JP2000297082A - Unsaturated epoxy compound, its production and (co) polymer of the same - Google Patents

Unsaturated epoxy compound, its production and (co) polymer of the same

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JP2000297082A
JP2000297082A JP10579999A JP10579999A JP2000297082A JP 2000297082 A JP2000297082 A JP 2000297082A JP 10579999 A JP10579999 A JP 10579999A JP 10579999 A JP10579999 A JP 10579999A JP 2000297082 A JP2000297082 A JP 2000297082A
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JP
Japan
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compound
polymer
epoxy compound
formula
hydrogen atom
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Masao Tomoi
正男 友井
Takao Iijima
孝雄 飯島
Hozumi Sato
穂積 佐藤
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Original Assignee
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a new compound having a photocationically polymerizable epoxy group, capable of providing a (co)polymer useful as a radiation-sensitive resin capable of forming films by binding a side chain having an epoxy group to an aromatic vinyl compound. SOLUTION: This compound is a compound of formula I (n is 1 to 5; R is hydrogen or methyl; Q is hydrogen or methyl), e.g. vinylphenethyloxirane. The compound of formula I is produced, for example, by reacting (A) a Grignard reagent of formula III (X is chlorine or bromine) with (B) epichlorohydrin or methylepichlorohydrin, at -30 to 50 deg.C, pref. -10 to 10 deg.C, for 0.1 to 10h. The component A is produced by reacting (i) an ω-haloalkylstyrene or ω-haloalkyl-α- methylstyrene with (ii) metallic magnesium in (iii) an anhydrous solvent.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、新規な不飽和エポ
キシ化合物とその(共)重合体に関する。さらに詳しく
は、エポキシ基を側鎖に有する芳香族系モノマー、その
製造方法およびこれを重合して得られるエポキシ基を側
鎖に有する(共)重合体に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a novel unsaturated epoxy compound and a (co) polymer thereof. More specifically, the present invention relates to an aromatic monomer having an epoxy group in a side chain, a method for producing the same, and a (co) polymer having an epoxy group in a side chain obtained by polymerizing the aromatic monomer.

【0002】[0002]

【従来の技術】炭素炭素二重結合を有する不飽和モノマ
ーをラジカルを用いて重合して得られる重合体(以下、
「ラジカル重合体」という。)は、種々の用途に広く使
用されているが、この重合体を光や熱により架橋できれ
ば、機能性高分子としての用途にも使用することが可能
である。エポキシ基を有する重合体は、オニウム塩系の
光酸発生剤存在下での紫外線照射により生じるカチオン
により、エポキシ基が開環して架橋反応することが知ら
れている。この紫外線照射により架橋する材料は、半導
体集積回路製造用レジストとして、また、電子部品の絶
縁膜や保護膜形成材料として広く利用されているが、利
用分野における技術の進歩にともない、より高い反応性
を持つエポキシ基を有する重合体が要求されている。
2. Description of the Related Art Polymers obtained by polymerizing unsaturated monomers having a carbon-carbon double bond using radicals (hereinafter referred to as "polymers").
It is called "radical polymer". Is widely used for various uses, but if this polymer can be cross-linked by light or heat, it can be used as a functional polymer. It is known that a polymer having an epoxy group undergoes a cross-linking reaction by opening the ring of an epoxy group by a cation generated by ultraviolet irradiation in the presence of an onium salt-based photoacid generator. This material that is crosslinked by ultraviolet irradiation is widely used as a resist for manufacturing semiconductor integrated circuits and as a material for forming insulating films and protective films of electronic components. There is a need for a polymer having an epoxy group having the formula:

【0003】エポキシ基を有するラジカル重合体は、ラ
ジカル重合性基を有するエポキシ化合物、すなわち不飽
和エポキシ化合物を、ラジカル重合性モノマーと共重合
することにより容易に製造できる。不飽和エポキシ化合
物としては、ビニルベンジルグリシジルエーテル、アリ
ルグリシジルエーテル、グリジシルメタクリレートなど
が知られている。しかし、これらの不飽和エポキシ化合
物はエーテル結合を有するため、その共重合体は、熱硬
化性は速いが、光硬化性は遅いという問題があり、使用
する用途が限られている。このためエーテル結合を有さ
ないラジカル重合性のエポキシ化合物が期待される。そ
のような化合物としては4−ビニルベンジルオキシラン
が報告されている(Makromol.Chem.191,1931-1939)
が、この化合物は安定性が悪く、長期に保存または使用
することが困難であった。
A radical polymer having an epoxy group can be easily produced by copolymerizing an epoxy compound having a radical polymerizable group, ie, an unsaturated epoxy compound, with a radical polymerizable monomer. As the unsaturated epoxy compound, vinylbenzyl glycidyl ether, allyl glycidyl ether, glycidyl methacrylate and the like are known. However, since these unsaturated epoxy compounds have an ether bond, their copolymers have a problem that although their thermosetting properties are fast, their photocuring properties are slow, and their use is limited. Therefore, a radical polymerizable epoxy compound having no ether bond is expected. As such a compound, 4-vinylbenzyloxirane has been reported (Makromol. Chem. 191, 1931-1939).
However, this compound had poor stability and was difficult to store or use for a long time.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、芳香
族ビニル化合物に、エポキシ基を有する側鎖を結合させ
た、新規な不飽和エポキシ化合物およびその製造方法を
提供することにある。本発明のさらなる目的は、得られ
た新規モノマーの単独重合体および共重合体(併せて、
「(共)重合体」という。)を提供することにある。こ
こで得られる(共)重合体は、側鎖にエポキシ基を有す
るので、光硬化性および熱硬化性を有する。
An object of the present invention is to provide a novel unsaturated epoxy compound in which a side chain having an epoxy group is bonded to an aromatic vinyl compound, and a method for producing the same. A further object of the present invention is to obtain homopolymers and copolymers of the obtained novel monomers (collectively,
It is referred to as "(co) polymer". ). Since the (co) polymer obtained here has an epoxy group in the side chain, it has photocurability and thermosetting properties.

