JP2000303039A - Supporting member and its production - Google Patents

Supporting member and its production

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JP2000303039A
JP2000303039A JP11116538A JP11653899A JP2000303039A JP 2000303039 A JP2000303039 A JP 2000303039A JP 11116538 A JP11116538 A JP 11116538A JP 11653899 A JP11653899 A JP 11653899A JP 2000303039 A JP2000303039 A JP 2000303039A
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JP
Japan
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support
substrate
polymer
support according
gas
Prior art date
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Pending
Application number
JP11116538A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yuichiro Maehara
雄一郎 前原
Kazuhiro Fukuda
和浩 福田
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Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a supporting member which exhibits assured tight adhesiveness by forming on a support a layer of an adhesive containing a polymer having a specified or lower weight-average molecular weight. SOLUTION: Provided is a supporting member prepared by forming a layer of an adhesive containing at least 50 wt.% polymer having a weight-average molecular weight of at most 50,000 and a film-hardening agent on a support (e.g. one made of a polyester). The adhesive layer is applied in a coating weight of, desirably, 5-100 mg/m2. To improve the adhesiveness of the support, it is subjected to e.g. treatment with a plasma at atmospheric pressure. When the substrate is subjected to a plasma discharge treatment with a mixed gas comprising an inert gas and a polar-group-imparting gas selected from among nitrogen, oxygen, hydrogen, or the like, atmospheric pressure or near, its surface energy, as compared with the initial value, is lowered by at least 3 mN/m by the nonpolar component and is increased by at least 10 mN/mm by the polar component. A polymer for forming the adhesive layer is exemplified by gelatin, casein, or polyvinyl alcohol. The film-hardening agent is exemplified by 1,2-bis(vinylsulfonylacetamide)ethane or glycidyl ether.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、支持体および支持
体の製造方法に関し、更に詳しくは、支持体と該支持体
上に設ける塗布層との接着性を向上させた支持体および
支持体の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a support and a method for producing the support, and more particularly, to a support having improved adhesion between the support and a coating layer provided on the support, and to a method for manufacturing the support. It relates to a manufacturing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、なじみの良くない異種の膜
(層)と膜(層)を接着させる方法としては、その間に
接着層を設ける手法、即ちプライマー法が用いられてき
た。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a method of adhering different types of films (layers) which are not familiar with each other, a method of providing an adhesive layer therebetween, that is, a primer method has been used.

【0003】例えば、写真感光材料用支持体に於いて
は、下引き処理を施した樹脂系支持体とゼラチンをメイ
ンバインダとする写真構成層との強固な接着性が要求さ
れ、これが充分でないと種々のトラブルを引き起こして
しまう。特に、現像中等に写真構成層の膜剥がれが生じ
た場合には商品自体を台無しにするだけでなく、現像機
のトラブルまでも引き起こしてしまう。
For example, in the case of a support for a photographic light-sensitive material, strong adhesion between an undercoated resin-based support and a photographic constituent layer having gelatin as a main binder is required. It causes various troubles. In particular, when the film of the photographic constituent layer is peeled off during development or the like, not only the product itself is spoiled, but also a trouble of the developing machine is caused.

【0004】支持体と写真構成層の接着性を高める方法
として、従来種々の方法が試みられてきた。1つには、
USP3,475,193に開示される如く、基体に放
電処理・紫外線処理等のエネルギー処理を行った後、下
引き第一層を塗設し、更に親水性ポリマーより成る下引
き第二層を塗設し、この上に写真構成層を塗設する方法
がある。しかしながら下引き層が二層必要であることか
ら製造コストが高くなる欠点がある。そのため、下引き
層を一層化する試みが成されてきた。
[0004] Various methods have heretofore been attempted as a method for enhancing the adhesion between the support and the photographic component layer. For one thing,
As disclosed in US Pat. No. 3,475,193, after a substrate is subjected to an energy treatment such as a discharge treatment or an ultraviolet treatment, an undercoating first layer is applied, and further an undercoating second layer made of a hydrophilic polymer is applied. There is a method in which a photographic constituent layer is provided thereon. However, there is a disadvantage that the production cost is increased because two undercoat layers are required. For this reason, attempts have been made to further increase the undercoat layer.

【0005】例えば、USP4,135,932に開示
される如く、下引き層の塗設の前後でコロナ放電処理を
施す方法がある。しかしながらコロナ放電の原理上、基
体表面全面に均一な処理がなされ難いこと及び写真構成
層を構成するメインバインダであるゼラチン等の親水性
ポリマーとの親和性が必ずしも良好でない等の欠点があ
った。
For example, as disclosed in US Pat. No. 4,135,932, there is a method of performing a corona discharge treatment before and after coating an undercoat layer. However, due to the principle of corona discharge, there are drawbacks such as that it is difficult to uniformly treat the entire surface of the substrate and that affinity with a hydrophilic polymer such as gelatin as a main binder constituting a photographic component layer is not always good.

【0006】更にこれら処理の均一性及びゼラチンとの
親和性を向上させる方法として、特開平8−19428
6号公報に記載の如く、基体に真空プラズマ処理を行
い、その後、ゼラチンを主成分とする下引き層を設ける
方法が考案された。
Further, as a method for improving the uniformity of these treatments and the affinity with gelatin, Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-19428
As described in Japanese Patent Publication No. 6, a method has been devised in which a substrate is subjected to vacuum plasma treatment, and then an undercoat layer containing gelatin as a main component is provided.

【0007】しかしながら、真空プラズマ処理は、真空
槽を必要とする為、設備費用が高価で、更に真空系特有
の運転初期の不安定作動があり、処理開始から安定作動
となるまでに処理した基体は、廃棄しなければならない
場合もあるという欠点がある。
However, vacuum plasma processing requires a vacuum chamber, so equipment costs are high, and there is an unstable operation in the initial stage of operation peculiar to a vacuum system, and the substrate processed from the start of processing to stable operation. Has the disadvantage that it may have to be discarded.

【0008】そこで、長尺の基体を連続搬送しながら均
一に安定に、更に写真構成層のメインバインダであるゼ
ラチンとの親和性が良好な処理が出来、しかもコストが
安く、生産性に優れた処理方法が求められていた。
Accordingly, processing can be performed uniformly and stably while continuously transporting a long substrate, and can be processed with good affinity for gelatin, which is the main binder of the photographic constituent layer, and at a low cost and excellent productivity. A processing method was required.

【0009】また、高pH現像液で処理される写真感光
材料用支持体では、より強固な接着性を確保できる支持
体が求められていた。
Further, in the case of a support for a photographic light-sensitive material which is processed with a high pH developing solution, a support capable of securing stronger adhesiveness has been required.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、強固
な接着性を確保できる支持体を提供することである。ま
た、前記支持体の製造方法において、長尺の基体を連続
搬送しながら、均一に、安定に、コストが安く、しかも
生産性に優れた支持体の製造方法を提供することであ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a support capable of securing a strong adhesiveness. Another object of the present invention is to provide a method for producing a support which is uniform, stable, inexpensive and has high productivity while continuously transporting a long substrate.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記の
構成により達成された。
The object of the present invention has been attained by the following constitutions.

【0012】1.基体上に、重量平均分子量が50,0
00Mw以下のポリマーを含有する接着層を有する支持
体。
1. On a substrate, a weight average molecular weight of 50,0
A support having an adhesive layer containing a polymer of 00 Mw or less.

【0013】2.基体上に、20℃におけるゼラチンの
みの10%水溶液の粘度が0.2Pa・s以下であるゼ
ラチンを含有する接着層を有する支持体。
2. A support having, on a substrate, an adhesive layer containing gelatin in which the viscosity of a 10% aqueous solution of gelatin alone at 20 ° C. is 0.2 Pa · s or less.

【0014】3.前記基体がエネルギー処理を施されて
いることを特徴とする上記1または2に記載の支持体。
3. The support according to the above 1 or 2, wherein the substrate has been subjected to energy treatment.

【0015】4.前記エネルギー処理がプラズマ処理で
あることを特徴とする上記3に記載の支持体。
4. The support according to the above item 3, wherein the energy treatment is a plasma treatment.

【0016】5.前記プラズマ処理が大気圧プラズマ処
理であることを特徴とする上記4に記載の支持体。
5. The support according to the above item 4, wherein the plasma treatment is an atmospheric pressure plasma treatment.

【0017】6.前記大気圧プラズマ処理に用いるガス
が、不活性ガスと反応ガスの混合ガスであることを特徴
とする上記5に記載の支持体。
6. The support according to the above item 5, wherein the gas used for the atmospheric pressure plasma treatment is a mixed gas of an inert gas and a reactive gas.

【0018】7.前記不活性ガスがアルゴンガスを50
圧力%以上含有することを特徴とする上記6に記載の支
持体。
[7] The inert gas contains 50 argon gas.
7. The support according to the above 6, wherein the support is contained at a pressure of not less than%.

【0019】8.前記反応ガスが窒素、酸素、二酸化炭
素または水素であることを特徴とする上記6または7に
記載の支持体。
8. The support according to the above item 6 or 7, wherein the reaction gas is nitrogen, oxygen, carbon dioxide or hydrogen.

【0020】9.前記プラズマ処理された基体の表面エ
ネルギーは、前記プラズマ処理前に比べ、非極性成分で
3mN/m以上減少していることを特徴とする上記4〜
8のいずれか1つに記載の支持体。
9. The surface energy of the substrate subjected to the plasma treatment is reduced by 3 mN / m or more in the non-polar component compared to before the plasma treatment.
9. The support according to any one of 8.

【0021】10.前記プラズマ処理された基体の表面
エネルギーは、前記プラズマ処理前に比べ、極性成分が
10mN/m以上増大していることを特徴とする上記4
〜8のいずれか1つに記載の支持体。
10. The surface energy of the substrate subjected to the plasma treatment is such that the polarity component is increased by 10 mN / m or more as compared with before the plasma treatment.
9. The support according to any one of items 1 to 8.

【0022】11.前記ポリマーがゼラチン、ポリビニ
ルアルコール(PVA)、アクリル樹脂またはポリエス
テル樹脂であることを特徴とする上記1、3〜8のいず
れか1つに記載の支持体。
11. The support according to any one of the above items 1, 3 to 8, wherein the polymer is gelatin, polyvinyl alcohol (PVA), an acrylic resin or a polyester resin.

【0023】12.前記接着層の付き量が、5〜100
mg/m2であることを特徴とする上記1〜11のいず
れか1つに記載の支持体。
12. The adhesion amount of the adhesive layer is 5 to 100.
The support according to any one of the above 1 to 11, wherein the support is mg / m 2 .

