JP2001004838A - Manufacture of polarizing diffraction element - Google Patents

Manufacture of polarizing diffraction element

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JP2001004838A
JP2001004838A JP17558499A JP17558499A JP2001004838A JP 2001004838 A JP2001004838 A JP 2001004838A JP 17558499 A JP17558499 A JP 17558499A JP 17558499 A JP17558499 A JP 17558499A JP 2001004838 A JP2001004838 A JP 2001004838A
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JP
Japan
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film
support substrate
cholesteric
alignment film
cholesteric alignment
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JP17558499A
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Ryo Nishimura
涼 西村
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Original Assignee
Nippon Mitsubishi Oil Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method for a specular polarizing diffraction element in which diffracted light itself causes specific polarization such as circular polarization and linear polarization. SOLUTION: This manufacturing method comprises a first process in which a cholesteric alignment film having a diffusion rate defined by the ratio of the specular reflection exclusive reflectance (SCE) to the specular reflection inclusive reflectance (SCI) ((SCE/SCI)×100) of less than 15% is formed on an alignment support substrate, a second process in which a diffraction pattern of a diffraction element substrate is transferred to the surface of the cholesteric alignment film, a third process in which the cholesteric alignment film surface and the support substrate 1 are layered through an adhesive layer 1, a fourth process in which the alignment support substrate used in the first process is removed from the cholesteric alignment film, and a fifth process in which the cholesteric alignment film surface from which the alignment support substrate is removed and the support substrate 2 are bonded through an adhesive layer 2.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、偏光性を有する回
折光を生じることができる意匠性に優れた偏光回折素子
の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a polarized light diffraction element having an excellent design and capable of generating diffracted light having a polarization property.

【0002】[0002]

【従来の技術】回折素子は、分光光学などの分野で光の
分光や光束の分割を行う目的で広く用いられている汎用
光学素子である。回折素子は、その形状からいくつかの
種類に分類され、光が透過する部分と透過しない部分を
周期的に配置した振幅型回折素子、透過性の高い材料に
周期的な溝を形成した位相型回折素子などに通常分類さ
れる。また、回折光の生じる方向に応じて透過型回折素
子、反射型回折素子と分類される場合もある。
2. Description of the Related Art A diffractive element is a general-purpose optical element that is widely used in the field of spectral optics and the like for the purpose of splitting light and splitting a light beam. Diffraction elements are classified into several types based on their shape.Amplitude type diffraction elements, in which light-transmitting and non-light-transmitting parts are periodically arranged, are phase-type, in which periodic grooves are formed in a highly transparent material. It is usually classified as a diffraction element. Further, they may be classified as a transmission type diffraction element or a reflection type diffraction element according to the direction in which diffracted light is generated.

【0003】上記の如き従来の回折素子では、自然光
(非偏光)を入射した際に得られる回折光は非偏光しか
得ることができない。分光光学などの分野で頻繁に用い
られるエリプソメーターのような偏光光学機器では、回
折光として非偏光しか得ることができないため、光源よ
り発した自然光を回折素子により分光し、さらにこれに
含まれる特定の偏光成分だけを利用するために、回折光
を偏光子を通して用いる方法が一般的に行われている。
この方法では、得られた回折光のうちの約50%以上が
偏光子に吸収されるために光量が半減するという問題が
あった。またそのために感度の高い検出器や光量の大き
な光源を用意する必要もあり、回折光自体が円偏光や直
線偏光のような特定の偏光となる回折素子の開発が求め
られていた。
In the above-described conventional diffraction element, only non-polarized light can be obtained as diffracted light obtained when natural light (non-polarized light) is incident. Polarizing optical instruments such as ellipsometers, which are frequently used in the field of spectroscopy, can only obtain non-polarized light as diffracted light. In general, a method of using diffracted light through a polarizer in order to use only the polarized light component is used.
In this method, there is a problem that about 50% or more of the obtained diffracted light is absorbed by the polarizer, so that the amount of light is reduced by half. For that purpose, it is necessary to prepare a detector having a high sensitivity and a light source having a large amount of light, and the development of a diffraction element in which the diffracted light itself becomes a specific polarized light such as a circularly polarized light or a linearly polarized light has been required.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記課題を
解決するものであり、液晶層構造を制御することで、コ
レステリック配向フィルムの一部の領域に回折能を付与
することに成功した。さらに詳しくは、コレステリック
液晶に特有な選択反射特性および円偏光特性に併せて回
折能という新たな特性をコレステリック配向フィルムに
容易に付与する方法を見出し、遂に本発明に到達した。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and has succeeded in imparting a diffractive power to a partial region of a cholesteric alignment film by controlling the structure of a liquid crystal layer. More specifically, the present inventors have found a method of easily imparting a new characteristic called diffractive power to a cholesteric alignment film in addition to the selective reflection characteristic and circular polarization characteristic peculiar to a cholesteric liquid crystal, and finally arrived at the present invention.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、配向
支持基板上に正反射除去反射率(SCE)と正反射込み
反射率(SCI)の比((SCE/SCI)×100)
で定義される拡散率が15%未満のコレステリック配向
フィルムを形成する第1工程、該コレステリック配向フ
ィルム表面に回折素子基板の回折パターンを転写する第
2工程、回折パターンが転写されたコレステリック配向
フィルム面と支持基板1とを接着剤層1を介して積層す
る第3工程、第1工程で用いた配向支持基板をコレステ
リック配向フィルムから除去する第4工程、及び配向支
持基板を除去したコレステリック配向フィルム面と支持
基板2とを接着剤層2を介して積層する第5工程、を含
む偏光回折素子の製造方法に関する。
That is, according to the present invention, the ratio of the specular reflection removal reflectance (SCE) to the regular reflection reflectance (SCI) ((SCE / SCI) .times.100) on the alignment support substrate.
A first step of forming a cholesteric alignment film having a diffusivity of less than 15%, a second step of transferring a diffraction pattern of a diffractive element substrate to the surface of the cholesteric alignment film, a cholesteric alignment film surface on which the diffraction pattern is transferred A third step of laminating the substrate and the support substrate 1 with the adhesive layer 1 interposed therebetween, a fourth step of removing the alignment support substrate used in the first step from the cholesteric alignment film, and a cholesteric alignment film surface from which the alignment support substrate has been removed. And a fifth step of laminating the support substrate 2 with the adhesive layer 2 interposed therebetween.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】以下、本発明を具体的に説明す
る。本発明の第1工程は、配向支持基板上に正反射除去
反射率(SCE)と正反射込み反射率(SCI)の比
((SCE/SCI)×100)で定義される拡散率が
15%未満のコレステリック配向フィルムを形成する工
程である。ここで正反射込み反射率(SCI)とは、被
測定物を拡散照明により均一照明した際の全反射率のこ
とをいう。また、正反射除去反射率(SCE)とは、被
測定物を拡散照明により均一照明した際の全反射率より
正反射光成分を除いた(被測定物表面で拡散した光の成
分からなる)拡散反射率のことをいう(全反射率=正反
射率+拡散反射率)。これら正反射除去反射率および正
反射込み反射率は、JIS−Z−8722「色の測定方
法−反射及び透過物体」に準拠して測定することにより
求めることができる。具体的な測定方法としては、d/
8(拡散照明8゜受光)照明・受光光学系を持つ測定
器、ミノルタ社製分光測色計CM−3500dを用いて
測定することができる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be specifically described below. In the first step of the present invention, the diffusivity defined by the ratio ((SCE / SCI) × 100) of the specular reflection removal reflectance (SCE) and the specular reflection reflectance (SCI) on the alignment support substrate is 15%. This is a step of forming a cholesteric alignment film of less than. Here, the regular reflection-inclusive reflectance (SCI) refers to the total reflectance when the object to be measured is uniformly illuminated by diffuse illumination. In addition, the specular reflection removal reflectance (SCE) is obtained by removing a regular reflection light component from a total reflectance when an object to be measured is uniformly illuminated by diffuse illumination (composed of a component of light diffused on the surface of the object to be measured). It refers to diffuse reflectance (total reflectance = specular reflectance + diffuse reflectance). These specular reflection removal reflectance and specular reflection included reflectance can be determined by measuring in accordance with JIS-Z-8722 "Color measurement method-reflection and transmission object". As a specific measuring method, d /
8 (diffuse illumination 8 ゜ light reception) It can be measured using a measuring instrument having an illumination / light receiving optical system, a spectrophotometer CM-3500d manufactured by Minolta.

【0007】第1工程で配向支持基板上に形成されるコ
レステリック配向フィルムは、上記定義に基づいて求め
られる拡散率が通常15%未満、好ましくは12%以
下、さらに好ましくは10%以下である。拡散率が15
%以上の場合には金属光沢を帯びた色鮮やかな呈色効果
を発現できない恐れがある。
In the cholesteric alignment film formed on the alignment support substrate in the first step, the diffusivity determined based on the above definition is usually less than 15%, preferably 12% or less, more preferably 10% or less. Spreading rate is 15
%, There is a possibility that a vivid coloration effect with a metallic luster cannot be exhibited.

【0008】上記の如きコレステリック配向フィルムを
形成するフィルム材料としては、高分子液晶、低分子液
晶またはこれら混合物を用いることができる。高分子液
晶としては、コレステリック配向が固定化できるもので
あれば特に制限はなく、主鎖型、側鎖型高分子液晶等い
ずれでも使用することができる。具体的にはポリエステ
ル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステルイミ
ドなどの主鎖型液晶ポリマー、あるいはポリアクリレー
ト、ポリメタクリレート、ポリマロネート、ポリシロキ
サンなどの側鎖型液晶ポリマーなどが挙げられる。なか
でもコレステリック配向を形成する上で配向性が良く、
合成も比較的容易である液晶性ポリエステルが望まし
い。ポリマーの構成単位としては、例えば芳香族あるい
は脂肪族ジオール単位、芳香族あるいは脂肪族ジカルボ
ン酸単位、芳香族あるいは脂肪族ヒドロキシカルボン酸
単位を好適な例として挙げられる。
As a film material for forming the cholesteric alignment film as described above, a high-molecular liquid crystal, a low-molecular liquid crystal, or a mixture thereof can be used. The polymer liquid crystal is not particularly limited as long as the cholesteric alignment can be fixed, and any of a main chain type, a side chain type polymer liquid crystal and the like can be used. Specific examples include main-chain liquid crystal polymers such as polyester, polyamide, polycarbonate, and polyesterimide, and side-chain liquid crystal polymers such as polyacrylate, polymethacrylate, polymalonate, and polysiloxane. Among them, good orientation in forming cholesteric orientation,
A liquid crystalline polyester which is relatively easy to synthesize is desirable. Preferred examples of the constituent units of the polymer include an aromatic or aliphatic diol unit, an aromatic or aliphatic dicarboxylic acid unit, and an aromatic or aliphatic hydroxycarboxylic acid unit.

【0009】またコレステリック配向フィルムのフィル
ム材料となる低分子液晶としては、例えばアクリロイル
基、ビニル基やエポキシ基等の官能基を導入したビフェ
ニル誘導体、フェニルベンゾエート誘導体、スチルベン
誘導体などを基本骨格としたものが挙げられる。また低
分子液晶としては、ライオトロピック性、サーモトロピ
ック性のどちらも用いることができるが、サーモトロピ
ック性を示すものが作業性、プロセス等の観点からより
好適である。
The low-molecular liquid crystal used as a film material of the cholesteric alignment film is, for example, a compound having a basic skeleton of a biphenyl derivative, a phenylbenzoate derivative, a stilbene derivative into which a functional group such as an acryloyl group, a vinyl group or an epoxy group is introduced. Is mentioned. As the low-molecular liquid crystal, both lyotropic properties and thermotropic properties can be used, but those exhibiting thermotropic properties are more preferable from the viewpoint of workability, process and the like.

【0010】またコレステリック配向フィルムの耐熱性
等を向上させるために、フィルム材料中にコレステリッ
ク液晶相の発現を妨げない範囲において、例えばビスア
ジド化合物やグリシジルメタクリレート等の架橋剤を添
加することもでき、これら架橋剤を添加することにより
コレステリック液晶相を発現させた状態で架橋させるこ
ともできる。さらにフィルム材料には、コレステリック
液晶相の発現を妨げない範囲において二色性色素、染料
や顔料等を適宜添加することもできる。
In order to improve the heat resistance and the like of the cholesteric alignment film, a crosslinking agent such as a bisazide compound or glycidyl methacrylate may be added to the film material as long as the development of the cholesteric liquid crystal phase is not hindered. By adding a cross-linking agent, cross-linking can be performed in a state where a cholesteric liquid crystal phase is developed. Further, dichroic dyes, dyes, pigments and the like can be appropriately added to the film material as long as the development of the cholesteric liquid crystal phase is not hindered.

【0011】上記の如きフィルム材料を用いてコレステ
リック配向を固定化する方法としては、公知の方法、例
えば高分子液晶を用いる場合には、配向支持基板上に高
分子液晶を配した後、熱処理等によってコレステリック
液晶相を発現させ、その状態から急冷してコレステリッ
ク配向を固定化する方法を用いることができる。また低
分子液晶を用いる場合には、配向支持基板上に低分子液
晶を配した後、熱処理等によってコレステリック液晶相
を発現させ、その状態を維持したまま光、熱または電子
線等により架橋させてコレステリック配向を固定化する
方法等を適宜採用することができる。
As a method for fixing the cholesteric orientation using the film material as described above, a known method, for example, in the case of using a polymer liquid crystal, disposing the polymer liquid crystal on an alignment support substrate, followed by heat treatment or the like A cholesteric liquid crystal phase can be developed, and a cholesteric alignment can be fixed by quenching from that state. When using a low-molecular liquid crystal, after arranging the low-molecular liquid crystal on the alignment support substrate, a cholesteric liquid crystal phase is developed by heat treatment or the like, and cross-linked by light, heat or an electron beam while maintaining that state. A method of fixing the cholesteric orientation or the like can be appropriately adopted.

【0012】コレステリック配向フィルムの拡散率は、
コレステリック配向を形成する際の熱処理温度、熱処理
時間およびフィルム膜厚を適宜調節することにより、所
望の拡散率を得ることができる。熱処理温度、熱処理時
間およびフィルム膜厚は、フィルム材料となる高分子液
晶や低分子液晶の種類、組成比、諸物性等によって異な
るため一概には言えないが、熱処理温度としては通常3
0〜250℃、好ましくは40〜200℃、特に好まし
くは50〜170℃の範囲、また熱処理時間は、通常5
秒〜2時間、好ましくは10秒〜1時間、特に好ましく
は20秒〜30分の範囲、さらにフィルム膜厚として
は、通常0.3〜30μm、好ましくは0.5〜20μ
m、特に好ましくは0.7〜10μmの範囲で適宜調節
することにより、所望の拡散率を有するフィルムを得る
ことができる。
The cholesteric orientation film has a diffusivity of
A desired diffusion rate can be obtained by appropriately adjusting the heat treatment temperature, the heat treatment time, and the film thickness when forming the cholesteric orientation. The heat treatment temperature, the heat treatment time, and the film thickness cannot be determined unconditionally because they differ depending on the type, composition ratio, various physical properties, and the like of the polymer liquid crystal or the low molecular liquid crystal used as the film material.
0 to 250 ° C, preferably 40 to 200 ° C, particularly preferably 50 to 170 ° C.
Seconds to 2 hours, preferably 10 seconds to 1 hour, particularly preferably 20 seconds to 30 minutes, and the film thickness is usually 0.3 to 30 μm, preferably 0.5 to 20 μm.
m, particularly preferably in the range of 0.7 to 10 μm, a film having a desired diffusivity can be obtained.

