JP2000514319A

JP2000514319A - 身体構造を整形的に再造形するための装置

Info

Publication number: JP2000514319A
Application number: JP09539885A
Authority: JP
Inventors: スチュアートディーエドワーズ
Original assignee: ソムナスメディカルテクノロジーズインコーポレイテッド
Priority date: 1996-05-03
Filing date: 1996-08-16
Publication date: 2000-10-31
Also published as: WO1997041785A3; KR20000010722A; AU6954896A; WO1997041785A2; EP0914068A2; AU725853B2; CA2252820A1

Abstract

(57)【要約】舌内部の選択された部位の大きさを縮小させる装置は、ハンドピース、及び少なくとも一部がハンドピース内部に配置された電極を含んでいる。前記電極は、電極電磁エネルギー放出面を持ち、ハンドピースの内部から舌内部に前進可能である。電極前進部材は、前記電極に連結され、電極を舌内部の前進距離だけ前進させるよう形作られている。その前進距離は前記電極電磁エネルギー放出面が、電磁エネルギーを選択された組織部位へ送り、舌下神経を傷つけずに選択部位の大きさを縮小するに充分である。ケーブルが前記電極に連結されている。

Description

【発明の詳細な説明】身体構造を整形的に再造形するための装置発明の背景発明の属する技術的分野本発明は、人間の患者の上気道開存性を維持するための方法に関しており、厳密には電磁エネルギーを使用して、舌下神経を傷つける事無く、舌及び／或いは舌扁桃の選択された部位を縮小する方法に関する。関連技術の説明睡眠無呼吸症候群は日中の極度な傾眠、朝の腕痛、知的活動の低下、不整脈、睡眠中のいびきや悶えといった症状を伴う。これは患者の睡眠中に何度か無呼吸症状が起こることからくる。前記症候群は分類的に２つの型に分けられる。１つは、「中枢性睡眠無呼吸症候群」と称され、呼吸活動の反復的欠如がみられる。第２の型は「閉塞性睡眠無呼吸症候群」と呼ばれ、睡眠中に患者の上気道、或いは喉頭の頭部側にあり喉頭を含まない患者の呼吸管のその部分がつまることに起因して無呼吸が挿間的に反復することを特徴とする。これに対する処置には、様々な内科的処置、外科的処置、物理的処置がある。内科的処置としては、鎮静薬やアルコール等の中枢神経抑制薬を避けることに加え、プロトリプチリン、メドロキシプロゲステロン、アセタゾラミド、テオフィリン、ニコチン、及びその他の医薬品のような薬物投与がある。上記の内科的処置は役立つこともあるが、完全な効果をもたらすことはまれである。更に、投薬は悪性の副作用を起こす頻度も高い。外科的処置には、口蓋垂軟口蓋咽頭形成術、口蓋扁桃摘出術、重度の下顎後退位の矯正、及び気管切開がある。１つの処置としては、舌の基にアクセスするためにあごを移動させ前方に引っ張り出す。前記処置は効果的ではあっても、手術における患者側のリスクが高くなるので、このような処置は患者が受け入れないこともしばしばである。物理的方法には、減量、鼻咽腔気道、鼻ＣＰＡＰ、及び多様な舌保持機器を夜間利用することが含まれる。これらの方法は部分的には有効であるが、煩わしく不快であり、往々にして患者は長期間これらを継続使用することはない。減量は効果があるかもしれないが、患者たちが減量を達成することはまれである。睡眠無呼吸症候群の患者には横隔神経或いは横隔膜ペーシングが用いられている。横隔神経或いは横隔膜ペーシングには、電気的刺激を利用して、横隔神経により左右両側から通気を補助若しくは保持するように刺激されている患者の横隔膜を調節、制御することが含まれる。このペーシングについては、１９８７年１ −２月ＰＡＣＥ誌第１０巻第２部のＪ．ムギカ他による「横隔膜の直接刺激」、１９８５年オーバービュー誌２６３−２７９ページ「神経刺激」からのＪ．ムギカ他により著された「人間の患者についての横隔膜筋ペーシングシステムの予備テスト」、及び１９９３年６月のメディスン・アンド・バイオロジー誌のＩＥＥＥＥｎｇ、ノコモヴィッツにより著された「呼吸作用の電気による活性化」の論文に開示されている。しかしながら、この患者たちの多くはまた、ペーサーにより吸気力が増大すると閉塞性睡眠無呼吸症の程度が悪化している。横隔膜の活性化により誘発される通気はまた吸気の際に上気道を押しつぶし、患者の舌をのどの奥に引き込んで患者の息をつまらせることとなる。このような患者たちには、適切な処置として器官切開術が必要になる。トランスアメリカ協会人工内臓器１９８５年版からのＦ．カネコ他による「生理学上の喉頭ペースメーカー」に記載されているように、生理学上の喉頭ペースメーカーは肺からの排気量を感知し適当な神経を刺激して、呼吸困難に対処するため患者の声門を開く。この装置は睡眠時の無呼吸を治療するには有効でない。この装置は、肺の排気量に比例する信号を生成するが、これにより生成された信号は睡眠無呼吸症の治療のための表示器としては使うには遅すぎるえない。睡眠時無呼吸では開塞のために排気量が無しということも度々ある。閉塞性睡眠無呼吸症に有効な１つの方法は気道切開術である。しかしながら、この外科的処置は相当な病的状態をまねき、また美的感覚からしても多くの患者に受け入れられない。他の外科的処置には、できる限り舌を前方に引き出す方法や、舌及び上気道通路を閉じる他の構造部を外科的に切除する方法がある。これらの問題を解決するための方法及び装置が必要とされている。発明の概要従って、本発明の目的は、舌内部の選択された部位の大きさを縮小させるための装置を提供することである。本発明の別の目的は、電極と電極前進器を含んだ、舌内部の選択された部位の大きさを減らすための装置であり、電極前進部材が、電極棒の電磁エネルギー放出面が選択された組織部位へ電磁エネルギーを放出して、舌下神経を傷つけずに選択部位の大きさを縮小させることができるのに充分な距離だけ、電極を舌内部で前進させる、そのような装置を提供することである。さらに本発明の他の目的は、電極と電極前進器を含んだ、舌内部の選択された部位の大きさを減らすための装置であり、電極前進部材が、電極の電磁エネルギー放出面がその配置位置で十分な電磁エネルギーを放出し、舌下神経を傷つけずに選択部位の大きさを縮小させることができるように、電極をそのような舌内部の配置位置まで前進させる、そのような装置を提供することである。本発明のさらなる目的は、電極と、電極の電磁エネルギー放出面と、ハンドピースの外部から舌内部に伸びる電極前進長とを持つ舌内部の選択された部位の大きさを減らすための装置であり、その前進長が、電極棒の電磁エネルギー放出面を選択部位に位置づけ、電磁エネルギーを放出させて、舌下神経を傷つけずに選択組織部位の大きさを縮小させるのに十分であるような装置を提供することである。