JP2000315575A - High-frequency heating device - Google Patents

High-frequency heating device

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JP2000315575A
JP2000315575A JP11122094A JP12209499A JP2000315575A JP 2000315575 A JP2000315575 A JP 2000315575A JP 11122094 A JP11122094 A JP 11122094A JP 12209499 A JP12209499 A JP 12209499A JP 2000315575 A JP2000315575 A JP 2000315575A
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heated
frequency
heating chamber
heating
driving
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明美 福本
Tomotaka Nobue
等隆 信江
Tomomi Uchiyama
智美 内山
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To eliminate uneven heating workmanship of an object to be heated in a high frequency heating device by varying the distribution of microwaves in the heating chamber. SOLUTION: A high frequency heating device is composed of a high frequency wave generating means 11, a heating chamber 13 to store an object to be heated, a turntable 14 whereon the object heated is placed, a turntable support 15 to support the turntable 14, a first driving means 16 to rotate the support 15, an aperture 18 provided in a wall surface 19 to form the heating chamber 13, a groove 20 ending at the aperture 18, an impedance varying means 21 to vary the impedance of the aperture 18 provided in the groove 20, and a second driving means 22 to drive the means 21, whereby the distribution of the microwaves is changed by disturbing the high frequency current in the wall surface 19 of the chamber 13 by the means 21, and thereby unevenness in the heating of the object can be eliminated.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、食品等の被加熱物
を加熱する高周波加熱装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a high-frequency heating apparatus for heating an object to be heated such as food.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の高周波加熱装置について図を用い
て説明する。図10は高周波加熱装置の概略構成図であ
る。1は高周波加熱装置本体、2はマイクロ波を発生す
るマグネトロン(高周波発生手段)、3はマグネトロン
から発生したマイクロ波を導く導波管、4は食品等被加
熱物を収容する加熱室、5は被加熱物を載置するターン
テーブル(載置台)、6はターンテーブル5を支えるタ
ーンテーブル支えである。7はターンテーブル支え6を
回転させるモータ、8はマグネトロン2とモータ7を制
御する制御手段である。
2. Description of the Related Art A conventional high-frequency heating apparatus will be described with reference to the drawings. FIG. 10 is a schematic configuration diagram of the high-frequency heating device. 1 is a main body of a high-frequency heating device, 2 is a magnetron (high-frequency generation means) for generating a microwave, 3 is a waveguide for guiding a microwave generated from the magnetron, 4 is a heating chamber for accommodating an object to be heated such as food, 5 is A turntable (mounting table) 6 on which an object to be heated is mounted is a turntable support for supporting the turntable 5. Reference numeral 7 denotes a motor for rotating the turntable support 6, and reference numeral 8 denotes control means for controlling the magnetron 2 and the motor 7.

【0003】加熱する場合は、ターンテーブルに食品等
の被加熱物を載置し、被加熱物に含まれる水分がマイク
ロ波を吸収して自己発熱する現象を利用する。
In the case of heating, an object to be heated such as food is placed on a turntable, and a phenomenon in which moisture contained in the object to be heated absorbs microwaves and self-heats is used.

【0004】従来の高周波加熱装置の加熱室内では、高
周波発生手段から加熱室内へ放射されたマイクロ波は定
在波を発生する。定在波によって発生した加熱室内のマ
イクロ波の分布はほとんど変化しないため、マイクロ波
強度の強い領域にある被加熱物は加熱されやすく、マイ
クロ波強度の弱い領域にある被加熱物は加熱されにく
い。よって被加熱物には加熱むらが発生する。
[0004] In a heating chamber of a conventional high-frequency heating device, a microwave radiated from a high-frequency generator into the heating chamber generates a standing wave. Since the distribution of microwaves in the heating chamber generated by the standing wave hardly changes, the object to be heated in the region with high microwave intensity is easily heated, and the object to be heated in the region with low microwave intensity is not easily heated. . Therefore, uneven heating occurs in the object to be heated.

【0005】従来の技術では、被加熱物に照射されるマ
イクロ波の状態を変化させるために、ターンテーブルを
回転させたり、高さを変える方法などが採用されてい
る。
[0005] In the prior art, a method of rotating a turntable, changing a height, and the like are employed to change a state of microwaves applied to an object to be heated.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の技術に
おいて、ターンテーブルを回転させる方法は、加熱室内
のマイクロ波の分布を変化させることができず、被加熱
物は一定のマイクロ波分布の中を繰り返し通過しながら
加熱されるので、被加熱物の加熱領域が同心円状発生す
るという問題点がある。また、被加熱物に照射するマイ
クロ波の強度を変化させることができないので、マイク
ロ波強度の強い領域は加熱されすぎ、またマイクロ波強
度の弱い領域は加熱不足になるという問題点もある。
However, in the prior art, the method of rotating the turntable cannot change the distribution of microwaves in the heating chamber, and the object to be heated has a constant microwave distribution. Is heated while repeatedly passing through, the heating area of the object to be heated is concentrically generated. In addition, since the intensity of the microwave applied to the object to be heated cannot be changed, there is a problem that a region having a high microwave intensity is excessively heated and a region having a low microwave intensity is insufficiently heated.

【0007】本発明はこのような課題を解決するもので
あり、加熱室内に生じるマイクロ波の分布を変化させて
被加熱物の加熱むらをなくす高周波加熱装置を提供する
ことを目的とする。
An object of the present invention is to solve such a problem, and an object of the present invention is to provide a high-frequency heating apparatus that changes the distribution of microwaves generated in a heating chamber and eliminates uneven heating of an object to be heated.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本発明の高周波加熱装置は、被加熱物を収納する
加熱室と、前記加熱室内に設け前記被加熱物を載置する
載置台と、前記載置台を回転駆動する第一駆動手段と、
前記加熱室内に放射する高周波を発生する高周波発生手
段と、前記高周波発生手段によって発生した高周波を前
記加熱室に放射する給電口と、前記加熱室を形成する壁
面に設けた開孔部と、前記開孔部を一端とする溝部と、
前記溝部内に設け前記開孔部のインピーダンスを可変す
るインピーダンス可変手段と、前記インピーダンス可変
手段を駆動する第二駆動手段とを備えるものである。
In order to solve the above-mentioned problems, a high-frequency heating apparatus according to the present invention comprises a heating chamber for accommodating an object to be heated, and a mounting chamber provided in the heating chamber for mounting the object to be heated. A mounting table, and a first driving unit that rotationally drives the mounting table,
A high-frequency generating means for generating high-frequency waves radiated into the heating chamber, a power supply port for radiating the high-frequency waves generated by the high-frequency generating means to the heating chamber, an opening provided on a wall surface forming the heating chamber, A groove having an opening as one end,
An impedance variable means provided in the groove for varying the impedance of the aperture, and a second driving means for driving the impedance variable means.

【0009】そして、インピーダンス可変手段により壁
面の高周波電流の流れを変化させることによって加熱室
内のマイクロ波の分布を変化させることができる。
The distribution of the microwaves in the heating chamber can be changed by changing the flow of the high-frequency current on the wall surface by the impedance variable means.

【0010】これにより、被加熱物の加熱むらをなくす
ことができる。
This makes it possible to eliminate uneven heating of the object to be heated.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】本発明の高周波加熱装置は、請求
項1記載のように、被加熱物を収納する加熱室と、前記
加熱室内に設け前記被加熱物を載置する載置台と、前記
載置台を回転駆動する第一駆動手段と、前記加熱室内に
放射する高周波を発生する高周波発生手段と、前記高周
波発生手段によって発生した高周波を前記加熱室に放射
する給電口と、前記加熱室を形成する壁面に設けた開孔
部と、前記開孔部を一端とする溝部と、前記溝部内に設
け前記開孔部のインピーダンスを可変するインピーダン
ス可変手段と、前記インピーダンス可変手段を駆動する
第二駆動手段とを備えるものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A high-frequency heating apparatus according to the present invention comprises, as described in claim 1, a heating chamber for storing an object to be heated, a mounting table provided in the heating chamber and for mounting the object to be heated, A first driving unit that rotationally drives the mounting table, a high-frequency generating unit that generates a high frequency radiated into the heating chamber, a power supply port that radiates the high frequency generated by the high-frequency generating unit to the heating chamber, and the heating chamber. An opening provided on the wall surface forming the opening, a groove having the opening as one end, an impedance variable means provided in the groove to vary the impedance of the opening, and a driving means for driving the impedance variable means. And two driving means.

【0012】そして、インピーダンス可変手段により開
孔部を有する壁面の高周波電流の流れを変化させること
によって加熱室内のマイクロ波の分布を変化させること
ができる。これにより、被加熱物の加熱むらをなくすこ
とができる。
The distribution of the microwaves in the heating chamber can be changed by changing the flow of the high-frequency current on the wall surface having the opening by the impedance variable means. Thereby, uneven heating of the object to be heated can be eliminated.

【0013】また本発明の高周波加熱装置は、請求項2
記載のように、被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱
室内に設け前記被加熱物を載置する載置台と、前記載置
台を回転駆動する第一駆動手段と、前記加熱室内に放射
する高周波を発生する高周波発生手段と、前記高周波発
生手段によって発生した高周波を前記加熱室に放射する
給電口と、前記加熱室を形成する壁面に設けた開孔部
と、前記開孔部を一端とする溝部と、前記溝部内に設け
前記開孔部のインピーダンスを可変するインピーダンス
可変手段と、前記インピーダンス可変手段を駆動する第
二駆動手段と、前記被加熱物の量を検出する検出手段
と、前記検出手段の検出信号に基いて前記高周波発生手
段と前記第一駆動手段と前記第二駆動手段との少なくと
も1つを制御する制御手段とを備えるものである。
The high-frequency heating apparatus according to the present invention is characterized in that
As described, a heating chamber for storing the object to be heated, a mounting table provided in the heating chamber for mounting the object to be heated, first driving means for rotating and driving the mounting table, and radiation into the heating chamber. High-frequency generating means for generating high-frequency waves, a power supply port for radiating the high-frequency waves generated by the high-frequency generating means to the heating chamber, an opening provided on a wall surface forming the heating chamber, and one end of the opening. A groove portion, an impedance variable means provided in the groove portion and varying the impedance of the opening portion, a second drive means for driving the impedance variable means, and a detection means for detecting the amount of the object to be heated, And a control means for controlling at least one of the high-frequency generation means, the first driving means, and the second driving means based on a detection signal of the detection means.

【0014】そして、被加熱物の量に対応して高周波発
生手段と載置台駆動用の第一駆動手段とインピーダンス
可変手段駆動用の第二駆動手段の少なくとも1つを制御
し、被加熱物に照射されるマイクロ波の強度あるいは加
熱室内のマイクロ波分布を制御する。これにより、被加
熱物の量に応じて被加熱物を最適に加熱することができ
る。
Then, at least one of the high-frequency generating means, the first driving means for driving the mounting table, and the second driving means for driving the impedance varying means is controlled in accordance with the amount of the object to be heated. The intensity of the irradiated microwave or the microwave distribution in the heating chamber is controlled. Thus, the object to be heated can be optimally heated according to the amount of the object to be heated.

【0015】また本発明の高周波加熱装置は、請求項3
記載のように、インピーダンス可変手段は回転駆動する
構成とし、前記インピーダンス可変手段の回転角度を判
定する角度判定手段を付加し、制御手段は被加熱物の量
を検出する検出手段の検出信号に基いて前記インピーダ
ンス可変手段を所定の回転角度にて停止させるように前
記第二駆動手段を制御することを特徴とする。
The high-frequency heating apparatus according to the present invention is characterized in that:
As described, the impedance variable means is configured to be driven to rotate, angle determination means for determining the rotation angle of the impedance variable means is added, and the control means detects the amount of the object to be heated based on a detection signal of the detection means. And controlling the second driving means so as to stop the variable impedance means at a predetermined rotation angle.

【0016】そして、被加熱物の量を検出することによ
って誘電体板の回転角度を制御し、被加熱物に照射され
るマイクロ波の強度あるいは加熱室内のマイクロ波分布
を最適な条件に制御することができる。これにより、被
加熱物に応じた最適なマイクロ波強度あるいは最適なマ
イクロ波分布でもって被加熱物を効率よく加熱すること
ができる。
Then, the rotation angle of the dielectric plate is controlled by detecting the amount of the object to be heated, and the intensity of the microwave applied to the object to be heated or the microwave distribution in the heating chamber is controlled to optimal conditions. be able to. Thereby, the object to be heated can be efficiently heated with the optimum microwave intensity or the optimum microwave distribution according to the object to be heated.

【0017】また本発明の高周波加熱装置は、請求項4
記載のように、前記載置台は加熱室底面からの高さを可
変できる構成とすることを特徴とする。
The high-frequency heating device according to the present invention is characterized in that:
As described above, the mounting table is characterized in that the height from the bottom surface of the heating chamber can be changed.

【0018】そして、載置台の高さを変えることによっ
て被加熱物に照射されるマイクロ波の強度および被加熱
物の加熱分布を変化させることができる。これにより、
被加熱物の加熱むらをなくすことができる。
By changing the height of the mounting table, the intensity of the microwave applied to the object to be heated and the heating distribution of the object to be heated can be changed. This allows
It is possible to eliminate uneven heating of the object to be heated.

【0019】また本発明の高周波加熱装置は、請求項5
記載のように、被加熱物の形状を指定する形状選択キー
を付加し、前記形状選択キーからの情報と被加熱物の量
を検出する検出手段の検出信号に基いて前記第二駆動手
段を制御することを特徴とする。
The high-frequency heating device according to the present invention is characterized in that:
As described, a shape selection key for designating the shape of the object to be heated is added, and the second driving unit is controlled based on information from the shape selection key and a detection signal of a detection unit for detecting an amount of the object to be heated. It is characterized by controlling.

【0020】そして、形状選択キーと量検出手段からの
情報に基いて、被加熱物の最適な加熱方法を制御手段が
抽出する。この抽出した加熱制御方法に基いてインピー
ダンス可変手段を制御して加熱室内のマイクロ波分布を
変化させることで、被加熱物の形状に応じた最適な加熱
を実行することができる。
Then, based on the information from the shape selection key and the amount detection means, the control means extracts an optimum heating method for the object to be heated. By controlling the impedance variable means based on the extracted heating control method to change the microwave distribution in the heating chamber, it is possible to execute optimal heating according to the shape of the object to be heated.

【0021】[0021]

【実施例】以下、本発明の実施例について添付図面を用
いて説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.

【0022】(実施例1)図1は、本発明の第1の実施
例を示す高周波加熱装置の概略構成図、図2は図1の高
周波加熱装置の外観図である。図1および図2において
10は高周波加熱装置本体、11はマイクロ波を発生す
るマグネトロン(高周波発生手段)、12はマグネトロ
ン11からのマイクロ波を導く導波管、13は被加熱物
を収納する加熱室で、壁面は金属で構成されている。1
4は被加熱物を載置するターンテーブル(載置台)、1
5はターンテーブル14を支えるターンテーブル支え、
16はターンテーブル支え15を回転駆動するモータ
(第一駆動手段)である。17はマグネトロン11から
発生したマイクロ波を加熱室13内に放射する給電口で
ある。18は加熱室13内の壁面19に設けた開孔部
で、20は開孔部18を一端とする溝部である。21は
開孔部18のインピーダンスを可変するインピーダンス
可変手段であり、誘電体板21aにて構成されている。
(Embodiment 1) FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a high-frequency heating apparatus showing a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is an external view of the high-frequency heating apparatus of FIG. 1 and 2, reference numeral 10 denotes a high-frequency heating device main body, 11 denotes a magnetron (high-frequency generation means) for generating a microwave, 12 denotes a waveguide for guiding the microwave from the magnetron 11, and 13 denotes a heating for housing an object to be heated. In the room, the walls are made of metal. 1
4 is a turntable (mounting table) on which an object to be heated is mounted, 1
5 is a turntable supporting the turntable 14,
Reference numeral 16 denotes a motor (first driving means) that rotationally drives the turntable support 15. Reference numeral 17 denotes a power supply port for radiating the microwave generated from the magnetron 11 into the heating chamber 13. Reference numeral 18 denotes an opening provided on a wall surface 19 in the heating chamber 13, and reference numeral 20 denotes a groove having the opening 18 as one end. Numeral 21 denotes an impedance varying means for varying the impedance of the opening 18 and is constituted by a dielectric plate 21a.

【0023】誘電体板21aは、好ましくは比誘電率が
5以上の低誘電損失材料(例えばアルミナ、ムライトな
ど)で構成され、両端に突起を設け、溝部20に設けた
孔に突起をはめ込んで回転支持されている。22は誘電
体板21aを駆動させるモータ(第二駆動手段)であ
る。誘電体板21aを駆動させる方法は、一定の角度分
づつステップ状に回転するようにしてもよいし、連続的
に回転するようにしても構わない。23はマグネトロン
11を制御する制御手段である。
The dielectric plate 21a is preferably made of a low dielectric loss material (for example, alumina, mullite or the like) having a relative permittivity of 5 or more, and has protrusions at both ends, and is fitted into a hole provided in the groove 20. It is supported for rotation. Reference numeral 22 denotes a motor (second driving means) for driving the dielectric plate 21a. The method of driving the dielectric plate 21a may be such that the dielectric plate 21a is rotated stepwise by a predetermined angle or may be continuously rotated. 23 is a control means for controlling the magnetron 11.

【0024】次に、上記構成において動作を説明する。
被加熱物を加熱する場合は、ターンテーブル14上に食
品等の被加熱物を置く。加熱スイッチ等から、制御手段
23に加熱情報が送られる。加熱情報により制御手段2
3はマグネトロン11とモータ16に信号を送る。制御
手段23の信号によりマグネトロン11はマイクロ波を
発生させ、モータ16はターンテーブル支え15を回転
駆動させる。ターンテーブル支え15は底面の中心に軸
を有しており、軸を中心に回転する。マグネトロン11
から発生したマイクロ波は導波管12を伝搬し、給電口
17から加熱室13内に放射される。
Next, the operation of the above configuration will be described.
When heating the object to be heated, the object to be heated such as food is placed on the turntable 14. Heating information is sent to the control means 23 from a heating switch or the like. Control means 2 based on heating information
3 sends a signal to the magnetron 11 and the motor 16. The magnetron 11 generates a microwave according to the signal of the control means 23, and the motor 16 drives the turntable support 15 to rotate. The turntable support 15 has an axis at the center of the bottom surface, and rotates about the axis. Magnetron 11
The microwave generated from the light propagates through the waveguide 12 and is radiated from the power supply port 17 into the heating chamber 13.

【0025】加熱中の誘電体板21aの動作は常に回転
していてもよいし、ある特定の回転角度で一定時間停止
させてもよいし、回転・停止を繰り返すようにしても構
わない。溝部20の溝深さは回転板21aが加熱室13
底面に対して垂直(この時の回転角度を0゜とする。)
のときに、開孔部18に生じるインピーダンスが極めて
小さい値(理想的にはゼロ)になるように決めている。
従って、誘電体板21aの回転角度が0゜のときは壁面
19には高周波電流が流れ、加熱室13内のマイクロ波
分布は、壁面19に開孔部18を設けていない場合と同
じ分布が生じる。一方、誘電体板21aの向きが加熱室
13底面に対して水平(この時の回転角度を90゜とす
る。)のときは、開孔部18のインピーダンスが大きな
値となり壁面19に流れる高周波電流が乱れる。よって
加熱室13内のマイクロ波分布は壁面19に開孔部18
を設けていない場合とは異なった分布を発生する。つま
り、誘電体板21aの回転角度を変化させると開孔部1
8のインピーダンスが変化し、加熱室13内のマイクロ
波の分布が変化する。
The operation of the dielectric plate 21a during heating may be constantly rotating, may be stopped at a certain rotation angle for a certain period of time, or may be repeatedly rotated and stopped. The depth of the groove 20 is such that the rotating plate 21 a
Perpendicular to the bottom surface (the rotation angle at this time is assumed to be 0 °)
In this case, the impedance generated in the opening 18 is determined to be an extremely small value (ideally, zero).
Therefore, when the rotation angle of the dielectric plate 21a is 0 °, a high-frequency current flows on the wall surface 19, and the microwave distribution in the heating chamber 13 has the same distribution as when the opening 18 is not provided on the wall surface 19. Occurs. On the other hand, when the direction of the dielectric plate 21 a is horizontal to the bottom surface of the heating chamber 13 (the rotation angle at this time is 90 °), the impedance of the opening 18 becomes a large value and the high-frequency current flowing through the wall surface 19 becomes large. Is disturbed. Therefore, the microwave distribution in the heating chamber 13 is
A distribution different from the case where no is provided is generated. That is, when the rotation angle of the dielectric plate 21a is changed, the opening 1
8, the distribution of microwaves in the heating chamber 13 changes.

【0026】本実施例において、誘電体板21aの回転
角度の表現方法は、誘電体板21aの上半分が加熱室1
3側に傾斜していく方向に回転させたときの、加熱室壁
面19と誘電体板21aの上半分の間の角度とした。
In this embodiment, the method of expressing the rotation angle of the dielectric plate 21a is as follows.
The angle between the heating chamber wall surface 19 and the upper half of the dielectric plate 21a when rotated in the direction inclining toward the third side.

【0027】この実施例の図1および図2では誘電体板
21aの回転角度は0゜を示している。また、開孔部1
8は長軸方向が奥行き方向と平行になるように配設され
ているが、開孔部18は長軸方向が高さ方向と平行にな
るように配設しても構わない。また開孔部18とインピ
ーダンス可変手段21は、加熱室13の壁面であればど
こに配設してもよいし、複数個配設しても構わない。
In FIGS. 1 and 2 of this embodiment, the rotation angle of the dielectric plate 21a is 0 °. Opening 1
8 is arranged so that the major axis direction is parallel to the depth direction, but the aperture 18 may be arranged so that the major axis direction is parallel to the height direction. Further, the opening 18 and the impedance variable means 21 may be provided anywhere on the wall surface of the heating chamber 13 or a plurality of them may be provided.

【0028】ターンテーブル支え15は軸を中心に回転
するため、食品等の被加熱物は同心円状に加熱される。
また、被加熱物はマイクロ波が集中する領域に位置する
ほど加熱されやすいため、被加熱物の加熱むらをなくす
には、ターンテーブル14を回転させることに加え、マ
イクロ波分布を変化させてマイクロ波の強度の強い位置
を変化させるために誘電体板21aの回転角度を制御す
る。
Since the turntable support 15 rotates about an axis, an object to be heated such as food is heated concentrically.
In addition, since the object to be heated is more likely to be heated in the region where the microwaves are concentrated, in order to eliminate uneven heating of the object to be heated, in addition to rotating the turntable 14, the microwave distribution is changed to change the microwave distribution. The rotation angle of the dielectric plate 21a is controlled to change the position where the wave intensity is strong.

【0029】本実施例において、アドヘアのり200g
を底面が100mm×100mmの容器にいれて被加熱
物として加熱した場合に、誘電体板21aの回転角度を
0゜固定としてターンテーブル支え15を回転させたと
きの被加熱物の温度分布と、誘電体板21aの回転角度
を0゜と90゜との両方に変化させターンテーブル支え
15を回転させたときの被加熱物の温度分布の結果を
(図3)に示す。
In this embodiment, the ad hair paste 200g
Is placed in a container having a bottom surface of 100 mm × 100 mm and heated as an object to be heated, the temperature distribution of the object to be heated when the turntable support 15 is rotated with the rotation angle of the dielectric plate 21a fixed at 0 °, FIG. 3 shows the results of the temperature distribution of the object to be heated when the rotation angle of the dielectric plate 21a is changed to both 0 ° and 90 ° and the turntable support 15 is rotated.

【0030】図3の誘電体板21aの回転角度の模式図
において、加熱室13は誘電体板21aの右側に位置し
ている。また温度分布は、色が薄くなるに従って、高温
部分であることを示している。
In the schematic diagram of the rotation angle of the dielectric plate 21a in FIG. 3, the heating chamber 13 is located on the right side of the dielectric plate 21a. Further, the temperature distribution indicates that as the color becomes lighter, the temperature becomes higher.

【0031】以上のように、誘電体板21aの回転角度
を変化させることにより、被加熱物の温度分布はターン
テーブルのみ(すなわち、誘電体板21aの回転角度を
0°とした状態)の場合よりも均一化した。
As described above, by changing the rotation angle of the dielectric plate 21a, the temperature distribution of the object to be heated can be changed only when the turntable is used (ie, when the rotation angle of the dielectric plate 21a is 0 °). More uniform.

【0032】これにより、被加熱物の加熱むらをなくす
ことができる。
This makes it possible to eliminate uneven heating of the object to be heated.

【0033】(実施例2)次に、本発明の第2の実施例
について説明する。
(Embodiment 2) Next, a second embodiment of the present invention will be described.

【0034】図4は本発明の第2の実施例を示す高周波
加熱装置の概略構成図である。図4において、図1と相
違する構成は、被加熱物の量を検出する量検出手段24
を配設した点である。量検出手段24はターンテーブル
支え15を回転駆動するモータ16の駆動軸に連動する
ように配設している。また、量検出手段24の検出信号
は制御手段23に入力される。なお、図4において図1
に示した部品と同一あるいは同一相当機能の部品は同一
番号にて示す。
FIG. 4 is a schematic configuration diagram of a high-frequency heating apparatus according to a second embodiment of the present invention. In FIG. 4, the configuration different from FIG. 1 is an amount detecting means 24 for detecting the amount of the object to be heated.
It is the point that was arranged. The amount detecting means 24 is provided so as to be linked with a drive shaft of a motor 16 for rotatingly driving the turntable support 15. Further, a detection signal of the amount detecting means 24 is input to the control means 23. In FIG. 4, FIG.
Parts having the same or equivalent functions as those shown in FIG.

【0035】上記制御手段23は量検出手段24の信号
により、マグネトロン11、モータ16、モータ22の
少なくとも1つを制御する。制御手段23の信号により
マグネトロン11は所定のマイクロ波出力にてマイクロ
波を発生し、ターンテーブル支え15を回転駆動するモ
ータ16へ駆動電力を供給する。また、制御手段23
は、誘電体板21aを回転駆動するモータ22へも駆動
電力を供給し、誘電体板21aの回転を制御する。
The control means 23 controls at least one of the magnetron 11, the motor 16, and the motor 22 according to the signal of the quantity detecting means 24. The magnetron 11 generates a microwave with a predetermined microwave output in accordance with a signal from the control means 23, and supplies driving power to a motor 16 which rotates the turntable support 15. The control means 23
Supplies the driving power to the motor 22 that rotates the dielectric plate 21a, and controls the rotation of the dielectric plate 21a.

【0036】次に上記構成において、マグネトロン11
の出力制御方法について説明する。被加熱物を加熱する
際に、被加熱物の量が多い場合に適するようなマイクロ
波の出力で加熱すると、被加熱物の量が少ない場合は加
熱されすぎるおそれがある。逆に、被加熱物の量が少な
い場合に適するようなマイクロ波の出力で加熱すると、
被加熱物の量が多い場合は加熱に要する時間が長くな
る、または加熱不足になるおそれがある。そのため、被
加熱物の量が多い場合はマイクロ波の出力を強くし、被
加熱物の量が少ない場合はマイクロ波の出力を弱くする
ように制御を行う。
Next, in the above configuration, the magnetron 11
The output control method will be described. When heating the object to be heated with a microwave output suitable for a case where the amount of the object to be heated is large, if the amount of the object to be heated is small, the object may be overheated. Conversely, when heating with microwave output suitable for the case where the amount of the object to be heated is small,
When the amount of the object to be heated is large, there is a possibility that the time required for heating becomes long or the heating becomes insufficient. Therefore, when the amount of the object to be heated is large, the output of the microwave is increased, and when the amount of the object to be heated is small, the control is performed so as to decrease the output of the microwave.

【0037】壁面19のインピーダンスを変化させる
と、被加熱物へのマイクロ波の入力は変化する。被加熱
物の量が多い場合は、被加熱物へのマイクロ波の入力が
大きくなる回転角度で加熱し、被加熱物の量が少ない場
合は、被加熱物へのマイクロ波の入力が小さくなる回転
角度で加熱するように誘電体板を制御する。
When the impedance of the wall surface 19 is changed, the microwave input to the object to be heated changes. When the amount of the object to be heated is large, heating is performed at a rotation angle at which the input of the microwave to the object to be heated is large, and when the amount of the object to be heated is small, the input of the microwave to the object to be heated is small. The dielectric plate is controlled to heat at a rotation angle.

【0038】本実施例において、誘電体板21aの回転
角度が0゜のとき被加熱物(水600g)へのマイクロ
波の入力が最大になるように、マグネトロンを調整した
場合に、被加熱物を水としたときの誘電体板21aの回
転角度が0゜、45゜、90゜のときの200g、40
0g、600gの水への入力変化の実験結果を(図5)
に示す。
In this embodiment, when the magnetron is adjusted so that the microwave input to the object to be heated (600 g of water) is maximized when the rotation angle of the dielectric plate 21a is 0 °, the object to be heated is 200 g when the rotation angle of the dielectric plate 21a is 0 °, 45 °, 90 ° when
Experimental results of input change to water of 0g and 600g (Fig. 5)
Shown in

【0039】図5のように、誘電体板の角度を変化させ
ることによって、水へのマイクロ波の入力は変化した。
As shown in FIG. 5, the microwave input to water was changed by changing the angle of the dielectric plate.

【0040】以上のように、被加熱物の量を検出しその
検出信号に基いて誘電体板を所定の回転角度に動かした
後、その回転角度にて停止させる。この誘電体板の停止
時の角度に基いて加熱室内のマイクロ波分布に対して優
先的に高周波発生手段のマイクロ波出力を決定し、被加
熱物の量に応じた最適なマイクロ波出力を供給して被加
熱物を短時間に加熱することができる。
As described above, the amount of the object to be heated is detected, and the dielectric plate is moved to a predetermined rotation angle based on the detection signal, and then stopped at the rotation angle. The microwave output of the high-frequency generator is determined preferentially with respect to the microwave distribution in the heating chamber based on the angle when the dielectric plate is stopped, and the optimum microwave output is supplied according to the amount of the object to be heated. Thus, the object to be heated can be heated in a short time.

【0041】(実施例3)次に、本発明の第3の実施例
について説明する。
(Embodiment 3) Next, a third embodiment of the present invention will be described.

【0042】図6は本発明の第3の実施例を示す高周波
加熱装置の概略構成図である。
FIG. 6 is a schematic configuration diagram of a high-frequency heating device showing a third embodiment of the present invention.

【0043】図6において、本発明の実施例3が実施例
2と相違する点を説明する。25は誘電体板21aの回
転角度を判定する角度検出手段である。モータ26はス
テッピングモータで構成され、誘電体板21aを一定角
度づつステップ状に移動させて回転させる。角度検出手
段25は誘電体板21aが回転角度0゜の時を判定する
ための信号を制御手段23に出力する。制御手段23
は、誘電体板21aが回転角度0°の時からのステップ
数によって、誘電体板21aの回転角度を規定制御す
る。また、制御手段23は量検出手段24および角度検
出手段25の信号により、マグネトロン11、モータ1
6、モータ26の少なくとも1つを制御する。このと
き、制御手段23はマグネトロン11、モータ16およ
びモータ26のすべてを同時に制御してもかまわない。
Referring to FIG. 6, a point of difference between the third embodiment of the present invention and the second embodiment will be described. Reference numeral 25 denotes an angle detecting means for determining the rotation angle of the dielectric plate 21a. The motor 26 is formed of a stepping motor, and rotates the dielectric plate 21a by moving the dielectric plate 21a stepwise at a constant angle. The angle detecting means 25 outputs to the control means 23 a signal for determining when the dielectric plate 21a has a rotation angle of 0 °. Control means 23
Controls the rotation angle of the dielectric plate 21a based on the number of steps since the rotation angle of the dielectric plate 21a is 0 °. In addition, the control unit 23 receives signals from the amount detection unit 24 and the angle detection unit 25, and
6. Control at least one of the motors 26. At this time, the control means 23 may control all of the magnetron 11, the motor 16 and the motor 26 at the same time.

【0044】次に上記構成における作用と制御実施例に
ついて説明する。角度検出手段25は、誘電体板21a
の回転角度が0°を判定するためのリセット信号を出力
する。この信号により、制御手段23は、被加熱物の加
熱を終了した後に、誘電体板21aの角度を規定角度、
たとえば回転角度0°に停止させることで次回の被加熱
物の加熱まで待機する。これにより、誘電体板21aの
回転角度制御の信頼性を保証している。
Next, a description will be given of an operation and a control embodiment of the above configuration. The angle detecting means 25 includes the dielectric plate 21a
Output a reset signal for determining that the rotation angle is 0 °. With this signal, the control means 23 sets the angle of the dielectric plate 21a to a specified angle after the heating of the object to be heated is completed.
For example, by stopping at a rotation angle of 0 °, the apparatus stands by until the next heating of the object to be heated. This guarantees the reliability of the rotation angle control of the dielectric plate 21a.

【0045】制御手段23はさらにマイクロ波出力の制
御を誘電体板21aの回転角度に対応させて実行する。
実施例2で示したように、誘電体板21aの回転角度を
変化させると被加熱物へのマイクロ波の入力が増減す
る。被加熱物の加熱の均一化を促進させるために、被加
熱物へのマイクロ波の入力を常に一定にした状態でマイ
クロ波分布のみを変化させる制御を実行する。すなわ
ち、誘電体板21aの回転角度が被加熱物へのマイクロ
波の入力が弱くなる位置にある時には制御手段23はマ
イクロ波の出力を大きくし、マイクロ波の入力が強くな
る回転角度にある時はマイクロ波の出力を小さくする。
The control means 23 further controls the microwave output in accordance with the rotation angle of the dielectric plate 21a.
As described in the second embodiment, when the rotation angle of the dielectric plate 21a is changed, the input of the microwave to the object to be heated increases or decreases. In order to promote uniform heating of the object to be heated, control is performed to change only the microwave distribution while keeping the input of the microwave to the object to be heated constant. That is, when the rotation angle of the dielectric plate 21a is at a position where the microwave input to the object to be heated is weak, the control means 23 increases the microwave output and at the rotation angle at which the microwave input becomes strong. Reduces the microwave output.

【0046】角度検出手段25を設けることで誘電体板
21aの回転角度を信頼性良く判定することができ、被
加熱物へのマイクロ波の入力を速やかに制御することが
でき、被加熱物の加熱の均一化を図ることができる。
By providing the angle detecting means 25, the rotation angle of the dielectric plate 21a can be determined with high reliability, the microwave input to the object to be heated can be quickly controlled, and Heating can be made uniform.

【0047】(実施例4)次に、本発明の第4の実施例
について説明する。
(Embodiment 4) Next, a fourth embodiment of the present invention will be described.

【0048】図7において、本発明の実施例4が実施例
3と相違する点を説明する。27は載置台高さ可変手段
であり、ターンテーブル(載置台)14の加熱室13の
底面からの載置高さを変化させることができる。すなわ
ち、載置台高さ可変手段27は、折りたたまれた足を有
しており、この足を引き出すことで図示したようにター
ンテーブル14を加熱室13の底面からの載置高さを所
定の高さに支持することができる構成としている。
Referring to FIG. 7, the difference between the fourth embodiment of the present invention and the third embodiment will be described. Reference numeral 27 denotes a mounting table height changing unit that can change the mounting height of the turntable (mounting table) 14 from the bottom surface of the heating chamber 13. That is, the mounting table height changing means 27 has a folded foot, and by pulling out the foot, the mounting height of the turntable 14 from the bottom of the heating chamber 13 is set to a predetermined height as shown in the figure. The structure is such that it can be easily supported.

【0049】上記の構成により、ターンテーブル14の
高さを変化させると、ターンテーブル14上のマイクロ
波分布が変化する。したがって被加熱物を加熱する際
に、ターンテーブル14の高さを選択することで、被加
熱物に応じた最適な加熱分布を与えることができるた
め、さらに被加熱物をより効果的に加熱することができ
る。
With the above configuration, when the height of the turntable 14 is changed, the microwave distribution on the turntable 14 changes. Therefore, when heating the object to be heated, by selecting the height of the turntable 14, an optimal heating distribution according to the object to be heated can be given, so that the object to be heated is heated more effectively. be able to.

【0050】なお、このときのターンテーブル14の回
転動作は、停止していてもよいし、あるいは回転してい
てもかまわない。さらには、本実施例の場合、高さを変
化させるためにターンテーブル14の支えるとともにタ
ーンテーブル14を回転駆動するモータ(第一駆動手
段)16の駆動軸に連結した部材に載置台高さ可変手段
を配設した構成を示したが、ターンテーブル14ごと交
換する方法でもかまわない。
The turning operation of the turntable 14 at this time may be stopped or may be rotating. Furthermore, in the case of the present embodiment, the height of the mounting table is changed by a member connected to the drive shaft of a motor (first driving means) 16 that supports the turntable 14 and rotates the turntable 14 to change the height. Although the configuration in which the means is provided is shown, a method of replacing the entire turntable 14 may be used.

【0051】本実施例において、誘電体板21aの回転
角度が0゜のとき、載置台高さ可変手段27の足を収め
た状態(高さが0mmの時)の被加熱物の加熱分布と載
置台高さ可変手段27の足を引き出した状態(高さが3
0mmの時)の被加熱物の加熱分布を(図8)に示す。
In the present embodiment, when the rotation angle of the dielectric plate 21a is 0 °, the heating distribution of the object to be heated in a state where the foot of the mounting table height varying means 27 is accommodated (when the height is 0 mm) is shown. A state in which the foot of the mounting table height varying means 27 is pulled out (the height is 3
The heating distribution of the object to be heated (at 0 mm) is shown in FIG.

【0052】図8のようにターンテーブル(載置台)の
高さを変化させることで被加熱物の加熱分布を変化させ
ることができた。
By changing the height of the turntable (mounting table) as shown in FIG. 8, the heating distribution of the object to be heated could be changed.

【0053】以上のように、ターンテーブル14の載置
高さを変化させて加熱することにより、被加熱物の種類
に応じて被加熱物をより均一に加熱することができる。
As described above, by changing the mounting height of the turntable 14 and heating, the object to be heated can be more uniformly heated in accordance with the type of the object to be heated.