【0013】また本発明の第1工程に供することができ
る配向支持基板としては、例えばガラス基板またはプラ
スチックフィルム、プラスチックシート等のプラスチッ
ク基板を例示することができる。ガラス基板としては例
えばソーダガラス、シリカコートソーダガラス、ホウケ
イ酸ガラス基板等を用いることができる。またプラスチ
ック基板としては、ポリメチルメタクリレート、ポリス
チレン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルフォン、
ポリフェニレンサルファイド、アモルファスポリオレフ
ィン、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、ポリ
アミドイミド、ポリエーテルエーテルケトン、エポキシ
樹脂、フェノール樹脂等の基板等を用いることができ
る。これらの配向支持基板に必要に応じて一軸または二
軸延伸操作を適宜加えることもできる。さらに上記基板
に、親水化処理や疎水化処理や易剥離性処理などの表面
処理を施すこともできる。また配向支持基板としては1
種単独、または2種以上の基板を積層したものを配向支
持基板として用いることもできる。
Further, examples of the orientation supporting substrate that can be subjected to the first step of the present invention include a glass substrate or a plastic substrate such as a plastic film or a plastic sheet. As the glass substrate, for example, soda glass, silica-coated soda glass, borosilicate glass substrate, or the like can be used. In addition, as a plastic substrate, polymethyl methacrylate, polystyrene, polycarbonate, polyether sulfone,
Substrates such as polyphenylene sulfide, amorphous polyolefin, triacetyl cellulose, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyimide, polyamide imide, polyether ether ketone, epoxy resin, and phenol resin can be used. A uniaxial or biaxial stretching operation can be appropriately applied to these alignment support substrates as needed. Further, the substrate may be subjected to a surface treatment such as a hydrophilization treatment, a hydrophobization treatment, and an easy peeling treatment. In addition, as the orientation support substrate, 1
A single type or a laminate of two or more types of substrates can be used as the alignment support substrate.

【0014】また上記各配向支持基板上に配向膜を形成
したものも本発明では配向支持基板に包含するものであ
る。配向膜としては、ラビング処理したポリイミドフィ
ルムが好適に用いられるが、その他当該分野で公知の配
向膜も適宜使用することができる。またポリイミド等を
塗布することなく、直接ラビング処理によって配向能を
付与して得られるプラスチック基板等もコレステリック
配向フィルムを得る際の配向支持基板として使用するこ
とができる。なお配向処理の方法は特に制限されるもの
ではないが、液晶分子を配向処理界面と一様に平行に配
向させるものであればよい。
In the present invention, an alignment support substrate having an alignment film formed thereon is also included in the alignment support substrate. As the alignment film, a rubbed polyimide film is suitably used, but other alignment films known in the art can also be used as appropriate. Also, a plastic substrate or the like obtained by directly imparting an orientation ability by a rubbing treatment without applying polyimide or the like can be used as an orientation support substrate when obtaining a cholesteric orientation film. The method of the alignment treatment is not particularly limited, but any method may be used as long as the liquid crystal molecules are uniformly aligned in parallel with the alignment treatment interface.

【0015】次いで配向支持基板上にフィルム材料を塗
布する手段としては、溶融塗布、溶液塗布が挙げられる
が、プロセス上溶液塗布が望ましい。溶液塗布は、フィ
ルム材料を所定の割合で溶媒に溶解し、所定濃度の溶液
を調製する。溶媒としては、用いるフィルム材料の種類
により異なるが、通常トルエン、キシレン、ブチルベン
ゼン、テトラヒドロナフタレン、デカヒドロナフタレン
等の炭化水素系、エチレングリコールジメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレ
ングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン等
のエーテル系、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、シクロヘキサノン等のケトン系、酢酸エチル、
酢酸ブチル、エチレングリコールモノメチルエーテルア
セテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルア
セテート、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン等のエステ
ル系、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミド等のアミド系、ジクロロメ
タン、四塩化炭素、テトラクロロエタン、クロロベンゼ
ン等のハロゲン化炭化水素系、ブチルアルコール、トリ
エチレングリコール、ジアセトンアルコール、ヘキシレ
ングリコール等のアルコール系等を用いることができ
る。これらの溶媒は必要により2種以上を適宜混合して
使用することもできる。また溶液の濃度は用いられるフ
ィルム材料の種類(組成比等)や溶解性、さらに最終的
に目的とするフィルムの膜厚等により異なるため一概に
は言えないが、通常1〜60重量%、好ましくは3〜4
0重量%で適宜調節される。
Next, as a means for applying the film material on the alignment support substrate, there are melt coating and solution coating, but a solution coating is preferred in the process. In the solution application, a film material is dissolved at a predetermined ratio in a solvent to prepare a solution having a predetermined concentration. As the solvent, although it varies depending on the type of film material to be used, usually, a hydrocarbon system such as toluene, xylene, butylbenzene, tetrahydronaphthalene, and decahydronaphthalene, an ether system such as ethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol dimethyl ether, and tetrahydrofuran, Methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ketones such as cyclohexanone, ethyl acetate,
Butyl acetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, ethyl lactate, ester such as γ-butyrolactone, N-methyl-2-pyrrolidone, dimethylformamide, amide such as dimethylacetamide, dichloromethane, carbon tetrachloride, Halogenated hydrocarbons such as tetrachloroethane and chlorobenzene, alcohols such as butyl alcohol, triethylene glycol, diacetone alcohol, and hexylene glycol can be used. If necessary, two or more of these solvents can be used as a mixture. Further, the concentration of the solution cannot be determined unconditionally because it varies depending on the type (composition ratio, etc.) and solubility of the film material used, and furthermore, finally, the film thickness of the target film. Is 3-4
It is appropriately adjusted at 0% by weight.

【0016】また溶液中には、塗布を容易にするために
界面活性剤等を加えても良い。界面活性剤としては、例
えばイミダゾリン、第四級アンモニウム塩、アルキルア
ミンオキサイド、ポリアミン誘導体等の陽イオン系界面
活性剤、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン縮
合物、第一級あるいは第二級アルコールエトキシレー
ト、アルキルフェノールエトキシレート、ポリエチレン
グリコール及びそのエステル、ラウリル硫酸ナトリウ
ム、ラウリル硫酸アンモニウム、ラウリル硫酸アミン
類、アルキル置換芳香族スルホン酸塩、アルキルリン酸
塩、脂肪族あるいは芳香族スルホン酸ホルマリン縮合物
等の陰イオン系界面活性剤、ラウリルアミドプロピルベ
タイン、ラウリルアミノ酢酸ベタイン等の両性系界面活
性剤、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリ
オキシエチレンアルキルアミン等の非イオン系界面活性
剤、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロ
アルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルエチレン
オキシド付加物、パーフルオロアルキルトリメチルアン
モニウム塩、パーフルオロアルキル基・親水性基含有オ
リゴマー、パーフルオロアルキル・親油基含有オリゴマ
ーパーフルオロアルキル基含有ウレタン等のフッ素系界
面活性剤などが挙げられる。界面活性剤の添加量は、界
面活性剤の種類や溶剤、あるいは塗布する支持基板にも
よるが、通常、高分子液晶の重量に対する比率にして1
0ppm〜10%、好ましくは50ppm〜5%、さら
に好ましくは0.01%〜1%の範囲である。
Further, a surfactant or the like may be added to the solution to facilitate coating. Examples of the surfactant include cationic surfactants such as imidazoline, quaternary ammonium salts, alkylamine oxides, and polyamine derivatives, polyoxyethylene-polyoxypropylene condensates, primary and secondary alcohol ethoxylates. , Alkylphenol ethoxylates, polyethylene glycols and esters thereof, sodium lauryl sulfate, ammonium lauryl sulfate, lauryl sulfate amines, alkyl-substituted aromatic sulfonates, alkyl phosphates, aliphatic or aromatic sulfonic acid formalin condensates, etc. Surfactants, amphoteric surfactants such as lauryl amide propyl betaine and lauryl amino acetate betaine, and nonionic surfactants such as polyethylene glycol fatty acid esters and polyoxyethylene alkylamine , Perfluoroalkyl sulfonate, perfluoroalkyl carboxylate, perfluoroalkyl ethylene oxide adduct, perfluoroalkyl trimethyl ammonium salt, perfluoroalkyl / hydrophilic group-containing oligomer, perfluoroalkyl / lipophilic group-containing oligomer Fluorinated surfactants such as fluoroalkyl group-containing urethanes and the like are included. The amount of the surfactant to be added depends on the type of the surfactant, the solvent, and the supporting substrate to be coated.
The range is 0 ppm to 10%, preferably 50 ppm to 5%, and more preferably 0.01% to 1%.

【0017】上記の如くして調製したフィルム材料溶液
を配向支持基板上に塗布する。塗布方法としては、例え
ばロールコート法、ダイコート法、バーコート法、グラ
ビアロールコート法、スプレーコート法、ディップコー
ト法、スピンコート法等を採用することができる。
The film material solution prepared as described above is applied on an alignment support substrate. Examples of the application method include a roll coating method, a die coating method, a bar coating method, a gravure roll coating method, a spray coating method, a dip coating method, and a spin coating method.

【0018】塗布後溶媒を乾燥により除去し、配向支持
基板上に形成したフィルム材料の塗布膜を上述において
説明した熱処理条件にてコレステリック配向させた後、
当該配向を固定化することにより所望の拡散率を有する
コレステリック配向フィルムを当該基板上に形成するこ
とができる。コレステリック配向の固定化方法として
は、高分子液晶を主とするフィルム材料を用いた場合に
はガラス転移点以下の温度に急冷することによってコレ
ステリック配向が固定化されたコレステリック配向フィ
ルムを得ることができる。また低分子液晶を主とするフ
ィルム材料を用いた場合には、液晶状態においてコレス
テリック配向を形成した後、電子線、紫外線、可視光線
または赤外線(熱線)を照射して低分子液晶を架橋させ
ることによってコレステリック配向が固定化されたコレ
ステリック配向フィルムを得ることができる。
After the application, the solvent is removed by drying, and after the coating film of the film material formed on the alignment supporting substrate is subjected to the cholesteric alignment under the heat treatment conditions described above,
By fixing the orientation, a cholesteric orientation film having a desired diffusivity can be formed on the substrate. As a method of fixing the cholesteric alignment, when a film material mainly composed of a polymer liquid crystal is used, a cholesteric alignment film in which the cholesteric alignment is fixed can be obtained by rapidly cooling to a temperature below the glass transition point. . When a film material mainly composed of low-molecular liquid crystal is used, the cholesteric alignment is formed in the liquid crystal state, and then the low-molecular liquid crystal is cross-linked by irradiating an electron beam, ultraviolet light, visible light or infrared light (heat ray). As a result, a cholesteric alignment film in which the cholesteric alignment is fixed can be obtained.

【0019】配向支持基板上に形成されたコレステリッ
ク配向フィルムの光学パラメーターとして、コレステリ
ック配向における螺旋巻き数としては、通常2巻き以上
10巻き以下、好ましくは2巻き以上6巻き以下である
ことが望ましい。螺旋巻き数が2巻きより少ない場合、
また10巻きより多い場合には、偏光回折素子としての
効果を発現できない恐れがある。さらに当該フィルムに
おけるコレステリック選択反射の波長帯域幅としては、
通常30〜150nmが望ましく、またコレステリック
選択反射の中心波長としては、通常380〜780n
m、好ましくは420〜700nmの可視域、または8
00〜2000nm、好ましくは850〜1100の近
赤外域の範囲であることが望ましい。可視域で本発明の
偏光回折素子を用いる際においてコレステリック選択反
射の中心波長が上記範囲から外れた場合には、反射色が
薄れ鮮やかさに欠ける等の恐れがある。また近赤外域で
当該素子を用いる際においては適切な光源および/また
は検出器を用いてコレステリック選択反射を利用するこ
とになるが、中心波長が上記範囲から外れると汎用の光
源では光量が不足する、あるいは汎用の検出器では感度
が不足する等の恐れがある。
As the optical parameter of the cholesteric alignment film formed on the alignment support substrate, the number of spiral windings in the cholesteric alignment is usually from 2 to 10 turns, preferably from 2 to 6 turns. If the number of spiral turns is less than 2 turns,
If the number of windings is more than 10 turns, the effect as a polarization diffraction element may not be exhibited. Further, as the wavelength band of cholesteric selective reflection in the film,
Usually, it is preferably 30 to 150 nm, and the center wavelength of the cholesteric selective reflection is usually 380 to 780 n.
m, preferably in the visible range from 420 to 700 nm, or 8
It is desirably in the near infrared range of 00 to 2000 nm, preferably 850 to 1100. When the center wavelength of the cholesteric selective reflection is out of the above range when using the polarization diffraction element of the present invention in the visible region, there is a possibility that the reflected color becomes faint and lacks vividness. When the element is used in the near-infrared region, cholesteric selective reflection is used using an appropriate light source and / or detector. However, if the center wavelength is out of the above range, the amount of light is insufficient with a general-purpose light source. Or, a general-purpose detector may cause insufficient sensitivity.

【0020】本発明の第2工程は、第1工程で得られた
コレステリック配向フィルム表面に回折素子基板の回折
パターンを転写する工程である。コレステリック配向フ
ィルムに回折パターンを転写する際に用いられる回折素
子基板の材質としては、金属や樹脂のような材料であっ
ても良く、あるいはフィルム表面に回折機能を付与した
もの、あるいはフィルムに回折機能を有する薄膜を転写
したもの等、およそ回折機能を有するものであれば如何
なる材質であっても良い。なかでも取り扱いの容易さや
量産性を考えた場合、回折機能を有するフィルムまたは
フィルム積層体がより望ましい。
The second step of the present invention is a step of transferring the diffraction pattern of the diffraction element substrate to the surface of the cholesteric alignment film obtained in the first step. The material of the diffraction element substrate used when transferring the diffraction pattern to the cholesteric alignment film may be a material such as a metal or a resin, or a material having a diffraction function on the film surface, or a diffraction function on the film. Any material may be used as long as it has a diffraction function, such as a thin film having a thin film transferred thereon. Above all, in view of ease of handling and mass productivity, a film or a film laminate having a diffraction function is more desirable.

【0021】またここでいう回折素子とは、平面型ホロ
グラムの原版等の回折光を生じる回折素子全てをその定
義として含む。またその種類については、表面形状に由
来する回折素子、いわゆる膜厚変調ホログラムのタイプ
であってもよいし、表面形状に因らない、または表面形
状を屈折率分布に変換した位相素子、いわゆる屈折率変
調ホログラムのタイプであっても良い。本発明において
は、回折素子の回折パターン情報をより容易に液晶に付
与することができる点から、膜厚変調ホログラムのタイ
プがより好適に用いられる。また屈折率変調のタイプで
あっても、表面形状に回折を生じる起伏を有したもので
あれば本発明に好適に用いることができる。また回折素
子基板における回折パターンの格子間隔としては、特に
制限されるものではないが、通常0.56μm〜6.3
0μm、好ましくは0.59μm〜3.20μm,さら
に好ましくは0.72μm〜2.10μmであることが
実用的に本発明の偏光回折素子を用いる際に望ましい。
The term "diffraction element" as used herein includes, as its definition, any diffraction element that generates diffracted light, such as an original flat hologram. The type may be a diffraction element derived from the surface shape, a so-called film thickness modulation hologram type, or a phase element independent of the surface shape or a surface shape converted into a refractive index distribution, a so-called refraction. A rate modulation hologram type may be used. In the present invention, the type of the film thickness modulation hologram is more preferably used because the diffraction pattern information of the diffraction element can be more easily given to the liquid crystal. In addition, any type of refractive index modulation can be suitably used in the present invention as long as it has undulations that cause diffraction in the surface shape. The grating interval of the diffraction pattern on the diffraction element substrate is not particularly limited, but is usually 0.56 μm to 6.3.
0 μm, preferably 0.59 μm to 3.20 μm, more preferably 0.72 μm to 2.10 μm is desirable when the polarization diffraction element of the present invention is practically used.

