JP2000332425A - Manufacture of resin film for multilayer interconnection board and the multilayer interconnection board - Google Patents

Manufacture of resin film for multilayer interconnection board and the multilayer interconnection board

Info

Publication number
JP2000332425A
JP2000332425A JP11143689A JP14368999A JP2000332425A JP 2000332425 A JP2000332425 A JP 2000332425A JP 11143689 A JP11143689 A JP 11143689A JP 14368999 A JP14368999 A JP 14368999A JP 2000332425 A JP2000332425 A JP 2000332425A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin film
laser beam
wiring board
processing
resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP11143689A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3635211B2 (en
Inventor
Takashi Tanaka
隆 田中
Mitsuru Kono
充 河野
Shoichi Ii
正一 井伊
Keiji Yoshizawa
圭史 吉澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Steel Chemical and Materials Co Ltd
Original Assignee
Nippon Steel Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Steel Chemical Co Ltd filed Critical Nippon Steel Chemical Co Ltd
Priority to JP14368999A priority Critical patent/JP3635211B2/en
Priority to PCT/JP2000/003288 priority patent/WO2000072645A1/en
Priority to US09/979,515 priority patent/US6492616B1/en
Priority to KR1020017014941A priority patent/KR20020021100A/en
Publication of JP2000332425A publication Critical patent/JP2000332425A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3635211B2 publication Critical patent/JP3635211B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/36Removing material
    • B23K26/40Removing material taking account of the properties of the material involved
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K2103/00Materials to be soldered, welded or cut
    • B23K2103/16Composite materials, e.g. fibre reinforced
    • B23K2103/166Multilayered materials
    • B23K2103/172Multilayered materials wherein at least one of the layers is non-metallic
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K2103/00Materials to be soldered, welded or cut
    • B23K2103/30Organic material
    • B23K2103/42Plastics
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K2103/00Materials to be soldered, welded or cut
    • B23K2103/50Inorganic material, e.g. metals, not provided for in B23K2103/02 – B23K2103/26

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To manufacture a rigid-flex interconnection board at high efficiency and accuracy, using a laser processing device, by projecting a swept continuous oscillation laser beam onto a resin film moving on a processing table, for providing an opening on the resin film. SOLUTION: Using a device with which a single-direction sweeping galvanometer mirror sweeping device 23 fitted to a carbon dioxide gas laser oscillator 20 which allows continuous oscillation, comprises a processing table 24 which moves in the direction almost orthogonal to the sweeping direction of the galvanometer mirror sweeping device 23, the resin film moving on the processing table 24 is irradiated with the swept continuous oscillation laser beam so that the resin film is provided with an opening. Thus the processing precision with an adhesive sheet is improved for suppressed infiltration of the adhesive sheet at pressing, resulting in manufacture at high efficiency and accuracy.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は多層配線板用の樹脂
フィルムの製造方法及びこれを絶縁層として積層してな
る多層配線板、特にリジッド-フレキシブルプリント配
線板(リジッド-フレックス配線板とも略称される)に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a resin film for a multilayer wiring board and a multilayer wiring board obtained by laminating the same as an insulating layer, particularly a rigid-flexible printed wiring board (also abbreviated as a rigid-flex wiring board). About).

【0002】[0002]

【従来の技術】リジッド-フレックス配線板は、リジッ
ド部とフレックス部とを有し、フレックス部の両端はリ
ジッド部と一体化されて、電気的に接続している。この
ような配線板を製造する場合、予めフレックス部両端の
一体化部のような層構造を有する基板を作り、その後フ
レックス部に対応する部分のリジッド層を除去する方法
が多用されている。そして、ここでの層構造は、少なく
とも1層のフレキシブル配線板層と少なくとも1層のリ
ジッド配線板層と配線板層間に配置され、層間接着剤層
の作用をも有する少なくとも1層の樹脂絶縁層を有して
いる。
2. Description of the Related Art A rigid-flex wiring board has a rigid portion and a flex portion, and both ends of the flex portion are integrated with the rigid portion and are electrically connected. When such a wiring board is manufactured, a method is often used in which a substrate having a layer structure such as an integrated portion at both ends of a flex portion is prepared in advance, and then the rigid layer corresponding to the flex portion is removed. Further, the layer structure here is arranged between at least one flexible wiring board layer, at least one rigid wiring board layer, and at least one wiring board layer, and has at least one resin insulating layer also acting as an interlayer adhesive layer. have.

【0003】その製造方法の1例を説明すると、カバー
レイを被覆した回路形成後のフレキシブル配線板に、リ
ジッド部間のケーブル部、すなわちフレックス部に対応
する部分に開口部を設けた絶縁層を積層し、更に表面に
回路形成された導体層が設けられていて、予め前記フレ
ックス部に対応する部分を開口した若しくは切取り線を
いれたリジット配線板をこの絶縁層に重ね、リジット配
線板の前記開口部には、必要により取り外し容易な樹脂
をはめ込んだり、あるいは離型スペーサーをはめ込んだ
りした後、加圧、加熱して積層一体化した後、穴開け、
銅メッキ及び外層回路加工等が施される。その後、前記
開口部に樹脂をあるいは離型スペーサーをはめ込んだ場
合は、これを取り外し、切取り線をいれた場合は、切取
り部分取り外して製造される。
One example of the manufacturing method will be described. An insulating layer provided with an opening in a cable portion between rigid portions, that is, a portion corresponding to a flex portion, is formed on a flexible wiring board on which a circuit covered with a coverlay has been formed. Laminated, further provided with a conductor layer having a circuit formed on the surface, a rigid wiring board having a portion corresponding to the flex portion previously opened or a cut-out line is overlaid on this insulating layer, and the rigid wiring board After inserting an easy-to-remove resin into the opening as necessary, or after inserting a release spacer, pressurizing, heating and laminating and integrating, drilling,
Copper plating and outer layer circuit processing are performed. Thereafter, when a resin or a release spacer is fitted into the opening, it is removed, and when a cut line is made, the cut portion is removed.

