JP2000272262A - Direct drawing type lithographic printing plate original plate - Google Patents

Direct drawing type lithographic printing plate original plate

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JP2000272262A
JP2000272262A JP11079509A JP7950999A JP2000272262A JP 2000272262 A JP2000272262 A JP 2000272262A JP 11079509 A JP11079509 A JP 11079509A JP 7950999 A JP7950999 A JP 7950999A JP 2000272262 A JP2000272262 A JP 2000272262A
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JP
Japan
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compound
acid
layer
heat
printing plate
Prior art date
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JP11079509A
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Japanese (ja)
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Kazuoki Goto
一起 後藤
Koichi Nagase
公一 長瀬
Gentaro Obayashi
元太郎 大林
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Publication date
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Publication of JP2000272262A publication Critical patent/JP2000272262A/en
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/16Waterless working, i.e. ink repelling exposed (imaged) or non-exposed (non-imaged) areas, not requiring fountain solution or water, e.g. dry lithography or driography

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve an image reproducibility while keeping an ink mileage favorable by providing a heat-sensitive layer containing a compound which can be decomposed by the action of a laser radiation, and a thermo-setting compound, and an ink repelling layer in order on a base sheet, and making the heat-sensitive layer contain an organic complex compound. SOLUTION: A heat-sensitive layer in this direct drawing type lithographic printing plate original plate wherein on a board, the heatsensitive layer and an ink repelling layer are provided in this order, is formed of a substance containing (a) a compound which can be decomposed by the action of a laser radiation, and (b) a thermo-setting compound. As the compound (a), ammonium nitrate, potassium nitrate, sodium nitrate, a carbonic ester compound or the like can be counted, and as the compound (b), a novolac resin and a resol resin, a phenol-furfural resin or the like can be counted. In addition, such a heat- sensitive layer is made to contain an organic complex compound such as an organic complex salt wherein an organic ligand is coordinated in a metal. As the ink repelling layer, a silicone rubber layer is used.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザー光で直接
製版できる直描型平版印刷版原版に関するものであり、
特に湿し水を用いずに印刷が可能な直描型水なし平版印
刷版原版に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a direct drawing type lithographic printing plate precursor that can be directly made by laser light.
In particular, the present invention relates to a direct drawing type waterless planographic printing plate precursor capable of printing without using dampening solution.

【0002】[0002]

【従来の技術】製版用フィルムを使用しないで、原稿か
ら直接オフセット印刷版を作製する、いわゆる直描型製
版は、熟練度を必要としない簡易性、短時間で印刷版が
得られる迅速性、多様なシステムから品質とコストに応
じて選択可能である合理性などの特徴を生かして、軽印
刷業界のみでなく、一般オフセット印刷、フレキソ印刷
の分野にも進出し始めている。特に最近では、プリプレ
スシステムやイメージセッター、レーザープリンタなど
の出力システムの急激な進歩によって新しいタイプの各
種直描型平版印刷版が開発されている。これらの直描型
平版印刷版を製版方法から分類すると、レーザー光を照
射する方法、サーマルヘッドで書き込む方法、ピン電極
で電圧を部分的に印加する方法、インクジェットでイン
キ反撥層またはインキ着肉層を形成する方法などが挙げ
られる。なかでも、レーザー光を用いる方法は解像度、
および製版速度の面で他の方式よりも優れており、その
種類も多い。
2. Description of the Related Art A so-called direct drawing type plate making, in which an offset printing plate is produced directly from an original without using a plate making film, is simple, which does not require skill, rapidity in which a printing plate can be obtained in a short time, Taking advantage of features such as rationality that can be selected from various systems according to quality and cost, the company has begun to enter not only the light printing industry but also the fields of general offset printing and flexographic printing. In particular, a new type of various direct-drawing lithographic printing plates has recently been developed with the rapid progress of output systems such as a prepress system, an image setter, and a laser printer. These direct-drawing lithographic printing plates can be classified according to plate-making methods, such as a method of irradiating a laser beam, a method of writing with a thermal head, a method of partially applying a voltage with a pin electrode, an ink repellent layer or an ink-coated layer by inkjet. And the like. Above all, the method using laser light is resolution,
It is superior to other methods in terms of plate making speed and there are many types.

【0003】このレーザー光を用いる印刷版はさらに、
光反応によるフォトンモードのものと、光熱変換を行っ
て熱反応を起こさせるヒートモードの2つのタイプに分
けられる。特にヒートモードの方式は、明室で取り扱え
るといった利点があり、また光源となる半導体レーザー
の急激な進歩によって、最近その有用性が見直されてき
ている。
[0003] The printing plate using the laser light further includes:
There are two types: a photon mode by photoreaction and a heat mode in which photothermal conversion is performed to cause a thermal reaction. In particular, the heat mode method has an advantage that it can be handled in a bright room, and its usefulness has recently been reviewed due to the rapid progress of a semiconductor laser as a light source.

【0004】例えば、米国特許第5339737号明細
書、米国特許第5353705号明細書、特開平6−5
5723号公報、米国特許第5378580号明細書、
特開平7−164773号公報、特開平6−18675
0号公報、特開平7−309001号公報、特開平9−
104182号公報、特開平9−146264号公報、
特開平9−146265号公報、特開平9−23692
7号公報、特開平9−244228号公報および米国特
許第5487338号明細書、米国特許5385092
号明細書、米国特許第5649486号明細書、米国特
許第5704291号明細書、米国特許第557063
6号明細書にはレーザー光を光源として用いる直描型水
なし平版印刷版原版およびその製版方法などが記載され
ている。
For example, US Pat. No. 5,339,737, US Pat. No. 5,353,705, JP-A-6-5-5
No. 5723, U.S. Pat. No. 5,378,580,
JP-A-7-164773, JP-A-6-18675
0, JP-A-7-309001, JP-A-9-
104182, JP-A-9-146264,
JP-A-9-146265, JP-A-9-23692
No. 7, JP-A-9-244228, U.S. Pat. No. 5,487,338, U.S. Pat.
No., US Pat. No. 5,649,486, US Pat. No. 5,704,291, US Pat. No. 5,570,063
No. 6 describes a direct-drawing waterless planographic printing plate precursor using a laser beam as a light source, a plate making method thereof, and the like.

【0005】この熱破壊方式の印刷版原版の感熱層は、
レーザー光吸収化合物として主としてカーボンブラック
を用い、熱分解化合物としてニトロセルロースを使用し
ている。そしてこのカーボンブラックがレーザー光を吸
収することによって熱エネルギーに変換され、その熱で
感熱層が破壊される。そして最終的に、現像によってこ
の部分を除去することによって、表面のシリコーンゴム
層が同時に剥離され、インキ着肉部となる。しかしなが
らこの印刷版は、感熱層を破壊して画像を形成すること
から画線部のセルの深さが深くなり、微少網点でのイン
キ着肉性が悪く、インキマイレージが悪いという問題点
があった。更に、感熱層を熱破壊させ易くするために、
架橋構造を形成しており印刷版の耐刷性が悪いという問
題もあった。更にこの印刷版は感度が低く、感熱層を破
壊させるために高いレーザー光の強度が必要という問題
点もあった。
[0005] The heat-sensitive layer of the printing plate precursor of this thermal destruction method is
Carbon black is mainly used as a laser light absorbing compound, and nitrocellulose is used as a thermal decomposition compound. The carbon black is converted into thermal energy by absorbing laser light, and the heat destroys the heat-sensitive layer. Finally, by removing this portion by development, the silicone rubber layer on the surface is simultaneously peeled off to form an ink-coated portion. However, this printing plate has a problem in that since the image is formed by destroying the heat-sensitive layer, the depth of the cells in the image area becomes deep, the ink deposition property at fine halftone dots is poor, and the ink mileage is poor. there were. Furthermore, in order to make the heat-sensitive layer easier to thermally destroy,
There is also a problem that the printing plate has poor press life due to the formation of a crosslinked structure. Furthermore, this printing plate has a problem that the sensitivity is low and a high laser light intensity is required to destroy the heat-sensitive layer.

【0006】特開平9−239943号公報では、レー
ザー光を熱に変換することによりシリコーンゴム層との
密着性が低下する層、および固形分量に対して10〜2
0重量%のオルガノハイドロジェンシロキサンを含有す
る付加型シリコーンゴム層を有するヒートモードの湿し
水不要平版印刷原版が提案されている。しかしながら、
本提案においても感熱層は基本的にカーボンブラックと
ニトロセルロースより構成されており、レーザー照射、
現像により除去されるタイプであり、インキ受容性層は
感熱層の下層のプライマー層であるため、インキマイレ
ージの問題や製版に要するレーザー光の強度の問題を有
していた。特開平9−244228号公報は、プライマ
ー層に中空ポリマー微粒子を含有させることによって高
感度化を可能にする提案である。しかしながら、インキ
マイレージの問題は依然として残っていた。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-239943 discloses a layer in which the adhesion to a silicone rubber layer is reduced by converting laser light into heat and a solid content of 10 to 2%.
There has been proposed a heat mode fountain solution-free lithographic printing plate precursor having an addition type silicone rubber layer containing 0% by weight of an organohydrogensiloxane. However,
In this proposal, the heat-sensitive layer is basically composed of carbon black and nitrocellulose.
Since the ink-receiving layer is a primer layer below the heat-sensitive layer, it has a problem of ink mileage and a problem of the intensity of laser light required for plate-making. Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 9-244228 is a proposal which enables high sensitivity by including hollow polymer fine particles in a primer layer. However, the problem of ink mileage still remained.

【0007】特開平9−239942号公報では、レー
ザー感応層中に酸を発生する物質と、酸の作用で分解す
る高分子化合物を含有する剥離現像タイプの印刷版が提
案されているが、レーザー光照射の工程と加熱工程とい
う二つの工程が必要であるため工程が煩雑になり、また
微細な網点の再現性が悪いという剥離現像固有の問題が
存在する。
Japanese Unexamined Patent Publication No. 9-239942 proposes a release development type printing plate containing a substance which generates an acid in a laser sensitive layer and a polymer compound which is decomposed by the action of an acid. Since two steps, a light irradiation step and a heating step, are required, the steps are complicated, and there is a problem inherent in peeling development that reproducibility of fine halftone dots is poor.

【0008】その他、米国特許第5379698号明細
書、特開平7−314934号公報、特開平9−236
927号公報には、金属薄膜を感熱層として用いる直描
型水なし平版印刷版が記載されている。この印刷版材
は、感熱層がかなり薄いために、非常にシャープな画像
が得られ、印刷版の解像度という面では有利であるが、
基材と感熱層の接着性が悪く印刷中に非画線部の感熱層
が剥離し、インキが付着し印刷物上で欠点となるという
問題点があった。
In addition, US Pat. No. 5,379,698, JP-A-7-314934, JP-A-9-236.
No. 927 discloses a direct-drawing waterless planographic printing plate using a metal thin film as a heat-sensitive layer. Since this printing plate material has a very thin heat-sensitive layer, a very sharp image can be obtained, which is advantageous in terms of the resolution of the printing plate.
Due to poor adhesion between the substrate and the heat-sensitive layer, the heat-sensitive layer in the non-image area was peeled off during printing, and there was a problem that ink adhered and became a defect on printed matter.

【0009】以上のようなレーザー光を用いた平版印刷
版の他に、特に直描型水なし平版印刷版に関するものと
して、熱接着型の直描型水なし平版印刷版が考えられ
る。このタイプの版材は、レーザー光照射部のシリコー
ンゴム層が選択的に残存し、非画線部として働くもので
ある。このようなタイプの版材としては、例えば特開平
9−68794号公報、特開平9−80745号公報、
特開平9−120157号公報、特開平9−19765
9号公報などが提案されている。特開平9−12015
7号公報で提案されている版材は、レーザー光照射によ
り発生した酸を触媒として感光層の反応を進め、画像を
再現するというものである。しかしながら、酸発生後、
反応を進めるためには、熱処理という工程が必要であっ
た。さらに、酸発生後から熱処理までの時間が画像再現
性に影響を与えるため、画像再現性が不安定となるとい
う問題を有していた。特開平9−80745号公報、特
開平9−197659号公報で提案されている版材も、
感光層中に活性光線の照射で酸を発生しうる化合物およ
び酸の存在下で反応し得る結合を有する化合物が含まれ
ており、レーザー光照射後、発生した酸を用いて反応を
進めるタイプであるため、上記と同様の問題を有してい
た。さらに、熱接着型の根本的な問題点としては、印刷
版においては非画線部の面積が60〜70%を占めるた
め、1枚の印刷版を作製する上でのレーザー照射時間が
長くなり、結果としてレーザーの寿命を短くしてしまう
という問題が存在している。
[0009] In addition to the lithographic printing plate using laser light as described above, a heat-bonding direct-drawing waterless lithographic printing plate can be considered as a direct drawing type waterless lithographic printing plate. In this type of plate material, the silicone rubber layer in the laser beam irradiating portion selectively remains, and functions as a non-image portion. As plate materials of this type, for example, JP-A-9-68794, JP-A-9-80745,
JP-A-9-120157 and JP-A-9-19765
No. 9 has been proposed. JP-A-9-122015
In the plate material proposed in Japanese Patent Publication No. 7-27, the reaction of the photosensitive layer is advanced by using an acid generated by laser light irradiation as a catalyst to reproduce an image. However, after acid generation,
In order to advance the reaction, a step of heat treatment was required. Further, since the time from the generation of the acid to the heat treatment affects the image reproducibility, there is a problem that the image reproducibility becomes unstable. Plate materials proposed in JP-A-9-80745 and JP-A-9-197659 are also described.
The photosensitive layer contains a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic rays and a compound having a bond capable of reacting in the presence of the acid.After irradiation with laser light, the reaction proceeds using the generated acid. For this reason, there was a problem similar to the above. Further, as a fundamental problem of the thermal bonding type, since the area of the non-image area occupies 60 to 70% in the printing plate, the laser irradiation time for producing one printing plate becomes longer. As a result, there is a problem that the life of the laser is shortened.

