JP2000298810A - Method and apparatus for adhesion of thin film magnetic head slider block - Google Patents
Method and apparatus for adhesion of thin film magnetic head slider blockInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ベースに塗布され
た接着剤の上に載置された薄い直方体状の薄膜磁気ヘッ
ドスライダブロックをベースに加圧して接着する薄膜磁
気ヘッドスライダブロックの接着方法および薄膜磁気ヘ
ッドスライダブロックの接着装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of bonding a thin film magnetic head slider block in which a thin rectangular parallelepiped thin film magnetic head slider block placed on an adhesive applied to a base is pressed and bonded to the base. The present invention also relates to a bonding apparatus for a thin film magnetic head slider block.
【0002】[0002]
【従来の技術】磁気ヘッドの製造工程において、複数個
の薄膜磁気ヘッド素子が一列に並ぶ細長く、かつ薄い直
方体状の薄膜磁気ヘッドスライダブロック(以下、単に
スライダブロックとも言う)を、ベースに接着する必要
がある。そして、このスライダブロックの接着では、後
のラップ工程のために、高い位置精度、すなわちスライ
ダブロックに含まれる複数の薄膜磁気ヘッド素子が一直
線状に並ぶようにベースに接着することが要求される。
この理由は、薄膜磁気ヘッド素子においては、図5に示
すその磁気抵抗素子50の磁気抵抗膜52の抵抗値が、
各ヘッドで一定である必要がある。しかし、磁気ヘッド
素子の薄膜製造工程において、この抵抗値を一定に作成
することは、困難である。このため、磁気ヘッド素子の
薄膜を形成した後、磁気抵抗膜52の高さ(幅)hを、
一定に加工して、抵抗値を一定に揃えるようにしている
からである。2. Description of the Related Art In a manufacturing process of a magnetic head, an elongated and thin rectangular parallelepiped thin film magnetic head slider block (hereinafter simply referred to as a slider block) in which a plurality of thin film magnetic head elements are arranged in a line is adhered to a base. There is a need. In the bonding of the slider block, a high positional accuracy, that is, bonding to the base such that a plurality of thin-film magnetic head elements included in the slider block are aligned in a straight line is required for the subsequent lapping process.
The reason is that in the thin-film magnetic head element, the resistance value of the magnetoresistive film 52 of the magnetoresistive element 50 shown in FIG.
It must be constant for each head. However, it is difficult to make this resistance constant in the thin film manufacturing process of the magnetic head element. For this reason, after forming the thin film of the magnetic head element, the height (width) h of the magnetoresistive film 52 is
This is because the resistance is processed to be constant so as to make the resistance value uniform.
【0003】まず、薄膜磁気ヘッド素子の製造工程の概
要について説明する。図6に示すように、ウエハ54
に、薄膜技術により、多数の薄膜磁気ヘッド素子を形成
する。次に、図7に示すように、ウエハ54をカットし
て、スライダブロック56を作成する。このスライダブ
ロック56とは、複数の薄膜磁気ヘッド素子58が1列
に並んで細長く薄い直方体状に形成されたものである。
磁気ヘッド素子58は、前述のように磁気抵抗膜52の
高さを一定にラップ加工する必要があるが、スライダブ
ロック56は、一般的に1ミリメートル以下と極めて薄
く(例えば、0.3ミリメートル程度)、これをラップ
加工治具に直接取り付けることが困難である。このた
め、図8に示すように、取り付け治具(ベース)60
に、スライダブロック56を熱溶融性ワックス等の接着
剤により接着する。First, an outline of a manufacturing process of a thin-film magnetic head element will be described. As shown in FIG.
Next, a number of thin-film magnetic head elements are formed by thin-film technology. Next, as shown in FIG. 7, the slider 54 is formed by cutting the wafer 54. The slider block 56 has a plurality of thin-film magnetic head elements 58 formed in a row and formed in an elongated and thin rectangular parallelepiped.
As described above, the magnetic head element 58 needs to be wrapped so that the height of the magnetoresistive film 52 is constant. However, the slider block 56 is generally extremely thin, for example, 1 mm or less (for example, about 0.3 mm). ), It is difficult to directly attach this to a lap processing jig. For this reason, as shown in FIG.
Then, the slider block 56 is bonded with an adhesive such as a hot-melt wax.
【0004】そして、スライダブロック56を、ラップ
定盤(不図示)の上に置いて、ラップ加工する。これに
より、磁気抵抗膜52の高さhを一定にする。その後、
スライダブロック56の下面にスライダーを形成する。
更に、ベース60に取り付けたまま、スライダブロック
56を各磁気ヘッド素子58にカットする。そして、ベ
ース60を加熱して、熱溶融性ワックスを溶かしなが
ら、各磁気ヘッド素子58を取り出す。Then, the slider block 56 is placed on a lapping plate (not shown) and lapping is performed. Thereby, the height h of the magnetoresistive film 52 is made constant. afterwards,
A slider is formed on the lower surface of the slider block 56.
Further, the slider block 56 is cut into each magnetic head element 58 while being attached to the base 60. Then, each magnetic head element 58 is taken out while heating the base 60 to melt the hot-melt wax.
【0005】しかしながら、多数の薄膜磁気ヘッド素子
58で構成されるスライダブロック56単位に、ラップ
加工するため、各薄膜磁気ヘッド素子58の磁気抵抗膜
52の高さhを一定に揃えるためには、スライダブロッ
ク56を、ベース60に、精度良く一直線状に接着する
必要がある。その直線性の精度には、サブミクロン単位
の精度が、要求される。However, in order to make the height h of the magnetoresistive film 52 of each thin-film magnetic head element 58 uniform in order to lap the slider block 56 composed of a large number of thin-film magnetic head elements 58, The slider block 56 must be accurately and linearly adhered to the base 60. For the accuracy of the linearity, an accuracy on the order of submicrons is required.
