JP2000306802A - Drawing graphic database apparatus - Google Patents

Drawing graphic database apparatus

Info

Publication number
JP2000306802A
JP2000306802A JP11111722A JP11172299A JP2000306802A JP 2000306802 A JP2000306802 A JP 2000306802A JP 11111722 A JP11111722 A JP 11111722A JP 11172299 A JP11172299 A JP 11172299A JP 2000306802 A JP2000306802 A JP 2000306802A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
data
graphic
electron beam
graphic data
information
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP11111722A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasuo Jinbo
安男 神保
Masataka Yamaji
山地  正高
Satoshi Watanabe
智 渡辺
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP11111722A priority Critical patent/JP2000306802A/en
Publication of JP2000306802A publication Critical patent/JP2000306802A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enable coping with increase in the amount of graphic data which is caused by design rule reduction and supplying graphic data to each electron beam drawing apparatus, in drawing graphic database machine providing graphic data which are divided into characteristic divided regions of electron beam drawing apparatuses and only have graphic data capable of being stored in the respective dividing regions to the electron beam drawing apparatus. SOLUTION: This drawing graphic database apparatus consists of a database part 110, which stores drawing graphic data as polygon data outline-displayed by using a coordinate system eliminating dividing regions, and has a retrieving function for extracting desired graphic information from the stored drawing graphic data, and an interface part 120 which converts the graphic information composed of the extracted polygon data into graphic data for an electron beam drawing apparatus and supplies them. The database part 110 stores the drawing graphic data in the state that graphic data of the same shape are compressed data expressed by basic graphic information and arrangement information. A calculation processing part performing calculation processings on the stored drawing graphic data is installed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電子ビーム描画装
置(EB描画装置とも言う)に固有の分割領域に分割さ
れ、各分割領域内に収まる図形データのみを持つ、電子
ビーム描画装置用の図形データを、電子ビーム描画装置
へ提供するための、描画図形データベース装置に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a graphic pattern for an electron beam lithography apparatus, which is divided into divided areas unique to an electron beam lithography apparatus (also referred to as an EB lithography apparatus) and has only graphic data which fits in each divided area. The present invention relates to a drawing figure database device for providing data to an electron beam drawing apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、半導体素子(チップ)の高密度化
は激しく、035μm設計ルールの64MDRAMを量
産もすでに始められ、0.25μm設計ルールの256
MDRAMの時代へと移ろうとしている。このため、ウ
エハへの露光を行うためのマスタマスクを作成するため
の、あるいは、ウエハへ直接縮小投影するためのレチク
ルについても、ますますその精度が求められるようにな
ってきた。更に、最近では、コスト低減を目指したチッ
プ縮小が著しく、64MDRAMを0.25設計ルール
まで微細化して、あるいは、256MDRAMを0.1
8設計ルールまで微細化してチップ縮小化を行ってい
る。仮に、64MDRAMを0.2μm設計ルールとす
ると、約16MDRAMと同じチップ寸法となり、ビッ
トコストは16Mの約1/4になる。ウエハサイズの大
サイズ化をせず、現装置でコスト低減が達成されること
となる。0.18μm設計ルールは開発完了し、200
0年には0.15μm設計ルールが開発完了予定とされ
ている。
2. Description of the Related Art In recent years, the density of semiconductor elements (chips) has been drastically increased, and mass production of a 64M DRAM having a design rule of 035 μm has already started.
We are moving into the era of MDRAM. For this reason, the accuracy of a reticle for creating a master mask for performing exposure on a wafer or for directly reducing and projecting a wafer on a wafer has been increasingly required. In recent years, chip reduction aimed at cost reduction has been remarkable, and 64MDRAM has been miniaturized to 0.25 design rule, or 256MDRAM has been reduced to 0.1%.
Chip miniaturization is performed by miniaturizing up to eight design rules. Assuming that 64 MDRAM has a 0.2 μm design rule, the chip size is about the same as that of about 16 MDRAM, and the bit cost is about 1 / of 16 M. The cost can be reduced with the current apparatus without increasing the wafer size. 0.18μm design rule has been developed and 200
It is expected that development of a 0.15 μm design rule will be completed in 2000.

【0003】このような中、レチクル作製のためのパタ
ーン描画においても、その加工精度がますます厳しくな
るとともに、描画所要時間の短縮が求められている。パ
ターン描画としては、通常、電子ビーム描画装置(EB
描画装置とも言う)が用いられるが、所定径のビームを
ON−OFFしながら、全面走査して描画するラスター
型の電子ビーム描画装置の場合、加工精度の要求が高く
なるに従い、その最小描画位置間隔(描画グリッドある
いは最小アドレスユニットとも言う)をより細かくして
いくことが必要で、これに伴い描画時間が格段に増える
こととなり、0.18μm以下の設計ルールでは、実用
レベルでなくなる。これに対して、矩形や45°斜辺を
有する三角形に成形されたビームを用い、パターン部の
みを照射して描画を行うベクター型電子ビーム描画装置
は、描画速度の面でラスター型に比べ有利で、レチクル
の作製においても用いられるようになっできた。尚、こ
のようなベクター型の電子ビーム描画装置を、成形ビー
ム型あるいはシエイプドビーム型の電子ビーム描画装置
とも言う。
[0005] Under such circumstances, in pattern drawing for producing a reticle, the processing accuracy is becoming more and more strict and the time required for drawing is required to be shortened. As a pattern drawing, an electron beam drawing apparatus (EB
However, in the case of a raster-type electron beam writing apparatus that performs scanning by drawing over the entire surface while turning on and off a beam of a predetermined diameter, the minimum drawing position is increased as the demand for processing accuracy increases. It is necessary to make the interval (also called a drawing grid or a minimum address unit) finer, and accordingly, the drawing time is significantly increased, and the design rule of 0.18 μm or less is not at a practical level. On the other hand, a vector-type electron beam writing apparatus that performs writing by irradiating only a pattern portion by using a beam shaped into a rectangle or a triangle having a 45 ° hypotenuse is more advantageous than a raster type in terms of writing speed. Have been used in the production of reticles. Note that such a vector-type electron beam writing apparatus is also referred to as a shaped beam type or shaped beam type electron beam writing apparatus.

