JP2001005161A - Waste photographic liquid thickening and treatment device and waste photographic liquid thickening and treatment - Google Patents

Waste photographic liquid thickening and treatment device and waste photographic liquid thickening and treatment

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JP2001005161A
JP2001005161A JP11171161A JP17116199A JP2001005161A JP 2001005161 A JP2001005161 A JP 2001005161A JP 11171161 A JP11171161 A JP 11171161A JP 17116199 A JP17116199 A JP 17116199A JP 2001005161 A JP2001005161 A JP 2001005161A
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JP
Japan
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waste liquid
heating
temperature
processing
processing waste
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JP11171161A
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Japanese (ja)
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Tomoyoshi Hyodo
知義 兵藤
Toshio Kurokawa
俊夫 黒川
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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  • Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
  • Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
  • Photographic Developing Apparatuses (AREA)
  • Heat Treatment Of Water, Waste Water Or Sewage (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a waste photographic liquid thickening and treatment device which is capable of surely solidifying a waste processing liquid with least energy consumption and a waste photographic liquid thickening and treatment method. SOLUTION: An evaporation tray 24 is placed on a receiving tray 22 fixed in a housing 20 and the waste processing liquid L is stored in the evaporation tray 24. A heater 42 is mounted on the rear surface of the receiving tray 22. A Peltier element 48 with its low temperature side faced inward is mounted at the housing 20. A temperature sensor 45 is mounted at condensing fins 44. The heat from the heater 42 is transferred to the waste processing liquid L of the evaporation tray 24, by which the waste processing liquid L is gradually thickened. When the generation of steam from the waste processing liquid L lessens, since the temperature of the condensing fins 44 lowers sharply is detected by the temperature sensor 45 and the energization to the heater 42 is stopped after lapse of the prescribed time.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、写真廃液濃縮処理
装置及び写真廃液濃縮処理方法に関し、さらに詳しく
は、感光材料を処理した処理廃液を濃縮処理する写真廃
液濃縮処理装置と、この写真廃液濃縮処理装置を使用し
て感光材料の処理廃液を濃縮する写真廃液濃縮処理方法
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photographic waste liquid concentrating apparatus and a photographic waste liquid concentrating method, and more particularly, to a photographic waste liquid concentrating apparatus for concentrating a processing waste liquid obtained by processing a photosensitive material, and a photographic waste liquid concentrating apparatus. The present invention relates to a photographic waste liquid concentration processing method for concentrating a processing waste liquid of a photosensitive material using a processing apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、写真フイルム等の感光材料を
処理した処理廃液は、処分の効率化等の観点から、加熱
により余分な水分を蒸発させて濃縮し、体積(廃液量)
を減少させることが一部で行われている。図9には、こ
のように処理廃液を加熱して濃縮する現像廃液濃縮装置
の一例が示されている(特開平7−209841号参
照)。
2. Description of the Related Art Conventionally, a processing waste liquid obtained by processing a photosensitive material such as a photographic film is concentrated by evaporating excess water by heating to increase the volume (waste liquid amount) from the viewpoint of efficient disposal.
Has been done in part. FIG. 9 shows an example of a developing waste liquid concentrating apparatus for heating and concentrating the processing waste liquid as described above (see JP-A-7-209841).

【0003】この現像廃液濃縮装置310では、濃縮タ
ンク312が発熱/吸熱部314によって、蒸発槽31
6と結露槽318とに区分されている。また、発熱/吸
熱部314は、発熱側が蒸発槽316に接し、吸熱側が
結露槽318に接するように配置されたペルチェ素子3
20によって構成されている。従って、ペルチェ素子3
20に通電することにより、蒸発槽316内の廃液がペ
ルチェ素子320の発熱側によって加熱されて蒸発す
る。一方、結露槽318内では、ペルチェ素子320の
吸熱側において結露が生じ、蒸留水が増加していく。
In the developing waste liquid concentrating device 310, the concentration tank 312 is heated / heat-absorbed 314 by the evaporating tank 31.
6 and a dew condensation tank 318. Further, the heat generation / heat absorption section 314 has a Peltier element 3 arranged such that the heat generation side is in contact with the evaporation tank 316 and the heat absorption side is in contact with the dew condensation tank 318.
20. Therefore, the Peltier element 3
By energizing 20, the waste liquid in the evaporation tank 316 is heated by the heating side of the Peltier element 320 and evaporates. On the other hand, in the condensation tank 318, dew condensation occurs on the heat absorption side of the Peltier element 320, and the amount of distilled water increases.

【0004】ところで、処理廃液の処分の効率をさらに
高めたり、液だれ、液飛散を防止したりするためには、
濃縮された処理廃液をさらに加熱して、固化(いわゆる
乾固)させることが望まれる。
By the way, in order to further increase the efficiency of disposal of the processing waste liquid and to prevent dripping and scattering of the liquid,
It is desired that the concentrated treatment waste liquid is further heated and solidified (so-called dryness).

【0005】しかし、上記した現像廃液濃縮装置310
では、ペルチェ素子320に常に通電すると共に、冷却
ファン322の動作によって所定温度に維持するように
なっており、処理廃液が固化したか否かを検出する手段
は設けられていない。このため、処理廃液を固化するた
めに必要以上にペルチェ素子320に通電してしまっ
て、無駄な電力を消費してしまうおそれがある。
However, the above-mentioned developing waste liquid concentrating device 310
In this configuration, the Peltier element 320 is always energized and maintained at a predetermined temperature by the operation of the cooling fan 322, and there is no means for detecting whether or not the processing waste liquid has solidified. For this reason, the Peltier element 320 may be energized more than necessary to solidify the processing waste liquid, and thus wasteful power may be consumed.

【0006】かかる不都合を回避するためには、例え
ば、ペルチェ素子320への通電時間をタイマー等によ
って制御することが考えられる。しかし、処理廃液の固
化に要する時間は、処理廃液の種類や濃度及び周囲の雰
囲気(温度、湿度等)によって異なる。このため、確実
に処理廃液を固化するためには、余裕を持たせて十分な
時間、ペルチェ素子320を加熱する必要が生じる。こ
のため、比較的短時間で処理廃液が固化した場合には、
必要以上に長時間、ペルチェ素子320を通電すること
となり、無駄な電力を消費してしまうこととなる。
In order to avoid such inconvenience, for example, it is conceivable to control the energization time to the Peltier element 320 by a timer or the like. However, the time required for solidification of the processing waste liquid differs depending on the type and concentration of the processing waste liquid and the surrounding atmosphere (temperature, humidity, etc.). Therefore, in order to reliably solidify the processing waste liquid, it is necessary to heat the Peltier element 320 for a sufficient time with a margin. For this reason, when the processing waste liquid solidifies in a relatively short time,
The Peltier element 320 is energized for a longer time than necessary, and wasteful power is consumed.

【0007】図10には、図9に示したものとは異なる
写真処理廃液の濃縮装置332が示されている(特開平
4−40281号参照)。
FIG. 10 shows a photographic processing waste liquid concentrating device 332 different from that shown in FIG. 9 (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-40281).

【0008】この濃縮装置332では、蒸発槽334と
水槽336との間にペルチェ素子338が配設され、そ
の放熱面が蒸発槽334に接している。従って、図9に
示す現像廃液濃縮装置310と同様、ペルチェ素子33
8に通電することで、蒸発槽334内の廃液が加熱され
て濃縮される。
[0008] In this concentrating device 332, a Peltier element 338 is provided between the evaporation tank 334 and the water tank 336, and the heat radiation surface thereof is in contact with the evaporation tank 334. Therefore, similarly to the developing waste liquid concentrating device 310 shown in FIG.
By applying a current to 8, the waste liquid in the evaporation tank 334 is heated and concentrated.

【0009】しかし、この濃縮装置332においても、
処理廃液が固化したか否かを検出する手段は設けられて
いない。このため、処理廃液を固化するために必要以上
にペルチェ素子320に通電してしまい、無駄な電力を
消費してしまうおそれがある。
However, in this concentrating device 332,
No means is provided for detecting whether or not the processing waste liquid has solidified. For this reason, the Peltier element 320 is energized more than necessary to solidify the processing waste liquid, and there is a possibility that wasteful power is consumed.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記事実を
考慮し、処理廃液の種類や濃度及び周囲の雰囲気に関わ
り無く濃縮の終点を検出することで、最小のエネルギー
消費で確実に処理廃液を固化することができる写真廃液
濃縮処理装置及び写真廃液濃縮処理方法を得ることを課
題とする。
SUMMARY OF THE INVENTION In consideration of the above facts, the present invention detects the end point of concentration regardless of the type and concentration of the processing waste liquid and the surrounding atmosphere, thereby ensuring the processing waste liquid with minimum energy consumption. It is an object of the present invention to obtain a photographic waste liquid concentration processing apparatus and a photographic waste liquid concentration processing method which can solidify the photographic waste liquid.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明で
は、感光材料の処理廃液を貯留可能な廃液貯留部材と、
前記廃液貯留部材に貯留された前記処理廃液を加熱する
加熱手段と、前記加熱手段による加熱で発生した蒸気を
冷却して凝縮させる冷却手段と、前記冷却手段の温度を
検知可能な第1温度検知手段と、を有することを特徴と
する。
According to the first aspect of the present invention, a waste liquid storage member capable of storing a processing waste liquid of a photosensitive material,
Heating means for heating the processing waste liquid stored in the waste liquid storage member, cooling means for cooling and condensing steam generated by heating by the heating means, and first temperature detection capable of detecting the temperature of the cooling means Means.

