JP2000303223A - Rubber-made gloves or fingerstall and casing capable of using the same and projection-exposure device - Google Patents

Rubber-made gloves or fingerstall and casing capable of using the same and projection-exposure device

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JP2000303223A
JP2000303223A JP11424899A JP11424899A JP2000303223A JP 2000303223 A JP2000303223 A JP 2000303223A JP 11424899 A JP11424899 A JP 11424899A JP 11424899 A JP11424899 A JP 11424899A JP 2000303223 A JP2000303223 A JP 2000303223A
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JP
Japan
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casing
rubber
organic solvent
reflectance change
finger
Prior art date
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JP11424899A
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Japanese (ja)
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Toshiro Umeda
俊郎 梅田
Hitoshi Takeuchi
仁 竹内
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Publication date
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Gloves (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide rubber-made gloves or fingerstalls capable of handling optical parts. SOLUTION: Rubber made gloves and fingerstalls are pre-treated with an organic solvent. When the treated rubber made gloves or fingerstalls are brought to contact with the organic solvent during their use, materials do not eluted from the rubber made gloves or fingerstalls. The rubber made gloves or fingerstalls of this invention are used, e.g. by fitting to a case surrounding optical parts.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、清浄な環境下にお
いて製造される半導体デバイス等の取り扱いに使用可能
なゴム製手袋又は指サック、及び、該ゴム製手袋又は指
サックを取り付け可能なケーシング、並びに、該ケーシ
ングを備えた投影露光装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a rubber glove or finger sack which can be used for handling semiconductor devices and the like manufactured in a clean environment, and a casing to which the rubber glove or the finger sack can be attached. Further, the present invention relates to a projection exposure apparatus provided with the casing.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体デバイス製造の分野において、シ
リコン基板上における集積回路の露光等に使用される光
ビームの波長は、集積度の向上に伴い、従来よりさらに
短波長側にシフトしている。そして、このような波長の
ビームを得るために、露光装置等の光学系には複数個の
光学レンズ等の光学部品が使用されている。一般に、こ
れらの光学部品は不純物による汚染及び酸素などによる
光ビームの吸収防止のためにケーシングによって囲繞さ
れており、さらに、光学部品の周囲の雰囲気は不活性ガ
スによって置換されてクリーンな環境とされている。
2. Description of the Related Art In the field of semiconductor device manufacturing, the wavelength of a light beam used for exposure of an integrated circuit on a silicon substrate or the like is shifted to a shorter wavelength side than before in accordance with the improvement in the degree of integration. In order to obtain a beam of such a wavelength, optical components such as a plurality of optical lenses are used in an optical system such as an exposure apparatus. Generally, these optical components are surrounded by a casing to prevent contamination by impurities and absorption of a light beam by oxygen or the like, and furthermore, the atmosphere around the optical components is replaced by an inert gas to provide a clean environment. ing.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ところで、半導体デバ
イスを製造するにあたって、投影露光装置等の設備の組
立て、修理、メンテナンス等を行うために人間がゴム製
の手袋又は指サックを装着して、これらの光学部品に触
れなければならないことがしばしばある。そのような場
合には、前記ゴム製手袋又は指サックとして、通常、純
水によって洗浄されたクリーンルーム対応のゴム製手袋
又は指サックが使用されるが、これらを用いて光学部品
を取り扱うと光学部品に有機物が付着し、光学部品の光
学特性が変化してしまうことがある。光学部品の有機物
による汚染は、高い集積度を得るために短波長の微細な
光ビームを使用する場合には特に深刻な問題であり、半
導体デバイス全体の製造歩留まりが著しく低下し、その
製造プロセスの信頼性が失われる結果を招く。
In manufacturing a semiconductor device, a person wears rubber gloves or finger cots to assemble, repair, or maintain equipment such as a projection exposure apparatus. Often, the user must touch the optical components. In such a case, as the rubber gloves or finger cots, rubber gloves or finger cots corresponding to a clean room washed with pure water are usually used. In some cases, an organic substance adheres to the glass and the optical characteristics of the optical component change. Contamination of optical components with organic matter is a serious problem particularly when a short wavelength fine light beam is used in order to obtain a high degree of integration. This results in unreliable results.

【0004】一方、光学部品を直接取り扱う場合におい
て、取り扱いの対象となる光学部品がケーシングの内部
に存在し、さらに、ケーシング内の雰囲気が既に不活性
ガス等に置換されていると、通常は、該ケーシングを開
放して内部の不活性ガス等を外部へ放出した上で光学部
品の調整等が行われるが、このような操作は不活性ガス
等の使用量を増大させ製造コストを上昇させてしまう。
On the other hand, when handling optical components directly, if the optical components to be handled are present inside the casing and the atmosphere in the casing has already been replaced by an inert gas or the like, usually, After the casing is opened and the inert gas and the like inside is released to the outside, adjustment of optical components and the like are performed. However, such an operation increases the usage amount of the inert gas and the like and increases the manufacturing cost. I will.

【0005】また、光学部品の調整等の終了後に再びケ
ーシングの内部を不活性ガス雰囲気とした状態において
も、何らかの原因により、ケーシング内部の光学部品の
再調整が必要となることがあるが、そのような場合に
は、通常、再びケーシングを開放して不活性ガスを外部
へ放出した上で再調整が行われている。このようなケー
シングの再開放は製造コストの上昇のみならず、半導体
デバイスの製造に要する時間を長期化させて、製造効率
を悪化させる原因ともなる。
[0005] In addition, even if the interior of the casing is again brought into the inert gas atmosphere after the adjustment of the optical parts, the optical parts inside the casing may need to be readjusted for some reason. In such a case, usually, the casing is opened again to release the inert gas to the outside, and then readjustment is performed. Such re-opening of the casing not only increases the manufacturing cost, but also prolongs the time required for manufacturing the semiconductor device and causes deterioration of the manufacturing efficiency.

【0006】本発明は、上記した問題点を解決すること
をその課題とする。すなわち、本発明の目的は、光学レ
ンズなどの光学部品を有機物によって汚染することなく
取り扱うことの可能なゴム製手袋又は指サックを提供す
ることにある。また、本発明の他の目的は、光学部品の
周囲の不活性ガスを大気開放することなく、光学部品の
調整が可能な機構を備えた、投影露光装置に好適に使用
可能な新規なケーシングを提供することにある。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems. That is, an object of the present invention is to provide a rubber glove or finger cot that can handle an optical component such as an optical lens without being contaminated by an organic substance. Another object of the present invention is to provide a novel casing suitable for use in a projection exposure apparatus having a mechanism capable of adjusting an optical component without releasing an inert gas around the optical component to the atmosphere. To provide.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記した本発明の目的
は、有機溶剤で処理されたことを特徴とするゴム製手袋
又は指サックによって達成され、また、単位体積の液体
を塗布後乾燥した石英ガラス基板表面における波長19
0〜230nmの範囲の反射率変化特性について、前記
液体として前記ゴム製手袋又は指サックと未接触の有機
溶剤を使用した場合の反射率変化特性を第1の反射率変
化特性とし、前記液体として前記ゴム製手袋又は指サッ
クと表面積1cm2当たり1cm3の割合で1時間以上接
触した前記有機溶剤を使用した場合の反射率変化特性を
第2の反射率変化特性とした場合に、前記第1の反射率
変化特性に対する前記第2の反射率変化特性の波長シフ
ト量が1nm以下という条件を満たすゴム製手袋又は指
サックによっても達成される。
The above objects of the present invention are attained by a rubber glove or finger sack which is characterized by being treated with an organic solvent, and is further characterized by applying a unit volume of a liquid and drying the quartz. Wavelength 19 on glass substrate surface
Regarding the reflectance change characteristics in the range of 0 to 230 nm, the reflectance change characteristics when an organic solvent not in contact with the rubber glove or finger sack is used as the liquid is referred to as a first reflectance change characteristic, and the liquid is used as the liquid. In the case where the reflectance change characteristic when the organic solvent is used in contact with the rubber glove or finger sack at a rate of 1 cm 3 per 1 cm 2 of surface area for 1 hour or more is used as the second reflectance change characteristic, This can also be achieved by a rubber glove or finger sack that satisfies the condition that the wavelength shift amount of the second reflectance change characteristic with respect to the reflectance change characteristic is 1 nm or less.

【0008】また、上記した本発明の目的は、有機溶剤
で処理されたゴム製手袋又は指サックであって、単位体
積の液体を塗布後乾燥した石英ガラス基板表面における
波長190〜230nmの範囲の反射率変化特性につい
て、前記液体として前記ゴム製手袋又は指サックを処理
した有機溶剤と同一成分であって、かつ、前記ゴム製手
袋又は指サックと未接触の抽出用有機溶剤を使用した場
合の反射率変化特性を第1の反射率変化特性とし、前記
液体として前記ゴム製手袋又は指サックと表面積1cm
2当たり1cm3の割合で1時間以上接触した前記抽出用
有機溶剤を使用して得られた反射率変化特性を第2の反
射率変化特性とした場合に、前記第1の反射率変化特性
に対する前記第2の反射率変化特性の波長シフト量が1
nm以下となる条件を満たすゴム製手袋又は指サックに
よっても達成される。なお、前記有機溶剤はアルコー
ル、エーテル、ケトン又はこれらの混合物であることが
好ましい。
It is another object of the present invention to provide a rubber glove or finger cot which is treated with an organic solvent and has a wavelength of 190 to 230 nm on the surface of a quartz glass substrate which is dried after applying a unit volume of liquid. Regarding the reflectance change characteristic, the same component as the organic solvent treated with the rubber glove or finger sack as the liquid, and when the rubber glove or finger sack and the non-contact organic solvent for extraction are used The reflectance change characteristic is defined as a first reflectance change characteristic, and the rubber glove or finger sack and the surface area of 1 cm are used as the liquid.
When the reflectance change characteristic obtained by using the extraction organic solvent contacted for 1 hour or more at a rate of 1 cm 3 per 2 is used as the second reflectance change characteristic, The wavelength shift amount of the second reflectance change characteristic is 1
It can also be achieved by a rubber glove or finger sack that satisfies the condition of nm or less. Note that the organic solvent is preferably an alcohol, an ether, a ketone, or a mixture thereof.

【0009】そして、上記した本発明の他の目的は、光
学部品を囲繞し、その周囲を特定の雰囲気で満たすため
のケーシングであって、前記ケーシングを構成する壁面
に前記ケーシング内の光学部品を前記ケーシング外から
操作するための、気密性を有する操作手段が取り付けら
れたことを特徴とするケーシングによって達成される。
前記操作手段としては、上記ゴム製手袋又は指サックを
使用することが好ましい。
Another object of the present invention is to provide a casing for surrounding an optical component and filling the surrounding with a specific atmosphere, wherein the optical component in the casing is provided on a wall surface constituting the casing. This is achieved by a casing, wherein an airtight operating means for operating from outside the casing is attached.
It is preferable to use the rubber gloves or finger cots as the operation means.