【0005】[0005]

【発明を解決するための手段】本発明者らは鋭意研究を
進めた結果、ハロゲン化アルキル基をベンゼン環に結合
した芳香族ビニル化合物とエポキシ基を有するハロゲン
化アルキル化合物を原料にしてグリニャール反応を応用
すれば、脱ハロゲンにより両者が結合した新規な不飽和
エポキシ化合物が得られることを見出し、本発明を完成
した。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies, the present inventors have conducted a Grignard reaction using an aromatic vinyl compound having an alkyl halide group bonded to a benzene ring and a halogenated alkyl compound having an epoxy group as raw materials. It has been found that a novel unsaturated epoxy compound in which both are bonded by dehalogenation can be obtained by applying, and the present invention has been completed.

【0006】すなわち、本発明は、一般式(1)で表さ
れる不飽和エポキシ化合物(以下、「不飽和エポキシ化
合物(A)」という。)とその製造方法を提供するもの
である。
That is, the present invention provides an unsaturated epoxy compound represented by the general formula (1) (hereinafter referred to as "unsaturated epoxy compound (A)") and a method for producing the same.

【0007】[0007]

【化4】 Embedded image

【0008】(式中、nは1〜5の整数を表し、Rは水
素原子またはメチル基を表し、Qは水素原子またはメチ
ル基を表す。)また、本発明は、本発明の不飽和エポキ
シ化合物(A)の単独重合体、ならびに他の不飽和モノ
マーとの共重合体を提供するものである。
(Wherein, n represents an integer of 1 to 5, R represents a hydrogen atom or a methyl group, and Q represents a hydrogen atom or a methyl group.) The present invention also relates to the unsaturated epoxy compound of the present invention. It is intended to provide a homopolymer of the compound (A) and a copolymer with another unsaturated monomer.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明の不飽和エポキシ化合物(A)は、前記の
一般式(1)の化学構造のものである。一般式(1)
中、nは1〜5の整数、好ましくは1〜3の整数、特に
好ましくは1である。一般式(1)中のRは、水素原子
またはメチル基である。一般式(1)中のQは、水素原
子またはメチル基であり、好ましくは水素原子である。
本発明の不飽和エポキシ化合物(A)は、下記一般式
(2)で示されるグリニャール試薬(以下、「化合物
(B)」という。)とエピクロロヒドリンまたはメチル
エピクロロヒドリンを反応させて製造される。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail. The unsaturated epoxy compound (A) of the present invention has the chemical structure of the general formula (1). General formula (1)
In the formula, n is an integer of 1 to 5, preferably 1 to 3, and particularly preferably 1. R in the general formula (1) is a hydrogen atom or a methyl group. Q in the general formula (1) is a hydrogen atom or a methyl group, and is preferably a hydrogen atom.
The unsaturated epoxy compound (A) of the present invention is obtained by reacting a Grignard reagent represented by the following general formula (2) (hereinafter, referred to as “compound (B)”) with epichlorohydrin or methylepichlorohydrin. Manufactured.

【0010】[0010]

【化5】 Embedded image

【0011】(式中、nは1〜5の整数を表し、Xは塩
素原子または臭素原子を表し、Qは水素原子またはメチ
ル基を表す。) 化合物(B)は、ω-ハロアルキル-スチレンまたはω-
ハロアルキル-α-メチルスチレン(以下、「化合物
(C)」という。)を、乾燥させた溶媒中、金属マグネ
シウムと反応させて製造できる。ここで、ハロアルキル
のアルキルは、-(CH2n-(nは1〜5の整数)であ
り、ハロは、塩素または臭素、好ましくは塩素である。
(Wherein, n represents an integer of 1 to 5, X represents a chlorine atom or a bromine atom, and Q represents a hydrogen atom or a methyl group.) The compound (B) is ω-haloalkyl-styrene or ω-
It can be produced by reacting haloalkyl-α-methylstyrene (hereinafter, referred to as “compound (C)”) with metallic magnesium in a dried solvent. Here, the alkyl of the haloalkyl is — (CH 2 ) n — (n is an integer of 1 to 5), and halo is chlorine or bromine, preferably chlorine.

