JP2000323082A - Transmission electron microscope - Google Patents

Transmission electron microscope

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JP2000323082A
JP2000323082A JP11129584A JP12958499A JP2000323082A JP 2000323082 A JP2000323082 A JP 2000323082A JP 11129584 A JP11129584 A JP 11129584A JP 12958499 A JP12958499 A JP 12958499A JP 2000323082 A JP2000323082 A JP 2000323082A
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JP
Japan
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electron microscope
transmission electron
electron beam
intensity
time
Prior art date
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JP11129584A
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Japanese (ja)
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Tomoharu Obuki
友晴 尾吹
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To minimize damage of a sample caused by a long-term radiation of an electron beam by arbitrarily automatically controlling electron beam strength when no operation of this microscope continues for a certain period. SOLUTION: When no command other than a preset command is transmitted in a certain period, it is determined by an interface portion 15 that no operation of a TEM is performed. At this time, a command for controlling bias voltage is transmitted so that electron beam strength for a high voltage control portion 3 is equal to 0 or any electron beam strength set by an operator. Simultaneously, a command for turning off all of high voltage, lens current impressed for radiation of an electron beam 2, deflecting coil current and mirror-body-cooling water current is transmitted to respective control portions of the high voltage control portion 3, a lens control portion 7, a deflecting coil control portion 8, and a mirror-body-cooling device control portion 17. Thus, a function of the mirror body can be substantially stopped simultaneously to the control of filament current.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は透過電子顕微鏡(以
下、TEMと略す)に関し、特に電子照射により試料お
よび蛍光板が受けるダメージの軽減と、電子銃のフィラ
メントライフ保護、および消費電力軽減に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a transmission electron microscope (hereinafter abbreviated as TEM), and more particularly to reduction of damage to a sample and a fluorescent plate due to electron irradiation, protection of a filament life of an electron gun, and reduction of power consumption.

【0002】[0002]

【従来の技術】TEMを用いた像観察において、通常一
旦電子ビームを試料に照射すると、観察中は電子ビーム
を照射したままで装置を放置することが多々ある。電子
ビームを長時間照射すると、試料および蛍光板はダメー
ジを受ける。この電子ビームを制御する方式として、特
開平8−264148 号では、TEM像の蛍光板観察とTVカ
メラ撮影とでそれぞれに適した分光感度の蛍光体蛍光板
を使用することにより、試料に照射する電子ビームを最
小とし、試料の電子ビームダメージを最小とすることを
可能とする方法が示されていた。
2. Description of the Related Art In image observation using a TEM, usually, once an electron beam is irradiated on a sample, the apparatus is often left while being irradiated with the electron beam during observation. When the electron beam is irradiated for a long time, the sample and the fluorescent plate are damaged. As a method of controlling the electron beam, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 8-264148 discloses a method of irradiating a sample with an electron beam by using a phosphor fluorescent plate having a spectral sensitivity suitable for observation of a TEM image of a fluorescent plate and shooting of a TV camera. Has been shown to minimize electron beam damage to the sample.

【0003】また、特開平9−69352号では電子線の走査
周期とTVカメラの走査周期を同期させることにより、
通常と変わらぬTEM像を得ることができ、電子線照射
位置を常に変化させるため、試料の電子ビームによるダ
メージを低く抑えることを可能とする方式が示されてい
た。
In Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-69352, by synchronizing the scanning cycle of an electron beam with the scanning cycle of a TV camera,
There has been disclosed a method capable of obtaining a TEM image that is not different from a normal one and constantly changing an electron beam irradiation position, thereby making it possible to suppress damage of a sample by an electron beam to a low level.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記手段
では、TVカメラが装備されているTEMが対象である
ため、TVカメラのないTEMではこの手段が使用する
ことができないという問題があった。また、新たに通常
のものとは分光感度の異なる蛍光体蛍光板や、電子線の
走査周期とTVカメラの走査周期を同期させる手段を、
通常のTEMに追加する必要があるという問題があっ
た。さらに、試料に電子ビームを照射する時間は短縮で
きるものの、長時間電子銃の中のフィラメントに電流を
流し続けるため、フィラメント自身の寿命を縮めるとい
った問題があった。
However, since the above-mentioned means targets a TEM equipped with a TV camera, there is a problem that this means cannot be used in a TEM without a TV camera. In addition, a phosphor phosphor plate having a different spectral sensitivity from a normal one, and a means for synchronizing a scanning cycle of an electron beam with a scanning cycle of a TV camera are newly provided.
There is a problem that it needs to be added to a normal TEM. Further, although the time for irradiating the sample with the electron beam can be shortened, there is a problem that the life of the filament itself is shortened because current is continuously supplied to the filament in the electron gun for a long time.