【0022】回折パターンをコレステリック配向フィル
ムに転写する際の諸条件は、コレステリック配向フィル
ムの諸物性、回折素子基板の材質等によって異なるため
一概には言えないが、通常、温度40〜300℃、好ま
しくは70〜180℃、圧力0.05〜80MPa、好
ましくは0.1〜20MPaの加温および/または加圧
条件下で行うことができる。温度が40℃未満の場合、
室温で十分安定な配向状態を有するコレステリック配向
フィルムにおいては回折パターンの転写が不十分となる
恐れがある。また300℃を越えるとコレステリック配
向フィルムの分解や劣化が起こる恐れがある。また圧力
が0.05MPaより低い場合、回折パターンの転写が
不十分となる恐れがある。さらに80MPaより高い場
合には、コレステリック配向フィルムや他の基材の破壊
等が起こる恐れがあり望ましくない。
The conditions for transferring the diffraction pattern to the cholesteric alignment film cannot be unequivocally determined because it varies depending on the physical properties of the cholesteric alignment film, the material of the diffraction element substrate, and the like. Can be carried out under heating and / or pressurizing conditions of 70 to 180 ° C. and a pressure of 0.05 to 80 MPa, preferably 0.1 to 20 MPa. If the temperature is below 40 ° C,
In a cholesteric alignment film having a sufficiently stable alignment state at room temperature, the transfer of the diffraction pattern may be insufficient. If the temperature exceeds 300 ° C., the cholesteric alignment film may be decomposed or deteriorated. If the pressure is lower than 0.05 MPa, the transfer of the diffraction pattern may be insufficient. If the pressure is higher than 80 MPa, the cholesteric alignment film and other substrates may be broken, which is not desirable.

【0023】また転写に要する時間は、コレステリック
配向フィルムを形成しているフィルム材料の種類、フィ
ルム形態、回折パターン型や回折素子基板の材質等によ
り異なるため一概には言えないが、通常0.01秒以
上、好ましくは0.05秒〜1分である。処理時間が
0.01秒より短い場合、回折パターンの転写が不十分
となる恐れがある。また1分を越えるような処理時間は
生産性の観点から望ましいとは言えない。
The time required for the transfer differs depending on the type of the film material forming the cholesteric alignment film, the film form, the diffraction pattern type, the material of the diffraction element substrate, and the like. Seconds or more, preferably 0.05 seconds to 1 minute. If the processing time is shorter than 0.01 second, the transfer of the diffraction pattern may be insufficient. A processing time exceeding 1 minute is not desirable from the viewpoint of productivity.

【0024】回折パターンをコレステリック配向フィル
ムに転写する具体的な方法としては、例えば上記諸条件
を満足する一般の圧縮成型機、圧延機、カレンダーロー
ラー、ヒートローラー、ラミネーター、ホットスタン
プ、電熱板、サーマルヘッド等を用い、コレステリック
配向フィルムの液晶面と回折パターン面が接するように
した状態で成型機等に供することにより、回折素子基板
の回折パターンをコレステリック配向フィルムに転写す
ることができる。また回折パターンの転写は、コレステ
リック配向フィルムの片面のみに限られるものではな
く、同様の方法により、コレステリック配向フィルム両
面に回折パターンを転写することもできる。
As a specific method of transferring the diffraction pattern to the cholesteric alignment film, for example, a general compression molding machine, a rolling mill, a calender roller, a heat roller, a laminator, a hot stamp, an electric heating plate, a thermal plate, which satisfies the above-mentioned conditions. The diffraction pattern of the diffraction element substrate can be transferred to the cholesteric alignment film by using a head or the like with a molding machine or the like in a state where the liquid crystal surface of the cholesteric alignment film is in contact with the diffraction pattern surface. Further, the transfer of the diffraction pattern is not limited to only one side of the cholesteric alignment film, and the diffraction pattern can be transferred to both sides of the cholesteric alignment film by the same method.

【0025】上記の如き方法および条件にてコレステリ
ック配向フィルムに回折素子基板の回折パターンを転写
した後、当該回折素子基板はコレステリック配向フィル
ムから剥離除去する。回折素子基板が取り除かれたコレ
ステリック配向フィルムは、回折パターンが転写された
当該フィルム面に回折能を示す領域を有することにな
る。ここで回折能を示す領域とは、その領域を透過した
光またはその領域で反射された光が、幾何学的には影に
なる部分に回り込むような効果を生じる領域を意味す
る。また回折能を有する領域の有無は、例えばレーザー
光等を前記領域に入射し、直線的に透過または反射する
光(0次光)以外に、ある角度をもって出射する光(高
次光)の有無により確認することができる。また別法と
しては、原子間力顕微鏡や透過型電子顕微鏡などで液晶
層の表面形状や断面形状を観察することにより回折能を
示す領域が形成されているか否か確認することができ
る。また回折能を示す領域は、コレステリック配向フィ
ルムの複数領域、例えばフィルム表裏面にそれぞれ形成
することもできる。また回折能を示す領域は、例えばフ
ィルム面に均一な厚さを持った層状態として形成されて
いることは必ずしも必要とせず、フィルム面の少なくと
も一部に回折能を示す領域が形成されていれば偏光回折
素子としての効果を発現することができる。また回折能
を示す領域を、所望の図形、絵文字、数字等の型を象る
ように形成することもできる。さらに回折能を示す領域
を複数有する場合、全ての当該領域が同じ回折能を示す
必要性はなく、それぞれの領域において異なった回折能
を示すものであってもよい。
After the diffraction pattern of the diffraction element substrate is transferred to the cholesteric alignment film by the method and under the conditions described above, the diffraction element substrate is peeled off from the cholesteric alignment film. The cholesteric alignment film from which the diffraction element substrate has been removed has a region exhibiting diffractive ability on the surface of the film on which the diffraction pattern has been transferred. Here, the region exhibiting the diffractive power means a region which produces an effect such that the light transmitted through the region or the light reflected by the region wraps around a portion which is geometrically shadow. The presence or absence of a region having a diffractive ability is confirmed by, for example, the presence or absence of light (higher-order light) emitted at a certain angle other than light (0th-order light) that enters a laser beam or the like into the above-mentioned region and transmits or reflects linearly. can do. Alternatively, by observing the surface shape or cross-sectional shape of the liquid crystal layer with an atomic force microscope, a transmission electron microscope, or the like, it can be confirmed whether or not a region having a diffractive ability is formed. The regions exhibiting diffractive power can also be formed on a plurality of regions of the cholesteric alignment film, for example, on each of the front and back surfaces of the film. Further, the region exhibiting diffractive power does not necessarily need to be formed as a layer having a uniform thickness on the film surface, for example, and the region exhibiting diffractive power is formed on at least a part of the film surface. For example, the effect as a polarization diffraction element can be exhibited. Further, the region exhibiting the diffractive power can be formed so as to model a desired figure, pictogram, numeral or the like. Further, when there are a plurality of regions exhibiting the diffractive power, it is not necessary that all the regions exhibit the same diffractive power, and the respective regions may exhibit different diffractive powers.

【0026】また回折能を示す領域が層状態として形成
されている場合、回折能を示す層(領域)の厚みとして
は、コレステリック配向フィルムの膜厚に対して通常5
0%以下、好ましくは30%以下、さらに好ましくは1
0%以下の厚みを有する層状態で形成されていることが
望ましい。回折能を示す層(領域)の厚さが50%を超
えると、コレステリック液晶相に起因する選択反射特
性、円偏光特性等の効果が低下し、偏光回折素子として
の効果を得ることができない恐れがある。
When the region exhibiting diffractive power is formed in a layer state, the thickness of the layer (region) exhibiting diffractive power is usually 5 times the film thickness of the cholesteric alignment film.
0% or less, preferably 30% or less, more preferably 1% or less.
It is desirable that the layer is formed in a layer state having a thickness of 0% or less. If the thickness of the layer (region) exhibiting a diffractive ability exceeds 50%, effects such as selective reflection characteristics and circular polarization characteristics due to the cholesteric liquid crystal phase are reduced, and the effect as a polarization diffraction element may not be obtained. There is.

【0027】さらに本発明の第2工程において、回折素
子基板の回折パターンを転写されたコレステリック配向
フィルムは、その回折パターンを転写されたフィルム面
における配向状態、すなわち回折能を示す領域の配向状
態が、螺旋軸方位が膜厚方向に一様に平行ではないコレ
ステリック配向、好ましくは螺旋軸方位が膜厚方向に一
様に平行でなく、かつ螺旋ピッチが膜厚方向に一様に等
間隔ではないコレステリック配向を形成していることが
望ましい。またそれ以外の領域においては、通常のコレ
ステリック配向と同様の配向状態、すなわち螺旋軸方位
が膜厚方向に一様に平行で、かつ螺旋ピッチが膜厚方向
に一様に等間隔な螺旋構造を形成していることが望まし
い。
Further, in the second step of the present invention, the cholesteric alignment film on which the diffraction pattern of the diffraction element substrate has been transferred has an alignment state on the surface of the film on which the diffraction pattern has been transferred, that is, an alignment state of a region exhibiting diffractive ability. A cholesteric orientation in which the helical axis orientation is not uniformly parallel to the film thickness direction, preferably the helical axis direction is not uniformly parallel to the film thickness direction, and the helical pitch is not evenly spaced in the film thickness direction It is desirable to form a cholesteric orientation. In other regions, a helical structure in which the helical axis orientation is uniformly parallel to the film thickness direction and the helical pitch is uniformly spaced uniformly in the film thickness direction is the same as the normal cholesteric orientation. It is desirable to form.

【0028】また本発明のコレステリック配向フィルム
において、回折能を示す領域が一方のフィルム面領域に
有する際、そのフィルムの表裏、すなわち回折能を示す
領域を有するフィルム面とその面とは反対のフィルム面
とは多少異なった光学効果、呈色効果等を示すものであ
る。したがって用途や目的とする機能等に応じ、コレス
テリック配向フィルムのフィルム面の配置位置等を選択
することが望ましい。
In the cholesteric oriented film of the present invention, when a region having a diffractive power is present on one film surface region, the film surface having the diffractive power is opposite to the film surface having the diffractive power. It shows an optical effect, a coloring effect and the like slightly different from those of the surface. Therefore, it is desirable to select the arrangement position of the film surface of the cholesteric alignment film according to the use and the intended function.

【0029】コレステリック配向フィルムの回折能を示
す領域における回折角としては、特に制限されるもので
はないが、1次回折光の回折角が、通常5゜〜80゜、
好ましくは10゜〜70゜、さらに好ましくは 15゜
〜60゜の範囲である。回折角が5゜より小さい場合、
回折による効果を確認できない恐れがある。また回折角
が80゜より大きい場合には、回折効果を目視にて確認
する際にフィルムのほぼ真横から観察しないと確認でき
ない等の意匠用途等に用いた場合に不都合を生じる恐れ
がある。
The diffraction angle of the cholesteric alignment film in the region showing the diffractive power is not particularly limited, but the diffraction angle of the first-order diffracted light is usually 5 ° to 80 °,
Preferably it is in the range of 10 ° to 70 °, more preferably 15 ° to 60 °. If the diffraction angle is smaller than 5 °,
The effect due to diffraction may not be confirmed. Further, when the diffraction angle is larger than 80 °, there is a possibility that inconvenience may occur when the diffraction effect is used for a design purpose such that the diffraction effect cannot be confirmed unless observed from almost right beside the film.

【0030】本発明の第3工程では、第2工程で得られ
た回折パターン転写後のコレステリック配向フィルムの
回折パターン転写面と支持基板1とを接着剤層1を介し
て積層する工程である。第3工程において用いられる支
持基板1としては、シート状物、フィルム状物、板状物
等の形状を有する自己支持性を具備する基板であれば特
に制限されるものではない。なお支持基板1を後述する
第6工程において除去する必要がある場合には、形状、
自己支持性と併せて、再剥離性を有することが必要であ
る。このような支持基板1としては、通常剥離性を有す
るプラスチックフィルムが望ましく用いることができ
る。ここで再剥離性とは、接着剤を介してコレステリッ
ク配向フィルムと支持基板1とを接着した状態におい
て、接着剤と支持基板1との界面で剥離できることをい
い、好ましくは接着剤を介して支持基板1に転写された
コレステリック配向フィルムの空気側面と、後述する支
持基板2を対向させて接着剤を介して張り合わせた後
に、支持基板1が直接接する接着剤との界面で剥離でき
ることが望ましい。本発明の第3工程において用いられ
る上記の如き支持基板1としては、接着剤(硬化後)と
の界面での剥離強度(180゜剥離試験、剥離速度30
cm/分)の値として、通常0.5〜80gf/25m
m、好ましくは2〜50gf/25mmの剥離強度のも
のが望ましく用いられる。このような支持基板1として
好適なプラスチックフィルムとしては、具体的にはポリ
エチレン、ポリプロピレン、4−メチルペンテン−1樹
脂等のオレフィン系樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポ
リアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケ
トン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスル
ホン、ポリケトンサルファイド、ポリスルホン、ポリス
チレン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレン
オキサイド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレ
ンテレフタレート、ポリアリレート、ポリアセタール、
ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、セルロース
系プラスチックス等が挙げられる。これらのプラスチッ
クフィルムそれ自身を用いてもよいし、適度な再剥離性
を付与するためにこれらのプラスチックフィルムの表面
に、シリコーンコートをしたもの、有機薄膜または無機
薄膜を形成したもの、化学的処理や物理的処理を施した
ものを用いることができる。本発明の第3工程において
用いられる支持基板1としては、ポリプロピレン、ポリ
エーテルエーテルケトン、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリカーボネート等やさらにこれらのフィルム表面
をシリコーン等の離型剤で処理したプラスチックフィル
ムが、接着剤と適度な接着性および剥離性を兼ね備えて
いることから望ましい。
The third step of the present invention is a step of laminating, via the adhesive layer 1, the diffraction pattern transfer surface of the cholesteric alignment film after the transfer of the diffraction pattern obtained in the second step and the support substrate 1. The support substrate 1 used in the third step is not particularly limited as long as it is a substrate having a shape such as a sheet, a film, or a plate and having self-supporting properties. If the support substrate 1 needs to be removed in a sixth step described later, the shape,
It is necessary to have removability together with self-supporting property. As such a supporting substrate 1, a plastic film having a releasable property can be desirably used. Here, the term “removability” means that, in a state where the cholesteric alignment film and the support substrate 1 are bonded via an adhesive, the film can be separated at the interface between the adhesive and the support substrate 1, and is preferably supported via the adhesive. It is desirable that, after the air side surface of the cholesteric alignment film transferred to the substrate 1 and the support substrate 2 described below are bonded to each other via an adhesive and then the support substrate 1 can be peeled off at the interface with the adhesive directly contacted. As the support substrate 1 as described above used in the third step of the present invention, the peel strength at the interface with the adhesive (after curing) (180 ° peel test, peel speed 30
cm / min), usually 0.5 to 80 gf / 25 m
m, preferably those having a peel strength of 2 to 50 gf / 25 mm. Specific examples of a plastic film suitable for the support substrate 1 include olefin resins such as polyethylene, polypropylene, and 4-methylpentene-1 resin, polyamide, polyimide, polyamideimide, polyetherimide, and polyetherketone. Polyether ether ketone, polyether sulfone, polyketone sulfide, polysulfone, polystyrene, polyphenylene sulfide, polyphenylene oxide, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyarylate, polyacetal,
Examples thereof include polycarbonate, polyvinyl alcohol, and cellulosic plastics. These plastic films may be used by themselves, or those coated with a silicone coat, an organic thin film or an inorganic thin film, or chemically treated to impart appropriate removability. And those subjected to physical processing can be used. As the supporting substrate 1 used in the third step of the present invention, a plastic film obtained by treating polypropylene, polyetheretherketone, polyethylene terephthalate, polycarbonate or the like or a film surface of these films with a release agent such as silicone is used as an adhesive. It is desirable because it has both proper adhesiveness and peelability.

