JP2000309691A - Antistatic pbt-based resin composition and its production - Google Patents

Antistatic pbt-based resin composition and its production

Info

Publication number
JP2000309691A
JP2000309691A JP11117783A JP11778399A JP2000309691A JP 2000309691 A JP2000309691 A JP 2000309691A JP 11117783 A JP11117783 A JP 11117783A JP 11778399 A JP11778399 A JP 11778399A JP 2000309691 A JP2000309691 A JP 2000309691A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
weight
polyetherester
carbon atoms
resin composition
parts
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11117783A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takashi Ito
伊藤  隆
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Teijin Ltd
Original Assignee
Teijin Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Teijin Ltd filed Critical Teijin Ltd
Priority to JP11117783A priority Critical patent/JP2000309691A/en
Publication of JP2000309691A publication Critical patent/JP2000309691A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an antistatic PBT-based resin composition capable of exhibiting antistatic effect permanently, having little deposition of colored degenerated resin near the outlet of an extruder during molding and useful as an electronic material or the like by formulating a PBT-based resin, a specific polyether ester and the like at specific ratios. SOLUTION: This resin is formulated with (A) 100 pts.wt. of a PBT-based resin, (B) 5-30 pts.wt. of a polyether ester obtained by the polycondensation of (i) a 6-20C dicarboxylic acid and/or its ester, (ii) a poly(alkylene oxide)glycol having a number average molecular weight of 200-50,000 and (iii) a 2-10C glycol, and (C) 0.5-6 pts.wt. of a surfactant. A compound of the formula (Ar is a 6-12C trivalent aromatic group; R1 and R2 are each H or the like; M+ is a metal ion or the like) in an amount of 3-50 mol.% is formulated in the component (i). The compounding ratio of the component (ii) in the component B is 40-90 wt.%. The reduced viscosity (conc. of 1.2 g/dl) of the component B determined in a mixed solvent of phenol/tetrachloroethane (60/40 by weight) at 35 deg.C is 1.0-5.0.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、帯電防止効果を有
するPBT系樹脂組成物に関する。更に詳しくは、PB
T樹脂とポリエーテルエステルとの溶融混錬成形時に異
物などが発生しない、帯電防止効果が持続するPBT系
樹脂組成物及びその製造方法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a PBT resin composition having an antistatic effect. More specifically, PB
The present invention relates to a PBT-based resin composition that does not generate foreign matter during melt-kneading and molding of a T resin and a polyetherester and has a long antistatic effect, and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】プラスチック材料は優れた諸特性を生か
し、電気電子用部材、自動車用部材、医療用部材、生活
用品、その他各種成形品として使用されている。ところ
で、一般にプラスチックには、電気絶縁性が高いという
特徴があるが、そのためにかえって帯電した静電気が散
逸しにくく、製品へのほこりの付着、作業者への電撃、
計器類やICチップ類の誤動作といった問題が生じてい
る。そのため、各種のプラスチック材料に対して帯電防
止方法の研究がなされてきた。
2. Description of the Related Art Plastic materials have been used as electric and electronic members, automobile members, medical members, household goods, and various other molded articles by utilizing their excellent characteristics. By the way, plastics generally have the property of high electrical insulation, but because of this, the static electricity that is charged is unlikely to dissipate, causing dust to adhere to products, electric shock to workers,
Problems such as malfunctions of instruments and IC chips have occurred. Therefore, research on antistatic methods for various plastic materials has been conducted.

【0003】プラスチックの帯電防止方法としては、内
部添加型と塗布型がある。塗布型では、別工程が必要で
あり、製造プロセス上は、内部添加型の方が有利であ
る。
[0003] As a method for preventing static charge of plastics, there are an internal addition type and a coating type. The coating type requires a separate step, and the internal addition type is more advantageous in the manufacturing process.

【0004】内部添加型による方法ではこれまで、アル
キルスルホン酸塩やアルキルベンゼンスルホン酸塩とい
ったイオン性界面活性剤をポリマー中に練り込む方法
が、効果や経済性に優れるために一般的に採用されてき
た。中でも、アルキル(アリール)スルホン酸塩を利用
したものが数多く実施されてきた。そうした中で、帯電
防止効果のあるものとしては、例えば、特開平7−18
137号公報等において、メチルメタクリレート−スチ
レン共重合樹脂及びスルホン酸ホスホニウム塩からなる
組成物が開示されている。これは、界面活性剤が表面に
染み出すために、少量のスルホン酸ホスホニウム塩の添
加で優れた帯電防止効果を示すのであるが、拭いたり、
水洗いしたりすると帯電防止効果が減少するという問題
点がある。
In the internal addition type method, a method of kneading a ionic surfactant such as an alkyl sulfonate or an alkylbenzene sulfonate into a polymer has been generally adopted because of its excellent effect and economy. Was. Among them, many of them using an alkyl (aryl) sulfonate have been practiced. Under these circumstances, examples of those having an antistatic effect are disclosed in, for example, JP-A-7-18.
No. 137 discloses a composition comprising a methyl methacrylate-styrene copolymer resin and a phosphonium sulfonate. This is because the surfactant seeps out to the surface, it shows an excellent antistatic effect with the addition of a small amount of phosphonium sulfonate, but it can be wiped,
There is a problem that the antistatic effect is reduced by washing with water.

【0005】一方、永久的な帯電防止効果を付与する方
法として、制電性ポリマーを混合する方法が開示されて
いる。例えば、特開昭58−118838号公報におい
ては、ポリオレフィンとポリエーテルエステルアミドか
らなる組成物が帯電防止効果を有するという記載があ
る。しかし、こうしたポリマー同士を混合すると、最終
成形品を得る為に射出成形機や押出し成形機等を使用し
た場合、溶融ポリマーの経路に「目やに」と呼ばれる着
色した劣化異物が発生し、製品内に混入して不良成形品
の要因となる問題があった。
On the other hand, as a method for imparting a permanent antistatic effect, a method of mixing an antistatic polymer has been disclosed. For example, JP-A-58-11838 discloses that a composition comprising a polyolefin and a polyetheresteramide has an antistatic effect. However, when such polymers are mixed with each other, when an injection molding machine or an extrusion molding machine is used to obtain a final molded product, a colored deteriorated foreign substance called "eye-and-eye" is generated in a path of the molten polymer, and the product is contained in the product. There is a problem that it is mixed and causes a defective molded product.

【0006】ところで、特開平6−57153号公報に
おいて、ポリアルキレングリコール、グリコール、多価
カルボン酸からなるポリエーテルエステルについて報告
されている。これは永久的な制電性はあるものの単独で
は効果が不足し、更に効果を上げるためには、イオン性
の帯電防止剤を併用する必要がある。しかしながら、そ
うした場合には水洗により、制電効果がかなり低下して
しまうという問題があった。特開平8−337702号
公報では、これらの問題を解決する為、スルホン酸塩基
で核置換された芳香族ジカルボン酸成分を共重合したポ
リエーテルエステル及び界面活性剤とを併用してアクリ
ル系樹脂と混合することにより、永続的な帯電防止効果
を発揮している。しかしながら、上述のアクリル系樹脂
を始めとするビニル系熱可塑性樹脂やPBT樹脂のよう
な重縮合系熱可塑性樹脂は、より帯電防止性の良好な性
能を付与するためには、ポリアルキレングリコールの共
重合量を増やす必要があるが、該成分が多い場合には特
開平8−337702号公報に記載の方法では重合度が
上がりにくく、重合度が低い場合には、上述のポリエー
テルエステルアミドと同様に「目やに」等の問題が発生
する問題が生じている。また、光に対する劣化などの問
題も生じている。
[0006] Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-57153 reports a polyetherester comprising a polyalkylene glycol, a glycol and a polycarboxylic acid. Although this has permanent antistatic properties, its effect is insufficient when used alone. To further improve the effect, it is necessary to use an ionic antistatic agent in combination. However, in such a case, there is a problem that the antistatic effect is considerably reduced by washing with water. In JP-A-8-337702, in order to solve these problems, an acrylic resin is used in combination with a polyetherester obtained by copolymerizing an aromatic dicarboxylic acid component whose nucleus is substituted with a sulfonate group and a surfactant. By mixing, a permanent antistatic effect is exhibited. However, polycondensation-based thermoplastic resins such as the above-mentioned acrylic resins and other vinyl-based thermoplastic resins and PBT resins must be used together with polyalkylene glycol in order to provide better antistatic properties. It is necessary to increase the amount of polymerization, but when the amount of the component is large, the degree of polymerization is not easily increased by the method described in JP-A-8-337702, and when the degree of polymerization is low, the same as the above polyetheresteramide is used. There is a problem that a problem such as "eyes" occurs. In addition, problems such as deterioration with respect to light have occurred.

【0007】以上のように永久的な帯電防止効果、良好
な物性、耐光性及び耐熱性を兼ね備えたPBT系樹脂組
成物を得ることはこれまで困難であった。特にポリ(ア
ルキレンオキシド)グリコールの共重合量が多い場合、
「目やに」などの発生することの無い重合度に達するこ
とは従来公知の重合方法を重合時間を長時間かけても困
難であった。
As described above, it has been difficult to obtain a PBT resin composition having a permanent antistatic effect, good physical properties, light resistance, and heat resistance. Especially when the copolymerization amount of poly (alkylene oxide) glycol is large,
It has been difficult to reach a degree of polymerization that does not cause "eye flaws" or the like, even if a long polymerization time is applied to a conventionally known polymerization method.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、永続
的な帯電防止効果を発揮し、成形時の「目やに」の発
生、物性、成形性、耐光性及び耐熱性の低下の少ないP
BT系樹脂組成物を提供することにある。さらに、この
帯電防止用樹脂組成物は、低コストで、これまでのポリ
エステルの製造設備を用いて製造可能であるためその工
業的意義は大きい。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a permanent antistatic effect, and to reduce the generation of "eyes" during molding, and to reduce the deterioration of physical properties, moldability, light resistance and heat resistance.
An object of the present invention is to provide a BT resin composition. Furthermore, since the antistatic resin composition can be manufactured at low cost using conventional polyester manufacturing equipment, its industrial significance is significant.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記の課題
を解決すべく鋭意検討した結果、スルホン酸塩基で核置
換された特定の芳香族ジカルボン酸成分を含有して成る
特定のポリエーテルエステルの新規の高重合度化方法を
見出し、該ポリエーテルエステル及び界面活性剤をPB
T系樹脂と混合することにより、永続的な帯電防止効果
を発揮した上でさらに、物性、成形性、耐光性及び耐熱
性の低下の少ないPBT系樹脂組成物が得られることを
見い出し、本発明に到達した。
The present inventors have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, have found that a specific polyether containing a specific aromatic dicarboxylic acid component whose nucleus is substituted by a sulfonate group. A new method for increasing the degree of polymerization of esters has been found, and the polyetherester and surfactant
It has been found that, by mixing with a T-based resin, a PBT-based resin composition which exhibits a permanent antistatic effect and further has a small decrease in physical properties, moldability, light resistance and heat resistance can be obtained. Reached.

【0010】すなわち本発明は、PBT系樹脂(A)1
00重量部、炭素数6〜20のジカルボン酸及び/また
はそのエステル(B1)、(B2)数平均分子量200
〜50000のポリ(アルキレンオキシド)グリコール
(B2)、及び炭素数2〜10のグリコール(B3)を
重縮合して得られるポリエーテルエステル(B)5〜3
0部、並びに界面活性剤(C)0.5〜6重量部からな
る樹脂組成物において、上記(B1)が下記式(1)
That is, the present invention relates to a PBT resin (A) 1
00 parts by weight, dicarboxylic acid having 6 to 20 carbon atoms and / or its ester (B1), (B2) number average molecular weight 200
Poly (alkylene oxide) glycol (B2) having a molecular weight of up to 50,000 and polyether ester (B) obtained by polycondensing glycol (B3) having 2 to 10 carbon atoms.
In a resin composition comprising 0 part and 0.5 to 6 parts by weight of a surfactant (C), the above (B1) is represented by the following formula (1)

【0011】[0011]

【化4】 Embedded image

【0012】[式(1)中、Arは炭素数6〜12の3
価の芳香族基、R1及びR2はそれぞれ独立に水素原子、
炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数6〜12のアリー
ル基を表し、M+は金属イオン、テトラアルキルホスホ
ニウムイオン又はテトラアルキルアンモニウムイオンを
表す。]で示されるスルホン酸塩基で置換された芳香族
ジカルボン酸及び/またはそのエステル(B1’)を全
酸成分(B1)の3〜50モル%含み、かつ上記ポリエ
ーテルエステル(B)を構成する上記(B2)の含有量
が(B1)、(B2)及び(B3)の合計量の40〜9
0重量%の範囲内であり、かつポリエーテルエステル
(B)が、フェノール/テトラクロロエタン(重量比6
0/40)の混合溶媒中35℃で測定した還元粘度(濃
度1.2g/dl)で、1.0以上5.0以下であるこ
とを特徴とする帯電防止PBT系樹脂組成物である。
[In the formula (1), Ar represents 3 to 6 carbon atoms.
A valent aromatic group, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom,
Represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and M + represents a metal ion, a tetraalkylphosphonium ion or a tetraalkylammonium ion. ] The aromatic dicarboxylic acid and / or its ester (B1 ') substituted with a sulfonic acid group represented by the formula (1) is contained in an amount of 3 to 50 mol% of the total acid component (B1), and constitutes the polyetherester (B). The content of (B2) is 40 to 9 of the total amount of (B1), (B2) and (B3).
0% by weight and the polyetherester (B) is phenol / tetrachloroethane (weight ratio of 6).
(0/40) in a mixed solvent at 35 ° C. of a reduced viscosity (concentration: 1.2 g / dl) of 1.0 to 5.0, which is an antistatic PBT resin composition.

【0013】以下、本発明を詳述する。本発明の樹脂組
成物は、PBT系樹脂(A)、ポリエーテルエステル
(B)、及び界面活性剤(C)とから実質的に成る。
Hereinafter, the present invention will be described in detail. The resin composition of the present invention substantially comprises a PBT resin (A), a polyetherester (B), and a surfactant (C).

【0014】本発明においては、ポリエーテルエステル
(B)は、フェノール/テトラクロロエタン(重量比6
0/40)の混合溶媒中35℃で測定した還元粘度(濃
度1.2g/dl)が1.0以上5.0以下である。還
元粘度が1.0より小さいと耐熱性や、機械物性低下の
原因となる。また、最終成形品を得る為に射出成形機や
押出し成形機等を使用した場合、溶融ポリマーの経路に
「目やに」と呼ばれる着色した劣化異物が発生し、製品
内に混入して不良成形品の原因となる。還元粘度に対す
る上限は、ポリマーが実質的に線状の重合体であれば、
帯電防止効果の点でも機械物性の点でも高い方が好まし
いが、実際的な重合の上限は5.0程度である。還元粘
度はより好ましくは2.0以上5.0以下であり、さら
に好ましくは3.0以上5.0以下である。
In the present invention, the polyetherester (B) is phenol / tetrachloroethane (weight ratio of 6).
0/40) in a mixed solvent at 35 ° C. (concentration 1.2 g / dl) of 1.0 or more and 5.0 or less. If the reduced viscosity is smaller than 1.0, heat resistance and mechanical properties may be reduced. In addition, when using an injection molding machine or an extrusion molding machine to obtain the final molded product, a colored deteriorated foreign substance called "eye-to-eye" is generated in the path of the molten polymer, and is mixed into the product to remove the defective molded product. Cause. The upper limit for the reduced viscosity is, if the polymer is a substantially linear polymer,
Although a higher one is preferable in terms of both the antistatic effect and the mechanical properties, the practical upper limit of the polymerization is about 5.0. The reduced viscosity is more preferably 2.0 or more and 5.0 or less, and still more preferably 3.0 or more and 5.0 or less.

【0015】本発明におけるポリエーテルエステル
(B)を構成する酸成分は、後述のスルホン酸塩基(−
SO3-+)で置換された芳香族ジカルボン酸及び/又
はそのエステル(B1’)を含む炭素数6〜20の芳香
族ジカルボン酸及び/又はそのエステル(B1)であ
る。
The acid component constituting the polyetherester (B) in the present invention is a sulfonate group (-
SO3 - M +) is a substituted aromatic dicarboxylic acids and / or esters thereof (B1 ') aromatic dicarboxylic acids and / or esters thereof having 6 to 20 carbon atoms containing (B1) at.

【0016】ここで炭素数6〜20の芳香族ジカルボン
酸(B1)としては、テレフタル酸、イソフタル酸、
2,6−ナフタレンジカルボン酸、2,7−ナフタレン
ジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸を挙げることがで
きる。また炭素数6〜20の芳香族ジカルボン酸エステ
ルとしては、テレフタル酸ジメチル、テレフタル酸ジエ
チル、イソフタル酸ジメチル、イソフタル酸ジエチル、
2,6−ナフタレンジカルボン酸ジメチル、2,6−ナ
フタレンジカルボン酸ジエチル、2,7−ナフタレンジ
カルボン酸ジメチル、および2,7−ナフタレンジカル
ボン酸ジエチル等を挙げることができる。これらは芳香
環にアルキル基、ハロゲン等の置換基を有していてもよ
い。これらのうちで、取り扱い性の点からは、テレフタ
ル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、テレフタル酸
ジメチル、および2,6−ナフタレンジカルボン酸ジメ
チルが好ましい。
Here, as the aromatic dicarboxylic acid (B1) having 6 to 20 carbon atoms, terephthalic acid, isophthalic acid,
Aromatic dicarboxylic acids such as 2,6-naphthalenedicarboxylic acid and 2,7-naphthalenedicarboxylic acid can be mentioned. Examples of the aromatic dicarboxylic acid ester having 6 to 20 carbon atoms include dimethyl terephthalate, diethyl terephthalate, dimethyl isophthalate, diethyl isophthalate,
Examples thereof include dimethyl 2,6-naphthalenedicarboxylate, diethyl 2,6-naphthalenedicarboxylate, dimethyl 2,7-naphthalenedicarboxylate, and diethyl 2,7-naphthalenedicarboxylate. These may have a substituent such as an alkyl group or a halogen on the aromatic ring. Of these, terephthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, dimethyl terephthalate, and dimethyl 2,6-naphthalenedicarboxylate are preferred from the viewpoint of handling properties.

【0017】本発明において用いられるスルホン酸塩基
(−SO3-+)で置換された芳香族ジカルボン酸及び
/またはそのエステル(B1’)は、下記式(1)
The aromatic dicarboxylic acid and / or its ester (B1 ') substituted with a sulfonic acid salt group (-SO3 - M + ) used in the present invention is represented by the following formula (1)

【0018】[0018]

【化5】 Embedded image

【0019】で表される。## EQU1 ##

【0020】上記式(1)において、R1及びR2はそれ
ぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基又は
炭素数6〜12のアリール基を表し、好ましくは水素原
子、またはメチル基、エチル基等の炭素数1〜3のアル
キル基である。
In the above formula (1), R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, preferably a hydrogen atom or methyl And an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms such as an ethyl group.

【0021】上記式(1)において、M+は金属イオ
ン、テトラアルキルホスホニウムイオン、およびテトラ
アルキルアンモニウムイオンの内から選ばれるイオンを
表す。M+としてはナトリウムイオン、カリウムイオ
ン、リチウムイオン等のアルカリ金属イオン、カルシウ
ムイオン、マグネシウムイオン等のアルカリ土類金属イ
オン、亜鉛イオン等の金属イオン、テトラブチルホスホ
ニウムイオン、テトラメチルホスホニウムイオン、テト
ラブチルアンモニウムイオン、またはテトラメチルアン
モニウムイオン等である。これらのイオンの中で金属イ
オンが好ましく、アルカリ金属イオン、および亜鉛イオ
ンがより好ましい。ただし2価の金属イオンの場合には
スルホン酸塩基2モルに対し、金属イオン1モルが対応
するものとする。
In the above formula (1), M + represents an ion selected from a metal ion, a tetraalkylphosphonium ion and a tetraalkylammonium ion. Examples of M + include alkali metal ions such as sodium ion, potassium ion and lithium ion, alkaline earth metal ions such as calcium ion and magnesium ion, metal ions such as zinc ion, tetrabutylphosphonium ion, tetramethylphosphonium ion and tetrabutyl. Ammonium ion or tetramethylammonium ion. Among these ions, metal ions are preferable, and alkali metal ions and zinc ions are more preferable. However, in the case of a divalent metal ion, one mole of the metal ion corresponds to 2 moles of the sulfonate group.

【0022】上記式(1)中のArは、ベンゼン環、お
よびナフタレン環等の炭素数6〜12の3価の芳香族基
であり、これらはまた、アルキル基、フェニル基、ハロ
ゲン、またはアルコキシ基等の置換基を有していてもよ
い。
Ar in the above formula (1) is a trivalent aromatic group having 6 to 12 carbon atoms such as a benzene ring and a naphthalene ring, and these are also an alkyl group, a phenyl group, a halogen, or an alkoxy group. It may have a substituent such as a group.

【0023】かかる芳香族ジカルボン酸としては、4−
ナトリウムスルホ−イソフタル酸、5−ナトリウムスル
ホ−イソフタル酸、4−カリウムスルホ−イソフタル
酸、5−カリウムスルホ−イソフタル酸、2−ナトリウ
ムスルホ−テレフタル酸、2−カリウムスルホ−テレフ
タル酸、4−スルホ−イソフタル酸亜鉛、5−スルホ−
イソフタル酸亜鉛、2−スルホ−テレフタル酸亜鉛、4
−スルホ−イソフタル酸テトラアルキルホスホニウム
塩、5−スルホ−イソフタル酸テトラアルキルホスホニ
ウム塩、4−スルホ−イソフタル酸テトラアルキルアン
モニウム塩、5−スルホ−イソフタル酸テトラアルキル
アンモニウム塩、2−スルホ−テレフタル酸テトラアル
キルホスホニウム塩、2−スルホ−テレフタル酸テトラ
アルキルアンモニウム塩、4−ナトリウムスルホ−2,
6−ナフタレンジカルボン酸、4−ナトリウムスルホ−
2,7−ナフタレンジカルボン酸、4−カリウムスルホ
−2,6−ナフタレンジカルボン酸、または4−スルホ
−2,6−ナフタレンジカルボン酸亜鉛塩等を挙げるこ
とができる。
The aromatic dicarboxylic acid includes 4-
Sodium sulfo-isophthalic acid, 5-sodium sulfo-isophthalic acid, 4-potassium sulfo-isophthalic acid, 5-potassium sulfo-isophthalic acid, 2-sodium sulfo-terephthalic acid, 2-potassium sulfo-terephthalic acid, 4-sulfo- Zinc isophthalate, 5-sulfo-
Zinc isophthalate, zinc 2-sulfo-terephthalate, 4
Tetraalkylphosphonium sulfo-isophthalate, tetraalkylphosphonium 5-sulfo-isophthalate, tetraalkylammonium 4-sulfo-isophthalate, tetraalkylammonium 5-sulfo-isophthalate, tetra-sulfo-terephthalate Alkyl phosphonium salt, tetraalkyl ammonium 2-sulfo-terephthalate, 4-sodium sulfo-2,
6-naphthalenedicarboxylic acid, 4-sodium sulfo-
Examples thereof include 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, 4-potassium sulfo-2,6-naphthalenedicarboxylic acid, and zinc salt of 4-sulfo-2,6-naphthalenedicarboxylic acid.

【0024】また芳香族ジカルボン酸エステルとして
は、上記に具体的に列記した芳香族ジカルボン酸のジメ
チルエステル、ジエチルエステル等を挙げることができ
る。
Examples of the aromatic dicarboxylic acid esters include dimethyl esters and diethyl esters of the aromatic dicarboxylic acids specifically listed above.

【0025】これらの中で、R1、R2がともにメチル基
又はともにエチル基であり、Arがベンゼン環であり、
+がナトリウムやカリウム等のアルカリ金属イオンで
あることが、重合性、機械特性、色調等の面でより好ま
しい。
Among them, R 1 and R 2 are both methyl groups or both ethyl groups, Ar is a benzene ring,
M + is more preferably an alkali metal ion such as sodium or potassium in terms of polymerizability, mechanical properties, color tone, and the like.

【0026】芳香族ジカルボン酸エステルとしてさらに
好適には、4−ナトリウムスルホ−イソフタル酸ジメチ
ル、5−ナトリウムスルホ−イソフタル酸ジメチル、4
−カリウムスルホ−イソフタル酸ジメチル、5−カリウ
ムスルホイソフタル酸ジメチル、2−ナトリウムスルホ
−テレフタル酸ジメチル、2−カリウムスルホ−テレフ
タル酸ジメチル等を挙げることができる。
More preferably, the aromatic dicarboxylic acid ester is dimethyl 4-sodium sulfo-isophthalate, dimethyl 5-sodium sulfo-isophthalate,
Dimethyl-potassium sulfo-isophthalate, dimethyl 5-potassium sulfoisophthalate, dimethyl 2-sodium sulfo-terephthalate, dimethyl 2-potassium sulfo-terephthalate, and the like.

【0027】本発明によれば、帯電防止効果の点から、
上記式(1)で表されるスルホン酸塩基で置換された芳
香族ジカルボン酸及び/またはそのエステル(B1’)
は、使用する全酸成分(B1)の3〜50モル%、すな
わち、上記式(1)で表される化合物が、ポリエーテル
エステルを構成する酸成分の3〜50モル%を占めるよ
うにする。かかる芳香族ジカルボン酸及び/又はそのエ
ステル(B1’)が3モル%未満では、帯電防止効果が
十分ではない。また50モル%を超えると、重合反応が
困難になり、十分な重合度のポリエーテルエステル
(B)を得にくくなったり、また取り扱い性が悪化す
る。上記式(1)で表される芳香族ジカルボン酸及び/
またはそのエステルは、全酸成分の4〜40モル%を占
めることが好ましく、5〜30モル%を占めることがよ
り好ましい。
According to the present invention, from the viewpoint of the antistatic effect,
Aromatic dicarboxylic acid and / or ester thereof (B1 ′) substituted with a sulfonic acid group represented by the above formula (1)
Is such that the compound represented by the formula (1) accounts for 3 to 50 mol% of the total acid component (B1) used, that is, 3 to 50 mol% of the acid component constituting the polyetherester. . When the content of the aromatic dicarboxylic acid and / or its ester (B1 ′) is less than 3 mol%, the antistatic effect is not sufficient. If it exceeds 50 mol%, the polymerization reaction becomes difficult, and it becomes difficult to obtain a polyetherester (B) having a sufficient degree of polymerization, and the handleability deteriorates. The aromatic dicarboxylic acid represented by the above formula (1) and / or
Alternatively, the ester thereof preferably accounts for 4 to 40 mol% of the total acid component, and more preferably accounts for 5 to 30 mol%.

【0028】本発明におけるポリエーテルエステル
(B)を構成するグリコール成分は、数平均分子量20
0〜50000のポリ(アルキレンオキシド)グリコー
ル(B2)、及び炭素数2〜6のグリコール(B3)と
からなる。
The glycol component constituting the polyetherester (B) in the present invention has a number average molecular weight of 20.
It comprises a poly (alkylene oxide) glycol (B2) having 0 to 50,000 and a glycol (B3) having 2 to 6 carbon atoms.

【0029】ここで、ポリ(アルキレンオキシド)グリ
コール(B2)としては、ポリエチレングリコール、ポ
リ(プロピレンオキシド)グリコール、ビスフェノール
類に対するエチレンオキシド付加体、ポリ(プロピレン
オキシド)グリコール共重合ポリエチレングリコール等
を挙げることができる。これらのうち、ポリエチレング
リコールから主としてなるポリ(アルキレンオキシド)
グリコールが好ましい。かかるポリ(アルキレンオキシ
ド)グリコール(B2)の数平均分子量は200〜50
000であるものを用いる。かかる分子量が200に満
たない場合には、十分な制電効果が得られない。また、
実用性の点からは、かかる分子量の上限は50000程
度である。ポリ(アルキレンオキシド)グリコールの好
ましい数平均分子量は500〜40000であり、より
好ましくは1000〜30000である。
Here, the poly (alkylene oxide) glycol (B2) includes polyethylene glycol, poly (propylene oxide) glycol, ethylene oxide adducts to bisphenols, poly (propylene oxide) glycol copolymerized polyethylene glycol, and the like. it can. Among them, poly (alkylene oxide) mainly composed of polyethylene glycol
Glycols are preferred. The poly (alkylene oxide) glycol (B2) has a number average molecular weight of 200 to 50.
000 is used. If the molecular weight is less than 200, a sufficient antistatic effect cannot be obtained. Also,
From the viewpoint of practicality, the upper limit of the molecular weight is about 50,000. The preferred number average molecular weight of the poly (alkylene oxide) glycol is from 500 to 40,000, more preferably from 1,000 to 30,000.

【0030】ポリ(アルキレンオキシド)グリコール
(B2)は、帯電防止効果の点からは、ポリエーテルエ
ステルに対して全体の40〜90重量%を占めることが
必要である。すなわち、ポリ(アルキレンオキシド)グ
リコールの使用量は、ポリエーテルエステル(B)を構
成する(B2)の含有量が(B1)、(B2)及び(B
3)の仕込みの合計量に対して40〜90重量%となる
ようにする。40重量%より少ないと帯電防止効果が十
分でなく、90重量%より多い場合には、取り扱い性や
耐熱性が良くない傾向になることがある。好ましい使用
量は、得られるポリエーテルエステル(B)全体の50
〜80重量%であり、より好ましくは55〜75重量%
である。
The poly (alkylene oxide) glycol (B2) must account for 40 to 90% by weight of the polyetherester in view of the antistatic effect. That is, the amount of the poly (alkylene oxide) glycol used is such that the content of (B2) constituting the polyetherester (B) is (B1), (B2) and (B2).
The content is set to 40 to 90% by weight based on the total amount of the preparation in 3). If the amount is less than 40% by weight, the antistatic effect is not sufficient, and if it is more than 90% by weight, the handleability and heat resistance tend to be poor. A preferred amount is 50% of the total polyetherester (B) obtained.
To 80% by weight, more preferably 55 to 75% by weight.
It is.

【0031】上記ポリ(アルキレンオキシド)グリコー
ル(B2)の共重合量が、ポリエーテルエステル(B)
として得られる重合度にに最も大きな影響を与える。
The poly (alkylene oxide) glycol (B2) is copolymerized with the polyetherester (B)
Has the greatest effect on the degree of polymerization obtained.

【0032】本発明に用いる炭素数2〜10のグリコー
ル(B3)は、具体的にはエチレングリコール、1,4
−ブタンジオール、プロピレングリコール、1,6−ヘ
キサンジオール(1,6−ヘキサメチレングリコー
ル)、3−メチル−1,5−ペンタンジオール等を例示
できる。これらはエーテル結合、チオエーテル結合を含
んでいてもよい。この中でエチレングリコール、1,6
−ヘキサンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジ
オールが、帯電防止効果の点で好ましい。
The glycol having 2 to 10 carbon atoms (B3) used in the present invention is specifically ethylene glycol, 1,4
-Butanediol, propylene glycol, 1,6-hexanediol (1,6-hexamethylene glycol), 3-methyl-1,5-pentanediol, and the like. These may contain an ether bond and a thioether bond. Among them, ethylene glycol, 1,6
-Hexanediol and 3-methyl-1,5-pentanediol are preferred in view of the antistatic effect.

【0033】本発明におけるポリエーテルエステル
(B)は、上記成分(B1’)を含む(B1)、(B
2)、及び(B3)をエステル交換触媒の存在下、15
0〜300℃で加熱溶融し重縮合反応せしめることによ
って得ることができる。
The polyetherester (B) in the present invention contains the above component (B1 '), (B1), (B1)
2) and (B3) in the presence of a transesterification catalyst for 15
It can be obtained by heating and melting at 0 to 300 ° C. to cause a polycondensation reaction.

【0034】エステル交換触媒としては通常のエステル
交換反応に使用できるものなら特に制限はない。かかる
エステル交換触媒としては、三酸化アンチモン等のアン
チモン化合物酢酸第一錫、ジブチル錫オキサイド、ジブ
チル錫ジアセテート等の錫化合物、テトラブチルチタネ
ート等のチタン化合物、酢酸亜鉛等の亜鉛化合物、酢酸
カルシウム等のカルシウム化合物、炭酸ナトリウム、お
よび炭酸カリウム等のアルカリ金属塩等を例示すること
ができる。これらのうちテトラブチルチタネートが好ま
しく用いられる。
The transesterification catalyst is not particularly limited as long as it can be used for ordinary transesterification. Examples of such transesterification catalysts include antimony compounds such as antimony trioxide, stannous acetate, tin compounds such as dibutyltin oxide and dibutyltin diacetate, titanium compounds such as tetrabutyl titanate, zinc compounds such as zinc acetate, and calcium acetate. And alkali metal salts such as sodium carbonate and potassium carbonate. Of these, tetrabutyl titanate is preferably used.

【0035】上記触媒の使用量としては、通常のエステ
ル交換反応における使用量でよく、概ね、使用する酸成
分1モルに対し、0.01〜0.5モル%が好ましく、
0.03〜0.3モル%がより好ましい。
The amount of the catalyst used may be the amount used in a usual transesterification reaction, and is generally preferably 0.01 to 0.5 mol% with respect to 1 mol of the acid component used.
0.03-0.3 mol% is more preferable.

【0036】また、反応時には後に述べる酸化防止剤等
の各種安定剤を併用することも好ましい。
In the reaction, it is also preferable to use various stabilizers such as an antioxidant described later.

【0037】上記(B1’)を含む(B1)、(B
2)、及び(B3)の化合物を加熱溶融し重縮合する温
度としては、初期反応として、150℃から200℃で
数十分から十数時間エステル化反応及び/又はエステル
交換反応を留出物を留去しながら行った後、反応物を高
分子量化する重合反応を180℃から300℃で行う。
180℃より温度が低いと反応が進まず、300℃より
温度が高いと、分解などの副反応が起こり易くなるため
である。重合反応温度は200℃から280℃がさらに
好ましく、220℃から250℃が更に好ましい。この
重合反応の反応時間は反応温度や触媒量にもよるが、通
常は数十分から数十時間程度である。
(B1) including the above (B1 '), (B1)
As the temperature at which the compounds of 2) and (B3) are heated and melted and subjected to polycondensation, the esterification reaction and / or the transesterification reaction are carried out at 150 ° C. to 200 ° C. for several tens to ten and several hours as an initial reaction , And a polymerization reaction for increasing the molecular weight of the reaction product is performed at 180 ° C to 300 ° C.
If the temperature is lower than 180 ° C., the reaction does not proceed, and if the temperature is higher than 300 ° C., side reactions such as decomposition tend to occur. The polymerization reaction temperature is more preferably from 200 ° C to 280 ° C, even more preferably from 220 ° C to 250 ° C. The reaction time of this polymerization reaction depends on the reaction temperature and the amount of catalyst, but is usually about several tens to several tens of hours.

【0038】しかしながら、上記の方法だけでは、特に
ポリ(アルキレンオキシド)グリコール(B2)の共重
合量が多い場合、本発明の範囲である重合度(フェノー
ル/テトラクロロエタン(重量比60/40)の混合溶
媒中35℃で測定した還元粘度(濃度1.2g/dl)
で、1.0以上5.0以下)に達することは重合時間を
長時間かけても困難であった。
However, when only the above method is used, especially when the copolymerization amount of poly (alkylene oxide) glycol (B2) is large, the polymerization degree (phenol / tetrachloroethane (weight ratio 60/40)) falling within the range of the present invention is considered. Reduced viscosity measured at 35 ° C in a mixed solvent (concentration: 1.2 g / dl)
, 1.0 to 5.0) was difficult even if the polymerization time was extended.

【0039】この問題を鋭意検討することにより、我々
は、ポリ(アルキレンオキシド)グリコール(B2)の
共重合量が多いにも関わらず、短時間で得る方法を見出
した。
By diligently studying this problem, we have found a method of obtaining poly (alkylene oxide) glycol (B2) in a short time despite the large amount of copolymerization.

【0040】即ち、上記の重合時に芳香族ジカルボン酸
及び/またはそのエステル(B1)に対して0.5〜1
0モル%の活性エステル化合物を添加することにより、
重合系内に存在するポリマー末端のOH基に効果的に短
時間で反応し、本発明におけるポリエーテルエステル
(B)を得る。活性エステル化合物としては、芳香族エ
ステル誘導体及び/または芳香族炭酸エステルが挙げら
れ、より好ましくはジフェニルカーボネート及び/また
はジフェニルテレフタレートが用いることができる。さ
らにはジフェニルカーボネート、ジフェニルテレフタレ
ートのうち、ジフェニルカーボネートを添加する方が、
分子量が小さいこと、およびハンドリング性の面でより
好ましい。
That is, at the time of the above polymerization, the aromatic dicarboxylic acid and / or its ester (B1) is 0.5 to 1%.
By adding 0 mol% of the active ester compound,
It reacts effectively with the OH group at the terminal of the polymer present in the polymerization system in a short time to obtain the polyetherester (B) in the present invention. Examples of the active ester compound include an aromatic ester derivative and / or an aromatic carbonate, and more preferably, diphenyl carbonate and / or diphenyl terephthalate can be used. Furthermore, among diphenyl carbonate and diphenyl terephthalate, it is better to add diphenyl carbonate,
It is more preferable in terms of a small molecular weight and handling properties.

【0041】活性エステル化合物の添加量は、芳香族カ
ルボン酸及び/またはそのエステルの対して0.5モル
%以上が好ましい。これ以下の添加量では重合度の効果
的な上昇が得られない。実質的な添加量の上限は10モ
ル%程度であり、これ以上添加しても、後の減圧工程に
て添加された活性エステル化合物がそのまま留出するた
め、好ましくない。より好ましくは、1〜8モル%の範
囲である。
The amount of the active ester compound to be added is preferably 0.5 mol% or more based on the aromatic carboxylic acid and / or its ester. If the amount is less than this, an effective increase in the degree of polymerization cannot be obtained. The substantial upper limit of the amount of addition is about 10 mol%, and adding more than this is not preferable because the active ester compound added in the subsequent depressurization step is distilled off as it is. More preferably, it is in the range of 1 to 8 mol%.

【0042】重合度の上昇具合によっては、複数回の添
加も可能である。繰返し添加できることもこの方法の大
きな特徴である。通常は2〜5回の添加で、本発明の重
合度に到達する。活性エステル化合物の添加方法は、粉
体状、あるいは溶融させて重合系内に入れても差し支え
ない。より好ましくは、ポリマーと均一に分散混合が可
能である溶融状態で添加するのが好ましい。
Depending on the degree of increase in the degree of polymerization, multiple additions are possible. A major feature of this method is that it can be added repeatedly. Usually, the degree of polymerization of the present invention is reached in 2 to 5 additions. Regarding the method of adding the active ester compound, the active ester compound may be in the form of powder or melted and put into the polymerization system. More preferably, it is added in a molten state that enables uniform dispersion and mixing with the polymer.

【0043】こうして添加された活性エステル化合物
は、重合系内に存在するポリマー末端のOH基と以下の
反応を経て、脱フェノール及び/または脱エチレンカー
ボネート反応に続き、ポリマー末端同士を結合させる。
下記式(a−1)に活性エステル化合物としてジフェニ
ルカーボネートを用いた場合の反応、および(a−2)
に活性エステル化合物としてジフェニルテレフタレート
を用いた場合の反応を示す。
The active ester compound thus added is subjected to the following reaction with the OH group at the terminal of the polymer present in the polymerization system, and then the phenol group and / or the ethylene carbonate are removed, and the polymer terminals are bonded to each other.
Reaction when diphenyl carbonate is used as the active ester compound in the following formula (a-1), and (a-2)
Shows the reaction when diphenylterephthalate is used as the active ester compound.

【0044】[0044]

【化6】 Embedded image

【0045】上記式中nは3〜1000であり、好まし
くは10〜800、さらに好ましくは20〜600であ
る。
In the above formula, n is from 3 to 1,000, preferably from 10 to 800, more preferably from 20 to 600.

【0046】反応により発生するフェノール及び/また
はエチレンカーボネートは、従来と同様の減圧処理によ
り、速やかに系外へ留出される。
The phenol and / or ethylene carbonate generated by the reaction are quickly distilled out of the system by the same vacuum treatment as in the prior art.

【0047】これらの添加剤により導入された化学構造
は、単純に減圧重合したものとまったく同じであり、こ
の様に得られたポリエーテルエステルについて添加剤由
来の残存構造はほとんど観察されない。このことも、こ
の製造方法の大きな特徴である。
The chemical structure introduced by these additives is exactly the same as that obtained by simply conducting the polymerization under reduced pressure, and almost no residual structure derived from the additives is observed in the polyetherester thus obtained. This is also a major feature of this manufacturing method.

【0048】本発明で用いられるPBT系樹脂(A)と
は、一般にテレフタル酸あるいはテレフタル酸ジアルキ
ルエステルと1,4−ブタンジオールとを重縮合させて
合成して得られる熱可塑性飽和ポリエステル樹脂であ
る。
The PBT resin (A) used in the present invention is generally a thermoplastic saturated polyester resin obtained by polycondensing terephthalic acid or a dialkyl terephthalate with 1,4-butanediol. .

【0049】一般に用いられるPBT系樹脂の重合度を
表わす還元粘度は、フェノール/テトラクロロエタン
(重量比60/40)の混合溶媒中において濃度1.2
(g/dl)、35℃にて測定した値で0.5〜3.0
dL/gの範囲が好ましく、1.0〜2.0dL/gの
範囲がより好ましい。
The reduced viscosity, which indicates the degree of polymerization of a generally used PBT-based resin, has a concentration of 1.2 in a mixed solvent of phenol / tetrachloroethane (weight ratio 60/40).
(G / dl), 0.5 to 3.0 as measured at 35 ° C.
The range of dL / g is preferable, and the range of 1.0 to 2.0 dL / g is more preferable.

【0050】本発明で用いられるPBT系樹脂(A)と
は、一般にテレフタル酸あるいはテレフタル酸ジアルキ
ルエステルと1,4−ブタンジオールとを重縮合させて
合成して得られる熱可塑性飽和ポリエステル樹脂であ
る。
The PBT resin (A) used in the present invention is generally a thermoplastic saturated polyester resin obtained by polycondensation of terephthalic acid or a dialkyl terephthalate with 1,4-butanediol. .

【0051】この樹脂の製造方法については特に制限は
なく、公知の減圧重縮合法、直接重縮合法などで製造し
たものを用いることができる。
The method for producing the resin is not particularly limited, and a resin produced by a known vacuum polycondensation method, a direct polycondensation method, or the like can be used.

【0052】また、PBT系樹脂以外に熱可塑性樹脂を
1重量%以上50重量%以下で含有していても良い。
In addition to the PBT resin, a thermoplastic resin may be contained in an amount of 1% by weight to 50% by weight.

【0053】その際に用いる事の出来る熱可塑性樹脂と
しては、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリナフタレンテレフタレート、PMMA樹脂、ポ
リスチレン樹脂、ABS樹脂、PP樹脂、PPE樹脂な
どが挙げられる。
Examples of the thermoplastic resin that can be used at that time include polycarbonate, polyethylene terephthalate, polynaphthalene terephthalate, PMMA resin, polystyrene resin, ABS resin, PP resin, and PPE resin.

【0054】本発明の帯電防止用樹脂組成物は、以上に
示したPBT系樹脂(A)100重量部に対し、ポリエ
ーテルエステル(B)5〜30重量部、及び界面活性剤
(C)0.5〜6重量部含有する。かかる界面活性剤と
しては、陰イオン系界面活性剤、又は陽イオン系界面活
性剤が挙げられるが、ポリエーテルエステル等との混練
時に要求される耐熱性の面で、陰イオン界面活性剤が好
ましい。さらに驚くべきことに、かかる陰イオン界面活
性剤としては、アルキルスルホン酸塩、アルキルベンゼ
ンスルホン酸塩等の陰イオン界面活性剤を用いることに
より、かかる帯電防止効果が著しく増大し、かつ効果が
永久的に持続する。かかるスルホン酸塩は、上記ポリエ
ーテルエステルを構成する、上記式(1)で表される酸
成分と組み合わせて用いることにより、かかる効果の向
上に寄与しているものと推定される。
The antistatic resin composition of the present invention comprises 5 to 30 parts by weight of the polyetherester (B) and 0 to 10 parts by weight of the surfactant (C) based on 100 parts by weight of the PBT resin (A) shown above. 0.5-6 parts by weight. Examples of such a surfactant include an anionic surfactant and a cationic surfactant. From the viewpoint of heat resistance required at the time of kneading with a polyetherester or the like, an anionic surfactant is preferable. . Even more surprisingly, by using an anionic surfactant such as an alkyl sulfonate or an alkylbenzene sulfonate as the anionic surfactant, such an antistatic effect is significantly increased, and the effect is permanent. To last. It is presumed that such a sulfonic acid salt contributes to the improvement of such an effect when used in combination with the acid component represented by the above formula (1), which constitutes the above polyetherester.

【0055】アルキルスルホン酸塩としては、ドデシル
スルホン酸ナトリウム、ドデシルスルホン酸カリウム、
デシルスルホン酸ナトリウム、デシルスルホン酸カリウ
ム、セチルスルホン酸ナトリウム、セチルスルホン酸カ
リウム及びこれらの混合物等を挙げることができる。ま
た、アルキルベンゼンスルホン酸塩の例としては、ドデ
シルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼン
スルホン酸カリウム、デシルベンゼンスルホン酸ナトリ
ウム、デシルベンゼンスルホン酸カリウム、セチルベン
ゼンスルホン酸ナトリウム、セチルベンゼンスルホン酸
カリウム及びこれらの混合物等を挙げることができる。
Examples of the alkyl sulfonate include sodium dodecyl sulfonate, potassium dodecyl sulfonate,
Examples thereof include sodium decyl sulfonate, potassium decyl sulfonate, sodium cetyl sulfonate, potassium cetyl sulfonate, and mixtures thereof. Examples of the alkylbenzene sulfonate include sodium dodecylbenzenesulfonate, potassium dodecylbenzenesulfonate, sodium decylbenzenesulfonate, potassium decylbenzenesulfonate, sodium cetylbenzenesulfonate, potassium cetylbenzenesulfonate and mixtures thereof. And the like.

【0056】本発明の樹脂組成物中の上記界面活性剤
は、上記PBT系樹脂(A)100重量部、ポリエーテ
ルエステル(B)5〜30重量部に対し、界面活性剤
(C)を0.5〜6重量部含有する。0.5重量部より
少ないと界面活性剤の添加効果が現れず、6重量部を越
えると物性低下の原因になったり、取り扱い性の低下を
招くからである。かかる界面活性剤(B)の含有量は好
ましくは0.7〜5重量部、より好ましくは1〜4重量
部である。
The surfactant in the resin composition of the present invention is 0 to 100 parts by weight of the PBT resin (A) and 5 to 30 parts by weight of the polyetherester (B). 0.5-6 parts by weight. If the amount is less than 0.5 part by weight, the effect of adding the surfactant will not be exhibited, and if it exceeds 6 parts by weight, it may cause a decrease in physical properties or a decrease in handleability. The content of the surfactant (B) is preferably 0.7 to 5 parts by weight, more preferably 1 to 4 parts by weight.

【0057】本発明の帯電防止用樹脂組成物は、従来公
知の方法で、上記PBT系樹脂(A)、ポリエーテルエ
ステル(B)及び界面活性剤(C)を溶融混合すること
により製造することができる。溶融混合する方法として
は、例えば、本発明の樹脂組成物のかかる構成成分を、
一軸あるいは二軸の溶融押し出し機を用いて溶融混合す
る方法が挙げられる。
The antistatic resin composition of the present invention is produced by melt-mixing the above PBT resin (A), polyetherester (B) and surfactant (C) by a conventionally known method. Can be. As a method of melt mixing, for example, such a component of the resin composition of the present invention,
There is a method of melt-mixing using a single-screw or twin-screw melt extruder.

【0058】上記樹脂組成物の構成成分(A)、(B)
及び(C)は、同時に溶融混合してもよいが、あらかじ
め、ポリエーテルエステル(B)及び界面活性剤(C)
を溶融混合した後、ついでこれとPBT系樹脂(A)と
を溶融混合することにより、永続的な帯電防止効果をよ
り発揮し、透明性、物性、成形性及び耐熱性の低下の少
ない帯電防止PBT系樹脂組成物を得ることができ、望
ましい。
The components (A) and (B) of the above resin composition
And (C) may be melt-mixed simultaneously, but the polyetherester (B) and the surfactant (C)
Is melt-mixed, and then melt-mixed with the PBT resin (A), thereby exhibiting a permanent antistatic effect, and exhibiting little reduction in transparency, physical properties, moldability and heat resistance. A PBT-based resin composition can be obtained, which is desirable.

【0059】あらかじめポリエーテルエステル(B)及
び界面活性剤(C)を溶融混合する方法としては、例え
ば、ポリエーテルエステルが重合反応終了後、そのまま
重合槽に上記界面活性剤を添加して混合し、PBT系樹
脂(A)と溶融混合するする方法、一軸あるいは二軸の
溶融押し出し機を用いてポリエーテルエステル(B)及
び界面活性剤(C)を混合し、系樹脂(A)と溶融混合
するする方法等が挙げられる。ポリエーテルエステル
(B)及び界面活性剤(C)を溶融混合する温度として
は、概ね140℃から300℃である。140℃より温
度が低いと混合が十分ではないことがあり、300℃よ
り温度が高いと、分解などの劣化を起こすことがあり好
ましくない。溶融混合温度は好ましくは160℃から2
70℃であり、より好ましくは200℃から260℃で
ある。
As a method for previously melting and mixing the polyetherester (B) and the surfactant (C), for example, after the polyetherester has been polymerized, the surfactant is added to the polymerization tank and mixed. , Melt mixing with PBT resin (A), mixing polyetherester (B) and surfactant (C) using uniaxial or biaxial melt extruder and melt mixing with system resin (A) And the like. The temperature at which the polyetherester (B) and the surfactant (C) are melted and mixed is generally from 140 ° C to 300 ° C. If the temperature is lower than 140 ° C., mixing may not be sufficient, and if the temperature is higher than 300 ° C., deterioration such as decomposition may occur, which is not preferable. The melt mixing temperature is preferably from 160 ° C to 2
70 ° C, more preferably from 200 ° C to 260 ° C.

【0060】こうして得られる(B)及び(C)からな
る混合物をさらにPBT系樹脂(A)と200℃から3
00℃で溶融混合することにより、本発明の帯電防止P
BT系樹脂組成物を得ることができる。こうした混合は
一軸あるいは二軸の溶融押し出し機を用いて実施でき
る。この際、200℃より温度が低いと混合が十分では
ないことがあり、300℃より温度が高いと、分解など
の劣化を起こすことがあり好ましくない。溶融混合温度
は好ましくは220℃から290℃であり、より好まし
くは230℃から280℃である。
The mixture comprising (B) and (C) thus obtained is further mixed with PBT resin (A) at 200 ° C.
By melting and mixing at 00 ° C., the antistatic P
A BT-based resin composition can be obtained. Such mixing can be carried out using a single or twin screw melt extruder. At this time, if the temperature is lower than 200 ° C., mixing may not be sufficient, and if the temperature is higher than 300 ° C., deterioration such as decomposition may occur, which is not preferable. The melt mixing temperature is preferably from 220 ° C to 290 ° C, more preferably from 230 ° C to 280 ° C.

【0061】本発明の帯電防止PBT系樹脂組成物は、
必要に応じて各種の添加剤を含有していてもよい。かか
る添加剤としては、ガラス繊維、金属繊維、アラミド繊
維、セラミック繊維、チタン酸カリウィスカー、炭酸繊
維、アスベストのような繊維状強化剤、タルク、炭酸カ
ルシウム、マイカ、クレー、酸化チタン、酸化アルミニ
ウム、ガラスフレーク、ミルドファイバー、金属フレー
ク、金属粉末のような各種充填剤、リン酸エステル、亜
リン酸エステルに代表されるような熱安定剤あるいは触
媒失活剤、酸化安定剤、光安定剤、滑剤、顔料、難燃化
剤、難燃助剤、可塑剤などの添加剤が挙げられる。
The antistatic PBT resin composition of the present invention comprises:
Various additives may be contained as needed. Examples of such additives include glass fiber, metal fiber, aramid fiber, ceramic fiber, potassium whisker, carbonate fiber, fibrous reinforcing agent such as asbestos, talc, calcium carbonate, mica, clay, titanium oxide, aluminum oxide, Various fillers such as glass flakes, milled fibers, metal flakes and metal powders, heat stabilizers such as phosphate esters and phosphites or catalyst deactivators, oxidation stabilizers, light stabilizers, lubricants And additives such as a pigment, a flame retardant, a flame retardant auxiliary, and a plasticizer.

【0062】特に、光安定剤としては、下記式(X)Particularly, as the light stabilizer, the following formula (X)

【0063】[0063]

【化7】 Embedded image

【0064】に示される様な、トリアジン系光安定剤が
好ましく使用することが出来る。下記式(X)のRxは
炭素数1〜19のアルキル基を示す。具体的には、Rx
がn−ヘキシル基である2−(4,6−ジフェニル−
1,3,5−トリアジン−2−イル)−5−[(ヘキシ
ル)オキシ]−フェノール(下記式(X−1))
A triazine-based light stabilizer as shown in (1) can be preferably used. Rx in the following formula (X) represents an alkyl group having 1 to 19 carbon atoms. Specifically, Rx
Is an n-hexyl group, 2- (4,6-diphenyl-
1,3,5-triazin-2-yl) -5-[(hexyl) oxy] -phenol (formula (X-1) below)

【0065】[0065]

【化8】 Embedded image

【0066】が好ましく使用することが出来る。該化合
物の添加量はポリエーテルエステル(B)100重量部
に対して、0.01〜5重量%含有することが好まし
く、0.1〜1重量%含有することが更に好ましい。
Can be preferably used. The compound is preferably added in an amount of 0.01 to 5% by weight, more preferably 0.1 to 1% by weight, based on 100 parts by weight of the polyetherester (B).

【0067】特に、酸化安定剤としては、ヒンダードフ
ェノール系酸化安定剤を好ましく使用することが出来
る。具体例としては1,3,5−トリメチル−2,4,
6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ
ベンジル)ベンゼン、3,9−ビス[2−〔3−(3−
t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−
プロピオニルオキシ〕−1,1−ジメチルエチル]−
2,4,8,10−テトラオキサスピロ〔5・5〕ウン
デカン等が好ましい化合物として挙げられる。該化合物
の添加量は、ポリエーテルエステル(B)100重量部
に対して、0.01〜5重量%含有することが好まし
く、0.1〜1重量%含有することが更に好ましい。
In particular, a hindered phenol-based oxidation stabilizer can be preferably used as the oxidation stabilizer. As a specific example, 1,3,5-trimethyl-2,4,
6-tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, 3,9-bis [2- [3- (3-
t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)-
Propionyloxy] -1,1-dimethylethyl]-
Preferred compounds include 2,4,8,10-tetraoxaspiro [5.5] undecane. The compound is preferably added in an amount of 0.01 to 5% by weight, more preferably 0.1 to 1% by weight, based on 100 parts by weight of the polyetherester (B).

【0068】[0068]

【発明の効果】本発明によれば、スルホン酸塩基で核置
換された特定の芳香族ジカルボン酸成分を含有して成る
ポリエーテルエステル及び界面活性剤を、PBT系樹脂
と混合することにより、該PBT系樹脂の機械物性等を
損なうことなく、高い帯電防止効果を永続的に発揮する
PBT系樹脂組成物を得ることができる。
According to the present invention, a polyetherester containing a specific aromatic dicarboxylic acid component nucleus-substituted with a sulfonate group and a surfactant are mixed with a PBT-based resin to form the mixture. It is possible to obtain a PBT-based resin composition that permanently exhibits a high antistatic effect without impairing the mechanical properties and the like of the PBT-based resin.

【0069】したがって、かかる樹脂組成物は、OA機
器、電子部材、自動車のハウジング、医療用部材、各種
容器、カバー、フィルム、シート等に有用である。
Accordingly, such a resin composition is useful for OA equipment, electronic members, automobile housings, medical members, various containers, covers, films, sheets and the like.

【0070】[0070]

【実施例】以下実施例を挙げて本発明の好ましい態様に
ついて記載するが、本発明は実施例のみに限定されるも
のではない。実施例中「部」は「重量部」を意味する。
また還元粘度は、特に指定のない限りフェノール/テト
ラクロロエタン(重量比60/40)の混合溶媒中にお
いて濃度1.2(g/dl)、35℃にて測定した値で
ある。表面固有抵抗率の測定は、20℃、湿度60%の
条件下で24時間放置した後、超絶縁計(東亜電波工業
株式会社製SM−8210)を用いて印加電圧1000
Vにて測定した。成型品の水洗は、30℃の流水で2時
間洗浄を行い、清浄な紙で水分をふき取った。その後、
同様の条件で乾燥し、表面固有抵抗率の測定を行った。
耐光性評価は、重合チップに水銀ランプを40時間照射
し、還元粘度の低下が未照射に対して、50%以下なら
「×」、50%以上80%以下なら「△」、80%以上
なら「○」とした。成形時の「目やに」発生性評価は、
実施例に記載されているエクストルーダーによるチップ
化時のルーダーのストランド吐出部を観察することによ
り評価した。即ち、吐出部に「目やに」のごとく着色し
た異物が発生した場合を「×」、発生しない場合を
「○」とした。
EXAMPLES Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to examples, but the present invention is not limited to the examples. In the examples, "parts" means "parts by weight".
The reduced viscosity is a value measured at 35 ° C. at a concentration of 1.2 (g / dl) in a mixed solvent of phenol / tetrachloroethane (weight ratio 60/40) unless otherwise specified. The measurement of the surface resistivity was carried out by standing for 24 hours at 20 ° C. and a humidity of 60%, and then applying an applied voltage of 1000 using a super insulation meter (SM-8210 manufactured by Toa Denpa Kogyo Co., Ltd.).
V. The molded product was washed with running water at 30 ° C. for 2 hours, and the moisture was wiped off with clean paper. afterwards,
It dried under the same conditions and measured the surface specific resistivity.
The light fastness was evaluated by irradiating the polymerized chip with a mercury lamp for 40 hours. The reduction in reduced viscosity was 50% or less, “X”, 50% or more and 80% or less, “△”, and 80% or more. "O" was given. "Eye and eye" generation evaluation during molding
Evaluation was made by observing the strand discharge portion of the extruder at the time of chipping by the extruder described in the examples. That is, "x" indicates that a foreign substance colored like "eyes" was generated in the discharge section, and "o" indicates that no foreign substance was generated.

【0071】[参考例1]10418部のジメチルテレ
フタレート、1865部の5−ナトリウムスルホイソフ
タル酸ジメチル(10.5モル%)、7440部のエチ
レングリコール、26400部のポリエチレングリコー
ル(数平均分子量2000)(70重量%)、及び2
4.48部のテトラブチルチタネートを精留塔及び撹拌
装置を備えた反応器に入れ、容器内を窒素置換した後、
常圧下、200℃に昇温した。メタノールを留去しなが
ら5時間反応を行った後、ヒンダードフェノール系酸化
安定剤として1,3,5−トリメチル−2,4,6−ト
リス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジ
ル)ベンゼンを189部添加し、反応物を撹拌装置を備
えた真空留出系を有する反応器に入れ、45分間で23
0℃まで昇温した。その時点で徐々に反応系内を減圧
し、60分後0.3mmHgとし、2時間後に常圧に戻
しジフェニルカーボネートを154部添加して減圧攪拌
を再開した。以後一時間おきに上述と同様にジフェニル
カーボネート添加及び減圧処理をを繰り返した。4回目
の減圧処理を終えた後、光安定剤として2−(4,6−
ジフェニル−1,3,5−トリアジン−2−イル)−5
−[(ヘキシル)オキシ]−フェノール:チヌビン15
77ff(チバ・スペシャルティ・ケミカル(株)製)を
189部加え10分間混合した後吐出した。最終的に得
られたポリエーテルエステルの還元粘度は3.92であ
った。
Reference Example 1 10418 parts of dimethyl terephthalate, 1865 parts of dimethyl 5-sodium sulfoisophthalate (10.5 mol%), 7440 parts of ethylene glycol, 26400 parts of polyethylene glycol (number average molecular weight 2000) ( 70% by weight), and 2
4.48 parts of tetrabutyl titanate was placed in a reactor equipped with a rectification column and a stirrer, and the atmosphere in the vessel was replaced with nitrogen.
The temperature was raised to 200 ° C. under normal pressure. After performing the reaction for 5 hours while distilling off methanol, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-tert-butyl-4-) is used as a hindered phenol-based oxidation stabilizer. 189 parts of (hydroxybenzyl) benzene were added, and the reaction mixture was placed in a reactor having a vacuum distillation system equipped with a stirrer, and the reaction mixture was added for 23 minutes in 45 minutes.
The temperature was raised to 0 ° C. At that time, the pressure in the reaction system was gradually reduced to 0.3 mmHg after 60 minutes, the pressure was returned to normal after 2 hours, 154 parts of diphenyl carbonate was added, and the stirring under reduced pressure was restarted. Thereafter, the addition of diphenyl carbonate and the reduced pressure treatment were repeated every hour in the same manner as described above. After finishing the fourth decompression treatment, 2- (4,6-
Diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl) -5
-[(Hexyl) oxy] -phenol: tinuvin 15
189 parts of 77ff (manufactured by Ciba Specialty Chemical Co., Ltd.) were added, mixed for 10 minutes, and discharged. The reduced viscosity of the polyetherester finally obtained was 3.92.

【0072】[参考例2]11095部のジメチルテレ
フタレート、831部の5−ナトリウムスルホイソフタ
ル酸ジメチル(4.68モル%)、7440部のエチレ
ングリコール、25080部のポリエチレングリコール
(数平均分子量2000)(70重量%)、及び24.
48部のテトラブチルチタネートを精留塔及び撹拌装置
を備えた反応器に入れ、容器内を窒素置換した後、常圧
下、200℃に昇温した。メタノールを留去しながら5
時間反応を行った後、ヒンダードフェノール系酸化安定
剤として1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス
(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)
ベンゼンを149部添加し、反応物を撹拌装置を備えた
真空留出系を有する反応器に入れ、45分間で230℃
まで昇温した。その時点で徐々に反応系内を減圧し、6
0分後0.3mmHgとし、2時間後に常圧に戻しジフ
ェニルカーボネートを154部添加して減圧攪拌を再開
した。以後一時間おきに上述と同様にジフェニルカーボ
ネート添加及び減圧処理をを繰り返した。5回目の減圧
処理を終えた後、光安定剤として2−(4,6−ジフェ
ニル−1,3,5−トリアジン−2−イル)−5−
[(ヘキシル)オキシ]−フェノール:チヌビン157
7ff(チバ・スペシャルティ・ケミカル(株)製)を
149部加え10分間混合した後吐出した。最終的に得
られたポリエーテルエステルの還元粘度は4.57であ
った。
Reference Example 2 11095 parts of dimethyl terephthalate, 831 parts of dimethyl 5-sodium sulfoisophthalate (4.68 mol%), 7440 parts of ethylene glycol, 25080 parts of polyethylene glycol (number average molecular weight 2000) ( 30% by weight), and 24.
Forty-eight parts of tetrabutyl titanate was placed in a reactor equipped with a rectification tower and a stirrer, and the atmosphere in the vessel was replaced with nitrogen. 5 while distilling off methanol
After performing the reaction for 1 hour, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) is used as a hindered phenol-based oxidation stabilizer.
149 parts of benzene were added and the reaction was placed in a reactor having a vacuum distillation system equipped with a stirrer,
Temperature. At that time, the pressure inside the reaction system was gradually reduced to 6
The pressure was adjusted to 0.3 mmHg after 0 minute, the pressure was returned to normal after 2 hours, 154 parts of diphenyl carbonate was added, and the stirring under reduced pressure was restarted. Thereafter, the addition of diphenyl carbonate and the reduced pressure treatment were repeated every hour in the same manner as described above. After finishing the fifth pressure reduction, 2- (4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl) -5- as a light stabilizer.
[(Hexyl) oxy] -phenol: tinuvin 157
149 parts of 7ff (manufactured by Ciba Specialty Chemical Co., Ltd.) was added, mixed for 10 minutes, and then discharged. The reduced viscosity of the finally obtained polyetherester was 4.57.

【0073】[参考例3](光安定剤なし) 11095部のジメチルテレフタレート、831部の5
−ナトリウムスルホイソフタル酸ジメチル(4.68モ
ル%)、7440部のエチレングリコール、25080
部のポリエチレングリコール(数平均分子量2000)
(70重量%)、及び24.48部のテトラブチルチタ
ネートを精留塔及び撹拌装置を備えた反応器に入れ、容
器内を窒素置換した後、常圧下、200℃に昇温した。
メタノールを留去しながら5時間反応を行った後、ヒン
ダードフェノール系酸化安定剤として3,9−ビス[2
−〔3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチ
ルフェニル)−プロピオニルオキシ〕−1,1−ジメチ
ルエチル]−2,4,8,10−テトラオキサスピロ
〔5・5〕ウンデカンを149部添加し、反応物を撹拌
装置を備えた真空留出系を有する反応器に入れ、45分
間で230℃まで昇温した。その時点で徐々に反応系内
を減圧し、60分後0.3mmHgとし、2時間後に常
圧に戻しジフェニルカーボネートを154部添加して減
圧攪拌を再開した。以後一時間おきに上述と同様にジフ
ェニルカーボネート添加及び減圧処理をを繰り返した。
5回目の減圧処理を終えた後吐出した。最終的に得られ
たポリエーテルエステルの還元粘度は3.20であっ
た。
Reference Example 3 (without light stabilizer) 11095 parts of dimethyl terephthalate, 831 parts of 5
Dimethyl sodium sulfoisophthalate (4.68 mol%), 7440 parts of ethylene glycol, 25080
Parts of polyethylene glycol (number average molecular weight 2000)
(70% by weight) and 24.48 parts of tetrabutyl titanate were placed in a reactor equipped with a rectification tower and a stirrer. After the inside of the vessel was replaced with nitrogen, the temperature was raised to 200 ° C. under normal pressure.
After performing a reaction for 5 hours while distilling off methanol, 3,9-bis [2] was used as a hindered phenol-based oxidation stabilizer.
-[3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) -propionyloxy] -1,1-dimethylethyl] -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5.5] undecane Was added, and the reaction product was charged into a reactor having a vacuum distillation system equipped with a stirrer, and the temperature was raised to 230 ° C. in 45 minutes. At that time, the pressure in the reaction system was gradually reduced to 0.3 mmHg after 60 minutes, the pressure was returned to normal after 2 hours, 154 parts of diphenyl carbonate was added, and the stirring under reduced pressure was restarted. Thereafter, the addition of diphenyl carbonate and the reduced pressure treatment were repeated every hour in the same manner as described above.
After the fifth decompression process, the liquid was discharged. The reduced viscosity of the polyetherester finally obtained was 3.20.

【0074】[参考例4](低い重合度) 11095部のジメチルテレフタレート、831部の5
−ナトリウムスルホイソフタル酸ジメチル(4.68モ
ル%)、7440部のエチレングリコール、25080
部のポリエチレングリコール(数平均分子量2000)
(70重量%)、及び24.48部のテトラブチルチタ
ネートを精留塔及び撹拌装置を備えた反応器に入れ、容
器内を窒素置換した後、常圧下、200℃に昇温した。
メタノールを留去しながら5時間反応を行った後、ヒン
ダードフェノール系酸化安定剤として3,9−ビス[2
−〔3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチ
ルフェニル)−プロピオニルオキシ〕−1,1−ジメチ
ルエチル]−2,4,8,10−テトラオキサスピロ
〔5・5〕ウンデカンを149部添加し、反応物を撹拌
装置を備えた真空留出系を有する反応器に入れ、45分
間で230℃まで昇温した。その時点で徐々に反応系内
を減圧し、60分後0.3mmHgとし、8時間後に吐
出した。最終的に得られたポリエーテルエステルの還元
粘度は0.87であった。
Reference Example 4 (Low polymerization degree) 11095 parts of dimethyl terephthalate, 831 parts of 5
Dimethyl sodium sulfoisophthalate (4.68 mol%), 7440 parts of ethylene glycol, 25080
Parts of polyethylene glycol (number average molecular weight 2000)
(70% by weight) and 24.48 parts of tetrabutyl titanate were placed in a reactor equipped with a rectification tower and a stirrer. After the inside of the vessel was replaced with nitrogen, the temperature was raised to 200 ° C. under normal pressure.
After performing a reaction for 5 hours while distilling off methanol, 3,9-bis [2] was used as a hindered phenol-based oxidation stabilizer.
-[3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) -propionyloxy] -1,1-dimethylethyl] -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5.5] undecane Was added, and the reaction product was charged into a reactor having a vacuum distillation system equipped with a stirrer, and the temperature was raised to 230 ° C. in 45 minutes. At that time, the pressure in the reaction system was gradually reduced to 0.3 mmHg after 60 minutes, and the reaction was discharged after 8 hours. The reduced viscosity of the polyetherester finally obtained was 0.87.

【0075】[実施例1、2、3]PBT樹脂(帝人株
式会社製「TRB−HT」)に対して、参考例1〜3で
得られたポリエーテルエステル10部及び界面活性剤と
してドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム1部との混
合物(総計100部)をそれぞれ下記表1記載の量で、
30mmφ同方向回転2軸エクストルーダー(池貝鉄工
株式会社製、PCM30)を用いて、ポリマー温度25
0℃、平均滞留時間約3分の条件下で溶融混練し、これ
をペレット化した。次に射出成型機(名機製作所株式会
社製M−50B)を用いて、シリンダー温度250℃、
金型温度50℃にて射出成形を行い、2mm厚の成型品
を得、表面固有抵抗の測定を行った。耐光性、成形時の
「目やに」発生性と共に、結果を表1に示す。
[Examples 1, 2, and 3] 10 parts of the polyetherester obtained in Reference Examples 1 to 3 and dodecylbenzene as a surfactant were added to a PBT resin ("TRB-HT" manufactured by Teijin Limited). A mixture with 1 part of sodium sulfonate (100 parts in total) was added in an amount shown in Table 1 below,
Using a 30 mm φ co-rotating twin-screw extruder (PCM30, manufactured by Ikegai Iron Works Co., Ltd.), polymer temperature 25
The mixture was melt-kneaded at 0 ° C. and an average residence time of about 3 minutes, and pelletized. Next, using an injection molding machine (M-50B manufactured by Meiki Seisakusho Co., Ltd.), the cylinder temperature was set to 250 ° C.
Injection molding was performed at a mold temperature of 50 ° C. to obtain a molded product having a thickness of 2 mm, and the surface resistivity was measured. The results are shown in Table 1 together with the light fastness and the occurrence of "eye fray" during molding.

【0076】[比較例1]PBT樹脂(帝人株式会社製
「TRB−HT」)100部に対して、参考例4で得ら
れたポリエーテルエステル及び界面活性剤との混合物を
それぞれ下記表1記載の量で、30mmφ同方向回転2
軸エクストルーダー(池貝鉄工株式会社製、PCM3
0)を用いて、ポリマー温度250℃、平均滞留時間約
3分の条件下で溶融混練し、これをペレット化した。次
に射出成型機(名機製作所株式会社製M−50B)を用
いて、シリンダー温度250℃、金型温度50℃にて射
出成形を行い、2mm厚の成型品を得、表面固有抵抗の
測定を行った。機械物性、明度指数と共に、結果を表1
に示す。
[Comparative Example 1] A mixture of the polyetherester and the surfactant obtained in Reference Example 4 with respect to 100 parts of a PBT resin ("TRB-HT" manufactured by Teijin Limited) is shown in Table 1 below. 30mmφ same direction rotation 2
Shaft extruder (PCM3 manufactured by Ikegai Iron Works Co., Ltd.)
Using 0), the mixture was melt-kneaded under the conditions of a polymer temperature of 250 ° C. and an average residence time of about 3 minutes, and pelletized. Next, using an injection molding machine (M-50B manufactured by Meiki Seisakusho Co., Ltd.), injection molding was performed at a cylinder temperature of 250 ° C. and a mold temperature of 50 ° C. to obtain a molded product having a thickness of 2 mm, and measurement of surface resistivity was performed. Was done. Table 1 shows the results together with mechanical properties and lightness index.
Shown in

【0077】[比較例2]PBT樹脂(帝人株式会社製
「TRB−HT」)を射出成型機(名機製作所株式会社
製M−50B)を用いて、シリンダー温度250℃、金
型温度50℃にて射出成形を行い、2mm厚の成型品を
得、表面固有抵抗の測定を行った。機械物性と共に、結
果を表1に示す。
[Comparative Example 2] PBT resin ("TRB-HT" manufactured by Teijin Limited) was molded using an injection molding machine (M-50B manufactured by Meiki Seisakusho Co., Ltd.) at a cylinder temperature of 250 ° C and a mold temperature of 50 ° C. , And a molded product having a thickness of 2 mm was obtained, and the surface resistivity was measured. The results are shown in Table 1 together with the mechanical properties.

【0078】[0078]

【表1】 [Table 1]

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C09K 3/16 108 C09K 3/16 108Z // C07D 251/24 C07D 251/24 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) C09K 3/16 108 C09K 3/16 108Z // C07D 251/24 C07D 251/24

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 PBT系樹脂(A)100重量部、炭素
数6〜20のジカルボン酸及び/またはそのエステル
(B1)、数平均分子量200〜50000のポリ(ア
ルキレンオキシド)グリコール(B2)、及び炭素数2
〜10のグリコール(B3)を重縮合して得られるポリ
エーテルエステル(B)5〜30重量部、並びに界面活
性剤(C)0.5〜6重量部からなる樹脂組成物におい
て、上記(B1)が下記式(1) 【化1】 [式(1)中、Arは炭素数6〜12の3価の芳香族
基、R1及びR2はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜
6のアルキル基又は炭素数6〜12のアリール基を表
し、M+は金属イオン、テトラアルキルホスホニウムイ
オン又はテトラアルキルアンモニウムイオンを表す。]
で示されるスルホン酸塩基で置換された芳香族ジカルボ
ン酸及び/またはそのエステル(B1’)を全酸成分
(B1)の3〜50モル%含み、かつ上記ポリエーテル
エステル(B)を構成する上記(B2)の含有量が(B
1)、(B2)及び(B3)の合計量の40〜90重量
%の範囲内であり、かつポリエーテルエステル(B)
が、フェノール/テトラクロロエタン(重量比60/4
0)の混合溶媒中35℃で測定した還元粘度(濃度1.
2g/dl)で、1.0以上5.0以下であることを特
徴とする帯電防止PBT系樹脂組成物。
1. 100 parts by weight of a PBT resin (A), a dicarboxylic acid having 6 to 20 carbon atoms and / or an ester thereof (B1), a poly (alkylene oxide) glycol having a number average molecular weight of 200 to 50,000 (B2), and Carbon number 2
In a resin composition comprising 5 to 30 parts by weight of a polyetherester (B) obtained by polycondensation of glycol (B3) of 10 to 10 and 0.5 to 6 parts by weight of a surfactant (C), ) Is the following formula (1) [In the formula (1), Ar is a trivalent aromatic group having 6 to 12 carbon atoms, R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom and 1 to 1 carbon atoms.
6 represents an alkyl group or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and M + represents a metal ion, a tetraalkylphosphonium ion or a tetraalkylammonium ion. ]
The aromatic dicarboxylic acid and / or its ester (B1 ′) substituted with a sulfonic acid group represented by the formula (3) is contained in an amount of 3 to 50 mol% of the total acid component (B1), and the polyetherester (B) is formed. When the content of (B2) is (B
1) in the range of 40 to 90% by weight of the total amount of (B2) and (B3), and the polyetherester (B)
Is phenol / tetrachloroethane (weight ratio 60/4)
0) at 35 ° C. in a mixed solvent (concentration 1.
(2 g / dl), and not less than 1.0 and not more than 5.0.
【請求項2】 該ポリエーテルエステル(B)が、重縮
合時に芳香族カルボン酸及び/またはそのエステル(B
1)に対して0.5〜10モル%の活性エステル化合物
を添加して得られたものであることを特徴とする請求項
1に記載の帯電防止PBT系樹脂組成物。
2. The method according to claim 1, wherein the polyetherester (B) is an aromatic carboxylic acid and / or its ester (B) at the time of polycondensation.
2. The antistatic PBT resin composition according to claim 1, wherein the composition is obtained by adding 0.5 to 10 mol% of the active ester compound to 1).
【請求項3】 該活性エステル化合物が、芳香族エステ
ル誘導体及び/または芳香族炭酸エステルであることを
特徴とする請求項2に記載の帯電防止PBT系樹脂組成
物。
3. The antistatic PBT resin composition according to claim 2, wherein the active ester compound is an aromatic ester derivative and / or an aromatic carbonate.
【請求項4】 該活性エステル化合物が、ジフェニルテ
レフタレート及び/またはジフェニルカーボネートであ
ることを特徴とする請求項2に記載の帯電防止PBT系
樹脂組成物。
4. The antistatic PBT resin composition according to claim 2, wherein the active ester compound is diphenyl terephthalate and / or diphenyl carbonate.
【請求項5】 該界面活性剤(C)が、アルキルスルホ
ン酸塩及びアルキルベンゼンスルホン酸塩からなる群よ
り選ばれる少なくとも1種のイオン性界面活性剤である
請求項1〜4のいずれかに記載の帯電防止PBT系樹脂
組成物。
5. The surfactant according to claim 1, wherein the surfactant (C) is at least one ionic surfactant selected from the group consisting of alkyl sulfonates and alkyl benzene sulfonates. Anti-static PBT resin composition.
【請求項6】 ポリエーテルエステル(B)100重量
部に対して、さらに下記式(X) 【化2】 [式(X)中、Rxは炭素数1〜19のアルキル基を示
す]で表されるトリアジン系光安定剤を0.01〜5重
量%含有させたことを特徴とする請求項1〜5のいずれ
かに記載の帯電防止PBT系樹脂組成物。
6. The compound of the following formula (X) with respect to 100 parts by weight of the polyetherester (B). Wherein Rx represents an alkyl group having 1 to 19 carbon atoms in the formula (X), wherein a triazine light stabilizer represented by the formula: 0.01 to 5% by weight is contained. The antistatic PBT resin composition according to any one of the above.
【請求項7】 ポリエーテルエステル(B)100重量
部に対して、さらにヒンダードフェノール系酸化安定剤
を0.01〜5重量%含有させたことを特徴とする請求
項請求項1〜6のいずれかに記載の帯電防止PBT系樹
脂組成物。
7. The method according to claim 1, wherein the hindered phenol-based oxidation stabilizer is further contained in an amount of 0.01 to 5% by weight based on 100 parts by weight of the polyetherester (B). The antistatic PBT resin composition according to any one of the above.
【請求項8】 下記式(1) 【化3】 [式(1)中、Arは炭素数6〜12の3価の芳香族
基、R1及びR2はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜
6のアルキル基又は炭素数6〜12のアリール基を表
し、M+は金属イオン、テトラアルキルホスホニウムイ
オン又はテトラアルキルアンモニウムイオンを表す。]
で示されるスルホン酸塩基で置換された芳香族ジカルボ
ン酸及び/またはそのエステル(B1’)を含む炭素数
6〜20のジカルボン酸及び/またはそのエステル(B
1)、数平均分子量200〜50000のポリ(アルキ
レンオキシド)グリコール(B2)、及び炭素数2〜1
0のグリコール(B3)と、上記ジカルボン酸及び/ま
たはそのエステル(B1)に対して0.5〜10モル%
の活性エステル化合物とを添加し重縮合反応によりポリ
エーテルエステル(B)を得、ついで該ポリエーテルエ
ステル(B)と界面活性剤(C)とを溶融混合した後、
さらにPBT系樹脂(A)と溶融混合することを特徴と
する帯電防止PBT系樹脂組成物の製造方法。
8. The following formula (1): [In the formula (1), Ar is a trivalent aromatic group having 6 to 12 carbon atoms, R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom and 1 to 1 carbon atoms.
6 represents an alkyl group or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and M + represents a metal ion, a tetraalkylphosphonium ion or a tetraalkylammonium ion. ]
And a dicarboxylic acid having 6 to 20 carbon atoms and / or an ester thereof (B) including an aromatic dicarboxylic acid and / or an ester thereof (B1 ′) substituted with a sulfonic acid group represented by
1), poly (alkylene oxide) glycol (B2) having a number average molecular weight of 200 to 50,000, and 2-1 to 2 carbon atoms
0 to 10 to 10 mol% based on the glycol (B3) and the dicarboxylic acid and / or ester thereof (B1).
And a polycondensation reaction to obtain a polyetherester (B), followed by melt-mixing the polyetherester (B) with the surfactant (C),
A method for producing an antistatic PBT resin composition, which is further melt-mixed with the PBT resin (A).
JP11117783A 1999-04-26 1999-04-26 Antistatic pbt-based resin composition and its production Pending JP2000309691A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11117783A JP2000309691A (en) 1999-04-26 1999-04-26 Antistatic pbt-based resin composition and its production

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11117783A JP2000309691A (en) 1999-04-26 1999-04-26 Antistatic pbt-based resin composition and its production

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000309691A true JP2000309691A (en) 2000-11-07

Family

ID=14720217

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11117783A Pending JP2000309691A (en) 1999-04-26 1999-04-26 Antistatic pbt-based resin composition and its production

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000309691A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003050160A1 (en) * 2001-12-06 2003-06-19 Eastman Chemical Company Antistatic polyester-polyethylene glycol compositions
US7842772B2 (en) * 2001-05-02 2010-11-30 Borealis Technology Oy Stabilization of cross-linked silane group containing polymers with phenomic stabilizers

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7842772B2 (en) * 2001-05-02 2010-11-30 Borealis Technology Oy Stabilization of cross-linked silane group containing polymers with phenomic stabilizers
WO2003050160A1 (en) * 2001-12-06 2003-06-19 Eastman Chemical Company Antistatic polyester-polyethylene glycol compositions

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8686072B2 (en) Flame resistant polyester compositions, method of manufacture, and articles therof
JP3251507B2 (en) Polycarbonate resin composition with excellent transparency and antistatic properties
KR100230631B1 (en) Thermoplastic resin composition superior in transparency and antistatic property
JP2000136295A (en) Antistatic resin composition
JP2000309677A (en) Antistatic abs-based resin composition and its production
JP2000309691A (en) Antistatic pbt-based resin composition and its production
JP2000256545A (en) Flame retardant polyester resin composition, molded product using the same and production of the composition
JP3621757B2 (en) Permanent antistatic resin composition
JPH11343401A (en) Polycarbonate resin composition good in transparency and antistatic property
JP2000265027A (en) Antistatic acrylic resin composition and its production
JP3399767B2 (en) Permanent antistatic polycarbonate film or sheet and method for producing them
JP3455670B2 (en) Thermoplastic resin composition excellent in permanent antistatic property and transportation jig molded therefrom in electronics field
JP3547855B2 (en) Antistatic acrylic resin composition and method for producing the same
JP3592834B2 (en) Resin composition imparting permanent antistatic properties and thermoplastic resin composition containing the same
JP3574705B2 (en) Permanent antistatic resin composition and method for producing the same
JPH09124909A (en) Polyester resin composition excellent in impact resistance
JP3357741B2 (en) Polycarbonate resin composition
JPH09176412A (en) Polystyrene resin composition excellent in clarity and antistatic properties
JP3382121B2 (en) Polyester resin and its molded product
JP2000159998A (en) Antistatic polycarbonate-based resin composition
JPH08245869A (en) Polycarbonate resin composition
JPH0925335A (en) Polyether ester and polycarbonate resin composition containing the same
JPH0362848A (en) Polyarylate composition
JP2000072959A (en) Polyester resin composition for housing
JPH1135777A (en) Antistatic acrylic resin composition and its production

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050627

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070820

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080304

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20080805