JP2000268715A - Washing method and device for screen board, and manufacture of plasma display member - Google Patents

Washing method and device for screen board, and manufacture of plasma display member

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JP2000268715A
JP2000268715A JP7353199A JP7353199A JP2000268715A JP 2000268715 A JP2000268715 A JP 2000268715A JP 7353199 A JP7353199 A JP 7353199A JP 7353199 A JP7353199 A JP 7353199A JP 2000268715 A JP2000268715 A JP 2000268715A
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JP
Japan
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solvent
paste
screen plate
washing
cleaning
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Application number
JP7353199A
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Japanese (ja)
Inventor
Masaaki Iwamoto
正聰 岩元
Yoshihiko Metsugi
義彦 目次
Masahiko Unno
正彦 海野
Hisayoshi Yamada
久義 山田
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enable washing of a screen board with a simple device and reduce the amount of using a solvent upon washing by washing a screen board while supplying the solvent onto the board and sucking the solvent. SOLUTION: This washing device has a washing head 3. At an upper part of the head 3, a plurality of discharge nozzles are arranged in a line while a slit-like suction nozzle is provided at a lower part thereof. A solvent is discharged from the nozzle 4 and supplied onto a screen board. By moving a washing head 3 up/down and right/left, paste and the solvent remaining on the board are mixed. Accordingly, by sucking the solvent from a suction nozzle 5 while the solvent is supplied from the nozzle 4, the paste mixed with the solvent can be sucked together with the solvent to thereby efficiently wash the board. The mixture of the solvent and the paste being in the form of liquid is stored in a washed liquid receiver 6. As the solvent, the same solvent as the paste is used to thereby improve the mixed condition of the remaining paste and the solvent.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はスクリーン版の洗浄
方法、洗浄装置、およびプラズマディスプレイパネル部
材の製造方法に関するものである。
The present invention relates to a method for cleaning a screen plate, a cleaning apparatus, and a method for manufacturing a plasma display panel member.

【0002】[0002]

【従来の技術】スクリーン版を用いて印刷を行うスクリ
ーン印刷法は、種々のペーストのパターン状印刷もしく
はベタ印刷に好適に用いられている。しかし、スクリー
ン印刷法においては、スクリーン印刷後のスクリーン版
の洗浄をいかに行うかが問題であった。
2. Description of the Related Art A screen printing method for printing using a screen plate is suitably used for pattern printing or solid printing of various pastes. However, in the screen printing method, a problem is how to clean the screen plate after screen printing.

【0003】スクリーン印刷後のスクリーン版の洗浄
は、簡単にはウェスに溶剤を浸し、拭くことで行うこと
ができる。手動洗浄装置として、ポンプを介して溶剤を
圧送しつつハンドブラッシで洗う方法が提案されてい
る。また、密閉ボックス型洗浄機としては、溶剤噴射ノ
ズルにて版面を濡らし、回転ブラシでブラッシングしつ
つ汚れを落とし、更に溶剤を高圧噴射することにより微
細な汚れを取る方式と、溶剤スプレーノズルの上下運動
で処理する方式がある。
[0003] Washing of the screen plate after screen printing can be performed simply by immersing a solvent in a waste cloth and wiping it. As a manual cleaning device, a method of washing with a hand brush while pumping a solvent through a pump has been proposed. In addition, as a closed box type washing machine, a method of removing fine stains by wetting the plate surface with a solvent spray nozzle, brushing with a rotating brush to remove dirt, and further spraying the solvent at high pressure, and a method of removing fine dirt from the solvent spray nozzle There is a method of processing by exercise.

【0004】しかし、手拭きの場合、作業が煩雑である
ばかりか、溶媒の飛散が問題となる。また、ポンプを介
して溶剤を圧送しつつハンドブラッシングする方法は、
使用する溶媒量が多いという問題がある。密閉ボックス
型洗浄機は、使用する溶媒量が多いばかりか装置自体が
高価である。
However, in the case of hand wiping, not only the operation is complicated, but also scattering of the solvent becomes a problem. Also, the method of hand brushing while pumping the solvent through a pump,
There is a problem that a large amount of solvent is used. The closed box type washing machine not only uses a large amount of solvent but also is expensive.

【0005】特に、これら従来の洗浄方法をプラズマデ
ィスプレイ部材の製造用スクリーン版の洗浄に適用しよ
うとすると、スクリーン版が大きいことから、上記の問
題点が顕著に露呈することとなる。
[0005] In particular, when these conventional cleaning methods are applied to cleaning of a screen plate for manufacturing a plasma display member, the above-mentioned problems are remarkably exposed because the screen plate is large.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、スク
リーン版の洗浄に際して、簡易な装置を使用しかつ溶媒
の使用量を少なくすることである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to use a simple apparatus and reduce the amount of solvent used for washing a screen plate.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、溶媒を
スクリーン版上に供給しながら溶媒を吸引することによ
り洗浄することを特徴とするスクリーン版の洗浄方法に
よって達成される。
SUMMARY OF THE INVENTION The object of the present invention is achieved by a method for cleaning a screen plate, wherein the cleaning is performed by suctioning the solvent while supplying the solvent onto the screen plate.

