JP2000339774A - Optical information recording medium - Google Patents

Optical information recording medium

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JP2000339774A
JP2000339774A JP11154117A JP15411799A JP2000339774A JP 2000339774 A JP2000339774 A JP 2000339774A JP 11154117 A JP11154117 A JP 11154117A JP 15411799 A JP15411799 A JP 15411799A JP 2000339774 A JP2000339774 A JP 2000339774A
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JP
Japan
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layer
recording
recording medium
optical information
optical
Prior art date
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JP11154117A
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Japanese (ja)
Inventor
Shigeo Hachiki
木 茂 男 蜂
Katsumi Mizuno
野 勝 美 水
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Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To satisfy both of the optical recording characteristic and the visibility to visible information on the back of a recording film in the optical information recording medium which is provided with the recording film consisting of intermediate oxides of tellurium (TeOx) which are excellent in stability, weatherability and recording sensitivity. SOLUTION: This optical information recording medium C is an optical information recording medium having the recording film 2 consisting of the intermediate oxides of tellurium. The recording film 2 is formed so as to have a refractive index for the light of 632.8 nm wavelength within the range of 2.9-3.0 and a thickness within the range of 300 Å-400 Å. The visible information layer (a card substrate 4) is disposed on the back side of the recording film 2.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光ビームにより情
報の記録および/または再生が可能な光学的情報記録媒
体に係り、とりわけ、光情報領域内に可視情報が記録さ
れている光学的情報記録媒体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical information recording medium capable of recording and / or reproducing information with a light beam, and more particularly to an optical information recording medium in which visible information is recorded in an optical information area. Regarding the medium.

【0002】[0002]

【従来の技術】光記録膜の背後に可視情報を設けた光記
録媒体に関する従来技術としては、例えば特開平2−3
0595号公報に記載された情報記録媒体がある。この
情報記録媒体は、基板と、可視光領域の記録層と、可視
情報を含む裏基板とから構成されており、記録層の材質
としては、有機色素が開示されている。また、記録層の
膜厚としては、通常500〜2000オングストロー
ム、好ましくは600〜1200オングストロームとな
っている。
2. Description of the Related Art As a prior art relating to an optical recording medium provided with visible information behind an optical recording film, Japanese Patent Application Laid-Open No.
There is an information recording medium described in Japanese Patent No. 0595/95. This information recording medium includes a substrate, a recording layer in the visible light region, and a back substrate containing visible information, and an organic dye is disclosed as a material of the recording layer. Further, the thickness of the recording layer is usually 500 to 2000 Å, preferably 600 to 1200 Å.

【0003】また、特開平6−55886号公報には、
光カードが開示されている。この光カードは、光透過性
の基材と、光記録材料層と、接着剤と、印刷層を含むカ
ード基材とから構成されている。光記録材料層の材質と
しては、TeOxとTeOyの2層膜が開示されてい
る。光記録材料層の膜厚は、500オングストロームと
されている。
[0003] Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-55886 discloses that
An optical card is disclosed. This optical card is composed of a light-transmissive substrate, an optical recording material layer, an adhesive, and a card substrate including a printing layer. As a material for the optical recording material layer, a two-layer film of TeOx and TeOy is disclosed. The thickness of the optical recording material layer is set to 500 angstroms.

【0004】また、特開平5−254283号公報に
は、光カードおよびその読取装置が開示されている。こ
の光カードは、透明層と、光透過性の記録層と、可視情
報(印刷)を含む基板とから構成されている。記録層の
材質等については、特に示唆されていない。
[0004] Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-254283 discloses an optical card and a reader therefor. This optical card is composed of a transparent layer, a light-transmissive recording layer, and a substrate containing visible information (printing). The material of the recording layer and the like are not specifically suggested.

【0005】また、特開平6−55887号公報には、
光学的情報記録媒体が開示されている。この光学的情報
記録媒体は、光透過層と、光透過性の光記録材料と、可
視情報記録層と、カード基材とから構成されている。光
記録材料の材質としては、Te−Se合金が開示されて
いる。記録材料の透過率については、1%以上、好まし
くは10%以上との開示がある。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-55887 discloses that
An optical information recording medium is disclosed. This optical information recording medium includes a light transmitting layer, a light transmitting optical recording material, a visible information recording layer, and a card base material. As a material of the optical recording material, a Te-Se alloy is disclosed. It is disclosed that the transmittance of the recording material is 1% or more, preferably 10% or more.

【0006】一方、テルル酸化物からなる光記録材料に
関する従来技術としては、例えば特開平5−32526
6号公報に記載された光カードがある。この光カード
は、光透過性の基材と、パターンと、光記録層とから構
成されており、光記録層がテルルの中間酸化物で形成さ
れている。この光記録層は、シリコンウエハ上で波長7
80nmのレーザ光で測定した屈折率が、2.7乃至
3.5となっている。
On the other hand, as a prior art relating to an optical recording material comprising tellurium oxide, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-32626 is known.
There is an optical card described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-206. This optical card includes a light-transmitting base material, a pattern, and an optical recording layer, and the optical recording layer is formed of tellurium intermediate oxide. This optical recording layer has a wavelength of 7 on a silicon wafer.
The refractive index measured with a laser beam of 80 nm is 2.7 to 3.5.

