリーンプレート3が取付けられた構成
である。真空チャンバーCの内部には、真空ポンプP1
の吸引排気作用によって、真空、或いはこれに近い状態
に保持されている。また、真空チャンバーCの天板部4
を貫通して、該チャンバーCの内部に処理液の供給管5
が挿入され、該供給管5によって分散盤Sの中心に近い
部分に処理液が連続供給されるようになっている。
2. Description of the Related Art First, with reference to FIG. 10, a conventional defoaming / deaerator A 'having the above-described structure will be described. Inside the vacuum chamber C, a dispersion plate S is disposed horizontally, and the dispersion plate S has a vertical rotating shaft 1 driven by a motor M.
Is connected to the lower end. The dispersion board S has a configuration in which an annular screen plate 3 is attached to the outer peripheral edge of the disk body 2. A vacuum pump P 1 is provided inside the vacuum chamber C.
Is maintained in a vacuum state or a state close to the vacuum state by the suction and exhaust action. Also, the top plate 4 of the vacuum chamber C
Through the processing solution supply pipe 5 inside the chamber C.
The processing liquid is continuously supplied to a portion near the center of the dispersion plate S by the supply pipe 5.

【0003】そして、モーターMによって分散盤Sが高
速回転している状態において、処理液供給ポンプP2
圧力によって供給管5から処理液を前記分散盤Sの円盤
体2の中心部に連続供給すると、該円盤体2に落下した
処理液Lは、分散盤Sの高速回転に基づく遠心力によ
り、分散作用を受けて薄膜化され、真空との接触面積
(界面積)が大きくなって、脱泡が促進される。この分
散作用により薄膜化された処理液Lは、遠心力によって
分散盤Sのスクリーンプレート3に衝突した後に、その
網目を通って分散盤Sの外部に飛散されて真空チャンバ
ーCの内壁面に叩き付けられることにより、処理液L内
の気泡は破壊され、この作用によっても脱泡される。更
に、真空チャンバーCの内壁面に叩き付けられた処理液
Lは、これに沿って流下する間に、再度薄膜化されて脱
泡され、該真空チャンバーCの下端の排出口6から排出
される。なお、真空チャンバーC内において脱泡・脱気
処理を終えて、排出口6から排出された処理済液は、処
理済液移送ポンプP3 によって次工程に移送される。
[0003] Then, in a state where the distributor S by a motor M is rotated at a high speed, continuous feed the processing liquid from the supply pipe 5 to the center of the disk body 2 of the distributor S by the pressure of the process liquid supply pump P 2 Then, the processing liquid L that has dropped onto the disk body 2 is dispersed and thinned by the centrifugal force based on the high-speed rotation of the dispersion disk S, and the contact area (boundary area) with the vacuum is increased. Foam is promoted. The processing liquid L thinned by the dispersing action collides with the screen plate 3 of the dispersing disk S by centrifugal force, and then is scattered to the outside of the dispersing disk S through the mesh to be hit against the inner wall surface of the vacuum chamber C. As a result, the bubbles in the processing liquid L are destroyed, and are also defoamed by this action. Further, the processing liquid L struck against the inner wall surface of the vacuum chamber C is again thinned and defoamed while flowing down along the same, and is discharged from the discharge port 6 at the lower end of the vacuum chamber C. Note that in the vacuum chamber C and after defoaming, degassing treatment, the treated solution discharged from the discharge port 6 is transported by the treated fluid pump P 3 to the next step.