【0024】13.前記接着層が、1,2−ビス(ビニ
ルスルホニルアセトアミド)エタン(BVSAE)、ビ
ス(ビニルスルホニル)メタン(BVSM)、ビス(ビ
ニルスルホニルメチル)エーテル(BVSME)とビス
(ビニルスルホニルエチル)エーテル(BVSEE)、
1,3−ビス(ビニルスルホニル)プロパン(BVS
P)、1,3−ビス(ビニルスルホニル)−2−ヒドロ
キシプロパン(BVSHP)、1,1−ビス(ビニルス
ルホニル)エチルベンゼン硫酸ナトリウム塩、1,1,
1−トリス(ビニルスルホニル)エタン(TVSE)、
テトラキス(ビニルスルホニル)メタン、トリス(アク
リルアミド)ヘキサヒドロ−s−トリアジン、アクロレ
イン−メタクリル酸共重合体、グリシジルエーテル、ア
クリルアミド、ジアルデヒド、ブロックドジアルデヒ
ド、α−ジケトン、活性エステル、スルホン酸エステ
ル、活性ハロゲン化合物、s−トリアジン、ジアジン、
エポキシド、ホルムアルデヒド、ホルムアルデヒド縮合
生成物、酸無水物、アジリジン、活性オレフィン、ブロ
ックド活性オレフィン、ハロゲン置換アルデヒド酸、他
の硬膜性官能基を有するビニルスルホン、ポリマー硬膜
剤、ポリマーアルデヒド、ポリマービニルスルホン、ポ
リマーブロックドビニルスルホンおよびポリマー活性ハ
ロゲンからなる群より選ばれる硬膜剤で硬膜されている
ことを特徴とする上記1〜12のいずれか1つに記載の
支持体。
13. The adhesive layer is made of 1,2-bis (vinylsulfonylacetamide) ethane (BVSAE), bis (vinylsulfonyl) methane (BVSM), bis (vinylsulfonylmethyl) ether (BVSME) and bis (vinylsulfonylethyl) ether (BVSEE) ),
1,3-bis (vinylsulfonyl) propane (BVS
P), 1,3-bis (vinylsulfonyl) -2-hydroxypropane (BVSHP), 1,1-bis (vinylsulfonyl) ethylbenzene sodium sulfate, 1,1,
1-tris (vinylsulfonyl) ethane (TVSE),
Tetrakis (vinylsulfonyl) methane, tris (acrylamide) hexahydro-s-triazine, acrolein-methacrylic acid copolymer, glycidyl ether, acrylamide, dialdehyde, blocked dialdehyde, α-diketone, active ester, sulfonic ester, active halogen Compound, s-triazine, diazine,
Epoxides, formaldehyde, formaldehyde condensation products, acid anhydrides, aziridine, activated olefins, blocked activated olefins, halogen-substituted aldehyde acids, vinyl sulfones having other hardening functional groups, polymer hardeners, polymer aldehydes, polymer vinyls 13. The support according to any one of the above items 1 to 12, wherein the support is hardened with a hardener selected from the group consisting of sulfone, polymer blocked vinyl sulfone and polymer active halogen.

【0025】14.前記基体が、ポリエステル基体であ
ることを特徴とする上記1〜13のいずれか1つに記載
の支持体。
14. 14. The support as described in any one of 1 to 13 above, wherein the substrate is a polyester substrate.

【0026】15.前記支持体が、写真感光材料用支持
体であることを特徴とする上記1〜14のいずれか1つ
に記載の支持体。
15. 15. The support as described in any one of 1 to 14 above, wherein the support is a support for a photographic light-sensitive material.

【0027】16.支持体の製造方法において、基体に
プラズマ処理を施す工程と、前記プラズマ処理を施され
た基体上に、重量平均分子量が50,000Mw以下の
ポリマーを含有する接着層を設ける工程とを有すること
を特徴とする支持体の製造方法。
16. The method for producing a support comprises a step of performing a plasma treatment on a substrate, and a step of providing an adhesive layer containing a polymer having a weight average molecular weight of 50,000 Mw or less on the substrate subjected to the plasma treatment. A method for producing a support, which is characterized in that:

【0028】17.支持体の製造方法において、基体に
プラズマ処理を施す工程と、前記プラズマ処理を施され
た基体上に、20℃におけるゼラチンのみの10%水溶
液の粘度が0.2Pa・s以下であるゼラチンを含有す
る接着層を設ける工程とを有することを特徴とする支持
体の製造方法。
17. In the method for producing a support, a step of subjecting a substrate to plasma treatment; and a step of subjecting the substrate subjected to the plasma treatment to gelatin containing a 10% aqueous solution of gelatin alone at 20 ° C. and having a viscosity of 0.2 Pa · s or less. Providing a bonding layer to be formed.

【0029】18.前記プラズマ処理が大気圧プラズマ
処理であって、前記大気圧プラズマ処理に用いるガス
が、不活性ガスと反応ガスの混合ガスであって、前記不
活性ガスがアルゴンガスを50圧力%以上含有し、前記
反応ガスが窒素、酸素、二酸化炭素または水素であるこ
とを特徴とする上記16または17に記載の支持体の製
造方法。
18. The plasma processing is an atmospheric pressure plasma processing, a gas used for the atmospheric pressure plasma processing is a mixed gas of an inert gas and a reactive gas, and the inert gas contains 50% by weight or more of argon gas, The method for producing a support according to the above item 16 or 17, wherein the reaction gas is nitrogen, oxygen, carbon dioxide or hydrogen.

【0030】19.前記プラズマ処理が、大気圧プラズ
マ処理であって、前記大気圧プラズマ処理に用いるガス
は、反応ガスを40圧力%以上含有し、前記大気圧プラ
ズマ処理がパルス化された電界でプラズマを発生させる
ことにより行われることを特徴とする上記16または1
7に記載の支持体の製造方法。
19. The plasma processing is an atmospheric pressure plasma processing, wherein a gas used for the atmospheric pressure plasma processing contains a reaction gas at 40% by pressure or more, and the atmospheric pressure plasma processing generates plasma with a pulsed electric field. 16 or 1 above, wherein
8. The method for producing a support according to 7.

【0031】以下、本発明を以下に詳述する。Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0032】本発明の支持体に用いられる基体は、特に
限定はないが、樹脂フィルムや樹脂被覆紙のように、接
着層と接する側の表面が樹脂のものが好ましく、特にポ
リエステル基体であることが好ましい。
The substrate used for the support of the present invention is not particularly limited, but is preferably a resin substrate such as a resin film or a resin-coated paper, the surface of which is in contact with the adhesive layer, particularly a polyester substrate. Is preferred.

【0033】本発明の支持体に使用する基体としては、
セルローストリアセテート等のセルロースエステル基
体、ポリエステル基体、ポリカーボネート基体、ポリイ
ミド基体、ポリスチレン(シンジオタクティック)基
体、ポリオレフィン基体、紙基体に溶融被覆してあるポ
リオレフィン樹脂被覆印画紙基体、あるいはポリエステ
ル樹脂被覆印画紙基体等を挙げることが出来る。
As the substrate used for the support of the present invention,
Cellulose ester substrate such as cellulose triacetate, polyester substrate, polycarbonate substrate, polyimide substrate, polystyrene (syndiotactic) substrate, polyolefin substrate, polyolefin resin-coated photographic paper substrate melt-coated on paper substrate, or polyester resin-coated photographic paper substrate And the like.

【0034】ポリオレフィン樹脂被覆印画紙基体、ある
いはポリエステル樹脂被覆印画紙基体、ポリエステル基
体、ポリオレフィン基体には、用途に応じて、白色顔料
を混合させてもよい。この用途は印画紙基体であり、反
射画像として見るために基体面が白色となっている。白
色顔料としては、硫酸バリウム、酸化チタン、炭酸マグ
ネシウム、酸化亜鉛等が好ましく、これらの内、酸化チ
タンが特に好ましい。酸化チタンはルチル型とアナター
ゼ型の2種がよく用いられるが、その中でも白さの安定
性からアナターゼ型が好ましい。
A white pigment may be mixed into the polyolefin resin-coated photographic paper substrate, or the polyester resin-coated photographic paper substrate, polyester substrate, or polyolefin substrate, depending on the application. This application is a photographic paper substrate, and the substrate surface is white for viewing as a reflection image. As the white pigment, barium sulfate, titanium oxide, magnesium carbonate, zinc oxide and the like are preferable, and among them, titanium oxide is particularly preferable. Two types of titanium oxide, rutile type and anatase type, are often used, and among them, anatase type is preferable from the viewpoint of whiteness stability.

【0035】本発明に用いられるポリオレフィン基体ま
たはポリオレフィン樹脂被覆基体のポリオレフィンとし
ては、高密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、低密
度ポリエチレン、ポリプロピレン等を挙げることが出来
る。
The polyolefin substrate or polyolefin resin-coated substrate used in the present invention includes high-density polyethylene, medium-density polyethylene, low-density polyethylene, and polypropylene.

【0036】セルロースエステル基体を構成するものと
しては、セルローストリアセテート、セルロースアセテ
ートプロピオネート、セルロースアセテートブチレー
ト、セルロースフタル酸半エステル、セルロースアセテ
ートフタレート、セルロースナイトレート、セルロース
アセテートナイトレート、ポリカプロラクトングラフト
化セルロースアセテート等のセルロース誘導体を挙げる
ことが出来、中でも脂肪族エステルや混合脂肪酸エステ
ルが好適に用いることが出来、特に酢化度50.0〜6
2.0%のセルロースアセテート、更に酢化度57.0
〜62.0のセルローストリアセテートフィルムを用い
ることにより、機械的強度、寸法安定性、及び耐湿熱安
定性の良好なフィルムを得ることが出来るので好まし
い。これらのセルロースエステルは、重量平均重合度が
200〜800、特に250〜400が好ましい。
The cellulose ester substrate comprises cellulose triacetate, cellulose acetate propionate, cellulose acetate butyrate, cellulose phthalate half ester, cellulose acetate phthalate, cellulose nitrate, cellulose acetate nitrate, polycaprolactone grafted Cellulose derivatives such as cellulose acetate can be mentioned, and among them, aliphatic esters and mixed fatty acid esters can be suitably used.
2.0% cellulose acetate, with a degree of acetylation of 57.0
It is preferable to use a cellulose triacetate film of up to 62.0 because a film having good mechanical strength, dimensional stability, and moisture and heat resistance can be obtained. These cellulose esters preferably have a weight average degree of polymerization of 200 to 800, particularly preferably 250 to 400.

【0037】ポリエステルを主成分とするポリエステル
基体は、上記基体以上に機械的強度があり、また寸法安
定性にも優れているため、非常に好ましい。
The polyester base containing polyester as a main component is very preferable because it has higher mechanical strength than the above base and excellent dimensional stability.

【0038】ポリエステル基体を構成するポリエステル
は、さらに他の共重合成分が共重合されていても良い
し、他のポリエステル、またはポリエステル以外のポリ
マーが混合されていてもよい。
The polyester constituting the polyester substrate may be further copolymerized with another copolymer component, or may be mixed with another polyester or a polymer other than the polyester.

【0039】ポリエステル基体は、構成成分のジカルボ
ン酸とジオールとのエステル化及び重縮合により得られ
たポリエステルを溶融したシートを2軸延伸製膜法によ
り得られる基体である。
The polyester substrate is a substrate obtained by biaxially stretching a sheet obtained by melting a polyester obtained by esterification and polycondensation of a dicarboxylic acid and a diol as constituent components.