【0005】本発明の目的は、従来のTEMに装備を追
加することなく電子ビームの長時間照射による試料への
ダメージを最小限に抑えることであり、また電子銃の寿
命を伸ばすことにより、フィラメント交換の回数を減ら
し、オペレータなど電子顕微鏡使用者への負担を軽減す
るとともに、フィラメント交換により発生するコストを
抑え、さらに電子ビーム強度を0またはオペレータが任
意に設定した電子ビーム強度となった際、機能的に不要
となるレンズ電流,偏向コイル電流,鏡体冷却用水流に
よる電力の消費を軽減することが可能な透過電子顕微鏡
を提供することにある。
An object of the present invention is to minimize damage to a sample due to prolonged irradiation of an electron beam without adding equipment to a conventional TEM. When the number of exchanges is reduced, the burden on the electron microscope user such as the operator is reduced, the cost caused by filament exchange is suppressed, and when the electron beam intensity becomes 0 or the electron beam intensity set arbitrarily by the operator, It is an object of the present invention to provide a transmission electron microscope capable of reducing power consumption due to a lens current, a deflection coil current, and a mirror cooling water flow which are unnecessary in function.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記目的は、透過電子顕
微鏡において、電子ビームを出した状態である一定時間
何も操作しない状態が続いたときに、自動的に電子ビー
ム強度を0またはオペレータが設定した任意の電子ビー
ム強度に制御し、同時にレンズ,偏向コイル電流および
鏡体冷却用水流をOFFすることによって達成される。
SUMMARY OF THE INVENTION The object of the present invention is to provide a transmission electron microscope in which the electron beam intensity is automatically set to 0 or the operator is automatically turned off when no operation continues for a certain period of time while emitting the electron beam. This is achieved by controlling the electron beam intensity to an arbitrary set value and simultaneously turning off the lens, the deflection coil current, and the mirror cooling water flow.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】以下、図を用いて本発明の一実施
例を説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0008】図1は、本発明のTEMにおける電子ビー
ムの制御方式の一例を示している。電子銃1から照射さ
れる電子ビーム2は、高電圧制御部3によりON/OF
Fや強度などの制御が行われる。電子銃1から照射され
た電子ビーム2は、レンズ4によって集束され、偏向コ
イル5によって電子ビーム2の試料面上での位置を調整
することにより、試料6表面の任意の位置に照射され
る。レンズ4および偏向コイル5はそれぞれレンズ制御
部7および偏向コイル制御部8によって制御されてい
る。TEM像は蛍光板9上に結像され、この蛍光板9が
電子ビーム2が完全にあたらない位置に移動することに
より、その下のカメラ10内のフィルム11上に結像さ
れ、TEM像が撮影される。このカメラ10はカメラ制
御部12によって制御されている。
FIG. 1 shows an example of an electron beam control method in the TEM of the present invention. The electron beam 2 emitted from the electron gun 1 is turned on / off by the high voltage control unit 3.
Control such as F and intensity is performed. The electron beam 2 emitted from the electron gun 1 is focused by a lens 4 and adjusted by a deflection coil 5 to adjust the position of the electron beam 2 on the sample surface, so that the electron beam 2 is emitted to an arbitrary position on the surface of the sample 6. The lens 4 and the deflection coil 5 are controlled by a lens controller 7 and a deflection coil controller 8, respectively. The TEM image is formed on the fluorescent plate 9, and when the fluorescent plate 9 moves to a position where the electron beam 2 does not completely hit, the TEM image is formed on the film 11 in the camera 10 therebelow, and the TEM image is taken. You. The camera 10 is controlled by a camera control unit 12.