【0004】このように、分散盤Sを用いた脱泡・脱気
装置においては、複数の作用が複合して、処理液内の気
泡類が脱泡されるのであるが、最も脱泡効果が高いの
は、遠心力作用に基づく分散盤S上での処理液の薄膜化
によるものである。このため、一定流量の処理液の脱泡
処理を行う場合には、分散盤Sの表面積が大きい程、処
理液と真空の接触面積が大きくなって、脱泡率(この定
義については後述する)が高くなる。単段の分散盤を有
する装置において、分散盤の表面積を大きくするには、
分散盤を大径にする他はなく、これでは、装置が徒に大
型化してしまい、装置全体を大きくすることなく、処理
液と真空との接触面積を大きくすることが臨まれてい
た。このため、脱泡率を高めるには、単位時間当たりの
処理量を少なくせざるを得ないと共に、単位時間当たり
の処理量を多くすると、脱泡率が低くなるという問題が
あった。
As described above, in the defoaming / deaerator using the dispersing plate S, a plurality of actions are combined to remove bubbles in the processing liquid. The high value is due to the thinning of the processing liquid on the dispersion plate S based on the centrifugal force action. For this reason, when performing the defoaming treatment of the processing liquid at a constant flow rate, the larger the surface area of the dispersion plate S, the larger the contact area between the processing liquid and the vacuum, and the defoaming rate (this definition will be described later). Will be higher. In an apparatus having a single-stage dispersion plate, to increase the surface area of the dispersion plate,
There is no other choice but to increase the diameter of the dispersing plate. In this case, the apparatus is unnecessarily increased in size, and it has been attempted to increase the contact area between the processing liquid and the vacuum without increasing the size of the entire apparatus. Therefore, in order to increase the defoaming rate, the amount of processing per unit time must be reduced, and when the amount of processing per unit time is increased, there is a problem that the defoaming rate decreases.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記構成の
脱泡・脱気装置において、装置全体を大型化することな
く、処理液と真空との接触面積を大きくすることを課題
としている。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a defoaming / degassing device having the above-described structure, in which the contact area between the processing liquid and the vacuum is increased without increasing the size of the entire device.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明の採用した手段は、真空チャンバー内に分散盤
が垂直回転軸を中心にして回転可能に支持され、高速回
転中の前記分散盤上に供給された処理液を遠心力の作用
により分散させて、液中の気泡類を脱泡・脱気する構成
の装置において、前記分散盤を多段に配設して、各分散
盤に処理液を分配供給することである。
In order to solve the above-mentioned problems, a means adopted in the present invention is as follows. A dispersing disk is supported in a vacuum chamber so as to be rotatable about a vertical rotation axis. In a device configured to disperse the processing liquid supplied on the plate by the action of centrifugal force and to defoam and deaerate bubbles in the liquid, the dispersing plates are arranged in multiple stages, and each dispersing plate is Distributing and supplying the processing liquid.

【0007】同一の垂直回転軸に分散盤が多段に配設さ
れていて、各分散盤に分配供給された処理液は、各分散
盤においてそれぞれ独立して薄膜化されて脱泡される。
このため、処理液の供給量が一定の場合には、単段の分
散盤の場合に比較して、薄膜化された処理液と真空との
接触面積が、多段分散盤のほぼ段数倍だけ広くなるため
に、脱泡が促進される(処理済液の脱泡率が高まる)。
一方、一定の脱泡率の処理済液を得る場合には、単段の
分散盤の場合に比較して、多段分散盤のほぼ段数倍だけ
処理液の供給量を増加させられるために、脱泡処理の能
率が著しく高まる。
[0007] The dispersing plates are arranged in multiple stages on the same vertical rotation shaft, and the processing liquid distributed and supplied to each dispersing plate is thinned and defoamed independently in each dispersing plate.
For this reason, when the supply amount of the processing liquid is constant, the contact area between the thinned processing liquid and the vacuum is almost equal to the number of stages of the multi-stage dispersion plate, as compared with the case of the single-stage dispersion plate. Due to the expansion, defoaming is promoted (defoaming rate of the treated liquid is increased).
On the other hand, when obtaining a treated liquid with a constant defoaming rate, the supply amount of the processing liquid can be increased by almost the number of stages of the multi-stage dispersion plate, compared to the case of a single-stage dispersion plate, The efficiency of the defoaming treatment is significantly increased.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】以下、実施形態を挙げて、本発明
を更に詳細に説明する。図1は、本発明の第1実施形態
の脱泡・脱気装置A1 の正面断面図であり、図2は、図
1のX1 −X 1 線断面図である。なお、従来の脱泡・脱
気装置A’と同一部分には、同一符号を付し、本実施形
態特有の部分についてのみ説明する。図1及び図2にお
いて、第1及び第2の各分散盤S1,S2 が上下方向に所
定間隔をおいて配置されて、第1及び第2の各分散盤S
1,S2 は、その円盤体2の相対向する2箇所において連
結体7で一体に連結されている。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described with reference to embodiments.
Will be described in more detail. FIG. 1 shows a first embodiment of the present invention.
Degassing and degassing equipment A1FIG. 2 is a front sectional view of FIG.
X of 11-X 1It is a line sectional view. In addition, conventional defoaming and deaeration
The same parts as those of the air device A 'are denoted by the same reference numerals, and in this embodiment
Only the parts specific to the state will be described. 1 and 2
And the first and second dispersion boards S1, STwoIs in the vertical direction
The first and second distribution boards S are arranged at regular intervals.
1, STwoAre connected at two opposing locations of the disk 2.
They are integrally connected by a unit 7.