【0010】また、前記ケーシングは少なくとも二つの
壁面を備えており、前記操作手段が取り付けられた壁面
が他の壁面に対して着脱自在であることが好ましく、ま
た、前記ケーシング内には前記操作手段を収容する収容
部材が配設されていることが好ましい。そして、前記ケ
ーシングを構成する壁面には内部確認用の窓及び/又は
部品搬出入用のエアロックが形成されていてもよい。こ
れらの特徴を備えたケーシングは投影露光装置のコンポ
ーネントとして好適に使用することができる。
Preferably, the casing has at least two wall surfaces, and the wall surface to which the operation means is attached is detachable from another wall surface, and the operation means is provided in the casing. It is preferable that a housing member for housing is provided. A window for checking the inside and / or an air lock for carrying in / out parts may be formed on a wall surface of the casing. A casing having these features can be suitably used as a component of a projection exposure apparatus.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】まず、上記した本発明のうち、ゴ
ム製手袋又は指サックについて説明する。天然ゴム又は
合成ゴムを主原料とするゴム製手袋又は指サックには、
適度なゴム弾性及び物理的、化学的耐久性を得るために
天然ゴム又は合成ゴム以外に老化防止剤、軟化剤、可塑
剤、着色剤、加硫剤などの様々な添加剤が含まれてい
る。本発明者らは、ゴム製手袋又は指サックに関するこ
の一般的な事実と、クリーンルーム対応のゴム製手袋又
は指サックを使用して光学レンズなどの光学部品を取り
扱った場合に、特に、有機溶剤の存在下において光学部
品の有機物汚染の程度が大きいという事実に注目し、鋭
意検討の結果、光学部品を汚染する有機物は純水による
洗浄後もゴム製手袋又は指サックの表面乃至内部に残留
している微量の添加剤に由来することを解明し、この残
留物をゴム製手袋又は指サックから光学的に許容可能な
範囲まで除去することにより本発明を完成した。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS First, rubber gloves or finger cots of the present invention will be described. Rubber gloves or finger cots made from natural or synthetic rubber
Various additives such as anti-aging agents, softeners, plasticizers, coloring agents, vulcanizing agents are included in addition to natural rubber or synthetic rubber to obtain appropriate rubber elasticity and physical and chemical durability. . The present inventors have recognized this general fact regarding rubber gloves or finger cots, and the use of clean room compatible rubber gloves or finger cots to handle optical components such as optical lenses, especially when using organic solvents. Focusing on the fact that the degree of organic matter contamination of the optical component in the presence is large, and as a result of intensive studies, the organic matter contaminating the optical component remains on the surface or inside of the rubber glove or finger sack even after washing with pure water. The present invention was completed by elucidating the origin of trace amounts of additives and removing the residue from rubber gloves or finger cots to an optically acceptable range.

【0012】すなわち、本発明においては、ゴム製手袋
又は指サックから、予め、光学部品の有機物汚染の原因
となる添加剤をほぼ全て除去することにより、有機溶剤
との接触によってゴム製手袋又は指サックから添加剤が
溶出することを防止している。したがって、有機溶剤の
存在下において本発明のゴム製手袋又は指サックを介し
て光学部品を取り扱ったとしても、光学部品が有機物に
よって汚染されてその光学特性が影響を受けることはな
い。以下、本発明のゴム製手袋又は指サックについて更
に詳述する。
That is, in the present invention, almost all additives causing organic contamination of optical components are removed from a rubber glove or finger sack in advance, and the rubber glove or finger sack is brought into contact with an organic solvent. The additive is prevented from being eluted from the sack. Therefore, even if the optical component is handled through the rubber glove or the finger cot of the present invention in the presence of the organic solvent, the optical component is not contaminated by the organic substance and the optical characteristics thereof are not affected. Hereinafter, the rubber glove or finger cot of the present invention will be described in more detail.

【0013】本発明のゴム製手袋又は指サックは、天然
ゴムの他に、ブタジエンゴム、スチレン−ブタジエンゴ
ム、イソプレンゴム、エチレン−プロピレンゴム、ブチ
ルゴム、クロロプレンゴム、ニトリルゴム、アクリルゴ
ム、ウレタンゴム、シリコーンゴム、フッ素ゴム、ポリ
エーテルゴム、多硫化ゴム、クロロスルホン化ポリエチ
レンゴムなどの合成ゴムを主原料として製造することが
できるが、化学的な耐性の点で天然ゴムから製造するこ
とが好ましい。なお、単一のゴム成分のみならず、2種
以上のゴム成分を混合したものを主原料として使用して
もよい。また、本発明のゴム製手袋又は指サックは単層
構造のものでもよく、また、異なるゴム成分からなる複
数の層を備えた積層構造、あるいは、ゴム層以外に金属
メッシュ、金属フォイル、ポリアミド繊維等の繊維から
なる裏地などのゴム以外の成分からなる層を備えた積層
構造を有していてもよい。
[0013] The rubber glove or finger sack of the present invention can be used in addition to natural rubber, butadiene rubber, styrene-butadiene rubber, isoprene rubber, ethylene-propylene rubber, butyl rubber, chloroprene rubber, nitrile rubber, acrylic rubber, urethane rubber, Synthetic rubber such as silicone rubber, fluorine rubber, polyether rubber, polysulfide rubber, chlorosulfonated polyethylene rubber and the like can be used as a main raw material, but it is preferable to use natural rubber in view of chemical resistance. Not only a single rubber component but also a mixture of two or more rubber components may be used as a main raw material. Further, the rubber glove or finger sack of the present invention may have a single-layer structure, a laminated structure having a plurality of layers composed of different rubber components, or a metal mesh, a metal foil, a polyamide fiber in addition to the rubber layer. May have a laminated structure provided with a layer made of a component other than rubber, such as a lining made of fibers such as.

【0014】本発明のゴム製手袋又は指サックは、ゴム
製手袋又は指サックの製造に一般に用いられているディ
ップ成形などの成形方法によって製造することができ
る。すなわち、例えば、まず、主原料となるゴムの溶
液、ラテックス、プラスチゾル又はオルガノゾルからな
るペーストを調製し、次に、これに手型又は指型を浸漬
した後に引き上げて、型の表面に薄膜状にゴムを付着さ
せ、これを乾燥又は加熱してゲル化又は加硫し、その
後、型から取り出して製品とすることができる。なお、
積層構造のゴム製手袋又は指サックは、予め、型表面を
異なるゴム成分層又は繊維層などのゴム以外の成分から
なる層によって被覆するか、または、各種のゴム溶液、
ラテックスなどに対して、浸漬、引き上げ、乾燥又は加
熱する工程を繰り返すことにより製造することができ
る。
The rubber glove or finger cot of the present invention can be produced by a molding method such as dip molding generally used for the production of rubber gloves or finger cots. That is, for example, first, a rubber solution serving as a main raw material, a latex, a paste made of a plastisol or an organosol is prepared, and then a hand or finger mold is immersed in the paste and pulled up to form a thin film on the surface of the mold. The rubber can be applied, dried or heated to gel or vulcanize, and then removed from the mold to form a product. In addition,
Rubber gloves or finger cots with a laminated structure are preliminarily coated on the mold surface with a layer made of a component other than rubber, such as a different rubber component layer or a fiber layer, or various rubber solutions,
It can be manufactured by repeating a process of dipping, lifting, drying or heating a latex or the like.

【0015】本発明のゴム製手袋又は指サックを製造す
るにあたっては、ゴム製手袋及び指サックの製造におい
て、一般に使用されている様々な添加剤を必要に応じて
ゴム原料に添加することができる。そのような添加剤と
しては、例えば老化防止剤を挙げることができ、その具
体的な例としては、N−メチル−N−プロピルブチルア
ミン、N,N−ジブチルホルムアミド、N−ジブチルア
ミン、フェニル−α−ナフチルアミン、4,4´−ジオ
クチルジフェニルアミン、N,N´−ジ−β−ナフチル
−p−フェニレンジアミン、N,N´−ジフェニル−p
−フェニレンジアミン、N−フェニル−N´−シクロヘ
キシル−p−フェニレンジアミン、N,N´−ジ−o−
トリル−エチレンジアミン、アルキル化ジフェニルアミ
ンなどのアミン又はアミド系老化防止剤、ヒドロキノン
モノベンジルエーテル、2,6−ジ−tert−ブチル
フェノール、2,6−ジ−tert−ブチル−p−クレ
ゾール、2,4,6−トリ−tert−ブチルフェノー
ル、4,4´−ビス(3,5−ジ−tert−ブチルフ
ェノール)、ビス(4−オキシ−2,6−ジ−tert
−ブチルフェニル)メタンなどのフェノール又はエーテ
ル系老化防止剤、またはトリフェニルホスファイト、ノ
ニルフェニルホスファイトなどのアルキルアリールホス
ファイト系老化防止剤が挙げられる。これらの老化防止
剤は単独で使用してもよいし、複数種類を組み合わせて
使用してもよい。
In producing the rubber gloves or finger cots of the present invention, various additives generally used in the production of rubber gloves and finger cots can be added to the rubber raw material as required. . Examples of such additives include antioxidants. Specific examples thereof include N-methyl-N-propylbutylamine, N, N-dibutylformamide, N-dibutylamine, and phenyl-α. -Naphthylamine, 4,4'-dioctyldiphenylamine, N, N'-di-β-naphthyl-p-phenylenediamine, N, N'-diphenyl-p
-Phenylenediamine, N-phenyl-N'-cyclohexyl-p-phenylenediamine, N, N'-di-o-
Amine or amide antioxidants such as tolyl-ethylenediamine, alkylated diphenylamine, hydroquinone monobenzyl ether, 2,6-di-tert-butylphenol, 2,6-di-tert-butyl-p-cresol, 2,4, 6-tri-tert-butylphenol, 4,4'-bis (3,5-di-tert-butylphenol), bis (4-oxy-2,6-di-tert)
-Butylphenyl) methane and the like, or an alkylaryl phosphite-based antioxidant such as triphenyl phosphite and nonylphenyl phosphite. These antioxidants may be used alone or in combination of two or more.

【0016】また、その他の添加剤としては、フタル酸
ジブチル、フタル酸ジヘプチル、フタル酸ジオクチル、
フタル酸ジイソデシルなどのフタル酸エステル系、リン
酸トリクレジル、リン酸トリオクチルなどのリン酸エス
テル系、クエン酸トリn−ブチル、アジピン酸ジオクチ
ル、アゼライン酸ジオクチル、セバシン酸ジオクチル、
アセチルリシノール酸メチルなどの脂肪酸系、アルキル
エポキシステアレート、エポキシ化大豆油、4,5−エ
ポキシテトラヒドロフタル酸ジイソデシルなどのエポキ
シ系又はこれらの混合物からなる可塑剤並びに軟化剤;
硫黄、亜鉛華、マグネシア、P−キノン−ジオキシ
ム、有機過酸化物、アゾ化合物などからなる加硫剤;
キサンテート系、チウラム系、ジチオカルバメート系、
チアゾール系、アルデヒドアミン系、グアニジン系、ア
ルデヒドアンモニア系などの加硫促進剤; アゾ系、ア
ントラキノン系などの有機系または各種金属酸化物など
の無機系の着色剤; カーボンブラック、シリカ、粘
土、二酸化チタン、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、マ
イカ、ケイソウ土、タルク、酸化亜鉛などの充填剤とい
った公知の添加剤を単独又は複数種類混合して使用する
ことができる。
Further, other additives include dibutyl phthalate, diheptyl phthalate, dioctyl phthalate,
Phthalates such as diisodecyl phthalate, tricresyl phosphate, phosphates such as trioctyl phosphate, tri-n-butyl citrate, dioctyl adipate, dioctyl azelate, dioctyl sebacate,
Plasticizers and softeners consisting of fatty acids, such as methyl acetyl ricinoleate, alkyl epoxy stearate, epoxidized soybean oil, epoxy compounds, such as diisodecyl 4,5-epoxytetrahydrophthalate, or mixtures thereof;
A vulcanizing agent comprising sulfur, zinc white, magnesia, P-quinone-dioxime, organic peroxide, azo compound, and the like;
Xanthate, thiuram, dithiocarbamate,
Vulcanization accelerators such as thiazole, aldehydeamine, guanidine and aldehyde ammonia; organic colorants such as azo and anthraquinone or inorganic colorants such as various metal oxides; carbon black, silica, clay, and dioxide Known additives such as fillers such as titanium, calcium carbonate, barium sulfate, mica, diatomaceous earth, talc, and zinc oxide can be used alone or in combination of two or more.