【0012】この写真廃液濃縮処理装置を使用して、感
光材料(写真)の処理廃液を濃縮する場合、請求項3に
記載のように、まず、加熱工程として、廃液貯留部材に
貯留された処理廃液を加熱手段で加熱する。これによ
り、処理廃液の成分の一部(水分等)が蒸発し、処理廃
液は徐々に濃縮されていく。また、蒸気は冷却手段によ
って冷却されて凝縮され、液体(水)となる。このと
き、冷却手段に蒸気が触れることで、冷却手段の温度
は、蒸気が触れない場合よりも上昇している。
When the processing waste liquid of a photosensitive material (photograph) is concentrated by using the photographic waste liquid concentration processing apparatus, first, as a heating step, the processing stored in the waste liquid storage member is performed as a heating step. The waste liquid is heated by a heating means. As a result, some of the components of the processing waste liquid (e.g., water) evaporate, and the processing waste liquid is gradually concentrated. Further, the steam is cooled and condensed by the cooling means to become a liquid (water). At this time, when the steam contacts the cooling means, the temperature of the cooling means is higher than when the steam does not touch.

【0013】処理廃液の濃縮がさらに進み、処理廃液が
固化した状態では、処理廃液からの蒸気の発生が減少す
る。冷却手段に蒸気が触れなくなるので、冷却手段の温
度が低下する。この温度低下を第1温度検知手段が検知
すると、加熱停止工程によって、加熱手段による処理廃
液への加熱を停止する。
[0013] In the state where the concentration of the processing waste liquid is further advanced and the processing waste liquid is solidified, the generation of steam from the processing waste liquid is reduced. Since steam does not touch the cooling means, the temperature of the cooling means decreases. When the first temperature detecting means detects this temperature decrease, the heating of the processing waste liquid by the heating means is stopped in the heating stop step.

【0014】このように、冷却手段の温度低下を検知す
ることで、処理廃液の蒸発による固化が完了したか否か
を検出し、加熱手段による加熱を停止するので、処理廃
液の固化後にさらに加熱してしまうことがなく、無駄な
エネルギーを消費しない。
As described above, by detecting the temperature decrease of the cooling means, it is detected whether or not the solidification due to the evaporation of the processing waste liquid is completed, and the heating by the heating means is stopped. It does not consume and does not consume wasteful energy.

【0015】ここで、加熱停止工程は、作業者が手作業
により行ってもよいが、請求項2に記載のような第1制
御手段を設け、廃液貯留部材に貯留された処理廃液から
の蒸気発生が減少することによる冷却手段の温度低下を
第1温度検知手段が検知すると加熱手段による加熱を停
止するように、この第1制御手段によって加熱手段を制
御してもよい。これにより、作業者の作業工数が少なく
なる。
Here, the heating stop step may be performed manually by an operator, but the first control means as set forth in claim 2 is provided, and the steam from the processing waste liquid stored in the waste liquid storage member is provided. The heating means may be controlled by the first control means so as to stop heating by the heating means when the first temperature detecting means detects a decrease in the temperature of the cooling means due to a decrease in the generation. Thereby, the number of work steps of the worker is reduced.

【0016】なお、冷却手段は、蒸気を冷却して凝縮さ
せることができるものであれば特に限定されないが、例
えば、ペルチェ素子の低温側によって構成することがで
きる。このようにペルチェ素子を使用することで、蒸気
を効果的に冷却して凝縮させることができる。さらに、
ペルチェ素子の高温側を加熱手段として使用することも
可能となる。
The cooling means is not particularly limited as long as it can cool and condense the steam. For example, the cooling means can be constituted by a low-temperature side of a Peltier element. By using the Peltier element in this manner, the vapor can be effectively cooled and condensed. further,
It is also possible to use the high temperature side of the Peltier element as a heating means.

【0017】請求項4に記載の発明では、感光材料の処
理廃液を貯留可能な廃液貯留部材と、前記廃液貯留部材
に貯留された前記処理廃液を加熱する加熱手段と、前記
加熱手段の温度を検知可能な第2温度検知手段と、を有
することを特徴とする。
According to the fourth aspect of the present invention, a waste liquid storage member capable of storing the processing waste liquid of the photosensitive material, a heating means for heating the processing waste liquid stored in the waste liquid storage member, and a temperature of the heating means And a second temperature detecting means capable of detecting the temperature.

【0018】この写真廃液濃縮処理装置を使用して、感
光材料(写真)の処理廃液を濃縮する場合、請求項6に
記載のように、まず、加熱工程として、廃液貯留部材に
貯留された処理廃液を加熱手段で加熱する。これによ
り、処理廃液の成分の一部(水分等)が蒸発し、処理廃
液は徐々に濃縮されていく。このとき、加熱手段の温度
は、処理廃液の蒸発に伴う蒸発潜熱が奪われるので、処
理廃液の成分の一部を蒸発させない場合と比較して低下
している。
When the processing waste liquid of a photosensitive material (photograph) is concentrated using the photographic waste liquid concentration processing apparatus, first, as a heating step, the processing stored in the waste liquid storage member is performed as a heating step. The waste liquid is heated by a heating means. As a result, some of the components of the processing waste liquid (e.g., water) evaporate, and the processing waste liquid is gradually concentrated. At this time, the temperature of the heating means is lower than that in the case where some of the components of the processing waste liquid are not evaporated because the latent heat of evaporation accompanying the evaporation of the processing waste liquid is taken away.

【0019】処理廃液の濃縮がさらに進み、処理廃液が
固化した状態では、処理廃液からの蒸気の発生が減少す
る。加熱手段から蒸発潜熱が奪われなくなるので、加熱
手段の温度が上昇する。この温度上昇を第2温度検知手
段が検知すると、加熱停止工程によって、加熱手段によ
る処理廃液への加熱を停止する。
In the state where the concentration of the processing waste liquid is further advanced and the processing waste liquid is solidified, generation of steam from the processing waste liquid is reduced. Since the latent heat of evaporation is not removed from the heating means, the temperature of the heating means increases. When this temperature rise is detected by the second temperature detecting means, the heating of the processing waste liquid by the heating means is stopped in the heating stop step.

【0020】このように、加熱手段の温度上昇を検知す
ることで、処理廃液の蒸発による固化が完了したか否か
を検出し、加熱手段による加熱を停止するので、処理廃
液の固化後にさらに加熱してしまうことがなく、無駄な
エネルギーを消費しない。
As described above, by detecting the temperature rise of the heating means, it is detected whether or not the solidification due to the evaporation of the processing waste liquid has been completed, and the heating by the heating means is stopped. It does not consume and does not consume wasteful energy.

【0021】ここで、加熱停止工程は、作業者が手作業
により行ってもよいが、請求項5に記載のような第2制
御手段を設け、廃液貯留部材に貯留された処理廃液から
の蒸気発生が減少することによる加熱手段の温度上昇を
第2温度検知手段が検知すると加熱手段による加熱を停
止するように、この第2制御手段によって加熱手段を制
御してもよい。これにより、作業者の作業工数が少なく
なる。
Here, the heating stop step may be performed manually by an operator, but the second control means as set forth in claim 5 is provided, and the steam from the processing waste liquid stored in the waste liquid storage member is provided. The heating means may be controlled by the second control means so that the heating by the heating means is stopped when the second temperature detecting means detects a rise in the temperature of the heating means due to a decrease in the generation. Thereby, the number of work steps of the worker is reduced.

【0022】なお、加熱手段は、処理廃液を加熱して成
分の一部を蒸発させることができるものであれば特に限
定されないが、例えば、ペルチェ素子の高温側によって
構成することができる。このようにペルチェ素子を使用
することで、処理廃液を効果的に加熱して蒸発させるこ
とができる。さらに、ペルチェ素子の低温側を使用し、
蒸気をこの低温側で冷却して凝縮させるように構成する
ことも可能となる。
The heating means is not particularly limited as long as it can heat the treatment waste liquid to evaporate a part of the components. For example, the heating means can be constituted by a high temperature side of a Peltier element. By using the Peltier element in this way, the processing waste liquid can be effectively heated and evaporated. Furthermore, using the low temperature side of the Peltier element,
It is also possible to configure so that the steam is cooled and condensed on this low temperature side.

【0023】[0023]

【発明の実施の形態】図1には,本発明の第1実施形態
の写真廃液濃縮処理装置10が示されている。この写真
廃液濃縮処理装置10は、例えば、写真の自動現像機1
1に接続されて使用されるものであり、この自動現像機
11で写真の現像処理に使用された使用済みの処理廃液
Lを一時的に貯留する廃液タンク14を有している。
FIG. 1 shows a photographic waste liquid concentration processing apparatus 10 according to a first embodiment of the present invention. The photographic waste liquid concentration processing apparatus 10 is, for example, an automatic photographic developing machine 1
The automatic developing machine 11 has a waste liquid tank 14 for temporarily storing a used processing waste liquid L used for a photo developing process.