【0009】また、下方に配置される第1分散盤S1
円盤体2の中心部には、垂直回転軸1の下端部が一体に
連結され、上方に配置される第2分散盤S2 の円盤体2
の中心部には、円形の中心孔8が設けられている。ま
た、真空チャンバーC内に挿入された処理液Lの供給管
5には、該処理液Lを一時的に貯留させて分配させるた
めの中空ドーナツ状の分配容器9が一体に連結され、該
分配容器9は、第2分散盤S2 の直上に配設されて、そ
の中心孔11に垂直回転軸1が挿通されている。この分
配容器9は、モーターMのケーシング(図示せず)或い
は真空チャンバーCの天板部4に固定される。また、分
配容器9の下面には、一対の第1分配供給管12と、同
じく一対の第2分配供給管13とが、自身の中心孔11
に対してそれぞれ対称に配置された状態で、下方に延設
されている。一対の第1分配供給管12の下端部は、第
1分散盤S1 の中心部に達しており、一対の第2分配供
給管13の下端部は、第2分散盤S2 における中心孔8
に臨む部分に達している。
Further, the lower end of the vertical rotating shaft 1 is integrally connected to the center of the disk 2 of the first dispersing disk S 1 disposed below, and the second dispersing disk S 2 disposed above. Disc 2
Is provided with a circular center hole 8. In addition, a hollow donut-shaped distribution container 9 for temporarily storing and distributing the processing liquid L is integrally connected to the supply pipe 5 for the processing liquid L inserted into the vacuum chamber C. vessel 9 is disposed directly above the second distributor S 2, vertical shaft 1 is inserted into the central hole 11. The distribution container 9 is fixed to the casing (not shown) of the motor M or the top plate 4 of the vacuum chamber C. On the lower surface of the distribution container 9, a pair of first distribution and supply pipes 12 and a pair of second distribution and supply pipes 13 are also provided with their own central holes 11.
Are symmetrically disposed with respect to each other and extend downward. Lower ends of the pair of first dispensing pipe 12 is reached in the center of the first distributor S 1, the lower end portions of the pair of second dispensing pipe 13, the center of the second distributor S 2 holes 8
Has reached the part facing.

【0010】このため、モーターMによって垂直回転軸
1を高速回転させると、第1及び第2の各分散盤S1,S
2 は、一体となって回転する。この状態において、処理
液供給ポンプP2 の作用によって供給管5を介して処理
液を供給すると、該処理液は、一旦分配容器9に貯留さ
れた後に、第1及び第2の各分配供給管12,13から
それぞれ第1及び第2の分散盤S1,S2 上に分配されて
供給される。第1及び第2の各分散盤S1,S2 上に分配
供給された各処理液は、それぞれ独立して遠心力による
分散作用を受けて薄膜化された後に、スクリーンプレー
ト3に衝突して、その網目を通って外部に飛散されて真
空チャンバーCの内壁面に叩き付けられて、該内壁面に
沿って流下する。
For this reason, when the vertical rotation shaft 1 is rotated at a high speed by the motor M, the first and second dispersion disks S 1 , S 1
2 rotates together. In this state, when the processing liquid is supplied through the supply pipe 5 by the action of the processing liquid supply pump P 2 , the processing liquid is once stored in the distribution container 9, and then is stored in the first and second distribution supply pipes. 12 and 13 respectively, and are distributed and supplied to the first and second dispersion boards S 1 and S 2 . Each of the processing liquids distributed and supplied onto the first and second dispersing plates S 1 and S 2 is independently subjected to a dispersing action by centrifugal force to be thinned, and then collides with the screen plate 3. Then, it is scattered outside through the mesh and hit against the inner wall surface of the vacuum chamber C, and flows down along the inner wall surface.

【0011】即ち、本実施形態の脱泡・脱気装置A1
おいては、上下二段の第1及び第2の各分散盤S1,S2
に対して処理液が分配供給されて、それぞれ独立して薄
膜化されるので、各分散盤S1,S2 上の薄膜化された処
理液と真空との接触面積は、単段の分散盤に比較して、
ほぼ2倍となる。このため、処理液流量が同一である場
合には、二段分散盤は、単段分散盤に比較して、処理液
の脱泡率が高められる。特に、本実施形態では、各分散
盤S1,S2 には、その回転中心に対して対称位置の二箇
所において、処理液が均等供給されるために、各分散盤
1,S2 上において処理液が均等に薄膜化され易くな
り、この処理液の供給方式によっても、処理液の脱泡率
が幾分高められる。
That is, in the defoaming / degassing apparatus A 1 of the present embodiment, the first and second dispersing plates S 1 and S 2 of upper and lower two stages are used.
The processing solution is distributed and supplied to each of them, and each of them is independently thinned, so that the contact area between the thinned processing solution on each of the dispersion plates S 1 and S 2 and the vacuum is a single-stage dispersion plate. Compared to
It is almost doubled. Therefore, when the processing liquid flow rates are the same, the two-stage dispersion plate has a higher defoaming rate of the processing liquid than the single-stage dispersion plate. In particular, in the present embodiment, each distributor S 1, S 2, at two locations symmetrically with respect to its center of rotation, for the treatment liquid is supplied uniformly, each distributor S 1, S 2 above In this case, the processing liquid is easily thinned uniformly, and the defoaming rate of the processing liquid is somewhat increased by this processing liquid supply method.

