JP2000290222A - Production of pure phenylenedioxydiacetic acids - Google Patents

Production of pure phenylenedioxydiacetic acids

Info

Publication number
JP2000290222A
JP2000290222A JP2000021686A JP2000021686A JP2000290222A JP 2000290222 A JP2000290222 A JP 2000290222A JP 2000021686 A JP2000021686 A JP 2000021686A JP 2000021686 A JP2000021686 A JP 2000021686A JP 2000290222 A JP2000290222 A JP 2000290222A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
phenylenedioxydiacetic
acids
crude
solution
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2000021686A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4529217B2 (en
Inventor
Junji Morimoto
順次 森本
Taku Kamikawa
卓 神川
Hiroshi Ueda
博史 上田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Chemical Co Ltd filed Critical Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority to JP2000021686A priority Critical patent/JP4529217B2/en
Publication of JP2000290222A publication Critical patent/JP2000290222A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4529217B2 publication Critical patent/JP4529217B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing pure phenylenedioxydiacetic acids at a high purity and in a high yield. SOLUTION: This process for producing a pure phenylenedioxydiacetic acid of the formula (R is a halogen, a carboxylic acid group or a <=4C hydrocarbon group; n is an integer of 0-3) comprises the acid precipitation of an alkaline aqueous solution of a crude phenylenedioxydiacetic acid mainly composed of phenylenedioxydiacetic acid with a mineral acid and subsequent holding of the mixture at a high temperature. In the process, 10 wt.% or more of phenylenedioxydiacetic acid is precipitated with an acid at a temp. of 0-50 deg.C from the alkaline aqueous solution of the crude phenylenedioxydiacetic acid, and the mixture is held at a temp. of 80-110 deg.C.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、精フェニレンジオ
キシジ酢酸類の製造方法に関する。
[0001] The present invention relates to a method for producing purified phenylenedioxydiacetic acids.

【0002】[0002]

【従来の技術および発明が解決しようとする課題】下記
一般式(I) (式中、Rはハロゲン、カルボキシ基または炭素数4以
下の炭化水素基を表し、nは0〜3の整数を表す。。)
で表されるフェニレンジオキシジ酢酸類は、ポリエステ
ルやポリアミドなどの原料として用いられる工業的に有
用な化合物である。精フェニレンジオキシジ酢酸類の製
造方法としては、フェニレンジオキシジ酢酸類を主成分
とする粗フェニレンジオキシジ酢酸類のアルカリ水溶液
を酸析する方法が知られている。例えば、上記アルカリ
水溶液と鉱酸とを用いて80℃以上で酸析した後、80
℃以上で保温する方法が提案されている(特開平4-1737
64号公報)。しかしながら、この方法では、得られた精
フェニレンジオキシジ酢酸類が純度等の点で充分満足し
得るものではなく、この点の改善が望まれていた。
2. Description of the Related Art The following general formula (I) (In the formula, R represents a halogen, a carboxy group or a hydrocarbon group having 4 or less carbon atoms, and n represents an integer of 0 to 3.)
Are industrially useful compounds used as raw materials such as polyesters and polyamides. As a method for producing purified phenylenedioxydiacetic acids, there is known a method in which an alkaline aqueous solution of crude phenylenedioxydiacetic acids containing phenylenedioxydiacetic acids as a main component is precipitated. For example, after acid precipitation at 80 ° C. or higher using the above-mentioned alkaline aqueous solution and mineral acid,
A method of keeping the temperature above ℃ has been proposed (JP-A-4-1737).
No. 64). However, according to this method, the obtained purified phenylenedioxydiacetic acids are not sufficiently satisfactory in terms of purity and the like, and improvement in this point has been desired.

【0003】[0003]

【課題を解決するための手段】このような状況下、本発
明者らは、高純度、高収率を与える精フェニレンジオキ
シジ酢酸類の製造方法を見出すべく、粗フェニレンジオ
キシジ酢酸類のアルカリ水溶液の酸析方法について鋭意
検討を重ねた結果、酸析を0〜50℃で行った後、80
〜110℃で保温することにより、目的の精フェニレン
ジオキシジ酢酸類が、高純度、高収率で得られることを
見出すとともに、更に検討を重ねた結果、上記温度下に
おいて、粗フェニレンジオキシジ酢酸類のアルカリ水溶
液全体の少なくとも10重量%以上を酸析すれば、残り
は、上記温度以外の温度で酸析しても、同様に高純度、
高収率で目的物が得られることを見出し、本発明を完成
した。
Under these circumstances, the present inventors have attempted to find a method for producing purified phenylenedioxydiacetic acids which provides high purity and high yield. As a result of intensive studies on the method of acid precipitation of an aqueous alkali solution, the acid precipitation was carried out at 0 to 50 ° C.
By keeping the temperature at 110110 ° C., it was found that the objective purified phenylenedioxydiacetic acids could be obtained in high purity and high yield. If at least 10% by weight or more of the entire alkali aqueous solution of diacetic acids is acidified out, the remainder is similarly high in purity even when acidified out at a temperature other than the above temperature.
The present inventors have found that the desired product can be obtained in high yield, and have completed the present invention.