【0008】また、本発明の目的は、スクリーン版上に
溶媒および気体を供給しながら溶媒を吸引することによ
り洗浄することを特徴とするスクリーン版の洗浄方法に
よって達成される。
Further, the object of the present invention is attained by a method for cleaning a screen plate, wherein the cleaning is performed by sucking the solvent while supplying a solvent and a gas onto the screen plate.

【0009】また、本発明の目的は、溶媒供給装置およ
び溶媒吸引装置を備えたことを特徴とするスクリーン版
の洗浄装置によって達成される。
Further, the object of the present invention is attained by a screen plate cleaning device characterized by comprising a solvent supply device and a solvent suction device.

【0010】また、本発明の目的は、溶媒供給装置、気
体供給装置および吸引装置を備えたことを特徴とするス
クリーン版の洗浄装置によって達成される。
Further, the object of the present invention is achieved by a screen plate cleaning apparatus characterized by comprising a solvent supply device, a gas supply device and a suction device.

【0011】また、本発明の目的は、基板上にペースト
をスクリーン印刷する工程を含むプラズマディスプレイ
部材の製造方法であって、スクリーン版の洗浄を、溶媒
をスクリーン版上に供給しながら溶媒を吸引することに
より洗浄することを特徴とするプラズマディスプレイ部
材の製造方法によって達成される。
Another object of the present invention is a method of manufacturing a plasma display member including a step of screen-printing a paste on a substrate, wherein the screen plate is cleaned by sucking the solvent while supplying the solvent onto the screen plate. This is achieved by a method for manufacturing a plasma display member, which is characterized in that cleaning is performed by performing the cleaning.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】本発明のスクリーン版の洗浄方法
は、溶媒を用いたスクリーン版洗浄の簡素化、使用溶媒
量の低減を図ったものであり、少なくともスクリーン版
上に溶媒を供給しながら溶媒を吸引することによりスク
リーン版を洗浄することを特徴とする。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The method for cleaning a screen plate of the present invention is intended to simplify the screen plate cleaning using a solvent and to reduce the amount of solvent used, and to supply a solvent onto at least the screen plate. The screen plate is washed by sucking the solvent.

【0013】溶媒の供給方法としては、自然落下、ポン
プによる供給など任意の方法を用いることができるが、
自然落下(サイフォン)とコックの組み合わせが装置的
に簡便であり好ましい。
As a method for supplying the solvent, any method such as natural fall or supply by a pump can be used.
A combination of a natural fall (siphon) and a cock is preferred because it is simple in terms of equipment.

【0014】図1に本発明のスクリーン版の洗浄装置の
一実施態様を示す。以下、図1に基づいて本発明を説明
するが、本発明はこれに限定されない。
FIG. 1 shows an embodiment of the screen plate cleaning apparatus of the present invention. Hereinafter, the present invention will be described with reference to FIG. 1, but the present invention is not limited to this.

【0015】図1において、洗浄用溶媒は溶媒タンク1
から自然落下で供給される。溶媒供給量は、供給ライン
径の選定およびコック2を用いて制御される。
In FIG. 1, a washing solvent is a solvent tank 1
Supplied by gravity. The solvent supply amount is controlled by selecting the supply line diameter and using the cock 2.

【0016】図1においてスクリーン版(記載なし)
は、縦方向(垂直)に設置されているが、横方向(水
平)に設置しても良い。図1において、本発明の洗浄装
置は、洗浄用ヘッド3を有し、洗浄用ヘッド3の上部に
は一列に複数個の吐出ノズル4が、下部にはスリット状
の吸引ノズル5が設けられている。溶媒は吐出ノズル4
から吐出され、スクリーン版上に供給される。洗浄用ヘ
ッドを上下左右に動かすことにより、スクリーン版上に
残存したペーストと溶媒をなじませることができる。図
1においては手動で洗浄用ヘッドを動かすが、自動で動
かすようにしても良い。そして、本発明においては、吐
出ノズル4から溶媒を供給しながら、吸引ノズル5から
溶媒を吸引することにより、溶媒となじんだペーストを
溶媒とともに吸引することができ、スクリーン版を効率
的に洗浄することができる。
In FIG. 1, a screen version (not shown)
Are installed vertically (vertically), but may be installed horizontally (horizontally). In FIG. 1, the cleaning apparatus of the present invention has a cleaning head 3, a plurality of discharge nozzles 4 are provided in a row at an upper part of the cleaning head 3, and a slit-shaped suction nozzle 5 is provided at a lower part. I have. Solvent nozzle 4
And is supplied onto the screen plate. By moving the cleaning head up, down, left, and right, the paste remaining on the screen plate and the solvent can be blended. In FIG. 1, the cleaning head is moved manually, but may be moved automatically. Then, in the present invention, while the solvent is supplied from the discharge nozzle 4 and the solvent is suctioned from the suction nozzle 5, the paste compatible with the solvent can be sucked together with the solvent, and the screen plate is efficiently cleaned. be able to.

【0017】吸引ノズル5から吸引された溶媒とペース
トの混合物(以下なじみ液と呼ぶ)は、洗浄液受け6に
蓄えられる。
The mixture of the solvent and the paste (hereinafter, referred to as a familiar liquid) sucked from the suction nozzle 5 is stored in the washing liquid receiver 6.