【0024】廃液タンク14の底部には廃液パイプ16
が接続されており、廃液ポンプ18によって、ハウジン
グ20内に設けられた蒸発皿24に処理廃液Lが送られ
る。この処理廃液Lの送り量は、制御装置23(図3参
照)によって、廃液ポンプ18の駆動時間で制御され、
また、一回の送り量は、蒸発皿24の容量に応じて、蒸
発皿24から処理廃液Lが溢れ出すことがないように所
定量に設定されている。本実施形態では、一例として、
約0.5L(使用範囲としては、0.5L〜10L)の
蒸発皿24の容量に対して一回の送り量を50cc〜1
00ccとし、これを、蒸発皿24内の処理廃液Lの濃
縮が終了するごとに、再度送って、濃縮するようにして
いる。これにより、処理廃液Lを一回のみ送って濃縮す
る場合と比較して、より多くの濃縮された処理廃液Lを
蒸発皿24に蓄積していくことが可能となっている。
A waste liquid pipe 16 is provided at the bottom of the waste liquid tank 14.
Is connected, and the waste liquid pump 18 sends the processing waste liquid L to the evaporating dish 24 provided in the housing 20. The feed amount of the processing waste liquid L is controlled by the driving time of the waste liquid pump 18 by the control device 23 (see FIG. 3).
Further, the amount of one-time feeding is set to a predetermined amount according to the capacity of the evaporating dish 24 so that the processing waste liquid L does not overflow from the evaporating dish 24. In the present embodiment, as an example,
For a capacity of about 0.5 L (use range: 0.5 L to 10 L) of the evaporating dish 24, a single feed amount is 50 cc to 1 liter.
Each time the concentration of the processing waste liquid L in the evaporating dish 24 is completed, this is sent again and concentrated. This makes it possible to accumulate more concentrated processing waste liquid L in evaporating dish 24 as compared with the case where processing waste liquid L is sent only once and concentrated.

【0025】ハウジング20は直方体の箱状に形成され
ており、その内部の略中央に、受け皿22が固定されて
いる。図2に詳細に示すように、受け皿22の底板22
Bは略水平とされ、蒸発皿24が、受け皿22の底板2
2Bの上面に載置されている。
The housing 20 is formed in a rectangular parallelepiped box shape, and a receiving tray 22 is fixed substantially at the center of the inside thereof. As shown in detail in FIG.
B is substantially horizontal, and the evaporating dish 24 is
2B.

【0026】蒸発皿24は上面が開放された直方体の箱
状に形成されており、この上面側から処理廃液Lが送り
こまれると共に、処理廃液Lの成分の一部(水分等)が
ハウジング20内に発散する。
The evaporating dish 24 is formed in the shape of a rectangular parallelepiped box having an open upper surface. The processing waste liquid L is sent from the upper surface side, and a part of the components of the processing waste liquid L (such as water) is stored in the housing 20. Diverge.

【0027】なお、受け皿22及び蒸発皿24(特に、
それぞれの底板22B、24B)は、いずれも熱伝導性
の高い材質で構成することが好ましい。このような材質
として、金属材料、無機材料、有機材料、及びその複合
材が当てられる。金属材料では、耐蝕性が良好なステン
レス、チタン、ニッケル等でもよい。また、無機材料で
は、窒化アルミニウム、炭化ケイ素、窒化臭素、酸化ベ
リウム等を含む材料を選定するとよい。有機材料では、
PE、PP等の汎用樹脂やPPO、PSF等のエンジニ
アリングプラスチック類又は前述の無機材料との複合材
であると、熱伝導性、耐蝕性とも良好な材料となりう
る。また、フッ素樹脂、ケイ素樹脂、アラミド樹脂等
は、耐熱性の点でも良好である。
The tray 22 and the evaporating dish 24 (particularly,
Each of the bottom plates 22B and 24B) is preferably made of a material having high thermal conductivity. As such a material, a metal material, an inorganic material, an organic material, and a composite material thereof are applied. As the metal material, stainless steel, titanium, nickel or the like having good corrosion resistance may be used. As the inorganic material, a material containing aluminum nitride, silicon carbide, bromine nitride, beryllium oxide, or the like may be selected. In organic materials,
If it is a general-purpose resin such as PE or PP, or an engineering plastic such as PPO or PSF, or a composite material with the above-mentioned inorganic material, the material may have good thermal conductivity and corrosion resistance. Fluororesins, silicon resins, aramid resins, and the like are also excellent in heat resistance.

【0028】図1に示すように、ハウジング20の上壁
20Uには、液位センサ26が取り付けられ、検出子2
8が蒸発皿24に向かって延出されている。蒸発皿24
に貯留された処理廃液Lの液位が上昇して所定の高さに
達してしまった場合には、液位センサ26がこれを検知
して廃液ポンプ18の運転を強制的に停止し、蒸発皿2
4からの処理廃液Lの溢れ出しを阻止する。
As shown in FIG. 1, a liquid level sensor 26 is mounted on an upper wall 20U of the housing 20, and a detector 2 is provided.
8 extends toward the evaporating dish 24. Evaporating dish 24
When the liquid level of the processing waste liquid L stored in the tank rises and reaches a predetermined height, the liquid level sensor 26 detects this and forcibly stops the operation of the waste liquid pump 18 to stop evaporation. Plate 2
4 to prevent overflow of the processing waste liquid L.

【0029】受け皿22の周囲からは、上方に向かって
周壁30が立設されている。上述のように、蒸発皿24
への処理廃液Lの送り量は、蒸発皿24から処理廃液L
が溢れ出すことが無いように制御されているが、万が一
溢れ出した場合には、周壁30が、受け皿22からの処
理廃液Lの流出を阻止する。また、受け皿22の底板2
2Bと廃液タンク14とは戻しパイプ32で接続されて
おり、受け皿22に溜まった処理廃液Lが廃液タンク1
4に戻されるようになっている。
A peripheral wall 30 stands upright from the periphery of the tray 22. As described above, the evaporating dish 24
The amount of processing waste liquid L sent to the evaporating dish 24
Is controlled so as not to overflow, but in case of overflow, the peripheral wall 30 prevents the processing waste liquid L from flowing out of the tray 22. Also, the bottom plate 2 of the tray 22
2B and the waste liquid tank 14 are connected by a return pipe 32, and the processing waste liquid L accumulated in the receiving
It is to be returned to 4.

【0030】蒸発皿24の側壁24Sには、棒状の把手
34が取り付けつけられている(図2では図示省略、図
1及び図4参照)。把手34の先端は、蒸発皿24が受
け皿22に載置された状態で、ハウジング20の取出口
38を通って外側に突出する把持部36とされている。
図4に示すように、作業者はこの把持部36を把持し、
取出口38から蒸発皿24をハウジング20の外側へと
取り出すことができる。
A rod-shaped handle 34 is attached to the side wall 24S of the evaporating dish 24 (not shown in FIG. 2, see FIGS. 1 and 4). The tip of the handle 34 is a grip portion 36 that projects outward through an outlet 38 of the housing 20 in a state where the evaporating dish 24 is placed on the tray 22.
As shown in FIG. 4, the operator holds the holding portion 36 and
The evaporating dish 24 can be taken out of the housing 20 from the outlet 38.

【0031】取出口38の周囲には、筒状の袋体40が
蛇腹状に折りこまれた状態で配設されており、その一端
がハウジング20の側壁20Sの外面に、他端が把手3
4にそれぞれ密着されている。図4に示すように、作業
者が把持部36を把持して蒸発皿24をハウジング20
の外側へ移動させると、袋体40の蛇腹部分が徐々に延
び、蒸発皿24がハウジング20の外側に完全に出た状
態では、蒸発皿24を完全に包囲することができる。な
お、袋体40の一端側にはジッパーや面ファスナー等の
封止手段が設けられており、袋体40が蒸発皿24を完
全に包囲した状態で袋体40を封止できるようになって
いる。
A cylindrical bag body 40 is provided around the outlet 38 in a bellows-like state, with one end on the outer surface of the side wall 20S of the housing 20 and the other end on the handle 3.
4, respectively. As shown in FIG. 4, the worker holds the holding portion 36 and puts the evaporating dish 24 into the housing 20.
When the evaporating dish 24 is completely moved out of the housing 20, the bellows portion of the bag body 40 gradually extends, and the evaporating dish 24 can be completely surrounded when the evaporating dish 24 is completely exposed to the outside of the housing 20. A sealing means such as a zipper or a hook-and-loop fastener is provided on one end side of the bag body 40 so that the bag body 40 can be sealed with the bag body 40 completely surrounding the evaporating dish 24. I have.

【0032】図2に詳細に示すように、受け皿22の底
板22Bの下面には、ヒーター42が面接触して取り付
けられている。ヒーター42は通電されることにより温
度が上昇し、熱が受け皿22及び蒸発皿24を介して、
蒸発皿24に貯留された処理廃液Lに伝わる。これによ
り、処理廃液Lが加熱され、処理廃液L中の水分等が蒸
発する。
As shown in detail in FIG. 2, a heater 42 is mounted on the lower surface of the bottom plate 22B of the tray 22 in surface contact. When the heater 42 is energized, the temperature rises, and heat is generated via the tray 22 and the evaporating dish 24.
It is transmitted to the processing waste liquid L stored in the evaporating dish 24. Thereby, the processing waste liquid L is heated, and the moisture and the like in the processing waste liquid L evaporate.

【0033】なお、本実施形態では、ヒーター42とし
て、表面にシリコンゴムが被覆されたラバーヒーター
(印加電圧100V、消費電力100W)を使用し、こ
のラバーヒーターへの通電時間(処理廃液の加熱時間)
は、図示しないタイマーによって制御した。
In this embodiment, a rubber heater (applied voltage 100 V, power consumption 100 W) whose surface is covered with silicon rubber is used as the heater 42, and the energizing time to the rubber heater (heating time of the processing waste liquid) is used. )
Was controlled by a timer (not shown).