【0012】また、図3及び図4に、二段の分散盤S1,
2 を備えた本発明の第2実施形態の脱泡・脱気装置A
2 が示されている。この脱泡・脱気装置A2 は、処理液
Lの分配容器14が供給管5と分離して設けられている
構成のみが、前記脱泡・脱気装置A1 と異なる。即ち、
分配容器14は、第2分散盤S2 の中心からずれた位置
に配置されて、モーターMのケーシング(図示せず)或
いは真空チャンバーCの天板部4に固定されていて、そ
の下面に、第1及び第2の各分散盤S1,S2 に処理液を
供給するための第1及び第2の各分配供給管15,16
がそれぞれ設けられた構成である。第1分配供給管15
からは、第1分散盤S1 の中心に近い部分に処理液が供
給され、第2分配供給管16からは、第2分散盤S2
おける中心孔8に臨む部分に処理液が供給される。
FIG. 3 and FIG. 4 show two-stage dispersion boards S 1 ,
Defoaming and deaerator A of the second embodiment of the present invention equipped with S 2
2 is shown. The defoaming-deaerator A 2, only the configuration of the dispensing container 14 of the treatment liquid L is provided separately from the supply pipe 5 is different from the defoaming-deaerator A 1. That is,
Dispensing container 14 is disposed at a position shifted from the center of the second distributor S 2, the motor M of the casing (not shown) or be fixed to the top plate 4 of the vacuum chamber C, and a lower surface, each of the first and second distributor S 1, S each of the first and second dispensing pipe 15, 16 for supplying 2 to the treatment liquid
Are provided respectively. First distribution supply pipe 15
The processing liquid is supplied to a portion close to the center of the first dispersion plate S 1 , and the processing liquid is supplied from the second distribution supply pipe 16 to a portion of the second dispersion plate S 2 facing the center hole 8. .

【0013】この脱泡・脱気装置A2 においては、処理
液供給ポンプP2 の作用によって、供給管5を介して処
理液が分配容器14に一旦供給されて貯留され、第1及
び第2の各分散盤S1,S2 にそれぞれ分配供給されて、
薄膜化される。
In the defoaming / deaerator A 2 , the processing liquid is once supplied and stored in the distribution container 14 through the supply pipe 5 by the operation of the processing liquid supply pump P 2 , and the first and second processing liquids are supplied. Is distributed and supplied to each of the dispersing boards S 1 and S 2 ,
It is thinned.

【0014】次に、本発明の第3実施形態の脱泡・脱気
装置A3 について説明する。この脱泡・脱気装置A
3 は、前記脱泡・脱気装置A1 の二段の分散盤を三段に
したものである。図5は、脱泡・脱気装置A3 の正面断
面図であり、図6は、各分散盤S 1 〜S3 と分配容器2
3とを分離した状態の斜視図である。第1〜第3の各分
散盤S1 〜S3 は、所定間隔をおいて相上下して配置さ
れて、各円盤体2の相対向する2箇所において一対の連
結体21を介して一体に連結されている。
Next, defoaming and deaeration according to a third embodiment of the present invention.
Device AThreeWill be described. This defoaming / deaerator A
ThreeIs the defoaming / deaerator A1Of two-stage disperser into three stages
It was done. FIG. 5 shows a defoaming / deaerator A.ThreeFrontal view of
FIG. 6 is a plan view of each dispersion board S. 1~ SThreeAnd distribution container 2
FIG. 3 is a perspective view of a state in which the device 3 and 3 are separated. 1st to 3rd minute
Scatter S1~ SThreeAre arranged one above the other at a predetermined interval.
A pair of links at two opposite locations of each disk 2
They are integrally connected via a connection 21.

【0015】また、最下段に配置される第1分散盤S1
の円盤体2の中心部には、垂直回転軸1の下端部が一体
に連結され、中間に配置される第2分散盤S2 の中心部
には、円形の中心孔8が設けられ、更に最上段に配置さ
れる第3分散盤S3 の中心部には、前記中心孔8よりも
内径の大きな中心孔22が設けられている。また、真空
チャンバーC内に挿入された処理液Lの供給管5の先端
部には、該処理液Lを一時的に貯留させるための中空ド
ーナツ状の分配容器23が一体に連結されている。分配
容器23は、その中心部に設けられた中心孔24に垂直
回転軸1が挿通された状態で、第3分散盤S3 の中心部
の直上に固定配置されている。
Further, a first dispersion plate S 1 arranged at the lowermost stage
At the center of the disk body 2, the lower end of the vertical shaft 1 is integrally connected to, the central part of the second distributor S 2 arranged in the middle, a circular center hole 8 is provided, further At the center of the third distributor S 3 disposed at the top, a large central hole 22 of the inner diameter is provided than the center hole 8. A hollow donut-shaped distribution container 23 for temporarily storing the processing liquid L is integrally connected to a distal end of the supply pipe 5 for the processing liquid L inserted into the vacuum chamber C. Dispensing container 23 in a state where the vertical shaft 1 to the center hole 24 provided at the center thereof is inserted, and is fixedly disposed directly above the center of the third distributor S 3.