【0006】従来の接着方法は、図9や図10に示すよ
うに、ベース60のスライダブロック56の接着面62
と、スライダブロック56を加圧する加圧ヘッド64の
加圧面66とをできるだけ平坦に加工する。そして、接
着面62に接着されたスライダブロック56を加圧ヘッ
ド64で加圧して接着する際には接着面62と加圧面6
6とができるだけ平行になるようにする。これにより、
スライダブロック56に対する加圧ヘッド64からの圧
力がスライダブロック56の長手方向で均一になり、ス
ライダブロック56と接着面62との間に介装される接
着剤68の厚さが均一になってスライダブロック56が
精度良く一直線状に接着面62に接着される。なお、7
0は加圧ヘッド64の加圧面66に取り付けられた密着
用ゴムであり、均一な厚さに形成されている。As shown in FIGS. 9 and 10, a conventional bonding method uses a bonding surface 62 of a slider block 56 of a base 60.
And the pressing surface 66 of the pressing head 64 for pressing the slider block 56 are processed as flat as possible. When the slider block 56 bonded to the bonding surface 62 is bonded by pressing with the pressing head 64, the bonding surface 62 and the pressing surface 6
6 is as parallel as possible. This allows
The pressure from the pressure head 64 on the slider block 56 becomes uniform in the longitudinal direction of the slider block 56, and the thickness of the adhesive 68 interposed between the slider block 56 and the bonding surface 62 becomes uniform, so that the slider The block 56 is accurately and linearly bonded to the bonding surface 62 in a straight line. Note that 7
Numeral 0 denotes a rubber for close contact attached to the pressing surface 66 of the pressing head 64, which is formed to have a uniform thickness.
【0007】そして、スライダブロック56を接着した
後は、その後工程(反り測定工程)において図10に示
すように、スライダブロック56の各薄膜磁気ヘッド素
子58に予めマーキングされた凹凸検出マーカ72の基
準平面Aからの変位量(反り量)kを測定してスライダ
ブロック56の凹凸を検出する。そして、この測定され
た変位量kが予め設定された許容範囲内にある場合に
は、スライダブロック56のラップ加工に進むが、許容
範囲を越えている場合には、接着剤68を加熱して溶か
し、ベース60からスライダブロック56を外して再度
上述した接着工程を通してベース60に接着し直す処理
を、変位量kが許容範囲に入るまで繰り返し行ってい
た。After the slider block 56 is bonded, in the subsequent step (warpage measurement step), as shown in FIG. 10, the reference of the unevenness detection marker 72 previously marked on each thin-film magnetic head element 58 of the slider block 56 is obtained. The unevenness of the slider block 56 is detected by measuring the amount of displacement (warpage) k from the plane A. When the measured displacement amount k is within a predetermined allowable range, the process proceeds to lapping of the slider block 56. When the measured displacement amount k exceeds the allowable range, the adhesive 68 is heated and The process of melting, removing the slider block 56 from the base 60, and re-adhering the slider block 56 to the base 60 through the above-described bonding process was repeated until the displacement k became within the allowable range.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、反り測
定工程において許容範囲を越えたスライダブロック56
を接着剤68を溶かしてベース60から取り外し、再度
ベース60に接着し直す作業には手間がかかり、製造工
程も複雑になるという課題がある。However, the slider block 56 which has exceeded the allowable range in the warp measuring step is not used.
Dissolve the adhesive 68 from the base 60, remove it from the base 60, and reattach it to the base 60, which is troublesome, and has a problem that the manufacturing process is complicated.
【0009】そこで、本発明の目的は、薄膜磁気ヘッド
スライダブロックを構成する各薄膜磁気ヘッド素子の基
準平面からの変位量を許容範囲内に抑えてベースに接着
できる薄膜磁気ヘッドスライダブロックの接着方法と薄
膜磁気ヘッドスライダブロックの接着装置を提供するこ
とにある。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method of bonding a thin film magnetic head slider block capable of bonding a thin film magnetic head element constituting a thin film magnetic head slider block to a base while keeping a displacement from a reference plane within an allowable range. And a thin film magnetic head slider block bonding apparatus.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明に係る
請求項1記載の発明は、ベースに塗布された接着剤の上
に載置された直方体状の薄膜磁気ヘッドスライダブロッ
クを前記ベースに加圧して接着する薄膜磁気ヘッドスラ
イダブロックの接着方法において、前記薄膜磁気ヘッド
スライダブロックの長手方向に沿った凹凸を検出する凹
凸検出ステップと、該凹凸が予め決められた許容範囲内
となるように薄膜磁気ヘッドスライダブロックへの加圧
力を薄膜磁気ヘッドスライダブロックの長手方向で部分
的に変化させる加圧力変化ステップとを有することを特
徴とする。これによれば、薄膜磁気ヘッドスライダブロ
ックをベースに接着している最中に凹凸を検出し、凹凸
が少なくなるように薄膜磁気ヘッドスライダブロックへ
の加圧力を薄膜磁気ヘッドスライダブロックの長手方向
で部分的に変化させて薄膜磁気ヘッドスライダブロック
の凹凸を許容範囲内に抑えることができるため、接着剤
を溶かしてスライダブロックをベースから取り外し、再
度接着し直すという処理が不要になる。That is, according to the first aspect of the present invention, a rectangular parallelepiped thin-film magnetic head slider block mounted on an adhesive applied to a base is added to the base. A method for adhering a thin film magnetic head slider block to be pressed and adhered, comprising: an irregularity detecting step of detecting irregularities along a longitudinal direction of the thin film magnetic head slider block; and a thin film so that the irregularities fall within a predetermined allowable range. And a pressure changing step of partially changing the pressure applied to the magnetic head slider block in the longitudinal direction of the thin film magnetic head slider block. According to this, unevenness is detected while the thin-film magnetic head slider block is adhered to the base, and the pressing force on the thin-film magnetic head slider block is reduced in the longitudinal direction of the thin-film magnetic head slider block so that the unevenness is reduced. Since the unevenness of the thin-film magnetic head slider block can be suppressed within an allowable range by partially changing the slider block, it is not necessary to dissolve the adhesive, remove the slider block from the base, and re-attach the slider block.
【0011】また、前記凹凸検出ステップでは、具体的
には、前記薄膜磁気ヘッドスライダブロックに予めマー
キングされた凹凸検出マーカの基準平面からの変位量を
測定して前記凹凸を検出する。In the step of detecting unevenness, specifically, the amount of displacement of an unevenness detection marker previously marked on the thin-film magnetic head slider block from a reference plane is measured to detect the unevenness.
【0012】また、本発明に係る請求項3記載の発明
は、ベースに塗布された接着剤の上に載置された直方体
状の薄膜磁気ヘッドスライダブロックを前記ベースに加
圧して接着する薄膜磁気ヘッドスライダブロックの接着
装置において、前記薄膜磁気ヘッドスライダブロックの
長手方向に沿った凹凸を検出する凹凸検出手段と、前記
薄膜磁気ヘッドスライダブロックへの加圧力を薄膜磁気
ヘッドスライダブロックの長手方向で部分的に変化させ
る加圧手段と、前記凹凸検出手段からの凹凸情報に基づ
いて前記加圧手段を制御し、前記凹凸が予め決められた
許容範囲内となるように前記薄膜磁気ヘッドスライダブ
ロックへの加圧力を薄膜磁気ヘッドスライダブロックの
長手方向で部分的に変化させる制御手段とを具備するこ
とを特徴とする。According to a third aspect of the present invention, there is provided a thin-film magnetic head comprising: a rectangular parallelepiped thin-film magnetic head slider block mounted on an adhesive applied to a base; In a head slider block bonding apparatus, an unevenness detecting means for detecting unevenness along a longitudinal direction of the thin-film magnetic head slider block, and a pressing force applied to the thin-film magnetic head slider block in a longitudinal direction of the thin-film magnetic head slider block. Pressure means, and the pressure means is controlled based on the unevenness information from the unevenness detecting means, and the thin film magnetic head slider block is controlled so that the unevenness is within a predetermined allowable range. Control means for partially changing the pressing force in the longitudinal direction of the thin film magnetic head slider block.
【0013】具体的には、前記凹凸検出手段は、前記薄
膜磁気ヘッドスライダブロックが載置された前記ベース
に対して前記基準平面と平行に相対移動可能であり、相
対的に移動する前記薄膜磁気ヘッドスライダブロックに
予めマーキングされた凹凸検出マーカの基準平面からの
変位量を測定して前記凹凸を検出する。Specifically, the unevenness detecting means is movable relative to the base on which the thin-film magnetic head slider block is mounted in parallel with the reference plane, and moves relative to the base plane. The unevenness is detected by measuring the amount of displacement of the unevenness detection marker previously marked on the head slider block from the reference plane.
【0014】また、前記加圧手段は、前記薄膜磁気ヘッ
ドスライダブロックに面接触する加圧ヘッドを有し、該
加圧ヘッドには、その加圧面の形状を薄膜磁気ヘッドス
ライダブロックの長手方向に沿って部分的に凹凸させる
凹凸機構を設ける。The pressure means has a pressure head in surface contact with the thin film magnetic head slider block, and the pressure head has a shape of a pressure surface in a longitudinal direction of the thin film magnetic head slider block. An uneven mechanism is provided to partially uneven the surface.
【0015】[0015]
【発明の実施の形態】以下、本発明にかかる薄膜磁気ヘ
ッドスライダブロック(スライダブロック)の接着装置
について添付図面を用いて詳細に説明する。また、スラ
イダブロックの接着装置の動作と合わせて接着方法につ
いて説明する。なお、従来と同じ構成については同じ符
号を付し、詳細な説明は省略する。まず、スライダブロ
ックの接着装置および接着方法の基本的な考え方につい
て説明する。本願の接着方法の特徴点は、スライダブロ
ック56のベース60への接着工程中において、ベース
60に塗布された接着剤68を硬化させるステップの前
に、加圧ヘッド64によって加圧されているスライダブ
ロック56の長手方向に沿った凹凸を検出する凹凸検出
ステップと、検出された凹凸が予め決められた許容範囲
内となるようにスライダブロック56への加圧力(図1
ではFで示す)をスライダブロック56の長手方向で部
分的に変化させる加圧力変化ステップとを設けて、スラ
イダブロック56の凹凸をリアルタイムで修正し、その
後接着剤68を硬化させて接着させるようにした点にあ
る。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A thin film magnetic head slider block (slider block) bonding apparatus according to the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. The bonding method will be described together with the operation of the slider block bonding apparatus. The same components as those in the related art are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted. First, a basic concept of a slider block bonding apparatus and a bonding method will be described. A feature of the bonding method of the present application is that, during the bonding process of the slider block 56 to the base 60, the slider pressed by the pressing head 64 before the step of curing the adhesive 68 applied to the base 60. An unevenness detecting step of detecting unevenness along the longitudinal direction of the block 56, and a pressing force applied to the slider block 56 so that the detected unevenness is within a predetermined allowable range (FIG. 1).
(Indicated by F in FIG. 2) is provided so that the unevenness of the slider block 56 is corrected in real time, and then the adhesive 68 is cured and adhered. It is in the point which did.
【0016】詳細には、前述の凹凸検出ステップでは、
図10に示すようにスライダブロック56に予めマーキ
ングされた凹凸検出マーカ72の基準平面Aからの変位
量kを測定することによってスライダブロック56の基
準平面Aに対する凹凸を検出する。そして、加圧力変化
ステップでは、スライダブロック56に加わる圧力(加
圧力)をその長手方向に沿って部分的に変化させ、接着
剤68の厚さを変えることによって、凹凸が許容範囲内
となるようにする。More specifically, in the above-mentioned unevenness detecting step,
As shown in FIG. 10, the unevenness of the slider block 56 with respect to the reference plane A is detected by measuring the displacement amount k of the unevenness detection marker 72 previously marked on the slider block 56 from the reference plane A. In the pressing force changing step, the pressure (pressing force) applied to the slider block 56 is partially changed along the longitudinal direction, and the thickness of the adhesive 68 is changed so that the unevenness is within an allowable range. To
【0017】例えば、図2に示すように、凸状態にある
と判断されたスライダブロック56の領域(一例として
中央部分)ではスライダブロック56への加圧力Fを増
やしてスライダブロック56とベース60の接着面62
との間に介在する接着剤68の厚さを減少させて適当な
量だけ凹ませる。一方、凹状態にあると判断された部分
(一例として両端部分)では逆にスライダブロック56
への加圧力を減らす。これにより、より加圧力が大きな
凹部分の両側から凹部分に接着剤68が移動して来てス
ライダブロック56とベース60の接着面62との間に
介在する接着剤68の厚さが増加し、凹状態が緩和され
る。なお、スライダブロック56の凸状態にある部分へ
の圧力を増加させることによって、その長手方向に沿っ
た両側へ凸状態にある部分とベース60の接着面62と
の間にある接着剤68が移動するから、凹状態にある部
分への加圧力を積極的に減らさなくても良い場合もあ
る。For example, as shown in FIG. 2, in the region of the slider block 56 which is determined to be in a convex state (for example, in the center portion), the pressing force F applied to the slider block 56 is increased so that the slider block 56 and the base 60 Bonding surface 62
The thickness of the adhesive 68 interposed therebetween is reduced to be depressed by an appropriate amount. On the other hand, in the portion determined to be in the concave state (for example, both end portions), the slider block 56
Reduce the pressure applied to As a result, the adhesive 68 moves from both sides of the concave portion where the pressing force is larger to the concave portion, and the thickness of the adhesive 68 interposed between the slider block 56 and the adhesive surface 62 of the base 60 increases. , The concave state is alleviated. By increasing the pressure on the protruding portion of the slider block 56, the adhesive 68 between the protruding portion on both sides along the longitudinal direction and the bonding surface 62 of the base 60 moves. Therefore, in some cases, it is not necessary to positively reduce the pressure applied to the concave portion.
【0018】これによれば、接着剤68が硬化する前
に、スライダブロック56に生じた凹凸を全体的に緩和
して許容範囲内にすることができるため、従来のように
接着工程を終了した後にスライダブロック56の反りを
測定する工程も省けると共に、この反り測定工程におい
て不良と判断されたスライダブロック56を接着剤68
を溶融して取り外し、再度接着するといった修正工程も
不要となる。According to this, before the adhesive 68 is hardened, the unevenness generated on the slider block 56 can be alleviated to be within an allowable range, so that the bonding process is completed as in the conventional case. A step of measuring the warpage of the slider block 56 later can be omitted, and the slider block 56 determined to be defective in the warp measuring step can be replaced with an adhesive 68.
It is no longer necessary to perform a repairing process such as melting, removing, and bonding again.
【0019】次に、薄膜磁気ヘッドスライダブロックの
接着装置10について図3と図4を用いて説明する。ま
ず、構成について説明する。なお、従来例で説明した構
成と同じ構成については同じ符号を付し、詳細な説明は
省略する。スライダブロック56が接着されるベース6
0の接着面62は平坦に形成されており、接着剤(例え
ば熱溶融性ワックス)62が塗布される。加圧ヘッド6
4は、スライダブロック56と面接触する加圧面66は
ベース60の接着面62と平行な平坦面に形成されてい
る。そして加圧面66には密着用ゴム70が取り付けら
れている。加圧ヘッド64にはスライダブロック56に
対する加圧力を調整するための重り12が取り付けられ
ている。Next, the thin film magnetic head slider block bonding apparatus 10 will be described with reference to FIGS. 3 and 4. FIG. First, the configuration will be described. Note that the same components as those described in the conventional example are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted. Base 6 to which slider block 56 is adhered
The adhesive surface 62 of No. 0 is formed flat, and an adhesive (for example, a hot-melt wax) 62 is applied. Pressure head 6
4, the pressing surface 66 that makes surface contact with the slider block 56 is formed as a flat surface parallel to the bonding surface 62 of the base 60. A rubber 70 for adhesion is attached to the pressing surface 66. The pressure head 64 is provided with a weight 12 for adjusting a pressing force applied to the slider block 56.
【0020】加圧ヘッド64は加圧ヘッド移動機構14
によって、スライダブロック56が接着されたベース6
0に対して接離動(上下動)される。本実施の形態の加
圧ヘッド移動機構14は、加圧ヘッド64の加圧面66
がスライダブロック56の上面に接触するように加圧ヘ
ッド64を移動させた後には、加圧ヘッド64が上下方
向に沿ってフリーに移動自在、かつ傾倒不能に支持す
る。よって、加圧ヘッド64からスライダブロック56
に加わる圧力は、重り12と加圧ヘッド64の自重によ
って決定される。凹凸検出手段16は、ベース60に載
置されたスライダブロック56の側方に配置され、スラ
イダブロック56の長手方向に沿って(詳細には基準平
面に沿って)移動自在に支持された凹凸検出センサ18
と、凹凸検出センサ18をスライダブロック56の長手
方向に沿って移動させる凹凸検出センサ移動機構20と
から構成される。そして、凹凸検出手段16は、ベース
60に対して基準平面と平行に相対移動可能であり、相
対的に移動するスライダブロック56に予めマーキング
された凹凸検出マーカ72の基準平面からの変位量k
(凹凸情報)を測定して凹凸を検出する。なお、凹凸検
出センサ18は非接触センサが好ましく、例えばフォト
センサやCCDセンサ等の光センサが考えられる。The pressure head 64 is a pressure head moving mechanism 14
The base 6 to which the slider block 56 is bonded
It is moved toward and away from (0 up and down). The pressure head moving mechanism 14 according to the present embodiment includes a pressure surface 66 of the pressure head 64.
After the pressure head 64 is moved so that the pressure head comes into contact with the upper surface of the slider block 56, the pressure head 64 is freely movable along the vertical direction and supported so as not to tilt. Therefore, the slider block 56 is moved from the pressure head 64 to the slider block 56.
