JP2000503413A - 光媒体内に屈折率パターンを記録するための方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 光に対して感度をもつ光ファイバ内の屈折率パターンを記録するための装置は円形パターンとした位相マスクで形成されたロータリイディスク（３）で成り、それが軸（１１）により回転される。位相マスクは領域（５）内でレーザ光で照明されて、動く干渉パターンが形成される。光ファイバ（１）は経路に沿って動く干渉パターンと同期して移動されて、パターンはファイバ内で記録されることになる。例えば１ｍのオーダーの長い光ファイバ長にわたって連続的に干渉パターンを形成することができる。

Description

【発明の詳細な説明】 光媒体内に屈折率パターンを記録するための方法及び装置 発明の分野 この発明は光媒体内に屈折率パターンを記録するための装置及び方法に係り、 光ファイバのような光導波路内に屈折率グレーテングを形成するための応用をも つものである。背景 光ファイバの屈折率はそのファイバを高強度光にあてることによって変わるこ とが知られている。ゲルマニウムをドープしたファイバはこのやり方で光に対す る感度を示し、とくに紫外（Ｕ．Ｖ．）光に応答し、またこの効果がいわゆる屈 折率グレーテングをファイバ内に形成するために使用できる。参考としてK.O.Hi ll et al，“Photosensitivity in Optical Waveguides:Application to Reflec tion Filter Fabrication”Applied Physics Letters Vol.32,No.10 647(1978) が挙げられる。このグレーテングは２つの干渉するビームで光干渉パターンを作 ることによって形成でき、それによってファイバ内にパターンを記録する。この 干渉パターンは、光ビームがファイバ中を長手方向に向かい、つぎにそれがファ イバ中を通るその光路に沿って反射して戻るようにして、定在波パターンを作り 、干渉パターンが光に対する感度を介してファイバ内に記録されるようにする。 この方法は実用上制御がむづかしく、この方法でファイバに光をあてることがで きる長さに限界がある。 代りの方法では、レーザのようなコレーレント光源から得られたビームがファ イバの長さに対して横方向に向けられて、互に干渉させてファイバの外部から干 渉パターンを作り、それが光に対する感度の結果としてファイバ内に記録される ようにする。この目的で外部干渉パターンを作るためのブロックがEP-A-O 523 0 84に記述されている。 グレーテングを形成する別なやり方は位相マスクを使用することであり、ここ では所望の振幅パターンがマスクパターンとしてホログラフ手法で記録される。 位相マスクはファイバの近くに置かれて、レーザ光で照らされて、ホログラフパ ターンにファイバが露光される。参考文献はK.O.Hill et al，“Bragg Grating Fabricated in Monomode Photosensitive Fibre by u.v.Exposure through a Ph ase Mask”Applied Physics Letters Vol.62No.10,1035(1933)，とまたR.Kashya p et al“Light-sensitive optical fibres planar waveguides”,BT Technol.J .Vol 11,No.2(1993)がある。 屈折率グレーテングの既論については、“Photosensitive Optical Fibres:De vices and Applications”R.Kashyap,Optical Fibre Technology 1,17-34(1994) が参考文献としてある。 先行技術についての問題は、形成できる屈折率グレーテングの長さについて制 限があることである。EP-A-O 523 084に記載されている技術によると、グレーテ ングパターンに対して１回に露光できるファイバの長さは外部インターフェース パターンを作るブロックの幅とビームのコヒーレンスとによって制限があり、一 般には１ｃｍの程度である。位相マスクを用いると、ホログラフパターンは主と して位相マスクの長さと、マスクを照らすために使われるコヒーレントな光ビー ムの幅とによって制限される。