【0040】構成成分の一つのジカルボン酸としては、
透明性、機械的強度、寸法安定性などの点から、テレフ
タル酸と2,6−ナフタレンジカルボン酸が、またもう
一つの構成成分のジオールとしては、上記同様な点から
エチレングリコールと1,4−シクロヘキサンジメタノ
ールが好ましい。これらジカルボン酸とジオールを適宜
組み合わせてエステル化及び重縮合したポリエステルが
好ましい。中でも、ポリエチレンテレフタレート(PE
T);ポリエチレンナフタレート(PEN);テレフタ
ル酸及び2,6−ナフタレンジカルボン酸とエチレング
リコールからなるポリ(テレフタレート−コ−2,6−
ナフタレート);PETとPENの分子量の異なるもの
の混合物を溶融時エステル交換したコポリエステル;エ
チレンテレフタレートとシクロヘキサンジメタノールと
エチレングリコールとのコポリエステル、エチレン−
2,6−ナフタレートとシクロヘキサンジメタノールと
エチレングリコールとのコポリエステル;エチレングリ
コールとシクロヘキサンジメタノールのジオールとテレ
フタル酸と2,6−ナフタレンジカルボン酸のジカルボ
ン酸との混合ポリエステルが好ましい。これらのうち、
全ポリエステルに対してエチレンテレフタレートユニッ
ト及び/またはエチレン−2,6−ナフタレートユニッ
トが70重量%以上含有されていると、透明性、機械的
強度、寸法安定性等に優れたポリエステルフィルムが得
られ好ましい。
One of the constituent dicarboxylic acids is
In terms of transparency, mechanical strength, dimensional stability, etc., terephthalic acid and 2,6-naphthalenedicarboxylic acid are used. As another component diol, ethylene glycol and 1,4-naphthalene are used in the same manner as described above. Cyclohexanedimethanol is preferred. A polyester obtained by esterification and polycondensation by appropriately combining these dicarboxylic acids and diols is preferable. Among them, polyethylene terephthalate (PE
T): polyethylene naphthalate (PEN); poly (terephthalate-co-2,6-) comprising terephthalic acid and 2,6-naphthalenedicarboxylic acid and ethylene glycol
Naphthalate); a copolyester obtained by transesterifying a mixture of PET and PEN having different molecular weights at the time of melting; a copolyester of ethylene terephthalate, cyclohexanedimethanol and ethylene glycol;
Copolyesters of 2,6-naphthalate, cyclohexanedimethanol and ethylene glycol; mixed polyesters of diols of ethyleneglycol, cyclohexanedimethanol, terephthalic acid and dicarboxylic acids of 2,6-naphthalenedicarboxylic acid are preferred. Of these,
When an ethylene terephthalate unit and / or an ethylene-2,6-naphthalate unit is contained in an amount of 70% by weight or more based on all polyesters, a polyester film excellent in transparency, mechanical strength, dimensional stability, and the like can be obtained. preferable.

【0041】また、特開平6−240020号公報に記
載されているような積層構成を有するポリエステルであ
ってもよい。この場合、ポリエステルとしての共重合成
分として、スルホフタル酸ナトリウム、ポリエチレング
リコール等共重合成分として組み込むことによって親水
性のポリエステルとなり、この親水性ポリエステルを外
側に、そして芯としてポリエチレンテレフタレートやポ
リエチレンナフタレートのような剛性のある材料を用い
ることによって親水性を有するポリエステル基体を作る
ことが出来、本発明においても好ましく用いられる。
Further, a polyester having a laminated structure as described in JP-A-6-240020 may be used. In this case, as a copolymerization component as a polyester, sodium sulfophthalate, a hydrophilic polyester is obtained by incorporating the copolymerization component such as polyethylene glycol, and the hydrophilic polyester is provided on the outside and a core such as polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate. By using a highly rigid material, a polyester substrate having hydrophilicity can be produced, and is preferably used in the present invention.

【0042】上記のうちポリエチレンテレフタレート、
ポリエチレンナフタレート、特にポリエチレン−2,6
−ナフタレート、ポリオレフィン樹脂のフィルム基体及
び樹脂被覆印画紙基体が特に好ましく本発明に用いられ
る。
Of the above, polyethylene terephthalate,
Polyethylene naphthalate, especially polyethylene-2,6
Naphthalate, polyolefin resin film substrates and resin-coated photographic paper substrates are particularly preferred for use in the present invention.

【0043】本発明の支持体において、基体上に設ける
接着層は、重量平均分子量が50,000Mw以下の低
分子のポリマー、又は、20℃におけるゼラチンのみの
10%水溶液の粘度が0.2Pa・s以下のゼラチンを
含有する。
In the support of the present invention, the adhesive layer provided on the substrate may be a low molecular weight polymer having a weight average molecular weight of 50,000 Mw or less, or a 10% aqueous solution of gelatin alone at 20 ° C. having a viscosity of 0.2 Pa · s or less of gelatin.

【0044】通常、写真感光材料の写真構成層に用いら
れるポリマーは、メインバインダとしてのゼラチン等で
あるが、重量平均分子量は100,000以上のものが
一般的である。又、通常、写真感光材料の写真構成層に
用いられるゼラチンの10%の水溶液では、20℃にお
いては凝固してしまい、粘度測定不可能であるから、本
発明の接着層に用いるポリマー又はゼラチンは低分子又
は低粘度のものである。
Usually, the polymer used in the photographic constituent layer of the photographic light-sensitive material is gelatin or the like as a main binder, and the weight-average molecular weight is generally 100,000 or more. In addition, since a 10% aqueous solution of gelatin used for a photographic component layer of a photographic material usually solidifies at 20 ° C. and the viscosity cannot be measured, the polymer or gelatin used for the adhesive layer of the present invention is not used. It is of low molecular weight or low viscosity.

【0045】重量平均分子量が50,000Mw以下の
ポリマーとしては、塩化ビニル、塩化ビニリデン、メタ
クリル酸、アクリル酸、イタコン酸、無水マレイン酸、
ジオレフィン等の共重合体、ゼラチン、セルロースナイ
トレート等を挙げることが出来る。親水性ポリマー、疎
水性ポリマーどちらでも構わないが、親水性ポリマーで
ある方が本発明の効果を有効に奏する。
Polymers having a weight average molecular weight of 50,000 Mw or less include vinyl chloride, vinylidene chloride, methacrylic acid, acrylic acid, itaconic acid, maleic anhydride,
Copolymers such as diolefin, gelatin, cellulose nitrate and the like can be mentioned. Either a hydrophilic polymer or a hydrophobic polymer may be used, but a hydrophilic polymer more effectively exerts the effects of the present invention.

【0046】本発明の重量平均分子量が50,000M
w以下の疎水性ポリマーとしては、熱可塑性ポリマー、
放射線硬化性ポリマー、熱硬化性ポリマー、その他の反
応性ポリマーなどを挙げることが出来る。熱可塑性ポリ
マーとしては、塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマー、塩
化ビニルポリマー、酢酸ビニル−ビニルアルコールコポ
リマー、塩化ビニル−塩化ビニリデンコポリマー、塩化
ビニル−アクリロニトリルコポリマー、エチレン−ビニ
ルアルコールコポリマー、塩素化ポリ塩化ビニル、エチ
レン−塩化ビニルコポリマー、エチレン−酢酸ビニルコ
ポリマー、エチレン−酢酸ビニル−ビニルアルコールタ
ーポリマー体等のビニル系ポリマーあるいはコポリマ
ー、セルロースナイトレート、セルローストリアセテー
ト、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブ
チレート、セルロースアセテートプロピオネートなどの
セルロース誘導体、、アクリロニトリル−スチレンコポ
リマー、塩素化ポリエチレン、アクリロニトリル−塩素
化ポリエチレン−スチレンターポリマー、メチルメタク
リレート−ブタジエン−スチレンターポリマー、ポリア
クリルエステル、ポリビニルアセタール、ポリビニルブ
チラール、ポリエステルポリウレタンコポリマー、ポリ
エーテルポリウレタンコポリマー、ポリカーボネートポ
リウレタンコポリマー、ポリエステル、ポリエーテル、
ポリアミド、スチレン−ブタジエンコポリマー、ブタジ
エン−アクリロニトリルコポリマーやシリコーン系ポリ
マー、フッ素系ポリマー等を挙げることができる。これ
らは単独または2種類以上併用して使用することが出来
る。熱可塑性ポリマーのTg(絶対温度)は170〜4
20°Kの範囲のものが好ましく、210〜400°K
の範囲のものがより好ましい。
The weight average molecular weight of the present invention is 50,000M
w or less hydrophobic polymer, a thermoplastic polymer,
Examples include radiation curable polymers, thermosetting polymers, and other reactive polymers. As the thermoplastic polymer, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, vinyl chloride polymer, vinyl acetate-vinyl alcohol copolymer, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, vinyl chloride-acrylonitrile copolymer, ethylene-vinyl alcohol copolymer, chlorinated polyvinyl chloride, ethylene -Vinyl polymers or copolymers such as vinyl chloride copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-vinyl acetate-vinyl alcohol terpolymer, cellulose nitrate, cellulose triacetate, cellulose diacetate, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate propionate Cellulose derivatives such as, acrylonitrile-styrene copolymer, chlorinated polyethylene, acrylonitrile-chlorinated poly Styrene - styrene terpolymer, methyl methacrylate - butadiene - styrene terpolymer, polyacrylic ester, polyvinyl acetal, polyvinyl butyral, polyester polyurethane copolymer, polyether polyurethane copolymer, polycarbonate polyurethane copolymers, polyesters, polyethers,
Examples thereof include polyamide, styrene-butadiene copolymer, butadiene-acrylonitrile copolymer, silicone-based polymer, and fluorine-based polymer. These can be used alone or in combination of two or more. Tg (absolute temperature) of thermoplastic polymer is 170-4
Preferably in the range of 20 ° K, 210-400 ° K
Is more preferable.

【0047】放射線硬化ポリマーとしては、電子線、紫
外線などの放射線によって硬化するポリマーで、アクリ
ル型、無水マレイン酸型、ウレタンアクリル型、エーテ
ルアクリル型、エポキシアクリル型、エポキシ型等を挙
げることが出来る。
The radiation-curable polymer is a polymer which is cured by radiation such as an electron beam or an ultraviolet ray, and includes acrylic type, maleic anhydride type, urethane acrylic type, ether acrylic type, epoxy acrylic type, epoxy type and the like. .

【0048】また熱硬化性ポリマー、その他の反応性ポ
リマーとしては、フェノールポリマー、アミノポリマ
ー、エポキシポリマー、ポリウレタン系硬化型ポリマ
ー、イソシアネート系硬化型ポリマー、メラミンポリマ
ー、尿素ポリマー、アルキッドポリマー、シリコーン系
硬化型ポリマー、オキサゾリン系硬化型ポリマーなどが
挙げられる。これら単独または2種類以上併用して使用
することが出来る。
The thermosetting polymer and other reactive polymers include phenol polymer, amino polymer, epoxy polymer, polyurethane-based curing polymer, isocyanate-based curing polymer, melamine polymer, urea polymer, alkyd polymer, silicone-based curing polymer. Polymer, oxazoline-based curable polymer and the like. These can be used alone or in combination of two or more.