【0017】このような添加剤は、例えば、後述する有
機溶剤による処理によってゴム製手袋又は指サックから
ほとんど完全に除去することが可能であるが、有機溶剤
存在下における使用時の表面又は内部からの添加剤の溶
出の可能性を極力抑制するためには、その添加量は少量
最小限に留めておくことが好ましい。
Such additives can be almost completely removed from rubber gloves or finger cots by, for example, treatment with an organic solvent as described below, but from the surface or inside when used in the presence of an organic solvent. In order to minimize the possibility of dissolution of the additive, it is preferable that the amount of the additive be kept to a minimum.

【0018】このようにして製造されたゴム製手袋又は
指サックは、次に、その表面及び内部に存在する添加剤
が所定のレベルまで除去されて本発明のゴム製手袋又は
指サックとされる。添加剤の除去方法は特に限定される
ものではないが、添加剤を簡単な操作で、かつ、効率的
にゴム製手袋又は指サックから抽出するためには、有機
溶剤によってこれらを処理する方法が好ましい。ここ
で、「処理」とはゴム製手袋又は指サックを有機溶剤と
何らかの形態で接触させることをいう。有機溶剤の種類
は、ゴム製手袋又は指サックを使用する段階において該
手袋又は指サックと接触することになる有機溶剤と同
一、又は、類似の化学的性質を有するものとすることが
汚染防止の観点からみてより好ましい。
The rubber glove or finger cot thus manufactured is then removed to a predetermined level with additives present on the surface and inside thereof to obtain the rubber glove or finger cot of the present invention. . The method of removing the additives is not particularly limited, but in order to extract the additives from the rubber gloves or finger cots with a simple operation and efficiently, a method of treating these with an organic solvent is required. preferable. Here, “treatment” refers to bringing a rubber glove or finger sack into contact with an organic solvent in some form. The type of organic solvent should have the same or similar chemical properties as the organic solvent that comes into contact with the glove or finger cot at the stage of using the rubber glove or finger cot. It is more preferable from the viewpoint.

【0019】本発明においてゴム製手袋又は指サックの
処理に使用される有機溶剤としては、メチルアルコー
ル、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、2−
プロパノールなどのアルコール系溶剤、ジメチルケト
ン、メチルエチルケトン、イソブチルメチルケトンなど
のケトン系溶剤、ジエチルエーテル、メチルエチルエー
テル、エチレングリコールモノエチルエーテルなどのエ
ーテル系溶剤、酢酸エチル、エチレングリコールモノブ
チルエーテルアセテートなどのエステル系溶剤、ベンゼ
ン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶剤、テトラクロ
ロエチレン、トリクロロエタンなどの塩素系溶剤、CF
C−12、CFC−13などのフロン系溶剤、ナフテン
類、直鎖パラフィン類、分岐パラフィン類などの脂肪族
炭化水素系溶剤、アニリン、ピリジンなどの窒素化合物
系溶剤、ジエチルアセタールなどのアセタール系溶剤、
フルフラールなどの複素環式化合物系溶剤、酢酸、プロ
ピオン酸などの酸系溶剤、スルホランなどの硫黄誘導体
系溶剤といった公知の有機溶剤、又は、これら各種溶剤
の混合物を挙げることができるが、取り扱いの容易性及
びコストの点からみて、アルコール系、エーテル系、ケ
トン系の有機溶剤又はこれらの混合物を使用することが
好ましく、特にジエチルエーテル:メチルアルコール=
4:1の比率で混合した混合有機溶剤が好ましい。ただ
し、一部の天然ゴム及び合成ゴムは、有機溶剤の種類に
よっては、その有機溶剤に溶解する可能性があるので、
本発明において実際に使用される有機溶剤の種類は、処
理の対象となるゴム製手袋又は指サックを構成するゴム
の種類に応じて上記のような公知の有機溶剤の中から適
宜選択されることが好ましい。なお、ゴム製手袋又は指
サックの構成材質として天然ゴムを使用する場合は、添
加物の抽出効果の点でエーテル類を有機溶媒として使用
することが好ましい。
In the present invention, the organic solvent used for treating rubber gloves or finger cots is methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, 2-
Alcohol solvents such as propanol; ketone solvents such as dimethyl ketone, methyl ethyl ketone and isobutyl methyl ketone; ether solvents such as diethyl ether, methyl ethyl ether and ethylene glycol monoethyl ether; esters such as ethyl acetate and ethylene glycol monobutyl ether acetate Solvents, aromatic hydrocarbon solvents such as benzene and toluene, chlorine solvents such as tetrachloroethylene and trichloroethane, CF
C-12, CFC-13 and other fluorocarbon solvents, naphthenes, linear paraffins, branched paraffins and other aliphatic hydrocarbon solvents, aniline, pyridine and other nitrogen compound solvents, and diethyl acetal and other acetal solvents. ,
Heterocyclic compound solvents such as furfural, acetic acid, acid solvents such as propionic acid, known organic solvents such as sulfur derivative solvents such as sulfolane, and mixtures of these various solvents can be mentioned, but handling is easy. From the viewpoint of properties and cost, it is preferable to use an alcohol-based, ether-based, ketone-based organic solvent or a mixture thereof. In particular, diethyl ether: methyl alcohol =
A mixed organic solvent mixed at a ratio of 4: 1 is preferred. However, some natural rubber and synthetic rubber may be dissolved in the organic solvent depending on the type of the organic solvent.
The kind of the organic solvent actually used in the present invention is appropriately selected from the known organic solvents as described above according to the kind of rubber constituting the rubber glove or finger sack to be treated. Is preferred. When natural rubber is used as a constituent material of the rubber glove or the finger cot, it is preferable to use ethers as the organic solvent in terms of the effect of extracting the additive.

【0020】有機溶剤による処理形態は特に限定される
ものではないが、具体的には、ゴム製手袋又は指サック
を上記した有機溶剤中に所定時間浸漬する方法、有機溶
剤をノズルからゴム製手袋又は指サック表面に向けて放
散する方法、有機溶剤を含浸させた部材でゴム製手袋又
は指サックの表面を拭く方法などを使用することができ
る。また、有機溶剤の温度についても特に限定されるも
のではないが、添加剤の抽出効果を高めるために、各種
の有機溶剤毎に適当な温度に設定することが好ましい。
なお、有機溶剤による処理と並行して、または、その後
に、ゴム製手袋又は指サック表面にブラシ、刷毛、ロー
ルなどを接触させて機械的な処理を行ってもよい。ま
た、有機溶剤による添加剤の抽出効果を高めるために、
有機溶剤による処理に先だって、ゴム製手袋又は指サッ
クを純水で予め洗浄しておくことが好ましい。
The form of treatment with an organic solvent is not particularly limited, and specifically, a method of immersing a rubber glove or finger sack in the above-mentioned organic solvent for a predetermined time, a method of immersing the organic solvent from a nozzle through a rubber glove, Alternatively, a method of radiating toward the surface of the finger sack, a method of wiping the surface of the rubber glove or the finger sack with a member impregnated with an organic solvent, or the like can be used. The temperature of the organic solvent is not particularly limited, but is preferably set to an appropriate temperature for each type of organic solvent in order to enhance the effect of extracting the additive.
Note that a mechanical treatment may be performed in parallel with or after the treatment with the organic solvent by bringing a brush, a brush, a roll, or the like into contact with the surface of the rubber glove or the finger sack. In addition, in order to enhance the effect of extracting the additive by the organic solvent,
Prior to the treatment with the organic solvent, it is preferable that the rubber gloves or finger cots are washed with pure water in advance.

【0021】このようにして、例えば有機溶剤による処
理を行うことにより、本発明のゴム製手袋又は指サック
に含まれる添加剤は、該手袋又は指サックとの接触によ
って光学部品などが該添加剤で汚染されないレベルにま
でほぼ完全に除去される。本発明のゴム製手袋又は指サ
ックが、光学部品などの取り扱いに許容可能なレベルで
あるかどうかは光学的な評価方法によって確認すること
が可能である。以下、本発明におけるゴム製手袋又は指
サックの光学的評価方法について説明する。
[0021] In this way, for example, by performing a treatment with an organic solvent, the additive contained in the rubber glove or the finger cot of the present invention is changed into an optical component or the like by contact with the glove or the finger cot. Almost completely removed to a level that is not contaminated. Whether the rubber glove or the finger cot of the present invention is at an acceptable level for handling optical components or the like can be confirmed by an optical evaluation method. Hereinafter, a method for optically evaluating a rubber glove or a finger cot according to the present invention will be described.

【0022】まず、ゴム製手袋又は指サックを所定の種
類の有機溶剤に所定時間浸漬する。有機溶剤との良好な
接触を担保し、かつ、定量的な評価を行うために、評価
対象となるゴム製手袋又は指サックは所定の表面積を有
する断片に裁断されることが好ましく、例えば横3cm
×縦2cmの矩形の形状にカットされて、その断片が有
機溶剤に浸漬される。ここで使用される有機溶剤の量は
浸漬されるゴム製手袋又は指サックの表面積に応じて適
宜調節されるが、本発明においてはゴム製手袋又は指サ
ックの表面積1cm2に対して、有機溶剤が1cm3の割
合で接触するように、その量が調節される。したがっ
て、例えば横3cm×縦2cmの矩形状に裁断されたゴ
ム製手袋又は指サックの一部を有機溶剤に浸漬する場合
は、表面と裏面の全表面積を勘案して該有機溶剤の量は
3cm×2cm×2=12cm3に設定される。
First, a rubber glove or finger cot is immersed in a predetermined type of organic solvent for a predetermined time. In order to ensure good contact with the organic solvent, and to perform a quantitative evaluation, the rubber glove or finger sack to be evaluated is preferably cut into pieces having a predetermined surface area, for example, 3 cm in width.
× Cut into a rectangular shape with a length of 2 cm, and the fragments are immersed in an organic solvent. Wherein the amount of organic solvent used is appropriately adjusted according to the surface area of rubber gloves or finger cots are immersed, of the surface area 1 cm 2 rubber gloves or finger cots in the present invention, an organic solvent The amount is adjusted so that is contacted at a rate of 1 cm 3 . Therefore, for example, when immersing a part of a rubber glove or a finger sack cut into a rectangular shape of 3 cm wide × 2 cm long in an organic solvent, the amount of the organic solvent is 3 cm in consideration of the total surface area of the front and back surfaces. × 2 cm × 2 = 12 cm 3 .