実際には、この幅は１ｃｍ程度であり、もっとも もっと長いグレーテングが繰返し走査技術によって試みられてはおり、その記載 はJ.Martin et al“Novel Writing Technique of Long Hghly Reflective in Fi bre Gratings and Investigation of the linearly Chirped Component”Proc.C onference on Optical FibreCommunications,OFC'94締切後論文PD29-1,138,1984 にみられる。 屈折率グレーテングはブラッググレーテングとして動作するものであり、光デ ータ通信システムでは数多くの応用があることは前記Kashyap により論じられて おり、とくに波長フィルタとして使用することができる。このフィルタの帯域幅 はファイバに沿ったグレーテングの長さの関数であり、したがって伸びた長さに わたってグレーテングを形成できることが望ましい。これまでのところこれがむ づかしいことが証明されてきた。発明の要約 この発明は、光媒体内に屈折率パターンを記録する代りの方法を提供するもの で、それによるともっと長いグレーテングが形成できるようにする。 第１の観点に立ってこの発明をとらえると、光に対して感度をもつ屈折率をも つ光媒体内に屈折率パターンを記録するための装置が用意されており、その構成 は動く光強度パターンを作るための手段と、動くパターンを作る際に該パターン を作るための手段が通る経路に沿って光媒体を供給するための手段とで成り、該 媒体内にパターンを記録するようにしている。 パターンを作るための手段はパターンを形成するためのループ内に置かれた手 段と、このループの循環の際に経路に沿って光媒体を供給するようする手段とを 含んでよく、それによって光媒体内に長さ方向にパターンを記録するようにする 。 この発明は光ファイバのような光導波路内に屈折率グレーテングを記録するた めに特に応用される。 このパターンを作るための手段（パターン形成手段）は閉ループ内に配置され た位相マスクを含み、それによってループの回転の際にパターンが繰返し記録さ れる。光ファイバに対して：このパターンはファイバの長さに沿って長手方向に 記録できて、例えば１ｍとかそれよりも長い程度の延在する長さをもつグレーテ ングを形成することにしている。 位相マスクは回転ディスク（円板）上に形成されてよい。代って、位相マスク は円筒状部材の表面上に記録されてもよく、その構成は光がその内部から光パタ ーンが外部に形成されるように向けられるようにする。 回転部材はシリカで作ることができ、位相マスクは回転部材の平面上に形成さ れた空間的に周期性をもつ波状形状(undulation)を含むものでよい。 この発明はまた、光に対して感度をもつ屈折率を備え、光放射用の延在する経 路を含んでいる光媒体内に、屈折率パターンを記録する方法を含んでおり、この 方法の構成は、光強度パターンを作るための装置を用いて、光媒体内の経路の長 さに沿って複数回パターンが記録されるようにすることを含んでいる。 この発明には、さらに、光に対して感度をもつ屈折率を備え、光放射に対する 延在する経路を含んだ光媒体内に、屈折率パターンを記録するための方法として 、その構成が光媒体内の経路の長さに沿って光強度成分パターンを実質的に連続 して継続して記録して、前記成分から長く延びた結果パターンを形成するように することを含んでいる。 別な特徴として、この発明は光に対して感度をもっている屈折率を有する光媒 体内に屈折率パターンを記録するための装置を提供しており、その構成は光強度 パターンを作るためのループ内に配置された手段と、該媒体を該パターンに露光 させるための手段とを含み、媒体内に直線上にパターンを記憶するようにしてい る。 したがって、この発明によると、延長されたパターンが媒体内に記録できる。図面の簡単な説明 この発明をより完全に理解できるようにするために、その実施態様を添付の図 面を参照して例として記述して行く。 図１は、光ファイバ内に屈折率パターンを記録するための第１の装置の模式的 な平面図である。 図２は、図１に示したＡ−Ａ′−Ａ″−Ａ′″線に沿ってとった拡大断面図で ある。 図３は、図１に示したディスク（円板）の模式図で、ディスク上に記録された 位相マスクの半径方向の配置を説明するためのものである。 図４は、この発明による第２の実施態様を模式的に示す。 図５は、この発明による第３の実施態様を模式的に示す。 