【0031】またコレステリック配向フィルムと支持基
板1との間に介される接着剤層1としては、特に制限さ
れるものではなく、従来公知の様々な粘・接着剤、例え
ば光または電子線硬化型の反応性接着剤、ホットメルト
型接着剤等を適宜用いることができる。
The adhesive layer 1 interposed between the cholesteric alignment film and the supporting substrate 1 is not particularly limited, and various conventionally known adhesives and adhesives, for example, light or electron beam curable adhesives can be used. A reactive adhesive, a hot-melt adhesive or the like can be used as appropriate.

【0032】反応性接着剤としては、光または電子線重
合性を有するプレポリマーおよび/またはモノマーに必
要に応じて他の単官能、多官能性モノマー、各種ポリマ
ー、安定剤、光重合開始剤、増感剤等を配合したものを
用いることができる。
As the reactive adhesive, a prepolymer and / or a monomer having photo- or electron beam polymerizability, if necessary, other monofunctional or polyfunctional monomers, various polymers, a stabilizer, a photopolymerization initiator, What mixed a sensitizer etc. can be used.

【0033】光または電子線重合性を有するプレポリマ
ーとしては、具体的にはポリエステルアクリレート、ポ
リエステルメタクリレート、ポリウレタンアクリレー
ト、ポリウレタンメタクリレート、エポキシアクリレー
ト、エポキシメタクリレート、ポリオールアクリレー
ト、ポリオールメタクリレート等を例示することができ
る。また光または電子線重合性を有するモノマーとして
は、単官能アクリレート、単官能メタクリレート、2官
能アクリレート、2官能メタクリレート、3官能以上の
多官能アクリレート、多官能メタクリレート等が例示で
きる。またこれらは市販品を用いることもでき、例えば
アロニックス(アクリル系特殊モノマー、オリゴマー;
東亞合成社製)、ライトエステル(共栄社化学社製)、
ビスコート(大阪有機化学工業社製)等を用いることが
できる。
Examples of the prepolymer having photo- or electron beam polymerizability include polyester acrylate, polyester methacrylate, polyurethane acrylate, polyurethane methacrylate, epoxy acrylate, epoxy methacrylate, polyol acrylate, and polyol methacrylate. . Examples of the monomer having photo- or electron beam polymerizability include monofunctional acrylate, monofunctional methacrylate, difunctional acrylate, difunctional methacrylate, trifunctional or higher polyfunctional acrylate, and polyfunctional methacrylate. These can also use a commercial item, for example, Aronix (acrylic special monomer, oligomer;
Toagosei Co., Ltd.), Light Ester (Kyoeisha Chemical Co., Ltd.),
Viscote (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry) or the like can be used.

【0034】また光重合開始剤としては、例えばベンゾ
フェノン誘導体類、アセトフェノン誘導体類、ベンゾイ
ン誘導体類、チオキサントン類、ミヒラーケトン、ベン
ジル誘導体類、トリアジン誘導体類、アシルホスフィン
オキシド類、アゾ化合物等を用いることができる。
As the photopolymerization initiator, for example, benzophenone derivatives, acetophenone derivatives, benzoin derivatives, thioxanthones, Michler's ketone, benzyl derivatives, triazine derivatives, acylphosphine oxides, azo compounds and the like can be used. .

【0035】光または電子線硬化型の反応性接着剤の粘
度は、接着剤の加工温度等により適宜選択するものであ
り一概にはいえないが、通常25℃で10〜2000m
Pa・s、好ましくは50〜1000mPa・s、さらに
好ましくは100〜500mPa・sである。粘度が1
0mPa・sより低い場合、所望の厚さが得られ難くな
る。また2000mPa・sより高い場合には、作業性
が低下する恐れがあり望ましくない。粘度が上記範囲か
ら外れている場合には、適宜、溶剤やモノマー割合を調
整し所望の粘度にすることが好ましい。
The viscosity of the reactive adhesive of the light or electron beam curing type is appropriately selected depending on the processing temperature of the adhesive and the like, and cannot be specified unconditionally.
Pa · s, preferably 50 to 1000 mPa · s, more preferably 100 to 500 mPa · s. Viscosity 1
When it is lower than 0 mPa · s, it becomes difficult to obtain a desired thickness. On the other hand, if it is higher than 2000 mPa · s, the workability may decrease, which is not desirable. When the viscosity is out of the above range, it is preferable to appropriately adjust the solvent and the monomer ratio to obtain a desired viscosity.

【0036】また光硬化型の反応性接着剤を用いた場
合、その接着剤の硬化方法としては公知の硬化手段、例
えば低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハ
ライドランプ、キセノンランプ等を使用することができ
る。また露光量は、用いる反応性接着剤の種類により異
なるため一概にはいえないが、通常50〜2000mJ
/cm2、好ましくは100〜1000mJ/cm2であ
る。
When a photocurable reactive adhesive is used, a known curing method such as a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, or a xenon lamp is used as a method for curing the adhesive. be able to. Although the exposure amount cannot be determined unconditionally because it differs depending on the type of the reactive adhesive used, it is usually 50 to 2000 mJ.
/ Cm 2 , preferably 100 to 1000 mJ / cm 2 .

【0037】また電子線硬化型の反応性接着剤を用いた
場合、その接着剤の硬化方法としては、電子線の透過力
や硬化力により適宜選定されるものであり一概にはいえ
ないが、通常、加速電圧が50〜1000kV、好まし
くは100〜500kVの条件で照射して硬化すること
ができる。
When an electron beam-curable reactive adhesive is used, the method of curing the adhesive is appropriately selected depending on the penetrating power and the curing power of the electron beam, and cannot be determined unconditionally. Usually, curing can be carried out by irradiating under an acceleration voltage of 50 to 1000 kV, preferably 100 to 500 kV.

【0038】また接着剤としてホットメルト型接着剤を
用いる場合、当該接着剤も特に制限はないが、ホットメ
ルトの作業温度が80〜200℃、好ましくは100〜
160℃程度のものが作業性等の観点から望ましく用い
られる。具体的には、例えばエチレン・酢酸ビニル共重
合体系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹
脂、ポリアミド系樹脂、熱可塑性ゴム系、ポリアクリル
系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリビニルブチ
ラール等のポリビニルアセタール系樹脂、石油系樹脂、
テルペン系樹脂、ロジン系樹脂等をベース樹脂として製
造されているものが挙げられる。
When a hot melt adhesive is used as the adhesive, the adhesive is not particularly limited, but the operating temperature of the hot melt is 80 to 200 ° C., preferably 100 to 200 ° C.
Those having a temperature of about 160 ° C. are desirably used from the viewpoint of workability and the like. Specifically, for example, polyvinyl acetal resins such as ethylene-vinyl acetate copolymer resins, polyester resins, polyurethane resins, polyamide resins, thermoplastic rubbers, polyacrylic resins, polyvinyl alcohol resins, and polyvinyl butyral , Petroleum resin,
Examples include those manufactured using a terpene resin, a rosin resin, or the like as a base resin.

【0039】さらに接着剤として粘着剤を用いる場合も
特に制限されるものではなく、例えばゴム系、アクリル
系、シリコーン系、ポリビニルエーテル系粘着剤などを
用いることができる。接着剤の厚さは、用いられる用途
やその作業性等により異なるため一概にはいえないが、
通常0.5〜50μm、好ましくは1〜10μmであ
る。
The use of a pressure-sensitive adhesive as an adhesive is not particularly limited. For example, a rubber-based, acrylic, silicone-, or polyvinyl ether-based pressure-sensitive adhesive can be used. Since the thickness of the adhesive varies depending on the application used and its workability, etc., it cannot be said unconditionally,
Usually, it is 0.5 to 50 μm, preferably 1 to 10 μm.

【0040】また接着剤の形成方法としては、特に限定
されるものではないが、例えばロールコート法、ダイコ
ート法、バーコート法、、カーテンコート法、エクスト
ルージョンコート法、グラビアロールコート法、スプレ
ーコート法、スピンコート法等の公知の方法を用いて支
持基板またはコレステリック配向フィルムの回折パター
ンが転写されたフィルム面若しくは支持基板1およびコ
レステリック配向フィルムの両方に形成することができ
る。
The method of forming the adhesive is not particularly limited, and examples thereof include a roll coating method, a die coating method, a bar coating method, a curtain coating method, an extrusion coating method, a gravure roll coating method, and a spray coating method. A known method such as a spin coating method or a spin coating method can be used to form the film on the support substrate or on the film surface to which the diffraction pattern of the cholesteric alignment film has been transferred, or on both the support substrate 1 and the cholesteric alignment film.

【0041】また第3工程において用いられる接着剤層
1中には、紫外線防止剤、ハードコート剤を配合するこ
とができる。紫外線吸収剤としては、上記の如き接着剤
成分と相溶または分散できるものであれば特に制限はな
く、例えばベンゾフェノン系化合物、サルシレート系化
合物、ベンゾトリアゾール系化合物、シュウ酸アニリド
系化合物、シアノアクリレート系化合物等の有機系紫外
線吸収剤、酸化セシウム、酸化チタン、酸化亜鉛等の無
機系紫外線吸収剤を用いることができる。なかでも紫外
線吸収効率が高いベンゾフェノン系化合物が好適に用い
られる。また紫外線吸収剤は、1種単独または複数種添
加することができる。またハードコート剤としても、接
着剤成分と相溶または分散できるものであれば特に制限
はなく、例えばオルガノポリシロキサン系、光硬化型樹
脂系のアクリルオリゴマー系、ウレタンアクリレート
系、エポキシアクリレート系、ポリエステルアクリレー
ト系、熱硬化型樹脂系のアクリル−シリコン系、または
セラミックス等の無機系化合物等を用いることができ
る。なかでもオルガノポリシロキサン系、光硬化型樹脂
系であるアクリルオリゴマー系のハードコート剤が好適
に用いられる。
The adhesive layer 1 used in the third step may contain an ultraviolet ray inhibitor and a hard coat agent. The ultraviolet absorber is not particularly limited as long as it is compatible or dispersible with the adhesive component as described above. For example, a benzophenone compound, a salicylate compound, a benzotriazole compound, an oxalic acid anilide compound, a cyanoacrylate compound Organic UV absorbers such as compounds and inorganic UV absorbers such as cesium oxide, titanium oxide and zinc oxide can be used. Among them, a benzophenone-based compound having high ultraviolet absorption efficiency is preferably used. In addition, one or more ultraviolet absorbers can be added. The hard coating agent is not particularly limited as long as it is compatible or dispersible with the adhesive component. For example, organopolysiloxanes, photocurable resin-based acrylic oligomers, urethane acrylates, epoxy acrylates, polyesters An acrylate-based, thermosetting resin-based acryl-silicon-based, or inorganic compound such as ceramics can be used. Among them, organopolysiloxane-based and photo-curable resin-based acrylic oligomer-based hard coat agents are preferably used.

【0042】第3工程において用いられる接着剤層1中
の紫外線吸収剤および/またはハードコート剤の配合割
合は、使用する接着剤成分により異なるが、通常0.1
〜20重量%、好ましくは0.5〜10重量%である。
さらに第3工程において用いられるコレステリック配向
フィルムと支持基板1との接着に用いられる接着剤層1
中には、紫外線吸収剤およびハードコート剤の他に必要
に応じてヒンダードアミンや消光剤等の光安定剤、帯電
防止剤、スベリ性改良剤、染料、顔料、界面活性剤、微
細なシリカやジルコニア等の充填剤等の各種添加剤を配
合することもできる。これら各種添加剤の配合割合は、
本発明の効果を損なわない範囲であれば特に制限はない
が、通常0.01〜10重量%、好ましくは0.05〜
5重量%である。
The mixing ratio of the ultraviolet absorber and / or the hard coat agent in the adhesive layer 1 used in the third step depends on the adhesive component used, but is usually 0.1%.
-20% by weight, preferably 0.5-10% by weight.
Further, an adhesive layer 1 used for bonding the cholesteric alignment film used in the third step to the support substrate 1
Some of these include light stabilizers such as hindered amines and quenchers, antistatic agents, slipperiness improvers, dyes, pigments, surfactants, fine silica and zirconia in addition to ultraviolet absorbers and hard coat agents. And various additives such as fillers. The mixing ratio of these various additives is
There is no particular limitation as long as the effects of the present invention are not impaired, but usually 0.01 to 10% by weight, preferably 0.05 to 10% by weight.
5% by weight.

【0043】第3工程においてコレステリック配向フィ
ルムの回折パターンが転写されたフィルム面と支持基板
1とを接着剤層1を介して積層する方法としては特に制
限されるものではないが、例えば前述の回折パターンを
コレステリック配向フィルムに転写する方法として例示
した各種機器類から適宜選定する等により積層すること
ができる。
In the third step, the method of laminating the film surface on which the diffraction pattern of the cholesteric alignment film is transferred and the supporting substrate 1 via the adhesive layer 1 is not particularly limited. The pattern can be laminated by appropriately selecting from various devices exemplified as a method of transferring the pattern to the cholesteric alignment film.

【0044】次いでこれまでの工程において得られた配
向支持基板/コレステリック配向フィルム/接着剤層1
/支持基板1の順に構成された積層物から、第4工程と
して第1工程で用いた配向支持基板を除去する工程を行
う。
Next, the alignment support substrate / cholesteric alignment film / adhesive layer 1 obtained in the previous steps
As a fourth step, a step of removing the alignment support substrate used in the first step from the laminate formed in the order of / support substrate 1 is performed.

【0045】配向支持基板をコレステリック配向フィル
ムから除去する方法としては、特に制限されるものでは
ないが、例えば配向支持基板を剥離除去する、または配
向支持基板を溶解する、といった方法等が挙げられる。
剥離除去方法としては、例えば配向支持基板のコーナー
端部に粘着テープを貼り付けて人為的に剥離する方法、
ロール等を用いて機械的に剥離する方法、構造材料全て
に対する貧溶媒に浸漬した後に機械的に剥離する方法、
貧溶媒中で超音波をあてて剥離する方法、配向支持基板
とコレステリック配向フィルムとの熱膨張係数の差を利
用して温度変化を与えて剥離する方法、配向支持基板そ
のもの、または配向支持基板上の配向膜を溶解除去する
方法等を例示することができる。剥離性については、コ
レステリック配向フィルムを形成しているフィルム材料
の諸物性や配向支持基板との密着性によって異なるた
め、その系にもっとも適した方法を採用すべきである。
The method of removing the alignment supporting substrate from the cholesteric alignment film is not particularly limited, and examples thereof include a method of removing the alignment supporting substrate and a method of dissolving the alignment supporting substrate.
As a peeling removal method, for example, a method of applying an adhesive tape to a corner end of the orientation support substrate and artificially peeling,
A method of mechanically peeling using a roll or the like, a method of mechanically peeling after dipping in a poor solvent for all structural materials,
A method of peeling by applying ultrasonic waves in a poor solvent, a method of peeling by giving a temperature change by using a difference in thermal expansion coefficient between the alignment support substrate and the cholesteric alignment film, the alignment support substrate itself, or on the alignment support substrate And a method of dissolving and removing the alignment film. The releasability differs depending on various physical properties of the film material forming the cholesteric alignment film and the adhesion to the alignment support substrate, and therefore, a method most suitable for the system should be adopted.