【0009】高電圧制御部3,レンズ制御部7,偏向コ
イル制御部8及びカメラ制御部12は、パーソナルコン
ピュータ13および操作盤14とインターフェース部1
5を介して接続されている。このTEMはパーソナルコ
ンピュータ13を中心として、パーソナルコンピュータ
13の画面上あるいは操作盤14から入力された操作情
報を、インターフェース部15を介してコマンドとして
各制御部に送信し、その信号に応じて各部を操作する、
といった制御を行っている。
The high voltage control unit 3, the lens control unit 7, the deflection coil control unit 8, and the camera control unit 12 are connected to a personal computer 13, an operation panel 14, and an interface unit 1.
5 are connected. This TEM transmits operation information input on the screen of the personal computer 13 or from the operation panel 14 to the respective control units as commands via the interface unit 15 with the personal computer 13 at the center. Manipulate,
Such control is performed.

【0010】パーソナルコンピュータ13からは各制御
部に対して、あらかじめ決めてある、他の制御に影響を
及ぼさないコマンド(たとえば各制御部のマイコンに書
き込まれているソフトのバージョンリクエストのコマン
ドなど)を常に送り、それに対する各制御部からの返信
をパーソナルコンピュータ13が受け取ることにより、
各制御部間の通信チェックを行う、という動作をしてい
る。この際各制御部からインターフェース部15に返信
されるコマンドには、パーソナルコンピュータ13から
送信されたコマンドが正しいものか、そうでないものか
によってそれぞれ異なったものが設定されている。返信
コマンドがどちらであるかを認識することにより、常に
お互いが正常に接続及び通信しているかどうかを確認し
ている。何らかの操作情報が入力された場合、これら通
信チェック用コマンドに加えて、各制御部に送信される
制御のためのコマンドが、インターフェース部15を介
して送られることになる。インターフェース部15内の
マイクロプロセッサに書き込まれたインターフェース部
制御ソフトにはタイマー機能があり、オペレータが任意
に時間を決めて、その時間内に通信されたコマンドを監
視することが可能となっている。コマンドの監視時間は
2パターン以上設定することが可能となっている。
The personal computer 13 sends to each control unit a predetermined command which does not affect other controls (for example, a command for a software version request written in the microcomputer of each control unit). When the personal computer 13 receives a reply from each control unit in response to the
The operation of performing a communication check between the control units is performed. At this time, different commands are returned from the respective control units to the interface unit 15 depending on whether the command transmitted from the personal computer 13 is correct or not. By recognizing which reply command is used, it is always checked whether or not each other is normally connected and communicated. When any operation information is input, a command for control transmitted to each control unit is sent via the interface unit 15 in addition to the communication check command. The interface unit control software written in the microprocessor in the interface unit 15 has a timer function, and allows an operator to arbitrarily determine a time and monitor commands communicated within the time. The command monitoring time can be set to two or more patterns.

【0011】まず最初に設定したある一定時間(たとえ
ば5分)内で、あらかじめ設定されたコマンド以外が通
信されなかった(つまりバージョンリクエストのコマン
ドのみが通信されていた)、とする。インターフェース
部15では、あらかじめ決めておいたコマンド以外は検
出されないため、TEMの操作が行われていないと判断
する。この時、高電圧制御部3に対して電子ビーム強度
を0またはオペレータが設定した任意の電子ビーム強度
にするようにバイアス電圧を制御するためのコマンドを
送信する。
First, it is assumed that no command other than a preset command has been transmitted within a predetermined time (for example, 5 minutes) initially set (that is, only a version request command has been transmitted). Since the interface unit 15 does not detect any command other than the predetermined command, it determines that the TEM operation has not been performed. At this time, a command for controlling the bias voltage is transmitted to the high voltage control unit 3 so that the electron beam intensity is set to 0 or an arbitrary electron beam intensity set by the operator.

【0012】また、パーソナルコンピュータ13からの
各制御部への通信チェックのためのコマンド送受信を行
わない場合も、各制御部間での制御に関するコマンドの
送受信をインターフェース部15で監視し、最初に設定
したある一定時間(たとえば5分)内で、インターフェ
ース部15において各制御部間での制御に関するコマン
ドが検出されなかった時に、高電圧制御部3に対して電
子ビーム強度を0またはオペレータが設定した任意の電
子ビーム強度にするようにバイアス電圧を制御するため
のコマンドを送信する。これにより、電子ビーム強度が
0またはあらかじめオペレータによって任意に設定され
たビーム強度になるように、電子銃1を制御することが
可能となる。
Also, when the transmission and reception of commands for communication check from the personal computer 13 to each control unit are not performed, the transmission and reception of commands related to control between the control units are monitored by the interface unit 15 and set first. When a command related to control between the control units is not detected in the interface unit 15 within a certain fixed time (for example, 5 minutes), the electron beam intensity is set to 0 or the operator sets the high voltage control unit 3. A command for controlling the bias voltage so as to have an arbitrary electron beam intensity is transmitted. This makes it possible to control the electron gun 1 so that the electron beam intensity becomes 0 or a beam intensity arbitrarily set by an operator in advance.

【0013】次に2番目に設定したある一定時間(たと
えば10分)内で、1番目に設定した時間の場合と同じ
ように何も通信されてなかった場合、インターフェース
部15ではコマンドが通信されていなかったことを確認
し、高電圧制御部3に対して電子ビーム強度を0または
オペレータが設定した任意の電子ビーム強度にするよう
にフィラメント電流を制御するためのコマンドを送信す
る。これにより、フィラメント電流も制御することが可
能となる。またこの時同時に、電子ビーム2照射のため
に印加している高電圧やレンズ電流,偏向コイル電流、
および鏡体冷却用水流16をすべてOFFにするコマン
ドが、高電圧制御部3,レンズ制御部7,偏向コイル制
御部8および冷却装置制御部17の各制御部に対して送
信する。これにより、電子ビーム強度を0またはオペレ
ータが設定した任意の電子ビーム強度にフィラメント電
流を制御した時、同時に鏡体の機能をほぼ停止すること
が可能となる。
Next, if no communication is made within the second set time (for example, 10 minutes) as in the case of the first set time, a command is transmitted to the interface unit 15. Then, a command for controlling the filament current is transmitted to the high voltage control unit 3 so that the electron beam intensity is set to 0 or an arbitrary electron beam intensity set by the operator. As a result, the filament current can be controlled. At the same time, the high voltage, lens current, deflection coil current,
A command to turn off the mirror cooling water flow 16 is transmitted to each of the high voltage control unit 3, the lens control unit 7, the deflection coil control unit 8, and the cooling device control unit 17. Thereby, when the filament current is controlled to the electron beam intensity of 0 or an arbitrary electron beam intensity set by the operator, the function of the mirror can be almost stopped at the same time.

【0014】ある一定時間内に何の操作情報も入力され
なかった時に行われる一連の動作の直前に、バイアス電
圧,フィラメント電流,レンズ電流,偏向コイル電流な
ど、それまで動作していた条件はすべて記憶装置18に
記憶される。
Immediately before a series of operations performed when no operation information is input within a certain period of time, all conditions such as bias voltage, filament current, lens current, deflection coil current, etc., which have been operating until then, are all set. It is stored in the storage device 18.

【0015】その後、TEMに対して何らかの操作情報
が入力され、操作盤14およびパーソナルコンピュータ
13から何らかの操作に関わるコマンドが送信されたと
き、記憶装置18に記憶されていた状態に戻すためのコ
マンドを、記憶装置18から各制御部に送信する。これ
により、観察時の状態に復帰することが可能となってい
る。
After that, when some operation information is input to the TEM and a command related to some operation is transmitted from the operation panel 14 and the personal computer 13, a command for returning to the state stored in the storage device 18 is transmitted. Is transmitted from the storage device 18 to each control unit. Thereby, it is possible to return to the state at the time of observation.