【0049】本発明の重量平均分子量が50,000M
w以下の親水性ポリマーとしては、本発明に使用できる
親水性ポリマーとしては、例えば、リサーチ・ディスク
ロージャー(以降RDと略す)No.17643(以降
No.を略す)、26頁、および同18716、651
頁に記載されている水溶性ポリマーやラテックスポリマ
ーを挙げることができる。
The weight average molecular weight of the present invention is 50,000M
Examples of the hydrophilic polymer that can be used in the present invention include, for example, Research Disclosure (hereinafter abbreviated as RD) No. 17643 (hereinafter abbreviated as No.), page 26, and pp. 18716, 651
Examples thereof include water-soluble polymers and latex polymers described on the page.

【0050】ゼラチン以外の水溶性ポリマーとしては、
カゼイン、寒天、アルギン酸ソーダ、澱粉等の天然加工
物、ポリビニルアルコール、アクリル酸系コポリマー、
無水マレイン酸コポリマー等付加重合ポリマー類、金属
スルホ置換ジカルボン酸を含むジカルボン酸とエチレン
グリコールのようなジオールとの水溶性ポリエステル類
等を挙げることが出来る。また、ゼラチンの一部をコロ
イド状アルブミン、カゼイン、カルボキシメチルセルロ
ース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピ
ルセルロース、カルボキシメチルセルロース等のセルロ
ースエーテル類などのセルロース誘導体、寒天、アルギ
ン酸ソーダ、デンプン誘導体、デキストランなどの糖誘
導体、合成親水性コロイド、例えば、ポリビニルアルコ
ール、ポリN−ビニルピロリドン、アクリル酸系コポリ
マー体、ポリアクリルアミドまたはこれらの誘導体、部
分加水分解物、ゼラチン誘導体などで置き換えたもので
もよい。水溶性ポリエステルも有用である。水溶性ポリ
エステルは、ジカルボン酸成分としてテレフタル酸、ナ
フタレジカルボン酸、フタル酸等と、ジオール成分とし
てはエチレングリコール、1,4−シクロヘキサンジメ
タノール、1,4−シクロヘキサンジオール等との組み
合わせによるポリエステルに水溶性成分として、金属ス
ルホフタル酸、ポリエチレングリコールを共重合成分と
して組み込んだものが好ましい。
The water-soluble polymers other than gelatin include
Casein, agar, sodium alginate, natural processed products such as starch, polyvinyl alcohol, acrylic acid copolymer,
Examples include addition-polymerized polymers such as maleic anhydride copolymers, and water-soluble polyesters of dicarboxylic acids containing metal sulfo-substituted dicarboxylic acids and diols such as ethylene glycol. In addition, a part of gelatin is colloidal albumin, casein, carboxymethylcellulose, hydroxyethylcellulose, hydroxypropylcellulose, cellulose derivatives such as cellulose ethers such as carboxymethylcellulose, agar, sodium alginate, starch derivatives, sugar derivatives such as dextran, synthetic. It may be replaced by a hydrophilic colloid, for example, polyvinyl alcohol, poly N-vinylpyrrolidone, an acrylic acid-based copolymer, polyacrylamide or a derivative thereof, a partial hydrolyzate, or a gelatin derivative. Water-soluble polyesters are also useful. The water-soluble polyester is a polyester obtained by combining terephthalic acid, naphthalene carboxylic acid, phthalic acid, etc. as a dicarboxylic acid component and ethylene glycol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,4-cyclohexanediol, etc. as a diol component. As the water-soluble component, a component in which metal sulfophthalic acid and polyethylene glycol are incorporated as a copolymer component is preferable.

【0051】ラテックスポリマーとしては、塩化ビニ
ル、塩化ビニリデン、アクリル酸エステル、酢酸ビニ
ル、ブタジエン、スチレンまたはスチレン誘導体等のモ
ノマーを適宜組み合わせて乳化重合したラテックスポリ
マーが挙げられる。
Examples of the latex polymer include a latex polymer obtained by emulsion polymerization of a suitable combination of monomers such as vinyl chloride, vinylidene chloride, acrylate, vinyl acetate, butadiene, styrene and styrene derivatives.

【0052】上記列挙の親水性ポリマーまたは疎水性ポ
リマーは、その分子中に極性基を有していてもよい。極
性基としては、エポキシ基、−COOM、−OH、−N
2、−NR3X、−SO3M、−OSO3M、−PO
33、−OPO3M(Mは各々、水素原子、アルカリ金
属又はアンモニウムを、Xはアミン塩を形成する酸を、
Rは各々、水素原子、アルキル基を表す)等が挙げら
れ、これにより該ポリマーバインダー層内の架橋を促進
したり、種々の添加剤の混合状態を安定化したり、また
上の層とのアフィニティーを増したりすることが出来
る。
The hydrophilic polymers or hydrophobic polymers listed above may have a polar group in the molecule. As the polar group, an epoxy group, -COOM, -OH, -N
R 2, -NR 3 X, -SO 3 M, -OSO 3 M, -PO
3 M 3 , —OPO 3 M (M is a hydrogen atom, an alkali metal or ammonium, X is an acid forming an amine salt,
R each represents a hydrogen atom or an alkyl group), which promotes crosslinking in the polymer binder layer, stabilizes the mixed state of various additives, and has an affinity with an upper layer. Can be increased.

【0053】上記本発明の重量平均分子量が50,00
0Mw以下のポリマーの中で好ましいものは、ゼラチ
ン、ポリビニルアルコール(PVA)、アクリル樹脂、
ポリエステル樹脂である。特に好ましいのはゼラチンで
ある。これらポリマーは市販のものを簡単に入手するこ
とが出来る。
The weight average molecular weight of the present invention is 50,000
Among polymers having a molecular weight of 0 Mw or less, preferred are gelatin, polyvinyl alcohol (PVA), acrylic resin,
It is a polyester resin. Particularly preferred is gelatin. These polymers are easily available commercially.

【0054】本発明の接着層中における重量平均分子量
が50,000Mw以下のポリマー含有量は50重量%
以上であれば本発明の効果を奏するが、好ましくは70
重量%以上、さらに好ましくは90重量%以上である。
The content of the polymer having a weight average molecular weight of 50,000 Mw or less in the adhesive layer of the present invention is 50% by weight.
The effects of the present invention can be obtained if the above is satisfied, but preferably 70
% By weight, more preferably 90% by weight or more.

【0055】本発明に用いるポリマーにおいて、重量平
均分子量が50,000Mw以下とは、ゲルパーミエー
ションクロマトグラフ法(GPC法)による測定値であ
り、具体的には以下の条件である。
In the polymer used in the present invention, the weight average molecular weight of 50,000 Mw or less is a value measured by a gel permeation chromatography (GPC method), specifically under the following conditions.

【0056】(GPC法) a)カラム:Asahipak、GS−620(旭化成
工業社製)2本直列接続カラム温度50℃ b)溶離液:0.1M KH2PO4と0.1M Na2
HPO4との等量混合溶液pH6.8 流速1.0ml
/min c)試料:ゼラチンの0.2%溶離液溶液 注入量 100μl d)検出:紫外線吸収分光光度計(UV波長230n
m) 分子量の算出は、上記条件下であらかじめ分子量の判明
しているアルブミン、オバルミン、ミトクローム等を用
いてリテンションタイムと分子量とから検量線を作り、
試料ゼラチン溶液のリテンションタイムを検量線にあて
はめ分子量を算出する方法をとる。各分子量ごとの面積
の全体の面積に占める比率から重量平均分子量を算出す
る。
(GPC method) a) Column: Asahipak, GS-620 (manufactured by Asahi Chemical Industry Co., Ltd.) Two columns connected in series Temperature: 50 ° C. b) Eluent: 0.1 M KH 2 PO 4 and 0.1 M Na 2
Equivalent mixed solution with HPO 4 pH 6.8 Flow rate 1.0 ml
/ Min c) Sample: 0.2% eluent solution of gelatin Injection volume 100 μl d) Detection: UV absorption spectrophotometer (UV wavelength 230 n)
m) The calculation of the molecular weight is performed by preparing a calibration curve from the retention time and the molecular weight using albumin, ovalmin, mitochrome or the like whose molecular weight is known in advance under the above conditions,
The retention time of the sample gelatin solution is applied to a calibration curve to calculate the molecular weight. The weight average molecular weight is calculated from the ratio of the area for each molecular weight to the total area.

【0057】本発明に用いるゼラチンにおいて、20℃
における10%水溶液の粘度が0.2Pa・s以下であ
るとは、パギイ法 写真用ゼラチン試験法 第7版(1
992年版)の粘度測定法に準ずる方法で求めた値が
0.2Pa・s以下であることである。準ずるとは、ゼ
ラチン水溶液の測定濃度(10%)および測定温度(2
0℃)のみ変更し、測定したことを意味する。
In the gelatin used in the present invention, at 20 ° C.
That the viscosity of a 10% aqueous solution is 0.2 Pa · s or less in the Pagii method
992) is 0.2 Pa · s or less. According to the above, the measurement concentration (10%) and the measurement temperature (2
0 ° C.), meaning that measurement was performed.

【0058】本発明の支持体において、接着層は、硬膜
剤で硬膜することが好ましい。硬膜剤としては、アルデ
ヒド系、アジリジン系(例えば、PBレポート、199
21、米国特許第2,950,197号、同2,96
4,404号、同2,983,611号及び同3,27
1,175号の各明細書、特公昭46−40898号及
び特開昭50−91315号の各公報に記載のもの)、
イソオキサゾール系(例えば、米国特許第3,331,
609号明細書に記載あるもの)、エポキシ系(例え
ば、米国特許第3,047,394号、西独特許第1,
085,663号及び英国特許第1,033,518号
の各明細書、更に特公昭48−35495号公報に記載
のもの)、ビニルスルホン系(例えば、PBレポート1
9,920、西独特許第1,100,942号、同2,
337,412号、同2,545,722号、同2,6
35,518号、同2,742,308号、同2,74
9,260号及び英国特許第1,251,091号の各
明細書、また特公昭49−13563号及び同48−1
10996号、更に、米国特許第3,539,644号
及び同3,491,911号の各明細書に記載のも
の)、アクリロイル系(例えば、特公昭53−778号
公報及び米国特許第3,640,720号明細書に記載
のもの)、カルボジイミド系(例えば、米国特許第2,
938,892号、同4,043,818号及び同4,
061,499号各明細書に記載のもの)、トリアジン
系(例えば、西独特許第2,410,973号、同2,
553,915号及び米国特許第3,325,287号
の各明細書、更に特開昭52−12722号公報に記載
のもの)、オキサゾリン系(例えば、特開平5−295
275号公報に記載のもの)、高分子型(例えば、英国
特許第822,061号、米国特許第3,623,87
8号、同3,396,029号及び同3,226,23
4号の各明細書)、特公昭47−18578号、同47
−18579号及び同47−48896号の各公報に記
載のもの)、イソシアネート系、ポリアミド−エピクロ
ルヒドリン樹脂(例えば、特開昭51−3619号記載
のもの)、反応性のハロゲンを有する化合物、その他マ
レイミド系、アセチレン系、メタンスルホン酸エステル
系、N−メチロール系の硬膜剤を挙げることが出来る。
In the support of the present invention, the adhesive layer is preferably hardened with a hardener. As hardening agents, aldehyde-based and aziridine-based (for example, PB Report, 199
21, U.S. Pat. Nos. 2,950,197 and 2,96
Nos. 4,404, 2,983,611 and 3,27
1,175, JP-B-46-40898 and JP-A-50-91315).
Isoxazole-based (eg, US Pat. No. 3,331,331)
No. 609), epoxy type (for example, US Pat. No. 3,047,394, West German Patent No. 1,
085,663 and British Patent No. 1,033,518, and those described in JP-B-48-35495), vinyl sulfones (for example, PB Report 1)
9,920; West German Patent No. 1,100,942;
337,412, 2,545,722, 2,6
No. 35,518, No. 2,742,308, No. 2,74
No. 9,260 and British Patent Nos. 1,251,091 and Japanese Patent Publication Nos. 49-13563 and 48-1.
10996, furthermore, those described in the specifications of U.S. Pat. Nos. 3,539,644 and 3,491,911), and acryloyl (for example, JP-B-53-778 and U.S. Pat. 640,720), carbodiimide-based (eg, US Pat.
938,892, 4,043,818 and 4,
061,499), triazines (for example, West German Patent Nos. 2,410,973 and 2,
553,915 and U.S. Pat. No. 3,325,287, as well as those described in JP-A-51-2722), and oxazoline-based compounds (for example, JP-A-5-295).
No. 275), polymer type (for example, British Patent No. 822,061, US Pat. No. 3,623,87)
Nos. 8, 3,396,029 and 3,226,23
No. 4), JP-B Nos. 47-18578, 47
Nos. 18579 and 47-48896), isocyanates, polyamide-epichlorohydrin resins (for example, those described in JP-A-51-3619), compounds having a reactive halogen, and other maleimides And acetylene-based, methanesulfonate-based, and N-methylol-based hardeners.

【0059】上記硬膜剤の中で、好ましく用いられるも
のは、1,2−ビス(ビニルスルホニルアセトアミド)
エタン(BVSAE)、ビス(ビニルスルホニル)メタ
ン(BVSM)、ビス(ビニルスルホニルメチル)エー
テル(BVSME)とビス(ビニルスルホニルエチル)
エーテル(BVSEE)、1,3−ビス(ビニルスルホ
ニル)プロパン(BVSP)、1,3−ビス(ビニルス
ルホニル)−2−ヒドロキシプロパン(BVSHP)、
1,1−ビス(ビニルスルホニル)エチルベンゼン硫酸
ナトリウム塩、1,1,1−トリス(ビニルスルホニ
ル)エタン(TVSE)、テトラキス(ビニルスルホニ
ル)メタン、トリス(アクリルアミド)ヘキサヒドロ−
s−トリアジン、アクロレイン−メタクリル酸共重合
体、グリシジルエーテル、アクリルアミド、ジアルデヒ
ド、ブロックドジアルデヒド、α−ジケトン、活性エス
テル、スルホン酸エステル、活性ハロゲン化合物、s−
トリアジン、ジアジン、エポキシド、ホルムアルデヒ
ド、ホルムアルデヒド縮合生成物、酸無水物、アジリジ
ン、活性オレフィン、ブロックド活性オレフィン、ハロ
ゲン置換アルデヒド酸、他の硬膜性官能基を有するビニ
ルスルホン、ポリマー硬膜剤、ポリマーアルデヒド、ポ
リマービニルスルホン、ポリマーブロックドビニルスル
ホンまたはポリマー活性ハロゲンである。
Of the above hardeners, the one preferably used is 1,2-bis (vinylsulfonylacetamide)
Ethane (BVSAE), bis (vinylsulfonyl) methane (BVSM), bis (vinylsulfonylmethyl) ether (BVSME) and bis (vinylsulfonylethyl)
Ether (BVSEE), 1,3-bis (vinylsulfonyl) propane (BVSP), 1,3-bis (vinylsulfonyl) -2-hydroxypropane (BVSHP),
1,1-bis (vinylsulfonyl) ethylbenzene sodium sulfate, 1,1,1-tris (vinylsulfonyl) ethane (TVSE), tetrakis (vinylsulfonyl) methane, tris (acrylamide) hexahydro-
s-triazine, acrolein-methacrylic acid copolymer, glycidyl ether, acrylamide, dialdehyde, blocked dialdehyde, α-diketone, active ester, sulfonic acid ester, active halogen compound, s-
Triazines, diazines, epoxides, formaldehyde, formaldehyde condensation products, acid anhydrides, aziridine, activated olefins, blocked active olefins, halogen-substituted aldehyde acids, vinyl sulfones having other hardening functional groups, polymer hardeners, polymers It is an aldehyde, a polymer vinyl sulfone, a polymer blocked vinyl sulfone or a polymer active halogen.

【0060】本発明の支持体において、接着層を設ける
方法は特に限定はないが、塗布で設けることが好まし
い。塗布方法としては、カーテン塗布、スライドビード
塗布等従来知られている方法を用いることが出来る。
In the support of the present invention, the method for providing the adhesive layer is not particularly limited, but is preferably provided by coating. As a coating method, a conventionally known method such as curtain coating or slide bead coating can be used.

【0061】本発明の支持体において、接着層の基体へ
の付き量は、5〜100mg/m2の範囲であると本発
明の効果を有効に奏する。
In the support of the present invention, if the amount of the adhesive layer applied to the substrate is in the range of 5 to 100 mg / m 2 , the effects of the present invention can be exhibited effectively.

【0062】本発明の支持体において、基体は、大気圧
プラズマ処理、真空プラズマ処理、コロナ放電処理、紫
外線処理等のエネルギー処理を施し、より接着性を高め
るようにすることが好ましい。これらのエネルギー処理
は通常知られた方法を用いることが出来る。エネルギー
処理の中では、処理の均一性、安定性、生産性、コスト
面の観点から大気圧プラズマ処理が最も好ましい。
In the support of the present invention, the substrate is preferably subjected to an energy treatment such as an atmospheric pressure plasma treatment, a vacuum plasma treatment, a corona discharge treatment, and an ultraviolet treatment so as to further enhance the adhesiveness. For these energy treatments, generally known methods can be used. Among the energy treatments, the atmospheric pressure plasma treatment is most preferable from the viewpoint of uniformity, stability, productivity and cost of the treatment.

【0063】大気圧プラズマ処理は、大気圧もしくは大
気圧近傍の圧力下、ガスを導入しつつ、一対の電極を対
向させて放電し、前記電極間に基体を連続搬送させるこ
とにより、前記基体にガス中放電プラズマ処理を施すも
のである。導入するガスは、プラズマ放電で反応を起こ
さないアルゴンガス、ヘリウムガス、ネオンガス、キセ
ノンガス、クリプトンガスの不活性ガスと、プラズマ放
電により反応を起こす反応ガスに分けることが出来る。
反応ガスが何らかの反応を起こして基体表面と結合する
ことにより、表面性を変化させることが可能となる。
Atmospheric pressure plasma treatment is performed by discharging a gas with a pair of electrodes facing each other while introducing a gas under an atmospheric pressure or a pressure close to the atmospheric pressure, and continuously transporting the substrate between the electrodes. This is to perform an in-gas discharge plasma treatment. The introduced gas can be divided into an inert gas such as argon gas, helium gas, neon gas, xenon gas, and krypton gas which does not react by plasma discharge, and a reaction gas which reacts by plasma discharge.
The surface property can be changed by the reaction gas causing some reaction and binding to the substrate surface.

【0064】反応ガスとしては、基体を親水化させるも
のが接着性の向上には有効である。このような反応ガス
としては、基体表面にアミノ基・カルボキシル基・水酸
基・カルボニル基等の極性官能基を付与できるガスが良
く、窒素、酸素、二酸化炭素、水素、水蒸気(H2O)
またはアンモニアガスを用いることができる。この中で
は、窒素、酸素、二酸化炭素、水素、または水蒸気がハ
ンドリング上使用し易い。
As the reaction gas, one that makes the substrate hydrophilic is effective for improving the adhesiveness. As such a reaction gas, a gas that can impart a polar functional group such as an amino group, a carboxyl group, a hydroxyl group, or a carbonyl group to the surface of the substrate is preferable. Nitrogen, oxygen, carbon dioxide, hydrogen, water vapor (H 2 O)
Alternatively, ammonia gas can be used. Among them, nitrogen, oxygen, carbon dioxide, hydrogen, or steam is easy to use for handling.

【0065】また大気圧もしくは大気圧近傍下でプラズ
マ放電を行う場合には、ヘリウムやアルゴン等の不活性
ガスを60圧力%以上混合した方が安定な放電を発生さ
せることが出来る。このときの不活性ガスの50圧力%
以上をアルゴンガスとすることが好ましい。
When plasma discharge is performed at or near atmospheric pressure, stable discharge can be generated by mixing an inert gas such as helium or argon at 60% by pressure or more. 50% by pressure of inert gas at this time
It is preferable that the above be an argon gas.

【0066】反応ガスの割合をなるべく多くし、高出力
条件を採用するのが、処理速度を増加させる為には好ま
しいが電界強度を上げ過ぎると基体にダメージを与える
ことになる。しかし、大気圧プラズマ処理において、パ
ルス化された電界でプラズマを発生させることにより、
不活性ガスは必ずしも必要なくなり、反応ガス濃度を増
加させることができる。これにより反応速度は大きく増
加させることが可能になる。
It is preferable to increase the ratio of the reaction gas as much as possible and employ high power conditions in order to increase the processing speed. However, if the electric field intensity is too high, the substrate will be damaged. However, in atmospheric pressure plasma processing, by generating plasma with a pulsed electric field,
Inert gas is not necessarily required, and the reaction gas concentration can be increased. This makes it possible to greatly increase the reaction rate.

【0067】パルス化された電界とするには、間欠的に
電極に印加することが必要であるが、この時のパルス波
形は例えば図1に示す例が挙げられる。また、特開平1
0−130851号公報の図1(a)〜(d)のパルス
波形であってもよい。
In order to form a pulsed electric field, it is necessary to apply the voltage intermittently to the electrodes. The pulse waveform at this time is, for example, the one shown in FIG. Also, Japanese Patent Application Laid-Open
The pulse waveforms shown in FIGS. 1A to 1D of JP-A No. 0-130851 may be used.

【0068】本発明の図1において、縦軸はパルス電
圧、横軸は時間である。パルス電界の周波数は、1〜1
00kHzの範囲が好ましい。
In FIG. 1 of the present invention, the vertical axis represents pulse voltage, and the horizontal axis represents time. The frequency of the pulse electric field is 1 to 1
A range of 00 kHz is preferred.

【0069】1つのパルス電界が印加される時間は1〜
1000μsであることが好ましい。1つのパルス電界
が印加される時間というのは、図1に於ける1つのパル
ス波形のパルスが印加される時間である。
The time during which one pulse electric field is applied is 1 to
Preferably, it is 1000 μs. The time during which one pulse electric field is applied is the time during which a pulse having one pulse waveform in FIG. 1 is applied.