【0018】溶媒吐出ノズルは、任意の形状を選択でき
るが、溶媒を万遍なくスクリーン上に展開するには、柱
状の吐出ヘッドを設け、該吐出ヘッドのスクリーン版に
接触する面に0.1mmφ〜2.0mmφ程度の細径ノ
ズルを長径方向、略均一に複数個設け、同時に溶媒を吐
出させるのが好ましい。
The solvent discharge nozzle can have any shape, but in order to spread the solvent uniformly on the screen, a columnar discharge head is provided, and the surface of the discharge head that contacts the screen plate has a diameter of 0.1 mm. Preferably, a plurality of small-diameter nozzles having a diameter of about 2.0 mmφ are provided substantially uniformly in the major axis direction, and the solvent is simultaneously discharged.

【0019】使用する溶媒の種類は特に限定されない
が、ペーストに含まれるのと同じ溶媒を使用するのが、
残存ペーストと溶媒のなじみを良くするために好まし
い。
The type of the solvent used is not particularly limited, but the same solvent contained in the paste is used.
It is preferable to improve the compatibility between the residual paste and the solvent.

【0020】ペーストが2種類以上の溶媒を含む場合
は、混合溶媒を用いたり、洗浄初期に粘度の高い方の溶
媒を用い後半に粘度の低い方の溶媒を用いることも有効
である。
When the paste contains two or more solvents, it is also effective to use a mixed solvent, or to use a solvent having a higher viscosity in the early stage of washing and a solvent having a lower viscosity in the latter half of the washing.

【0021】溶媒としては例えば、テルピネオール、γ
−ブチロラクトン、メタノール、エタノール、イソプロ
ピルアルコール、ベンジルアルコールなどを用いること
ができる。
Examples of the solvent include terpineol, γ
-Butyrolactone, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, benzyl alcohol and the like can be used.

【0022】溶媒をより広範囲に展開しペーストとのな
じみを良くするには、溶媒と同時に気体を吐出させるの
が有効である。気体を同時に吐出させることで、溶媒が
効率的に広がるため、洗浄時間を短縮し、使用溶媒量を
低減することができる。
In order to spread the solvent over a wider range and improve the compatibility with the paste, it is effective to discharge gas simultaneously with the solvent. By discharging the gas at the same time, the solvent is efficiently spread, so that the cleaning time can be shortened and the amount of the solvent used can be reduced.

【0023】気体の種類は特に限定されないが、空気ま
たは窒素を用いるのがコストの点から好ましい。
The type of gas is not particularly limited, but it is preferable to use air or nitrogen from the viewpoint of cost.

【0024】ペーストとなじんだ溶媒は乾燥が進まない
内に吸引するのが、本発明の効果を得るには好ましい。
It is preferable that the solvent compatible with the paste is sucked in before the drying proceeds to obtain the effect of the present invention.

【0025】吸引ノズルの位置は特に限定されないが、
吐出ノズルの片側または両側に吐出ノズルと略平行に設
けるのが好ましい。
Although the position of the suction nozzle is not particularly limited,
It is preferable to provide one or both sides of the discharge nozzle substantially in parallel with the discharge nozzle.

【0026】吐出ノズルと吸引ノズルの距離は、溶媒と
残存ペーストとをなじませた後に吸引させるという点か
ら、吐出ノズルから5mm〜50mm離れて吸引ノズル
を設けるのが好ましい。5mmよりも近いと溶媒がペー
ストとなじむ前に吸引される恐れがあり、50mmを越
えると溶媒の蒸発や垂れが問題となる場合がある。
The distance between the discharge nozzle and the suction nozzle is preferably 5 mm to 50 mm away from the discharge nozzle from the viewpoint that the solvent and the residual paste are mixed and then sucked. If the distance is less than 5 mm, the solvent may be sucked before being mixed with the paste. If the distance exceeds 50 mm, evaporation or dripping of the solvent may cause a problem.

【0027】なじみ液を効果的に吸引するには、0.2
mmφ〜10.0mmφ程度の径の吸引ノズルを横方
向、略均一に複数個設けるか、または、0.1mm〜1
0mm幅のスリット状の吸引ノズルを設けるのが有効で
ある。
[0027] In order to effectively aspirate the familiar liquid, 0.2
A plurality of suction nozzles having a diameter of about mmφ to 10.0 mmφ are provided substantially uniformly in the horizontal direction, or 0.1 mm to 1 mm.
It is effective to provide a slit-shaped suction nozzle having a width of 0 mm.

【0028】スクリーンを縦方向に設置する場合、溶媒
吐出ノズルより下側の吸引ノズルは縦方向に複数個設置
するのが溶媒の垂れを防止する点から好ましい。
When the screen is installed in the vertical direction, it is preferable to install a plurality of suction nozzles below the solvent discharge nozzle in the vertical direction from the viewpoint of preventing the solvent from dripping.

【0029】また、吸引ノズルを越えて垂れた溶媒が床
面に流出するのを防ぐために、スクリーン下部に吸引ノ
ズルを設けたり、スクリーン全体を受けるパン(受け
皿)を設けるのが好ましい。
In order to prevent the solvent dripping over the suction nozzle from flowing out to the floor, it is preferable to provide a suction nozzle at the lower part of the screen or a pan (pan) for receiving the entire screen.