【0004】別の例として、カバーレイを被覆した回路
形成後のフレキシブル配線板に、前記絶縁層を積層し、
これに開口処理前のリジット配線板を配置してフレキシ
ブル配線板と共に加圧、加熱等して積層一体化した後、
リジット配線板間のフレックス部に対応した部分のリジ
ッド配線板を開口してフレキシブル配線板のケーブル部
を露出させ、その後、穴開け、銅メッキ及び外層回路加
工等を行い、リジッド-フレックス配線板を製造する。
[0004] As another example, the insulating layer is laminated on a flexible wiring board on which a circuit covered with a coverlay has been formed.
After arranging the rigid wiring board before opening processing and pressurizing and heating together with the flexible wiring board and laminating and integrating,
Open the rigid wiring board at the part corresponding to the flex part between the rigid wiring boards to expose the cable part of the flexible wiring board, and then perform drilling, copper plating and outer layer circuit processing, etc., to remove the rigid-flex wiring board To manufacture.

【0005】このように、通常のリジット-フレックス
配線板の製造では、フレキシブル配線板とリジット配線
板の層間接着シート兼絶縁層として、フレキシブル配線
板が露出してフレックス部となる部分を開口させた樹脂
フィルムを用いる必要がある。従来の方法によれば、こ
のようなリジッド-フレックス配線板の製造方法に使用
する樹脂フィルムの所定の位置に、所定の形状の開口部
を設けるのには、金型による打ち抜きの方法や、ピンを
用いたパンチングの方法などで行われていた。ところ
が、このような方法では、例えば少量多品種の配線板の
生産などの場合、それに応じた金型を数多く作成しなけ
ればならず、安価には製造できないという問題があっ
た。また、これらの方法では、最近の微細回路に対応し
た微細加工が困難であり、より高精度でしかも効率的な
層間接着層の加工方法を用いたリジッド-フレックス配
線板の製造方法の確立が望まれていた。
As described above, in the production of a normal rigid-flex wiring board, a portion where the flexible wiring board is exposed and becomes a flex portion is opened as an interlayer adhesive sheet and an insulating layer between the flexible wiring board and the rigid wiring board. It is necessary to use a resin film. According to a conventional method, in order to provide an opening of a predetermined shape at a predetermined position of a resin film used in the method of manufacturing such a rigid-flex wiring board, a method of punching with a die or a pin It was performed by a method such as punching using. However, such a method has a problem in that, for example, in the case of producing a small quantity of various kinds of wiring boards, a large number of dies must be produced in accordance with the production, and there is a problem that it cannot be manufactured at low cost. Also, with these methods, it is difficult to perform microfabrication corresponding to recent microcircuits, and it is hoped that a method for manufacturing a rigid-flex wiring board using a more accurate and efficient interlayer bonding layer processing method will be established. Was rare.

【0006】積層部材を構成する樹脂層を除去して開口
させる方法としてはレーザによる方法が知られており、
例えば微細孔を開ける方法としては特開平5−3054
68号公報に示されているようにパルスレーザによる方
法が知られている。しかしながらこのような方法では、
パルスレーザビーム1パルスの加工面での照射範囲より
大きい連続した範囲、例えば細長い連続した範囲を加工
するなどの場合には、パルスレーザビームを隙間なく照
射する必要があり、このようなパルスレーザビームを隙
間なく照射して加工する方法は、例えば特開平9−22
3456号公報に記載されているが、パルス繰り返し周
波数がおよそ10kHz以下と小さいために複数のパルス
を照射するのに長時間を要し、つまりは連続した広い範
囲の樹脂を除去するのに長時間を要することとなり、効
率よく樹脂の除去加工ができないという問題があった。
具体的には、樹脂を除去したい範囲が上記したパルスレ
ーザビーム1パルスの標準的な照射範囲にあたる0.2
cm2以上の場合には効率よく樹脂の除去加工ができな
いという問題があった。
A method using a laser is known as a method for removing and opening a resin layer constituting a laminated member.
For example, as a method of forming a fine hole, Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-3054
As disclosed in JP-A-68-68, a method using a pulse laser is known. However, in such a method,
In the case of processing a continuous area larger than the irradiation area of the pulse laser beam 1 pulse on the processing surface, for example, when processing an elongated continuous area, it is necessary to irradiate the pulse laser beam without gaps. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 9-22
No. 3456, it takes a long time to irradiate a plurality of pulses because the pulse repetition frequency is as low as about 10 kHz or less, that is, it takes a long time to remove a continuous wide range of resin. Therefore, there is a problem that the resin cannot be removed efficiently.
Specifically, the range in which the resin is to be removed corresponds to the standard irradiation range of one pulse of the pulsed laser beam.
In the case of cm 2 or more, there was a problem that the resin could not be removed efficiently.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、多層配線板に用いられる樹脂フィルムを、レーザを
用いて、高効率、高精度で加工することのできる方法を
提供することである。特に、リジッド-フレックス配線
板の高効率、高精度な製造方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for processing a resin film used for a multilayer wiring board with high efficiency and high accuracy by using a laser. In particular, it is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a rigid-flex wiring board with high efficiency and high accuracy.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者等は鋭意検討の
結果、掃引するレーザビームに連続発振のレーザビーム
を用いれば、特にこれまでのレーザ加工の手法では困難
であった0.2cm2以上の樹脂除去加工が可能とな
り、前記課題が解決可能なことを見出し本発明を完成す
るに至った。
The inventors of the present invention have conducted intensive studies and have found that if a continuous oscillation laser beam is used as a laser beam to be swept, it is difficult to obtain a laser beam having a diameter of 0.2 cm 2 , which has been difficult with conventional laser processing techniques. The above-described resin removal processing has become possible, and it has been found that the above-mentioned problems can be solved, and the present invention has been completed.