【0016】分配容器23の下面には、第1〜第3の各
分配供給管25,26,27が、該分配容器23の中心
に対して対称位置にそれぞれ一対ずつ下方に向けて延設
されている。第1分配供給管25の下端部は、最下段の
第1分散盤S1 の中心部に達しており、第2分配供給管
26の下端部は、中間の第2分散盤S2 における中心孔
8に臨む部分に達しており、更に、第3分配供給管27
の下端部は、最上段の第3分散盤S3 における中心孔2
2に臨む部分に達している。また、第2分散盤S2 の中
心孔8には、一対の第1分配供給管25が挿通され、第
3分散盤S3 の中心孔22には、一対の第1分配供給管
25と一対の第2分配供給管26とがそれぞれ挿通され
ている。
On the lower surface of the distribution container 23, first to third distribution supply pipes 25, 26, 27 are respectively provided to extend downward at a symmetrical position with respect to the center of the distribution container 23. ing. The lower end portion of the first dispensing pipe 25 is reached first central distributor S 1 the lowermost, the lower end portion of the second dispensing pipe 26, the central hole in the second distributor S 2 of the intermediate 8 and a third distribution supply pipe 27
The lower end portion, a center hole 2 in the third distributor S 3 of the uppermost
The part facing 2 is reached. In addition, a pair of first distribution and supply pipes 25 is inserted through the center hole 8 of the second distribution board S 2 , and a pair of first distribution and supply pipes 25 is inserted into the center hole 22 of the third dispersion board S 3. And the second distribution / supply pipe 26 are respectively inserted therethrough.

【0017】よって、第1〜第3の各分散盤S1 〜S3
が一体となって回転している最中において、処理液供給
ポンプP2 の作用によって供給管5に供給された処理液
を、分配容器23の各分配供給管25,26,27から
各分散盤S1 〜S3 に分配供給させると、各分散盤S1
〜S3 に分配供給された各処理液は、それぞれの分散盤
1 〜S3 の上面において薄膜化されて、脱泡される。
このように、第3実施形態の脱泡・脱気装置A3 におい
ては、各分散盤S1 〜S3 上で薄膜化された処理液と真
空との接触面積は、単段の分散盤に比較して、ほぼ3倍
となる。このため、処理液流量が同一の場合には、三段
分散盤は、二段分散盤よりも、処理液の脱泡率が高ま
る。
Therefore, each of the first to third dispersion boards S 1 to S 3
Are rotating together, the processing liquid supplied to the supply pipe 5 by the action of the processing liquid supply pump P 2 is transferred from each distribution supply pipe 25, 26, 27 of the distribution container 23 to each dispersion board. When distributed to S 1 to S 3 , each dispersion board S 1
Each of the processing liquids distributed to and supplied to SS 3 is formed into a thin film on the upper surface of each of the dispersion boards S 1 to S 3 and defoamed.
Thus, in the defoaming-deaerator A 3 of the third embodiment, the contact area between the thinned treatment liquid and the vacuum on the distributor S 1 to S 3 is the distributor of the single-stage In comparison, it is almost three times. For this reason, when the processing liquid flow rates are the same, the three-stage dispersion plate has a higher defoaming rate of the processing liquid than the two-stage dispersion plate.