【0030】溶媒吐出ノズルと吸引ノズルとの間に邪魔
板や突起等を設け、溶媒とペーストのなじみを促進する
のは、本発明の効果をより大きくするものであり好まし
い。
It is preferable to provide a baffle plate or a projection between the solvent discharge nozzle and the suction nozzle to promote the adaptation of the solvent and the paste, since the effect of the present invention is further increased.

【0031】本発明のスクリーン洗浄方法は、スクリー
ン印刷の刷版であれば制限なく適用することができる
が、特にプラズマディスプレイ部材の製造用スクリーン
版の洗浄に適している。プラズマディスプレイ部材の製
造用スクリーン版は、版が大きいため、装置の簡易性、
溶媒使用量低減効果が顕著である。
Although the screen cleaning method of the present invention can be applied without limitation as long as it is a screen printing plate, it is particularly suitable for cleaning a screen plate for manufacturing a plasma display member. The screen plate for manufacturing a plasma display member has a large plate, so that the device is simple,
The effect of reducing the amount of solvent used is remarkable.

【0032】プラズマディスプレイパネル部材として
は、例えばプラズマディスプレイパネル用背面板、プラ
ズマディスプレイパネル用前面板などがあり、これら
は、本発明のスクリーン洗浄方法、洗浄装置を使用し、
高品質のプラズマディスプレイパネル用部材として製造
することができる。
The plasma display panel member includes, for example, a back plate for a plasma display panel, a front plate for a plasma display panel, and the like.
It can be manufactured as a high quality plasma display panel member.

【0033】背面板に用いる基板としては、特に限定さ
れないが、ガラス基板、セラミックス基板などを用いる
ことができる。
The substrate used for the back plate is not particularly limited, but a glass substrate, a ceramic substrate or the like can be used.

【0034】基板は、好ましくは洗浄されたのち、電極
が形成される。電極の組成は、例えば、銀、銅などを含
有する導電性ペーストを用いることができる。
The substrate is preferably cleaned and then the electrodes are formed. As the composition of the electrode, for example, a conductive paste containing silver, copper, or the like can be used.

【0035】電極の形成方法としては、例えば、導電性
ペーストをスクリーンパターン印刷したのち焼成する方
法、感光性導電ペーストをスクリーン印刷したのち電極
パターン露光し焼成する方法、感光性導電ペーストをノ
ズル等を用い塗布したのち電極パターン露光し焼成する
方法などが好ましく用いられる。
As a method of forming the electrodes, for example, a method in which a conductive paste is screen-pattern-printed and then baked, a method in which a photosensitive conductive paste is screen-printed and then an electrode pattern is exposed and baked, or a method in which the photosensitive conductive paste is sprayed with a nozzle or the like. It is preferable to use a method in which the electrode pattern is exposed and baked after application and application.

【0036】電極パターンは、電極厚みが1〜20μm
であることが好ましく、2〜15μmであることがさら
に好ましい。電極の厚みを1μm以上とすることで、導
体膜が薄くなりピンホール等が発生するのを抑え、ま
た、比抵抗値も低くなる。電極の厚みを20μm以下と
することで、電極上に絶縁のための誘電体層を形成した
場合に電極の凸凹や熱膨張係数の違いによる熱応力が抑
えられ、従って誘電体層に亀裂が発生したり、誘電体層
に凹凸が生じるのを防ぐことができる。
The electrode pattern has an electrode thickness of 1 to 20 μm.
Is preferably, and more preferably, 2 to 15 μm. When the thickness of the electrode is 1 μm or more, the thickness of the conductor film is reduced to prevent pinholes and the like from occurring, and the specific resistance value is reduced. By setting the thickness of the electrode to 20 μm or less, when a dielectric layer for insulation is formed on the electrode, thermal stress due to unevenness of the electrode and a difference in coefficient of thermal expansion is suppressed, and therefore, a crack occurs in the dielectric layer. Or irregularities in the dielectric layer can be prevented.

【0037】電極の線幅については、10〜200μm
であることが好ましく、20〜180μmであることが
さらに好ましい。10μm以上とすることで、断線欠陥
が生じ難くなり、また比抵抗値も低くできる。また、2
00μm以下とすることで焼成収縮を抑え、断面形状で
観察した場合、焼成後にエッジ部に角が出たような形に
なるのを防ぐことができる。
The line width of the electrode is 10 to 200 μm.
And more preferably 20 to 180 μm. When the thickness is 10 μm or more, disconnection defects are less likely to occur, and the specific resistance value can be reduced. Also, 2
By setting the thickness to 00 μm or less, shrinkage of firing is suppressed, and when observed in a cross-sectional shape, it is possible to prevent the edge portion from having a shape having corners after firing.

【0038】電極上に誘電体層を設けるのが、基板上に
直接隔壁(後述)を形成する場合に比べて隔壁の密着性
が増大して剥がれが抑制されたり蛍光体(後述)の劣化
が防止できるため好ましい。
When a dielectric layer is provided on the electrode, the adhesion of the partition is increased and peeling is suppressed, and the deterioration of the phosphor (described below) is increased as compared with the case where a partition (described later) is formed directly on the substrate. This is preferable because it can be prevented.