【0004】ところで、電子ビーム描画装置用の図形デ
ータは、電子ビーム描画装置に固有の分割領域に分割さ
れ、各分割領域内に収まる図形データのみを持つもの
で、一般には、台形表示の図形データあるいは、台形、
矩形、正方形、平行四辺形の各図形データから成ってい
る。矩形、正方形、平行四辺形の各図形は、台形表示の
一部として扱うことができ、全て台形図形データから成
るとすることもできる。基本的に、各図形は、図形位
置、図形の形状を定義されて表現されている。尚、ここ
では、台形の平行な2辺側がx方向、y方向のものを、
それぞれ、x方向切り台形、y方向切り台形と言ってい
る。
[0004] By the way, the graphic data for the electron beam lithography apparatus is divided into divided areas unique to the electron beam lithography apparatus, and has only graphic data that fits within each divided area. Or trapezoid,
It consists of figure data of rectangle, square, and parallelogram. Each of the rectangles, squares, and parallelograms can be handled as a part of the trapezoidal display, and all of them can be made up of trapezoidal figure data. Basically, each figure is represented by defining a figure position and a figure shape. Here, the two parallel sides of the trapezoid have the x direction and the y direction.
They are called an x-direction trapezoid and a y-direction trapezoid, respectively.

【0005】このような電子ビーム描画装置用の図形デ
ータについては、1つの分割領域内毎に、繰り返しのあ
る図形、即ち、X、Y方向のピッチ送りだけでその位置
を定義できる同一図形を含む場合、通常、各同一形状の
図形毎に、始発図形位置、図形の形状、送りピッチ、配
列数を定義して、データ圧縮を行っている。例えば、幅
W1、高さH1の矩形を、始発図形位置(X1、Y1)
として、X方向にNx個、Y方向にNy個、それぞれピ
ッチPx、Pyで配列させる場合には、(X1、Y1、
W1、H1、Px1、Py1、Nx、Ny)と表してい
る。図4(a)に示す、各図形を全て1つ1つ、個別に
表現すると、図形分だけ(31個)図形データが必要で
あるが、図4(b)に示すように、A1、B1、C1、
C2、D1、E1、C3、F1、G1、C4、A2、B
2、C5の図形をそれぞれ用いた、圧縮したデータ13
個で表すことができる。尚、A(m1、n1)、A(m
1+1、n1)は分割領域を示している。このように、
現状でも電子ビーム描画装置用の図形データは圧縮され
た表現が用いられているが、分割領域の境で絵柄が切れ
ることや、データの表現が図形単位であるため、データ
数が多くなる。
[0005] Such graphic data for an electron beam lithography apparatus includes, for each divided area, a repeated graphic, that is, the same graphic whose position can be defined only by pitch feed in the X and Y directions. In such a case, data compression is usually performed by defining a starting figure position, a figure shape, a feed pitch, and an array number for each figure having the same shape. For example, a rectangle having a width W1 and a height H1 is defined as a starting figure position (X1, Y1).
In the case of arranging Nx pieces in the X direction and Ny pieces in the Y direction at pitches Px and Py, respectively, (X1, Y1,.
W1, H1, Px1, Py1, Nx, Ny). When each figure shown in FIG. 4A is individually represented one by one, graphic data for the figure (31 pieces) is required, but as shown in FIG. 4B, A1, B1 , C1,
C2, D1, E1, C3, F1, G1, C4, A2, B
2, compressed data 13 using figures of C5 respectively
It can be represented by an individual. A (m1, n1), A (m
1 + 1, n1) indicate divided areas. in this way,
At present, compressed data is used for graphic data for an electron beam lithography apparatus. However, the number of data is large because a picture is cut off at the boundary of a divided area and the data is expressed in graphic units.

【0006】このため、近年の設計ルールの縮小化に伴
い、1枚のレチクルを作成するための図形データ量が増
大化の一途をたどり、最近では、もはや扱えるデータ量
が実用レベルでは限界となってきた。特に、更に演算処
理を施す場合には、実用レベルでは、その処理が難しく
なってきた。
For this reason, with the reduction in design rules in recent years, the amount of graphic data for creating one reticle has been steadily increasing, and recently, the amount of data that can be handled is now limited to a practical level. Have been. In particular, when further processing is performed, the processing becomes difficult on a practical level.

【0007】また、電子ビーム描画装置用の図形データ
は、基本的に台形表示を基本とするものであるが、各描
画装置毎に、データの分割領域や表現が若干異なるだけ
であるが、1つ描画装置用の図形データを他機種へその
まま転用することは困難で、他機種への転用が容易にで
きる方法が求められていた。
Although the graphic data for the electron beam drawing apparatus is basically based on trapezoidal display, the data divided areas and expressions are slightly different for each drawing apparatus. It is difficult to transfer graphic data for a drawing device to another model as it is, and there has been a demand for a method that can be easily transferred to another model.