本発明のさらに別の目的は、舌下神経を傷つけずに選択部位の大きさを減じるための幾何学的形状を有する電極を含んだ、舌内部の選択された部位の大きさを縮小させるための装置を提供することである。本発明の前記目的及び他の目的は、舌内部の選択された部位の大きさを減らすための装置において達成される。前記装置は、ハンドピースと少なくとも一部がカテーテルの内部に置かれる電極を包含している。電極は、電極の電磁エネルギー放出面を持ち、ハンドピースの内部から舌内部へと前進可能である。電極前進部材は電極に連結され、電極を舌の内部で前進距離分だけ前進させるよう設計されている。前進距離は、電極の電磁エネルギー放出面が電磁エネルギーを放出して、舌下神経及び／或いは舌の表面を傷つけずに選択部位の大きさを縮小させることができるのに十分な距離である。ケーブルが電極に接続されている。別の実施例では、電極前進部材は少なくとも電極の１部を舌の内部の配置位置まで進めるように作られている。配置点において、電極の電磁エネルギー放出面は、舌下神経を傷つけずに選択部位の大きさを減じるために十分な電磁エネルギーを放出する。さらに別の実施例では、電極は、カテーテル外部から舌内部にいたる電極前進長を持つ。前進長は、電極の電磁エネルギー放出面を選択部位に位置させ、十分な電磁エネルギーを放出して、舌下神経を傷つけずに選択部位の大きさを縮小させるのに、十分な長さである。電極はＲＦ電極でＲＦエネルギー源に接続してあるのが望ましい。少なくとも部分的にはカテーテルの内部に置かれ、選択された舌表面を冷却するような形に作られている冷却機器が含まれていてもよい。流量制御機器を冷却機器に接続して、冷却機器を通る冷却液流量を制御することもできる。絶縁体が、少なくとも部分的に電極の外部周囲に置かれ、電極の電磁エネルギー放出面を輪郭づける。絶縁体の速位端、電極の速位端、カテーテルの外面を始めとする様々な位置に複数のセンサーを配置してもよい。ある実施例では、第１センサーを電極の遠位端に配し、第２センサーを絶縁体の遠位端に配している。フィードバック制御機器を、電極、センサー、及び電磁エネルギー源に接続することもできる。加えて、注入液源を電極に連結してもよい。図面の簡単な説明図１は、本発明の方法に使用される除去装置の断面図である。図２は、図１に示す除去装置のカテーテルとコネクターを示す断面図である。図３は、図１に示すコネクターの斜視図である。図４は、図１に示す除去装置に組み込まれた電極針の斜視図である。図５は、本発明の方法で使用される柔軟性のある電極針の斜視図である。図６は、図１に示す除去装置の除去区域の創造を示す。図７は、口を閉じた状態での舌の断面図である。図８は、口を開けた状態での舌の断面図である。図９は、舌の斜視図である。図１０は、舌背の斜視図である。図１１は、舌の断面図である。図１２は、舌下神経のある場所及び除去区域の創造を示す舌の断面図である。図１３は、複数の除去区域を示す舌の断面図である。図１４は、舌腹の斜視図である。図１５は、舌の断面図である。図１６は、フィードバック制御システムに使用されるアナログ増幅器、アナログマルチプレクサー、及びマイクロプロセッサを示すブロック線図である。図１７は、図１に示すカテーテルを流れる冷却液の流量を制御するために使用される、温度／インピーダンスフィードバックシステムのブロック線図である。図１８は、図１に示すカテーテルを流れる冷却液の流量を制御するために使用される、温度／インピーダンスフィードバックシステムのブロック線図である。図１９は、ＲＦ除去処置後の舌の縮みをパーセントで示す３次元グラフである。図２０は、ＲＦ除去処置を受けた牛の舌組織の２次元的縮みを示すグラフである。図２１は、ＲＦ除去処置による牛の舌の３次元的な縮みを示すグラフである。図２２は、ＲＦ除去処置後の舌の縮み幅をパーセントで示すグラフである。詳細説明舌、口蓋垂、軟口蓋、舌扁桃、及び／又はアデノイドの整形的な再造形及び縮小のための方法として、電磁エネルギー源と、電磁エネルギー源に接続された１つ又はそれ以上の電磁エネルギー放出電極とを含む除去装置を提供する。少なくとも１つの電極が舌内部に前進させられる。舌下神経を損傷させずに舌のある部分を縮小させるため、十分なエネルギーが電極から送られる。その後舌内部より電極を取り出す。気道障害の治療法は、舌下神経を傷つけずに舌を縮めることにより実現できる。電極は、舌先、舌腹、舌背、舌下などから、または舌の中心線に沿って、或いはある場合にはあご部を通して、舌に導入することができる。舌は、舌下神経の損傷無しに部分除去され（縮められ）、その結果舌は改造され整形されたことになる。このことは、電磁エネルギーを舌に放出している間に舌下神経を傷つけることのないように、電極を舌下神経から十分離して置くことにより実現できる。気道障害を処置するの別の治療法は、舌下神経を痛めずに舌扁桃を縮める方法である。以上の方法は睡眠時無呼吸の治療に利用される。図１及び図２には、舌、舌扁桃、口蓋、軟口蓋及び／或いはアデノイドを整形的に改造及び縮小するための除去装置１０が示されている。除去装置１０は、１つ又はそれ以上のエネルギー放出器すなわち電極１２が舌を通って舌内部に挿入されるように置かれる。除去装置１０は、視認できるか或いはできない非外傷性挿管を含み、酸素或いは麻酔剤の運搬に備え、血液や他の分泌液を吸引できるようになっていてもよい。除去装置１０は、ガスの通過が制限されているような体の種々異なる障害の治療に利用できると考えていただきたい。１つの実施例が、電極１２を使用する睡眠無呼吸症の治療であって、抵抗熱、ＲＦ、マイクロ波、超音波、液体サーマルジェット等を利用して、舌、舌扁桃及び／又はアデノイドの選択部位を除去（細胞壊死）させる。エネルギー源としてはＲＦ源が望ましい。この点に関して、除去装置１０は舌、扁桃腺、鼻介骨、軟口蓋組織、硬組織、粘膜組織を始めとし、しかし以上の組織だけに制限される事なく、目標量を除去するために利用できる。一実施例では、除去装置１０は、気道の断面面積を大きくするために、舌を縮めるのに利用される。除去される身体部分の感染を減らすために、消毒液注入部材が消毒液を口腔に注入する。舌を縮めるのに先立ち身体検査、光ファイバー咽頭検査、頭蓋計測法的分析、ポリグラフモニターを始めとする手術前審査が行われるかもしれない。身体検査は頭部と頚部を念入りに調べる。これには、中隔と鼻介骨の閉塞性変形、余分な長い軟口蓋或いは奇形性扁桃腺による口腔咽頭障害、及び舌の隆起台による下咽頭障害を識別するために、鼻腔の精密検査も含まれる。除去装置１０は、カテーテル１４と、オプションのハンドル１６と、カテーテル１４の長手方向面に沿って形成された各ポート１８から、或いは電極１２の遠位端から延びる１つ又はそれ以上の電極とを有する。カテーテル１４はハンドピースであってもよい。前進器２０が備えられていてもよい。前進器２０は、カテーテル１４の内部に置かれるガイドトラックあるいはチューブ２３を含むことができる。