【0046】本発明では、第4工程において配向支持基
板を除去した後、第5工程として配向支持基板を除去し
たコレステリック配向フィルム面と支持基板2とを接着
剤層2を介して積層する工程を行う。第5工程において
用いられる支持基板2としては、シート状物、フィルム
状物、板状物等の形状を有するものであれば特に制限さ
れるものではなく、例えばポリイミド、ポリアミドイミ
ド、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエ
ーテルケトン、ポリエーテルケトン、ポリケトンサルフ
ァイド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポ
リフェニレンサルファイド、ポリフェニレンオキサイ
ド、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリプロピレン、
ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタ
レート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポ
リアセタール、ポリアリレート、セルロース系プラスチ
ックス、エポキシ樹脂、フェノール樹脂等のシート、フ
ィルムあるいは基板、または紙、合成紙等の紙類、金属
箔、ガラス板等から適宜選択して用いることができる。
また支持基板2としては、その表面に凹凸が施されてい
るものであってもよい。
In the present invention, after the orientation supporting substrate is removed in the fourth step, the step of laminating the cholesteric orientation film surface from which the orientation supporting substrate has been removed and the supporting substrate 2 via the adhesive layer 2 as a fifth step. Do. The support substrate 2 used in the fifth step is not particularly limited as long as it has a shape such as a sheet, a film, and a plate. For example, polyimide, polyamideimide, polyamide, or polyether Imide, polyether ether ketone, polyether ketone, polyketone sulfide, polyether sulfone, polysulfone, polyphenylene sulfide, polyphenylene oxide, polyvinyl chloride, polystyrene, polypropylene,
Polymethyl methacrylate, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, polyvinyl alcohol, polyacetal, polyarylate, cellulosic plastics, epoxy resin, phenolic resin sheet, film or substrate, paper, synthetic paper, etc. Paper, metal foil, glass plate and the like can be appropriately selected and used.
In addition, the support substrate 2 may have a surface with irregularities.

【0047】またコレステリック配向フィルムと支持基
板2との間に介される接着剤層2としては、特に制限さ
れるものではなく、第3工程における接着剤層1として
説明した従来公知の様々な粘・接着剤、例えば光または
電子線硬化型の反応性接着剤、ホットメルト型接着剤等
を適宜用い、例えばロールコート法、ダイコート法、バ
ーコート法、、カーテンコート法、エクストルージョン
コート法、グラビアロールコート法、スプレーコート
法、スピンコート法等の公知の方法を用いて支持基板2
または配向支持基板を除去したコレステリック配向フィ
ルム面若しくは支持基板2およびコレステリック配向フ
ィルム面の両方に形成することができる。
The adhesive layer 2 interposed between the cholesteric alignment film and the support substrate 2 is not particularly limited, and various conventionally known adhesive layers described as the adhesive layer 1 in the third step are used. Adhesives, for example, a light or electron beam-curable reactive adhesive, a hot-melt adhesive, and the like are used as appropriate, for example, a roll coating method, a die coating method, a bar coating method, a curtain coating method, an extrusion coating method, and a gravure roll. Using a known method such as a coating method, a spray coating method, or a spin coating method, the supporting substrate 2
Alternatively, it can be formed on the cholesteric alignment film surface from which the alignment support substrate has been removed, or on both the support substrate 2 and the cholesteric alignment film surface.

【0048】本発明は、以上説明した第1工程から第5
工程を経ることにより支持基板2/接着剤層2/コレス
テリック配向フィルム/接着剤層1/支持基板1の順に
構成された偏光回折素子を製造することができる。ここ
で第3工程で用いた支持基板1が光学的に透明でない当
該基板を用いた場合、また目的とする用途において望ま
しくない光学特性を示す支持基板1や偏光回折素子とし
ての効果を消失させてしまう支持基板1等を用いた場
合、また支持基板1として再剥離性を有するものを用い
た場合には、第6工程として第3工程で用いた支持基板
1をコレステリック配向フィルムから除去し、支持基板
2/接着剤層2/コレステリック配向フィルム/接着剤
層1の順に構成された偏光回折素子を製造することがで
きる。ここで第3工程において接着剤層1中に紫外線吸
収剤および/またはハードコート剤を配合しておくこと
により、接着剤層1に保護層としての機能を付与してお
くこともできる。
According to the present invention, the first to fifth steps described above are performed.
Through the steps, a polarization diffraction element configured in the order of support substrate 2 / adhesive layer 2 / cholesteric alignment film / adhesive layer 1 / support substrate 1 can be manufactured. Here, when the support substrate 1 used in the third step is not optically transparent, the effect as the support substrate 1 or the polarization diffraction element exhibiting undesired optical characteristics in the intended use is lost. When the support substrate 1 or the like is used, or when a substrate having removability is used as the support substrate 1, the support substrate 1 used in the third step is removed from the cholesteric alignment film as a sixth step. It is possible to manufacture a polarization diffraction element configured in the order of substrate 2 / adhesive layer 2 / cholesteric alignment film / adhesive layer 1. Here, in the third step, a function as a protective layer can be imparted to the adhesive layer 1 by blending an ultraviolet absorber and / or a hard coat agent in the adhesive layer 1.

【0049】第6工程における支持基板1の除去方法
は、第4工程における配向支持基板を除去する方法と同
様に、例えば支持基板1のみを剥離除去する、または支
持基板1を溶解する、といった方法等が挙げられる。剥
離除去方法としては、例えば支持基板1のコーナー端部
に粘着テープを貼り付けて人為的に剥離する方法、ロー
ル等を用いて機械的に剥離する方法、構造材料全てに対
する貧溶媒に浸漬した後に機械的に剥離する方法、貧溶
媒中で超音波をあてて剥離する方法、支持基板1と接着
剤層1との熱膨張係数の差を利用して温度変化を与えて
剥離する方法、支持基板1そのものを溶解除去する方法
等を例示することができる。剥離性については、接着剤
層1の諸物性や支持基板1との密着性によって異なるた
め、その系にもっとも適した方法を採用すべきである。
The method of removing the support substrate 1 in the sixth step is, for example, a method of removing only the support substrate 1 or dissolving the support substrate 1 in the same manner as the method of removing the oriented support substrate in the fourth step. And the like. Examples of the peeling and removing method include a method of applying an adhesive tape to a corner end of the support substrate 1 to artificially peel it, a method of mechanically peeling using a roll or the like, and a method of dipping in a poor solvent for all structural materials. A method of mechanically peeling, a method of peeling by applying an ultrasonic wave in a poor solvent, a method of peeling by giving a temperature change using a difference in thermal expansion coefficient between the support substrate 1 and the adhesive layer 1, a method of peeling the support substrate A method of dissolving and removing 1 itself can be exemplified. Since the releasability depends on various physical properties of the adhesive layer 1 and the adhesion to the support substrate 1, a method most suitable for the system should be adopted.

【0050】また本発明では、第3工程において接着剤
層1中に紫外線吸収剤および/またはハードコート剤を
配合していない場合や、また配合した場合であっても、
支持基板1を剥離除去した後のコレステリック配向フィ
ルムのさらなる表面保護、強度増加、環境信頼性向上等
の目的の為に当該基板1を除去したコレステリック配向
フィルム面に第7工程として保護層を設けることができ
る。保護層としては、紫外線吸収性および/またはハー
ドコート性を有するものであれば特に限定されるもので
はない。例えば紫外線吸収剤およびハードコート剤を含
有した保護層形成材料をフィルム状物、シート状物、薄
膜状物、板状物に形成したものが挙げられる。また紫外
線吸収剤を含有した保護層形成材料からなる紫外線吸収
性を有した保護層(以下、紫外線吸収層)と、ハードコ
ート剤を含有した保護層形成材料からなるハードコート
性を有した保護層(以下、ハードコート層)との積層物
を本発明でいう保護層として用いることもできる。また
一般に市販されている紫外線カットフィルムとハードコ
ートフィルムとの積層物を保護層として用いることがで
きる。また紫外線吸収層に各種ハードコート剤を塗布し
て成膜した積層物も保護層として用いることができる。
ここで紫外線吸収層およびハードコート層は、それぞれ
2層以上から形成されてもよく、各層はそれぞれ接着剤
層等を介して積層することができる。
Further, in the present invention, even if the ultraviolet absorbent and / or the hard coat agent is not blended in the adhesive layer 1 in the third step, or if it is blended,
Providing a protective layer as a seventh step on the surface of the cholesteric alignment film from which the substrate 1 has been removed for the purpose of further protecting the surface of the cholesteric alignment film after peeling and removing the support substrate 1, increasing strength, and improving environmental reliability. Can be. The protective layer is not particularly limited as long as it has an ultraviolet absorbing property and / or a hard coat property. For example, a material in which a protective layer-forming material containing an ultraviolet absorber and a hard coat agent is formed into a film, a sheet, a thin film, or a plate. Further, a protective layer having an ultraviolet absorbing property made of a protective layer forming material containing an ultraviolet absorbent (hereinafter, referred to as an ultraviolet absorbing layer) and a protective layer having a hard coating property made of a protective layer forming material containing a hard coat agent (Hereinafter, a hard coat layer) may be used as the protective layer in the present invention. In addition, a laminate of a commercially available ultraviolet cut film and a hard coat film can be used as the protective layer. A laminate formed by applying various hard coat agents to the ultraviolet absorbing layer to form a film can also be used as the protective layer.
Here, each of the ultraviolet absorbing layer and the hard coat layer may be formed of two or more layers, and each layer can be laminated via an adhesive layer or the like.

【0051】保護層形成材料としては、光透過性が高い
ものが望ましく、例えばポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリ(4−メチル−ペンテン−1)、ポリスチレ
ン、アイオノマー、ポリ塩化ビニル、ポリメチルメタク
リレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリアミド、
ポリスルフォン、セルロース系樹脂等に紫外線吸収剤お
よび/またはハードコート剤を添加したものを用いるこ
とができる。また保護層としては、熱、光または電子線
硬化型の反応性接着剤に紫外線吸収剤および/またはハ
ードコート剤を添加した接着剤組成物を用いることもで
き、その接着剤組成物の硬化物を保護層とすることもで
きる。
As the material for forming the protective layer, those having high light transmittance are desirable. For example, polyethylene, polypropylene, poly (4-methyl-pentene-1), polystyrene, ionomer, polyvinyl chloride, polymethyl methacrylate, polyethylene terephthalate, polyamide,
A material obtained by adding an ultraviolet absorber and / or a hard coat agent to polysulfone, a cellulose resin, or the like can be used. Further, as the protective layer, an adhesive composition obtained by adding an ultraviolet absorber and / or a hard coat agent to a heat, light or electron beam curing type reactive adhesive can be used, and a cured product of the adhesive composition can be used. Can be used as a protective layer.

【0052】紫外線吸収剤としては、保護層形成材料に
相溶または分散できるものであれば特に制限はなく、例
えばベンゾフェノン系化合物、サルシレート系化合物、
ベンゾトリアゾール系化合物、シュウ酸アニリド系化合
物、シアノアクリレート系化合物等の有機系紫外線吸収
剤、酸化セシウム、酸化チタン、酸化亜鉛等の無機系紫
外線吸収剤を用いることができる。なかでも紫外線吸収
効率が高いベンゾフェノン系化合物が好適に用いられ
る。また紫外線吸収剤は、1種単独または複数種添加す
ることができる。保護層中の紫外線吸収剤の配合割合
は、使用する保護層形成材料により異なるが、通常0.
1〜20重量%、好ましくは0.5〜10重量%であ
る。
The ultraviolet absorber is not particularly limited as long as it is compatible or dispersible in the protective layer forming material. Examples thereof include benzophenone compounds, salicylate compounds, and the like.
Organic ultraviolet absorbers such as benzotriazole-based compounds, oxalic anilide-based compounds, and cyanoacrylate-based compounds, and inorganic ultraviolet absorbers such as cesium oxide, titanium oxide, and zinc oxide can be used. Among them, a benzophenone-based compound having high ultraviolet absorption efficiency is preferably used. In addition, one or more ultraviolet absorbers can be added. The blending ratio of the ultraviolet absorber in the protective layer varies depending on the material for forming the protective layer to be used.
It is 1 to 20% by weight, preferably 0.5 to 10% by weight.

【0053】ハードコート剤としては、保護層形成材料
に相溶または分散できるものであれば特に制限はなく、
例えばオルガノポリシロキサン系、光硬化型樹脂系のア
クリルオリゴマー系、ウレタンアクリレート系、エポキ
シアクリレート系、ポリエステルアクリレート系、熱硬
化型樹脂系のアクリル−シリコン系、またはセラミック
ス等の無機系化合物等を用いることができる。なかでも
成膜性等の観点からオルガノポリシロキサン系、光硬化
型樹脂系であるアクリルオリゴマー系のハードコート剤
が好適に用いられる。なおこれらのハードコート剤は、
無溶媒型、溶媒型のいずれであっても使用することがで
きる。
The hard coating agent is not particularly limited as long as it is compatible or dispersible in the protective layer forming material.
For example, use of an inorganic compound such as an organopolysiloxane-based, photo-curable resin-based acrylic oligomer-based, urethane acrylate-based, epoxy acrylate-based, polyester acrylate-based, thermosetting resin-based acryl-silicone-based, or ceramics. Can be. Above all, an organopolysiloxane-based or photo-curable resin-based acrylic oligomer-based hard coat agent is preferably used from the viewpoint of film-forming properties and the like. These hard coat agents are
Either a solventless type or a solvent type can be used.

【0054】保護層形成材料には、紫外線吸収剤および
ハードコート剤の他に必要に応じてヒンダードアミンや
消光剤等の光安定剤、帯電防止剤、スベリ性改良剤、染
料、顔料、界面活性剤、微細なシリカやジルコニア等の
充填剤等の各種添加剤を配合することもできる。これら
各種添加剤の配合割合は、本発明の効果を損なわない範
囲であれば特に制限はないが、通常0.01〜10重量
%、好ましくは0.05〜5重量%である。
The material for forming the protective layer includes, in addition to an ultraviolet absorber and a hard coat agent, if necessary, a light stabilizer such as a hindered amine or a quencher, an antistatic agent, a slipperiness improver, a dye, a pigment, a surfactant. Various additives such as fillers such as fine silica and zirconia can also be blended. The mixing ratio of these various additives is not particularly limited as long as the effects of the present invention are not impaired, but is usually 0.01 to 10% by weight, preferably 0.05 to 5% by weight.

【0055】また保護層を構成する紫外線吸収層は、先
に説明した保護層形成材料に紫外線吸収剤、必要に応じ
て光安定剤等を適宜配合したものを用いて形成すること
ができる。さらに一般に市販されている紫外線カットフ
ィルム等を紫外線吸収層として本発明に用いることもで
きる。
Further, the ultraviolet absorbing layer constituting the protective layer can be formed using a material obtained by appropriately blending an ultraviolet absorbing agent and, if necessary, a light stabilizer into the above-described protective layer forming material. Further, a commercially available ultraviolet cut film or the like can be used as the ultraviolet absorbing layer in the present invention.

【0056】また保護層を構成するハードコート層は、
先に説明した保護層形成材料にハードコート剤、場合に
より各種添加剤を配合したものを用いて形成することが
できる。またハードコート層としては、上記ハードコー
ト剤を透明な支持フィルム上に塗布して形成したもので
あってもよい。透明な支持フィルムとしては、ポリメチ
ルメタクリレート、ポリスチレン、ポリカーボネート、
ポリエーテルスルフォン、アモルファスポリオレフィ
ン、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリエチレンナフタレート等から形成されるフィ
ルムを挙げることができる。
The hard coat layer constituting the protective layer is
The protective layer can be formed by using a material in which a hard coat agent and various additives are added to the protective layer forming material described above. The hard coat layer may be formed by applying the above hard coat agent on a transparent support film. As a transparent support film, polymethyl methacrylate, polystyrene, polycarbonate,
Examples include films formed from polyether sulfone, amorphous polyolefin, triacetyl cellulose, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, and the like.

【0057】紫外線吸収層とハードコート層とは接着剤
等を介して積層し、本発明でいう保護層とすることがで
きる。接着剤としては、熱、光または電子線硬化型の反
応性接着剤等を用いることができる。また接着剤として
紫外線吸収剤を含有したものを用い、別に用意したハー
ドコート層をコレステリック配向フィルムに積層するこ
とにより保護層を形成することもできる。また接着剤に
は必要に応じて染料、顔料、界面活性剤等を適宜添加し
てもよい。
The ultraviolet absorbing layer and the hard coat layer are laminated via an adhesive or the like, and can be used as the protective layer in the present invention. As the adhesive, a heat, light or electron beam curable reactive adhesive or the like can be used. The protective layer can also be formed by using an adhesive containing an ultraviolet absorber and laminating a separately prepared hard coat layer on the cholesteric alignment film. Further, a dye, a pigment, a surfactant and the like may be appropriately added to the adhesive as needed.