図６は、この発明による第４の実施態様を模式的に示す。 図７は、この発明による第５の実施態様を模式的に示す。 図８は、この発明の第５の実施態様により形成された屈折率グレーテングを含 むファイバの例示である。 図９は、この発明による、光ファイバ内の屈折率グレーテングを記録するため の別の装置の模式的平面図である。 図10は、図９に示した装置の断面図である。詳細な説明 先ず図１を参照すると、光屈折率グレーテングは光に対して感度を有する光フ ァイバ１内に記録され、回転ディスク３内に記録された位相マスク２を使用して 作られる光干渉パターンという手段によって記録される。図２は図１のＡ−Ａ′ −Ａ″−Ａ'''線に沿ってディスクを通る部分を示す。図２では、位相マスクは よりはっきりと見ることができ、ディスクの表面に切られた一連の半径方向に延 びる溝４で成り、それによって回折格子として動作するようになる。このディス クは固定の位置にあるレーザからのコヒーレント光で照明され、レーザは例えば ２４４ｍｍのＵ．Ｖ．波長で動作し、その様子が矢印Ｂで示されている。照明の 横方向のひろがりは図１で破線で示した円５により模式的に示されている。ディ スク３はレーザからのＵ．Ｖ．光に対して透明な材料で作られ、屈折率ｎ＝１． ４６をもつ溶融石英で簡便に形成される。典型的な例では、ディスクは半径４０ ｍｍ、厚さｘ＝３ｍｍである。溝４は本質的に従来形の技術によって形成でき、 例えば、電子ビームリソグラフィとか選択性エッチングによるとか、あるいはマ スクを用いたホトリソグラフィとそれに続く選択性エッチングによる。こういっ た従来技術の詳細については、参考文献としてC.Dix and P.F.Mckee,J.Vac.Scie nce Technology Vol10,No.6 pp266-267(1992)がある。溝４の一般的な深さは０ ．２６μｍで図に示したパターンの空間周期Λは１μｍ９オーダーである。 Ｂの方向にディスク３に入射するレーザ光は位相マスクパターン２によって回 折されて、第１と第２の回折されたビーム６，７を作るようにされ、これらが重 なって、領域Ｃ内に回折パターンを形成する。光ファイバ１は回折パターンの領 域を通って延びている。光ファイバはクラッド９で囲まれているコア８で成り、 クラッドはコアよりも小さな屈折率をもっている。ファイバは一般にシリカファ イバで、光に対して感度を有するコアはＧｅとＢとが一緒にドープされていてよ い。コアはＵ．Ｖ．光でレーザからの波長２４４ｎｍのものに対して光感度を有 している。その結果として、屈折率パターンがそれ自体よく知られている方法で ファイバ１のコア８内に記録され、図２に点線で概要を示した屈折率パターンを 形成し、その構成はファイバの露光された領域の長さに沿って比較的高い屈折率 と低い屈折率１０ａ，１０ｂとの一連の領域で成る。参考文献として、G Meltze t al“Formation of Bragg Grating and Optical Fibres by Transverse Hologr aphic Method”Opt.Lett．Vol．１４，Ｎｏ．１５ ８２３（１９８９）がグレ ーテング内に屈折率パターンを記録する一般的な吟味のためによいことを指摘す る。ファイバのコアの直径は８μｍのオーダーでよく、クラッド９の外径は１２ ５μｍのオーダーのものでよい。ファイバＣの長さはすなわち干渉パターンに露 光されるところは１ｍｍのオーダーでよい。 この発明は屈折率グレーテングが領域Ｃよりももっと長い長さに書き込まれる ようにする。図１を参照して、ディスク３が矢印Ｄで示した方向に中心軸１１の 周りに回転するようにマウントされていて、モータ（図示せず）により駆動され る。位相マスク２が円形で連続するループとして作られていて、それがディスク ３の回転軸１１と同心となっている。したがって、ディスクが回転すると、それ がレーザによって作られる照明５の固定領域５を通って過ぎて行き、その結果、 動く干渉パターンが領域５内部に形成され、このパターンはディスク３と同じ速 さで回転する。 光ファイバ１は領域５を通って駆動されるので、回転する干渉パターンと同期 することになる。この目的に向かって、光ファイバはモータ１３により案内ロー ラ１４，１５（共通の支持体１６上にマウントされている）を介して駆動される プーリー１２により引っ張られる。ファイバ１はディスク３の軸１１に関して半 径Ｒ₁ に置かれている。