JP2000300960A - Gas treatment apparatus - Google Patents

Gas treatment apparatus

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JP2000300960A
JP2000300960A JP11113602A JP11360299A JP2000300960A JP 2000300960 A JP2000300960 A JP 2000300960A JP 11113602 A JP11113602 A JP 11113602A JP 11360299 A JP11360299 A JP 11360299A JP 2000300960 A JP2000300960 A JP 2000300960A
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JP
Japan
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gas
photocatalyst
mesh
gas passage
formalin
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Application number
JP11113602A
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Japanese (ja)
Inventor
Atsumichi Kushibe
淳道 櫛部
Satoshi Nakamura
中村  聡
Yasuhiro Nishimura
泰弘 西村
Yohei Sasaki
陽平 佐々木
Hiroharu Miyoshi
弘治 三好
Yoshimasa Ito
喜昌 伊藤
Hiroyuki Takahara
宏之 高原
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Kobe Steel Ltd
Takenaka Komuten Co Ltd
Original Assignee
Kobe Steel Ltd
Takenaka Komuten Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make decomposable efficiently a toxic gas of a high concentration with a small sized apparatus. SOLUTION: A plurality of ultraviolet lamps 38 are arranged inside a gas passage 22 wherein its section is made spiral, and a photocatalyst is supported on its wall face, and a blower 14 is connected to one end of the gas passage 22. When the photocatalyst is irradiated with ultraviolet rays of an ultraviolet lamp 38, the photocatalyst shows a photocatalyst activity. When the blower 14 is operated, an air containing a formalin gas in a room flows into the gas passage 22, and comes in contact with the photocatalyst. The formalin gas is decomposed into carbonic acid gas and water, made harmless, and exhausted into the room. Since the gas passage 22 is allowed to have a spiral section, a pressure loss is less in comparison with that of a filter or a honeycomb. Further, the air does not stagnate in the gas passage 22, the air containing the formalin gas allowed to flow in, is uniformly brought into contact with over the whole wall face of the gas passage 22, and the formalin gas can be efficiently decomposed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、空気中のホルマリ
ンガス等の有害ガスを分解するガス処理装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a gas processing apparatus for decomposing harmful gases such as formalin gas in air.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、クリーンルーム等においては、通
常、定期的にホルマリンガスを用いて室内の燻蒸処理を
行っている。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a clean room or the like, an indoor fumigation process is usually performed using formalin gas on a regular basis.

【0003】燻蒸処理では、所定の濃度の燻蒸ガスを充
満させ、一定時間経過後、ガスを室外に排出している。
[0003] In the fumigation treatment, a predetermined concentration of fumigation gas is filled, and after a certain period of time, the gas is discharged outside the room.

【0004】ガスの排出に当たっては、通常の空調設備
ではなく、専用の排気設備を用いて行い、最終的にはス
クラバーなどの装置を用いて排気中のガス濃度を低下さ
せて大気中に排出している。
Gas is discharged using a dedicated exhaust system instead of a normal air conditioner, and finally the concentration of the gas in the exhaust is reduced using a device such as a scrubber to discharge the gas to the atmosphere. ing.

【0005】これらの排気設備は燻蒸処理後の排気ガス
処理のためにだけ使用されるが、通常、数回程度/年の
頻度でしか行われない燻蒸処理のための設備投資として
は高価なものである。
[0005] These exhaust facilities are used only for exhaust gas treatment after fumigation treatment, but they are expensive as equipment investment for fumigation treatment which is usually performed only several times / year. It is.

【0006】ところで、有害ガスを分解可能な装置とし
て、通常の部屋に用いる空気清浄機がある。
As a device capable of decomposing harmful gases, there is an air purifier used in a normal room.

【0007】二酸化チタン等の光触媒を利用した空気清
浄機では、処理対象の空気または空気の臭気、有害物質
などを効率よく光触媒と接触するために、光触媒を担持
させた紙製や金属製のハニカム、光触媒を担持させた通
気性の不織布や紙を用いている。
[0007] In an air purifier using a photocatalyst such as titanium dioxide, a paper or metal honeycomb supporting a photocatalyst in order to efficiently contact the air to be treated or the odor or harmful substances of the air with the photocatalyst. In addition, a breathable nonwoven fabric or paper carrying a photocatalyst is used.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】この種の空気清浄機
は、空気中の比較的低濃度の成分の分解、除去を目的と
しており、例えば、クリーンルームの燻蒸ガスなどのよ
うに、1000ppm以上の高濃度のガスの処理用とし
ては適していない。
The purpose of this type of air purifier is to decompose and remove relatively low-concentration components in the air. For example, such as a fumigation gas in a clean room, a high-purity gas of 1000 ppm or more is used. It is not suitable for treating gas with a high concentration.

【0009】高濃度のガスを処理するためには、光触媒
面積、即ち、上記のフィルターやハニカムの面積を大き
くする必要があるが、以下の問題がある。 (1) 平面状の大面積のフィルターやハニカムを使用
する場合、フィルターやハニカム面を均一に処理対象ガ
スを透過させることが難しく、装置が大型化し、かつ処
理効率が悪い。 (2) フィルターを重ねて使用すると圧損が大きくな
り、送付機を大型化するなど過大な設備が必要となる。
In order to treat a gas having a high concentration, it is necessary to increase the area of the photocatalyst, that is, the area of the above-mentioned filter and honeycomb, but there are the following problems. (1) When a filter or honeycomb having a large planar area is used, it is difficult to uniformly transmit the gas to be processed through the filter or the honeycomb surface, and the apparatus becomes large and the processing efficiency is poor. (2) If filters are used repeatedly, the pressure loss increases, and an excessively large facility such as a transmitter is required.

【0010】本発明は上記事実を考慮し、小型で高濃度
の有害ガスを効率良く分解できるガス処理装置を提供す
ることが目的である。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to provide a small-sized gas processing apparatus capable of efficiently decomposing harmful gases having a high concentration.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載のガス処
理装置は、断面が渦巻き状とされ、壁面に光触媒を担持
した気体通路と、前記光触媒に光を照射する光源と、前
記気体通路に連結され、前記気体通路の渦巻き方向の一
端から処理対象の気体を流入させ他端から排出させる送
風機と、を有することを特徴としている。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a gas processing apparatus, comprising: a gas passage having a spiral cross section and carrying a photocatalyst on a wall surface; a light source for irradiating the photocatalyst with light; And a blower that allows the gas to be treated to flow in from one end of the gas passage in the spiral direction and discharges the gas from the other end.

【0012】次に、請求項1に記載のガス処理装置の作
用を説明する。
Next, the operation of the gas processing apparatus according to the first aspect will be described.

【0013】請求項1に記載のガス処理装置は、例え
ば、燻蒸ガス(ホルマリンガス等の有害ガス)の充満し
たクリーンルームに配置されて使用される。
The gas processing apparatus according to the first aspect is used, for example, by being arranged in a clean room filled with fumigation gas (a harmful gas such as formalin gas).

【0014】ガス処理装置は、気体通路の渦巻き方向の
一端から室内の燻蒸ガスを含んだ空気を流入して他端か
ら排出するが、有害ガスは気体通路の壁面に担持された
光触媒に接触して分解され無害化される。
In the gas treatment apparatus, air containing fumigation gas in the room flows in from one end in the spiral direction of the gas passage and is discharged from the other end. The harmful gas comes into contact with the photocatalyst carried on the wall of the gas passage. Decomposed and rendered harmless.

【0015】なお、光触媒は、光源から光が照射される
ことにより光触媒活性が得られる。
The photocatalyst has photocatalytic activity when irradiated with light from a light source.

【0016】また、気体通路を断面渦巻き状とし、渦巻
き方向の一端から他端へ気体を流すようにしたので、フ
ィルターやハニカムに比較して圧損が少なく、また気体
通路内で気体を滞留させることなく、流入させた気体を
気体通路の壁面全体に渡って均一に接触させることがで
き、これにより効率的に有害ガスを分解させることがで
きる。
Further, since the gas passage has a spiral shape in cross section and the gas flows from one end to the other end in the spiral direction, the pressure loss is smaller than that of a filter or a honeycomb, and the gas is retained in the gas passage. In addition, the introduced gas can be brought into uniform contact with the entire wall surface of the gas passage, whereby the harmful gas can be efficiently decomposed.

【0017】請求項2に記載の発明は、請求項1に記載
のガス処理装置において、前記気体通路内には、光触媒
を担持したメッシュが配置されていることを特徴として
いる。
According to a second aspect of the present invention, in the gas processing apparatus according to the first aspect, a mesh supporting a photocatalyst is disposed in the gas passage.

【0018】次に、請求項2に記載のガス処理装置の作
用を説明する。
Next, the operation of the gas processing apparatus according to the second aspect will be described.

【0019】メッシュの光触媒が気体中の有害ガスを分
解するので、有害ガスの処理効率が向上する。
Since the photocatalyst in the mesh decomposes the harmful gas in the gas, the processing efficiency of the harmful gas is improved.

【0020】請求項3に記載の発明は、請求項2に記載
のガス処理装置において、前記メッシュは前記気体通路
内に複数設けられ、前記光源から出射された光の透過経
路の前記光源に近い位置に配置されるメッシュは、前記
光の透過経路の前記光源から遠い位置に配置されるメッ
シュよりも目が粗いことを特徴としている。
According to a third aspect of the present invention, in the gas processing apparatus according to the second aspect, a plurality of the meshes are provided in the gas passage and are close to the light source in a transmission path of light emitted from the light source. The mesh arranged at the position is characterized in that the mesh is coarser than the mesh arranged at a position far from the light source in the light transmission path.

【0021】次に、請求項3に記載のガス処理装置の作
用を説明する。
Next, the operation of the gas processing apparatus according to the third aspect will be described.

【0022】複数のメッシュを光源から離れる方向に間
隔を開けて配置した場合、光の透過経路のうち光源から
遠い位置に配置されるメッシュは、光の透過経路のうち
光源から近いメッシュの影となるため、光の照射量(必
要とされる光エネルギー)が減少する。
When a plurality of meshes are arranged at an interval in a direction away from the light source, the mesh arranged at a position far from the light source in the light transmission path is the shadow of the mesh closer to the light source in the light transmission path. Therefore, the light irradiation amount (required light energy) is reduced.

【0023】したがって、光源に近いメッシュの目を粗
く、光源から遠いメッシュの目を細かくすることによ
り、光源から遠いメッシュ及びメッシュの背面側の壁面
に対して効率的に光を照射することができる。
Therefore, the mesh can be efficiently illuminated on the mesh far from the light source and the wall surface on the back side of the mesh by coarsening the mesh near the light source and making the mesh far from the light source fine. .

【0024】請求項4に記載の発明は、請求項1乃至請
求項3の何れか1項に記載のガス処理装置において、前
記気体通路の壁面は、無数の凹凸が形成されていること
を特徴としている。
According to a fourth aspect of the present invention, in the gas processing apparatus according to any one of the first to third aspects, the wall surface of the gas passage is formed with countless irregularities. And

【0025】次に、請求項4に記載のガス処理装置の作
用を説明する。
Next, the operation of the gas processing apparatus according to claim 4 will be described.

【0026】請求項4に記載のガス処理装置では、気体
通路の壁面に無数の凹凸を形成したので、壁面の面積、
即ち、有害ガスの処理面積が増大する。これにより、よ
り効率的に気体の処理を行うことができる。
In the gas processing apparatus according to the fourth aspect, since the wall surface of the gas passage is formed with innumerable irregularities, the area of the wall surface,
That is, the processing area of the harmful gas increases. Thereby, gas processing can be performed more efficiently.

【0027】請求項5に記載の発明は、請求項1乃至請
求項4の何れか1項に記載のガス処理装置において、前
記壁面または前記メッシュの少なくとも一方が光を透過
する材質で形成されていることを特徴としている。
According to a fifth aspect of the present invention, in the gas processing apparatus according to any one of the first to fourth aspects, at least one of the wall surface and the mesh is formed of a light transmitting material. It is characterized by having.

【0028】次に、請求項5に記載のガス処理装置の作
用を説明する。
Next, the operation of the gas processing apparatus according to claim 5 will be described.

【0029】光触媒が光を透過するような薄膜である場
合に、壁面やメッシュを光を透過する材質で形成する
と、気体通路内に光の影が生じなくなり、光源の光が壁
面やメッシュにムラなく照射され、処理効率が向上す
る。
When the photocatalyst is a thin film that transmits light, if the wall or mesh is formed of a material that transmits light, no shadow of light is generated in the gas passage, and the light from the light source is uneven on the wall or mesh. Irradiation without treatment improves processing efficiency.

【0030】また、壁面が光を透過しない材質の場合に
は、光の影が生じないように多数の光源を必要とする
が、壁面が透明であれば影が殆ど生じないため、光源の
数を減少させることができる。
Further, when the wall surface is made of a material that does not transmit light, a large number of light sources are required so as not to cause shadows of light. Can be reduced.

【0031】[0031]

【発明の実施の形態】本発明のガス処理装置の一実施形
態を図1乃至図4にしたがって説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the gas processing apparatus of the present invention will be described with reference to FIGS.

【0032】図2(A)は本実施形態のガス処理装置1
0の側面図であり、図2(B)はガス処理装置10の正
面図である。
FIG. 2A shows a gas processing apparatus 1 according to this embodiment.
FIG. 2B is a front view of the gas processing apparatus 10.

【0033】このガス処理装置10は、箱型のフレーム
12にブロア14及び光触媒反応ユニット16及び制御
装置18を備えている。
The gas processing apparatus 10 includes a box-shaped frame 12, a blower 14, a photocatalytic reaction unit 16, and a controller 18.

【0034】制御装置18は、ブロア14及び後述する
紫外線ランプ38等の制御を行う。
The control device 18 controls the blower 14, an ultraviolet lamp 38 described later, and the like.

【0035】図1に示すように、光触媒反応ユニット1
6は、ボックス20の内部に配置され、断面形状が渦巻
き状とされた気体通路22を備えている。
As shown in FIG. 1, the photocatalytic reaction unit 1
Reference numeral 6 denotes a gas passage 22 which is disposed inside the box 20 and has a spiral cross section.

【0036】本実施形態の気体通路22は、表面に光触
媒(図示せず)を担持させた長尺状の板材を一定の間隔
をあけて渦巻き状に複数回巻回した光触媒パネル(本発
明の壁面)24の軸方向両端部を側板26で塞ぐことに
よって形成されている。
The gas passage 22 of the present embodiment is a photocatalyst panel (in accordance with the present invention) in which a long plate material having a photocatalyst (not shown) supported on its surface is spirally wound a plurality of times at regular intervals. It is formed by closing both end portions in the axial direction of the (wall surface) 24 with side plates 26.

【0037】光触媒パネル24は、例えば、金属の場
合、チタン、アルミニューム、ステンレススチール等の
板材の表面に、スプレーパイロリシス法、ローラコーテ
ィング法、ディップコーティング法等によって光触媒膜
を形成したものを上げることができる。また、光触媒パ
ネル24を構成する板材の材質は、金属の他にセラミッ
クス、高分子材料(合成樹脂)等を用いることができ
る。
For example, in the case of metal, the photocatalyst panel 24 is obtained by forming a photocatalyst film on a surface of a plate material such as titanium, aluminum, stainless steel or the like by a spray pyrolysis method, a roller coating method, a dip coating method, or the like. be able to. Further, as the material of the plate material constituting the photocatalyst panel 24, ceramics, a polymer material (synthetic resin), or the like can be used in addition to metal.

【0038】本実施形態の光触媒パネル24は、チタン
含有金属材料からなる板材の表面上に、陽極酸化膜を、
さらに、最外層に光触媒活性を有する酸化チタン薄膜を
有している。
The photocatalyst panel 24 of this embodiment has an anodic oxide film on a surface of a plate made of a titanium-containing metal material.
Further, the outermost layer has a titanium oxide thin film having photocatalytic activity.

【0039】以下にチタン含有金属材料からなる板材の
表面に光触媒膜を形成する方法を詳述する。
Hereinafter, a method for forming a photocatalytic film on the surface of a plate made of a titanium-containing metal material will be described in detail.

【0040】光触媒パネル24は、チタン含有金属材料
からなる板材の表面に光触媒活性を有する層を積層する
ことにより構成される。
The photocatalyst panel 24 is formed by stacking a layer having photocatalytic activity on the surface of a plate made of a titanium-containing metal material.

【0041】本実施形態において用いられるチタン含有
金属材料からなる板材は、純チタン及びチタンを含有す
る合金を包含するものである。このチタン含有金属材料
を陽極酸化処理することにより、基体上に酸化チタンを
含む陽極酸化膜が形成され、この酸化チタンは光触媒活
性を有するものである。
The plate made of a titanium-containing metal material used in the present embodiment includes pure titanium and an alloy containing titanium. By anodizing the titanium-containing metal material, an anodized film containing titanium oxide is formed on the substrate, and the titanium oxide has photocatalytic activity.

【0042】チタン含有金属材料は、実質的に100%
チタンからなる純チタンであってもよく、またチタンを
含有する合金であってもよいが、得られる金属材料の光
触媒性能の観点から、基体に使用される合金全体におけ
るチタン含有量は90%以上であることが好ましい。
The metal material containing titanium is substantially 100%
Pure titanium made of titanium or an alloy containing titanium may be used. From the viewpoint of the photocatalytic performance of the obtained metal material, the titanium content in the entire alloy used for the substrate is 90% or more. It is preferred that

【0043】ここで、実質的とは、光触媒効果を損なわ
ない程度の不純物、混合物の存在を包含する意味を有す
るものである。
Here, “substantially” has a meaning that includes the presence of impurities and mixtures that do not impair the photocatalytic effect.

【0044】また、チタンと共に合金を構成する金属
は、チタンとの相溶性が良好であれば特に制限はなく、
目的に応じて、例えば、Ti−5Al−2.5Sn合
金、Ti−6Al−4V合金、Ti−15Mo−5Zr
−3Al合金等の如き汎用のチタン合金も使用すること
ができる。
The metal constituting the alloy together with titanium is not particularly limited as long as it has good compatibility with titanium.
Depending on the purpose, for example, Ti-5Al-2.5Sn alloy, Ti-6Al-4V alloy, Ti-15Mo-5Zr
General-purpose titanium alloys such as -3Al alloy can also be used.

【0045】光触媒効果の観点からは、酸化チタンと併
用することにより光触媒活性を向上させる働きを有す
る、5族〜11族元素及び14族元素からなる群より選
択される元素を併用することが好ましい。なかでも、光
触媒活性向上の顕著な元素、例えば、白金、金、パラジ
ウム、ルテニウム、ニッケル、コバルト、クロム、モリ
ブデン、シリコンがより好ましく、さらに経済的観点か
らパラジウム、ルテニウム、ニッケル、クロムの何れか
を選択するのが最も好ましい。また、酸化物を形成する
ことによってさらに光触媒活性を発現するという観点か
ら、鉄、タングステン、亜鉛などの金属も好ましい。
From the viewpoint of the photocatalytic effect, it is preferable to use an element selected from the group consisting of Group 5 to Group 11 elements and Group 14 elements which has the function of improving the photocatalytic activity when used in combination with titanium oxide. . Among them, a remarkable element for improving the photocatalytic activity, for example, platinum, gold, palladium, ruthenium, nickel, cobalt, chromium, molybdenum, and silicon are more preferable, and any one of palladium, ruthenium, nickel, and chromium is more economical. Most preferably, it is selected. Further, from the viewpoint of further developing photocatalytic activity by forming an oxide, metals such as iron, tungsten, and zinc are also preferable.

【0046】これらの併用元素の好ましい添加量は、各
々の元素が金属材全体に対して0.005〜2.0重量
%の範囲である。添加量が0.005重量%未満では好
ましい光触媒活性向上効果が得難く、2.0重量%を超
える添加は、チタン含有金属材料の加工性や靱性が低下
する虞がある。
The preferable addition amount of these concomitant elements is in the range of 0.005 to 2.0% by weight of each element with respect to the whole metal material. If the addition amount is less than 0.005% by weight, it is difficult to obtain a favorable effect of improving the photocatalytic activity.

【0047】このような陽極酸化処理を行うと、表面に
近い部分ほど、酸化チタン〔TiO 2 〕の含有量が多
く、基体の内部ではチタン〔Ti〕の割合が多くなり、
光触媒反応に関与する表面部分に光触媒活性を有する酸
化チタンが多く存在して、効率よい光触媒活性を示すと
共に、陽極酸化膜が基体である金属材料と一体化されて
形成されるため、強度、耐久性に優れた光触媒活性層が
形成される。
When such anodizing treatment is performed, the surface
The closer the part, the more titanium oxide [TiO TwoIs high.
The ratio of titanium [Ti] increases inside the substrate,
Acid having photocatalytic activity on the surface part involved in photocatalytic reaction
If there is a lot of titanium oxide and it shows efficient photocatalytic activity
In both cases, the anodic oxide film is integrated with the base metal material
As a result, a photocatalytic active layer with excellent strength and durability can be formed.
It is formed.

【0048】本実施形態においては、光触媒機能を発現
する物質として、酸化チタンを用いているが、通常、光
触媒機能を発現する半導体としては、特公平2−985
0号の記載の如き物質が挙げられ、特に、酸化チタン、
酸化鉄、酸化タングステン、酸化亜鉛、チタン酸ストロ
ンチウム等が広く知られている。
In the present embodiment, titanium oxide is used as a substance exhibiting a photocatalytic function.
No. 0, particularly, titanium oxide,
Iron oxide, tungsten oxide, zinc oxide, strontium titanate and the like are widely known.

【0049】本実施形態の光触媒活性を有する金属材料
には、主として光触媒効果に特に優れた酸化チタンの原
料であるチタン含有金属材料を使用しているが、前記の
各半導体材料やそれらを構成する金属材料も好適に適用
しうる。
As the metal material having photocatalytic activity of this embodiment, a titanium-containing metal material which is a raw material of titanium oxide having particularly excellent photocatalytic effect is used. Metallic materials can also be suitably applied.

【0050】チタン含有金属材料からなる板材は、予
め、目的とする使用形態に適合した所望の形状に加工し
たのち、陽極酸化処理される。
The plate made of the titanium-containing metal material is previously processed into a desired shape suitable for the intended use form, and then anodized.

【0051】陽極酸化処理を行う前に、熱処理等の前処
理を施してもよい。
Before performing the anodic oxidation treatment, a pretreatment such as a heat treatment may be performed.

【0052】所望の形状に成形加工したものは、表面洗
浄を施され、その後酸化処理に付されるが、均一で緻密
な処理が可能である、複雑な形状でも簡単に処理しう
る、光触媒活性を有する層の強度に優れるという観点か
ら、電解質溶液中での陽極酸化処理が好ましい。
The product formed into a desired shape is subjected to surface cleaning and then subjected to an oxidizing treatment. The photocatalytic activity enables uniform and dense treatment, and enables easy processing even in a complicated shape. Anodizing treatment in an electrolyte solution is preferred from the viewpoint of excellent strength of the layer having a.

【0053】酸化処理を行うと、チタン含有金属材料の
うち表面部分が酸化して酸化チタンを含有する陽極酸化
層を形成させることができる。
By performing the oxidation treatment, the surface portion of the titanium-containing metal material is oxidized to form an anodic oxide layer containing titanium oxide.

【0054】所望の形状に成形され、前処理を施された
チタン含有金属材料からなる板材は、例えば、1重量%
リン酸水溶液中で、電圧10〜250Vで陽極酸化処理
を行って、金属材料、特にそこに含まれるチタンを酸化
し、表面に数百オングストローム〜数千オングストロー
ムの厚さの酸化チタン膜(陽極酸化膜)を形成させるも
のである。
A plate made of a titanium-containing metal material formed into a desired shape and subjected to a pretreatment is, for example, 1% by weight.
Anodizing treatment is performed in a phosphoric acid aqueous solution at a voltage of 10 to 250 V to oxidize a metal material, particularly titanium contained therein, and form a titanium oxide film (anodic oxidation film) having a thickness of several hundred angstroms to several thousand angstroms on the surface. Film).

【0055】この陽極酸化処理によれば、微細で均一な
表面酸化が可能なため、複雑な形状の金属材料も、均一
で、かつ、すぐれた光触媒機能を持つものに簡単に加工
することができる。
According to this anodic oxidation treatment, fine and uniform surface oxidation can be performed, so that a metal material having a complicated shape can be easily processed into a material having a uniform and excellent photocatalytic function. .

【0056】金属材料基体の表面に形成された陽極酸化
膜を固定化し、強度、密着性を向上させ、且つ、光触媒
特性を向上させるために、この陽極酸化膜を形成した
後、引続き大気酸化処理を行うのが有効である。
In order to fix the anodic oxide film formed on the surface of the metal material substrate, to improve the strength and adhesion, and to improve the photocatalytic properties, after forming this anodic oxide film, the air oxidation treatment is continued. It is effective to do

【0057】これは、大気中において加熱処理を施すも
のであり。処理条件は温度が200〜600°Cの範囲
で、10〜300分間行われることが好ましく、より好
ましくは、温度が230〜300°Cの範囲、処理時間
30〜150分間の範囲である。
This is to perform a heat treatment in the atmosphere. The processing is preferably performed at a temperature of 200 to 600 ° C. for 10 to 300 minutes, more preferably at a temperature of 230 to 300 ° C. and a processing time of 30 to 150 minutes.

【0058】加熱処理を施された陽極酸化膜の表面に、
さらに効果的な光触媒活性を得るために、酸化チタン粉
体を含有する薄膜をコーティングする。
On the surface of the heat-treated anodic oxide film,
To obtain more effective photocatalytic activity, a thin film containing titanium oxide powder is coated.

【0059】酸化チタン粉体含有薄膜の形成方法として
は、光触媒活性を有する酸化チタン粉体などをそのまま
或いは適当な分散媒に分散させて前記陽極酸化膜の表面
にコーティングする方法が挙げられる。
As a method of forming the titanium oxide powder-containing thin film, there is a method of coating the surface of the anodic oxide film by directly dispersing a titanium oxide powder having photocatalytic activity or the like in an appropriate dispersion medium.

【0060】酸化チタン粉体含有薄膜の膜厚は200オ
ングストローム〜2ミクロンであることが好ましい。
The thickness of the titanium oxide powder-containing thin film is preferably from 200 Å to 2 μm.

【0061】200オングストローム未満では十分な光
触媒活性が得難く、2ミクロンを超えると粉体含有薄膜
の光透過性(透明性)が低下する。
If it is less than 200 angstroms, it is difficult to obtain a sufficient photocatalytic activity, and if it exceeds 2 microns, the light transmittance (transparency) of the powder-containing thin film decreases.

【0062】ここで用いられる酸化チタン粉体は、光触
媒機能を向上させる機能を有する元素で修飾されたもの
を用いることもできる。これらの元素は、酸化チタンと
共存して、光触媒反応において還元反応サイトになりう
る元素で、周期律表5族〜11族元素及び14族元素な
どが代表的に挙げられるが、特に効果の高い白金、金、
パラジウム、銀、銅、ルテニウム、ニッケル、コバル
ト、クロム、モリブデンからなる群から選択されること
が好ましく、これらのうち、防臭、防黴効果の点から白
金、金、パラジウム、ルテニウム、ニッケル、クロム、
銀がより好ましく、加工の容易さ、価格の点からパラジ
ウム、ルテニウム、ニッケル、クロムが特に好ましい。
The titanium oxide powder used here may be modified with an element having a function of improving the photocatalytic function. These elements coexist with titanium oxide and can be a reduction reaction site in a photocatalytic reaction, and typically include elements belonging to Groups 5 to 11 and 14 of the periodic table. Platinum, gold,
It is preferable to be selected from the group consisting of palladium, silver, copper, ruthenium, nickel, cobalt, chromium, and molybdenum. Of these, platinum, gold, palladium, ruthenium, nickel, chromium,
Silver is more preferred, and palladium, ruthenium, nickel and chromium are particularly preferred in terms of ease of processing and price.

【0063】コーティングする酸化チタンは市販の酸化
チタン粉を用いることもできるが、例えば、チタンの高
温焼成、電気酸化、化学的蒸着法、真空蒸着法、共沈
法、金属ハロゲン化法、無機金属塩の中和や加水分解、
金属アルコキシドの加水分解、ゾルゲル法等の常法によ
り調製することもできる。
As the titanium oxide to be coated, commercially available titanium oxide powder can be used. For example, high-temperature sintering of titanium, electric oxidation, chemical vapor deposition, vacuum vapor deposition, co-precipitation, metal halogenation, inorganic metal Neutralization and hydrolysis of salts,
It can also be prepared by a conventional method such as hydrolysis of metal alkoxide and sol-gel method.

【0064】また、酸化チタンの前記元素による修飾
は、含浸法、沈澱法、イオン交換法、光電析法、練成法
等の公知の方法により行うことができる。
The modification of titanium oxide with the above-mentioned elements can be performed by a known method such as an impregnation method, a precipitation method, an ion exchange method, a photoelectric deposition method, a kneading method and the like.

【0065】本実施形態において、前記陽極酸化膜の表
面に酸化チタン粉体含有薄膜を形成する方法は、例えば
スプレーコーティング法、ディップコーティング法、ス
ピンコーティング法、スパッタリング法等の少なくとも
1つ以上の方法が採用される。
In the present embodiment, the method of forming the titanium oxide powder-containing thin film on the surface of the anodic oxide film is at least one of a spray coating method, a dip coating method, a spin coating method and a sputtering method. Is adopted.

【0066】これらの方法により板材上に形成された陽
極酸化膜表面の一部又は全部に酸化チタン粉体含有薄膜
を形成するものである。
A titanium oxide powder-containing thin film is formed on part or all of the surface of the anodic oxide film formed on the plate material by these methods.

【0067】このような方法によって形成される酸化チ
タン粉体含有薄膜は、光触媒活性を有するが、一般に、
構造をミクロ的に見ればポーラスで、強度や密着性に問
題がある場合も多いが、本実施形態ではこの薄膜の下層
に緻密で強度、密着性に優れた陽極酸化膜が形成されて
いるため、全体として優れた強度、密着性が得られる。
The titanium oxide powder-containing thin film formed by such a method has a photocatalytic activity.
Although the structure is porous when viewed microscopically, there are many cases where there is a problem in strength and adhesion, but in the present embodiment, since an anodized film excellent in density, strength and adhesion is formed under this thin film. Excellent overall strength and adhesion can be obtained.

【0068】さらに、この酸化チタン粉体含有薄膜の強
度、密着性を向上させるために、この酸化チタン粉体含
有薄膜形成後にも、加熱処理を行うことが好ましい。
Further, in order to improve the strength and adhesion of the titanium oxide powder-containing thin film, it is preferable to perform a heat treatment even after the formation of the titanium oxide powder-containing thin film.

【0069】この加熱処理は、光触媒活性を有する材料
が適用される部位に要求される強度、光触媒性能によっ
て、選択することができるが、前記大気酸化処理の場合
と同様に、200〜600°Cの温度範囲で10〜30
0分の範囲で行われることが好ましく、より好ましく
は、温度が230〜300°Cの範囲、処理時間30〜
150分間の範囲である。
This heat treatment can be selected depending on the strength and photocatalytic performance required for the site to which the material having photocatalytic activity is applied. As in the case of the above-mentioned atmospheric oxidation treatment, the heat treatment is performed at 200 to 600 ° C. 10-30 in the temperature range of
It is preferably performed in the range of 0 minutes, more preferably, the temperature is in the range of 230 to 300 ° C, and the processing time is 30 to
The range is 150 minutes.

【0070】加熱時間が10分未満或いは温度が200
°C未満であると膜強度、密着性の向上が不充分であ
り、温度が600°Cを超えると、下層の陽極酸化被膜
の色調が灰色に変色する。
The heating time is less than 10 minutes or the temperature is 200
When the temperature is lower than ° C, the film strength and adhesion are insufficiently improved, and when the temperature exceeds 600 ° C, the color tone of the underlying anodic oxide film turns gray.

【0071】また、加熱処理を150〜300分を超え
る時間行っても効果の向上は見られず、経済的観点から
好ましくない。
Further, even if the heat treatment is carried out for more than 150 to 300 minutes, the effect is not improved, which is not preferable from an economic viewpoint.

【0072】加熱処理は、例えば、電気炉中で、約30
〜150分間行い、その後は室温まで徐々に冷却するこ
とが好ましい。
The heat treatment is performed, for example, in an electric furnace for about 30 minutes.
It is preferable to carry out for up to 150 minutes and then gradually cool to room temperature.

【0073】冷却を急激に行うと、膜と基体との熱膨張
係数の差によるクラックが生じ、密着性が低下するため
好ましくない。
Rapid cooling is not preferable because cracks occur due to the difference in the coefficient of thermal expansion between the film and the substrate, and the adhesion decreases.

【0074】前記薄膜は、膜厚を数ミクロン程度までと
することによって、透明性を有し、且つ、光触媒活性を
有する薄膜となる。
By setting the thickness of the thin film to about several microns, the thin film has transparency and photocatalytic activity.

【0075】従って、薄膜と陽極酸化膜との2層構造に
よる高い光触媒性能を達成することができる。
Therefore, high photocatalytic performance can be achieved by the two-layer structure of the thin film and the anodic oxide film.

【0076】酸化チタン粉体含有薄膜を形成した後に、
前記の如き大気中における加熱処理を行う場合には、陽
極酸化膜を形成した後の加熱処理を省略することができ
る。即ち、陽極酸化膜及び酸化チタン粉体含有薄膜の2
層を形成した後に、加熱処理を行うことによっても同様
の特性を有する光触媒活性を有する金属材料を得ること
ができる。
After forming the titanium oxide powder-containing thin film,
In the case where the heat treatment is performed in the atmosphere as described above, the heat treatment after forming the anodic oxide film can be omitted. That is, two types of anodized film and titanium oxide powder-containing thin film
By performing heat treatment after the formation of the layer, a metal material having photocatalytic activity having similar characteristics can be obtained.

【0077】図1及び図3に示すように、側板26に
は、複数の孔28が渦巻き状に配置されており、これら
の孔28にゴムパッキン30が圧入されている。
As shown in FIGS. 1 and 3, a plurality of holes 28 are spirally arranged in the side plate 26, and a rubber packing 30 is press-fitted into these holes 28.

【0078】ゴムパッキン30には、溝32が形成され
ており、この溝32に光触媒パネル24の端縁部分が挿
入されて支持されている。
A groove 32 is formed in the rubber packing 30, and an edge portion of the photocatalyst panel 24 is inserted and supported in the groove 32.

【0079】さらに、側板26には、渦巻き方向に沿っ
て複数のランプ挿入孔34が形成されており、これらの
ランプ挿入孔34にゴムパッキン36を介して棒状の紫
外線ランプ(例えば、ブラックライト、殺菌灯等)38
が挿入されている。
Further, a plurality of lamp insertion holes 34 are formed in the side plate 26 along the spiral direction, and a rod-shaped ultraviolet lamp (for example, black light, Germicidal lamp, etc.) 38
Is inserted.

【0080】なお、紫外線ランプ38は、紫外線自体に
よるガス分解も期待できるため250nm以下の紫外線
を照射できるものが使用されている。
Since the ultraviolet lamp 38 can also be expected to decompose gas by the ultraviolet light itself, a lamp capable of irradiating ultraviolet light of 250 nm or less is used.

【0081】また、光触媒パネル24の光触媒面に照射
される紫外線強度が30μW/cm 2 以上となるように
紫外線ランプ38が配置されている。
Further, the photocatalyst surface of the photocatalyst panel 24 is irradiated.
UV intensity is 30μW / cm TwoTo be more than
An ultraviolet lamp 38 is provided.

【0082】図3に示すように、側板26の内面にはゴ
ムシート39が貼り付けられており、ゴムパッキン30
及びゴムパッキン36の外周面には側板26との間の隙
間を塞ぐシール剤が付与されている。また、紫外線ラン
プ38の外周面にもゴムパッキン36との間の隙間を塞
ぐシール剤37が付与されている。
As shown in FIG. 3, a rubber sheet 39 is adhered to the inner surface of the side plate 26,
In addition, a sealant for closing a gap between the rubber packing 36 and the side plate 26 is provided on the outer peripheral surface. Further, a sealing agent 37 for closing a gap between the ultraviolet lamp 38 and the rubber packing 36 is also provided on the outer peripheral surface.

【0083】図1及び図4に示すように、光触媒パネル
24の軸心には、円筒状のパイプ42が配設されてい
る。
As shown in FIGS. 1 and 4, a cylindrical pipe 42 is provided at the axis of the photocatalyst panel 24.

【0084】図1及び図4に示すように、パイプ42
は、一端にブロア14の吸気側が接続されており、他端
が塞がれている。
As shown in FIG. 1 and FIG.
Has one end connected to the suction side of the blower 14 and the other end closed.

【0085】図2に示すように、ブロア14の排気側に
は、排気ダクト44が接続されている。
As shown in FIG. 2, an exhaust duct 44 is connected to the exhaust side of the blower 14.

【0086】図1に示すように、パイプ42の外周面に
は、軸方向に沿ってスリット状の吸込口46が形成され
ている。
As shown in FIG. 1, a slit-shaped suction port 46 is formed on the outer peripheral surface of the pipe 42 along the axial direction.

【0087】なお、パイプ42は、図1に示すように、
ゴムパッキン(図示せず)を介して側板26の孔50に
挿入されている。
The pipe 42 is, as shown in FIG.
It is inserted into the hole 50 of the side plate 26 via a rubber packing (not shown).

【0088】光触媒パネル24の外周側には、流入する
空気中の埃等を取り除くフィルター52を介して吸気ダ
クト54が接続されている。 (作用)次に、本実施形態のガス処理装置10の作用を
説明する。
An intake duct 54 is connected to the outer peripheral side of the photocatalyst panel 24 via a filter 52 for removing dust and the like in the air flowing in. (Operation) Next, the operation of the gas processing apparatus 10 of the present embodiment will be described.

【0089】このガス処理装置10は、例えば、ホルマ
リンガスで燻蒸したクリーンルームに配置され、室内の
ホルマリンガスを分解し、無害化するために用いること
ができる。
The gas treatment apparatus 10 is disposed in, for example, a clean room fumigated with formalin gas, and can be used to decompose and detoxify formalin gas in the room.

【0090】先ず、ガス処理装置10をクリーンルーム
に配置し、紫外線ランプ38を点灯し、ブロア14を作
動させる。なお、紫外線ランプ38は、ブロア14を作
動さる30以上前に点灯しておくことが好ましい。紫外
線ランプ38が点灯すると、紫外線ランプ38から出射
した紫外線が光触媒パネル24に照射され、パネル表面
に担持された光触媒が光触媒活性を示すようになる。
First, the gas processing apparatus 10 is placed in a clean room, the ultraviolet lamp 38 is turned on, and the blower 14 is operated. The ultraviolet lamp 38 is preferably turned on at least 30 times before the blower 14 is operated. When the ultraviolet lamp 38 is turned on, ultraviolet light emitted from the ultraviolet lamp 38 is irradiated on the photocatalyst panel 24, and the photocatalyst carried on the panel surface exhibits photocatalytic activity.

【0091】ブロア14が作動すると、吸気ダクト54
より室内のホルマリンガスを含んだ空気が吸引され、フ
ィルター52で埃が取り除かれたのち気体通路22に流
入する。
When the blower 14 operates, the intake duct 54
Air containing more formalin gas in the room is sucked, and dust is removed by the filter 52, and then flows into the gas passage 22.

【0092】ホルマリンガスを含んだ空気は、気体通路
22を外周側から内周側へと流れ、この間に光触媒パネ
ル24の光触媒に接触し、ホルマリンガス(HCHO)
は炭酸ガス(CO2 )と水(H2 O)に分解されて無害
化され、吸込口46及びブロア14を介して室内に排出
される。
The air containing formalin gas flows through the gas passage 22 from the outer side to the inner side, and contacts the photocatalyst of the photocatalyst panel 24 during this time, and the formalin gas (HCHO)
Is decomposed into carbon dioxide (CO 2 ) and water (H 2 O) to make it harmless, and is discharged indoors through the suction port 46 and the blower 14.

【0093】クリーンルーム内の空気をこのガス処理装
置10で循環させることによってクリーンルーム内のホ
ルマリンガスを分解し、無害化することができる。
By circulating the air in the clean room with the gas processing device 10, the formalin gas in the clean room can be decomposed and made harmless.

【0094】本実施形態のガス処理装置10は、気体通
路22を断面渦巻き状とし、渦巻き方向の一端から他端
へ気体を流すようにしたので、フィルターやハニカムに
比較して圧損が少なく、また気体通路22内で気体を滞
留させることなく、流入させた空気を気体通路22の壁
面全体に渡って均一に接触させることができ、これによ
り効率的にホルマリンガスを分解させることができる。 (その他の実施形態)図5(A),(B)に示すよう
に、本実施形態では、気体通路22には、紫外線ランプ
38と紫外線ランプ38との間に、光触媒メッシュ40
A〜40Dが配設されている。
In the gas processing apparatus 10 of the present embodiment, the gas passage 22 has a spiral shape in cross section, and the gas flows from one end to the other end in the spiral direction. Therefore, pressure loss is smaller than that of a filter or a honeycomb, and The gas that has flowed in can be brought into uniform contact with the entire wall surface of the gas passage 22 without stagnation of the gas in the gas passage 22, so that the formalin gas can be decomposed efficiently. (Other Embodiments) As shown in FIGS. 5A and 5B, in this embodiment, a photocatalyst mesh 40 is provided between the ultraviolet lamps 38 in the gas passage 22.
A to 40D are provided.

【0095】光触媒メッシュ40A〜40Dは、光触媒
パネル24の軸方向(図5(A)の裏表方向)に長尺状
とされており、光触媒パネル24と同様の材質からなる
メッシュの表面に光触媒(図示せず)を担持させたもの
である。
The photocatalyst meshes 40A to 40D are elongated in the axial direction of the photocatalyst panel 24 (the front and rear directions in FIG. 5A), and the surface of the mesh made of the same material as the photocatalyst panel 24 has a photocatalyst ( (Not shown).

【0096】光触媒パネル24に近い側の光触媒メッシ
ュ40A,40Dは、通路中央側の光触媒メッシュ40
B,40Cよりも目が粗く形成されている。また、光触
媒メッシュ40A〜40Dは、光触媒パネル24と平行
となるように湾曲している。
The photocatalyst meshes 40A and 40D near the photocatalyst panel 24 are connected to the photocatalyst mesh 40 near the center of the passage.
B, coarser than 40C. The photocatalyst meshes 40 </ b> A to 40 </ b> D are curved so as to be parallel to the photocatalyst panel 24.

【0097】この実施形態では、紫外線ランプ38が点
灯すると、紫外線ランプ38から出射した紫外線が、光
触媒パネル24の壁面及び光触媒メッシュ40A〜40
Dに照射され、これらの表面に担持された光触媒が光触
媒活性を示すようになる。
In this embodiment, when the ultraviolet lamp 38 is turned on, the ultraviolet light emitted from the ultraviolet lamp 38 is applied to the wall surface of the photocatalyst panel 24 and the photocatalyst meshes 40A to 40A.
Irradiated to D, the photocatalysts supported on these surfaces exhibit photocatalytic activity.

【0098】なお、光触媒パネル24で反射した紫外線
(矢印L)は、壁面に近い光触媒メッシュ40A,40
Dに照射され、光触媒メッシュ40A,40Dの目を透
過した紫外線は光触媒メッシュ40Aと光触媒メッシュ
40Dの間に配置された光触媒メッシュ40B,40C
に照射される。ここで、反射した紫外線の通過経路で紫
外線ランプ38に近い光触媒メッシュ40A,40Dの
目を粗く、その後ろに配置される光触媒メッシュ40
B,40Cの目を細かくしているので、これら複数の光
触媒メッシュ40A〜40Dの全体に効率的に紫外線を
照射することができる。
The ultraviolet rays (arrow L) reflected by the photocatalyst panel 24 are reflected on the photocatalyst meshes 40A, 40A near the wall.
D, and the ultraviolet light transmitted through the eyes of the photocatalyst meshes 40A and 40D is applied to the photocatalyst meshes 40B and 40C disposed between the photocatalyst meshes 40A and 40D.
Is irradiated. Here, the photocatalyst meshes 40A and 40D close to the ultraviolet lamp 38 in the passage of the reflected ultraviolet light are coarse and the photocatalyst mesh 40 disposed behind the photocatalyst mesh 40A, 40D is roughened.
Since the eyes of B and 40C are made finer, the entirety of the plurality of photocatalyst meshes 40A to 40D can be efficiently irradiated with ultraviolet rays.

【0099】また、紫外線ランプ38に近い部分のメッ
シュサイズを大きくすることで、光触媒パネル24への
必要な光エネルギーの到達を阻害しないようにできる。
By increasing the mesh size near the ultraviolet lamp 38, it is possible to prevent the required light energy from reaching the photocatalyst panel 24.

【0100】空気中のホルマリンガスは、光触媒パネル
24及び光触媒メッシュ40A〜40Dの光触媒に接触
し、分解されて無害化され、吸込口46及びブロア14
を介して室内に排出される。
The formalin gas in the air comes into contact with the photocatalyst panel 24 and the photocatalyst of the photocatalyst meshes 40A to 40D and is decomposed and made harmless.
Is discharged into the room through

【0101】この実施形態では、光触媒メッシュ40A
〜40Dを設けて光触媒面積を増やしたので、より効率
的にホルマリンガスを分解させることができる。
In this embodiment, the photocatalyst mesh 40A
Since the photocatalyst area was increased by providing ~ 40D, formalin gas could be decomposed more efficiently.

【0102】なお、この実施形態では、渦巻き状の気体
通路22の壁面と平行に光触媒メッシュ40A〜40D
を配置し、光触媒面積を大きくしたが、これに限らず、
図6に示すように、光触媒反応ユニット16の半径方向
に向けた平面状の光触媒メッシュ58A〜58Cを気体
通路22の紫外線ランプ38と紫外線ランプ38の間に
配置しても良い。この場合、紫外線ランプ38に近い光
触媒メッシュ58A,58Cの目を粗く、紫外線ランプ
38から遠い光触媒メッシュ58Bの目を細かく設定
し、光触媒メッシュ58A〜58Cの全体に紫外線が照
射されるようにする。
In this embodiment, the photocatalyst meshes 40A to 40D are parallel to the wall of the spiral gas passage 22.
To increase the photocatalyst area, but not limited to this,
As shown in FIG. 6, planar photocatalyst meshes 58 </ b> A to 58 </ b> C oriented in the radial direction of the photocatalytic reaction unit 16 may be arranged between the ultraviolet lamps 38 in the gas passage 22. In this case, the meshes of the photocatalyst meshes 58A and 58C near the ultraviolet lamp 38 are coarse and the meshes of the photocatalyst mesh 58B far from the ultraviolet lamp 38 are finely set so that the entire photocatalyst meshes 58A to 58C are irradiated with ultraviolet rays.

【0103】また、図7(A),(B)に示すように、
円筒状に丸めた光触媒メッシュ60A〜60Cを気体通
路22の紫外線ランプ38と紫外線ランプ38の間に、
壁面に沿って円弧状に配置しても良い。この場合、紫外
線ランプ38に近い光触媒メッシュ60A,60Cの目
を粗く、紫外線ランプ60から遠い光触媒メッシュ60
Bの目を細かく設定し、光触媒メッシュ60A〜60C
の全体に紫外線が照射されるようにすることが好まし
い。
As shown in FIGS. 7A and 7B,
The photocatalyst meshes 60 </ b> A to 60 </ b> C rolled into a cylindrical shape are placed between the ultraviolet lamps 38 in the gas passage 22.
They may be arranged in an arc along the wall surface. In this case, the meshes of the photocatalyst meshes 60A and 60C near the ultraviolet lamp 38 are coarse and the photocatalyst mesh 60 far from the ultraviolet lamp 60 is coarse.
The eyes of B are set finely, and the photocatalyst meshes 60A to 60C
It is preferable that the entire surface be irradiated with ultraviolet rays.

【0104】さらに、図8に示すように、円筒状に丸め
た光触媒メッシュ62A〜62Dを気体通路22の紫外
線ランプ38と紫外線ランプ38の間に、左右に互い違
いにずらしながら円弧状に配置しても良い。
Further, as shown in FIG. 8, cylindrically rounded photocatalyst meshes 62A to 62D are arranged between the ultraviolet lamps 38 in the gas passage 22 in an arc shape while being alternately shifted left and right. Is also good.

【0105】また、上記各実施形態では、所定の容積内
において光触媒面積を増大するために、気体通路22内
に光触媒メッシュ40A〜40D、光触媒メッシュ58
A〜58C、光触媒メッシュ60A〜60C、光触媒メ
ッシュ62A〜62Dを配置したが、図9に示すよう
に、光触媒パネル24の表面に無数の凸部64(及びま
たは例えば、ゴルフボールのディンプルのような凹
部。)を形成しても良く(なお、板材をプレス加工する
のであれば、凸部64の反対面が凹部66となる。)、
これにより光触媒パネル24の表面積、即ち、光触媒面
積を増大させることができる。
In each of the above embodiments, the photocatalyst meshes 40A to 40D and the photocatalyst mesh 58 are provided in the gas passage 22 in order to increase the photocatalyst area within a predetermined volume.
A to 58C, the photocatalyst meshes 60A to 60C, and the photocatalyst meshes 62A to 62D are arranged. As shown in FIG. 9, the countless projections 64 (and / or dimples such as golf ball dimples) are formed on the surface of the photocatalyst panel 24, as shown in FIG. A concave portion may be formed (if a plate material is pressed, the opposite surface of the convex portion 64 becomes the concave portion 66).
Thereby, the surface area of the photocatalyst panel 24, that is, the photocatalyst area can be increased.

【0106】上記各実施形態においては、光触媒パネル
24、光触媒メッシュ40A〜40D、光触媒メッシュ
58A〜58C、光触媒メッシュ60A〜60C、光触
媒メッシュ62A〜62Dがチタン材で不透明であった
が、本発明はこれに限らず、これらは、ガラス、合成樹
脂等の透明な材質であっても良い。
In each of the above embodiments, the photocatalyst panel 24, the photocatalyst meshes 40A to 40D, the photocatalyst meshes 58A to 58C, the photocatalyst meshes 60A to 60C, and the photocatalyst meshes 62A to 62D are made of titanium material and are opaque. However, the material is not limited to this, and may be a transparent material such as glass or synthetic resin.

【0107】光触媒パネル24を紫外線を透過する透明
な材質で形成し、光触媒が光を透過する薄膜である場合
には、気体通路22の内部で光の影(即ち、紫外線の照
射されない部分)が生じなくなり、紫外線ランプ38か
ら出射された紫外線が壁面や光触媒メッシュの全体的に
にムラなく照射され、処理効率が向上する。
When the photocatalyst panel 24 is formed of a transparent material that transmits ultraviolet light, and when the photocatalyst is a thin film that transmits light, a shadow of light (that is, a portion that is not irradiated with ultraviolet light) is formed inside the gas passage 22. The ultraviolet light emitted from the ultraviolet lamp 38 is uniformly applied to the wall surface and the photocatalyst mesh, thereby improving the processing efficiency.

【0108】また、光触媒パネル24が光を透過しない
材質の場合には、光の影が生じないように多数の紫外線
ランプ38を必要とするが、光触媒パネル24が透明で
あれば影が殆ど生じないため、紫外線ランプ38の本数
やワット数を低減し、装置コストや運転コストを低減で
きる。
When the photocatalyst panel 24 is made of a material that does not transmit light, a large number of ultraviolet lamps 38 are required to prevent the shadow of light. However, when the photocatalyst panel 24 is transparent, almost no shadow is generated. Therefore, the number and the wattage of the ultraviolet lamps 38 can be reduced, and the apparatus cost and the operating cost can be reduced.

【0109】また、光触媒パネル24が透明な場合に
は、紫外線ランプ38を気体通路22内に配置せず、光
触媒パネル24の外側に配置することもできる。こうす
ることで、気体通路22の空気抵抗を減らせ、送風量を
増大させることが可能となる。なお、この場合、ボック
ス20の内面を紫外線を反射し易い鏡面、銀色、白色等
とすることが好ましい。
When the photocatalyst panel 24 is transparent, the ultraviolet lamp 38 can be disposed outside the photocatalyst panel 24 without being disposed in the gas passage 22. By doing so, it is possible to reduce the air resistance of the gas passage 22 and increase the amount of blown air. In this case, it is preferable that the inner surface of the box 20 be a mirror surface, silver color, white color, or the like that easily reflects ultraviolet rays.

【0110】なお、ガラス、合成樹脂等の透明な材質に
光触媒を担持させる場合には、例えば、光触媒メッシュ
40A〜40Dを板材にしても良い。
When the photocatalyst is supported on a transparent material such as glass or synthetic resin, for example, the photocatalyst meshes 40A to 40D may be made of a plate material.

【0111】なお、光触媒パネル24が金属等の場合、
パネル表面を光を反射しやすい鏡面に仕上げ、ここに透
明の光触媒を担持させても良い。こうすることで、光が
種々の方向に反射し、光の影を少なくすることができ、
これでも処理効率が向上する。
When the photocatalyst panel 24 is made of metal or the like,
The panel surface may be finished to a mirror surface that easily reflects light, and a transparent photocatalyst may be supported here. By doing so, light is reflected in various directions, and the shadow of light can be reduced,
This also improves processing efficiency.

【0112】なお、上記実施形態では、ガス処理装置1
0をクリーンルームの燻蒸処理を行ったホルマリンガス
の分解に用いたが、本発明はこれに限らず、光触媒で分
解できるガス類の分解には全て適用可能であり、室内の
消臭等に用いても良いのは勿論である。 (試験例)本発明の効果を確かめるために、図10に示
すように、上記実施形態で説明した構造の光触媒反応ユ
ニット16、ブロア14にホルマリンガスを約890p
pm含んだ空気を充填したガス発生槽68とダクト70
とを連結して閉ループ状とされたホルマリンガス分解試
験装置を作製し、ホルマリンガスの分解速度を測定し
た。なお、図10中の矢印は空気の流れる方向を示す。
In the above embodiment, the gas processing device 1
0 was used for the decomposition of formalin gas that was subjected to fumigation treatment in a clean room. However, the present invention is not limited to this, and is applicable to all decomposition of gases that can be decomposed by a photocatalyst. Of course, it is good. (Test Example) In order to confirm the effect of the present invention, as shown in FIG. 10, formalin gas was supplied to the photocatalytic reaction unit 16 and the blower 14 having the structure described in the above embodiment by about 890 p.
Gas generating tank 68 filled with air containing pm and duct 70
Were connected to form a closed-loop formalin gas decomposition test apparatus, and the decomposition rate of formalin gas was measured. The arrow in FIG. 10 indicates the direction in which air flows.

【0113】本試験装置において、ブロア14の送風量
は10m3 /minであり、ガス発生槽の容積は1m3
である。
[0113] In this test apparatus, the air blowing amount of the blower 14 is 10 m 3 / min, the volume of the gas generating tank 1 m 3
It is.

【0114】また、光触媒反応ユニット16の光触媒に
はTiO2 が用いられており、光触媒の面積は5m2 ×
2(表と裏)、目の粗い円筒状のメッシュ(メッシュの
針金のピッチ2mm。直径φ30mm×長さ450mm。)5
0本及び目の細かい円筒状のメッシュ(メッシュの針金
のピッチ0.5mm。直径φ30mm×長さ450mm。)5
0本が通路内に配置されている。また、通路の幅は70
cm、厚さは7cm、総延長は7mである。なお、紫外
線ランプは、20Wのものを27本用いた。
The photocatalyst of the photocatalytic reaction unit 16 uses TiO 2 , and the area of the photocatalyst is 5 m 2 ×
2 (front and back), open cylindrical mesh (pitch of mesh wire: 2 mm; diameter: 30 mm x length: 450 mm) 5
0 and a fine cylindrical mesh (pitch of mesh wire: 0.5 mm; diameter: 30 mm x length: 450 mm) 5
0 are located in the passage. The width of the passage is 70
cm, thickness 7 cm, total extension 7 m. In addition, 27 ultraviolet lamps of 20 W were used.

【0115】なお、ブロア14の作動3分前から紫外線
ランプを点灯し、予め光触媒表面の不純物の分解を行
い、その後ブロア14を作動してホルマリンガスの分解
を開始した。
The ultraviolet lamp was turned on three minutes before the operation of the blower 14 to decompose impurities on the photocatalyst surface in advance, and then the blower 14 was operated to start decomposing formalin gas.

【0116】一定時間毎に装置内のホルマリンガスの濃
度を測定し、図11のグラフで示すような結果が得られ
た。なお、ホルマリンガスの濃度は検知管を用いて測定
した。
The concentration of formalin gas in the apparatus was measured at regular intervals, and the results shown in the graph of FIG. 11 were obtained. The concentration of formalin gas was measured using a detector tube.

【0117】試験の結果、ブロア14を作動して約12
分後には装置内のホルマリンガスの濃度が0ppm(測
定限界)に達し、小型でも高濃度のホルマリンガスを短
時間で分解できることが証明された。
As a result of the test, about 12
After a minute, the concentration of formalin gas in the apparatus reached 0 ppm (measurement limit), which proved that a high-concentration formalin gas could be decomposed in a short time even with a small size.

