JP2000347113A - Oscillation reflection mirror md laser beam machine - Google Patents
Oscillation reflection mirror md laser beam machineInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザー加工機の
光路に配設する揺動反射ミラー及びレーザー加工機に係
わり、特に、IC、LSI等の電子回路部品を搭載する
プリント基板の孔開け加工用のレーザー加工機の光路に
配設して好適な揺動反射ミラー及びこれを使用したレー
ザー加工機に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an oscillating reflection mirror and a laser processing machine disposed in an optical path of a laser processing machine, and more particularly, to punching a printed circuit board on which electronic circuit components such as ICs and LSIs are mounted. The present invention relates to a oscillating reflection mirror suitable for being disposed in the optical path of a laser processing machine for use and a laser processing machine using the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】IC、LSI等の電子回路部品を搭載す
るプリント基板の孔開け加工用のレーザー加工機とし
て、レーザー発振器から発振されたパルス状のレーザー
ビームを、その光路に配設された反射ミラーで反射して
集光レンズに導き、加工対象であるプリント基板に照射
して複数の孔開け加工を行うものが知られている。2. Description of the Related Art As a laser beam machine for punching a printed circuit board on which electronic circuit components such as ICs and LSIs are mounted, a pulsed laser beam oscillated from a laser oscillator is reflected on an optical path of the laser beam. It is known that a plurality of holes are formed by being reflected by a mirror, guided to a condenser lens, and irradiated on a printed circuit board to be processed.
【0003】近年、電子回路部品の高密度化、高集積化
に伴い、それを搭載するプリント基板にも高密度化、多
層化した配線パターンが求められており、孔開け加工に
もこれに対応した加工精度が要求されている。[0003] In recent years, as electronic circuit components have become higher in density and higher in integration, printed circuit boards on which they are mounted are required to have higher density and multilayer wiring patterns. Machining accuracy is required.
【0004】プリント基板の所定の加工エリアにレーザ
ービームを照射して加工を行う場合には、プリント基板
を載置したXYテーブルを、照射位置に移動させるもの
が一般的である。しかしながら、数ミリピッチで数10
μmといった加工精度の高い孔開け加工を行うには、X
Yテーブルを移動させて位置合わせを行うと、プリント
基板を載置したXYテーブルの慣性を考慮しなければな
らないため、得られる加工精度にも限界があった。この
ため、加工精度の高い孔開け加工を行うレーザー加工機
は、光学系の反射ミラーを走査することにより、焦点位
置を制御する光学系走査型のレーザー加工機を使用する
傾向にある。When a predetermined processing area of a printed circuit board is irradiated with a laser beam for processing, an XY table on which the printed circuit board is mounted is generally moved to an irradiation position. However, several tens of millimeters
To perform high-precision drilling such as
When the Y table is moved to perform positioning, the inertia of the XY table on which the printed circuit board is mounted has to be taken into account, so that there is a limit to the processing accuracy that can be obtained. For this reason, a laser processing machine that performs high-precision drilling tends to use an optical scanning laser processing machine that controls a focal position by scanning a reflection mirror of an optical system.
【0005】斯かる光学系走査型のレーザー加工機は、
鉛直軸又は水平軸まわりに揺動する揺動反射ミラーを光
路に配設し、これらを所定角度に設定することにより、
照射位置の位置合わせを行っている。使用する揺動反射
ミラーには、通常反射面の外形輪郭が正面視して矩形形
状で平行平板のものを使用している。[0005] Such an optical scanning type laser beam machine is:
By arranging an oscillating reflection mirror oscillating around a vertical axis or a horizontal axis in the optical path and setting these at a predetermined angle,
The irradiation position is adjusted. As the oscillating reflection mirror to be used, a mirror whose outer contour is usually rectangular and parallel flat when viewed from the front is used.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述したレ
ーザー加工機の光路に配設される揺動反射ミラーは、通
常定位置から発射される入射レーザービームに対して4
5度の入射角になるように配置されるが、反射面に形成
される反射スポットは楕円形状となるため、上述のよう
な反射面が矩形形状の揺動反射ミラーを使用した場合に
は、反射面の四隅部分に反射にかかわらない部分が存在
している。この部分の存在はその分慣性モーメントが大
きくなる要因となるため、揺動速度を向上させる上で好
ましくなかった。By the way, the above-mentioned oscillating reflection mirror arranged in the optical path of the laser beam machine usually has a four-dimensional reflection with respect to an incident laser beam emitted from a fixed position.