【0023】次に、評価対象であるゴム製手袋又は指サ
ックが所定時間浸漬された有機溶剤はその所定体積が採
取され、所定の大きさを有する評価用石英ガラス基板の
表面に塗布される。前記評価用石英ガラス基板表面に塗
布された有機溶剤はその後乾燥される。有機溶剤の塗布
量は石英ガラス基板の表面積などに応じて適宜調節され
るが、例えば、石英ガラス基板の直径が1〜3cmの場
合は、0.01〜1ccの範囲で有機溶剤の塗布量が適
宜設定される。また、塗布手段についても特に限定され
るものではないが、刷毛、ロール、又は有機溶剤をしみ
こませた脱脂綿などの払拭部材を使用することが好まし
い。なお、有機溶剤の乾燥は自然乾燥で行うことが好ま
しい。
Next, a predetermined volume of the organic solvent in which the rubber glove or the finger sack to be evaluated is immersed for a predetermined time is collected and applied to the surface of a quartz glass substrate for evaluation having a predetermined size. The organic solvent applied to the surface of the quartz glass substrate for evaluation is then dried. The coating amount of the organic solvent is appropriately adjusted according to the surface area of the quartz glass substrate and the like. For example, when the diameter of the quartz glass substrate is 1 to 3 cm, the coating amount of the organic solvent is 0.01 to 1 cc. It is set appropriately. The application means is not particularly limited, but it is preferable to use a brush, a roll, or a wiping member such as absorbent cotton impregnated with an organic solvent. The organic solvent is preferably dried by natural drying.

【0024】このようにして前記有機溶剤が塗布及び乾
燥された評価用石英ガラス基板には図1の概念図に示さ
れるように、波長190〜230nmの範囲の比較的短
波長の光ビームLが照射され、該石英ガラス基板表面で
の反射に由来する該光ビームの反射光Rが図示しない検
出手段によってモニタされる。前記光ビームLの石英ガ
ラス基板表面への照射角度は必要に応じて適宜調節され
るが、図1に示す形態において石英ガラス基板表面での
垂線Vと光ビームLの照射方向とのなす角を照射角度θ
とした場合、該照射角度θは1〜60゜、好ましくは1
0〜30゜の範囲で適宜設定される。なお、前記照射角
度の最も好ましい角度は12゜である。そして、前記評
価用石英ガラス基板に照射された光ビームLの強度と前
記検出手段によって検知された反射光Rの強度とからは
該基板表面における反射率が演算される。
As shown in the conceptual diagram of FIG. 1, a light beam L having a relatively short wavelength in the range of 190 to 230 nm is applied to the quartz glass substrate for evaluation on which the organic solvent has been applied and dried as described above. The reflected light R of the light beam which is irradiated and is reflected by the surface of the quartz glass substrate is monitored by detecting means (not shown). The irradiation angle of the light beam L on the surface of the quartz glass substrate is appropriately adjusted as necessary. In the embodiment shown in FIG. 1, the angle between the perpendicular V on the surface of the quartz glass substrate and the irradiation direction of the light beam L is determined. Irradiation angle θ
, The irradiation angle θ is 1 to 60 °, preferably 1
It is set appropriately within the range of 0 to 30 °. The most preferable angle of the irradiation angle is 12 °. Then, the reflectance on the substrate surface is calculated from the intensity of the light beam L applied to the quartz glass substrate for evaluation and the intensity of the reflected light R detected by the detection means.

【0025】ところで、図1に示す照射条件において
は、一般に、前記反射率は石英ガラス基板表面に照射す
る光ビームの波長によって変化するが、その変化パター
ンは石英ガラス基板表面に存在する物質の影響を大きく
受ける。そこで、本発明の光学的評価方法では、190
〜230nmの範囲の波長にわたって光ビームを石英ガ
ラス基板表面に照射した場合の反射率の変化パターン
(以下、「反射率変化特性」という)について、ゴム製
手袋又は指サックと接触していない有機溶剤を塗布及び
乾燥した評価用石英ガラス基板の表面の反射率をモニタ
して得られた反射率変化特性(以下、「第1の反射率変
化特性」という)と、上記のようにしてゴム製手袋又は
指サックが浸漬された前記有機溶剤が塗布及び乾燥され
た評価用石英ガラス基板の表面の反射率をモニタして得
られた反射率変化特性(以下、「第2の反射率変化特
性」という)とを比較することにより、該ゴム製手袋又
は指サックの評価を行うこととしている。なお、本発明
の光学的評価方法においては、評価用石英ガラス基板表
面における反射のレベルを調整するために、適当な反射
防止膜を該基板表面にコートすることが好ましい。
By the way, under the irradiation conditions shown in FIG. 1, the reflectivity generally changes depending on the wavelength of the light beam irradiated on the surface of the quartz glass substrate. The change pattern is influenced by the substance existing on the surface of the quartz glass substrate. Greatly receive. Therefore, in the optical evaluation method of the present invention, 190
Regarding the change pattern of the reflectance when the light beam is irradiated on the surface of the quartz glass substrate over a wavelength range of up to 230 nm (hereinafter referred to as “reflectance change characteristic”), an organic solvent not in contact with rubber gloves or finger cots The reflectance change characteristic obtained by monitoring the reflectance of the surface of the quartz glass substrate for evaluation coated and dried (hereinafter referred to as “first reflectance change characteristic”) and the rubber glove as described above. Alternatively, a reflectance change characteristic obtained by monitoring the reflectance of the surface of the evaluation quartz glass substrate on which the organic solvent in which the finger cot is immersed is applied and dried (hereinafter, referred to as a “second reflectance change characteristic”) ) To evaluate the rubber gloves or finger cots. In the optical evaluation method of the present invention, it is preferable to coat a suitable antireflection film on the surface of the quartz glass substrate for evaluation in order to adjust the level of reflection on the surface.

【0026】図2は、上記した光学的評価方法におけ
る、反射率変化特性を用いたゴム製手袋又は指サックの
評価を説明するための概念図である。図2において(1)
は第1の反射率変化特性の一例を示しており、一方、
(2)は第2の反射率変化特性の一例を示している。な
お、図2において横軸は波長、縦軸は反射率を示す。
FIG. 2 is a conceptual diagram for explaining the evaluation of a rubber glove or a finger cot using the reflectance change characteristics in the optical evaluation method described above. In FIG. 2 (1)
Shows an example of the first reflectance change characteristic.
(2) shows an example of the second reflectance change characteristic. In FIG. 2, the horizontal axis represents wavelength and the vertical axis represents reflectance.

【0027】図2に概念的に示すように、評価用石英ガ
ラス基板の表面に何らかの有機物が存在する場合には、
第2の反射率変化特性は、第1の反射率変化特性を基準
とした場合に、波長軸方向にΔSだけ平行移動(以下、
「波長シフト」という)する。また、波長シフト量ΔS
は評価用石英ガラス基板表面の前記有機物の存在量、す
なわち、評価用石英ガラス基板表面に塗布された有機溶
剤中の有機物量と相関する。したがって、波長シフト量
ΔSの値を測定することによって、ゴム製手袋又は指サ
ックから前記有機溶剤への有機物の溶出の程度を評価す
ることができる。そして、波長シフト量ΔSが小さいほ
ど、石英ガラス基板表面に塗布された有機溶剤中に含有
される有機物量は少なく、これは、ゴム製手袋又は指サ
ックから前記有機溶剤への有機物の溶出が少ないことを
示す。
As shown conceptually in FIG. 2, when any organic substance is present on the surface of the quartz glass substrate for evaluation,
The second reflectance change characteristic is parallel translation (hereinafter, referred to as ΔS) in the wavelength axis direction based on the first reflectance change characteristic.
"Wavelength shift"). Also, the wavelength shift amount ΔS
Is correlated with the amount of the organic substance present on the surface of the quartz glass substrate for evaluation, that is, the amount of the organic substance in the organic solvent applied to the surface of the quartz glass substrate for evaluation. Therefore, by measuring the value of the wavelength shift amount ΔS, it is possible to evaluate the degree of elution of the organic substance from the rubber glove or the finger cot into the organic solvent. The smaller the wavelength shift amount ΔS, the smaller the amount of organic substances contained in the organic solvent applied to the surface of the quartz glass substrate, and the less the organic substances are eluted from the rubber glove or finger sack into the organic solvent. Indicates that

【0028】有機溶剤による処理を行った本発明のゴム
製手袋又は指サックに対して上記した光学的評価方法を
適用したところ、得られた第2の反射率変化特性は第1
の反射率変化特性とほぼ一致しており、その波長シフト
の量は1nm以下であった。したがって、本発明のゴム
製手袋又は指サックと接触した有機溶剤には該ゴム製手
袋又は指サックから添加物が溶出することはほとんどな
いことが確認された。そして、本発明のゴム製手袋又は
指サックが浸漬された有機溶剤と接触しても前記評価用
石英ガラス基板の光学特性はほとんど変化しないので、
たとえ有機溶剤の存在下において光学部品などを取り扱
う場合であっても、本発明のゴム製手袋又は指サックを
用いることにより、該光学部品などの光学特性を変化さ
せるおそれは少ない。したがって、本発明のゴム製手袋
又は指サックは光学的な精度が要求されるレンズなどの
光学部品の取り扱いに好適に使用することができる。
When the above-mentioned optical evaluation method was applied to the rubber glove or finger cot of the present invention which had been treated with an organic solvent, the second reflectance change characteristic obtained was
And the amount of the wavelength shift was 1 nm or less. Therefore, it was confirmed that the organic solvent in contact with the rubber glove or finger cot of the present invention hardly elutes additives from the rubber glove or finger cot. Then, even when the rubber glove or finger sack of the present invention comes into contact with the organic solvent immersed, the optical characteristics of the quartz glass substrate for evaluation hardly change,
Even when handling an optical component or the like in the presence of an organic solvent, the use of the rubber gloves or finger cots of the present invention reduces the risk of changing the optical characteristics of the optical component or the like. Therefore, the rubber glove or finger cot of the present invention can be suitably used for handling an optical component such as a lens which requires optical precision.

【0029】なお、本発明の光学的評価方法において、
有機溶剤へのゴム製手袋又は指サックの断片の浸漬時間
は、該ゴム製手袋又は指サックに求められる添加物の残
量レベルに応じて適宜調整されるが、本発明では少なく
とも1時間以上行うことが好ましい。なお、本発明のゴ
ム製手袋又は指サックは有機溶剤に12時間以上、より
好ましくは1日以上浸漬したとしても、該有機溶剤に添
加物が溶出しないレベルの特性を有することが好まし
い。
In the optical evaluation method of the present invention,
The immersion time of the rubber glove or the finger sack piece in the organic solvent is appropriately adjusted according to the remaining amount of the additive required for the rubber glove or the finger sack. Is preferred. The rubber glove or finger cot of the present invention preferably has such a property that the additive does not elute into the organic solvent even when immersed in the organic solvent for 12 hours or more, more preferably for 1 day or more.

【0030】ところで、有機溶剤との接触によってゴム
製手袋又は指サックから溶出される添加物は以下に述べ
る質量分析によって同定することができる。以下、好ま
しい質量分析の形態について説明する。
By the way, the additive eluted from the rubber glove or finger sack upon contact with the organic solvent can be identified by mass spectrometry described below. Hereinafter, preferred modes of mass spectrometry will be described.