【0007】また、特公昭54−3725号公報には、
光学記録用部材が開示されている。この光学記録用部材
は、基板と、テルル低酸化物TeOx(0<x<2)と
から構成されている。テルル低酸化物の膜厚について
は、300オングストローム乃至3000オングストロ
ームとの記載があるが、屈折率についての示唆はない。
また、透過スペクトルの開示はあるが、膜厚との関係に
ついては示唆がない。
[0007] Japanese Patent Publication No. 54-3725 discloses that
An optical recording member is disclosed. This optical recording member is composed of a substrate and tellurium low oxide TeOx (0 <x <2). Although the thickness of tellurium low oxide is described as 300 Å to 3000 Å, there is no suggestion about the refractive index.
Further, although there is disclosure of a transmission spectrum, there is no suggestion about the relationship with the film thickness.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】可視情報を透過性の記
録膜の背後に設ける場合において、記録膜の特性と可視
情報の視認性との関連は、未だ十分に検討がなされてい
なかった。例えば、特開平2−30595号公報では、
有機色素によって構成された記録膜の膜厚(好ましくは
600〜1200オングストローム)についての開示が
あるのみで、記録膜の他の特性と可視情報の視認性との
関連についての開示及び示唆はない。同様に、特開平6
−55886号公報では、TeOxとTeOyの2層膜
によって構成された光カードの膜厚(500オングスト
ローム)についての開示があるのみで、記録膜の他の特
性と可視情報の視認性との関連についての開示及び示唆
はない。
In the case where visible information is provided behind a transparent recording film, the relationship between the characteristics of the recording film and the visibility of the visible information has not been sufficiently studied. For example, in JP-A-2-30595,
There is only disclosure about the thickness (preferably 600 to 1200 angstroms) of a recording film composed of an organic dye, but no disclosure or suggestion regarding the relationship between other characteristics of the recording film and the visibility of visible information. Similarly, Japanese Patent Application Laid-Open
Japanese Patent No. 55886 discloses only the thickness (500 Å) of an optical card composed of a two-layer film of TeOx and TeOy, and relates to the relationship between other characteristics of the recording film and the visibility of visible information. No disclosure or suggestion.

【0009】一方、テルル低酸化物からなる光記録膜に
レーザ等の光を照射することでデータビットを記録でき
ることは、例えば前述の特開平6−55887号公報や
特開平5−325266号公報等から公知であるが、市
販の半導体レーザ等でデータビットとそれ以外の部分と
のコントラストを十分もたせ高い光記録特性を実現する
のに適した記録膜の特性については、未だ十分な検討が
なされていなかった。
On the other hand, data bits can be recorded by irradiating an optical recording film made of tellurium low oxide with light such as a laser, for example, as described in JP-A-6-55887 and JP-A-5-325266. The characteristics of a recording film suitable for realizing high optical recording characteristics by providing a sufficient contrast between data bits and other portions with a commercially available semiconductor laser or the like have been sufficiently studied. Did not.

【0010】本発明は、このような点を考慮してなされ
たものであり、安定性、耐候性及び記録感度において優
れるテルルの中間酸化物(TeOx)からなる記録膜を
備えた光学的情報記録媒体であって、光記録特性と記録
膜背後の可視情報に対する視認性との両方を満足させる
光学的情報記録媒体を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above points, and has been made in view of the above circumstances, and has an optical information recording device having a recording film made of tellurium intermediate oxide (TeOx) which is excellent in stability, weather resistance and recording sensitivity. It is an object of the present invention to provide an optical information recording medium that satisfies both optical recording characteristics and visibility of visible information behind a recording film.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明は、テルルの中間
酸化物からなる記録膜を備えた光学的情報記録媒体であ
って、前記記録膜は、波長632.8nmの光に対する
屈折率が2.9乃至3.0の範囲内、かつ、膜厚が30
0オングストローム〜400オングストロームの範囲内
となるように形成されていることを特徴とする光学的情
報記録媒体である。
The present invention relates to an optical information recording medium provided with a recording film made of tellurium intermediate oxide, wherein the recording film has a refractive index of 22.8 nm for light having a wavelength of 632.8 nm. 0.9 to 3.0, and the film thickness is 30.
An optical information recording medium formed to be in a range of 0 Å to 400 Å.

【0012】本発明によれば、実用上十分な光記録特性
及び光記録部背後の可視情報に対する視認性を両立する
光学的情報記録媒体を提供することができる。
According to the present invention, it is possible to provide an optical information recording medium having both practically sufficient optical recording characteristics and visibility of visible information behind the optical recording section.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】図1は本発明の一実施例であるW
ORMタイプの光カードの断面図であり、これは図2に
示す光カードCのx−y断面図に相当する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 shows an embodiment of the present invention, W
FIG. 3 is a sectional view of an ORM type optical card, which corresponds to the xy sectional view of the optical card C shown in FIG.

【0014】図1に示される光カードCは、光透過性の
基材5の片面(背面側)に光透過性のパターン樹脂層1
及び光記録材料層2(記録膜)がこの順に形成され、更
に接着剤層3を介してカード基材4(可視情報層)が積
層されている。また、前記基材5の光記録材料層2が設
けられた側と反対側の表面には、光透過性の表面硬化層
6が積層されている。
An optical card C shown in FIG. 1 has a light transmitting pattern resin layer 1 on one side (back side) of a light transmitting base material 5.
An optical recording material layer 2 (recording film) is formed in this order, and a card substrate 4 (visible information layer) is further laminated via an adhesive layer 3. On the surface of the substrate 5 opposite to the side on which the optical recording material layer 2 is provided, a light-transmitting surface hardened layer 6 is laminated.

【0015】前記カード基材4は、オーバーシート4
a、コアシート4b、オーバーシート4cを順に積層し
た3層構造のものが使用され、前記光記録材料層2側の
オーバーシート4aとコアシート4bとの間に印刷層7
a,7bが、またオーバーシート4cとコアシート4b
との間に印刷層7cが設けられている。各印刷層7a、
7b、7cには、文字や絵柄等の可視情報が印刷されて
いる。
The card base material 4 includes an oversheet 4
a, a core sheet 4b, and an oversheet 4c are sequentially laminated, and a three-layer structure is used. A printing layer 7 is provided between the oversheet 4a and the core sheet 4b on the optical recording material layer 2 side.
a and 7b are the over sheet 4c and the core sheet 4b
Is provided with a printing layer 7c. Each printing layer 7a,
Visible information such as characters and pictures is printed on 7b and 7c.

【0016】光記録材料層2は、テルルの中間酸化物で
あるTeOx膜(0<x<2)からなり、その厚さは3
00〜400オングストロームである。
The optical recording material layer 2 is made of a TeOx film (0 <x <2), which is an intermediate oxide of tellurium, and has a thickness of 3%.
00 to 400 angstroms.

【0017】図1の光カードCは、図3に示す工程で作
成されたものである。以下、この工程を順に説明する。
The optical card C shown in FIG. 1 is produced by the steps shown in FIG. Hereinafter, this step will be described in order.

【0018】まず、特公平7−64141号公報に開示
されているような常法を用いて、情報記録パターンに応
じて粗面化された低反射率部分を有する粗面化原版を作
成する。
First, a roughened master having a low-reflectance portion roughened in accordance with an information recording pattern is prepared by a conventional method as disclosed in Japanese Patent Publication No. 7-64141.

【0019】第1段階として、透明基材(厚さ400μ
mのアクリル板)に回転型フォトレジスト塗布機により
フォトレジストを5000オングストロームの厚さで均
一にコーティングして、フォトレジスト層を形成する
(レジストコート)。フォトレジストとしては、ポジ型
レジスト(キノンジアジド系)である「シプレー社製マ
イクロポジット1400」を使用した。
As a first step, a transparent substrate (400 μm thick)
m of an acrylic plate) is uniformly coated with a photoresist to a thickness of 5000 angstroms by a rotary photoresist coating machine to form a photoresist layer (resist coating). As the photoresist, "Microposit 1400 manufactured by Shipley Co., Ltd." which is a positive resist (quinonediazide system) was used.

【0020】次に、第2段階として、情報記録パターン
に応じて形成したフォトマスクをマスク合わせ装置を用
いてフォトレジスト層に重ね合わせた後、紫外線による
最初の露光(パターニング露光)を行う。
Next, as a second stage, after a photomask formed according to the information recording pattern is superimposed on the photoresist layer by using a mask alignment device, the first exposure (patterning exposure) with ultraviolet rays is performed.

【0021】続いて、第3段階として、片面が微細な凹
凸状に粗面化されたガラス板(平均粗さ0.3μm、#
3000研磨ガラス)を用いて再び露光(粗面化露光)
する。
Subsequently, as a third step, a glass plate having one surface roughened into fine irregularities (average roughness 0.3 μm, #
Exposure again using 3000 polished glass (roughening exposure)
I do.

【0022】露光後、第4段階として、フォトレジスト
層を現像する。これにより、紫外線の当たったところの
フォトレジストが流れ去り、当たらない部分のフォトレ
ジストが残り、フォトマスクのパターンが透明基材の上
に転写される。この結果、表面が粗面化されたフォトレ
ジスト層が、案内トラックの形状として、例えば、幅
2.5μm程度、ピッチ12μm程度で形成される。
After exposure, as a fourth step, the photoresist layer is developed. As a result, the photoresist that has been irradiated with ultraviolet rays flows away, and the photoresist that has not been irradiated remains, and the pattern of the photomask is transferred onto the transparent substrate. As a result, a photoresist layer having a roughened surface is formed with a guide track shape having a width of about 2.5 μm and a pitch of about 12 μm, for example.

【0023】次に、表面が粗面化された低反射率部分か
らなる情報記録パターンが形成されている光記録体を、
粗面化原版とし、この粗面化原版から型取りプレスによ
りマザーマスクを複製する。
Next, an optical recording medium having an information recording pattern formed of a low-reflectance portion having a roughened surface is formed.
A roughened master is used, and a mother mask is duplicated from the roughened original by a molding press.