【0070】電極に印加する電圧の大きさは、電界強度
が1〜100kV/cmとなる範囲が好ましく、大きい
程処理速度は増加するが上げ過ぎると基体にダメージを
与えるのは同様である。
The magnitude of the voltage applied to the electrode is preferably in the range where the electric field strength is 1 to 100 kV / cm. The processing speed increases as the electric field intensity increases, but the same applies to the damage to the substrate if it is too high.

【0071】以下、具体的な大気圧プラズマ処理装置に
ついて図2を用いて説明するが、本発明の大気圧プラズ
マ処理はこれに限定されるものではない。
Hereinafter, a specific atmospheric pressure plasma processing apparatus will be described with reference to FIG. 2, but the atmospheric pressure plasma processing of the present invention is not limited to this.

【0072】図2において、連続搬送される長尺状の支
持体1を大気圧もしくはその近傍の圧力下、連続的にプ
ラズマ処理するための処理室2が前記支持体1の入口2
Aを有する間仕切りされた処理室によって構成されてい
る。また出口側も同様である。
In FIG. 2, a processing chamber 2 for continuously plasma-treating a long support 1 that is continuously conveyed under atmospheric pressure or a pressure close thereto is provided with an inlet 2 of the support 1.
A is constituted by a partitioned processing chamber having A. The same applies to the exit side.

【0073】処理室2には、複数の円筒の電極3を支持
体1の両面側に併設している。併設の方法は図示のよう
にチドリ状に配置してもよいが、対向させて配置するこ
ともできる。電極間隔Lは支持体1の上側の電極の最下
端と下側電極の最上端との距離で表される。電極間の間
隔は均等でもよいし、そうでなくてもよい。
In the processing chamber 2, a plurality of cylindrical electrodes 3 are provided on both sides of the support 1. As shown in the drawing, the juxtaposition method may be such that the juxtaposition is made, but the juxtaposition method may be adopted. The electrode interval L is represented by the distance between the lowermost end of the upper electrode of the support 1 and the uppermost end of the lower electrode. The spacing between the electrodes may or may not be uniform.

【0074】円筒電極は内部に導電性金属が配置され、
外部に誘電体が配置された二重管構造であり、導電性金
属としては銀、金、銅、ステンレス、アルミニウム等の
通電可能な材料に誘電体を溶射、蒸着、コーティング等
で設けるのが一般的であるが、固体誘電体に導電層をメ
ッキ、蒸着、コーティング、溶射等で設けることも可能
である。
The cylindrical electrode has a conductive metal disposed inside.
It has a double-tube structure with a dielectric disposed outside.Generally, conductive materials are provided by spraying, vapor-depositing, coating, etc. on conductive materials such as silver, gold, copper, stainless steel, and aluminum. However, it is also possible to provide a conductive layer on the solid dielectric by plating, vapor deposition, coating, thermal spraying or the like.

【0075】固体誘電体としては、気密性の高い高耐熱
性のセラミックスを焼結した焼結型セラミックスを用い
ることも好ましい。焼結型セラミックスの材質としては
例えば、アルミナ系、ジルコニア系、窒化珪素系、炭化
珪素系のセラミックスである。焼結型セラミックスの厚
みは0.5mm以上5mm以下が好ましい。また体積固
有抵抗は108Ω・cm以上が好ましい。
As the solid dielectric, it is also preferable to use a sintered ceramic obtained by sintering a highly airtight and high heat resistant ceramic. Examples of the material of the sintered ceramic include alumina-based, zirconia-based, silicon nitride-based, and silicon carbide-based ceramics. The thickness of the sintered ceramic is preferably 0.5 mm or more and 5 mm or less. The volume resistivity is preferably 10 8 Ω · cm or more.

【0076】焼結型セラミックスとして、アルミナ系焼
結型セラミックスを用いる場合、純度99.6%以上の
アルミナ系焼結型セラミックスを用いることが、電極の
耐久性を上げる点で好ましい。純度99.6%以上のア
ルミナ系焼結型セラミックスに関しては、本出願人が先
に提案した発明(特願平9−367413号)を参考に
できる。
When an alumina-based sintered ceramic is used as the sintered ceramic, it is preferable to use an alumina-based sintered ceramic having a purity of 99.6% or more from the viewpoint of increasing the durability of the electrode. Regarding the alumina-based sintered ceramics having a purity of 99.6% or more, the invention (Japanese Patent Application No. 9-369413) previously proposed by the present applicant can be referred to.

【0077】この焼結型セラミックスを用いた電極の製
造方法は、耐久性の高いセラミックスを焼結させ焼結型
セラミックスを作り、その焼結型セラミックスにメッ
キ、蒸着、溶射またはコーティング等して金属導電部を
付着させる。
In the method of manufacturing an electrode using this sintered ceramic, a highly durable ceramic is sintered to produce a sintered ceramic, and the sintered ceramic is plated, vapor-deposited, sprayed or coated to form a metal. A conductive part is attached.

【0078】また固体誘電体としては、特願平10−3
00984号に記載の低温ガラスライニングを用いるこ
ともできる。
As a solid dielectric, Japanese Patent Application No. Hei 10-3
The low temperature glass lining described in 00984 can also be used.

【0079】またセラミックパイプの中に金属管や棒を
挿入することもできる。
Further, a metal tube or a rod can be inserted into the ceramic pipe.

【0080】金属電極は固体誘電体により全部が被覆さ
れていてもよいし、一部が被覆されるだけでもよい。
The metal electrode may be entirely covered with the solid dielectric or may be only partially covered.

【0081】電極間の間隙Lは、0.3〜10mmの範
囲が好ましく、より好ましくは3〜7mmの範囲であ
る。
The gap L between the electrodes is preferably in the range of 0.3 to 10 mm, more preferably in the range of 3 to 7 mm.

【0082】この上側電極全体に高周波電源5が接続さ
れ、下側電極全体はアース6により設置されており、そ
れぞれの電極群の間に電界を印加できるように構成され
ている。
A high-frequency power supply 5 is connected to the entire upper electrode, and the entire lower electrode is provided with a ground 6, so that an electric field can be applied between the respective electrode groups.

【0083】なお、20、21、22は搬送ロールであ
る。
Reference numerals 20, 21, and 22 denote transport rolls.

【0084】図示の例では、処理室2に隣接して支持体
の入り口側に予備室10が設けられている。支持体の出
口側にも表示はしていないが、処理室2に隣接して予備
室が設けられている。またこれらの間仕切りは、ニップ
ロール7により行われるが、これに限定されるものでは
ない。
In the illustrated example, a preliminary chamber 10 is provided adjacent to the processing chamber 2 at the entrance side of the support. Although not shown on the outlet side of the support, a spare chamber is provided adjacent to the processing chamber 2. Further, these partitions are performed by the nip rolls 7, but are not limited thereto.

【0085】予備室を設ける場合、支持体1の出入口側
に1つづつ設ける態様であってもよいが、これに限定さ
れず、あるいは入口側に2つ以上、出口側に2つ以上設
ける態様であっても良い。
In the case of providing a spare chamber, an embodiment may be provided one by one on the entrance side of the support 1, but is not limited to this, or two or more on the entrance side and two or more on the exit side It may be.

【0086】いずれの態様であっても、処理室内の気圧
が該処理室と隣接する予備室の気圧より高いことが必要
であり、好ましくは0.3mmAq以上高いことである
このように、処理室と予備室の間でも圧力差を設けるこ
とによって、外部空気の混入を防止し、反応ガスの有効
使用が可能となり、処理効果も更に向上する。また処理
室に隣接して入口側に二つ以上、出口側に二つ以上予備
室を設けた場合、その予備室と隣り合う予備室の間の差
圧は、処理室に近い側の予備室の気圧が高く設定される
ことが好ましく、0.03mmAq以上高く設定される
ことが好ましい。このように複数の予備室同士の間でも
圧力差を設けることによって、外部空気の混入をより効
果的に防止し、反応ガスの有効使用がより可能となり、
処理効果も更に向上する。
In any of the embodiments, the pressure in the processing chamber needs to be higher than the pressure in the preliminary chamber adjacent to the processing chamber, and preferably higher than 0.3 mmAq. By providing a pressure difference between the pressure chamber and the preparatory chamber, mixing of external air is prevented, the effective use of the reaction gas becomes possible, and the processing effect is further improved. When two or more preparatory chambers are provided on the inlet side and two or more preparatory chambers on the outlet side adjacent to the processing chamber, the pressure difference between the preparatory chamber and the adjacent preparatory chamber becomes smaller than the preparatory chamber closer to the processing chamber. Is preferably set high, and more preferably 0.03 mmAq or more. By providing a pressure difference between the plurality of spare chambers in this way, the incorporation of external air is more effectively prevented, and the effective use of the reaction gas becomes possible.
The processing effect is further improved.

【0087】予備室には、処理ガスの少なくとも1成分
を有していることが反応ガスの効率的な使用と表面処理
効果の向上の観点から好ましい。
The preliminary chamber preferably contains at least one component of the processing gas from the viewpoint of efficient use of the reaction gas and improvement of the surface treatment effect.

【0088】処理室と予備室、予備室同士の部屋には間
仕切りされていることが必要であり、かかる間仕切り手
段としては、図示のように、ニップロールを設ける態様
も好ましい。
It is necessary that the processing chamber, the preparatory chamber, and the rooms of the preparatory chambers be partitioned, and the partitioning means is preferably provided with a nip roll as shown in the figure.

【0089】かかるニップロールは、支持体に対して接
触しながら閉鎖ないし間仕切りする機能を有するが、部
屋同士を完全に間仕切りできないので、本発明のような
差圧を設ける手段が有効に機能するのである。
Although such a nip roll has a function of closing or partitioning while being in contact with the support, the means for providing a differential pressure as in the present invention effectively functions because the rooms cannot be completely partitioned. .

【0090】また間仕切り手段としては、支持体に対し
て所定の間隙を保ち、且つ非接触である態様であっても
よい。かかる態様としては図示しないエアーカーテン方
式等を採用できる。なお予備室を設けない場合には、処
理室と外部の間に間仕切りがされればよい。
Further, the partition means may be a mode in which a predetermined gap is maintained with respect to the support and the partition is not in contact with the support. As such an embodiment, an air curtain system (not shown) or the like can be employed. In the case where no spare chamber is provided, a partition may be provided between the processing chamber and the outside.

【0091】更に処理室2内の気圧が外圧より高いこと
が好ましい。
Further, it is preferable that the pressure in the processing chamber 2 is higher than the external pressure.

【0092】処理室2内の気圧を外圧より高くすること
によって、外部からの気体が処理室2内に進入しないた
めに、安定した処理ができる。
By setting the air pressure in the processing chamber 2 higher than the external pressure, a stable processing can be performed because the gas from the outside does not enter the processing chamber 2.

【0093】本発明では、処理室2の気圧が外圧より
0.03mmAq以上高い態様によって、更に安定した
均一な処理ができる。
In the present invention, more stable and uniform processing can be performed by the mode in which the pressure in the processing chamber 2 is higher than the external pressure by 0.03 mmAq or more.

【0094】本発明において、処理室2内にガスを導入
するに先立ち、予め不活性ガスと反応性ガスとを混合し
た混合ガスを使用することが好ましいが、各ガスを独立
して導入しても、処理室2内の電極間の雰囲気が、上述
した反応ガスの割合になっていればよい。
In the present invention, prior to introducing a gas into the processing chamber 2, it is preferable to use a mixed gas in which an inert gas and a reactive gas are mixed in advance. Also, it is sufficient that the atmosphere between the electrodes in the processing chamber 2 has the above-described ratio of the reaction gas.

【0095】かかる円筒電極を用いることにより、電極
間にガスを導入し易くなることによって、反応ガスと電
極との接触効率が上昇し、その結果処理効果も向上す
る。また構造的にも簡便で、互換性に優れ、低コストで
の処理が可能となる。また支持体の高速搬送においても
優れた効果を発揮する。
By using such a cylindrical electrode, it becomes easier to introduce a gas between the electrodes, so that the contact efficiency between the reaction gas and the electrode is increased, and as a result, the processing effect is also improved. In addition, the structure is simple, the compatibility is excellent, and the processing can be performed at low cost. Also, excellent effects are exhibited in high-speed transport of the support.

【0096】以上説明した態様に用いた電極は円筒型電
極であるが、ロール型電極、ガスフロー型曲面電極とす
ることも好ましい。
Although the electrode used in the above-described embodiment is a cylindrical electrode, it is also preferable to use a roll electrode or a gas flow type curved surface electrode.

【0097】上記説明した大気圧プラズマ処理および真
空プラズマ処理を含むプラズマ処理を基体に施すことに
よって、プラズマ処理前に比べて、プラズマ処理後の基
体表面の表面エネルギーが、非極成分で3mN/m以上
減少し、または、極性成分が10mN/m以上増大して
いることが好ましい。
By subjecting the substrate to the plasma treatment including the atmospheric pressure plasma treatment and the vacuum plasma treatment described above, the surface energy of the substrate surface after the plasma treatment is 3 mN / m in the non-polar component as compared with before the plasma treatment. It is preferable that the amount decreases or the polarity component increases by 10 mN / m or more.

【0098】基体(solid)の表面エネルギーは、
水(極性溶媒)とショードメタン(非極性溶媒)の2種
類の液滴(liquid)の接触角から、下記のYou
ngおよびFowkesの式より算出することが出来
る。
The surface energy of the solid is
From the contact angles of two types of liquids, water (polar solvent) and show methane (non-polar solvent), the following You
ng and Fowkes equation.

【0099】[0099]

【数1】 (Equation 1)

【0100】水とショードメタンの表面張力、非極性成
分、極性成分は下記表1の通りである。
The surface tension, non-polar components and polar components of water and show methane are as shown in Table 1 below.

【0101】[0101]

【表1】 [Table 1]

【0102】基体と水またはショードメタンとの接触角
および上記表1の値を上記式に代入して、基体の表面エ
ネルギーの各値を算出する。
The values of the surface energy of the substrate are calculated by substituting the contact angle between the substrate and water or methane and the values shown in Table 1 above into the above equation.

【0103】尚、上記式において、γS、γL、γSLおよ
びθは、図3に示す通りである。
In the above equation, γ S , γ L , γ SL and θ are as shown in FIG.

【0104】また、γSは基体の表面エネルギー(=γS
d+γS p)、γS dとγS pはそれぞれ基体の表面エネルギ
ーの非極性成分(d)および極性成分(p)である。
Γ S is the surface energy of the substrate (= γ S
d + γ S p), the gamma S d and gamma S p is a non-polar component of the surface energy of each substrate (d) and polar component (p).

【0105】本発明の支持体は、ハロゲン化銀写真感光
材料等に代表される写真感光材料、磁気記録媒体など、
様々な製品に適用することが可能であるが、好ましくは
写真感光材料に適用することである。
The support of the present invention may be a photographic material represented by a silver halide photographic material, a magnetic recording medium, or the like.
Although it can be applied to various products, it is preferably applied to a photographic material.

【0106】[0106]

【実施例】以下、本発明の実施例を示すが、本発明はこ
れに限定されない。
The present invention will now be described by way of examples, which should not be construed as limiting the invention.

【0107】(実施例1)下記条件で、長尺の基体を連
続搬送しながら図2の装置を用いて大気圧プラズマ処理
を行い、その後、基体を巻き取ったりせずに、直ちに、
オンラインにてゼラチン塗液をワイヤーバー塗布装置に
て塗設し(接着層の塗布)、乾燥し、試料を得た。各試
料について接着試験を行った。
Example 1 Atmospheric-pressure plasma treatment was carried out using the apparatus shown in FIG. 2 while continuously transporting a long substrate under the following conditions, and immediately thereafter, without winding the substrate,
A gelatin coating solution was applied online using a wire bar coating device (application of an adhesive layer), and dried to obtain a sample. An adhesion test was performed on each sample.

【0108】〈処理条件〉 処理室:容量0.2m3、幅420mm 基体:400mm幅、90μmのPENフィルム 処理ガス:導入する不活性ガスの100圧力%をアルゴ
ンガスとし、不活性ガスとの反応性ガス比を、Ar:N
2=50:1とした 周波数:10kHz 電極間ギャップ:5mm 支持体搬送速度:50m/min 処理時間:0.5sec 出力:22kW/m2 尚、大気圧プラズマ処理による基体の表面エネルギー
は、処理前と比べて非極性成分が3mN/m減少し、極
性成分が10mN/m増大していた。
<Treatment Conditions> Treatment chamber: 0.2 m 3 capacity, 420 mm width Substrate: 400 mm width, 90 μm PEN film Treatment gas: 100% pressure of inert gas introduced is argon gas, reaction with inert gas The inert gas ratio is Ar: N
2 = 50: 1 Frequency: 10 kHz Gap between electrodes: 5 mm Supporting material transport speed: 50 m / min Processing time: 0.5 sec Output: 22 kW / m 2 The surface energy of the substrate by the atmospheric pressure plasma processing is the value before the processing. The non-polar component decreased by 3 mN / m and the polar component increased by 10 mN / m.

【0109】〈塗布条件〉ワイヤーバー塗布装置にて、
接着層の付き量が10mg/m2となるように、塗布膜
厚と塗布液濃度を調整した。
<Coating Conditions> A wire bar coating device was used.
The coating film thickness and the coating solution concentration were adjusted so that the amount of the adhesive layer applied was 10 mg / m 2 .

【0110】〈液条件〉ゼラチンの重量平均分子量を表
2に示すように30,000〜100,000の間で選
択し、硬膜剤としてジクロロ−s−トリアジンを0.1
3mg/m2となる量添加した。
<Liquid condition> The weight average molecular weight of gelatin was selected from 30,000 to 100,000 as shown in Table 2, and 0.1% of dichloro-s-triazine was used as a hardening agent.
An amount of 3 mg / m 2 was added.

【0111】〈接着性試験〉得られた各試料につき、p
H12で温度42℃の現像液に10min浸漬させた
後、2mm間隔で格子状に切り込みを入れて、ゴム手袋
を装着して手で強固に擦り剥がす操作を実施し剥離状況
を観察した。結果を表2に示す。
<Adhesion Test> For each of the obtained samples, p
After being immersed in a developer at a temperature of 42 ° C. for 10 minutes at H12, cuts were made in a grid at intervals of 2 mm, rubber gloves were attached, and the operation of firmly rubbing off by hand was performed. Table 2 shows the results.

【0112】[0112]

【表2】 [Table 2]

【0113】◎:全く剥離していない △:部分的に剥離している ×:完全に剥離した (実施例2)液条件のみ下記表3のものとし、それ以外
は実施例1と同様にして実験を行った。結果を表3に併
せて示す。
◎: Not peeled off at all △: Partially peeled off ×: Completely peeled off (Example 2) Only the liquid conditions were as shown in Table 3 below, and the other conditions were the same as in Example 1. An experiment was performed. The results are shown in Table 3.

【0114】[0114]

【表3】 [Table 3]

【0115】(実施例3)実施例1および実施例2と処
理ガス条件及び印加電圧条件以外は同条件で実験を行っ
た。
Example 3 An experiment was performed under the same conditions as in Examples 1 and 2 except for the processing gas conditions and the applied voltage conditions.

【0116】〈処理条件〉 処理ガス:窒素ガスと水素ガスをN2:H2=50:2の
割合で混合 周波数:20kHz(立上り及び立下り時間が100n
secのパルス状電圧) 印加電圧12kV 電極間ギャップ:5mm 出力:25kW/m2 実施例1および実施例2と全く同様の結果となった。
<Treatment Conditions> Treated gas: Nitrogen gas and hydrogen gas mixed at a ratio of N 2 : H 2 = 50: 2 Frequency: 20 kHz (rise and fall times are 100 n)
(Pulse voltage of sec) Applied voltage 12 kV Gap between electrodes: 5 mm Output: 25 kW / m 2 The results were exactly the same as those in Examples 1 and 2.

【0117】[0117]

【発明の効果】本発明の支持体によって、強固な接着性
を確保できる支持体を、また、本発明の支持体の製造方
法において、長尺の基体を連続搬送しながら、均一に、
安定に、コストが安く、しかも生産性に優れた支持体の
製造方法を提供することが出来た。
According to the present invention, a support capable of securing strong adhesiveness can be obtained by the support of the present invention.
A method for manufacturing a support stably, at low cost, and excellent in productivity was provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明において、大気圧プラズマ放電処理に適
用出来る電極に印加するパルス波形を示すものである。
FIG. 1 shows a pulse waveform applied to an electrode applicable to an atmospheric pressure plasma discharge process in the present invention.

【図2】本発明において、大気圧プラズマ処理に適用出
来る処理装置を示す模式図である。
FIG. 2 is a schematic diagram showing a processing apparatus applicable to atmospheric pressure plasma processing in the present invention.