【0016】また、このTEMの蛍光板9には電子線量
測定器19が接続されている。この電子線量測定器19
はさらにインターフェース部15に接続されており、電
子線量測定器19で測定した電子線量は常に監視されて
おり、この値が変化した場合はTEMが操作されてい
る、変化しない場合はTEMが操作されていないと判断
するようになっている。これをインターフェース部15
内のマイクロプロセッサに書込まれた制御ソフトのタイ
マー機能とリンクさせ、通信コマンドを監視する時間と
同じ間隔で、定期的に電子線量の値を監視し、オペレー
タが設定した任意の一定時間内に値が変化しなかった
時、コマンドの監視と同様の方法で、バイアス電圧及び
フィラメント電流を制御する。これにより、電子ビーム
強度が0またはあらかじめオペレータによって任意に設
定されたビーム強度になるように、電子銃1を制御する
ことが可能となる。
An electron dosimeter 19 is connected to the fluorescent plate 9 of the TEM. This electron dosimeter 19
Is further connected to the interface unit 15, and the electron dose measured by the electron dosimeter 19 is constantly monitored. When this value changes, the TEM is operated, and when it does not change, the TEM is operated. It is determined that they are not. This is the interface unit 15
It is linked with the timer function of the control software written in the microprocessor inside, and monitors the value of the electron dose periodically at the same interval as the time for monitoring the communication command, within the arbitrary fixed time set by the operator. When the value has not changed, the bias voltage and the filament current are controlled in a manner similar to the command monitoring. This makes it possible to control the electron gun 1 so that the electron beam intensity becomes 0 or a beam intensity arbitrarily set by an operator in advance.

【0017】そして電子線量の値が変化したとき、記憶
装置18に記憶されていた状態に戻すためのコマンド
を、記憶装置18から各制御部に送信する。これによ
り、観察時の状態に復帰することが可能となっている。
When the value of the electron dose changes, a command for returning to the state stored in the storage device 18 is transmitted from the storage device 18 to each control unit. Thereby, it is possible to return to the state at the time of observation.

【0018】さらに、ON/OFFスイッチ20の切り
替えによってこの機能のON/OFF制御が可能となって
いる。ON/OFFスイッチ20はインターフェース部
15の中のマイクロプロセッサのI/Oポートの1bit
に接続されている。ON/OFFスイッチ20を切り替
えることにより、このbit に“0”あるいは“1”を立
てる。このため、オペレータが故意に電子ビーム2を出
したままの状態にしたい場合、電子ビーム2を出したま
まの状態を保持することが可能となっている。
Further, by switching the ON / OFF switch 20, ON / OFF control of this function can be performed. The ON / OFF switch 20 is a 1-bit I / O port of the microprocessor in the interface unit 15.
It is connected to the. By switching the ON / OFF switch 20, "0" or "1" is set in this bit. Therefore, when the operator intentionally wants to keep the state where the electron beam 2 is emitted, it is possible to maintain the state where the electron beam 2 is emitted.

【0019】これらを利用することにより、従来のTE
Mに装備を追加することなく電子ビームの照射時間と、
その際機能的に不要な部分の電源ON/OFFを自動的
に短く制御することが可能な構成となっている。
By utilizing these, the conventional TE
The irradiation time of the electron beam without adding equipment to M
At this time, the power ON / OFF of the functionally unnecessary part can be automatically controlled to be short.

【0020】[0020]

【発明の効果】上述したように、本発明によれば以下の
ような効果が達成される。
As described above, according to the present invention, the following effects are achieved.

【0021】従来のTEMに装備を追加することなく、
照射する電子ビーム強度を自動的に制御するため、長時
間照射による試料へのダメージを最小限に抑えることが
可能である。また、フィラメントに電流を流す時間を短
縮するため、電子銃の寿命を伸ばすことが可能であり、
フィラメント交換の回数を減らし、オペレータなど電子
顕微鏡使用者への負担を軽減するとともに、フィラメン
ト交換により発生するコストを抑えることが可能とな
る。さらに、電子ビーム強度の制御を、監視時間の長さ
でバイアス電圧とフィラメント電流の2段階に分け、は
じめにバイアス電圧、次にフィラメント電流という順番
にし、同時にレンズ,偏向コイルの電流および鏡体側冷
却装置をOFFすることにより、操作されなかった時間
が短時間の場合、電子ビームの復帰が早く、長時間の場
合は消費電力軽減が可能となっている。
Without adding equipment to the conventional TEM,
Since the intensity of the electron beam to be irradiated is automatically controlled, it is possible to minimize damage to the sample due to long-time irradiation. In addition, it is possible to extend the life of the electron gun in order to shorten the time for passing the current through the filament,
It is possible to reduce the number of times of filament exchange, reduce the burden on the user of the electron microscope such as the operator, and to suppress the cost caused by filament exchange. Further, the control of the electron beam intensity is divided into two stages of the bias voltage and the filament current according to the length of the monitoring time, first the bias voltage and then the filament current, and at the same time, the current of the lens, the deflection coil and the mirror side cooling device. Is turned off, the return of the electron beam is quick when the time during which no operation is performed is short, and the power consumption can be reduced when the time is long.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例であるTEMの構成図であ
る。
FIG. 1 is a configuration diagram of a TEM according to an embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…電子銃、2…電子ビーム、3…高電圧制御部、4…
レンズ、5…偏向コイル、6…試料、7…レンズ制御
部、8…偏向コイル制御部、9…蛍光板、10…カメ
ラ、11…フィルム、12…カメラ制御部、13…パー
ソナルコンピュータ、14…制御盤、15…インターフ
ェース部、16…鏡体冷却用水流、17…鏡体冷却装置
制御部、18…記憶装置、19…電子線量測定器、20
…ON/OFFスイッチ。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Electron gun, 2 ... Electron beam, 3 ... High voltage control part, 4 ...
Lens 5, deflection coil, 6 sample, 7 lens control unit, 8 deflection coil control unit, 9 fluorescent plate, 10 camera, 11 film, 12 camera control unit, 13 personal computer, 14 control Panel, 15: Interface unit, 16: Water flow for cooling mirror, 17: Control unit for cooling device of mirror, 18: Storage device, 19: Electronic dosimeter, 20
... ON / OFF switch.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】透過電子顕微鏡において、試料へ照射して
いる電子ビームの強度を制御できる手段及び該強度を設
定する手段と、ある一定時間を測定し、その間該透過電
子顕微鏡の操作に関わる入力制御部からの入力情報を監
視することが可能な手段を有し、前記透過電子顕微鏡が
ある一定時間内に、何も操作情報が入力されなかった時
に、電子ビーム強度を0あるいは予め設定した任意の電
子ビーム強度になるようにバイアス電圧を制御すること
を特徴とする透過電子顕微鏡。
In a transmission electron microscope, a means for controlling the intensity of an electron beam irradiating a sample, a means for setting the intensity, and an input related to the operation of the transmission electron microscope during a certain period of time are measured. A means capable of monitoring input information from the control unit, wherein when no operation information is input within a certain period of time, the transmission electron microscope sets the electron beam intensity to 0 or an arbitrary preset value; A transmission electron microscope characterized in that a bias voltage is controlled so that the electron beam intensity becomes as high as possible.
【請求項2】透過電子顕微鏡において、試料へ照射して
いる電子ビームの強度を制御できる手段及び該強度を設
定する手段と、ある一定時間を測定し、その間該透過電
子顕微鏡の操作に関わる入力制御部からの入力情報を監
視することが可能な手段を有し、前記透過電子顕微鏡が
ある一定時間内に、何も操作情報が入力されなかった時
に、電子ビーム強度を0あるいは予め設定した任意の電
子ビーム強度になるようにフィラメント電流を制御する
ことを特徴とする透過電子顕微鏡。
2. A means for controlling the intensity of an electron beam irradiating a sample in a transmission electron microscope, a means for setting the intensity, and an input relating to the operation of the transmission electron microscope during a certain period of time. A means capable of monitoring input information from the control unit, wherein when no operation information is input within a certain period of time, the transmission electron microscope sets the electron beam intensity to 0 or an arbitrary preset value; A transmission electron microscope characterized in that the filament current is controlled so that the electron beam intensity becomes as high as possible.
【請求項3】透過電子顕微鏡において、試料へ照射して
いる電子ビームの強度を制御できる手段及び該強度を設
定する手段と、ある一定時間を測定し、その間該透過電
子顕微鏡の操作に関わる入力制御部からの入力情報を監
視することが可能な手段を有し、前記透過電子顕微鏡が
ある一定時間内に、何も操作情報が入力されなかった時