回転する干渉パターンと移動するファイバ１との同期を 達成するために、次の条件が満足されることを要する： ωＲ₁ ＝ｖ ここでｖはファイバ１のＥの方向に動く速度であり、またωはディスク３の回転 速度である。 ファイバの速度ｖとディスクの回転速度ωとは干渉パターン５に対してファイ バが適切な露光時間を得るように選ばれて、ファイバコア８内にパターンの満足 な記録が得られるようにする。一例では、ファイバ速度ｖはファイバ露光時間が ｍｍ当り数分台となるように選ばれた。 ファイバ内に記録されたパターンの空間周期は図１に示した支持体１６を半径 方向にディスクの内外に移動するこにとより調節できる。このことは図３を参照 してより詳しくここで説明するが、この図は位相マスク２の２つの半径方向の溝 ４を拡大して示してあり、溝は小さな角δθだけ開いている。特定の半径Ｒ₀ に 対して、パターンΛ₀ の空間周期は次式で与えられる： Ｒ₀ δθ＝Λ₀ 同様に、やや大きな半径Ｒ′に対しては、空間周期Λ′は次式で与えられる： Ｒ′δθ＝Λ′ したがって、Λ′＝（Ｒ′／Ｒ₀ ）Λ₀ となることが分る。 したがって、パターンの空間周期Λ′はディスク３の半径方向内外の移動によ って選ぶことができる。図１の実施例では、これが移動可能な支持体１６によっ て行なわれ、ファイバ１が内方または外方へ移動できるようにして位相マスクの 所望空間周期を選ぶようにし、それによってファイバ内にパターンが形成される ようにしている。これはファイバ内に記録されるパターンの微細同調用に使用で きるし、また大きな距離にわたって移動することによって周期そのものを選択で きる。図３を参照すると、半径方向の位相マスクパターン２の３つの帯が示され ており、参照番号は２ａ，ｂ，ｃであり、それぞれ１．５μｍ、１．３μｍ、０ ．８５μｍの領域に屈折率グレーテングを記録するためのものである。マスクパ ターン用の対応するΛ値はそれぞれ１．０６６μｍ、０．９０４μｍ、０．９０ ４μｍであった。 図４は別の実施例を示し、ここでは位相マスク２が中空円筒体１７の外表面上 に記録されており、円筒体１７はモータ１８により矢印Ｄの方向に回転される。 円筒体１７はレーザ（図示せず）からのＵ．Ｖ．照明光に対して透明で、それが 本体１７内部の光路Ｂ上をミラー１９に向けて進み、それによって円筒体を通っ てその外部へ反射されて、位相マスクパターンが円筒体１７の半径方向外側に形 成される。 ファイバ１は円筒体１７の外表面と接触して経路に沿って駆動され、それによ って干渉パターンがファイバ内に記録される。図１のように、ファイバはモータ １３により駆動されるプーリー１２により引張られる。モータ１３の速度はモー タ１８と関係する制御手段２１により電気系２０を介して制御でき、位相マスク により作られた回転する干渉パターンとファイバ１に対する駆動速度との同期を 維持するようにしている。図４の構成は図１の構成におけるよりもファイバが長 い時間帯にわたって露光できるという利点があり、それは円筒体１７の回転軸に 対して一定の半径にファイバが保たれることによる。 上記の装置に対しては沢山の変形や修正が可能である。例えば、図４の実施例 では、円筒体は固体であり、レーザビームはその上面を通って斜めに向けられて 、ミラー１９を使用しないようにする。また、円筒体は円錐形とし、ファイバ駆 動 機構を上下に移動することによって、パターンの空間周期が変えられて波長同調 がされるようにする。また、図４の実施例に対しては、ファイバに張力を加えて 記録されたパターン周期の微調整ができる。ファイバは円筒体の周りに複数回巻 くことができる。 また記述した両方の実施例に対して、記録したパターン内の変化が記録したパ ターンの長さに沿って得られ、例えばファイバの相対速度ｖと位相マスクパター ン２の回転速度ωとに微かな変化を導入することによってそれができる。このプ ロセスは記録されたパターン内にチャープを導入するために使用できる。また、 位相マスクパターンはファイバ内にブレーズしたグレーテングを作るために使う ことができる。 別な実施例を図５を参照して記述することとし、これは図４の修正として考え ることができる。この構成では、円筒体１７には位相マスクパターン２があり、 静止しており、ファイバ１が円形の位相マスクの周りに複数回２０巻かれている 。ミラー１９が回転軸２０上に置かれていて、モータ（図示せず）によって駆動 されて、レーザ２１からの光ビームがパターンの周りの円形経路内で走査される 。