JP2000310972A - Image displaying method - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、複数の表示素子を
駆動して画像を表示する画像表示方法に関するものであ
る。[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to an image display method for displaying an image by driving a plurality of display elements.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、薄型大画面表示装置の研究開発が
盛んに行われている。本発明者は、薄型大画面表示装置
として、冷陰極を電子源に用いた研究を行っている。2. Description of the Related Art In recent years, research and development of thin and large screen display devices have been actively conducted. The present inventor has been conducting research using a cold cathode as an electron source as a thin large-screen display device.
【0003】従来から、電子放出素子として熱陰極素子
と冷陰極素子の2種類が知られている。このうち冷陰極
素子では、例えば表面伝導型放出素子や、電界放出型素
子(以下FE型と記す)や、金属/絶縁層/金属型放出
素子(以下MIM型と記す)などが知られている。Conventionally, two types of electron-emitting devices, a hot cathode device and a cold cathode device, are known. Among them, as the cold cathode device, for example, a surface conduction type emission device, a field emission type device (hereinafter referred to as FE type), a metal / insulating layer / metal type emission device (hereinafter referred to as MIM type), and the like are known. .
【0004】表面伝導型放出素子としては、例えば、M.
I. Elinson, Radio E-ng. Electron Phys., 10, 1290,
(1965)や、後述する他の例が知られている。[0004] As the surface conduction type emission element, for example, M.
I. Elinson, Radio E-ng. Electron Phys., 10, 1290,
(1965) and other examples described later.
【0005】表面伝導型放出素子は、基板上に形成され
た小面積の薄膜に、膜面に平行に電流を流すことにより
電子放出が生ずる現象を利用するものである。この表面
伝導型放出素子としては、前記エリンソン(Elinson)等
によるSnO2薄膜を用いたものの他に、Au薄膜によ
るもの[G. Dittmer:“Thin Solid Films”, 9,317 (1
972)]や、In2O3/SnO2薄膜によるもの[M. Hart
well and C. G. Fonstad:”IEEE Trans. ED Conf.”,
519 (1975)]や、カーボン薄膜によるもの[荒木久
他:真空、第26巻、第1号、22(1983)]等が
報告されている。[0005] The surface conduction electron-emitting device utilizes a phenomenon in which electron emission occurs when a current flows in a small-area thin film formed on a substrate in parallel with the film surface. Examples of the surface conduction electron-emitting device include a device using an SnO2 thin film by Elinson et al., And a device using an Au thin film [G. Dittmer: “Thin Solid Films”, 9,317 (1)
972)] and those based on In2O3 / SnO2 thin films [M. Hart
well and CG Fonstad: "IEEE Trans. ED Conf."
519 (1975)] and those using carbon thin films [Hisashi Araki
Others: Vacuum, Vol. 26, No. 1, 22 (1983)].
【0006】これらの表面伝導型放出素子の素子構成の
典型的な例として、図19に前述のM. Hartwell(ハー
トウエル)らによる素子の平面図を示す。同図におい
て、3001は基板で、3004はスパッタで形成され
た金属酸化物よりなる導電性薄膜である。導電性薄膜3
004は図示のようにH字形の平面形状に形成されてい
る。この導電性薄膜3004に、後述の通電フォーミン
グと呼ばれる通電処理を施すことにより、電子放出部3
005が形成される。図中の間隔Lは、0.5〜1[m
m]、幅Wは、0.1[mm]に設定されている。尚、
図示の便宜から、電子放出部3005は導電性薄膜30
04の中央に矩形の形状で示したが、これは模式的なも
のであり、実際の電子放出部の位置や形状を忠実に表現
しているわけではない。As a typical example of the device configuration of these surface conduction electron-emitting devices, FIG. 19 is a plan view of the device by M. Hartwell et al. Described above. In the figure, reference numeral 3001 denotes a substrate, and reference numeral 3004 denotes a conductive thin film made of a metal oxide formed by sputtering. Conductive thin film 3
004 is formed in an H-shaped planar shape as shown. By subjecting the conductive thin film 3004 to an energization process called energization forming, which will be described later,
005 are formed. The interval L in the figure is 0.5 to 1 [m
m] and the width W are set to 0.1 [mm]. still,
For convenience of illustration, the electron emitting portion 3005 is formed of the conductive thin film 30.
Although a rectangular shape is shown in the center of 04, this is a schematic one and does not exactly represent the actual position or shape of the electron-emitting portion.
【0007】M. Hartwellらによる素子をはじめとして
上述の表面伝導型放出素子においては、電子放出を行う
前に導電性薄膜3004に通電フォーミングと呼ばれる
通電処理を施すことにより電子放出部3005を形成す
るのが一般的であった。即ち、通電フォーミングとは、
通電により電子放出部を形成するものであり、例えば前
記導電性薄膜3004の両端に一定の直流電圧、もしく
は、例えば1V/分程度の非常にゆっくりとしたレート
で昇圧する直流電圧を印加して通電し、導電性薄膜30
04を局所的に破壊もしくは変形もしくは変質せしめ、
電気的に高抵抗な状態の電子放出部3005を形成する
ことである。尚、局所的に破壊もしくは変形もしくは変
質した導電性薄膜3004の一部には亀裂が発生する。
この通電フォーミング後に導電性薄膜3004に適宜の
電圧を印加した場合には、前記亀裂付近において電子放
出が行われる。In the above-described surface conduction electron-emitting device, such as the device by M. Hartwell et al., Before the electron emission, an electron emission portion 3005 is formed by subjecting the conductive thin film 3004 to an energization process called energization forming. Was common. That is, energization forming is
An electron-emitting portion is formed by energization. For example, a constant DC voltage or a DC voltage that increases at a very slow rate of, for example, about 1 V / min is applied to both ends of the conductive thin film 3004 and energized. And the conductive thin film 30
04 is locally destroyed or deformed or altered,
This is to form the electron-emitting portion 3005 in a state of being electrically high in resistance. Note that a crack is generated in a part of the conductive thin film 3004 that is locally broken, deformed, or altered.
When an appropriate voltage is applied to the conductive thin film 3004 after the energization forming, electron emission is performed in the vicinity of the crack.
【0008】上述の表面伝導型放出素子は、構造が単純
で製造も容易であることから、大面積にわたり多数の素
子を形成できる利点がある。そこで、例えば本出願人に
よる特開昭64−31332号公報において開示される
ように、多数の素子を配列して駆動するための方法が研
究されている。The above-mentioned surface conduction electron-emitting device has an advantage that a large number of devices can be formed over a large area because of its simple structure and easy manufacture. Therefore, as disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 64-31332 by the present applicant, a method for arranging and driving a large number of elements has been studied.
【0009】FE型の例としては、例えば、W. P. Dyke
& W. W. Dolan,“Field emission”, Advance in Ele
ctron Physics, 8, 89 (1956)や、或は、C. A. Spind
t,“Physical properties of thin-film field emissi
on cathodes with molybdeniumcones”, J. Appl. Phy
s., 47, 5248 (1976)などが知られている。As an example of the FE type, for example, WP Dyke
& WW Dolan, “Field emission”, Advance in Ele
ctron Physics, 8, 89 (1956) or CA Spind
t, “Physical properties of thin-film field emissi
on cathodes with molybdeniumcones ”, J. Appl. Phy
s., 47, 5248 (1976).
【0010】このFE型の素子構成の典型的な例とし
て、図20に前述のC. A. Spindtらによる素子の断面図
を示す。同図において、3010は基板で、3011は
導電材料よりなるエミッタ配線、3012はエミッタコ
ーン、3013は絶縁層、3014はゲート電極であ
る。本素子は、エミッタコーン3012とゲート電極3
014の間に適宜の電圧を印加することにより、エミッ
タコーン3012の先端部より電界放出を起こさせるも
のである。また、FE型の他の素子構成として、図20
のような積層構造ではなく、基板上に基板平面とほぼ平
行にエミッタとゲート電極を配置した例もある。As a typical example of this FE type device configuration, FIG. 20 shows a cross-sectional view of the device by CA Spindt et al. Described above. In the figure, 3010 is a substrate, 3011 is an emitter wiring made of a conductive material, 3012 is an emitter cone, 3013 is an insulating layer, and 3014 is a gate electrode. This device comprises an emitter cone 3012 and a gate electrode 3
By applying an appropriate voltage during 014, field emission is caused from the tip of the emitter cone 3012. As another element configuration of the FE type, FIG.
There is also an example in which an emitter and a gate electrode are arranged on a substrate almost in parallel with the substrate plane instead of the laminated structure as described above.
【0011】また、MIM型の例としては、例えば、C.
A. Mead,“Operation of tunnel-emission Devices,
J. Appl. Phys., 32,646 (1961)などが知られている。
このMIM型の素子構成の典型的な例を図21に示す。
同図は断面図であり、図において、3020は基板で、
3021は金属よりなる下電極、3022は厚さ100
[Å]程度の薄い絶縁層、3023は厚さ80〜300
[Å]程度の金属よりなる上電極である。MIM型にお
いては、上電極3023と下電極3021の間に適宜の
電圧を印加することにより、上電極3023の表面より
電子放出を起こさせるものである。Examples of the MIM type include, for example, C.I.
A. Mead, “Operation of tunnel-emission Devices,
J. Appl. Phys., 32,646 (1961) and the like are known.
FIG. 21 shows a typical example of the MIM type element configuration.
The figure is a cross-sectional view, in which 3020 is a substrate,
3021 is a lower electrode made of metal, 3022 is a thickness of 100
[Å] a thin insulating layer, 3023 has a thickness of 80 to 300
This is an upper electrode made of a metal of about [Å]. In the MIM type, electrons are emitted from the surface of the upper electrode 3023 by applying an appropriate voltage between the upper electrode 3023 and the lower electrode 3021.
【0012】上述の冷陰極素子は、熱陰極素子と比較し
て低温で電子放出を得ることができるため、加熱用ヒー
タを必要としない。従って、熱陰極素子よりも構造が単
純であり、微細な素子を作成可能である。また、基板上
に多数の素子を高い密度で配置しても、基板の熱溶融な
どの問題が発生しにくい。また、熱陰極素子がヒータの
加熱により動作するため応答速度が遅いのとは異なり、
冷陰極素子の場合には応答速度が速いという利点もあ
る。このため、冷陰極素子を応用するための研究が盛ん
に行われてきている。The above-described cold cathode device can obtain electrons at a lower temperature than the hot cathode device, and therefore does not require a heater for heating. Therefore, the structure is simpler than that of the hot cathode element, and a fine element can be produced. Further, even when a large number of elements are arranged on a substrate at a high density, problems such as thermal melting of the substrate hardly occur. Also, unlike the response speed is slow because the hot cathode element operates by heating the heater,
In the case of a cold cathode device, there is also an advantage that the response speed is high. For this reason, research for applying the cold cathode device has been actively conducted.
【0013】例えば、表面伝導型放出素子は、冷陰極素
子のなかでも特に構造が単純で製造も容易であることか
ら、大面積にわたり多数の素子を形成できる利点があ
る。そこで、例えば本出願人による特開昭64−313
32号公報において開示されるように、多数の素子を配
列して駆動するための方法が研究されている。For example, the surface conduction electron-emitting device has the advantage of being able to form a large number of devices over a large area because it has a particularly simple structure and is easy to manufacture among the cold cathode devices. Therefore, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No.
As disclosed in Japanese Patent Publication No. 32, a method for arranging and driving a large number of elements has been studied.
【0014】また、表面伝導型放出素子の応用について
は、例えば、画像表示装置、画像記録装置などの画像形
成装置や、荷電ビーム源、等が研究されている。With respect to applications of the surface conduction electron-emitting device, for example, image forming apparatuses such as image display apparatuses and image recording apparatuses, and charged beam sources have been studied.
【0015】特に、画像表示装置への応用としては、例
えば本出願人による米国特許第5,066,883号や
特開平2−257551号公報や特開平4−28137
号公報において開示されているように、表面伝導型放出
素子と電子の照射により発光する蛍光体とを組み合わせ
て用いた画像表示装置が研究されている。表面伝導型放
出素子と蛍光体とを組み合わせて用いた画像表示装置
は、従来の他の方式の画像表示装置よりも優れた特性が
期待されている。例えば、近年普及してきた液晶表示装
置と比較しても、自発光型であるためバックライトを必
要としない点や、視野角が広い点が優れていると言え
る。In particular, as an application to an image display device, for example, US Pat. No. 5,066,883, JP-A-2-257551 and JP-A-4-28137 by the present applicant.
As disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. H10-115, an image display device using a combination of a surface conduction electron-emitting device and a phosphor that emits light by irradiation with electrons has been studied. An image display device using a combination of a surface conduction electron-emitting device and a phosphor is expected to have better characteristics than other conventional image display devices. For example, compared to a liquid crystal display device that has become widespread in recent years, it can be said that it is excellent in that it is a self-luminous type and does not require a backlight and has a wide viewing angle.
【0016】また、FE型素子を多数個並べて駆動する
方法は、例えば本出願人による米国特許第4,904,
895号に開示されている。また、FE型を画像表示装
置に応用した例として、例えば、R. Meyerらにより報告
された平板型表示装置が知られている。[R. Meyer:“Re
cent Development on Microtips Display at LETI”,T
ech. Digest of 4th Int. Vacuum Microelectronics Co
nf., Nagahama, pp.6-9 (1991)]。A method of arranging and driving a large number of FE elements is disclosed in, for example, US Pat.
No. 895. Further, as an example of applying the FE type to an image display device, for example, a flat panel display device reported by R. Meyer et al. Is known. [R. Meyer: “Re
cent Development on Microtips Display at LETI ”, T
ech.Digest of 4th Int.Vacuum Microelectronics Co
nf., Nagahama, pp. 6-9 (1991)].
【0017】また、MIM型を多数個並べて画像表示装
置に応用した例は、例えば本出願人による特開平3−5
5738号公報に開示されている。An example in which a number of MIM types are arranged and applied to an image display device is disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No.
No. 5738.
【0018】本願発明者らは、上記従来技術に記載した
ものをはじめとして、さまざまな材料、製法、構造の表
面伝導型放出素子を試みてきた。さらに、多数の表面伝
導型放出素子を配列したマルチ電子源、並びにこのマル
チ電子源を応用した画像表示装置に付いて研究を行って
きた。例えば図22に示す電気的な配線方法によるマル
チ電子源を試みてきた。即ち、表面伝導型放出素子を2
次元的に多数個配列し、これらの素子を図示のようにマ
トリクス状に配線したマルチ電子源である。The inventors of the present application have attempted surface conduction type emission devices having various materials, manufacturing methods and structures, including those described in the above-mentioned prior art. Further, research has been conducted on a multi-electron source in which a large number of surface conduction electron-emitting devices are arranged, and on an image display device using the multi-electron source. For example, a multi-electron source based on the electrical wiring method shown in FIG. 22 has been tried. That is, the surface conduction type emission device is
This is a multi-electron source in which a large number of elements are arranged in a dimension, and these elements are wired in a matrix as shown in the figure.
【0019】図中、4001は表面伝導型放出素子を模
式的に示したもの、4002は行方向配線、4003は
列方向配線である。行方向配線4002及び列方向配線
4003は、実際には有限の電気抵抗を有するものであ
るが、図においては配線抵抗4004及び4005とし
て示されている。上述のような配線方法を、単純マトリ
クス配線と呼ぶ。なお、図示の便宜上、6×6のマトリ
クスで示しているが、マトリクスの規模はむろんこれに
限ったわけではなく、例えば画像表示す値用のマルチ電
子源の場合には、所望の画像表示を行うのに足りるだけ
の素子を配列し配線するものである。In the figure, 4001 schematically shows a surface conduction electron-emitting device, 4002 shows a row direction wiring, and 4003 shows a column direction wiring. Although the row direction wiring 4002 and the column direction wiring 4003 actually have a finite electric resistance, they are shown as wiring resistances 4004 and 4005 in the figure. The above-described wiring method is called simple matrix wiring. Although a 6 × 6 matrix is shown for convenience of illustration, the size of the matrix is not limited to this. For example, in the case of a multi-electron source for displaying images, a desired image is displayed. Only enough elements are arranged and wired.
【0020】このように表面伝導型放出素子を単純マト
リクス配線したマルチ電子源においては、所望の電子ビ
ームを出力させるため、行方向配線4002および列方
向配線4003に適宜の電気信号を印加する。例えば、
マトリクスの中の任意の1行の表面伝導型放出素子を駆
動するには、選択する行の行方向配線4002には選択
電位Vsを印加し、同時に非選択の行の行方向配線40
02には非選択電位Vnsを印加する。これと同期して列
方向配線4003に電子ビームを出力するための駆動電
位Veを印加する。この方法によれば、配線抵抗400
4及び4005による電圧降下を無視すれば、選択する
行の表面伝導型放出素子には(Ve−Vs)の電圧が印加
され、また非選択行の表面伝導型放出素子には(Ve−
Vns)の電圧が印加される。ここでVe,Vs,Vnsを適
宜の大きさの電位にすれば、選択する行の表面伝導型放
出素子だけから所望の強度の電子ビームが出力されるは
ずであり、また列方向配線の各々に異なる駆動電位Ve
を印加すれば、選択する行の素子の各々から異なる強度
の電子ビームが出力されるはずである。また、表面伝導
型放出素子の応答速度は高速であるため、駆動電位Ve
を印加する時間の長さを変えれば、電子ビームが出力さ
れる時間の長さも変えることができるはずである。In the multi-electron source in which the surface conduction electron-emitting devices are arranged in a simple matrix as described above, an appropriate electric signal is applied to the row wiring 4002 and the column wiring 4003 in order to output a desired electron beam. For example,
In order to drive any one row of surface conduction electron-emitting devices in the matrix, the selection potential Vs is applied to the row direction wiring 4002 of the selected row, and at the same time, the row direction wiring 40 of the non-selected row is applied.
02 is applied with a non-selection potential Vns. In synchronization with this, a driving potential Ve for outputting an electron beam is applied to the column wiring 4003. According to this method, the wiring resistance 400
If the voltage drops due to 4 and 4005 are ignored, a voltage of (Ve-Vs) is applied to the surface conduction type emission elements of the selected row, and (Ve-Vs) is applied to the surface conduction type emission elements of the non-selected rows.
Vns). Here, if Ve, Vs, and Vns are set to potentials of appropriate magnitudes, an electron beam having a desired intensity should be output only from the surface conduction electron-emitting device in the selected row, and each of the column-directional wirings should be output. Different drive potential Ve
Is applied, each of the elements in the selected row should output an electron beam having a different intensity. In addition, since the response speed of the surface conduction electron-emitting device is high, the driving potential Ve
By changing the length of time during which the electron beam is applied, it is possible to change the length of time during which the electron beam is output.
【0021】以下、選択時の素子印加電圧(Ve−Vs)
をVfと呼ぶ。Hereinafter, the element applied voltage at the time of selection (Ve-Vs)
Is called Vf.
【0022】さらに、上述のように単純マトリクス配線
したマルチ電子源から電子ビームを得る別の方法とし
て、列方向配線に駆動電位Veを印加するための電圧源
を接続するのではなく駆動電流を供給するための電流源
を接続して、選択する行の行方向配線には選択電位Vs
を印加し、同時に非選択の行の行方向配線には非選択電
位Vnsを印加して駆動する方法もある。これにより、表
面伝導型放出素子の強い閾値特性により、その選択され
た行の素子だけから電子ビームが得ることができる。こ
こで電子源に流れる電流を、以下素子電流Ifと呼び、
放出される電子ビーム電流を放出電流Ieと呼ぶ。Further, as another method for obtaining an electron beam from a multi-electron source having a simple matrix wiring as described above, a driving current is supplied instead of connecting a voltage source for applying a driving potential Ve to a column wiring. And a selection potential Vs is applied to the row direction wiring of the row to be selected.
, And at the same time, driving by applying a non-selection potential Vns to the row direction wiring of the non-selected row. Thus, due to the strong threshold characteristics of the surface conduction electron-emitting device, an electron beam can be obtained only from the device in the selected row. Here, the current flowing through the electron source is hereinafter referred to as an element current If,
The emitted electron beam current is called emission current Ie.
【0023】従って、表面伝導型放出素子を単純マトリ
クス配線したマルチ電子源はいろいろな応用の可能性が
あり、例えば画像情報に応じた電気信号を適宜印加すれ
ば、画像表示装置用の電子源として好適に用いることが
できる。Therefore, a multi-electron source having a surface conduction type electron-emitting device arranged in a simple matrix has various applications. For example, if an electric signal corresponding to image information is appropriately applied, the multi-electron source can be used as an electron source for an image display device. It can be suitably used.
【0024】[0024]
【発明が解決しようとする課題】本願では、より正確に
画像を表示できる構成を実現することを課題とする。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to realize a configuration capable of displaying an image more accurately.
【0025】[0025]
【課題を解決するための手段】本願に係る画像表示装置
の発明のひとつは以下の構成を有する。One of the inventions of the image display device according to the present invention has the following configuration.
【0026】複数の表示素子と、該表示素子それぞれに
立下りのタイミングの異なる信号を印加する駆動回路と
を有する画像表示装置であって、前記駆動回路は、前記
信号の立下りを複数のステップに分けて行うものである
ことを特徴とする画像表示装置。An image display apparatus comprising: a plurality of display elements; and a drive circuit for applying signals having different fall timings to each of the display elements, wherein the drive circuit determines the fall of the signal by a plurality of steps. An image display device characterized in that the image display is performed separately.
【0027】また本願に係る画像表示装置の発明の一つ
は以下の構成を有する。One of the inventions of the image display device according to the present invention has the following configuration.
【0028】複数の表示素子と、該表示素子それぞれに
立下りのタイミングの異なる信号を印加する駆動回路と
を有する画像表示装置であって、前記駆動回路は、表示
状態の所定のレベルから非表示状態の所定のレベルまで
前記信号を立ち下げるときに、前記表示状態の所定のレ
ベルから非表示状態の所定のレベルまでの間で信号の立
下げ回路の動作状態を変更することを特徴とする画像表
示装置。An image display apparatus comprising: a plurality of display elements; and a drive circuit for applying signals having different falling timings to each of the display elements, wherein the drive circuit performs non-display from a predetermined display state level. An image characterized by changing an operation state of a signal fall circuit from a predetermined level in the display state to a predetermined level in a non-display state when the signal falls to a predetermined level in a state. Display device.
【0029】信号のレベルとは、例えば、素子もしくは
素子が接続される配線に供給する信号の電位の大きさで
あったりする。The signal level is, for example, the magnitude of the potential of a signal supplied to an element or a wiring to which the element is connected.
【0030】また、本願に係る画像表示装置の発明の一
つは以下の構成を有する。One of the inventions of the image display device according to the present invention has the following configuration.
【0031】複数の表示素子と、該表示素子それぞれに
立下りのタイミングの異なる信号を印加する駆動回路と
を有する画像表示装置であって、前記駆動回路は、前記
信号のレベルを表示状態の所定のレベルから非表示状態
の所定のレベルまで近づけるための電荷経路を複数有し
ており、前記信号を立ち下げるときに、前記表示状態の
所定のレベルから非表示状態の所定のレベルまでの間で
前記複数の電荷経路の動作状態を変更することを特徴と
する画像表示装置。An image display apparatus comprising: a plurality of display elements; and a drive circuit for applying signals having different falling timings to each of the display elements, wherein the drive circuit determines a level of the signal to a predetermined display state. And a plurality of charge paths for approaching a predetermined level in the non-display state from the predetermined level in the non-display state when the signal falls. An image display device, wherein operating states of the plurality of charge paths are changed.
【0032】ここで、前記電荷経路としては制御可能な
様々な構成をとることができる。例えば、所定の電位を
与える電圧源(GNDであっても良い)を用いることに
より、例えば表示状態の信号レベルであるある電位から
電圧源が与える所定の電位になるまで速やかに電荷を移
動させて、信号レベルを速やかに非表示状態の信号レベ
ルに近づけることができる。また、所定の電流を流すこ
とができる電流源を用いることにより、所望の早さで電
荷を移動させ、所望の早さで信号レベルを非表示状態の
信号レベルに近づけることができる。Here, the charge path may have various controllable configurations. For example, by using a voltage source (which may be GND) that gives a predetermined potential, the charge is quickly moved from a certain potential, which is a signal level in a display state, to a predetermined potential given by the voltage source, for example. , The signal level can be quickly brought closer to the signal level in the non-display state. In addition, by using a current source that can flow a predetermined current, charges can be moved at a desired speed, and the signal level can be made to approach the non-display state signal level at a desired speed.
【0033】また、複数の電荷経路の組み合わせも様々
な構成をとりうる。例えば、前記信号のレベルを立ち下
げるときの前記信号のレベルの単位時間当たりの変化量
が互いに異なる電荷経路(前記電圧源と電流源など)を
組み合わせて用いることができる。この場合、複数の電
荷経路を排他的に動作させても良い。また、並列に動作
し得る複数の電荷経路を用い、並列に動作する電荷経路
の数を制御することによって、信号レベルの立下りを制
御しても良い。並列に配置された複数の電荷経路の制御
としては、それぞれ別々のタイミングで動作するように
制御しても良く、また、複数の電荷経路それぞれにON
状態とOFF状態の遷移の閾値を有する回路を用い、該
複数の電荷経路毎に該閾値を異ならせ、信号レベルに応
じて自動的に並列に動作する電荷経路の数が変化する構
成としても良い。Also, the combination of a plurality of charge paths can have various configurations. For example, charge paths (eg, the voltage source and the current source) having different amounts of change in the signal level per unit time when the signal level falls can be used. In this case, a plurality of charge paths may be operated exclusively. Further, the fall of the signal level may be controlled by using a plurality of charge paths that can operate in parallel and controlling the number of charge paths that operate in parallel. The control of the plurality of charge paths arranged in parallel may be controlled so that they operate at different timings, and each of the plurality of charge paths may be turned on.
A configuration may be used in which a circuit having a threshold value for transition between the state and the OFF state is used, the threshold value is changed for each of the plurality of charge paths, and the number of charge paths that operate in parallel automatically changes according to the signal level. .
【0034】また、前記複数の電荷経路の動作状態の変
更は、前記表示状態の所定のレベルから、前記表示素子
が動作する閾値レベルもしくは前記表示素子による表示
輝度が概略0になるレベルである第1のレベルまで前記
信号のレベルが変化する時間が、該第1のレベルから、
前記非表示状態の所定のレベルである基準レベルまで前
記信号のレベルが変化する時間よりも短くなるように行
われる構成を取り得る。この構成によれば、信号レベル
の立ち下げ時に、速やかに非表示状態(例えば非発光状
態)に遷移させた後、クロストークの影響を抑制しつつ
信号レベルを基準レベルに近づけることができる。Further, the change of the operation state of the plurality of charge paths is a change from a predetermined level of the display state to a threshold level at which the display element operates or a level at which display luminance by the display element becomes substantially zero. The time when the level of the signal changes to the level of 1 from the first level is
A configuration may be adopted in which the signal level is changed to a reference level, which is a predetermined level in the non-display state, shorter than a time when the level of the signal changes. According to this configuration, when the signal level falls, the signal level can be quickly shifted to the non-display state (for example, the non-light emitting state), and then the signal level can be made closer to the reference level while suppressing the influence of crosstalk.
【0035】前記複数の電荷経路の動作状態の変更は、
前記表示素子が動作する閾値レベルもしくはその近傍も
しくは前記表示素子による表示輝度が概略0になるレベ
ルもしくはその近傍を境に変更されるものであると好適
である。The change of the operation state of the plurality of charge paths is as follows.
It is preferable that the threshold value is changed at or near a threshold level at which the display element operates, or at or near a level at which display luminance of the display element becomes substantially zero.
【0036】また、前記複数の電荷経路の動作状態を決
定する回路を有するとよい。この回路により、以上述べ
た信号レベルの立ち下げ制御を行うか否かを決定するこ
とができる。It is preferable that a circuit for determining an operation state of the plurality of charge paths is provided. With this circuit, it is possible to determine whether or not to perform the above-described signal level fall control.
【0037】また特に、画像表示装置が、前記複数の表
示素子それぞれに対応して、前記複数の表示素子のそれ
ぞれに前記信号を供給する配線を有しており、前記複数
の電荷経路の動作状態を決定する回路は、制御する電荷
経路が接続される配線以外の配線に供給される信号のレ
ベルに応じて、前記複数の電荷経路の動作状態を決定す
るものであるとよい。Further, particularly, the image display device has a wiring for supplying the signal to each of the plurality of display elements corresponding to each of the plurality of display elements, and the operating state of the plurality of charge paths May be a circuit that determines the operating states of the plurality of charge paths according to the level of a signal supplied to a wiring other than the wiring to which the charge path to be controlled is connected.
【0038】また、画像表示装置が、前記複数の表示素
子それぞれに対応して、前記複数の表示素子のそれぞれ
に前記信号を供給する配線を有しており、前記複数の電
荷経路の動作状態を決定する回路は、制御する電荷経路
が接続される配線に隣接する配線に供給される信号のレ
ベルに応じて、前記複数の電荷経路の動作状態を決定す
るものであるとよい。Further, the image display device has a wiring for supplying the signal to each of the plurality of display elements corresponding to each of the plurality of display elements, and the operation state of the plurality of charge paths is determined. The determining circuit may determine the operation states of the plurality of charge paths according to the level of a signal supplied to a wiring adjacent to a wiring to which the charge path to be controlled is connected.
【0039】前記信号は、画像信号であり得る。また、
前記信号はパルス幅変調信号であり得る。[0039] The signal may be an image signal. Also,
The signal may be a pulse width modulated signal.
【0040】また前記駆動回路は、前記信号のレベルを
立ち上げる立ち上げ回路を信号レベルの立ち下げを行う
回路とは別個に有していると良い。立ち上げ回路として
は例えば電流源や電圧源を用いる事ができる。It is preferable that the driving circuit has a rising circuit for raising the level of the signal separately from a circuit for lowering the signal level. As the start-up circuit, for example, a current source or a voltage source can be used.
【0041】また、前記複数の表示素子は、複数の走査
信号配線と、該走査信号配線と交差する複数の変調信号
配線とによって、マトリックス状に接続されている構成
を取り得る。この構成において、前記駆動回路は、前記
変調信号配線に接続されていればよい。The plurality of display elements may be connected in a matrix by a plurality of scanning signal wirings and a plurality of modulation signal wirings intersecting the scanning signal wirings. In this configuration, the drive circuit only needs to be connected to the modulation signal wiring.
【0042】また、前記走査信号配線には、複数の走査
信号配線のうちの選択した走査信号配線に所定の電位を
印加する走査回路が接続されているとよい。ここで、前
記駆動回路は、前記変調信号配線に接続されており、該
駆動回路は、前記走査回路によって選択された走査信号
配線に印加される前記所定の電位との電位差によって、
前記表示素子を駆動する電位を印加する構成を取り得
る。Further, it is preferable that a scanning circuit for applying a predetermined potential to a scanning signal wiring selected from a plurality of scanning signal wirings is connected to the scanning signal wiring. Here, the driving circuit is connected to the modulation signal wiring, and the driving circuit is configured to generate a potential difference from the predetermined potential applied to the scanning signal wiring selected by the scanning circuit.
A configuration for applying a potential for driving the display element may be employed.
【0043】また、前記表示素子としては様々な素子を
用いることができる。例えば電子放出素子を用いる事が
できる。この場合、好適には、該電子放出素子が放出す
る電子により発光する発光体を用いる事により画像を表
示する事ができる。また、EL素子を用いる事もでき
る。電子放出素子としては、FE型、MIM型、表面伝
導型などを用いる事ができる。Various elements can be used as the display element. For example, an electron-emitting device can be used. In this case, preferably, an image can be displayed by using a light emitter that emits light by the electrons emitted from the electron-emitting device. Further, an EL element can be used. As the electron-emitting device, an FE type, a MIM type, a surface conduction type, or the like can be used.
【0044】また本願に係る画像表示方法の一つは以下
の構成を有する。One of the image display methods according to the present invention has the following configuration.
【0045】複数の表示素子それぞれに立下りのタイミ
ングの異なる信号を印加して駆動する画像表示方法であ
って、前記信号の立下りを複数のステップに分けて行う
ことを特徴とする画像表示方法。An image display method for driving by applying signals with different falling timings to each of a plurality of display elements, wherein the falling of the signals is performed in a plurality of steps. .
【0046】また本願に係る画像表示方法の一つは以下
の構成を有する。One of the image display methods according to the present invention has the following configuration.
【0047】複数の表示素子それぞれに立下りのタイミ
ングの異なる信号を印加して駆動する画像表示方法であ
って、表示状態の所定のレベルから非表示状態の所定の
レベルまで前記信号を立ち下げるときに、前記表示状態
の所定のレベルから非表示状態の所定のレベルまでの間
で信号の立下げ回路の動作状態を変更することを特徴と
する画像表示方法。An image display method for driving by applying signals having different falling timings to each of a plurality of display elements, wherein the signal falls from a predetermined level in a display state to a predetermined level in a non-display state. And changing an operation state of a signal fall circuit from a predetermined level in the display state to a predetermined level in the non-display state.
【0048】また本願に係る画像表示方法の一つは以下
の構成を有する。One of the image display methods according to the present invention has the following configuration.
【0049】複数の表示素子それぞれに立下りのタイミ
ングの異なる信号を印加して駆動する画像表示方法であ
って、前記信号のレベルを表示状態の所定のレベルから
非表示状態の所定のレベルまで近づけるための電荷経路
を複数用い、前記信号を立ち下げるときに、前記表示状
態の所定のレベルから非表示状態の所定のレベルまでの
間で前記複数の電荷経路の動作状態を変更することを特
徴とする画像表示方法。An image display method for driving by applying signals having different falling timings to each of a plurality of display elements, wherein the level of the signals is brought closer from a predetermined level in a display state to a predetermined level in a non-display state. A plurality of charge paths for changing the operation state of the plurality of charge paths from a predetermined level in the display state to a predetermined level in the non-display state when the signal falls. Image display method to be used.
【0050】[0050]
【発明の実施の形態】表示素子を駆動電圧を印加もしく
は駆動電流を印加し、パルス幅変調を行うことで所望の
ビーム出力が得られるが、その駆動手段からマルチ電子
源までの有限の長さをもつ配線のインダクタンス成分
や、隣接する配線間の容量成分、浮遊容量成分などが原
因となって発生する共振によるパルス印加(立ち上が
り)時のリンギングを抑制するために、駆動電流を印加
する方式もしくは駆動電圧を印加する場合も電流制限を
施す方式をとることができる。一方、パルス印加終了時
(立ち下がり)時においては、浮遊容量により蓄積され
た電荷を速やかに放電させ立ち下がり時間を短くするた
めに、スイッチング手段を設け、低インピーダンスであ
る電圧バイアスを印加することができる。これらの手段
により、マルチ電子源の印加電圧の定格値を超えるよう
なリンギングの発生を防ぎつつ、各素子の駆動を行うこ
とができる。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A desired beam output can be obtained by applying a drive voltage or a drive current to a display element and performing pulse width modulation. However, a finite length from the drive means to the multi-electron source is obtained. A method of applying a drive current to suppress ringing at the time of pulse application (rising) caused by resonance generated due to an inductance component of a wiring having a capacitance, a capacitance component between adjacent wirings, a stray capacitance component, or the like; When a drive voltage is applied, a method of limiting the current can be adopted. On the other hand, at the end of the pulse application (fall), switching means should be provided to apply a voltage bias having low impedance in order to quickly discharge the charge accumulated by the stray capacitance and shorten the fall time. Can be. By these means, each element can be driven while preventing the occurrence of ringing exceeding the rated value of the applied voltage of the multi-electron source.
【0051】しかし、上記構成においても、別の問題が
発生していた。However, another problem has occurred in the above configuration.
【0052】即ち、図2に示すように、隣接する2本
(あるいはそれ以上)の配線間にパルス幅の異なるパル
ス信号が印加された時に、幅の長い方のパルスが配線間
容量により隣の先に立ち下がったパルス信号の影響を受
けて信号レベルが低下し、実効印加量が低下してしまう
現象が発生する。このような現象により、パルス幅で階
調表現している場合には、隣接配線の影響で階調性に誤
差が発生することになる。特に、大画面のパネルを構成
する場合は配線間容量が増大し、この階調性の誤差が大
きくなってしまうという問題がある。That is, as shown in FIG. 2, when a pulse signal having a different pulse width is applied between two (or more) adjacent wirings, a pulse having a longer width is caused by the capacitance between the wirings. A phenomenon occurs in which the signal level decreases due to the influence of the pulse signal that has fallen earlier, and the effective application amount decreases. Due to such a phenomenon, when the gradation is expressed by the pulse width, an error occurs in the gradation due to the influence of the adjacent wiring. In particular, when a large-screen panel is configured, there is a problem in that the capacitance between wirings increases, and this error in gradation characteristics increases.
【0053】ここで、本願発明に係る実施の形態1を具
体的に説明する前に、その参考となる参考例1を説明す
る。Here, before specifically describing the first embodiment according to the present invention, a first reference example will be described.
【0054】(参考例1)図1は、参考例1の画像表示
装置の回路構成を示すブロック図、図3は図1の回路に
よる効果を説明するための図、図4は図1の各部の信号
タイミングを示す波形図である。(Reference Example 1) FIG. 1 is a block diagram showing a circuit configuration of an image display device of Reference Example 1, FIG. 3 is a diagram for explaining the effect of the circuit of FIG. 1, and FIG. FIG. 6 is a waveform chart showing signal timings of FIG.
【0055】図1において、11はm×nのマトリクス
状に、後述する素子電圧−放出電流特性を有する表面伝
導型放出素子を複数配列した表示パネルである。1は映
像信号を入力するための映像入力信号端子、2はアナロ
グ信号処理部で、A/D変換部3において映像輝度信号
を所定の階調数でデジタル化するために、アナログ映像
信号の黒レベルのクランプや振幅レベルの調整、帯域制
限などを行う。4は同期分離部で、入力した映像信号か
ら同期信号(水平、垂直同期信号など)を分離してい
る。5はタイミング発生部で、同期分離部4から出力さ
れる同期信号を入力し、A/D部3や各種部分に必要な
タイミング信号を供給している。In FIG. 1, reference numeral 11 denotes a display panel in which a plurality of surface conduction electron-emitting devices having device voltage-emission current characteristics described later are arranged in an m × n matrix. Reference numeral 1 denotes a video input signal terminal for inputting a video signal, 2 denotes an analog signal processing unit, and an A / D conversion unit 3 converts a video luminance signal into a predetermined number of gradations. Performs level clamping, amplitude level adjustment, and band limitation. Reference numeral 4 denotes a synchronization separation unit, which separates synchronization signals (horizontal and vertical synchronization signals, etc.) from an input video signal. Reference numeral 5 denotes a timing generation unit which inputs a synchronization signal output from the synchronization separation unit 4 and supplies necessary timing signals to the A / D unit 3 and various parts.
【0056】A/D部3は映像アナログ輝度信号を1水
平期間当たりn個のシリアルデジタル信号に変換して出
力しており、このデジタル信号は水平シフトレジスタ6
に送られて保持され、パラレル信号に変換されて1ライ
ンメモリ7に送られて記憶される。列配線駆動部10
は、各列配線毎に、入力される輝度データに応じた後述
のPWMジェネレータ101の出力パルス信号がオンの
時にスイッチ回路103を介して列配線に電流を印加す
るための電流源I1と、輝度データがオフの時にスイッ
チ回路103を通して電流源I2で電流制限された電流
で列配線を駆動するトランジスタ100と、それらのオ
ン・オフを切り替える輝度データに比例したパルス幅の
信号を出力するPWMジェネレータ(PWN GEN)101を
備える。即ち、スイッチ回路103は、PWMジェネレ
ータ(PWN GEN)101からのパルス信号(輝度データ)
がハイレベルのときに電流源I1からの電流を列配線に
流し、そのパルス信号がロウレベルになると、その列配
線をトランジスタ100側に接続する。ここで輝度デー
タがハイレベルの時に素子に印加する電位が定格値を超
えないための保護として、列配線に印加される電位をV
mにクリップするためのダイオード102も備えてい
る。尚、この列配線駆動部10の電流源I2に接続され
ている電位Vssは、グランドレベル或いは−数V程度で
あっても良い。またVddは図3の電位Veとほぼ同等の
電位である。The A / D section 3 converts the video analog luminance signal into n serial digital signals per horizontal period and outputs the serial digital signals.
, And is converted to a parallel signal, sent to the one-line memory 7 and stored. Column wiring drive unit 10
A current source I1 for applying a current to the column wiring via the switch circuit 103 when an output pulse signal of a PWM generator 101, which will be described later, according to input luminance data is on, for each column wiring; When the data is off, the transistor 100 drives the column wiring with a current limited by the current source I2 through the switch circuit 103, and a PWM generator (PW) that outputs a signal of a pulse width proportional to the luminance data for switching on / off of the transistor 100 PWN GEN) 101. That is, the switch circuit 103 outputs a pulse signal (luminance data) from the PWM generator (PWN GEN) 101.
Is high level, the current from the current source I1 flows through the column wiring, and when the pulse signal goes low, the column wiring is connected to the transistor 100 side. Here, to protect the potential applied to the element from exceeding the rated value when the luminance data is at a high level, the potential applied to the column wiring is set to V
There is also a diode 102 for clipping to m. Note that the potential Vss connected to the current source I2 of the column wiring drive unit 10 may be at the ground level or about several volts. Vdd is substantially the same as the potential Ve in FIG.
【0057】行配線駆動部9は、表示パネル11の各行
毎に行配線に直流電位バイアスVsを印加するか、行配
線を接地するかを選択するスイッチ回路110を有し、
垂直シフトレジスタ8からの出力信号により、これらス
イッチ回路110の接続を順次切り換えて表示パネル1
1の各行に順に直流電位バイアスVsを印加することに
より、表示パネル11の各ラインを順次走査・駆動され
る。この垂直シフトレジスタは、例えばタイミング発生
部5よりの水平同期信号を入力し、その水平同期信号を
入力する毎に、行配線を順次切り換えて選択するように
信号を出力している。The row wiring drive section 9 has a switch circuit 110 for selecting whether to apply a DC potential bias Vs to the row wiring or to ground the row wiring for each row of the display panel 11.
The connection of these switch circuits 110 is sequentially switched by an output signal from the vertical shift register 8 to sequentially display the display panel 1.
Each line of the display panel 11 is sequentially scanned and driven by applying the DC potential bias Vs to each row in order. The vertical shift register receives, for example, a horizontal synchronizing signal from the timing generator 5 and outputs a signal so as to sequentially switch and select a row wiring every time the horizontal synchronizing signal is input.
【0058】この列配線の駆動電位波形は、図2に示す
ようなパルス信号のオフ(立ち下がり)時、隣接する列
配線間での浮遊容量による実効電圧の低下が、図3に示
すように電流制限を施すことにより改善される。As shown in FIG. 3, when the pulse signal shown in FIG. 2 is turned off (falling), the effective voltage drop due to the stray capacitance between the adjacent column wirings is reduced. It is improved by applying current limiting.
【0059】次に図4を参照して、図1の回路の動作を
説明する。Next, the operation of the circuit of FIG. 1 will be described with reference to FIG.
【0060】図4において、401は映像信号入力端子
1に入力されるアナログ映像信号を示し、402はこの
アナログ映像信号をA/D変換し、水平シフトレジスタ
6及び1ラインメモリ7を介して列配線駆動部10に入
力される各ライン毎のデジタルデータを示している。4
03は1ライン分、即ち、n個のパルス幅変調回路10
1より出力されるパルス幅変調信号を示しており、これ
ら各パルス信号のパルス幅は、デジタル輝度データの輝
度に応じたパルス幅となっている。404は垂直シフト
レジスタ8の出力信号を示し、水平同期信号が入力され
る度に行配線を順次切り換えて選択している。405は
各行配線に印加される電位を示しており、垂直シフトレ
ジスタ8の出力信号により選択された行配線に電位Vs
が印加される様子を示している。In FIG. 4, reference numeral 401 denotes an analog video signal input to the video signal input terminal 1; 402, an analog / digital conversion of the analog video signal; 2 shows digital data for each line input to the wiring drive unit 10. 4
03 is for one line, that is, n pulse width modulation circuits 10
1 shows a pulse width modulation signal output from the control unit 1. The pulse width of each pulse signal is a pulse width corresponding to the luminance of the digital luminance data. Reference numeral 404 denotes an output signal of the vertical shift register 8, and the row wiring is sequentially switched and selected each time a horizontal synchronizing signal is input. Reference numeral 405 denotes a potential applied to each row wiring, and the potential Vs is applied to the row wiring selected by the output signal of the vertical shift register 8.
Is applied.
【0061】この例においては、パルスの立ち上がり時
間は電流源I1による駆動のため遅くなっているが、例
えばある電位までは電圧源で駆動し、その後、電流源が
働くような構成にして、その駆動信号立ち上がり時間を
急峻にした場合においても、同様の効果が得られる。In this example, the rise time of the pulse is delayed due to the drive by the current source I1, but, for example, the voltage source is driven up to a certain potential and then the current source is activated. Similar effects can be obtained even when the drive signal rise time is made steep.
【0062】[実施の形態1]以下では本願発明の実施
の形態1を詳細に述べる。[First Embodiment] A first embodiment of the present invention will be described in detail below.
【0063】図5は、本発明の実施の形態1の画像表示
装置の回路構成を示すブロック図で、前述の図1と共通
する部分は同じ番号で示し、その説明を省略する。FIG. 5 is a block diagram showing a circuit configuration of the image display device according to the first embodiment of the present invention. Portions common to FIG. 1 described above are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.
【0064】列配線駆動部10aは、各列配線毎に、輝
度データ(パルス信号)がオンの時に電流を印加するた
めの電流源I1と、オフ時に抵抗105(r)で電流制
限された直流バイアス電位(接地レベル)を与えるか、
或いは直流バイアスVbを与えるかを切り替えるスイッ
チ回路104を備えている。PWMジェネレータ(PWMGE
N)101は更に、パルス信号の立ち下がり時のはじめの
短い期間でまず直流バイアスVbを与え、その後、抵抗
105を介して電流制限された接地レベルバイアスを与
えるようにしている。尚、電流源I1からの電流供給が
オン時に、列配線に印加される電位が定格を超えないた
めの保護として、ダイオード102により印加電位をV
mにクリップしている点は同じである。The column wiring drive section 10a includes, for each column wiring, a current source I1 for applying a current when the luminance data (pulse signal) is on, and a DC current limited by a resistor 105 (r) when the luminance data (pulse signal) is off. Apply a bias potential (ground level)
Alternatively, a switch circuit 104 for switching whether to apply the DC bias Vb is provided. PWM generator (PWMGE
The N) 101 further applies the DC bias Vb in the first short period at the time of the fall of the pulse signal, and then applies the current-limited ground level bias via the resistor 105. Incidentally, when the current supply from the current source I1 is on, as a protection to prevent the potential applied to the column wiring from exceeding the rating, the applied potential is set to V by the diode 102.
The point of clipping to m is the same.
【0065】このような構成により、列配線に印加され
る電位波形は、図6に示すように電位Vbまでは急速に
立ち下がり、その後、電流制限抵抗105と配線の浮遊
容量分で決まる時定数に基づいて緩やかに立ち下がる。
この効果により、図2に示すような、クロストークによ
る実効電圧の低下分がより小さくなって、実効電圧の低
下が改善されることが判る。With such a configuration, the potential waveform applied to the column wiring rapidly falls to the potential Vb as shown in FIG. 6, and then has a time constant determined by the current limiting resistor 105 and the floating capacitance of the wiring. Fall slowly based on.
It can be seen from this effect that the decrease in the effective voltage due to crosstalk as shown in FIG. 2 is further reduced, and the decrease in the effective voltage is improved.
【0066】この実施の形態1の構成においては、パル
ス信号の立下りを1ステップで行わずに、パルス信号の
立ち下げの際に途中まで立ち下げるステップと該ステッ
プの後にパルス信号の基準電位まで立ち下げるステップ
とを行うことにより、クロストークを抑制している。特
に、パルス信号の立下りの前半部分では、速やかに立ち
下げることにより、発光状態を低輝度状態もしくは非発
光状態にまで速やかに立ち下げることを可能としてい
る。ここでは、特に、パルス信号の立ち下げの前半にお
いて、素子が電子を放出する閾値電圧の近傍までは電圧
を速やかに立ち下げる構成が有効である。特に、後述す
る駆動電圧−発光輝度(素子放出電流)に急峻な閾値特
性を持つ表面伝導型放出素子を用いた表示パネルにおい
ては、急峻に立ち下げる電圧幅(Ve−Vb)が小さくて
も、表示される輝度の点では十分に追随できる。In the configuration of the first embodiment, the pulse signal does not fall in one step, but falls halfway when the pulse signal falls, and after the step, the pulse signal reaches the reference potential. By performing the step of lowering, crosstalk is suppressed. In particular, in the first half of the fall of the pulse signal, the light emission state can be quickly reduced to a low luminance state or a non-light emission state by rapidly falling. Here, it is particularly effective to have a configuration in which the voltage is quickly reduced to near the threshold voltage at which the element emits electrons in the first half of the fall of the pulse signal. In particular, in a display panel using a surface conduction electron-emitting device having a steep threshold characteristic in drive voltage-emission luminance (device emission current), which will be described later, even if the voltage width (Ve-Vb) of sharply falling is small, In terms of the displayed luminance, it can sufficiently follow.
【0067】尚、この図5の回路の動作は前述の図4の
タイミング図と同様であるため、その説明を省略する。The operation of the circuit of FIG. 5 is the same as that of the timing chart of FIG.
【0068】<本願発明の実施の形態で用いる表面伝導
型放出素子の製法及び用途説明>図7は、本実施の形態
の表示パネル1000の外観斜視図であり、その内部構
造を示すために表示パネル1000の一部を切り欠いて
示している。<Method of Manufacturing and Application of Surface Conduction Emission Element Used in Embodiment of the Present Invention> FIG. 7 is an external perspective view of a display panel 1000 of the present embodiment, which is shown to show the internal structure thereof. The panel 1000 is partially cut away.
【0069】図中、1005はリアプレート、1006
は側壁、1007はフェースプレートであり、1005
〜1007により表示パネルの内部を真空に維持するた
めの気密容器を形成している。この気密容器を組み立て
るにあたっては、各部材の接合部に十分な強度と気密性
を保持させるため封着する必要があるが、例えばフリッ
トガラスを接合部に塗布し、大気中あるいは窒素雰囲気
中で、400℃〜500℃で10分以上焼成することに
より封着を達成した。気密容器内部を真空に排気する方
法については後述する。In the figure, 1005 is a rear plate, 1006
Is a side wall, 1007 is a face plate, 1005
1007 form an airtight container for maintaining the inside of the display panel at a vacuum. When assembling this hermetic container, it is necessary to seal the joints of each member to maintain sufficient strength and airtightness.For example, frit glass is applied to the joints, and in the air or in a nitrogen atmosphere, Sealing was achieved by baking at 400 ° C. to 500 ° C. for 10 minutes or more. A method of evacuating the inside of the airtight container to a vacuum will be described later.
【0070】リアプレート1005には、基板1001
が固定されているが、この基板1001上には表面伝導
型放出素子1002がN×M個形成されている(ここで
N,Mは2以上の正の整数であり、目的とする表示画素
数に応じて適宜設定される。例えば、高品位テレビジョ
ンの表示を目的とした表示装置においては、N=300
0,M=1000以上の数を設定することが望ましい。
本実施の形態においては、N=3072,M=1024
とした)。前記N×M個の表面伝導型放出素子1002
は、M本の行方向配線1003とN本の列方向配線10
04により単純マトリクス配線されている。前記100
1〜1004によって構成される部分をマルチ電子源と
呼ぶ。なお、マルチ電子源の製造方法や構造について
は、後で詳しく述べる。The rear plate 1005 has a substrate 1001
Are fixed, but N × M surface-conduction emission devices 1002 are formed on the substrate 1001 (where N and M are positive integers of 2 or more, and the desired number of display pixels) For example, in a display device for displaying high-definition television, N = 300.
It is desirable to set 0, M = 1000 or more.
In the present embodiment, N = 3072, M = 1024
And). The N × M surface conduction electron-emitting devices 1002
Are M row-directional wirings 1003 and N column-directional wirings 10
04 is a simple matrix wiring. 100
The portion constituted by 1 to 1004 is called a multi-electron source. The manufacturing method and structure of the multi-electron source will be described later in detail.
【0071】本実施の形態においては、気密容器のリア
プレート1005にマルチ電子源の基板1001を固定
する構成としたが、マルチ電子源の基板1001が十分
な強度を有するものである場合には、気密容器のリアプ
レートとしてマルチ電子源の基板1001自体を用いて
もよい。In this embodiment, the substrate 1001 of the multi-electron source is fixed to the rear plate 1005 of the hermetic container. However, when the substrate 1001 of the multi-electron source has a sufficient strength, The substrate 1001 of the multi-electron source may be used as the rear plate of the airtight container.
【0072】また、フェースプレート1007の下面に
は、蛍光膜1008が形成されている。本実施の形態の
表示パネル1000はカラー表示用であるため、蛍光膜
1008の部分にはCRTの分野で用いられる赤
(R)、緑(G)、青(B)の3原色の蛍光体が塗り分
けられている。各色の蛍光体は、例えば図8(A)に示
すようにストライプ状に塗り分けられ、各色の蛍光体の
ストライプの間には黒色の導電体1010が設けてあ
る。この黒色の導電体1010を設ける目的は、電子の
照射位置に多少のずれがあっても表示色にずれが生じな
いようにするためや、外光の反射を防止して表示コント
ラストの低下を防ぐため、更には電子による蛍光膜のチ
ャージアップを防止するためなどである。黒色の導電体
1010には、黒鉛を主成分として用いたが、上記の目
的に適するものであればこれ以外の材料を用いても良
い。On the lower surface of the face plate 1007, a fluorescent film 1008 is formed. Since the display panel 1000 of this embodiment is for color display, phosphors of three primary colors of red (R), green (G), and blue (B) used in the field of CRT are provided on the fluorescent film 1008. It is painted separately. The phosphor of each color is separately applied in a stripe shape as shown in FIG. 8A, for example, and a black conductor 1010 is provided between the stripes of the phosphor of each color. The purpose of providing the black conductor 1010 is to prevent the display color from being shifted even if the electron irradiation position is slightly shifted, or to prevent the reflection of external light to prevent the reduction of the display contrast. This is to prevent charge-up of the fluorescent film by electrons. Although graphite is used as a main component for the black conductor 1010, any other material may be used as long as it is suitable for the above purpose.
【0073】また、3原色の蛍光体の塗り分け方は図8
(A)に示したストライプ状の配列に限られるものでは
なく、たとえば図8(B)に示すようなデルタ状配列
や、それ以外の配列であってもよい。なお、モノクロー
ムの表示パネルを作成する場合には、単色の蛍光体材料
を蛍光膜1008に用いればよく、また黒色導電材料は
必ずしも用いなくともよい。FIG. 8 shows how to paint the three primary color phosphors.
The arrangement is not limited to the stripe arrangement shown in FIG. 8A, but may be, for example, a delta arrangement as shown in FIG. 8B or another arrangement. Note that when a monochrome display panel is manufactured, a single-color phosphor material may be used for the phosphor film 1008, and a black conductive material is not necessarily used.
【0074】また、蛍光膜1008のリアプレート側の
面には、CRTの分野では公知のメタルバック1009
を設けてある。このメタルバック1009を設けた目的
は、蛍光膜1008が発する光の一部を鏡面反射して光
利用率を向上させるため、負イオンの衝突から蛍光膜1
008を保護するため、電子加速電位を印加するための
電極として作用させるため、蛍光膜1008を励起した
電子の導電路として作用させるためなどである。このメ
タルバック1009は、蛍光膜1008をフェースプレ
ート基板1007上に形成した後、蛍光膜表面を平滑化
処理し、その上にアルミニウムを真空蒸着する方法によ
り形成した。なお、蛍光膜1008に低電圧用の蛍光体
材料を用いた場合には、メタルバック1009は用いな
い。A metal back 1009 known in the field of CRT is provided on the surface of the fluorescent film 1008 on the rear plate side.
Is provided. The purpose of providing the metal back 1009 is to improve the light utilization rate by mirror-reflecting a part of the light emitted from the fluorescent film 1008 so that the fluorescent film 1
008, to act as an electrode for applying an electron accelerating potential, and to make the fluorescent film 1008 act as a conductive path for excited electrons. The metal back 1009 was formed by forming a fluorescent film 1008 on the face plate substrate 1007, smoothing the surface of the fluorescent film, and vacuum-depositing aluminum thereon. Note that when a fluorescent material for low voltage is used for the fluorescent film 1008, the metal back 1009 is not used.
【0075】また、本実施の形態では用いなかったが、
加速電位の印加用や蛍光膜の導電性向上を目的として、
フェースプレート基板1007と蛍光膜1008との間
に、例えばITOを材料とする透明電極を設けてもよ
い。Although not used in the present embodiment,
For the purpose of applying acceleration potential and improving the conductivity of the fluorescent film,
A transparent electrode made of, for example, ITO may be provided between the face plate substrate 1007 and the fluorescent film 1008.
【0076】また、Dx1〜DxMおよびDy1〜DyNおよび
Hvは、当該表示パネル1000と不図示の電気回路と
を電気的に接続するために設けた気密構造の電気接続用
端子である。Dx1〜DxMはマルチ電子源の行方向配線1
003と、Dy1〜DyNはマルチ電子源の列方向配線10
04と、Hvはフェースプレートのメタルバック100
9とそれぞれ電気的に接続している。Dx1 to DxM, Dy1 to DyN, and Hv are electric connection terminals having an airtight structure provided for electrically connecting the display panel 1000 to an electric circuit (not shown). Dx1 to DxM are the row direction wirings 1 of the multi-electron source
003 and Dy1 to DyN are the column wirings 10 of the multi-electron source.
04 and Hv are the metal back 100 of the face plate
9, respectively.
【0077】また、気密容器内部を真空に排気するに
は、気密容器を組み立てた後、不図示の排気管と真空ポ
ンプとを接続し、気密容器内を10の-7乗[torr]程度
の真空度まで排気する。その後、排気管を封止するが、
気密容器内の真空度を維持するために、封止の直前ある
いは封止後に気密容器内の所定の位置にゲッター膜(不
図示)を形成する。ゲッター膜とは、たとえばBaを主
成分とするゲッター材料をヒータもしくは高周波加熱に
より加熱し蒸着して形成した膜であり、該ゲッター膜の
吸着作用により気密容器内は1×10-5乗乃至1×10
-7乗[torr]の真空度に維持される。To evacuate the inside of the hermetic container to a vacuum, after assembling the hermetic container, an exhaust pipe (not shown) and a vacuum pump are connected, and the inside of the hermetic container is set to about 10 −7 [torr]. Evacuate to a vacuum. After that, the exhaust pipe is sealed,
In order to maintain the degree of vacuum in the airtight container, a getter film (not shown) is formed at a predetermined position in the airtight container immediately before or after sealing. The getter film is, for example, a film formed by heating and depositing a getter material containing Ba as a main component by a heater or high-frequency heating. × 10
The degree of vacuum is maintained at a power of −7 torr.
【0078】以上、本発明の実施の形態の表示パネル1
000の基本構成と製法を説明した。The display panel 1 according to the embodiment of the present invention has been described above.
000 has been described.
【0079】次に、この実施の形態の表示パネル100
0に用いたマルチ電子源の製造方法について説明する。
本実施の形態の画像表示装置に用いるマルチ電子源は、
表面伝導型放出素子を単純マトリクス配線した電子源で
あれば、表面伝導型放出素子の材料や形状あるいは製法
に制限はない。したがって、例えば表面伝導型放出素子
やFE型、或いはMIM型等の冷陰極素子を用いること
ができる。しかしながら、本願発明者らは、表面伝導型
放出素子の中では、電子放出部もしくはその周辺部を微
粒子膜から形成したものが電子放出特性に優れ、しかも
製造が容易に行えることを見出している。したがって、
高輝度で大画面の画像表示装置のマルチ電子源に用いる
には、最も好適であるといえる。そこで、上記実施の形
態の表示パネルにおいては、電子放出部もしくはその周
辺部を微粒子膜から形成した表面伝導型放出素子を用い
た。そこで、まず好適な表面伝導型放出素子について基
本的な構成と製法および特性を説明し、その後で多数の
素子を単純マトリクス配線したマルチ電子源の構造につ
いて述べる。Next, the display panel 100 of this embodiment
A method for manufacturing the multi-electron source used for the first embodiment will be described.
The multi-electron source used for the image display device of the present embodiment is
There is no limitation on the material, shape, or manufacturing method of the surface conduction electron-emitting device as long as it is an electron source in which the surface conduction electron-emitting devices are arranged in a simple matrix. Therefore, for example, a cold cathode device such as a surface conduction type emission device, an FE type, or an MIM type can be used. However, the present inventors have found that among the surface conduction electron-emitting devices, those in which the electron-emitting portion or its peripheral portion is formed of a fine particle film have excellent electron-emitting characteristics and can be easily manufactured. Therefore,
It can be said that it is most suitable for use in a multi-electron source of a high-brightness, large-screen image display device. Therefore, in the display panel of the above embodiment, a surface conduction electron-emitting device in which the electron-emitting portion or its peripheral portion is formed of a fine particle film is used. Therefore, the basic structure, manufacturing method and characteristics of a suitable surface conduction electron-emitting device will be described first, and then the structure of a multi-electron source in which a large number of devices are arranged in a simple matrix will be described.
【0080】(表面伝導型放出素子の好適な素子構成と
製法)電子放出部もしくはその周辺部を微粒子膜から形
成する表面伝導型放出素子の代表的な構成には、平面型
と垂直型の2種類があげられる。(Suitable Device Configuration and Manufacturing Method of Surface Conduction Emission Device) Representative configurations of a surface conduction electron-emitting device in which an electron-emitting portion or its peripheral portion is formed of a fine particle film include a flat type and a vertical type. Kinds are given.
【0081】(平面型の表面伝導型放出素子)まず最初
に、平面型の表面伝導型放出素子の素子構成と製法につ
いて説明する。図9に示すのは、平面型の表面伝導型放
出素子の構成を説明するための平面図(A)および断面
図(B)である。図中、1101は基板、1102と1
103は素子電極、1104は導電性薄膜、1105は
通電フォーミング処理により形成した電子放出部、11
13は通電活性化処理により形成した薄膜である。(Planar surface conduction electron-emitting device) First, the structure and manufacturing method of a flat surface conduction electron-emitting device will be described. FIG. 9 shows a plan view (A) and a cross-sectional view (B) for describing the configuration of a planar surface conduction electron-emitting device. In the figure, 1101 is a substrate, 1102 and 1
103, a device electrode; 1104, a conductive thin film; 1105, an electron-emitting portion formed by an energization forming process;
Reference numeral 13 denotes a thin film formed by the activation process.
【0082】基板1101としては、たとえば、石英ガ
ラスや青板ガラスをはじめとする各種ガラス基板や、ア
ルミナをはじめとする各種セラミクス基板、あるいは上
述の各種基板上に、例えばSiO2を材料とする絶縁層
を積層した基板などを用いることができる。As the substrate 1101, for example, various glass substrates such as quartz glass and blue plate glass, various ceramics substrates such as alumina, or an insulating layer made of, for example, SiO 2 is formed on the various substrates described above. A stacked substrate or the like can be used.
【0083】また、基板1101上に基板面と平行に対
向して設けられた素子電極1102と1103は、導電
性を有する材料によって形成されている。たとえば、N
i,Cr,Au,Mo,W,Pt,Ti,Cu,Pd,
Ag等をはじめとする金属、あるいはこれらの金属の合
金、あるいはIn2O3−SnO2をはじめとする金属酸
化物、ポリシリコンなどの半導体、などの中から適宜材
料を選択して用いればよい。電極を形成するには、たと
えば真空蒸着などの製膜技術とフォトリソグラフィ、エ
ッチングなどのパターニング技術を組み合わせて用いれ
ば容易に形成できるが、それ以外の方法(たとえば印刷
技術)を用いて形成してもさしつかえない。The device electrodes 1102 and 1103 provided on the substrate 1101 so as to be opposed to the substrate surface in parallel are formed of a conductive material. For example, N
i, Cr, Au, Mo, W, Pt, Ti, Cu, Pd,
Materials may be appropriately selected and used from metals such as Ag and the like, alloys of these metals, metal oxides such as In 2 O 3 —SnO 2, and semiconductors such as polysilicon. The electrodes can be easily formed by using a combination of a film forming technique such as vacuum evaporation and a patterning technique such as photolithography and etching. However, the electrodes can be formed using other methods (for example, printing techniques). I can't wait.
【0084】素子電極1102と1103の形状は、当
該電子放出素子の応用目的に合わせて適宜設計される。
一般的には、電極間隔Lは通常は数百Åから数百μmの
範囲から適当な数値を選んで設計されるが、なかでも表
示装置に応用するために好ましいのは数μmより数十μ
mの範囲である。また、素子電極の厚さdについては、
通常は数百[Å]から数μmの範囲から適当な数値が選
ばれる。The shapes of the device electrodes 1102 and 1103 are appropriately designed according to the application purpose of the electron-emitting device.
Generally, the electrode interval L is usually designed by selecting an appropriate numerical value from the range of several hundreds of squares to several hundreds of μm.
m. Further, regarding the thickness d of the device electrode,
Usually, an appropriate numerical value is selected from the range of several hundred [Å] to several μm.
【0085】また、導電性薄膜1104の部分には微粒
子膜を用いる。ここで述べた微粒子膜とは、構成要素と
して多数の微粒子を含んだ膜(島状の集合体も含む)の
ことをさす。微粒子膜を微視的に調べれば、通常は、個
々の微粒子が離間して配置された構造か、あるいは微粒
子が互いに隣接した構造か、あるいは微粒子が互いに重
なり合った構造が観測される。Further, a fine particle film is used for the portion of the conductive thin film 1104. The fine particle film described here refers to a film including a large number of fine particles as constituent elements (including an island-shaped aggregate). When the fine particle film is examined microscopically, usually, a structure in which the individual fine particles are spaced apart from each other, a structure in which the fine particles are adjacent to each other, or a structure in which the fine particles overlap each other is observed.
【0086】微粒子膜に用いた微粒子の粒径は、数Åか
ら数千Åの範囲に含まれるものであるが、中でも好まし
いのは10[Å]から200[Å]の範囲のものであ
る。また、微粒子膜の膜厚は、以下に述べるような諸条
件を考慮して適宜設定される。即ち、素子電極1102
或は1103と電気的に良好に接続するのに必要な条
件、後述する通電フォーミングを良好に行うのに必要な
条件、微粒子膜自身の電気抵抗を後述する適宜の値にす
るために必要な条件、などである。具体的には、数Åか
ら数千Åの範囲のなかで設定するが、なかでも好ましい
のは10[Å]から500[Å]の間である。The particle size of the fine particles used in the fine particle film is in the range of several to several thousand 、, but preferably in the range of 10 [Å] to 200 [Å]. Further, the thickness of the fine particle film is appropriately set in consideration of various conditions described below. That is, the device electrode 1102
Or conditions necessary for good electrical connection with 1103, conditions necessary for good energization forming described later, conditions necessary for setting the electrical resistance of the fine particle film itself to an appropriate value described later. , And so on. Specifically, it is set in the range of several to several thousand, but the most preferable is between 10 [500] and 500 [$].
【0087】また、微粒子膜を形成するのに用いられう
る材料としては、たとえば、Pd,Pt,Ru,Ag,
Au,Ti,In,Cu,Cr,Fe,Zn,Sn,T
a,W,Pbなどをはじめとする金属や、PdO,Sn
O2,In2O3,PbO,Sb2O3などをはじめとする
酸化物や、HfB2,ZrB2,LaB6,CeB6,Y
B4,GdB4などをはじめとする硼化物や、TiC,Z
rC,HfC,TaC,SiC,WCなどをはじめとす
る炭化物や、TiN,ZrN,HfN,などをはじめと
する窒化物や、Si,Ge,などをはじめとする半導体
や、カーボン、などがあげられ、これらの中から適宜選
択される。Materials that can be used to form the fine particle film include, for example, Pd, Pt, Ru, Ag,
Au, Ti, In, Cu, Cr, Fe, Zn, Sn, T
a, W, Pb and other metals, PdO, Sn
Oxides such as O2, In2O3, PbO, Sb2O3 and the like, HfB2, ZrB2, LaB6, CeB6, Y
Borides such as B4, GdB4, etc., TiC, Z
Carbides such as rC, HfC, TaC, SiC, WC, etc .; nitrides such as TiN, ZrN, HfN, etc .; semiconductors such as Si, Ge, etc .; and carbon. Are appropriately selected from these.
【0088】以上述べたように、導電性薄膜1104を
微粒子膜で形成したが、そのシート抵抗値については、
10の3乗から10の7乗[Ω/□]の範囲に含まれる
よう設定した。As described above, the conductive thin film 1104 is formed of a fine particle film.
It was set so as to be included in the range of 10 3 to 10 7 [Ω / □].
【0089】なお、導電性薄膜1104と素子電極11
02および1103とは、電気的に良好に接続されるの
が望ましいため、互いの一部が重なり合うような構造を
とっている。その重なり方は、図9の例においては、下
から、基板、素子電極、導電性薄膜の順序で積層した
が、場合によっては下から基板、導電性薄膜、素子電
極、の順序で積層してもさしつかえない。The conductive thin film 1104 and the device electrode 11
Since it is desirable that the wires 02 and 1103 be electrically connected well, they have a structure in which a part of each overlaps. In the example of FIG. 9, the overlapping manner is such that the substrate, the device electrode, and the conductive thin film are stacked in this order from the bottom, but in some cases, the substrate, the conductive thin film, and the device electrode are stacked in this order from the bottom. I can't wait.
【0090】また、電子放出部1105は、導電性薄膜
1104の一部に形成された亀裂状の部分であり、電気
的には周囲の導電性薄膜よりも高抵抗な性質を有してい
る。この亀裂は、導電性薄膜1104に対して、後述す
る通電フォーミングの処理を行うことにより形成する。
亀裂内には、数Åから数百Åの粒径の微粒子を配置する
場合がある。なお、実際の電子放出部の位置や形状を精
密かつ正確に図示するのは困難なため、図9においては
模式的に示した。The electron-emitting portion 1105 is a crack-like portion formed in a part of the conductive thin film 1104, and has an electrically higher resistance than the surrounding conductive thin film. The crack is formed by performing a later-described energization forming process on the conductive thin film 1104.
Fine particles having a particle size of several to several hundreds of mm may be arranged in the crack. Since it is difficult to accurately and accurately show the actual position and shape of the electron-emitting portion, they are schematically shown in FIG.
【0091】また、薄膜1113は、炭素もしくは炭素
化合物よりなる薄膜で、電子放出部1105およびその
近傍を被覆している。薄膜1113は、通電フォーミン
グ処理後に、後述する通電活性化の処理を行うことによ
り形成する。The thin film 1113 is a thin film made of carbon or a carbon compound, and covers the electron emitting portion 1105 and its vicinity. The thin film 1113 is formed by performing an energization activation process described later after the energization forming process.
【0092】薄膜1113は、単結晶グラファイト、多
結晶グラファイト、非晶質カーボンのいずれかか、もし
くはその混合物であり、膜厚は500[Å]以下とする
が、300[Å]以下とするのがさらに好ましい。な
お、実際の薄膜1113の位置や形状を精密に図示する
のは困難なため、図9においては模式的に示した。また
平面図9(A)においては、薄膜1113の一部を除去
した素子を図示した。The thin film 1113 is made of any one of single crystal graphite, polycrystalline graphite, and amorphous carbon, or a mixture thereof, and has a thickness of 500 [Å] or less, but 300 [Å] or less. Is more preferred. Since it is difficult to accurately show the actual position and shape of the thin film 1113, it is schematically shown in FIG. FIG. 9A shows an element in which a part of the thin film 1113 is removed.
【0093】以上、好ましい素子の基本構成を述べた
が、実施の形態においては以下のような素子を用いた。
すなわち、基板1101には青板ガラスを用い、素子電
極1102と1103にはNi薄膜を用いた。素子電極
の厚さdは1000[Å]、電極間隔Lは2[μm]と
した。The basic configuration of the preferred element has been described above. In the embodiment, the following element is used.
That is, blue glass was used for the substrate 1101, and Ni thin films were used for the device electrodes 1102 and 1103. The thickness d of the device electrode was 1000 [Å], and the electrode interval L was 2 [μm].
【0094】微粒子膜の主要材料としてPdもしくはP
dOを用い、微粒子膜の厚さは約100[Å]、幅Wは
100[μm]とした。Pd or P is used as the main material of the fine particle film.
The thickness of the fine particle film was about 100 [膜], and the width W was 100 [μm] using dO.
【0095】次に、好適な平面型の表面伝導型放出素子
の製造方法について説明する。図10(a)〜(d)
は、表面伝導型放出素子の製造工程を説明するための断
面図で、各部材の表記は図9(A)(B)と同一であ
る。Next, a description will be given of a method of manufacturing a suitable planar surface conduction electron-emitting device. FIGS. 10A to 10D
Is a cross-sectional view for explaining the manufacturing process of the surface conduction electron-emitting device, and the notation of each member is the same as in FIGS. 9A and 9B.
【0096】(1)まず、図10(a)に示すように、
基板1101上に素子電極1102および1103を形
成する。これら電極を形成するにあたっては、予め基板
1101を洗剤、純水、有機溶剤を用いて十分に洗浄
後、素子電極の材料を堆積させる(堆積する方法として
は、たとえば、蒸着法やスパッタ法などの真空成膜技術
を用ればよい)。その後、堆積した電極材料を、フォト
リソグラフィー・エッチング技術を用いてパターニング
し、(a)に示した一対の素子電極(1102と110
3)を形成する。(1) First, as shown in FIG.
Element electrodes 1102 and 1103 are formed over a substrate 1101. In forming these electrodes, the substrate 1101 is sufficiently washed in advance with a detergent, pure water, and an organic solvent, and then the material of the device electrode is deposited (for example, a deposition method such as a vapor deposition method or a sputtering method). Vacuum film forming technology may be used). Thereafter, the deposited electrode material is patterned by using a photolithography / etching technique, and a pair of device electrodes (1102 and 1102) shown in FIG.
Form 3).
【0097】(2)次に、同図(b)に示すように、導
電性薄膜1104を形成する。この導電性薄膜1104
を形成するにあたっては、まず前記(a)の基板に有機
金属溶液を塗布して乾燥し、加熱焼成処理して微粒子膜
を成膜した後、フォトリソグラフィー・エッチングによ
り所定の形状にパターニングする。ここで、有機金属溶
液とは、導電性薄膜に用いる微粒子の材料を主要元素と
する有機金属化合物の溶液である(具体的には、本実施
の形態では主要元素としてPdを用いた。また、実施の
形態では塗布方法として、ディッピング法を用いたが、
それ以外のたとえばスピンナー法やスプレー法を用いて
もよい)。(2) Next, a conductive thin film 1104 is formed as shown in FIG. This conductive thin film 1104
In forming (1), first, an organic metal solution is applied to the substrate (a), dried, heated and baked to form a fine particle film, and then patterned into a predetermined shape by photolithography and etching. Here, the organic metal solution is a solution of an organic metal compound containing, as a main element, a material of fine particles used for a conductive thin film (specifically, in this embodiment, Pd was used as a main element. In the embodiment, a dipping method is used as a coating method.
Other than that, for example, a spinner method or a spray method may be used).
【0098】また、微粒子膜で作られる導電性薄膜の成
膜方法としては、本実施の形態で用いた有機金属溶液の
塗布による方法以外の、たとえば真空蒸着法やスパッタ
法、あるいは化学的気相堆積法などを用いる場合もあ
る。As a method for forming a conductive thin film made of a fine particle film, a method other than the method of applying an organometallic solution used in the present embodiment, for example, a vacuum evaporation method, a sputtering method, or a chemical vapor deposition method In some cases, a deposition method or the like is used.
【0099】(3)次に、同図(c)に示すように、フ
ォーミング用電源1110から素子電極1102と11
03の間に適宜の電圧を印加し、通電フォーミング処理
を行って、電子放出部1105を形成する。(3) Next, as shown in FIG. 9C, the forming electrodes 1110 and 1112 are supplied from the forming power supply 1110.
The electron emitting portion 1105 is formed by applying an appropriate voltage during the period 03 and performing the energization forming process.
【0100】この通電フォーミング処理とは、微粒子膜
で作られた導電性薄膜1104に通電を行って、その一
部を適宜に破壊、変形、もしくは変質せしめ、電子放出
を行うのに好適な構造に変化させる処理のことである。
微粒子膜で作られた導電性薄膜のうち電子放出を行うの
に好適な構造に変化した部分(即ち、電子放出部110
5)においては、薄膜に適当な亀裂が形成されている。
なお、電子放出部1105が形成される前と比較する
と、形成された後は素子電極1102と1103の間で
計測される電気抵抗は大幅に増加する。This energization forming treatment is to energize the conductive thin film 1104 made of a fine particle film, to appropriately break, deform, or alter a part of the conductive thin film 1104 to obtain a structure suitable for emitting electrons. This is the process of changing.
A portion of the conductive thin film made of the fine particle film that has been changed to a structure suitable for emitting electrons (that is, the electron emitting portion 110
In 5), an appropriate crack is formed in the thin film.
Note that the electrical resistance measured between the device electrodes 1102 and 1103 is significantly increased after the formation of the electron emission portions 1105 as compared to before the formation.
【0101】通電方法をより詳しく説明するために、図
11に、フォーミング用電源1110から印加する適宜
の電圧波形の一例を示す。微粒子膜で作られた導電性薄
膜をフォーミングする場合には、パルス状の電圧が好ま
しく、本実施の形態の場合には同図に示したようにパル
ス幅T1の三角波パルスをパルス間隔T2で連続的に印
加した。その際には、三角波パルスの波高値Vpfを、
順次昇圧した。また、電子放出部1105の形成状況を
モニタするためのモニタパルスPmを適宜の間隔で三角
波パルスの間に挿入し、その際に流れる電流を電流計1
111で計測した。FIG. 11 shows an example of an appropriate voltage waveform applied from the forming power supply 1110 in order to explain the energization method in more detail. When forming a conductive thin film made of a fine particle film, a pulse-like voltage is preferable. In the case of the present embodiment, a triangular wave pulse having a pulse width T1 is continuously generated at a pulse interval T2 as shown in FIG. Was applied. At that time, the peak value Vpf of the triangular wave pulse is
The pressure was increased sequentially. Also, monitor pulses Pm for monitoring the state of formation of the electron-emitting portion 1105 are inserted at appropriate intervals between the triangular-wave pulses, and the current flowing at that time is measured by the ammeter 1.
It was measured at 111.
【0102】実施の形態においては、例えば10の-5乗
[torr]程度の真空雰囲気下において、例えばパルス幅
T1を1[msec]、パルス間隔T2を10[msec]と
し、波高値Vpfを1パルスごとに0.1[V]ずつ昇
圧した。そして、三角波を5パルス印加するたびに1回
の割りで、モニタパルスPmを挿入した。フォーミング
処理に悪影響を及ぼすことがないように、モニタパルス
の電圧Vpmは0.1[V]に設定した。そして、素子
電極1102と1103の間の電気抵抗が1×10の6
乗[Ω]になった段階、すなわちモニタパルス印加時に
電流計1111で計測される電流が1×10の-7乗
[A]以下になった段階で、フォーミング処理にかかわ
る通電を終了した。In the embodiment, for example, in a vacuum atmosphere of about 10 −5 [torr], for example, the pulse width T1 is 1 [msec], the pulse interval T2 is 10 [msec], and the peak value Vpf is 1 [msec]. The voltage was increased by 0.1 [V] for each pulse. Then, each time five triangular waves were applied, the monitor pulse Pm was inserted at a rate of once. The monitor pulse voltage Vpm was set to 0.1 [V] so as not to adversely affect the forming process. The electrical resistance between the device electrodes 1102 and 1103 is 1 × 10 6
At the stage when the power became [Ω], that is, when the current measured by the ammeter 1111 at the time of application of the monitor pulse became 1 × 10 −7 or less [A], the energization related to the forming process was terminated.
【0103】なお、上記の方法は、本実施の形態の表面
伝導型放出素子に関する好ましい方法であり、例えば微
粒子膜の材料や膜厚、あるいは素子電極間隔Lなど表面
伝導型放出素子の設計を変更した場合には、それに応じ
て通電の条件を適宜変更するのが望ましい。The above method is a preferable method for the surface conduction electron-emitting device according to the present embodiment. For example, the design of the surface conduction electron-emitting device such as the material and film thickness of the fine particle film or the element electrode interval L is changed. In such a case, it is desirable to appropriately change the energization conditions accordingly.
【0104】(4)次に、図10(d)に示すように、
活性化用電源1112から素子電極1102と1103
の間に適宜の電圧を印加し、通電活性化処理を行って、
電子放出特性の改善を行う。この通電活性化処理とは、
前記通電フォーミング処理により形成された電子放出部
1105に適宜の条件で通電を行って、その近傍に炭素
もしくは炭素化合物を堆積せしめる処理のことである。
(図においては、炭素もしくは炭素化合物よりなる堆積
物を部材1113として模式的に示した)。なお、通電
活性化処理を行うことにより、行う前と比較して、同じ
印加電圧における放出電流を典型的には100倍以上に
増加させることができる。(4) Next, as shown in FIG.
The device electrodes 1102 and 1103 are supplied from the activation power source 1112.
During the energization activation process, apply an appropriate voltage during
Improve electron emission characteristics. This energization activation process
This is a process of energizing the electron-emitting portion 1105 formed by the energization forming process under appropriate conditions to deposit carbon or a carbon compound in the vicinity thereof.
(In the figure, a deposit made of carbon or a carbon compound is schematically shown as a member 1113). Note that by performing the energization activation process, the emission current at the same applied voltage can be typically increased by 100 times or more compared to before the energization activation process.
【0105】具体的には、10の-4乗ないし10の-5乗
[torr]の範囲内の真空雰囲気中で、電圧パルスを定期
的に印加することにより、真空雰囲気中に存在する有機
化合物を起源とする炭素もしくは炭素化合物を堆積させ
る。堆積物1113は、単結晶グラファイト、多結晶グ
ラファイト、非晶質カーボン、のいずれかか、もしくは
その混合物であり、膜厚は500[Å]以下、より好ま
しくは300[Å]以下である。More specifically, by periodically applying a voltage pulse in a vacuum atmosphere within the range of 10 −4 to 10 −5 [torr], the organic compound existing in the vacuum atmosphere is applied. Is deposited. The deposit 1113 is any one of single-crystal graphite, polycrystalline graphite, and amorphous carbon, or a mixture thereof, and has a thickness of 500 [Å] or less, more preferably 300 [Å] or less.
【0106】通電方法をより詳しく説明するために、図
12(a)に、活性化用電源1112から印加する適宜
の電圧波形の一例を示す。本実施の形態においては、一
定電圧の矩形波を定期的に印加して通電活性化処理を行
ったが、具体的には,矩形波の電圧Vacは14
[V],パルス幅T3は、1[msec],パルス間隔T4
は10[msec]とした。なお、上述の通電条件は、本実
施の形態の表面伝導型放出素子に関する好ましい条件で
あり、表面伝導型放出素子の設計を変更した場合には、
それに応じて条件を適宜変更するのが望ましい。FIG. 12A shows an example of an appropriate voltage waveform applied from the activation power supply 1112 in order to explain the energization method in more detail. In the present embodiment, the energization activation process is performed by applying a rectangular wave of a constant voltage periodically, but specifically, the rectangular wave voltage Vac is 14
[V], pulse width T3 is 1 [msec], pulse interval T4
Was set to 10 [msec]. The above-described energization conditions are preferable conditions for the surface conduction electron-emitting device of the present embodiment, and when the design of the surface conduction electron-emitting device is changed,
It is desirable to change the conditions accordingly.
【0107】図10(d)に示す1114は、該表面伝
導型放出素子から放出される放出電流Ieを捕捉するた
めのアノード電極で、直流高電圧電源1115および電
流計1116が接続されている。(なお、基板1101
を、表示パネルの中に組み込んでから活性化処理を行う
場合には、表示パネルの蛍光面をアノード電極1114
として用いる)。活性化用電源1112から電圧を印加
する間、電流計1116で放出電流Ieを計測して通電
活性化処理の進行状況をモニタし、活性化用電源111
2の動作を制御する。電流計1116で計測された放出
電流Ieの一例を図12(b)に示す。活性化電源11
12からパルス電圧を印加しはじめると、時間の経過と
ともに放出電流Ieは増加するが、やがて飽和してほと
んど増加しなくなる。このように、放出電流Ieがほぼ
飽和した時点で活性化用電源1112からの電圧印加を
停止し、通電活性化処理を終了する。Reference numeral 1114 shown in FIG. 10D denotes an anode electrode for capturing the emission current Ie emitted from the surface conduction electron-emitting device. The anode electrode 1114 is connected to a DC high-voltage power supply 1115 and an ammeter 1116. (Note that the substrate 1101
When the activation process is performed after the display panel is incorporated in the display panel, the phosphor screen of the display panel is connected to the anode electrode 1114.
Used as). While the voltage is applied from the activation power supply 1112, the emission current Ie is measured by the ammeter 1116 to monitor the progress of the energization activation process, and the activation power supply 111
2 is controlled. An example of the emission current Ie measured by the ammeter 1116 is shown in FIG. Activation power supply 11
When the pulse voltage starts to be applied from 12, the emission current Ie increases with time, but eventually saturates and hardly increases. As described above, when the emission current Ie is substantially saturated, the application of the voltage from the activation power supply 1112 is stopped, and the energization activation process ends.
【0108】なお、上述の通電条件は、本実施の形態の
表面伝導型放出素子に関する好ましい条件であり、表面
伝導型放出素子の設計を変更した場合には、それに応じ
て条件を適宜変更するのが望ましい。The above-mentioned energization conditions are preferable conditions for the surface conduction electron-emitting device of the present embodiment, and when the design of the surface conduction electron-emitting device is changed, the conditions should be changed accordingly. Is desirable.
【0109】以上のようにして、図10(e)に示す平
面型の表面伝導型放出素子を製造した。As described above, the plane type surface conduction electron-emitting device shown in FIG. 10E was manufactured.
【0110】(垂直型の表面伝導型放出素子)次に、電
子放出部もしくはその周辺を微粒子膜から形成した表面
伝導型放出素子のもうひとつの代表的な構成、すなわち
垂直型の表面伝導型放出素子の構成について説明する。(Vertical Type Surface Conduction Emission Element) Next, another typical structure of a surface conduction type emission element in which the electron emission portion or its periphery is formed of a fine particle film, that is, a vertical type surface conduction type emission device. The configuration of the element will be described.
【0111】図13は、本実施の形態の垂直型の基本構
成を説明するための模式的な断面図であり、図中の12
01は基板、1202と1203は素子電極、1206
は段差形成部材、1204は微粒子膜を用いた導電性薄
膜、1205は通電フォーミング処理により形成した電
子放出部、1213は通電活性化処理により形成した薄
膜、である。FIG. 13 is a schematic cross-sectional view for explaining the vertical basic structure of the present embodiment.
01 is a substrate, 1202 and 1203 are device electrodes, 1206
Denotes a step forming member, 1204 denotes a conductive thin film using a fine particle film, 1205 denotes an electron emitting portion formed by an energization forming process, and 1213 denotes a thin film formed by an energization activation process.
【0112】垂直型が先に説明した平面型と異なる点
は、素子電極のうちの片方(1202)が段差形成部材
1206上に設けられており、導電性薄膜1204が段
差形成部材1206の側面を被覆している点にある。し
たがって、図9(A)の平面型における素子電極間隔L
は、垂直型においては段差形成部材1206の段差高L
sとして設定される。なお、基板1201、素子電極1
202および1203、微粒子膜を用いた導電性薄膜1
204、については、前記平面型の説明中に列挙した材
料を同様に用いることが可能である。また、段差形成部
材1206には、たとえばSiO2のような電気的に絶
縁性の材料を用いる。The difference between the vertical type and the flat type described above is that one of the device electrodes (1202) is provided on the step forming member 1206, and the conductive thin film 1204 is provided on the side surface of the step forming member 1206. It is in the point of coating. Therefore, the device electrode interval L in the planar type shown in FIG.
Is the step height L of the step forming member 1206 in the vertical type.
s. In addition, the substrate 1201, the element electrode 1
202 and 1203, conductive thin film 1 using fine particle film
204, the materials listed in the description of the planar type can be used in the same manner. For the step forming member 1206, an electrically insulating material such as SiO2 is used.
【0113】次に、垂直型の表面伝導型放出素子の製法
について説明する。図14(a)〜(f)は、製造工程
を説明するための断面図で、各部材の表記は前記図13
と同一である。Next, a method of manufacturing a vertical surface conduction electron-emitting device will be described. FIGS. 14A to 14F are cross-sectional views for explaining a manufacturing process.
Is the same as
【0114】(1)まず、図14(a)に示すように、
基板1201上に素子電極1203を形成する。(1) First, as shown in FIG.
An element electrode 1203 is formed over a substrate 1201.
【0115】(2)次に、同図(b)に示すように、段
差形成部材を形成するための絶縁層を積層する。絶縁層
は、たとえばSiO2をスパッタ法で積層すればよい
が、たとえば真空蒸着法や印刷法などの他の成膜方法を
用いてもよい。(2) Next, as shown in FIG. 13B, an insulating layer for forming a step forming member is laminated. The insulating layer may be formed by laminating, for example, SiO2 by a sputtering method. However, another film forming method such as a vacuum evaporation method or a printing method may be used.
【0116】3)次に、同図(c)に示すように、絶縁
層の上に素子電極1202を形成する。3) Next, as shown in FIG. 13C, an element electrode 1202 is formed on the insulating layer.
【0117】4)次に、同図(d)に示すように、絶縁
層の一部を、たとえばエッチング法を用いて除去し、素
子電極1203を露出させる。4) Next, as shown in FIG. 14D, a part of the insulating layer is removed by using, for example, an etching method to expose the element electrode 1203.
【0118】5)次に、同図(e)に示すように、微粒
子膜を用いた導電性薄膜1204を形成する。形成する
には、前記平面型の場合と同じく、たとえば塗布法など
の成膜技術を用いればよい。5) Next, as shown in FIG. 11E, a conductive thin film 1204 using a fine particle film is formed. For the formation, as in the case of the flat type, a film forming technique such as a coating method may be used.
【0119】6)次に、前記平面型の場合と同じく、通
電フォーミング処理を行い、電子放出部を形成する(図
10(c)を用いて説明した平面型の通電フォーミング
処理と同様の処理を行えばよい)。6) Next, similarly to the case of the above-mentioned flat type, the energization forming process is performed to form an electron emission portion (the same process as the flat type energization forming process described with reference to FIG. 10C). Just do it.)
【0120】(7)次に、前記平面型の場合と同じく、
通電活性化処理を行い、電子放出部近傍に炭素もしくは
炭素化合物を堆積させる(図10(d)を用いて説明し
た平面型の通電活性化処理と同様の処理を行えばよ
い)。(7) Next, as in the case of the flat type,
An energization activation process is performed to deposit carbon or a carbon compound in the vicinity of the electron emission portion (the same process as the planar energization activation process described with reference to FIG. 10D may be performed).
【0121】以上のようにして、図14(f)に示す垂
直型の表面伝導型放出素子を製造した。As described above, the vertical surface conduction electron-emitting device shown in FIG.
【0122】(表示装置に用いた表面伝導型放出素子の
特性)以上、平面型と垂直型の表面伝導型放出素子につ
いて素子構成と製法を説明したが、次に表示装置に用い
た素子の特性について述べる。(Characteristics of Surface Conduction Emission Device Used in Display Device) The element structure and manufacturing method of the planar and vertical surface conduction electron-emitting devices have been described above. Next, the characteristics of the device used in the display device will be described. Is described.
【0123】図15に、本実施の形態の表示装置に用い
た素子の(放出電流Ie)対(素子印加電圧Vf)特性、
および(素子電流If)対(素子印加電圧Vf)特性の典
型的な例を示す。なお、放出電流Ieは素子電流Ifに比
べて著しく小さく、同一尺度で図示するのが困難である
うえ、これらの特性は素子の大きさや形状等の設計パラ
メータを変更することにより変化するものであるため、
2本のグラフは各々任意単位で図示した。FIG. 15 shows (emission current Ie) vs. (element applied voltage Vf) characteristics of the element used in the display device of the present embodiment.
And typical examples of (device current If) versus (device applied voltage Vf) characteristics. Note that the emission current Ie is significantly smaller than the device current If, and it is difficult to show the same current on the same scale. In addition, these characteristics are changed by changing design parameters such as the size and shape of the device. For,
The two graphs are shown in arbitrary units.
【0124】表示装置に用いた素子は、放出電流Ieに
関して以下に述べる3つの特性を有している。The device used in the display device has the following three characteristics with respect to the emission current Ie.
【0125】第一に、ある電圧(これを閾値電圧Vthと
呼ぶ)以上の大きさの電圧を素子に印加すると急激に放
出電流Ieが増加するが、一方、閾値電圧Vth未満の電
圧では放出電流Ieはほとんど検出されない。すなわ
ち、放出電流Ieに関して、明確な閾値電圧Vthを持っ
た非線形素子である。First, when a voltage higher than a certain voltage (hereinafter referred to as a threshold voltage Vth) is applied to the element, the emission current Ie sharply increases. On the other hand, when the voltage is lower than the threshold voltage Vth, the emission current Ie increases. Ie is hardly detected. That is, it is a non-linear element having a clear threshold voltage Vth with respect to the emission current Ie.
【0126】第二に、放出電流Ieは素子に印加する電
圧Vfに依存して変化するため、電圧Vfで放出電流Ie
の大きさを制御できる。Secondly, since the emission current Ie changes depending on the voltage Vf applied to the element, the emission current Ie depends on the voltage Vf.
Size can be controlled.
【0127】第三に、素子に印加する電圧Vfに対して
素子から放出される電流Ieの応答速度が速いため、電
圧Vfを印加する時間の長さによって素子から放出され
る電子の電荷量を制御できる。Third, since the response speed of the current Ie emitted from the element is fast with respect to the voltage Vf applied to the element, the charge amount of the electrons emitted from the element depends on the length of time for applying the voltage Vf. Can control.
【0128】以上のような特性を有するため、表面伝導
型放出素子を表示装置に好適に用いることができた。た
とえば多数の素子を表示画面の画素に対応して設けた表
示装置において、第一の特性を利用すれば、表示画面を
順次走査して表示を行うことが可能である。すなわち、
駆動中の素子には所望の発光輝度に応じて閾値電圧Vth
以上の電圧を適宜印加し、非選択状態の素子には閾値電
圧Vth未満の電圧を印加する。駆動する素子を順次切り
替えてゆくことにより、表示画面を順次走査して表示を
行うことが可能である。Because of the above characteristics, the surface conduction electron-emitting device could be suitably used for a display device. For example, in a display device in which a large number of elements are provided corresponding to pixels of a display screen, if the first characteristic is used, display can be performed by sequentially scanning the display screen. That is,
The driving element has a threshold voltage Vth according to a desired light emission luminance.
The above voltage is appropriately applied, and a voltage lower than the threshold voltage Vth is applied to the non-selected elements. By sequentially switching the elements to be driven, the display screen can be sequentially scanned and displayed.
【0129】また、第二の特性かまたは第三の特性を利
用することにより、発光輝度を制御することができるた
め、諧調表示を行うことが可能である。Further, since the emission luminance can be controlled by using the second characteristic or the third characteristic, a gradation display can be performed.
【0130】(多数素子を単純マトリクス配線したマル
チ電子源の構造)次に、上述の表面伝導型放出素子を基
板上に配列して単純マトリクス配線したマルチ電子源の
構造について述べる。(Structure of a Multi-Electron Source in which Many Devices are Wiring in a Simple Matrix) Next, the structure of a multi-electron source in which the above-mentioned surface conduction electron-emitting devices are arranged on a substrate and wired in a simple matrix will be described.
【0131】図16に示すのは、図7の表示パネル10
00に用いたマルチ電子源の平面図である。基板100
1上には、図9で示したものと同様な表面伝導型放出素
子が配列され、これらの素子は行方向配線電極1003
と列方向配線電極1004により単純マトリクス状に配
線されている。行方向配線電極1003と列方向配線電
極1004の交差する部分には、電極間に絶縁層(不図
示)が形成されており、電気的な絶縁が保たれている。FIG. 16 shows the display panel 10 of FIG.
It is a top view of the multi-electron source used for 00. Substrate 100
1, surface-conduction emission type devices similar to those shown in FIG. 9 are arranged.
And the column-directional wiring electrodes 1004 are arranged in a simple matrix. An insulating layer (not shown) is formed between the row-directional wiring electrodes 1003 and the column-directional wiring electrodes 1004 where they intersect, so that electrical insulation is maintained.
【0132】図16のA−A’に沿った断面を図17に
示す。FIG. 17 shows a cross section along the line AA ′ in FIG.
【0133】なお、このような構造のマルチ電子源は、
あらかじめ基板上に行方向配線電極1003、列方向配
線電極1004、電極間絶縁層(不図示)、および表面
伝導型放出素子の素子電極と導電性薄膜を形成した後、
行方向配線電極1003および列方向配線電極1004
を介して各素子に給電して通電フォーミング処理と通電
活性化処理を行うことにより製造した。Incidentally, the multi-electron source having such a structure is as follows.
After previously forming a row direction wiring electrode 1003, a column direction wiring electrode 1004, an interelectrode insulating layer (not shown), and a device electrode and a conductive thin film of a surface conduction electron-emitting device on a substrate,
Row direction wiring electrode 1003 and column direction wiring electrode 1004
The device was manufactured by supplying power to each element through the device and performing an energization forming process and an energization activation process.
【0134】図18は、説明の表面伝導型放出素子を電
子源として用いた表示パネルに、例えばテレビジョン放
送をはじめとする種々の画像情報源より提供される画像
情報を表示できるように構成した多機能表示装置の一例
を示すための図である。図中、1000は前述した表示
パネル、2101は表示パネルの駆動回路、2102は
表示パネルコントローラ、2103はマルチプレクサ、
2104はデコーダ、2105は入出力インターフェー
ス回路、2106はCPU、2107は画像生成回路、
2108および2109および2110は画像メモリイ
ンターフェース回路、2111は画像入力インターフェ
ース回路、2112および2113はTV信号受信回
路、2114は入力部である。FIG. 18 shows a configuration in which image information provided from various image information sources such as television broadcasting can be displayed on a display panel using the surface conduction electron-emitting device described above as an electron source. It is a figure for showing an example of a multifunctional display. In the figure, 1000 is the display panel described above, 2101 is a driving circuit of the display panel, 2102 is a display panel controller, 2103 is a multiplexer,
2104 is a decoder, 2105 is an input / output interface circuit, 2106 is a CPU, 2107 is an image generation circuit,
2108, 2109 and 2110 are image memory interface circuits, 2111 is an image input interface circuit, 2112 and 2113 are TV signal receiving circuits, and 2114 is an input unit.
【0135】(なお、本表示装置は、例えばテレビジョ
ン信号のように映像情報と音声情報の両方を含む信号を
受信する場合には、当然映像の表示と同時に音声を再生
するものであるが、本発明の特徴と直接関係しない音声
情報の受信,分離,再生,処理,記憶などに関する回路
やスピーカなどについては説明を省略する。)以下、画
像信号の流れに沿って各部の機能を説明してゆく。(Note that, when the present display device receives a signal containing both video information and audio information, such as a television signal, for example, it reproduces the audio simultaneously with the display of the video. Descriptions of circuits, speakers, and the like relating to reception, separation, reproduction, processing, storage, and the like of audio information that are not directly related to the characteristics of the present invention are omitted. go.
【0136】まず、TV信号受信回路2113は、例え
ば電波や空間光通信などのような無線伝送系を用いて伝
送されるTV画像信号を受信するための回路である。受
信するTV信号の方式は特に限られるものではなく、例
えば、NTSC方式、PAL方式、SECAM方式など
の諸方式でもよい。また、これらよりさらに多数の走査
線よりなるTV信号(例えばMUSE方式をはじめとす
るいわゆる高品位TV)は、大面積化や大画素数化に適
した表示パネルの利点を生かすのに好適な信号源であ
る。TV信号受信回路2113で受信されたTV信号
は、デコーダ2104に出力される。First, the TV signal receiving circuit 2113 is a circuit for receiving a TV image signal transmitted using a wireless transmission system such as radio waves or spatial optical communication. The format of the received TV signal is not particularly limited, and may be, for example, various systems such as the NTSC system, the PAL system, and the SECAM system. Further, a TV signal (for example, a so-called high-definition TV including the MUSE system) including a larger number of scanning lines than the above is a signal suitable for taking advantage of a display panel suitable for a large area and a large number of pixels. Source. The TV signal received by the TV signal receiving circuit 2113 is output to the decoder 2104.
【0137】また、TV信号受信回路2112は、例え
ば同軸ケーブルや光ファイバーなどのような有線伝送系
を用いて伝送されるTV画像信号を受信するための回路
である。TV信号受信回路2113と同様に、受信する
TV信号の方式は特に限られるものではなく、また本回
路で受信されたTV信号もデコーダ2104に出力され
る。The TV signal receiving circuit 2112 is a circuit for receiving a TV image signal transmitted using a wired transmission system such as a coaxial cable or an optical fiber. Similarly to the TV signal receiving circuit 2113, the system of the TV signal to be received is not particularly limited, and the TV signal received by this circuit is also output to the decoder 2104.
【0138】また、画像入力インターフェース回路21
11は、例えばTVカメラや画像読み取りスキャナなど
の画像入力装置から供給される画像信号を取り込むため
の回路で、取り込まれた画像信号はデコーダ2104に
出力される。The image input interface circuit 21
Reference numeral 11 denotes a circuit for capturing an image signal supplied from an image input device such as a TV camera or an image reading scanner. The captured image signal is output to a decoder 2104.
【0139】また、画像メモリインターフェース回路2
110は、ビデオテープレコーダ(以下VTRと略す)
に記憶されている画像信号を取り込むための回路で、取
り込まれた画像信号はデコーダ2104に出力される。The image memory interface circuit 2
110 is a video tape recorder (hereinafter abbreviated as VTR)
Is a circuit for capturing the image signal stored in the decoder 2104. The captured image signal is output to the decoder 2104.
【0140】また、画像メモリインターフェース回路2
109は、ビデオディスクに記憶されている画像信号を
取り込むための回路で、取り込まれた画像信号はデコー
ダ2104に出力される。The image memory interface circuit 2
Reference numeral 109 denotes a circuit for capturing an image signal stored in the video disk, and the captured image signal is output to the decoder 2104.
【0141】また、画像メモリインターフェース回路2
108は、いわゆる静止画ディスクのように、静止画像
データを記憶している装置から画像信号を取り込むため
の回路で、取り込まれた静止画像データはデコーダ21
04に出力される。The image memory interface circuit 2
Reference numeral 108 denotes a circuit for taking in an image signal from a device that stores still image data, such as a so-called still image disk.
04 is output.
【0142】また、入出力インターフェース回路210
5は、本表示装置と、外部のコンピュータもしくはコン
ピュータネットワークもしくはプリンタなどの出力装置
とを接続するための回路である。画像データや文字デー
タ・図形情報の入出力を行うのはもちろんのこと、場合
によっては本表示装置の備えるCPU2106と外部と
の間で制御信号や数値データの入出力などを行うことも
可能である。The input / output interface circuit 210
Reference numeral 5 denotes a circuit for connecting the present display device to an external computer, a computer network, or an output device such as a printer. In addition to inputting and outputting image data, character data, and graphic information, control signals and numerical data can be input and output between the CPU 2106 included in the display device and the outside in some cases. .
【0143】また、画像生成回路2107は、入出力イ
ンターフェース回路2105を介して外部から入力され
る画像データや文字・図形情報や、あるいはCPU21
06より出力される画像データや文字・図形情報に基づ
き表示用画像データを生成するための回路である。本回
路の内部には、例えば画像データや文字・図形情報を蓄
積するための書き換え可能メモリや、文字コードに対応
する画像パターンが記憶されている読みだし専用メモリ
や、画像処理を行うためのプロセッサなどをはじめとし
て画像の生成に必要な回路が組み込まれている。本回路
により生成された表示用画像データは、デコーダ210
4に出力されるが、場合によっては入出力インターフェ
ース回路2105を介して外部のコンピュータネットワ
ークやプリンタ入出力することも可能である。The image generation circuit 2107 is provided with image data and character / graphic information input from the outside via the input / output interface circuit 2105, or the CPU 21.
This is a circuit for generating display image data based on the image data and character / graphic information output from the controller 06. Within this circuit, for example, a rewritable memory for storing image data and character / graphic information, a read-only memory for storing image patterns corresponding to character codes, and a processor for performing image processing Circuits necessary for generating an image, such as those described above, are incorporated. The display image data generated by this circuit is
4, but it is also possible to input / output an external computer network or a printer via an input / output interface circuit 2105 in some cases.
【0144】また、CPU2106は、主として本表示
装置の動作制御や、表示画像の生成や選択や編集に関わ
る作業を行う。The CPU 2106 mainly performs operations related to operation control of the display device and generation, selection, and editing of a display image.
【0145】例えば、マルチプレクサ2103に制御信
号を出力し、表示パネルに表示する画像信号を適宜選択
したり組み合わせたりする。また、その際には表示する
画像信号に応じて表示パネルコントローラ2102に対
して制御信号を発生し、画面表示周波数や走査方法(例
えばインターレースかノンインターレースか)や一画面
の走査線の数など表示装置の動作を適宜制御する。For example, a control signal is output to the multiplexer 2103, and image signals to be displayed on the display panel are appropriately selected or combined. In this case, a control signal is generated for the display panel controller 2102 in accordance with an image signal to be displayed, and a display frequency, a scanning method (for example, interlaced or non-interlaced), and the number of scanning lines for one screen are displayed. The operation of the device is appropriately controlled.
【0146】また、画像生成回路2107に対して画像
データや文字・図形情報を直接出力したり、あるいは入
出力インターフェース回路2105を介して外部のコン
ピュータやメモリをアクセスして画像データや文字・図
形情報を入力する。Further, image data and character / graphic information are directly output to the image generation circuit 2107, or an external computer or memory is accessed through the input / output interface circuit 2105 to access the image data or character / graphic information. Enter
【0147】なお、CPU2106は、むろんこれ以外
の目的の作業にも関わるものであっても良い。例えば、
パーソナルコンピュータやワードプロセッサなどのよう
に、情報を生成したり処理する機能に直接関わっても良
い。The CPU 2106 may, of course, be involved in operations for other purposes. For example,
It may be directly related to a function of generating and processing information, such as a personal computer or a word processor.
【0148】あるいは、前述したように入出力インター
フェース回路2105を介して外部のコンピュータネッ
トワークと接続し、例えば数値計算などの作業を外部機
器と協同して行っても良い。Alternatively, as described above, the computer may be connected to an external computer network via the input / output interface circuit 2105 to perform operations such as numerical calculations in cooperation with external devices.
【0149】また、入力部2114は、CPU2106
に使用者が命令やプログラム、あるいはデータなどを入
力するためのものであり、例えばキーボードやマウスの
ほか、ジョイスティック,バーコードリーダー,音声認
識装置など多様な入力機器を用いる事が可能である。The input unit 2114 is connected to the CPU 2106
The user inputs commands, programs, data, and the like. For example, in addition to a keyboard and a mouse, various input devices such as a joystick, a barcode reader, and a voice recognition device can be used.
【0150】また、デコーダ2104は、2107ない
し2113より入力される種々の画像信号を3原色信
号、または輝度信号とI信号,Q信号に逆変換するため
の回路である。なお、同図中に点線で示すように、デコ
ーダ2104は内部に画像メモリを備えるのが望まし
い。これは、例えばMUSE方式をはじめとして、逆変
換するに際して画像メモリを必要とするようなテレビ信
号を扱うためである。また、画像メモリを備えることに
より、静止画の表示が容易になる、あるいは画像生成回
路2107およびCPU2106と協同して画像の間引
き,補間,拡大,縮小,合成をはじめとする画像処理や
編集が容易に行えるようになるという利点が生まれるか
らである。The decoder 2104 is a circuit for inversely converting various image signals input from 2107 to 2113 into three primary color signals or a luminance signal and I and Q signals. It is to be noted that the decoder 2104 desirably includes an image memory therein, as indicated by a dotted line in FIG. This is for handling television signals that require an image memory when performing inverse conversion, such as the MUSE method. The provision of the image memory facilitates display of a still image, or facilitates image processing and editing including image thinning, interpolation, enlargement, reduction, and synthesis in cooperation with the image generation circuit 2107 and the CPU 2106. This is because the advantage of being able to do so is born.
【0151】また、マルチプレクサ2103は、CPU
2106より入力される制御信号に基づき表示画像を適
宜選択するものである。すなわち、マルチプレクサ21
03はデコーダ2104から入力される逆変換された画
像信号のうちから所望の画像信号を選択して駆動回路2
101に出力する。その場合には、一画面表示時間内で
画像信号を切り替えて選択することにより、いわゆる多
画面テレビのように、一画面を複数の領域に分けて領域
によって異なる画像を表示することも可能である。The multiplexer 2103 has a CPU
A display image is appropriately selected based on a control signal input from 2106. That is, the multiplexer 21
A driving circuit 2 selects a desired image signal from among the inversely converted image signals input from the decoder 2104.
Output to 101. In that case, by switching and selecting an image signal within one screen display time, it is possible to divide one screen into a plurality of areas and display different images depending on the areas, as in a so-called multi-screen TV. .
【0152】また、表示パネルコントローラ2102
は、CPU2106より入力される制御信号に基づき、
駆動回路2101の動作を制御するための回路である。The display panel controller 2102
Is based on a control signal input from the CPU 2106,
This is a circuit for controlling the operation of the driving circuit 2101.
【0153】まず、表示パネルの基本的な動作にかかわ
るものとして、例えば表示パネルの駆動用電源(図示せ
ず)の動作シーケンスを制御するための信号を駆動回路
2101に対して出力する。また、表示パネルの駆動方
法に関わるものとして、例えば画面表示周波数や走査方
法(例えばインターレースかノンインターレースか)を
制御するための信号を駆動回路2101に対して出力す
る。First, as a signal related to the basic operation of the display panel, for example, a signal for controlling an operation sequence of a drive power source (not shown) for the display panel is output to the drive circuit 2101. In addition, a signal for controlling, for example, a screen display frequency and a scanning method (for example, interlaced or non-interlaced), which is related to the display panel driving method, is output to the driving circuit 2101.
【0154】また、場合によっては表示画像の輝度やコ
ントラストや色調やシャープネスといった画質の調整に
関わる制御信号を駆動回路2101に対して出力する場
合もある。In some cases, a control signal related to image quality adjustment such as luminance, contrast, color tone, and sharpness of a display image may be output to the drive circuit 2101.
【0155】また、駆動回路2101は、表示パネル1
000に印加する駆動信号を発生するための回路であ
り、マルチプレクサ2103から入力される画像信号
と、表示パネルコントローラ2102より入力される制
御信号に基づいて動作するものである。The driving circuit 2101 is connected to the display panel 1.
000, which operates based on an image signal input from the multiplexer 2103 and a control signal input from the display panel controller 2102.
【0156】以上、各部の機能を説明したが、図18に
例示した構成により、本表示装置においては多様な画像
情報源より入力される画像情報を表示パネル1000に
表示する事が可能である。すなわち、テレビジョン放送
をはじめとする各種の画像信号はデコーダ2104にお
いて逆変換された後、マルチプレクサ2103において
適宜選択され、駆動回路2101に入力される。一方、
ディスプレイコントローラ2102は、表示する画像信
号に応じて駆動回路2101の動作を制御するための制
御信号を発生する。駆動回路2101は、上記画像信号
と制御信号に基づいて表示パネル1000に駆動信号を
印加する。これにより表示パネル1000において画像
が表示される。これらの一連の動作は、CPU2106
により統括的に制御される。The function of each section has been described above. With the configuration illustrated in FIG. 18, in this display device, image information input from various image information sources can be displayed on the display panel 1000. That is, various image signals including television broadcasts are inversely converted by the decoder 2104, appropriately selected by the multiplexer 2103, and input to the drive circuit 2101. on the other hand,
The display controller 2102 generates a control signal for controlling the operation of the driving circuit 2101 according to an image signal to be displayed. The drive circuit 2101 applies a drive signal to the display panel 1000 based on the image signal and the control signal. Thus, an image is displayed on the display panel 1000. These series of operations are performed by the CPU 2106
Is generally controlled by the
【0157】また、本表示装置においては、デコーダ2
104に内蔵する画像メモリや、画像生成回路2107
およびCPU2106が関与することにより、単に複数
の画像情報の中から選択したものを表示するだけでな
く、表示する画像情報に対して、例えば拡大,縮小,回
転,移動,エッジ強調,間引き,補間,色変換,画像の
縦横比変換などをはじめとする画像処理や、合成,消
去,接続,入れ換え,はめ込みなどをはじめとする画像
編集を行う事も可能である。また、本実施の形態の説明
では特に触れなかったが、上記画像処理や画像編集と同
様に、音声情報に関しても処理や編集を行うための専用
回路を設けても良い。In this display device, the decoder 2
An image memory built in the image processing circuit 104;
And the CPU 2106 involve not only displaying a selected one of a plurality of pieces of image information but also displaying, for example, enlargement, reduction, rotation, movement, edge emphasis, thinning, interpolation, It is also possible to perform image processing such as color conversion and image aspect ratio conversion, and image editing such as combining, deleting, connecting, replacing, and fitting. Although not particularly described in the description of the present embodiment, a dedicated circuit for processing and editing audio information may be provided as in the above-described image processing and image editing.
【0158】したがって、本表示装置は、テレビジョン
放送の表示機器,テレビ会議の端末機器,静止画像およ
び動画像を扱う画像編集機器,コンピュータの端末機
器,ワードプロセッサをはじめとする事務用端末機器,
ゲーム機などの機能を一台で兼ね備える事が可能で、産
業用あるいは民生用として極めて応用範囲が広い。Therefore, the present display device is a television broadcast display device, a video conference terminal device, an image editing device that handles still and moving images, a computer terminal device, an office terminal device such as a word processor,
It can be equipped with the functions of a game machine etc. by one unit, and has a very wide application range for industrial or consumer use.
【0159】なお、上記図18は、表面伝導型放出素子
を電子源とする表示パネルを用いた表示装置の構成の一
例を示したにすぎず、これのみに限定されるものではな
い事は言うまでもない。例えば、図18の構成要素のう
ち使用目的上必要のない機能に関わる回路は省いても差
し支えない。またこれとは逆に、使用目的によってはさ
らに構成要素を追加しても良い。例えば、本表示装置を
テレビ電話機として応用する場合には、テレビカメラ,
音声マイク,照明機,モデムを含む送受信回路などを構
成要素に追加するのが好適である。FIG. 18 shows only an example of the configuration of a display device using a display panel using a surface conduction electron-emitting device as an electron source, and it goes without saying that the present invention is not limited to this. No. For example, among the components in FIG. 18, circuits relating to functions that are unnecessary for the intended use may be omitted. Conversely, additional components may be added depending on the purpose of use. For example, when the present display device is applied to a video phone, a TV camera,
It is preferable to add a transmitting / receiving circuit including a voice microphone, a lighting device, and a modem to the components.
【0160】本表示装置においては、とりわけ表面伝導
型放出素子を電子源とする表示パネルが容易に薄形化で
きるため、表示装置全体の奥行きを小さくすることが可
能である。それに加えて、表面伝導型放出素子を電子源
とする表示パネルは大画面化が容易で輝度が高く視野角
特性にも優れるため、本表示装置は臨場感あふれ迫力に
富んだ画像を視認性良く表示する事が可能である。In the present display device, in particular, since the display panel using the surface conduction electron-emitting device as the electron source can be easily made thin, the depth of the entire display device can be reduced. In addition, the display panel using the surface conduction electron-emitting device as the electron source is easy to enlarge the screen, has high brightness, and has excellent viewing angle characteristics. It is possible to display.
【0161】尚、本発明は、複数の機器(例えばホスト
コンピュータ,インターフェース機器,リーダ,プリン
タなど)から構成されるシステムに適用しても、一つの
機器からなる装置(例えば、複写機,ファクシミリ装置
など)に適用してもよい。Even if the present invention is applied to a system including a plurality of devices (for example, a host computer, an interface device, a reader, a printer, etc.), an apparatus (for example, a copying machine, a facsimile machine) comprising one device Etc.).
【0162】また本発明の目的は、前述した実施形態の
機能を実現するソフトウェアのプログラムコードを記録
した記憶媒体を、システムあるいは装置に供給し、その
システムあるいは装置のコンピュータ(またはCPUや
MPU)が記憶媒体に格納されたプログラムコードを読
出し実行することによっても達成される。An object of the present invention is to provide a storage medium storing a program code of software for realizing the functions of the above-described embodiments to a system or an apparatus, and a computer (or CPU or MPU) of the system or the apparatus to supply the storage medium. This is also achieved by reading and executing the program code stored in the storage medium.
【0163】この場合、記憶媒体から読出されたプログ
ラムコード自体が前述した実施形態の機能を実現するこ
とになり、そのプログラムコードを記憶した記憶媒体は
本発明を構成することになる。In this case, the program code itself read from the storage medium implements the functions of the above-described embodiment, and the storage medium storing the program code constitutes the present invention.
【0164】プログラムコードを供給するための記憶媒
体としては、例えば、フロッピディスク,ハードディス
ク,光ディスク,光磁気ディスク,CD−ROM,CD
−R,磁気テープ,不揮発性のメモリカード,ROMな
どを用いることができる。As a storage medium for supplying the program code, for example, a floppy disk, hard disk, optical disk, magneto-optical disk, CD-ROM, CD
-R, a magnetic tape, a nonvolatile memory card, a ROM, or the like can be used.
【0165】また、コンピュータが読出したプログラム
コードを実行することにより、前述した実施形態の機能
が実現されるだけでなく、そのプログラムコードの指示
に基づき、コンピュータ上で稼働しているOS(オペレ
ーティングシステム)などが実際の処理の一部または全
部を行い、その処理によって前述した実施形態の機能が
実現される場合も含まれる。When the computer executes the readout program code, not only the functions of the above-described embodiment are realized, but also the OS (Operating System) running on the computer based on the instruction of the program code. ) Performs part or all of the actual processing, and the processing realizes the functions of the above-described embodiments.
【0166】さらに、記憶媒体から読出されたプログラ
ムコードが、コンピュータに挿入された機能拡張ボード
やコンピュータに接続された機能拡張ユニットに備わる
メモリに書込まれた後、そのプログラムコードの指示に
基づき、その機能拡張ボードや機能拡張ユニットに備わ
るCPUなどが実際の処理の一部または全部を行い、そ
の処理によって前述した実施形態の機能が実現される場
合も含まれる。Further, after the program code read from the storage medium is written into a memory provided on a function expansion board inserted into the computer or a function expansion unit connected to the computer, based on the instructions of the program code, The case where the CPU of the function expansion board or the function expansion unit performs part or all of the actual processing, and the function of the above-described embodiment is realized by the processing.
【0167】以上説明したように本実施の形態によれ
ば、パルス幅変調により駆動される(m×n)マトリク
ス配列された表面伝導型放出素子を用いた表示パネルに
おいて、隣接する配線間のクロストークによる、選択駆
動されている配線上の実効印加電圧が低下するのを抑え
ることができ、これにより良好な階調特性を有する画像
を表示できる。As described above, according to the present embodiment, in a display panel using (m × n) matrix-arranged surface-conduction emission devices driven by pulse width modulation, the cross between adjacent wirings It is possible to suppress a decrease in the effective applied voltage on the wiring that is selectively driven due to the talk, so that an image having good gradation characteristics can be displayed.
【0168】以上説明したように本実施の形態によれ
ば、隣接する配線間での浮遊容量に伴う信号レベルの変
動を抑えて、所定の輝度を忠実に再現して画像を表示で
きるという効果がある。As described above, according to the present embodiment, it is possible to suppress the fluctuation of the signal level due to the stray capacitance between the adjacent wirings and display an image by faithfully reproducing a predetermined luminance. is there.
【0169】また本実施の形態によれば、隣接する信号
線の信号が立ち下げることによる信号線上の信号レベル
の変動を最小限に抑えることにより、表示される画像の
輝度の変動を目立たなくできるという効果がある。Further, according to the present embodiment, the fluctuation of the signal level on the signal line due to the fall of the signal of the adjacent signal line is minimized, so that the fluctuation of the luminance of the displayed image can be made inconspicuous. This has the effect.
【0170】[実施の形態2]次に、本発明の実施の形
態1で用いたパルス信号の立ち下げのための回路構成を
変形した実施の形態2について説明する。図23は本実
施の形態2において、前述の実施の形態1で用いた図5
の列配線駆動部10aのうちのひとつの列配線に対応す
る部分に相当する部分の回路を示す図である。対応する
部分には同じ符号を用いている。[Second Embodiment] Next, a description will be given of a second embodiment in which the circuit configuration for falling the pulse signal used in the first embodiment of the present invention is modified. FIG. 23 shows the second embodiment, which is the same as FIG. 5 used in the first embodiment.
5 is a diagram showing a circuit of a part corresponding to a part corresponding to one column wiring in the column wiring driving unit 10a of FIG. Corresponding parts have the same reference characters allotted.
【0171】図23において、23002と23003
はそれぞれトランジスタであり、制御部23001によ
って制御される。In FIG. 23, 23002 and 23003
Are transistors, which are controlled by the control unit 23001.
【0172】次に本実施の形態2におけるパルス信号の
立ち下げ動作について説明する。Next, the falling operation of the pulse signal in the second embodiment will be described.
【0173】制御部23001はパルス幅変調信号ジェ
ネレータ(PWM GEN)101からの信号によりパルス信号
が立ち下げることを検知すると、トランジスタ2300
2と23003の両方をオン状態にする。これにより抵
抗rdとreが並列に接続された状態となるため、列配線
電位は速やかに立ち下がる。次に制御部23001は所
定時間経過後、一方のトランジスタがオンとなり、他方
がオフとなるように制御する(t2)。これにより列配
線からGNDに流れ込む電流値が減少するので、列配線
の電位は抵抗rdとreが並列に接続された状態となって
いるパルス信号の立下り前半部に比べて緩やかに立ち下
がる。そしてt2後、再びトランジスタ23002と2
3003の両方をオン状態にする。When the controller 23001 detects that the pulse signal falls from the signal from the pulse width modulation signal generator (PWM GEN) 101, the transistor 2300
2 and 23003 are both turned on. As a result, the resistances rd and re are connected in parallel, and the column wiring potential quickly falls. Next, the control unit 23001 controls so that one transistor is turned on and the other is turned off after a predetermined time has elapsed (t2). As a result, the value of the current flowing from the column wiring to GND decreases, so that the potential of the column wiring falls more slowly than the first half of the falling edge of the pulse signal in which the resistors rd and re are connected in parallel. After t2, the transistors 23002 and 2
3003 are both turned on.
【0174】図24は、図23におけるパルス幅信号ジ
ェネレータ101からの信号A、制御部23001から
各トランジスタへの信号をD,E、及び列配線のパルス
信号波形を示すタイミング図である。FIG. 24 is a timing chart showing the signal A from the pulse width signal generator 101, the signals D and E from the control unit 23001 to each transistor in FIG. 23, and the pulse signal waveform of the column wiring.
【0175】この図23において、時間t1では抵抗r
dとreが並列に接続された状態となるため、GNDに流
れる電流値が増大し、速やかに波形を立ち下げている。In FIG. 23, at time t1, resistance r
Since d and re are connected in parallel, the value of the current flowing to GND increases, and the waveform quickly falls.
【0176】[実施の形態3]更に別の変形例である実
施の形態3について説明する。[Embodiment 3] Embodiment 3 which is still another modification will be described.
【0177】図25は、前述の実施の形態2の図23に
相当する図面である。ここでは、ダイオード23004
を用いることにより、トランジスタ23003で構成さ
れるスイッチ回路と、トランジスタ23002とダイオ
ード23004とで構成されるスイッチ回路のそれぞれ
の動作閾値電位を異ならせている。即ち、パルス幅変調
信号ジェネレータ101からの信号によりパルス信号が
立ち下がることが検知されると、パルス幅変調信号ジェ
ネレータ101はトランジスタ23002と23003
を共にオン状態にして、速やかに列配線の電位を基準電
位(ここではGND)に近づける。そして、この列配線
の電位と基準電位との差が約0.6[V]になると、ト
ランジスタ23002はオフ状態になり、それ以降はト
ランジスタ23003のみがオン状態となる。このた
め、列配線の電位は緩やかに基準電位に近づいていく。FIG. 25 is a drawing corresponding to FIG. 23 of the second embodiment. Here, the diode 23004
The operation threshold potentials of the switch circuit including the transistor 23003 and the switch circuit including the transistor 23002 and the diode 23004 are different from each other. That is, when the falling of the pulse signal is detected by the signal from the pulse width modulation signal generator 101, the pulse width modulation signal generator 101
Are turned on to quickly bring the potential of the column wiring close to the reference potential (here, GND). When the difference between the potential of the column wiring and the reference potential becomes about 0.6 [V], the transistor 23002 is turned off, and thereafter, only the transistor 23003 is turned on. For this reason, the potential of the column wiring gradually approaches the reference potential.
【0178】このように本実施の形態3の回路構成によ
れば、きわめて簡便な構成の回路で好適なパルス幅変調
を行う事ができる。またダイオード23004を1つと
して図示したが、ダイオード23004は複数個のダイ
オードの直列接続、或はツェナダイオードで構成し、ト
ランジスタ23002のオフになる出力電圧を制御する
ことも可能である。As described above, according to the circuit configuration of the third embodiment, suitable pulse width modulation can be performed with a circuit having an extremely simple configuration. Although one diode 23004 is shown in the figure, the diode 23004 may be configured by connecting a plurality of diodes in series or a zener diode to control the output voltage at which the transistor 23002 is turned off.
【0179】[実施の形態4]以降の実施の形態では、
隣接配線など近傍の配線の電位状態に応じてパルス信号
の立下りを制御する構成としている。[Embodiment 4] In the following embodiments,
The falling edge of the pulse signal is controlled in accordance with the potential state of a nearby wiring such as an adjacent wiring.
【0180】図26は、6本の列配線において生じるク
ロストークの発生例を示す図である。FIG. 26 is a diagram showing an example of occurrence of crosstalk occurring in six column wirings.
【0181】先に述べたように、配線間の静電容量によ
って図26に示すように、行配線Y1が選択されている
際の信号X2及び信号X5の駆動波形の様に、隣接する列
配線の信号X1、或は信号X4、X6が立ち下がることに
より、隣接配線間での配線容量の影響によって駆動電圧
が下がる(クロストーク)。このためその列配線に印加
される電位と、行配線に印加される電位の差電圧により
駆動される電子放出素子における駆動電圧が変動し、そ
の影響により、表示される画像の階調性が損なわれるこ
とが問題となる。特に大画面の表示パネルでは、行及び
列配線の数が増大し、それら配線の間隔も狭くなるので
配線間容量が大きくなり、隣接配線の電位変動に伴う駆
動電圧の低下(クロストーク)がより発生しやすくなっ
ている。その結果、表示画像の階調性が損なわれること
になる。As described above, as shown in FIG. 26, due to the capacitance between the wirings, as shown in the drive waveforms of the signals X2 and X5 when the row wiring Y1 is selected, the adjacent column wirings are used. Signal X1 or signals X4 and X6 fall, the drive voltage decreases due to the influence of the wiring capacitance between adjacent wirings (crosstalk). For this reason, the driving voltage of the electron-emitting device driven by the difference voltage between the potential applied to the column wiring and the potential applied to the row wiring fluctuates, and as a result, the gradation of a displayed image is impaired. Is a problem. In particular, in a large-screen display panel, the number of row and column wirings is increased, and the spacing between the wirings is reduced, so that the capacitance between the wirings is increased, and the drive voltage is reduced (crosstalk) due to the potential fluctuation of the adjacent wirings. It is easy to occur. As a result, the gradation of the display image is impaired.
【0182】また電圧駆動の場合であっても保護抵抗や
配線抵抗等によって、その電圧源の出力である理想電位
で駆動することができない。そのため、このような配線
容量の影響によって駆動電圧が下がる場合が発生し、こ
れにより表示画像の階調性が損なわれることが問題とな
りうる。Even in the case of voltage driving, it is not possible to drive at the ideal potential which is the output of the voltage source due to protection resistance, wiring resistance and the like. Therefore, a case where the driving voltage is reduced due to the influence of the wiring capacitance may occur, which may cause a problem that the gradation of a display image is impaired.
【0183】これまで述べてきた実施の形態において
は、パルス信号の立下りを複数のステップで行うことに
より好適な輝度階調を実現した。その際に、近傍の配線
の電位によらずパルス信号の立下りを制御した。以降の
実施の形態では、近傍の配線の電位に応じ、必要のない
場合には、複数ステップに分けたパルス信号の立ち下げ
を行わない構成を示す。In the embodiments described above, a suitable luminance gradation is realized by performing the falling of the pulse signal in a plurality of steps. At that time, the falling of the pulse signal was controlled irrespective of the potential of the nearby wiring. In the following embodiments, a configuration is described in which a pulse signal divided into a plurality of steps is not dropped when unnecessary according to the potential of a nearby wiring.
【0184】以降の実施の形態に係る画像表示装置に使
用するマトリクス型の表示パネルは、これまで述べた実
施の形態と同様に、基本的には薄型の真空容器内に、基
板上に多数の電子源、例えば冷陰極素子をマトリクス状
に配列してなるマルチ電子源と、このマルチ電子源から
の電子の照射により画像を形成する画像形成部材とを対
向させて備えている。The matrix type display panel used in the image display device according to the following embodiments is basically similar to the above-described embodiments, and has a large number of substrates mounted on a substrate in a thin vacuum container. An electron source, for example, a multi-electron source in which cold cathode devices are arranged in a matrix, and an image forming member that forms an image by irradiating electrons from the multi-electron source are provided to face each other.
【0185】これら冷陰極素子は、例えばフォトリソグ
ラフィ・エッチングのような製造技術を用いれば基板上
に精密に位置決めして形成できるため、微小な間隔で多
数個を配列することが可能である。しかも従来からCR
T等で用いられてきた熱陰極素子と比較すると、陰極自
身やその周辺部が比較的低温な状態で駆動できるため、
より微細な配列ピッチのマルチ電子源を容易に実現でき
る。尚、このマトリクス型の表示パネルの構成と製造法
については、前述の実施の形態1で述べた構成を用い
る。[0185] These cold cathode devices can be precisely positioned and formed on a substrate by using a manufacturing technique such as photolithography and etching, so that many cold cathode devices can be arranged at minute intervals. Moreover, CR
Compared to the hot cathode device used in T etc., the cathode itself and its surroundings can be driven at a relatively low temperature,
A multi-electron source with a finer arrangement pitch can be easily realized. Note that the configuration and manufacturing method of the matrix type display panel are the same as those described in the first embodiment.
【0186】始めに図27を参照して、以降の実施の形
態の特徴を説明する。First, features of the following embodiments will be described with reference to FIG.
【0187】図27は、これ以降の実施の形態に係る表
示駆動方法の概念を説明するための図であり、マルチ電
子源を駆動する場合の回路で示している。ここでは説明
を容易にするために、マトリクス型の表示パネル100
01は、3×3の冷陰極素子をマトリクス状に配列した
電子源を用い、更にこれら冷陰極素子を接続している配
線の配線抵抗も省略して示している。図中の50cは冷
陰極素子、Ccは列配線間容量を示している。FIG. 27 is a diagram for explaining the concept of the display driving method according to the embodiments hereinafter, and shows a circuit for driving a multi-electron source. Here, for ease of explanation, the matrix type display panel 100
Reference numeral 01 indicates an electron source in which 3 × 3 cold cathode devices are arranged in a matrix, and further omits the wiring resistance of wiring connecting these cold cathode devices. In the figure, 50c denotes a cold cathode element, and Cc denotes a capacity between column wirings.
【0188】図27において、冷陰極素子50cを駆動
するために、スイッチング回路50bは画像の水平同期
信号に同期して、行配線Y1から順に電位−Vssを印加
し、それ以外の行配線を接地して走査駆動する。一方、
50aは列ドライバで、制御可能な定電流源Csを有
し、これら定電流源Csは、冷陰極素子50cを駆動す
るための電流を、表示する画像信号に応じたパルス幅
(パルス幅変調信号)のパルス信号で出力する。Swは
スイッチ回路である。またVasは電圧源で、電位Vas
[V]を出力する。このスイッチ回路Swは、定電流源
Csから素子50cに電流を流す変調信号配線に電圧源
Vasからの電位を印加するかどうかを制御するためのス
イッチで、不図示の制御回路により切換えが制御されて
いる。即ち、変調信号X1のラインで考えると、この信
号X1が立ち下がる際、隣接する配線に信号X2が入力さ
れていれば、信号X1に接続されているスイッチSwをオ
ンする(閉じる)。これにより、信号X1の立ち下がり
時、信号X1はGNDレベルまで立ち下がらず電位Vas
までしか低下しない。これにより、隣接する変調信号配
線間の配線間容量に伴う信号X2の電位変動を最小限に
抑えることができる。この動作は、他の変調信号X2,
X3が入力されている配線でも同様にして行われる。In FIG. 27, in order to drive the cold cathode element 50c, the switching circuit 50b applies a potential -Vss sequentially from the row wiring Y1 in synchronization with the horizontal synchronizing signal of an image, and grounds the other row wirings to ground. To scan. on the other hand,
A column driver 50a has a controllable constant current source Cs. These constant current sources Cs convert a current for driving the cold cathode element 50c into a pulse width (pulse width modulation signal) corresponding to an image signal to be displayed. ) Is output as a pulse signal. Sw is a switch circuit. Vas is a voltage source, and the potential Vas
[V] is output. The switch circuit Sw is a switch for controlling whether or not the potential from the voltage source Vas is applied to the modulation signal wiring for flowing a current from the constant current source Cs to the element 50c. The switching is controlled by a control circuit (not shown). ing. That is, considering the line of the modulation signal X1, when the signal X1 falls, if the signal X2 is input to the adjacent wiring, the switch Sw connected to the signal X1 is turned on (closed). Thus, when the signal X1 falls, the signal X1 does not fall to the GND level and the potential Vas does not fall.
It only falls until. This can minimize the potential fluctuation of the signal X2 due to the capacitance between adjacent modulation signal wirings. This operation is similar to the other modulation signals X2,
The same applies to the wiring to which X3 is input.
【0189】図28は、図27の回路の動作概要を説明
する駆動波形図である。FIG. 28 is a drive waveform diagram for explaining an outline of the operation of the circuit of FIG.
【0190】列配線X1における信号レベルの変化に伴
う列配線X2へのクロストークを図28の200で示し
た。このように本実施の形態4でも、列配線X1の信号
が立ち下がることにより若干のクロストークが列配線X
2に生じているが、前述の図26におけるクロストーク
に比べて小さくなっているのが分かる。これは本実施の
形態4では、列配線X1の立ち下がり時、その電位がG
NDまで立ち下がらないためである。即ち、図28にお
いて、列配線X1の駆動波形の立ち下がり時、Vas
[V]の電位までしか下がらないため、立ち下がりの電
位変化が少なくなり、これにより隣接する列配線X2へ
の影響を少なくしているためである。尚、この電位Vas
[V]は、冷陰極素子50cに加わる電圧(Vas+Vs
s)が冷陰極素子50cが電子を放出し始める閾値電圧
(後述のVthに相当)に近い値に決定するとよい。この
電圧源Vasの出力電位が低いとクロストーク除去の効果
が少なく、逆に高いと非駆動時に冷陰極素子50cが電
子を放出してしまい、画像のコントラストを低下させる
虞がある。The crosstalk to the column wiring X2 due to the change in the signal level in the column wiring X1 is shown by 200 in FIG. As described above, also in the fourth embodiment, a slight crosstalk occurs due to the fall of the signal of the column wiring X1.
It can be seen that it occurs in 2, but is smaller than the crosstalk in FIG. 26 described above. This is because, in the fourth embodiment, when the column wiring X1 falls, the potential thereof becomes G
This is because it does not fall to ND. That is, in FIG. 28, when the drive waveform of the column wiring X1 falls, Vas
This is because, since the voltage drops only to the potential [V], the change in the potential at the falling edge is reduced, thereby reducing the influence on the adjacent column wiring X2. This potential Vas
[V] is a voltage (Vas + Vs) applied to the cold cathode element 50c.
s) may be determined to be a value close to a threshold voltage (corresponding to Vth described later) at which the cold cathode element 50c starts emitting electrons. If the output potential of the voltage source Vas is low, the effect of removing crosstalk is small. Conversely, if the output potential is high, the cold cathode element 50c emits electrons when not driven, which may lower the image contrast.
【0191】以下、以降の実施の形態について図面を参
照して詳しく説明する。The following embodiments will be described in detail with reference to the drawings.
【0192】まず実施の形態を解りやすく説明するため
に、図29を参照して本実施の形態の画像表示装置の表
示駆動回路の構成を説明する。First, the structure of the display driving circuit of the image display device of the present embodiment will be described with reference to FIG.
【0193】図29は、本実施の形態の画像表示装置の
表示駆動回路の構成を示すブロック図である。FIG. 29 is a block diagram showing a configuration of a display drive circuit of the image display device of the present embodiment.
【0194】図29において、10001は薄型の真空
容器内に、基板上に多数の電子源、例えば冷陰極素子を
マトリクス状に配列してなるマルチ電子源を備えた表示
パネルで、図29に示すように、例えば水平方向に48
0素子、即ち160画素×3(RGB)が、垂直方向に
240素子が配置されている。本実施の形態では、48
0素子×240素子を有する表示パネル10001の例
を示すが、これら冷陰極素子の素子数に関しては必要に
応じて製品用途により決定されるので、この限りではな
い。このマトリクス型表示パネル10001の各冷陰極
素子は、画像表示時の色に合わせ(対応する蛍光体の色
に合わせ)、Rmn(m=1〜240,n=1,4,7,
…)、Gmn(m=1〜240,n=2,5,8,…)、
Bmn(m=1〜240,n=3,6,9,…)で示し
た。この表示パネル10001は、図29に示す様に、
RGBそれぞれの蛍光体が縦ストライプでRGBの順に
配置されている。In FIG. 29, reference numeral 10001 denotes a display panel provided with a multi-electron source in which a large number of electron sources, for example, cold cathode devices are arranged in a matrix, on a substrate in a thin vacuum vessel. So, for example, 48
0 elements, that is, 160 pixels × 3 (RGB), and 240 elements are arranged in the vertical direction. In the present embodiment, 48
An example of a display panel 10001 having 0 elements × 240 elements will be described. However, the number of these cold cathode elements is not limited since the number is determined by a product application as needed. Each cold cathode element of the matrix type display panel 10001 matches Rmn (m = 1 to 240, n = 1, 4, 7,...) According to the color at the time of displaying an image (corresponding to the color of the corresponding phosphor).
..), Gmn (m = 1 to 240, n = 2, 5, 8,...),
Bmn (m = 1 to 240, n = 3, 6, 9,...). This display panel 10001 is, as shown in FIG.
The respective phosphors of RGB are arranged in the order of RGB in a vertical stripe.
【0195】10002はアナログデジタル変換器(A
/Dコンバータ)で、不図示のデコーダにより、例えば
NTSC信号からRGB信号にデコードされたアナログ
RGB信号を、各々例えば8ビット幅のデジタルRGB
信号に変換する。10003はデータ並び替え部で、A
/Dコンバータ10002又はコンピュータ等のデジタ
ルRGB信号(信号S1)を入力し、マトリクス型の表
示パネル10001の画素配列に合わせて並び替えて出
力する機能を有する(信号S2)。10004は輝度デ
ータ変換器で、データ並び替え部10003から入力さ
れたデジタルデータを所望の輝度特性に変換しており、
例えばガンマ変換テーブルなどを用いて変換している
(信号S3)。10005はシフトレジスタで、輝度デ
ータ変換器10004から送られるシリアルデータ(信
号S3)をシフトクロック(SCLK)に同期して順次
シフト転送し、表示パネル10001のそれぞれの素子
に対応したパラレルのデジタルデータ(XD1〜XD48
0)を形成する。10006は変調信号発生部で、シフ
トレジスタ10005からのデジタルデータの値に応じ
てPWMクロック(PCLK)を基にパルス幅を決定し
てパルス信号(XDP1〜XDP480)を出力している。
10007は変調信号ドライバで、変調信号発生部10
006から出力されるパルス信号に応じて、表示パネル
10001の変調信号線を駆動するための駆動信号X1
〜X480を出力している。Reference numeral 10002 denotes an analog-to-digital converter (A
/ D converter) converts an analog RGB signal decoded from, for example, an NTSC signal to an RGB signal by a decoder (not shown) into digital RGB signals having an 8-bit width, for example.
Convert to a signal. 10003 is a data rearranging unit,
It has a function of inputting a digital RGB signal (signal S1) from a / D converter 10002 or a computer or the like, rearranging it according to the pixel arrangement of the matrix type display panel 10001, and outputting it (signal S2). Reference numeral 10004 denotes a luminance data converter which converts digital data input from the data rearranging unit 10003 into a desired luminance characteristic.
For example, conversion is performed using a gamma conversion table or the like (signal S3). A shift register 10005 sequentially shifts and transfers serial data (signal S3) sent from the luminance data converter 10004 in synchronization with a shift clock (SCLK), and converts parallel digital data (corresponding to each element of the display panel 10001). XD1 to XD48
0) is formed. A modulation signal generator 10006 determines a pulse width based on a PWM clock (PCLK) according to the value of digital data from the shift register 10005 and outputs pulse signals (XDP1 to XDP480).
Reference numeral 10007 denotes a modulation signal driver.
A drive signal X1 for driving the modulation signal line of the display panel 10001 according to the pulse signal output from
~ X480 is output.
【0196】10008は走査シフトレジスタで、水平
走査同期信号(HD)をシフトクロックとして入力し、
入力画像の走査線に対応する表示パネル10001の走
査配線を順次選択するための信号を作る。10009は
走査ドライバで、走査シフトレジスタ10008の出力
に従って選択された走査配線に電位(−Vss)を印加
し、選択されていない走査配線をGNDに接続して(接
地して)、表示パネル10001の走査配線を順次選択
駆動する。10010はタイミング制御部で、画像信号
と共に入力される同期信号(sync)及びサンプリングク
ロック(DCLK)を基に、各機能ブロックに供給する
各種タイミング信号を生成して出力している。Reference numeral 10008 denotes a scanning shift register which inputs a horizontal scanning synchronizing signal (HD) as a shift clock.
A signal for sequentially selecting the scan wiring of the display panel 10001 corresponding to the scan line of the input image is generated. A scan driver 10009 applies a potential (−Vss) to a scan line selected in accordance with the output of the scan shift register 10008, connects an unselected scan line to GND (grounds), and outputs a signal to the display panel 10001. The scanning lines are sequentially selected and driven. A timing control unit 10010 generates and outputs various timing signals to be supplied to each functional block based on a synchronization signal (sync) and a sampling clock (DCLK) input together with an image signal.
【0197】図31は、本実施の形態の変調信号発生部
10006の1つのデジタルデータ(XD)に対する変
調信号発生回路の構成を示す回路図である。FIG. 31 is a circuit diagram showing a configuration of a modulation signal generation circuit for one digital data (XD) of modulation signal generation section 10006 of the present embodiment.
【0198】図31において、61はダウンカウンタ、
62はインバータである。ダウンカウンタ61は、シフ
トレジスタ10005からの出力である、例えば8ビッ
ト幅のデジタルデータ(XD1〜XD480のそれぞれ)を
ロード信号(Ld)のタイミングでロードし、PWMク
ロック(PCLK)を入力する毎にダウンカウントす
る。そして例えば、ダウンカウンタ61のボロー出力を
インバータ62で反転してパルス幅変調出力としてい
る。このボロー出力はロード信号によるロードタイミン
グでロウレベルになり、ロードされたデータの値分PC
LKをカウントとするとハイレベルになる。即ち「ロー
ドされたデータ(設定値)」×「クロック(PCLK)
周期」で決まるパルス幅のパルス信号を出力する。In FIG. 31, reference numeral 61 denotes a down counter,
62 is an inverter. The down counter 61 loads, for example, 8-bit digital data (each of XD1 to XD480) output from the shift register 10005 at the timing of the load signal (Ld), and every time the PWM clock (PCLK) is input. Count down. Then, for example, the borrow output of the down counter 61 is inverted by the inverter 62 to obtain a pulse width modulation output. This borrow output becomes low level at the load timing by the load signal, and the value of the loaded data is equal to PC.
When LK is counted, it becomes high level. That is, “loaded data (set value)” × “clock (PCLK)
A pulse signal having a pulse width determined by the “cycle” is output.
【0199】図32は、図31の回路の動作を示すタイ
ミング図である。FIG. 32 is a timing chart showing the operation of the circuit of FIG.
【0200】ここではロード信号Ldの立上がりで、ダ
ウンカウンタ61に“p”がセットされた場合を示し、
この“p”に対応する数のクロックPCLKをカウント
すると、そのボロー出力がロウレベルになり、PWMou
tがハイレベルで出力されている。Here, a case where "p" is set in down counter 61 at the rise of load signal Ld is shown.
When the number of clocks PCLK corresponding to "p" is counted, the borrow output becomes low level, and PWMou is output.
t is output at high level.
【0201】図30は、本実施の形態の画像表示装置の
表示駆動回路の動作を説明するタイミング図である。FIG. 30 is a timing chart for explaining the operation of the display driving circuit of the image display device according to the present embodiment.
【0202】次にこれらの図を参照して以降の実施の形
態の画像表示装置の動作を説明する。Next, the operation of the image display device according to the following embodiment will be described with reference to these figures.
【0203】図29において、不図示のデコーダによ
り、例えばNTSC信号からRGB信号にデコードされ
たアナログRGB信号を入力し、A/Dコンバータ10
002により、各々例えば8ビットのデジタルRGB信
号に変換する。データ並び替え部10003は、A/D
コンバータ10002又はコンピュータ等からのデジタ
ルRGB信号(S1)を入力する。この際、1走査ライ
ン(1H)のデータ数は、マトリクス型の表示パネル1
0001の変調信号線側の画素数で決めると処理が簡単
になる。本実施の形態の場合、この表示パネル1000
1の変調信号線側の画素数を“160”にしている。A
/Dコンバータ10002又はコンピュータ等からのデ
ジタルRGB信号(S1)はデータサンプリングクロッ
ク(DCLK)と同期して出力される。 ここで図30
に示すように、入力信号(S1)のRGBパラレル信号
は、データ並び替え部10003において、データサン
プリングクロック(DCLK)の3倍の周波数のクロッ
クであるシフトクロック(SCLK)のタイミングで切
り替えられ、表示パネル10001のRGB画素の配列
に従って順次出力される。In FIG. 29, an analog RGB signal decoded from, for example, an NTSC signal to an RGB signal by a decoder (not shown) is input to the A / D converter 10.
002, each is converted into, for example, an 8-bit digital RGB signal. The data rearranging unit 10003 performs A / D
A digital RGB signal (S1) from the converter 10002 or a computer or the like is input. At this time, the number of data in one scan line (1H) depends on the matrix type display panel 1.
If the number of pixels on the modulation signal line side of 0001 is determined, the processing is simplified. In the case of the present embodiment, the display panel 1000
The number of pixels on one modulation signal line side is set to “160”. A
The digital RGB signal (S1) from the / D converter 10002 or a computer is output in synchronization with the data sampling clock (DCLK). Here, FIG.
As shown in (1), the RGB parallel signal of the input signal (S1) is switched by the data rearranging unit 10003 at the timing of the shift clock (SCLK) which is a clock having a frequency three times the frequency of the data sampling clock (DCLK). The pixels are sequentially output according to the arrangement of the RGB pixels on the panel 10001.
【0204】データ並び替え部10003の出力信号
(S2)は輝度データ変換器10004に入力される。
この輝度データ変換器10004は、予め所定の変換用
データが記憶されている不図示の変換テーブル(RO
M)により、データ並び替え部10003の出力信号
(S2)を、例えばCRTのガンマ特性等に適合する輝
度特性を有する信号に変換する。The output signal (S2) of data rearranging section 10003 is input to luminance data converter 10004.
This luminance data converter 10004 is provided with a conversion table (RO) (not shown) in which predetermined conversion data is stored in advance.
M), the output signal (S2) of the data rearranging unit 10003 is converted into a signal having a luminance characteristic suitable for, for example, a gamma characteristic of a CRT.
【0205】この輝度データ変換器10004の出力信
号S3は更にシフトレジスタ10005に送られ、この
シフトレジスタ10005において、シリアルデータは
シフトクロック(SCLK)に同期して順次シフト転送
され、表示パネル10001のそれぞれの素子に対応し
たパラレルのデジタルデータ(XD1〜XD480)とし
て、水平走査時間単位で変調信号発生部10006に出
力される。ここでは例えば各8ビットのデジタルデータ
(XD1〜XD480)が変調信号発生部10006に入力
される。前述の説明の通り、変調信号発生部10006
は、素子毎にデジタルデータ(「設定値」)とPWMク
ロック(PCLK)に応じて出力するパルス信号のパル
ス幅を決定する。即ち、変調信号発生部10006は、
「PWMクロック(PCLK)数」が「設定値」と等し
くなるまでの時間で決まるパルス幅のパルス信号(パル
ス幅変調信号)を出力する。そして、変調信号ドライバ
10007は、この変調信号発生部10006から出力
されるパルス信号のパルス幅で決定される時間、表示パ
ネル10001の列配線に変調信号を印加して駆動す
る。The output signal S3 of the luminance data converter 10004 is further sent to a shift register 10005. In the shift register 10005, serial data is sequentially shifted and transferred in synchronization with a shift clock (SCLK). Are output to the modulation signal generating unit 10006 in units of horizontal scanning time as parallel digital data (XD1 to XD480) corresponding to the above elements. Here, for example, 8-bit digital data (XD1 to XD480) is input to the modulation signal generation unit 10006. As described above, the modulation signal generator 10006
Determines the pulse width of a pulse signal to be output according to digital data (“set value”) and a PWM clock (PCLK) for each element. That is, the modulation signal generation unit 10006
A pulse signal (pulse width modulation signal) having a pulse width determined by the time until the “number of PWM clocks (PCLK)” becomes equal to the “set value” is output. Then, the modulation signal driver 10007 applies a modulation signal to the column wiring of the display panel 10001 for a time determined by the pulse width of the pulse signal output from the modulation signal generation unit 10006, and drives it.
【0206】本実施の形態において、NTSC信号を2
40本の走査ラインの表示パネル10001で表示させ
るために、インターレースされている有効走査線の48
5本の内、480本をフィールド毎に表示パネル100
01に重ね書きするように駆動した。NTSC信号の1
フィールドを表示パネル10001では1フレームとし
て扱った。即ち、表示パネル10001をフレーム周波
数60Hz、走査ライン240本の画像信号として駆動
した。In the present embodiment, the NTSC signal is set to 2
In order to display on the display panel 10001 of 40 scanning lines, 48 of the interlaced effective scanning lines are used.
Of the five lines, 480 lines are displayed on a display panel 100
01 was overwritten. NTSC signal 1
The display panel 10001 treats the field as one frame. That is, the display panel 10001 was driven as an image signal having a frame frequency of 60 Hz and 240 scanning lines.
【0207】一方、1走査ラインの表示に要する時間
は、NTSC信号では約63.5μ秒であり、その時間
内の約56.5μ秒を駆動パルス(X1〜X480)の最大
時間と決めた。PWMクロック(PCLK)は、デジタ
ルデータ(「設定値」)を8ビットに選んだので、PW
Mクロック(PCLK)のパルス数は、256個の時に
約56.5μ秒となるような周波数を選んだ。即ち、1
パルスのパルス幅は約220n秒のクロック、約4.5
MHzの周波数のクロックをPWMクロック(PCL
K)とした。On the other hand, the time required to display one scan line is about 63.5 μsec for the NTSC signal, and about 56.5 μsec within that time is determined as the maximum time of the drive pulse (X 1 to X 480). As the PWM clock (PCLK) selects digital data (“set value”) for 8 bits, the PWM clock (PCLK)
The number of pulses of the M clock (PCLK) was selected to be about 56.5 μsec when the number of pulses is 256. That is, 1
The pulse width is about 220 ns clock, about 4.5 ns.
MHz frequency clock as PWM clock (PCL
K).
【0208】一方、走査シフトレジスタ10008は、
水平走査同期信号(HD)をシフトクロックとして入力
し、図30に示したように走査開始を時刻を決める信号
(YST)を水平走査同期信号(HD)で順次転送する
ことによって走査信号を出力する。走査ドライバ100
09は、走査シフトレジスタ10008から出力される
走査信号に従って、走査配線を順次1番目から選択し、
その選択した走査配線(行配線)に電位−Vss(例えば
−8V)を印加し、他の配線の電位を0Vにして走査駆
動する。これにより、走査ドライバ10009が選択し
た走査配線(−Vss=−8V)に接続され、かつ変調信
号ドライバ10007により駆動電位(約+8V)が印
加されている変調信号配線(列配線)に接続されている
冷陰極素子の電極間には約16Vの電圧が加わることに
なる。これによりその冷陰極素子から電子が放出され
る。変調信号ドライバ10007により駆動電位+8V
が印加されている素子であって、走査ドライバ1000
9により選択されていない走査配線(0V)に接続され
ている冷陰極素子には、結果として約8Vの電圧が印加
されるが、図33から明らかなように、その電圧は冷陰
極素子から電子放出が開始される電圧以下であるため、
例え、変調信号ドライバ10007により駆動電位(約
+8V)が印加されて要る配線に接続されていても、走
査ドライバ10009が選択しなかった走査配線に接続
されている冷陰極素子は電子を放出せず、その素子に対
応する表示パネル10001の蛍光体が発光することは
ない。On the other hand, the scanning shift register 10008
A horizontal scanning synchronization signal (HD) is input as a shift clock, and a scanning signal is output by sequentially transferring a signal (YST) for determining the start time of scanning with the horizontal scanning synchronization signal (HD) as shown in FIG. . Scan driver 100
09 sequentially selects the scanning wiring from the first according to the scanning signal output from the scanning shift register 10008,
A potential -Vss (for example, -8 V) is applied to the selected scanning wiring (row wiring), and the potential of the other wiring is set to 0 V to perform scanning driving. As a result, the scan driver 10009 is connected to the selected scan line (−Vss = −8 V) and connected to the modulation signal line (column line) to which the drive potential (about +8 V) is applied by the modulation signal driver 10007. A voltage of about 16 V is applied between the electrodes of the cold cathode device. Thereby, electrons are emitted from the cold cathode device. Drive potential +8 V by modulation signal driver 10007
Are applied, and the scan driver 1000
As a result, a voltage of about 8 V is applied to the cold cathode device connected to the scanning wiring (0 V) not selected by the reference numeral 9, but as apparent from FIG. Because it is less than the voltage at which emission starts,
For example, even if the driving potential (approximately +8 V) is applied by the modulation signal driver 10007 and connected to the required wiring, the cold cathode element connected to the scanning wiring not selected by the scanning driver 10009 emits electrons. Therefore, the phosphor of the display panel 10001 corresponding to the element does not emit light.
【0209】また逆に、変調信号ドライバ10007の
出力が非駆動(0V)である変調信号配線に接続され、
かつ選択された走査配線(−8V)に接続された冷陰極
素子には約8Vの電圧が印加される。しかし、図33か
ら明らかなように、それら冷陰極素子に印加される電圧
は、前述の閾値電圧以下であるため電子を放出せず、そ
れら素子に対応する蛍光体が発光することはない。On the contrary, the output of the modulation signal driver 10007 is connected to the non-drive (0 V) modulation signal wiring,
A voltage of about 8 V is applied to the cold cathode device connected to the selected scanning wiring (-8 V). However, as is clear from FIG. 33, the voltage applied to these cold cathode devices is lower than the threshold voltage described above, so that they do not emit electrons, and the phosphors corresponding to those devices do not emit light.
【0210】以上のようにして、走査ドライバ1000
9で選択されている走査配線に接続され、かつ変調信号
ドライバ10007の出力が所望の輝度に比例したパル
ス幅で加えられた冷陰極素子から電子が放出される。こ
のような表示駆動が順次実行されて表示パネル1000
1に画像が表示される。As described above, the scanning driver 1000
Electrons are emitted from the cold cathode device connected to the scanning wiring selected at 9 and to which the output of the modulation signal driver 10007 is applied with a pulse width proportional to the desired luminance. Such display driving is sequentially performed to display the display panel 1000.
1 is displayed.
【0211】次に本発明の実施の形態4に係る、隣接す
る列配線での電位変化に伴うクロストークを防止する変
調信号ドライバ10007の構成を説明する。Next, a configuration of a modulation signal driver 10007 for preventing crosstalk due to a potential change in an adjacent column wiring according to the fourth embodiment of the present invention will be described.
【0212】図34は、本発明の実施の形態4に係る変
調ドライバ10007の回路構成を示すブロック図であ
る。FIG. 34 is a block diagram showing a circuit configuration of modulation driver 10007 according to Embodiment 4 of the present invention.
【0213】図34において、70は電位Vas[V]を
出力する電圧源、71は、変調信号発生部10006か
ら変調信号(XDPi:i=1〜480)が入力される
入力端子、72はマトリクス型の表示パネル10001
の冷陰極素子を駆動して画像を表示させるための電流
源、73はダイオード、74はインバータ回路、75は
電流源72の駆動電流が表示パネル10001に供給さ
せる/させないように制御するMOSFET等のトラン
ジスタ、76は3入力OR回路、77はレベルシフト回
路、78はNPNトランジスタで、表示パネル1000
1の変調信号配線に電位Vasを印加させるかどうかを制
御している。79はダイオードである。In FIG. 34, reference numeral 70 denotes a voltage source for outputting a potential Vas [V]; 71, an input terminal to which a modulation signal (XDPi: i = 1 to 480) is input from a modulation signal generator 10006; Type display panel 10001
A current source for driving the cold cathode element to display an image, a diode 73, an inverter circuit 74, and a MOSFET 75 for controlling the driving current of the current source 72 to be supplied to or not supplied to the display panel 10001. A transistor, 76 is a 3-input OR circuit, 77 is a level shift circuit, 78 is an NPN transistor, and the display panel 1000
It controls whether or not the potential Vas is applied to one modulation signal line. 79 is a diode.
【0214】図34の構成において、以下の様に動作す
る。尚、ここでは説明の都合上、j番目の変調信号線
(列配線)の駆動の場合で説明するが、他の変調信号線
の場合も同様に考えればよい。In the configuration of FIG. 34, the operation is as follows. Here, for convenience of explanation, the case of driving the j-th modulation signal line (column wiring) will be described, but the case of other modulation signal lines may be considered in the same manner.
【0215】変調信号発生部10006の出力は、輝度
信号の値に応じたパルス幅に変調されたパルス幅変調信
号(XDPi)であり、この変調信号は入力端子71に
入力される。この変調信号はインバータ74で反転され
てMOSFET等のトランジスタ75のベースに入力さ
れており、このトランジスタ75オン/オフ制御してい
る。従って、変調信号(XDPi)がハイレベルのとき
は電流源72の出力はダイオード73を通して変調信号
配線に供給される。逆に変調信号がロウレベルの時は、
トランジスタ75がオンされて、電流源72からの電流
がトランジスタ75を通して流れるため、変調信号配線
に供給されることはない。尚、この電流源72から出力
される駆動電流は、冷陰極素子が十分に電子放出するだ
けの電流値としている。例えば図33において、素子電
圧が16[V]の時の素子電流Ifの値に決定すれば良
い。The output of modulation signal generating section 10006 is a pulse width modulation signal (XDPi) modulated to a pulse width corresponding to the value of the luminance signal. This modulation signal is input to input terminal 71. This modulation signal is inverted by an inverter 74 and input to the base of a transistor 75 such as a MOSFET, which controls the on / off of the transistor 75. Therefore, when the modulation signal (XDPi) is at a high level, the output of the current source 72 is supplied to the modulation signal wiring through the diode 73. Conversely, when the modulation signal is low level,
Since the transistor 75 is turned on and the current from the current source 72 flows through the transistor 75, the current is not supplied to the modulation signal wiring. The driving current output from the current source 72 has a current value enough for the cold cathode device to emit electrons sufficiently. For example, in FIG. 33, the value of the element current If when the element voltage is 16 [V] may be determined.
【0216】また入力端子71に入力される変調信号
は、3入力OR回路76の第1入力端子(76a)に入
力される。また3入力OR回路76の第2入力端子(7
6b)には(j−1)番目(左側)の変調信号が入力さ
れており、更に3入力OR回路76の第3入力端子(7
6c)には(j+1)番目(右側)の変調信号が入力さ
れている。また、信号X1及びX480といった信号が入力
される両端の変調信号配線に対する3入力OR回路76
の様に、その左側或は右側に変調信号が存在しない3入
力OR回路76の第2或は第3入力端子はGNDに接続
されている。この3入力OR回路76の出力はレベルシ
フト回路77でレベル変換されてGND又はVas[V]
の電位で出力する。レベルシフト回路77の出力はNP
Nトランジスタ78のゲートに入力されており、このト
ランジスタ78はエミッタからダイオード79を通して
変調信号配線に駆動電位を供給する。ここでは説明を簡
便にするために、NPNトランジスタ78のベース・エ
ミッタ間の電圧降下とダイオード79の順方向電圧降下
は無視して説明する(実際の回路ではそれぞれ約0.6
[V]程度電圧降下がある)。そのため電源70の出力
電位は、所望の出力電位(駆動電位:Vas[V])より
約1.2[V]高い電位とすればよい。The modulation signal input to the input terminal 71 is input to the first input terminal (76a) of the three-input OR circuit 76. Also, the second input terminal (7
6b), the (j-1) -th (left-hand side) modulation signal is input, and the third input terminal (7
The (j + 1) th (right) modulated signal is input to 6c). Also, a three-input OR circuit 76 for the modulation signal wirings at both ends to which signals such as signals X1 and X480 are input.
As described above, the second or third input terminal of the three-input OR circuit 76 in which no modulation signal is present on the left or right side is connected to GND. The output of the three-input OR circuit 76 is level-converted by the level shift circuit 77, and is output to GND or Vas [V].
Output at the potential of The output of the level shift circuit 77 is NP
The transistor 78 supplies a drive potential to the modulation signal wiring from the emitter through the diode 79. Here, for the sake of simplicity, the description will be made while ignoring the voltage drop between the base and the emitter of the NPN transistor 78 and the forward voltage drop of the diode 79 (each about 0.6 in an actual circuit).
[V] voltage drop). Therefore, the output potential of the power supply 70 may be about 1.2 [V] higher than a desired output potential (driving potential: Vas [V]).
【0217】このような構成により、j番目の変調信号
配線に変調信号が印加されると、電流源72の出力がダ
イオード73を通して出力され、j番目の変調信号配線
を駆動することになる。また、その右側(j+1)或は
左側(j−1)の変調信号配線のいずれかに変調信号が
出力されていると、NPNトランジスタ78の出力がダ
イオード79を通して出力されるため、j番目の変調信
号が立ち下がっても、そのj番目の変調信号配線の電位
はVasまでしか低下しないことになる。With such a configuration, when a modulation signal is applied to the j-th modulation signal wiring, the output of the current source 72 is output through the diode 73 to drive the j-th modulation signal wiring. If a modulation signal is output to either the right (j + 1) or left (j-1) modulation signal wiring, the output of the NPN transistor 78 is output through the diode 79, so that the j-th modulation signal is output. Even if the signal falls, the potential of the j-th modulation signal wiring drops only to Vas.
【0218】図35は、本実施の形態4に係る変調信号
(XDP1,XDP2,…)と、実際に表示パネル100
01に供給される変調信号(X1,X2,…)の駆動波形
を説明する図である。FIG. 35 shows modulated signals (XDP1, XDP2,...) According to the fourth embodiment and actual display panel 100.
FIG. 4 is a diagram for explaining a drive waveform of a modulation signal (X1, X2,...) Supplied to the signal 01.
【0219】図35において、4番目の変調信号配線の
信号(X4)の駆動波形のクロストーク除去の効果につ
いて説明する。当然他の変調信号配線の駆動波形のクロ
ストーク除去の効果についても同様に考えればよい。Referring to FIG. 35, the effect of removing the crosstalk of the drive waveform of the signal (X4) on the fourth modulation signal wiring will be described. Of course, the effect of removing the crosstalk of the drive waveforms of the other modulation signal wirings can be similarly considered.
【0220】図35において、3番目の変調信号配線の
信号(X3)の立ち下がり時、隣接する2番目及び4番
目の変調信号がハイレベルとなって出力されているの
で、その信号X3はGNDレベルまで立ち下がることな
く、略Vasに等しい電位まで降下している。これによ
り、2番目及び4番目の変調信号(X2,X4)では、隣
接する3番目の変調信号配線の信号(X3)の立ち下が
りに伴う配線間容量による影響が少なくなり、若干信号
レベルを低下させているだけである。このように前述の
図26に示すクロストークに比べて、信号X2及びX4の
電位変化が小さくなっていることがわかる。In FIG. 35, when the signal (X3) on the third modulation signal wiring falls, the adjacent second and fourth modulation signals are output at a high level, so that the signal X3 is GND. Without dropping to the level, it drops to a potential substantially equal to Vas. As a result, in the second and fourth modulation signals (X2, X4), the influence of the inter-wiring capacitance due to the fall of the signal (X3) of the adjacent third modulation signal wiring is reduced, and the signal level is slightly reduced. I just let it. Thus, it can be seen that the potential change of the signals X2 and X4 is smaller than the crosstalk shown in FIG.
【0221】また変調信号X4における91で示す部分
は、変調信号X3の電位がVas[V]の状態から、更に
両隣の変調信号配線の変調信号がオフになることにより
0[V]に立ち下がる時に発生するクロストークを示し
ているが、この時、変調信号X4が印加されている冷陰
極素子は非点灯の状態にあるので、この変調信号X4の
電位変化があったとしても画像の表示には影響しない。
また変調信号X3の電位Vas[V]から0[V]の間の
電位差も小さいので、これによる変調信号X4の電位変
化の絶対量も小さなものとなる。The portion indicated by reference numeral 91 in the modulation signal X4 falls from the state where the potential of the modulation signal X3 is Vas [V] to 0 [V] when the modulation signals of the adjacent modulation signal wirings are further turned off. At this time, since the cold cathode element to which the modulation signal X4 is applied is in a non-lighting state at this time, even if there is a change in the potential of the modulation signal X4, the image is displayed. Has no effect.
Further, since the potential difference between the potential Vas [V] and 0 [V] of the modulation signal X3 is small, the absolute amount of the potential change of the modulation signal X4 due to this is also small.
【0222】ここで前述の図27を参照して説明したよ
うに、電圧Vas[V]は冷陰極素子が電子を放出し始め
る閾値電圧(Vth)としているので、画像のコントラス
トの劣化も最小限で抑えられる。また、ある変調信号配
線に隣接する変調信号配線に変調信号が印加されている
時間のみ、電位Vas[V]をその変調信号線に印加する
ので、駆動している変調信号配線に隣接する変調信号配
線の立ち下がりは必ずVas[V]までしか低下しない。
更に、隣接する変調信号配線の変調信号で論理和が取ら
れた時間のみ電位Vas[V]を変調信号線に印加するの
で、変調信号配線により駆動されない素子には電位(V
as+Vss)[V]が印加されない。そのため必要時間以
上に冷陰極素子を電位(Vas+Vss)[V]で駆動する
ことはなく、画像のコントラストの劣化も最小限に抑え
られる。その結果、隣接した変調信号線間の配線間容量
があっても、隣接する配線間のクロストークを少なくし
て表示パネルを駆動できる駆動回路を提供できた。これ
により、良好な階調特性を持つ画像を表示することがで
きる。As described above with reference to FIG. 27, since the voltage Vas [V] is set to the threshold voltage (Vth) at which the cold cathode element starts emitting electrons, deterioration of image contrast is minimized. Can be suppressed. Further, the potential Vas [V] is applied to the modulation signal line only during the time when the modulation signal is applied to the modulation signal line adjacent to a certain modulation signal line, so that the modulation signal adjacent to the driven modulation signal line is applied. The fall of the wiring always drops only to Vas [V].
Further, since the potential Vas [V] is applied to the modulation signal line only during the time when the logical sum of the adjacent modulation signal lines is obtained, the potential (V) is applied to the element not driven by the modulation signal line.
(as + Vss) [V] is not applied. Therefore, the cold cathode element is not driven at the potential (Vas + Vss) [V] for a longer time than necessary, and deterioration of image contrast is minimized. As a result, a drive circuit capable of driving a display panel with reduced crosstalk between adjacent wirings can be provided even if there is inter-wiring capacitance between adjacent modulation signal lines. As a result, an image having good gradation characteristics can be displayed.
【0223】[実施の形態5]図36は、本発明の実施
の形態5に係る変調信号ドライバ10007aの構成を
示すブロック図で、前述の図34と共通する部分は同じ
番号で示し、それらの説明を省略する。[Fifth Embodiment] FIG. 36 is a block diagram showing a configuration of a modulation signal driver 10007a according to a fifth embodiment of the present invention. Portions common to FIG. 34 described above are denoted by the same reference numerals. Description is omitted.
【0224】図36において、706は5入力OR回路
であり、他の構成は前述の実施の形態4と同じなので説
明を省略する。ここでも説明の都合上、j番目の変調信
号線の駆動の場合で説明する。当然、他の変調信号線の
駆動についても同様に考えればよい。In FIG. 36, reference numeral 706 denotes a 5-input OR circuit, and the other configuration is the same as that of the above-described fourth embodiment, so that the description is omitted. Here, for convenience of description, the case of driving the j-th modulation signal line will be described. Of course, the same applies to the driving of other modulation signal lines.
【0225】変調信号発生部10006の出力は、輝度
信号の値に応じたパルス幅に変調されたパルス幅変調信
号(XDPi)で、この変調信号は入力端子71に入力
される。この変調信号はインバータ74で反転されMO
SFET等のトランジスタ75を駆動して、電流源72
からの出力電流を変調信号配線に流すかどうかを決定し
ている。即ち、変調信号のレベルがハイレベルの時は、
ダイオード73を通して変調信号配線に駆動電流が供給
される。この駆動電流は、冷陰極素子が十分に電子放出
する電流に決定されている。例えば図33において、素
子電圧が16[V]の時の素子電流Ifの値に決定すれ
ば良い。The output of modulation signal generating section 10006 is a pulse width modulation signal (XDPi) modulated to a pulse width corresponding to the value of the luminance signal. This modulation signal is input to input terminal 71. This modulation signal is inverted by an inverter 74 and
By driving a transistor 75 such as an SFET, a current source 72
It is determined whether or not the output current from is supplied to the modulation signal wiring. That is, when the level of the modulation signal is high,
A drive current is supplied to the modulation signal wiring through the diode 73. The drive current is determined as a current that the cold cathode device emits electrons sufficiently. For example, in FIG. 33, the value of the element current If when the element voltage is 16 [V] may be determined.
【0226】また入力端子71に入力される変調信号
(XDPi)は、5入力OR回路706の第1入力端子
(706a)に入力される。また5入力OR回路706
の第2入力端子(706b)には、(j−2)番目(左
側の2つ目)の変調信号が加えられ、5入力OR回路7
06の第3入力端子(706c)には(j−1)番目
(左隣)の変調信号が加えられる。また5入力OR回路
706の第4入力端子(706d)には(j+1)番目
(右隣)の変調信号が加えられ、更に5入力OR回路7
06の第5入力端子(706e)には(j+2)番目
(右の2つ目)の変調信号が加えられている。The modulation signal (XDPi) input to the input terminal 71 is input to the first input terminal (706a) of the 5-input OR circuit 706. Also, a 5-input OR circuit 706
(J-2) th (second on the left) modulated signal is applied to the second input terminal (706b) of the
The (j-1) th (left adjacent) modulation signal is applied to a third input terminal (706c) 06. The (j + 1) -th (right adjacent) modulation signal is applied to the fourth input terminal (706d) of the five-input OR circuit 706, and the five-input OR circuit 7
The (j + 2) th (second right) modulation signal is applied to the fifth input terminal (706e) 06.
【0227】この場合も前述と同様に、両端の変調信号
配線に対する5入力OR回路706の第1及び第2入力
端子、或は第4及び第5入力端子はロウレベルに接続さ
れ、端から2番目の変調信号配線に対する5入力OR回
路706の第1入力端子、或は第5入力端子もロウレベ
ルに接続される。この5入力OR回路706の出力はレ
ベルシフト回路77でレベル変換されてNPNトランジ
スタ78のベースに入力され、エミッタフォロアされダ
イオード79を通して変調信号配線に駆動電位を供給す
る。In this case as well, the first and second input terminals or the fourth and fifth input terminals of the five-input OR circuit 706 for the modulation signal wirings at both ends are connected to the low level, and the second from the end. The first input terminal or the fifth input terminal of the five-input OR circuit 706 for the modulation signal wiring is also connected to the low level. The output of the 5-input OR circuit 706 is level-converted by the level shift circuit 77 and input to the base of the NPN transistor 78, followed by an emitter follower to supply a drive potential to the modulation signal wiring through the diode 79.
【0228】このようにして本実施の形態5によれば、
左右に隣接した変調信号配線に加えて、一つ飛ばして近
接している変調信号配線における変調信号の立ち下がり
によるクロストークの影響を除去できる。この詳しい説
明は、前述の実施の形態4と同じであるので省略する。As described above, according to the fifth embodiment,
In addition to the modulation signal wiring adjacent to the left and right, it is possible to eliminate the influence of crosstalk due to the fall of the modulation signal in the modulation signal wiring adjacent to the modulation signal wiring. The detailed description is the same as that of the above-described fourth embodiment, and thus will be omitted.
【0229】当然、5入力OR回路706の入力数を増
やし、例えば二つ飛ばして近接している変調信号配線に
おける変調信号の立ち下がりによるクロストークの発生
を防止するようにしてもよい。Of course, the number of inputs of the five-input OR circuit 706 may be increased to prevent the occurrence of crosstalk due to the fall of the modulation signal in the adjacent modulation signal wiring, for example, by skipping two.
【0230】以上説明したように本実施の形態5によれ
ば、近接及び一つ飛ばした変調信号線との配線間容量に
よるクロストークの発生を防止できる。As described above, according to the fifth embodiment, it is possible to prevent the occurrence of crosstalk due to the capacitance between the adjacent modulation signal lines and the skipped modulation signal line.
【0231】[実施の形態6]図37は、本発明の実施
の形態6に係る変調ドライバ10007bの構成を示す
ブロック図で、前述の図面と共通する部分は同じ番号で
示し、それらの説明を省略する。[Embodiment 6] FIG. 37 is a block diagram showing a configuration of a modulation driver 10007b according to Embodiment 6 of the present invention. Portions common to the above-mentioned drawings are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be made. Omitted.
【0232】図37において、716は4入力OR回路
であり、他の構成は実施の形態4と同じである。尚、こ
の実施の形態6においても、説明の都合上、j番目の変
調信号線の駆動の場合で説明する。当然、他の変調信号
線の駆動についても同様に考えればよい。In FIG. 37, reference numeral 716 denotes a 4-input OR circuit, and the other configuration is the same as that of the fourth embodiment. Incidentally, also in the sixth embodiment, for convenience of explanation, the case of driving the j-th modulation signal line will be described. Of course, the same applies to the driving of other modulation signal lines.
【0233】入力端子71に入力される変調信号(XD
Pi)は、4入力OR回路716の第1入力端子(71
6a)に入力される。4入力OR回路716の第2入力
端子(716b)には、(j−1)番目(左隣)の変調
信号が加えられ、4入力OR回路716の第3入力端子
(716d)には(j+1)番目(右隣)の変調信号が
加えられている。また前述と同様に、両端の変調信号配
線に対する4入力OR回路716では、対応する隣接す
る変調信号が存在しない4入力OR回路716の入力端
子はロウレベルに接続されている。更に、この実施の形
態3では、4入力OR回路716の第4入力端子(71
6d)が共通に接続されており、信号PPREが入力さ
れている。The modulation signal (XD
Pi) is the first input terminal (71) of the 4-input OR circuit 716.
6a). The (j-1) -th (left adjacent) modulation signal is applied to the second input terminal (716b) of the 4-input OR circuit 716, and (j + 1) is applied to the third input terminal (716d) of the 4-input OR circuit 716. ) -Th (right next) modulated signal is added. As described above, in the four-input OR circuit 716 for the modulation signal wirings at both ends, the input terminal of the four-input OR circuit 716 in which the corresponding adjacent modulation signal does not exist is connected to the low level. Further, in the third embodiment, the fourth input terminal (71
6d) are commonly connected, and the signal PPRE is input.
【0234】この信号PPREは図38に示す様に、変
調信号(XDPi)がハイレベル(アクティブ)になる
(立ち上がり)直前、即ち、水平走査期間の最初にハイ
レベルになり、変調信号がハイレベルになると同時にロ
ウレベルに立ち下がっている。例えば、変調信号がハイ
レベルになる1[μ秒]前に立上がり、変調信号がハイ
レベルになると同時にロウレベルに立ち下がっている。
図38において、符号95は、隣接する変調信号X3が
電位Vasまで立ち下がったことによる変調信号X4のク
ロストークを示し、符号96は変調信号X3が電位Vas
からGNDまで立ち下がったことによる変調信号X4の
クロストークを示している(これらは前述した実施の形
態4、5と同様)。更に、符号97は、信号PPREに
より、変調信号X4が立上がる前に変調信号配線の電位
を電位Vasまで高められた状態を示している。As shown in FIG. 38, this signal PPRE becomes high level just before the modulation signal (XDPi) becomes high level (active) (rising), that is, at the beginning of the horizontal scanning period, and the modulation signal becomes high level. At the same time, it is falling to a low level. For example, it rises 1 [μsec] before the modulation signal goes high, and falls to the low level at the same time as the modulation signal goes high.
In FIG. 38, reference numeral 95 indicates crosstalk of the modulated signal X4 due to the fall of the adjacent modulated signal X3 to the potential Vas, and reference numeral 96 indicates the modulated signal X3 having the potential Vas.
7 shows the crosstalk of the modulated signal X4 due to the fall from the signal to GND (these are the same as in the fourth and fifth embodiments). Further, reference numeral 97 indicates a state where the potential of the modulation signal wiring is increased to the potential Vas by the signal PPRE before the modulation signal X4 rises.
【0235】これにより、現在駆動中の変調信号配線の
左右に隣接している配線に変調信号が印加されている
と、その立ち下がり時には電位Vasまで低下するのは前
述の実施の形態4,5と同様であるが、変調信号の立上
がり時には、前もって電位Vasまで電位を上昇させた
後、変調信号が立上がるので、変調信号配線の立ち上が
り時間を減少させることができる。即ち、パルス幅変調
における階調特性を改善することができる。Thus, when the modulation signal is applied to the wiring adjacent to the left and right of the currently driven modulation signal wiring, the potential drops to the potential Vas at the time of the fall in the above-described fourth and fifth embodiments. However, when the modulation signal rises, the potential rises to the potential Vas before the modulation signal rises, so that the rise time of the modulation signal wiring can be reduced. That is, the gradation characteristics in the pulse width modulation can be improved.
【0236】その結果、近接の変調信号配線間で配線間
容量があっても、少ないクロストークで表示パネルの各
素子を駆動して画像を表示することができる。これによ
り、良好な階調特性を持つ画像表示装置を提供できた。As a result, even if there is a capacitance between adjacent modulation signal wirings, each element of the display panel can be driven to display an image with little crosstalk. As a result, an image display device having good gradation characteristics could be provided.
【0237】本実施の形態では、パルス幅変調信号に応
じて、電流源72からの電流によって表示パネル100
01の各素子を駆動しているが、このような回路がIC
化された場合は電圧源(この場合、保護抵抗等で内部抵
抗が比較的高い)を用いて各素子を駆動してもよい。上
述した本実施の形態の構成をとれば、電圧源を用いた場
合であっても同様にクロストークを減少させることがで
きる。In the present embodiment, the display panel 100 is driven by the current from the current source 72 in accordance with the pulse width modulation signal.
01 is driven, and such a circuit is an IC
In this case, each element may be driven using a voltage source (in this case, the internal resistance is relatively high due to a protective resistance or the like). With the configuration of the present embodiment described above, crosstalk can be similarly reduced even when a voltage source is used.
【0238】また本願では、各実施の形態において、冷
陰極型電子放出素子を用いた構成で説明したが、むろん
EL素子や、他のいずれの電子放出素子に対しても適用
できる。例えば冷陰極型電子源は、表面伝導型放出素子
或いは、FE型放出素子或いは、MIM型放出素子で構
成されていても問題なく実施の形態に適応できる。Further, in the present application, in each embodiment, the configuration using the cold cathode type electron-emitting device has been described. However, it is needless to say that the present invention can be applied to the EL device and any other electron-emitting device. For example, even if the cold cathode electron source is constituted by a surface conduction type emission element, an FE type emission element, or an MIM type emission element, it can be applied to the embodiment without any problem.
【0239】本発明の実施の形態に係る画像表示装置
は、基本的には薄型の真空容器内に、基板上に多数の電
子源、例えば冷陰極素子を配列してなるマルチ電子源
と、この電子源から放出される電子の照射により画像を
形成する画像形成部材(蛍光体)とを対向して備えてい
る。The image display device according to the embodiment of the present invention basically includes a multi-electron source in which a large number of electron sources, for example, cold-cathode devices are arranged on a substrate in a thin vacuum vessel. An image forming member (phosphor) that forms an image by irradiation of electrons emitted from the electron source is provided to face the image forming member.
【0240】冷陰極素子は、例えばフォトリソグラフィ
・エッチングのような製造技術を用いれば基板上に精密
に位置決めして形成できるため、微小な間隔で多数個を
配列することが可能である。しかも、従来からCRT等
で用いられてきた熱陰極と比較すると、陰極自身や周辺
部が比較的低温な状態で駆動できるため、より微細な配
列ピッチのマルチ電子源を容易に実現できる。The cold cathode elements can be precisely positioned and formed on the substrate by using a manufacturing technique such as photolithography and etching, so that a large number of cold cathode elements can be arranged at minute intervals. In addition, as compared with a hot cathode conventionally used in a CRT or the like, the cathode itself and its peripheral portion can be driven at a relatively low temperature, so that a multi-electron source with a finer arrangement pitch can be easily realized.
【0241】また、冷陰極素子の中でもとりわけ好まし
いのは、表面伝導型電子放出素子(SCE)である。即
ち、冷陰極素子のうち、MIM型素子は絶縁層や上部電
極の厚さを比較的精密に制御する必要があり、またFE
型素子は針状の電子放出部の先端形状を精密に制御する
必要がある。そのため、これらの素子は比較的製造コス
トが高くなったり、製造プロセス上の制限から大面積の
ものを作製するのが困難となる場合があった。これに対
して、SCEは構造が単純で製造が簡単であり、大面積
のものも容易に作製できる。近年、特に大画面で安価な
表示装置が求められる状況においては、とりわけ好適な
冷陰極素子であるといえる。Further, a surface conduction electron-emitting device (SCE) is particularly preferable among the cold cathode devices. That is, among the cold cathode devices, the MIM type device requires relatively precise control of the thickness of the insulating layer and the upper electrode.
It is necessary for the mold element to precisely control the shape of the tip of the needle-like electron emitting portion. For this reason, these elements have a relatively high manufacturing cost, and it is sometimes difficult to manufacture a large-area element due to limitations in the manufacturing process. In contrast, the SCE has a simple structure and is easy to manufacture, and a large-area SCE can be easily manufactured. In recent years, particularly in a situation where a large-screen and inexpensive display device is required, it can be said that the cold-cathode element is particularly suitable.
【0242】[実施の形態7]以降で説明する実施の形
態7、8、9はそれぞれ先に述べた実施の形態4、5、
6をそれぞれ一部変形したものである。[Embodiment 7] Embodiments 7, 8, and 9 described below are Embodiments 4, 5, and 9, respectively.
6 are partially modified.
【0243】図39は本実施の形態7で用いる列配線駆
動回路の構成を示す図であり、図34の変調ドライバ1
0007内の点線で囲まれた1ブロック内の回路に相当
するものである。同等のものには図34と同じ符号を付
与している。FIG. 39 is a diagram showing a configuration of a column wiring driving circuit used in the seventh embodiment. The modulation driver 1 shown in FIG.
This corresponds to a circuit in one block surrounded by a dotted line in 0007. Equivalent components are given the same reference numerals as in FIG.
【0244】図39において、3902は変調信号が入
力され、入力端子71のロジックレベルにより出力を切
りかえるスイッチ、3901はOR回路7601の出力
により出力を切りかえるスイッチ、7601は2入力O
Rスイッチである。In FIG. 39, reference numeral 3902 denotes a switch which receives a modulation signal and switches the output according to the logic level of the input terminal 71, 3901 denotes a switch which switches the output according to the output of the OR circuit 7601, and 7601 denotes a 2-input O.
R switch.
【0245】図39の構成において、以下の様に動作す
る。尚、ここでは説明の都合上、j番目の変調信号線
(列配線)の駆動の場合で説明するが、他の変調信号線
の場合も同様に考えればよい。In the configuration of FIG. 39, the operation is as follows. Here, for convenience of explanation, the case of driving the j-th modulation signal line (column wiring) will be described, but the case of other modulation signal lines may be considered in the same manner.
【0246】変調信号発生部10006の出力は、輝度
信号の値に応じたパルス幅に変調されたパルス幅変調信
号(XDPi)であり、この変調信号は入力端子71に
入力される。この変調信号はスイッチ3902の制御端
子に入力されており、このスイッチ3902を制御して
いる。変調信号(XDPi)がハイレベルのときはスイ
ッチ3902は接点3902aを選択し、電流源72の
出力は変調信号配線に供給される。逆に変調信号がロウ
レベルの時は、スイッチ3902は接点3902bを選
択し、基準電位であるGND電位もしくは電位Vasを変
調信号に供給する。尚、この電流源72から出力される
駆動電流は、冷陰極素子が十分に電子放出するだけの電
流値としている。例えば図33において、素子電圧が1
6[V]の時の素子電流Ifの値に決定すれば良い。The output of modulation signal generating section 10006 is a pulse width modulation signal (XDPi) modulated to a pulse width corresponding to the value of the luminance signal. This modulation signal is input to input terminal 71. This modulation signal is input to the control terminal of the switch 3902, and controls the switch 3902. When the modulation signal (XDPi) is at the high level, the switch 3902 selects the contact 3902a, and the output of the current source 72 is supplied to the modulation signal wiring. Conversely, when the modulation signal is at a low level, the switch 3902 selects the contact 3902b and supplies a GND potential or a potential Vas as a reference potential to the modulation signal. The driving current output from the current source 72 has a current value enough for the cold cathode device to emit electrons sufficiently. For example, in FIG.
What is necessary is just to determine the value of the element current If at 6 [V].
【0247】また2入力OR回路7601の第1入力端
子(76b)には(j−1)番目(左側)の変調信号が
入力されており、更に2入力OR回路76の第2入力端
子(76c)には(j+1)番目(右側)の変調信号が
入力されている。また、信号X1及びX480といった信号
が入力される両端の変調信号配線に対する2入力OR回
路7601の様に、その左側或は右側に変調信号が存在
しない2入力OR回路7601の第1或は第2入力端子
はGNDに接続されている。この2入力OR回路760
1の出力端子の出力はスイッチ3901の制御端子に入
力されている。そして、スイッチ3901の制御端子が
ハイレベルのときはスイッチ3901は接点3901a
と接続される。ローレベルのときは接点3901bと接
続される。The (j-1) th (left) modulation signal is input to the first input terminal (76b) of the two-input OR circuit 7601, and the second input terminal (76c) of the two-input OR circuit 76 is further input. ), The (j + 1) th (right) modulated signal is input. Also, like the two-input OR circuit 7601 for the modulation signal wirings at both ends to which signals such as the signals X1 and X480 are input, the first or second of the two-input OR circuit 7601 having no modulation signal on the left or right side thereof. The input terminal is connected to GND. This two-input OR circuit 760
The output of the first output terminal is input to the control terminal of the switch 3901. When the control terminal of the switch 3901 is at the high level, the switch 3901 is set to the contact 3901a.
Connected to When it is at the low level, it is connected to the contact 3901b.
【0248】このような構成により、j番目の変調信号
配線に変調信号が印加されると、スイッチ3902は接
点3902aを選択し、電流源72の出力が変調信号配
線に対して出力され、j番目の変調信号配線を駆動する
ことになる。また、その右側(j+1)或は左側(j−
1)の変調信号配線のいずれかに変調信号が出力されて
いると、スイッチ3901がスイッチ3901aを選択
しているので、j番目の変調信号が立ち下がり、スイッ
チ3902が接点3902bを選択し、そのj番目の変
調信号配線の電位はVasまでしか低下しないことにな
る。また、隣接する配線の変調信号(電位)が両方ともロ
ーレベルのときのみ、スイッチ3901は接点3901
bを選択し、j番目の変調信号がローレベルになればj
番目の変調信号配線の電位を基準電位であるGND電位
とする。With such a configuration, when a modulation signal is applied to the j-th modulation signal wiring, switch 3902 selects contact 3902a, the output of current source 72 is output to the modulation signal wiring, and the j-th modulation signal wiring is output. Will be driven. In addition, the right side (j + 1) or the left side (j−
When a modulation signal is output to any of the modulation signal wirings of 1), the switch 3901 has selected the switch 3901a, so the j-th modulation signal falls, and the switch 3902 selects the contact 3902b. The potential of the j-th modulation signal wiring drops only to Vas. The switch 3901 is set to the contact 3901 only when both of the modulation signals (potentials) of the adjacent wirings are at the low level.
b is selected, and if the j-th modulation signal becomes low level, j
The potential of the third modulation signal wiring is set to the GND potential which is the reference potential.
【0249】[実施の形態8]図40は本実施の形態8
で用いる列配線駆動回路の構成を示す図であり、図36
の変調ドライバ10007内の点線で囲まれた1ブロッ
ク内の回路に相当するものである。同等のものには図3
6と同じ符号を付与している。[Eighth Embodiment] FIG. 40 shows the eighth embodiment.
36 is a diagram showing a configuration of a column wiring driving circuit used in FIG.
Of the modulation driver 10007 of FIG. Figure 3 shows the equivalent
The same reference numerals as in FIG.
【0250】図40において、70601は4入力OR
回路であり、他の構成は前述の実施の形態7と同じなの
で説明を省略する。ここでも説明の都合上、j番目の変
調信号線の駆動の場合で説明する。当然、他の変調信号
線の駆動についても同様に考えればよい。In FIG. 40, 70601 is a 4-input OR
This is a circuit, and the other configuration is the same as that of the above-described seventh embodiment, and the description is omitted. Here, for convenience of description, the case of driving the j-th modulation signal line will be described. Of course, the same applies to the driving of other modulation signal lines.
【0251】変調信号発生部10006の出力は、輝度
信号の値に応じたパルス幅に変調されたパルス幅変調信
号(XDPi)で、この変調信号は入力端子71に入力
される。この変調信号はスイッチ3902の制御端子に
入力されており、スイッチ3902を制御している。変
調信号のレベルがハイレベルの時は、スイッチ3902
は接点3902aを選択し、電流源72の出力が変調信
号配線に駆動電流が供給される。この駆動電流は、冷陰
極素子が十分に電子放出する電流に決定されている。例
えば図33において、素子電圧が16[V]の時の素子
電流Ifの値に決定すれば良い。The output of modulation signal generating section 10006 is a pulse width modulation signal (XDPi) modulated to a pulse width corresponding to the value of the luminance signal. This modulation signal is input to input terminal 71. This modulation signal is input to the control terminal of the switch 3902, and controls the switch 3902. When the level of the modulation signal is high, the switch 3902
Selects the contact 3902a, and the output of the current source 72 supplies a drive current to the modulation signal wiring. The drive current is determined as a current that the cold cathode device emits electrons sufficiently. For example, in FIG. 33, the value of the element current If when the element voltage is 16 [V] may be determined.
【0252】また4入力OR回路70601の第1入力
端子(706b)には、(j−2)番目(左側の2つ
目)の変調信号が加えられ、4入力OR回路70601
の第2入力端子(706c)には(j−1)番目(左
隣)の変調信号が加えられる。また4入力OR回路70
601の第3入力端子(706d)には(j+1)番目
(右隣)の変調信号が加えられ、更に4入力OR回路7
0601の第4入力端子(706e)には(j+2)番
目(右の2つ目)の変調信号が加えられている。The (j-2) th (second left) modulation signal is applied to the first input terminal (706b) of the 4-input OR circuit 70601, and the 4-input OR circuit 70601
The (j-1) th (left adjacent) modulated signal is applied to the second input terminal (706c). Also, a 4-input OR circuit 70
The (j + 1) -th (right-side) modulation signal is applied to the third input terminal (706d) of the 601 and the 4-input OR circuit 7
The (j + 2) th (second right) modulation signal is applied to the fourth input terminal (706e) of 0601.
【0253】この場合も前述と同様に、両端の変調信号
配線に対する4入力OR回路70601の第1及び第2
入力端子、或は第4及び第5入力端子はロウレベルに接
続され、端から2番目の変調信号配線に対する4入力O
R回路70601の第1入力端子、或は第5入力端子も
ロウレベルに接続される。この4入力OR回路7060
1の出力はスイッチ3901の制御端子に入力されてい
る。そしてスイッチ3901の制御入力端子がハイレベ
ルのときはスイッチ3901は接点3901aと接続さ
れ、ローレベルのときは接点3901bと接続される。In this case as well, the first and second inputs of the four-input OR circuit 70601 to the modulation signal lines
The input terminal or the fourth and fifth input terminals are connected to a low level, and the four input terminals O to the second modulation signal wiring from the end are connected.
The first input terminal or the fifth input terminal of the R circuit 70601 is also connected to the low level. This 4-input OR circuit 7060
The output of 1 is input to the control terminal of the switch 3901. When the control input terminal of switch 3901 is at a high level, switch 3901 is connected to contact 3901a, and when the control input terminal of switch 3901 is at a low level, it is connected to contact 3901b.
【0254】このようにして本実施の形態8によれば、
左右に隣接した変調信号配線に加えて、一つ飛ばして近
接している変調信号配線における変調信号の立ち下がり
によるクロストークの影響を除去できる。この詳しい説
明は、前述の実施の形態7と同じであるので省略する。As described above, according to the eighth embodiment,
In addition to the modulation signal wiring adjacent to the left and right, it is possible to eliminate the influence of crosstalk due to the fall of the modulation signal in the modulation signal wiring adjacent to the modulation signal wiring. The detailed description is the same as that of the above-described seventh embodiment, and thus will be omitted.
【0255】当然、4入力OR回路70601の入力数
を増やし、例えば二つ飛ばして近接している変調信号配
線における変調信号の立ち下がりによるクロストークの
発生を防止するようにしてもよい。Naturally, the number of inputs of the four-input OR circuit 70601 may be increased to prevent the occurrence of crosstalk due to the fall of the modulation signal in the adjacent modulation signal wiring, for example, by skipping two.
【0256】以上説明したように本実施の形態8によれ
ば、近接及び一つ飛ばした変調信号線との配線間容量に
よるクロストークの発生を防止できる。As described above, according to the eighth embodiment, it is possible to prevent the occurrence of crosstalk due to the capacitance between the adjacent modulation signal lines and the skipped modulation signal line.
【0257】[実施の形態9]図41は、本実施の形態
9で用いる列配線駆動回路の構成を示す図であり、図3
7の変調ドライバ10007内の点線で囲まれた1ブロ
ック内の回路に相当するものである。同等のものには図
37と同じ符号を付与している。[Ninth Embodiment] FIG. 41 is a diagram showing a configuration of a column wiring driving circuit used in the ninth embodiment.
7 corresponds to a circuit in one block surrounded by a dotted line in the modulation driver 10007. Equivalent components are given the same reference numerals as in FIG.
【0258】図41において、71601は3入力OR
回路であり、他の構成は実施の形態7と同じである。
尚、この実施の形態9においても、説明の都合上、j番
目の変調信号線の駆動の場合で説明する。当然、他の変
調信号線の駆動についても同様に考えればよい。In FIG. 41, 71601 is a 3-input OR
This is a circuit, and the other configuration is the same as that of the seventh embodiment.
In the ninth embodiment, the driving of the j-th modulation signal line will be described for convenience of explanation. Of course, the same applies to the driving of other modulation signal lines.
【0259】3入力OR回路71601の第1入力端子
(716b)には、(j−1)番目(左隣)の変調信号
が加えられ、3入力OR回路71601の第2入力端子
(716d)には(j+1)番目(右隣)の変調信号が
加えられている。また前述と同様に、両端の変調信号配
線に対する3入力OR回路71601では、対応する隣
接する変調信号が存在しない3入力OR回路71601
の入力端子はロウレベルに接続されている。更に、この
実施の形態9では、3入力OR回路71601の第3入
力端子(716d)が共通に接続されており、信号PP
REが入力されている。この信号PPREによる動作は
実施の形態6と同じである。The (j-1) th (left adjacent) modulation signal is applied to the first input terminal (716b) of the three-input OR circuit 71601, and is applied to the second input terminal (716d) of the three-input OR circuit 71601. Is the (j + 1) -th (right adjacent) modulation signal added. As described above, in the three-input OR circuit 71601 for the modulation signal wirings at both ends, the three-input OR circuit 71601 in which the corresponding adjacent modulation signal does not exist
Are connected to a low level. Further, in the ninth embodiment, the third input terminal (716d) of the three-input OR circuit 71601 is commonly connected, and the signal PP
RE has been input. The operation based on this signal PPRE is the same as in the sixth embodiment.
【0260】以上述べてきた各実子の形態は様々に組み
合わせて用いる事ができる。[0260] The forms of each seed described above can be used in various combinations.
【0261】以上実施の形態を挙げて説明してきたよう
に、本願に関わる発明によれば、好適な画像表示を実現
する事ができる。As described above with reference to the embodiments, according to the present invention, a suitable image display can be realized.
【0262】[0262]
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、品
質の良い画像を表示できるという効果がある。As described above, according to the present invention, there is an effect that a high quality image can be displayed.
【図1】本発明の参考例1の画像表示装置の回路構成を
示すブロック図である。FIG. 1 is a block diagram illustrating a circuit configuration of an image display device according to a first embodiment of the present invention.
【図2】本発明の課題を説明するための図である。FIG. 2 is a diagram for explaining a problem of the present invention.
【図3】図1の回路による作用を説明するための図であ
る。FIG. 3 is a diagram for explaining the operation of the circuit of FIG. 1;
【図4】本発明の参考例1及び実施の形態1の画像表示
装置の動作タイミングを説明する図である。FIG. 4 is a diagram illustrating operation timings of the image display devices according to the first embodiment and the first embodiment of the present invention.
【図5】本発明の実施の形態1の画像表示装置の回路構
成を示すブロック図である。FIG. 5 is a block diagram illustrating a circuit configuration of the image display device according to the first embodiment of the present invention.
【図6】図5の回路による効果を説明するための図であ
る。FIG. 6 is a diagram for explaining an effect of the circuit of FIG. 5;
【図7】本発明の実施の形態の画像表示装置の表示パネ
ルの一部を切り欠いて示した斜視図である。FIG. 7 is a partially cutaway perspective view of a display panel of the image display device according to the embodiment of the present invention.
【図8】本実施の形態の表示パネルのフェースプレート
の蛍光体配列を例示した平面図である。FIG. 8 is a plan view illustrating a phosphor array of a face plate of the display panel of the present embodiment.
【図9】本実施の形態で用いた平面型の表面伝導型放出
素子の平面図(A),断面図(B)である。FIGS. 9A and 9B are a plan view and a cross-sectional view, respectively, of the planar surface conduction electron-emitting device used in the present embodiment.
【図10】平面型の表面伝導型放出素子の製造工程を示
す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of the planar surface conduction electron-emitting device.
【図11】通電フォーミング処理の際の印加電圧波形を
示す図である。FIG. 11 is a diagram showing an applied voltage waveform during energization forming processing.
【図12】通電活性化処理の際の印加電圧波形(a),
放電電流Ieの変化(b)を示す図である。FIG. 12 shows an applied voltage waveform (a) during energization activation processing,
It is a figure showing change (b) of discharge current Ie.
【図13】本実施の形態で用いた垂直型の表面伝導型放
出素子の断面図である。FIG. 13 is a sectional view of a vertical surface conduction electron-emitting device used in the present embodiment.
【図14】垂直型の表面伝導型放出素子の製造工程を示
す断面図である。FIG. 14 is a cross-sectional view illustrating a manufacturing process of a vertical surface conduction electron-emitting device.
【図15】本実施の形態の表面伝導型放出素子の典型的
な特性を示すグラフである。FIG. 15 is a graph showing typical characteristics of the surface conduction electron-emitting device of the present embodiment.
【図16】本実施の形態で用いたマルチ電子源の基板の
平面図である。FIG. 16 is a plan view of a substrate of the multi-electron source used in the present embodiment.
【図17】図8のA−A’の断面図である。FIG. 17 is a sectional view taken along the line A-A ′ in FIG. 8;
【図18】本発明の実施の形態の画像表示装置を用いた
多機能画像表示装置のブロック図である。FIG. 18 is a block diagram of a multi-function image display device using the image display device according to the embodiment of the present invention.
【図19】従来知られた表面伝導型放出素子の一例を示
す図である。FIG. 19 is a diagram showing an example of a conventionally known surface conduction electron-emitting device.
【図20】従来知られたFE型電子放出素子の一例を示
す図である。FIG. 20 is a diagram showing an example of a conventionally known FE-type electron-emitting device.
【図21】従来知られたMIM型電子放出素子の一例を
示す図である。FIG. 21 is a view showing an example of a conventionally known MIM type electron-emitting device.
【図22】電子放出素子の配線方法を説明する図であ
る。FIG. 22 is a diagram illustrating a wiring method of the electron-emitting device.
【図23】本発明の実施の形態2で用いた列配線駆動回
路の回路構成を示す図である。FIG. 23 is a diagram showing a circuit configuration of a column line driving circuit used in Embodiment 2 of the present invention.
【図24】図23の回路における信号波形と制御信号の
タイミング図である。24 is a timing chart of signal waveforms and control signals in the circuit of FIG.
【図25】本発明の実施の形態3に係る列配線駆動回路
の構成を示す図である。FIG. 25 is a diagram showing a configuration of a column line driving circuit according to a third embodiment of the present invention.
【図26】6本の列配線におけるクロストークの発生例
を説明する図である。FIG. 26 is a diagram illustrating an example of occurrence of crosstalk in six column wirings.
【図27】本発明の実施の形態に係る表示駆動方法の概
念を説明する図である。FIG. 27 is a diagram illustrating the concept of the display driving method according to the embodiment of the present invention.
【図28】図27の回路の動作概要を説明する駆動波形
図である。FIG. 28 is a drive waveform chart for explaining an operation outline of the circuit of FIG. 27;
【図29】本発明の実施の形態4に係る画像表示装置の
駆動回路の構成を示すブロック図である。FIG. 29 is a block diagram showing a configuration of a drive circuit of an image display device according to Embodiment 4 of the present invention.
【図30】図29の回路の動作を説明するタイミング図
である。FIG. 30 is a timing chart illustrating the operation of the circuit in FIG. 29;
【図31】本実施の形態に係る変調信号発生部の構成を
説明する回路図である。FIG. 31 is a circuit diagram illustrating a configuration of a modulation signal generation unit according to the present embodiment.
【図32】本実施の形態に係る変調信号発生部の動作を
説明する波形図である。FIG. 32 is a waveform diagram illustrating an operation of the modulation signal generation unit according to the present embodiment.
【図33】本実施の形態で使用する冷陰極素子の特性を
説明するグラフ図である。FIG. 33 is a graph illustrating characteristics of the cold cathode element used in the present embodiment.
【図34】本発明の実施の形態4に係る変調信号ドライ
バの構成を示すブロック図である。FIG. 34 is a block diagram showing a configuration of a modulation signal driver according to Embodiment 4 of the present invention.
【図35】実施の形態4に係る変調信号の波形例を示す
図である。FIG. 35 is a diagram illustrating a waveform example of a modulation signal according to the fourth embodiment.
【図36】本発明の実施の形態5に係る変調信号ドライ
バの構成を示すブロック図である。FIG. 36 is a block diagram showing a configuration of a modulation signal driver according to Embodiment 5 of the present invention.
【図37】本発明の実施の形態6に係る変調信号ドライ
バの構成を示すブロック図である。FIG. 37 is a block diagram showing a configuration of a modulation signal driver according to Embodiment 6 of the present invention.
【図38】実施の形態6に係る変調信号の波形例を示す
図である。FIG. 38 is a diagram illustrating a waveform example of a modulation signal according to the sixth embodiment.
【図39】本発明の実施形態7に係る列配線駆動回路の
構成を示すブロック図である。FIG. 39 is a block diagram illustrating a configuration of a column line driving circuit according to a seventh embodiment of the present invention.
【図40】本発明の実施形態8に係る列配線駆動回路の
構成を示すブロック図である。FIG. 40 is a block diagram showing a configuration of a column wiring driving circuit according to Embodiment 8 of the present invention.
【図41】本発明の実施形態9に係る列配線駆動回路の
構成を示すブロック図である。FIG. 41 is a block diagram showing a configuration of a column wiring driving circuit according to Embodiment 9 of the present invention.
Claims (3)
ミングの異なる信号を印加して駆動する画像表示方法で
あって、 前記信号の立下りを複数のステップに分けて行うことを
特徴とする画像表示方法。1. An image display method for driving by applying signals having different falling timings to a plurality of display elements, wherein the falling of the signals is performed in a plurality of steps. Display method.
ミングの異なる信号を印加して駆動する画像表示方法で
あって、 表示状態の所定のレベルから非表示状態の所定のレベル
まで前記信号を立ち下げるときに、前記表示状態の所定
のレベルから非表示状態の所定のレベルまでの間で信号
の立下げ回路の動作状態を変更することを特徴とする画
像表示方法。2. An image display method for driving by applying signals having different falling timings to each of a plurality of display elements, wherein the signals rise from a predetermined level in a display state to a predetermined level in a non-display state. An image display method, comprising: changing an operation state of a signal fall circuit between a predetermined level in the display state and a predetermined level in a non-display state when lowering.
ミングの異なる信号を印加して駆動する画像表示方法で
あって、 前記信号のレベルを表示状態の所定のレベルから非表示
状態の所定のレベルまで近づけるための電荷経路を複数
用い、前記信号を立ち下げるときに、前記表示状態の所
定のレベルから非表示状態の所定のレベルまでの間で前
記複数の電荷経路の動作状態を変更することを特徴とす
る画像表示方法。3. An image display method for driving by applying signals having different falling timings to each of a plurality of display elements, wherein the signal level is changed from a predetermined level in a display state to a predetermined level in a non-display state. Using a plurality of charge paths for approaching and changing the operation state of the plurality of charge paths from a predetermined level in the display state to a predetermined level in the non-display state when the signal falls. Characteristic image display method.
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