【0034】なお、ヒーター42は、上記したように、
処理廃液Lを加熱して水分を蒸発させることができれば
その機能としては十分であり、上記したラバーヒーター
以外の種々のヒーター(例えばニクロム線ヒーター等)
を使用することができる。また、ヒーター42には、上
述のシリコンゴム等のように、耐腐食性(処理廃液Lに
対する耐薬品性)及び伝熱性の高い材料によって構成さ
れた保護部材が取り付けられていることが好ましい。
The heater 42 is, as described above,
If the treatment waste liquid L can be heated to evaporate water, its function is sufficient, and various heaters other than the rubber heater described above (for example, a nichrome wire heater, etc.)
Can be used. In addition, it is preferable that a protective member made of a material having high corrosion resistance (chemical resistance to the treatment waste liquid L) and high heat conductivity, such as the above-described silicon rubber, is attached to the heater 42.

【0035】ハウジング20の上壁20Uには、蒸気攪
拌ファン46が取り付けられている。蒸気攪拌ファン4
6は、ハウジング20内の蒸気を攪拌することで、処理
廃液Lからの水分等の蒸発を促進する。本実施形態で
は、蒸気攪拌ファン46として、羽根径83mmのファ
ンを、定格電圧24V、定格電流0.14Aのブラシレ
スモータで回転させる、いわゆるブラシレスモータファ
ンを使用した。
A steam stirring fan 46 is mounted on the upper wall 20U of the housing 20. Steam stirring fan 4
6 promotes evaporation of water and the like from the processing waste liquid L by stirring the vapor in the housing 20. In this embodiment, a so-called brushless motor fan is used as the steam agitating fan 46, in which a fan having a blade diameter of 83 mm is rotated by a brushless motor having a rated voltage of 24V and a rated current of 0.14A.

【0036】また、ハウジング20の側壁20Sには、
ペルチェ素子48が、その低温側がハウジング20の内
側に向くように取り付けられている。このペルチェ素子
48の低温側には、凝縮フィン44が取り付けられてお
り、処理廃液L中から蒸発した水分(ハウジング20内
の蒸気)は、この凝縮フィン44によって冷却されて凝
縮され、水滴となってハウジング20の底部に落下す
る。
Also, on the side wall 20S of the housing 20,
A Peltier element 48 is mounted so that the low-temperature side faces the inside of the housing 20. A condensation fin 44 is attached to the low-temperature side of the Peltier element 48. Water (vapor in the housing 20) evaporated from the processing waste liquid L is cooled and condensed by the condensation fin 44 to form water droplets. And falls to the bottom of the housing 20.

【0037】凝縮フィン44には温度センサ45が取り
付けられている。温度センサ45は、ペルチェ素子42
の低温側の温度を凝縮フィン44を介して間接的に計測
し、計測値を制御装置23に出力する(図3参照)。
A temperature sensor 45 is attached to the condensation fin 44. The temperature sensor 45 is a Peltier element 42
Is indirectly measured through the condensing fins 44 and the measured value is output to the control device 23 (see FIG. 3).

【0038】一方、ペルチェ素子48の高温側(ハウジ
ング20の外側に位置する部分)には、冷却ファン50
が取り付けられている。冷却ファン50から送りこまれ
た外気によりペルチェ素子48が冷却されるので、ペル
チェ素子48の低温側(凝縮フィン44)での蒸気の凝
縮が促進される。また、ペルチェ素子48の低温側によ
ってハウジング20の内面も冷却される。これにより、
処理廃液Lから蒸発した水蒸気が、凝縮フィン44だけ
でなくハウジング20の内面においても凝縮され、凝縮
効率が高められている。
On the other hand, a cooling fan 50 is provided on the high temperature side of the Peltier element 48 (the portion located outside the housing 20).
Is attached. Since the Peltier element 48 is cooled by the outside air sent from the cooling fan 50, the condensation of steam on the low temperature side (condensing fins 44) of the Peltier element 48 is promoted. Further, the inner surface of the housing 20 is also cooled by the low temperature side of the Peltier element 48. This allows
The water vapor evaporated from the processing waste liquid L is condensed not only on the condensing fins 44 but also on the inner surface of the housing 20, thereby increasing the condensing efficiency.

【0039】なお、本実施形態では、ペルチェ素子48
として、オーム電機株式会社製の形式:OCE−15F
(冷却能力:公称15W)を2基使用し、ハウジング2
0の側壁20Sに固定した。
In this embodiment, the Peltier element 48
, Made by Ohm Electric Co., Ltd .: OCE-15F
(Cooling capacity: 15W nominal)
0 side wall 20S.

【0040】ハウジング20の底板20Bには、回収パ
イプ52が接続されている。ハウジング20内に溜まっ
た回収水Wは、回収ポンプ54によって回収パイプ52
内を水洗槽62に送られ、写真フイルムの水洗処理等に
使用される。
A collecting pipe 52 is connected to the bottom plate 20B of the housing 20. The collected water W collected in the housing 20 is collected by a collecting pump 54 into a collecting pipe 52.
The inside is sent to a washing tank 62, which is used for washing a photographic film with water.

【0041】ペルチェ素子48よりも下方には、液位セ
ンサ58が取り付けられている。液位センサ58から
は、高位検出子60H、中位検出子60M及び低位検出
子60Lの3つの検出子がハウジング20内に突出して
いる。また、液位センサ58は制御装置23に接続され
ており(図3参照)、回収水Wの液位が中位検出子60
Mに達すると、制御装置23は廃液ポンプ18の駆動及
びペルチェ素子42への通電を一時的に停止すると共に
回収ポンプ54を駆動して、回収水Wを水洗槽62に送
りこむ。また、ハウジング20内の回収水Wの液位が低
位検出子60Lよりも低くなると、制御装置23は回収
ポンプ54の駆動を強制的に阻止して、回収ポンプの空
回りを防止する。このようにして、回収水Wの液位が中
位検出子60Mよりも上方に位置することがないように
制御されるが、万が一液位が中位検出子60Mよりも上
昇し、高位検出子60Hに達した場合には、制御装置2
3は廃液ポンプ18の駆動及びペルチェ素子42への通
電を強制的に停止すると共に、図示しない警報装置を駆
動して、回収水Wの液位が高位検出子60Hに達したこ
とを作業者に知らせる。
Below the Peltier element 48, a liquid level sensor 58 is mounted. From the liquid level sensor 58, three detectors, a high-level detector 60H, a middle-level detector 60M, and a low-level detector 60L, protrude into the housing 20. The liquid level sensor 58 is connected to the control device 23 (see FIG. 3), and the liquid level of the recovered water W
When the temperature reaches M, the controller 23 temporarily stops driving the waste liquid pump 18 and energizing the Peltier element 42 and drives the collection pump 54 to send the collected water W to the washing tank 62. Further, when the liquid level of the recovered water W in the housing 20 becomes lower than the low level detector 60L, the control device 23 forcibly stops the driving of the recovery pump 54 and prevents the recovery pump from running idle. In this way, the liquid level of the recovered water W is controlled so as not to be located above the middle detector 60M, but the liquid level rises above the middle detector 60M and the high detector If 60H is reached, the control device 2
3 forcibly stops driving of the waste liquid pump 18 and energization of the Peltier element 42, and also drives an alarm device (not shown) to inform the operator that the liquid level of the recovered water W has reached the high-level detector 60H. Inform.

【0042】図3に示すように、制御装置23には、前
述の如く、液位センサ26、温度センサ45、液位セン
サ58が接続されると共に、ヒーター42、蒸気攪拌フ
ァン46、冷却ファン50、廃液ポンプ18、回収ポン
プ54が接続されている。制御装置23は、液位センサ
26、温度センサ45や液位センサ58からの情報を基
に、ヒーター42、蒸気攪拌ファン46、冷却ファン5
0、廃液ポンプ18及び回収ポンプ54の制御を行う。
As shown in FIG. 3, the liquid level sensor 26, the temperature sensor 45, and the liquid level sensor 58 are connected to the control unit 23 as described above, and the heater 42, the steam stirring fan 46, and the cooling fan 50 , A waste liquid pump 18 and a recovery pump 54 are connected. The controller 23 controls the heater 42, the steam stirring fan 46, and the cooling fan 5 based on information from the liquid level sensor 26, the temperature sensor 45, and the liquid level sensor 58.
0, the waste liquid pump 18 and the recovery pump 54 are controlled.

【0043】次に、本実施形態の写真廃液濃縮処理装置
10の作用及び、処理廃液Lの濃縮工程を説明する。
Next, the operation of the photographic waste liquid concentrating apparatus 10 of this embodiment and the process of concentrating the processed waste liquid L will be described.

【0044】図示しない写真の自動現像機から排出され
た処理廃液Lは、一旦、廃液タンク14に貯留される。
廃液ポンプ18が駆動されると、蒸発皿24に処理廃液
Lが送られ、蒸発皿24に所定量の処理廃液Lが貯留さ
れる。
The processing waste liquid L discharged from a photo automatic developing machine (not shown) is temporarily stored in a waste liquid tank 14.
When the waste liquid pump 18 is driven, the processing waste liquid L is sent to the evaporating dish 24, and a predetermined amount of the processing waste liquid L is stored in the evaporating dish 24.

【0045】ここで、ヒーター42が通電されると、ヒ
ーター42からの熱が、受け皿22及び蒸発皿24を介
して、蒸発皿24の処理廃液Lに伝わる。これにより、
処理廃液Lの成分の一部(水分等)が蒸発してハウジン
グ20内で蒸気になると共に、処理廃液Lは徐々に濃縮
される。
Here, when the heater 42 is energized, the heat from the heater 42 is transmitted to the processing waste liquid L of the evaporating dish 24 via the tray 22 and the evaporating dish 24. This allows
Some of the components (moisture and the like) of the processing waste liquid L evaporate and become vapor in the housing 20, and the processing waste liquid L is gradually concentrated.