【0008】また、図5(a)に示すように、絵柄が、
複数の分割領域A(m、n)、A(m+1、n)、A
(m、n+1)、A(m+1、n+1)に跨がる場合、
それぞれの分割領域においては、それぞれ、図形データ
、、、で表現されている。この電子ビーム描画
装置用の図形データ全体に、所定のサイズだけ、縮小処
理する縮小サイジング処理を施すと、図5(b)に示す
ように、縮小された図形データ’、’、’、’
が得られ、分割領域間の境界では、本来隙間があっては
ならないにもかかわらず、図形データ間に隙間が発生し
てしまう。即ち、絵柄によっては、サイジング処理によ
り、変形が起きることがある。このため、縮小サイジン
グ処理等の演算処理を、図形に変形をもたらすことなく
簡単に行える処理も求められている。
[0008] Further, as shown in FIG.
A plurality of divided areas A (m, n), A (m + 1, n), A
(M, n + 1) and A (m + 1, n + 1),
Each divided area is represented by graphic data. When the entire graphic data for the electron beam drawing apparatus is subjected to a reduction sizing process for reducing the size by a predetermined size, as shown in FIG. 5B, the reduced graphic data ',', ','
Is obtained at the boundary between the divided areas, but a gap is generated between the graphic data even though there should be no gap. That is, depending on the design, deformation may occur due to the sizing process. For this reason, there is a demand for a process that can easily perform an arithmetic process such as a reduction sizing process without deforming a figure.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】このような状況のも
と、電子ビーム描画においては、近年の設計ルールの縮
小化に伴う図形データ量の増大化に対応でき、各種描画
装置へその図形データを転用できる方法が求められてい
た。更には、縮小サイジング処理等の演算処理を、図形
に変形をもたらすことなく簡単に行える方法も求められ
ていた。本発明はこれに対応するもので、具体的には、
電子ビーム描画装置に固有の分割領域に分割され、各分
割領域内に収まる図形データのみを持つ、電子ビーム描
画装置用の図形データを、電子ビーム描画装置へ提供す
るための、描画図形データベース装置で、近年の設計ル
ールの縮小化に伴う図形データ量の増大化に対応でき、
各種電子ビーム描画装置へその図形データを供給できる
描画図形データベース装置を提供しようとするものであ
る。
Under these circumstances, in electron beam lithography, it is possible to cope with an increase in the amount of graphic data accompanying the reduction in design rules in recent years. A method that can be diverted was required. Further, there has been a demand for a method capable of easily performing arithmetic processing such as reduction sizing processing without causing deformation of a figure. The present invention corresponds to this, and specifically,
A drawing figure database device for providing, to the electron beam drawing apparatus, figure data for the electron beam drawing apparatus, which is divided into divided areas unique to the electron beam drawing apparatus and has only figure data that fits within each divided area. It is possible to cope with an increase in the amount of graphic data due to a reduction in design rules in recent years,
It is an object of the present invention to provide a drawing pattern database device capable of supplying the drawing data to various electron beam drawing apparatuses.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明の描画図形データ
ベース装置は、電子ビーム描画装置に固有の分割領域に
分割され、各分割領域内に収まる図形データのみを持
つ、電子ビーム描画装置用の図形データを、電子ビーム
描画装置へ提供するための、描画図形データベース装置
であって、描画図形データを分割領域を無くした座標系
で表わしたポリゴンデータで保管し、且つ、保管された
描画図形データから、所望の図形情報を検索して、取り
出す検索機能を備えたデータベース部と、検索機能によ
り取り出されたポリゴンデータからなる図形情報を、所
望の電子ビーム描画装置用の図形データに変換して供給
するインターフェース部とを備えており、前記データベ
ース部は、同一形状の図形データについては、基本図形
情報とその配置情報とで表現した、データ量を圧縮した
圧縮データの状態で、描画図形データを保管するもので
あることを特徴とするものである。そして、上記におい
て、インターフェース部は、電子ビーム描画装置毎に、
所定の分割領域、描画グリット(最小アドレスユニッ
ト)、描画装置のデータフォーマットがx方向切り台形
表示なのか、y方向切り台形表示なのか等の、変換パラ
メータを決めて、データベース部に保管された、圧縮デ
ータの状態のポリゴンデータからなる描画図形データ
を、所望の描画装置用の図形データに変換して、描画装
置へ図形データを供給するものであることを特徴とする
ものである。そしてまた、上記において、検索機能は、
保管された描画図形データから、指定された図形の情報
あるいは指定領域内の図形の情報を検索して取り出し、
取りだされた図形の情報をインターフェース部へ送るも
のであることを特徴とするものである。また、上記にお
いて、圧縮データの状態のポリゴンデータからなる描画
図形データに対して、演算処理を施す演算処理部を設け
ていることを特徴とするものである。
According to the present invention, there is provided a graphic pattern database apparatus for an electron beam drawing apparatus, which is divided into divided areas unique to the electron beam drawing apparatus and has only figure data which fits within each divided area. A drawing figure database apparatus for providing data to an electron beam drawing apparatus, wherein the drawing figure data is stored as polygon data represented by a coordinate system without a divided area, and stored from the stored drawing figure data. A database unit having a search function for searching for and extracting desired graphic information, and converting graphic information composed of polygon data extracted by the search function into graphic data for a desired electron beam lithography apparatus and supplying them. An interface unit, wherein the database unit stores basic graphic information and its layout information for graphic data of the same shape. In representation, in the form of compressed data obtained by compressing the amount of data, it is characterized in that it is intended to store the drawing graphic data. In the above, the interface unit is provided for each electron beam writing apparatus.
The conversion parameters, such as a predetermined divided area, a drawing grid (minimum address unit), and whether the data format of the drawing apparatus is an x-direction trapezoidal display or a y-direction truncated trapezoidal display, are determined and stored in the database unit. It is characterized in that drawing graphic data composed of polygon data in a compressed data state is converted into graphic data for a desired drawing device, and the drawing data is supplied to the drawing device. And in the above, the search function is
From the stored drawing graphic data, search for and retrieve information on the specified graphic or information on the graphic in the specified area.
It is characterized in that information of the extracted figure is sent to the interface unit. Further, in the above, there is provided an arithmetic processing unit for performing arithmetic processing on the drawing graphic data composed of polygon data in a compressed data state.

【0011】圧縮データとしては、1つの図形の繰り返
し配列を、1つの図形表現部と、配置情報にて表現する
ものや、複数の図形からなる図形群が、干渉しないで
(重なり合わないで)、複数繰り返し配列されている図
形データを、1つの図形群の各図形を表現する複数の図
形表現部と、図形群の配置情報とで表現するものがあ
る。ここでは、上記、1つの図形の繰り返し配列におけ
る1つの図形や、複数の図形からなる図形群を単にセル
と言い、セル単位の圧縮とも言う。
As the compressed data, a repetitive arrangement of one figure is represented by one figure expression part and arrangement information, and a figure group including a plurality of figures is not interfered (does not overlap). There is a type in which a plurality of repetitively arranged graphic data are expressed by a plurality of graphic expression units for expressing each graphic of one graphic group and arrangement information of the graphic group. Here, one figure in the repetitive arrangement of one figure or a figure group including a plurality of figures is simply called a cell, and is also called cell-based compression.