【0009】すなわち、本発明はレーザビームを用いた
多層配線板用樹脂フィルムの加工において、レーザビー
ムを単方向に掃引可能な掃引装置とレーザビームの掃引
方向とは略直角方向に移動する樹脂フィルムを移動させ
るための加工テーブルとを備えたレーザ加工装置を用
い、加工テーブル上の移動する樹脂フィルムに、掃引さ
れた連続発振レーザビームを照射し、樹脂フィルムを開
口することを特徴とする多層配線板用樹脂フィルムの製
造方法である。そして、その少なくとも1つの開口部の
面積が0.2cm2以上であることがよく、また、樹脂フ
ィルムが、シリコンユニットを有するポリイミド樹脂又
はその未硬化若しくは半硬化樹脂であることが有利であ
る。更に、本発明は前記の製造方法で得られた樹脂フィ
ルムを絶縁層として少なくとも1層有してなるリジッド
-フレキシブルプリント配線板である。
That is, the present invention relates to a sweeping device capable of sweeping a laser beam in one direction and a resin film moving in a direction substantially perpendicular to the sweeping direction of the laser beam in processing a resin film for a multilayer wiring board using a laser beam. Using a laser processing apparatus having a processing table for moving the laser beam, irradiating the swept continuous oscillation laser beam to the moving resin film on the processing table, and opening the resin film. This is a method for producing a resin film for a plate. The area of at least one of the openings is preferably 0.2 cm 2 or more, and the resin film is advantageously a polyimide resin having a silicon unit or an uncured or semi-cured resin thereof. Further, the present invention provides a rigid material having at least one resin film obtained by the above-mentioned manufacturing method as an insulating layer.
-It is a flexible printed wiring board.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
一般的には、多層配線板は、回路形成されたプリント配
線板又はフレキシブル配線板の上に、絶縁層及びリジッ
ト配線板等の導体層が逐次重ねられ製造される。本発明
では多層配線板の製造に際し、少なくとも1層の所定範
囲に開口部を設けた樹脂フィルムを接着及び絶縁用とし
て、同様に所定の開口部を設けたリジット板と積層し、
加熱加圧して多層配線板を製造するものである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.
In general, a multilayer wiring board is manufactured by sequentially stacking conductor layers such as an insulating layer and a rigid wiring board on a printed wiring board or a flexible wiring board on which a circuit is formed. In the present invention, at the time of manufacturing a multilayer wiring board, a resin film provided with an opening in a predetermined range of at least one layer for adhesion and insulation, laminated with a rigid board also provided with a predetermined opening,
This is to produce a multilayer wiring board by heating and pressing.

【0011】多層配線板用の樹脂フィルムの種類は、絶
縁性を有するものであれば特に制限はなく、公知の樹脂
フィルムが広く使用できる。このような、絶縁性を有す
る樹脂フィルムに使用する材料としては、例えばエポキ
シ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂あるいはこ
れらを含む樹脂組成物などが挙げられる。好ましくはポ
リイミド樹脂又はポリイミド樹脂を含む樹脂組成物であ
り、ポリイミド樹脂の中でも、シリコンユニットを有す
るシリコン変性ポリイミド樹脂が好ましい。例えば、特
開平6−200216号公報に示されているシリコンユ
ニットを有するポリイミド樹脂70〜99重量%及びエ
ポキシ樹脂1〜30重量%を配合してなる樹脂組成物が
好ましいものとして挙げられる。
The type of the resin film for the multilayer wiring board is not particularly limited as long as it has insulating properties, and known resin films can be widely used. Examples of the material used for such an insulating resin film include an epoxy resin, a polyimide resin, a polyester resin, and a resin composition containing these. Preferably, it is a polyimide resin or a resin composition containing a polyimide resin. Among the polyimide resins, a silicon-modified polyimide resin having a silicon unit is preferable. For example, a resin composition comprising 70 to 99% by weight of a polyimide resin having a silicon unit and 1 to 30% by weight of an epoxy resin, which is disclosed in JP-A-6-200216, is preferred.

【0012】エポキシ樹脂を配合したポリイミド樹脂組
成物の場合、これは未硬化又は半硬化樹脂であることが
好ましく、特にBステージ化状態のものが好ましい。
In the case of a polyimide resin composition containing an epoxy resin, it is preferably an uncured or semi-cured resin, and particularly preferably a B-staged resin.

【0013】樹脂フィルムの厚みは特に限定されるもの
ではないが、1μm以上1000μm以下が好ましい。
1μm未満の樹脂フィルムの作成は困難であり、また1
000μmを超える樹脂フィルムの場合はレーザ加工す
る上でもエネルギー的に加工が困難となり、また多層配
線板の厚みが厚くなり、実用的でなくなる。
The thickness of the resin film is not particularly limited, but is preferably 1 μm or more and 1000 μm or less.
It is difficult to prepare a resin film having a thickness of less than 1 μm.
In the case of a resin film having a thickness of more than 000 μm, it is difficult to process the resin film in terms of energy even in laser processing, and the thickness of the multilayer wiring board becomes large, which is not practical.

【0014】本発明においては、樹脂フィルムに所定範
囲の開口部を設けるため、レーザー発振器から発振さ
れ、掃引されたレーザを開口したい部分に照射するが、
使用するレーザとしては、大型設備が不要で、かつ取り
扱いやメンテナンスが比較的容易な炭酸ガスレーザーが
好ましい。なお、所定範囲の開口部とは、少なくともフ
レックス部に対応する部分又はその部分と周辺部の一部
又は全部を含むものであればよく、必要によりその他の
部分を含んでもよい。
In the present invention, in order to provide an opening in a predetermined range in the resin film, a laser which is oscillated from a laser oscillator and is swept is applied to a portion to be opened.
As a laser to be used, a carbon dioxide gas laser which does not require large equipment and is relatively easy to handle and maintain is preferable. The opening in the predetermined range may include at least a part corresponding to the flex part or a part or all of the part and the peripheral part, and may include other parts as necessary.