【0058】さらにハードコート層としては、グラビア
インキ用ビヒクル樹脂等も好適に用いることができる。
グラビアインキ用ビヒクル樹脂としては、例えばニトロ
セルロース、エチルセルロース、ポリアミド樹脂、塩化
ビニル、塩素化ポリオレフィン、アクリル樹脂、ポリウ
レタン、ポリエステル等が挙げられる。またグラビアイ
ンキ用ビヒクル樹脂中に接着性向上や皮膜強度向上の為
に、例えばエステルガム、ダンマルガム、マレイン酸樹
脂、アルキッド樹脂、フェノール樹脂、ケトン樹脂、キ
シレン樹脂、テルペン樹脂、石油樹脂等のハードレジン
を配合してもよい。
Further, as the hard coat layer, a vehicle resin for gravure ink or the like can be preferably used.
Examples of the gravure ink vehicle resin include nitrocellulose, ethyl cellulose, polyamide resin, vinyl chloride, chlorinated polyolefin, acrylic resin, polyurethane, polyester, and the like. In addition, hard resins such as ester gum, dammar gum, maleic resin, alkyd resin, phenol resin, ketone resin, xylene resin, terpene resin, petroleum resin, etc. are used in the gravure ink vehicle resin in order to improve adhesion and film strength. May be blended.

【0059】またハードコート層の構成は、要求される
耐候性等に応じてハードコート層1層または複合層にす
ることができる。複合層としては、例えばオルガノポリ
シロキサンを含むハードコート層、光硬化型樹脂を含む
ハードコート層、熱硬化型樹脂を含むハードコート層、
無機化合物を含むハードコート層等、それぞれを組み合
わせて2層以上からなる複合層をハードコート層として
用いることもできる。
The structure of the hard coat layer may be a single hard coat layer or a composite layer according to the required weather resistance and the like. As the composite layer, for example, a hard coat layer containing an organopolysiloxane, a hard coat layer containing a photocurable resin, a hard coat layer containing a thermosetting resin,
A composite layer composed of two or more layers, such as a hard coat layer containing an inorganic compound, may be used as the hard coat layer.

【0060】さらにハードコート性の度合い、すなわち
硬度としては偏光回折素子を構成する材質により一概に
決定できないが、JIS L 0849記載の試験法に
準じて評価を行った場合、変色の判定基準として少なく
とも3以上、好ましくは4以上であることが望ましい。
Further, the degree of the hard coat property, that is, the hardness cannot be determined unconditionally depending on the material constituting the polarization diffraction element. However, when the evaluation is carried out according to the test method described in JIS L0849, at least the criteria for judging discoloration are as follows. It is desirable that the number be 3 or more, preferably 4 or more.

【0061】配向支持基板を除去したコレステリック配
向フィルム面に形成される保護層、また保護層を構成す
る紫外線吸収層およびハードコート層の成膜法は、通常
ロールコート法、ディッピング法、グラビアコート法、
バーコート法、スピンコート法、スプレーコート法、プ
リント法等の公知の方法を採用することができる。これ
ら方法によりコレステリック配向フィルム上、または支
持フィルム上に成膜した後、使用した保護層形成材料に
応じた後処理を施すことにより保護層を形成することが
できる。また紫外線吸収層とハードコート層との複合層
からなる保護層の形成方法としては、例えば紫外線吸収
層に直接ハードコート剤を塗布形成する方法、接着剤等
を介して積層する方法等が挙げられる。
The protective layer formed on the cholesteric alignment film surface from which the alignment supporting substrate has been removed, and the ultraviolet absorbing layer and the hard coat layer constituting the protective layer are generally formed by a roll coating method, a dipping method, a gravure coating method, or the like. ,
Known methods such as a bar coating method, a spin coating method, a spray coating method, and a printing method can be employed. After forming a film on the cholesteric alignment film or the support film by these methods, the protective layer can be formed by performing a post-treatment according to the protective layer forming material used. Examples of a method for forming a protective layer composed of a composite layer of an ultraviolet absorbing layer and a hard coat layer include a method of directly applying and forming a hard coating agent on the ultraviolet absorbing layer, a method of laminating via an adhesive or the like, and the like. .

【0062】保護層の膜厚は、紫外線吸収性およびハー
ドコート性のそれぞれが求められる性能に応じて異なる
ため一概には言えないが、通常0.1〜100μm、好
ましくは1〜50μmである。また保護層が紫外線吸収
層およびハードコート層との複合層から形成される場合
も、各層の全膜厚が上記範囲に入ることが望ましい。
The thickness of the protective layer cannot be specified unconditionally because it differs depending on the required performance of the ultraviolet absorbing property and the hard coating property, but it is usually 0.1 to 100 μm, preferably 1 to 50 μm. Also, when the protective layer is formed of a composite layer with an ultraviolet absorbing layer and a hard coat layer, the total thickness of each layer is preferably within the above range.

【0063】このようにして得られる本発明の偏光回折
素子は、回折光が円偏光性を有するという、従来の光学
部材には無い特異な効果を有する。この効果により、例
えばエリプソメーターのような偏光を必要とする分光光
学機器に用いることにより、光の利用効率を極めて高く
することが可能となる。従来の偏光を必要とする分光光
学機器では、光源より発した光を回折格子やプリズム等
の分光素子を用いて波長ごとに分光した後に偏光子を透
過させる、または偏光子を透過させた後に分光する必要
があり偏光子が必須であった。この偏光子は、入射した
光の約50%を吸収してしまい、また界面での反射が生
じるために光の利用効率が極めて悪いといった問題があ
ったが、本発明の製造方法によって得られる偏光回折素
子を用いることにより光の利用効率を極めて高く、理論
的には約100%利用することが可能となる。また本発
明の製造方法によって得られる偏光回折素子は、通常の
偏光板を用いることによって容易に回折光の透過および
遮断をコントロールすることが可能である。通常、偏光
性を有していない回折光では、どのような偏光板と組み
合わせても完全に遮断することはできない。すなわち本
発明の製造方法によって得られる偏光回折素子では、例
えば右偏光性を有する回折光は、左円偏光板を用いた時
にのみ完全に遮断することができ、それ以外の偏光板を
用いても完全な遮断を実現することができないものであ
る。このような効果を有することから、例えば観察者が
偏光板越しに回折像を観察する環境において、偏光板の
状態を変化させることによって、回折像を暗視野から突
然浮かび上がらせたり、また突然消失させたりすること
が可能となる。
The polarization diffraction element of the present invention obtained as described above has a unique effect that the diffracted light has a circular polarization property, which is not possible with the conventional optical member. Due to this effect, it is possible to extremely increase the light use efficiency by using, for example, a spectroscopic optical device that requires polarized light, such as an ellipsometer. Conventional spectroscopic optical devices that require polarized light use a diffraction element such as a diffraction grating or prism to separate the light emitted from the light source for each wavelength and then transmit the light through the polarizer, or transmit the light through the polarizer and then separate the light. It was necessary to have a polarizer. This polarizer has a problem that it absorbs about 50% of the incident light and has a problem of extremely low light utilization efficiency due to reflection at the interface. However, the polarizer obtained by the manufacturing method of the present invention has a problem. By using the diffraction element, the light use efficiency is extremely high, and it is theoretically possible to use about 100%. Further, the polarization diffraction element obtained by the production method of the present invention can easily control transmission and blocking of diffracted light by using a normal polarizing plate. Normally, diffracted light having no polarization cannot be completely blocked by any combination of polarizing plates. That is, in the polarization diffraction element obtained by the production method of the present invention, for example, right-polarized diffracted light can be completely blocked only when a left circularly polarizing plate is used, and even when other polarizing plates are used. Complete interruption cannot be achieved. Because of such an effect, for example, in an environment in which an observer observes a diffraction image through a polarizing plate, by changing the state of the polarizing plate, the diffraction image suddenly emerges from the dark field, or suddenly disappears. It becomes possible.

【0064】以上のように本発明の製造方法によって得
られる偏光回折素子は、新たな回折機能素子として応用
範囲は極めて広く、種々の光学用素子や光エレクトロニ
クス素子、装飾用部材、偽造防止用素子等として使用す
ることができる。
As described above, the polarization diffraction element obtained by the manufacturing method of the present invention has a very wide range of applications as a new diffraction function element, and various optical elements, optoelectronic elements, decorative members, and forgery prevention elements. And so on.

【0065】具体的に光学用素子や光エレクトロニクス
素子としては、例えば透明かつ等方なフィルム、例えば
フジタック(富士写真フィルム社製)、コニカタック
(コニカ社製)などのトリアセチルセルロースフィル
ム、TPXフィルム(三井化学社製)、アートンフィル
ム(日本合成ゴム社製)、ゼオネックスフィルム(日本
ゼオン社製)、アクリプレンフィルム(三菱レーヨン社
製)等を例えば第3工程における支持基板1または第5
工程における支持基板2として偏光回折素子を得ること
により様々な光学用途への展開を図ることが可能であ
る。例えば当該偏光回折素子をTN(twisted
nematic)−LCD(Liquid Cryst
al Display)、STN(Super Twi
sted Nematic)−LCD、ECB(Ele
ctrically Controlled Bire
fringence)−LCD、OMI(Optica
l Mode Interference)−LCD、
OCB(Optically Compensated
Birefringence)−LCD、HAN(H
ybrid Aligned Nematic)−LC
D、IPS(In Plane Switching)
−LCD等の液晶ディスプレーに備えることによって色
補償および/または視野角改良された各種LCDを得る
ことができる。また当該偏光回折素子を上記したように
分光された偏光を必要とする分光光学機器、回折現象に
より特定の波長を得る偏光光学素子、光学フィルター、
円偏光板、光拡散板等として用いることも可能であり、
さらに1/4波長板と組み合わせることによって直線偏
光板を得ることもできる等、光学用素子や光エレクトロ
ニクス素子として従来にない光学効果を発現しうる様々
な光学部材を提供することができる。
Specific examples of the optical element and the optoelectronic element include a transparent and isotropic film, for example, a triacetyl cellulose film such as Fujitac (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) and Konikatac (manufactured by Konica Corporation), and a TPX film. (Manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.), Arton film (manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.), ZEONEX film (manufactured by Nippon Zeon), acrylene film (manufactured by Mitsubishi Rayon), etc.
By obtaining a polarization diffraction element as the support substrate 2 in the process, it is possible to develop the optical element for various optical uses. For example, the polarization diffraction element is TN (twisted).
nematic) -LCD (Liquid Crystal)
al Display), STN (Super Twi)
Sted Nematic-LCD, ECB (Ele)
critically Controlled Wire
fringence) -LCD, OMI (Optica)
l Mode Interference) -LCD,
OCB (Optically Compensated)
Birefringence) -LCD, HAN (H
ybrid Aligned Nematic) -LC
D, IPS (In Plane Switching)
By providing a liquid crystal display such as an LCD, various LCDs with improved color compensation and / or improved viewing angle can be obtained. Further, a spectroscopic optical device that requires the polarized light to be polarized as described above, a polarizing optical element that obtains a specific wavelength by a diffraction phenomenon, an optical filter,
It can also be used as a circularly polarizing plate, light diffusing plate, etc.
Further, it is possible to provide various optical members capable of exhibiting an optical effect that has not existed conventionally as an optical element or an optoelectronic element, for example, a linear polarizing plate can be obtained by combining with a quarter wavelength plate.

【0066】装飾用部材としては、回折能による虹色呈
色効果とコレステリック液晶による色鮮やかな呈色効果
等を併せ持った新たな意匠性フィルムをはじめ様々な意
匠性成形材料を得ることができる。また薄膜化できるこ
とから既存製品等に添付する、一体化する等の方法によ
って、他の類似製品との差別化にも大きく貢献すること
が期待できる。例えば、意匠性のある回折パターンを組
み込んだ偏光回折素子をガラス窓等に張り付ける、また
は第3工程における支持基板1または第5工程における
支持基板2としてガラス窓等を用いることにより、外部
からはその視角によって前記回折パターンを伴ったコレ
ステリック液晶特有の選択反射が異なった色に見え、フ
ァッション性に優れたものとなる。また明るい外部から
は内部が見え難く、それにもかかわらず内部からは外部
の視認性がよい窓とすることができる。
As the decorative member, various design molding materials can be obtained, including a new design film having a combination of iridescent coloring effect by diffractive ability and colorful coloring effect by cholesteric liquid crystal. In addition, since it can be made into a thin film, it can be expected to greatly contribute to differentiation from other similar products by a method of attaching it to an existing product or the like or integrating it. For example, by attaching a polarization diffraction element incorporating a designable diffraction pattern to a glass window or the like, or by using a glass window or the like as the support substrate 1 in the third step or the support substrate 2 in the fifth step, externally, Depending on the viewing angle, the selective reflection peculiar to the cholesteric liquid crystal accompanied by the diffraction pattern looks different colors, and the fashionability is excellent. In addition, it is possible to provide a window in which the inside is hardly seen from the bright outside, and the outside is excellent in the interior from the inside.

【0067】偽造防止用素子としては、回折素子および
コレステリック液晶のそれぞれの偽造防止効果を併せ持
った新たな偽造防止フィルム、シール、ラベル等として
用いることができる。具体的には、本発明の第3工程に
おける支持基板1または第5工程における支持基板2と
して、自動車運転免許証、身分証明証、パスポート、ク
レジットカード、プリペイドカード、各種金券、ギフト
カード、有価証券等のカード基板、台紙等を用いること
によって、偏光回折素子をカード基板、台紙等と一体化
するまたは一部に設ける、具体的には貼り付ける、埋め
込む、紙類に織り込むことができる。また本発明の製造
方法によって得られる偏光回折素子は、回折能を示す領
域がコレステリック配向フィルムの表面領域に有するも
ので、かつそのフィルム面は接着剤層によって覆われて
おり、さらにコレステリック液晶の波長選択反射性、円
偏光選択反射性、色の視角依存性、コレステリックカラ
ーの美しい色を呈する効果を併せ持ったものである。し
たがって本発明の製造方法によって得られる偏光回折素
子は、偽造防止用素子として用いた場合には、当該偏光
回折素子の偽造が困難であり、より具体的には回折能を
示す領域をフィルム表面に有するコレステリック配向フ
ィルムの偽造は極めて困難であるといえる。また偽造防
止効果とあわせて、回折素子の虹色呈色効果、コレステ
リック液晶の金属光沢を帯びた色鮮やかな呈色効果を有
することから意匠性にも優れたものである。これらのこ
とから本発明の製造方法によって得られる偏光回折素子
は偽造防止用素子として非常に好適である。
The anti-counterfeit element can be used as a new anti-counterfeit film, seal, label or the like having both the anti-counterfeit effect of the diffraction element and the cholesteric liquid crystal. Specifically, as the support substrate 1 in the third step or the support substrate 2 in the fifth step of the present invention, a car driver's license, an identification card, a passport, a credit card, a prepaid card, various cash vouchers, a gift card, and securities By using such a card substrate, mount, or the like, the polarization diffraction element can be integrated with or partially provided with the card substrate, mount, or the like, specifically, attached, embedded, or woven into paper. Further, the polarizing diffraction element obtained by the production method of the present invention has a region exhibiting diffraction ability in the surface region of the cholesteric alignment film, and the film surface is covered with an adhesive layer, and further has a wavelength of the cholesteric liquid crystal. Selective reflectivity, circularly polarized light selective reflectivity, viewing angle dependence of color, and the effect of exhibiting a beautiful cholesteric color are also provided. Therefore, when the polarizing diffraction element obtained by the production method of the present invention is used as an anti-counterfeiting element, it is difficult to forge the polarizing diffraction element, and more specifically, a region exhibiting diffractive ability is formed on the film surface. It can be said that it is extremely difficult to forge a cholesteric alignment film. In addition to the anti-counterfeiting effect, it also has an iridescent color effect of the diffraction element and a vivid color effect of the cholesteric liquid crystal with a metallic luster, and thus has excellent design properties. For these reasons, the polarization diffraction element obtained by the production method of the present invention is very suitable as a forgery prevention element.