電極１２はガイドトラック２３内に配置され、ガイドトラック２３から舌の内部へと進められてもよい。除去すなわち縮小化装置１０は、カテーテル１４と、オプションのハンドル１６と、カテーテル１４の長手方向面に沿って形成された各ポート１８から、或いは除去源放出器１２の遠位端から延びる１つ又はそれ以上の除去源放出器１２とを有する。カテーテル１４はハンドピースであってもよい。前進器２０としても知られる除去源放出器前進装置２０が備えられていてもよい。除去源放出器前進装置２０は、カテーテル１４の内部に置かれるガイドトラックあるいはチューブ２３を含むことができる。除去源放出器１２はガイドトラック２３に配置され、ガイドトラック２３から舌の内部へと進められてもよい。ケーブルが除去源放出器１２に繋がれる。除去源放出器１２は少なくとも部分的にはカテーテル１４の内部に置かれてもよい。ある実施例では、除去源放出器１２は、カテーテル１４の外表面に形成されたポート１８を通って前進、後退する。除去源放出器前進後退装置２０は、カテーテル１４から身体組織の内部へと除去源放出器１２を前進させ、また身体組織から除去源放出器１２の抜き取りも行う。身体組織には幾つもの組織体があるがこれ以降、身体組織は舌を指すものとする。除去源放出器１２を舌の外表面に突きさし、舌の内部位に向ける。除去源放出器１２により十分な除去エネルギーが舌内部へと放出され、舌が十分に部分除去され小さくなる。除去源放出器１２は中空構造で、（ｉ）種々の化学物質を舌内部の選択された除去部位に（化学除去のために）送れるようになっており、（ｉｉ）生理塩水、化学療法剤等を始めとした、しかしそれだけに限定しない様々に異なる注入液と同様に、除去を実行するためのアルコール或いは他の液体若しくは半液体を送るという構造になっている。ＲＦと化学療法や化学薬晶と化学療法を含む様々な方式を組み合わせて所定の除去を実行することができるが、組み合わせる方式は上記のものに限定されるわけではない。除去源放出器１２の舌での移動距離には制限を設けてもよい。ＲＦ電極を使用した一実施例では、電極の外部周辺に絶縁体スリーブを配してこれを実行している。除去源放出器１２上に別の機器の構造体を配し、それらの前進を制限したり、或いは止め具などのような構造体をカテーテルに連結して除去源放出器１２の前進を制限したりすることもできる。適当な液体の一例は電解溶液である。熱エネルギーの放出のために組織と電極１２を直接接触させる代わりに、冷却された電解溶液を利用して熱エネルギーを組織に伝えることができる。電解溶液は３０℃から５５℃までの範囲に冷やしてもよい。カテーテル１４は、カテーテル組織インターフェース面２２と、冷却液注入導管２４と、カテーテル１４の内部に延びる冷却液排出導管２６とを含む。ポート１８がカテーテル１４の外表面に形成されているが、カテーテル組織インターフェース面２２上に形成されることが望ましい。ポート１８は、入出導管２４と２６を流れる冷却液から隔離されている。冷却液入出導管２４と２６は、カテーテル組織インターフェース表面２２の少なくとも１から２ｃｍ²の部位を冷却できる形状に作られている。カテーテル組織インターフェース表面２２の冷却される区域が、少なくとも除去の基層区域の断面直径に等しいと、より理想的である。ある実施例では、カテーテル組織インターフェース表面２２の冷却される部分が、少なくとも除去の基層区域の断面直径に等しい。別の実施例では、カテーテル組織インターフェース表面２２の冷却部は、展開される除去源放出器それぞれに関連した区域だけを冷却する。カテーテル組織インターフェース表面２２の冷却部のサイズは患者により各々異なる。電磁エネルギー放出後のはれを最小限に抑えることのできるサイズとする。はれの換算は、５０％以上、７５％以上、９０％以上とすることができる。冷却される量が充分だと、除去処理が行われた後ほどなくして患者は帰宅でき、且つ舌の上で息が詰まるというリスクを回避できる。比較的広範域を充分な度合いまで冷却することにより、舌の内部領域における除去量が増すことが分かっている。カテーテル組織インターフェース表面２２の冷却部を充分に広くすれば、アデノマス反応は最小限にくい止めることができる。ハンドル１６は絶縁材でできているのが望ましい。電極１２は、ステンレス鋼のような伝導材からできている。加えて、電極１２は、ニッケルチタンのような形状記憶金属製でもよく、商業的にはカリフォルニア州、メンロパークのライケムコーポレーション社から入手できる。一実施例では、所要のたわみをつけるために、電極１２の遠位端だけが形状記憶金属でできている。カテーテル１４を口腔に挿入する場合、患者に言語圧迫反応が現れるまで前進させることができる。カテーテル１４は、そこで患者の言語圧迫を防ぐために引き戻される。電極１２の遠位端は半曲形であってもよい。遠位端部は舌の外形に合うように成形しておいてももよい。ある実施例では、カテーテル１４はハンドピースである。この実施例では、別ハンドル１６は不要である。縮小装置１０は、舌の内部領域を治療するために使用される。カテーテル１４の遠位端は口腔内に位置することのできるサイズである。除去源放出器１２は、少なくとも部分的にはカテーテル１４内に配置されている。除去源放出器１２は、除去源放出面３０を含んでいる。除去源放出器２０は除去源放出器１２に連結されており、カテーテル１４が舌表面付近に配置されると、除去源放出器１２を、カテーテル１４から、これに限定されるわけではないがカテーテル１４の遠位端まで、舌内部へ前進させるために調整される。除去源放出器１２は、充分な長さのカテーテル１４から前進距離３３だけ進められ、舌下神経及び舌表面を傷つけずに、除去エネルギー及び／又は除去効果で舌の内部領域を治療する。カテーテル１４は、除去目標部位が定まると、舌表面に沿うように柔軟にすることもできる。銅のような柔らかい金属をさやに入れたり、焼き戻された金属／プラスチック素材を使用して、柔軟なカテーテル１４を形成することができる。カテーテル１４の全体若しくは一部が柔軟であるか、形状記憶金属製であってもよい。多くの事例に対応するためには、カテーテル１４の遠位端１４'が可撓性を有していることが求められる。これは、機械的に或いは記憶金属を利用することで達成できる。ステアリングワイヤ或いは他の機械構造体を、遠位端１４'の外部或いは内部何れかに付けることができる。一実施例では、ハンドル１６上にあるたわみノブを医者が操作して、ステアリングワイヤをピンと張る。この操作は遠位端１４'に伝わり遠位端１４'が引っ込むので、結果としてたわみを生じる。ステアリングワイヤの代わりに、ほかの機械的器具を利用することも可能であると考えていただきたい。難しいアクセスで組織部位にいたる場合も、たわみは必要であろう。フィードバック制御のもと、制御された舌の容積縮小が行われ、気道通路を効果的に開放する。キシロカインを始め、しかしそれに限定せず、種々の鎮痛薬が使用できる。