【0046】処理廃液Lは濃縮によりその体積が減少
し、濃縮分が蒸発皿24の底部に蓄積されていく。ヒー
ター42は、受け皿22の底板22Bに取り付けられて
いるため、このように処理廃液Lの体積が減少した状態
でも、常に蒸発皿24内の処理廃液Lに対向する。この
ため、ヒーター42の高温側から処理廃液Lへの伝熱面
積も減少することなく一定に維持され、伝熱効率も一定
に維持される。
The volume of the treated waste liquid L is reduced by concentration, and the concentrated portion accumulates at the bottom of the evaporating dish 24. Since the heater 42 is attached to the bottom plate 22B of the tray 22, the heater 42 always faces the processing waste liquid L in the evaporating dish 24 even when the volume of the processing waste liquid L is reduced in this manner. For this reason, the heat transfer area from the high temperature side of the heater 42 to the processing waste liquid L is kept constant without reduction, and the heat transfer efficiency is also kept constant.

【0047】このように、処理廃液Lが濃縮されること
でその体積が減少しても、ヒーター42の熱を無駄にす
ることなく、常に一定の熱量を供給できるので、処理廃
液Lをさらに濃縮させて、最終的に乾固する(乾燥によ
って固化する)ことができる。
As described above, even if the volume of the processing waste liquid L is reduced due to concentration, the heat of the heater 42 can be constantly supplied without wasting heat, so that the processing waste liquid L can be further concentrated. And finally dried (solidified by drying).

【0048】一方、ハウジング20内の蒸気は、ペルチ
ェ素子48の低温側によって低温とされた凝縮フィン4
4及びハウジング20の内面に付着して凝集され、回収
水Wとしてハウジング20内に溜まる。
On the other hand, the vapor in the housing 20 is condensed by the condensing fins 4 whose temperature is lowered by the low temperature side of the Peltier element 48.
4 and adhere to the inner surface of the housing 20 to be aggregated and collected in the housing 20 as the recovered water W.

【0049】ここで、蒸発皿24内の処理廃液Lから水
分が蒸発している状態(すなわち処理廃液Lが未だ乾固
していない状態)では、凝縮フィン44に高温となった
蒸気が触れて温められているので、凝縮フィン44の表
面温度は、このように蒸気が触れていない場合と比較し
て高く維持されている。このように凝集フィン44の温
度が高くなっている状態が温度センサー45によって検
知されている場合には、制御装置23はヒーター42へ
の通電を継続する。
Here, in a state where moisture is evaporated from the processing waste liquid L in the evaporating dish 24 (that is, a state where the processing waste liquid L is not yet dried), high-temperature steam touches the condensing fins 44. Because of the warming, the surface temperature of the condensing fins 44 is maintained higher than in the case where the steam is not touched. When the state where the temperature of the aggregation fins 44 is high is detected by the temperature sensor 45 as described above, the control device 23 continues energizing the heater 42.

【0050】蒸発皿24内の処理廃液Lが乾固した状態
に近づき、蒸発する蒸気の量が少なくなると、蒸気によ
る凝集フィン44の温度上昇がなくなって凝集フィン4
4の表面温度は急激に低下する。この温度低下が温度セ
ンサー45によって検知されると、制御装置23は、処
理廃液Lを完全に乾固させるために必要な所定時間経過
後に、ヒーター42への通電を停止する。
When the processing waste liquid L in the evaporating dish 24 approaches a dry state and the amount of vapor to be evaporated decreases, the temperature of the coagulation fins 44 due to the vapor is eliminated and the coagulation fins 4 are removed.
The surface temperature of No. 4 drops rapidly. When this temperature decrease is detected by the temperature sensor 45, the control device 23 stops energizing the heater 42 after a predetermined time necessary to completely dry the processing waste liquid L has elapsed.

【0051】このように、処理廃液Lからの蒸気の量が
少なくなることによる凝集フィン44の温度低下を計測
することで、処理廃液Lへの加熱の終点、すなわち、ヒ
ーター42への通電の終点を処理廃液Lが乾固した時点
と一致させることができるので、処理廃液Lが乾固した
のちも加熱を継続してしまったり、逆に、乾固する前に
加熱を停止してしまったりすることがない。また、処理
廃液Lの種類や、周囲の雰囲気(ハウジング20の周囲
の温度や湿度)に影響されることもない。従って、無駄
なエネルギーを消費することなく、必要最小限のエネル
ギー消費で処理廃液Lを確実に乾固させることができ
る。
As described above, the end point of the heating of the processing waste liquid L, that is, the end point of the power supply to the heater 42, is measured by measuring the temperature decrease of the aggregation fins 44 due to the decrease in the amount of steam from the processing waste liquid L. Can be matched with the time when the processing waste liquid L is dried, so that the heating is continued after the processing waste liquid L is dried, or conversely, the heating is stopped before the processing waste liquid L is dried. Nothing. In addition, it is not affected by the type of the processing waste liquid L or the surrounding atmosphere (temperature and humidity around the housing 20). Therefore, the processing waste liquid L can be surely dried to a minimum with the necessary energy consumption without wasting energy.

【0052】そして、このような処理廃液Lの乾固を複
数回繰り返すことで、蒸発皿24内に、乾固された処理
廃液Lが蓄積されていく。
By repeating such drying of the processing waste liquid L a plurality of times, the dried processing waste liquid L is accumulated in the evaporating dish 24.

【0053】乾固された処理廃液Lが所定量に達する
と、作業者は、把手34の把持部3を把持して蒸発皿2
4をハウジング20の外側へ移動させる。これにより、
袋体40の蛇腹部分が徐々に延び、蒸発皿24がハウジ
ング20の外側に完全に出た状態では、蒸発皿24が袋
体40によって完全に包囲される。次に、作業者は、袋
体40の一端側に設けられた図示しない封止手段(ジッ
パーや面ファスナー等)によって、袋体40を封止す
る。なお、さらに処理廃液Lを濃縮処理する場合には、
新たな蒸発皿24を受け皿20にセットする。
When the dried waste liquid L reaches a predetermined amount, the operator grips the grip portion 3 of the handle 34 and holds the evaporating dish 2.
4 is moved outside the housing 20. This allows
When the bellows portion of the bag 40 gradually extends and the evaporating dish 24 completely comes out of the housing 20, the evaporating dish 24 is completely surrounded by the bag 40. Next, the worker seals the bag 40 by a sealing means (zipper, hook-and-loop fastener, or the like) (not shown) provided on one end side of the bag 40. When the treatment waste liquid L is further concentrated,
The new evaporating dish 24 is set on the receiving tray 20.

【0054】また、このようにして処理廃液Lへの加熱
を続けると、ハウジング20内の回収水Wの量が増え
る。そして、回収水Wの液位が液位センサ58の中位検
出子60Mに達すると、回収水Wは、その液位が低位検
出子60Lの高さに下がるまで、回収ポンプ54によっ
て水洗槽62に送られる。
When the heating of the processing waste liquid L is continued in this manner, the amount of the recovered water W in the housing 20 increases. When the liquid level of the recovered water W reaches the middle detector 60M of the liquid level sensor 58, the recovered water W is washed by the recovery pump 54 until the liquid level drops to the height of the lower detector 60L. Sent to

【0055】図5には、本発明の第2実施形態の写真廃
液濃縮処理装置110が示されている。以下、第1実施
形態の写真廃液濃縮処理装置10と同一の構成要素、部
材等については同一符号を付して説明を省略する。
FIG. 5 shows a photographic waste liquid concentration processing apparatus 110 according to a second embodiment of the present invention. Hereinafter, the same components, members, and the like as those of the photographic waste liquid concentration processing apparatus 10 of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.

【0056】第2実施形態のハウジング120は、その
上壁120Uが傾斜されると共に、図8にも示すよう
に、側壁120Sとの間に取出口138が形成されてい
る。上壁120Uの上端には、蝶番140によって開閉
蓋134が回動可能に取り付けられており、この開閉蓋
134を回動させて、取出口138を開閉することがで
きる。
The housing 120 of the second embodiment has an upper wall 120U which is inclined, and an outlet 138 formed between the housing 120 and the side wall 120S as shown in FIG. An opening / closing lid 134 is rotatably attached to the upper end of the upper wall 120U by a hinge 140, and the opening / closing opening 138 can be opened / closed by rotating the opening / closing lid 134.

【0057】また、第2実施形態では、蒸発皿124は
第1実施形態の蒸発皿24と略同一形状とされている
が、受け皿22に対して固定されており、この蒸発皿1
24内に、回収袋164がセットされている点が第1実
施形態と異なっている。
In the second embodiment, the evaporating dish 124 has substantially the same shape as the evaporating dish 24 of the first embodiment.
The difference from the first embodiment is that the collection bag 164 is set in the inside 24.

【0058】回収袋164は、開口164Aを有する巾
着袋状に形成されており、この開口164Aを上にした
状態で、蒸発皿124内にセットされる。開口164A
から処理廃液Lが回収袋164内(すなわち蒸発皿12
4内)に供給されると共に、処理廃液Lの水分等がハウ
ジング120内に発散する。
The collection bag 164 is formed in a drawstring bag shape having an opening 164A, and is set in the evaporation dish 124 with the opening 164A facing upward. Opening 164A
Waste liquid L is collected in the collection bag 164 (that is, the evaporating dish 12
4), and the moisture and the like of the processing waste liquid L diffuse into the housing 120.