【0039】誘電体層の厚みは、4〜20μm、より好
ましくは5〜18μmであることが均一な誘電体層の形
成のために好ましい。厚みが20μmを越えると、焼成
の際、脱バインダーが困難でありクラックが生じやす
く、また基板へかかる応力が大きいために基板が反る等
の問題が生じる。また、4μm未満では厚みの均一性を
保持するのが困難である。
The thickness of the dielectric layer is preferably 4 to 20 μm, more preferably 5 to 18 μm, in order to form a uniform dielectric layer. If the thickness exceeds 20 μm, there is a problem that it is difficult to remove the binder during firing and cracks easily occur, and the substrate is warped due to a large stress applied to the substrate. If the thickness is less than 4 μm, it is difficult to maintain the uniformity of the thickness.

【0040】誘電体層は、無機材料粉末と有機バインダ
ーからなる誘電体ペーストをガラス基板上に塗布または
積層し、焼成することによって形成できる。誘電体層用
ペーストに用いる無機材料粉末の量は、無機材料粉末と
有機成分の和に対して50〜95重量%であるのが好ま
しい。50重量%未満では、誘電体層の緻密性、表面の
平坦性が欠如し、95重量%を越えるとペースト粘度が
上昇し、塗布時の厚みムラが大きくなる。
The dielectric layer can be formed by applying or laminating a dielectric paste composed of an inorganic material powder and an organic binder on a glass substrate, followed by firing. The amount of the inorganic material powder used for the dielectric layer paste is preferably 50 to 95% by weight based on the sum of the inorganic material powder and the organic component. If the amount is less than 50% by weight, the denseness of the dielectric layer and the flatness of the surface are lacking.

【0041】誘電体層の上に放電空間を構成するために
隔壁を設ける。隔壁の形状はストライプ状または格子状
に形成される。隔壁の高さは50〜200μmであるこ
とが好ましく、線幅は20〜200μmであることが好
ましい。線幅は同じでも良いし変えてもかまわない。
A partition is provided on the dielectric layer to form a discharge space. The shape of the partition is formed in a stripe shape or a lattice shape. The height of the partition walls is preferably 50 to 200 μm, and the line width is preferably 20 to 200 μm. The line width may be the same or may be changed.

【0042】隔壁は、プラズマディスプレイ用背面板に
形成しても良いしプラズマディスプレイ用前面板に形成
しても良く、背面板・前面板の両方に形成してもかまわ
ない。
The partition may be formed on the back plate for the plasma display, may be formed on the front plate for the plasma display, or may be formed on both the back plate and the front plate.

【0043】隔壁の製造方法は特に限定されないが、例
えば、無機材料と有機成分からなる隔壁用ペーストを用
いて、隔壁パターンを基板上に形成する工程および該隔
壁パターンを焼成する工程を経て、隔壁を形成すること
ができる。
The method for manufacturing the partition walls is not particularly limited. For example, the partition wall pattern is formed on a substrate using a partition paste containing an inorganic material and an organic component, and the partition wall pattern is baked. Can be formed.

【0044】隔壁パターン形成方法には、スクリーン印
刷法、サンドブラスト法、リフトオフ法、フォトリソグ
ラフィ法などを用いることができる。
A screen printing method, a sand blast method, a lift-off method, a photolithography method, or the like can be used as a partition pattern forming method.

【0045】さらに別の方法は、無機材料と有機成分と
からなる隔壁用ペーストを、基板に塗布して塗布膜を形
成する工程、該塗布膜に溝を形成した隔壁母型を押し当
てて隔壁パターンを形成する工程、該隔壁パターンを4
00〜600℃で焼成する工程とを、この順で含む方法
である。
Still another method is a step of applying a partition paste comprising an inorganic material and an organic component to a substrate to form a coating film, and pressing a partition matrix having grooves formed in the coating film to form a partition wall. Forming a pattern;
And firing at 00 to 600 ° C. in this order.

【0046】この方法は、隔壁用のガラスペーストを、
予めガラス基板の一部もしくは全面に均一塗布し、この
ペースト塗布層に隔壁母型を押し当てることにより、隔
壁パターンを形成する方法である。ガラスペーストをガ
ラス基板に均一に塗布する方法は特に限定されないが、
スクリーン印刷法やダイコーターやロールコーターを用
いたコーティング法などが好ましく挙げられる。
In this method, a glass paste for a partition is
This is a method of forming a partition pattern by applying a uniform coating on a part or the entire surface of a glass substrate in advance, and pressing a partition matrix onto the paste applied layer. The method of uniformly applying the glass paste to the glass substrate is not particularly limited,
A screen printing method and a coating method using a die coater or a roll coater are preferably exemplified.

【0047】隔壁により構成された放電空間上に蛍光体
が形成される。蛍光体の形成方法は特に限定されない
が、蛍光体ペーストをフォトリソ法により形成する方
法、蛍光体ペーストをディスペンサーにより塗布する方
法などが用いられる。塗布された蛍光体は焼成され隔壁
底部及び側面に固定される。
A phosphor is formed on the discharge space formed by the partition. The method for forming the phosphor is not particularly limited, and a method of forming the phosphor paste by a photolithography method, a method of applying the phosphor paste by a dispenser, and the like are used. The applied phosphor is fired and fixed to the bottom and side surfaces of the partition.