Although it is arranged so as to have an incident angle of 5 degrees, the reflection spot formed on the reflection surface has an elliptical shape. Therefore, when the above-mentioned reflection surface uses a oscillating reflection mirror having a rectangular shape, There are portions not involved in reflection at the four corners of the reflection surface. The presence of this portion causes an increase in the moment of inertia, which is not preferable in improving the swing speed.
【0007】一方、斯かるレーザー加工機は、出力減衰
や光路誤差を抑える必要から光路の距離を可能な限り短
くすることが望まれている。従って、光路に配置される
揺動反射ミラー同士も近接配置されるが、矩形形状の揺
動反射ミラーを使用した場合には、四隅部分が干渉し合
うため、その配置間隔を狭めるにも限界があった。On the other hand, in such a laser beam machine, it is desired to reduce the distance of the optical path as much as possible because it is necessary to suppress the output attenuation and the optical path error. Therefore, the oscillating reflection mirrors arranged in the optical path are also arranged close to each other. However, when a oscillating reflection mirror having a rectangular shape is used, since the four corners interfere with each other, there is a limit in reducing the arrangement interval. there were.
【0008】従って、本発明の目的は、高速で揺動を行
うことができ、光路に配置した際にその配置間隔を短く
することが可能な、揺動反射ミラー及びこれを光路に配
設したレーザー加工機を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide an oscillating reflection mirror and an oscillating reflection mirror which can be oscillated at a high speed and can be arranged at short intervals when arranged on the optical path. An object of the present invention is to provide a laser beam machine.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明は、揺動軸と同軸上に重心を有し、該揺動軸まわ
りに揺動してその反射面において入射レーザービームを
反射する揺動反射ミラーにおいて、前記反射面を正面視
した外形輪郭に、所定の入射角で入射されたレーザービ
ームに対する楕円形状の反射スポットの輪郭に沿う楕円
輪郭部を有していることを第1の特徴としている。In order to achieve the above object, the present invention has a center of gravity coaxial with an oscillating axis, oscillates around the oscillating axis and reflects an incident laser beam on a reflecting surface thereof. In the oscillating reflecting mirror, the first aspect is that the outer contour of the reflecting surface when viewed from the front has an elliptical contour along the contour of an elliptical reflection spot for a laser beam incident at a predetermined incident angle. The feature is.
【0010】また、本発明は、前記第1の特徴を有する
揺動反射ミラーにおいて、前記楕円輪郭部に連続し前記
揺動軸に平行な直線輪郭部を有していることを第2の特
徴としている。Further, the present invention provides the oscillating reflection mirror having the first feature, wherein the oscillating reflection mirror has a linear contour portion continuous with the elliptical contour portion and parallel to the oscillating axis. And
【0011】また、本発明に係るレーザー加工機は、前
記第1又は第2の特徴を有する揺動反射ミラーを光路に
配設してなることを特徴としている。Further, a laser beam machine according to the present invention is characterized in that a swing reflection mirror having the first or second feature is disposed in an optical path.
【0012】[0012]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を添付図
面に基づいて説明する。なお、本発明は本実施形態に限
定されるものではない。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. Note that the present invention is not limited to this embodiment.
【0013】図1は、本発明の一実施形態におけるレー
ザー加工機を示したものである。同図において、符号1
はレーザー加工機、Pは加工対象であるプリント基板を
示している。FIG. 1 shows a laser beam machine according to an embodiment of the present invention. In FIG.
Denotes a laser processing machine, and P denotes a printed circuit board to be processed.