【0031】まず、上記光学的評価方法と同様に、所定
の表面積を有するゴム製手袋又は指サックを所定量のメ
チルアルコールなどの有機溶剤に所定時間浸漬する。次
に、前記有機溶剤を乾燥させた後に、残部を固体タンブ
ラーにて加熱してガスを発生させ、このガスを低温でト
ラップして濃縮して試料とし、該試料をGCMSによっ
てマススペクトル分析を行う。具体的には、ゴム製手袋
又は指サック1cm2当たり1cm3の割合で1日間接触
させた有機溶剤を用いることが好ましい。このようにし
て得られたマススペクトルデータから添加物の種類及び
該有機溶剤中の存在量を同定することができる。
First, similarly to the above-mentioned optical evaluation method, a rubber glove or finger cot having a predetermined surface area is immersed in a predetermined amount of an organic solvent such as methyl alcohol for a predetermined time. Next, after drying the organic solvent, the remainder is heated by a solid tumbler to generate a gas, and this gas is trapped and concentrated at a low temperature to obtain a sample, and the sample is subjected to mass spectrum analysis by GCMS. . Specifically, it is preferable to use a rubber glove or an organic solvent contacted for 1 day at a rate of 1 cm 3 per 1 cm 2 of finger sack. From the mass spectrum data thus obtained, the type of the additive and the amount present in the organic solvent can be identified.

【0032】本発明のゴム製手袋又は指サックは、レン
ズなどの光学部品を直接取り扱う場合に好適に使用する
ことができる。図4は、本発明のゴム製手袋の使用形態
の一例を示す概略斜視図であり、図3に示す投影露光装
置の一部を構成するケーシング2の構成を示す。
The rubber gloves or finger cots of the present invention can be suitably used when directly handling optical components such as lenses. FIG. 4 is a schematic perspective view showing an example of a usage form of the rubber glove of the present invention, and shows a configuration of a casing 2 constituting a part of the projection exposure apparatus shown in FIG.

【0033】まず、図3に示す投影露光装置の概略構成
を説明する。投影露光装置50は、マスクMに形成され
たパターン(例えば、半導体素子パターン)を、感光剤
が塗布された略円形のウェハ(基板)W上へ投影転写す
るものであって、光源ユニット6、後述する照明光学系
8、マスクステージ10、投影光学系11、ウェハステ
ージ(基板ステージ)16および焦点検出系12から概
略構成されている。
First, the schematic configuration of the projection exposure apparatus shown in FIG. 3 will be described. The projection exposure apparatus 50 projects and transfers a pattern (for example, a semiconductor element pattern) formed on the mask M onto a substantially circular wafer (substrate) W coated with a photosensitive agent. It is roughly composed of an illumination optical system 8, a mask stage 10, a projection optical system 11, a wafer stage (substrate stage) 16, and a focus detection system 12, which will be described later.

【0034】光源ユニット6はArFを媒体としたエキ
シマレーザ光を露光光Bとして射出するものである。光
源ユニット6から射出された光束Bは、反射ミラー7で
反射されて照明光学系8に入射する。
The light source unit 6 emits excimer laser light using ArF as a medium as exposure light B. The light beam B emitted from the light source unit 6 is reflected by the reflection mirror 7 and enters the illumination optical system 8.

【0035】ここで、照明光学系8の構成について詳細
に説明する。光源ユニット6からの光束は、反射ミラー
7及び不図示の集光光学系を介してオプティカルインテ
グレータ19に入射する。オプティカルインテグレータ
19は、多数のレンズ素子が束ねられて構成されたフラ
イアイレンズである。また、フライアイレンズの代わり
に内面反射型のロッド状光学部材を用いてもよい。オプ
ティカルインテグレータ19の射出面近傍(オプティカ
ルインテグレータにより2次光源が形成される位置)に
は、互いに形状と大きさの少なくとも一方が異なる複数
の開口絞りが形成されるタレット板20が配設されてい
る。このタレット板20は、モータ21で回転駆動さ
れ、ウェハW上に転写すべきマスクMのパターンに応じ
て1つの開口絞りが選択されて光路中に挿入される。オ
プティカルインテグレータ19によって形成される多数
の2次光源からの光束は、リレーレンズ24、長方形の
開口を規定する可変視野絞り23、リレーレンズ24を
通って反射ミラー9で反射された後、不図示のコンデン
サレンズにて集光される。これにより、可変視野絞り2
3の開口で規定された均一な光束は重畳的にマスクMを
照明する。
Here, the configuration of the illumination optical system 8 will be described in detail. The light beam from the light source unit 6 enters the optical integrator 19 via the reflection mirror 7 and a condensing optical system (not shown). The optical integrator 19 is a fly-eye lens configured by bundling a number of lens elements. Further, an inner reflection type rod-shaped optical member may be used instead of the fly-eye lens. In the vicinity of the exit surface of the optical integrator 19 (at the position where the secondary light source is formed by the optical integrator), there is disposed a turret plate 20 on which a plurality of aperture stops having at least one of different shapes and sizes is formed. . The turret plate 20 is driven to rotate by a motor 21, and one aperture stop is selected according to the pattern of the mask M to be transferred onto the wafer W and inserted into the optical path. Light beams from a number of secondary light sources formed by the optical integrator 19 are reflected by the reflection mirror 9 through a relay lens 24, a variable field stop 23 defining a rectangular aperture, and the relay lens 24, and then reflected by a reflection mirror (not shown). The light is collected by the condenser lens. Thereby, the variable field stop 2
The uniform light flux defined by the three apertures illuminates the mask M in a superimposed manner.

【0036】投影光学系11は、マスクMの照明領域に
存在するパターンの像をウェハW上に結像させるもので
ある。ウェハステージ16は、ウェハWを保持するもの
であって、互いに直交する方向(X、Y、Zの三次元方
向)へ移動自在とされている。このウェハステージ16
上には、移動鏡17が設けられている。移動鏡17に
は、位置計測装置である不図示のレーザ干渉計からレー
ザ光18が射出され、その反射光と入射光との干渉に基
づいて移動鏡17とレーザ干渉系との間の距離、すなわ
ちウェハステージ16(ひいてはウェハW)の位置が検
出される構成になっている。また、ウェハステージ16
には、リニアモータ等、ウェハステージ16を駆動させ
る駆動機構(不図示)が付設されている。
The projection optical system 11 forms an image of a pattern existing in the illumination area of the mask M on the wafer W. The wafer stage 16 holds the wafer W, and is movable in directions orthogonal to each other (three-dimensional directions of X, Y, and Z). This wafer stage 16
A movable mirror 17 is provided above. A laser beam 18 is emitted from a laser interferometer (not shown), which is a position measuring device, to the movable mirror 17, and the distance between the movable mirror 17 and the laser interference system is determined based on the interference between the reflected light and the incident light. That is, the position of the wafer stage 16 (and thus the wafer W) is detected. The wafer stage 16
Is provided with a driving mechanism (not shown) for driving the wafer stage 16 such as a linear motor.

【0037】焦点検出系12は、ウェハWの高さ位置
(Z方向の位置)を光学的に検出するものであって、ウ
ェハWに斜めから計測光を入射する投光系13と、ウェ
ハWの表面で反射された計測光を受光する受光系14と
を主体として構成されるものである。
The focus detection system 12 is for optically detecting the height position (position in the Z direction) of the wafer W, and includes a light projecting system 13 for obliquely inputting measurement light to the wafer W, and a wafer W And a light receiving system 14 for receiving the measurement light reflected on the surface of the light emitting device.

【0038】次に、このように構成された露光装置にお
いて、ゴム製手袋を照明光学系8を収容するケーシング
2に用いた場合を例に挙げて説明する。図4に示す実施
の形態では、本発明のゴム製手袋1を取り付けたケーシ
ング2によって前述した照明光学系8が囲繞されてお
り、図示しない光源より放射される光束ビームがケーシ
ング2の側面に設けられた光学窓3を透過し、照明光学
系8を通過して図3のマスクMへ導かれる。本実施の形
態においては、光源としてArFエキシマレーザを用い
ているので前記光束ビームの好ましくない吸収を防止す
るためにケーシング2内の雰囲気は不活性ガスとされて
いる。なお、不活性ガスとしては、必要に応じて窒素、
アルゴンガスなどの様々な種類のガスを使用することが
できる。また、光源としてKrFレーザを用いる場合
は、不活性ガスの代わりに、化学的にクリーンなドライ
エアを使用してもよい。ドライエアは活性炭などからな
るケミカルフィルターによって不純物が除去され、かつ
湿度が調整されたものである(例えば5%以下)。
Next, a description will be given of an example in which a rubber glove is used for the casing 2 accommodating the illumination optical system 8 in the exposure apparatus configured as described above. In the embodiment shown in FIG. 4, the above-mentioned illumination optical system 8 is surrounded by a casing 2 to which a rubber glove 1 of the present invention is attached, and a light beam emitted from a light source (not shown) is provided on a side surface of the casing 2. The light passes through the optical window 3 and passes through the illumination optical system 8 to be guided to the mask M in FIG. In the present embodiment, since the ArF excimer laser is used as the light source, the atmosphere in the casing 2 is an inert gas in order to prevent the light beam from being undesirably absorbed. In addition, as the inert gas, if necessary, nitrogen,
Various types of gases, such as argon gas, can be used. When a KrF laser is used as a light source, chemically clean dry air may be used instead of the inert gas. Dry air is one in which impurities are removed by a chemical filter made of activated carbon or the like and humidity is adjusted (for example, 5% or less).

【0039】図示されるように、本実施の形態において
は、ゴム製手袋1はケーシング2に対して、外部から操
作者が手を挿入して使用できるように取り付けられる。
したがって、修理、可変視野絞り23のメンテナンス及
びレンズの光軸調整、レンズ交換等が必要な場合には、
ケーシング2を開放することなく、ゴム製手袋1を介し
て外部より直接、光学部品3を取り扱うことができる。
このように、本実施の形態では、ケーシング2内の雰囲
気を維持したまま光学部品3を操作することが可能であ
るので、従来必要であったケーシング2の開放、不活性
ガスの排出、再導入などの工程を省略することができ
る。
As shown in the figure, in the present embodiment, the rubber glove 1 is attached to the casing 2 so that an operator can insert a hand from outside and use it.
Therefore, when repair, maintenance of the variable field stop 23, adjustment of the optical axis of the lens, replacement of the lens, etc. are necessary,
The optical component 3 can be handled directly from the outside via the rubber glove 1 without opening the casing 2.
As described above, in this embodiment, since the optical component 3 can be operated while maintaining the atmosphere in the casing 2, the opening of the casing 2 and the discharge and re-introduction of the inert gas, which are conventionally required, can be performed. And other steps can be omitted.