【0059】開口164Aの周囲からは閉じ紐166が
延出されており、この閉じ紐166を引っ張ることで、
開口164Aを封止することができる。なお、回収袋1
64及び閉じ紐166を構成する材料は、耐熱性や耐蝕
性、耐薬品性等の観点から選択されるが、例えば、ポリ
プロピレン樹脂を使用することができる。
A closing string 166 extends from the periphery of the opening 164A, and by pulling the closing string 166,
The opening 164A can be sealed. In addition, collection bag 1
The material forming the closing cord 64 and the closing cord 166 is selected from the viewpoint of heat resistance, corrosion resistance, chemical resistance, and the like. For example, a polypropylene resin can be used.

【0060】また、第2実施形態では第1実施形態と異
なり、図6にも詳細に示すように、受け皿22の底板2
2Bの下面に、ペルチェ素子142が高温側を上にして
取り付けられている。このため、高温側が常に底板22
Bに面接触している。そして、ペルチェ素子142が通
電されることにより、高温側の温度が上昇し、熱が受け
皿22及び蒸発皿24を介して、蒸発皿24に貯留され
た処理廃液Lに伝わる。これにより、処理廃液Lが加熱
され、処理廃液L中の水分等が蒸発する。
Also, in the second embodiment, unlike the first embodiment, as shown in detail in FIG.
A Peltier element 142 is attached to the lower surface of 2B with the high temperature side up. For this reason, the high temperature side is always
B is in surface contact. Then, when the Peltier element 142 is energized, the temperature on the high-temperature side rises, and the heat is transmitted to the processing waste liquid L stored in the evaporating dish 24 via the receiving dish 22 and the evaporating dish 24. Thereby, the processing waste liquid L is heated, and the moisture and the like in the processing waste liquid L evaporate.

【0061】なお、本実施形態では、ペルチェ素子14
2として、オーム電機株式会社製の形式:OCE−40
F(冷却能力:公称40W)を使用し、このペルチェ素
子42に予め付属している冷却ファンを取り除いて、受
け皿22の底板22Bと接着した。
In this embodiment, the Peltier device 14
2. Form by Ohm Electric Co., Ltd .: OCE-40
Using F (cooling capacity: 40 W nominal), the cooling fan attached to the Peltier element 42 was removed in advance, and the Peltier element 42 was bonded to the bottom plate 22B of the tray 22.

【0062】ペルチェ素子142の低温側(下面側)に
は、凝縮フィン144が取り付けられている。処理廃液
L中から蒸発した水分(ハウジング120内の蒸気)
は、この凝縮フィン144によって冷却されて凝縮さ
れ、水滴となってハウジング120の底部に落下する。
On the low temperature side (lower surface side) of the Peltier element 142, a condensation fin 144 is attached. Water evaporated from the processing waste liquid L (steam in the housing 120)
Is cooled and condensed by the condensing fins 144 and falls as water droplets onto the bottom of the housing 120.

【0063】凝縮フィン144には温度センサ145が
取り付けられている。温度センサ145は、ペルチェ素
子142の低温側の温度を凝縮フィン144を介して間
接的に計測し、計測値を制御装置23に出力する(図7
参照)。
A temperature sensor 145 is attached to the condensation fin 144. The temperature sensor 145 indirectly measures the temperature on the low temperature side of the Peltier element 142 via the condensing fin 144, and outputs the measured value to the control device 23 (FIG. 7).
reference).

【0064】なお、ペルチェ素子142は、上記したよ
うに、高温側によって処理廃液Lを加熱すると共に、低
温側によってハウジング20内の蒸気を冷却して凝縮で
きれば、その機能としては十分であり、一般にペルチェ
素子に取り付けられている蓄熱体は不要である。また、
ペルチェ素子には、耐腐食性(処理廃液Lに対する耐薬
品性)及び伝熱性の高い材料によって構成された保護カ
バーが取り付けられていることが好ましい。
As described above, the Peltier element 142 has a sufficient function as long as it can heat the processing waste liquid L on the high-temperature side and cool and condense the vapor in the housing 20 on the low-temperature side. The heat storage element attached to the Peltier element is unnecessary. Also,
It is preferable that the Peltier element is provided with a protective cover made of a material having high corrosion resistance (chemical resistance to the treatment waste liquid L) and high heat conductivity.

【0065】また、ハウジング120の側壁120Sに
は、冷却フィン148を介して冷却ファン150が取り
付けられている。冷却ファン150から送りこまれた外
気により、冷却フィン148がハウジング120の内面
を冷却する。これにより、処理廃液Lから蒸発した水蒸
気が、凝縮フィン144だけでなくハウジング120の
内面においても凝縮され、凝縮効率が高められている。
A cooling fan 150 is attached to the side wall 120 S of the housing 120 via cooling fins 148. The cooling fins 148 cool the inner surface of the housing 120 by the outside air sent from the cooling fan 150. Thereby, the water vapor evaporated from the processing waste liquid L is condensed not only on the condensing fins 144 but also on the inner surface of the housing 120, and the condensing efficiency is improved.

【0066】なお、第2実施形態においても、図7に示
すように、制御装置123に、液位センサ26、温度セ
ンサ145、液位センサ58が接続されると共に、ペル
チェ素子142、蒸気攪拌ファン46、冷却ファン15
0、廃液ポンプ18、回収ポンプ54が接続されてい
る。制御装置23は、液位センサ26、温度センサ14
5や液位センサ58からの情報を基に、ペルチェ素子1
42、蒸気攪拌ファン46、冷却ファン150、廃液ポ
ンプ18及び回収ポンプ54の制御を行う。
In the second embodiment, as shown in FIG. 7, the liquid level sensor 26, the temperature sensor 145, and the liquid level sensor 58 are connected to the control device 123, and the Peltier element 142, the steam agitating fan, and the like. 46, cooling fan 15
0, the waste liquid pump 18 and the recovery pump 54 are connected. The controller 23 includes a liquid level sensor 26, a temperature sensor 14
5 and the Peltier element 1 based on the information from the liquid level sensor 58.
42, the steam stirring fan 46, the cooling fan 150, the waste liquid pump 18, and the recovery pump 54 are controlled.

【0067】このような構成とされた第2実施形態の写
真廃液濃縮処理装置110では、蒸発皿24に回収袋1
64を開口164Aが上になるようにセットすると共
に、開閉蓋134を閉じ、それ以外は第1実施形態と同
様にして、処理廃液の濃縮処理を行う。ペルチェ素子1
42の高温側は、略水平とされた受け皿22の底板22
Bに接触して取り付けられており、ペルチェ素子142
が通電されると高温側の熱が受け皿22、蒸発皿124
及び回収袋164を介して、蒸発皿24内の処理廃液L
(図5及び図6では図示省略、図2参照)に伝わる。処
理廃液Lが濃縮によって体積減少しても、ペルチェ素子
142からの伝熱面積は減少しないので、処理廃液Lを
十分に加熱して乾固させることができる。
In the photographic waste liquid concentrating apparatus 110 of the second embodiment having such a configuration, the collection bag 1 is placed on the evaporating dish 24.
64 is set so that the opening 164A faces upward, and the opening / closing cover 134 is closed. Otherwise, the treatment waste liquid is concentrated in the same manner as in the first embodiment. Peltier device 1
The high-temperature side of the bottom plate 22 of the tray 22 which is substantially horizontal
B in contact with the Peltier element 142
Is energized, heat on the high-temperature side is transferred to the pan 22, the evaporating pan 124
And the processing waste liquid L in the evaporating dish 24 via the collection bag 164.
(Not shown in FIGS. 5 and 6, see FIG. 2). Even if the volume of the processing waste liquid L is reduced by concentration, the heat transfer area from the Peltier element 142 does not decrease, so that the processing waste liquid L can be sufficiently heated and dried.

【0068】なお、本実施形態では、ペルチェ素子42
の高温側は、印可する電圧を調整することによって30
℃〜95℃の範囲に設定することが可能であるが、本実
施形態では、ペルチェ素子42に一定の電圧を印加し、
蒸発皿24の処理廃液Lの温度が略70℃となるように
設定した。
In the present embodiment, the Peltier element 42
By adjusting the applied voltage.
Although it is possible to set in the range of ° C. to 95 ° C., in the present embodiment, a constant voltage is applied to the Peltier element 42,
The temperature of the processing waste liquid L in the evaporating dish 24 was set to be approximately 70 ° C.

【0069】ここで、蒸発皿124内の処理廃液Lから
水分が蒸発している状態(すなわち処理廃液Lが未だ乾
固していない状態)では、ペルチェ素子142の熱が、
処理廃液Lを蒸発させるための蒸発潜熱として奪われて
いるので、凝集フィン44の表面温度は、このように処
理廃液Lが蒸発していない場合と比較して低く維持され
ている。このように凝集フィン144の温度が低くなっ
ている状態が温度センサー145によって検知されてい
る場合には、制御装置123はペルチェ素子1への通電
を継続する。
Here, in the state where the water is evaporated from the processing waste liquid L in the evaporating dish 124 (that is, the state where the processing waste liquid L is not yet dried), the heat of the Peltier element 142 is
Since the processing waste liquid L is deprived as latent heat of evaporation for evaporating the processing waste liquid L, the surface temperature of the aggregation fins 44 is maintained lower than in the case where the processing waste liquid L is not evaporated. When the state where the temperature of the aggregation fin 144 is low is detected by the temperature sensor 145 in this manner, the control device 123 continues energizing the Peltier element 1.