【0014】図1に示したように、レーザー加工機1
は、レーザー発振器2と、レーザー発振器2から発振さ
れたレーザービームをプリント基板Pに照射する集光レ
ンズ3と、レーザー発振器2と集光レンズ3との間の光
路Lに配設され鉛直軸まわり及び水平軸まわりに揺動す
る2つの揺動反射ミラー4,5とを備えている。As shown in FIG. 1, a laser processing machine 1
Is a laser oscillator 2, a condenser lens 3 for irradiating the printed circuit board P with a laser beam oscillated from the laser oscillator 2, and an optical path L disposed between the laser oscillator 2 and the condenser lens 3 and arranged around a vertical axis. And two oscillating reflection mirrors 4 and 5 oscillating about a horizontal axis.
【0015】レーザー発振器2及び集光レンズ3は、二
枚の揺動反射ミラーを備えた光学系走査型のレーザー加
工機に使用する、通常のものを使用する。As the laser oscillator 2 and the condenser lens 3, those used in an optical scanning type laser beam machine equipped with two oscillating reflection mirrors are used.
【0016】なお、図には示していないが、プリント基
板Pを載置するXYテーブル、及びその駆動系等の各種
装置、本体フレーム等は、同様に、二枚の揺動反射ミラ
ーを備えた光学系走査型のレーザー加工機に使用する通
常のものである。Although not shown in the drawings, the XY table on which the printed circuit board P is mounted, various devices such as a drive system thereof, the main body frame and the like also have two oscillating reflection mirrors. This is a normal type used for an optical scanning type laser beam machine.
【0017】上記揺動反射ミラー4は、鉛直に配置され
たガルバノ駆動装置6の把持部60(図2参照)に接着
固定されており、鉛直な揺動軸Xと同軸上に重心を有
し、揺動軸Xまわりに揺動してその反射面40において
入射レーザービームを反射するものである。The above-mentioned oscillating reflection mirror 4 is bonded and fixed to a grip portion 60 (see FIG. 2) of the galvano driving device 6 which is disposed vertically, and has a center of gravity coaxial with a vertical oscillating axis X. Oscillate about the oscillating axis X to reflect the incident laser beam on the reflection surface 40 thereof.
【0018】図2(a)に示したように、反射面40の
外形輪郭は、当該反射面40を正面視したときに、45
度の入射角で入射された入射レーザービームに対する楕
円形状の反射スポットSの輪郭に沿う楕円輪郭部41、
及び楕円輪郭部41に連続し揺動軸Xに平行な直線輪郭
部42を有している。また、本実施形態では、揺動反射
ミラー4は、平行平板(同図(b))で構成している。As shown in FIG. 2A, the outer contour of the reflection surface 40 is 45 degrees when the reflection surface 40 is viewed from the front.
An elliptical contour portion 41 along the contour of the elliptical reflection spot S for the incident laser beam incident at an incident angle of degrees,
And a linear contour 42 continuous with the elliptical contour 41 and parallel to the swing axis X. Further, in the present embodiment, the oscillating reflection mirror 4 is configured by a parallel flat plate (FIG. 2B).
【0019】上記外形輪郭を有する揺動反射ミラー4
は、その揺動角α(例えば、−7°<α<7°)に応じ
た反射スポットの面積をカバーできる面積とする。すな
わち、図3に示したように、揺動角αで入射した場合に
は、反射スポットの長軸の長さは、45°で入射した場
合に形成される反射スポットの長軸Bの長さよりも長く
なる。従って、上記直線輪郭部42間の距離(幅)W
を、揺動角αで入射した場合における反射スポットの長
軸の最大長さよりも長くする。ここで、揺動角αとした
場合における反射スポットSの長軸B’は、入射レーザ
ービームのビーム半径をrとすると、 B’=2r/(sin(45°−α)) である。Oscillating reflection mirror 4 having the above-mentioned outer contour
Is an area that can cover the area of the reflection spot corresponding to the swing angle α (for example, −7 ° <α <7 °). That is, as shown in FIG. 3, the length of the major axis of the reflection spot when incident at the swing angle α is longer than the length of the major axis B of the reflection spot formed when incident at 45 °. Is also longer. Therefore, the distance (width) W between the linear contour portions 42
Is made longer than the maximum length of the long axis of the reflection spot when the light is incident at the swing angle α. Here, the major axis B 'of the reflection spot S when the swing angle is α is B' = 2r / (sin (45 ° -α)) where r is the beam radius of the incident laser beam.