Is determined by the weight of the weight 12 and the pressure head 64. The unevenness detecting means 16 is arranged on the side of the slider block 56 mounted on the base 60, and is movably supported along the longitudinal direction of the slider block 56 (specifically, along the reference plane). Sensor 18
And an unevenness detection sensor moving mechanism 20 that moves the unevenness detection sensor 18 along the longitudinal direction of the slider block 56. The unevenness detecting means 16 is movable relative to the base 60 in parallel with the reference plane, and the displacement k of the unevenness detection marker 72 previously marked on the slider block 56 which moves relatively from the reference plane.
(Unevenness information) is measured to detect unevenness. The unevenness detecting sensor 18 is preferably a non-contact sensor, for example, an optical sensor such as a photo sensor or a CCD sensor.
【0021】加圧ヘッド64には、スライダブロック5
6への加圧力をスライダブロック56の長手方向で部分
的に変化させることができる凹凸機構22が設けられて
いる。この凹凸機構22の具体的な構成について説明す
る。まず、加圧ヘッド64の加圧面66側には、この加
圧面66に沿って加圧面66方向に延びるスリット24
を所定間隔で複数形成する。そして凹凸機構22は、加
圧ヘッド64の、各スリット24と加圧面66との間の
領域で構成される複数の肉薄部26と、複数の肉薄部2
6の各々を独立して湾曲させるアクチュエータ28とで
構成される。アクチュエータ28は肉薄部26の中央部
分を加圧ヘッド64の他の部分を支点として上下方向へ
移動させるものである。これにより、各肉薄部26がそ
れぞれ独立して加圧ヘッド64の外部方向(下方向)や
加圧ヘッド64の内部方向(上方向)へ湾曲して、加圧
ヘッド64の加圧面66の形状をスライダブロック56
の長手方向に沿って部分的に凹凸させることができる。The pressure head 64 includes a slider block 5
An uneven mechanism 22 capable of partially changing the pressure applied to the slider block 6 in the longitudinal direction of the slider block 56 is provided. A specific configuration of the concavo-convex mechanism 22 will be described. First, a slit 24 extending in the direction of the pressing surface 66 along the pressing surface 66 is provided on the pressing surface 66 side of the pressing head 64.
Are formed at predetermined intervals. The concavo-convex mechanism 22 includes a plurality of thin portions 26 formed in a region between each slit 24 and the pressing surface 66 of the pressing head 64 and a plurality of thin portions 2.
6 and an actuator 28 that bends each independently. The actuator 28 moves the central portion of the thin portion 26 in the vertical direction with the other portion of the pressure head 64 as a fulcrum. As a result, each thin portion 26 is independently bent outward (downward) of the pressure head 64 or inward (upward) of the pressure head 64 to form the pressure surface 66 of the pressure head 64. The slider block 56
Can be partially uneven along the longitudinal direction.
【0022】そして、肉薄部26が加圧ヘッド64の外
部方向(下方向)へ湾曲して加圧ヘッド64の加圧面6
6に部分的に凸部分が形成された場合には、この凸部分
でのスライダブロック56に対する加圧力が他の部分よ
りも増加する。これによって、この凸部分と接触するス
ライダブロック56の部位とベース60の接着面62と
の間に介在する接着剤68がスライダブロック56の長
手方向に沿った両側に逃げ、凸部分と接触するスライダ
ブロック56の部位が凹む。逆に、肉薄部26が加圧ヘ
ッド64の内部方向(上方向)へ湾曲して加圧ヘッド6
4の加圧面66に部分的に凹部分が形成された場合に
は、この凹部分でのスライダブロック56に対する加圧
力が他の部分よりも減少する。これによって、この凹部
分と接触するスライダブロック56の部位とベース60
の接着面62との間に、両側から接着剤68が移動し、
凹部分と接触するスライダブロック56の部位が突出す
る。なお、この肉薄部26の中央部分のアクチュエータ
28による移動量は、つまり湾曲する部分の頂部の変位
量は、通常ミクロン単位であるため、加圧ヘッド64の
加圧面66全体がスライダブロック56と密着する関係
は維持される。Then, the thin portion 26 is bent outward (downward) of the pressure head 64 to form the pressure surface 6 of the pressure head 64.
In the case where a convex portion is partially formed on the slider 6, the pressing force on the slider block 56 at the convex portion is larger than that of the other portions. As a result, the adhesive 68 interposed between the portion of the slider block 56 that contacts the convex portion and the bonding surface 62 of the base 60 escapes to both sides along the longitudinal direction of the slider block 56, and the slider that contacts the convex portion The part of the block 56 is dented. Conversely, the thin portion 26 curves inward (upward) of the pressure head 64 and
In the case where a concave portion is formed partially on the pressing surface 66 of No. 4, the pressing force on the slider block 56 at the concave portion is smaller than that of the other portions. As a result, the portion of the slider block 56 that comes into contact with the concave portion and the base 60
The adhesive 68 moves from both sides between the adhesive surface 62 and
The portion of the slider block 56 that comes into contact with the concave portion protrudes. The amount of movement of the central portion of the thin portion 26 by the actuator 28, that is, the amount of displacement of the top of the curved portion is usually in the order of microns, so that the entire pressure surface 66 of the pressure head 64 is in close contact with the slider block 56. Relationship is maintained.
【0023】制御手段30はコンピュータやシーケンサ
を用いて構成され、凹凸検出手段16からの凹凸情報に
基づいて、加圧手段、すなわち凹凸機構22の各アクチ
ュエータ28を制御し、スライダブロック56の凹凸が
予め決められた許容範囲内となるように肉薄部26を湾
曲させてスライダブロック56への加圧力をスライダブ
ロック56の長手方向で部分的に変化させる。なお、図
3に示す上述した薄膜磁気ヘッドスライダブロックの接
着装置10には、図示はしないが、ベース60の接着面
62に接着剤68を塗布する機構や、ベース60の接着
面62にスライダブロック56を載置する機構や、スラ
イダブロック56を加圧した状態で接着剤68を硬化さ
せるための冷却機構等の公知の機構が設けられている。The control means 30 is constituted by using a computer or a sequencer, and controls the pressing means, that is, each actuator 28 of the concavo-convex mechanism 22 based on the concavo-convex information from the concavo-convex detecting means 16. The pressure applied to the slider block 56 is partially changed in the longitudinal direction of the slider block 56 by curving the thin portion 26 so as to fall within a predetermined allowable range. Although not shown, the thin film magnetic head slider block bonding apparatus 10 shown in FIG. 3 has a mechanism for applying an adhesive 68 to the bonding surface 62 of the base 60 and a slider block A known mechanism such as a mechanism for mounting the 56 and a cooling mechanism for hardening the adhesive 68 while the slider block 56 is pressed is provided.
【0024】続いて、薄膜磁気ヘッドスライダブロック
の接着装置10の動作について図4を用いて説明する。
まず、制御手段30は、接着剤塗布機構を作動させて、
ベース60の接着面62に接着剤68を自動的に塗布す
る(ステップ100)。なお、この接着剤の塗布は手作
業で行うこともあり、この場合には接着剤塗布機構は不
要となる。次に、制御手段30は、ベース60に固定す
べきスライダブロック56を、スライダブロック載置機
構を作動させて、ベース60の接着面62に塗布された
接着剤68の上に載置する(ステップ102)。なお、
このスライダブロック56の載置作業は手作業で行うこ
ともあり、この場合にはスライダブロック載置機構は不
要である。Next, the operation of the thin film magnetic head slider block bonding apparatus 10 will be described with reference to FIG.
First, the control means 30 operates the adhesive application mechanism,
An adhesive 68 is automatically applied to the adhesive surface 62 of the base 60 (step 100). The application of the adhesive may be performed manually, and in this case, the adhesive application mechanism is not required. Next, the control means 30 places the slider block 56 to be fixed to the base 60 on the adhesive 68 applied to the bonding surface 62 of the base 60 by operating the slider block mounting mechanism (step). 102). In addition,
The mounting operation of the slider block 56 may be performed manually, and in this case, the slider block mounting mechanism is unnecessary.
【0025】次に、制御手段30は、加圧ヘッド移動機
構14を作動させて、加圧ヘッド移動機構14で保持さ
れた加圧ヘッド64を、その加圧面66がスライダブロ
ック56と密着するようにスライダブロック56上に移
動させる(ステップ104)。加圧ヘッド64がスライ
ダブロック56と密着した後には、加圧ヘッド64が上
下方向に対してはフリーに移動できる状態にする(ステ
ップ106)。これにより、加圧ヘッド64の自重と重
り12の重さで規定される加圧力がスライダブロック5
6に加わる。Next, the control means 30 operates the pressure head moving mechanism 14 so that the pressure head 64 held by the pressure head moving mechanism 14 is brought into close contact with the pressure surface 66 with the slider block 56. Is moved onto the slider block 56 (step 104). After the pressure head 64 comes into close contact with the slider block 56, the pressure head 64 is free to move vertically (step 106). As a result, the pressing force defined by the own weight of the pressure head 64 and the weight of the weight 12
Join 6
【0026】次に、制御手段30は、スライダブロック
56全体に対する凹凸検出が終了したか否かを、例えば
凹凸検出センサ18の移動量などに基づいてチェックし
ながら(ステップ108)、凹凸検出センサ移動機構2
0を作動させて、凹凸検出センサ18をスライダブロッ
ク56の長手方向に沿って移動させる。そして、凹凸検
出センサ18からの凹凸情報、すなわちスライダブロッ
ク56の各磁気ヘッド素子58に予めマーキングされた
凹凸検出マーカ72の基準平面からの変位量kを検出し
ていく(ステップ110)。そして、検出された変位量
kが予め設定された許容範囲内にあるかどうかをチェッ
クすることによって、スライダブロック56に修正すべ
き凹凸が存在するか否かを判断する(ステップ11
2)。変位量kが許容範囲を越える場合には修正すべき
凹凸が存在すると判断する。Next, the control means 30 checks whether or not the unevenness detection for the entire slider block 56 has been completed based on, for example, the amount of movement of the unevenness detection sensor 18 (step 108). Mechanism 2
By operating 0, the unevenness detecting sensor 18 is moved along the longitudinal direction of the slider block 56. Then, the unevenness information from the unevenness detection sensor 18, that is, the displacement amount k of the unevenness detection marker 72 previously marked on each magnetic head element 58 of the slider block 56 from the reference plane is detected (step 110). Then, by checking whether or not the detected displacement amount k is within a preset allowable range, it is determined whether or not the slider block 56 has unevenness to be corrected (step 11).
2). If the displacement k exceeds the allowable range, it is determined that there is unevenness to be corrected.
【0027】そして、修正すべき凹凸がスライダブロッ
ク56にある場合には、凹凸が生じたスライダブロック
56の部位を加圧する肉薄部26のアクチュエータ28
を凹凸の状況に応じて作動させ、肉薄部26を加圧ヘッ
ド64の外方若しくは内方へ湾曲させることによって凹
凸が生じたスライダブロック56の部位に加える圧力を
変化させる。これにより、凹凸が生じたスライダブロッ
ク56の部位とベース60の接着面62との間の接着剤
68の厚さが変わって、スライダブロック56の凹凸を
修正することができる(ステップ114)。When the unevenness to be corrected is present in the slider block 56, the actuator 28 of the thin portion 26 which presses the portion of the slider block 56 where the unevenness is generated.
Is actuated in accordance with the condition of the unevenness, and the pressure applied to the portion of the slider block 56 where the unevenness is generated by changing the thin portion 26 outward or inward of the pressure head 64 is changed. As a result, the thickness of the adhesive 68 between the portion of the slider block 56 where the unevenness has occurred and the adhesive surface 62 of the base 60 changes, and the unevenness of the slider block 56 can be corrected (step 114).
【0028】以上、ステップ108〜ステップ114を
繰り返す。そして、ステップ108において、スライダ
ブロック56の全域に対する凹凸検出が完了したと判断
した場合には、この繰り返しループを抜けてステップ1
16に移行し、制御手段30は冷却機構を作動させて、
接着剤68を硬化させる。これによりスライダブロック
56は凹凸が修正されてベース60に接着される。最後
に、制御手段30は、加圧ヘッド移動機構14を作動さ
せて加圧ヘッド64をスライダブロック56から引き離
し(ステップ118)、接着工程を終了する。Steps 108 to 114 are repeated as described above. If it is determined in step 108 that the unevenness detection has been completed for the entire area of the slider block 56, the process exits this repetitive loop and proceeds to step 1
Then, the control means 30 activates the cooling mechanism,
The adhesive 68 is cured. Thereby, the slider block 56 is bonded to the base 60 with the irregularities corrected. Finally, the control means 30 operates the pressure head moving mechanism 14 to separate the pressure head 64 from the slider block 56 (step 118), and ends the bonding process.
【0029】以上、本発明を実施の形態により説明した
が、本発明は上述の実施の形態に限定されるのではな
く、本発明の主旨の範囲内で種々の変形が可能であるこ
とはもちろんである。Although the present invention has been described with reference to the embodiment, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made within the scope of the present invention. It is.
【0030】[0030]
【発明の効果】本発明によれば、薄膜磁気ヘッドスライ
ダブロックをベースに接着している最中に、つまり接着
剤が硬化する前に、薄膜磁気ヘッドスライダブロックの
長手方向に沿った凹凸を検出し、凹凸が少なくなるよう
に薄膜磁気ヘッドスライダブロックへの加圧力を薄膜磁
気ヘッドスライダブロックの長手方向で部分的に変化さ
せて薄膜磁気ヘッドスライダブロックの凹凸を許容範囲
内に抑えることを自動的に行えるため、従来のように薄
膜磁気ヘッドスライダブロックを完全に接着した後に薄
膜磁気ヘッドスライダブロックの直線性(反り)を測定
し、許容範囲以上にあるものについては、接着剤を溶か
して薄膜磁気ヘッドスライダブロックをベースから取り
外し、再度接着し直すという不具合品の再処理が不要に
なる。よって、工程が単純化されて、接着作業がスムー
ズに行われるようになると共に、原理的には再処理の必
要がなくなるから、一つの薄膜磁気ヘッドスライダブロ
ックを接着するに必要な時間が短縮でき、接着作業の効
率が向上するという効果がある。According to the present invention, irregularities along the longitudinal direction of the thin-film magnetic head slider block are detected while the thin-film magnetic head slider block is being adhered to the base, that is, before the adhesive is cured. Then, the pressure on the thin-film magnetic head slider block is partially changed in the longitudinal direction of the thin-film magnetic head slider block so that the unevenness of the thin-film magnetic head slider block is automatically reduced to an allowable range. The linearity (warpage) of the thin-film magnetic head slider block is measured after the thin-film magnetic head slider block is completely bonded as in the past, and if the slider block is out of the allowable range, the adhesive is melted to dissolve the thin-film magnetic head slider block. It is not necessary to remove the head slider block from the base and re-attach the head slider block to rework defective products. Therefore, the process is simplified, the bonding operation is performed smoothly, and the reprocessing is not required in principle, so that the time required for bonding one thin-film magnetic head slider block can be reduced. This has the effect of increasing the efficiency of the bonding operation.
【図1】本発明にかかる薄膜磁気ヘッドスライダブロッ
クの接着方法を説明するための説明図である。FIG. 1 is an explanatory diagram for explaining a method of bonding a thin film magnetic head slider block according to the present invention.
【図2】図1のスライダブロックの長手方向に沿った反
りkと加圧力Fとの関係を説明するためのグラフであ
る。FIG. 2 is a graph for explaining a relationship between a warp k along a longitudinal direction of a slider block of FIG. 1 and a pressing force F;
【図3】本発明にかかる薄膜磁気ヘッドスライダブロッ
クの接着装置の一実施の形態の構成を示すブロック図で
ある。FIG. 3 is a block diagram showing a configuration of an embodiment of an apparatus for bonding a thin film magnetic head slider block according to the present invention.
【図4】図3の接着装置の動作を説明するためのフロー
チャートである。FIG. 4 is a flowchart for explaining the operation of the bonding device of FIG. 3;
【図5】磁気抵抗素子の構造を示す説明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram illustrating a structure of a magnetoresistive element.
【図6】ウエハに、複数の薄膜磁気ヘッドスライダブロ
ックを形成した状態を示す平面図である。FIG. 6 is a plan view showing a state in which a plurality of thin film magnetic head slider blocks are formed on a wafer.
【図7】図6のウエハをカットして、複数の薄膜磁気ヘ
ッド素子が1列に並んで細長く薄い直方体状に形成され
たスライダブロックを作成した状態を示す説明図であ
る。FIG. 7 is an explanatory view showing a state in which the wafer of FIG. 6 is cut to form a slider block in which a plurality of thin-film magnetic head elements are arranged in a line and formed in an elongated and thin rectangular parallelepiped.
【図8】取り付け治具(ベース)へのスライダブロック
の、熱溶融性ワックス等の接着剤を用いた接着作業を説
明する説明図である。FIG. 8 is an explanatory diagram illustrating an operation of bonding a slider block to a mounting jig (base) using an adhesive such as hot-melt wax;
【図9】ベースの接着面に載置されたスライダブロック
を、加圧ヘッドを用いて加圧する状態を示す説明図であ
る。FIG. 9 is an explanatory diagram showing a state in which a slider block mounted on an adhesive surface of a base is pressed using a pressing head.