したがって、ドラムの周りのパターンが成分パターンとして考えられるとする と、この成分パターンがドラムの周りのファイバのそれぞれの巻回について複数 回、連続した関係で記録される。こうして、屈折率グレーテングが円筒体１７の 周りに巻かれたファイバ１の巻回２０の複数回続いたパターンとして記録される 。 図６を参照すると、この発明の第４の実施例が示されており、そこではチャー プした屈折率グレーテングから線状のプレーナ導波路２２内に記録されており、 この導波路は本来よく知られている方法でシリカ板２３の表面に形成されている 。例えば、シリカ板２３にはＧｅ：Ｂを一緒にドープする技術によって光に対し て感度をもつ表面コーテングを備えており、それから線状パターンを形成するた めにホトエッチングされている。導波路２２は点Ｘとほぼ同心上に作られている ことが分ると思う。 板２３はガラス板２４内に記録された位相マスク２によって重ねられる。この 位相マスクは図１と２とに示したマスク２と同じようにして形成される。しかし 、この板２４は回転しない。パターン２の中心１１は板２３上のら線導波路パタ ー ンの中心Ｘと同軸となるように配置される。レーザ２１は図示されていない手段 上にマウントされて、位相マスクの円形パターン２と同心の円形経路２５内を動 くようにされる。レーザからのビームＢは位相マスクを照明し、それに従ってそ こからの屈折率パターンをら線導波路２２内に記録する。代って、Ｕ．Ｖ．ビー ムＢを固定し、導波路２２と位相マスクとのアッセンブリイを対応するように動 かして走査を行なうことができる。 半径方向に外へ向かって延びるパターン２内のリッジのために、ら線導波路２ ２内に記録されたパターンの周期間隔はら線パターンの半径方向で最も内側の巻 回では小さく、外側の巻回ほど次第に大きくなる。その結果、パターンにはチャ ープが与えられる。したがって、第４の実施例は光遠隔通信目的で使用できるチ ャープ形フィルタの記録をできるようにし、例えば光ファイバの長さにわたって 生ずる分散の効果を再生できるものとなる。 図６の実施例の修正には、提示したプレーナ導波路に代って、ら線パターンに もしくはコイル状に配置された光ファイバの使用が含まれる。 この発明の第５の実施例は図７に示されており、そこではプレーナ位相マスク ２６が使われており、光ファイバ１の長さと整列がとれている。導波路内にグレ ーテングを記録するために、レーザ２１のビームＢが矢印Ｅ−Ｅ′の方向に位相 マスク２６の長さの長手方向に走査される。このファイバは位相マスクの各端で クランプ２７，２８を使って保持されており、クランプには圧電素子が含まれて いて電気的な発振源２９によって駆動できるようにし、それによってファイバを 長手方向に引張ったり緩めたりすることが振動するやり方で行なわれ、しかもビ ームＢの走査の速さに比して相対的に速くなるようにしている。繰返しの引張り と緩和とをファイバ１に加えることは記録したパターンのアポディゼーション（ 隣接像の重なりの制御）を生じ、このことの詳細は参照文献（当社のＰＣＴ／Ｇ Ｂ９６／０３０７９，１９９６年１２月１２日出願）に記載されているところで ある。 図７に示す装置は一連の成分屈折率グレーテングパターンを記録するために使 用することができ、実質的に連続したパターンとしてファイバ１の長さに沿って 記録される。したがって、第１のグレーテングパターンが今記述したように記録 されると、クランプ２７，２８が緩められて、ファイバがクランプ間で長手方向 に滑り、その量は位相マスク２６の長さと対応している。次にクランプは再び締 めつけられて記録プロセスが繰返されて、第１のパターンと実質的に連続して第 ２のグレーテングパターンを形成する。このプロセスは何回も繰返されて十分な 長さの結果パターンを形成するようにする。アポディゼーションとしてクランプ ２７，２８と発振器２９とによって実行されるものは、結果として得られた長い グレーテングの端の成分間に在る記録されたパターン成分上で実行される必要は ない。アポディゼーションは結果として記録されたパターンの端にだけ適用され ることを要する。これにはファイバ１を圧電デバイスの一方だけと振動させるや り方で引張ることにより行なえる。言い換えれば各端パターンに対して一端だけ から振動態様で引張ればよい。ファイバ内に記録された隣接するパターン成分間 の連続する接合部はＵ．Ｖ．光を用いてトリミングをしてパターン成分の位相コ ヒーレンスを得るようにしてよく、ここで行なわれるＵ．Ｖ．