【0015】炭酸ガスレーザを用いて樹脂フィルムを加
工する場合、加工装置には後記するような公知の炭酸ガ
スレーザ加工装置を用いることができる。樹脂フィルム
の加工に用いられる炭酸ガスレーザー発振装置は、発振
波長が9〜11μmである連続発振が可能な公知の炭酸
ガスレーザ装置を用いればよく、好ましくは平均出力が
100W以上、更に好ましくは500W以上の炭酸ガスレ
ーザー装置を用いることがよい。
When a resin film is processed using a carbon dioxide laser, a known carbon dioxide laser processing apparatus as described later can be used as the processing apparatus. The carbon dioxide laser oscillation device used for processing the resin film may use a known carbon dioxide laser device capable of continuous oscillation having an oscillation wavelength of 9 to 11 μm, and preferably has an average output of 100 W or more, more preferably 500 W or more. It is preferable to use a carbon dioxide gas laser device.

【0016】レーザ発振器から発振された連続発振レー
ザビームを、樹脂フィルムの除去加工したい部分に照射
するためにはレーザビームを掃引する必要がある。掃引
する方法としては、公知のレーザ加工で使用されるミラ
ー装置を使用することで可能となる。このような掃引可
能な駆動ミラー装置としては、平面ミラーを平面を含む
軸に対してある角度で往復で回転運動させることのでき
るガルバノミラースキャナーと、多角形ミラーを回転さ
せるポリゴンミラースキャナが知られており、いずれも
使用することができる。
In order to irradiate a continuous wave laser beam oscillated from a laser oscillator to a portion of the resin film to be removed, it is necessary to sweep the laser beam. The sweeping method can be performed by using a mirror device used in known laser processing. As such a sweepable driving mirror device, a galvano mirror scanner capable of rotating a plane mirror back and forth at an angle with respect to an axis including a plane and a polygon mirror scanner rotating a polygon mirror are known. And any of them can be used.

【0017】通常、レーザ加工を連続的に行う場合、加
工対象物は一定方向に一定の速度で移動させることが可
能な加工テーブルを用いて行なわれる。つまり、上記の
ようにして掃引されたレーザビームは、加工テーブル上
の一定方向に移動する樹脂フィルムに照射されることと
なるが、ここで、レーザビームは樹脂フィルムの移動方
向(Y方向とする)と直行する方向(X方向とする)に照
射される。
Normally, when laser processing is performed continuously, the processing object is performed using a processing table that can be moved at a constant speed in a fixed direction. That is, the laser beam swept as described above is applied to the resin film moving in a certain direction on the processing table. Here, the laser beam is moved in the moving direction (the Y direction) of the resin film. ) Is irradiated in the direction (X direction).

【0018】上記、掃引されたレーザビームを集光する
場合、光学レンズを使用してもよく、使用する光学レン
ズは炭酸ガスレーザを使用した場合には、レーザビーム
に対する透過率の高さからZnSe製が好ましい。
When condensing the swept laser beam, an optical lens may be used. When a carbon dioxide laser is used, the optical lens used is made of ZnSe due to the high transmittance to the laser beam. Is preferred.

【0019】樹脂フィルムの加工にあたり、(駆動ミラ
ー掃引装置と光学レンズとを組み合わせて、)レーザビ
ームをコンフォーマルマスクあるいはコンタクトマスク
を施した樹脂フィルムに入射させるようにした場合、マ
スク面に入射したレーザビームの一部はマスクに吸収さ
れること無く反射され、略同一光路を通ってレーザ発振
器へ逆戻りする場合が有る。一度発振されたレーザビー
ムがレーザ発振器に逆戻りすれば、逆戻りしたレーザビ
ームがレーザ発振に関らない誘導放出を引き起こし、レ
ーザ発振の増幅率である利得を減少させることとなり、
結果的にレーザ発振出力を低下させる原因となる場合が
考えられる。更には、逆戻りしたレーザビームがレーザ
発振器の共振器壁面などに照射され、共振器自身を破壊
する恐れも有る。したがって、このようなマスク面で反
射したレーザビームの発振器への逆戻りを防止すること
が望ましい。
In processing the resin film, when a laser beam is incident on the resin film provided with a conformal mask or a contact mask (by combining a driving mirror sweeping device and an optical lens), the laser beam is incident on the mask surface. A part of the laser beam is reflected without being absorbed by the mask, and may return to the laser oscillator through substantially the same optical path. Once the oscillated laser beam returns to the laser oscillator, the returned laser beam causes stimulated emission irrespective of laser oscillation, and decreases the gain, which is the amplification factor of laser oscillation.
As a result, it is possible that the laser oscillation output is reduced. Further, there is a possibility that the returned laser beam is irradiated to the resonator wall surface of the laser oscillator and the like, and the resonator itself is destroyed. Therefore, it is desirable to prevent the laser beam reflected on the mask surface from returning to the oscillator.

【0020】レーザビームの発振器への逆戻りを防止す
る方法としては、レーザビームの偏向を利用する円偏向
ミラーなどを組み合わせた光学系をレーザ発振器と樹脂
フィルムの間に配置する方法がある。しかしながらこの
場合、発振されたレーザビームの一部はこれら光学系で
反射あるいは吸収され、樹脂フィルムに照射されるレー
ザビームのエネルギー低下を引き起こし、効率を低下さ
せる原因となる。
As a method of preventing the laser beam from returning to the oscillator, there is a method of disposing an optical system combining a circular deflecting mirror or the like utilizing the deflection of the laser beam between the laser oscillator and the resin film. However, in this case, a part of the oscillated laser beam is reflected or absorbed by these optical systems, causing a decrease in the energy of the laser beam applied to the resin film, resulting in a decrease in efficiency.