【0024】具体的には、透明基材(厚さ1.2mmの
アクリル板)の上に、電離性放射線硬化樹脂或いは熱硬
化樹脂の成型樹脂からなる型取り剤を介して、上記で作
成した粗面化原版を積層してプレス機でプレスを行った
状態で紫外線を照射した後、粗面化原版と透明基材を離
型して、透明基材側にパターンを複製してマザーマスク
を形成する。本実施例では、成型樹脂としてUV硬化性
樹脂(ザ・インクテック製、SEL−XA(ポリエステ
ルアクリレートオリゴマーとネオペンチルグリコールジ
アクリレートモノマーを主体とし、イルガキュアー18
4(光重合開始剤)を添加したもの))を使用した。
More specifically, a transparent substrate (an acrylic plate having a thickness of 1.2 mm) was formed on a transparent substrate (a 1.2-mm-thick acrylic plate) via a molding agent formed of an ionizing radiation-curable resin or a thermosetting resin. After irradiating the UV light with the roughened original plate laminated and pressed by a press machine, release the roughened original plate and the transparent base material, duplicate the pattern on the transparent base material side, and apply a mother mask. Form. In this embodiment, as a molding resin, a UV curable resin (manufactured by The Inktec, SEL-XA (mainly composed of a polyester acrylate oligomer and neopentyl glycol diacrylate monomer, Irgacure 18) is used.
4 (to which a photopolymerization initiator) was added)).

【0025】その他の型取り剤の例を以下に列挙する。
電離性放射線硬化樹脂のうちの電子線硬化型樹脂として
は、ウレタンアクリレート、オリゴエステルアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアクリレート、ネオペ
ンチルグリコールジアクリレート、エポキシアクリレー
ト、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレ
ート、メラミンアクリレート等アクリロイル基をもつ重
合性オリゴマー若しくはモノマー、前記のオリゴマー若
しくはモノマーとアクリル酸、アクリルアミド、アクリ
ロニトリル、スチレン等重合性ビニル基を含む単官能ま
たは多官能モノマーを配合したもの。
Examples of other molding agents are listed below.
Among the ionizing radiation-curable resins, electron beam-curable resins include acryloyl groups such as urethane acrylate, oligoester acrylate, trimethylolpropane triacrylate, neopentyl glycol diacrylate, epoxy acrylate, polyester acrylate, polyether acrylate, and melamine acrylate. Or a mixture of the above oligomer or monomer and a monofunctional or polyfunctional monomer containing a polymerizable vinyl group such as acrylic acid, acrylamide, acrylonitrile, styrene and the like.

【0026】電離性放射線硬化樹脂のうちの紫外線硬化
樹脂としては、電子線硬化型樹脂として列挙した樹脂組
成に、光重合開始剤、増感剤若しくは所望の添加剤を添
加したもの。
The ultraviolet-curable resin of the ionizing radiation-curable resin is obtained by adding a photopolymerization initiator, a sensitizer, or a desired additive to the resin compositions listed as the electron beam-curable resin.

【0027】熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂、メ
ラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、
ユリア樹脂、アミド樹脂、フェノール/フォルマリン樹
脂。
As the thermosetting resin, epoxy resin, melamine resin, unsaturated polyester resin, urethane resin,
Urea resin, amide resin, phenol / formalin resin.

【0028】一方、光カードCの透明保護層5となる透
明基材に表面硬化層6を形成しておく。
On the other hand, a hardened surface layer 6 is formed on a transparent base material to be the transparent protective layer 5 of the optical card C.

【0029】ここで、基材5として、厚さ400μmの
ポリカーボネイト(PC)を使用した。他に、ポリメタ
クリル酸メチル(PMMA)、アクリロニトリル−スチ
レン共重合体(AS樹脂)、セルロースプロピオネート
(CP)、セルロースアセテートブチレート(CA
B)、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリエステル等が使
用できるが、本実施例では複屈折の少ないPCを使用し
ている。表面硬化層6としては、アクリル系のUV硬化
性ハードコート剤(東レ製、UH−001)を使用し
た。他に、UV硬化性樹脂(オリゴマー、モノマー開始
剤)、メラミン系等の熱硬化性樹脂等を使用することも
できる。
Here, as the substrate 5, polycarbonate (PC) having a thickness of 400 μm was used. In addition, polymethyl methacrylate (PMMA), acrylonitrile-styrene copolymer (AS resin), cellulose propionate (CP), cellulose acetate butyrate (CA)
B), polyvinyl chloride (PVC), polyester, and the like can be used. In this embodiment, PC having a small birefringence is used. As the surface cured layer 6, an acrylic UV-curable hard coat agent (UH-001, manufactured by Toray Industries, Inc.) was used. In addition, a UV curable resin (oligomer, monomer initiator), a melamine-based thermosetting resin, or the like can also be used.

【0030】次いで、上記マザーマスクを大量複製用の
複製原版として用いて、型取りによって前記基材5の裏
面側に光透過性のパターン樹脂層1を複製する。
Next, the light-transmitting pattern resin layer 1 is duplicated on the back side of the substrate 5 by molding using the mother mask as a duplication master for mass duplication.

【0031】具体的には、基材5の裏側面(背面)とマ
ザーマスクのパターン面との間に複製用樹脂を挟み込
み、プレス機でプレスした状態で紫外線を照射した後、
基材5とマザーマスクを離型して基材5側にパターンを
複製する。このようにして複製用樹脂の表面に低反射率
部分が形成され、この複製用樹脂が光カードCにおける
光透過性のパターン樹脂層1となる。そして、パターン
樹脂層1、基材5及び表面硬化層6が、光透過性の保護
層となる。
Specifically, after duplicating resin is sandwiched between the back side surface (back surface) of the base material 5 and the pattern surface of the mother mask, the ultraviolet light is irradiated while being pressed by a press machine.
The pattern is duplicated on the substrate 5 side by releasing the substrate 5 and the mother mask. Thus, a low reflectance portion is formed on the surface of the duplication resin, and this duplication resin becomes the light-transmitting pattern resin layer 1 of the optical card C. And the pattern resin layer 1, the base material 5, and the surface hardened layer 6 become a light-transmitting protective layer.

【0032】本実施例では、複製樹脂として紫外線硬化
樹脂(スリーボンド社製、SS−120、ウレタンアク
リレート系)を使用したが、その他、マザーマスク形成
のところで説明した各種の電離性放射線硬化樹脂を用い
てもよい。
In this embodiment, an ultraviolet-curing resin (SS-120, urethane acrylate) manufactured by Three Bond Co., Ltd. was used as the replica resin. In addition, various ionizing radiation-curing resins described in the section of forming a mother mask were used. You may.

【0033】続いて、複製用樹脂で構成された光透過性
のパターン樹脂層1における低反射率部分を覆うように
して、光記録材料層2を積層する。具体的には、TeO
x膜を反応性スパッタリング装置を用いて、300〜4
00オングストロームの厚さとなるように光記録材料層
2を形成した。
Subsequently, an optical recording material layer 2 is laminated so as to cover a low reflectance portion of the light transmitting pattern resin layer 1 made of a duplication resin. Specifically, TeO
The x film was formed in a thickness of 300 to 4 using a reactive sputtering apparatus.
The optical recording material layer 2 was formed to have a thickness of 00 Å.

【0034】ここで、光記録材料層2の積層方法につい
て詳述すると、型取り剤から形成されるパターン樹脂層
1と一体になった基材5に、金属製のマスクを重ね合わ
せ、スパッタリング装置の基板ホルダー内に設置して1
×10-5Torr台の圧力にまで排気し、ArガスとO
2 ガスを流量計で制御しながら導入する。次に、グロー
放電を安定して持続させるためにメインバルブを調節し
て1×10-3Torr台の圧力とし、スパークを起こし
てスパッタリングを生じさせる。電源には、1kw容量
のRF電源を用い、ターゲットは、直径10インチのテ
ルル(Te)を用いた。成膜の前にターゲット表面を雰
囲気中で一定の状態に安定化させるため、シャッターを
閉じたまま5分間のプリスパッタを行い、その後、12
分間の成膜を行った。
Here, the method of laminating the optical recording material layer 2 will be described in detail. A metal mask is superimposed on the base material 5 integrated with the pattern resin layer 1 formed from the molding agent, and a sputtering apparatus is used. 1 in the substrate holder
Exhaust to a pressure of the order of × 10 -5 Torr, Ar gas and O
2 Introduce the gas while controlling it with a flow meter. Next, in order to stably maintain the glow discharge, the main valve is adjusted to a pressure of the order of 1 × 10 −3 Torr, and spark is generated to generate sputtering. An RF power source having a capacity of 1 kW was used as a power source, and tellurium (Te) having a diameter of 10 inches was used as a target. Before the film formation, in order to stabilize the target surface in the atmosphere in a constant state, pre-sputtering is performed for 5 minutes while the shutter is closed, and then the sputtering is performed for 12 minutes.
For a minute.

【0035】このときのRF出力は、310Wであり、
酸素投入量は505sccmであり、アルゴン投入量は
90sccmであった。
The RF output at this time is 310 W,
The oxygen input was 505 sccm and the argon input was 90 sccm.

【0036】この場合、マスク上に耐熱テープでSiウ
エハを固定しておき、触針式段差膜厚計にて膜厚を測定
した結果、300オングストロームであった。さらにこ
れをエリプソメータにより、波長632.8nmのレー
ザ光(He−Neレーザ)で屈折率を測定したところ、
図4に示すような結果が得られた。図4は、テルルの酸
化度を変化させた場合の、テルルの酸化度(TeOxの
x値)と屈折率との関係を示している。さらに、レーザ
による書き込み試験を行ったところ、屈折率が2.9〜
3.0の範囲で書き込み性能及び経時安定性に優れてい
ることが判明した。この時、記録ビットのコントラスト
が0.4以上及び波長780nmの光(半導体レーザ)
に対する反射率25%が実現され、リードライドエラー
率は1×10-4程度となり、記録応答性及び記録ビット
形状に優れる。図1では、光記録部を8a、非記録部を
8bとして示している。
In this case, the Si wafer was fixed on the mask with a heat-resistant tape, and the film thickness was measured by a stylus type step thickness gauge to be 300 Å. Further, when the refractive index was measured with an ellipsometer using laser light (He-Ne laser) having a wavelength of 632.8 nm,
The result as shown in FIG. 4 was obtained. FIG. 4 shows the relationship between the oxidation degree of tellurium (x value of TeOx) and the refractive index when the oxidation degree of tellurium is changed. Further, when a writing test using a laser was performed, the refractive index was found to be 2.9 to
It was found that the writing performance and the stability over time were excellent in the range of 3.0. At this time, light (semiconductor laser) with a recording bit contrast of 0.4 or more and a wavelength of 780 nm
And a read ride error rate of about 1 × 10 −4, and excellent recording response and recording bit shape. In FIG. 1, the optical recording portion is shown as 8a and the non-recording portion is shown as 8b.

【0037】なお、記録ピットのコントラストとは、図
5に示すように、完全な黒レベルAに対する記録ビット
レベルBの比、すなわちB/Aで、無単位の量である。
例えば光カードCをリーダライタに入れてREADモー
ドにして、READ波形(図5)をオシロスコープ等で
観測して計測される。
As shown in FIG. 5, the recording pit contrast is the ratio of the recording bit level B to the complete black level A, that is, B / A, which is a unitless amount.
For example, the optical card C is inserted into a reader / writer to be in a READ mode, and a READ waveform (FIG. 5) is observed and measured with an oscilloscope or the like.

【0038】さて、上記一連の工程とは別に、カード基
材4を作成しておく。本実施例でのカード基材は、コア
シート4bの両面に印刷層7a,7b,7cを設け、そ
の上にオーバーシート層4a,4bを貼り合わせて形成
する。
Now, apart from the above series of steps, a card base material 4 is prepared. The card base material in this embodiment is formed by providing printing layers 7a, 7b, 7c on both sides of a core sheet 4b, and laminating over-sheet layers 4a, 4b thereon.

【0039】コアシート4bとしては、乳白塩化ビニ
ル、ポリカーボネイト、セルロースアセテートブチレー
ト(CAB)、セルロースアセテートプロピオネート
(CAP)等の物質を使用でき、また厚みは180〜2
20μm程度でよい。
As the core sheet 4b, substances such as milky white vinyl chloride, polycarbonate, cellulose acetate butyrate (CAB) and cellulose acetate propionate (CAP) can be used.
It may be about 20 μm.

【0040】本実施の形態では、このコアシート4b上
の光記録材料層2に対応した部分に通常の印刷を施した
印刷層7bが設けられている。
In this embodiment, a printed layer 7b on which normal printing is performed is provided on a portion corresponding to the optical recording material layer 2 on the core sheet 4b.

【0041】この印刷層7bに用いるインクとしては、
アクリル用、軟質塩化ビニル用、硬質塩化ビニル用等の
シルクインキ、例えば、SS−8シリーズ(東洋インキ
製造製)、セリコールCADシリーズ(帝国インキ製)
が挙げられるが、特に制限はない。これらのインクを用
いたシルクスクリーン印刷により、コアシート4b上の
全面に所望の図柄・文字等が印刷されて、印刷層7bが
形成される。カード上への印刷は、通常シルクスクリー
ン印刷とオフセット印刷とが用いられているが、オフセ
ット印刷では、熱プレス時にオーバーシート4aがコア
シート4bと接合しない。よって、この場合、熱プレス
時に接合のよいシルクスクリーン印刷により印刷層7b
を形成することが好ましい。
The ink used for the printing layer 7b includes
Silk inks for acrylic, soft vinyl chloride, hard vinyl chloride, etc., for example, SS-8 series (manufactured by Toyo Ink), Sericol CAD series (manufactured by Teikoku Ink)
However, there is no particular limitation. By silk screen printing using these inks, desired patterns, characters, and the like are printed on the entire surface of the core sheet 4b, and the print layer 7b is formed. Usually, silk screen printing and offset printing are used for printing on the card, but in offset printing, the oversheet 4a does not join with the core sheet 4b during hot pressing. Therefore, in this case, the printing layer 7b is formed by silk screen printing with good bonding at the time of hot pressing.
Is preferably formed.

【0042】また、印刷層7aやコアシート反対側の印
刷層7cも、印刷層7bと略同様に形成される。
The printing layer 7a and the printing layer 7c on the side opposite to the core sheet are formed in substantially the same manner as the printing layer 7b.

【0043】各印刷層7a,7b,7cを保護する目的
で、各印刷層7a、7b、7cの上にさらにオーバーシ
ート層4a,4cが設けられている。このオーバーシー
ト層4a、4cは、透明塩化ビニルや、透明CAB、お
よび透明CAP等の材料からなる。コアシート4bの両
側にオーバーシート層4a、4cを設けると、カード基
材4は3層構造となるので、熱プレス時に反りを生ずる
ことが防止される。
For the purpose of protecting the printing layers 7a, 7b, 7c, over-sheet layers 4a, 4c are further provided on the printing layers 7a, 7b, 7c. The oversheet layers 4a and 4c are made of a material such as transparent vinyl chloride, transparent CAB, and transparent CAP. When the oversheet layers 4a and 4c are provided on both sides of the core sheet 4b, the card base 4 has a three-layer structure, so that warpage during hot pressing is prevented.