【0010】このように直描型の印刷版の開発が進む中
で、印刷機上でレーザー照射、現像し、そのまま印刷を
行おうとする機上製版の技術も開発が進んでいる。特開
平9−300837号公報は、その一例であり、フィル
ム基材上にレーザービームを受けて発泡する発泡層、シ
リコーン樹脂層、ベースフィルム層よりなる機上製版用
記録版材に関する提案である。この版材では、発泡層の
発泡で歪みを生じたシリコーンゴム層をベースフィルム
の剥離により現像しようとするものであるが、微細な網
点の再現性が悪いという剥離現像固有の問題が存在して
いた。
While the development of a direct-printing printing plate is in progress, the technology of on-press plate making, in which laser irradiation and development are performed on a printing machine and printing is performed as it is, is also progressing. Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 9-300837 is an example, and proposes a recording plate material for on-press plate making comprising a foam layer, a silicone resin layer, and a base film layer, which foam on receiving a laser beam on a film substrate. In this plate material, the silicone rubber layer which is distorted by foaming of the foam layer is to be developed by peeling the base film, but there is a problem inherent in peeling development that reproducibility of fine halftone dots is poor. I was

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】本発明はかかる従来技
術のすべての欠点を改良し、インキマイレージを良好に
保持したまま、画像再現性の良好なネガ型の直描型水な
し平版印刷版を提供するものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention solves all of the drawbacks of the prior art and provides a negative direct drawing type waterless lithographic printing plate having good image reproducibility while maintaining good ink mileage. To provide.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は基板
上に、少なくとも(a)レーザー照射の作用で分解し得
る化合物および(b)熱硬化性の化合物を含有する感熱
層並びにインキ反発層を少なくともこの順に有する直描
型平版印刷版原版であって、前記感熱層中に有機錯化合
物を含有することを特徴とする直描型平版印刷版原版で
ある。
That is, the present invention provides a heat sensitive layer and an ink repellent layer containing at least (a) a compound decomposable by the action of laser irradiation and (b) a thermosetting compound on a substrate. A direct-drawing lithographic printing plate precursor having at least this order, wherein the heat-sensitive layer contains an organic complex compound.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下に本発明を詳しく説明する。
本発明は、基板上に、少なくとも(a)レーザー照射の
作用で分解し得る化合物、および(b)熱硬化性の化合
物、を含有する感熱層、およびインキ反発層を少なくと
もこの順に有する直描型平版印刷版原版であって、該感
熱層中に有機錯化合物を含有することである。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail.
The present invention provides a direct-drawing type having, on a substrate, at least a thermosensitive layer containing (a) a compound decomposable by the action of laser irradiation, and (b) a thermosetting compound, and an ink repellent layer. A lithographic printing plate precursor, wherein the heat-sensitive layer contains an organic complex compound.

【0014】まず、本発明の感熱層は(a)レーザー照
射の作用で分解し得る化合物を有することが必要であ
る。ここで言う、レーザー照射の作用で分解し得る化合
物とは、(1)その化合物自体はレーザー光を吸収しな
いが、レーザー光を吸収する別の化合物の作用により化
合物が分解する場合と、(2)その化合物自体がレーザ
ー光を吸収して分解する場合が挙げられる。
First, it is necessary that the heat-sensitive layer of the present invention has (a) a compound which can be decomposed by the action of laser irradiation. The compound that can be decomposed by the action of laser irradiation here means (1) the compound itself does not absorb laser light, but the compound is decomposed by the action of another compound that absorbs laser light; ) The compound itself may absorb laser light and decompose.

【0015】(1)その化合物自体はレーザー光を吸収
しないが、レーザー光を吸収する別の化合物の作用によ
り分解する化合物としては、硝酸アンモニウム、硝酸カ
リウム、硝酸ナトリウム、炭酸エステル化合物、ニトロ
セルロース等のニトロ化合物や、過酸化ベンゾイル、過
安息香酸エステルなどの有機過酸化物、無機過酸化物、
ポリビニルピロリドン、アゾジカルボンアミド、アゾビ
スイソブチロニトリルなどのアゾ化合物、N,N’−ジ
ニトロペンタメチレンテトラミンなどのニトロソ化合
物、アジド化合物、ジアゾ化合物あるいはp−トルエン
スルホニルヒドラジン、p,p’−オキシビス(ベンゼ
ンスルホヒドラジン)などのスルホニルヒドラジド化合
物、さらにはその他の低分子、高分子ヒドラジン誘導
体、などを挙げることができる。さらには、レーザー光
の作用で酸やアミンを発生する化合物と、発生した酸あ
るいはアミンの作用で分解する化合物も、本発明に使用
することができる。このような化合物は、感熱層中の全
固形分に対し、0.1〜70重量%、好ましくは1〜5
0重量%、さらに好ましくは5〜30重量%を添加する
ことができる。
(1) The compound itself does not absorb laser light, but as a compound decomposed by the action of another compound that absorbs laser light, nitro compounds such as ammonium nitrate, potassium nitrate, sodium nitrate, carbonate compound, nitrocellulose, etc. Compounds, organic peroxides such as benzoyl peroxide and perbenzoate, inorganic peroxides,
Azo compounds such as polyvinylpyrrolidone, azodicarbonamide, azobisisobutyronitrile, nitroso compounds such as N, N'-dinitropentamethylenetetramine, azide compounds, diazo compounds or p-toluenesulfonylhydrazine, p, p'-oxybis Sulfonyl hydrazide compounds such as (benzenesulfohydrazine), and other low molecular weight and high molecular weight hydrazine derivatives. Furthermore, compounds that generate an acid or an amine under the action of laser light and compounds that decompose under the action of the generated acid or amine can also be used in the present invention. Such a compound is used in an amount of 0.1 to 70% by weight, preferably 1 to 5% by weight, based on the total solid content in the thermosensitive layer.
0% by weight, more preferably 5 to 30% by weight can be added.

【0016】また、レーザー光を吸収する別の化合物と
しては、公知の光熱変換物質を挙げることができる。光
熱変換物質の具体例としては、カーボンブラック、チタ
ンブラック、アニリンブラック、シアニンブラックなど
の黒色顔料、フタロシアニン、ナフタロシアニン系の緑
色顔料、カーボングラファイト、ジアミン系金属錯体、
ジチオール系金属錯体、フェノールチオール系金属錯
体、メルカプトフェノール系金属錯体、結晶水含有無機
化合物、硫酸銅、硫化クロム、珪酸塩化合物や、酸化チ
タン、酸化バナジウム、酸化マンガン、酸化鉄、酸化コ
バルト、酸化タングステンなどの金属酸化物、これらの
金属の水酸化物、硫酸塩などを挙げることができる。こ
れらのなかでも、光熱変換率、経済性および取り扱い性
の面から、カーボンブラックが好ましい。
As another compound that absorbs laser light, a known photothermal conversion material can be used. Specific examples of the light-heat conversion material include black pigments such as carbon black, titanium black, aniline black, and cyanine black, phthalocyanine, naphthalocyanine-based green pigments, carbon graphite, and diamine-based metal complexes.
Dithiol-based metal complex, phenolthiol-based metal complex, mercaptophenol-based metal complex, water-containing inorganic compound, copper sulfate, chromium sulfide, silicate compound, titanium oxide, vanadium oxide, manganese oxide, iron oxide, cobalt oxide, oxidation Examples include metal oxides such as tungsten, hydroxides and sulfates of these metals. Among these, carbon black is preferred from the viewpoints of light-to-heat conversion rate, economy, and handleability.

【0017】また、赤外線または近赤外線を吸収する色
素、特に染料が光熱変換物質として好ましく使用され
る。特に好ましい色素としては、シアニン系、フタロシ
アニン系、ナフタロシアニン系、ジチオール金属錯体
系、ピアズレニウム系、スクアリリウム系、クロコニウ
ム系、アゾ系分散色素、ビスアゾ系、ビスアゾスチルベ
ン系、ナフトキノン系、アントラキノン系、ペリレン
系、ポリメチン系、インドアニリン金属錯体染料、分子
間型CT系、ベンゾチオピラン系、スピロピラン系、ニ
グロシン系、チオインジゴ系、ニトロソ系、キノリン
系、フルギド系の色素、特に染料などが挙げられる。
In addition, a dye that absorbs infrared or near-infrared light, particularly a dye, is preferably used as a photothermal conversion material. Particularly preferred dyes are cyanine-based, phthalocyanine-based, naphthalocyanine-based, dithiol metal complex-based, piasurenium-based, squarylium-based, croconium-based, azo-based disperse dyes, bisazo-based, bisazostilbene-based, naphthoquinone-based, anthraquinone-based, Examples include perylene, polymethine, indoaniline metal complex dyes, intermolecular CT, benzothiopyran, spiropyran, nigrosine, thioindigo, nitroso, quinoline, and fulgide dyes, particularly dyes.

【0018】これら光熱変換物質の含有量は、全感熱層
組成物に対して1〜40重量%が好ましく、より好まし
くは5〜25重量%である。1重量%よりも少ない場合
にはレーザー光に対する感度の向上効果が見られず、4
0重量%よりも多い場合には印刷版の耐刷性が低下しや
すい。
The content of these light-to-heat converting substances is preferably 1 to 40% by weight, more preferably 5 to 25% by weight, based on the whole heat-sensitive layer composition. When the amount is less than 1% by weight, the effect of improving sensitivity to laser light is not seen, and
If the amount is more than 0% by weight, the printing durability of the printing plate tends to decrease.

【0019】(2)レーザー光を吸収してそれ自体が分
解する化合物としては、上記の光熱変換作用を示す染
料、顔料のうち、比較的分解しやすいものを挙げること
ができる。特に好ましい色素としては、シアニン系、フ
タロシアニン系、ナフタロシアニン系、ジチオール金属
錯体系、ピアズレニウム系、スクアリリウム系、クロコ
ニウム系、アゾ系分散色素、ビスアゾ系、ビスアゾスチ
ルベン系、ナフトキノン系、アントラキノン系、ペリレ
ン系、ポリメチン系、インドアニリン金属錯体染料、分
子間型CT系、ベンゾチオピラン系、スピロピラン系、
ニグロシン系、チオインジゴ系、ニトロソ系、キノリン
系、フルギド系の色素、特に染料などが挙げられる。こ
れら化合物の含有量は、全感熱層組成物に対して1〜4
0重量%が好ましく、より好ましくは5〜25重量%で
ある。1重量%よりも少ない場合にはレーザー光に対す
る感度の向上効果が見られず、40重量%よりも多い場
合には印刷版の耐刷性が低下しやすい。
(2) Examples of the compound that absorbs laser light and decomposes itself include the dyes and pigments that exhibit the photothermal conversion effect and that are relatively easily decomposed. Particularly preferred dyes are cyanine-based, phthalocyanine-based, naphthalocyanine-based, dithiol metal complex-based, piasurenium-based, squarylium-based, croconium-based, azo-based disperse dyes, bisazo-based, bisazostilbene-based, naphthoquinone-based, anthraquinone-based, Perylene, polymethine, indoaniline metal complex dye, intermolecular CT, benzothiopyran, spiropyran,
Nigrosine-based, thioindigo-based, nitroso-based, quinoline-based, and fulgide-based pigments, particularly dyes, may be mentioned. The content of these compounds is 1 to 4 with respect to the total heat-sensitive layer composition.
It is preferably 0% by weight, more preferably 5 to 25% by weight. When the amount is less than 1% by weight, the effect of improving the sensitivity to laser light is not seen, and when it is more than 40% by weight, the printing durability of the printing plate tends to decrease.

【0020】このような(a)レーザー照射の作用で分
解し得る化合物としては、ポリメチン系近赤外吸収染
料、フタロシアニン系近赤外吸収染料、シアニン系近赤
外吸収染料、ジチオール金属錯体系近赤外吸収染料など
が好ましく、さらにはこれら近赤外吸収染料と有機過酸
化物、アゾ化合物、アジド化合物、ジアゾ化合物、ヒド
ラジン誘導体から選ばれる少なくとも1種の組み合わせ
が好ましい。
Compounds that can be decomposed by the action of laser irradiation (a) include polymethine-based near-infrared absorbing dyes, phthalocyanine-based near-infrared absorbing dyes, cyanine-based near-infrared absorbing dyes, and dithiol metal complex-based near-infrared absorbing dyes. Infrared absorbing dyes and the like are preferable, and further, a combination of these near infrared absorbing dyes and at least one selected from organic peroxides, azo compounds, azide compounds, diazo compounds, and hydrazine derivatives is preferable.

【0021】さらに、本発明の感熱層は(b)熱硬化性
の化合物を含有することが必要である。従来、感熱層、
インキ反発層をこの順に有する直描型平版印刷版におい
て、重合や架橋などの技術を応用してレーザー照射で感
熱層とインキ反発層の接着性が向上するタイプの印刷版
を作製しようとする試みはいくつかなされてきた。一
方、レーザー照射で感熱層とインキ反発層の接着性が低
下する、いわゆるネガ型の印刷版原版において、熱硬化
性化合物を利用した例は、原版の製造時に感熱層に架橋
構造を導入するために用いた例があるだけである。
Further, the heat-sensitive layer of the present invention needs to contain (b) a thermosetting compound. Conventionally, heat-sensitive layer,
Attempts to produce a type of printing plate in which the adhesiveness between the heat-sensitive layer and the ink repellent layer is improved by laser irradiation by applying techniques such as polymerization and cross-linking to a direct drawing type lithographic printing plate having an ink repellent layer in this order Some have been done. On the other hand, in the case of a so-called negative-type printing plate precursor, in which the adhesiveness between the heat-sensitive layer and the ink repellent layer is reduced by laser irradiation, an example using a thermosetting compound is to introduce a cross-linked structure into the heat-sensitive layer at the time of manufacturing the master plate. There is only an example used for

【0022】本発明における(b)熱硬化性の化合物と
は、印刷版原版の感熱層中にあって、レーザー照射の作
用で直接あるいは間接的に熱硬化し得る性能を依然とし
て有している化合物群のことを言う。このような(b)
熱硬化性の化合物としては、フェノール、クレゾール、
キシレノールなどのフェノール類とホルムアルデヒドの
縮合反応により得られるノボラック樹脂やレゾール樹
脂、フェノール・フルフラール樹脂、フラン樹脂、不飽
和ポリエステル、アルキド樹脂、ユリア樹脂、メラミン
樹脂、グアナミン樹脂、エポキシ樹脂、ジアリルフタレ
ート樹脂、不飽和ポリウレタン樹脂、ポリイミド前駆体
などを挙げることが出来るが、これらに限定されるもの
ではない。
The (b) thermosetting compound in the present invention refers to a compound in the heat-sensitive layer of a printing plate precursor, which still has the ability to be directly or indirectly thermoset by the action of laser irradiation. Say a group. Such (b)
Thermosetting compounds include phenol, cresol,
Novolak resin and resol resin, phenol / furfural resin, furan resin, unsaturated polyester, alkyd resin, urea resin, melamine resin, guanamine resin, epoxy resin, diallyl phthalate resin obtained by condensation reaction of phenols such as xylenol and formaldehyde, Examples include, but are not limited to, unsaturated polyurethane resins and polyimide precursors.

【0023】また、上記のごとく樹脂自体が反応するも
のの他に、反応性の官能基を有する化合物に熱反応性の
架橋剤を添加した組成物も、(b)熱硬化性の化合物と
して本発明に使用することができる。架橋剤としては架
橋性を有する公知の多官能性化合物が挙げられ、多官能
ブロックドイソシアネート、多官能エポキシ化合物、多
官能アクリレート化合物、多官能アルデヒド、多官能メ
ルカプト化合物、多官能アルコキシシリル化合物、多官
能アミン化合物、多官能カルボン酸、多官能ビニル化合
物、多官能ジアゾニウム塩、多官能アジド化合物、ヒド
ラジンなどが挙げられる。
In addition to the above-mentioned resins which react themselves, a composition comprising a compound having a reactive functional group and a heat-reactive cross-linking agent is also used as (b) a thermosetting compound of the present invention. Can be used for Examples of the crosslinking agent include known polyfunctional compounds having crosslinking properties, such as polyfunctional blocked isocyanate, polyfunctional epoxy compound, polyfunctional acrylate compound, polyfunctional aldehyde, polyfunctional mercapto compound, polyfunctional alkoxysilyl compound, Examples include a functional amine compound, a polyfunctional carboxylic acid, a polyfunctional vinyl compound, a polyfunctional diazonium salt, a polyfunctional azide compound, and hydrazine.

【0024】さらには、熱の作用で酸やアミンを発生す
る化合物と、発生した酸あるいはアミンの作用で硬化す
る化合物も本発明に使用することができる。
Further, a compound which generates an acid or an amine under the action of heat and a compound which cures under the action of the generated acid or amine can be used in the present invention.

【0025】このような(b)熱硬化性の化合物の感熱
層中に占める割合としては、感熱層の全固形分の10〜
95重量%、さらには30〜70重量%であることが好
ましい。熱硬化性の化合物の量が10重量%より少ない
場合は、感熱層の熱硬化による画線部感熱層の耐溶剤性
の向上効果が乏しくなることがある。一方、95重量%
より多い場合には、相対的に熱分解性化合物や光熱変換
物質が少なくなるためレーザー照射による画像形成性に
問題を生じる場合があるためである。
The proportion of (b) the thermosetting compound in the thermosensitive layer is preferably 10 to 10% of the total solid content of the thermosensitive layer.
It is preferably 95% by weight, more preferably 30 to 70% by weight. When the amount of the thermosetting compound is less than 10% by weight, the effect of improving the solvent resistance of the image-forming heat-sensitive layer by the heat-curing of the heat-sensitive layer may be poor. On the other hand, 95% by weight
If the amount is larger, the amount of the heat-decomposable compound or the light-to-heat conversion material is relatively reduced, which may cause a problem in image forming properties by laser irradiation.

【0026】本発明の最大の特徴は、上記のような感熱
層が有機錯化合物を含有することである。本発明で言う
有機錯化合物とは、金属に有機配位子が配意した有機錯
塩、金属に有機配位子および無機配位子が配位子した有
機無機錯塩、および金属と有機分子が酸素を介して共有
結合している金属アルコキシド類を含む。これらの中で
も、配位子が2個以上のドナー原子を有し、金属原子を
含む環を形成するような金属キレート化合物が、そのも
の自体の安定性や感熱層溶液の安定性などの面から本発
明に好ましく用いられる。
The most important feature of the present invention is that the above-mentioned thermosensitive layer contains an organic complex compound. The organic complex compound referred to in the present invention is an organic complex salt in which an organic ligand is coordinated with a metal, an organic-inorganic complex salt in which an organic ligand and an inorganic ligand are coordinated with a metal, and an organic complex salt in which a metal and an organic molecule are oxygen. And metal alkoxides covalently bonded through Among these, metal chelate compounds in which the ligand has two or more donor atoms and forms a ring containing a metal atom are considered to be important in terms of the stability of themselves and the stability of the thermosensitive layer solution. It is preferably used in the invention.

【0027】有機錯化合物を形成する主な金属として
は、Cu(I)、Ag(I)、Hg(I)、Hg(I
I)、Li、Na、K、Be(II)、B(III)、Zn
(II)、Cd(II)、Al(III)、Co(II)、Ni
(II)、Cu(II)、Ag(II)、Au(III)、Pd
(II)、Pt(II)、Ca(II)、Sr(II)、Ba
(II)、Ti(IV)、V(III)、V(IV)、Cr(II
I)、Mn(II)、Mn(III)、Fe(II)、Fe(II
I)、Co(III)、Pd(IV)、Pt(IV)、Sc(II
I)、Y(III)、Si(IV)、Sn(II)、Sn(I
V)、Pb(IV)、Ru(III)、Rh(III)、Os(I
II)、Ir(III)、Rb、Cs、Mg、Ni(IV)、
Ra、Zr(IV)、Hf(IV)、Mo(IV)、W(I
V)、Ge、In、ランタニド、アクチニド等が挙げら
れる。これらの中でもAl、Ti、Mn、Fe、Co、
Ni、Cu、Zn、Ge、In、Sn、Zr、Hfが好
ましい。
The main metals forming the organic complex compound are Cu (I), Ag (I), Hg (I) and Hg (I
I), Li, Na, K, Be (II), B (III), Zn
(II), Cd (II), Al (III), Co (II), Ni
(II), Cu (II), Ag (II), Au (III), Pd
(II), Pt (II), Ca (II), Sr (II), Ba
(II), Ti (IV), V (III), V (IV), Cr (II
I), Mn (II), Mn (III), Fe (II), Fe (II)
I), Co (III), Pd (IV), Pt (IV), Sc (II
I), Y (III), Si (IV), Sn (II), Sn (I
V), Pb (IV), Ru (III), Rh (III), Os (I
II), Ir (III), Rb, Cs, Mg, Ni (IV),
Ra, Zr (IV), Hf (IV), Mo (IV), W (I
V), Ge, In, lanthanides, actinides and the like. Among them, Al, Ti, Mn, Fe, Co,
Ni, Cu, Zn, Ge, In, Sn, Zr, and Hf are preferred.

【0028】また、配位子としては、O(酸素原子)、
N(窒素原子)、S(硫黄原子)などをドナー原子とし
て有する以下のような配位基を有する化合物が挙げられ
る。配位基の具体例としては、酸素原子をドナー原子と
するものとしては、−OH(アルコール、エノールおよ
びフェノール)、−COOH(カルボン酸)、>C=O
(アルデヒド、ケトン、キノン)、−O−(エーテ
ル)、−COOR(エステル)、−N=O(ニトロソ化
合物、N−ニトロソ化合物)、−NO2(ニトロ化合
物)、>N−O(N−オキシド)、−SO3H(スルホ
ン酸)、−PO32(亜リン酸)など、窒素原子をドナ
ー原子とするものとしては、−NH2(1級アミン、ア
ミド、ヒドラジン)、>NH(2級アミン、ヒドラジ
ン)、>N−(3級アミン)、−N=N−(アゾ化合
物、複素環化合物)、=N−OH(オキシム)、−NO
2(ニトロ化合物)、−N=0(ニトロソ化合物)、>
C=N−(シッフ塩基、複素環化合物)、>C=NH
(アルデヒド、およびケトンイミン、エナミン類)、硫
黄原子をドナー原子とするものとしては、−SH(チオ
ール)、−S−(チオエーテル)、>C=S(チオケト
ン、チオアミド)、=S−(複素環化合物)、−C(=
O)−SHあるいは−C(=S)−OHおよび−C(=
S)−SH(チオカルボン酸)、−SCN(チオシアナ
ート、イソチオシアナートなど)等が挙げられる。
As the ligand, O (oxygen atom),
Compounds having the following coordination groups having N (nitrogen atom), S (sulfur atom), etc. as donor atoms are mentioned. As specific examples of the coordinating group, those having an oxygen atom as a donor atom include -OH (alcohol, enol and phenol), -COOH (carboxylic acid), and> C = O
(Aldehydes, ketones, quinones), - O-(ether), - COOR (ester), - N = O (nitroso compounds, N- nitroso compounds), - NO 2 (nitro compound),> NO (N- oxide), - SO 3 H (sulfonic acid), - PO 3 like H 2 (phosphorous acid), a nitrogen atom as a donor atom, -NH 2 (1 amine, amide, hydrazine),> NH (Secondary amine, hydrazine),> N- (tertiary amine), -N = N- (azo compound, heterocyclic compound), = N-OH (oxime), -NO
2 (nitro compound), -N = 0 (nitroso compound),>
C = N- (Schiff base, heterocyclic compound),> C = NH
(Aldehydes and ketone imines, enamines), those having a sulfur atom as a donor atom include -SH (thiol), -S- (thioether),> C = S (thioketone, thioamide), and = S- (heterocycle). Compound), -C (=
O) -SH or -C (= S) -OH and -C (=
S) -SH (thiocarboxylic acid), -SCN (thiocyanate, isothiocyanate, etc.) and the like.

【0029】さらに、配位子の具体例の一部としては、
次のようなものが挙げられる。 (1)脂肪族カルボン酸として、ギ酸、酢酸、プロピオ
ン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、イソ吉草酸、シュウ
酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、マレイン酸、フ
マル酸、シトラコン酸、イタコン酸、トリカルバリル
酸、プロパン−1,1,2,3−テトラカルボン酸、ブ
タン−1,2,3,4−テトラカルボン酸、グリコール
酸、チオグリコール酸、乳酸、β−ヒドロキシプロピオ
ン酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、イソクエン酸、ア
ロイソクエン酸、グルコン酸、ピルビン酸、オキサル
酸、ジグリコール酸、チオジグリコール酸、メルカプト
コハク酸、ジメルカプトコハク酸、など。
Further, as a part of specific examples of the ligand,
Examples include the following: (1) As aliphatic carboxylic acids, formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, isobutyric acid, valeric acid, isovaleric acid, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, itacone Acid, tricarballylic acid, propane-1,1,2,3-tetracarboxylic acid, butane-1,2,3,4-tetracarboxylic acid, glycolic acid, thioglycolic acid, lactic acid, β-hydroxypropionic acid, apple Acid, tartaric acid, citric acid, isocitric acid, alloisocitric acid, gluconic acid, pyruvic acid, oxalic acid, diglycolic acid, thiodiglycolic acid, mercaptosuccinic acid, dimercaptosuccinic acid, and the like.

【0030】(2)芳香族カルボン酸、アルデヒドおよ
び関連化合物として、安息香酸、フタル酸、マンデル
酸、サリチルアルデヒド、サリチル酸、5−スルホサリ
チル酸、α−カルボキシ−O−アニス酸、O−(カルボ
キシメチルチオ)安息香酸、トロポロン、メチルトロポ
ロン、タイロン、クロモトロープ酸、など。
(2) As aromatic carboxylic acids, aldehydes and related compounds, benzoic acid, phthalic acid, mandelic acid, salicylaldehyde, salicylic acid, 5-sulfosalicylic acid, α-carboxy-O-anisic acid, O- (carboxymethylthio) ) Benzoic acid, tropolone, methyltropolone, tyrone, chromotropic acid, etc.