デジタル超音波測定システムを用いることが可能である。超音波測定は生物学的な形状変化を定量化し、超音波送信と受信を行い、圧電変換器（クリスタル）を使用して、フライトデータの時間を提供する。消毒液注入部材２１もまた口腔に挿入できる。消毒液は、除去前、除去中、及び／又は除去後に注入できる。連続投与できる。口腔の消毒の度合いは、消毒する口腔の広さにより選択される。消毒の程度は様々である。消毒は、除去された身体構造体の感染を低減させるために行う。消毒液注入部材２１は、除去装置１０を口腔に挿入する前、後、若しくは最中に挿入できる。さらに、消毒液注入部材２１は、除去装置１０が口腔から取り出される時と同時にか、或いは別の時点で取り出すことができる。消毒液注入部材２１をカテーテル１４の内部或いは外部に配置して除去装置１０に含ませ、口腔全体あるいは選択部分に、消毒薬品源２３から消毒薬剤を挿入するよう配置されたルーメンを有する挿入器とすることもできる。消毒注入部材２１は、口腔全体あるいは一部のみの消毒を実行するために、口腔内を移動できるようにすることもできる。本開示の目的に関連して、口腔とは、部分除去された舌や軟組織構造体等に感染細菌が侵入するかもしれない身体内部環境であるといえる。消毒液注入部材２１は、カテーテル１４の中或いは外部にスライド可能に配置してもよい。代替的には、消毒液注入部材２１は、ＵＶ源２５を始めとしたしかしそれに限定しない光エネルギー源に連結された光ファイバーであってもよい。光ファイバーも口腔にスライドさせて入れることができる。光ファイバーは、口腔全体あるいは一部のみの選択的消毒を実行できる作りになっており、この目的を達成するために種々異なる遠位端を有することができる。適当な感染防止薬品には、ペリデックス、基礎含有水中に０．１２％のクロルヘキシジングルシネート(１、１'−へキサエチレンビス[５−(ｐ−クロロフェニール)バイガナイド}ジ−Ｄ−グルコネートを含有する口すすぎ薬、１１．６％のアルコール、グリセリン、ＰＥＧ４０ソルビタンアリソテレート、香料、ドシアムサッカリン、ＦＥ＆Ｃ青色１号、等が含まれるがしかしそれに限定されない。他の電磁波長や様々な化学化合物等、種々異なる消毒が採用可能であると理解されたい。電極１２は、少なくとも部分的にはカテーテル１４内部に配置される。各電極１２は、カテーテル１４の外表面に形成されたポート１８を通り、前進後退をする。前進後退機器は、電極１２を、カテーテル１４から身体構造体内部へ前進させ、そしてカテーテル１４へと引き戻す。電極１２は、舌の外面を突き抜け舌の内部領域へと向けられる。充分な電磁エネルギーが電極１２により舌の内部へと放出され、舌内部が充分に除去され縮まる。電極１２は、限定されはしないが塩水を始めとする注入液を収容するために中空である。電極１２は、舌内部へと前進できる距離が制限されていてもよい。これは、絶縁スリーブ、電極１２の前進を制限する電極１２上に配置された構造体、或いは止め具等のような電極１２の前進を制限するカテーテルに連結された構造体を利用して実行する。消毒液は、除去前、除去中、及び／又は除去後に注入できる。連続投与もできる。口腔の消毒の度合いは、消毒する口腔の広さにより選択される。消毒の程度は様々である。消毒は、除去された身体構造体の感染を低減させるために行う。電極１２の電磁エネルギー放出面３０のような除去源放出面は、調整可能な或いは不可能な絶縁スリーブ３２(図３、図４、図５参照)を包含することにより調整できる。絶縁スリーブ３２は、電磁エネルギー放出面３０の長さを伸ばしたり短くしたりするために、電極１２の外面に沿って前進後退を行う。絶縁スリーブ３２は、限定はしないが、ナイロン、ポリイミド、他の熱可塑性樹脂などを始めとした様々な素材から作られる。電磁エネルギー放出面３０の大きさは、限定はしないが、多重化や独立作動などが可能になる、複数の電極棒を持つ区分化された電極棒を創ることを始めとして、他の方式によっていろいろに異なる。図４に限定して参照すると、除去源放出器１２はカテーテル１４の外表面から伸び、舌の内部へと向けられる前進長３３を有している。前進長３３は、除去源放出面３０を舌の内部の選択された組織に配置するのに充分な長さである。除去源放出面３０は、除去効果が選択された組織部位へと伝わり、舌下神経を傷つけずに選択された組織部位に所定レベルの除去を施すせるだけの長さがある。除去源放出面３０が除去源放出器１２の遠位端にあるとは限らない。絶縁体３２も除去源放出器１２の遠位端に配置することができる。この実施例では、除去源放出面３０は、除去源放出器１２の遠位端にまで延びていない。しかしながら、除去源放出面３０は依然充分な除去効果を伝え、舌下神経及び／又は舌表面を傷つけずに、舌内部の選択された組織部位に所定レベルの細胞壊死を生じさせる。付け加えると、除去源放出器１２は、片側のみ或いは片側の一部のみが絶縁されてもよい。こうしても、除去源放出器１２を、舌下神経付近も含め舌の中を通して配置することができる。除去源放出器１２を舌下神経付近に置く場合は、除去源放出器１２は絶縁を施される。ある実施例では、前進長３３は１．２から１．５ｃｍで、除去源放出面３０の長さは５から１０ｍｍであるが、８ｍｍがより理想的である。別の実施例では、前進長３３は、舌表面のどこかを、特に舌背を通過して挿入する場合は、舌下神経に到達するほどの長さではない。前進器２０は、各除去源放出器１２の少なくとも一部を、舌内部の定位置まで前進させるように形作られている。前進器２０は、各除去源放出器１２を後退させるようにも作られている。定位置で、除去源放出面は充分な除去エネルギー及び／又は除去効果を放出し、舌下神経及び／又は舌表面を傷つけずに、選択された部位の大きさを縮小する。ある実施例では、ガイドトラック２３を有する或いはガイドトラック２３無しの除去源放出器前進後退装置２０が、除去源放出器１２の搬送を、カテーテル１４から舌内部へと、カテーテル１４の長手方向軸に対して６０から９０度の角度で、理想的には約７０度で方向決めする。ある実施例では、除去源放出器１２は、曲形に限定しないが、１つ又はそれ以上の絶縁面を有するか、片側、近位端、遠位端等部分的に絶縁された、曲形を含む幾何学形であって、舌下神経を傷つけずに選択された組織部位の大きさを縮小できるような形に作られている。ある実施例では、除去源放出器１２は、舌表面のどこでも通過して挿入され、舌下神経付近に配置される可能性のある除去源放出器１２の部分に絶縁体３２が設けられるような形に作られている。すでに承知の通り、絶縁体３２は除去源放出器１２のいろいろな部位に配置することができる。ハンドル１６は後退前進器２０に連結されたコネクター３４を含む。コネクター３４は電極１２を電源、フィードバック制御、温度及び／又は画像作成システムにつなぐ。ＲＦ／温度制御ブロック３６を含むことができる。ある実施例では、医師が、後退前進器２０をコネクター３４の遠位端に向かう方向に移動させる。電極１２にはバネ負荷を掛けることもできる。