【0018】また、分散盤自体の構造に関しては、上記
実施形態のように、円盤体2の外周縁のみに環状のスク
リーンプレート3が設けられたものに限られない。図7
に示される分散盤S’は、円盤体2に大きさの異なる複
数の環状のスクリーンプレート3a,3b,3c が設けられ
た構造のものであって、高粘度で脱泡が難しい処理液に
対して好適であって、スクリーンプレート3a,3b,3c
に対する衝突機会が多いために、脱泡効果が高められ
る。更に、図8に示される分散盤S”は、一対の円盤体
2a,2bが相上下して配置されて、各円盤体2a,2
bの対向面(内面)に環状をした大きさの異なる複数の
傾斜壁31a,31bが設けられ、一対の円盤体2a,
2bの間に供給された処理液は、遠心力の作用により各
傾斜壁31a,31bに衝突した後に、これを乗り越え
て外方に飛散される間に脱泡される。この分散盤S”
は、スクリーンプレートを有していないために、目詰ま
りがないので、スラリー液や繊維質を含んだ処理液に対
して好適である。本発明に係る多段式脱泡・脱気装置に
使用される分散盤は、遠心力の作用により処理液を薄膜
化して脱泡可能であれば、上記した構造のものを含んで
いずれの構造であってもよい。
Further, the structure of the dispersion plate itself is not limited to the structure in which the annular screen plate 3 is provided only on the outer peripheral edge of the disk body 2 as in the above embodiment. FIG.
Has a structure in which a plurality of annular screen plates 3a, 3b, 3c having different sizes are provided on a disk body 2, and is used for a processing liquid having a high viscosity and difficult to remove bubbles. And the screen plates 3a, 3b, 3c
Because there are many chances of collision with the air, the defoaming effect is enhanced. Further, the dispersing disk S "shown in FIG. 8 has a pair of disks 2a and 2b arranged one above the other, and the disks 2a and 2b
A plurality of annular inclined walls 31a and 31b having different sizes are provided on the opposing surface (inner surface) of the pair b.
The processing liquid supplied during 2b collides with the inclined walls 31a and 31b by the action of the centrifugal force, and then is defoamed while climbing over and scattered outward. This dispersion board S "
Is suitable for a slurry liquid or a processing liquid containing fibrous materials because it has no screen plate and thus does not clog. The dispersing plate used in the multistage defoaming / deaerator according to the present invention may be any structure including the above-mentioned structure as long as the processing liquid can be thinned and defoamed by the action of centrifugal force. There may be.

【0019】また、本発明に係る脱泡・脱気装置によっ
て脱泡処理可能な液としては、水系建築塗料、ウレタン
樹脂液、泥漿等の化学液、或いは濃縮ジュース、マヨネ
ーズ、ケチャップ等の飲料、食品補助材が挙げられる。
Examples of the liquid that can be defoamed by the defoaming / deaerator according to the present invention include water-based architectural paints, urethane resin liquids, chemical liquids such as mud, beverages such as concentrated juices, mayonnaise, and ketchup. Food supplements.

【0020】以下、多段分散盤と単段分散盤とを使用し
た各脱泡・脱気装置の性能比較試験の結果を示す。ここ
で、脱泡率を(K)とし、処理前及び処理後の液中含有
空気体積をそれぞれ(v1),(v2)とした場合に、「K=
〔1− (v2/v1)〕×100」の関係が成立する。
The results of the performance comparison test of each defoaming / deaerator using the multi-stage disperser and the single-stage disperser are shown below. Here, when the defoaming rate is (K) and the air volume in the liquid before and after the treatment is (v 1 ) and (v 2 ), respectively, “K =
[1− (v 2 / v 1 )] × 100 ”holds.

【0021】また、性能比較試験において、〔真比重:
ρ〕,〔脱泡前比重:ρ1 〕,〔脱泡後比重:ρ2 〕,
〔液体体積:V〕,〔脱泡前含有空気体積:v1 〕,
〔脱泡後含有空気体積:v2 〕とすると、ρV=ρ1 ×
(V+v1 )となって、〔v1=V×(ρ−ρ1 )/
ρ〕となる。また、ρV=ρ2 ×(V+v2 )となっ
て、〔v2 =V×(ρ−ρ2 )/ρ〕となる。この結
果、処理前及び処理後における液中含有空気体積の変化
(v2 /v1 )は、〔ρ1 (ρ−ρ2 )/ρ2 (ρ−ρ
1 )〕となって、この値を、脱泡率の上記定義式に代入
すると、脱泡率が算出される。
In the performance comparison test, [true specific gravity:
ρ], [specific gravity before defoaming: ρ 1 ], [specific gravity after defoaming: ρ 2 ],
[Liquid volume: V], [air volume before defoaming: v 1 ],
When [volume of air contained after defoaming: v 2 ], ρV = ρ 1 ×
(V + v 1 ) and [v 1 = V × (ρ−ρ 1 ) /
ρ]. Also, ρV = ρ 2 × (V + v 2 ), and [v 2 = V × (ρ−ρ 2 ) / ρ]. As a result, the change (v 2 / v 1 ) in the air volume contained in the liquid before and after the treatment is [ρ 1 (ρ−ρ 2 ) / ρ 2 (ρ−ρ
1 )], and substituting this value into the above-described formula for the defoaming rate, the defoaming rate is calculated.