【0020】上記直線輪郭部42の長さZは、当該揺動
反射ミラー4をガルバノ駆動装置6の把持部60に取り
付ける際にその重心位置を合わせる上で、楕円輪郭部4
1の輪郭を形成する楕円の短軸Cの長さを100とした
場合に、12〜40(例えば、短軸Cを25mmとした場
合に3〜10mm)とすることが好ましい。The length Z of the linear contour portion 42 is determined by adjusting the position of the center of gravity of the oscillating reflection mirror 4 when the oscillating reflection mirror 4 is mounted on the grip portion 60 of the galvano driving device 6.
When the length of the minor axis C of the ellipse forming the outline 1 is 100, it is preferably 12 to 40 (for example, 3 to 10 mm when the minor axis C is 25 mm).
【0021】また、揺動反射ミラー4の厚さtは、この
種の揺動反射ミラーに要求される面精度及び材料強度を
得る上で、1mm〜7mm、例えば、3mmとすること
が好ましい。The thickness t of the oscillating reflection mirror 4 is preferably 1 mm to 7 mm, for example, 3 mm in order to obtain surface accuracy and material strength required for this type of oscillating reflection mirror.
【0022】揺動反射ミラー4の材質には、従来からプ
リント基板の孔開け加工用の光学系走査型レーザー加工
機に用いられる揺動反射ミラーの通常の材質、例えばシ
リコン、ベリリウム等の軽量な材料を使用する。The material of the oscillating reflection mirror 4 is a normal material of the oscillating reflection mirror conventionally used in an optical scanning laser beam machine for boring a printed circuit board, for example, a lightweight material such as silicon or beryllium. Use materials.
【0023】揺動反射ミラー4を上記ガルバノ駆動装置
6の把持部60に取り付ける際には、把持部の先端を、
上記楕円輪郭部41を形成する楕円の上弦に接するよう
に(当該楕円の短軸Cの上端に)位置合わせして接着固
定する。When attaching the swinging reflection mirror 4 to the holding portion 60 of the galvano drive device 6, the tip of the holding portion is
The ellipse forming the elliptical contour portion 41 is aligned and fixed so as to be in contact with the upper chord of the ellipse (the upper end of the minor axis C of the ellipse).
【0024】上記揺動反射ミラー5は、図1に示したよ
うに、水平に配置されたガルバノ駆動装置7の把持部7
0(図4参照)に接着固定されており、水平な揺動軸Y
と同軸上に重心を有し、揺動軸Yまわりに揺動してその
反射面50において上記揺動反射ミラー4で反射された
入射レーザービームを反射して集光レンズ3に導くもの
である。As shown in FIG. 1, the oscillating reflection mirror 5 is provided with a holding portion 7 of a galvano driving device 7 which is disposed horizontally.
0 (see FIG. 4), and the horizontal swing axis Y
And has a center of gravity on the same axis as the optical axis, swings around the swing axis Y, reflects the incident laser beam reflected by the swing reflecting mirror 4 on the reflecting surface 50 thereof, and guides the incident laser beam to the condenser lens 3. .
【0025】図4に示したように、上記揺動反射ミラー
5も、上記揺動反射ミラー4同様に、反射面50の外形
輪郭は、当該反射面50を正面視したときに、45度の
入射角で入射された入射レーザービームに対する楕円形
状の反射スポットの輪郭に沿う楕円輪郭部51、及び楕
円輪郭部51に連続し揺動軸Xに平行な直線輪郭部52
を有している。As shown in FIG. 4, similarly to the oscillating reflection mirror 4, the oscillating reflection mirror 5 has an outer contour of the reflection surface 50 of 45 degrees when the reflection surface 50 is viewed from the front. An elliptical contour 51 along the contour of an elliptical reflection spot for an incident laser beam incident at an incident angle, and a straight contour 52 continuous with the elliptical contour 51 and parallel to the oscillation axis X.
have.