【0118】[0118]

【発明の効果】以上説明したように、本発明のガス処理
装置によれば、小型にもかかわらず、高濃度の有害ガス
を効率良く分解できる、という優れた効果を有する。
As described above, the gas processing apparatus of the present invention has an excellent effect that, despite its small size, high-concentration harmful gases can be efficiently decomposed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施形態に係るガス処理装置の光触
媒反応ユニットの分解斜視図である。
FIG. 1 is an exploded perspective view of a photocatalytic reaction unit of a gas processing apparatus according to one embodiment of the present invention.

【図2】(A)は本発明の一実施形態に係るガス処理装
置の側面図であり、(B)は同ガス処理装置の正面図で
ある。
FIG. 2A is a side view of a gas processing apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2B is a front view of the gas processing apparatus.

【図3】光触媒反応ユニットの側板部分の断面図であ
る。
FIG. 3 is a sectional view of a side plate portion of the photocatalytic reaction unit.

【図4】光触媒反応ユニットの断面図である。FIG. 4 is a sectional view of a photocatalytic reaction unit.

【図5】(A)は、他の実施形態に係るガス処理装置の
光触媒反応ユニットの一部の断面図であり、(B)はこ
の光触媒反応ユニットの内部に設けたメッシュの斜視図
である。
FIG. 5A is a cross-sectional view of a part of a photocatalytic reaction unit of a gas processing apparatus according to another embodiment, and FIG. 5B is a perspective view of a mesh provided inside the photocatalytic reaction unit. .

【図6】更に他の実施形態に係るガス処理装置の光触媒
反応ユニットの一部の断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view of a part of a photocatalytic reaction unit of a gas processing apparatus according to still another embodiment.

【図7】(A)は、更に他の実施形態に係るガス処理装
置の光触媒反応ユニットの一部の断面図であり、(B)
はこの光触媒反応ユニットの内部に設けたメッシュの斜
視図である。
FIG. 7A is a cross-sectional view of a part of a photocatalytic reaction unit of a gas processing apparatus according to still another embodiment, and FIG.
FIG. 3 is a perspective view of a mesh provided inside the photocatalytic reaction unit.

【図8】更に他の実施形態に係るガス処理装置の光触媒
反応ユニットの一部の断面図である。
FIG. 8 is a cross-sectional view of a part of a photocatalytic reaction unit of a gas processing apparatus according to still another embodiment.

【図9】更に他の実施形態に係るガス処理装置の光触媒
パネルの斜視図である。
FIG. 9 is a perspective view of a photocatalytic panel of a gas processing apparatus according to still another embodiment.

【図10】ホルマリンガス分解試験装置の概略構成図で
ある。
FIG. 10 is a schematic configuration diagram of a formalin gas decomposition test apparatus.

【図11】ホルマリンガスの濃度と試験装置の運転時間
との関係を示したグラフである。
FIG. 11 is a graph showing the relationship between the concentration of formalin gas and the operation time of the test apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 ガス処理装置 14 ブロア(送風機) 22 気体通路 24 光触媒パネル(壁面、光触媒) 38 紫外線ランプ(光源) 40A メッシュ 40B メッシュ 40C メッシュ 40D メッシュ 58A メッシュ 58B メッシュ 58C メッシュ 60A メッシュ 60B メッシュ 60C メッシュ 62A メッシュ 62B メッシュ 62C メッシュ 62D メッシュ 64 凸部 Reference Signs List 10 gas treatment device 14 blower (blower) 22 gas passage 24 photocatalyst panel (wall surface, photocatalyst) 38 ultraviolet lamp (light source) 40A mesh 40B mesh 40C mesh 40D mesh 58A mesh 58B mesh 58C mesh 60A mesh 60B mesh 60C mesh 62A mesh 62A mesh 62C mesh 62D mesh 64 Convex part

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中村 聡 大阪府大阪市中央区本町4丁目1番13号 株式会社竹中工務店大阪本店内 (72)発明者 西村 泰弘 大阪府大阪市中央区本町4丁目1番13号 株式会社竹中工務店大阪本店内 (72)発明者 佐々木 陽平 東京都中央区銀座8丁目21番1号 株式会 社竹中工務店東京本店内 (72)発明者 三好 弘治 東京都中央区銀座8丁目21番1号 株式会 社竹中工務店東京本店内 (72)発明者 伊藤 喜昌 東京都千代田区丸の内1−8−2 株式会 社神戸製鋼所東京本社内 (72)発明者 高原 宏之 神奈川県藤沢市宮前100−1 株式会社神 鋼アクテック内 Fターム(参考) 4C080 AA07 AA10 BB02 CC02 CC12 JJ03 KK08 MM02 QQ11 QQ17 QQ20 4D048 AA17 AA19 AB01 AB03 BA07X BA13X BA41X BB05 BB07 CC21 CC23 CC36 CC38 CC45 CC63 EA01 4G069 AA03 BA04A BA04B BA18 BA48A CA07 CA10 CA11 CA17 EA06 EA12 EB03 EE08 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Satoshi Nakamura 4-1-1-13, Honcho, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka Inside the Osaka head office of Takenaka Corporation (72) Inventor Yasuhiro Nishimura 4 Honcho, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka No. 1-113, Takenaka Corporation Osaka Main Store (72) Inventor Yohei Sasaki 8-21-1, Ginza, Chuo-ku, Tokyo Inside Tokyo Main Store Takenaka Corporation (72) Inventor Koji Miyoshi Central Tokyo 8-21-1, Ginza-ku, Tokyo Takenaka Corporation Tokyo Main Branch (72) Inventor Yoshimasa Ito 1-8-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Kobe Steel, Ltd.Tokyo Head Office (72) Inventor Hiroyuki Takahara 100-1 Miyamae, Fujisawa-shi, Kanagawa F-term in Shinko Actec Co., Ltd. (Reference) 4C080 AA07 AA10 BB02 CC02 CC12 JJ03 KK08 MM02 QQ11 QQ17 QQ20 4D048 AA17 AA19 AB0 1 AB03 BA07X BA13X BA41X BB05 BB07 CC21 CC23 CC36 CC38 CC45 CC63 EA01 4G069 AA03 BA04A BA04B BA18 BA48A CA07 CA10 CA11 CA17 EA06 EA12 EB03 EE08

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 断面が渦巻き状とされ、壁面に光触媒を
担持した気体通路と、 前記壁面の光触媒に光を照射する光源と、 前記気体通路に連結され、前記気体通路の渦巻き方向の
一端から処理対象の気体を流入させ他端から排出させる
送風機と、 を有することを特徴とするガス処理装置。
1. A gas passage having a spiral cross section and carrying a photocatalyst on a wall surface; a light source for irradiating light to the photocatalyst on the wall surface; A gas blower for inflowing a gas to be processed and discharging the gas from the other end.
【請求項2】 前記気体通路内には、光触媒を担持した
メッシュが配置されていることを特徴とする請求項1に
記載のガス処理装置。
2. The gas processing apparatus according to claim 1, wherein a mesh supporting a photocatalyst is disposed in the gas passage.
【請求項3】 前記メッシュは前記気体通路内に複数設
けられ、前記光源から出射された光の透過経路の前記光
源に近い位置に配置されるメッシュは、前記光の透過経
路の前記光源から遠い位置に配置されるメッシュよりも
目が粗いことを特徴とする請求項2に記載のガス処理装
置。
3. A plurality of meshes are provided in the gas passage, and a mesh disposed at a position close to the light source in a transmission path of light emitted from the light source is far from the light source in a transmission path of the light. The gas processing apparatus according to claim 2, wherein the mesh is coarser than the mesh arranged at the position.
【請求項4】 前記気体通路の壁面は、無数の凹凸が形
成されていることを特徴とする請求項1乃至請求項3の
何れか1項に記載のガス処理装置。
4. The gas processing apparatus according to claim 1, wherein a number of irregularities are formed on a wall surface of the gas passage.
【請求項5】 前記壁面または前記メッシュの少なくと
も一方が光を透過する材質で形成されていることを特徴
とする請求項1乃至請求項4の何れか1項に記載のガス
処理装置。
5. The gas processing apparatus according to claim 1, wherein at least one of the wall surface and the mesh is formed of a material that transmits light.
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