【図10】図9の要部拡大図である。FIG. 10 is an enlarged view of a main part of FIG. 9;
10 薄膜磁気ヘッドスライダブロックの接着装置 16 凹凸検出手段 18 凹凸検出センサ 20 凹凸検出センサ移動機構 22 凹凸機構 26 肉薄部 28 アクチュエータ 30 制御手段 56 スライダブロック 60 ベース 64 加圧ヘッド 68 接着剤 72 凹凸検出マーカ DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Adhesion device of thin film magnetic head slider block 16 Unevenness detection means 18 Unevenness detection sensor 20 Unevenness detection sensor moving mechanism 22 Unevenness mechanism 26 Thin part 28 Actuator 30 Control means 56 Slider block 60 Base 64 Pressure head 68 Adhesive 72 Unevenness detection marker
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 柳田 芳明 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 (72)発明者 本間 勉 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 Fターム(参考) 5D033 BB14 DA21 DA31 5D034 BA30 DA07 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Yoshiaki Yanagita 4-1-1, Kamiodanaka, Nakahara-ku, Kawasaki City, Kanagawa Prefecture Inside Fujitsu Limited (72) Inventor Tsutomu Homma 4-1-1, Kamiodanaka, Nakahara-ku, Kawasaki City, Kanagawa Prefecture No. 1 Fujitsu Limited F term (reference) 5D033 BB14 DA21 DA31 5D034 BA30 DA07
Claims (5)
れた直方体状の薄膜磁気ヘッドスライダブロックを前記
ベースに加圧して接着する薄膜磁気ヘッドスライダブロ
ックの接着方法において、 前記薄膜磁気ヘッドスライダブロックの長手方向に沿っ
た凹凸を検出する凹凸検出ステップと、 該凹凸が予め決められた許容範囲内となるように薄膜磁
気ヘッドスライダブロックへの加圧力を薄膜磁気ヘッド
スライダブロックの長手方向で部分的に変化させる加圧
力変化ステップとを有することを特徴とする薄膜磁気ヘ
ッドスライダブロックの接着方法。1. A method of bonding a thin film magnetic head slider block, wherein a rectangular parallelepiped thin film magnetic head slider block mounted on an adhesive applied to a base is bonded to the base by pressing the thin film magnetic head slider block. An unevenness detecting step of detecting unevenness along the longitudinal direction of the slider block; and applying a pressure to the thin film magnetic head slider block in the longitudinal direction of the thin film magnetic head slider block so that the unevenness is within a predetermined allowable range. And a step of changing the pressing force to partially change the slider block.
気ヘッドスライダブロックに予めマーキングされた凹凸
検出マーカの基準平面からの変位量を測定して前記凹凸
を検出することを特徴とする請求項1記載の薄膜磁気ヘ
ッドスライダブロックの接着方法。2. The method according to claim 1, wherein in the step of detecting irregularities, the amount of displacement of an irregularity detection marker previously marked on the thin-film magnetic head slider block from a reference plane is measured to detect the irregularities. Method of bonding thin film magnetic head slider block.
れた直方体状の薄膜磁気ヘッドスライダブロックを前記
ベースに加圧して接着する薄膜磁気ヘッドスライダブロ
ックの接着装置において、 前記薄膜磁気ヘッドスライダブロックの長手方向に沿っ
た凹凸を検出する凹凸検出手段と、 前記薄膜磁気ヘッドスライダブロックへの加圧力を薄膜
磁気ヘッドスライダブロックの長手方向で部分的に変化
させる加圧手段と、 前記凹凸検出手段からの凹凸情報に基づいて前記加圧手
段を制御し、前記凹凸が予め決められた許容範囲内とな
るように前記薄膜磁気ヘッドスライダブロックへの加圧
力を薄膜磁気ヘッドスライダブロックの長手方向で部分
的に変化させる制御手段とを具備することを特徴とする
薄膜磁気ヘッドスライダブロックの接着装置。3. A thin-film magnetic head slider block bonding apparatus for bonding a thin-film magnetic head slider block having a rectangular parallelepiped shape mounted on an adhesive applied to a base to the base by pressing the thin-film magnetic head slider block. Unevenness detecting means for detecting unevenness along the longitudinal direction of the slider block; pressurizing means for partially changing the pressure applied to the thin-film magnetic head slider block in the longitudinal direction of the thin-film magnetic head slider block; The pressurizing means is controlled based on the unevenness information from the means, and the pressing force on the thin-film magnetic head slider block is adjusted in the longitudinal direction of the thin-film magnetic head slider block so that the unevenness is within a predetermined allowable range. And a control means for partially changing the slider block.
ドスライダブロックが載置された前記ベースに対して前
記基準平面と平行に相対移動可能であり、相対的に移動
する前記薄膜磁気ヘッドスライダブロックに予めマーキ
ングされた凹凸検出マーカの基準平面からの変位量を測
定して前記凹凸を検出することを特徴とする請求項3記
載の薄膜磁気ヘッドスライダブロックの接着装置。4. The thin-film magnetic head slider block which is movable relative to the base on which the thin-film magnetic head slider block is mounted in parallel with the reference plane, and which moves relatively. 4. A bonding apparatus for a thin film magnetic head slider block according to claim 3, wherein the unevenness is detected by measuring a displacement amount of an unevenness detection marker preliminarily marked from a reference plane.
ライダブロックに面接触する加圧ヘッドを有し、 該加圧ヘッドには、その加圧面の形状を薄膜磁気ヘッド
スライダブロックの長手方向に沿って部分的に凹凸させ
る凹凸機構が設けられていることを特徴とする請求項3
または4記載の薄膜磁気ヘッドスライダブロックの接着
装置。5. The pressure means has a pressure head in surface contact with the thin film magnetic head slider block, and the pressure head has a shape of a pressure surface in a longitudinal direction of the thin film magnetic head slider block. 4. An unevenness mechanism for partially unevenness along the axis is provided.
Or a bonding apparatus for a thin film magnetic head slider block according to item 4.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11107516A JP2000298810A (en) | 1999-04-15 | 1999-04-15 | Method and apparatus for adhesion of thin film magnetic head slider block |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11107516A JP2000298810A (en) | 1999-04-15 | 1999-04-15 | Method and apparatus for adhesion of thin film magnetic head slider block |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000298810A true JP2000298810A (en) | 2000-10-24 |
Family
ID=14461191
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11107516A Withdrawn JP2000298810A (en) | 1999-04-15 | 1999-04-15 | Method and apparatus for adhesion of thin film magnetic head slider block |
Country Status (1)
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-
1999
- 1999-04-15 JP JP11107516A patent/JP2000298810A/en not_active Withdrawn
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