に、前記透過電子顕微鏡のバイアス電圧またはフィラメ
ント電流が0またはオペレータが設定した任意の値に制
御され、さらにある一定の時間内に何も操作情報が入力
されなかった時に、前記透過電子顕微鏡のバイアス電圧
またはフィラメント電流が0またはオペレータが設定し
た任意の値に制御されるといった、複数段階で電子ビー
ム強度を0あるいは予め設定した任意の電子ビーム強度
に制御することを特徴とする透過電子顕微鏡。
3. A means for controlling the intensity of an electron beam irradiating a sample in a transmission electron microscope, a means for setting the intensity, and an input related to the operation of the transmission electron microscope during a certain period of time. A means capable of monitoring input information from a control unit, wherein when no operation information is input within a certain period of time of the transmission electron microscope, a bias voltage or a filament current of the transmission electron microscope; Is controlled to 0 or an arbitrary value set by an operator, and when no operation information is input within a certain period of time, the bias voltage or filament current of the transmission electron microscope is set to 0 or an arbitrary value set by the operator. It is necessary to control the electron beam intensity to 0 or to an arbitrary predetermined electron beam intensity in a plurality of stages, such as controlling the electron beam intensity to a predetermined value. Transmission electron microscope according to symptoms.
【請求項4】透過電子顕微鏡において、試料へ照射して
いる電子ビームの強度を制御できる手段及び該強度を設
定する手段と、ある一定時間を測定し、その間該透過電
子顕微鏡の操作に関わる入力制御部からの入力情報を監
視することが可能な手段を有し、前記透過電子顕微鏡が
ある一定時間内に、何も操作情報が入力されなかった時
に、前記透過電子顕微鏡が自動的に高電圧,レンズ電流
および偏向コイル電流をOFFあるいは予め設定した任
意の電圧値及び電流値に制御することを特徴とする透過
電子顕微鏡。
4. A transmission electron microscope, means for controlling the intensity of an electron beam irradiating a sample, means for setting the intensity, and an input relating to operation of the transmission electron microscope during a certain period of time. A means capable of monitoring input information from a control unit, wherein when no operation information is input within a certain period of time, the transmission electron microscope automatically switches to a high voltage. A transmission electron microscope, wherein a lens current and a deflection coil current are turned off or controlled to predetermined voltage values and current values.
【請求項5】透過電子顕微鏡において、試料へ照射して
いる電子ビームの強度を制御できる手段及び該強度を設
定する手段と、ある一定時間を測定し、その間該透過電
子顕微鏡の操作に関わる入力制御部からの入力情報を監
視することが可能な手段を有し、前記透過電子顕微鏡が
ある一定時間内に、何も操作情報が入力されなかった時
に、前記透過電子顕微鏡が自動的に鏡体冷却用水流をO
FFすることが可能なことを特徴とする透過電子顕微
鏡。
5. A transmission electron microscope, a means for controlling the intensity of an electron beam irradiating a sample, a means for setting the intensity, and an input relating to the operation of the transmission electron microscope during a certain period of time measured during the measurement. A means capable of monitoring input information from a control unit, wherein when no operation information is input within a certain period of time, the transmission electron microscope is automatically turned into a mirror body; O for cooling water flow
A transmission electron microscope characterized by being able to perform FF.
【請求項6】請求項1〜5のいずれか1項記載の透過電
子顕微鏡において、該透過電子顕微鏡がある一定時間内
で何も操作されなかった時に、一度OFFあるいは予め
設定した状態になったバイアス電圧,フィラメント電
流,レンズ電流,偏向コイル電流、およびOFFになっ
た鏡体冷却用水流が、何らか前記透過電子顕微鏡の操作
をオペレータが行った時に、元の状態に復帰することを
特徴とする透過電子顕微鏡。
6. The transmission electron microscope according to claim 1, wherein when the transmission electron microscope has not been operated for a certain period of time, the transmission electron microscope is once turned off or set in a preset state. The bias voltage, the filament current, the lens current, the deflection coil current, and the turned off mirror cooling water flow return to the original state when the operator performs any operation of the transmission electron microscope. Transmission electron microscope.
【請求項7】請求項1〜6のいずれか1項記載の透過電
子顕微鏡において、該透過電子顕微鏡の操作を監視する
時間を、オペレータが任意に設定することが可能なこと
を特徴とする透過電子顕微鏡。
7. The transmission electron microscope according to claim 1, wherein an operator can arbitrarily set a time for monitoring the operation of the transmission electron microscope. electronic microscope.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004006219A (en) * 2002-04-11 2004-01-08 Keyence Corp Electron microscope, operating method of electron microscope, operation program of electron microscope and recording medium capable of reading by computer

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