【0070】蒸発皿124内の処理廃液Lが乾固した状
態に近づき、蒸発する蒸気の量が少なくなると、蒸発潜
熱が奪われることによるペルチェ素子142の温度低下
がなくなるので、凝集フィン144の表面温度は急激に
上昇する。この温度上昇が温度センサー145によって
検知されると、制御装置123は、処理廃液Lを完全に
乾固させるために必要な所定時間経過後に、ペルチェ素
子142への通電を停止する。
When the processing waste liquid L in the evaporating dish 124 approaches a dry state and the amount of evaporating vapor decreases, the temperature of the Peltier element 142 does not decrease due to the deprivation of the latent heat of evaporation. The temperature rises sharply. When this temperature rise is detected by the temperature sensor 145, the control device 123 stops energizing the Peltier element 142 after a predetermined time required to completely dry the processing waste liquid L.

【0071】このように、処理廃液Lからの蒸気の量が
少なくなることによる凝集フィン144(ペルチェ素子
142)の温度上昇を計測することで、処理廃液Lへの
加熱の終点、すなわち、ペルチェ素子142への通電の
終点を処理廃液Lが乾固した時点と一致させることがで
きるので、処理廃液Lが乾固したのちも加熱を継続して
しまったり、逆に、乾固する前に加熱を停止してしまっ
たりすることがない。また、処理廃液Lの種類や、周囲
の雰囲気(ハウジング120の周囲の温度や湿度)に影
響されることもない。従って、第1実施形態と同様、無
駄なエネルギーを消費することなく、必要最小限のエネ
ルギー消費で処理廃液Lを確実に乾固させることができ
る。
As described above, by measuring the temperature rise of the aggregation fin 144 (Peltier element 142) due to the decrease in the amount of steam from the processing waste liquid L, the end point of heating the processing waste liquid L, that is, the Peltier element Since the end point of energization of the processing waste liquid L can be made coincident with the time when the processing waste liquid L is dried, heating is continued even after the processing waste liquid L is dried, or conversely, heating is performed before the processing waste liquid L is dried. It doesn't stop. Further, there is no influence from the type of the processing waste liquid L or the surrounding atmosphere (the temperature and humidity around the housing 120). Therefore, similarly to the first embodiment, the processing waste liquid L can be surely dried to a minimum amount of energy consumption without wasting energy.

【0072】処理廃液Lが乾固すると、作業者は開閉蓋
134を回動させて取出口138を開放し、次に閉じ紐
166を引っ張って、回収袋164の開口164Aを封
止する。そして、乾固した処理廃液を回収袋164と一
体でハウジング120の外部に取り出す。蒸発皿124
には、あらたな回収袋164を、開口164Aを上にし
た状態でセットし、再度写真廃液濃縮処理装置110を
使用して、処理廃液Lを濃縮処理することができる。
When the processing waste liquid L dries, the operator turns the open / close lid 134 to open the outlet 138, and then pulls the closing cord 166 to seal the opening 164 A of the collection bag 164. Then, the dried processing waste liquid is taken out of the housing 120 integrally with the collection bag 164. Evaporating dish 124
Then, a new collection bag 164 is set with the opening 164A facing upward, and the processing waste liquid L can be concentrated using the photographic waste liquid concentration processing device 110 again.

【0073】以上説明したように、本発明の写真廃液濃
縮処理装置10、110では、蒸発皿24、124内の
処理廃液Lが濃縮により乾固した時点で、ヒーター42
又はペルチェ素子142への通電を停止するので、処理
廃液Lを乾固させるにあたって無駄なエネルギーを消費
してしまうことがない。
As described above, in the photographic waste liquid concentrating apparatuses 10 and 110 of the present invention, when the processing waste liquid L in the evaporating dishes 24 and 124 is concentrated to dryness, the heater 42
Alternatively, since the power supply to the Peltier element 142 is stopped, useless energy is not consumed in drying the processing waste liquid L.

【0074】なお、このように無駄なエネルギーを消費
することなく処理廃液Lを乾固させるための具体的構成
は、上記したものに限定されない。例えば、第1実施形
態において、ヒーター42に代えて第2実施形態と同様
のペルチェ素子142を加熱手段として設けてもよく、
さらにこれに加えて、ペルチェ素子142の冷却側に凝
縮フィン144を取り付けると共に、この凝縮フィン1
44の温度を温度センサー145によって計測するよう
にしてもよい。この場合には、処理廃液Lからの蒸気の
発生が減少したことを2つの温度センサー45、145
を併用して検知できるので、より高精度にペルチェ素子
142への通電停止のタイミングを制御することが可能
となる。
The specific configuration for drying the treatment waste liquid L without consuming wasteful energy is not limited to the above. For example, in the first embodiment, a Peltier element 142 similar to the second embodiment may be provided as a heating unit instead of the heater 42.
In addition to this, a condensation fin 144 is attached to the cooling side of the Peltier element 142, and
The temperature of 44 may be measured by the temperature sensor 145. In this case, the two temperature sensors 45 and 145 indicate that the generation of steam from the processing waste liquid L has been reduced.
Can be detected in combination with each other, so that it is possible to control the timing of stopping the power supply to the Peltier element 142 with higher accuracy.

【0075】また、第2実施形態において、冷却フィン
148及び冷却ファン150に代えて、第1実施形態と
同様のペルチェ素子48、凝縮フィン44及び冷却ファ
ン50を設けてもよい。要するに、本発明の加熱手段と
しては、処理廃液Lを加熱することにより、その成分の
一部を蒸発させて濃縮し、最終的に処理廃液Lを乾固さ
せることができるものであれば、その具体的構成は限定
されない。特に第2実施形態のように加熱手段としてペ
ルチェ素子を使用することで、処理廃液Lを効果的に加
熱して、水分等を蒸発させることができる。また、ペル
チェ素子の低温側を冷却手段として利用して、蒸気を冷
却し凝縮させることが可能となる。
In the second embodiment, the cooling fins 148 and the cooling fan 150 may be replaced with the same Peltier element 48, condensing fins 44 and cooling fan 50 as in the first embodiment. In short, as the heating means of the present invention, if the treatment waste liquid L can be heated to evaporate and concentrate a part of its components and finally make the treatment waste liquid L dry, The specific configuration is not limited. In particular, by using a Peltier element as the heating means as in the second embodiment, it is possible to effectively heat the treatment waste liquid L and evaporate moisture and the like. In addition, the steam can be cooled and condensed by using the low temperature side of the Peltier element as a cooling means.

【0076】同様に、本発明の冷却手段としても、処理
廃液Lからの蒸気を冷却して凝縮させることができれ
ば、その具体的構成は限定されない。特に第1実施形態
のようにペルチェ素子を使用することで、蒸気を効果的
に冷却して凝縮させることができる。また、ペルチェ素
子の高温側を加熱手段として利用して、処理廃液Lを加
熱することが可能となる。
Similarly, the specific structure of the cooling means of the present invention is not limited as long as the steam from the processing waste liquid L can be cooled and condensed. In particular, by using the Peltier element as in the first embodiment, the steam can be effectively cooled and condensed. Further, it is possible to heat the processing waste liquid L by using the high temperature side of the Peltier element as a heating means.

【0077】また、加熱手段及び冷却手段の数も限定さ
れず、1つであっても複数であってもよい。
The number of heating means and cooling means is not limited, either, and may be one or more.

【0078】また、第1実施形態では、ペルチェ素子4
2の低温側の温度を、凝縮フィン44に取り付けた温度
センサー45によって間接的に計測し、同様に第2実施
形態でも、ペルチェ素子142の低温側の温度を、凝縮
フィン144に取り付けた温度センサー145によって
間接的に計測したが、温度センサー45、145をペル
チェ素子42、142に取り付けてもよい。いずれの場
合であっても、温度センサー45、145の取り付け位
置は、温度変化が最も顕著に表れる位置とすることが好
ましい。
In the first embodiment, the Peltier device 4
2 is indirectly measured by the temperature sensor 45 attached to the condensing fin 44, and similarly in the second embodiment, the temperature on the low temperature side of the Peltier element 142 is attached to the condensing fin 144. Although measured indirectly by 145, the temperature sensors 45 and 145 may be attached to the Peltier elements 42 and 142. In any case, it is preferable that the mounting position of the temperature sensors 45 and 145 is a position where the temperature change is most remarkable.

【0079】温度センサー45、145としては、例え
ば、白金抵抗測温体、熱電対等、温度検出によって直接
的に電気信号を出せるものが好ましいが、これに限定さ
れないことはもちろんである。
As the temperature sensors 45 and 145, for example, those which can directly output an electric signal by temperature detection, such as a platinum resistance thermometer and a thermocouple, are preferable, but are not limited to these.

【0080】さらに、上記各実施形態では、温度センサ
ー45、145が計測した温度変化で、制御装置23、
123がヒーター42又はペルチェ素子142への通電
を停止する構成としたが、この通電停止は、作業者が手
作業により行ってもよい。すなわち、作業者が温度セン
サー45、145による温度計測値を読み取り、温度変
化があった時点から所定時間経過後に、ヒーター42又
はペルチェ素子142への通電を手動で停止するように
してもよい。もちろん、通電停止を制御装置23,12
3で行うようにすることで、作業工数を減らすことが可
能となる。
Further, in each of the above embodiments, the control device 23,
Although the configuration is such that the power supply to the heater 42 or the Peltier element 142 is stopped by the power supply 123, the power supply may be stopped manually by an operator. That is, the operator may read the temperature measured values by the temperature sensors 45 and 145 and manually stop energizing the heater 42 or the Peltier element 142 after a lapse of a predetermined time from the time when the temperature has changed. Of course, the control unit 23, 12
By performing in step 3, it is possible to reduce the number of work steps.