【0004】すなわち、本発明は、下記一般式(I) (式中、Rはハロゲン、カルボキシ基または炭素数4以
下の炭化水素基を表し、nは0〜3の整数を表す。)で
示されるフェニレンジオキシジ酢酸類を主成分とする粗
フェニレンジオキシジ酢酸類のアルカリ水溶液を鉱酸に
より酸析せしめた後、保温することによる精フェニレン
ジオキシジ酢酸類の製造方法において、粗フェニレンジ
オキシジ酢酸類のアルカリ水溶液の少なくとも10重量
%を0〜50℃下で酸析せしめ、保温を80〜110℃
で実施することを特徴とする精フェニレンジオキシジ酢
酸類の製造方法を提供するものである。
That is, the present invention provides a compound represented by the following general formula (I) (Wherein R represents a halogen, a carboxy group or a hydrocarbon group having 4 or less carbon atoms, and n represents an integer of 0 to 3). In a method for producing purified phenylenedioxydiacetic acids by subjecting an alkaline aqueous solution of oxydiacetic acids to acid precipitation with a mineral acid and keeping the temperature, at least 10% by weight of the aqueous alkali solution of crude phenylenedioxydiacetic acids is reduced to 0%. Acid precipitation at ~ 50 ° C, keeping the temperature at 80 ~ 110 ° C
And a method for producing purified phenylenedioxydiacetic acids.

【0005】[0005]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明におけるフェニレンジオキシジ酢酸類としては前
記一般式(I)で示される化合物が挙げられる。ここ
で、置換基Rとしては、フッ素、塩素、臭素等のハロゲ
ン原子、カルボキシ基またはその塩、メチル、エチル、
t−ブチル基等の炭素数1〜4程度の炭化水素基等が挙
げられる。またnとしては、0〜3程度の整数が挙げら
れるが好ましくは0である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.
Examples of the phenylenedioxydiacetic acids in the present invention include compounds represented by the above general formula (I). Here, as the substituent R, a halogen atom such as fluorine, chlorine, and bromine, a carboxy group or a salt thereof, methyl, ethyl,
Examples thereof include a hydrocarbon group having about 1 to 4 carbon atoms, such as a t-butyl group. In addition, n is an integer of about 0 to 3, preferably 0.

【0006】本発明の原料である粗フェニレンジオキシジ酢
酸類は、上記のフェニレンジオキシジ酢酸類(I)を主
成分とするものである。粗フェニレンジオキシジ酢酸類
におけるフェニレンジオキシジ酢酸類(I)の含有量と
しては、通常、固形分として約80重量%以上、とりわ
け約90重量%以上が好適である。
[0006] The crude phenylenedioxydiacetic acids which are the raw materials of the present invention contain the above-mentioned phenylenedioxydiacetic acids (I) as a main component. The content of the phenylenedioxydiacetic acids (I) in the crude phenylenedioxydiacetic acids is usually about 80% by weight or more, particularly preferably about 90% by weight or more as a solid content.

【0007】粗フェニレンジオキシジ酢酸類のアルカリ水溶
液としては、フェニレンジオキシジ酢酸類(I)を主成
分とするアルカリ水溶液であれば良く、該溶液は完全に
溶解しても、フェニレンジオキシジ酢酸類(I)などが
析出したスラリーでも良い。粗フェニレンジオキシジ酢
酸類のアルカリ水溶液の製造方法は特に限定されない
が、例えば、下記一般式(II) (式中、R、nは前記と同じ意味を表す。)で示される
ジヒドロキシベンゼン類(II)とエチレンオキサイドを
アルカリ水溶液で反応させ、得られたフェニレンジオキ
シジエタノール類を酸化することにより粗フェニレンジ
オキシジ酢酸類のアルカリ水溶液を得る方法(特公昭62
-28940号公報、特表平3-500653号公報、特開平3-38544
号公報)、ジヒドロキシエトキシベンゼン類(II)とハ
ロゲン化酢酸をアルカリ水溶液でエーテル化反応せしめ
ることにより粗フェニレンジオキシジ酢酸類のアルカリ
水溶液を得る方法(特開平4-173764号公報)等が挙げら
れる。中でも後者の方法が、粗フェニレンジオキシジ酢
酸類中におけるフェニレンジオキシジ酢酸類の含有量が
高いことから好ましい。
[0007] The alkaline aqueous solution of the crude phenylenedioxydiacetic acids may be an alkaline aqueous solution containing phenylenedioxydiacetic acids (I) as a main component. A slurry in which diacetic acids (I) and the like are precipitated may be used. The method for producing the aqueous alkali solution of the crude phenylenedioxydiacetic acids is not particularly limited. For example, the following general formula (II) (Wherein, R and n have the same meanings as described above), by reacting dihydroxybenzenes (II) with ethylene oxide in an aqueous alkali solution and oxidizing the resulting phenylenedioxydiethanols to obtain crude phenylene. Method of obtaining an alkaline aqueous solution of a dioxydiacetic acid (Japanese Patent Publication Sho 62
JP-28940, JP-T3-Heisei 3-500653, JP-A-3-38544
JP-A-4-173764), a method of obtaining an alkali aqueous solution of crude phenylenedioxydiacetic acids by etherifying dihydroxyethoxybenzenes (II) and halogenated acetic acid with an aqueous alkali solution, and the like. Can be Among them, the latter method is preferable because the content of phenylenedioxydiacetic acids in the crude phenylenedioxydiacetic acids is high.

【0008】上記ジヒドロキシベンゼン類(II)の代表例と
しては、レゾルシン、ヒドロキノン等が挙げられるが、
中でもレゾルシンが好適である。また、ハロゲン化酢酸
としては、例えば、モノクロロ酢酸、モノブロモ酢酸等
が挙げられるが、中でもモノクロロ酢酸が好適である。
ハロゲン化酢酸の使用量は、ジヒドロキシベンゼン類に
対して、通常、2.0〜4.0モル倍程度、好ましくは
2.2〜3.0モル倍程度である。
[0008] Representative examples of the dihydroxybenzenes (II) include resorcinol and hydroquinone.
Among them, resorcin is preferable. Examples of the halogenated acetic acid include, for example, monochloroacetic acid and monobromoacetic acid, among which monochloroacetic acid is preferable.
The amount of the halogenated acetic acid to be used is generally about 2.0 to 4.0 mol times, preferably about 2.2 to 3.0 mol times, relative to dihydroxybenzenes.

【0009】上記のエーテル化反応において使用されるアル
カリ水溶液のアルカリとしては、ナトリウム、カリウム
等のアルカリ金属の水酸化物、炭酸化物などが例示され
る。中でも、水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムが
好適である。アルカリの使用量としてはハロゲン化酢酸
1モルに対して、通常、1.8〜2.5当量程度、好ま
しくは1.9〜2.1当量程度である。アルカリ水溶液
の濃度としては、アルカリの種類によっても異なるが、
例えば、水酸化ナトリウムの場合、20〜50重量%程
度のものが使用される。
[0009] Examples of the alkali in the aqueous alkali solution used in the above etherification reaction include hydroxides and carbonates of alkali metals such as sodium and potassium. Among them, sodium hydroxide and potassium hydroxide are preferred. The amount of the alkali to be used is generally about 1.8 to 2.5 equivalents, preferably about 1.9 to 2.1 equivalents, per 1 mol of the halogenated acetic acid. The concentration of the aqueous alkali solution varies depending on the type of alkali,
For example, in the case of sodium hydroxide, about 20 to 50% by weight is used.

【0010】エーテル化反応の具体的な製造方法としては、
例えば、ジヒドロキシベンゼン類の水溶液にハロゲン化
酢酸とアルカリ水溶液とを併注する方法、ジヒドロキシ
ベンゼン類を少量のアルカリ水溶液で溶解した溶液にハ
ロゲン化酢酸とアルカリ水溶液とを併注混合する方法お
よびジヒドロキシベンゼン類を溶解したアルカリ水溶液
とハロゲン化酢酸とを併注する方法等が挙げられる。ま
た、エーテル化反応は、反応溶液のpHを7.5〜12
程度、好ましくは7.5〜8.5程度で実施されること
が好ましい。反応溶液のpHが7.5未満の場合には、
ヒドロキシフェニレン酢酸類が増加する傾向にあるので
好ましくなく、12を超えた場合には、ハロゲン化酢酸
が加水分解される傾向にあるので好ましくない。
[0010] Specific production methods for the etherification reaction include:
For example, a method of co-injecting a halogenated acetic acid and an aqueous alkali solution into an aqueous solution of dihydroxybenzenes, a method of co-injecting and mixing a halogenated acetic acid and an aqueous alkali solution in a solution of dihydroxybenzenes dissolved in a small amount of an aqueous alkaline solution, and And a method of co-injecting an aqueous alkali solution in which the compounds are dissolved and a halogenated acetic acid. In the etherification reaction, the pH of the reaction solution is adjusted to 7.5 to 12
It is preferably carried out on the order of magnitude, preferably on the order of 7.5 to 8.5. When the pH of the reaction solution is less than 7.5,
Hydroxyphenylene acetic acids tend to increase, which is not preferable. If it exceeds 12, it is not preferable because halogenated acetic acid tends to hydrolyze.

【0011】エーテル化反応は、通常、80℃〜110℃程
度、好ましくは90℃〜100℃程度で実施される。ま
た、エーテル化反応は、反応マス中のハロゲン化酢酸が
消失するまで実施することが好ましく、反応時間は、通
常、1〜10時間程度である。
[0011] The etherification reaction is usually carried out at about 80 ° C to 110 ° C, preferably at about 90 ° C to 100 ° C. The etherification reaction is preferably performed until the halogenated acetic acid in the reaction mass disappears, and the reaction time is usually about 1 to 10 hours.

【0012】本発明は、粗フェニレンジオキシジ酢酸類のア
ルカリ水溶液を鉱酸により酸析せしめた後、保温するこ
とによる精フェニレンジオキシジ酢酸類の製造方法にお
いて、粗フェニレンジオキシジ酢酸類のアルカリ水溶液
の少なくとも10重量%を0〜50℃下で酸析せしめ、
保温を80〜110℃で実施することを特徴とするもの
である。
[0012] The present invention relates to a method for producing purified phenylenedioxydiacetic acids by subjecting an aqueous alkali solution of crude phenylenedioxydiacetic acids to acid precipitation with a mineral acid and then keeping the solution warm. At least 10% by weight of the alkaline aqueous solution of
It is characterized in that the temperature is kept at 80 to 110 ° C.

【0013】鉱酸を用いて、粗フェニレンジオキシジ酢酸類
のアルカリ水溶液の少なくとも10重量%を酸析する際
の温度が、50℃を超える場合には、得られる精フェニ
レンジオキシジ酢酸類中の不純物が増加する傾向がある
ため、好ましくない。また、上記の温度を0℃未満で実
施することも可能であるが、冷凍設備等を必要とするた
め経済的に好ましくない。粗フェニレンジオキシジ酢酸
類のアルカリ水溶液を0〜50℃下で酸析する重量が、
該アルカリ水溶液全体の10重量%に達しない場合に
は、精フェニレンジオキシジ酢酸類の純度が低下する傾
向にあるため、好ましくない。
When the temperature at which at least 10% by weight of the aqueous alkali solution of the crude phenylenedioxydiacetic acids using a mineral acid exceeds 50 ° C., the resulting purified phenylenedioxydiacetic acids are obtained. This is not preferable because impurities in the solution tend to increase. Although it is possible to carry out the above-mentioned temperature at less than 0 ° C., it is not economically preferable because a refrigeration facility or the like is required. The weight of acidifying out an aqueous alkali solution of crude phenylenedioxydiacetic acids at 0 to 50 ° C.
If it does not reach 10% by weight of the total aqueous alkali solution, the purity of purified phenylenedioxydiacetic acids tends to decrease, which is not preferable.

【0014】鉱酸による粗フェニレンジオキシジ酢酸類のア
ルカリ水溶液の酸析の方法としては、例えば、(1)0
〜50℃下で鉱酸に粗フェニレンジオキシジ酢酸類のア
ルカリ水溶液を添加する方法、(2)0〜50℃下で粗
フェニレンジオキシジ酢酸類のアルカリ水溶液と鉱酸と
を併注混合する方法、(3)0〜50℃下で粗フェニレ
ンジオキシジ酢酸類のアルカリ水溶液に鉱酸を添加する
方法、(4)0〜50℃下で、鉱酸に少なくとも10重
量%の粗フェニレンジオキシジ酢酸類のアルカリ水溶液
を加え、残りのアルカリ水溶液を50〜110℃程度で
添加する方法、(5)0〜50℃下で少なくとも10重
量%の粗フェニレンジオキシジ酢酸類のアルカリ水溶液
と鉱酸を併注混合し、残りのアルカリ水溶液と鉱酸を5
0〜110℃程度で併注混合する方法、(6)0〜50
℃下で少なくとも10重量%の粗フェニレンジオキシジ
酢酸類のアルカリ水溶液に鉱酸を加え、残りのアルカリ
水溶液と鉱酸とを50〜110℃程度で混合する方法、
等が挙げられる。中でも、(1)、(2)、(4)また
は(5)のいずれかの方法が好ましく、とりわけ(1)
または(4)の方法が好適であり、より好ましくは
(4)の方法である。
As a method for acid precipitation of an aqueous alkali solution of crude phenylenedioxydiacetic acids with a mineral acid, for example, (1) 0
A method of adding an alkaline aqueous solution of crude phenylenedioxydiacetic acids to a mineral acid at a temperature of 0 to 50 ° C, and (2) mixing an alkaline aqueous solution of a crude phenylenedioxydiacetic acid and a mineral acid at 0 to 50 ° C (3) a method of adding a mineral acid to an aqueous alkaline solution of crude phenylenedioxydiacetic acids at 0 to 50 ° C., and (4) a method of adding at least 10% by weight of crude phenylene dioxydiacetic acid to a mineral acid at 0 to 50 ° C. A method of adding an alkaline aqueous solution of a dioxydiacetic acid and adding the remaining alkaline aqueous solution at about 50 to 110 ° C., (5) an alkaline aqueous solution of at least 10% by weight of a crude phenylenedioxy diacetic acid at 0 to 50 ° C. And mineral acid are co-injected and mixed.
A method of co-mixing at about 0 to 110 ° C, (6) 0 to 50
A method of adding a mineral acid to an aqueous alkali solution of at least 10% by weight of a crude phenylenedioxydiacetic acid at 50 ° C., and mixing the remaining aqueous alkali solution and the mineral acid at about 50 to 110 ° C .;
And the like. Among them, any one of the methods (1), (2), (4) and (5) is preferable, and particularly the method (1)
Alternatively, the method (4) is preferable, and the method (4) is more preferable.

【0015】本発明の鉱酸としては、例えば塩酸、硫酸、硝
酸、リン酸等の鉱酸が挙げられる。特に硫酸、塩酸が好
ましく、中でも塩酸が好適である。鉱酸は、水溶液とし
て使用することが好ましく、その濃度は、通常、5〜2
0重量%程度のものである。鉱酸の使用量としては、フ
ェニレンジオキシジ酢酸類(I)1モルに対し、通常、
2.6〜3.4当量程度である。
The mineral acids of the present invention include, for example, mineral acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid and phosphoric acid. Particularly, sulfuric acid and hydrochloric acid are preferable, and hydrochloric acid is particularly preferable. The mineral acid is preferably used as an aqueous solution, and its concentration is usually 5 to 2
It is about 0% by weight. The amount of the mineral acid to be used is usually 1 mole of phenylenedioxydiacetic acids (I),
It is about 2.6 to 3.4 equivalents.

【0016】粗フェニレンジオキシジ酢酸類のアルカリ水溶
液と鉱酸をすべて酸析した後、得られた混合物を、80
〜110℃、好ましくは85〜95℃程度に保温する。
保温温度が80℃に未満の場合には、得られる精フェニ
レンジオキシジ酢酸類中の不純物が増加する傾向にある
ため、好ましくなく、110℃を超える場合には、混合
物が沸騰して器壁に結晶が付着する傾向にあるため好ま
しくない。保温時間としては、通常、0.1〜4時間程
度、好ましくは0.5〜2時間程度である。
After the alkaline aqueous solution of the crude phenylenedioxydiacetic acids and the mineral acids are all precipitated out, the resulting mixture is
温 110 ° C., preferably about 85-95 ° C.
If the heat retention temperature is lower than 80 ° C, impurities in the resulting purified phenylenedioxydiacetic acids tend to increase. Therefore, if the temperature is higher than 110 ° C, the mixture will boil and This is not preferable because crystals tend to adhere to the surface. The warming time is usually about 0.1 to 4 hours, preferably about 0.5 to 2 hours.

【0017】保温後、上記の混合物を50〜0℃程度、好ま
しくは40〜10℃程度まで冷却する。次に、得られた
結晶を濾過等の方法により分離、必要に応じて水洗、乾
燥することにより、目的の精フェニレンジオキシジ酢酸
類を得ることができる。また、得られた精フェニレンジ
オキシジ酢酸類は必要に応じて、再結晶などにより精製
することもできる。
After keeping the temperature, the above mixture is cooled to about 50 to 0 ° C, preferably about 40 to 10 ° C. Next, the obtained crystals are separated by a method such as filtration, washed with water and dried if necessary, whereby the desired purified phenylenedioxydiacetic acids can be obtained. Further, the obtained purified phenylenedioxydiacetic acids can be purified by recrystallization or the like, if necessary.

【0018】[0018]

【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明は、これら実施例に限定されるものではな
い。
EXAMPLES The present invention will be described below in detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0019】(実施例1) (粗フェニレンジオキシジ酢酸類アルカリ水溶液の製造
例)窒素雰囲気下、フラスコにレゾルシン 297.3 g(2.
70mol)および水 225.0 gを加え、撹拌して結晶を溶解
した。次いで48%苛性ソーダ水を添加して溶液のpHを7.8
とした後、95℃まで加熱し、同温度でモノクロロ酢酸 6
63.4 g(7.02mol)と水 389.6 gからなる水溶液を5時間
かけて加え、更に同温度で2時間撹拌した。加熱、滴下
および保温中、いずれも水溶液のpHが7.5〜8.1になるよ
うに48%苛性ソーダ水溶液を滴下した。使用した48%苛性
ソーダ水溶液は合計 1110 g(4.93当量)であった。得
られた粗フェニレンジオキシジ酢酸類のアルカリ水溶液
は 2685 g であり、スラリー状であった。このスラリー
の一部を50%アセトニトリル水溶液に溶解した後、高速
液体クロマトグラフィーを用いて面積百分率法により分
析した。結果を表1に示した。
(Example 1) (Production example of crude aqueous solution of phenylenedioxydiacetic acids) In a nitrogen atmosphere, 297.3 g of resorcinol (2.
70 mol) and 225.0 g of water were added and stirred to dissolve the crystals. Then add 48% caustic soda water to bring the solution pH to 7.8.
After heating to 95 ° C, the monochloroacetic acid 6
An aqueous solution consisting of 63.4 g (7.02 mol) and 389.6 g of water was added over 5 hours, and the mixture was further stirred at the same temperature for 2 hours. A 48% aqueous sodium hydroxide solution was added dropwise so that the pH of the aqueous solution was 7.5 to 8.1 during heating, dropping, and keeping the temperature. The total amount of the used 48% aqueous sodium hydroxide solution was 1110 g (4.93 equivalents). The amount of the obtained alkaline aqueous solution of the crude phenylenedioxydiacetic acids was 2685 g, which was a slurry. A part of the slurry was dissolved in a 50% aqueous acetonitrile solution, and analyzed by an area percentage method using high performance liquid chromatography. The results are shown in Table 1.

【0020】(精フェニレンジオキシジ酢酸類の製造例)窒
素雰囲気、攪拌下、フラスコに15%塩酸水溶液 247.9 g
(1.02mol)を仕込み、15℃に冷却した。次いで、この
水溶液に上記の粗フェニレンジオキシジ酢酸類のアルカ
リ水溶液 297.0 g(レゾルシンとして0.30mol相当)を
徐々に添加した後、33gの水で粗フェニレンジオキシジ
酢酸類のアルカリ水溶液調整槽を洗浄した洗浄水を添加
した。これらの添加に1時間を要した。この間、フラスコ
の混合物を15±1℃に維持した。次いで、得られた混合
物を90℃まで加熱し、同温度で1.0時間保温した後、30
℃まで冷却した。析出している結晶を濾過したのち、水
100 gにて洗浄し、60℃で真空乾燥を行い、白色の精フ
ェニレンジオキシジ酢酸類 61.8 g を得た。この一部を
50%アセトニトリル水溶液に溶解した後、高速液体クロ
マトグラフィーを用いて内標準法により分析した。結果
を表1に示した。尚、略号はそれぞれ、II-1:3−フェ
ニレンジオキシジ酢酸、III-1:1,3−ヒドロキシフ
ェノキシ酢酸、III-2:2−カルボキシメチル−1,3
−フェニレンジオキシジ酢酸と4−カルボキシメチル−
1,3−フェニレンジオキシジ酢酸の混合物を表す。
(Production Example of Purified Phenylenedioxydiacetic Acids) In a nitrogen atmosphere and under stirring, 247.9 g of a 15% hydrochloric acid aqueous solution was placed in a flask.
(1.02 mol) and cooled to 15 ° C. Next, 297.0 g of the above-mentioned alkaline aqueous solution of crude phenylenedioxydiacetic acids (equivalent to 0.30 mol as resorcinol) was gradually added to this aqueous solution, and then an aqueous alkali aqueous solution preparation tank of crude phenylenedioxydiacetic acids was added with 33 g of water. Washed wash water was added. These additions took one hour. During this time, the mixture in the flask was maintained at 15 ± 1 ° C. Next, the resulting mixture was heated to 90 ° C., kept at the same temperature for 1.0 hour,
Cooled to ° C. After filtering the precipitated crystals, water
After washing with 100 g and vacuum drying at 60 ° C., 61.8 g of pure white phenylenedioxydiacetic acids were obtained. Part of this
After dissolving in 50% acetonitrile aqueous solution, analysis was performed by an internal standard method using high performance liquid chromatography. The results are shown in Table 1. The abbreviations are II-1: 3-phenylenedioxydiacetic acid, III-1: 1,3-hydroxyphenoxyacetic acid, III-2: 2-carboxymethyl-1,3, respectively.
-Phenylenedioxydiacetic acid and 4-carboxymethyl-
Represents a mixture of 1,3-phenylenedioxydiacetic acids.

【0021】(実施例2)窒素雰囲気、攪拌下、フラスコに
15%塩酸水溶液 273.45 g(0.90mol)を仕込み、20℃に
冷却した。次いで、実施例1と同様にして得られた粗フ
ェニレンジオキシジ酢酸類のアルカリ水溶液 130.0 g
(レゾルシンとして0.13mol相当、粗フェニレンジオキ
シジ酢酸類のアルカリ水溶液の43重量%)を添加し
た。この時の反応温度は50℃であった。続いて粗フェニ
レンジオキシジ酢酸類のアルカリ水溶液 172.54 g(レ
ゾルシンとして0.17mol相当、粗フェニレンジオキシジ
酢酸類のアルカリ水溶液の57重量%)を添加したの
ち、33gの水で粗フェニレンジオキシジ酢酸類のアルカ
リ水溶液調整槽を洗浄した洗浄水を添加した。粗フェニ
レンジオキシジ酢酸類のアルカリ水溶液をすべて鉱酸水
溶液と混合した際の反応温度は90℃であった。これらの
添加に1時間を要した。次いで、得られた混合物を90℃
にて1.0時間保温した後、30℃まで冷却した。析出して
いる結晶を濾過したのち、水 100 gにて洗浄し、60℃で
真空乾燥を行い、白色結晶 63.0 g を得た。得られた結
晶の分析結果を表1に示した。
Example 2 A flask was placed in a nitrogen atmosphere under stirring.
273.45 g (0.90 mol) of a 15% hydrochloric acid aqueous solution was charged and cooled to 20 ° C. Next, 130.0 g of an aqueous alkaline solution of the crude phenylenedioxydiacetic acids obtained in the same manner as in Example 1.
(Corresponding to 0.13 mol of resorcinol, 43% by weight of an aqueous alkali solution of crude phenylenedioxydiacetic acids) was added. At this time, the reaction temperature was 50 ° C. Subsequently, 172.54 g of an aqueous alkali solution of crude phenylenedioxydiacetic acids (corresponding to 0.17 mol as resorcinol, 57% by weight of the aqueous alkali solution of crude phenylenedioxydiacetic acids) was added, and then 33 g of water was added to the crude phenylenedioxydiacetic acid. Washing water for washing the acetic acid alkaline aqueous solution adjusting tank was added. The reaction temperature when all the alkaline aqueous solutions of the crude phenylenedioxydiacetic acids were mixed with the aqueous mineral acid solution was 90 ° C. These additions took one hour. Then, the resulting mixture is 90 ° C
For 1.0 hour, and then cooled to 30 ° C. After filtering the precipitated crystals, the crystals were washed with 100 g of water and vacuum-dried at 60 ° C. to obtain 63.0 g of white crystals. The analysis results of the obtained crystals are shown in Table 1.

【0022】(実施例3〜7、比較例1〜3)以下、表1に
示す条件以外は実施例1および2に準拠して実施し、結
果を表1にあわせて示した。ここで、酸析条件の開始温
度とは、塩酸水溶液と粗フェニレンジオキシジ酢酸類の
アルカリ水溶液との混合開始前の塩酸水溶液の温度を表
わし、同条件の終了温度とは、粗フェニレンジオキシジ
酢酸類のアルカリ水溶液をすべて塩酸水溶液と混合した
際の混合物の温度を表わす。また、添加量とは、粗フェ
ニレンジオキシジ酢酸類のアルカリ水溶液全重量100
に対して0〜50℃下で混合せしめた該アルカリ水溶液
の重量比率を表わし、時間とは、塩酸水溶液と粗フェニ
レンジオキシジ酢酸類のアルカリ水溶液全量との混合に
要した時間を表わす。また、保温温度とは、塩酸水溶液
と粗フェニレンジオキシジ酢酸類のアルカリ水溶液全量
との混合物を1時間保温した際の混合物の温度を表わ
す。
(Examples 3 to 7, Comparative Examples 1 to 3) Hereinafter, the procedures were carried out in accordance with Examples 1 and 2 except for the conditions shown in Table 1, and the results are shown in Table 1. Here, the start temperature of the acid precipitation conditions refers to the temperature of the aqueous hydrochloric acid solution before mixing of the aqueous hydrochloric acid solution and the alkaline aqueous solution of the crude phenylenedioxydiacetic acids, and the end temperature under the same conditions is Indicates the temperature of the mixture when all the aqueous alkali solutions of diacetic acids are mixed with the aqueous hydrochloric acid solution. The amount of addition refers to the total weight of crude phenylenedioxydiacetic acids in an aqueous alkali solution of 100%.
Represents the weight ratio of the aqueous alkali solution mixed at 0 to 50 ° C., and the term “time” represents the time required for mixing the aqueous hydrochloric acid solution and the total amount of the aqueous alkaline phenylenedioxydiacetic acid solution. In addition, the heat retention temperature refers to the temperature of the mixture obtained by keeping the mixture of the aqueous hydrochloric acid solution and the total amount of the crude phenylenedioxydiacetic acids in the alkaline aqueous solution for 1 hour.

【0023】[0023]

【表1】 【table 1】

【0024】[0024]

【発明の効果】本発明によれば、精フェニレンジオキシ
ジ酢酸類を高純度、高収率で製造し得る。
According to the present invention, purified phenylenedioxydiacetic acids can be produced with high purity and high yield.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】下記一般式(I) (式中、Rはハロゲン、カルボキシ基または炭素数4以
下の炭化水素基を表し、nは0〜3の整数を表す。)で
示されるフェニレンジオキシジ酢酸類を主成分とする粗
フェニレンジオキシジ酢酸類のアルカリ水溶液を鉱酸に
より酸析せしめた後、保温することによる精フェニレン
ジオキシジ酢酸類の製造方法において、粗フェニレンジ
オキシジ酢酸類のアルカリ水溶液の少なくとも10重量
%を0〜50℃下で酸析せしめ、保温を80〜110℃
で実施することを特徴とする精フェニレンジオキシジ酢
酸類の製造方法。
[Claim 1] The following general formula (I) (Wherein R represents a halogen, a carboxy group or a hydrocarbon group having 4 or less carbon atoms, and n represents an integer of 0 to 3). In a method for producing purified phenylenedioxydiacetic acids by subjecting an alkaline aqueous solution of oxydiacetic acids to acid precipitation with a mineral acid and keeping the temperature, at least 10% by weight of the aqueous alkali solution of crude phenylenedioxydiacetic acids is reduced to 0%. Acid precipitation at ~ 50 ° C, keeping the temperature at 80 ~ 110 ° C
A process for producing purified phenylenedioxydiacetic acids.
【請求項2】粗フェニレンジオキシジ酢酸類のアルカリ
水溶液が、下記一般式(II) (式中、R、nは前記と同じ意味を表す。)で示される
ジヒドロキシベンゼン類とハロゲン化酢酸とをアルカリ
水溶液中にて反応せしめることにより得られた粗フェニ
レンジオキシジ酢酸類のアルカリ水溶液であることを特
徴とする精フェニレンジオキシジ酢酸類の製造方法。
2. An alkaline aqueous solution of crude phenylenedioxydiacetic acids is represented by the following general formula (II): (Wherein, R and n represent the same meanings as described above). An alkaline aqueous solution of crude phenylenedioxydiacetic acids obtained by reacting a dihydroxybenzene represented by the formula (I) with a halogenated acetic acid in an aqueous alkaline solution. A process for producing purified phenylenedioxydiacetic acids.
【請求項3】ジヒドロキシベンゼン類が、レゾルシンお
よび/またはヒドロキノンであることを特徴とする請求
項2記載の製造方法。
3. The method according to claim 2, wherein the dihydroxybenzenes are resorcinol and / or hydroquinone.
【請求項4】ハロゲン化酢酸が、モノクロロ酢酸である
ことを特徴とする請求項2〜3記載の製造方法。
4. The method according to claim 2, wherein the halogenated acetic acid is monochloroacetic acid.
【請求項5】鉱酸が塩酸及び/又は硫酸であることを特
徴とする請求項1〜4記載の製造方法。
5. The method according to claim 1, wherein the mineral acid is hydrochloric acid and / or sulfuric acid.
JP2000021686A 1999-02-02 2000-01-31 Method for producing purified phenylenedioxydiacetic acids Expired - Fee Related JP4529217B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000021686A JP4529217B2 (en) 1999-02-02 2000-01-31 Method for producing purified phenylenedioxydiacetic acids

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11-24926 1999-02-02
JP2492699 1999-02-02
JP2000021686A JP4529217B2 (en) 1999-02-02 2000-01-31 Method for producing purified phenylenedioxydiacetic acids

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000290222A true JP2000290222A (en) 2000-10-17
JP4529217B2 JP4529217B2 (en) 2010-08-25

Family

ID=26362512

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000021686A Expired - Fee Related JP4529217B2 (en) 1999-02-02 2000-01-31 Method for producing purified phenylenedioxydiacetic acids

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4529217B2 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002308823A (en) * 2001-04-06 2002-10-23 Sumitomo Chem Co Ltd Method for producing phenylenedioxydiacetic acids
JP2002308822A (en) * 2001-04-06 2002-10-23 Sumitomo Chem Co Ltd Method for producing phenylenedioxydiacetic acids
JP2009500322A (en) * 2005-06-29 2009-01-08 インドスペック ケミカル コーポレイション Process for producing phenylenedioxydiacetic acid and use thereof

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04173764A (en) * 1990-11-07 1992-06-22 Mitsubishi Kasei Corp Production of 1,3-phenylenedioxydiacetic acid

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04173764A (en) * 1990-11-07 1992-06-22 Mitsubishi Kasei Corp Production of 1,3-phenylenedioxydiacetic acid

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002308823A (en) * 2001-04-06 2002-10-23 Sumitomo Chem Co Ltd Method for producing phenylenedioxydiacetic acids
JP2002308822A (en) * 2001-04-06 2002-10-23 Sumitomo Chem Co Ltd Method for producing phenylenedioxydiacetic acids
JP2009500322A (en) * 2005-06-29 2009-01-08 インドスペック ケミカル コーポレイション Process for producing phenylenedioxydiacetic acid and use thereof

Also Published As

Publication number Publication date
JP4529217B2 (en) 2010-08-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH10503530A (en) Method for producing halo-substituted aromatic acids
JP3182464B2 (en) 1-cyanomethyl-4-carboxymethyl-2-ketopiperazine, salts thereof, and their preparation
JP2000290222A (en) Production of pure phenylenedioxydiacetic acids
CN1184220C (en) Process for the preparation of 5-carboxy-phthalide and its use for the production of CITALOPRAM
JP2000290228A (en) Production of pure phenylenedioxydiacetic acids
US4618701A (en) Process for preparing 6-acetoxy-2-naphthoic-acid and pure 6-hydroxy-2-naphthoic acid
JP3684546B2 (en) Production of α, α-dimethylphenylacetic acid from α, α-dimethylbenzyl cyanide under normal pressure
JPH0699361B2 (en) Method for producing ether carboxylate
KR880002623B1 (en) Selective acylation of hydroxyamino-arylsulfonic acids
JP2501852B2 (en) Process for producing S-carboxymethyl-L-cysteine
JP3235914B2 (en) Method for producing 4,5-dichlorophthalic acid or a salt thereof
CN111689881B (en) Synthetic method of azosemide intermediate
JP3723584B2 (en) Preparation of 4-hydroxy-2,3,5-trifluorobenzoic acid
KR0124964B1 (en) Process for carboxybenzaldehyde from residue of dimethylterephthalate
JP2002308823A (en) Method for producing phenylenedioxydiacetic acids
JPS63188647A (en) Production of bis(3-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)acetic acids
JPH0680031B2 (en) Method for separating dihydroxybenzoic acid isomers
SU963462A3 (en) Process for producing 2-acrylpropionic acid
JP4379968B2 (en) Method for producing binuclear dimethylol compound
JPH04273844A (en) Preparation of 2,2&#39;-oxydisuccinic acid salt
SU349162A1 (en)
EP0861841B1 (en) Process for producing 2-amino-6-iodopurine
US6180801B1 (en) Method for manufacturing 3-isochromanone
JP2641022B2 (en) Purification method of 4,4&#39;-dihydroxydiphenyl sulfone
JP2002308822A (en) Method for producing phenylenedioxydiacetic acids

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20061213

RD05 Notification of revocation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7425

Effective date: 20080125

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090804

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090918

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20091027

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20091221

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100406

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100420

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100518

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100531

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130618

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees