JP2000299197A - X-ray generator - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、高輝度Ｘ線源、Ｘ
線分析装置、Ｘ線顕微鏡、Ｘ線リソグラフィ装置、Ｘ線
露光装置等に用いるＸ線発生装置に関する。The present invention relates to a high-intensity X-ray source,
The present invention relates to an X-ray generator used for a X-ray analyzer, an X-ray microscope, an X-ray lithography apparatus, an X-ray exposure apparatus, and the like.
【０００２】[0002]
【従来の技術】高輝度Ｘ線源、Ｘ線分析装置、Ｘ線顕微
鏡、Ｘ線リソグラフィ装置、Ｘ線露光装置等において
は、通常、Ｘ線発生装置から得られるＸ線を使用してい
る。Ｘ線発生装置として、Ｘ線管の他にプラズマを用い
たＸ線源が知られている。プラズマを用いたＸ線源は、
プラズマ中にできる高電離多価イオンと電子の相互作用
により発生するＸ線を用いるものであり、高密度のプラ
ズマをレーザービームによって生成するＸ線発生装置が
知られている。レーザービームを用いたＸ線発生装置で
は、１０μｍ程度の大きさに絞ったレーザービームをＡ
ｌ，Ｍｏ，Ｗ，Ｔａ，Ａｕ等のターゲット表面に集光し
て照射し、これによって生成されるプラズマから発生す
るＸ線を用いている。従来のＸ線発生装置は、１波長の
レーザービームを１枚または複数枚のレンズを使用して
ターゲットに集光させている。2. Description of the Related Art A high-brightness X-ray source, an X-ray analyzer, an X-ray microscope, an X-ray lithography apparatus, an X-ray exposure apparatus, and the like usually use X-rays obtained from an X-ray generator. As an X-ray generator, an X-ray source using plasma in addition to an X-ray tube is known. An X-ray source using plasma
An X-ray generator that uses X-rays generated by the interaction between highly ionized multiply-charged ions and electrons generated in plasma and generates high-density plasma by a laser beam is known. In an X-ray generator using a laser beam, a laser beam focused to a size of about 10 μm
X-rays generated from plasma generated by condensing and irradiating a target surface such as 1, Mo, W, Ta, Au, etc. are used. A conventional X-ray generator focuses a laser beam of one wavelength on a target using one or a plurality of lenses.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】従来のＸ線発生装置
は、レーザービームの集光に凸レンズや凹凸レンズの組
み合わせた構成を使用している。レンズを用いた屈折光
学系によってレーザービームを集光させる構成では、波
長が異なるレーザービームは屈折率が異なるために、各
レーザービームを同一点に集光させることが困難であ
る。そのため、従来のＸ線発生装置では、１波長のレー
ザービームのみを集光させている。The conventional X-ray generator uses a configuration in which a convex lens or a concave / convex lens is combined for focusing a laser beam. In a configuration in which a laser beam is focused by a refractive optical system using a lens, it is difficult to focus each laser beam on the same point because laser beams having different wavelengths have different refractive indexes. Therefore, in the conventional X-ray generator, only a laser beam of one wavelength is focused.
【０００４】図４は従来のＸ線発生装置の概略構成図で
ある。図４において、Ｘ線発生装置１１は、レンズ１２
を有する屈折光学系によってレーザービームをターゲッ
ト１３に集光させ、レーザービームで生成されるプラズ
マによってＸ線１９を発生させている。この構成におい
て、波長λ1 と波長λ2 のレーザービーム１７，１８を
レンズ１２に通して集光させると、レンズ１２による屈
折率の相違によって焦点位置が異なるため、レーザービ
ームの集光点がずれてターゲット１３の同一点に集光さ
せることができない。このように集光点がずれると、プ
ラズマの生成が不十分となり所定のＸ線を得ることが困
難となるという問題がある。FIG. 4 is a schematic configuration diagram of a conventional X-ray generator. 4, an X-ray generator 11 includes a lens 12
The laser beam is condensed on the target 13 by a refraction optical system having a laser beam, and X-rays 19 are generated by plasma generated by the laser beam. In this configuration, when the laser beams 17 and 18 having the wavelengths λ 1 and λ 2 are condensed through the lens 12, the focal positions are different due to the difference in the refractive index of the lens 12, so that the focal point of the laser beam is shifted. Therefore, the light cannot be focused on the same point of the target 13. If the focal point shifts in this way, there is a problem that the generation of plasma becomes insufficient and it becomes difficult to obtain a predetermined X-ray.
【０００５】異なる波長のレーザービームを同一点に集
光させる一手段として、各波長のレーザービームごとに
レンズ系を設ける構成が考えられる。図５は複数のレン
ズ系を備えるＸ線発生装置の構成例を示した図である。
図５において、Ｘ線発生装置２１は、屈折光学系として
レンズ２２ａ及びレンズ２２ｂを備え、レンズ２２ａに
よって第１のレーザービーム２７（波長λ1 ）をターゲ
ット２３に集光させ、レンズ２２ｂによって第２のレー
ザービーム２７（波長λ2 ）をターゲット２３に集光さ
せる。しかしながら、複数個のレンズ系を設ける構成で
は、集光点を同一点に結ぶためにレンズ系の配置に微調
整を要し、装置自体も大型となるという問題がある。し
たがって、本発明は、従来の問題点を解決して、２波長
以上のレーザービームを同一集光点に照射することがで
きるＸ線発生装置を提供することを目的とする。As one means for converging laser beams of different wavelengths to the same point, a configuration in which a lens system is provided for each laser beam of each wavelength can be considered. FIG. 5 is a diagram showing a configuration example of an X-ray generator having a plurality of lens systems.
In FIG. 5, an X-ray generator 21 includes a lens 22a and a lens 22b as a refracting optical system. The first laser beam 27 (wavelength λ 1 ) is focused on the target 23 by the lens 22a, and the second laser beam 27 is focused on the target 23 by the lens 22b. Laser beam 27 (wavelength λ 2 ) is focused on the target 23. However, in the configuration in which a plurality of lens systems are provided, there is a problem that the arrangement of the lens systems needs to be finely adjusted in order to connect the condensing points to the same point, and the device itself becomes large. Accordingly, an object of the present invention is to solve the conventional problems and to provide an X-ray generator capable of irradiating a laser beam having two or more wavelengths to the same focal point.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明は、レーザービー
ムの照射によるプラズマによってＸ線を発生するＸ線発
生装置において、異なる波長のレーザービームを同一集
光点に集光させる反射光学系を備える。この反射光学系
によって２波長以上のレーザービームを同一集光点に照
射してＸ線を発生させる。According to the present invention, there is provided an X-ray generating apparatus for generating X-rays by plasma generated by irradiation of a laser beam, comprising a reflection optical system for converging laser beams of different wavelengths to the same converging point. . X-rays are generated by irradiating a laser beam having two or more wavelengths to the same focal point by this reflection optical system.
【０００７】プラズマによるＸ線発生では、プラズマの
温度やプラズマの密度等のプラズマパラメータを制御す
ることによって、Ｘ線の発生を制御することができる。
このプラズマパラメータは、プラズマ生成に照射するレ
ーザービームによって制御することができ、異なる波長
のレーザービームをターゲットに照射することによって
プラズマの制御を有効的に行うことができる。In the generation of X-rays by plasma, the generation of X-rays can be controlled by controlling plasma parameters such as plasma temperature and plasma density.
The plasma parameters can be controlled by a laser beam irradiated for plasma generation, and the plasma can be effectively controlled by irradiating a target with laser beams having different wavelengths.
【０００８】本発明のＸ線発生装置は、異なる波長のレ
ーザービームを同一集光点に集光させる反射光学系を用
いて、２波長以上のレーザービームをターゲットの同一
集光点に照射する構成とし、照射するレーザービームの
波長に応じてプラズマ温度やプラズマ密度を制御し、所
定のＸ線を発生させる。例えば、短い波長のレーザービ
ームによれば高密度のプラズマを生成することができ、
長い波長のレーザービームによればプラズマを効率よく
加熱することができる。The X-ray generator according to the present invention is configured to irradiate laser beams of two or more wavelengths to the same converging point of a target by using a reflection optical system for converging laser beams of different wavelengths to the same converging point. A predetermined X-ray is generated by controlling the plasma temperature and the plasma density according to the wavelength of the laser beam to be irradiated. For example, a short-wavelength laser beam can generate high-density plasma,
A long-wavelength laser beam can efficiently heat the plasma.
【０００９】２波長以上のレーザービームの照射は、照
射間隔をあけて順次照射する態様、及び同時に照射する
態様の２つの照射間隔の態様を用いることができる。ま
た、一照射において、レーザービームを単発のシングル
パルスで照射する態様、及び複数の連続あるいは断続す
るマルチパルス列で照射する２つのパルス態様を用いる
ことができる。Irradiation of a laser beam having two or more wavelengths can be performed in two irradiation intervals, that is, irradiation sequentially at intervals of irradiation and irradiation at the same time. In one irradiation, a mode in which a laser beam is irradiated by a single pulse and a mode in which a laser beam is irradiated by a plurality of continuous or intermittent multi-pulse trains can be used.
【００１０】また、異なる波長のレーザービームのパル
スを照射間隔をあけて照射する場合、照射間隔によって
発生するＸ線の波長を制御することができ、短い照射間
隔ではＸ線は短波長側にシフトし、長い照射間隔ではＸ
線は長波長側にシフトすることが予想される。In the case of irradiating pulses of laser beams of different wavelengths at intervals of irradiation, the wavelength of X-rays generated can be controlled by the irradiation interval. At short irradiation intervals, X-rays shift to shorter wavelengths. And at long irradiation intervals X
The lines are expected to shift to longer wavelengths.
【００１１】本発明のＸ線発生装置が備える反射光学系
としてシュワルツシルド光学系を用いることができ、こ
れによって異なる波長のレーザービームを同一集光点に
集光させることができる。A Schwarzschild optical system can be used as a reflection optical system provided in the X-ray generator of the present invention, whereby laser beams having different wavelengths can be focused on the same focal point.
【００１２】また、反射光学系に用いる凹凸反射鏡の表
面には、照射するレーザービームの波長に対して高反射
率が得られる多層膜をコーティングし、これによってレ
ーザービームの照射効率を高めることができる。Further, the surface of the concave / convex reflecting mirror used in the reflecting optical system is coated with a multilayer film capable of obtaining a high reflectance with respect to the wavelength of the laser beam to be irradiated, thereby increasing the irradiation efficiency of the laser beam. it can.
【００１３】したがって、本発明のＸ線発生装置によれ
ば、２波長以上のレーザービームを同一集光点に照射す
ることができ、プラズマ生成を制御して、所定のＸ線を
発生することができる。Therefore, according to the X-ray generator of the present invention, it is possible to irradiate the same converging point with a laser beam having two or more wavelengths, and to control the plasma generation to generate a predetermined X-ray. it can.
【００１４】[0014]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図を
参照しながら詳細に説明する。図１は、本発明のＸ線発
生装置の一構成を説明するための概略構成図である。図
１において、Ｘ線発生装置１は、異なる波長を同一点に
集光させる反射光学系としてシュワルツシルド光学系２
を備える。このような集光光学系を採用することによ
り、レーザービームを回折限界まで絞ることができる。
その結果、非常に小さな発光径を有するＸ線源が実現で
きる。Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic configuration diagram for explaining one configuration of the X-ray generator of the present invention. In FIG. 1, an X-ray generator 1 includes a Schwarzschild optical system 2 as a reflection optical system for condensing different wavelengths on the same point.
Is provided. By employing such a condensing optical system, the laser beam can be narrowed down to the diffraction limit.
As a result, an X-ray source having a very small emission diameter can be realized.
【００１５】シュワルツシルド光学系２は、ガラス板６
等によってケース内に支持され、レーザービームを入射
するケース部分にはガラス窓５を設けることができる。
ターゲット３は、シュワルツシルド光学系２の集光点位
置に配置する構成とすることができる。これによって、
ターゲット３の同一点に複数の波長のレーザービームを
照射することができる。なお、ターゲットの一例とし
て、Ａｌ，Ｍｏ，Ｗ，Ｔａ，Ａｕ等の金属を用いること
ができる。The Schwarzschild optical system 2 includes a glass plate 6
A glass window 5 can be provided in a case portion which is supported in the case and receives the laser beam.
The target 3 can be configured to be arranged at the focal point position of the Schwarzschild optical system 2. by this,
The same point on the target 3 can be irradiated with laser beams of a plurality of wavelengths. Note that a metal such as Al, Mo, W, Ta, or Au can be used as an example of the target.
【００１６】シュワルツシルド光学系２の入射光軸、及
び波長を異にする第１レーザービーム７（波長λ1 ）と
第２レーザービーム（波長λ2）の各出射光軸上にビー
ムスプリッタ４を配置し、２つの異なる波長のレーザー
ビーム７，８をシュワルツシルド光学系２の同一集光点
に集光させる。また、反射光学系に用いる凹凸反射鏡の
表面には、照射するレーザービームの波長に対して高反
射率が得られる多層膜をコーティングする。これによっ
てレーザービームの照射効率を高めることができる。し
たがって、この構成によれば、波長が異なる任意の個数
のレーザービームを、１つの反射光学系によって同一集
光点に集光させることができる。A beam splitter 4 is provided on the incident optical axis of the Schwarzschild optical system 2 and on the output optical axes of the first laser beam 7 (wavelength λ 1 ) and the second laser beam (wavelength λ 2 ) having different wavelengths. The laser beams 7 and 8 having two different wavelengths are focused on the same focusing point of the Schwarzschild optical system 2. Further, the surface of the concave / convex reflecting mirror used in the reflecting optical system is coated with a multilayer film which can obtain a high reflectance with respect to the wavelength of the laser beam to be irradiated. Thereby, the irradiation efficiency of the laser beam can be increased. Therefore, according to this configuration, an arbitrary number of laser beams having different wavelengths can be focused on the same focusing point by one reflection optical system.
【００１７】第１，２レーザービーム７，８を、図示し
ないレーザービーム源によって発生させる。各レーザー
ビームは集光点に集光するタイミングは、レーザービー
ム源によって制御することができ、同時あるいは所定の
時間間隔をあけて集光することができる。また、発生さ
せるレーザービームは、単一のパルス光を有するシング
ルパルス、または連続あるいは断続する複数のパルス列
を有するマルチパルスとすることができる。The first and second laser beams 7, 8 are generated by a laser beam source (not shown). The timing of condensing each laser beam at the converging point can be controlled by the laser beam source, and the laser beams can be condensed simultaneously or at predetermined time intervals. The laser beam to be generated can be a single pulse having a single pulse light or a multi-pulse having a plurality of continuous or intermittent pulse trains.
【００１８】図２は、本発明のＸ線発生装置のレーザー
ビームの照射態様を説明するための図である。図２
（ａ），（ｂ）はシングルパルスの例を示し、図２
（ｃ），（ｄ）はマルチパルスの例を示している。FIG. 2 is a view for explaining a laser beam irradiation mode of the X-ray generator of the present invention. FIG.
2A and 2B show examples of a single pulse, and FIG.
(C) and (d) show examples of multi-pulse.
【００１９】シングルパルスでは、第１レーザービーム
（波長λ1 ）と第２レーザービーム（波長λ2 ）とを、
図２（ａ）に示すように所定の時間間隔Ｔをあけて、あ
るい図２（ｂ）に示すように同時に照射することができ
る。In a single pulse, the first laser beam (wavelength λ 1 ) and the second laser beam (wavelength λ 2 )
Irradiation can be performed at predetermined time intervals T as shown in FIG. 2A, or simultaneously as shown in FIG. 2B.
【００２０】また、マルチパルスでは、連続あるいは断
続する任意の複数個のパルスによって第１レーザービー
ム（波長λ1 ）及び第２レーザービーム（波長λ2 ）を
形成し、図２（ｃ）に示すように所定の時間間隔Ｔをあ
けて、あるい図２（ｄ）に示すように同時に照射するこ
とができる。In the multi-pulse, a first laser beam (wavelength λ 1 ) and a second laser beam (wavelength λ 2 ) are formed by a plurality of continuous or intermittent pulses, as shown in FIG. Irradiation can be performed at predetermined time intervals T as described above, or simultaneously as shown in FIG.
【００２１】第１レーザービーム（波長λ1 ）と第２レ
ーザービーム（波長λ2 ）を時間間隔Ｔをあけて照射す
る場合、各波長がプラズマに寄与する特性によって、生
成するプラズマの密度と温度とを制御することができ
る。一般に、レーザービームによって生成されるプラズ
マの最大（臨界）密度と入射するレーザービームの波長
λとの間には、波長λの１／２乗の逆数に比例する関係
がある。したがって、短い波長ほど生成されるプラズマ
の密度は高くなる。また、生成されたプラズマは、入射
するレーザービームの波長が長いほど加熱の効率が高く
なる。When the first laser beam (wavelength λ 1 ) and the second laser beam (wavelength λ 2 ) are irradiated at a time interval T, the density and temperature of the generated plasma depend on the characteristics of each wavelength contributing to the plasma. And can be controlled. Generally, there is a relationship between the maximum (critical) density of the plasma generated by the laser beam and the wavelength λ of the incident laser beam, which is proportional to the reciprocal of the half power of the wavelength λ. Therefore, the shorter the wavelength, the higher the density of the generated plasma. The generated plasma has a higher heating efficiency as the wavelength of the incident laser beam is longer.
【００２２】そこで、はじめに短い波長のレーザービー
ムをプリパルスとして入射して高密度のプリプラズマを
生成させ、次に、長い波長のレーザービームをメインパ
ルスとして入射しする。これによって、先に生成したプ
リプラズマを効率よく加熱し、Ｘ線を発生させる。ＹＡ
Ｇレーザーの場合を例とすると、ＹＡＧレーザーの２倍
波である波長λ1 ＝５３２ｎｍと、ＹＡＧレーザーの基
本波である波長λ2 ＝１０６４ｎｍとの２波長のレーザ
ーパルスを用い、先に５３２ｎｍの波長のレーザーパル
スをターゲットに入射し、０．１〜１ｎｓの時間間隔を
あけて１０６４ｎｍの波長のレーザーパルスを入射す
る。Therefore, first, a laser beam having a short wavelength is incident as a pre-pulse to generate a high-density pre-plasma, and then a laser beam having a long wavelength is incident as a main pulse. Thereby, the pre-plasma generated earlier is efficiently heated to generate X-rays. YA
Taking the case of a G laser as an example, a laser pulse having two wavelengths, a wavelength λ 1 = 532 nm, which is a second harmonic of the YAG laser, and a wavelength λ 2 = 1064 nm, which is a fundamental wave of the YAG laser, is used. A laser pulse having a wavelength of 1064 nm is incident on a target at a time interval of 0.1 to 1 ns.
【００２３】従来行われているダブルパルス照射では、
同一波長のレーザーパルスを使用しており、例えば５３
２ｎｍの波長のレーザーパルスを用いる場合には、高密
度プラズマを発生させることができるが、１０６４ｎｍ
の波長のレーザーパルスと比較して十分な加熱が行われ
ないため、放射されるＸ線は１０Åより長波長側とな
る。In the conventional double pulse irradiation,
Laser pulses of the same wavelength are used.
When a laser pulse having a wavelength of 2 nm is used, high-density plasma can be generated.
Since sufficient heating is not performed as compared with a laser pulse having a wavelength of, the emitted X-rays are on the longer wavelength side than 10 °.
【００２４】なお、図１では、２つのレーザービームに
ついて示しているが、任意の個数のレーザービームを集
光させる構成とすることができる。Although two laser beams are shown in FIG. 1, an arbitrary number of laser beams may be condensed.
【００２５】また、第１レーザービーム（波長λ1 ）と
第２レーザービーム（波長λ2 ）を時間間隔Ｔをあけて
照射する場合、レーザービーム間の時間間隔によって、
発生するＸ線の波長領域を制御することができる。図３
は、本発明のＸ線発生装置のレーザービームの照射間隔
とＸ線の波長シフトを説明するための図である。When irradiating the first laser beam (wavelength λ 1 ) and the second laser beam (wavelength λ 2 ) at a time interval T, depending on the time interval between the laser beams,
The wavelength range of the generated X-rays can be controlled. FIG.
FIG. 3 is a diagram for explaining a laser beam irradiation interval and an X-ray wavelength shift of the X-ray generator of the present invention.
【００２６】図３（ａ），（ｂ）はレーザービームの照
射間隔を示し、図３（ｃ）はＸ線の波長シフトを示して
いる。第１レーザービーム（波長λ1 ）と第２レーザー
ビーム（波長λ2 ）を短い時間間隔Ｔa で照射した場合
と長い時間間隔Ｔb で照射した場合とでは、図３（ｃ）
に示すように発生するＸ線の波長領域（図では中心波長
をλa とλb で表している）が異なる。FIGS. 3A and 3B show laser beam irradiation intervals, and FIG. 3C shows X-ray wavelength shifts. FIG. 3C shows the case where the first laser beam (wavelength λ 1 ) and the second laser beam (wavelength λ 2 ) are irradiated at a short time interval T a and at a long time interval T b .
Wavelength region of X-rays generated as shown in (in the figure represents the center wavelength lambda a and lambda b) is different.
【００２７】そこで、照射するレーザービームの時間間
隔Ｔ（例えばＴa 及びＴb ）とＸ線の波長シフト（例え
ば中心波長λa 及びλb ）の関係をあらかじめ求めてお
き、時間間隔Ｔを制御することによって所望の波長領域
のＸ線を発生させることができる。[0027] Therefore, previously obtained in advance, the control time interval T the relationship between time interval T (e.g. T a and T b) and the wavelength shift of the X-ray of the laser beam (for example, the center wavelength lambda a and lambda b) irradiating By doing so, X-rays in a desired wavelength region can be generated.
【００２８】したがって、照射するレーザービームの波
長によってプラズマの密度及び温度を制御してＸ線の発
生条件を制御し、レーザービームの照射間隔によって発
生するＸ線の波長領域を制御することができる。Therefore, it is possible to control the X-ray generation conditions by controlling the density and temperature of the plasma by the wavelength of the laser beam to be irradiated, and to control the wavelength region of the generated X-rays by the laser beam irradiation interval.
【００２９】本発明のＸ線発生装置によれば、ターゲッ
トの同一点に複数の波長のレーザービームを集光させる
ことができるため、上記したプラズマの密度及び温度の
制御によるＸ線の発生条件の制御や、レーザービームの
照射間隔によるＸ線の波長領域の制御を、波長による集
光位置のずれで発生する制御特性の偏りを除去して効率
よく行うことができる。According to the X-ray generation apparatus of the present invention, since laser beams having a plurality of wavelengths can be focused on the same point of the target, the X-ray generation conditions by controlling the density and temperature of the plasma described above can be adjusted. The control and the control of the wavelength region of the X-rays by the laser beam irradiation interval can be efficiently performed by removing the bias of the control characteristic caused by the shift of the focusing position due to the wavelength.
【００３０】[0030]
【発明の効果】以上説明したように、本発明のＸ線発生
装置によれば、２波長以上のレーザービームを同一集光
点に照射することができる。As described above, according to the X-ray generator of the present invention, it is possible to irradiate a laser beam having two or more wavelengths to the same focal point.
【図１】本発明のＸ線発生装置の一構成を説明するため
の概略構成図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram for explaining one configuration of an X-ray generator according to the present invention.
【図２】本発明のＸ線発生装置のレーザービームの集光
を説明するための図である。FIG. 2 is a diagram for explaining focusing of a laser beam by the X-ray generator of the present invention.
【図３】本発明のＸ線発生装置のレーザービームの照射
間隔とＸ線の波長シフトを説明するための図である。FIG. 3 is a diagram for explaining a laser beam irradiation interval and an X-ray wavelength shift of the X-ray generator of the present invention.
【図４】従来のＸ線発生装置の概略構成図である。FIG. 4 is a schematic configuration diagram of a conventional X-ray generator.
【図５】複数のレンズ系を備えるＸ線発生装置の構成例
を示す図である。FIG. 5 is a diagram illustrating a configuration example of an X-ray generator including a plurality of lens systems.
１，１１，２１…Ｘ線発生装置、２…シュワルツシルド
光学系、３，１３，２３…ターゲット、４…ビームスプ
リッタ、５…ガラス窓、６…ガラス板、７，８，１７，
１８，２７，２８…レーザービーム、９，１９，２９…
Ｘ線、１２，２２…レンズ。1, 11, 21 X-ray generator, 2 Schwarzschild optical system, 3, 13, 23 target, 4 beam splitter, 5 glass window, 6 glass plate, 7, 8, 17,
18, 27, 28 ... laser beam, 9, 19, 29 ...
X-ray, 12,22 ... lens.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 広瀬 秀男 京都府京都市中京区西ノ京桑原町１番地 株式会社島津製作所内 Ｆターム(参考） 4C092 AA06 AA17 AB21 AB27 AC08 AC09 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Hideo Hirose 1F, Nishinokyo Kuwaharacho, Nakagyo-ku, Kyoto City, Kyoto Prefecture F-term in Shimadzu Corporation (reference) 4C092 AA06 AA17 AB21 AB27 AC08 AC09
Claims (1)
よってＸ線を発生するＸ線発生装置において、異なる波
長のレーザービームを同一集光点に集光させる目的の反
射光学系を備え、前記反射光学系によって２波長以上の
レーザービームを同一集光点に照射してＸ線を発生させ
る、Ｘ線発生装置。1. An X-ray generator for generating X-rays by plasma by irradiation of a laser beam, comprising: a reflection optical system for converging laser beams of different wavelengths to the same light-converging point; An X-ray generator that irradiates a laser beam of two or more wavelengths to the same focal point to generate X-rays.
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP10549999A JP2000299197A (en) | 1999-04-13 | 1999-04-13 | X-ray generator |
Applications Claiming Priority (1)
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| JP10549999A JP2000299197A (en) | 1999-04-13 | 1999-04-13 | X-ray generator |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000299197A true JP2000299197A (en) | 2000-10-24 |
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