後退前進器２０が戻るとき、バネが選択された電極１２をカテーテル１４から前進させる。１つ又はそれ以上のケーブル３８が、電極１２を電磁エネルギー源４０に接続する。本発明では、電磁エネルギーを身体組織の内部へ送るために、ＲＦ、マイクロ波、超音波、コヒーラント光、及び熱伝導を始めとした種々のエネルギー源４０が利用可能であるが、上記エネルギー源に限定されるものではない。エネルギー源４０にはＲＦジェネレーターが望ましい。ＲＦエネルギー源が使用される場合医師は、ＲＦエネルギー源４０に接続されたフットスイッチ（図示せず）でＲＦエネルギー源を稼働させることができる。１つ又はそれ以上のセンサー４２が、電極１２と絶縁スリーブ３２の内部或いは外部に置かれるか、或いは独立して身体組織内部に挿入される。センサー４２は、(ｉ)除去範囲、(ｉｉ)除去量、(ｉｉｉ)更に除去が必要かどうか、(ｉｖ)除去される形の境界線若しくは周縁を決定するために、組織部位の正確な温度測定を行う。さらに、センサー４２は、目標部位でない組織が損傷を受けたり除去されるのを防ぐ。センサー４２は、サーミスター、熱伝対、抵抗線等従来型のものであるが、これに限定されない。適当なセンサー４２としては、銅コンスタンタン付きＴ型熱伝対、Ｊ型、Ｅ型、Ｋ型、光ファイバー、抵抗線、熱伝対ＩＲ検知器等がある。センサー４２は温度センサーである必要はないと考えられるべきである。センサー４２は、除去をモニターするために、温度及び／又はインピーダンスを測定する。このことにより、目標とされる除去範囲の周辺組織への損傷が低減される。身体構組織内部の様々な地点で温度をモニターすると、除去の周縁部が確定でき、除去が終了したことも確定できる。センサー４２が、除去温度が所定温度を越えていると判断した場合はいつでも、適切なフィードバック信号をエネルギー源４０が受信して、送り込むエネルギー量を調節する。除去或いは縮小装置１０には、これに限らないが、視認鏡、拡大アイピース、光ファイバー、ビデオ画像等の、視覚化機能を含めることができる。付け加えると、電極１２の位置を決め、そして／又は除去量を定めたりするために、超音波画像が利用できる。１つ又はそれ以上の超音波変換器４４を、電極１２とカテーテル１４の中或いは上、若しくは別の機器上に置くこともできる。選択された組織部位の内部或いは外部で画像探針を用いてもよい。適当な画像探針は、ヒューレットパッカード社製の型番２１３６２で、同社が販売している。各超音波変換器４４は、超音波源（図示せず）に接続されている。さて図６は、カテーテル１４が口腔に挿入されている状態を示しており、ＲＦ電極１２が舌内部へと前進して異なる除去区域４６を作り出している。ＲＦを利用する場合、除去装置１０は、二極モード若しくは単極モードのいずれでも作動させることができる。図６では、電極１２は二極モードで作動しており、舌下神経に作用せずに舌を縮小させるために充分な除去区域４６を作り出し、より広い気道通路を作っている。この縮小により、舌の背は気道から遠い前方方向に移動する。その結果、気道の断面直径が大きくなる。ＲＦを利用して、除去装置１０は単極モードでも作動できる。あごの下のような都合の良い場所にグランドパッドを置くこともできる。単体の電極１２が舌内に配置され第１除去区域４６を作る。そこで、電極１２は舌の内部より引き戻され、カテーテル１４が動かされ、次に電極１２がカテーテル１４から舌内部の別な部分へと進められる。第２除去区域４６が作り出される。この手順は、舌の内部に異なる除去領域を形成するために何回でも行うことができる。２個以上の電極１２を舌に挿入し、二極モードで操作することもできる。複数電極１２はそこで舌の内部に何度も再配置され、複数の連続或いは非連続の除去区域４６を形成する。図７から図１５に、舌及び他の構造体の様々な解剖学的図解を示す。種々の解剖学的構造体には、次のようなもの、すなわち、オトガイ舌筋、若しくは舌本体４８、オトガイ舌骨筋５０、顎舌骨筋５２、舌骨５４、舌尖５６、舌腹面５８、舌背６０、舌の下背６２、喉頭蓋谷６４、舌小胞６６、口蓋垂６８、アデノイド７０、舌縁７２、有廓乳頭７４、口蓋扁桃７６、咽頭７８、冗長咽頭組織８０、盲孔８２、舌下神経８４、舌の舌繋帯８６、等がある。舌背６０は、舌体２／３と下背６２に区別される。図解は、有廓乳頭７４と盲孔８２により表されている。下背６２は、有廓乳頭７４の下と喉頭蓋谷６４の上の舌表面である。喉頭蓋谷６４は舌表面の一番深い部分で、咽頭蓋に隣接している。舌小胞６６は舌扁桃を含んでいる。カテーテル１４は、鼻或いは口腔を通して挿入できる。電極１２は、舌背表面６０、舌の下背表面６２、下面５８、先端５６、オトガイ舌骨筋５０を通して舌内部へと挿入できる。付け加えると、電極１２は舌小胞６６の内部へ、或いはアデノイド部７０へと挿入できる。一旦電極１２が位置決めされると、各電極１２に対して所定の電磁エネルギー放出面３０が整えられるように、絶縁スリーブ３２が調整される。除去区域４６は、舌下神経８４を損傷する事なく作り出される。これにより、空気の通り道はより広くなり、睡眠無呼吸症が治療できる。すべての例において、除去区域４６の生成と同様、電極１２の配置も、舌下神経８４が除去されたり傷ついたりしないようになっている。飲み込みや話す機能は阻害されない。ある実施例では、ＲＦ電極１２は舌背１１表面に配置される。第１電極棒が、有廓乳頭から０．５ｃｍの位置に置かれる。他の電極は１．６ｃｍの間隔をあけて、舌の中心軸から１ｃｍ離して置かれる。ある実施例では、４６５ＭＨｚのＲＦを用いている。電極１２の遠位端は約１００℃である。絶縁スリーブ３２の遠位端温度は約６０℃である。別の実施例では、絶縁スリーブ３２の遠位端温度は４３℃以上である。ＲＦエネルギーは、低周波数ＲＦの短い持続時間のパルスとして用いることができる。所要の除去部位に対し精密に目標を絞ることが可能となる。１つあるいはそれ以上の電極１２を使用して、３次元容積除去を行うことができる。除去部分の形状は、直線、多面体、再判定形、対称形、非対称形を含む、しかしこれに限定されない様々な幾何学形が可能である。図１６及び図１７に移ると、オープン又はクローズドループフィードバックシステムがセンサー４２をエネルギー源４０に連結している。組織或いは電極１２の温度がモニターされ、エネルギー源４０の出力パワーが適宜調節される。加えて、口腔の消毒レベルもモニターできる。医師は、希望すれば、オープン又はクローズドループシステムを覆すことができる。マイクロプロセッサをオープン又はクローズドループシステムに組み込んでおいて、パワーの調整はもとよりパワーのオンオフ切替を行うことができる。クローズドループシステムは、温度を監視し、ＲＦパワーを調節し、結果をみて、結果を再フィードバックし、パワーを調整するコントローラーとして機能させるためマイクロプロセッサ８８を使用する。センサー４２とフィードバック制御システムを利用すると、ＲＦ電極１２付近の組織は、障害を受ける事無く決められた時間の間所要温度に保たれる。