【0048】プラズマディスプレイ前面板用の基板とし
ては、ガラス基板が好ましく用いられる。
As the substrate for the plasma display front panel, a glass substrate is preferably used.

【0049】前面板の作製方法としては、例えば、次の
ような方法がある。先ず、背面板と同じガラス基板上
に、ITOをスパッタ法で形成後、レジストを塗布し、
所望のパターンに露光・現像後、エッチング処理して焼
成厚み0.1μm、線幅200μmの透明電極を形成す
る。また、黒色銀粉末からなる感光性銀ペーストを用い
て、フォトリソグラフィ法により、焼成後厚み10μm
のバス電極を形成する。電極はピッチ360μm、線幅
120μmのものを作製した。
As a method of manufacturing the front plate, for example, there is the following method. First, after forming ITO by the sputtering method on the same glass substrate as the back plate, a resist is applied,
After exposure and development to a desired pattern, etching treatment is performed to form a transparent electrode having a fired thickness of 0.1 μm and a line width of 200 μm. In addition, using a photosensitive silver paste composed of black silver powder, by photolithography, a thickness of 10 μm after baking.
Is formed. Electrodes having a pitch of 360 μm and a line width of 120 μm were prepared.

【0050】さらに、電極形成した前面板上に透明誘電
体ペーストを20μm塗布し、430℃で20分間保持
して焼き付けた。次に、形成した透明電極、黒色電極、
誘電体層を一様に被覆するように電子ビーム蒸着機を用
いて、厚み0.5μmのMgO膜を形成して前面板を完
成させる。
Further, a transparent dielectric paste was applied to a thickness of 20 μm on the front plate on which the electrodes were formed, and was baked at 430 ° C. for 20 minutes. Next, the formed transparent electrode, black electrode,
An MgO film having a thickness of 0.5 μm is formed using an electron beam evaporator so as to uniformly cover the dielectric layer, thereby completing the front plate.

【0051】本発明の洗浄方法は、上記のプラズマディ
スプレイ部材の製造工程において、背面板の電極、誘電
体、隔壁、蛍光体の形成、前面板の透明電極用レジスト
塗布、バス電極、透明誘電体の形成などにおいて、スク
リーン印刷法を用いて基板上にペーストを塗布する方法
を使用する場合に、使用したスクリーン版の洗浄に用い
ることができる。
According to the cleaning method of the present invention, in the manufacturing process of the above-described plasma display member, the formation of electrodes, dielectrics, partition walls, and phosphors on the back plate, the application of a resist for a transparent electrode on the front plate, the bus electrodes, the transparent dielectric In the case of using a method of applying a paste on a substrate by using a screen printing method in forming a screen plate or the like, the method can be used for cleaning the used screen plate.

【0052】得られた前面基板は、背面基板と貼り合わ
せ封着した後、放電用ガスを封入し、駆動回路を接合し
てプラズマディスプレイパネルを作製する。
After the obtained front substrate is bonded and sealed to the rear substrate, a discharge gas is sealed, and a driving circuit is joined to produce a plasma display panel.

【0053】本発明の洗浄方法、洗浄装置を使用して再
生したスクリーン版は、清浄なスクリーン面が得られ、
プラズマディスプレイ部材の製造工程において、これを
用いることで高品質のプラズマディスプレイパネル部材
を得ることができる。
The screen plate regenerated using the cleaning method and the cleaning apparatus of the present invention has a clean screen surface,
By using this in the manufacturing process of the plasma display member, a high quality plasma display panel member can be obtained.

【0054】[0054]

【実施例】以下に本発明を実施例を用いて具体的に説明
する。ただし、本発明はこれに限定されるものではな
い。 (導電性ペーストの作製)下記の組成からなる混合物を
3本ローラー混練機で混練し導電性ペーストを作製し
た。粘度測定器(BROOKFIELD社製)を用い
て、恒温槽を25℃に保ち、回転数を3rpmで測定し
た結果、ペースト粘度は500ポイズであった。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be specifically described below with reference to embodiments. However, the present invention is not limited to this. (Preparation of conductive paste) A mixture having the following composition was kneaded with a three-roller kneader to prepare a conductive paste. The paste viscosity was 500 poise as a result of measuring the rotation speed at 3 rpm while keeping the thermostat at 25 ° C. using a viscometer (manufactured by BROOKFIELD).