【0012】化合物(B)のハロマグネシウムアルキル
基の結合位置は、ビニル基、あるいはα-メチルビニル
基に対して、オルト位、メタ位またはパラ位が可能であ
る。不飽和エポキシ化合物(A)およびこれを重合して
得られる(共)重合体におけるエポキシアルキレン基の
結合位置も、化合物(B)と同じである。化合物(B)
を含有する溶液(通常これは化合物(C)と金属マグネ
シウムとを反応させて得た反応液が用いられる)に、エ
ピクロロヒドリンまたはメチルエピクロロヒドリンを反
応させて、不飽和エポキシ化合物(A)が製造される。
The bonding position of the halomagnesium alkyl group of the compound (B) can be at the ortho, meta or para position with respect to the vinyl group or α-methylvinyl group. The bonding positions of the epoxyalkylene groups in the unsaturated epoxy compound (A) and the (co) polymer obtained by polymerizing the same are the same as those in the compound (B). Compound (B)
(Usually a reaction solution obtained by reacting compound (C) with metallic magnesium) is used to react epichlorohydrin or methylepichlorohydrin to obtain an unsaturated epoxy compound ( A) is manufactured.

【0013】化合物(B)の製造は、化合物(C)に対
して金属マグネシウムを、通常1:1モルで反応させて
行われる。反応溶媒は、ジエチルエーテル、テトラヒド
ロフランなどを挙げることができる。これらの溶媒は十
分に脱水、乾燥したものを用いる。前記化合物(C)
は、溶媒に対して、10〜80重量%の濃度で溶解さ
せ、金属マグネシウムと反応させる。反応温度は、通常
−30〜50℃、好ましくは−10〜10℃で、反応時
間は0.1〜10時間である。
The production of compound (B) is carried out by reacting compound (C) with metallic magnesium, usually at a 1: 1 molar ratio. Examples of the reaction solvent include diethyl ether and tetrahydrofuran. These solvents are sufficiently dehydrated and dried. The compound (C)
Is dissolved in a solvent at a concentration of 10 to 80% by weight and reacted with metallic magnesium. The reaction temperature is generally -30 to 50C, preferably -10 to 10C, and the reaction time is 0.1 to 10 hours.

【0014】化合物(B)を含む反応液に、引き続いて
エピクロロヒドリンまたはメチルエピクロロヒドリンを
加えて反応させ、不飽和エポキシ化合物(A)を製造す
る。反応温度は、通常−30〜50℃、好ましくは−1
0〜10℃で、反応時間は0.1〜10時間である。反
応後、濃アルカリ性水溶液を反応液に加えてハロゲン化
マグネシウムを除去した後、水洗、抽出、脱水、乾燥等
の処理を行い、次いで溶媒を減圧蒸留により除去し、残
った粗不飽和エポキシ化合物(A)を減圧蒸留して精製
する。収率は通常30〜80%である。
Subsequently, epichlorohydrin or methyl epichlorohydrin is added to the reaction solution containing the compound (B) and reacted to produce an unsaturated epoxy compound (A). The reaction temperature is usually -30 to 50C, preferably -1.
At 0-10 ° C, the reaction time is 0.1-10 hours. After the reaction, a concentrated alkaline aqueous solution is added to the reaction solution to remove the magnesium halide, followed by washing, extraction, dehydration, and drying, and then the solvent is removed by distillation under reduced pressure, and the remaining crude unsaturated epoxy compound ( A) is purified by distillation under reduced pressure. The yield is usually 30-80%.

【0015】不飽和エポキシ化合物(A)は、単独でラ
ジカル重合できる。また、不飽和エポキシ化合物(A)
は、他のラジカル重合性モノマーと共重合できる。この
(共)重合体は一般式(4)で示される。
The unsaturated epoxy compound (A) can be subjected to radical polymerization alone. Further, the unsaturated epoxy compound (A)
Can be copolymerized with other radically polymerizable monomers. This (co) polymer is represented by the general formula (4).

【0016】[0016]

【化6】 Embedded image

【0017】(式中、nは1〜5の整数を表し、Rは水
素原子またはメチル基を表し、Qは水素原子またはメチ
ル基を表す。式中、Yは、共重合するその他の繰り返し
単位であり、hおよびiは、各繰り返し単位のモル比を
表す数で、h>0、i≧0、h+i=1であり、i=0
の時、単独重合体となる。) (共)重合体の分子量は、GPC法で測定したポリスチ
レン換算重量平均分子量で、1,000〜1,000,
000、好ましくは、3,000〜200,000 で
ある。hとiのモル割合は、好ましくは、hが0.20
〜1に対してiは0.80〜0、さらに好ましくは、h
が0.40〜1に対してiは0.60〜0である。
(Wherein, n represents an integer of 1 to 5, R represents a hydrogen atom or a methyl group, Q represents a hydrogen atom or a methyl group. In the formula, Y represents another copolymerizable repeating unit. And h and i are numbers representing the molar ratio of each repeating unit, and h> 0, i ≧ 0, h + i = 1, and i = 0
At this time, it becomes a homopolymer. The molecular weight of the (co) polymer is 1,000 to 1,000, as a weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by the GPC method.
000, preferably 3,000 to 200,000. The molar ratio between h and i is preferably such that h is 0.20
I is 0.80 to 0, more preferably h
Is 0.40 to 1 and i is 0.60 to 0.