各ＲＦ電極棒１２は、各ＲＦ電極１２のためのインピーダンス出力を生成する供給源に接続されている。出力は、ＲＦ電極１２において決められたエネルギーを決められた時間の間保持する。ＲＦ電極使用時、ＲＦ電極棒１２を通して放出される電流は電流センサー９０で測定する。電圧は電圧センサー９２で測定する。それから、インピーダンスとパワーがパワー・アンド・インピーダンス計算器９４により計算される。この値はユーザーインターフェース・アンド・ディスプレイ９６に表示される。パワーとインピーダンスの値を表す信号はコントローラー９８が受信する。コントローラー９８は、実測値と要求値の差に比例する制御信号を生成する。パワー回路１００は制御信号を使用して、各ＲＦ電極棒１２において所要パワーの放出が維持されるように、パワー出力を適量に調整する。同様の方法で、センサー４２で検知された温度により、選択されたパワーを維持するためのフィードバックが行われる。実際の温度が温度測定器１０２で測定され、その温度はユーザーインターフェース・アンド・ディスプレイ９６に表示される。コントローラー９８は、実測温度と要求温度の差に比例する制御信号を生成する。パワー回路１００は制御信号を使用して、各センサー位置で要求される温度が保たれるように、パワー出力を適量に調整する。電流、電圧、温度を測定するために、多くのセンサー４２にマルチプレクサーを備えておき、エネルギーを、単極型若しくは二極型でＲＦ電極１２まで送るようにすることもできる。コントローラー９８は、デジタル、又はアナログコントローラー、或いはソフトウエア付きコンピュータでよい。コントローラー９８がコンピュータである場合は、システムバスを介して連結されるＣＰＵを備えておくことができる。このシステムは、よく知られたものとしては、キーボード、ディスクドライブ若しくは他の、非揮発性記憶システム、ディスプレイ、及び他の周辺機器を含んだものでもよい。バスにはプログラムメモリーとデータメモリーが接続されている。ユーザーインターフェース・アンド・ディスプレイ９６は、オペレーターコントロール及びディスプレイを包含している。コントローラー９８は、超音波、ＣＴスキャナー、Ｘ線、ＭＲＩ、乳房造影法的Ｘ線等を含む、しかしそれらだけに限らない画像化システムに接続することができる。さらに、直接的な視覚化と触知できる画像化が使用可能である。コントローラー９８は電流センサー９０及び電圧センサー９２を使用して、ＲＦ電極棒１２における選択されたパワーレベルを維持する。送られるＲＦエネルギーの量はパワー量を制御する。送られるパワーのプロファイルをコントローラー９８に組み込んで、送られるべき所定量のエネルギーをプロファイルすることもできる。コントローラー９８は、センサー９０及び９２に類する他のセンサーを利用して、他の除去源放出器１２が除去エネルギー及び／又は除去作用液の量を制御できるようにすることができる。回路、ソフトウエア、及びコントローラー９８へのフィードバックは、プロセス制御を行い、電圧あるいは電流の変化とは無関係に選択されたパワーの維持を行い、（ｉ）選択パワー、（ｉｉ）デューティーサイクル（オンオフ及びワット量）、（ｉｉｉ）二極及び単極エネルギー放出、（ｉｖ）流量及び圧力を含む注入液放出、を変更するために使用される。これらのプロセス変数は、電圧或いは電流の変化とは無関係に、センサー４２でモニターされる温度に基づき、所要量のパワー放出を維持しつつ、制御され変えられる。電流センサー９０と電圧センサー９２は、アナログ増幅器１０４の入力に接続されている。アナログ増幅器１０４は、センサー４２に利用するに際しては従来の積分増幅器回路でよい。アナログ増幅器１０４の出力は、アナログマルチプレクサー１０６により、Ａ／Ｄコンバーター１０８へ直列で接続される。アナログ増幅器１０４の出力は、各検知温度を表す電圧である。デジタル増幅器出力電圧は、Ａ／Ｄコンバーター１０８により、マイクロプロセッサ８８へ供給される。マイクロプロセッサ８８は６８ＨＣＩＩ型でもよく、これはモトローラ社から入手できる。しかしながら、インピーダンスと温度計算のためには、適当であるなら、どのようなマイクロプロセッサ、または一般用途向けのデジタル或いはアナログコンピュータでも使用可能であると理解されるべきだ。マイクロプロセッサ８８は、インピーダンスと温度のデジタル表示を順番に受信して格納する。マイクロプロセッサ８８が受信する各デジタル値は、別々のインピーダンスと温度に対応している。パワー及びインピーダンスの計算値が、ユーザーインターフェース・アンド・ディスプレイ９６に表示される。パワー若しくはインピーダンスの数字表示に代わるもの或いはそれに付け加えるものとして、パワー及びインピーダンスの計算値を、マイクロプロセッサ８８を用いて、パワー及びインピーダンス限界値と比較することもできる。値がパワー及びインピーダンスの設定値を越えると、ユーザーインターフェース・アンド・ディスプレイ９６に警告が発せられ、更に、ＲＦエネルギーを減少させたり、変化させたり、或いは止めたりもできる。マイクロプロセッサ８８の制御信号は、エネルギー源４０により供給されるパワーレべルを変更することができる。図１８は、カテーテル１４を通る冷却液の流量を制御するために使用できる、温度／インピーダンスフィードバックシステムのブロック線図を示す。電磁エネルギーは、エネルギー源４４により電極１２へ運ばれ、組織に作用する。モニター１１０が、組織に放出されたエネルギーに基づき組織のインピーダンスを確認し、インピーダンスの測定値を設定値と比較する。インピーダンスの測定値が設定値を越える場合は、使用禁止信号１１２がエネルギー源４０に送信され、エネルギーをそれ以上電極棒１２に送るのを止める。測定されたインピーダンスが許容範囲内にある場合、エネルギーは引き続き組織へと送りこまれる。エネルギーが組織へと送られている間、センサー４２は組織及び／又は電極１２の温度を測定する。コンパレーター１１４が、測定温度を表す信号を受信して、その値を所要温度を表す前以て設定された信号と比較する。コンパレーター１１４は信号をフローレギュレーター１１６に送り、組織温度が高すぎる場合は冷却液流量を上げる必要を示し、温度が所定温度を越えていなければその流量を維持する。例１除去装置１０を使用して、牛の舌の２次元的収縮を判定した。ＲＦ容積縮小が単一の電極針で実行された。４個の小型超音波クリスタルを、四角形を形成するように配置した。比較基準時と１５ワットでの容積縮小後の測定が行われ、最初１３％の容積縮小であったが、４時間１５ワット行ったら更に４％容積が縮小した。合計１７％の容積縮小が実現できた。例２除去装置１０を使用して、牛の舌の３次元的な収縮を判定した。ＲＦ容積縮小が、立方体を形成する８個の小型超音波クリスタル付きの、単一の電極針で実行された。１６ワットで行うと、最初１７％の舌容積の縮小が見られたが、２５ワットで行ったところ、最初２５％の容積縮小だったが、数時間後には更に４％縮小し、合計で２９％の容積縮小が実現できた。