【0026】揺動反射ミラー5の場合には、図5に示し
たように、上記揺動反射ミラー4との距離(揺動反射ミ
ラー4,5を入射レーザービームに対して45°に設定
した場合のレーザービームの各反射ミラーにおける反射
スポットの焦点間距離)R及び当該揺動反射ミラー4の
揺動角αに応じて、入射するレーザービームの位置が同
図中点線で示したように水平方向にずれてくるので、こ
のレーザービームを含むように面積を設定する。具体的
には、軸の長さDを、少なくとも 2(Rtan2α+r/cos(2α)) を越える長さとする。In the case of the oscillating reflection mirror 5, as shown in FIG. 5, the distance from the oscillating reflection mirror 4 (the oscillating reflection mirrors 4 and 5 are set at 45 ° to the incident laser beam). The position of the incident laser beam is horizontal as shown by the dotted line in FIG. Since it is shifted in the direction, the area is set to include this laser beam. Specifically, the length D of the shaft is set to a length exceeding at least 2 (Rtan2α + r / cos (2α)).
【0027】また、上記直線輪郭部52間の距離(幅)
W’を、上記揺動反射ミラー4の場合と同様に、図3に
示したように、揺動角βにおける反射スポットの長軸の
最大長さE’よりも長くする。ここで、揺動反射ミラー
5の揺動角をβとした場合における反射スポットS’の
長軸E’は、入射レーザービームのビーム半径をrとす
ると、 E’=2r/(sin(45°−β)) となる。The distance (width) between the straight contour portions 52
As in the case of the oscillating reflection mirror 4, W 'is made longer than the maximum length E' of the major axis of the reflection spot at the oscillating angle β as shown in FIG. Here, the major axis E ′ of the reflection spot S ′ when the swing angle of the swing reflection mirror 5 is β is E ′ = 2r / (sin (45 °), where r is the beam radius of the incident laser beam. −β)).
【0028】揺動反射ミラー5の厚さ及び材質は、上記
揺動反射ミラー4と同様とする。The thickness and material of the oscillating reflection mirror 5 are the same as those of the oscillating reflection mirror 4.
【0029】揺動反射ミラー5を上記ガルバノ駆動装置
7の把持部70に取り付ける際には、把持部70の先端
を、上記楕円輪郭部を形成する楕円の上弦に接するよう
に(軸Dの上端に)位置合わせして接着固定する。When the swing reflection mirror 5 is mounted on the grip 70 of the galvano drive device 7, the tip of the grip 70 is brought into contact with the upper chord of the ellipse forming the elliptical contour (the upper end of the axis D). 2) Align and fix.
【0030】本実施形態のレーザー加工機1は、その光
路Lに配設した揺動反射ミラー4,5に、反射面40,
50の四隅部分に反射にかかわらない部分がほとんど存
在しないので、その分慣性モーメントを小さく抑えるこ
とができる。従って、高速な揺動速度で、角度設定が可
能である。また、揺動反射ミラー40,50の両端部に
揺動軸X,Yに平行な直線輪郭部42,52を有してい
るので、当該揺動反射ミラー4,5をその駆動源のガル
バノ式駆動装置6,7の把持部60,70に取り付け
て、光路Lに配設する際にも、揺動軸X,Yの位置合わ
せを正確かつ容易に行うことができる。さらに、従来に
比べて四隅の反射にかかわらない部分がほとんどないた
め、揺動反射ミラー4,5同士の間隔を近づけることが
できる。従って、光路L自体を短くすることができ、出
力減衰、光路誤差の低減及び加工機の小型化を図ること
が可能である。The laser beam machine 1 according to the present embodiment has the reflecting surfaces 40, 5 on the oscillating reflecting mirrors 4, 5 disposed on the optical path L.