【0021】このような低下を引き起こさないように
し、かつレーザビームの逆戻りを防止するには、樹脂フ
ィルムに照射されるレーザビームの入射角度が0°を超
えるように、駆動ミラー掃引装置を配置すればよい。具
体的には、駆動ミラー掃引装置を2〜20°の範囲で傾斜
させ、樹脂フィルムへのレーザビームの入射角度を2〜2
0°に制御することで、レーザビームの入射エネルギー
を低下させること無くマスク面で反射したレーザビーム
の発振器への逆戻りを防止できる。傾斜角度が2°未満
の場合は、マスクで反射したレーザビームの一部がレー
ザ発振器へ逆戻りし、また、傾斜角度が20°を超える場
合は、逆戻りはしないが、レーザ加工後の樹脂フィルム
の加工断面形状が傾斜角度に対応して傾斜し好ましくな
い。
In order to prevent such a reduction and prevent the laser beam from returning, it is necessary to arrange the driving mirror sweeping device so that the incident angle of the laser beam applied to the resin film exceeds 0 °. I just need. Specifically, the drive mirror sweeping device is tilted in the range of 2 to 20 °, and the incident angle of the laser beam on the resin film is set to 2 to 2
By controlling the angle to 0 °, it is possible to prevent the laser beam reflected on the mask surface from returning to the oscillator without reducing the incident energy of the laser beam. When the inclination angle is less than 2 °, a part of the laser beam reflected by the mask returns to the laser oscillator, and when the inclination angle exceeds 20 °, the laser beam does not return, but the resin film after the laser processing does not return. The processed cross-sectional shape is undesirably tilted according to the tilt angle.

【0022】加工すべき樹脂フィルムを移動かつ固定す
る加工テーブルは、駆動ミラー掃引装置による掃引方向
(X方向)と直行する方向(Y方向)に、一定速度で移動
する機構を備えたものであればよい。加工テーブルの形
状は特に限定されるものではなく、平面状でもよく、ま
た円筒状でもよい。加工テーブルが円筒状である場合
は、駆動ミラー掃引装置によるレーザビームの掃引方向
が円筒の高さ方向に一致するように円筒を配置しなけれ
ばならない。また、加工テーブルへの樹脂フィルムの固
定方法も特に限定されるものではなく、加工テーブルが
平面状の場合は加工テーブルに設けた微細穴を介した真
空吸引による方法や、マグネットによる方法でもよく、
加工テーブルが円筒状の場合は、テンションロールなど
を用いた方法でもよい。いずれにしても樹脂フィルムの
移動速度が少なくとも0.1〜2(cm/s)の範囲で0.1(cm/s)
刻みで可変制御可能であり、好ましくは0.01〜10(cm/s)
の範囲で0.01cm/s刻みで可変制御可能であればよい。
The processing table for moving and fixing the resin film to be processed is provided with a mechanism for moving at a constant speed in a direction (Y direction) orthogonal to a sweep direction (X direction) by a driving mirror sweeping device. I just need. The shape of the working table is not particularly limited, and may be a flat shape or a cylindrical shape. When the processing table is cylindrical, the cylinder must be arranged so that the sweep direction of the laser beam by the drive mirror sweeping device matches the height direction of the cylinder. Also, the method of fixing the resin film to the processing table is not particularly limited, and when the processing table is planar, a method using vacuum suction through fine holes provided in the processing table or a method using a magnet may be used.
When the processing table is cylindrical, a method using a tension roll or the like may be used. In any case, the moving speed of the resin film is at least 0.1 (cm / s) in the range of 0.1 to 2 (cm / s).
It can be variably controlled in increments, preferably 0.01 to 10 (cm / s)
It is only necessary to be able to variably control in the range of 0.01 cm / s.

【0023】樹脂フィルムをレーザビームで加工する
と、すすなどの絶縁層の分解副生成物が発生し、これが
配線板に付着したり、あるいは加工装置を構成する光学
レンズに付着したりする場合がある。これらはそれぞ
れ、樹脂フィルムの品質を低下させたり、加工装置の性
能を低下させる原因となり、好ましくない。そこで、こ
れら発生するすすなどの分解副生成物の除去を目的とし
たガス吹き付け装置であるいわゆるアシストガス装置、
あるいはエアカーテン装置、すすを回収するための集塵
装置などを配置することが好ましい。それぞれの装置
は、一般に知られている装置でよく、また、アシストガ
ス装置及びエアカーテン装置に用いるガスの種類は特に
限定されるものではなく、例えばコンプレッサーなどで
5kg/cm2程度に加圧された空気を用いてもよい。
When the resin film is processed by the laser beam, decomposition by-products of the insulating layer such as soot are generated, which may adhere to the wiring board or to the optical lens constituting the processing apparatus. . Each of these causes a decrease in the quality of the resin film and a decrease in the performance of the processing apparatus, and is not preferable. Therefore, a so-called assist gas device, which is a gas blowing device for removing decomposition by-products such as soot generated,
Alternatively, it is preferable to dispose an air curtain device, a dust collecting device for collecting soot, and the like. Each device may be a generally known device, and the type of gas used for the assist gas device and the air curtain device is not particularly limited.
Air pressurized to about 5 kg / cm 2 may be used.

【0024】このようなレーザ加工装置を用いて樹脂フ
ィルムにレーザ照射して加工を行う場合、レーザの平均
出力、レーザビーム束の樹脂フィルム表面での断面積及
び駆動ミラー掃引装置によるレーザビームの樹脂フィル
ム上での掃引速度によって制御される樹脂フィルムに照
射されるレーザビームのエネルギー密度φ0(J/cm2
は、レーザによる樹脂フィルム加工における加工閾値φ
th(J/cm2)によって決まり、 2φth<φ0<20φth の範囲であることが望ましい。特に、樹脂フィルムがポ
リイミド樹脂あるいはエポキシ樹脂を主成分とする場合
は、3J/cm2以上、50J/cm2以下のエネルギー密度であ
ることが好ましい。
When processing is performed by irradiating a resin film with a laser using such a laser processing apparatus, the average output of the laser beam, the cross-sectional area of the laser beam bundle on the resin film surface, and the resin beam of the laser beam by the drive mirror sweeping device Energy density φ 0 (J / cm 2 ) of the laser beam applied to the resin film controlled by the sweep speed on the film
Is the processing threshold φ in resin film processing by laser
th (J / cm 2 ), and desirably in the range of 2φ th0 <20φ th . In particular, when the resin film is composed mainly of a polyimide resin or epoxy resin, 3J / cm 2 or more and an energy density of 50 J / cm 2 or less.

【0025】また、樹脂フィルムを固定した加工テーブ
ルの移動速度v(cm/s)は、樹脂フィルムの吸収係
数α(cm-1)、フィルムを加工する厚みL(cm)、
レーザビーム束の樹脂フィルム表面での断面直径d(c
m)、及び駆動ミラー掃引装置による掃引周波数G(H
z)によって決まり、 0.5×(dG/αL)<v<4.0×(dG/αL) の範囲であることが望ましい。
The moving speed v (cm / s) of the processing table on which the resin film is fixed is determined by the absorption coefficient α (cm -1 ) of the resin film, the thickness L (cm) for processing the film,
Section diameter d (c) of the laser beam bundle on the resin film surface
m) and the sweep frequency G (H
z), and it is desirable that the range is 0.5 × (dG / αL) <v <4.0 × (dG / αL).

【0026】本発明において、レーザ加工した接着層兼
絶縁層となる樹脂フィルムと配線板を積層する方法は、
特に限定されるものではないが、ホットプレス、ホット
ロール等の加熱加圧成形機を用いて160〜220℃の
温度範囲で、20〜40Kg/cm2程度の圧力範囲を
もって加熱加圧成形法により積層する方法が好ましい。
In the present invention, the method of laminating a resin film to be a laser-processed adhesive layer and insulating layer and a wiring board is as follows.
Although not particularly limited, a hot press, a hot roll or the like is used to apply a hot press forming method at a temperature range of 160 to 220 ° C. and a pressure range of about 20 to 40 kg / cm 2 by a hot press forming method. The lamination method is preferred.

【0027】上記の積層体を穴あけ処理などを行うに
は、NC穴開け等の公知の方法によるものでよく、ま
た、開孔した部分に銅メッキ等を施し、スルーホールを
形成する場合も、公知の無電解めっきあるいは電解めっ
きの方法によるものでよい。更に、表面層の導体層の回
路加工は感光性樹脂を塗布するか、あるいは通常の感光
性ドライフィルムをラミネートした後、所望のマスクパ
ターンを載せて紫外線照射で感光性樹脂層を感光させて
現像した後、塩化第二鉄等のエッチング液でエッチング
するなど公知方法によるものでよい。
The above-mentioned laminate may be subjected to a drilling process or the like by a known method such as NC drilling. Also, when a plated portion is plated with copper to form a through hole, A known electroless plating or electrolytic plating method may be used. Further, the circuit processing of the conductor layer of the surface layer is performed by applying a photosensitive resin or laminating a usual photosensitive dry film, then placing a desired mask pattern thereon and exposing the photosensitive resin layer by ultraviolet irradiation to develop. After that, a known method such as etching with an etchant such as ferric chloride may be used.

【0028】[0028]

【実施例】以下、実施例に基づいて本発明のリジット-
フレックス配線板の製造方法について詳細に説明する。
EXAMPLES The following will explain the rigidity of the present invention based on examples.
The method for manufacturing the flex wiring board will be described in detail.

【0029】実施例1 リジット-フレックス配線板のフレキシブル配線板とリ
ジット配線板間の層間接着兼絶縁用の樹脂フィルムに
は、新日鐡化学株式会社製ボンディングシートSPB05
0A(厚み50μm、エポキシ樹脂配合シリコン変性ポ
リイミド樹脂組成物:Bステージ)を用いた。
Example 1 A bonding sheet SPB05 manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd. was used for a resin film for interlayer adhesion and insulation between a flexible wiring board of a rigid-flex wiring board and a rigid wiring board.
OA (thickness: 50 μm, epoxy-modified silicone-modified polyimide resin composition: B stage) was used.

【0030】図2に示すような、連続発振可能な炭酸ガ
スレーザ発振器20に単方向掃引ガルバノミラー掃引装
置23を取り付け、ガルバノミラー掃引装置による掃引
方向と略直角方向に移動する加工テーブル24を備えた
装置を用いて、樹脂フィルムを加工した。フレキシブル
配線板が露出してフレックス部となる所定の範囲のレー
ザ加工による開口には、金属マスクのコンタクト方式を
用いた。コンタクトマスクの開口部は100mm×50
mmの寸法で、50cm2の開口面積を持つものとし
た。なお、図中21はレーザビーム、22は集光レンズ
である。
As shown in FIG. 2, a unidirectional sweeping galvanomirror sweeping device 23 is attached to a continuously oscillating carbon dioxide laser 20 and a processing table 24 is provided which moves in a direction substantially perpendicular to the sweeping direction of the galvanomirror sweeping device. The resin film was processed using the apparatus. A metal mask contact method was used for the opening formed by laser processing in a predetermined range where the flexible wiring board was exposed to become a flex portion. Opening of contact mask is 100mm × 50
mm and an opening area of 50 cm 2 . In the drawing, reference numeral 21 denotes a laser beam, and reference numeral 22 denotes a condenser lens.

【0031】樹脂フィルムのレーザ加工は、レーザ発振
の平均出力を720W、レーザビームの集光面積を9.
62×10-4cm2、レーザビームの掃引幅を100m
m、配線板の移動速度を12mm/s及びガルバノミラ
ー掃引装置による掃引周波数を50Hzとして前記ボン
ディングシートの加工を行った。
In the laser processing of the resin film, the average output of laser oscillation is 720 W, and the laser beam focusing area is 9.
62 × 10 -4 cm 2 , laser beam sweep width 100 m
m, the moving speed of the wiring board was 12 mm / s, and the sweep frequency by the galvanomirror sweeping device was 50 Hz.

【0032】次に、図1に示すようにフレキシブル配線
板である新日鐡化学株式会社製両面銅張り積層板(SB
35-50-35WE)に、市販の感光性ドライフィルムをラミ
ネートし、所望のマスクパターンを載せて紫外線照射で
これを感光させ、現像したのち、塩化第二鉄等のエッチ
ング液でエッチングして導体層の回路加工を行い、新日
鐵化学株式会社製カバーレイフィルム(SPC35A2
5A)で被覆し、フレキシブル配線板5を作成した。カ
バーレイは、室温から3℃/分で加温し、180℃で1
時間保持した後、水冷方式で20分で室温まで冷却する
温度条件で、30kg/cm2のプレス圧力でプレスして被覆
した。
Next, as shown in FIG. 1, a double-sided copper-clad laminate (SB
35-50-35WE), laminating a commercially available photosensitive dry film, placing a desired mask pattern on it, exposing it to ultraviolet light, developing it, etching it with an etchant such as ferric chloride, etc. The circuit processing of the layer is performed, and a coverlay film (SPC35A2) manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.
5A) to form a flexible wiring board 5. The coverlay is heated from room temperature at 3 ° C / min.
After holding for a time, the coating was performed by pressing with a pressing pressure of 30 kg / cm 2 under a temperature condition of cooling to room temperature in 20 minutes by a water cooling method.

【0033】次に、フレックス部となる所定の開口部を
開けたリジット配線板3及び7、リジット配線板の開口
部と開口部同士が重なるように開口部10、11、12
及び13を設けた樹脂フィルム2、4、6及び8と、外
層を形成する銅箔1、9をホットプレスにより同時に積
層した。積層プレスは、室温から3℃/分で加温し、1
80℃で1時間保持した後、水冷方式で20分で室温ま
で冷却し、プレス圧力は20kg/cm2の条件で行った。
Next, the rigid wiring boards 3 and 7 having predetermined openings which are to be flex portions are opened, and the openings 10, 11, 12 so that the openings of the rigid wiring board overlap with the openings.
And 13, and the copper foils 1 and 9 forming the outer layer were simultaneously laminated by hot pressing. The laminating press is heated from room temperature at 3 ° C./min.
After maintaining at 80 ° C. for 1 hour, the mixture was cooled to room temperature by a water cooling method in 20 minutes, and the pressure was set to 20 kg / cm 2 .

【0034】次に、積層した多層配線板に、穴開け及び
銅メッキを施した後に感光性ドライフィルムをラミネー
トし、パターンマスクを施した後、紫外線を照射して感
光性ドライフィルムを感光させ、現像及びエッチング工
程を経て外層回路加工を行いリジット-フレックス配線
板を製造した。
Next, a perforated hole and copper plating are applied to the laminated multilayer wiring board, a photosensitive dry film is laminated, a pattern mask is applied, and the photosensitive dry film is exposed to ultraviolet rays to expose the photosensitive dry film. An outer layer circuit was processed through a development and etching process to produce a rigid-flex wiring board.

【0035】製造したリジッド-フレックス配線板は、
接着シートの加工精度が向上したことによりプレス時の
接着シートの染み出しなどが抑制されており、高効率な
製造方法であるに加え高精度で製造できることが確認さ
れた。
The manufactured rigid-flex wiring board is
Since the processing accuracy of the adhesive sheet was improved, bleeding of the adhesive sheet at the time of pressing was suppressed, and it was confirmed that in addition to a highly efficient manufacturing method, high-precision manufacturing was possible.

【0036】[0036]

【発明の効果】本発明によれば、多層配線板の絶縁性樹
脂層となる接着シートの開口部や穴等を高精度かつ高効
率で加工でき、信頼性の高い多層配線板を製造すること
ができる。
According to the present invention, it is possible to manufacture a highly reliable multi-layer wiring board which can process openings and holes of an adhesive sheet to be an insulating resin layer of the multi-layer wiring board with high accuracy and high efficiency. Can be.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 多層配線板の層構造を分解して示す斜視図FIG. 1 is an exploded perspective view showing a layer structure of a multilayer wiring board.

【図2】 連続発振炭酸ガスレーザ加工装置の概略装置
FIG. 2 is a schematic diagram of a continuous wave carbon dioxide laser processing apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、9 外層銅箔 2、4、6、8 樹脂フィルム 3、7 リジット配線板 5 フレキシブル配線板 20 炭酸ガスレーザ発振器 21 レーザビーム 22 集光レンズ 23 単方向ガルバノミラー 24 加工テーブル 1, 9 Outer layer copper foil 2, 4, 6, 8 Resin film 3, 7 Rigid wiring board 5 Flexible wiring board 20 Carbon dioxide laser oscillator 21 Laser beam 22 Condensing lens 23 Unidirectional galvanometer mirror 24 Processing table

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G02B 26/10 104 G02B 26/10 104 H05K 3/00 H05K 3/00 N // B23K 101:42 (72)発明者 井伊 正一 千葉県木更津市築地1番地、新日鐵化学株 式会社電子材料開発センター内 (72)発明者 吉澤 圭史 千葉県木更津市築地1番地、新日鐵化学株 式会社電子材料開発センター内 Fターム(参考) 2H045 AA01 AB01 DA31 4E068 AF00 CD12 CE01 DA11 5E346 AA41 CC10 EE44 GG15 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G02B 26/10 104 G02B 26/10 104 H05K 3/00 H05K 3/00 N // B23K 101: 42 (72 Inventor Shoichi Ii 1 Tsukiji, Kisarazu City, Chiba Prefecture, within the Electronic Materials Development Center of Nippon Steel Chemical Co., Ltd. F-term in development center (reference) 2H045 AA01 AB01 DA31 4E068 AF00 CD12 CE01 DA11 5E346 AA41 CC10 EE44 GG15