例３３次元的に２０ワットを掛けた最初の段階で、豚の生体内で３５％の容積縮小を達成した。図１９では、除去量の大きさを多次元デジタルソノマイクロメトリーで測定している。Ｚ方向の平均縮小幅は２０％で、容積の縮みは２６％であった。針を用いた生体内ＲＦ除去(２０ワットで除去)によって起こる舌組織の３次元的縮みを、図１９に表わす。除去前の比較基準量を、除去後の量と比較している。図２０は、電極針を用いた生体内ＲＦ除去によって起こる、牛の舌組織の２次元的縮みを示す。除去前と後の結果を示している。図２１は、除去後対比較基準で１７％の組織収縮量という結果が出た、１６ワットでの除去を表すグラフである。２５ワットでの除去では、除去後の収縮量は２５％という結果になった。除去直後に対し除去後長時間(４時間)経過後では、さらに４％の区域収縮が得られた。図２２は、ＲＦ除去後の量変化をパーセントで表す。１６ワットは１６ワットで２０分の除去、２５ワットは２５ワットで２０分の除去、２５ワット（４時間）は除去後長時間経過(２５ワットの除去後４時間)を表す。本発明の好適実施例についてのこれまでの記述は、図解と説明を目的としている。余すところ無く述べたり、また本発明を開示される形そのままに制限しようと意図するものではない。実施に際し多くの修正や変更がなされることは、当従業者には自明のことである。本発明の範囲は、以下の請求項目及びそれらと同等のものにより限定されるものである。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＺ，ＵＧ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＥ，ＨＵ，ＩＬ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ

Claims

【特許請求の範囲】１．ハンドピースと、少なくとも一部がハンドピース内部に配置された電極であって、電極電磁エネルギー放出面を持ち、ハンドピースの内部から舌内部に前進可能である、そのような電極と、前記電極に連結され、電極を舌内部へ前進距離だけ前進させるよう作られた電極前進部材であって、その前進距離は前記電極電磁エネルギー放出面が、電磁エネルギーを選択された組織部位へ送り、舌下神経を傷つけずに選択部位の大きさを縮小するに充分である、そのような電極前進部材と、前記電極に連結されたケーブルとから成ることを特徴とする舌内部の選択された部位の大きさを縮小する装置。２．前記電極がＲＦ電極であることを特徴とする、上記請求項１に記載の装置。３．前記ＲＦ電棒に接続されたＲＦエネルギー源を更に含んでいることを特徴とする、上記請求項２に記載の装置。４．少なくとも一部がハンドピース内部に置かれ、舌表面を冷やすように形作られた冷却器を更に含んでいることを特徴とする、上記請求項１に記載の装置。５．前記冷却器に連結され、冷却器を通る冷却液流量を制御するよう形作られた流量制御器を更に含んでいることを特徴とする、上記請求項４に記載の装置。６．少なくとも一部が前記電極棒の外部周辺に配置される絶縁体を、更に含んでいることを特徴とする、上記請求項１に記載の装置。７．前記絶縁体の遠位端に配置されるセンサーを、更に含んでいることを特徴とする、上記請求項６に記載の装置。８．前記電極の遠位端に配置されるセンサーを、更に含んでいることを特徴とする、上記請求項１に記載の装置。９．前記ハンドピースの外部に配置されるセンサーを、更に含んでいることを特徴とする、上記請求項１に記載の装置。１０．前記電極の遠位端に配置される第１センサーと、絶縁体の遠位端に配置される第２センサーを更に含んでおり、前記絶縁体は少なくとも一部が前記電極の外部周辺に配置されていることを特徴とする、上記請求項１に記載の装置。１１．前記電極、センサー、及びＲＦエネルギー源に連結されたフィードバック制御手段を更に含んでいることを特徴とする、上記請求項１に記載の装置。１２．前記電極に連結された注入液源を更に含んでいることを特徴とする、上記請求項１に記載の装置。１３．ハンドピースと、少なくとも一部がハンドピース内部に配置された電極であって、電極電磁エネルギー放出面を持ち、ハンドピースの内部から舌内部に前進可能である、そのような電極と、前記電極に連結され舌内部の配置位置まで電極の少なくとも一部を前進させるよう形作られた電極前進後退部材であって、前記配置位置で前記電極電磁エネルギー放出面が、舌下神経を傷つけずに選択部位の大きさを縮小するに充分な電磁エネルギーを放出する、そのような電極前進後退部材と、前記電極に連結されたケーブルとから成ることを特徴とする、舌内部の選択された部位の大きさを縮小する装置。１４．前記電極前進後退部材が、ハンドピースの内部の少なくとも一部に前記電極を収納するように形作られ、且つハンドピースから舌内部まで前記電極の前進方向を導くよう設計されたガイドチャンネルを更に含むことを特徴とする、上記請求項１３に記載の装置。１５．前記電極がＲＦ電極であることを特徴とする、上記請求項１３に記載の装置。１６．前記ＲＦ電極に連結されたＲＦエネルギー源を更に含んでいることを特徴とする、上記請求項１４に記載の装置。１７．少なくとも一部がハンドピース内部に配置され、舌表面を冷やすように形作られた冷却器を更に含んでいることを特徴とする、上記請求項１３に記載の装置。１８．前記冷却器に連結され、冷却器を通る冷却液流量を制御するよう形作られた流量制御器を更に含んでいることを特徴とする、上記請求項１７に記載の装置。１９．少なくとも一部が前記電極の外部周辺に配置される絶縁体を更に含んでいることを特徴とする、上記請求項１３に記載の装置。２０．前記絶縁体の遠位端に配置されるセンサーを更に含んでいることを特徴とする、上記請求項１９に記載の装置。２１．前記電極の遠位端に配置されるセンサーを更に含んでいることを特徴とする、上記請求項１３に記載の装置。２２．前記ハンドピースの外部に配置されるセンサーを更に含んでいることを特徴とする、上記請求項１３に記載の装置。２３．前記電極の遠位端に配置される第１センサーと、絶縁体の遠位端に置かれる第２センサーを更に含んでおり、前記絶縁体は少なくとも一部が前記電極の外部周辺に配置されていることを特徴とする、上記請求項１３に記載の装置。２４．前記電極、センサー、及びＲＦエネルギー源に連結されたフィードバック制御手段を更に含んでいることを特徴とする、上記請求項１３に記載の装置。２５．前記電極に連結された注入液源を更に含んでいることを特徴とする、上記請求項１３に記載の装置。２６．ハンドピースと、少なくとも一部がハンドピース内部に配置された電極であって、電極電磁エネルギー放出面と、ハンドピースの外部から舌内部まで伸びる電極前進長を有し、その前進長は前記電極電磁エネルギー放出面を選択された部位に配置し、舌下神経を傷つけずに選択部位の大きさを縮小させるに充分な電磁エネルギー送るのに充分である、そのような電極と、前記電極に連結され電極の少なくとも一部を前進後退させるよう形作られた電極前進後退部材と、前記電極に連結されたケーブルとから成ることを特徴とする、舌内部の選択された部位の大きさを縮小する装置。