【0040】ゴム製手袋1のケーシング2への取り付け
個数は特に限定されるものではなく、必要に応じて適当
な数のゴム製手袋1を設置することができる。また、ゴ
ム製手袋1のケーシング2への設置個所も特に限定され
るものではなく、必要に応じてケーシング2を構成する
異なる壁面に取り付けてもよく、また、同一の壁面に取
り付けてもよい。ただし、ケーシング2内への外部雰囲
気の混入を防止してケーシング2内の雰囲気を適正に維
持するために、ゴム製手袋1とケーシング2との接合部
位は気密性を有することが好ましい。
The number of the rubber gloves 1 attached to the casing 2 is not particularly limited, and an appropriate number of the rubber gloves 1 can be installed as needed. Further, the place where the rubber glove 1 is installed on the casing 2 is not particularly limited, and may be attached to a different wall surface constituting the casing 2 if necessary, or may be attached to the same wall surface. However, in order to prevent the external atmosphere from being mixed into the casing 2 and appropriately maintain the atmosphere in the casing 2, the joint between the rubber glove 1 and the casing 2 is preferably airtight.

【0041】ゴム製手袋1の材質は気密性を有するもの
であれば特に限定されるものではなく、上記したよう
に、天然ゴムの他に、ブタジエンゴム、スチレン−ブタ
ジエンゴム、イソプレンゴム、エチレン−プロピレンゴ
ム、ブチルゴム、クロロプレンゴム、ニトリルゴム、ア
クリルゴム、ウレタンゴム、シリコーンゴム、フッ素ゴ
ム、ポリエーテルゴム、多硫化ゴム、クロロスルホン化
ポリエチレンゴムなどの合成ゴムを使用することができ
る。なお、単一のゴム成分のみならず、2種以上のゴム
成分を混合したものを主原料として使用してもよい。ま
た、ゴム製手袋1は単層構造のものでもよく、また、異
なるゴム成分からなる複数の層を備えた積層構造、ある
いは、ゴム層以外に金属メッシュ、金属フォイル、ポリ
アミド繊維等の繊維からなる裏地などのゴム以外の成分
からなる層を備えた積層構造であってもよい。
The material of the rubber glove 1 is not particularly limited as long as it has airtightness. As described above, in addition to natural rubber, butadiene rubber, styrene-butadiene rubber, isoprene rubber, ethylene- Synthetic rubbers such as propylene rubber, butyl rubber, chloroprene rubber, nitrile rubber, acrylic rubber, urethane rubber, silicone rubber, fluorine rubber, polyether rubber, polysulfide rubber, and chlorosulfonated polyethylene rubber can be used. Not only a single rubber component but also a mixture of two or more rubber components may be used as a main raw material. The rubber glove 1 may have a single-layer structure, a laminated structure having a plurality of layers made of different rubber components, or a metal mesh, a metal foil, a fiber such as a polyamide fiber in addition to the rubber layer. A laminated structure including a layer made of a component other than rubber, such as a lining, may be used.

【0042】図5は、ケーシング2へのゴム製手袋1の
取り付け態様の一例を示す概略斜視図である。なお、照
明光学系8の構成は図4と同様なので図示及び説明を省
略する。図5に示す実施の形態においてはケーシング2
は、本体部2aと、これに着脱自在な壁面からなる蓋部
2bとから構成されており、ゴム製手袋1は蓋部2bに
取り付けられている。この実施の形態では、ゴム製手袋
1が蓋部2bに取り付けられているので、投影露光装置
などが複数のケーシングを含んでおり、これらのケーシ
ングが同一のサイズの本体部及び蓋部からそれぞれ構成
されている場合に、蓋部を交換するだけで既存のケーシ
ングを本発明のケーシング2とすることが可能である。
また、光学部品の調整などが必要なケーシングにのみゴ
ム製手袋1が取り付けられた蓋部2bを配設すればよい
ので、ケーシングの製造コスト及び製造時間を削減する
ことができる。
FIG. 5 is a schematic perspective view showing an example of a mode of attaching the rubber glove 1 to the casing 2. The configuration of the illumination optical system 8 is the same as that of FIG. In the embodiment shown in FIG.
Is composed of a main body 2a and a lid 2b formed of a detachable wall surface, and the rubber glove 1 is attached to the lid 2b. In this embodiment, since the rubber glove 1 is attached to the lid 2b, the projection exposure apparatus and the like include a plurality of casings, and these casings are composed of a main body and a lid of the same size. In such a case, the existing casing can be used as the casing 2 of the present invention simply by replacing the lid.
In addition, since the cover 2b to which the rubber glove 1 is attached may be provided only in the casing that requires adjustment of the optical components, the manufacturing cost and the manufacturing time of the casing can be reduced.

【0043】図6は、本発明のケーシングの他の実施の
形態を示す概略斜視図である。図から明らかなように、
図6に示す実施の形態においてはケーシング2は、本体
部2aと蓋部2bとから構成されており、蓋部2bには
窓4及びエアロック5が形成されている。この実施の形
態においては、窓4がケーシング2に形成されているの
で、ゴム製手袋1を用いてケーシング2内部の照明光学
系8の一部品を取り扱う場合に、操作者が実際にケーシ
ング2の内部の状況を確認することが可能である。窓4
の形成箇所は蓋部2bに限らず、本体部2aの適当な箇
所とされてもよい。また、窓4の材質は特に限定されな
いが、ケーシング2内部に導入される光ビーム、特に紫
外光の外部への透過を遮断することのできる材質とされ
ることが好ましい。
FIG. 6 is a schematic perspective view showing another embodiment of the casing of the present invention. As is clear from the figure,
In the embodiment shown in FIG. 6, the casing 2 is composed of a main body 2a and a lid 2b, and a window 4 and an air lock 5 are formed in the lid 2b. In this embodiment, since the window 4 is formed in the casing 2, when handling one part of the illumination optical system 8 inside the casing 2 using the rubber gloves 1, the operator actually actually operates the casing 2. It is possible to check the internal situation. Window 4
Is not limited to the lid 2b, but may be an appropriate location on the main body 2a. Further, the material of the window 4 is not particularly limited, but is preferably a material that can block transmission of a light beam, particularly ultraviolet light, introduced into the casing 2 to the outside.

【0044】エアロック5はケーシング2内の光学部品
3などの各種部品の交換、メンテナンス等に必要な各種
治具のケーシング2内への導入及び取り出しに使用され
る。エアロック5の具体的な構成はケーシング2内への
外部の雰囲気の混入を防止できるものであれば特に限定
ないが、独立して開閉を制御可能な二つの扉を備えたチ
ャンバ形式とすることが好ましい。エアロック5の形成
箇所についても蓋部2bに限られるものではなく、本体
部2aの適当な箇所に設けられてもよい。なお、本発明
のケーシングにおいては、窓4及びエアロック5の配設
個数は特に限定されない。また、窓4、エアロック5
は、両方ともケーシング2に取り付けられてもよく、ま
た、そのいずれか一方のみがケーシング2に取り付けら
れていてもよい。なお、窓4を設ける代わりにケーシン
グ2の内部の確認をする手法として、ケーシング2内の
調整を要する箇所を映し出すTVカメラを設けてもよ
い。
The air lock 5 is used for exchanging various components such as the optical component 3 in the casing 2 and for introducing and taking out various jigs necessary for maintenance and the like into the casing 2. The specific configuration of the air lock 5 is not particularly limited as long as it can prevent the outside atmosphere from being mixed into the casing 2. Is preferred. The location where the air lock 5 is formed is not limited to the lid 2b, but may be provided at an appropriate location on the main body 2a. In the casing of the present invention, the number of the windows 4 and the air locks 5 is not particularly limited. Window 4, air lock 5
May be attached to the casing 2, or only one of them may be attached to the casing 2. As a method of checking the inside of the casing 2 instead of providing the window 4, a TV camera that projects a portion in the casing 2 that needs to be adjusted may be provided.

【0045】図4〜図6に示す実施の形態では、ケーシ
ング2にゴム製手袋1が取り付けられているが、ケーシ
ング2内の雰囲気を外部に漏洩させない気密性を有し、
かつ、ケーシング2外部よりケーシング2内の各種物体
の操作をすることが可能であれば、ゴム製手袋1に代え
て、又は、これと共にロボットアームなどの遠隔操作手
段をケーシング2に取り付けてもよい。なお、前記操作
手段としてゴム製手袋を採用する場合には、操作性を向
上させるために蛇腹などの伸縮自在の円筒の先端にゴム
製手袋を取り付けることが好ましい。また、ケーシング
2が大型の場合には、前記操作手段として、操作者自身
が入ることのできる気密性スーツなどをケーシング2に
取り付けてもよい。
In the embodiment shown in FIGS. 4 to 6, the rubber glove 1 is attached to the casing 2, but has airtightness that does not leak the atmosphere in the casing 2 to the outside.
In addition, if it is possible to operate various objects in the casing 2 from the outside of the casing 2, a remote control means such as a robot arm may be attached to the casing 2 instead of or together with the rubber gloves 1. . When rubber gloves are used as the operating means, it is preferable to attach rubber gloves to the end of a telescopic cylinder such as a bellows in order to improve operability. When the casing 2 is large, an airtight suit or the like into which an operator himself can enter may be attached to the casing 2 as the operating means.

【0046】ケーシング2に取り付けられたゴム製手袋
1などの操作手段は、非使用時には、ケーシング2内に
予め配設された収容部材に収容されることが好ましい。
これにより、例えば露光時にケーシング2を通過する光
束ビームの光路が前記操作手段によって遮断されるなど
の不都合を回避することができる。前記収容部材は、前
記操作手段を格納可能なものであれば特に限定されるも
のではないが、具体的には、開閉部を有するケース、カ
ーテン、袋などを使用することができる。
It is preferable that the operating means such as the rubber gloves 1 attached to the casing 2 be housed in a housing member provided beforehand in the casing 2 when not in use.
Thus, it is possible to avoid such a problem that the light path of the light beam passing through the casing 2 at the time of exposure is blocked by the operation means. The accommodation member is not particularly limited as long as the operation member can be stored therein. Specifically, a case, a curtain, a bag, or the like having an opening / closing portion can be used.

【0047】本実施の形態では、ケーシング2として、
照明光学系8を収容する場合について説明したが、光源
ユニット6からマスクMまで収容する構成であってもよ
い。その場合、ケーシング2内を複数の独立したブロッ
クに分け、そのブロック内に照明光学系8を構成する光
学部品をそれぞれ別々に収容してもよい。また、ウェハ
ステージ16及び不図示の干渉系を収容する場合や、マ
スクステージ9を収容する場合にも、本実施の形態にお
けるケーシングを適用することが可能である。さらに
は、ケーシング2は露光装置の制御に必要な光学検出系
(例えば、アライメント光学系等)を収容していてもよ
い。
In the present embodiment, as the casing 2,
Although the case where the illumination optical system 8 is accommodated has been described, a configuration in which the illumination optical system 8 is accommodated from the light source unit 6 to the mask M may be employed. In that case, the inside of the casing 2 may be divided into a plurality of independent blocks, and the optical components constituting the illumination optical system 8 may be separately accommodated in the blocks. Further, the casing in the present embodiment can be applied to a case where the wafer stage 16 and an interference system (not shown) are housed or a case where the mask stage 9 is housed. Further, the casing 2 may house an optical detection system (for example, an alignment optical system) necessary for controlling the exposure apparatus.

【0048】なお、本実施の形態における露光装置は、
マスクと基板とを同期移動してマスクのパターンを露光
する走査型の露光装置(USP5,473,410)、又はマスクと
基板とを静止した状態でマスクのパターンを露光し、基
板を順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピー
ト型の露光装置であってもよい。さらに、本実施の形態
における露光装置として、投影光学系を用いることなく
マスクと基板とを密接させてマスクのパターンを露光す
るプロキシミティ露光装置を採用することができる。露
光装置の用途は半導体デバイス製造用の露光に限定され
ることなく、例えば、角型のガラスプレートに液晶表示
素子パターンを露光する液晶用の露光装置や、薄膜磁気
ヘッドを製造するための露光装置としても広く使用する
ことができる。
Note that the exposure apparatus in the present embodiment
A scanning exposure apparatus (USP 5,473,410) for exposing a mask pattern by synchronously moving a mask and a substrate, or exposing a mask pattern while the mask and the substrate are stationary and sequentially moving the substrate in steps -An and repeat type exposure apparatus may be used. Further, as an exposure apparatus in the present embodiment, a proximity exposure apparatus that exposes a mask pattern by bringing a mask and a substrate into close contact without using a projection optical system can be employed. The application of the exposure apparatus is not limited to exposure for manufacturing semiconductor devices. For example, an exposure apparatus for liquid crystal that exposes a liquid crystal display element pattern to a square glass plate, and an exposure apparatus for manufacturing a thin film magnetic head Can also be widely used.

【0049】本実施の形態の露光装置の光源は、g線
(436nm)、i線(365nm)、KrFエキシマ
レーザ(248nm)、F2レーザ(157nm)、そ
れ以下の波長をもつEUVレーザを使用することも可能
である。
The light source of the exposure apparatus of this embodiment uses a g-line (436 nm), an i-line (365 nm), a KrF excimer laser (248 nm), an F 2 laser (157 nm), and an EUV laser having a wavelength smaller than that. It is also possible.

【0050】以上のように、本実施の形態の露光装置
は、特許請求の範囲に記載された各構成要素を含む各種
サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学
的精度を保つように、組み立てることで製造される。こ
れら各種精度を確保するために、この組み立ての前後に
は、各種光学系については光学的精度を達成するための
調整、各種機械系については機械的精度を達成するため
の調整、各種電気系については電気的精度を達成するた
めの調整が行われる。各種サブシステムから露光装置へ
の組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接
続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含ま
れる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て
工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程がある
ことはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置へ
の組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光
装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装
置の製造は温度及びクリーン度等が管理されたクリーン
ルームで行うことが望ましい。
As described above, the exposure apparatus of the present embodiment can maintain various mechanical subsystems including the components described in the claims with predetermined mechanical, electrical, and optical precisions. So, it is manufactured by assembling. Before and after this assembly, adjustments to achieve optical accuracy for various optical systems, adjustments to achieve mechanical accuracy for various mechanical systems, and various electric systems to ensure these various accuracy Are adjusted to achieve electrical accuracy. The process of assembling the exposure apparatus from various subsystems includes mechanical connections, wiring connections of electric circuits, and piping connections of pneumatic circuits among the various subsystems. It goes without saying that there is an assembling process for each subsystem before the assembling process from these various subsystems to the exposure apparatus. When the process of assembling the various subsystems into the exposure apparatus is completed, comprehensive adjustment is performed, and various precisions of the entire exposure apparatus are secured. It is desirable that the manufacture of the exposure apparatus be performed in a clean room in which the temperature, cleanliness, and the like are controlled.

【0051】半導体デバイスは、デバイスの機能・性能
設計を行うステップ、この設計ステップに基づいたレク
チルを制作するステップ、シリコン材料からウェハを制
作するステップ、前述した実施例の露光装置によりレク
チルのパターンをウェハに露光するステップ、デバイス
組み立てステップ(ダイシング工程、ボンディング工
程、パッケージ工程を含む)、検査ステップ等を経て製
造される。
For a semiconductor device, a step of designing the function and performance of the device, a step of producing a reticle based on the design step, a step of producing a wafer from a silicon material, and a step of forming a reticle pattern by the exposure apparatus of the above-described embodiment. It is manufactured through a step of exposing a wafer, a step of assembling a device (including a dicing step, a bonding step, and a package step), an inspection step, and the like.

【0052】[0052]

【実施例】実施例1 市販の(1)天然ゴム製指サック、(2)ニトリルゴム製指サ
ック、及び、(3)ウレタンゴム製指サックを、それぞれ
メタノール溶剤に浸漬して洗浄した。洗浄後の前記各指
サックをカットして得られた3cm×2cmの断片を1
2ccのメタノール溶剤に1日間浸漬後、このメタノー
ル溶剤を直径30mm、厚さ3mmの円盤状の、反射防
止膜をコートした評価用石英ガラス基板の表面に0.1
cc塗布し、自然乾燥させた。そして、図1に示す照射
角度θ=12゜の条件で、株式会社日立製U−4000
分光光度計を用いて、本発明の光学的評価方法に従って
(1)〜(3)について、それぞれ、波長190〜230nm
にわたって第2の反射率変化特性を測定した。
EXAMPLE 1 Commercially available (1) finger sack made of natural rubber, (2) finger sack made of nitrile rubber, and (3) finger sack made of urethane rubber were washed by immersing them in a methanol solvent. A 3 cm x 2 cm fragment obtained by cutting each finger cot after washing is
After being immersed in 2 cc of a methanol solvent for 1 day, the methanol solvent was placed on the surface of a disk-shaped quartz glass substrate for evaluation coated with an antireflection film having a diameter of 30 mm and a thickness of 3 mm.
cc was applied and air-dried. Then, under the condition of the irradiation angle θ = 12 ° shown in FIG.
Using a spectrophotometer, according to the optical evaluation method of the present invention
(1) to (3), respectively, wavelength 190 to 230 nm
, The second reflectance change characteristic was measured.

【0053】一方、前記各指サックと接触していないメ
タノール溶剤について、上記の場合と同様にして、波長
190〜230nmにわたって第1の反射率変化特性を
測定した。第1の反射率変化特性と第2の反射率変化特
性とを比較したところ、第1の反射率変化特性に対する
第2の反射率変化特性の波長シフト量ΔS(図2参照)
は1nm以下であった。なお、前記各指サックが浸漬さ
れたメタノールについて日本分析工業株式会社製パージ
アンドトラップ装置(head space device JHS-100)及
び日本電子株式会社製GC−MS(Auto mass 150)を用
いて質量分析を行ったところ、通常のゴム製手袋及び指
サックに老化防止剤として添加されているアミン、アミ
ド類などは検出されなかった。
On the other hand, for the methanol solvent not in contact with each finger sack, the first reflectance change characteristic was measured over a wavelength range of 190 to 230 nm in the same manner as described above. When the first reflectance change characteristic and the second reflectance change characteristic are compared, the wavelength shift amount ΔS of the second reflectance change characteristic with respect to the first reflectance change characteristic (see FIG. 2)
Was 1 nm or less. The methanol in which each finger sack was immersed was subjected to mass spectrometry using a purge and trap device (head space device JHS-100, manufactured by JASCO Corporation) and GC-MS (Auto mass 150, manufactured by JEOL Ltd.). As a result, amines, amides and the like added as an anti-aging agent to ordinary rubber gloves and finger cots were not detected.

【0054】比較例1 実施例1と同一の(1)天然ゴム製指サック、(2)ニトリル
ゴム製指サック、及び(3)ウレタンゴム製指サックを予
め洗浄することなく使用した以外は実施例1と同一の条
件にて、第2の反射率変化特性を測定したところ、それ
ぞれ、第1の反射率変化特性に対して数nm波長シフト
していた。また、(1)〜(3)の各指サックと接触したメタ
ノール溶剤を実施例1と同様に質量分析したところ、老
化防止剤として一般に使用されているN−メチル−N−
プロピルブチルアミン、N,N−ジブチルホルムアミ
ド、N−ジブチルアミンが多量に検出された。
Comparative Example 1 The same procedures as in Example 1 were carried out except that (1) a finger sack made of natural rubber, (2) a finger sack made of nitrile rubber, and (3) a finger sack made of urethane rubber were used without prior cleaning. When the second reflectance change characteristics were measured under the same conditions as in Example 1, the wavelengths were shifted by several nm from the first reflectance change characteristics, respectively. Further, when the methanol solvent in contact with each finger sack of (1) to (3) was subjected to mass spectrometry in the same manner as in Example 1, N-methyl-N-
Propyl butylamine, N, N-dibutylformamide and N-dibutylamine were detected in large amounts.

【0055】実施例2 実施例1において使用されたものと同一の(1)天然ゴム
製指サックについて、メタノール溶剤による洗浄後に該
指サックを浸漬させる有機溶剤としてアセトン、エタノ
ール、イソプロピルアルコール、ジエチルエーテルを用
いた以外は実施例1と同様にして第1及び第2の反射率
変化特性を測定したところ、アセトン、エタノール、イ
ソプロピルアルコール、ジエチルエーテルの各有機溶剤
について、第1の反射率変化特性に対する第2の反射率
変化特性の波長シフト量ΔSは1nm以下であった。ま
た、上記各有機溶剤について、実施例1と同様にして質
量分析を行ったところ、アミン、アミド類などは検出さ
れなかった。
Example 2 The same (1) natural rubber finger cot as that used in Example 1 was washed with a methanol solvent and then washed with a methanol solvent, and the organic solvent used to immerse the finger sack was acetone, ethanol, isopropyl alcohol, diethyl ether. When the first and second reflectance change characteristics were measured in the same manner as in Example 1 except for using, the respective organic solvents such as acetone, ethanol, isopropyl alcohol, and diethyl ether were compared with the first reflectance change characteristic. The wavelength shift amount ΔS of the second reflectance change characteristic was 1 nm or less. When mass analysis was performed on each of the above organic solvents in the same manner as in Example 1, no amine, amide or the like was detected.

【0056】比較例2 実施例2と同一の(1)天然ゴム製指サックを予め洗浄す
ることなく使用した以外は実施例2と同一の条件にて、
第1及び第2の反射率変化特性を測定したところ、それ
ぞれ、第2の反射率変化特性は第1の反射率変化特性に
対して数nm波長シフトしていた。また、各指サックと
接触したメタノール溶剤を実施例1と同様にして質量分
析したところ、老化防止剤として一般に使用されている
N−メチル−N−プロピルブチルアミン、N,N−ジブ
チルホルムアミド、N−ジブチルアミンが多量に検出さ
れた。
Comparative Example 2 The same conditions as in Example 2 were used except that the same (1) natural rubber finger cot as used in Example 2 was used without prior cleaning.
When the first and second reflectivity change characteristics were measured, the second reflectivity change characteristic was shifted by several nm from the first reflectivity change characteristic. In addition, when the methanol solvent in contact with each finger cot was subjected to mass spectrometry in the same manner as in Example 1, it was confirmed that N-methyl-N-propylbutylamine, N, N-dibutylformamide, N- Dibutylamine was detected in large amounts.

【0057】このように、有機溶剤によって予め洗浄さ
れたゴム製指サックは、該洗浄により、その内部に存在
していた各種の添加剤が前もって除去されるので、再度
有機溶剤に曝されても、アミン類などの添加剤が溶出す
ることがないことが確認された。
As described above, the rubber finger cot which has been washed in advance with an organic solvent can remove various additives existing in the rubber finger sack in advance by the washing. It was confirmed that additives such as amines and the like did not elute.