【0012】[0012]

【作用】本発明の描画図形データベース装置は、このよ
うな構成にすることにより、近年の設計ルールの縮小化
に伴う図形データ量の増大化に対応でき、各種電子ビー
ム描画装置へその図形データを供給できる描画図形デー
タベース装置の提供を可能とした。具体的には、描画図
形データを分割領域を無くした座標系で表わしたポリゴ
ンデータで保管し、且つ、保管された描画図形データか
ら、所望の図形情報を検索して、取り出す検索機能を備
えたデータベース部と、検索機能により取り出されたポ
リゴンデータからなる図形情報を、所望の電子ビーム描
画装置用の図形データに変換して供給するインターフェ
ース部とを備えており、前記データベース部は、同一形
状の図形データについては、基本図形情報とその配置情
報とで表現した、データ量を圧縮した圧縮データの状態
で、描画図形データを保管するものであることにより、
図形データ量の増大化に対応できるものとしている。そ
して、インターフェース部は、電子ビーム描画装置毎
に、所定の分割領域、描画グリット(最小アドレスユニ
ット)、描画装置のデータフォーマットがx方向切り台
形表示なのか、y方向切り台形表示なのか等の、変換パ
ラメータを決めて、データベース部に保管された、圧縮
データの状態のポリゴンデータからなる描画図形データ
を、所望の描画装置用の図形データに変換して、描画装
置へ図形データを供給するものであることにより、各種
電子ビーム描画装置へその図形データを供給できるもの
としている。また、検索機能は、保管された描画図形デ
ータから、指定された図形の情報あるいは指定領域内の
図形の情報を検索して取り出し、取りだされた図形の情
報をインターフェース部へ送るものであることにより、
図形情報の扱いを簡単なものにしている。更にまた、圧
縮データの状態のポリゴンデータからなる描画図形デー
タに対して、演算処理を施す演算処理部を設けているこ
とにより、縮小サイジング処理等の演算処理を、図形に
変形をもたらすことなく簡単に行えるものとしている。
With such a configuration, the drawing graphic database apparatus according to the present invention can cope with an increase in the amount of graphic data accompanying the recent reduction in design rules. It is possible to provide a drawing figure database device that can be supplied. Specifically, it has a search function for storing drawing graphic data as polygon data expressed in a coordinate system without a divided area, and searching for and extracting desired graphic information from the stored drawing graphic data. A database unit, and an interface unit for converting graphic information consisting of polygon data extracted by a search function into graphic data for a desired electron beam drawing apparatus and supplying the converted data, and the database unit has the same shape. As for the graphic data, the drawing graphic data is stored in the state of the compressed data in which the data amount is compressed, expressed by the basic graphic information and the arrangement information thereof.
It is possible to cope with an increase in the amount of graphic data. Then, the interface unit determines, for each electron beam writing apparatus, a predetermined divided area, a writing grid (minimum address unit), whether the data format of the writing apparatus is a trapezoidal display in the x direction or a trapezoidal display in the y direction, and the like. It determines the conversion parameters, converts drawing graphic data consisting of polygon data in a compressed data state stored in the database unit into graphic data for a desired drawing device, and supplies the drawing data to the drawing device. With this configuration, the graphic data can be supplied to various electron beam drawing apparatuses. In addition, the search function is to search for and retrieve information on a specified graphic or information on a graphic in a specified area from the stored drawing graphic data, and send the retrieved graphic information to the interface unit. By
The handling of graphic information is simplified. Furthermore, by providing an arithmetic processing unit for performing arithmetic processing on drawing graphic data composed of polygon data in a compressed data state, arithmetic processing such as reduction sizing processing can be simplified without causing deformation of the graphic. It can be done.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】本発明の描画図形データベース装
置の実施の形態を図に基づいて説明する。図1は、本発
明の描画図形データベース装置の実施の形態の第1の例
の概略構成図で、図2は本発明の描画図形データベース
装置の実施の形態の第1の例の概略構成図で、図3は、
データベースから電子ビーム描画装置へのデータ変換、
供給を具体的に説明するための図である。図1、図2
中、100は描画図形データベース装置、110はデー
タベース部、120はインターフェース部、131〜1
33は電子ビーム描画装置、200は描画図形データベ
ース、210はデータベース部、220はインターフェ
ース、231〜233は電子ビーム描画装置、240は
演算処理部、Fa、Fb、Fc、Fdは基本図形であ
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a drawing figure database apparatus according to the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a first example of an embodiment of a drawing graphic database device of the present invention, and FIG. 2 is a schematic configuration diagram of a first example of an embodiment of the drawing graphic database device of the present invention. , FIG.
Data conversion from database to electron beam writer,
It is a figure for explaining supply concretely. 1 and 2
Among them, 100 is a drawing figure database device, 110 is a database unit, 120 is an interface unit, 131 to 1
33 is an electron beam drawing apparatus, 200 is a drawing figure database, 210 is a database unit, 220 is an interface, 231 to 233 are electron beam drawing apparatuses, 240 is an arithmetic processing unit, and Fa, Fb, Fc, and Fd are basic figures.

【0014】はじめに、本発明の描画図形データベース
装置の実施の形態の第1の例を図1に基づいて説明す
る。本例は、電子ビーム描画装置に固有の分割領域に分
割され、各分割領域内に収まる図形データのみを持つ、
電子ビーム描画装置用の図形データを、複数の電子ビー
ム描画装置へ提供するための、描画図形データベース装
置である。そして、描画図形データを分割領域を無くし
た座標系で表わしたポリゴンデータで保管し、且つ、指
定された図形データあるいは指定領域内の図形データを
検索して、取り出すことできる検索機能を備えたデータ
ベース部110と、保管された描画図形データを、所望
の電子ビーム描画装置用の図形データに変換して供給す
るインターフェース部120とからなり、データベース
部110は、同一形状の図形データについては、基本図
形情報とその配置情報とで表現して、データ量を圧縮し
た圧縮データの状態で、描画図形データを保管するもの
であるが、保管されているポリゴンデータからなる図形
データの演算処理を行う機能を備えていない。
First, a first example of an embodiment of a drawing figure database apparatus according to the present invention will be described with reference to FIG. This example is divided into divided regions unique to the electron beam writing apparatus, and has only graphic data that fits in each divided region.
A drawing figure database apparatus for providing figure data for an electron beam drawing apparatus to a plurality of electron beam drawing apparatuses. A database having a search function for storing drawing graphic data as polygon data expressed in a coordinate system without a divided area, and for searching and retrieving specified graphic data or graphic data in a specified area. And an interface unit 120 for converting the stored drawing graphic data into graphic data for a desired electron beam drawing apparatus and supplying the converted graphic data. This function is used to store drawing graphic data in the form of compressed data in which the amount of data is compressed, expressed as information and its arrangement information.A function to perform arithmetic processing of graphic data consisting of stored polygon data is provided. Not equipped.