【0031】(3)アミンおよびその誘導体として、エ
チレンジアミン、N−メチルエチレンジアミン、N−エ
チルエチレンジアミン、N−n−プロピルエチレンジア
ミン、N−イソプロピルエチレンジアミン、N−(2−
ヒドロキシエチル)エチレンジアミン、N,N−ジメチ
ルエチレンジアミン、N,N−ジエチルエチレンジアミ
ン、N,N’−ジエチルエチレンジアミン、N,N’−
ジ−n−プロピルエチレンジアミン、N,N’−ジ(2
−ヒドロキシエチル)エチレンジアミン、N,N,
N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン、ジアミノ
プロパン、ジアミノブタン、トリメチレンジアミン、テ
トラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ジア
ミノシクロヘキサン、ジアミノシクロヘプタン、トリエ
チレンジアミン、トリアミノプロパン、1,3−ジアミ
ノ−2−アミノメチルプロパン、ジエチレントリアミ
ン、3,3’−ジアミノジプロピルアミン、トリエチレ
ンテトラミン、2,2’,2”−トリアミノトリエチル
アミン、エタノールアミン、2−メトキシエチルアミ
ン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、2−
メルカプトエチルアミン、2−アミノエチルメチルスル
フィド、ジ(2−アミノエチル)エーテル、2−アミノ
−2’−ヒドロキシジエチルスルフィド、ビス(2−ア
ミノエチル)スルフィド、ピリジン、アミノメチルピリ
ジン、ピリジン−2−カルボン酸、ピリジンジカルボン
酸、ニコチン酸ヒドラジド、イソニコチン酸ヒドラジ
ド、ピリドキサミン、ピペリジン、ピペリジンジカルボ
ン酸、イミダゾール、ヒスタミン、3−メチルヒスタミ
ン、など。
(3) As amines and derivatives thereof, ethylenediamine, N-methylethylenediamine, N-ethylethylenediamine, Nn-propylethylenediamine, N-isopropylethylenediamine, N- (2-
(Hydroxyethyl) ethylenediamine, N, N-dimethylethylenediamine, N, N-diethylethylenediamine, N, N′-diethylethylenediamine, N, N′-
Di-n-propylethylenediamine, N, N'-di (2
-Hydroxyethyl) ethylenediamine, N, N,
N ', N'-tetramethylethylenediamine, diaminopropane, diaminobutane, trimethylenediamine, tetramethylenediamine, pentamethylenediamine, diaminocyclohexane, diaminocycloheptane, triethylenediamine, triaminopropane, 1,3-diamino-2- Aminomethylpropane, diethylenetriamine, 3,3′-diaminodipropylamine, triethylenetetramine, 2,2 ′, 2 ″ -triaminotriethylamine, ethanolamine, 2-methoxyethylamine, diethanolamine, triethanolamine, 2-
Mercaptoethylamine, 2-aminoethylmethyl sulfide, di (2-aminoethyl) ether, 2-amino-2'-hydroxydiethylsulfide, bis (2-aminoethyl) sulfide, pyridine, aminomethylpyridine, pyridine-2-carboxylic acid Acids, pyridinedicarboxylic acid, nicotinic hydrazide, isonicotinic hydrazide, pyridoxamine, piperidine, piperidinedicarboxylic acid, imidazole, histamine, 3-methylhistamine, and the like.

【0032】(4)アミノポリカルボン酸として、イミ
ノジ酢酸、イミノジプロピオン酸、N−メチルイミノジ
酢酸、N−(3,3−ジメチルブチル)イミノジ酢酸、
フェニルイミノジ酢酸、ヒドロキシエチルイミノジ酢
酸、メルカプトエチルイミノジ酢酸、ヒドロキシエチル
イミノジプロピオン酸、ヒドロキシプロピルイミノジ酢
酸、2−ヒドロキシシクロヘキシルイミノジ酢酸、メト
キシエチルイミノジ酢酸、メチルチオエチルイミノジ酢
酸、2−ヒドロキシベンジルイミノジ酢酸、N−(カル
ボキシフェニル)イミノジ酢酸、N−(カルバモイルメ
チル)イミノジ酢酸、シアノメチルイミノジ酢酸、アミ
ノエチルイミノジ酢酸、ホスホノメチルイミノジ酢酸、
スルホエチルイミノジ酢酸、スルホフェニルイミノジ酢
酸、ニトリロトリ酢酸、カルボキシエチルイミノジ酢
酸、カルボキシメチルイミノジプロピオン酸、ニトリロ
トリプロピオン酸、N,N’−エチレンジアミンジ酢
酸、エチレンジアミン−N,N’−ジプロピオン酸、
N,N’−ジ(ヒドロキシエチル)エチレンジアミンジ
酢酸、N−n−ブチルエチレンジアミントリ酢酸、N−
シクロヘキシルエチレンジアミントリ酢酸、N’−ヒド
ロキシエチル−N,N,N’−トリ酢酸、ベンジルエチ
レンジアミントリ酢酸、エチレンジアミンテトラ酢酸、
エチレンジアミン−N,N’−ジ酢酸・N,N’−ジプ
ロピオン酸、エチレンジアミンテトラプロピオン酸、
1,2−プロピレンジアミンテトラ酢酸、トリメチレン
ジアミンテトラ酢酸、シクロヘキサン−1,2−ジアミ
ンテトラ酢酸、1,3,5−トリアミノシクロヘキサン
ヘキサ酢酸、エチルエーテルジアミンテトラ酢酸、ジエ
チレントリアミンペンタ酢酸、グリコールエーテルジア
ミンテトラ酢酸、トリメチレンテトラアミンヘキサ酢
酸、など。
(4) As aminopolycarboxylic acids, iminodiacetic acid, iminodipropionic acid, N-methyliminodiacetic acid, N- (3,3-dimethylbutyl) iminodiacetic acid,
Phenyliminodiacetic acid, hydroxyethyliminodiacetic acid, mercaptoethyliminodiacetic acid, hydroxyethyliminodipropionic acid, hydroxypropyliminodiacetic acid, 2-hydroxycyclohexyliminodiacetic acid, methoxyethyliminodiacetic acid, methylthioethyliminodiacetic acid, methylthioethyliminodiacetic acid, 2-hydroxybenzyliminodiacetic acid, N- (carboxyphenyl) iminodiacetic acid, N- (carbamoylmethyl) iminodiacetic acid, cyanomethyliminodiacetic acid, aminoethyliminodiacetic acid, phosphonomethyliminodiacetic acid,
Sulfoethyliminodiacetic acid, sulfophenyliminodiacetic acid, nitrilotriacetic acid, carboxyethyliminodiacetic acid, carboxymethyliminodipropionic acid, nitrilotripropionic acid, N, N'-ethylenediaminediacetic acid, ethylenediamine-N, N'-dipropion acid,
N, N'-di (hydroxyethyl) ethylenediaminediacetic acid, Nn-butylethylenediaminetriacetic acid, N-
Cyclohexylethylenediaminetriacetic acid, N′-hydroxyethyl-N, N, N′-triacetic acid, benzylethylenediaminetriacetic acid, ethylenediaminetetraacetic acid,
Ethylenediamine-N, N'-diacetic acid / N, N'-dipropionic acid, ethylenediaminetetrapropionic acid,
1,2-propylenediaminetetraacetic acid, trimethylenediaminetetraacetic acid, cyclohexane-1,2-diaminetetraacetic acid, 1,3,5-triaminocyclohexanehexaacetic acid, ethyletherdiaminetetraacetic acid, diethylenetriaminepentaacetic acid, glycol etherdiamine Tetraacetic acid, trimethylenetetraaminehexaacetic acid, and the like.

【0033】(5)β−ジケトン、オキシンなどとして
は、アセチルアセトン、トリフルオルアセチルアセト
ン、ヘキサフルオルアセチルアセトン、アセト酢酸エチ
ル、ベンゾイルアセトン、ベンゾイルトリフルオルアセ
トン、ジベンゾイルメタン、フロイルアセトン、トリフ
ルオルフロイルアセトン、ベンゾイルフロイルメタン、
テノイルアセトン、トリフルオルテノイルアセトン、フ
ロイルテノイルメタン、オキシン(別名:8−ヒドロキ
シキノリン)、メチルオキシン、オキシン−5−スルホ
ン酸、キノリンカルボン酸、8−ヒドロキシシノリン、
ヒドロキシナフチリジン、ヒドロキシキノキサリン、ヒ
ドロキシキナゾリン、2,2’−ビピリジン、2−
(2’−チェニル)ピリジン、1,10−フェナントロ
リン、メチル−1,10−フェナントロリン、ジメチル
−1,10−フェナントロリン、ジメチルグリオキシ
ム、ジメチルジチオカルバミン酸、ニトロソナフトー
ル、ヒドロキシフラボン、1−(2−ピリジルアゾ)−
2−ナフトール、エリオクロムブラックA及びB、エリ
オクロムブルーブラックB及びR、フタレインコンプレ
クソン、など。
(5) Examples of β-diketone, oxine, etc. include acetylacetone, trifluoroacetylacetone, hexafluoroacetylacetone, ethyl acetoacetate, benzoylacetone, benzoyltrifluoroacetone, dibenzoylmethane, floylacetone, and trifluoroacetone. , Benzoylfuroylmethane,
Thenoylacetone, trifluorotenoylacetone, furoylthenoylmethane, oxine (alias: 8-hydroxyquinoline), methyloxin, oxine-5-sulfonic acid, quinolinecarboxylic acid, 8-hydroxysinoline,
Hydroxynaphthyridine, hydroxyquinoxaline, hydroxyquinazoline, 2,2′-bipyridine, 2-
(2′-Chenyl) pyridine, 1,10-phenanthroline, methyl-1,10-phenanthroline, dimethyl-1,10-phenanthroline, dimethylglyoxime, dimethyldithiocarbamic acid, nitrosonaphthol, hydroxyflavone, 1- (2-pyridylazo )-
2-naphthol, eriochrome black A and B, eriochrome blue black B and R, phthalein complexone, and the like.

【0034】(6)その他、グリシン、ザルコシン、ア
ラニン、α−アミノ酪酸、バリン、ロイシン、フェニル
アラニン、チロシン、セリン、スレオニン、システイ
ン、メチオニン、アスパラギン酸、アスパラギン、グル
タミン酸、1,2−ジアミノプロピオン酸、オルニチ
ン、リジン、アルギニン、プロリン、ヒスチジン、トリ
プトファン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)グ
リシン、グルシルグリシン、アルブミン、カゼイン、ミ
オシンA、などのアミノ酸、ペプチド、タンパク質な
ど。プリン、アデニン、ヒポキサンチン、イノシン、キ
サントシン、グアノシン、アデノシン−5’−リン酸、
アデノシン−5’−ジリン酸、アデノシン−5’−トリ
リン酸などのピリミジン、プリン塩基、ヌクレオシド、
ヌクレオチド類など。ペニシリンG、テトラサイクリ
ン、オキシテトラサイクロン、クロルテトラサイクロン
などの抗生物質など。
(6) Glycine, sarcosine, alanine, α-aminobutyric acid, valine, leucine, phenylalanine, tyrosine, serine, threonine, cysteine, methionine, aspartic acid, asparagine, glutamic acid, 1,2-diaminopropionic acid, Amino acids, peptides, proteins and the like such as ornithine, lysine, arginine, proline, histidine, tryptophan, N, N-bis (2-hydroxyethyl) glycine, glucylglycine, albumin, casein, myosin A, and the like. Purine, adenine, hypoxanthine, inosine, xanthosine, guanosine, adenosine-5'-phosphate,
Pyrimidines such as adenosine-5'-diphosphate, adenosine-5'-triphosphate, purine bases, nucleosides,
Nucleotides and the like. Antibiotics such as penicillin G, tetracycline, oxytetracyclone, and chlortetracyclone.

【0035】上記のような金属と配位子から形成される
有機錯化合物のうち、好ましく用いられる化合物として
は、Al、Ti、Fe、Mn、Co、Ni、Cu、Z
n、Ge、In、Sn、Zr、Hf等の金属のβ−ジケ
トン類、アミン類、アルコール類、カルボン酸類との錯
体が挙げられ、さらにはAl、Fe(III)、Ti、Z
rのアセチルアセトネート(ペンタンジオネート)、エ
チルアセトアセトネート(ヘキサンジオネート)、プロ
ピルアセトアセトネート(ヘプタンジオネート)、テト
ラメチルヘプタンジオネート、ベンゾイルアセトネート
類などが特に好ましい化合物として挙げられる。
Among the organic complex compounds formed from a metal and a ligand as described above, compounds preferably used are Al, Ti, Fe, Mn, Co, Ni, Cu, Z
Complexes of metals such as n, Ge, In, Sn, Zr, and Hf with β-diketones, amines, alcohols, and carboxylic acids can be given. Further, Al, Fe (III), Ti, Z
Particularly preferred compounds of r include acetylacetonate (pentanedionate), ethylacetoacetonate (hexanedionate), propylacetoacetonate (heptanedionate), tetramethylheptanedionate, and benzoylacetonate.

【0036】このような化合物の具体例としては例えば
以下のような化合物を挙げることが出来るが、これらに
限定されるものではない。。アルミニウムトリス(エチ
ルアセトアセテート)、アルミニウムトリス(プロピル
アセトアセテート)、アルミニウムトリス(ブチルアセ
トアセテート)、アルミニウムトリス(ヘキシルアセト
アセテート)、アルミニウムトリス(ノニルアセトアセ
テート)、アルミニウムトリスアセチルアセトネート、
アルミニウムビスエチルアセトアセテートモノアセチル
アセトネート、アルミニウムジアセチルアセトネートエ
チルアセトアセテート、アルミニウムモノアセチルアセ
トネートビスプロピルアセトアセテート、アルミニウム
モノアセチルアセトネートビスブチルアセトアセテー
ト、アルミニウムモノアセチルアセトネートビスヘキシ
ルアセトアセテート、アルミニウムモノエチルアセトア
セテートビスプロピルアセトセトネート、アルミニウム
モノエチルアセトアセテートビスブチルアセトアセトネ
ート、アルミニウムモノエチルアセトアセテートビスヘ
キシルアセトアセトネート、アルミニウムモノエチルア
セトアセテートビスノニルアセトアセトネート、アルミ
ニウムジブトキシドモノアセトアセテート、アルミニウ
ムジプロポキシドモノアセトアセテート、アルミニウム
ジブトキシドモノエチルアセトアセテート、アルミニウ
ム−s−ブトキシドビス(エチルアセトアセテート)、
アルミニウムジ−s−ブトキシドエチルアセトアセテー
ト、アルミニウム−9−オクタデセニルアセトアセテー
トジイソプロポキシド、など。チタンアリルアセトアセ
テートトリイソプロポキサイド、チタンジ−n−ブトキ
サイド(ビス−2,4−ペンタンジオネート)、チタン
ジイソプロポキサイド(ビス−2,4−ペンタンジオネ
ート)、チタンジイソプロポキサイドビス(テトラメチ
ルヘプタンジオネート)、チタンジイソプロポキサイド
ビス(エチルアセトアセテート)、チタンメタクリルオ
キシエチルアセトアセテートトリイソプロポキサイド、
チタンオキシドビス(ペンタンジオネート)など。鉄
(III )アセチルアセトネート、ジベンゾイルメタン鉄
(II)、トロポロン鉄、トリストロポロノ鉄(III )、
ヒノキチオール鉄、トリスヒノキチオロ鉄(III )、ア
セト酢酸エステル鉄(III )、鉄(III )ベンゾイルア
セトネート、鉄(III )トリフルオロペンタンジオネー
トなど。
Specific examples of such compounds include, for example, the following compounds, but are not limited thereto. . Aluminum tris (ethyl acetoacetate), aluminum tris (propyl acetoacetate), aluminum tris (butyl acetoacetate), aluminum tris (hexyl acetoacetate), aluminum tris (nonyl acetoacetate), aluminum tris acetylacetonate,
Aluminum bisethyl acetoacetate monoacetylacetonate, aluminum diacetylacetonate ethylacetoacetate, aluminum monoacetylacetonate bispropylacetoacetate, aluminum monoacetylacetonate bisbutylacetoacetate, aluminum monoacetylacetonate bishexylacetoacetate, aluminum mono Ethyl acetoacetate bispropyl acetoacetonate, aluminum monoethyl acetoacetate bisbutyl acetoacetonate, aluminum monoethyl acetoacetate bishexyl acetoacetonate, aluminum monoethyl acetoacetate bisnonyl acetoacetonate, aluminum dibutoxide monoacetoacetate, aluminum Dipropoxide Acetoacetate, aluminum dibutoxide monoethyl acetoacetate, aluminum -s- Butokishidobisu (ethylacetoacetate),
Aluminum di-s-butoxide ethyl acetoacetate, aluminum-9-octadecenyl acetoacetate diisopropoxide, and the like. Titanium allyl acetoacetate triisopropoxide, titanium di-n-butoxide (bis-2,4-pentanedionate), titanium diisopropoxide (bis-2,4-pentanedionate), titanium diisopropoxide bis ( Tetramethylheptanedionate), titanium diisopropoxide bis (ethyl acetoacetate), titanium methacryloxyethyl acetoacetate triisopropoxide,
Titanium oxide bis (pentanedionate) and the like. Iron (III) acetylacetonate, dibenzoylmethaneiron (II), tropolone iron, tristropolonoiron (III),
Iron hinokitiol, iron tris hinokithiolo (III), iron (III) acetoacetate, iron (III) benzoylacetonate, iron (III) trifluoropentanedionate and the like.

【0037】また、前述の熱硬化性の化合物との組み合
わせという観点からは、フェノール、クレゾール、キシ
レノールなどのフェノール類とホルムアルデヒドの縮合
反応により得られるノボラック樹脂やレゾール樹脂、フ
ェノール・フルフラール樹脂、フラン樹脂等と上記のよ
うな有機錯化合物の組合わせが好ましい。
Further, from the viewpoint of combination with the above-mentioned thermosetting compounds, novolak resins, resol resins, phenol / furfural resins, and furan resins obtained by the condensation reaction of phenols such as phenol, cresol and xylenol with formaldehyde. And the like and the above-mentioned organic complex compounds.

【0038】このような有機錯化合物は、分解性化合物
として、架橋剤として、あるいは熱硬化反応の触媒とし
て機能することができる。有機錯化合物が分解性化合物
的な機能、架橋剤的な機能を果たす場合においても、感
熱層中に他の前述のような分解性化合物、あるいは他の
前述のような架橋剤を有していてもよいし、有していな
くてもよい。さらに、このような機能の中では、熱硬化
反応の架橋剤的な機能あるいは触媒的な機能を果たすこ
とが好ましい。
Such an organic complex compound can function as a decomposable compound, as a crosslinking agent, or as a catalyst for a thermosetting reaction. Even when the organic complex compound functions as a decomposable compound or functions as a cross-linking agent, the heat-sensitive layer may have another decomposable compound as described above or another cross-linking agent as described above. Or may not be possessed. Further, among such functions, it is preferable to perform a function as a cross-linking agent or a function as a catalyst in a thermosetting reaction.

【0039】このような有機錯化合物の感熱層中に占め
る割合としては、感熱層の全固形分の0.5〜50重量
%、さらには3〜30重量%であることが好ましい。有
機錯化合物の量が0.5重量%より少ない場合は、上記
のような効果が期待できず、一方、50重量%より多い
場合には、印刷版の耐刷性の低下などの問題が生じるた
めである。
The proportion of such an organic complex compound in the thermosensitive layer is preferably from 0.5 to 50% by weight, more preferably from 3 to 30% by weight of the total solids of the thermosensitive layer. When the amount of the organic complex compound is less than 0.5% by weight, the above effects cannot be expected. On the other hand, when the amount is more than 50% by weight, problems such as a decrease in printing durability of the printing plate occur. That's why.

【0040】その他、感熱層中にはバインダーポリマー
や界面活性剤、各種添加剤を含有してもよい。
In addition, the heat-sensitive layer may contain a binder polymer, a surfactant and various additives.

【0041】バインダーポリマーの具体例としては、ポ
リメチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレートな
どのアクリル酸エステル、メタクリル酸エステルの単独
重合体および共重合体、ポリスチレン、α−メチルスチ
レン、ヒドロキシスチレンなどのスチレン系モノマーの
単独重合体および共重合体、イソプレン、スチレン−ブ
タジエンなどの各種合成ゴム類、ポリ酢酸ビニル、塩化
ビニルなどのビニルエステル類の単独重合体および共重
合体、ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキシ
ドなどのポリオキシド類(ポリエーテル類)、ポリエス
テル類、ポリウレタン類、ポリアミド類、エチルセルロ
ース、セルロースアセテートなどのセルロース誘導体
類、フェノキシ樹脂、メチルペンテン樹脂、ポリパラキ
シリレン樹脂、ポリフェニレンスルファイド樹脂などが
挙げられる。
Specific examples of the binder polymer include acrylic acid esters such as polymethyl methacrylate and polybutyl methacrylate, homopolymers and copolymers of methacrylic acid esters, and styrene monomers such as polystyrene, α-methylstyrene and hydroxystyrene. Homopolymers and copolymers, various synthetic rubbers such as isoprene and styrene-butadiene, homopolymers and copolymers of vinyl esters such as polyvinyl acetate and vinyl chloride, and polyoxides such as polyethylene oxide and polypropylene oxide (Polyethers), polyesters, polyurethanes, polyamides, cellulose derivatives such as ethyl cellulose, cellulose acetate, phenoxy resin, methylpentene resin, polyparaxylylene resin, poly Such as E two-sulfide resin, and the like.

【0042】これらのバインダーの含有量は、全感熱層
組成物に対して5〜70重量%が好ましく、より好まし
くは10〜50重量%である。含有量が5%よりも少な
いと耐刷性や塗液の塗工性に問題が生じやすく、70重
量%よりも多いと画像再現性に悪影響を与えやすい。
The content of these binders is preferably from 5 to 70% by weight, more preferably from 10 to 50% by weight, based on the total heat-sensitive layer composition. When the content is less than 5%, problems are likely to occur in printing durability and coating properties of the coating solution, and when the content is more than 70% by weight, image reproducibility tends to be adversely affected.

【0043】感熱層の厚さは、被覆層にして0.1〜1
0g/m2であると、印刷版の耐刷性や、希釈溶剤を揮
散し易く生産性に優れる点で好ましく、より好ましくは
1〜7g/m2である。
The thickness of the heat-sensitive layer is 0.1 to 1 in terms of the coating layer.
When it is 0 g / m 2, it is preferred in terms of printing durability of the printing plate and excellent productivity because the diluting solvent is easily evaporated, and more preferably 1 to 7 g / m 2 .

【0044】このような感熱層を有する直描型平版印刷
版原版にレーザーが照射されると、感熱層表面において
は、光熱変換物質の働きで(a)レーザー光の作用で分
解する化合物が分解する。光熱変換物質自体がレーザー
光の作用で分解する場合もある。また、その際、窒素、
酸素などのガスを発生することが好ましい。このような
化合物の分解さらにはガスの作用で、シリコーンゴム層
と感熱層間の接着力が弱められる。
When a laser is applied to the direct-drawing lithographic printing plate precursor having such a heat-sensitive layer, on the surface of the heat-sensitive layer, (a) a compound decomposed by the action of laser light is decomposed by the action of a light-to-heat conversion substance. I do. The photothermal conversion substance itself may be decomposed by the action of the laser beam. At that time, nitrogen,
It is preferable to generate a gas such as oxygen. The decomposition of such a compound and the action of gas weaken the adhesive force between the silicone rubber layer and the heat-sensitive layer.

【0045】一方、レーザー照射部の感熱層内部におい
ては、(b)熱硬化性の化合物の硬化が進行する。その
結果、レーザー照射部の感熱層の耐溶剤性が高められ
る。これらの結果、その後の現像処理によりレーザー照
射部の感熱層の極表面とシリコーンゴム層のみが剥離さ
れた印刷版が得られる。
On the other hand, in the heat-sensitive layer in the laser-irradiated portion, the curing of the thermosetting compound (b) proceeds. As a result, the solvent resistance of the heat-sensitive layer at the laser-irradiated portion is improved. As a result, a printing plate is obtained in which only the silicone rubber layer and the very surface of the heat-sensitive layer at the laser-irradiated portion have been separated by the subsequent development treatment.

【0046】このようにして得られた版においては、画
線部感熱層の耐溶剤性は高く、残存しているため、微小
網点の再現性やインキマイレージが良好であるというメ
リットを有する。
In the plate thus obtained, the heat-sensitive layer in the image area has a high solvent resistance and remains, and thus has the advantage that the reproducibility of fine halftone dots and the ink mileage are good.

【0047】本発明のインキ反発層としては、ビニルア
ルコール類などからなる親水性層、アクリル酸やアクリ
ル酸塩、スルホン酸やスルホン酸塩などを含む親水性
層、特開平8−282142号公報、特開平8−282
144号公報、特開平8−292558号公報、特開平
9−54425号公報などで提案されている親水性膨潤
層や、シリコーンゴム層、フッ素化合物を含有する層な
どを用いることができるが、好ましくはシリコーンゴム
層である。シリコーンゴム層としては、付加重合型のも
の、縮合重合型のものいずれでも用いられる。
As the ink repellent layer of the present invention, a hydrophilic layer composed of vinyl alcohols or the like, a hydrophilic layer containing acrylic acid or acrylate, sulfonic acid or sulfonic acid salt, and the like, JP-A-8-282142, JP-A-8-282
144, JP-A-8-292558, JP-A-9-54425, and the like, a hydrophilic swelling layer, a silicone rubber layer, a layer containing a fluorine compound, and the like can be used. Is a silicone rubber layer. As the silicone rubber layer, any of an addition polymerization type and a condensation polymerization type can be used.

【0048】付加重合型のシリコーンゴム層を構成する
成分としては、ビニル基含有ポリジメチルシロキサン、
SiH基含有ポリシロキサン、さらには硬化速度を制御
する目的で反応抑制剤、および硬化触媒を含む。
The components constituting the addition polymerization type silicone rubber layer include vinyl group-containing polydimethylsiloxane,
It contains a SiH group-containing polysiloxane, a reaction inhibitor for the purpose of controlling the curing rate, and a curing catalyst.

【0049】ビニル基含有ポリジメチルシロキサンは、
下記一般式(I)で表される構造を有し、分子末端およ
び/もしくは主鎖中にビニル基を有するものである。 −(SiR12−O−)n− ・・・(I) (式中、nは2以上の整数を示し、R1、R2は炭素数1
〜50の置換あるいは非置換のアルキル基、炭素数2〜
50の置換あるいは非置換のアルケニル基、炭素数4〜
50の置換あるいは非置換のアリール基の群から選ばれ
る少なくとも1種の基を示し、それぞれ同一であっても
異なっていてもよい。) 上記式中のR1、R2は全体の50%以上がメチル基であ
ることが、印刷版のインキ反発性の面で好ましい。ま
た、分子量としては数千〜数十万のものが使用できる
が、その取扱い性や得られた印刷版のインキ反発性、耐
傷性などの観点から重量平均分子量1万〜20万、さら
には3万〜15万のものを用いることが好ましい。
The vinyl group-containing polydimethylsiloxane is
It has a structure represented by the following general formula (I) and has a vinyl group at a molecular terminal and / or in a main chain. — (SiR 1 R 2 —O—) n— (I) (wherein, n represents an integer of 2 or more, and R 1 and R 2 each have 1 carbon atom)
~ 50 substituted or unsubstituted alkyl groups, having 2 to 2 carbon atoms
50 substituted or unsubstituted alkenyl groups, having 4 to 4 carbon atoms
At least one group selected from the group consisting of 50 substituted or unsubstituted aryl groups, which may be the same or different; It is preferable that 50% or more of R 1 and R 2 in the above formula are methyl groups from the viewpoint of ink repellency of the printing plate. Further, the molecular weight may be in the range of thousands to hundreds of thousands, but from the viewpoint of handleability, ink repellency and scratch resistance of the obtained printing plate, the weight-average molecular weight is 10,000 to 200,000, and more preferably 3 to 100,000. It is preferable to use a material of 10,000 to 150,000.

【0050】SiH基を有する化合物としては、分子鎖
中、または末端にSiH基を有するポリシロキサンを挙
げることが出来、例えば下記一般式(II)〜(V)で表され
るような化合物を挙げることができる。
Examples of the compound having a SiH group include polysiloxanes having a SiH group in a molecular chain or at a terminal, and include, for example, compounds represented by the following general formulas (II) to (V). be able to.

【0051】[0051]

【化1】 Embedded image

【0052】(式中、nは1以上の整数、mは1以上の
整数を示す。) SiH基を有する化合物中におけるSiH基の量として
は、2個以上、さらには3個以上であることが好まし
い。SiH基を有する化合物の添加量としては、シリコ
ーンゴム層全組成物の3〜20wt%であることが好ま
しく、さらに好ましくは5〜15wt%である。ポリジ
メチルシロキサンとの量比ということで言えば、SiH
基/ポリジメチルシロキサンの炭素炭素二重結合のモル
比が1.5〜30であることが好ましく、さらに好まし
くは10〜20である。このモル比が1.5未満である
場合には、シリコーンゴム層の硬化が不足する場合があ
り、逆に30よりも大きい場合にはゴムの物性がもろく
なり、印刷版の耐傷性などに悪影響を与え易くなるため
である。
(In the formula, n is an integer of 1 or more, and m is an integer of 1 or more.) The amount of SiH groups in the compound having SiH groups is 2 or more, and more preferably 3 or more. Is preferred. The amount of the compound having a SiH group is preferably 3 to 20% by weight, more preferably 5 to 15% by weight of the total composition of the silicone rubber layer. In terms of the quantitative ratio with polydimethylsiloxane, SiH
The molar ratio of group / carbon double bond of polydimethylsiloxane is preferably from 1.5 to 30, and more preferably from 10 to 20. If the molar ratio is less than 1.5, the curing of the silicone rubber layer may be insufficient, and if it is greater than 30, the physical properties of the rubber become brittle and adversely affect the scratch resistance of the printing plate. It is because it becomes easy to give.

【0053】反応抑制剤としては、含窒素化合物、リン
系化合物、不飽和アルコールなどが挙げられるが、アセ
チレン基含有のアルコールなどが好ましく用いられる。
反応抑制剤の好ましい添加量としては、シリコーンゴム
組成物中の0.01〜10wt%、さらには1〜5wt
%である。
Examples of the reaction inhibitor include a nitrogen-containing compound, a phosphorus compound, and an unsaturated alcohol, and an alcohol having an acetylene group is preferably used.
The preferable addition amount of the reaction inhibitor is 0.01 to 10% by weight, more preferably 1 to 5% by weight in the silicone rubber composition.
%.

【0054】硬化触媒としては、III族遷移金属化合
物、好ましくは、白金化合物であり、具体的には白金単
体、塩化白金、塩化白金酸、オレフィン配位白金、白金
のアルコール変性錯体、白金のメチルビニルポリシロキ
サン錯体などを一例として挙げることができる。このよ
うな硬化触媒の量は、シリコーンゴム層中に固形分とし
て0.01〜20wt%、好ましくは0.1〜10wt
%であることが好ましい。添加する触媒量が0.01w
t%未満である場合にはシリコーンゴム層の硬化が不十
分となり、さらに感熱層との接着性に問題を生じる場合
があるためである。他方20wt%より多い場合にはシ
リコーンゴム層溶液のポットライフに悪影響をもたらす
ためである。シリコーンゴム層組成物中における白金な
どの金属の量で言えば、10〜1000ppm、好まし
くは100〜500ppmであることが好ましい。
The curing catalyst is a Group III transition metal compound, preferably a platinum compound. Specifically, platinum alone, platinum chloride, chloroplatinic acid, olefin-coordinated platinum, an alcohol-modified platinum complex, platinum methyl A vinyl polysiloxane complex can be given as an example. The amount of such a curing catalyst is 0.01 to 20 wt%, preferably 0.1 to 10 wt%, as a solid content in the silicone rubber layer.
%. The amount of catalyst to be added is 0.01w
If the amount is less than t%, curing of the silicone rubber layer becomes insufficient, and further, a problem may occur in adhesion to the heat-sensitive layer. On the other hand, if it is more than 20 wt%, the pot life of the silicone rubber layer solution is adversely affected. In terms of the amount of metal such as platinum in the silicone rubber layer composition, it is preferably 10 to 1000 ppm, and more preferably 100 to 500 ppm.

【0055】また、これらの組成物の他に、縮合型シリ
コーンゴム層の組成物である水酸基含有オルガノポリシ
ロキサンや加水分解性官能基含有シラン(もしくはシロ
キサン)、ゴム強度を向上させる目的でシリカなどの公
知の充填剤、接着性を向上させる目的で公知のシランカ
ップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニ
ウム系カップリング剤などを含有してもよい。シランカ
ップリング剤としては、アルコキシシラン類、アセトキ
シシラン類、ケトキシミンシラン類などが好ましく、特
にビニル基を有するものや、ケトキシミンシラン類が好
ましい。
In addition to these compositions, a condensation-type silicone rubber layer composition such as a hydroxyl group-containing organopolysiloxane or a hydrolyzable functional group-containing silane (or siloxane), and silica for the purpose of improving rubber strength. Or a known silane coupling agent, a titanate-based coupling agent, an aluminum-based coupling agent or the like for the purpose of improving adhesiveness. As the silane coupling agent, alkoxysilanes, acetoxysilanes, ketoximine silanes and the like are preferable, and those having a vinyl group and ketoximine silanes are particularly preferable.

【0056】また、縮合重合型のシリコーンゴム層を構
成する成分としては、水酸基含有ポリジメチルシロキサ
ン、架橋剤(脱酢酸型、脱オキシム型、脱アルコール
型、脱アミン型、脱アセトン型、脱アミド型、脱アミノ
キシ型など)、および硬化触媒を含む。
The components constituting the condensation-polymerized silicone rubber layer include a hydroxyl group-containing polydimethylsiloxane, a crosslinking agent (deacetic acid type, deoxime type, dealcohol type, deamine type, deacetone type, deamido type). , Deaminoxy type, etc.), and a curing catalyst.

【0057】水酸基含有ポリジメチルシロキサンも、上
記一般式(I)で表される構造を有する。水酸基は分子
末端および/もしくは主鎖中に位置することができる
が、好ましく用いられるものは分子量末端に水酸基を有
するものである。
The hydroxyl group-containing polydimethylsiloxane also has a structure represented by the above general formula (I). The hydroxyl group can be located at the molecular terminal and / or in the main chain, but those preferably used are those having a hydroxyl group at the molecular weight terminal.

【0058】一般式中のR1、R2については、同様に全
体の50%以上がメチル基であることが、印刷版のイン
キ反発性の面で好ましい。分子量としては数千〜数十万
のものが使用できるが、その取扱い性や得られた印刷版
のインキ反発性、耐傷性などの観点から重量平均分子量
1万〜20万、さらには3万〜15万のものを用いるこ
とが好ましい。
As for R 1 and R 2 in the general formula, it is similarly preferable that 50% or more of the whole is a methyl group from the viewpoint of the ink repellency of the printing plate. As the molecular weight, those having a molecular weight of several thousand to several hundred thousand can be used, and from the viewpoint of handleability, ink repellency and scratch resistance of the obtained printing plate, the weight average molecular weight is 10,000 to 200,000, and further 30,000 to It is preferable to use 150,000.

【0059】縮合重合型のシリコーンゴム層で用いられ
る架橋剤としては、下記一般式(II)で表される、アセ
トキシシラン類、アルコキシシラン類、ケトキシミンシ
ラン類、アリロキシシラン類などを挙げることができ
る。 (R24-nSiXn (VI) (式中、nは2〜4の整数を示し、R2は炭素数1以上
の置換もしくは非置換のアルキル基、アルケニル基、ア
リール基、またはこれらの組み合わされた基を示す。X
はハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、ケト
キシミン基、アミノオキシ基、アミド基、アルケニルオ
キシ基から選ばれる官能基である。)上記式において、
加水分解性基の数nは3または4であることが好まし
い。
Examples of the crosslinking agent used in the condensation polymerization type silicone rubber layer include acetoxysilanes, alkoxysilanes, ketoximine silanes, and allyloxysilanes represented by the following general formula (II). Can be. (R 2 ) 4-n SiX n (VI) (wherein, n represents an integer of 2 to 4, and R 2 represents a substituted or unsubstituted alkyl group, alkenyl group, aryl group having 1 or more carbon atoms, or X represents a combined group of
Is a functional group selected from a halogen atom, an alkoxy group, an acyloxy group, a ketoximine group, an aminooxy group, an amide group, and an alkenyloxy group. ) In the above formula,
The number n of the hydrolyzable groups is preferably 3 or 4.

【0060】具体的な化合物としては、メチルトリアセ
トキシシラン、エチルトリアセトキシシラン、ビニルト
リアセトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチ
ルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エ
チルトリエトキシシラン、テトラエトキシシラン、テト
ラプロポキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニ
ルトリフェノキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、
アリルトリエトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシ
シラン、ビニルトリスイソプロペノキシシラン、ビニル
メチルビス(メチルエチルケトキシミン)シラン、メチ
ルトリ(メチルエチルケトキシミン)シラン、ビニルト
リ(メチルエチルケトキシミン)シラン、テトラ(メチ
ルエチルケトキシミン)シラン、ジイソプロペノキシジ
メチルシラン、トリイソプロペノキシメチルシラン、テ
トラアリロキシシラン、などが挙げられるが、これらに
限定されるものではない。
Specific compounds include methyltriacetoxysilane, ethyltriacetoxysilane, vinyltriacetoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraethoxysilane Propoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriphenoxysilane, vinyltriethoxysilane,
Allyltriethoxysilane, vinyltriisopropoxysilane, vinyltrisisopropenoxysilane, vinylmethylbis (methylethylketoximine) silane, methyltri (methylethylketoximine) silane, vinyltri (methylethylketoximine) silane, tetra (methylethylketoximine) Examples include, but are not limited to, silane, diisopropenoxydimethylsilane, triisopropenoxymethylsilane, and tetraallyloxysilane.

【0061】これらの中では、シリコーンゴム層の硬化
速度、取扱い性などの観点から、アセトキシシラン類、
ケトキシミンシラン類が好ましい。
Among these, acetoxysilanes, from the viewpoints of the curing speed of the silicone rubber layer and the handling properties,
Ketoximine silanes are preferred.

【0062】一般式(VI)で表される架橋剤の添加量と
しては、シリコーンゴム層全組成物の1.5〜20wt
%であることが好ましく、さらに好ましくは3〜10w
t%である。ポリジメチルシロキサンとの量比というこ
とで言えば、官能基X/ポリジメチルシロキサンの水酸
基のモル比が1.5〜10.0であることが好ましい。
このモル比が1.5未満である場合には、シリコーンゴ
ム層溶液のゲル化が起こり易く、逆に10.0よりも大
きい場合にはゴムの物性がもろくなり、印刷版の耐傷性
などに悪影響を与え易くなるためである。
The amount of the crosslinking agent represented by the general formula (VI) is 1.5 to 20 wt% of the total composition of the silicone rubber layer.
%, More preferably 3 to 10 w
t%. Speaking of the quantitative ratio with polydimethylsiloxane, the molar ratio of functional group X / hydroxyl group of polydimethylsiloxane is preferably 1.5 to 10.0.
If the molar ratio is less than 1.5, gelation of the silicone rubber layer solution is likely to occur. Conversely, if the molar ratio is greater than 10.0, the physical properties of the rubber become fragile and the printing plate has poor scratch resistance. This is because it is likely to have an adverse effect.

【0063】硬化触媒としては、酢酸、プロピオン酸、
マレイン酸などの有機カルボン酸、トルエンスルホン
酸、ホウ酸等の酸類、水酸化カリウム、水酸化ナトリウ
ム、水酸化リチウム等のアルカリ、アミン、およびチタ
ンテトラプロポキシド、チタンテトラブトキシドなどの
金属アルコキシド、鉄アセチルアセトナート、チタンア
セチルアセトナートジプロポキシドなどの金属ジケテネ
ート、金属の有機酸塩などを挙げることができる。これ
らの中では、金属の有機酸塩を添加することが好まし
く、特に錫、鉛、亜鉛、鉄、コバルト、カルシウム、マ
ンガンから選ばれる金属の有機酸塩であることが好まし
い。このような化合物の具体例の一部としては、ジブチ
ル錫ジアセテート、ジブチル錫ジオクテート、ジブチル
錫ジラウレート、オクチル酸亜鉛、オクチル酸鉄などを
挙げることができる。このような硬化触媒の量は、シリ
コーンゴム層中に固形分として0.01〜20wt%、
好ましくは0.1〜10wt%であることが好ましい。
添加する触媒量が0.01wt%未満である場合にはシ
リコーンゴム層の硬化が不十分となり、さらに感熱層と
の接着性に問題を生じる場合があるためである。他方2
0wt%より多い場合にはシリコーンゴム層溶液のポッ
トライフに悪影響をもたらすためである。
As curing catalysts, acetic acid, propionic acid,
Organic carboxylic acids such as maleic acid; acids such as toluenesulfonic acid and boric acid; alkalis such as potassium hydroxide, sodium hydroxide and lithium hydroxide; amines; metal alkoxides such as titanium tetrapropoxide and titanium tetrabutoxide; and iron Metal diketenates such as acetylacetonate and titanium acetylacetonate dipropoxide, and organic acid salts of metals can be given. Among them, it is preferable to add an organic acid salt of a metal, particularly preferably an organic acid salt of a metal selected from tin, lead, zinc, iron, cobalt, calcium, and manganese. Specific examples of such compounds include dibutyltin diacetate, dibutyltin dioctate, dibutyltin dilaurate, zinc octylate, and iron octylate. The amount of such a curing catalyst is 0.01 to 20 wt% as a solid content in the silicone rubber layer,
Preferably, it is 0.1 to 10 wt%.
If the amount of the catalyst to be added is less than 0.01% by weight, the curing of the silicone rubber layer becomes insufficient, and a problem may be caused in the adhesion to the heat-sensitive layer. The other 2
If the amount is more than 0 wt%, the pot life of the silicone rubber layer solution is adversely affected.

【0064】また、これらの組成物の他に、ゴム強度を
向上させる目的でシリカなどの公知の充填剤、さらには
公知のシランカップリング剤を含有してもよい。これら
シリコーンゴム層の膜厚は0.5〜20g/m2が好ま
しく、さらに好ましくは1〜4g/m2である。膜厚が
0.5g/m2よりも小さい場合には印刷版のインキ反
撥性や耐傷性、耐刷性が低下する傾向があり、20g/
2よりも大きい場合には経済的見地から不利であるば
かりでなく、現像性、インキマイレージが悪くなるとい
う問題がある。
Further, in addition to these compositions, a known filler such as silica and a known silane coupling agent may be contained for the purpose of improving rubber strength. The thickness of these silicone rubber layers is preferably 0.5 to 20 g / m 2 , more preferably 1 to 4 g / m 2 . When the film thickness is smaller than 0.5 g / m 2, the ink repellency, scratch resistance and printing durability of the printing plate tend to decrease, and
When it is larger than m 2 , not only is it disadvantageous from an economic viewpoint, but also there is a problem that developability and ink mileage are deteriorated.

【0065】直描型平版印刷版原版には、インキ反発層
を保護する目的で保護フィルムをラミネートするかある
いは保護層を形成してもよい。保護フィルムとしてはポ
リエステルフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリビ
ニルアルコールフィルム、エチレン酢酸ビニル共重合体
ケン化物フィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルムなどが
挙げられる。このようにして得られた直描型平版印刷版
原版を、保護フィルムを剥離してから、あるいは保護フ
ィルム上からレーザー光で画像状に露光する。
The direct drawing type lithographic printing plate precursor may be laminated with a protective film or formed with a protective layer for the purpose of protecting the ink repellent layer. Examples of the protective film include a polyester film, a polypropylene film, a polyvinyl alcohol film, a saponified ethylene vinyl acetate copolymer film, and a polyvinylidene chloride film. The thus obtained direct drawing type lithographic printing plate precursor is exposed imagewise with a laser beam after the protective film is peeled off or from above the protective film.

【0066】本発明の製版露光工程で用いられるレーザ
ー光源としては、発光波長領域が300nm〜1500
nmの範囲にあるものが用いられるが、これらの中でも
近赤外領域付近に発光波長領域が存在する半導体レーザ
ーやYAGレーザーが好ましく用いられる。具体的に
は、明室での版材の取扱い性などの観点から、780n
m、830nm、1064nmの波長のレーザー光が製
版に好ましく用いられる。
The laser light source used in the plate-making exposure step of the present invention has an emission wavelength range of 300 nm to 1500.
Among them, a semiconductor laser or a YAG laser having an emission wavelength region near the near infrared region is preferably used. Specifically, from the viewpoint of handleability of the plate material in the light room, 780 n
Laser beams having wavelengths of m, 830 nm, and 1064 nm are preferably used for plate making.

【0067】レーザー照射後の原版は、水または有機溶
剤の存在もしくは非存在下での摩擦処理により現像がな
される。摩擦処理は、現像液を含浸した不織布、脱脂
綿、布、スポンジ等で版面を拭き取ることによって、あ
るいは下記の現像液で版面を前処理した後に水道水など
をシャワーしながら回転ブラシで擦ることによって行う
ことができる。
The original plate after laser irradiation is developed by a friction treatment in the presence or absence of water or an organic solvent. The rubbing treatment is performed by wiping the plate surface with a non-woven fabric, absorbent cotton, cloth, sponge, or the like impregnated with a developer, or by rubbing the plate surface with a rotating brush while showering with tap water after pre-treating the plate surface with the following developer. be able to.

【0068】現像処理を行う場合に使用される現像液と
しては、例えば、水や水に界面活性剤を添加したもの、
さらには水にアルコールやケトン、エステル、カルボン
酸などの極性溶媒を添加したものや、脂肪族炭化水素
類、芳香族炭化水素類などの少なくとも1種類からなる
溶媒に極性溶媒を少なくとも1種類添加したもの、ある
いは極性溶媒が用いられる。また、上記の現像液組成に
は、公知の界面活性剤を添加することも自由に行われ
る。さらにアルカリ剤、例えば炭酸ナトリウム、モノエ
タノールアミン、ジエタノールアミン、ジグリコールア
ミン、モノグリコールアミン、ケイ酸ナトリウム、水酸
化カリウム、ホウ酸ナトリウムなどを添加することもで
きる。これらの中では、水あるいは水に界面活性剤を添
加したものが好ましい。
Examples of the developing solution used in the development treatment include water and water obtained by adding a surfactant to water,
Further, a polar solvent such as alcohol, ketone, ester or carboxylic acid is added to water, or at least one polar solvent is added to a solvent composed of at least one kind of aliphatic hydrocarbons or aromatic hydrocarbons. Or a polar solvent is used. A known surfactant can be freely added to the above-mentioned developer composition. Further, an alkali agent such as sodium carbonate, monoethanolamine, diethanolamine, diglycolamine, monoglycolamine, sodium silicate, potassium hydroxide, sodium borate and the like can be added. Among these, water or a mixture of water and a surfactant is preferable.

【0069】[0069]

【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに詳しく説
明する。 [実施例1]厚さ0.24mmの脱脂したアルミ板上に
下記の組成よりなる溶液を塗布し、200℃、2分間乾
燥し、3g/m2のプライマー層を設けた。 <プライマー1> (a)エポキシ・フェノール樹脂“カンコート”90T
−25−3094(関西ペイント(株)製):15重量
部 (b)ジメチルホルムアミド:85重量部 このプライマー層の上に下記の感熱層を塗布した。乾燥
膜厚は1.0g/m2、熱処理は100℃×1分間であ
る。 <感熱層1> (a)カーボンブラック(#30三菱化学(株)製):
15重量部 (b)ニトロセルロース(粘度1/2秒、窒素含有量1
1.0%、“Bergerac NC”)(エス・エヌ
・ピー・イージャパン(株)製):15重量部 (c)鉄(III)アセチルアセトネート(半井化学薬品
(株)製):10重量部 (d)“スミラック”PC−1(レゾール樹脂、住友デ
ュレス(株)製)):60重量部 (g)テトラヒドロフラン:100重量部 (h)ジメチルホルムアミド:100重量部 (i)メチルエチルケトン:700重量部。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples. Example 1 A solution having the following composition was applied on a degreased aluminum plate having a thickness of 0.24 mm, dried at 200 ° C. for 2 minutes, and provided with a primer layer of 3 g / m 2 . <Primer 1> (a) Epoxy / phenol resin “Cancoat” 90T
-25-3094 (manufactured by Kansai Paint Co., Ltd.): 15 parts by weight (b) Dimethylformamide: 85 parts by weight The following heat-sensitive layer was coated on this primer layer. The dry film thickness is 1.0 g / m 2 and the heat treatment is 100 ° C. × 1 minute. <Thermal layer 1> (a) Carbon black (# 30 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation):
15 parts by weight (b) Nitrocellulose (viscosity 1/2 second, nitrogen content 1
1.0%, “Bergerac NC”) (manufactured by SNP Japan Ltd.): 15 parts by weight (c) Iron (III) acetylacetonate (manufactured by Hanoi Chemicals): 10 parts by weight Part (d) "Sumilac" PC-1 (resole resin, manufactured by Sumitomo Durres Co., Ltd.): 60 parts by weight (g) tetrahydrofuran: 100 parts by weight (h) dimethylformamide: 100 parts by weight (i) methyl ethyl ketone: 700 parts by weight Department.

【0070】次いで、下記シリコーンゴム層を乾燥膜厚
2.0μm、乾燥条件は120℃×1分間(湿熱乾燥)
として塗設した。 <シリコーンゴム層1> (a)ポリジメチルシロキサン(分子量約50,00
0、両末端水酸基):100重量部 (b)ビニルトリス(メチルエチルケトオキシム)シラ
ン:8重量部 (c)ジブチル錫ジアセテ−ト:0.5重量部 (d)3−アミノプロピルトリエトキシシラン:0.5
重量部 (e)“アイソパ−E”(イソパラフィン系炭化水素、
エクソン化学(株)製):1400重量部。
Then, the following silicone rubber layer was dried at a thickness of 2.0 μm under the drying conditions of 120 ° C. × 1 minute (moist heat drying).
It was painted as. <Silicone Rubber Layer 1> (a) Polydimethylsiloxane (molecular weight of about 50,000
0, both terminal hydroxyl groups): 100 parts by weight (b) Vinyl tris (methylethyl ketoxime) silane: 8 parts by weight (c) Dibutyltin diacetate: 0.5 parts by weight (d) 3-aminopropyltriethoxysilane: 0. 5
Parts by weight (e) "Isopar-E" (isoparaffinic hydrocarbon,
Exxon Chemical Co., Ltd.): 1400 parts by weight.

【0071】上記のようにして得られた積層板に、厚さ
8μmのポリプロピレンフィルム“トレファン”BO
(東レ(株)製)をカレンダーローラーを用いてラミネ
ートし、直描型水なし平版印刷版原版を得た。
An 8 μm thick polypropylene film “Trefane” BO was applied to the laminate obtained as described above.
(Manufactured by Toray Industries, Inc.) was laminated using a calendar roller to obtain a direct-drawing waterless planographic printing plate precursor.

【0072】この後、この印刷版原版をFX400−A
P(製版機、東レエンジニアリング(株)製)に装着
し、半導体レーザー(波長830nm、ビーム直径20
μm)を用いて露光時間10μsで照射エネルギー30
0mJ/cm2で露光を行った。露光後の印刷版は、レ
ーザー照射部の感熱層のみ特異的に灰色になっており、
何らかの変化が起こっていることが推察された。
Thereafter, this printing plate precursor was placed in FX400-A
P (plate making machine, manufactured by Toray Engineering Co., Ltd.) and a semiconductor laser (wavelength 830 nm, beam diameter 20)
μm) and an irradiation energy of 30 at an exposure time of 10 μs.
Exposure was performed at 0 mJ / cm 2 . The printing plate after exposure is specifically gray only in the heat-sensitive layer of the laser irradiation part,
It was speculated that some change had occurred.

【0073】続いて、“PP−F”(東レ(株)製、水
なし平版ポジ型用前処理液)に1分間浸した後、水を含
ませた“ハイゼガーゼ”(旭化成工業(株)製)で擦る
ことにより現像を行ったところ、レーザー光が照射され
た部分のシリコーンゴム層のみが除去されたネガ型の水
なし平版印刷版が得られた。その際、レーザー照射部の
感熱層表面には、レーザー照射による分解生成物と推察
される微粉末の存在が観察された。
Subsequently, the product was immersed in “PP-F” (a pretreatment liquid for a lithographic positive mold without water, manufactured by Toray Industries, Inc.) for 1 minute, and then water-containing “Hize Gauze” (manufactured by Asahi Chemical Industry Co., Ltd.) ) To obtain a negative waterless planographic printing plate from which only the silicone rubber layer in the portion irradiated with the laser beam was removed. At that time, the presence of fine powder presumed to be a decomposition product by laser irradiation was observed on the surface of the heat-sensitive layer in the laser irradiation part.

【0074】さらに、得られた刷版を枚葉オフセット印
刷機「HAMADA RS34L」(ハマダ印刷機械
(株)製)に取り付け、水なし平版用インキ(ドライオ
カラーNSI、藍、大日本インキ化学工業(株)製)を
使用して上質紙(62.5kg/菊)に印刷したところ、2%
〜98%まで画像を忠実に再現した印刷物が得られた。
Further, the obtained printing plate was attached to a sheet-fed offset printing machine “HAMADA RS34L” (manufactured by Hamada Printing Machinery Co., Ltd.), and waterless lithographic ink (Dryocolor NSI, Ai, Dainippon Ink and Chemicals, Ltd.) 22.5% when printed on high-quality paper (62.5 kg / chrysanthemum) using
Printed matter that faithfully reproduced the image up to 98% was obtained.

【0075】[比較例1]実施例1において、感熱層組
成物を下記のように変更した以外は全く同様に印刷版を
作製した。実施例1と同様に評価したところ、シリコー
ンゴム層が全面にわたり剥がれてしまった。そこで、
“ハイゼガーゼ”で注意深く擦ることにより現像を行っ
たところ、レーザー光が照射された部分のシリコーンゴ
ム層と共に感熱層が除去されたネガ型の水なし平版印刷
版を得た。得られた刷版を用いて印刷を行ったところ、
ハイライト部の微小網点が再現できておらず、5%〜9
7%までの再現性の印刷物しか得られなかった。 <感熱層2> (a)カーボンブラック(#30三菱化学(株)製):
15重量部 (b)ニトロセルロース(粘度1/2秒、窒素含有量1
1.0%、“Bergerac NC”)(エス・エヌ
・ピー・イージャパン(株)製):15重量部 (c)“スミラック”PC−1(レゾール樹脂、住友デ
ュレス(株)製)):60重量部 (d)“サンプレン”IB−114B(水酸基含有ポリ
ウレタン樹脂 三洋化成工業(株)製):10重量部 (e)テトラヒドロフラン:100重量部 (f)ジメチルホルムアミド:100重量部 (g)メチルエチルケトン:700重量部 感熱層中に有機錯化合物がないことで、レーザー照射部
の感熱層内部の硬化が不十分であり、その結果、印刷版
のセルが深くなりハイライトの再現性が悪くなったと考
えられる。
Comparative Example 1 A printing plate was prepared in the same manner as in Example 1, except that the heat-sensitive layer composition was changed as follows. When evaluated in the same manner as in Example 1, the silicone rubber layer was peeled off over the entire surface. Therefore,
When the development was carried out by carefully rubbing with "Heisegase", a negative waterless planographic printing plate was obtained in which the heat-sensitive layer was removed together with the silicone rubber layer at the portion irradiated with the laser beam. When printing was performed using the obtained printing plate,
5% to 9%
Only prints with a reproducibility of up to 7% were obtained. <Thermal layer 2> (a) Carbon black (# 30 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation):
15 parts by weight (b) Nitrocellulose (viscosity 1/2 second, nitrogen content 1
1.0%, "Bergerac NC") (manufactured by SNP Japan Ltd.): 15 parts by weight (c) "Sumilac" PC-1 (resole resin, manufactured by Sumitomo Durres): 60 parts by weight (d) "SAMPLEN" IB-114B (hydroxyl-containing polyurethane resin manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.): 10 parts by weight (e) Tetrahydrofuran: 100 parts by weight (f) Dimethylformamide: 100 parts by weight (g) Methyl ethyl ketone : 700 parts by weight The absence of the organic complex compound in the heat-sensitive layer caused insufficient curing inside the heat-sensitive layer of the laser-irradiated portion, resulting in a deep printing plate cell and poor highlight reproducibility. Conceivable.

【0076】[実施例2]厚さ0.24mmの脱脂した
アルミ板上に下記の組成よりなる溶液を塗布し、130
℃×2分間乾燥し、1g/m2の感熱層を設けた。 <感熱層2> (a)“KAYASORB”IR−820B(日本化薬
(株)製):10重量部 (b)“ナーセムチタン”(日本化学産業(株)製、チ
タンジ−n−ブトキサイド(ビス−2,4−ペンタンジ
オネート)):10重量部 (c)“スミライトレジン”PR50622(フェノー
ルノボラック樹脂、住友デュレズ(株)製):70重量
部 (d)テトラヒドロフラン:550重量部 (e)ジメチルホルムアミド:350重量部。
Example 2 A solution having the following composition was applied on a degreased aluminum plate having a thickness of 0.24 mm,
After drying at 2 ° C. for 2 minutes, a heat-sensitive layer of 1 g / m 2 was provided. <Thermal Sensitive Layer 2> (a) "KAYASORB" IR-820B (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.): 10 parts by weight (b) "Nasem Titanium" (manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd., titanium di-n-butoxide (bis- 2,4-pentanedionate)): 10 parts by weight (c) "Sumilite Resin" PR50622 (phenol novolak resin, manufactured by Sumitomo Durez Co., Ltd.): 70 parts by weight (d) Tetrahydrofuran: 550 parts by weight (e) dimethyl Formamide: 350 parts by weight.

【0077】次いで、下記シリコーンゴム層を乾燥膜厚
2.0μm、乾燥条件は120℃×1分間として塗設し
た。 <シリコーンゴム層2> (a)α,ω−ジビニルポリジメチルシロキサン(分子
量約60,000):100重量部 (b)HMS−501(チッソ(株)製 両末端メチル
(メチルハイドロジェンシロキサン)(ジメチルシロキ
サン)共重合体 SiH基数/分子量=0.69mol/
g):7重量部 (c)“BY24−808”(東レダウコーニングシリ
コーン(株)製、反応抑制剤):3重量部 (d)“SRX−212”(東レダウコーニングシリコ
ーン(株)製、白金触媒):5重量部 (e)ビニルトリ(メチルエチルケトオキシム)シラ
ン:3重量部 (f)“アイソパー”E(エッソ化学(株)製):10
00重量部。
Next, the following silicone rubber layer was applied at a dry film thickness of 2.0 μm under the drying conditions of 120 ° C. for 1 minute. <Silicone rubber layer 2> (a) α, ω-divinylpolydimethylsiloxane (molecular weight of about 60,000): 100 parts by weight (b) HMS-501 (manufactured by Chisso Corporation at both ends methyl (methyl hydrogen siloxane) ( Dimethylsiloxane) copolymer SiH group number / molecular weight = 0.69 mol /
g): 7 parts by weight (c) "BY24-808" (manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd., reaction inhibitor): 3 parts by weight (d) "SRX-212" (manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.) Platinum catalyst): 5 parts by weight (e) Vinyl tri (methyl ethyl ketoxime) silane: 3 parts by weight (f) "ISOPAR" E (manufactured by Esso Chemical Co., Ltd.): 10
00 parts by weight.

【0078】上記のようにして得られた印刷版原版を実
施例1と同様にレーザー照射を行った。照射エネルギー
は250mJ/cm2とした。レーザー照射部の感熱層
表面は白くなっており、レーザー照射の作用で感熱層成
分の分解が起こったことを示唆していた。
The printing plate precursor obtained as described above was irradiated with laser in the same manner as in Example 1. The irradiation energy was 250 mJ / cm 2 . The surface of the heat-sensitive layer in the laser-irradiated part was white, which suggested that the components of the heat-sensitive layer were decomposed by the action of the laser irradiation.

【0079】続いて、東レ(株)製自動現像装置TWL
−650により現像を行ったところ、レーザー光が照射
された部分の感熱層は残存し、シリコーンゴム層が除去
されたネガ型の水なし平版を得た。現像の際、前処理液
としては東レ(株)製“PP−F”を、現像液としては
水を用いた。同様に、得られた刷版を用いて印刷を行っ
たところ、1%〜99%まで画像を忠実に再現した印刷
物を得た。
Subsequently, an automatic developing device TWL manufactured by Toray Industries, Inc.
When development was carried out according to -650, the heat-sensitive layer in the portion irradiated with the laser beam remained, and a negative waterless planographic plate from which the silicone rubber layer had been removed was obtained. At the time of development, "PP-F" manufactured by Toray Industries, Inc. was used as a pretreatment liquid, and water was used as a developer. Similarly, when printing was performed using the obtained printing plate, a printed matter in which an image was faithfully reproduced from 1% to 99% was obtained.

【0080】赤外線吸収スペクトルにより、レーザー照
射前後の感熱層を分析したところ、レーザー光照射によ
り、1080cm-1をはじめとする“KAYASOR
B”IR−820Bに由来する吸収の減少、1028c
-1をはじめとする“ナーセムチタン”を構成する2,
4−ペンタンジオネート環(アセチルアセトナート環)
に由来する吸収の減少が確認できた。この分析結果よ
り、レーザー照射により感熱層表面に分解物が生じてい
ることが確認できた。
When the heat-sensitive layer before and after laser irradiation was analyzed using an infrared absorption spectrum, it was found that “KAYASOR” including 1080 cm −1 was detected by laser light irradiation.
B "Reduced absorption due to IR-820B, 1028c
m- 1 and other constituents of "Nursem Titanium" 2,
4-pentanedionate ring (acetylacetonate ring)
A decrease in the absorption due to. From this analysis result, it was confirmed that a decomposition product was generated on the surface of the heat-sensitive layer by laser irradiation.

【0081】また、印刷版原版のTG−GC/MSを用
いた熱分析の結果、150℃をピークとして感熱層から
アセチルアセトンが出て来ることが確認でき、さらに熱
処理版の赤外線吸収スペクトル分析結果からは、感熱層
内部でのアセチルアセトナート環由来の吸収(1028
cm-1)の減少や、ノボラック樹脂の脱水縮合反応など
(−CH2−O−CH2−に由来する1117cm-1の吸
収の増加、同:723cm-1の吸収の増加、4置換体ベ
ンゼン環:880cm-1の増加)が認められ、硬化反応
が進行することが確認できた。
Further, as a result of thermal analysis of the printing plate precursor using TG-GC / MS, it was confirmed that acetylacetone emerged from the thermosensitive layer with a peak at 150 ° C. Is the absorption derived from the acetylacetonate ring inside the thermosensitive layer (1028
cm -1 ), an increase in absorption at 1117 cm -1 derived from -CH 2 -O-CH 2-, such as a dehydration condensation reaction of a novolak resin, and an increase in absorption at 723 cm -1. (Ring: increase of 880 cm -1 ) was confirmed, and it was confirmed that the curing reaction proceeded.

【0082】これらの分析結果より、本実施例において
は、“ナーセムチタン”と“スミライトレジン”PR5
0622(フェノールノボラック樹脂)が熱硬化性の化
合物として働いていることが確認された。
From the results of these analyses, in this example, “Nasem titanium” and “Sumilite resin” PR5
It was confirmed that 0622 (phenol novolak resin) worked as a thermosetting compound.

【0083】[実施例3〜8]実施例2における感熱層
組成から(b)“ナーセムチタン”の代わりに表1に示
すような有機錯化合物を用いて印刷版原版を作製した。
得られた印刷版原版は、実施例2と全く同様にレーザー
照射、現像を行ったところ、いずれの原版からもレーザ
ー光が照射された部分のシリコーンゴム層が除去された
ネガ型の水なし平版印刷版が得られた。さらに、実施例
2と同様に印刷評価したところ、表1に示すように、い
ずれからも良好な印刷物を得ることができた。
[Examples 3 to 8] From the composition of the heat-sensitive layer in Example 2, a printing plate precursor was prepared using an organic complex compound shown in Table 1 in place of (b) "Nersem titanium".
The obtained printing plate precursor was subjected to laser irradiation and development in exactly the same manner as in Example 2, and a negative type waterless lithographic plate in which the silicone rubber layer was removed from the portion irradiated with the laser beam from any of the plate precursors A printing plate was obtained. Further, when the print evaluation was performed in the same manner as in Example 2, as shown in Table 1, good prints could be obtained from any of them.

【0084】[0084]

【表1】 [Table 1]

【0085】[0085]

【発明の効果】本発明によれば、画像再現性の良好なネ
ガ型の直描型平版印刷版が得られる。
According to the present invention, a negative type direct drawing type lithographic printing plate having good image reproducibility can be obtained.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H096 AA13 BA01 BA20 EA04 EA23 GA43 2H114 AA05 AA22 AA24 AA27 AA28 BA05 DA03 DA04 DA26 DA33 DA43 DA47 DA59 DA62 DA73 DA78 EA05 FA16 GA32 GA34 GA38  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H096 AA13 BA01 BA20 EA04 EA23 GA43 2H114 AA05 AA22 AA24 AA27 AA28 BA05 DA03 DA04 DA26 DA33 DA43 DA47 DA59 DA62 DA73 DA78 EA05 FA16 GA32 GA34 GA38

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基板上に、少なくとも(a)レーザー照射
の作用で分解し得る化合物および(b)熱硬化性の化合
物を含有する感熱層並びにインキ反発層を少なくともこ
の順に有する直描型平版印刷版原版であって、前記感熱
層中に有機錯化合物を含有することを特徴とする直描型
平版印刷版原版。
1. A direct drawing type lithographic printing plate having at least a (a) a thermosensitive layer containing a compound decomposable by the action of laser irradiation and (b) a thermosetting layer containing a thermosetting compound and an ink repellent layer on a substrate in this order. A lithographic printing plate precursor, comprising: a heat-sensitive layer containing an organic complex compound.
【請求項2】インキ反発層がシリコーンゴム層であるこ
とを特徴とする請求項1記載の直描型平版印刷版原版。
2. The lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the ink repellent layer is a silicone rubber layer.
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