【0081】また、本発明の廃液貯留部材の形状として
も、上記した蒸発皿24の形状に限られない。すなわ
ち、所定量の処理廃液Lを貯留可能で、廃液タンク14
から処理廃液Lを流入させたり、水分を外部に発散させ
るための開口部分が少なくとも1つ設けられているよう
な容器であればよい。
The shape of the waste liquid storage member of the present invention is not limited to the shape of the evaporating dish 24 described above. That is, a predetermined amount of the processing waste liquid L can be stored in the waste liquid tank 14.
Any container may be used as long as it is provided with at least one opening for allowing the processing waste liquid L to flow therethrough or for allowing water to diffuse to the outside.

【0082】さらに、上記した受け皿22は必ずしも必
要でない。受け皿22が設けられてにない場合には、ヒ
ーター42又はペルチェ素子142の高温側(加熱手
段)を、蒸発皿24,124に直接面接触するように配
置すればよい。
Further, the above-mentioned tray 22 is not always necessary. If the tray 22 is not provided, the high-temperature side (heating means) of the heater 42 or the Peltier element 142 may be arranged so as to be in direct surface contact with the evaporating dishes 24 and 124.

【0083】[0083]

【発明の効果】本発明は上記構成としたので、最小のエ
ネルギー消費で確実に処理廃液を固化することができ
る。
According to the present invention, the treatment waste liquid can be solidified reliably with minimum energy consumption.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1実施形態の写真廃液濃縮処理装置
を示す概略構成図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a photographic waste liquid concentration processing apparatus according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1実施形態の写真廃液濃縮処理装置
の蒸発皿近傍を示す断面図である。
FIG. 2 is a sectional view showing the vicinity of an evaporating dish of the photographic waste liquid concentration processing apparatus according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第1実施形態の写真廃液濃縮処理装置
の制御系のブロック図である。
FIG. 3 is a block diagram of a control system of the photographic waste liquid concentration processing apparatus according to the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第1実施形態の写真廃液濃縮処理装置
から固化された処理廃液を取り出した状態を示す概略構
成図である。
FIG. 4 is a schematic configuration diagram illustrating a state where solidified processing waste liquid is taken out from the photographic waste liquid concentration processing apparatus according to the first embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第2実施形態の写真廃液濃縮処理装置
を示す概略構成図である。
FIG. 5 is a schematic configuration diagram illustrating a photographic waste liquid concentration processing apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第2実施形態の写真廃液濃縮処理装置
の蒸発皿近傍を示す断面図である。
FIG. 6 is a sectional view showing the vicinity of an evaporating dish of a photographic waste liquid concentration processing apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第2実施形態の写真廃液濃縮処理装置
の制御系のブロック図である。
FIG. 7 is a block diagram of a control system of a photographic waste liquid concentration processing apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図8】本発明の第2実施形態の写真廃液濃縮処理装置
から固化された処理廃液を取り出した状態を示す概略構
成図である。
FIG. 8 is a schematic configuration diagram showing a state where solidified processing waste liquid is taken out from a photographic waste liquid concentration processing apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図9】従来の現像廃液濃縮装置を示す概略構成図であ
る。
FIG. 9 is a schematic configuration diagram showing a conventional developing waste liquid concentration device.

【図10】従来の現像廃液の濃縮装置を示す概略構成図
である。
FIG. 10 is a schematic configuration diagram showing a conventional developing waste liquid concentration device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 写真廃液濃縮処理装置 23 制御装置(第1制御手段) 24 蒸発皿(廃液貯留部材) 42 ヒーター(加熱手段) 45 温度センサー(第1温度検知手段) 48 ペルチェ素子(冷却手段) 110 写真廃液濃縮処理装置 123 制御装置(第2制御手段) 124 蒸発皿(廃液貯留部材) 142 ペルチェ素子(加熱手段) 145 温度センサー(第2温度検知手段) Reference Signs List 10 photo waste liquid concentration processing device 23 control device (first control means) 24 evaporating dish (waste liquid storage member) 42 heater (heating means) 45 temperature sensor (first temperature detection means) 48 Peltier element (cooling means) 110 photo waste liquid concentration Processing device 123 Control device (second control means) 124 Evaporating dish (waste liquid storage member) 142 Peltier element (heating means) 145 Temperature sensor (second temperature detection means)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H016 CA00 2H098 BA33 BA37 DA02 2H112 AA11 BC08 BC24 BC27 EA20 4D034 AA20 BA01 CA12 CA21 4D076 AA01 BA21 DA21 DA22 EA02Y EA04X EA04Y EA05X EA05Y EA06X EA08X EA12X EA13Y EA15Y EA16Y EA33 EA49 HA06 JA03 JA04  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H016 CA00 2H098 BA33 BA37 DA02 2H112 AA11 BC08 BC24 BC27 EA20 4D034 AA20 BA01 CA12 CA21 4D076 AA01 BA21 DA21 DA22 EA02Y EA04X EA04Y EA05X EA05Y EA06 EA08 EA08 EA08 EA08 EA08 EA06

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 感光材料の処理廃液を貯留可能な廃液貯
留部材と、 前記廃液貯留部材に貯留された前記処理廃液を加熱する
加熱手段と、 前記加熱手段による加熱で発生した蒸気を冷却して凝縮
させる冷却手段と、 前記冷却手段の温度を検知可能な第1温度検知手段と、 を有することを特徴とする写真廃液濃縮処理装置。
1. A waste liquid storage member capable of storing a processing waste liquid of a photosensitive material, a heating unit for heating the processing waste liquid stored in the waste liquid storage member, and a steam generated by heating by the heating unit is cooled. A photographic waste liquid concentration processing device comprising: cooling means for condensing; and first temperature detecting means capable of detecting the temperature of the cooling means.
【請求項2】 前記廃液貯留部材に貯留された前記処理
廃液からの蒸気発生が減少することによる前記冷却手段
の温度低下を前記第1温度検知手段が検知すると、前記
加熱手段による加熱を停止するように加熱手段を制御す
る第1制御手段、を有することを特徴とする請求項1に
記載の写真廃液濃縮処理装置。
2. When the first temperature detecting means detects a decrease in the temperature of the cooling means due to a decrease in the generation of steam from the processing waste liquid stored in the waste liquid storing member, the heating by the heating means is stopped. The photographic waste liquid processing apparatus according to claim 1, further comprising a first control means for controlling the heating means.
【請求項3】 請求項1に記載の写真廃液濃縮処理装置
を使用して感光材料の処理廃液を濃縮する写真廃液濃縮
処理方法であって、 前記廃液貯留部材に貯留された前記処理廃液を前記加熱
手段によって加熱することで、処理廃液の成分の一部を
蒸発させて濃縮する加熱工程と、 前記加熱工程による処理廃液からの蒸気発生が減少する
ことによる前記冷却手段の温度低下を前記第1温度検知
手段が検知すると、前記加熱手段による加熱を停止する
加熱停止工程と、 を有することを特徴とする写真廃液濃縮処理方法。
3. A photographic waste liquid concentration processing method for concentrating a processing waste liquid of a photosensitive material using the photographic waste liquid concentration processing apparatus according to claim 1, wherein the processing waste liquid stored in the waste liquid storage member is removed. A heating step of evaporating and concentrating a part of the components of the treatment waste liquid by heating by the heating means; and And a heating stop step of stopping the heating by the heating means when the temperature detection means detects the temperature.
【請求項4】 感光材料の処理廃液を貯留可能な廃液貯
留部材と、 前記廃液貯留部材に貯留された前記処理廃液を加熱する
加熱手段と、 前記加熱手段の温度を検知可能な第2温度検知手段と、 を有することを特徴とする写真廃液濃縮処理装置。
4. A waste liquid storage member capable of storing processing waste liquid of a photosensitive material, heating means for heating the processing waste liquid stored in the waste liquid storage member, and a second temperature detector capable of detecting the temperature of the heating means. Means, and a photographic waste liquid concentration processing apparatus, comprising:
【請求項5】 前記廃液貯留部材に貯留された前記処理
廃液からの蒸気発生が減少することによる前記加熱手段
の温度上昇を前記第2温度検知手段が検知すると、前記
加熱手段による加熱を停止するように加熱手段を制御す
る第2制御手段、を有することを特徴とする請求項4に
記載の写真廃液濃縮処理装置。
5. When the second temperature detecting means detects an increase in the temperature of the heating means due to a decrease in the generation of steam from the processing waste liquid stored in the waste liquid storing member, the heating by the heating means is stopped. The photographic waste liquid concentration processing apparatus according to claim 4, further comprising a second control means for controlling the heating means.
【請求項6】 請求項4に記載の写真廃液濃縮処理装置
を使用して感光材料の処理廃液を濃縮する写真廃液濃縮
処理方法であって、 前記廃液貯留部材に貯留された前記処理廃液を前記加熱
手段によって加熱することで、処理廃液の成分の一部を
蒸発させて濃縮する加熱工程と、 前記加熱工程による処理廃液からの蒸気発生が減少する
ことによる前記加熱手段の温度上昇を前記第2温度検知
手段が検知すると、前記加熱手段による加熱を停止する
加熱停止工程と、 を有することを特徴とする写真廃液濃縮処理方法。
6. A photographic waste liquid concentration processing method for concentrating processing waste liquid of a photosensitive material using the photographic waste liquid concentration processing apparatus according to claim 4, wherein the processing waste liquid stored in the waste liquid storage member is removed. A heating step of evaporating and concentrating a part of the components of the treatment waste liquid by heating by the heating means; And a heating stop step of stopping the heating by the heating means when the temperature detection means detects the temperature.
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