２７．前記電極がＲＦ電極であることを特徴とする、上記請求項２６に記載の装置。２８．前記ＲＦ電極に接続されたＲＦエネルギー源を更に含んでいることを特徴とする、上記請求項２７に記載の装置。２９．少なくとも一部がハンドピース内部に配置され、舌表面を冷やすように形作られた冷却器を更に含んでいることを特徴とする、上記請求項２６に記載の装置。３０．前記冷却器に連結され、冷却器を通る冷却液流量を制御するよう形作られた流量制御器を更に含んでいることを特徴とする、上記請求項２９に記載の装置。３１．少なくとも一部が前記電極の外部周辺に配置される絶縁体を更に含んでいることを特徴とする、上記請求項２６に記載の装置。３２．前記絶縁体の遠位端に配置されるセンサーを更に含んでいることを特徴とする、上記請求項３１に記載の装置。３３．前記電極の遠位端に配置されるセンサーを更に含んでいることを特徴とする、上記請求項２６に記載の装置。３４．ハンドピースの外部に配置されるセンサーを更に含んでいることを特徴とする、上記請求項２６に記載の装置。３５．前記電極棒の遠位端に配置される第１センサーと、絶縁体の遠位端に配置される第２センサーを更に含んでおり、前記絶縁体は少なくとも一部が前記電極の外部周辺に配置されていることを特徴とする、上記請求項２６に記載の装置。３６．前記電極、センサー、及びＲＦエネルギー源に連結されたフィードバック制御手段を更に含んでいることを特徴とする、上記請求項２６に記載の装置。３７．前記電極に連結された注入液源を更に含んでいることを特徴とする、上記請求項２６に記載の装置。３８．ハンドピースと、少なくとも一部がハンドピース内部に配置され、前記ハンドピース内部から舌内部へと前進可能な電極であって、前記電極は舌下神経を傷つけずに選択された部位の大きさを縮小するために幾何学的に形作られている、そのような電極と、前記電極に連結され前記電極の少なくとも一部を前進後退させるよう形作られた電極前進後退部材と、前記電極に連結されたケーブルとから成ることを特徴とする、舌内部の選択された部位の大きさを縮小させる装置。３９．前記電極がＲＦ電極であることを特徴とする、上記請求項３８に記載の装置。４０．前記ＲＦ電極に接続されたＲＦエネルギー源を更に含んでいることを特徴とする、上記請求項３９に記載の装置。４１．少なくとも一部がハンドピース内部に配置され、舌表面を冷やすように形作られた冷却器を更に含んでいることを特徴とする、上記請求項３８に記載の装置。４２．前記冷却器に連結され、冷却器を通る冷却液流量を制御するよう形作られた流量制御器を更に含んでいることを特徴とする、上記請求項４１に記載の装置。４３．少なくとも一部が前記電極の外部周辺に配置される絶縁体を更に含んでいることを特徴とする、上記請求項３８に記載の装置。４４．前記絶縁体の遠位端に配置されるセンサーを更に含んでいることを特徴とする、上記請求項４３に記載の装置。４５．前記電極の遠位端に配置されるセンサーを更に含んでいることを特徴とする、上記請求項３８に記載の装置。４６．ハンドピースの外部に配置されるセンサーを更に含んでいることを特徴とする、上記請求項３８に記載の装置。４７．前記電極の遠位端に配置される第１センサーと、絶縁体の遠位端に配置される第２センサーを更に含んでおり、前記絶縁体は少なくとも一部が前記電極の外部周辺に配置されることを特徴とする、上記請求項３８に記載の装置。４８．前記電極、センサー、及びＲＦエネルギー源に連結されたフィードバック制御手段を更に含んでいることを特徴とする、上記請求項３８に記載の装置。４９．前記電極に連結された注入液源を更に含んでいることを特徴とする、上記請求項３８に記載の装置。５０．ハンドピースと、少なくとも一部がハンドピース内部に配置された電極であって、電極電磁エネルギー放出面と、ハンドピースの外部から舌内部まで伸びる電極前進長とを有し、その前進長は、前記電極電磁エネルギー放出面を選択された部位に配置し、舌下神経を傷つけずに選択部位の大きさを縮小させるに充分な電磁エネルギー送るのに充分である、そのような電極とから成ることを特徴とする舌内部の選択された部位の大きさを縮小する装置。５１．カテーテル手段と、前記カテーテル手段の内部に少なくとも一部が配置された電極手段であって、前記電極手段は舌下神経を傷つけずに舌の内部を除去するに充分な電磁エネルギーを送れるよう形作られている、そのような電極手段と、前記電極手段に連結され、前記電極の少なくとも一部を選択された舌表面に或いは舌表面から前進後退させるよう形作られた電極前進後退部材と、前記電極手段に連結されたケーブル手段とから成ることを特徴とする、舌内部の選択された部位の大きさを縮小する装置。５２．前記電極手段及び前記ケーブル手段に連結された電磁エネルギー源手段を更に含んでいることを特徴とする、上記請求項５１に記載の装置。５３．少なくとも一部が前記カテーテル内部に配置され、舌表面を冷やすように形作られた冷却手段を更に含んでいることを特徴とする、上記請求項５１に記載の装置。５４．前記冷却手段を通る冷却液流量を制御するための手段を更に含んでいることを特徴とする、上記請求項５３に記載の装置。５５．少なくとも一部が前記電極手段の外部周辺に配置される絶縁体手段を更に含んでいることを特徴とする、上記請求項５１に記載の装置。５６．前記絶縁体手段の遠位端に配置されるセンサー手段を更に含んでいることを特徴とする、上記請求項５５に記載の装置。５７．前記電極手段の遠位端に配置されるセンサー手段を更に含んでいることを特徴とする、上記請求項５１に記載の装置。５８．前記カテーテル手段の外部に配置されるセンサー手段を更に含んでいることを特徴とする、上記請求項５１に記載の装置。５９．前記電極手段の遠位端に配置される第１センサー手段と、少なくとも一部が前記電極手段の外部周辺に配置されている絶縁体手段の遠位端に配置される第２センサー手段を更に含んでいることを特徴とする、上記請求項５１に記載の装置。６０．前記電極手段が、ＲＦジェネレーターに接続されたＲＦ電極であることを特徴とする、上記請求項５１に記載の装置。６１．前記電極手段が、マイクロ波源に接続されたマイクロ波アンテナであることを特徴とする、上記請求項５１に記載の装置。６２．前記電極手段と電磁源に連結されたフィードバック制御手段を更に含んでいることを特徴とする、上記請求項５１に記載の装置。６３．前記フィードバック制御手段に連結された超音波手段を更に含んでいることを特徴とする、上記請求項６２に記載の装置。６４．前記電極手段が、ＲＦエネルギー源に連結された２つ又はそれ以上のＲＦ電極を含んでいることを特徴とする、上記請求項５１に記載の装置。６５．前記電極手段に連結された注入液源を更に含んでいることを特徴とする、上記請求項５１に記載の装置。