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 レーザビームを用いた多層配線板用樹脂
フィルムの加工において、レーザビームを単方向に掃引
可能な掃引装置とレーザビームの掃引方向とは略直角方
向に移動する樹脂フィルムを移動させるための加工テー
ブルとを備えたレーザ加工装置を用い、移動する加工テ
ーブル上の樹脂フィルムに、単方向に掃引された連続発
振レーザビームを照射し、樹脂フィルムを開口すること
を特徴とする多層配線板用樹脂フィルムの製造方法。
In a processing of a resin film for a multilayer wiring board using a laser beam, a sweeping device capable of sweeping a laser beam in one direction and a resin film moving in a direction substantially perpendicular to the laser beam sweeping direction are moved. Using a laser processing apparatus having a processing table for irradiating a resin film on a moving processing table with a continuous oscillation laser beam swept in one direction to open the resin film. A method for producing a resin film for a board.
【請求項2】 少なくとも1つの開口部の面積が0.2
cm2以上である請求項1記載の多層配線板用樹脂フィル
ムの製造方法。
2. The area of at least one opening is 0.2.
2. The method for producing a resin film for a multilayer wiring board according to claim 1, wherein the thickness is not less than cm 2 .
【請求項3】 樹脂フィルムが、シリコンユニットを有
するポリイミド樹脂又はその未硬化若しくは半硬化樹脂
である請求項1又は2記載の多層配線板用樹脂フィルム
の製造方法。
3. The method according to claim 1, wherein the resin film is a polyimide resin having a silicon unit or an uncured or semi-cured resin thereof.
【請求項4】 請求項1、2又は3記載の製造方法で得
られた樹脂フィルムを絶縁層として少なくとも1層有し
てなるリジッド-フレキシブルプリント多層配線板。
4. A rigid-flexible printed multi-layer wiring board comprising at least one resin film obtained by the method according to claim 1, 2 or 3 as an insulating layer.
JP14368999A 1999-05-24 1999-05-24 Method for producing resin film for multilayer wiring board and multilayer wiring board Expired - Fee Related JP3635211B2 (en)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14368999A JP3635211B2 (en) 1999-05-24 1999-05-24 Method for producing resin film for multilayer wiring board and multilayer wiring board
PCT/JP2000/003288 WO2000072645A1 (en) 1999-05-24 2000-05-23 Laser machining of plastic film of circuit board, and method of manufacturing circuit board
US09/979,515 US6492616B1 (en) 1999-05-24 2000-05-23 Processes for laser beam machining of resin film for wiring boards and manufacture of wiring boards
KR1020017014941A KR20020021100A (en) 1999-05-24 2000-05-23 Laser machining of plastic film of circuit board, and method of manufacturing circuit board

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14368999A JP3635211B2 (en) 1999-05-24 1999-05-24 Method for producing resin film for multilayer wiring board and multilayer wiring board

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000332425A true JP2000332425A (en) 2000-11-30
JP3635211B2 JP3635211B2 (en) 2005-04-06

Family

ID=15344678

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP14368999A Expired - Fee Related JP3635211B2 (en) 1999-05-24 1999-05-24 Method for producing resin film for multilayer wiring board and multilayer wiring board

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3635211B2 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1291118A1 (en) * 2001-09-07 2003-03-12 TRUMPF LASERTECHNIK GmbH Process and device for deepening holes in a multilayer circuit board
KR100775260B1 (en) 2006-03-17 2007-11-12 홍성국 Cutting method of the plate including the flexible printed circuit board mounting the electronic parts and the printed circuit board mounting cutted by the same method

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1291118A1 (en) * 2001-09-07 2003-03-12 TRUMPF LASERTECHNIK GmbH Process and device for deepening holes in a multilayer circuit board
KR100775260B1 (en) 2006-03-17 2007-11-12 홍성국 Cutting method of the plate including the flexible printed circuit board mounting the electronic parts and the printed circuit board mounting cutted by the same method

Also Published As

Publication number Publication date
JP3635211B2 (en) 2005-04-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0430116B1 (en) Method for forming through holes in a polyimide substrate
KR20020021100A (en) Laser machining of plastic film of circuit board, and method of manufacturing circuit board
KR100199955B1 (en) Laser processing method for pcb, apparatus therfor and carbon dioxide laser oscillator
EP0677985B1 (en) Method of manufacturing printed circuit boards
WO1989001842A1 (en) Drilling apparatus and method
WO1996002351A1 (en) Ultraviolet laser system and method for forming vias in multi-layered targets
US5567329A (en) Method and system for fabricating a multilayer laminate for a printed wiring board, and a printed wiring board formed thereby
JP3138954B2 (en) Via hole formation method
JP2003060356A (en) Manufacturing method of multilayer printed wiring board
JPH07301919A (en) Direct image-formation method for creation of resist patternon surface and its usage in manufacture of printed-circuit board
JPH10156570A (en) Laser beam machine, manufacturing device for multilayer printed circuit board and manufacture thereof
JP3635211B2 (en) Method for producing resin film for multilayer wiring board and multilayer wiring board
JP2002271039A (en) Multilayer board and its machining method
JP3199653B2 (en) Apparatus and method for manufacturing multilayer printed wiring board
JP2002028798A (en) Laser machining device and method of laser machining
KR100504234B1 (en) Laser drilling method
Morrison et al. A Large Format Modified TEA CO/sub 2/Laser Based Process for Cost Effective Small Via Generation
JP3479890B2 (en) Laser drilling machine
JPH06170570A (en) Outer shape machining method and device of flexible printed circuit board
JP3378981B2 (en) Laser-cutting printed circuit board cutting apparatus and cutting method
JP2000307215A (en) Method for working wiring board
JP3738539B2 (en) Laser processing method for laminated member
JP3343812B2 (en) Via hole forming method and laser processing apparatus
JPH08243771A (en) Method and device for perforating printed circuit board by pulse laser beam
JP2001179475A (en) Method for manufacturing double coated carrier tape

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20040106

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040308

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20040817

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20041015

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20041214

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20041228

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090107

Year of fee payment: 4

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees