JP2000310717A - Transferring element - Google Patents

Transferring element

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JP2000310717A
JP2000310717A JP11119223A JP11922399A JP2000310717A JP 2000310717 A JP2000310717 A JP 2000310717A JP 11119223 A JP11119223 A JP 11119223A JP 11922399 A JP11922399 A JP 11922399A JP 2000310717 A JP2000310717 A JP 2000310717A
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Japan
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layer
film
liquid crystal
cholesteric liquid
adhesive
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JP11119223A
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Japanese (ja)
Inventor
Ryo Nishimura
涼 西村
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Original Assignee
Nippon Mitsubishi Oil Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To easily transfer to a material to be transferred without lowering the characteristics of an optical element by constituting transferring element with at least a supporting substrate/protective layer/diffraction element layer and/adhesive layer 1/cholesteric liquid crystal layer/adhesive layer 2. SOLUTION: The element for transferring is constituted of at least a supporting substrate/protective layer diffraction element layer/adhesive layer 1/cholesteric liquid crystal layer/adhesive layer 2. As the supporting substrate, a plastic film, sheet or the like formed from a chain-type or alicyclic polyester such as a norbornene resin is cited. As the protective layer, the protective layer having ultraviolet absorbability and/or hard coatability can be used without specific restriction, and, as the diffraction element layer, a diffraction element layer having diffraction effect can be used without restriction. As the adhesive layers 1 and 2, conventionally known various reactive adhesives capable of being cured by heat, light or electron-beam or the like can be suitably used without specific restriction. As the cholesteric liquid crystal layer a cholesteric liquid crystal film, sheet or the like can be used without specific restriction.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、偏光性を有する回
折光を生じることができる新規光学素子から構成された
転写用素子に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a transfer element composed of a novel optical element capable of generating diffracted light having a polarization property.

【0002】[0002]

【従来の技術】回折素子は、分光光学などの分野で光の
分光や光束の分割を行う目的で広く用いられている汎用
光学素子である。回折素子は、その形状からいくつかの
種類に分類され、光が透過する部分と透過しない部分を
周期的に配置した振幅型回折素子、透過性の高い材料に
周期的な溝を形成した位相型回折素子などに通常分類さ
れる。また、回折光の生じる方向に応じて透過型回折素
子、反射型回折素子と分類される場合もある。
2. Description of the Related Art A diffractive element is a general-purpose optical element that is widely used in the field of spectral optics and the like for the purpose of splitting light and splitting a light beam. Diffraction elements are classified into several types based on their shape.Amplitude type diffraction elements, in which light-transmitting and non-light-transmitting parts are periodically arranged, are phase-type, in which periodic grooves are formed in a highly transparent material. It is usually classified as a diffraction element. Further, they may be classified as a transmission type diffraction element or a reflection type diffraction element according to the direction in which diffracted light is generated.

【0003】上記の如き従来の回折素子では、自然光
(非偏光)を入射した際に得られる回折光は非偏光しか
得ることができない。分光光学などの分野で頻繁に用い
られるエリプソメーターのような偏光光学機器では、回
折光として非偏光しか得ることができないため、光源よ
り発した自然光を回折素子により分光し、さらにこれに
含まれる特定の偏光成分だけを利用するために、回折光
を偏光子を通して用いる方法が一般的に行われている。
この方法では、得られた回折光のうちの約50%以上が
偏光子に吸収されるために光量が半減するという問題が
あった。またそのために感度の高い検出器や光量の大き
な光源を用意する必要もあり、回折光自体が円偏光や直
線偏光のような特定の偏光となる回折素子の開発が求め
られていた。
In the above-described conventional diffraction element, only non-polarized light can be obtained as diffracted light obtained when natural light (non-polarized light) is incident. Polarizing optical instruments such as ellipsometers, which are frequently used in the field of spectroscopy, can only obtain non-polarized light as diffracted light. In general, a method of using diffracted light through a polarizer in order to use only the polarized light component is used.
In this method, there is a problem that about 50% or more of the obtained diffracted light is absorbed by the polarizer, so that the amount of light is reduced by half. For that purpose, it is necessary to prepare a detector having a high sensitivity and a light source having a large amount of light, and the development of a diffraction element in which the diffracted light itself becomes a specific polarized light such as a circularly polarized light or a linearly polarized light has been required.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記課題を
解決するものであり、回折素子層およびコレステリック
液晶層からなる光学素子が偏光回折素子として機能する
ことを見出すと共に、該光学素子を被転写物に対して容
易に転写することができる転写用素子を発明するに至っ
た。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and it has been found that an optical element comprising a diffraction element layer and a cholesteric liquid crystal layer functions as a polarization diffraction element. The inventors have invented a transfer element capable of easily transferring a transferred material.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、支持
基板/保護層/回折素子層/接着剤層1/コレステリッ
ク液晶層/接着剤層2から少なくとも構成された転写用
素子に関する。
That is, the present invention relates to a transfer element comprising at least a support substrate / protective layer / diffraction element layer / adhesive layer 1 / cholesteric liquid crystal layer / adhesive layer 2.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】以下、本発明を具体的に説明す
る。本発明の光学積層体は、支持基板/保護層/回折素
子層/接着剤層1/コレステリック液晶層/接着剤層2
から少なくとも構成されるものである。ここで支持基板
/保護層/回折素子層/接着剤層1/コレステリック液
晶層/接着剤層2とは、支持基板、保護層、回折素子
層、接着剤層1、コレステリック液晶層、接着剤層2の
順に積層された構成を意味する。なお支持基板と保護層
との間、保護層と回折素子層との間には、それぞれ中間
層を有することもでき、例えば接着剤、剥離層等を中間
層として用いることができる。以下、順に本発明の構成
要素について説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be specifically described below. The optical laminate of the present invention comprises a support substrate / protective layer / diffraction element layer / adhesive layer 1 / cholesteric liquid crystal layer / adhesive layer 2
At least. Here, the support substrate / protective layer / diffraction element layer / adhesive layer 1 / cholesteric liquid crystal layer / adhesive layer 2 means the support substrate, the protective layer, the diffraction element layer, the adhesive layer 1, the cholesteric liquid crystal layer, and the adhesive layer. 2 means a stacked configuration. An intermediate layer may be provided between the support substrate and the protective layer, and between the protective layer and the diffraction element layer. For example, an adhesive, a release layer, or the like may be used as the intermediate layer. Hereinafter, components of the present invention will be described in order.

【0007】本発明の構成要素である支持基板とは、回
折素子層の支持体として機能するものであり、回折素子
層とコレステリック液晶層からなる光学素子が被転写物
に転写された後、支持基板は剥離除去される。このよう
な機能を有する支持基板としては、例えばポリイミド、
ポリアミドイミド、ポリアミド、ポリエーテルイミド、
ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、ポ
リケトンサルファイド、ポリエーテルスルフォン、ポリ
スルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニ
レンオキサイド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブ
チレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポ
リアセタール、ポリカーボネート、ポリアリレート、ア
クリル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリビニ
ルアルコール、セルロース系プラスチックスや、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリ(4−メチル−1−ペン
テン)、ノルボルネン系樹脂などの鎖式または脂環式ポ
リオレフィン等から形成されたプラスチックフィルムや
シート等が挙げられる。また支持基板としては、後述す
るコレステリック液晶性フィルム形成の際に用いること
ができる各種配向支持基板をそのまま支持基板として利
用することもできる。
[0007] The support substrate, which is a component of the present invention, functions as a support for the diffraction element layer. After the optical element composed of the diffraction element layer and the cholesteric liquid crystal layer is transferred to the transfer object, the support substrate is supported. The substrate is peeled off. As a supporting substrate having such a function, for example, polyimide,
Polyamide imide, polyamide, polyether imide,
Polyether ether ketone, polyether ketone, polyketone sulfide, polyether sulfone, polysulfone, polyphenylene sulfide, polyphenylene oxide, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyacetal, polycarbonate, polyarylate, acrylic resin, epoxy resin, phenol Examples include resins, polyvinyl alcohol, cellulose-based plastics, and plastic films and sheets formed from a chain or alicyclic polyolefin such as polyethylene, polypropylene, poly (4-methyl-1-pentene), norbornene-based resin, and the like. Can be As the support substrate, various alignment support substrates that can be used in forming a cholesteric liquid crystal film described later can be used as they are.

【0008】また支持基板としては、プラスチックフィ
ルムやシートの表面にシリコン処理等の表面処理、また
アクリル樹脂、メタクリル樹脂、エポキシ樹脂あるいは
パラフィン系のワックスをコーティングしたもの等も支
持基板として使用することができる。さらには支持基板
となるプラスチックフィルムやシートに対して、エンボ
ス加工等の物理的変形処理、親水化処理、疎水化処理等
を行ったものも本発明の構成要素である支持基板として
使用することができる。
As the supporting substrate, a plastic film or sheet having a surface treated with silicon or the like, or an acrylic resin, a methacrylic resin, an epoxy resin, or a paraffin-based wax may be used as the supporting substrate. it can. Further, a plastic film or sheet serving as a support substrate that has been subjected to physical deformation treatment such as embossing, hydrophilic treatment, hydrophobic treatment, or the like may be used as a support substrate which is a component of the present invention. it can.

【0009】支持基板の膜厚は、通常8〜200μm、
好ましくは15〜150μm、さらに好ましくは20〜
100μmである。8μmより薄い場合、得られる転写
用素子のハンドリング性を悪化させる恐れがある。また
200μmより厚い場合には、剥離転写操作がスムーズ
に行えない可能性がある。なお支持基板は、被転写物に
回折素子層とコレステリック液晶層とからなる光学素子
が転写された際には除去されるものであり、その剥離界
面は通常、支持基板と保護層との界面間である。
The thickness of the supporting substrate is usually 8 to 200 μm,
Preferably from 15 to 150 μm, more preferably from 20 to
100 μm. If the thickness is less than 8 μm, the handling properties of the obtained transfer element may be deteriorated. If the thickness is larger than 200 μm, the peeling transfer operation may not be performed smoothly. The support substrate is removed when the optical element composed of the diffraction element layer and the cholesteric liquid crystal layer is transferred to the object to be transferred, and the peeling interface is usually between the interface between the support substrate and the protective layer. It is.

【0010】本発明の構成要素である保護層とは、回折
素子層とコレステリック液晶層とからなる光学素子が被
転写物に転写された後、回折素子層を保護する目的のも
のである。保護層としては、紫外線吸収性および/また
はハードコート性を有するものであれば特に限定される
ものではない。例えば紫外線吸収剤およびハードコート
剤を含有した保護層形成材料をフィルム状物、シート状
物、薄膜状物、板状物に形成したものが挙げられる。ま
た紫外線吸収剤を含有した保護層形成材料からなる紫外
線吸収性を有した保護層(以下、紫外線吸収層)と、ハ
ードコート剤を含有した保護層形成材料からなるハード
コート性を有した保護層(以下、ハードコート層)との
積層物を本発明でいう保護層として用いることもでき
る。また一般に市販されている紫外線カットフィルムと
ハードコートフィルムとの積層物を保護層として用いる
ことができる。また紫外線吸収層に各種ハードコート剤
を塗布して成膜した積層物も保護層として用いることが
できる。ここで紫外線吸収層およびハードコート層は、
それぞれ2層以上から形成されてもよく、各層はそれぞ
れ接着剤層等を介して積層することができる。
The protective layer, which is a component of the present invention, has a purpose of protecting the diffraction element layer after the optical element composed of the diffraction element layer and the cholesteric liquid crystal layer has been transferred to an object to be transferred. The protective layer is not particularly limited as long as it has an ultraviolet absorbing property and / or a hard coat property. For example, a material in which a protective layer-forming material containing an ultraviolet absorber and a hard coat agent is formed into a film, a sheet, a thin film, or a plate. Further, a protective layer having an ultraviolet absorbing property made of a protective layer forming material containing an ultraviolet absorbent (hereinafter, referred to as an ultraviolet absorbing layer) and a protective layer having a hard coating property made of a protective layer forming material containing a hard coat agent (Hereinafter, a hard coat layer) may be used as the protective layer in the present invention. In addition, a laminate of a commercially available ultraviolet cut film and a hard coat film can be used as the protective layer. A laminate formed by applying various hard coat agents to the ultraviolet absorbing layer to form a film can also be used as the protective layer. Here, the ultraviolet absorbing layer and the hard coat layer
Each layer may be formed from two or more layers, and each layer can be laminated via an adhesive layer or the like.

【0011】紫外線吸収剤としては、保護層形成材料に
相溶または分散できるものであれば特に制限はなく、例
えばベンゾフェノン系化合物、サルシレート系化合物、
ベンゾトリアゾール系化合物、シュウ酸アニリド系化合
物、シアノアクリレート系化合物等の有機系紫外線吸収
剤、酸化セシウム、酸化チタン、酸化亜鉛等の無機系紫
外線吸収剤を用いることができる。なかでも紫外線吸収
効率が高いベンゾフェノン系化合物が好適に用いられ
る。また紫外線吸収剤は、1種単独または複数種添加す
ることができる。保護層中の紫外線吸収剤の配合割合
は、使用する保護層形成材料により異なるが、通常0.
1〜20重量%、好ましくは0.5〜10重量%であ
る。
The ultraviolet absorber is not particularly limited as long as it is compatible or dispersible in the protective layer forming material. For example, a benzophenone compound, a salicylate compound,
Organic ultraviolet absorbers such as benzotriazole-based compounds, oxalic anilide-based compounds, and cyanoacrylate-based compounds, and inorganic ultraviolet absorbers such as cesium oxide, titanium oxide, and zinc oxide can be used. Among them, a benzophenone-based compound having high ultraviolet absorption efficiency is preferably used. In addition, one or more ultraviolet absorbers can be added. The blending ratio of the ultraviolet absorber in the protective layer varies depending on the material for forming the protective layer to be used.
It is 1 to 20% by weight, preferably 0.5 to 10% by weight.

【0012】またハードコート剤としては、保護層形成
材料に相溶または分散できるものであれば特に制限はな
く、例えばオルガノポリシロキサン系、光硬化型樹脂系
のアクリルオリゴマー系、ウレタンアクリレート系、エ
ポキシアクリレート系、ポリエステルアクリレート系、
熱硬化型樹脂系のアクリル−シリコン系、またはセラミ
ックス等の無機系化合物等を用いることができる。なか
でも成膜性等の観点からオルガノポリシロキサン系、光
硬化型樹脂系であるアクリルオリゴマー系のハードコー
ト剤が好適に用いられる。なおこれらのハードコート剤
は、無溶媒型、溶媒型のいずれであっても使用すること
ができる。
The hard coat agent is not particularly limited as long as it is compatible or dispersible in the protective layer forming material. For example, organopolysiloxane type, photocurable resin type acrylic oligomer type, urethane acrylate type, epoxy Acrylate, polyester acrylate,
An acrylic-silicon-based thermosetting resin-based or inorganic compound such as ceramics can be used. Above all, an organopolysiloxane-based or photo-curable resin-based acrylic oligomer-based hard coat agent is preferably used from the viewpoint of film-forming properties and the like. These hard coat agents can be used either in a solventless type or a solvent type.

【0013】保護層形成材料には、紫外線吸収剤および
ハードコート剤の他に必要に応じてヒンダードアミンや
消光剤等の光安定剤、帯電防止剤、スベリ性改良剤、染
料、顔料、界面活性剤、微細なシリカやジルコニア等の
充填剤等の各種添加剤を配合することもできる。これら
各種添加剤の配合割合は、本発明の効果を損なわない範
囲であれば特に制限はないが、通常0.01〜10重量
%、好ましくは0.05〜5重量%である。
The material for forming the protective layer includes, in addition to an ultraviolet absorber and a hard coat agent, if necessary, a light stabilizer such as a hindered amine or a quencher, an antistatic agent, a slipperiness improver, a dye, a pigment, a surfactant. Various additives such as fillers such as fine silica and zirconia can also be blended. The mixing ratio of these various additives is not particularly limited as long as the effects of the present invention are not impaired, but is usually 0.01 to 10% by weight, preferably 0.05 to 5% by weight.

【0014】また保護層を構成する紫外線吸収層は、先
に説明した保護層形成材料に紫外線吸収剤、必要に応じ
て光安定剤等を適宜配合したものを用いて形成すること
ができる。さらに一般に市販されている紫外線カットフ
ィルム等を紫外線吸収層として本発明に用いることもで
きる。
Further, the ultraviolet absorbing layer constituting the protective layer can be formed using a material obtained by appropriately blending an ultraviolet absorbing agent and, if necessary, a light stabilizer and the like into the protective layer forming material described above. Further, a commercially available ultraviolet cut film or the like can be used as the ultraviolet absorbing layer in the present invention.

【0015】また保護層を構成するハードコート層は、
先に説明した保護層形成材料にハードコート剤、場合に
より各種添加剤を配合したものを用いて形成することが
できる。またハードコート層としては、上記ハードコー
ト剤を透明な支持フィルム上に塗布して形成したもので
あってもよい。透明な支持フィルムとしては、ポリメチ
ルメタクリレート、ポリスチレン、ポリカーボネート、
ポリエーテルスルフォン、ポリフェニレンサルファイ
ド、アモルファスポリオレフィン、トリアセチルセルロ
ース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフ
タレート等から形成されるフィルムを挙げることができ
る。
The hard coat layer constituting the protective layer is
The protective layer can be formed by using a material in which a hard coat agent and various additives are added to the protective layer forming material described above. The hard coat layer may be formed by applying the above hard coat agent on a transparent support film. As a transparent support film, polymethyl methacrylate, polystyrene, polycarbonate,
Examples include films formed from polyether sulfone, polyphenylene sulfide, amorphous polyolefin, triacetyl cellulose, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, and the like.

【0016】紫外線吸収層とハードコート層とは接着剤
等を介して積層し、本発明でいう保護層とすることがで
きる。接着剤としては、後述する熱、光または電子線硬
化型の反応性接着剤等を用いることができる。また接着
剤として紫外線吸収剤を含有したものを用い、別に用意
したハードコート層をコレステリック液晶層に積層する
ことにより保護層を形成することもできる。また接着剤
には必要に応じて染料、顔料、界面活性剤等を適宜添加
してもよい。
The ultraviolet absorbing layer and the hard coat layer are laminated via an adhesive or the like, and can be used as the protective layer in the present invention. As the adhesive, a heat, light or electron beam-curable reactive adhesive described later can be used. The protective layer can also be formed by using an adhesive containing an ultraviolet absorbent and laminating a separately prepared hard coat layer on the cholesteric liquid crystal layer. Further, a dye, a pigment, a surfactant and the like may be appropriately added to the adhesive as needed.

【0017】さらにハードコート層としては、グラビア
インキ用ビヒクル樹脂等も好適に用いることができる。
グラビアインキ用ビヒクル樹脂としては、例えばニトロ
セルロース、エチルセルロース、ポリアミド樹脂、塩化
ビニル、塩素化ポリオレフィン、アクリル樹脂、ポリウ
レタン、ポリエステル等が挙げられる。またグラビアイ
ンキ用ビヒクル樹脂中に接着性向上や皮膜強度向上の為
に、例えばエステルガム、ダンマルガム、マレイン酸樹
脂、アルキッド樹脂、フェノール樹脂、ケトン樹脂、キ
シレン樹脂、テルペン樹脂、石油樹脂等のハードレジン
を配合してもよい。
Further, as the hard coat layer, a vehicle resin for gravure ink or the like can be suitably used.
Examples of the gravure ink vehicle resin include nitrocellulose, ethylcellulose, polyamide resin, vinyl chloride, chlorinated polyolefin, acrylic resin, polyurethane, and polyester. In addition, hard resins such as ester gum, dammar gum, maleic resin, alkyd resin, phenol resin, ketone resin, xylene resin, terpene resin, petroleum resin, etc. are used in the gravure ink vehicle resin in order to improve adhesion and film strength. May be blended.

【0018】またハードコート層の構成は、要求される
耐候性等に応じてハードコート層1層または複合層にす
ることができる。複合層としては、例えばオルガノポリ
シロキサンを含むハードコート層、光硬化型樹脂を含む
ハードコート層、熱硬化型樹脂を含むハードコート層、
無機化合物を含むハードコート層等、それぞれを組み合
わせて2層以上からなる複合層をハードコート層として
用いることもできる。
The structure of the hard coat layer can be a single hard coat layer or a composite layer according to the required weather resistance and the like. As the composite layer, for example, a hard coat layer containing an organopolysiloxane, a hard coat layer containing a photocurable resin, a hard coat layer containing a thermosetting resin,
A composite layer composed of two or more layers, such as a hard coat layer containing an inorganic compound, may be used as the hard coat layer.

【0019】さらにハードコート性の度合い、すなわち
硬度としては本発明の転写用素子を構成する材質により
一概に決定できないが、JIS L 0849記載の試
験法に準じて評価を行った場合、変色の判定基準として
少なくとも3以上、好ましくは4以上であることが望ま
しい。
Further, the degree of the hard coat property, that is, the hardness, cannot be unconditionally determined by the material constituting the transfer element of the present invention. However, when the evaluation is performed according to the test method described in JIS L0849, the determination of discoloration is made. It is desirable that the standard is at least 3 or more, preferably 4 or more.

【0020】本発明の構成要素である保護層、また保護
層を構成する紫外線吸収層およびハードコート層の成膜
法は、通常ロールコート法、ディッピング法、グラビア
コート法、バーコード法、スピンコート法、スプレーコ
ート法、プリント法等の公知の方法を採用することがで
きる。これら方法によりコレステリック液晶層上、また
は支持フィルム上に成膜した後、使用した保護層形成材
料に応じた後処理を施すことにより保護層を形成するこ
とができる。また紫外線吸収層とハードコート層との複
合層からなる保護層の形成方法としては、例えば紫外線
吸収層に直接ハードコート剤を塗布形成する方法、接着
剤等を介して積層する方法等が挙げられる。
The protective layer, which is a component of the present invention, and the ultraviolet absorbing layer and the hard coat layer constituting the protective layer are generally formed by a roll coating method, a dipping method, a gravure coating method, a bar code method, a spin coating method, or the like. Known methods such as a method, a spray coating method, and a printing method can be employed. After forming a film on the cholesteric liquid crystal layer or the support film by these methods, the protective layer can be formed by performing post-processing according to the protective layer forming material used. Examples of a method for forming a protective layer composed of a composite layer of an ultraviolet absorbing layer and a hard coat layer include, for example, a method in which a hard coating agent is applied directly to the ultraviolet absorbing layer, a method in which the ultraviolet absorbing layer is laminated via an adhesive, and the like. .

【0021】保護層の膜厚は、紫外線吸収性およびハー
ドコート性のそれぞれが求められる性能に応じて異なる
ため一概には言えないが、通常0.1〜100μm、好
ましくは1〜50μmである。また保護層が紫外線吸収
層およびハードコート層との複合層から形成される場合
も、各層の全膜厚が上記範囲に入ることが望ましい。
The thickness of the protective layer cannot be specified unconditionally because it differs depending on the performance required for the ultraviolet absorbing property and the hard coating property, but it is usually 0.1 to 100 μm, preferably 1 to 50 μm. Also, when the protective layer is formed of a composite layer with an ultraviolet absorbing layer and a hard coat layer, the total thickness of each layer is preferably within the above range.

【0022】本発明の構成要素である回折素子層として
は、層に透過率、厚み、屈折率の差等を設けることで回
折効果を持たせたものであれば特に限定されるものでは
ない。例えば表面に凹凸を設けたレリーフホログラムや
内部に屈折率差を設けた体積位相ホログラム等を好適に
用いることができる。また一般に市販されている例えば
Edmund Scientific社製Commer
cial Grade刻線式回折格子、透過型回折格子
フィルム、JOBIN YVON社製Ruled Gr
ating等などを用いることもできる。
The diffractive element layer which is a component of the present invention is not particularly limited as long as it has a diffraction effect by providing a difference in transmittance, thickness, refractive index and the like. For example, a relief hologram having unevenness on the surface or a volume phase hologram having a refractive index difference inside can be suitably used. In addition, for example, a commercially available Commer manufactured by Edmund Scientific Inc.
Cial Grade ruled line diffraction grating, transmission type diffraction grating film, Ruled Gr manufactured by JOBIN YVON
Ating and the like can also be used.

【0023】レリーフホログラムを形成する材料として
は、例えば塩化ビニル、ポリエステル、アクリル系樹
脂、セルロース系樹脂等の熱可塑性樹脂や、アクリル系
等の光硬化性樹脂などが挙げられる。またレリーフホロ
グラムには、回折像の見映えを良くするために、アルミ
ニウムの薄膜を蒸着等で設ける場合がある。このような
レリーフホログラムも回折素子層として用いることがで
きる。
Examples of the material for forming the relief hologram include thermoplastic resins such as vinyl chloride, polyester, acrylic resin and cellulose resin, and photo-curable resins such as acrylic. The relief hologram may be provided with a thin aluminum film by vapor deposition or the like in order to improve the appearance of the diffraction image. Such a relief hologram can also be used as a diffraction element layer.

【0024】体積位相ホログラムを形成する材料も特に
限定されるものではなく、例えば銀塩フィルム、重クロ
ム酸ゼラチン、感光性樹脂等を材料として用いることが
できる。
The material for forming the volume phase hologram is not particularly limited. For example, a silver salt film, gelatin dichromate, a photosensitive resin and the like can be used.

【0025】回折素子層の厚さは、通常0.3〜20μ
m、好ましくは0.5〜10μm、さらに好ましくは
0.7〜3μmである。この範囲を外れた場合、回折素
子層と後述するコレステリック液晶層とからなる積層体
における特異な光学特性効果を有効に発現できない恐れ
がある。
The thickness of the diffraction element layer is usually 0.3 to 20 μm.
m, preferably 0.5 to 10 μm, more preferably 0.7 to 3 μm. When the ratio is out of this range, there is a possibility that a unique optical characteristic effect in a laminate including a diffraction element layer and a cholesteric liquid crystal layer described later cannot be effectively exhibited.

【0026】本発明の構成要素である接着剤層1として
は、特に限定されるものではなく、従来公知の様々な
熱、光または電子線硬化型の反応性接着剤等を適宜用い
ることができる。中でも光または電子線硬化型の反応性
接着剤が好ましく用いられる。反応性接着剤としては、
光または電子線重合性を有するプレポリマーおよび/ま
たはモノマーに必要に応じて他の単官能、多官能性モノ
マー、各種ポリマー、安定剤、光重合開始剤、増感剤等
を配合して用いることができる。
The adhesive layer 1, which is a component of the present invention, is not particularly limited, and various kinds of conventionally known heat, light or electron beam curing type reactive adhesives can be used as appropriate. . Among them, a light or electron beam curing type reactive adhesive is preferably used. As a reactive adhesive,
Prepolymers and / or monomers having photo- or electron beam polymerizability, if necessary, blended with other monofunctional or polyfunctional monomers, various polymers, stabilizers, photopolymerization initiators, sensitizers, etc. Can be.

【0027】光または電子線重合性を有するプレポリマ
ーとしては、具体的にはポリエステルアクリレート、ポ
リエステルメタクリレート、ポリウレタンアクリレー
ト、ポリウレタンメタクリレート、エポキシアクリレー
ト、エポキシメタクリレート、ポリオールアクリレー
ト、ポリオールメタクリレート等を例示することができ
る。また光または電子線重合性を有するモノマーとして
は、単官能アクリレート、単官能メタクリレート、2官
能アクリレート、2官能メタクリレート、3官能以上の
多官能アクリレート、多官能メタクリレート等が例示で
きる。またこれらは市販品を用いることもでき、例えば
アロニックス(アクリル系特殊モノマー、オリゴマー;
東亞合成(株)製)、ライトエステル(共栄社化学
(株)製)、ビスコート(大阪有機化学工業(株)製)
等も本発明に用いることができる。
Specific examples of the prepolymer having photo- or electron-beam polymerizability include polyester acrylate, polyester methacrylate, polyurethane acrylate, polyurethane methacrylate, epoxy acrylate, epoxy methacrylate, polyol acrylate, polyol methacrylate and the like. . Examples of the monomer having photo- or electron beam polymerizability include monofunctional acrylate, monofunctional methacrylate, difunctional acrylate, difunctional methacrylate, trifunctional or higher polyfunctional acrylate, and polyfunctional methacrylate. These can also use a commercial item, for example, Aronix (acrylic special monomer, oligomer;
Toagosei Co., Ltd.), Light Ester (Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), Biscoat (Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.)
Etc. can also be used in the present invention.

【0028】また光重合開始剤としては、例えばベンゾ
フェノン誘導体類、アセトフェノン誘導体類、ベンゾイ
ン誘導体類、チオキサントン類、ミヒラーケトン、ベン
ジル誘導体類、トリアジン誘導体類、アシルホスフィン
オキシド類、アゾ化合物等を用いることができる。
As the photopolymerization initiator, for example, benzophenone derivatives, acetophenone derivatives, benzoin derivatives, thioxanthones, Michler's ketone, benzyl derivatives, triazine derivatives, acylphosphine oxides, azo compounds and the like can be used. .

【0029】本発明に用いることができる光または電子
線硬化型の反応性接着剤の粘度は、接着剤の加工温度等
により適宜選択するものであり一概にはいえないが、通
常25℃で10〜2000mPa・s、好ましくは50
〜1000mPa・s、さらに好ましくは100〜50
0mPa・sである。粘度が10mPa・sより低い場
合、所望の厚さが得られ難くなる。また2000mPa
・sより高い場合には、作業性が低下する恐れがあり望
ましくない。粘度が上記範囲から外れている場合には、
適宜、溶剤やモノマー割合を調整し所望の粘度にするこ
とが好ましい。
The viscosity of the light- or electron-beam-curable reactive adhesive that can be used in the present invention is appropriately selected depending on the processing temperature of the adhesive and cannot be unconditionally determined. ~ 2000 mPa · s, preferably 50
10001000 mPa · s, more preferably 100 to 50
0 mPa · s. When the viscosity is lower than 10 mPa · s, it is difficult to obtain a desired thickness. 2000mPa
-If it is higher than s, workability may decrease, which is not desirable. If the viscosity is out of the above range,
It is preferable to adjust the solvent and the proportion of the monomer appropriately to obtain a desired viscosity.

【0030】また光硬化型の反応性接着剤を用いた場
合、その接着剤の硬化方法としては公知の硬化手段、例
えば低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハ
ライドランプ、キセノンランプ等を使用することができ
る。また露光量は、用いる反応性接着剤の種類により異
なるため一概にはいえないが、通常50〜2000mJ
/cm2、好ましくは100〜1000mJ/cm2であ
る。
When a photo-curing reactive adhesive is used, a known curing method such as a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like is used as a method for curing the adhesive. be able to. Although the exposure amount cannot be determined unconditionally because it differs depending on the type of the reactive adhesive used, it is usually 50 to 2000 mJ.
/ Cm 2 , preferably 100 to 1000 mJ / cm 2 .

【0031】また電子線硬化型の反応性接着剤を用いた
場合、その接着剤の硬化方法としては、電子線の透過力
や硬化力により適宜選定されるものであり一概にはいえ
ないが、通常、加速電圧が50〜1000kV、好まし
くは100〜500kVの条件で照射して硬化すること
ができる。
When an electron beam-curable reactive adhesive is used, the method of curing the adhesive is appropriately selected depending on the penetrating power and the curing power of the electron beam, and cannot be determined unconditionally. Usually, curing can be carried out by irradiating under an acceleration voltage of 50 to 1000 kV, preferably 100 to 500 kV.

【0032】接着剤層1の厚さは、用いられる用途やそ
の作業性等により異なるため一概にはいえないが、通常
0.5〜50μm、好ましくは1〜10μmである。ま
た接着剤層1の形成方法としては、後述する本発明の転
写用素子の製造方法により異なるが、例えばロールコー
ト法、ダイコート法、バーコート法、カーテンコート
法、エクストルージョンコート法、グラビアロールコー
ト法、スプレーコート法、スピンコート法等の公知の方
法を用いてコレステリック液晶層または回折素子層上等
に形成することができる。
Although the thickness of the adhesive layer 1 cannot be unconditionally determined because it varies depending on the intended use and its workability, it is usually 0.5 to 50 μm, preferably 1 to 10 μm. The method for forming the adhesive layer 1 varies depending on the method for manufacturing the transfer element of the present invention described later. For example, a roll coating method, a die coating method, a bar coating method, a curtain coating method, an extrusion coating method, a gravure roll coating method It can be formed on a cholesteric liquid crystal layer or a diffractive element layer using a known method such as a spray coating method, a spin coating method, or the like.

【0033】本発明の構成要素であるコレステリック液
晶層とは、コレステリック配向が固定化された例えばコ
レステリック液晶フィルム、シート、板状物であれば特
に制限されるものではない。またコレステリック液晶フ
ィルムは、高分子液晶、低分子液晶またはこれら混合物
等を主成分とするフィルム材料から形成することができ
る。
The cholesteric liquid crystal layer as a component of the present invention is not particularly limited as long as it is a cholesteric liquid crystal film, sheet, or plate having a fixed cholesteric orientation. Further, the cholesteric liquid crystal film can be formed from a film material mainly composed of a polymer liquid crystal, a low molecular liquid crystal, or a mixture thereof.

【0034】高分子液晶としては、コレステリック配向
が固定化できるものであれば特に制限はなく、主鎖型、
側鎖型高分子液晶等いずれでも使用することができる。
具体的にはポリエステル、ポリアミド、ポリカーボネー
ト、ポリエステルイミドなどの主鎖型液晶ポリマー、あ
るいはポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリマ
ロネート、ポリシロキサンなどの側鎖型液晶ポリマーな
どが挙げられる。なかでもコレステリック配向を形成す
る上で配向性が良く、合成も比較的容易である液晶性ポ
リエステルが望ましい。ポリマーの構成単位としては、
例えば芳香族あるいは脂肪族ジオール単位、芳香族ある
いは脂肪族ジカルボン酸単位、芳香族あるいは脂肪族ヒ
ドロキシカルボン酸単位を好適な例として挙げられる。
The polymer liquid crystal is not particularly limited as long as the cholesteric alignment can be fixed.
Any of a side chain type polymer liquid crystal and the like can be used.
Specific examples include main-chain liquid crystal polymers such as polyester, polyamide, polycarbonate, and polyesterimide, and side-chain liquid crystal polymers such as polyacrylate, polymethacrylate, polymalonate, and polysiloxane. Among them, a liquid crystalline polyester which has good orientation in forming cholesteric orientation and is relatively easy to synthesize is desirable. As the structural unit of the polymer,
For example, aromatic or aliphatic diol units, aromatic or aliphatic dicarboxylic acid units, and aromatic or aliphatic hydroxycarboxylic acid units are preferred examples.

【0035】また低分子液晶としては、例えばアクリロ
イル基、ビニル基やエポキシ基等の官能基を導入したビ
フェニル誘導体、フェニルベンゾエート誘導体、スチル
ベン誘導体などを基本骨格としたものが挙げられる。ま
た低分子液晶としては、ライオトロピック性、サーモト
ロピック性のどちらも用いることができるが、サーモト
ロピック性を示すものが作業性、プロセス等の観点から
より好適である。
Examples of the low-molecular liquid crystal include those having a basic skeleton of a biphenyl derivative, a phenylbenzoate derivative, a stilbene derivative or the like into which a functional group such as an acryloyl group, a vinyl group or an epoxy group is introduced. As the low-molecular liquid crystal, both lyotropic properties and thermotropic properties can be used, but those exhibiting thermotropic properties are more preferable from the viewpoint of workability, process and the like.

【0036】コレステリック配向を固定化する方法は公
知の方法、例えば高分子液晶をフィルム材料として用い
る場合には、配向基板上に高分子液晶を配した後、熱処
理等によってコレステリック液晶相を発現させ、その状
態から急冷してコレステリック配向を固定化する方法を
用いることができる。また低分子液晶をフィルム材料と
して用いる場合には、配向基板上に低分子液晶を配した
後、熱処理等によってコレステリック液晶相を発現さ
せ、その状態を維持したまま光、熱または電子線等によ
り架橋させてコレステリック配向を固定化する方法等を
適宜採用することができる。配向基板としては、コレス
テリック配向阻害になるものでなければ特に限定され
ず、例えばガラス基板またはプラスチックフィルム、プ
ラスチックシート等のプラスチック基板を例示すること
ができる。ガラス基板としては、ソーダガラス、シリカ
コートソーダガラス、ホウケイ酸ガラス基板等を例示と
して挙げることができる。またプラスチック基板として
は、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリカ
ーボネート、ポリエーテルスルフォン、ポリフェニレン
サルファイド、アモルファスポリオレフィン、トリアセ
チルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレンナフタレート基板等を例示することができる。こ
れらの配向基板には必要に応じて一軸または二軸延伸操
作を適宜加えることもできる。さらに配向基板として、
本発明の構成要素である回折素子層を配向基板として用
いることもできる。
A method for fixing the cholesteric alignment is a known method. For example, when a polymer liquid crystal is used as a film material, after a polymer liquid crystal is disposed on an alignment substrate, a cholesteric liquid crystal phase is developed by heat treatment or the like. A method of fixing the cholesteric orientation by quenching from that state can be used. When a low-molecular liquid crystal is used as a film material, after the low-molecular liquid crystal is disposed on the alignment substrate, a cholesteric liquid crystal phase is developed by heat treatment or the like, and cross-linked by light, heat or an electron beam while maintaining that state. Then, a method of fixing the cholesteric orientation and the like can be appropriately adopted. The alignment substrate is not particularly limited as long as it does not hinder cholesteric alignment, and examples thereof include a glass substrate or a plastic substrate such as a plastic film or a plastic sheet. Examples of the glass substrate include soda glass, silica-coated soda glass, and borosilicate glass substrate. Examples of the plastic substrate include polymethyl methacrylate, polystyrene, polycarbonate, polyether sulfone, polyphenylene sulfide, amorphous polyolefin, triacetyl cellulose, polyethylene terephthalate, and polyethylene naphthalate substrates. A uniaxial or biaxial stretching operation can be appropriately applied to these oriented substrates as needed. Furthermore, as an alignment substrate,
The diffraction element layer which is a component of the present invention can be used as an alignment substrate.

【0037】またコレステリック液晶層の耐熱性等を向
上させるために、フィルム材料に高分子液晶や低分子液
晶の他に、例えばビスアジド化合物やグリシジルメタク
リレート等の架橋剤を添加することもでき、これら架橋
剤を添加することによりコレステリック相を発現させた
状態で架橋させることもできる。さらにフィルム材料に
は、二色性色素、染料、顔料等の各種添加剤を適宜添加
することもできる。
In order to improve the heat resistance and the like of the cholesteric liquid crystal layer, a crosslinking agent such as a bisazide compound or glycidyl methacrylate may be added to the film material in addition to the polymer liquid crystal and the low molecular liquid crystal. Crosslinking can be performed in a state where a cholesteric phase is developed by adding an agent. Further, various additives such as dichroic dyes, dyes, and pigments can be appropriately added to the film material.

【0038】本発明の構成要素であるコレステリック液
晶層の構成は、通常、コレステリック配向が固定化され
たコレステリック液晶フィルム1層からなる。また用途
や要求される光学特性に応じてコレステリック液晶フィ
ルムを複数層積層してなる構成であってもよい。
The structure of the cholesteric liquid crystal layer, which is a component of the present invention, usually comprises one layer of a cholesteric liquid crystal film in which cholesteric orientation is fixed. Further, a configuration in which a plurality of cholesteric liquid crystal films are laminated according to the application and required optical characteristics may be employed.

【0039】コレステリック液晶層の厚さは、通常0.
3〜20μm、好ましくは0.5〜10μm、さらに好
ましくは0.7〜3μmである。この範囲を外れた場
合、回折素子層とコレステリック液晶層との積層体にお
ける特異な光学特性効果を発現できない恐れがある。な
お複数層のコレステリック液晶フィルムから構成される
場合には、その全フィルムの膜厚の合計が上記範囲に入
ることが望ましい。
The thickness of the cholesteric liquid crystal layer is usually 0.1.
It is 3 to 20 μm, preferably 0.5 to 10 μm, and more preferably 0.7 to 3 μm. If it is out of this range, there is a possibility that a unique optical characteristic effect in the laminate of the diffraction element layer and the cholesteric liquid crystal layer may not be exhibited. When the cholesteric liquid crystal film is composed of a plurality of layers, the total thickness of all the films is preferably in the above range.

【0040】本発明の構成要素である接着剤層2は、被
転写物とコレステリック液晶層との間の接着を目的とし
て形成されるものである。接着剤層2としては、特に限
定されるものではなく、従来公知の様々な粘・接着剤、
具体的にはホットメルト型接着剤、また本発明の構成要
素である接着剤層1で説明した光または電子線硬化型の
反応性接着剤等を適宜用いることができる。なかでも転
写時の作業性の観点からホットメルト型接着剤が本発明
では好適に用いられる。
The adhesive layer 2, which is a component of the present invention, is formed for the purpose of bonding between the transferred object and the cholesteric liquid crystal layer. The adhesive layer 2 is not particularly limited, and various conventionally known adhesives and adhesives,
Specifically, a hot-melt adhesive, a light or electron beam-curable reactive adhesive described in the adhesive layer 1 as a component of the present invention, or the like can be appropriately used. Among them, a hot-melt adhesive is preferably used in the present invention from the viewpoint of workability during transfer.

【0041】ホットメルト型接着剤としては特に制限は
ないが、ホットメルトの作業温度が250℃以下、好ま
しくは80〜200℃、さらに好ましくは100〜16
0℃程度のものが作業性等の観点から望ましく用いられ
る。具体的には、例えばエチレン・酢酸ビニル共重合体
系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポ
リアミド系樹脂、熱可塑性ゴム系、ポリアクリル系樹
脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリビニルブチラー
ル等のポリビニルアセタール系樹脂、石油系樹脂、テル
ペン系樹脂、ロジン系樹脂等をベース樹脂とするホット
メルト接着剤を用いることができる。
The hot-melt type adhesive is not particularly limited, but the operating temperature of the hot-melt is 250 ° C. or lower, preferably 80 to 200 ° C., more preferably 100 to 16 ° C.
Those having a temperature of about 0 ° C. are desirably used from the viewpoint of workability and the like. Specifically, for example, polyvinyl acetal resins such as ethylene-vinyl acetate copolymer resins, polyester resins, polyurethane resins, polyamide resins, thermoplastic rubbers, polyacrylic resins, polyvinyl alcohol resins, and polyvinyl butyral A hot melt adhesive having a base resin of petroleum resin, terpene resin, rosin resin or the like can be used.

【0042】接着剤層2の厚さは、用いられる用途やそ
の作業性等により異なるため一概にはいえないが、通常
0.5〜50μm、好ましくは1〜10μmである。ま
た接着剤層2の形成方法としては、後述する本発明の転
写用素子の製造方法により異なるが、例えばロールコー
ト法、ダイコート法、バーコート法、カーテンコート
法、エクストルージョンコート法、グラビアロールコー
ト法、スプレーコート法、スピンコート法等の公知の方
法を用いてコレステリック液晶層上などに形成すること
ができる。
The thickness of the adhesive layer 2 varies depending on the intended use and its workability, and cannot be unconditionally determined, but is usually 0.5 to 50 μm, preferably 1 to 10 μm. The method for forming the adhesive layer 2 varies depending on the method for manufacturing the transfer element of the present invention described later. For example, a roll coating method, a die coating method, a bar coating method, a curtain coating method, an extrusion coating method, a gravure roll coating method It can be formed on a cholesteric liquid crystal layer using a known method such as a spray coating method, a spin coating method and the like.

【0043】本発明の転写用素子を構成する支持基板と
保護層との間、保護層と回折素子層との間には中間層を
有することもできる。中間層としては、例えば接着剤
層、離型層等を挙げることができる。
An intermediate layer may be provided between the support substrate and the protective layer constituting the transfer element of the present invention, and between the protective layer and the diffraction element layer. Examples of the intermediate layer include an adhesive layer and a release layer.

【0044】接着剤層としては、特に制限されるもので
はないが、例えば先に説明した光または電子線硬化型の
反応性接着剤を適宜用いることができる。また離型層と
しては、例えば熱により流動性を示すワックス、シリコ
ーン、フッ素系離型剤等から形成することができる。な
お本発明の転写用素子を構成する支持基板と保護層との
間には、接着剤層および離型層の2層を中間層として構
成することもできる。
The adhesive layer is not particularly limited, but, for example, the above-described light or electron beam-curable reactive adhesive can be appropriately used. The release layer can be formed of, for example, wax, silicone, a fluorine-based release agent, or the like, which exhibits fluidity by heat. In addition, between the support substrate and the protective layer that constitute the transfer element of the present invention, two layers, that is, an adhesive layer and a release layer may be used as an intermediate layer.

【0045】本発明の転写用素子の製造方法としては、
(1)支持基板上に順次本発明の構成となるように積層
する、(2)表面にあらかじめ接着剤層を形成した支持
基板に、別途作製した残りの積層体を、加圧、加熱、硬
化等の手段を単独または組み合わせて貼合する、(3)
支持基板に、別途作製した残りの積層体を剥離性基板上
に用意しておき、支持基板側へ加圧、加熱、硬化等の手
段を単独または組み合わせて転写して剥離性基板を取り
除く、といった方法等が挙げられる。
The method for producing the transfer element of the present invention includes:
(1) Laminate sequentially on a support substrate to have the configuration of the present invention. (2) Press, heat, and cure the remaining laminate separately manufactured on a support substrate having an adhesive layer formed on the surface in advance. (3)
On the supporting substrate, the remaining laminated body separately prepared is prepared on a peelable substrate, and the peeling substrate is removed by transferring the pressure, heating, curing, etc. to the supporting substrate side alone or in combination. Method and the like.

【0046】ここで剥離性基板とは、剥離性を有し、自
己支持性を具備する基板であれば特に限定されず、該基
板としては、通常剥離性を有するプラスチックフィルム
が望ましく用いられる。またここでいう剥離性とは、接
着剤を介しコレステリック液晶性フィルム層と剥離性基
板を接着した状態において、接着剤と剥離性基板との界
面で剥離できることを意味する。このような剥離性基板
としては、具体的にはポリエチレン、ポリプロピレン、
4−メチルペンテン−1樹脂等のオレフィン系樹脂、ポ
リアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテ
ルイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトン、
ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルフォ
ン、ポリケトンサルファイド、ポリスルフォン、ポリス
チレン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレン
オキサイド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレ
ンテレフタレート、ポリアリレート、ポリアセタール、
ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、セルロース
系プラスチック等が挙げられる。これらのプラスチック
フィルムはそれ自身を用いてもよいし、適度な剥離性を
持たせるためにこれらのプラスチックフィルム表面に、
シリコーンやフッ素樹脂をコートしたもの、有機薄膜ま
たは無機薄膜を形成したもの、化学的処理を施したも
の、蒸着や表面研磨等の物理的処理を施したものも用い
ることができる。
Here, the releasable substrate is not particularly limited as long as it is a substrate having releasability and self-supporting property, and a plastic film having releasability is preferably used as the substrate. The term “peelability” as used herein means that, in a state where the cholesteric liquid crystal film layer and the peelable substrate are bonded via the adhesive, the film can be peeled at the interface between the adhesive and the peelable substrate. As such a peelable substrate, specifically, polyethylene, polypropylene,
Olefinic resins such as 4-methylpentene-1 resin, polyamide, polyimide, polyamideimide, polyetherimide, polyetherimide, polyetherketone,
Polyether ether ketone, polyether sulfone, polyketone sulfide, polysulfone, polystyrene, polyphenylene sulfide, polyphenylene oxide, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyarylate, polyacetal,
Examples thereof include polycarbonate, polyvinyl alcohol, and cellulosic plastic. These plastic films may be used on their own, or on these plastic film surfaces,
Those coated with silicone or fluorine resin, those formed with an organic thin film or inorganic thin film, those subjected to a chemical treatment, and those subjected to a physical treatment such as vapor deposition or surface polishing can also be used.

【0047】またコレステリック液晶層を剥離性基板に
転写する際に用いられる接着剤としては、特に限定され
るものではないが、望ましくは上述にて説明した熱、光
または電子線硬化型の反応性接着剤等を適宜用いること
ができる。
The adhesive used for transferring the cholesteric liquid crystal layer to the peelable substrate is not particularly limited, but is preferably a heat, light or electron beam-curable reactive as described above. An adhesive or the like can be used as appropriate.

【0048】さらに上記製法例における剥離除去方法と
しては、例えば配向基板や剥離性基板のコーナー端部に
粘着テープを貼り付けて人為的に剥離する方法、ロール
等を用いて機械的に剥離する方法、構造材料全てに対す
る貧溶媒に浸積した後に機械的に剥離する方法、貧溶媒
中で超音波をあてて剥離する方法、配向基板または剥離
性基板とコレステリック液晶層との熱膨張係数の差を利
用し、温度変化を与えて剥離する方法等を適宜採用する
ことができる。なお上記製造方法は、あくまでも例示で
あり本発明の転写用素子はこれらに限定されるものでは
ない。
Further, examples of the peeling and removing method in the above manufacturing method include a method of applying an adhesive tape to a corner end of an oriented substrate or a peelable substrate and artificially peeling, and a method of mechanically peeling using a roll or the like. , A method of mechanically peeling after immersion in a poor solvent for all structural materials, a method of peeling by applying ultrasonic waves in a poor solvent, the difference in thermal expansion coefficient between the alignment substrate or the peelable substrate and the cholesteric liquid crystal layer For example, a method in which the film is peeled off by giving a change in temperature can be appropriately used. The above manufacturing method is merely an example, and the transfer element of the present invention is not limited thereto.

【0049】また本発明の転写用素子は、該素子を構成
する接着剤層の種類にもよるが、例えばポリイミド、ポ
リアミドイミド、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポ
リエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、ポリ
ケトンサルファイド、ポリエーテルスルフォン、ポリス
ルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレ
ンオキサイド、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリプ
ロピレン、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチ
レンナフタレート、ポリカーボネート、ポリビニルアル
コール、ポリアセタール、ポリアリレート、セルロース
系プラスチックス、エポキシ樹脂、フェノール樹脂等の
シート、フィルムあるいは各種成型品、または紙、合成
紙等の紙類、金属箔、ガラス等の様々な被転写物に対し
て支持基板から転写することができる。また本発明の構
成要素である接着剤としてホットメルト型接着剤を用い
た場合には、加熱、加圧、衝撃を瞬時に加えることがで
きるいわゆるホットスタンプ装置を用いた際には、転
写、剥離、除去の一連の操作が同時に、また瞬時に行う
ことが可能である。
The transfer element of the present invention depends on the type of the adhesive layer constituting the element, but may be, for example, polyimide, polyamide imide, polyamide, polyether imide, polyether ether ketone, polyether ketone, polyketone sulfide. , Polyether sulfone, polysulfone, polyphenylene sulfide, polyphenylene oxide, polyvinyl chloride, polystyrene, polypropylene, polymethyl methacrylate, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, polyvinyl alcohol, polyacetal, polyarylate, cellulose-based plastic Sheet, film or various molded products of paper, epoxy resin, phenolic resin, etc., paper such as paper and synthetic paper, metal It can be transferred from the supporting substrate for various transfer target such as glass. When a hot-melt type adhesive is used as an adhesive which is a component of the present invention, when a so-called hot stamping device capable of instantaneously applying heat, pressure and impact is used, transfer and peeling are performed. , A series of removal operations can be performed simultaneously and instantaneously.

【0050】本発明の転写用素子は、回折光が円偏光性
を有するという、従来の光学部材には無い特異な効果を
有するコレステリック液晶層および回折素子層からなる
光学素子を被転写物に転写することができ、また転写さ
れた該光学素子は新たな回折機能素子として応用範囲は
極めて広く、種々の光学用素子や光エレクトロニクス素
子、装飾用部材、偽造防止用素子等として使用すること
ができる。
The transfer element of the present invention transfers an optical element composed of a cholesteric liquid crystal layer and a diffractive element layer, which has a unique effect that a diffracted light has a circular polarization property, which is not possible with a conventional optical member, to an object to be transferred. The transferred optical element has a very wide application range as a new diffraction function element, and can be used as various optical elements, optoelectronic elements, decorative members, forgery prevention elements, and the like. .

【0051】具体的に光学用素子や光エレクトロニクス
素子としては、例えば支持基板として透明かつ等方なフ
ィルム、例えばフジタック(富士写真フィルム(株)
製)、コニカタック(コニカ(株)製)などのトリアセ
チルセルロースフィルム、TPXフィルム(三井化学
(株)製)、アートンフィルム(日本合成ゴム(株)
製)、ゼオネックスフィルム(日本ゼオン(株)製)、
アクリプレンフィルム(三菱レーヨン(株)製)等に本
発明の転写用素子を用いてコレステリック液晶層および
回折素子層からなる光学素子を転写し、光学積層体を得
ることによって様々な光学用途への展開を図ることが可
能である。例えば前記光学積層体をTN(twiste
d nematic)−LCD(Liquid Cry
stal Display)、STN(Super T
wisted Nematic)−LCD、ECB(E
lectrically Controlled Bi
refringence)−LCD、OMI(Opti
cal Mode Interference)−LC
D、OCB(Optically Compensat
ed Birefringence)−LCD、HAN
(Hybrid Aligned Nematic)−
LCD、IPS(In Plane Switchin
g)−LCD等の液晶ディスプレーに備えることによっ
て色補償および/または視野角改良された各種LCDを
得ることができる。また前記光学積層体を上記したよう
に分光された偏光を必要とする分光光学機器、回折現象
により特定の波長を得る偏光光学素子、光学フィルタ
ー、円偏光板、光拡散板等として用いることも可能であ
り、さらに1/4波長板と組み合わせることによって直
線偏光板を得ることもできる等、光学用素子や光エレク
トロニクス素子として従来にない光学効果を発現しうる
様々な光学部材を提供することができる。
Specifically, as an optical element or an optoelectronic element, for example, a transparent and isotropic film as a support substrate, for example, Fujitac (Fuji Photo Film Co., Ltd.)
Triacetylcellulose film such as Konica Catac (Konica Corporation), TPX film (Mitsui Chemicals Co., Ltd.), Arton film (Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.)
ZEONEX Film (Zeon Corporation),
An optical element comprising a cholesteric liquid crystal layer and a diffractive element layer is transferred to an acrylene film (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) using the transfer element of the present invention, and an optical laminate is obtained to obtain various optical applications. It is possible to develop. For example, the optical laminated body is formed by TN (twiste).
d nematic) -LCD (Liquid Cry)
Stall Display), STN (Super T)
wisted Nematic) -LCD, ECB (E
Electrically Controlled Bi
(refringence) -LCD, OMI (Opti)
cal Mode Interference) -LC
D, OCB (Optically Compensat
ed Birefringence)-LCD, HAN
(Hybrid Aligned Nematic)-
LCD, IPS (In Plane Switchin)
g) Various LCDs having improved color compensation and / or improved viewing angle can be obtained by providing the liquid crystal display such as an LCD. Further, the optical laminate can be used as a spectroscopic optical device that requires polarized light separated as described above, a polarizing optical element that obtains a specific wavelength by a diffraction phenomenon, an optical filter, a circularly polarizing plate, a light diffusing plate, and the like. In addition, it is possible to provide various optical members that can exhibit an optical effect that has not existed conventionally as an optical element or an optoelectronic element, such as obtaining a linear polarizing plate by combining with a quarter-wave plate. .

【0052】装飾用部材としては、回折能による虹色呈
色効果とコレステリック液晶による色鮮やかな呈色効果
等を併せ持った新たな部材として、さまざまな製品等に
コレステリック液晶層と回折素子層とからなる光学素子
を転写することができる。また容易に該光学素子を転写
することができることから既存製品等に添付する、一体
化する等の方法によって、他の類似製品との差別化にも
大きく貢献することが期待できる。例えば、意匠性のあ
る回折パターンを組み込んだコレステリック液晶層と回
折素子層とからなる光学素子をガラス窓等に転写する
と、外部からはその視角によって回折素子層に起因する
回折パターンを伴ったコレステリック液晶特有の選択反
射が異なった色に見え、ファッション性に優れるものと
なる。また明るい外部からは内部が見え難く、それにも
かかわらず内部からは外部の視認性がよい窓とすること
ができる。
As a decorative member, as a new member having both a rainbow color effect by diffractive power and a vivid color effect by cholesteric liquid crystal, various products and the like include a cholesteric liquid crystal layer and a diffraction element layer. Can be transferred. In addition, since the optical element can be easily transferred, it can be expected to greatly contribute to differentiation from other similar products by a method of attaching the optical element to an existing product or the like, or integrating it. For example, when an optical element consisting of a cholesteric liquid crystal layer incorporating a designable diffraction pattern and a diffraction element layer is transferred to a glass window or the like, a cholesteric liquid crystal with a diffraction pattern caused by the diffraction element layer is viewed from the outside by its viewing angle. The unique selective reflection looks different colors, and is excellent in fashionability. In addition, it is possible to provide a window in which the inside is hardly seen from the bright outside, and the outside is excellent in the interior from the inside.

【0053】偽造防止用素子としては、回折素子および
コレステリック液晶のそれぞれの偽造防止効果を併せ持
った新たな偽造防止フィルム、シール、ラベル等として
用いることができる。具体的には本発明の転写用素子を
用いて例えば自動車運転免許証、身分証明証、パスポー
ト、クレジットカード、プリペイドカード、各種金券、
ギフトカード、有価証券等のカード基板、台紙等にコレ
ステリック液晶層と回折素子層からなる光学素子を転写
することによって、該光学素子をカード基板、台紙等と
一体化するまたは一部に設ける、具体的には貼り付け
る、埋め込む、紙類に織り込むことができる。また本発
明の転写用素子を構成する光学素子は、回折素子層の視
角特性による偽造防止効果とコレステリック液晶層の波
長選択反射性、円偏光選択反射性、色の視角依存性およ
びコレステリックカラーの美しい色による偽造防止効果
とを併せ持ったものである。したがって本発明の転写用
素子を構成するコレステリック液晶層と回折素子層から
なる光学素子の偽造は非常に困難である。
The anti-counterfeit element can be used as a new anti-counterfeit film, seal, label or the like having both the anti-counterfeit effect of the diffraction element and the cholesteric liquid crystal. Specifically, using the transfer element of the present invention, for example, a car driver's license, identification card, passport, credit card, prepaid card, various cash vouchers,
By transferring an optical element comprising a cholesteric liquid crystal layer and a diffractive element layer onto a gift card, a card substrate of securities, a mount, or the like, the optical element is integrated with or partially provided on the card substrate, the mount, or the like. It can be pasted, embedded, or woven into paper. Further, the optical element constituting the transfer element of the present invention has an anti-counterfeiting effect due to the viewing angle characteristics of the diffraction element layer and the wavelength-selective reflectivity of the cholesteric liquid crystal layer, the circularly-polarized light selective reflectivity, the viewing angle dependency of color, and the beautiful cholesteric color. It also has the effect of preventing forgery by color. Therefore, it is very difficult to forge an optical element comprising the cholesteric liquid crystal layer and the diffractive element layer which constitute the transfer element of the present invention.

【0054】これらの用途はほんの一例であり、本発明
の転写用素子は、従来、回折素子単体、コレステリック
液晶性フィルム単体が使用されている各種用途や、新た
な光学的効果を発現することが可能であること等から前
記用途以外の様々な用途に、その特異な光学効果を発現
するコレステリック液晶層と回折素子層からなる光学素
子を容易に被転写物に転写することができることから、
様々な用途において応用展開が可能である。
These applications are only examples, and the transfer element of the present invention can be used in various applications where a single diffraction element or a single cholesteric liquid crystal film has been used, or can exhibit a new optical effect. Since it is possible to various applications other than the above-mentioned applications, it is possible to easily transfer an optical element comprising a cholesteric liquid crystal layer and a diffractive element layer expressing its unique optical effect to an object to be transferred.
Application development is possible in various applications.

【0055】[0055]

【実施例】以下に本発明を実施例によって具体的に説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0056】(参考例1:アクリロイル基を有する低分
子液晶の合成)蒸留精製したテトラヒドロフラン180
gに、4−(6−アクリロイロキシヘキシルオキシ)安
息香酸151.3g(518mmol)と2,6−ジタ
ーシャリブチル−4−メチルフェノール1.5gを溶解
したものに、ジイソプロピルエチルアミン70.1g
(543mmol)を加えた溶液を、メタンスルホニル
クロリド62.1g(543mmol)のテトラヒドロ
フラン溶液中を−10℃に冷却した中に攪拌しながら滴
下した。滴下終了後、該反応液を0℃まで昇温してさら
に攪拌した後、メチルヒドロキノン29.87g(24
6mmol)のテトラヒドロフラン溶液を滴下した。さ
らに反応液を攪拌し、4−ジメチルアミノピリジン3.
0g(25mmol)をトリエチルアミン62.4g
(617mmol)に溶解したものを滴下した。滴下
後、反応液を0℃で1時間攪拌後、室温に昇温して5時
間攪拌した。反応終了後、反応液を1000mlの酢酸
エチルで希釈し、分液ロートに移した後、1規定塩酸で
分液し、さらに有機層を1規定塩酸、飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液、飽和硫酸マグネシウム水溶液で洗浄し
た。有機層に100gの無水硫酸マグネシウムを加えて
室温で1時間攪拌することにより脱水・乾燥し、硫酸マ
グネシウムを濾別後、ロータリーエバポレーターにより
濃縮してメチルヒドロキノン−ビス(4−(6−アクリ
ロイロキシヘキシルオキシ)安息香酸)エステルを粗生
成物として得た。該粗生成物を酢酸エチル/メタノール
により再結晶することによりメチルヒドロキノン−ビス
(4−(6−アクリロイロキシヘキシルオキシ)安息香
酸)エステルを146.9gを白色結晶として得た(収
率85.2%)。化合物I−1のGPCによる純度は9
8.7%であった。GPCは溶出溶媒としてテトラヒド
ロフランを用い、高速GPC用充填カラム(TSKge
l G−1000HXL)を装着した東ソー製GPC分
析装置CCP&8000(CP−8000、CO−80
00、UV−8000)により行った。得られたメチル
ヒドロキノン−ビス(4−(6−アクリロイロキシヘキ
シルオキシ)安息香酸)エステルを偏光顕微鏡下メトラ
ーホットステージで観察すると、室温では結晶相、85
℃付近でネマチック相に転移し、さらに加熱すると11
5℃付近で等方相となった。
Reference Example 1: Synthesis of low-molecular liquid crystal having acryloyl group Distilled and purified tetrahydrofuran 180
g, 151.3 g (518 mmol) of 4- (6-acryloyloxyhexyloxy) benzoic acid and 1.5 g of 2,6-ditert-butyl-4-methylphenol were dissolved in 70.1 g of diisopropylethylamine.
(543 mmol) was added dropwise with stirring to a solution of 62.1 g (543 mmol) of methanesulfonyl chloride in tetrahydrofuran, which was cooled to -10 ° C. After completion of the dropwise addition, the reaction solution was heated to 0 ° C. and further stirred, and then 29.87 g of methylhydroquinone (24
(6 mmol) in tetrahydrofuran was added dropwise. The reaction solution was further stirred, and 4-dimethylaminopyridine was added.
0 g (25 mmol) of triethylamine 62.4 g
(617 mmol) was added dropwise. After the dropwise addition, the reaction solution was stirred at 0 ° C. for 1 hour, and then heated to room temperature and stirred for 5 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was diluted with 1000 ml of ethyl acetate, transferred to a separating funnel, and separated with 1N hydrochloric acid. The organic layer was further diluted with 1N hydrochloric acid, a saturated aqueous solution of sodium hydrogencarbonate, and a saturated aqueous solution of magnesium sulfate. Washed. 100 g of anhydrous magnesium sulfate was added to the organic layer, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour, dehydrated and dried. The magnesium sulfate was separated by filtration, and concentrated by a rotary evaporator to obtain methylhydroquinone-bis (4- (6-acryloyloxy). Hexyloxy) benzoic acid ester was obtained as a crude product. The crude product was recrystallized from ethyl acetate / methanol to obtain 146.9 g of methylhydroquinone-bis (4- (6-acryloyloxyhexyloxy) benzoic acid) ester as white crystals (yield 85. 2%). The purity of compound I-1 by GPC was 9
It was 8.7%. GPC uses tetrahydrofuran as an elution solvent, and is a packed column for high-speed GPC (TSKge).
l GPC analyzer CCP & 8000 (CP-8000, CO-80) manufactured by Tosoh equipped with G-1000HXL
00, UV-8000). Observation of the obtained methylhydroquinone-bis (4- (6-acryloyloxyhexyloxy) benzoic acid) ester on a METTLER hot stage under a polarizing microscope showed that at room temperature, the crystal phase was 85%.
The temperature changes to a nematic phase around ℃,
It became an isotropic phase around 5 ° C.

【0057】(参考例2)参考例1と同様の手法を用
い、4−(6−アクリロイロキシヘキシルオキシ)安息
香酸32.5g(111mmol)、4−シアノフェノ
ール12.6g(106mmol)から34.8gの4
−シアノフェノール−4−(6−アクリロイロキシヘキ
シルオキシ)安息香酸エステル(収率84%)を得た。
4−シアノフェノール−4−(6−アクリロイロキシヘ
キシルオキシ)安息香酸エステルのGPCによる純度は
99.3%であった。
Reference Example 2 Using the same method as in Reference Example 1, 34- (6-acryloyloxyhexyloxy) benzoic acid was obtained from 32.5 g (111 mmol) and 12.6 g (106 mmol) of 4-cyanophenol in 34 parts. .8 g of 4
-Cyanophenol-4- (6-acryloyloxyhexyloxy) benzoate (yield 84%) was obtained.
The purity of 4-cyanophenol-4- (6-acryloyloxyhexyloxy) benzoate by GPC was 99.3%.

【0058】(参考例3:高分子液晶の合成)テレフタ
ル酸49mmol、メチルヒドロキノン24mmol、
カテコール25mmol、(R)−2−メチル−1,4
−ブタンジオール1.7mmolおよび酢酸ナトリウム
100mgを用いて窒素雰囲気下で、180℃で1時
間、200℃で1時間、250℃で1時間と段階状に昇
温しながら重縮合を行った。ついで窒素を流しながら2
50℃で2時間重縮合を続け、さらに減圧下同温度で1
時間重縮合を行った。得られたポリマーをテトラクロロ
エタンに溶解後、メタノールで再沈澱を行い、精製ポリ
マー(芳香族系ポリエステル)を得た。得られたポリマ
ーの対数粘度は0.150、ガラス転移点は90℃であ
った。
Reference Example 3: Synthesis of polymer liquid crystal 49 mmol of terephthalic acid, 24 mmol of methylhydroquinone,
Catechol 25 mmol, (R) -2-methyl-1,4
Polycondensation was carried out using 1.7 mmol of butanediol and 100 mg of sodium acetate in a nitrogen atmosphere at 180 ° C. for 1 hour, 200 ° C. for 1 hour, and 250 ° C. for 1 hour in a stepwise manner. Then while flowing nitrogen 2
The polycondensation was continued at 50 ° C. for 2 hours,
Time polycondensation was performed. After dissolving the obtained polymer in tetrachloroethane, reprecipitation was performed with methanol to obtain a purified polymer (aromatic polyester). The logarithmic viscosity of the obtained polymer was 0.150, and the glass transition point was 90 ° C.

【0059】得られたポリマーの各分析法は次のとおり
である。 (1)ポリマーの対数粘度 ウベローデ型粘度計を用い、フェノール/テトラクロロ
エタン=60/40(重量比)溶媒中、濃度0.5g/
100ml,30℃で測定した。 (2)ガラス転移点(Tg) Du Pont 990 Thermal Analizer を使用して測定した。 (3)液晶相の同定 オリンパス光学(株)製BH2偏光顕微鏡を用いて観察
した。
The analytical methods of the obtained polymer are as follows. (1) Logarithmic viscosity of polymer Using a Ubbelohde viscometer, phenol / tetrachloroethane = 60/40 (weight ratio), a concentration of 0.5 g /
The measurement was performed at 100 ° C. and 30 ° C. (2) Glass transition point (Tg) Measured using a Du Pont 990 Thermal Analyzer. (3) Identification of Liquid Crystal Phase Observed using a BH2 polarizing microscope manufactured by Olympus Optical Co., Ltd.

【0060】(実施例1)参考例1で得たメチルヒドロ
キノン−ビス(4−(6−アクリロイロキシヘキシルオ
キシ)安息香酸)エステルを7.0g、参考例2で得ら
れた4−シアノフェノール−4−(6−アクリロイロキ
シヘキシルオキシ)安息香酸エステルを1.07g、キ
ラルドーパント液晶S−811(ロディック社製)1.
93g、フッ素系界面活性剤S−383(旭硝子(株)
製)を1.5mgおよび光重合開始剤であるイルガキュ
ア907(チバ−ガイギー社商品名)をアクリロイル基
結合化合物に対して3重量%を、N−メチル−2−ピロ
リドンの10重量%溶液を調製した。このN−メチル−
2−ピロリドン溶液をラビング処理した厚さ75μmの
ポリエチレンテレフタレートフィルム(東レ(株)製)
に、塗布し、溶媒を乾燥させ、80℃で熱処理して液晶
分子を配向させた後、室温下において紫外線を照射し
て、ポリエチレンテレフタレートフィルム上のフィルム
を得た。
Example 1 7.0 g of methylhydroquinone-bis (4- (6-acryloyloxyhexyloxy) benzoic acid) ester obtained in Reference Example 1 and 4-cyanophenol obtained in Reference Example 2 1.07 g of -4- (6-acryloyloxyhexyloxy) benzoic acid ester and chiral dopant liquid crystal S-811 (Rodick) 1.
93 g, fluorinated surfactant S-383 (Asahi Glass Co., Ltd.)
And irgacure 907 (trade name of Ciba-Geigy), which is a photopolymerization initiator, in an amount of 3% by weight based on the acryloyl group-binding compound, and a 10% by weight solution of N-methyl-2-pyrrolidone. did. This N-methyl-
Rubbing 2-pyrrolidone solution to a 75 μm thick polyethylene terephthalate film (manufactured by Toray Industries, Inc.)
Was applied, the solvent was dried, and heat treatment was performed at 80 ° C. to align the liquid crystal molecules. Then, the film was irradiated with ultraviolet rays at room temperature to obtain a film on a polyethylene terephthalate film.

【0061】得られたフィルムを分光器V−500(日
本分光社製)により透過スペクトルを評価したところ、
赤外線領域に近い780nm近辺に選択反射に由来する
透過光の低下領域が見られ、このフィルムが赤色光の選
択反射を示すコレステリック液晶性フィルムであること
が確認できた。
The transmission spectrum of the obtained film was evaluated using a spectroscope V-500 (manufactured by JASCO Corporation).
A reduced region of transmitted light due to selective reflection was observed around 780 nm near the infrared region, and it was confirmed that this film was a cholesteric liquid crystal film showing selective reflection of red light.

【0062】アクリル系フォトポリマーを用いて作製し
た厚み10μmの体積位相ホログラムからなる回折フィ
ルムに紫外線硬化型接着剤(東亞合成(株)製アロニッ
クスUV−3630(商品名))を介して、上記で得られ
たコレステリック液晶性フィルムを転写した(回折フィ
ルム/接着剤層/コレステリック液晶性フィルム/ポリ
エチレンテレフタレートフィルム)。
A diffractive film composed of a volume phase hologram having a thickness of 10 μm produced by using an acrylic photopolymer is irradiated with an ultraviolet-curable adhesive (Aronix UV-3630 (trade name) manufactured by Toagosei Co., Ltd.) as described above. The obtained cholesteric liquid crystalline film was transferred (diffraction film / adhesive layer / cholesteric liquid crystalline film / polyethylene terephthalate film).

【0063】次いで回折フィルム上に光硬化型のアクリ
ル系オリゴマーであるアロニックスM−240(東亞合
成(株)製商品名)20.0重量%、M−320(東亞
合成(株)製商品名)10.0重量%およびベンゾフェ
ノン系紫外線吸収剤(シプロ化成製シーソーブ106)
5重量%をそれぞれ添加した紫外線硬化型の接着剤(東
亞合成(株)製アロニックスUV−3630)を介して
ポリフェニレンサルファイドフィルムに転写し、コレス
テリック液晶性フィルムの配向基板として用いたポリエ
チレンテレフタレートフィルムを剥離除去した。
Next, 20.0% by weight of Aronix M-240 (trade name, manufactured by Toagosei Co., Ltd.), which is a photo-curable acrylic oligomer, and M-320 (trade name, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 10.0% by weight and a benzophenone-based ultraviolet absorber (Seepro 106 manufactured by Cipro Kasei)
5% by weight of each was transferred to a polyphenylene sulfide film via an ultraviolet-curable adhesive (Aronix UV-3630 manufactured by Toagosei Co., Ltd.), and the polyethylene terephthalate film used as an alignment substrate of the cholesteric liquid crystal film was peeled off. Removed.

【0064】ポリエチレンテレフタレートフィルムを除
去したコレステリック液晶性フィルムにホットメルト接
着剤層を形成し、転写用素子(ポリフェニレンサルファ
イドフィルム/接着剤からなる保護層/回折フィルム/
コレステリック液晶性フィルム/ホットメルト型接着剤
層)を得た。得られた転写用素子を、10cm角、厚さ
1mmのポリ塩化ビニル製のプラスチックシートの上
に、ホットスタンプ装置を用いて140℃で転写した。
A hot melt adhesive layer was formed on the cholesteric liquid crystal film from which the polyethylene terephthalate film had been removed, and a transfer element (polyphenylene sulfide film / protective layer made of adhesive / diffraction film /
(Cholesteric liquid crystalline film / hot melt type adhesive layer). The obtained transfer element was transferred onto a 10 cm square, 1 mm thick plastic sheet made of polyvinyl chloride at 140 ° C. using a hot stamping device.

【0065】その結果、ポリ塩化ビニルシートの右隅に
約1cm角の、保護層を有した回折フィルムとコレステ
リック液晶性フィルムとからなる光学素子を転写するこ
とができた。なお転写用素子の支持基板であるポリフェ
ニレンサルファイドフィルムは、ホットスタンプ時に回
折フィルムとの界面で剥離された。またホットメルト接
着剤層は、ポリ塩化ビニルシートと強固に接着されてい
た。転写後、保護層を有する回折フィルムとコレステリ
ック液晶性フィルムとからなる光学素子に光を当てる
と、鮮やかな選択反射光と回折光が観察された。
As a result, it was possible to transfer an approximately 1 cm square optical element comprising a diffraction film having a protective layer and a cholesteric liquid crystal film at the right corner of the polyvinyl chloride sheet. The polyphenylene sulfide film, which is a support substrate of the transfer element, was peeled off at the interface with the diffraction film during hot stamping. Further, the hot melt adhesive layer was firmly bonded to the polyvinyl chloride sheet. After the transfer, when light was applied to the optical element composed of the diffraction film having the protective layer and the cholesteric liquid crystal film, bright selective reflection light and diffraction light were observed.

【0066】(実施例2)ラビング処理した厚さ75μ
mのポリフェニレンサルファイドフィルム(東レ(株)
製)の上に、参考例3で得た芳香族系ポリエステルの2
0重量%N−メチル−2−ピロリドン溶液をスピンコー
ト法で塗布、乾燥し、200℃で5分間熱処理して、金
色の選択反射を呈するフィルムを得た。同フィルムの反
射光を測定したところ中心波長が約600nm、選択反
射波長帯域幅が100nmであるコレステリック液晶性
フィルムであることが確認された。
(Embodiment 2) Rubbed 75 μm thick
m polyphenylene sulfide film (Toray Industries, Inc.)
2) of the aromatic polyester obtained in Reference Example 3
A 0% by weight N-methyl-2-pyrrolidone solution was applied by a spin coating method, dried, and heat-treated at 200 ° C. for 5 minutes to obtain a film exhibiting a golden selective reflection. When the reflected light of the film was measured, it was confirmed that the film was a cholesteric liquid crystal film having a center wavelength of about 600 nm and a selective reflection wavelength bandwidth of 100 nm.

【0067】アクリル系フォトポリマーを用いて作製し
た厚み10μmの体積位相ホログラムからなる回折フィ
ルムに紫外線硬化型接着剤(東亞合成(株)製アロニッ
クスUV−3630(商品名))を介して、上記で得られ
たコレステリック液晶性フィルムを転写した(回折フィ
ルム/接着剤層/コレステリック液晶性フィルム/ポリ
フェニレンサルファイドフィルム)。
A 10 μm-thick volume phase hologram produced by using an acrylic photopolymer was diffracted by a UV-curable adhesive (Aronix UV-3630 (trade name) manufactured by Toagosei Co., Ltd.) through a UV-curable adhesive. The obtained cholesteric liquid crystalline film was transferred (diffraction film / adhesive layer / cholesteric liquid crystalline film / polyphenylene sulfide film).

【0068】次いで回折フィルム上に光硬化型のアクリ
ル系オリゴマーであるアロニックスM−240(東亞合
成(株)製商品名)20.0重量%およびM−320
(東亞合成(株)製商品名)10.0重量%をそれぞれ
添加した紫外線硬化型の接着剤(東亞合成(株)製アロ
ニックスUV−3630)を介してポリエチレンテレフ
タレートフィルムに転写し、コレステリック液晶性フィ
ルムの配向基板として用いたポリフェニレンサルファイ
ドフィルムを剥離除去した。
Next, 20.0% by weight of Aronix M-240 (trade name, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) and M-320, which are photo-curable acrylic oligomers, were placed on the diffraction film.
(Trade name, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) Transferred to a polyethylene terephthalate film via an ultraviolet-curable adhesive (Aronix UV-3630, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) to which 10.0% by weight was added, respectively, to obtain a cholesteric liquid crystal The polyphenylene sulfide film used as the film orientation substrate was peeled off.

【0069】ポリフェニレンサルファイドフィルムを除
去したコレステリック液晶性フィルムにホットメルト接
着剤層を形成し、転写用素子(ポリエチレンテレフタレ
ートフィルム/接着剤からなる保護層/回折フィルム/
コレステリック液晶性フィルム/ホットメルト型接着剤
層)を得た。得られた転写用素子を、10cm角、厚さ
1mmのポリ塩化ビニル製のプラスチックシートの上
に、ホットスタンプ装置を用いて140℃で転写した。
A hot melt adhesive layer was formed on the cholesteric liquid crystal film from which the polyphenylene sulfide film had been removed, and a transfer element (polyethylene terephthalate film / protective layer composed of adhesive / diffraction film /
(Cholesteric liquid crystalline film / hot melt type adhesive layer). The obtained transfer element was transferred onto a 10 cm square, 1 mm thick plastic sheet made of polyvinyl chloride at 140 ° C. using a hot stamping device.

【0070】その結果、ポリ塩化ビニルシートの右隅に
約1cm角の、保護層を有した回折フィルムとコレステ
リック液晶性フィルムとからなる光学素子を転写するこ
とができた。なお転写用素子の支持基板であるポリエチ
レンテレフタレートフィルムは、ホットスタンプ時に回
折フィルムとの界面で剥離された。またホットメルト接
着剤層は、ポリ塩化ビニルシートと強固に接着されてい
た。転写後、保護層を有する回折フィルムとコレステリ
ック液晶性フィルムとからなる光学素子に光を当てる
と、鮮やかな選択反射光と回折光が観察された。
As a result, it was possible to transfer an optical element composed of a diffraction film having a protective layer and a cholesteric liquid crystal film having a protective layer of about 1 cm square at the right corner of the polyvinyl chloride sheet. Note that the polyethylene terephthalate film, which is a support substrate of the transfer element, was peeled off at the interface with the diffraction film during hot stamping. Further, the hot melt adhesive layer was firmly bonded to the polyvinyl chloride sheet. After the transfer, when light was applied to the optical element composed of the diffraction film having the protective layer and the cholesteric liquid crystal film, bright selective reflection light and diffraction light were observed.

【0071】また転写用素子を用いて、A4サイズの紙
の上に光学素子を転写することを試みたところ、ポリ塩
化ビニルシートを被転写物としたときと同様、コレステ
リック液晶層に配向乱れや割れ等、また回折フィルム、
保護層にも割れ等が生じることなく転写を行うことがで
きた。また転写された保護層を有する回折フィルムとコ
レステリック液晶性フィルムとからなる光学素子は、鮮
やかな選択反射光と回折光が観察された。
Further, when an attempt was made to transfer an optical element onto A4 size paper using a transfer element, the cholesteric liquid crystal layer was found to have alignment disorder or misalignment as in the case of using a polyvinyl chloride sheet as an object to be transferred. Cracks, etc.
Transfer could be carried out without cracks or the like also occurring in the protective layer. Further, in the optical element composed of the diffraction film having the transferred protective layer and the cholesteric liquid crystalline film, bright selective reflection light and diffraction light were observed.

【0072】(実施例3)実施例2と同様に、ラビング
したポリフェニレンサルファイドフィルム上に金色の選
択反射を呈するコレステリックフィルムを得た。アクリ
ル系フォトポリマーを用いて作製した厚み10μmの体
積位相ホログラムからなる回折フィルムに紫外線硬化型
接着剤(東亞合成(株)製アロニックスUV−3630
(商品名))を介して、上記で得られたコレステリック液
晶性フィルムを転写した(回折フィルム/接着剤層/コ
レステリック液晶性フィルム/ポリフェニレンサルファ
イドフィルム)。
Example 3 In the same manner as in Example 2, a cholesteric film exhibiting a gold selective reflection was obtained on a rubbed polyphenylene sulfide film. An ultraviolet-curable adhesive (Aronix UV-3630 manufactured by Toagosei Co., Ltd.) is applied to a diffraction film composed of a volume phase hologram having a thickness of 10 μm manufactured using an acrylic photopolymer.
(Trade name)), the cholesteric liquid crystalline film obtained above was transferred (diffraction film / adhesive layer / cholesteric liquid crystalline film / polyphenylene sulfide film).

【0073】次いで回折フィルム上に光硬化型のアクリ
ル系オリゴマーであるアロニックスM−240(東亞合
成(株)製商品名)20.0重量%、M−320(東亞
合成(株)製商品名)10.0重量%およびベンゾフェ
ノン系紫外線吸収剤(シプロ化成製シーソーブ106)
5重量%をそれぞれ添加した紫外線硬化型の接着剤(東
亞合成(株)製アロニックスUV−3630)を介して
ポリエチレンテレフタレートフィルムに転写し、コレス
テリック液晶性フィルムの配向基板として用いたポリフ
ェニレンサルファイドフィルムを剥離除去した。
Next, 20.0% by weight of Aronix M-240 (trade name, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) and M-320 (trade name, manufactured by Toagosei Co., Ltd.), which are photo-curable acrylic oligomers, are placed on the diffraction film. 10.0% by weight and a benzophenone-based ultraviolet absorber (Seepro 106 manufactured by Cipro Kasei)
5% by weight of each was transferred to a polyethylene terephthalate film via an ultraviolet-curable adhesive (Aronix UV-3630 manufactured by Toagosei Co., Ltd.), and the polyphenylene sulfide film used as the alignment substrate of the cholesteric liquid crystal film was peeled off. Removed.

【0074】ポリフェニレンサルファイドフィルムを除
去したコレステリック液晶性フィルムにアクリル樹脂か
らなる粘着剤層を形成し、転写用素子(ポリエチレンテ
レフタレートフィルム/接着剤からなる保護層/回折フ
ィルム/コレステリック液晶性フィルム/粘着剤層)を
得た。得られた転写用素子を、1cm角のサイズに切り
出し、粘着層を介してガラス板に貼り合わせた。次い
で、転写用素子の支持基板であるポリエチレンテレフタ
レートフィルムにセロテープを貼り、ポリエチレンテレ
フタレートフィルムを剥離除去した。
An adhesive layer made of an acrylic resin is formed on the cholesteric liquid crystal film from which the polyphenylene sulfide film has been removed, and a transfer element (polyethylene terephthalate film / protective layer made of adhesive / diffraction film / cholesteric liquid crystal film / adhesive) Layer). The obtained transfer element was cut into a size of 1 cm square and bonded to a glass plate via an adhesive layer. Next, a cellophane tape was adhered to a polyethylene terephthalate film as a support substrate of the transfer element, and the polyethylene terephthalate film was peeled off.

【0075】転写後の保護層を有する回折フィルムとコ
レステリック液晶性フィルムとからなる光学素子に光を
当てると、選択反射光と同時に、回折光も観察された。
また得られた転写用素子を用い、同様にしてポリ塩化ビ
ニルシートや紙へ該光学素子を転写することができるこ
とを確認した。
When light was applied to an optical element comprising a diffraction film having a protective layer after transfer and a cholesteric liquid crystal film, diffracted light was observed simultaneously with the selectively reflected light.
Further, it was confirmed that the optical element could be transferred to a polyvinyl chloride sheet or paper in the same manner using the obtained transfer element.

【0076】[0076]

【発明の効果】本発明は、回折光が円偏光性を有すると
いった従来の光学素子には無い特異な光学特性を有する
コレステリック液晶層と回折素子層とからなる光学素子
を構成要素とするものであり、該光学素子は新たな回折
機能素子としてその応用範囲は極めて広く、例えば光学
用素子、光エレクトロニクス素子、装飾用材料、偽造防
止用素子等として有用である。また本発明の転写用素子
は、特異な光学特性を示す該光学素子の特性を損なうこ
となく、被転写物に容易に転写でき、またその作業性に
も優れている。また転写後の光学素子は耐候性をはじめ
とする各種耐性にも優れたものである。このようなこと
から本発明の転写用素子は、種々の材料に特異な光学特
性を付与できる等、工業的価値が極めて高い。
According to the present invention, an optical element comprising a cholesteric liquid crystal layer and a diffractive element layer having unique optical characteristics, such as diffracted light having circularly polarized light, which is not present in conventional optical elements, is used as a component. The optical element has a very wide range of application as a new diffraction function element, and is useful as, for example, an optical element, an optoelectronic element, a decoration material, a forgery prevention element, and the like. Further, the transfer element of the present invention can be easily transferred to an object to be transferred without deteriorating the characteristics of the optical element exhibiting unique optical characteristics, and has excellent workability. The transferred optical element is also excellent in various resistances including weather resistance. For this reason, the transfer element of the present invention has an extremely high industrial value, for example, it can impart unique optical characteristics to various materials.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持基板/保護層/回折素子層/接着
剤層1/コレステリック液晶層/接着剤層2から少なく
とも構成された転写用素子。
1. A transfer element comprising at least a support substrate / protective layer / diffraction element layer / adhesive layer 1 / cholesteric liquid crystal layer / adhesive layer 2.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007206257A (en) * 2006-01-31 2007-08-16 Dainippon Printing Co Ltd Genuineness indicator

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