Since there are hardly any portions that are not involved in the reflection at the four corners of 50, the moment of inertia can be reduced accordingly. Therefore, the angle can be set at a high swing speed. In addition, since the rocking reflection mirrors 40 and 50 have linear contours 42 and 52 parallel to the rocking axes X and Y at both ends, the rocking reflection mirrors 4 and 5 are driven by galvano-type driving sources. Even when the optical axis L is attached to the gripping portions 60 and 70 of the driving devices 6 and 7 and is disposed in the optical path L, the positioning of the swing axes X and Y can be performed accurately and easily. Further, since there is almost no portion that is not involved in the reflection at the four corners as compared with the related art, the intervals between the oscillating reflection mirrors 4 and 5 can be reduced. Therefore, the optical path L itself can be shortened, and output attenuation, reduction of optical path errors, and downsizing of the processing machine can be achieved.
【0031】なお、本発明の揺動反射ミラーの反射面の
外形輪郭は、上記実施形態におけるように当該反射面を
正面視したときに、45度の入射角で入射された入射レ
ーザービームに対する楕円形状の反射スポットの輪郭に
沿う楕円輪郭部を有する形態とすることが好ましいが、
45°及び揺動角αで入射するレーザービームをカバー
できるものであれば、他の入射角で入射されたレーザー
ビームに対する楕円形状の反射スポットの輪郭に沿う楕
円輪郭部を有する形態としてもよい。The outer contour of the reflecting surface of the oscillating reflecting mirror according to the present invention has an elliptical shape with respect to an incident laser beam incident at an incident angle of 45 degrees when the reflecting surface is viewed from the front as in the above embodiment. It is preferable to have a form having an elliptical contour portion along the contour of the reflection spot of the shape,
As long as the laser beam incident at 45 ° and the swing angle α can be covered, a form having an elliptical contour along the contour of the elliptical reflection spot with respect to the laser beam incident at another incident angle may be adopted.
【0032】また、上記実施形態では、揺動反射ミラー
に、反射面が平行平板のものを使用したが、例えば、図
6(a)及び(b)に示した、揺動反射ミラー8のよう
に、反射面80を正面視した形状は、上記反射ミラー4
と同様に形成し、反射面80の背面側に、揺動軸に対し
て対称なテーパ面(例えば同図におけるテーパー面8
1,82,33)を形成し、剛性を損なわずに慣性モー
メントをさらに小さく抑えたものを使用してもよい。In the above embodiment, the oscillating reflection mirror has a parallel flat reflecting surface. For example, the oscillating reflection mirror 8 shown in FIGS. 6A and 6B is used. The shape of the reflection surface 80 as viewed from the front is the same as that of the reflection mirror 4.
And a tapered surface symmetrical with respect to the oscillation axis (for example, the tapered surface 8 in FIG.
1, 82, 33) may be used in which the moment of inertia is further reduced without impairing the rigidity.
【0033】[0033]
【発明の効果】本発明によれば、以下の効果を奏する。According to the present invention, the following effects can be obtained.
【0034】上記第1の特徴を有する揺動反射ミラーに
よれば、高速揺動が可能であり、光路に配設した際に光
路を短くすることが可能である。According to the oscillating reflecting mirror having the first feature, high-speed oscillating is possible, and the optical path can be shortened when disposed on the optical path.
【0035】上記第2の特徴を有する揺動反射ミラーに
よれば、揺動反射ミラーを光路に配設する際に、揺動軸
の位置合わせを正確かつ容易に行うことができる。According to the oscillating reflection mirror having the second feature, when the oscillating reflection mirror is disposed in the optical path, the position of the oscillating shaft can be accurately and easily adjusted.
【0036】上記特徴を有するレーザー加工機によれ
ば、高速で、加工精度の高い孔開け加工が可能である。According to the laser processing machine having the above characteristics, it is possible to perform high-speed and high-precision drilling.
【図1】本発明に係るレーザー加工機の一実施形態にお
ける光学系の概略構成を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing a schematic configuration of an optical system in an embodiment of a laser beam machine according to the present invention.
【図2】同実施形態における揺動反射ミラーの形態を示
す図であり、(a)は正面図、(b)は側面図である。FIGS. 2A and 2B are diagrams showing a form of a swing reflection mirror according to the embodiment, wherein FIG. 2A is a front view and FIG. 2B is a side view.