【図3】基体(solid)と液滴(liquid)の
接触角と表面エネルギーの各成分の関係を示した図であ
る。
FIG. 3 is a diagram showing a relationship between a contact angle between a substrate and a liquid and a component of surface energy.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 支持体 2 処理室 3 電極 5 電源 6 アース 7、8 ニップロール 10、11、12 予備室 20、21、22 搬送ロール L 電極間隔 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Support body 2 Processing chamber 3 Electrode 5 Power supply 6 Earth 7 and 8 Nip roll 10, 11, 12 Preparatory chamber 20, 21, 22 Transport roll L Electrode spacing

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C09J 167/02 C09J 167/02 189/00 189/00 G03C 1/91 G03C 1/91 Fターム(参考) 2H023 FB01 FB02 FB05 4J004 AA04 AA08 AA10 AA15 CA06 CC02 CD08 FA10 4J040 BA161 DB002 DD021 DD062 DF011 DJ012 EB012 ED041 HB02 HB17 HB20 HB22 HB44 HC11 HC22 HC25 HD11 HD13 HD16 JB09 KA16 LA06 MA10 NA21 PA23 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) C09J 167/02 C09J 167/02 189/00 189/00 G03C 1/91 G03C 1/91 F-term (Reference) 2H023 FB01 FB02 FB05 4J004 AA04 AA08 AA10 AA15 CA06 CC02 CD08 FA10 4J040 BA161 DB002 DD021 DD062 DF011 DJ012 EB012 ED041 HB02 HB17 HB20 HB22 HB44 HC11 HC22 HC25 HD11 HD13 HD16 JB10 KA16 LA06

Claims (19)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基体上に、重量平均分子量が50,00
0Mw以下のポリマーを含有する接着層を有する支持
体。
1. The method according to claim 1, wherein the weight average molecular weight is 50,000 on the substrate.
A support having an adhesive layer containing a polymer of 0 Mw or less.
【請求項2】 基体上に、20℃におけるゼラチンのみ
の10%水溶液の粘度が0.2Pa・s以下であるゼラ
チンを含有する接着層を有する支持体。
2. A support having, on a substrate, an adhesive layer containing gelatin whose viscosity of a 10% aqueous solution of gelatin alone at 20 ° C. is 0.2 Pa · s or less.
【請求項3】 前記基体がエネルギー処理を施されてい
ることを特徴とする請求項1または2に記載の支持体。
3. The support according to claim 1, wherein the substrate has been subjected to an energy treatment.
【請求項4】 前記エネルギー処理がプラズマ処理であ
ることを特徴とする請求項3に記載の支持体。
4. The support according to claim 3, wherein the energy treatment is a plasma treatment.
【請求項5】 前記プラズマ処理が大気圧プラズマ処理
であることを特徴とする請求項4に記載の支持体。
5. The support according to claim 4, wherein the plasma processing is an atmospheric pressure plasma processing.
【請求項6】 前記大気圧プラズマ処理に用いるガス
が、不活性ガスと反応ガスの混合ガスであることを特徴
とする請求項5に記載の支持体。
6. The support according to claim 5, wherein the gas used for the atmospheric pressure plasma treatment is a mixed gas of an inert gas and a reaction gas.
【請求項7】 前記不活性ガスがアルゴンガスを50圧
力%以上含有することを特徴とする請求項6に記載の支
持体。
7. The support according to claim 6, wherein the inert gas contains 50% by pressure or more of argon gas.
【請求項8】 前記反応ガスが窒素、酸素、二酸化炭素
または水素であることを特徴とする請求項6または7に
記載の支持体。
8. The support according to claim 6, wherein the reaction gas is nitrogen, oxygen, carbon dioxide, or hydrogen.
【請求項9】 前記プラズマ処理された基体の表面エネ
ルギーは、前記プラズマ処理前に比べ、非極性成分で3
mN/m以上減少していることを特徴とする請求項4〜
8のいずれか1項に記載の支持体。
9. The surface energy of the substrate subjected to the plasma treatment is lower than that of the substrate before the plasma treatment by 3
5. The method according to claim 4, wherein the value is reduced by mN / m or more.
9. The support according to any one of 8 above.
【請求項10】 前記プラズマ処理された基体の表面エ
ネルギーは、前記プラズマ処理前に比べ、極性成分が1
0mN/m以上増大していることを特徴とする請求項4
〜8のいずれか1項に記載の支持体。
10. The surface energy of the plasma-treated substrate has a polar component of 1 compared to that before the plasma treatment.
5. An increase of 0 mN / m or more.
The support according to any one of claims 1 to 8.
【請求項11】 前記ポリマーがゼラチン、ポリビニル
アルコール(PVA)、アクリル樹脂またはポリエステ
ル樹脂であることを特徴とする請求項1、3〜8のいず
れか1項に記載の支持体。
11. The support according to claim 1, wherein the polymer is gelatin, polyvinyl alcohol (PVA), an acrylic resin, or a polyester resin.
【請求項12】 前記接着層の付き量が、5〜100m
g/m2であることを特徴とする請求項1〜11のいず
れか1項に記載の支持体。
12. The adhesion amount of the adhesive layer is 5 to 100 m.
Support according to any one of claims 1 to 11, characterized in that a g / m 2.
【請求項13】 前記接着層が、1,2−ビス(ビニル
スルホニルアセトアミド)エタン(BVSAE)、ビス
(ビニルスルホニル)メタン(BVSM)、ビス(ビニ
ルスルホニルメチル)エーテル(BVSME)とビス
(ビニルスルホニルエチル)エーテル(BVSEE)、
1,3−ビス(ビニルスルホニル)プロパン(BVS
P)、1,3−ビス(ビニルスルホニル)−2−ヒドロ
キシプロパン(BVSHP)、1,1−ビス(ビニルス
ルホニル)エチルベンゼン硫酸ナトリウム塩、1,1,
1−トリス(ビニルスルホニル)エタン(TVSE)、
テトラキス(ビニルスルホニル)メタン、トリス(アク
リルアミド)ヘキサヒドロ−s−トリアジン、アクロレ
イン−メタクリル酸共重合体、グリシジルエーテル、ア
クリルアミド、ジアルデヒド、ブロックドジアルデヒ
ド、α−ジケトン、活性エステル、スルホン酸エステ
ル、活性ハロゲン化合物、s−トリアジン、ジアジン、
エポキシド、ホルムアルデヒド、ホルムアルデヒド縮合
生成物、酸無水物、アジリジン、活性オレフィン、ブロ
ックド活性オレフィン、ハロゲン置換アルデヒド酸、他
の硬膜性官能基を有するビニルスルホン、ポリマー硬膜
剤、ポリマーアルデヒド、ポリマービニルスルホン、ポ
リマーブロックドビニルスルホンおよびポリマー活性ハ
ロゲンからなる群より選ばれる硬膜剤で硬膜されている
ことを特徴とする請求項1〜12のいずれか1項に記載
の支持体。
13. The adhesive layer comprises 1,2-bis (vinylsulfonylacetamide) ethane (BVSAE), bis (vinylsulfonyl) methane (BVSM), bis (vinylsulfonylmethyl) ether (BVSME) and bis (vinylsulfonyl). Ethyl) ether (BVSEE),
1,3-bis (vinylsulfonyl) propane (BVS
P), 1,3-bis (vinylsulfonyl) -2-hydroxypropane (BVSHP), 1,1-bis (vinylsulfonyl) ethylbenzene sodium sulfate, 1,1,
1-tris (vinylsulfonyl) ethane (TVSE),
Tetrakis (vinylsulfonyl) methane, tris (acrylamide) hexahydro-s-triazine, acrolein-methacrylic acid copolymer, glycidyl ether, acrylamide, dialdehyde, blocked dialdehyde, α-diketone, active ester, sulfonic ester, active halogen Compound, s-triazine, diazine,
Epoxides, formaldehyde, formaldehyde condensation products, acid anhydrides, aziridine, activated olefins, blocked activated olefins, halogen-substituted aldehyde acids, vinyl sulfones having other hardening functional groups, polymer hardeners, polymer aldehydes, polymer vinyls The support according to any one of claims 1 to 12, wherein the support is hardened with a hardener selected from the group consisting of sulfone, polymer blocked vinyl sulfone, and polymer active halogen.
【請求項14】 前記基体が、ポリエステル基体である
ことを特徴とする請求項1〜13のいずれか1項に記載
の支持体。
14. The support according to claim 1, wherein the substrate is a polyester substrate.
【請求項15】 前記支持体が、写真感光材料用支持体
であることを特徴とする請求項1〜14のいずれか1項
に記載の支持体。
15. The support according to claim 1, wherein the support is a support for a photographic light-sensitive material.
【請求項16】 支持体の製造方法において、基体にプ
ラズマ処理を施す工程と、前記プラズマ処理を施された
基体上に、重量平均分子量が50,000Mw以下のポ
リマーを含有する接着層を設ける工程とを有することを
特徴とする支持体の製造方法。
16. A method for producing a support, comprising: subjecting a substrate to a plasma treatment; and providing an adhesive layer containing a polymer having a weight average molecular weight of 50,000 Mw or less on the substrate subjected to the plasma treatment. A method for producing a support, comprising:
【請求項17】 支持体の製造方法において、基体にプ
ラズマ処理を施す工程と、前記プラズマ処理を施された
基体上に、20℃におけるゼラチンのみの10%水溶液
の粘度が0.2Pa・s以下であるゼラチンを含有する
接着層を設ける工程とを有することを特徴とする支持体
の製造方法。
17. A method for producing a support, wherein a plasma treatment is performed on the substrate, and the viscosity of a 10% aqueous solution of gelatin alone at 20 ° C. is 0.2 Pa · s or less at 20 ° C. Providing an adhesive layer containing gelatin as described in (1).
【請求項18】 前記プラズマ処理が大気圧プラズマ処
理であって、前記大気圧プラズマ処理に用いるガスが、
不活性ガスと反応ガスの混合ガスであって、前記不活性
ガスがアルゴンガスを50圧力%以上含有し、前記反応
ガスが窒素、酸素、二酸化炭素または水素であることを
特徴とする請求項16または17に記載の支持体の製造
方法。
18. The plasma processing is an atmospheric pressure plasma processing, wherein a gas used for the atmospheric pressure plasma processing is:
17. A mixed gas of an inert gas and a reaction gas, wherein the inert gas contains 50% by weight or more of argon gas, and the reaction gas is nitrogen, oxygen, carbon dioxide, or hydrogen. Or a method for producing a support according to item 17.
【請求項19】 前記プラズマ処理が、大気圧プラズマ
処理であって、前記大気圧プラズマ処理に用いるガス
は、反応ガスを40圧力%以上含有し、前記大気圧プラ
ズマ処理がパルス化された電界でプラズマを発生させる
ことにより行われることを特徴とする請求項16または
17に記載の支持体の製造方法。
19. The plasma processing is an atmospheric pressure plasma processing, wherein a gas used in the atmospheric pressure plasma processing contains a reaction gas at 40% by pressure or more, and the atmospheric pressure plasma processing is performed by a pulsed electric field. The method for producing a support according to claim 16, wherein the method is performed by generating plasma.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2007265583A (en) * 2006-03-30 2007-10-11 Hoya Corp Manufacturing method of magnetic recording disk
JP2008088319A (en) * 2006-10-03 2008-04-17 Nagaoka Univ Of Technology Bonding method of resin material
JP2016540886A (en) * 2013-10-15 2016-12-28 フラウンホッファー−ゲゼルシャフト ツァ フェルダールング デァ アンゲヴァンテン フォアシュンク エー.ファオ Method for pretreatment of substrate surface, method for coating substrate surface, and method for bonding substrate to member
CN109929506A (en) * 2019-04-02 2019-06-25 四川达威科技股份有限公司 A kind of protein adhesive and preparation method thereof

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007265583A (en) * 2006-03-30 2007-10-11 Hoya Corp Manufacturing method of magnetic recording disk
JP2008088319A (en) * 2006-10-03 2008-04-17 Nagaoka Univ Of Technology Bonding method of resin material
JP2016540886A (en) * 2013-10-15 2016-12-28 フラウンホッファー−ゲゼルシャフト ツァ フェルダールング デァ アンゲヴァンテン フォアシュンク エー.ファオ Method for pretreatment of substrate surface, method for coating substrate surface, and method for bonding substrate to member
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