【0018】繰り返し単位Yは、ビニルモノマーの重合
性炭素炭素二重結合が開裂した構造を有するものであ
る。ビニルモノマーの例として、スチレン、α−メチル
スチレン、o−メチルスチレン、m−メチルスチレン、
p−メチルスチレン、p−メトキシスチレン、p−メト
キシメチルスチレン、p−t−ブトキシスチレン、p−
クロロメチルスチレン等のスチレン類;ブタジエン、イ
ソプレン、2,3−ジメチルブタジエン等のジエン類;
(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチ
ル、(メタ)アクリル酸n−プロピル、(メタ)アクリ
ル酸i−プロピル、(メタ)アクリル酸n−ブチル、
(メタ)アクリル酸i−ブチル、(メタ)アクリル酸s
ec−ブチル、(メタ)アクリル酸t−ブチル、(メ
タ)アクリル酸n−ヘキシル、(メタ)アクリル酸2−
エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ラウリル、(メ
タ)アクリル酸n−ドデシル、(メタ)アクリル酸ベン
ジル、(メタ)アクリル酸トリフェニルメチル、(メ
タ)アクリル酸クミル、(メタ)アクリル酸シクロペン
チル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)ア
クリル酸2−メチルシクロヘキシル、(メタ)アクリル
酸ジシクロペンタニル、(メタ)アクリル酸4−メチル
シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸フェニル、(メ
タ)アクリル酸クレジル等の(メタ)アクリル酸エステ
ル類、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、イタコ
ン酸等を挙げることができる。
The repeating unit Y has a structure in which the polymerizable carbon-carbon double bond of the vinyl monomer is cleaved. Examples of vinyl monomers include styrene, α-methylstyrene, o-methylstyrene, m-methylstyrene,
p-methylstyrene, p-methoxystyrene, p-methoxymethylstyrene, pt-butoxystyrene, p-
Styrenes such as chloromethylstyrene; dienes such as butadiene, isoprene and 2,3-dimethylbutadiene;
Methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, i-propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate,
I-butyl (meth) acrylate, s (meth) acrylate
ec-butyl, t-butyl (meth) acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, 2- (meth) acrylate
Ethylhexyl, lauryl (meth) acrylate, n-dodecyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, triphenylmethyl (meth) acrylate, cumyl (meth) acrylate, cyclopentyl (meth) acrylate, (meth) ) Cyclohexyl acrylate, 2-methylcyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, 4-methylcyclohexyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, cresyl (meth) acrylate (Meth) acrylic acid esters, acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, itaconic acid and the like can be mentioned.

【0019】モノマーは、これらに限定されるものでは
ないが、重合体の目的に応じて1種または2種以上が適
宜選択される。これらの他の単量体のうち、スチレン、
α−メチルスチレン、p−t−ブトキシスチレン、ブタ
ジエン、イソプレン、(メタ)アクリル酸メチル、(メ
タ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル等が
好ましい。
The monomer is not limited to these, but one or more monomers are appropriately selected depending on the purpose of the polymer. Of these other monomers, styrene,
α-Methylstyrene, pt-butoxystyrene, butadiene, isoprene, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate and the like are preferred.

【0020】不飽和エポキシ化合物(A)の単独重合、
またはこれと他のモノマーとの共重合の反応は、重合溶
媒中、ラジカル重合開始剤の存在下で、好ましくは40
〜100℃、より好ましくは50〜90℃の温度条件下
で行われ、反応時間は、通常、1〜48時間である。
Homopolymerization of the unsaturated epoxy compound (A),
Alternatively, the copolymerization reaction of this with another monomer is carried out in a polymerization solvent in the presence of a radical polymerization initiator, preferably 40
The reaction is carried out under a temperature condition of -100 ° C, more preferably 50-90 ° C, and the reaction time is usually 1-48 hours.

【0021】前記重合溶媒としては、例えば、メタノー
ル、エタノール、n−プロパノール、n−ブタノール等
のアルコール類;テトラヒドロフラン、ジオキサン等の
環状エーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳
香族炭化水素類;N,N−ジメチルホルムアミド、N−
メチル−2−ピロリドン等のアミド系プロトン性極性溶
媒;酢酸エチル、酢酸n−ブチル、酢酸i−アミル、乳
酸エチル等のエステル類;3−メトキシプロピオン酸メ
チル、2−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシ
プロピオン酸エチル、2−メトキシプロピオン酸エチ
ル、3−エトキシプロピオン酸エチル、2−エトキシプ
ロピオン酸エチル等のアルコキシエステル類;エチレン
グリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエ
チルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレ
ングリコールメチルエチルエーテル、プロピレングリコ
ールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチ
ルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、
エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレング
リコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモ
ノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジ
プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレ
ングリコールモノエチルエーテル等の多価アルコールの
アルキルエーテル類;エチルセロソルブアセテート、カ
ルビトールアセテート、3−メトキシプロピルアセテー
ト等の多価アルコールのアルキルエーテルアセテート
類;シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン、2−ヘプタノン等のケトン類等を挙げ
ることができる。
Examples of the polymerization solvent include alcohols such as methanol, ethanol, n-propanol and n-butanol; cyclic ethers such as tetrahydrofuran and dioxane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; , N-dimethylformamide, N-
Amide-based protic polar solvents such as methyl-2-pyrrolidone; esters such as ethyl acetate, n-butyl acetate, i-amyl acetate, and ethyl lactate; methyl 3-methoxypropionate, methyl 2-methoxypropionate, 3- Alkoxy esters such as ethyl methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, and ethyl 2-ethoxypropionate; ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl Ether, propylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether,
Alkyl ethers of polyhydric alcohols such as ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether; ethyl cellosolve Examples include alkyl ether acetates of polyhydric alcohols such as acetate, carbitol acetate, and 3-methoxypropyl acetate; and ketones such as cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and 2-heptanone.

【0022】これらの中、環状エーテル類、多価アルコ
ールのアルキルエーテル類、多価アルコールのアルキル
エーテルアセテート類、エステル類が好ましい。これら
の重合溶媒は、単独でまたは2種以上を混合して使用す
ることができる。モノマーと重合溶媒との使用割合は、
特に限定されるものではないが、モノマー100重量部
に対して、通常、重合溶媒20〜1,000重量部であ
る。
Of these, cyclic ethers, polyhydric alcohol alkyl ethers, polyhydric alcohol alkyl ether acetates and esters are preferred. These polymerization solvents can be used alone or in combination of two or more. The ratio of the monomer and the polymerization solvent used is
Although not particularly limited, the polymerization solvent is usually 20 to 1,000 parts by weight based on 100 parts by weight of the monomer.

【0023】また、前記ラジカル重合開始剤としては、
例えば、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,
2’−アゾビス−(2,4−メチルバレロニトリル)、
2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチル
バレロニトリル)等のアゾ化合物;ベンゾイルパーオキ
シド、ラウロイルパーオキシド、t−ブチルパーオキシ
ピバレート、1,1−ビス−(t−ブチルパーオキシ)
シクロヘキサン等の有機過酸化物;過酸化水素等を挙げ
ることができる。これらのラジカル重合開始剤は、単独
でまたは2種以上を混合して使用することができる。
The radical polymerization initiator includes:
For example, 2,2′-azobisisobutyronitrile,
2'-azobis- (2,4-methylvaleronitrile),
Azo compounds such as 2,2′-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile); benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, t-butylperoxypivalate, 1,1-bis- (t-butyl Peroxy)
Organic peroxides such as cyclohexane; and hydrogen peroxide. These radical polymerization initiators can be used alone or in combination of two or more.

【0024】有機過酸化物あるいは過酸化水素を、ラジ
カル重合開始剤として使用する場合には、これらを還元
剤と組み合わせてレドックス系重合開始剤として使用し
てもよい。こうして得られる(共)重合体溶液は、反応
終了後、反応溶液を多量の酢酸水溶液やイソプロパノー
ル中に投入することにより、沈殿させて回収することが
できる。
When an organic peroxide or hydrogen peroxide is used as a radical polymerization initiator, these may be used as a redox polymerization initiator in combination with a reducing agent. After completion of the reaction, the (co) polymer solution thus obtained can be precipitated and recovered by pouring the reaction solution into a large amount of an aqueous acetic acid solution or isopropanol.

【0025】本発明の(共)重合体は、単独で、また
は、必要に応じて公知の光ラジカル重合開始剤、光カチ
オン重合開始剤、光酸発生剤、架橋性化合物、充填剤、
粘度調整剤、染料、顔料、可塑剤、溶剤などを加えた感
放射線性樹脂組成物として、紫外線、電子線、または放
射線の照射あるいは加熱により硬化可能であり、リソグ
ラフィー用に、また、コーティング用に使用できる。
The (co) polymer of the present invention may be used alone or, if necessary, with a known photoradical polymerization initiator, photocationic polymerization initiator, photoacid generator, crosslinkable compound, filler,
As a radiation-sensitive resin composition containing a viscosity modifier, a dye, a pigment, a plasticizer, a solvent, etc., it can be cured by irradiation with ultraviolet rays, electron beams, or radiation or by heating, for lithography, and for coating. Can be used.

【0026】[0026]

【実施例】以下実施例により、本発明をさらに具体的に
説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもの
ではない。なお、実施例中の%および部は、特に断らな
い限り重量基準である。
EXAMPLES The present invention will be described more specifically with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples. The percentages and parts in the examples are on a weight basis unless otherwise specified.

【0027】実施例1 500ml四つ口フラスコに攪拌器を取り付け、窒素気
流下、グリニャール反応用マグネシウム4.5g(0.
19モル)、乾燥ジエチルエーテル70mlを入れ、氷
浴下で0℃に保ちながら30分間攪拌した。引続き氷浴
下でクロロメチルスチレン(メタ体:パラ体=70:3
0、セイミケミカル(株)製CMS-P)26.1g
(0.17モル)と40mlの乾燥ジエチルエーテルか
らなる溶液を2時間かけて滴下し、滴下終了後、氷浴下
で1時間、さらに室温で3時間攪拌しながら反応させ
た。
Example 1 A 500 ml four-necked flask was equipped with a stirrer, and 4.5 g of magnesium for Grignard reaction (0.5 g) was added under a nitrogen stream.
19 mol) and 70 ml of dry diethyl ether, and the mixture was stirred for 30 minutes in an ice bath while maintaining the temperature at 0 ° C. Subsequently, chloromethylstyrene (meta-form: para-form = 70: 3) was added in an ice bath.
0, CMS-P manufactured by Seimi Chemical Co., Ltd.) 26.1 g
(0.17 mol) and a solution consisting of 40 ml of dry diethyl ether were added dropwise over 2 hours, and after completion of the addition, the mixture was reacted with stirring in an ice bath for 1 hour and further at room temperature for 3 hours.