【0022】ここで、処理液として、液温21°,粘度
15000cpの建築用塗料(アクリル酸エステル)を
使用して、真空度40Torrの真空チャンバー内において
分散盤を2300rpm で回転させた場合において、単段
分散盤と二段分散盤とにおける処理液流量に対する各脱
泡率を求めた。表1及び表2に、それぞれ単段分散盤と
二段分散盤との実験結果が示されており、図9に、単段
分散盤と二段分散盤とにおいて、処理液流量の変化に対
する脱泡率の変化の状態が示されている。この実験結果
からして、二段分散盤は、単段分散盤に比較して、薄膜
化された処理液と真空との接触面積が大きくなるため
に、処理液流量とは無関係に脱泡率が高まり、特に、処
理液流量が多くなると、その脱泡率の高まる度合が大き
くなることが分かった。
Here, when a building paint (acrylate ester) having a liquid temperature of 21 ° and a viscosity of 15,000 cp is used as a treatment liquid and the dispersion plate is rotated at 2300 rpm in a vacuum chamber having a degree of vacuum of 40 Torr, Each defoaming rate with respect to the flow rate of the processing liquid in the single-stage disperser and the two-stage disperser was determined. Tables 1 and 2 show the experimental results of the single-stage dispersion plate and the two-stage dispersion plate, respectively. FIG. The state of change of the foam ratio is shown. Based on the experimental results, the two-stage dispersion plate has a larger contact area between the thinned processing solution and vacuum than the single-stage dispersion plate, so the defoaming rate is independent of the processing solution flow rate. It was found that when the flow rate of the treatment liquid increased, the degree of the defoaming rate increased.

【0023】[0023]

【表1】 [Table 1]

【0024】[0024]

【表2】 [Table 2]

【0025】[0025]

【発明の効果】本発明は、真空チャンバー内に分散盤が
垂直回転軸を中心にして回転可能に支持され、高速回転
中の前記分散盤上に供給された処理液を遠心力の作用に
より分散させて、液中の気泡類を脱泡・脱気する構成の
装置において、前記分散盤を多段に配設して、各分散盤
に処理液を分配供給する構成であるので、各分散盤に分
配供給された処理液は、各分散盤においてそれぞれ独立
して薄膜化されて脱泡される。このため、処理液の供給
量が一定の場合には、単段の分散盤の場合に比較して、
薄膜化された処理液と真空との接触面積が、多段分散盤
のほぼ段数倍だけ広くなるために、脱泡が促進されて、
処理済液の脱泡率が高まる。一方、一定の脱泡率の処理
済液を得る場合には、単段の分散盤の場合に比較して、
多段分散盤のほぼ段数倍だけ処理液の供給量を増加させ
られるために、脱泡処理の能率が著しく高まる。
According to the present invention, a dispersion plate is supported in a vacuum chamber so as to be rotatable about a vertical rotation axis, and the processing liquid supplied onto the dispersion plate during high-speed rotation is dispersed by the action of centrifugal force. In the apparatus configured to defoam and deaerate bubbles in the liquid, the dispersing plates are arranged in multiple stages, and the processing liquid is distributed and supplied to each dispersing plate. The processing liquid distributed and supplied is thinned and defoamed independently in each dispersing plate. For this reason, when the supply amount of the processing liquid is constant, compared with the case of the single-stage dispersion plate,
Since the contact area between the thinned processing solution and vacuum is increased by almost the number of stages of the multi-stage dispersion plate, defoaming is promoted,
The defoaming rate of the treated liquid increases. On the other hand, when a treated liquid having a constant defoaming rate is obtained, compared with a single-stage dispersion plate,
Since the supply amount of the processing liquid can be increased by approximately the number of stages of the multi-stage dispersion plate, the efficiency of the defoaming treatment is significantly improved.

【0026】このように、本発明によれば、脱泡・脱気
装置の全体を大型化することなく、処理液と真空との接
触面積を大きくできて、処理液の脱泡率が高められた
り、処理液流量そのものを大きくできる。
As described above, according to the present invention, the contact area between the processing solution and the vacuum can be increased without increasing the size of the entire defoaming / deaerator, and the defoaming rate of the processing solution can be increased. Or the flow rate of the processing solution itself can be increased.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1実施形態の脱泡・脱気装置A1
正面断面図である。
1 is a front sectional view of a defoaming-degassing device A 1 of the first embodiment of the present invention.

【図2】図1のX1 −X1 線断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along line X 1 -X 1 of FIG. 1;

【図3】本発明の第2実施形態の脱泡・脱気装置A2
正面断面図である。
FIG. 3 is a front sectional view of a defoaming / deaerator A2 according to a second embodiment of the present invention.

【図4】図3のX2 −X2 線断面図である。FIG. 4 is a sectional view taken along line X 2 -X 2 in FIG. 3;

【図5】本発明の第3実施形態の脱泡・脱気装置A3
正面断面図である。
FIG. 5 is a front sectional view of a defoaming / deaerator A3 according to a third embodiment of the present invention.

【図6】脱泡・脱気装置A3 の各分散盤S1 〜S3 と分
配容器23とを分離した状態の斜視図である。
6 is a perspective view of a separated state with each distributor S 1 to S 3 of the defoaming-deaerator A 3 and dispensing container 23.