【0015】説明を分かり易くするため、図3(a)に
示す、同じ形状の絵柄(F1、F2、F3、F4)を持
つポリゴンデータからなる図形データを、図1に示す本
例のデータベース装置100を用いて、電子ビーム描画
装置用の図形データとして変換、供給する処理する例を
挙げ、本例の各部の機能を説明する。絵柄(図形)F1
〜F4は、繰り返して配列される絵柄の形状を表現する
基本図形情報と、その配置情報(配置の位置座標)によ
ってデータ量を圧縮した状態でデーターベース部110
内に保管されている。尚、ここで、ポリゴンデータのデ
ータの圧縮について簡単に説明しておく。ポリゴンデー
タは、絵柄の外周のみを示すもので、絵柄の外周の各コ
ーナー部(図示していないが、左回りに各コーナーをC
0、C1、C2、・・・Cnとする。)の位置座標を順
に列記して示すことができるが、通常は、各コーナー部
の位置座標は、始発のコーナー部C0座標位置(配置位
置)と、各位置(C1、C2・・・Cn)の座標を隣の
コーナー部からの変位量で示される。即ち、図3(a)
の各絵柄(図形)Fm(m=1、2、3、4)は、それ
ぞれ、(Xm、Ym、dxm1、dym1、dxm2、
dym2・・・・・・、dxm12、dym12)で表
されるが、F1〜F4が同じ形状であれば、(dxm
1、dym1、dxm2、dym2・・・・・・、dx
m12、dym12)が、m=1、2、3、4で一致す
ることより、重複する記載を止め、この部分(図形情
報)は、図形の形状の表現部分として、1回だけ表現
し、これと、F1〜F4の各発のコーナー部の座標位置
(Xm0、Xm0)(m=1、2、3、4)、とで絵柄
F1〜F4の全てを表現できる。このように、形状が同
一の図形(絵柄)について、重複する記載を止め、基本
図形情報(同一図形の図形情報)と、図形の配置情報
(配置位置座標)とで、同一形状の絵柄を表現した状態
が、データ量を圧縮した状態と言っている。1つの図形
の繰り返し配列は、1つの図形表現部と、配置情報にて
表現し、複数の図形からなる図形群が、干渉しないで
(重なり合わないで)、複数繰り返し配列されている図
形の配置を、前記1つの図形群の各図形を表現する、複
数の図形表現部と、これを一体として配置する情報であ
る図形群の配置情報とで表現する。既に述べた通り、1
つの図形の繰り返し配列における1つの図形や、複数の
図形からなる図形群を単にセルと言い、セル単位で配列
してデータ圧縮するため、このようなデータの圧縮をセ
ル圧縮とも言う。
In order to make the explanation easy to understand, graphic data shown in FIG. 3A consisting of polygon data having the same pattern (F1, F2, F3, F4) is converted to a database device of this embodiment shown in FIG. The function of each unit of the present embodiment will be described using an example of processing for converting and supplying as graphic data for an electron beam drawing apparatus by using 100. Picture (figure) F1
F4 represent basic graphic information representing the shape of a pattern that is repeatedly arranged, and the database unit 110 in a state where the data amount is compressed by the arrangement information (position coordinates of the arrangement).
Is stored within. Here, the compression of the polygon data will be briefly described. The polygon data indicates only the outer periphery of the pattern. Each corner of the outer periphery of the pattern (not shown, but each corner is counterclockwise C
0, C1, C2,... Cn. ) Can be listed in order, but usually, the position coordinates of each corner are the starting corner C0 coordinate position (placement position) and each position (C1, C2... Cn). Are indicated by the amount of displacement from the adjacent corner. That is, FIG.
Are respectively (Xm, Ym, dxm1, dym1, dxm2,
.., dxm12, dym12). If F1 to F4 have the same shape, (dxm2
1, dym1, dxm2, dym2 ..., dx
Since m12, dym12) match at m = 1, 2, 3, and 4, overlapping descriptions are stopped, and this part (graphic information) is expressed only once as an expression part of the shape of the graphic. And the coordinate positions (Xm0, Xm0) (m = 1, 2, 3, 4) of the corners of the shots F1 to F4, all of the patterns F1 to F4 can be expressed. As described above, for a figure (pattern) having the same shape, overlapping description is stopped, and a pattern having the same shape is expressed by basic figure information (graphic information of the same figure) and arrangement information of the figure (arrangement position coordinates). This state is referred to as a state in which the data amount is compressed. The repetitive arrangement of one graphic is represented by one graphic expression part and arrangement information, and the arrangement of a plurality of repetitively arranged graphic groups without interfering with each other (without overlapping) is performed. Are represented by a plurality of graphic expression units for expressing each graphic of the one graphic group, and the arrangement information of the graphic group, which is information for integrally arranging them. As already mentioned, 1
One figure in a repetitive arrangement of one figure or a figure group consisting of a plurality of figures is simply referred to as a cell, and since data is compressed by arranging it in units of cells, such data compression is also referred to as cell compression.

【0016】データーベース部110の検索機能は、保
管されている描画図形データから所望の図形情報、即
ち、図形F1〜F4の図形の形状の表現部分と、その配
置情報を検索して、取り出し、インターフェース部12
0へ、その情報を送り込む。処理する描画図形データ
が、F1〜F4のように単一の図形形状の繰り返しでな
い場合には、対応した検索を行う。例えば、電子ビーム
描画装置用のデータにおける分割領域相当部毎に、検索
して、その領域の図形情報を取り出す。
The search function of the database unit 110 searches and retrieves desired graphic information, that is, a representation of the shapes of the figures F1 to F4 and the arrangement information thereof from the stored drawing figure data. Interface section 12
Send that information to 0. If the drawing graphic data to be processed is not a repetition of a single graphic shape like F1 to F4, a corresponding search is performed. For example, a search is performed for each part corresponding to a divided region in the data for the electron beam writing apparatus, and graphic information of the region is extracted.

【0017】データーベース部110の検索機能により
取り出された、図3(a)にその絵柄(図形)を示す、
圧縮された図形データは、このままでは、電子ビーム描
画装置(131〜133)で使用できる形態でないの
で、インターフェース部120を介して、所定の形態の
図形データに変換して、所望の電子ビーム描画装置へ、
その図形データを供給する。電子ビーム描画装置種毎
に、使用できる描画装置用の図形データが異なるため、
これに対応するもので、インターフェース部120は、
電子ビーム描画装置毎に、所定の割領域、描画グリット
(最小アドレスユニット)、描画装置のデータフォマッ
トがx方向切り台形表示なのか、y方向切り台形表示な
のか等の、変換パラメータを決めて、データベース部1
20に保管された、圧縮データの状態のポリゴンデータ
からなる描画図形データを、所望の描画装置用の図形デ
ータに変換して、描画装置へ図形データを供給する。こ
のように、インターフェー部120を介して、図3
(a)に図示される図形データは、例えば、図3(b)
のように、分割される。
FIG. 3A shows a picture (figure) extracted by the search function of the database unit 110.
Since the compressed graphic data is not in a form usable in the electron beam drawing apparatus (131 to 133) as it is, it is converted into graphic data in a predetermined form via the interface unit 120, and the desired electron beam drawing apparatus What,
The graphic data is supplied. Because the drawing data for drawing equipment that can be used differs for each type of electron beam drawing equipment,
In response to this, the interface unit 120 includes:
For each electron beam drawing apparatus, a predetermined split area, a drawing grid (minimum address unit), and conversion parameters such as whether the data format of the drawing apparatus is an x-direction trapezoidal display or a y-direction trapezoidal display are determined. Database part 1
The drawing graphic data stored in the storage unit 20 and composed of polygon data in a compressed data state is converted into graphic data for a desired drawing device, and the drawing data is supplied to the drawing device. As described above, through the interface unit 120, FIG.
The graphic data shown in FIG. 3A is, for example, the one shown in FIG.
And so on.

【0018】図3(b)の絵柄f1、f2、f3、f4
は、それぞれ、図3(a)の絵柄、F1、F2、F3、
F4に対応するもので、f1、f2、f3、f4の各絵
柄は、矩形(一般的な台形表示の1つの型)図形に更に
分割されている。即ち、絵柄f1は、f11〜f17の
7個の図形にて併せて表現される。図3(b)中、A
(m1、n1)、A(m1+1、n1)は分割領域を示
し、分割領域の境界(点線で表示)で、絵柄f3は、更
に分割されている。分割領域のサイズは、電子ビーム描
画装置種によりそれぞれ固有に決められており、これに
合わせる。各図形は、図形位置、図形の形状を定義され
て表現されているが、y方向を基準とするもの(y方向
切り台形表示)やx方向を基準とするもの(x方向切り
台形表示)があり、これに対応して変換は行う。また、
最小グリッド(アドレスサイズ)は、描画条件、電子ビ
ーム描画装置種等に合わせて決めるが、これも変換のパ
ラメータとしておく。
The pictures f1, f2, f3, f4 in FIG. 3 (b)
Are the patterns of FIG. 3A, F1, F2, F3, respectively.
Corresponding to F4, each picture of f1, f2, f3, f4 is further divided into rectangular (one type of general trapezoidal display) figures. That is, the pattern f1 is expressed together with seven figures f11 to f17. In FIG. 3B, A
(M1, n1) and A (m1 + 1, n1) indicate the divided areas, and the pattern f3 is further divided at the boundary (indicated by a dotted line) of the divided areas. The size of the divided area is uniquely determined according to the type of the electron beam writing apparatus, and is adjusted to this. Each figure is represented by defining the figure position and the shape of the figure, and one based on the y direction (y-direction trapezoidal display) and one based on the x direction (x-direction truncated trapezoidal display). Yes, and conversion is performed accordingly. Also,
The minimum grid (address size) is determined according to the drawing conditions, the type of the electron beam drawing apparatus, and the like, and this is also set as a conversion parameter.

【0019】尚、インターフェース部120に、繰り返
し図形検索機能を持たせおけば、先の図4(b)の説明
において述べたように、図3(c)に示す、図形f1
1、f12、f14、f24、f31、f32、f3
4、f31’、f32’、f34’、f41、f42、
f44の13個で、絵柄f1〜f4を表現することがで
きる。
If the interface unit 120 is provided with a function for repeatedly retrieving a figure, as described in FIG. 4B, the figure f1 shown in FIG.
1, f12, f14, f24, f31, f32, f3
4, f31 ', f32', f34 ', f41, f42,
The patterns f1 to f4 can be represented by 13 of f44.

【0020】上記では、図3(a)に示す、図形形状
(F1〜F4の図形形状)を挙げたが、繰り返し配列さ
れる図形(基本図形)としては、これに限定されない。
例えば、図1に示すような図形(基本図形)Fa、F
b、Fc、Fdでも良い。各基本図形毎に、基本図形情
報を持ち、これを配置する配置情報も持つ。更に、これ
に限定されず、例えば、基本図形を所定の%で縮小ない
し拡大する指示で表現する方法で、元の基本図形とは実
質的に異なる基本図形を持たせても良い。
In the above description, the figure shapes (figure shapes F1 to F4) shown in FIG. 3A have been described, but the figures (basic figures) that are repeatedly arranged are not limited thereto.
For example, figures (basic figures) Fa and F shown in FIG.
b, Fc and Fd may be used. Each basic figure has basic figure information and arrangement information for arranging the basic figure information. Furthermore, the present invention is not limited to this. For example, a basic figure that is substantially different from the original basic figure may be provided by expressing the basic figure with an instruction to reduce or enlarge the basic figure by a predetermined percentage.