【0028】その後、再び氷浴に戻し、エピクロロヒド
リン23.0g(0.25モル)と乾燥ジエチルエーテ
ル70mlからなる溶液を約2時間で滴下し、氷浴下で
2時間反応させた。そして500mlの水の入った1l
ビーカーに注ぎ、ジエチルエーテル相を分離した。この
ジエチルエーテル相に50%NaOH水溶液0.85モ
ルgを、氷浴下30分で滴下し、さらに室温で2時間攪
拌した。反応終了後、氷水1lに投入し、生成物をトル
エンで抽出し、水で洗浄、無水MgSO4を加え1晩乾
燥後、溶媒を減圧下で除去し、減圧蒸留を行い、生成物
を収率41%で得た。沸点は53〜55℃(0.8Tor
r)。得られたビニルフェネチルオキシランC1214
の元素分析値は、化学式からの計算値と一致した。分子
量はマススペクトルの親ピークより測定し、計算値の1
74と一致した。IR吸収曲線は図1に示した。NMR
データは次に示す。これらのデータより、生成物はビニ
ルフェネチルオキシランであることを確認した。ビニル
フェネチルオキシランの化学構造式を次の式(5)に示
す。
Thereafter, the solution was returned to the ice bath again, and a solution comprising 23.0 g (0.25 mol) of epichlorohydrin and 70 ml of dry diethyl ether was added dropwise in about 2 hours, and the reaction was carried out in the ice bath for 2 hours. And 1 liter with 500 ml of water
Poured into a beaker and separated the diethyl ether phase. 0.85 mol g of a 50% aqueous NaOH solution was added dropwise to this diethyl ether phase over 30 minutes in an ice bath, and the mixture was further stirred at room temperature for 2 hours. After completion of the reaction, the reaction solution is poured into 1 liter of ice water, the product is extracted with toluene, washed with water, dried over anhydrous MgSO 4 overnight, and the solvent is removed under reduced pressure. Obtained at 41%. Boiling point 53-55 ° C (0.8Tor
r). The obtained vinylphenethyloxirane C 12 H 14 O
Was consistent with the calculated value from the chemical formula. The molecular weight was measured from the parent peak of the mass spectrum and was calculated as 1
And 74. The IR absorption curve is shown in FIG. NMR
The data is shown below. From these data, it was confirmed that the product was vinylphenethyloxirane. The chemical structural formula of vinylphenethyloxirane is shown in the following formula (5).

【0029】[0029]

【化7】 Embedded image

【0030】H1−NMR;CDCl3、270MH δppm;1.72−1.96(m、2H)、2.42−
2.50(m、1H)、2.70−2.90(m、3H)、
2.90−3.00(m、1H)、5.14−5.28
(dd、1H)、5.64−5.78(dd、1H)、6.62
−6.78(dd、1H)、7.10−7.40(m、4H)
H 1 -NMR; CDCl 3 , 270 MH δ ppm; 1.72-1.96 (m, 2H), 2.42-
2.50 (m, 1H), 2.70-2.90 (m, 3H),
2.90-3.00 (m, 1H), 5.14-5.28
(Dd, 1H), 5.64-5.78 (dd, 1H), 6.62
-6.78 (dd, 1H), 7.10-7.40 (m, 4H)

【0031】実施例2 エピクロロヒドリンの代わりにメチルエピクロロヒドリ
ンを27.0g用いた以外は実施例1と同様にして実験
を行い、ビニルフェネチル-2-メチルオキシランを収率
43%で得た。沸点は47〜50℃(0.4Torr)。得
られたビニルフェネチル-2-メチルオキシランC1316
Oの元素分析値は、化学式からの計算値と一致した。分
子量はマススペクトルの親ピークより測定し、計算値の
188と一致した。IR吸収曲線は図2に示した。NM
Rデータは次に示す。これらのデータより、ビニルフェ
ネチル-2-メチルオキシランであることを確認した。
Example 2 An experiment was carried out in the same manner as in Example 1 except that 27.0 g of methyl epichlorohydrin was used instead of epichlorohydrin, and vinylphenethyl-2-methyloxirane was obtained at a yield of 43%. Obtained. The boiling point is 47-50 ° C (0.4 Torr). The obtained vinylphenethyl-2-methyloxirane C 13 H 16
The elemental analysis value of O was consistent with the calculated value from the chemical formula. The molecular weight was measured from the parent peak of the mass spectrum and was consistent with the calculated value of 188. The IR absorption curve is shown in FIG. NM
The R data is shown below. From these data, it was confirmed that the compound was vinylphenethyl-2-methyloxirane.

【0032】H1−NMR;CDCl3、270MHz δppm;1.38(s、3H)、1.78−2.00
(m、2H)、2.54−2.76(m、4H)、5.20
(dd、1H)、5.72(dd、1H)、6.68(dd、1
H)、7.00−7.44(m、4H)
H 1 -NMR; CDCl 3 , 270 MHz δ ppm; 1.38 (s, 3H), 1.78-2.00
(M, 2H), 2.54-2.76 (m, 4H), 5.20
(Dd, 1H), 5.72 (dd, 1H), 6.68 (dd, 1H)
H), 7.00-7.44 (m, 4H)

【0033】実施例3 還流管を装着した100mlの3つ口フラスコに、実施
例1で得たビニルフェネチルオキシラン8.7g(0.
05モル)、ベンゼン25ml、アゾイソブチロニトリ
ル0.042gを入れ窒素気流下30分室温で攪拌し、
その後60℃で24時間反応を行った。反応終了後、反
応溶液を500mlのヘキサンへ投入し、ベンゼン/ヘ
キサン混合溶媒で2回再沈殿を行い、凍結乾燥により重
合体を単離した。収率86%、GPC法で測定したポリ
スチレン換算重量平均分子量Mwは79,900、数平
均分子量Mnは40,800、であり、DSC(示差熱
量計)法で測定したガラス転移温度Tgは36℃であっ
た。IR吸収曲線は図3に示した。NMRデータを次に
示す。
Example 3 In a 100 ml three-necked flask equipped with a reflux tube, 8.7 g of the vinylphenethyloxirane obtained in Example 1 (0.
05 mol), benzene 25 ml, and azoisobutyronitrile 0.042 g, and stirred at room temperature for 30 minutes under a nitrogen stream.
Thereafter, the reaction was performed at 60 ° C. for 24 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into 500 ml of hexane, reprecipitated twice with a benzene / hexane mixed solvent, and lyophilized to isolate a polymer. The yield was 86%, the weight average molecular weight Mw in terms of polystyrene measured by the GPC method was 79,900, the number average molecular weight Mn was 40,800, and the glass transition temperature Tg measured by the DSC (differential calorimeter) method was 36 ° C. Met. The IR absorption curve is shown in FIG. The NMR data is shown below.

【0034】H1−NMR;CDCl3、270MHz δppm;1.02−2.20(b、5H)、2.30−
3.00(b、5H)6.20−7.40(b、4H)
H 1 -NMR; CDCl 3 , 270 MHz δ ppm; 1.02-2.20 (b, 5H), 2.30-
3.00 (b, 5H) 6.20-7.40 (b, 4H)

【0035】実施例4 ビニルフェネチルオキシラン8.7g(0.05モル)
の代わりに、これを4.35g(0.025モル)とス
チレン2.6g(0.025モル)を用いた以外は実施
例3と同様にして実験を行い、ビニルフェネチルオキシ
ランとスチレンとの共重合体を収率92%で得た。GP
C法で測定したポリスチレン換算重量平均分子量Mwは
35,400、数平均分子量Mnは19,600であ
り、DSC法で測定したガラス転移温度Tgは55℃で
あった。
Example 4 8.7 g (0.05 mol) of vinylphenethyloxirane
The experiment was conducted in the same manner as in Example 3 except that 4.35 g (0.025 mol) and 2.6 g (0.025 mol) of styrene were used instead of the above, and the copolymer of vinylphenethyloxirane and styrene was used. The polymer was obtained with a yield of 92%. GP
The polystyrene equivalent weight average molecular weight Mw measured by the method C was 35,400, the number average molecular weight Mn was 19,600, and the glass transition temperature Tg measured by the DSC method was 55 ° C.

【0036】実施例5 還流管を装着した100mlの3つ口フラスコに、実施
例2で得たビニルフェネチル−2−メチルオキシラン
9.41g(0.05モル)、ベンゼン25ml、アゾ
イソブチロニトリル0.042gを入れ窒素気流下30
分室温で攪拌し、その後60℃で24時間反応を行っ
た。反応終了後、反応溶液を500mlのヘキサンへ投
入し、ベンゼン/ヘキサン混合溶媒で2回再沈殿を行
い、凍結乾燥により重合体を単離した。収率86%、G
PC法で測定したポリスチレン換算重量平均分子量Mw
は81,000、数平均分子量Mnは41,500であ
り、DSC法で測定したガラス転移温度Tgは51℃で
あった。IR吸収曲線は図4に示した。NMRデータを
次に示す。
Example 5 9.41 g (0.05 mol) of vinylphenethyl-2-methyloxirane obtained in Example 2, 25 ml of benzene, and azoisobutyronitrile were placed in a 100 ml three-necked flask equipped with a reflux tube. 0.042 g, put under nitrogen stream 30
After stirring at room temperature for 20 minutes, the reaction was carried out at 60 ° C. for 24 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into 500 ml of hexane, reprecipitated twice with a benzene / hexane mixed solvent, and the polymer was isolated by freeze-drying. 86% yield, G
Polystyrene-equivalent weight average molecular weight Mw measured by PC method
Was 81,000, the number average molecular weight Mn was 41,500, and the glass transition temperature Tg measured by the DSC method was 51 ° C. The IR absorption curve is shown in FIG. The NMR data is shown below.