【0055】 導電性銀粉末(重量平均粒子径1.4μm) 88重量部 バインダー(エチルセルロース) 11重量部 ガラスフリット;成分(重量%)酸化ビスマス(46.2)、 二酸化珪素(27.1)、酸化硼素(11.8)、 酸化亜鉛(2.6)、酸化ナトリウム(4.7)、 酸化アルミニウム(2.8)、酸化ジルコニウム(4.8) ガラス転移点;461℃、ガラス軟化点;513℃、 重量平均粒子径;1.0μm 3重量部 テルピネオール 6重量部 実施例1 ガラス基板(旭硝子製 PD−200 500mm×9
00mm)を水洗浄後乾燥させ、上記の導電性ペースト
をスクリーン版(1800mm×1800mm)を用い
ベタ印刷した。
Conductive silver powder (weight average particle size: 1.4 μm) 88 parts by weight Binder (ethyl cellulose) 11 parts by weight Glass frit; component (% by weight) bismuth oxide (46.2), silicon dioxide (27.1), Boron oxide (11.8), zinc oxide (2.6), sodium oxide (4.7), aluminum oxide (2.8), zirconium oxide (4.8) Glass transition point; 461 ° C., glass softening point; 513 ° C., weight average particle diameter: 1.0 μm 3 parts by weight Terpineol 6 parts by weight Example 1 Glass substrate (PD-200 manufactured by Asahi Glass 500 mm × 9)
00 mm) was washed with water and dried, and the above-mentioned conductive paste was solid-printed using a screen plate (1800 mm × 1800 mm).

【0056】次いで、図1に示す本発明の洗浄装置を用
い、使用後の導電性ペーストが付着したスクリーン版を
洗浄した。吐出用ヘッドは、超高分子量ポリエチレンを
切削加工して作製した。吐出用ヘッド3の先端は、端面
を面取りした略平面状であり、200mm×50mmと
した。吐出ノズルは、0.5mmφのノズルを、短径方
向中央から20mm上の位置に、長径方向180mmの
中に30穴を略均一に配置した。吸引ノズルは、短径方
向中央から15mm下の位置に、長径方向195mm、
幅2mmのスリットを形成した。洗浄用溶媒にはテルピ
ネオールを使用した。洗浄に使用した溶媒量は1L以下
であり、洗浄時間は10分程度であった。洗浄後のスク
リーン版にペーストの痕跡は見られず、清浄なスクリー
ン面が再生された。 実施例2 本発明の方法を用いてプラズマディスプレイパネル用部
材を製造した。以下にその方法を詳述する。
Next, the screen plate to which the used conductive paste was adhered was washed using the washing apparatus of the present invention shown in FIG. The ejection head was manufactured by cutting ultra-high molecular weight polyethylene. The tip of the ejection head 3 is substantially flat with an end face chamfered, and has a size of 200 mm × 50 mm. As the discharge nozzle, a 0.5 mmφ nozzle was arranged at a position 20 mm above the center in the minor diameter direction, and 30 holes were arranged substantially uniformly within 180 mm in the major diameter direction. The suction nozzle is located at a position 15 mm below the center in the minor axis direction, 195 mm in the major axis direction,
A slit having a width of 2 mm was formed. Terpineol was used as a washing solvent. The amount of solvent used for washing was 1 L or less, and the washing time was about 10 minutes. No trace of paste was seen on the screen plate after washing, and a clean screen surface was reproduced. Example 2 A member for a plasma display panel was manufactured using the method of the present invention. Hereinafter, the method will be described in detail.

【0057】ガラス基板(旭硝子製 PD−200 4
00mm×500mm)を水洗浄後乾燥させた。
Glass substrate (PD-2004 manufactured by Asahi Glass)
(00 mm × 500 mm) was washed with water and dried.

【0058】次に、アドレス電極を形成した。アドレス
電極は、実施例1に用いた導電性ペーストをスクリーン
印刷法でベタ印刷後、フォトリソ法でパターン加工して
電極パターンを形成し、焼成した。
Next, address electrodes were formed. The address electrodes were formed by solid-printing the conductive paste used in Example 1 by a screen printing method, and then pattern-processing by a photolithography method to form an electrode pattern, followed by firing.

【0059】アドレス電極用スクリーン版(1200m
m×1200mm)は印刷・洗浄を3回繰り返し行った
ものを使用した。洗浄装置は実施例1と同じものを使用
した。洗浄用の溶媒はテルピネオールを使用した。3回
の洗浄および本印刷後の洗浄に使用した溶媒量は、計
1.5Lであり、合計洗浄時間は30分程度であった。
Screen plate for address electrode (1200 m
(mx 1200 mm) was used after repeating printing and washing three times. The same cleaning device as in Example 1 was used. Terpineol was used as a washing solvent. The amount of solvent used for the washing three times and the washing after the main printing was 1.5 L in total, and the total washing time was about 30 minutes.