【図3】同実施形態における揺動反射ミラーを揺動させ
た場合の光路の変化を示す概略図である。FIG. 3 is a schematic diagram showing a change in an optical path when the swing reflection mirror in the embodiment is swung.
【図4】同実施形態における揺動反射ミラーの形態を示
す図であり、(a)は正面図、(b)は側面図である。FIGS. 4A and 4B are diagrams showing a form of the oscillating reflection mirror in the embodiment, wherein FIG. 4A is a front view and FIG. 4B is a side view.
【図5】同実施形態における揺動反射ミラーを揺動させ
た場合の光路の変化を示す概略図である。FIG. 5 is a schematic diagram showing a change in an optical path when the swing reflection mirror in the embodiment is swung.
【図6】揺動反射ミラーの他の実施形態を示す図であり
(a)は背面図、(b)は側面図である。6A and 6B are diagrams showing another embodiment of the oscillating reflection mirror, wherein FIG. 6A is a rear view and FIG. 6B is a side view.
1:レーザー加工機、4,5:揺動反射ミラー、40,
50:反射面、41,51:楕円輪郭部、42,52:
直線輪郭部、L:光路、S,S’:反射スポット、X,
Y:揺動軸。1: laser processing machine, 4,5: swing reflection mirror, 40,
50: reflective surface, 41, 51: elliptical contour, 42, 52:
Linear contour, L: optical path, S, S ': reflection spot, X,
Y: swing axis.
Claims (3)
まわりに揺動してその反射面においてレーザービームを
反射する揺動反射ミラーにおいて、前記反射面を正面視
した外形輪郭に、所定の入射角で入射されたレーザービ
ームに対する楕円形状の反射スポットの輪郭に沿った楕
円輪郭部を有していることを特徴とする揺動反射ミラ
ー。1. An oscillating reflecting mirror having a center of gravity coaxial with an oscillating axis, oscillating about the oscillating axis, and reflecting a laser beam on a reflecting surface thereof, wherein the reflecting surface is viewed from the front. An oscillating reflecting mirror, characterized in that the contour has an elliptical contour along the contour of an elliptical reflection spot for a laser beam incident at a predetermined incident angle.
て、前記楕円輪郭部に連続し前記揺動軸に平行な直線輪
郭部を有していることを特徴とする揺動反射ミラー。2. The oscillating reflection mirror according to claim 1, wherein the oscillating reflection mirror has a straight contour part which is continuous with the elliptical contour part and parallel to the oscillating axis.
ミラーを光路に配設してなるレーザー加工機。3. A laser beam machine comprising the swing reflection mirror according to claim 1 disposed in an optical path.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11160081A JP2000347113A (en) | 1999-06-07 | 1999-06-07 | Oscillation reflection mirror md laser beam machine |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11160081A JP2000347113A (en) | 1999-06-07 | 1999-06-07 | Oscillation reflection mirror md laser beam machine |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000347113A true JP2000347113A (en) | 2000-12-15 |
Family
ID=15707467
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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JP (1) | JP2000347113A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012078437A (en) * | 2010-09-30 | 2012-04-19 | Hitachi Via Mechanics Ltd | Galvano scanner |
JP2014059222A (en) * | 2012-09-18 | 2014-04-03 | Denso Corp | Optical radar device |
JP7573701B1 (ja) | 2023-08-10 | 2024-10-25 | 株式会社アマダ | ガルバノミラー及びレーザ加工機 |
-
1999
- 1999-06-07 JP JP11160081A patent/JP2000347113A/en active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012078437A (en) * | 2010-09-30 | 2012-04-19 | Hitachi Via Mechanics Ltd | Galvano scanner |
JP2014059222A (en) * | 2012-09-18 | 2014-04-03 | Denso Corp | Optical radar device |
JP7573701B1 (ja) | 2023-08-10 | 2024-10-25 | 株式会社アマダ | ガルバノミラー及びレーザ加工機 |
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