【0037】H1−NMR;CDCl3、270MHz δppm;1.00-2.10(b、8H)、2.20−
2.70(b、4H)6.10−7.20(b、4H)
H 1 -NMR; CDCl 3 , 270 MHz δ ppm; 1.00-2.10 (b, 8H), 2.20-
2.70 (b, 4H) 6.10-7.20 (b, 4H)

【0038】実施例6 実施例3および実施例4で得た(共)重合体に光酸発生
剤(商品名SP-170;旭電化工業(株)製)を
(共)重合体の夫々に対して2重量%配合した2種類の
フィルムをスピンコート法で作成した。厚さ5μmのフ
ィルムに500mJ/cm2の紫外線を照射した。照射後
のフィルムをテトラヒドロフランに入れて、不溶解分を
求め、フィルムのゲル分率とした。この結果、ゲル分率
は実施例3の重合体は88%、実施例4の共重合体は9
1%であり、これらの(共)重合体は紫外線照射により
容易に架橋することが判明した。この性状は、これらの
(共)重合体が感放射線性樹脂として有用であることを
示している。
Example 6 A photoacid generator (trade name: SP-170; manufactured by Asahi Denka Kogyo KK) was added to the (co) polymers obtained in Examples 3 and 4 for each of the (co) polymers. On the other hand, two kinds of films containing 2% by weight were prepared by spin coating. The film having a thickness of 5 μm was irradiated with ultraviolet rays of 500 mJ / cm 2 . The irradiated film was placed in tetrahydrofuran, the insoluble content was determined, and this was defined as the gel fraction of the film. As a result, the gel fraction was 88% for the polymer of Example 3 and 9% for the copolymer of Example 4.
It was found that these (co) polymers were easily crosslinked by ultraviolet irradiation. This property indicates that these (co) polymers are useful as radiation-sensitive resins.

【0039】[0039]

【発明の効果】本発明の不飽和エポキシ化合物は、新規
なラジカル重合性モノマーを提供する。このモノマーの
(共)重合体は、光カチオン重合性のエポキシ基を有し
ており、フィルム形成が可能であり、感放射線性樹脂と
して有用である。
The unsaturated epoxy compound of the present invention provides a novel radically polymerizable monomer. The (co) polymer of this monomer has a photocationically polymerizable epoxy group, is capable of forming a film, and is useful as a radiation-sensitive resin.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 実施例1で得られた化合物のIR吸収曲線を
示す。
FIG. 1 shows an IR absorption curve of the compound obtained in Example 1.

【図2】 実施例2で得られた化合物のIR吸収曲線を
示す。
FIG. 2 shows an IR absorption curve of the compound obtained in Example 2.

【図3】 実施例3で得られた重合体のIR吸収曲線を
示す。
FIG. 3 shows an IR absorption curve of the polymer obtained in Example 3.

【図4】 実施例5で得られた重合体のIR吸収曲線を
示す。
FIG. 4 shows an IR absorption curve of the polymer obtained in Example 5.

フロントページの続き Fターム(参考) 4C048 AA01 BB02 CC01 UU03 UU05 XX02 XX04 4J036 AJ24 AK04 BA01 JA01 JA09 4J100 AB02Q AB03Q AB04Q AB07P AB07Q AL03Q AL04Q AL05Q AL08Q AL11Q AS02Q AS03Q AS06Q BA04Q BC03Q BC04Q BC28Q BC43P BC43Q BC54P CA01 CA04 JA01 JA38 Continuing on the front page F term (reference) 4C048 AA01 BB02 CC01 UU03 UU05 XX02 XX04 4J036 AJ24 AK04 BA01 JA01 JA09 4J100 AB02Q AB03Q AB04Q AB07P AB07Q AL03Q AL04Q AL05Q AL08Q AL11Q AS02Q AS03Q AS06Q BA04PCA38 BC03 BC04

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一般式(1)で示される不飽和エポキシ
化合物。 【化1】 (式中、nは1〜5の整数を表し、Rは水素原子または
メチル基を表し、Qは水素原子またはメチル基を表
す。)
1. An unsaturated epoxy compound represented by the general formula (1). Embedded image (In the formula, n represents an integer of 1 to 5, R represents a hydrogen atom or a methyl group, and Q represents a hydrogen atom or a methyl group.)
【請求項2】 nは1、Rは水素原子またはメチル基、
Qは水素原子である請求項1に記載の不飽和エポキシ化
合物。
2. n is 1, R is a hydrogen atom or a methyl group,
The unsaturated epoxy compound according to claim 1, wherein Q is a hydrogen atom.
【請求項3】 一般式(2)で示されるグリニャール試
薬とエピクロロヒドリンまたはメチルエピクロロヒドリ
ンを反応させることよりなる請求項1に記載の不飽和エ
ポキシ化合物の製造方法。 【化2】 (式中、nは1〜5の整数を表し、Xは塩素原子または
臭素原子を表し、Qは水素原子またはメチル基を表
す。)
3. The method for producing an unsaturated epoxy compound according to claim 1, comprising reacting a Grignard reagent represented by the general formula (2) with epichlorohydrin or methyl epichlorohydrin. Embedded image (In the formula, n represents an integer of 1 to 5, X represents a chlorine atom or a bromine atom, and Q represents a hydrogen atom or a methyl group.)
【請求項4】 下記一般式(3)で示される繰り返し単
位を有する重量平均分子量1,000〜1,000,0
00の(共)重合体。 【化3】 (式中、nは1〜5の整数を表し、Rは水素原子または
メチル基を表し、Qは水素原子またはメチル基を表
す。)
4. A weight average molecular weight having a repeating unit represented by the following general formula (3): 1,000 to 1,000,000.
00 (co) polymer. Embedded image (In the formula, n represents an integer of 1 to 5, R represents a hydrogen atom or a methyl group, and Q represents a hydrogen atom or a methyl group.)
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