トリミングは当社 のＰＣＴ／ＧＢ９４／００１８０号（１９９４年７月３１日出願）に記載されて いる。 このプロセスは同じファイバ上で、別の、実質的に連続している位相に対して 同じ位相マスクで繰返して長いグレーテングを作ることができ、この場合には引 張りによるアポディゼーションは長いパターンの端で非対称に加えられることに なる。代りに、異なる空間周期をもつ位相マスクがチャープしたパターンを作る ために使用できる。記録されたパターンはアポディゼーションプロセスによりそ れらの接合で整合しているか、接合を整合させるためにアポディゼーションを加 えなくてもよいかである。 結果として作られた記録されたパターンは図８の光ファイバ内に示されている 。このパターンは一連の成分パターン１０¹，１０²，１０³ で成り、それらがフ ァイバ１の長さに沿って連続して記録されている。アポディゼーションはこの例 ではパターン１０間の接合部を伸ばすことにより加えることをしていない。この 光ファイバは図１について記述したのと同じ寸法と光に対する感度特性とを備え ている。驚くべきことに、連続して記録したパターンは満足する整合を得るため にそれらの接合部でアポディゼーションを必ずも要しないことである。 この発明の別な例を図９と１０とに示し、これらは図１と２とに示した実施例 の変形と考えられる。図９と１０とを参照すると、回転ディスク３があって前述 のように位相マスク２が備えられている。キャプスタン３０がディスク３に取付 けられていて、この構成が軸３１の周りに回転するように取付けられている。円 形の溝３２がキャプスタン３０のベースの周りに作られていて、そこで光ファイ バを受入れる。図９に示すように光ファイバはキャプスタン３０の周りに溝３２ の中で巻かれていて、モータ１３により駆動されるプーリー１２へ溝から出て導 かれる。軸３１は駆動されていない。モータ１３の動作時には、プーリー１２は ファイバ１を駆動し、それがキャプスタン３０をディスク３と一緒に回転させる 。こうして、ファイバはキャプスタンの回転により円形経路内を移動し、位相マ スク２と同期した移動により、ファイバの露光が図１を参照して前述したように 実行できる。この構成を図１と比較したときの利点は、ファイバ１と位相マスク ２とが露光プロセス中は厳格に同期を保つようにしていることである。 記述した装置には利点として、ファイバに１ｍを越える長さをもつグレーテン グで持つ書込みができることであり、その結果極めて狭い帯域幅をもつ屈折率グ レーテングもしくは特別なチャープをもつ屈折率グレーテングを生むことである 。 また、位相マスクパターンは多数の違った方法で用意できる。例えば、パター ンは厚い写真フィルム内にホログラフとして形成でき、フィルムを長いベルトの 形とすることができて、ベルトがレーザ光で照明されるパターン記録点を通って 同期して走るようにできる。パターンは必ずしもホログラフパターンである必要 はなく、シャドウマスクによって作ることもできる。他の数多くの修正と変形と が以下に述べる請求項の範躊に入ることは当業者にとっては明らかなことであろ う。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，Ｌ Ｕ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＣＡ，ＪＰ，ＵＳ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．光に対して感応する屈折率を有する光媒体内に屈折率パターンを記録する ための装置であって、動く光強度パターンを作るためのパターン形成手段（２， ３，１７）と、動くパターンを作る際に該パターン形成手段を通る経路に沿って 光媒体を供給する手段（１２，１３）とから成り、該媒体内に該パターンを記録 するようにした装置。 ２．前記パターン形成手段はパターンを形成するためのループ内に置かれた手 段（２）を含み、また前記供給する手段（１２，１３）はそのループの循環の間 に前記経路に沿って光媒体を供給するように動作し、それによって光媒体の長手 方向にパターンを記録するようにした請求項１記載の装置。 ３．パターンの前記動きを作り出すためのパターン形成手段を駆動するための 駆動手段（１８）を含む請求項１又は２記載の装置。 ４．前記駆動手段により作られたパターンの動きの相対的速さど前記供給する 手段によりもたらされる供給の速さとを制御するための制御手段を含んで光媒体 内に記録されるパターンの特性を制御するようにした請求項３記載の装置。 ５．前記ループは閉ループであり、前記パターンが繰返し記録される請求項２ ，３，４のいずれか１項記載の装置。 ６．前記ループ（２）は円形であり、かつ前記循環を作るために所定の軸１１ の周りに回転するために置かれている請求項５記載の装置。 ７．前記パターン形成手段はパターンを形成するための位相マスク（２）を備 えた回転部材（３，１７）を含む請求項６記載の装置。 ８．前記位相マスクを照明するための光源を含む請求項７記載の装置。 ９．前記回転部材はその軸の周りの円形ループ内に置かれた位相マスクととも にその軸の周りに回転するためにマウントされたディスクを含む請求項７又は８ 記載の装置。 １０．前記位相マスクは前記ループの周りに置かれた、半径方向に前記ディス ク軸の外へ向って延びる一連のマスク素子（４）を含む請求項９記載の装置。 １１．前記供給する手段（１２，１３，１４，１５）は前記ディスクを通って 光に対して感応する光ファイバ（１）を供給するように構成されている請求項１ ０記載の装置。 １２．供給されたファイバとディスク軸との間の距離を調節するための手段（ １６）を含んで、記録されたパターンの空間周期を調節するようにした請求項１ １記載の装置。 １３．前記回転部材は円筒状の表面を備え、その軸の周りに回転するようにマ ウントされた本体（１７）であって、その本体の周りのループ内に置かれた位相 マスクを備えて成る請求項７記載の装置。 １４．前記本体（１７）は中空であり、また前記光源はそこからの光がその内 側から本体を通って進み、前記光パターンがその外部に形成されるように構成さ れている請求項１３記載の装置。 １５．前記回転部材（３，１７）はシリカの本体を含み、かつ前記位相マスク はその表面に形成された空間周期性をもつ波動を含む請求項７ないし１４のいず れか１項記載の装置。 １６．前記表面の波動（４）はホトリソグラフィと選択性エッチングとにより 形成されたものである請求項１５記載の装置。 １７．光放射に対して延在する経路を含み光に対して感応する屈折率を備えて いる光媒体内に屈折率パターンを記録する方法であって、光強度パターン（Ｃ） を作るために装置（２，２６）を用いて、光媒体内の経路の長さに沿って複数回 記録がされるようにすることを含む方法。 １８．光放射に対して延在する経路を含み光に対して感応する屈折率を備えて いる光媒体内に屈折率パターンを記録する方法であって、光媒体内の経路の長さ に沿って実質的に連続する光強度成分パターン（１０¹，１０²，１０³）を継続 して記録して、該成分から延在する結果のパターンを形成するようにすることを 含む方法。 １９．位相マスク（２，２６）を用いる成分パターンの記録を含む請求項１８ 記載の方法。 ２０．同じ位相マスク（２，２６）を用いる成分パターンの記録を含む請求項 １９記載の方法。 ２１．前記各パターン（１０¹，１０²，１０³）に対して異なる位相マスク （２６）を用いる連続する成分パターンの記録を含む請求項１９記載の方法。 ２２．前記記録されたパターンがチャープ状態である請求項２０又は２１記載 の方法。 ２３．反対側の両端で結果として得られたパターンをアポディゼーションする ことを含む請求項１８ないし２３のいずれか１項記載の方法。 ２４．結果として得られたパターンの反対側の両端を形成する成分パターン（ １０¹，１０³）の記録の際に光媒体を非対称的に引張ることによって反対側の両 端で結果として得られたパターンをアポディゼーションすることを含む請求項１ ８ないし２４のいずれか１項記載の方法。 ２５．請求項１８ないし２４のいずれか１項記載の方法によりそこに形成され た複合屈折率グレーテングを備えた光導波路。 ２６．連続成分パターンであってその接合部でアポディゼーションがされてい ないものを備えた光導波路。 ２７．光に対して感応性の屈折率を有する光媒体内に屈折率パターンを記録す るための装置であって、光強度パターンを作るためのループ内に配置された手段 （２）と、該パターンを該媒体に露光するための手段とを備えて該媒体内に直線 状にパターンを記録するようにした屈折率パターン記録用装置。 ２８．前記ループは閉ループであり、前記露光するための手段はループの周り に光のビーム（Ｂ）を走査するための手段（１９，２０）を含む請求項２６記載 の装置。 ２９．前記パターンが記録されることになる光ファイバ（１）を含み、それが ループの周りに複数回巻かれている請求項２７記載の装置。