【0021】次に、本発明の描画図形データベース装置
の実施の形態の第2の例を図2に基づいて説明する。本
例も、第1の例と同様、電子ビーム描画装置に固有の分
割領域に分割され、各分割領域内に収まる図形データの
みを持つ、電子ビーム描画装置用の図形データを、複数
の電子ビーム描画装置へ提供するための、描画図形デー
タベース装置で、描画図形データを分割領域を無くした
座標系で表わしたポリゴンデータで保管し、且つ、指定
された図形データあるいは指定領域内の図形データを検
索して、取り出すことできる検索機能を備えたデータベ
ース部210と、保管された描画図形データを、所望の
電子ビーム描画装置用の図形データに変換して供給する
インターフェース部220とを備え、データベース部2
10は、同一形状の図形データについては、基本図形情
報とその配置情報とで表現して、データ量を圧縮した圧
縮データの状態で、描画図形データを保管するものであ
るが、第1の例とは異なり、保管されているポリゴンデ
ータからなる図形データの演算処理を行う演算処理部2
40を備えたものである。簡単には、第2の例は、第1
の例のデーターベース装置100に、演算処理部を付加
したもので、ここでは、演算処理部についてのみ説明し
ておく。
Next, a second example of the embodiment of the drawing figure database apparatus of the present invention will be described with reference to FIG. In this example, as in the first example, the graphic data for the electron beam drawing apparatus, which is divided into divided areas specific to the electron beam A drawing figure database device to be provided to a drawing apparatus. The drawing figure data is stored as polygon data represented by a coordinate system without a divided area, and a specified figure data or a figure data in a specified area is searched. A database unit 210 having a search function that can be taken out, and an interface unit 220 for converting stored drawing graphic data into graphic data for a desired electron beam drawing apparatus and supplying the converted data.
Numeral 10 is for storing drawing graphic data in the form of compressed data in which the amount of data is reduced by expressing basic graphic information and its layout information for graphic data of the same shape. Unlike the above, an arithmetic processing unit 2 for performing arithmetic processing of graphic data composed of stored polygon data
40. Briefly, the second example is the first
In this example, an arithmetic processing unit is added to the database device 100 of the example, and only the arithmetic processing unit will be described here.

【0022】先に、図5において説明したように、電子
ビーム描画装置用の図形データを縮小サイジング処理す
ると、分割領域の境に隙間(図形の変形)が発生するこ
とがあり、問題となっていたが、データーベース部21
0に保管されたポリゴンデータの状態で、図形データ
を、演算処理部240にて、演算処理してしまうことに
より、これを防止できる。即ち、ポリゴンデータの縮小
サイジング処理は、各絵柄(図形)の各コーナー部を内
側に所定量だけ移動することにより得られる新たな座標
位置を、それぞれ新たなコーナー部として、新たに絵柄
を表現すれば良いからである。複数の同一図形を圧縮し
て表現したポリゴンデータの圧縮データ(データ量を圧
縮して表現した部分)についても、図形表現部と、各、
始発コーナー部の位置座標を新たに算出して、新たに、
圧縮データを得ることができる。
As described above with reference to FIG. 5, when the graphic data for the electron beam drawing apparatus is reduced and sized, a gap (deformation of the graphic) may occur at the boundary of the divided area, which is a problem. However, the database unit 21
This can be prevented by causing the arithmetic processing unit 240 to perform arithmetic processing on the graphic data in the state of the polygon data stored in “0”. That is, in the polygon data reduction sizing process, a new coordinate position obtained by moving each corner of each picture (figure) inward by a predetermined amount is used as a new corner, and a new picture is expressed. It is good. Compressed data of polygon data (a portion expressed by compressing the amount of data) which is obtained by compressing and expressing a plurality of the same graphics is also represented by a graphic expression section,
The position coordinates of the first corner are newly calculated and newly
Compressed data can be obtained.

【0023】上記では、演算処理として縮小サイジング
処理を挙げたが、電子ビーム描画装置用の図形データの
拡大サイジング処理にも同様に適用できる。また、電子
ビーム描画装置用の反転処理(リーバース処理)にも適
用できることは言うまでもない。更に、これ以外の演算
にも適用は可能である。
In the above description, a reduction sizing process has been described as an arithmetic process. However, the present invention can be similarly applied to an enlargement sizing process of graphic data for an electron beam drawing apparatus. Needless to say, the present invention can be applied to inversion processing (reverse processing) for an electron beam writing apparatus. Further, the present invention can be applied to other calculations.

【0024】[0024]

【発明の効果】本発明は、上記のように、近年の設計ル
ールの縮小化に伴う図形データ量の増大化に対応でき、
各種電子ビーム描画装置へその図形データを供給できる
描画図形データベース装置の提供を可能とした。同時に
図形演算を容易にでき、且つ、図形演算の結果、変形が
生じることのない図形演算処ができる描画図形データベ
ース装置の提供を可能とした。
As described above, the present invention can cope with an increase in the amount of graphic data accompanying the recent reduction in design rules.
It has become possible to provide a drawing figure database device capable of supplying the figure data to various electron beam drawing apparatuses. At the same time, it has become possible to provide a drawing figure database device which can easily perform figure calculation and perform a figure calculation processing without deformation as a result of the figure calculation.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の描画図形データベース装置の実施の形
態の第1の例の概略構成図
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a first example of an embodiment of a drawing figure database device according to the present invention;

【図2】本発明の描画図形データベース装置の実施の形
態の第1の例の概略構成図
FIG. 2 is a schematic configuration diagram of a first example of an embodiment of a drawing graphic database apparatus according to the present invention;

【図3】データベースから電子ビーム描画装置へのデー
タ変換、供給の具体例を説明するための図
FIG. 3 is a diagram for explaining a specific example of data conversion and supply from a database to an electron beam drawing apparatus;

【図4】電子ビーム描画装置用の図形データのデータの
圧縮を説明するための図
FIG. 4 is a view for explaining data compression of graphic data for an electron beam writing apparatus.

【図5】電子ビーム描画装置用の図形データの縮小サイ
ジング処理の問題点を説明するための図
FIG. 5 is a diagram for explaining a problem of a reduction sizing process of graphic data for an electron beam writing apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100 描画図形データベース装
置 110 データベース部 120 インターフェース部 131〜133 電子ビーム描画装置 200 描画図形データベース装
置 210 データベース部 220 インターフェース部 231〜233 電子ビーム描画装置 240 演算処理部 Fa、Fb、Fc、Fd 基本図形
Reference Signs List 100 drawing figure database apparatus 110 database section 120 interface section 131-133 electron beam drawing apparatus 200 drawing figure database apparatus 210 database section 220 interface section 231-233 electron beam drawing apparatus 240 arithmetic processing section Fa, Fb, Fc, Fd basic figure

フロントページの続き (72)発明者 渡辺 智 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 Fターム(参考) 5B050 AA04 BA18 EA10 FA19 GA08 5F056 CA02 CA22 Continued on the front page (72) Inventor Satoshi Watanabe 1-1-1, Ichigaya-Kaga-cho, Shinjuku-ku, Tokyo F-term in Dai Nippon Printing Co., Ltd. (reference) 5B050 AA04 BA18 EA10 FA19 GA08 5F056 CA02 CA22

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 電子ビーム描画装置に固有の分割領域に
分割され、各分割領域内に収まる図形データのみを持
つ、電子ビーム描画装置用の図形データを、電子ビーム
描画装置へ提供するための、描画図形データベース装置
であって、描画図形データを分割領域を無くした座標系
で表したポリゴンデータで保管し、且つ、保管された描
画図形データから、所望の図形情報を検索して、取り出
す検索機能を備えたデータベース部と、検索機能により
取り出されたポリゴンデータからなる図形情報を、所望
の電子ビーム描画装置用の図形データに変換して供給す
るインターフェース部とを備えており、前記データベー
ス部は、同一形状の図形データについては、基本図形情
報とその配置情報とで表現した、データ量を圧縮した圧
縮データの状態で、描画図形データを保管するものであ
ることを特徴とする描画図形データベース装置。
1. A method for providing to an electron beam lithography apparatus graphic data for an electron beam lithography apparatus which is divided into divided areas unique to the electron beam lithography apparatus and has only graphic data which fits within each of the divided areas. A drawing function for a drawing figure database device, in which drawing figure data is stored in polygon data expressed in a coordinate system without a divided area, and desired figure information is retrieved and retrieved from the stored drawing figure data. And a interface unit for converting graphic information consisting of polygon data extracted by a search function into graphic data for a desired electron beam lithography apparatus and supplying the converted graphic data. Graphic data of the same shape is drawn in the state of compressed data in which the data amount is compressed, represented by basic graphic information and its layout information. A drawing figure database device for storing drawing figure data.
【請求項2】 請求項1において、インターフェース部
は、電子ビーム描画装置毎に、所定の分割領域、描画グ
リット、描画装置のデータフォーマットがx方向切り台
形表示なのか、y方向切り台形表示なのか等の、変換パ
ラメータを決めて、データベース部に保管された、圧縮
データの状態のポリゴンデータからなる描画図形データ
を、所望の描画装置用の図形データに変換して、描画装
置へ図形データを供給するものであることを特徴とする
描画図形データベース装置。
2. The interface unit according to claim 1, wherein the interface unit determines whether the data format of the predetermined divided area, the drawing grid, and the drawing apparatus is an x-direction trapezoidal display or a y-direction truncated trapezoidal display for each electron beam drawing apparatus. After determining the conversion parameters such as the above, the drawing graphic data composed of the polygon data in the state of the compressed data stored in the database unit is converted into the graphic data for the desired drawing device, and the graphic data is supplied to the drawing device. A drawing figure database device, characterized in that:
【請求項3】 請求項1ないし2において、検索機能
は、保管された描画図形データから、指定された図形の
情報あるいは指定領域内の図形の情報を検索して取り出
し、取りだされた図形の情報をインターフェース部へ送
るものであることを特徴とする描画図形データベース装
置。
3. The retrieval function according to claim 1, wherein the retrieval function retrieves and retrieves information of a specified graphic or information of a graphic in a specified area from the stored drawing graphic data. A drawing figure database device for transmitting information to an interface unit.
【請求項4】 請求項1ないし3において、圧縮データ
の状態のポリゴンデータからなる描画図形データに対し
て、演算処理を施す演算処理部を設けていることを特徴
とする描画図形データベース装置。
4. The drawing figure database apparatus according to claim 1, further comprising an operation processing unit for performing an operation process on drawing figure data composed of polygon data in a state of compressed data.
JP11111722A 1999-04-20 1999-04-20 Drawing graphic database apparatus Withdrawn JP2000306802A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11111722A JP2000306802A (en) 1999-04-20 1999-04-20 Drawing graphic database apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11111722A JP2000306802A (en) 1999-04-20 1999-04-20 Drawing graphic database apparatus

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000306802A true JP2000306802A (en) 2000-11-02

Family

ID=14568515

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11111722A Withdrawn JP2000306802A (en) 1999-04-20 1999-04-20 Drawing graphic database apparatus

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000306802A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002329647A (en) * 2001-04-27 2002-11-15 Dainippon Printing Co Ltd Apparatus for generating lithographic pattern data

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002329647A (en) * 2001-04-27 2002-11-15 Dainippon Printing Co Ltd Apparatus for generating lithographic pattern data
JP4647824B2 (en) * 2001-04-27 2011-03-09 大日本印刷株式会社 Drawing graphic data creation device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3612166B2 (en) Charged beam drawing data creation method and apparatus
US20060197999A1 (en) Image processing apparatus, image processing method, and image processing program
JP5001563B2 (en) Creating charged particle beam drawing data
US7608844B2 (en) Charged particle beam drawing apparatus
WO2014167750A1 (en) Electron beam writing device, electron beam writing method, and recording medium
JP2001015421A (en) Data preparation and charged particle beam drawing system using the same
US20080205767A1 (en) Extraction method, extraction apparatus, program, drawing data creation method, and drawing data creation apparatus
JP2009141290A (en) Drawing device, and drawing data conversion method
EP1109133B1 (en) CAD Data compressing method and apparatus thereof
JP2000306802A (en) Drawing graphic database apparatus
JPH04211112A (en) Writing data forming method, data converter and converting method
JPH0766098A (en) Method and apparatus for forming lithographic data
JP3328724B2 (en) Method of compressing figure data
US6608691B1 (en) Generation of exposure data having hierarchical structure
JP3064997B2 (en) Verification method for figure batch exposure data
JPH0513313A (en) Aligner
JP2008085248A (en) Method for creation of charged particle beam drawing data and method for conversion of charged particle beam drawing data
WO2021164305A1 (en) Method for device for pattern rasterization, and storage medium
JP2000306801A (en) Calculation method and calculation equipment of graphic data for electron beam drawing equipment, and compression method of the graphic data for the electron beam drawing equipment
JP2003263466A (en) Electronic cad device, layout data preparing method therefor, and computer program
JPH04302451A (en) Charged beam lithography method
JP2001035770A (en) Method for processing data for pattern in-batch cell projection to electron beam and method for electron beam exposure
JPH10319572A (en) Manufacture of halftone phase shift mask
JP2992081B2 (en) Pattern creation device
JP2004087580A (en) Method for charged particle beam lithography, method and program for creating charged particle beam lithography pattern data and method for manufacturing semiconductor device

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20060704