【0058】[0058]

【発明の効果】本発明のゴム製手袋又は指サックは、予
め、光学部品などの有機物汚染の原因となる添加剤がほ
ぼ全て除去されているので、溶出力を有する有機溶剤の
存在下において本発明のゴム製手袋又は指サックを介し
て光学部品などを直接取り扱ったとしても、光学部品が
有機物によって汚染されてその光学特性が変化すること
がない。したがって、高集積度の半導体デバイスの製造
の分野において特に好ましく使用することができる。そ
して、前記添加剤の除去方式として有機溶剤による処理
を採用した場合には、ゴム製手袋又は指サックに内在す
る添加剤を簡単な操作で、かつ、効率的に除去すること
が可能である。
According to the rubber gloves or finger cots of the present invention, since almost all additives causing organic contamination such as optical parts have been removed in advance, the rubber gloves or finger cots can be used in the presence of an organic solvent having a melting power. Even if an optical component or the like is directly handled via the rubber glove or the finger cot of the present invention, the optical component is not contaminated by an organic substance and its optical characteristics do not change. Therefore, it can be particularly preferably used in the field of manufacturing a highly integrated semiconductor device. When a treatment with an organic solvent is employed as a method for removing the additive, the additive contained in the rubber glove or the finger cot can be efficiently removed by a simple operation.

【0059】また、本発明のケーシングでは、ケーシン
グを開放することなく、その内部の雰囲気を維持したま
ま、外部より直接ケーシング内の各種部材を操作手段に
より取り扱うことができるので、ケーシング内を操作す
るにあたってケーシング内の雰囲気の外部への放出、再
導入などの工程を省略することができる。したがって、
本発明のケーシングを備える装置全体のランニングコス
トを大幅に低減することが可能となり、また、操作作業
自体を効率的に行うことができる。なお、前記操作手段
として上記ゴム製手袋又は指サックを使用した場合に
は、ケーシング内の有機物汚染を防止することができ
る。
Further, in the casing of the present invention, various members in the casing can be directly handled by the operating means from the outside without opening the casing while maintaining the atmosphere inside the casing. In doing so, steps such as releasing and reintroducing the atmosphere in the casing to the outside can be omitted. Therefore,
The running cost of the entire apparatus including the casing of the present invention can be significantly reduced, and the operation itself can be performed efficiently. When the rubber gloves or finger cots are used as the operation means, it is possible to prevent organic matter contamination in the casing.

【0060】前記操作手段が取り付けられたケーシング
の壁面が他の壁面に対して着脱自在の場合には、蓋部を
交換するだけで既存のケーシングを本発明のケーシング
とすることが可能となり、ケーシングの製造コスト及び
製造時間を削減することができる。また、ケーシング内
に前記操作手段を収容する収容部材が配設されている場
合は、例えば、露光時にケーシングを通過する光ビーム
の光路が前記操作手段によって遮断されるなどの不都合
を回避することができる。
When the wall surface of the casing to which the operating means is attached is detachable from another wall surface, the existing casing can be used as the casing of the present invention simply by replacing the lid. Manufacturing cost and manufacturing time can be reduced. Further, when a housing member for housing the operation means is provided in the casing, for example, it is possible to avoid inconveniences such as an optical path of a light beam passing through the casing during exposure being interrupted by the operation means. it can.

【0061】本発明のケーシングを構成する壁面に内部
確認用の窓が形成されている場合は、ケーシング内部を
操作する際に、操作者が実際に該ケーシングの内部の状
況を確認することが可能となり安全及び確実に作業を行
うことができる。また、本発明のケーシングを構成する
壁面に部品搬入出用のエアロックが形成されている場合
は、ケーシング内部に必要な部品を搬入出する際に、該
ケーシング内の雰囲気状態を維持することが可能とな
り、作業を効率的に行うことができる。本発明のケーシ
ングは例えば投影露光装置を構成する部材として好適に
使用することができる。
When the inside wall of the casing of the present invention is provided with a window for confirming the inside, when operating the inside of the casing, the operator can actually confirm the state of the inside of the casing. The work can be performed safely and reliably. Further, in the case where an air lock for carrying in / out parts is formed on a wall surface constituting the casing of the present invention, it is possible to maintain an atmosphere state in the casing when carrying in / out necessary parts inside the casing. It becomes possible and work can be performed efficiently. The casing of the present invention can be suitably used, for example, as a member constituting a projection exposure apparatus.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明における反射率変化特性の測定状況を
示すための概念図。
FIG. 1 is a conceptual diagram showing a measurement situation of a reflectance change characteristic in the present invention.

【図2】 反射率変化特性を用いたゴム製手袋又は指サ
ックの評価を説明するための概念図。
FIG. 2 is a conceptual diagram for explaining evaluation of a rubber glove or finger sack using reflectance change characteristics.

【図3】 本発明の投影露光装置の実施の形態の一例を
示す側面図。
FIG. 3 is a side view showing an example of an embodiment of the projection exposure apparatus of the present invention.

【図4】 本発明のケーシングの実施の形態の一例を示
す概略斜視図。
FIG. 4 is a schematic perspective view showing an example of an embodiment of a casing of the present invention.

【図5】 本発明のケーシングの実施の形態の他の一例
を示す概略斜視図。
FIG. 5 is a schematic perspective view showing another example of the embodiment of the casing of the present invention.

【図6】 本発明のケーシングの実施の形態の更に他の
一例を示す概略斜視図。
FIG. 6 is a schematic perspective view showing still another example of the embodiment of the casing of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ゴム製手袋 2 ケーシング 3 光学部品 4 窓 5 エアロック DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Rubber glove 2 Casing 3 Optical component 4 Window 5 Air lock

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 有機溶剤で処理されたことを特徴とする
ゴム製手袋又は指サック。
1. A rubber glove or finger cot which has been treated with an organic solvent.
【請求項2】 下記の条件を満たすことを特徴とするゴ
ム製手袋又は指サック:単位体積の液体を塗布後乾燥し
た石英ガラス基板表面における波長190〜230nm
の範囲の反射率変化特性について、 前記液体として前記ゴム製手袋又は指サックと未接触の
有機溶剤を使用した場合の反射率変化特性を第1の反射
率変化特性とし、 前記液体として前記ゴム製手袋又は指サックと表面積1
cm2当たり1cm3の割合で1時間以上接触した前記有
機溶剤を使用した場合の反射率変化特性を第2の反射率
変化特性とした場合に、 前記第1の反射率変化特性に対する前記第2の反射率変
化特性の波長シフト量が1nm以下。
2. A rubber glove or finger sack which satisfies the following conditions: a wavelength of 190 to 230 nm on the surface of a quartz glass substrate dried after applying a unit volume of liquid.
The reflectance change characteristics in the range of the above, the reflectance change characteristics in the case of using an organic solvent that is not in contact with the rubber glove or finger sack as the liquid is referred to as a first reflectance change characteristic, and the liquid is made of the rubber. Gloves or finger cots and surface area 1
When the reflectance change characteristic when the organic solvent contacted at a rate of 1 cm 3 per cm 2 for 1 hour or more is used as the second reflectance change characteristic, the second reflectance change characteristic with respect to the first reflectance change characteristic The wavelength shift amount of the reflectance change characteristic is 1 nm or less.
【請求項3】 有機溶剤で処理されたゴム製手袋又は指
サックであって、下記の条件を満たすことを特徴とする
ゴム製手袋又は指サック:単位体積の液体を塗布後乾燥
した石英ガラス基板表面における波長190〜230n
mの範囲の反射率変化特性について、 前記液体として前記ゴム製手袋又は指サックを処理した
有機溶剤と同一成分であって、かつ、前記ゴム製手袋又
は指サックと未接触の抽出用有機溶剤を使用した場合の
反射率変化特性を第1の反射率変化特性とし、 前記液体として前記ゴム製手袋又は指サックと表面積1
cm2当たり1cm3の割合で1時間以上接触した前記抽
出用有機溶剤を使用して得られた反射率変化特性を第2
の反射率変化特性とした場合に、 前記第1の反射率変化特性に対する前記第2の反射率変
化特性の波長シフト量が1nm以下。
3. A rubber glove or finger sack which has been treated with an organic solvent and which satisfies the following conditions: a quartz glass substrate dried after applying a unit volume of liquid. 190-230n wavelength at the surface
For the reflectance change characteristics in the range of m, the liquid is the same component as the organic solvent treated with the rubber glove or finger sack, and the extraction organic solvent that is not in contact with the rubber glove or finger sack. The reflectance change characteristic when used is a first reflectance change characteristic, and the rubber glove or finger sack and the surface area 1 are used as the liquid.
The reflectance change characteristic obtained by using the extraction organic solvent contacted at a rate of 1 cm 3 per cm 2 for 1 hour or more is the second.
Where the wavelength shift amount of the second reflectance change characteristic with respect to the first reflectance change characteristic is 1 nm or less.
【請求項4】 前記有機溶剤がアルコール、エーテル、
ケトン又はこれらの混合物であることを特徴とする請求
項1乃至3のいずれかに記載のゴム製手袋又は指サッ
ク。
4. The method according to claim 1, wherein the organic solvent is alcohol, ether,
4. The rubber glove or finger cot according to claim 1, which is ketone or a mixture thereof.
【請求項5】 光学部品を囲繞し、その周囲を特定の雰
囲気で満たすためのケーシングであって、 前記ケーシングを構成する壁面に前記ケーシング内の光
学部品を前記ケーシング外から操作するための、気密性
を有する操作手段が取り付けられたことを特徴とするケ
ーシング。
5. A casing for surrounding an optical component and filling the surroundings with a specific atmosphere, wherein said casing is provided with a hermetic seal for operating an optical component in said casing from outside of said casing on a wall constituting said casing. A casing to which operating means having a property is attached.
【請求項6】 前記操作手段が請求項1乃至4のいずれ
かに記載のゴム製手袋又は指サックであることを特徴と
する請求項5記載のケーシング。
6. A casing according to claim 5, wherein said operating means is a rubber glove or a finger cot according to any one of claims 1 to 4.
【請求項7】 前記ケーシングが少なくとも二つの壁面
を備えており、前記操作手段が取り付けられた壁面が他
の壁面に対して着脱自在であることを特徴とする請求項
5又は6記載のケーシング。
7. The casing according to claim 5, wherein the casing has at least two wall surfaces, and a wall surface to which the operation means is attached is detachable from another wall surface.
【請求項8】 前記ケーシング内に前記操作手段を収容
する収容部材が配設されていることを特徴とする請求項
5乃至7のいずれかに記載のケーシング。
8. The casing according to claim 5, wherein an accommodating member for accommodating the operating means is provided in the casing.
【請求項9】 前記ケーシングを構成する壁面に内部確
認用の窓及び/又は部品搬出入用のエアロックが形成さ
れていることを特徴とする請求項5乃至8のいずれかに
記載のケーシング。
9. The casing according to claim 5, wherein a wall for confirming the inside and / or an airlock for carrying in / out the parts are formed on a wall surface of the casing.
【請求項10】 請求項5乃至9のいずれかに記載のケ
ーシングを備えたことを特徴とする投影露光装置。
10. A projection exposure apparatus comprising the casing according to claim 5. Description:
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2006013393A (en) * 2004-06-29 2006-01-12 Nikon Corp Optical-element-holding device, body tube, aligner, and method for manufacturing device

Cited By (2)

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