【0068】これらの用途はほんの一例であり、本発明
の製造方法によって得られる偏光回折素子は、従来、回
折素子単体、通常のコレステリック配向を固定化したコ
レステリック配向フィルム単体が使用されている各種用
途や、新たな光学的効果を発現することが可能であるこ
と等から前記用途以外の様々な用途にも応用展開が可能
である。
These applications are only examples, and the polarizing diffraction element obtained by the manufacturing method of the present invention is not limited to various applications in which a single diffraction element or a single cholesteric alignment film in which ordinary cholesteric alignment is fixed is used. In addition, since it is possible to exhibit a new optical effect, it can be applied to various uses other than the above-mentioned uses.

【0069】[0069]

【実施例】以下に実施例について述べるが、本発明はこ
れらに限定されるものではない。
EXAMPLES Examples will be described below, but the present invention is not limited to these examples.

【0070】(実施例1)テレフタル酸50mmol、
ヒドロキシ安息香酸20mmol、カテコール20mm
ol、(R)−2−メチル−1,4−ブタンジオール1
0mmolおよび酢酸ナトリウム100mgを用いて窒
素雰囲気下、180℃で1時間、200℃で1時間、2
50℃で1時間と段階状に昇温しながら重縮合反応を行
った。
(Example 1) 50 mmol of terephthalic acid,
Hydroxybenzoic acid 20 mmol, catechol 20 mm
ol, (R) -2-methyl-1,4-butanediol 1
0 mmol and 100 mg of sodium acetate in a nitrogen atmosphere at 180 ° C. for 1 hour, 200 ° C. for 1 hour,
The polycondensation reaction was performed while the temperature was raised stepwise at 50 ° C. for 1 hour.

【0071】次いで窒素を流しながら250℃で2時間
重縮合反応を続け、さらに減圧下同温度で1時間重縮合
を行った。得られたポリマーをテトラクロロエタンに溶
解後、メタノールで再沈澱を行い、液晶性ポリエステル
を得た。
Next, the polycondensation reaction was continued at 250 ° C. for 2 hours while flowing nitrogen, and the polycondensation was further performed at the same temperature under reduced pressure for 1 hour. After dissolving the obtained polymer in tetrachloroethane, reprecipitation was performed with methanol to obtain a liquid crystalline polyester.

【0072】得られた液晶性ポリエステルのN−メチル
−2−ピロリドン溶液(20重量%)を調製し、該溶液
をラビング処理したポリフェニレンスルフィド(PP
S)フィルム上にスピンコート法で塗布した。塗布した
後、乾燥処理を行いN−メチル−2−ピロリドンを除去
し、PPSフィルム上に液晶性ポリエステルの塗布膜を
形成した。触針型膜厚計にて測定した乾燥後の膜厚は約
1.6μmであった。
A solution of the obtained liquid crystalline polyester in N-methyl-2-pyrrolidone (20% by weight) was prepared, and the solution was rubbed with polyphenylene sulfide (PP).
S) It was applied on a film by a spin coating method. After the application, a drying treatment was performed to remove N-methyl-2-pyrrolidone, and a liquid crystalline polyester coating film was formed on the PPS film. The film thickness after drying measured by a stylus-type film thickness meter was about 1.6 μm.

【0073】次いで液晶性ポリエステルの塗布膜を18
5℃の加熱雰囲気において5分間熱処理を行い、室温下
に冷却することによって、PPSフィルム上に色鮮やか
な金色の反射色を呈する液晶性ポリエステルフィルムを
得た。
Next, a liquid crystalline polyester coating film was
A heat treatment was performed for 5 minutes in a heating atmosphere at 5 ° C., and the mixture was cooled to room temperature to obtain a liquid crystalline polyester film exhibiting a bright golden reflection color on the PPS film.

【0074】同フィルムを日本分光社製紫外可視近赤外
分光光度計V−570にて透過スペクトルを測定したと
ころ、中心波長が600nm、選択反射波長帯域幅が約
110nmの選択反射を示すコレステリック配向が固定
化されたコレステリック配向フィルムであることが確認
された。次いで得られたフィルムに関して、ミノルタ社
製分光測色計CM−3500dを用いて正反射除去反射
率(SCE)と正反射込み反射率(SCI)を測定した
ところ、SCE4%、SCI45%であり、拡散率は約
9%であった。
When the transmission spectrum of the film was measured with an ultraviolet-visible-near-infrared spectrophotometer V-570 manufactured by JASCO Corporation, a cholesteric orientation showing a selective reflection having a center wavelength of 600 nm and a selective reflection wavelength bandwidth of about 110 nm was obtained. Was confirmed to be a fixed cholesteric alignment film. Then, the specular colorimeter CM-3500d manufactured by Minolta Co., Ltd. was used to measure the specular reflection removal reflectance (SCE) and the specular reflectance (SCI) of the obtained film. The measured values were 4% for SCE and 45% for SCI. The diffusivity was about 9%.

【0075】次いでエドモンド・サイエンティフィック
・ジャパン社製刻線式回折格子フィルム(900本/m
m)の回折面と前記コレステリック配向フィルムの液晶
面が向き合うように重ね、伸栄産業社製26トンプレス
のプレート上に乗せ、90℃、5MPaの条件で加熱加
圧し1分間保持した後、プレスから取り出し、刻線式回
折格子フィルムを取り除いた。
Next, a ruled-line diffraction grating film manufactured by Edmund Scientific Japan (900 / m
m) The liquid crystal surface of the cholesteric alignment film was placed so that the diffraction surface of the cholesteric alignment film was facing each other, placed on a plate of a 26-ton press manufactured by Shinei Sangyo Co., Ltd., and heated and pressed at 90 ° C. and 5 MPa for 1 minute. It was taken out and the scored type diffraction grating film was removed.

【0076】次いで回折格子フィルムを除去したコレス
テリック配向フィルム面にバーコーターにより市販の光
硬化型アクリル系接着剤を5μmとなるように塗布し、
塗布面にトリアセチルセルロース(TAC)フィルムを
ラミネーターを用いて貼り合わせ、紫外線照射により接
着剤を硬化させた後、配向支持基板として用いたPPS
フィルムを180°方向に剥離除去した。
Next, a commercially available photocurable acrylic adhesive was applied to the cholesteric alignment film surface from which the diffraction grating film had been removed to a thickness of 5 μm using a bar coater.
After applying a triacetyl cellulose (TAC) film to the coating surface using a laminator and curing the adhesive by ultraviolet irradiation, PPS used as an alignment support substrate
The film was peeled off in the direction of 180 °.

【0077】PPSフィルムが除去されたコレステリッ
ク配向フィルム面に前記光硬化型アクリル系接着剤を5
μmとなるように塗布し、塗布面にTACフィルムをラ
ミネーターを用いて貼り合わせ、紫外線照射により接着
剤を硬化させ積層体を得た。
Apply the photocurable acrylic adhesive to the cholesteric alignment film surface from which the PPS film has been removed.
μm, a TAC film was adhered to the application surface using a laminator, and the adhesive was cured by ultraviolet irradiation to obtain a laminate.

【0078】得られた積層体は、回折パターンに起因す
る虹色とコレステリック液晶に特有の選択反射とが明瞭
に認められた。またコレステリック配向フィルムの配向
状態を偏光顕微鏡観察および液晶層断面の透過型電子顕
微鏡観察をしたところ、コレステリック相における螺旋
軸方位が膜厚方向に一様に平行ではなく、かつ螺旋ピッ
チが膜厚方向に一様に等間隔ではないコレステリック配
向が液晶層の表面領域に形成されていることが確認され
た。
In the obtained laminate, the iridescent color caused by the diffraction pattern and the selective reflection peculiar to the cholesteric liquid crystal were clearly recognized. When the alignment state of the cholesteric alignment film was observed by a polarizing microscope and a transmission electron microscope of the liquid crystal layer cross section, the helical axis orientation in the cholesteric phase was not uniformly parallel to the film thickness direction, and the helical pitch was It was confirmed that cholesteric alignments that were not uniformly spaced were formed in the surface region of the liquid crystal layer.

【0079】またコレステリック配向フィルム面内に垂
直となるように得られた積層体にHe−Neレーザー
(波長632.8nm)を入射したところ、0゜および
約±35゜の出射角にレーザー光が観察された。さらに
偏光特性を確認するために、通常の室内照明下に得られ
た積層体をおき、右円偏光板(右円偏光のみ透過)を介
して観察したところ、虹色の反射回折光が観察され、偏
光板なしで観察した場合の明るさとほぼ同じであった。
これに対し左円偏光板(左円偏光のみ透過)を介して観
察したところ、暗視野となり、虹色の反射回折光は観察
されなかった。
When a He-Ne laser (wavelength 632.8 nm) was incident on the laminate obtained so as to be perpendicular to the plane of the cholesteric alignment film, laser light was emitted at an emission angle of 0 ° and about ± 35 °. Was observed. In order to further confirm the polarization characteristics, the obtained laminate was placed under normal room illumination and observed through a right circularly polarizing plate (transmitting only right circularly polarized light). And the brightness when observed without a polarizing plate was almost the same.
On the other hand, observation through a left circularly polarizing plate (transmitting only left circularly polarized light) revealed a dark field, and no iridescent reflected and diffracted light was observed.

【0080】また室内照明下において得られた積層体を
目視観察したところ、金属光沢を帯びた色鮮やかな金色
の反射光を呈し、高級感のある質感を有しており、また
その反射光は、正反射角方向からの観察で非常に明るく
観察され、鏡面と同様の性質を有していた。
When the laminate obtained under indoor lighting was visually observed, the laminate showed bright gold-colored reflected light with a metallic luster, and had a high-quality texture. It was observed very bright when observed from the specular reflection angle direction, and had the same properties as a mirror surface.

【0081】これらのことより得られた積層体は、回折
光が右円偏光である鏡面性の偏光回折素子として機能す
ることが確認された。
It was confirmed that the laminate obtained from the above functions as a specular polarization diffraction element in which the diffracted light is right-handed circularly polarized light.

【0082】(実施例2)実施例1と同様にして拡散率
が約9%のコレステリック配向フィルムに回折パターン
を転写した。厚み25μmの表面にシリコーン系離型層
を有するポリエステルフィルム(PET;支持基板1)
フィルムと、コレステリック配向フィルム面を市販のア
クリル系光硬化型接着剤1で接着し、PPSフィルムの
み剥離し、コレステリック配向フィルム層/光硬化型接
着剤層1/PETフィルム(支持基板1)からなる積層
体を得た。
Example 2 In the same manner as in Example 1, a diffraction pattern was transferred to a cholesteric alignment film having a diffusion rate of about 9%. Polyester film having a 25 μm-thick silicone release layer on its surface (PET; support substrate 1)
The film and the cholesteric alignment film surface are bonded with a commercially available acrylic photocurable adhesive 1 and only the PPS film is peeled off, and is composed of a cholesteric alignment film layer / photocurable adhesive layer 1 / PET film (support substrate 1). A laminate was obtained.

【0083】次いで該積層体のコレステリック配向フィ
ルム面に市販のポリエステル系ホットメルト接着剤(接
着剤層2)を塗布し、100℃に加温されたラミネータ
ーにて、厚み80μmのUV吸収剤含有トリアセチルセ
ルロース(TAC)フィルム(富士写真フイルム社製U
VD80;支持基板2)と積層した。冷却後支持基板1
のPETフィルムを剥離除去し、本発明の偏光回折素子
を得た。得られた偏光回折素子は、回折パターンによる
虹色とコレステリック液晶に特有の選択反射とが明瞭に
認められた。
Next, a commercially available polyester-based hot melt adhesive (adhesive layer 2) was applied to the cholesteric alignment film surface of the laminate, and a 80 μm-thick UV absorber-containing triad was heated with a laminator heated to 100 ° C. Acetylcellulose (TAC) film (U, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.)
VD80: laminated with support substrate 2). Support substrate 1 after cooling
Was peeled off to obtain a polarization diffraction element of the present invention. In the obtained polarization diffraction element, rainbow colors due to the diffraction pattern and selective reflection peculiar to the cholesteric liquid crystal were clearly recognized.

【0084】(実施例3)実施例1と同様にして拡散率
が約9%のコレステリック配向フィルムに回折パターン
を転写した。厚み25μmの表面にシリコーン系離型層
を有するポリエステルフィルム(PET;支持基板1)
フィルムと、回折パターンが転写されたコレステリック
配向フィルム面をハードコート剤を添加した市販のアク
リル系光硬化型接着剤1で接着し、PPSフィルムのみ
剥離し、コレステリック配向フィルム層/光硬化型接着
剤層1/PETフィルム(支持基板1)からなる積層体
を得た。
Example 3 In the same manner as in Example 1, a diffraction pattern was transferred to a cholesteric alignment film having a diffusion rate of about 9%. Polyester film having a 25 μm-thick silicone release layer on its surface (PET; support substrate 1)
The film and the cholesteric alignment film surface on which the diffraction pattern has been transferred are bonded with a commercially available acrylic photocurable adhesive 1 to which a hard coat agent has been added, only the PPS film is peeled off, and the cholesteric alignment film layer / photocurable adhesive A laminate comprising layer 1 / PET film (support substrate 1) was obtained.

【0085】次いで該積層体のコレステリック配向フィ
ルム面に市販のポリエステル系ホットメルト接着剤(接
着剤層2)を塗布し、表面にアルミニウムを蒸着した厚
さ1mmのポリ塩化ビニルシートに接するようにしてホ
ットスタンプにより転写したところ、支持基板1たるP
ETフィルム面からきれいに剥離転写された。転写され
たポリ塩化ビニルシート上のコレステリック配向フィル
ム/ハードコート層(光硬化型接着剤層1)からなる偏
光回折素子には、反射光でも鮮やかな回折パターンによ
る虹色とコレステリック液晶に特有の選択反射とが明瞭
に認められた。
Next, a commercially available polyester-based hot melt adhesive (adhesive layer 2) was applied to the cholesteric oriented film surface of the laminate, and the laminate was in contact with a 1 mm thick polyvinyl chloride sheet on which aluminum was deposited. When transferred by a hot stamp, the support substrate 1 P
The transfer was clearly peeled off from the ET film surface. For the polarized light diffractive element consisting of the cholesteric alignment film / hard coat layer (photo-curable adhesive layer 1) on the transferred polyvinyl chloride sheet, the rainbow color and the cholesteric liquid crystal have a vivid diffraction pattern even with reflected light. Reflection was clearly recognized.