【0044】そして、光記録材料層2を設けた基材1に
接着剤層3を介して上記カード基材4を接着ラミネート
する。具体的には「東レ製UH−1260C」(二液硬
化タイプ)を使用し、常温で60μmの厚さで接着し
た。この場合、接着剤層3はカード基材4のオーバーシ
ート4a(透明ポリ塩化ビニル)と全面に渡って直に接
しているので、しっかりと接着される。なお、接着剤
は、ホットメルトタイプを使用してもよい。
Then, the card substrate 4 is bonded and laminated to the substrate 1 provided with the optical recording material layer 2 via the adhesive layer 3. Specifically, “Toray UH-1260C” (two-component curing type) was used and bonded at a normal temperature to a thickness of 60 μm. In this case, since the adhesive layer 3 is in direct contact with the oversheet 4a (transparent polyvinyl chloride) of the card base material 4 over the entire surface, the adhesive layer 3 is firmly adhered. Note that a hot melt type adhesive may be used.

【0045】以上のようにして作製された原反を打抜き
加工して、図1及び図2に示す光カードCを作製する。
この状態で表面硬化層6の上方から、印刷層7a、7b
の絵柄を十分視認できた、この時、光記録材料層2、パ
ターン樹脂層1、基材5及び表面硬化層6は、波長55
0nmの光に対する光透過率22%以上を達成した。こ
こで、波長550nmとは、人間の視感度のピーク波長
(可視光の代表)という意味を有している。
An optical card C shown in FIGS. 1 and 2 is produced by punching the raw material produced as described above.
In this state, the print layers 7a, 7b
At this time, the optical recording material layer 2, the pattern resin layer 1, the base material 5, and the surface hardened layer 6 have a wavelength of 55 nm.
A light transmittance of 22% or more for 0 nm light was achieved. Here, the wavelength of 550 nm means a peak wavelength of human luminosity (representative of visible light).

【0046】以上のように、本実施の形態によれば、実
用上十分な光記録特性及び光記録部背後の可視情報に対
する視認性を両立させることができる。
As described above, according to the present embodiment, both practically sufficient optical recording characteristics and visibility of visible information behind the optical recording section can be achieved.

【0047】また、カード形状である本実施の形態の場
合、カードの片面の大部分を光記録膜領域が占有するた
め、その領域に文字情報や画像などの可視情報も設ける
ことによって、意匠の自由度を顕著に拡大することがで
きる。
In the case of the present embodiment in the form of a card, the optical recording film area occupies most of one side of the card. Therefore, by providing visible information such as character information and images in the area, the design can be improved. The degree of freedom can be significantly increased.

【0048】なお、本件発明者は、本発明に至る過程に
おいて、記録膜の感度を決定する主要因は屈折率であ
り、屈折率が所定の範囲に収まっていれば、膜厚がうす
い程、可視情報の視認性が高まることを知見する一方
で、本件発明者は、膜厚が薄すぎると記録感度が低下す
ることも知見した。これらの知見に基づいて、本発明の
各数値限定の臨界性について補足すれば、以下のように
説明できる。
In the process leading to the present invention, the main factor that determines the sensitivity of the recording film is the refractive index. If the refractive index is within a predetermined range, the thinner the film thickness, the smaller the film thickness. While finding that the visibility of the visible information is enhanced, the present inventors have also found that if the film thickness is too thin, the recording sensitivity is reduced. The following can be explained by supplementing the criticality of each numerical limitation of the present invention based on these findings.

【0049】記録膜の膜厚が実質的に400オングスト
ロームより大きい場合、記録膜の透過率が低くなって、
記録膜背後の可視情報が見にくくなる。一方、記録感度
はさほど良くならない。
When the thickness of the recording film is substantially larger than 400 Å, the transmittance of the recording film becomes low,
Visible information behind the recording film becomes difficult to see. On the other hand, the recording sensitivity is not so good.

【0050】記録膜の膜厚が実質的に300オングスト
ロームより小さい場合、記録膜の反射率が低くなって、
記録感度が低下する、すなわち、記録ビットのコントラ
ストが低下する。
When the thickness of the recording film is substantially smaller than 300 angstroms, the reflectance of the recording film becomes low,
The recording sensitivity decreases, that is, the contrast of the recording bit decreases.

【0051】記録膜の波長632.8nmの光に対する
屈折率が実質的に3.0より大きい場合、記録膜の記録
感度及び反射率は向上するが、記録膜の透過率が低くな
る。
When the refractive index of the recording film with respect to light having a wavelength of 632.8 nm is substantially larger than 3.0, the recording sensitivity and the reflectance of the recording film are improved, but the transmittance of the recording film is reduced.

【0052】記録膜の波長632.8nmの光に対する
屈折率が実質的に2.9より小さい場合、記録膜の反射
率が低くなり、記録感度が低下する、すなわち、記録ビ
ットのコントラストが低下する。
When the refractive index of the recording film with respect to light having a wavelength of 632.8 nm is substantially smaller than 2.9, the reflectance of the recording film becomes low, and the recording sensitivity is lowered, that is, the contrast of the recording bit is lowered. .

【0053】[0053]

【発明の効果】本発明によれば、実用上十分な光記録特
性及び光記録部背後の可視情報に対する視認性を両立す
る光学的情報記録媒体を提供することができる。
According to the present invention, it is possible to provide an optical information recording medium having both practically sufficient optical recording characteristics and visibility of visible information behind the optical recording section.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明による光学的情報記録媒体の第1の実施
の形態を示す断面図。
FIG. 1 is a sectional view showing a first embodiment of an optical information recording medium according to the present invention.

【図2】図1の光学的情報記録媒体を示す全体概略図。FIG. 2 is an overall schematic diagram showing the optical information recording medium of FIG. 1;

【図3】図1の光学的情報記録媒体を作成する工程図。FIG. 3 is a process chart for producing the optical information recording medium of FIG. 1;

【図4】テルルの酸化度と屈折率の関係を示すグラフ。FIG. 4 is a graph showing the relationship between the oxidation degree of tellurium and the refractive index.

【図5】記録ビットのコントラストについての説明図。FIG. 5 is a diagram illustrating the contrast of a recording bit.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

C 光カード 1 パターン樹脂層 2 光記録材料層(記録膜) 3 接着剤層 4 カード基材 4a、4c オーバーシート 4b コアシート 5 基材 6 表面硬化層 7a、7c 印刷層 7b 光記録部に対応する印刷層 8a 光記録部 8b 非記録部 C Optical card 1 Pattern resin layer 2 Optical recording material layer (recording film) 3 Adhesive layer 4 Card base 4a, 4c Oversheet 4b Core sheet 5 Base 6 Surface hardened layer 7a, 7c Print layer 7b Corresponds to optical recording section Printing layer 8a Optical recording part 8b Non-recording part

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】テルルの中間酸化物からなる記録膜を備え
た光学的情報記録媒体であって、 前記記録膜は、波長632.8nmの光に対する屈折率
が2.9乃至3.0の範囲内、かつ、膜厚が300オン
グストローム〜400オングストロームの範囲内となる
ように形成されていることを特徴とする光学的情報記録
媒体。
1. An optical information recording medium provided with a recording film made of a tellurium intermediate oxide, wherein the recording film has a refractive index for light having a wavelength of 632.8 nm in a range of 2.9 to 3.0. An optical information recording medium characterized in that the optical information recording medium is formed so as to have a thickness within a range of 300 Å to 400 Å.
【請求項2】前記記録膜の背面側に、可視情報層が設け
られていることを特徴とする請求項1に記載の光学的情
報記録媒体。
2. The optical information recording medium according to claim 1, wherein a visible information layer is provided on the back side of said recording film.
【請求項3】前記可視情報層は、可視情報が印刷された
印刷層であることを特徴とする請求項2に記載の光学的
情報記録媒体。
3. The optical information recording medium according to claim 2, wherein said visible information layer is a printed layer on which visible information is printed.
【請求項4】前記記録膜と前記可視情報層とは、光透過
性の接着剤層によって接着されていることを特徴とする
請求項2または3に記載の光学的情報記録媒体。
4. The optical information recording medium according to claim 2, wherein the recording film and the visible information layer are bonded by a light-transmitting adhesive layer.
【請求項5】前記記録膜は、記録ビットのコントラスト
が0.4以上であり、波長780nmの光に対する反射
率が25%以上となるように形成されていることを特徴
とする請求項1乃至4のいずれかに記載の光学的情報記
録媒体。
5. The recording film according to claim 1, wherein said recording film has a recording bit contrast of 0.4 or more and a reflectivity for light having a wavelength of 780 nm of 25% or more. 5. The optical information recording medium according to any one of 4.
【請求項6】前記記録膜は、波長550nmの光に対す
る光透過率が22%以上となるように形成されているこ
とを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の光学
的情報記録媒体。
6. The optical information recording apparatus according to claim 1, wherein the recording film is formed so that the light transmittance for light having a wavelength of 550 nm is 22% or more. Medium.
【請求項7】前記記録膜の前面側に、光透過性の保護層
が設けられていることを特徴とする請求項1乃至6のい
ずれかに記載の光学的情報記録媒体。
7. The optical information recording medium according to claim 1, wherein a light-transmitting protective layer is provided on the front side of said recording film.
【請求項8】前記記録膜と前記保護層とは、波長550
nmの光に対する光透過率が22%以上となるように形
成されていることを特徴とする請求項7に記載の光学的
情報記録媒体。
8. The recording film and the protective layer have a wavelength of 550.
The optical information recording medium according to claim 7, wherein the optical information recording medium is formed so as to have a light transmittance of 22% or more for light of nm.
【請求項9】全体がカード状に形成されていることを特
徴とする請求項1乃至8のいずれかに記載の光学的情報
記録媒体。
9. The optical information recording medium according to claim 1, wherein the whole is formed in a card shape.
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