【0054】(実施例5)次に、本発明の第5の実施例
について説明する。
(Embodiment 5) Next, a fifth embodiment of the present invention will be described.

【0055】図9は本発明の第5の実施例を示す高周波
加熱装置の外観図である。図9において、28は装置本
体10の前面に配設された操作パネルであり、この操作
パネル28内に被加熱物の形状に対応した情報を入力す
る形状選択キー29が設けられている。形状選択キー2
9は、たとえば背高、普通、偏平の3種類の形状選択キ
ーで構成している。形状選択キーにて被加熱物の形状を
選択すると選択された情報は制御手段23(図6参照)
へ送られる。制御手段23は加熱開始情報が入力される
と形状選択キー29から入力された被加熱物の情報を加
味して被加熱物を加熱するためのマグネトロン11の動
作内容を選択しその選択された動作内容に基づいた駆動
電力をマグネトロンに供給することでマグネトロン11
が動作を開始する。これと連動して形状選択キー29の
入力情報に基いて制御手段23内で選択された制御条件
によりモータ(第一駆動手段)16および誘電体板21
aの回転駆動用モータ(第二駆動手段)26を駆動させ
る。この結果、被加熱物はその形状に応じたマイクロ波
分布の中で加熱の均一化が促進できる。
FIG. 9 is an external view of a high-frequency heating device according to a fifth embodiment of the present invention. In FIG. 9, reference numeral 28 denotes an operation panel disposed on the front surface of the apparatus main body 10. The operation panel 28 is provided with a shape selection key 29 for inputting information corresponding to the shape of the object to be heated. Shape selection key 2
Reference numeral 9 denotes three types of shape selection keys, for example, height, normal, and flat. When the shape of the object to be heated is selected with the shape selection key, the selected information is sent to the control means 23 (see FIG. 6).
Sent to When the heating start information is input, the control means 23 selects the operation content of the magnetron 11 for heating the object to be heated in consideration of the information of the object to be heated input from the shape selection key 29, and selects the selected operation. By supplying the driving power based on the contents to the magnetron, the magnetron 11
Starts operation. In conjunction with this, the motor (first driving means) 16 and the dielectric plate 21 are controlled by the control condition selected in the control means 23 based on the input information of the shape selection key 29.
The rotation drive motor (second drive means) 26 of a is driven. As a result, uniform heating can be promoted in the microwave distribution according to the shape of the object to be heated.

【0056】なお、実施例4にて説明した内容を上記に
適用してもかまわない。
The contents described in the fourth embodiment may be applied to the above.

【0057】以上のように、ターンテーブル14上の被
加熱物の形状を本装置の使用者が選択入力することで被
加熱物を加熱の均一化を被加熱物の形状に即してより効
果的に促進させることができる。
As described above, when the user of the present apparatus selects and inputs the shape of the object to be heated on the turntable 14, uniform heating of the object to be heated is more effective in accordance with the shape of the object to be heated. Can be promoted.

【0058】[0058]

【発明の効果】以上のように、請求項1記載の発明によ
れば、インピーダンス可変手段により開孔部のインピー
ダンスを可変して、開孔部を有する壁面の高周波電流の
流れを変化させることによって、加熱室内のマイクロ波
分布を変化させることができる。これにより、被加熱物
の加熱むらをなくすことができる。
As described above, according to the first aspect of the invention, the impedance of the aperture is varied by the impedance varying means to change the flow of the high-frequency current on the wall surface having the aperture. In addition, the microwave distribution in the heating chamber can be changed. Thereby, uneven heating of the object to be heated can be eliminated.

【0059】また、請求項2記載の発明によれば、被加
熱物の量を検出することによってインピーダンス可変手
段を制御し、被加熱物に照射されるマイクロ波の強度お
よびマイクロ波分布を制御することができる。これによ
り、被加熱物の量に応じた最適なマイクロ波を被加熱物
に供給して加熱の均一化を図ることができる。
According to the second aspect of the present invention, the impedance varying means is controlled by detecting the amount of the object to be heated, and the intensity and the distribution of the microwave applied to the object to be heated are controlled. be able to. This makes it possible to supply an optimal microwave according to the amount of the object to be heated to the object to be heated, thereby achieving uniform heating.

【0060】また、請求項3記載の発明によれば、誘電
体板の回転角度を判定し、所定の回転角度で停止するこ
とによって被加熱物に照射されるマイクロ波の強度を制
御することができる。これにより、被加熱物の量に応じ
た最適なマイクロ波を優先的に被加熱物に供給して短時
間に加熱することができる。
According to the third aspect of the present invention, it is possible to determine the rotation angle of the dielectric plate and control the intensity of the microwave applied to the object to be heated by stopping at a predetermined rotation angle. it can. Thereby, it is possible to preferentially supply an optimum microwave according to the amount of the object to be heated to the object to be heated and to heat the object in a short time.

【0061】また、請求項4記載の発明によれば、載置
台の高さを変えることによって被加熱物に照射されるマ
イクロ波の強度および被加熱物の加熱分布を変化させる
ことができる。これにより、被加熱物の種類に応じて載
置高さを変えることで加熱むらをなくすことができる。
According to the fourth aspect of the present invention, the intensity of the microwave applied to the object to be heated and the heating distribution of the object to be heated can be changed by changing the height of the mounting table. This makes it possible to eliminate uneven heating by changing the mounting height according to the type of the object to be heated.

【0062】また、請求項5記載の発明によれば、形状
選択キーと量検出手段からの情報に基いて、インピーダ
ンス可変手段を制御して加熱室内のマイクロ波分布を変
化させることで、被加熱物の形状に応じた最適な加熱を
実行して加熱むらをなくすことができる。
According to the fifth aspect of the present invention, the microwave distribution in the heating chamber is changed by controlling the impedance varying means on the basis of the information from the shape selection key and the amount detecting means. Optimum heating according to the shape of the object can be performed to eliminate uneven heating.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施例を示す高周波加熱装置の
概略構成図
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a high-frequency heating device showing a first embodiment of the present invention.

【図2】同高周波加熱装置の外観図FIG. 2 is an external view of the high-frequency heating device.

【図3】同高周波加熱装置のインピーダンス可変手段の
回転角度と加熱分布を示す図
FIG. 3 is a diagram showing a rotation angle and a heating distribution of an impedance variable unit of the high-frequency heating device.

【図4】本発明の第2の実施例を示す高周波加熱装置の
概略構成図
FIG. 4 is a schematic configuration diagram of a high-frequency heating device showing a second embodiment of the present invention.

【図5】同高周波加熱装置のインピーダンス可変手段の
回転角度と水への入力パワーを示すための図
FIG. 5 is a diagram showing the rotation angle of the impedance variable means and the input power to water of the high-frequency heating device.

【図6】本発明の第3の実施例を示す高周波加熱装置の
概略構成図
FIG. 6 is a schematic configuration diagram of a high-frequency heating device showing a third embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第4の実施例を示す高周波加熱装置の
概略構成図
FIG. 7 is a schematic configuration diagram of a high-frequency heating device showing a fourth embodiment of the present invention.

【図8】同高周波加熱装置の載置台の高さと加熱分布の
関係を示す図
FIG. 8 is a view showing the relationship between the height of the mounting table and the heating distribution of the high-frequency heating device

【図9】本発明の第5の実施例を示す高周波加熱装置の
外観図
FIG. 9 is an external view of a high-frequency heating device according to a fifth embodiment of the present invention.

【図10】従来の高周波加熱装置の概略構成図FIG. 10 is a schematic configuration diagram of a conventional high-frequency heating device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 マグネトロン(高周波発生手段) 13 加熱室 14 ターンテーブル(載置台) 16 モータ(第一駆動手段) 17 給電口 18 開孔部 20 溝部 21 インピーダンス可変手段 21a 誘電体板(回転板) 22、26 モータ(第二駆動手段) 23 制御手段 24 量検出手段 25 角度検出手段 27 載置台可変手段 DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Magnetron (high frequency generation means) 13 Heating chamber 14 Turntable (mounting table) 16 Motor (first drive means) 17 Power supply port 18 Opening part 20 Groove part 21 Impedance variable means 21a Dielectric plate (rotary plate) 22, 26 Motor (Second drive means) 23 control means 24 quantity detection means 25 angle detection means 27 mounting table variable means

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 内山 智美 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 3K086 AA01 BA08 CC20 FA03 3K090 AA01 AB01 BA01 EB09 MA01 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing from the front page (72) Inventor Tomomi Uchiyama 1006 Kazuma Kadoma, Kadoma-shi, Osaka Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. F-term (reference) 3K086 AA01 BA08 CC20 FA03 3K090 AA01 AB01 BA01 EB09 MA01

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱
室内に設け前記被加熱物を載置する載置台と、前記載置
台を回転駆動する第一駆動手段と、前記加熱室内に放射
する高周波を発生する高周波発生手段と、前記高周波発
生手段によって発生した高周波を前記加熱室に放射する
給電口と、前記加熱室を形成する壁面に設けた開孔部
と、前記開孔部を一端とする溝部と、前記溝部内に設け
前記開孔部のインピーダンスを可変するインピーダンス
可変手段と、前記インピーダンス可変手段を駆動する第
二駆動手段とを備えた高周波加熱装置。
1. A heating chamber for storing an object to be heated, a mounting table provided in the heating chamber for mounting the object to be heated, first driving means for rotating and driving the mounting table, and radiation into the heating chamber. High-frequency generating means for generating high-frequency waves, a power supply port for radiating the high-frequency waves generated by the high-frequency generating means to the heating chamber, an opening provided on a wall surface forming the heating chamber, and one end of the opening. A high frequency heating device comprising: a groove portion to be formed; an impedance variable means provided in the groove portion for varying the impedance of the opening; and a second drive means for driving the impedance variable means.
【請求項2】 被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱
室内に設け前記被加熱物を載置する載置台と、前記載置
台を回転駆動する第一駆動手段と、前記加熱室内に放射
する高周波を発生する高周波発生手段と、前記高周波発
生手段によって発生した高周波を前記加熱室に放射する
給電口と、前記加熱室を形成する壁面に設けた開孔部
と、前記開孔部を一端とする溝部と、前記溝部内に設け
前記開孔部のインピーダンスを可変するインピーダンス
可変手段と、前記インピーダンス可変手段を駆動する第
二駆動手段と、前記被加熱物の量を検出する検出手段
と、前記検出手段の検出信号に基いて前記高周波発生手
段と前記第一駆動手段と前記第二駆動手段との少なくと
も1つを制御する制御手段とを備えた高周波加熱装置。
2. A heating chamber for storing an object to be heated, a mounting table provided in the heating chamber for mounting the object to be heated, first driving means for rotating and driving the mounting table, and radiation into the heating chamber. High-frequency generating means for generating high-frequency waves, a power supply port for radiating the high-frequency waves generated by the high-frequency generating means to the heating chamber, an opening provided on a wall surface forming the heating chamber, and one end of the opening. A groove portion, an impedance variable means provided in the groove portion and varying the impedance of the opening portion, a second drive means for driving the impedance variable means, and a detection means for detecting the amount of the object to be heated, A high-frequency heating device comprising: a high-frequency generating unit; and a control unit that controls at least one of the first driving unit and the second driving unit based on a detection signal of the detection unit.
【請求項3】 インピーダンス可変手段は回転駆動する
構成とし、前記インピーダンス可変手段の回転角度を判
定する角度判定手段を付加し、制御手段は被加熱物の量
を検出する検出手段の検出信号に基いて前記インピーダ
ンス可変手段を所定の回転角度にて停止させるように前
記第二駆動手段を制御することとした請求項2記載の高
周波加熱装置。
3. The impedance variable means is configured to be driven to rotate, and an angle determination means for determining a rotation angle of the impedance variable means is added. The control means is configured to detect an amount of the object to be heated based on a detection signal of the detection means. 3. The high-frequency heating apparatus according to claim 2, wherein said second driving means is controlled so as to stop said impedance varying means at a predetermined rotation angle.
【請求項4】 前記載置台は加熱室底面からの高さを可
変できる構成とした請求項1または2記載の高周波加熱
装置。
4. The high-frequency heating apparatus according to claim 1, wherein the mounting table is configured to be variable in height from the bottom of the heating chamber.
【請求項5】 被加熱物の形状を指定する形状選択キー
を付加し、前記形状選択キーからの情報と被加熱物の量
を検出する検出手段の検出信号に基いて前記第二駆動手
段を制御することとした請求項2記載の高周波加熱装
置。
5. A shape selection key for designating a shape of an object to be heated is added, and the second driving unit is controlled based on information from the shape selection key and a detection signal of a detection unit for detecting an amount of the object to be heated. The high-frequency heating device according to claim 2, wherein the high-frequency heating device is controlled.
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