【0086】(実施例4)正の一軸ネマチック液晶性化
合物であるメチルヒドロキノン ビス(4−(6−アク
リロイロキシオヘキシルオキシ)安息香酸)エステルを
6.42g、4−シアノフェノール 4−(6−アクリ
ロイロキシオヘキシルオキシ)安息香酸エステルを0.
98g、市販のキラルドーパント液晶S−811(ロデ
ィック社製)2.60gを量り取り、蒸留精製したN−
メチル−2−ピロリドン90gに溶解した。該溶液にフ
ッ素系界面活性剤S−383(旭硝子社製)を0.5m
g、光反応開始剤イルガキュアー907(チバガイギー
社製) 0.3g、増感剤ジエチルチオキサントン0.
1gを添加し、表面をレーヨン布によりラビング処理し
たポリエチレンナフタレート(PEN)フィルム(三菱
ダイヤホイル社製)上にバーコーターを用いて塗布し
た。塗布後、該フィルムごと60℃に設定したクリーン
オーブンに投入し15分乾燥を行った後、さらに85℃
に設定したオーブン中で6分熱処理し、その温度から約
1℃/分で50℃まで冷却することにより液晶層のコレ
ステリック配向を完了させた。コレステリック液晶層の
膜厚を触針膜厚で測定したところ1.5μmであった。
次いでコレステリック液晶層をPENフィルム上に形成
した状態のまま50℃に設定したオーブンに投入し、酸
素濃度250ppm以下の窒素雰囲気下、オーブン設定
温度まで放冷した後、その温度にてUV照射を行った。
UV光源としては高圧水銀灯を使用し、照射強度は最大
120W/cm2、照射時間5秒間、積算照射量135
mJで照射した。照射後の液晶層はある程度硬化してお
り、硬化前に見られた流動性はなかったが、その表面硬
度は鉛筆硬度にして6Bよりも低く、正確な硬度は測る
ことができなかった。
(Example 4) 6.42 g of methylhydroquinone bis (4- (6-acryloyloxyoxyhexyloxy) benzoic acid) ester, which is a positive uniaxial nematic liquid crystal compound, and 4-cyanophenol 4- (6- (Acryloyloxyhexyloxy) benzoic acid ester to 0.
98 g, 2.60 g of a commercially available chiral dopant liquid crystal S-811 (manufactured by Roddick Co., Ltd.) were weighed and distilled and purified.
Dissolved in 90 g of methyl-2-pyrrolidone. To this solution was added 0.5 m of a fluorine surfactant S-383 (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.).
g, photoinitiator Irgacure 907 (manufactured by Ciba Geigy) 0.3 g, sensitizer diethylthioxanthone 0.1 g.
1 g was added, and the surface was applied using a bar coater on a polyethylene naphthalate (PEN) film (manufactured by Mitsubishi Diafoil Co., Ltd.) whose surface was rubbed with a rayon cloth. After coating, the film was put into a clean oven set at 60 ° C. and dried for 15 minutes.
Then, the liquid crystal layer was heat-treated in an oven set for 6 minutes, and cooled from that temperature to 50 ° C. at a rate of about 1 ° C./min to complete the cholesteric alignment of the liquid crystal layer. The thickness of the cholesteric liquid crystal layer measured by a stylus thickness was 1.5 μm.
Next, the cholesteric liquid crystal layer was put into an oven set at 50 ° C. while being formed on the PEN film, and allowed to cool to the oven set temperature under a nitrogen atmosphere having an oxygen concentration of 250 ppm or less, and then UV irradiation was performed at that temperature. Was.
A high-pressure mercury lamp is used as the UV light source, the irradiation intensity is 120 W / cm 2 at the maximum, the irradiation time is 5 seconds, and the integrated irradiation amount is 135.
Irradiation at mJ. The liquid crystal layer after irradiation was hardened to some extent and did not have the fluidity observed before hardening, but its surface hardness was lower than 6B in pencil hardness, and the exact hardness could not be measured.

【0087】PENフィルム上に形成したコレステリッ
ク液晶層を日本分光社製紫外可視近赤外分光光度計V−
570にて透過スペクトルを測定したところ、中心波長
が約580nm、選択反射波長帯域幅が約40nmの選
択反射を示すコレステリック配向が形成されていること
が確認された。また当該液晶層をミノルタ社製分光測色
計CM−3500dにて、正反射除去反射率(SCE)
と正反射込み反射率(SCI)を測定したところ、SC
E5%、SCI43%であり、拡散率は約12%であっ
た。オーブンから取り出したPENフィルム上のコレス
テリック液晶層をラビング方向が長手になるような10
cm×3cmの長方形に切り出し、また市販のエンボス
版フィルムJ52,989(エドモンド・サイエンティ
フィック・ジャパン社製)を、回折格子の格子方位が長
手になるような12cm×5cmの長方形に切り出し
た。次いで、切り出したPENフィルム上のコレステリ
ック液晶層の液晶層側とエンボス版フィルムの回折格子
面とが接するように重ね合わせて、一方の短辺をセロテ
ープで固定し、該短辺を先頭にして熱ラミネート装置D
X−350(東ラミ社製)に通した。熱ラミネートは、
ラミネートロールの温度が72℃で行い、サンプルの移
動速度は毎秒30mmであった。熱ラミネート後、コレ
ステリック液晶層とエンボス版フィルムは一体となって
密着し積層体を成していた。当該積層体を室温まで冷却
し、室温にてコレステリック液晶層側にエレクトロンビ
ーム(EB)照射を行った。EB照射は、アイエレクト
ロンビーム社製のEB照射装置を用い、室温下、酸素濃
度0.20%の雰囲気において、加速電圧30kVにて
照射を行った。EB照射後に、当該積層体からフィルム
長手方向に沿ってエンボス版フィルムを剥離除去した。
支持PENフィルム上に残されたEB照射後のコレステ
リック液晶層は硬化しており、その表面硬度は鉛筆硬度
にして2H程度であった。
The cholesteric liquid crystal layer formed on the PEN film was compared with an ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer V-manufactured by JASCO Corporation.
When the transmission spectrum was measured at 570, it was confirmed that a cholesteric orientation exhibiting selective reflection having a center wavelength of about 580 nm and a selective reflection wavelength bandwidth of about 40 nm was formed. The liquid crystal layer was subjected to specular colorimetry CM-3500d manufactured by Minolta Co. to remove specular reflection (SCE).
And the specular reflectance (SCI) were measured.
E5%, SCI 43%, and diffusivity was about 12%. Remove the cholesteric liquid crystal layer on the PEN film taken out of the oven so that the rubbing direction is long.
A cm × 3 cm rectangle was cut out, and a commercially available embossed film J52,989 (manufactured by Edmund Scientific Japan) was cut into a 12 cm × 5 cm rectangle in which the grating direction of the diffraction grating was long. Next, the cholesteric liquid crystal layer side of the cut PEN film is overlapped so that the liquid crystal layer side of the cholesteric liquid crystal layer and the diffraction grating surface of the embossed plate film are in contact with each other. Laminating device D
X-350 (manufactured by Toh Lami). Thermal lamination is
The temperature of the laminating roll was 72 ° C., and the moving speed of the sample was 30 mm / sec. After the heat lamination, the cholesteric liquid crystal layer and the embossed plate film integrally adhered to each other to form a laminate. The laminate was cooled to room temperature, and the cholesteric liquid crystal layer side was irradiated with an electron beam (EB) at room temperature. The EB irradiation was performed using an EB irradiator manufactured by Eye Electron Beam Co., Ltd. at room temperature and in an atmosphere with an oxygen concentration of 0.20% at an acceleration voltage of 30 kV. After the EB irradiation, the embossed plate film was peeled off from the laminate along the film longitudinal direction.
The cholesteric liquid crystal layer remaining on the supporting PEN film after EB irradiation was cured, and its surface hardness was about 2H in terms of pencil hardness.

【0088】厚み25μmの表面にシリコーン系離型層
を有するポリエステルフィルム(PET;支持基板1)
フィルムと、エンボス版フィルムを剥離除去したコレス
テリック配向フィルム面を市販のアクリル系光硬化型接
着剤1で接着し、PENフィルムのみ剥離し、コレステ
リック液晶層/光硬化型接着剤層1/PETフィルム
(支持基板1)からなる積層体を得た。
Polyester film having a 25 μm-thick silicone release layer on its surface (PET; support substrate 1)
The film and the cholesteric alignment film surface from which the embossed plate film was peeled off were adhered with a commercially available acrylic photocurable adhesive 1, only the PEN film was peeled off, and the cholesteric liquid crystal layer / photocurable adhesive layer 1 / PET film ( A laminate composed of the support substrate 1) was obtained.

【0089】次いで該積層体のコレステリック液晶層面
に市販のポリエステル系ホットメルト接着剤(接着剤層
2)を塗布し、100℃に加温されたラミネーターに
て、厚み80μmのUV吸収剤含有トリアセチルセルロ
ース(TAC)フィルム(富士写真フイルム社製UVD
80;支持基板2)と積層した。冷却後支持基板1のP
ETフィルムを剥離除去して積層体を得た。
Then, a commercially available polyester-based hot melt adhesive (adhesive layer 2) was applied to the cholesteric liquid crystal layer surface of the laminate, and a UV absorber-containing triacetyl having a thickness of 80 μm was applied by a laminator heated to 100 ° C. Cellulose (TAC) film (UVD manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.)
80; laminated with support substrate 2). After cooling, the P
The ET film was peeled off to obtain a laminate.

【0090】得られた積層体を目視観察したところ、色
鮮やかな金属光沢を帯びた金色の反射光を呈しており、
当該反射光は正反射角方向からの観察で非常に明るく観
察され、鏡面と同様の性質を有していた。また当該液晶
層は、コレステリック配向に起因する反射光とは別に、
フィルム長手方向を12時方位に見たときに3時、9時
の方位から斜めに見た場合に、回折格子に特徴的な虹色
の光が観察された。
When the obtained laminate was visually observed, it showed a golden reflected light with a colorful metallic luster.
The reflected light was observed very bright when viewed from the specular reflection angle direction, and had the same properties as the mirror surface. Also, the liquid crystal layer, apart from the reflected light caused by cholesteric alignment,
When the film was viewed obliquely from the 3 o'clock and 9 o'clock directions when the longitudinal direction of the film was viewed at the 12 o'clock direction, iridescent light characteristic of the diffraction grating was observed.

【0091】また得られた積層体のコレステリック液晶
層の配向状態を偏光顕微鏡観察および液晶層断面の透過
型電子顕微鏡観察をしたところ、コレステリック相にお
ける螺旋軸方位が膜厚方向に一様に平行ではなく、かつ
螺旋ピッチが膜厚方向に一様に等間隔ではないコレステ
リック配向が液晶層の表面領域に形成されていることが
確認された。また当該積層体に垂直にHe/Neレーザ
ーを入射したところ、0゜および約±9゜の出射角に0
次および±1次の回折光が観察された。次いで偏光特性
を確認するために、通常の室内照明下に得られた積層体
をおき、左円偏光板(左円偏光のみ透過)を介して観察
したところ、虹色の反射回折光とコレステリック液晶に
起因する鮮やかな金色の反射色が同時に観察され、偏光
板なしで観察した場合の明るさとほぼ同じであった。こ
れに対し右円偏光板(右円偏光のみ透過)を介して観察
したところ、暗視野となり、虹色の反射回折光もコレス
テリック液晶に起因する反射色も観察されなかった。
When the orientation state of the cholesteric liquid crystal layer of the obtained laminate was observed by a polarizing microscope and a transmission electron microscope of a cross section of the liquid crystal layer, it was found that the helical axis direction in the cholesteric phase was uniformly parallel to the film thickness direction. It was confirmed that a cholesteric alignment in which the helical pitch was not uniform and the helical pitch was not uniformly spaced in the film thickness direction was formed in the surface region of the liquid crystal layer. When a He / Ne laser was vertically incident on the laminate, 0 ° and about ± 9 ° emission angles
Second and ± 1st order diffracted lights were observed. Next, in order to confirm the polarization characteristics, the obtained laminate was placed under normal room illumination and observed through a left circularly polarizing plate (transmitting only left circularly polarized light). , A bright gold reflected color was observed at the same time, which was almost the same as the brightness when observed without a polarizing plate. In contrast, observation through a right circularly polarizing plate (transmitting only right circularly polarized light) showed a dark field, and neither rainbow-colored reflected diffracted light nor reflected color due to cholesteric liquid crystal was observed.

【0092】以上のことより得られた積層体は、回折光
が右円偏光である鏡面性の偏光回折素子として機能する
ことが確認された。
It was confirmed that the laminate obtained as described above functions as a specular polarization diffraction element in which the diffracted light is right circularly polarized light.

【0093】[0093]

【発明の効果】本発明では、複雑な工程や処理等を行う
ことなく、回折光が円偏光性を示すという特異な光学特
性を有する非鏡面性の偏光回折素子を製造することがで
きる。また鏡面性であることから金属光沢を帯びた色鮮
やかな呈色効果を発現することができ、意匠性に非常に
優れた偏光回折素子を得ることができる。さらに本発明
の製造方法によれば、回折能を示すコレステリック配向
フィルムの表面領域を視認側または視認側とは反対側に
適宜選択することができることから、その用途に要求さ
れる光学特性に応じた偏光回折素子を得ることができ
る。このようなことから、本発明の製造方法で得られる
偏光回折素子は、回折機能素子としてその応用範囲は極
めて広く、例えば液晶ディスプレー等の光学素子、光エ
レクトロニクス素子、装飾用材料、偽造防止用素子等の
光学部材として好適に用いることができる。
According to the present invention, it is possible to manufacture a non-specular polarization diffraction element having a unique optical property that diffracted light exhibits circular polarization without performing complicated steps and processing. In addition, since it is specular, a vivid coloration effect with a metallic luster can be exhibited, and a polarization diffraction element having extremely excellent design properties can be obtained. Further, according to the production method of the present invention, the surface area of the cholesteric alignment film exhibiting diffractive ability can be appropriately selected on the viewing side or on the side opposite to the viewing side, so that it can be selected according to the optical characteristics required for its use. A polarization diffraction element can be obtained. Therefore, the polarization diffraction element obtained by the manufacturing method of the present invention has a very wide range of application as a diffraction function element, for example, an optical element such as a liquid crystal display, an optoelectronic element, a decoration material, and a forgery prevention element. And the like can be suitably used as an optical member.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 配向支持基板上に正反射除去反射率
(SCE)と正反射込み反射率(SCI)の比((SC
E/SCI)×100)で定義される拡散率が15%未
満のコレステリック配向フィルムを形成する第1工程、
該コレステリック配向フィルム表面に回折素子基板の回
折パターンを転写する第2工程、回折パターンが転写さ
れたコレステリック配向フィルム面と支持基板1とを接
着剤層1を介して積層する第3工程、第1工程で用いた
配向支持基板をコレステリック配向フィルムから除去す
る第4工程、及び配向支持基板を除去したコレステリッ
ク配向フィルム面と支持基板2とを接着剤層2を介して
積層する第5工程、を含む偏光回折素子の製造方法。
1. The method according to claim 1, wherein a ratio of the regular reflection removal reflectance (SCE) to the regular reflection reflection ratio (SCI) ((SCC)
E / SCI) × 100) a first step of forming a cholesteric alignment film having a diffusivity of less than 15%,
A second step of transferring the diffraction pattern of the diffraction element substrate onto the cholesteric alignment film surface, a third step of laminating the cholesteric alignment film surface to which the diffraction pattern has been transferred and the support substrate 1 via the adhesive layer 1, a first step; A fourth step of removing the alignment support substrate used in the step from the cholesteric alignment film, and a fifth step of laminating the cholesteric alignment film surface from which the alignment support substrate has been removed and the support substrate 2 via the adhesive layer 2. A method for manufacturing a polarization diffraction element.
【請求項2】 配向支持基板を除去したコレステリッ
ク配向フィルム面と支持基板2とを接着剤層を介して積
層した後、コレステリック配向フィルムから第3工程で
用いた支持基板1を除去する第6工程を含む請求項1記
載の偏光回折素子の製造方法。
2. A sixth step of removing the support substrate 1 used in the third step from the cholesteric alignment film after laminating the cholesteric alignment film surface from which the alignment support substrate has been removed and the support substrate 2 via an adhesive layer. The method for producing a polarization diffraction element according to claim 1, comprising:
【請求項3】 支持基板1を剥離除去した後、当該基
板を剥離除去したコレステリック配向フィルム面に保護
層を形成する第7工程を含む請求項2記載の偏光回折素
子の製造方法。
3. The method for producing a polarization diffraction element according to claim 2, further comprising a seventh step of, after peeling and removing the supporting substrate 1, forming a protective layer on the cholesteric alignment film surface from which the substrate has been peeled and removed.
【請求項4】 保護層が、紫外線吸収性および/また
はハードコート性を有する請求項3記載の偏光回折素子
の製造方法。
4. The method according to claim 3, wherein the protective layer has an ultraviolet absorbing property and / or a hard coating property.
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