【図7】分散盤S’の断面図である。FIG. 7 is a sectional view of a dispersion board S ′.

【図8】分散盤S”の断面図である。FIG. 8 is a sectional view of a dispersion board S ″.

【図9】単段分散盤と二段分散盤とにおける処理液流量
と脱泡率との関係を示すグラフである。
FIG. 9 is a graph showing a relationship between a processing liquid flow rate and a defoaming rate in a single-stage dispersion plate and a two-stage dispersion plate.

【図10】従来の脱泡・脱気装置A’の正面断面図であ
る。
FIG. 10 is a front sectional view of a conventional defoaming / deaerator A ′.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

C:真空チャンバー S1 :第1分散盤 S2 :第2分散盤 S3 :第3分散盤 L:処理液 1:垂直回転軸 8,22:分散盤の中心孔 9,14,23:分配容器 12,13,15,16,25,26,27:分配供給管C: Vacuum chamber S 1: first distributor S 2: second distributor S 3: third distributor L: treatment liquid 1: the vertical shaft 8, 22: distributor of the central hole 9,14,23: distribution Containers 12,13,15,16,25,26,27: Distribution supply pipe

フロントページの続き (72)発明者 立川 久泰 愛知県名古屋市西区則武新町三丁目1番36 号 株式会社ノリタケカンパニーリミテド 内 (72)発明者 木田 真 愛知県名古屋市西区則武新町三丁目1番36 号 株式会社ノリタケカンパニーリミテド 内 (72)発明者 下村 祝一 愛知県名古屋市西区則武新町三丁目1番36 号 株式会社ノリタケカンパニーリミテド 内 Fターム(参考) 4D011 AA06 AA16 AB01 AB02 AB05 AC02 AD01 BA07 BA12 Continued on the front page (72) Inventor Hisayasu Tachikawa No. 1-336, Noritake Shinmachi, Nishi-ku, Nagoya City, Aichi Prefecture Inside Noritake Company Limited (72) Inventor Makoto Kida 3-1-1, Noritake Shinmachi, Nishi-ku, Nagoya City, Aichi Prefecture Noritake Co., Ltd. (72) Inventor Shoichi Shimomura 3-36, Noritakeshinmachi, Nishi-ku, Nagoya-shi, Aichi F-term in Noritake Co., Ltd. 4D011 AA06 AA16 AB01 AB02 AB05 AC02 AD01 BA07 BA12

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 真空チャンバー内に分散盤が垂直軸を中
心にして回転可能に支持され、高速回転中の前記分散盤
上に供給された処理液を遠心力の作用により分散させ
て、液中の気泡類を脱泡・脱気する構成の装置におい
て、 前記分散盤を多段に配設して、各分散盤に処理液を分配
供給することを特徴とする多段式脱泡・脱気装置。
A dispersion plate is supported in a vacuum chamber so as to be rotatable about a vertical axis, and a processing liquid supplied onto the dispersion plate during high-speed rotation is dispersed by the action of centrifugal force. An apparatus having a structure for defoaming and degassing air bubbles, wherein the dispersing plates are arranged in multiple stages, and a processing liquid is distributed and supplied to each dispersing plate.
【請求項2】 各分散盤に処理液を分配供給する各分配
供給管は、最下段の分散盤を除く分散盤の中心部に設け
られた中心孔に挿通されていることを特徴とする請求項
1に記載の多段式脱泡・脱気装置。
2. A distribution supply pipe for distributing and supplying a processing liquid to each of the dispersing plates, wherein each of the distributing and supplying tubes is inserted through a center hole provided in a central portion of the dispersing plate except for a lowermost dispersing plate. Item 2. A multi-stage defoaming / deaerator according to Item 1.
【請求項3】 各分散盤に処理液を供給する各分配供給
管は、処理液を一時的に貯留させるために真空チャンバ
ー内に配置された密閉構造の分配容器から分岐され、該
処理液は、ポンプ圧により吐出状態で供給されることを
特徴とする請求項1又は2に記載の多段式脱泡・脱気装
置。
3. A distribution supply pipe for supplying a processing liquid to each dispersing plate is branched from a sealed distribution container arranged in a vacuum chamber for temporarily storing the processing liquid, and the processing liquid is The multi-stage defoaming / deaerator according to claim 1 or 2, which is supplied in a discharge state by a pump pressure.
【請求項4】 各分散盤には、その回転中心に対して対
称位置の二箇所から処理液が均等供給されることを特徴
とする請求項1ないし3のいずれかに記載の多段式脱泡
・脱気装置。
4. The multistage defoaming device according to claim 1, wherein the processing liquid is uniformly supplied to each of the dispersing plates from two positions symmetrical with respect to the center of rotation. -Degassing device.
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