【0060】焼成後、厚み3.3μm、線幅40μmの
パターンを有する電極基板が得られた。次いで、電極パ
ターンを光学顕微鏡で調べたところ、短絡欠陥、断線欠
陥の無い、優れた電極パターンが得られていた。 (パネル作製に用いた誘電体、隔壁材料) ガラス(1); 組成 :Li2O 7%、SiO2 22%、B2 3 32%、 BaO 4%、 Al2 3 22%、ZnO 2%、 MgO 6%、CaO 4% 熱物性 :ガラス転移点491℃、軟化点528℃、 熱膨張係数74×10-7/K 粒径 :D10 0.9μm D50 2.6μm D90 7.5μm 最大粒径 22.0μm 比表面積 :1.92m2 /g 屈折率 :1.59(g線436nm) 比重 :2.54 ガラス(2); 組成 :Bi23 38%、SiO2 7%、B23 19%、 BaO12%、Al23 4%、ZnO 20% 熱物性 :ガラス転移点475℃、軟化点515℃、 熱膨張係数75×10-7/K 粒径 :D10 0.9μm D50 2.5μm D90 3.9μm 最大粒径 6.5μm (白色フィラー粉末) フィラー; TiO2 、比重4.61 (ポリマー) ポリマー(1) ;40%のメタアクリル酸(MAA)、3
0%のメチルメタアクリレート(MMA)および30%
のスチレン(St)からなる共重合体のカルボキシル基
に対して0.4当量のグリシジルメタアクリレート(G
MA)を付加反応させた重量平均分子量43000、酸
価95の感光性ポリマーの40%γ−ブチロラクトン溶
液 ポリマー(2) ;エチルセルロース/テルピネオール=6
/94(重量比)の溶液 (モノマー) モノマー(1) ;X2-N-CH(CH3)-CH2-(O-CH2-CH(CH3))n-N-
X2 X:-CH2-CH(OH)-CH2O-CO-C(CH3)=CH2 n=2〜10 モノマー(2) ;トリメチロールプロパントリアクリレー
ト・モディファイドPO (光重合開始剤) IC−369;”Irgacure”−369(チバ・
ガイギー製品) 2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフ
ォリノフェニル)ブタノン−1 IC−907;”Irgacure”−907(チバ・
ガイギー製品) 2−メチル−1−(4−(メチルチオ)フェニル−2−
モルフォリノプロパノン (増感剤) DETX−S;2,4−ジエチルチオキサントン (増感助剤) EPA ;p−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル (可塑剤) DBP ;ジブチルフタレート(DBP) (増粘剤) SiO ;SiO2の酢酸2−(2−ブトキシエトキ
シ)エチル15%溶液 (有機染料) スダン ;アゾ系有機染料、化学式C24204O、分
子量380.45 (溶媒) γ−ブチロラクトン テルピネオール (分散剤) ”ノプコスパース”092(サンノプコ社製) (安定化剤) 1,2,3−ベンゾトリアゾール 次に、隔壁用感光性ペーストを作製した。ガラス粉末
(ガラス(1))100重量部に対して、有機染料0.0
8重量部の割合で秤量した。スダンをアセトンに溶解さ
せ、分散剤を加えてホモジナイザで均質に攪拌した。こ
の溶液中にガラス粉末を添加して均質に分散・混合後、
ロータリーエバポレータを用いて、100℃の温度で乾
燥し、アセトンを蒸発させた。こうして有機染料の膜で
ガラス粉末の表面が均質にコーティングされた粉末を作
製した。
After firing, an electrode substrate having a pattern having a thickness of 3.3 μm and a line width of 40 μm was obtained. Next, when the electrode pattern was examined with an optical microscope, an excellent electrode pattern free from short-circuit defects and disconnection defects was obtained. (Dielectric and partition wall materials used for panel production) Glass (1); Composition: Li 2 O 7%, SiO 2 22%, B 2 O 3 32%, BaO 4%, Al 2 O 3 22%, ZnO 2 %, MgO 6%, CaO 4% Thermal properties: glass transition point 491 ° C., softening point 528 ° C., coefficient of thermal expansion 74 × 10 −7 / K Particle size: D10 0.9 μm D50 2.6 μm D90 7.5 μm Maximum particle Diameter 22.0 μm Specific surface area: 1.92 m 2 / g Refractive index: 1.59 (g line 436 nm) Specific gravity: 2.54 Glass (2); Composition: 38% Bi 2 O 3 , 7% SiO 2 , B 2 O 3 19%, BaO 12%, Al 2 O 3 4%, ZnO 20% Thermal properties: glass transition point 475 ° C., softening point 515 ° C., coefficient of thermal expansion 75 × 10 −7 / K Particle size: D10 0.9 μm D50 2.5 μm D90 3.9 μm Maximum particle size 6.5 μm (white Filler powder) Filler; TiO 2, specific gravity 4.61 (Polymer) Polymer (1); 40% methacrylic acid (MAA), 3
0% methyl methacrylate (MMA) and 30%
0.4 equivalent of glycidyl methacrylate (G) to the carboxyl group of the copolymer of styrene (St)
MA) by addition reaction, a 40% solution of a photosensitive polymer having a weight average molecular weight of 43,000 and an acid value of 95 in γ-butyrolactone polymer (2); ethyl cellulose / terpineol = 6
/ 94 solution (weight ratio) (Monomer) Monomer (1); X 2 -N- CH (CH 3) -CH 2 - (O-CH 2- CH (CH 3)) n -N-
X 2 X: —CH 2 —CH (OH) —CH 2 O—CO—C (CH 3 ) = CH 2 n = 2 to 10 Monomer (2); Trimethylolpropane triacrylate / modified PO (photopolymerization initiator ) IC-369; "Irgacure" -369 (Ciba
Geigy products) 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone-1 IC-907; "Irgacure" -907 (Ciba.
Geigy products) 2-Methyl-1- (4- (methylthio) phenyl-2-
Morpholinopropanone (sensitizer) DETX-S; 2,4-diethylthioxanthone (sensitizer aid) EPA; p-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester (plasticizer) DBP; dibutyl phthalate (DBP) (thickener) SiO 2 ; 15% solution of 2- (2-butoxyethoxy) ethyl acetate of SiO 2 (organic dye) Sudan; azo organic dye, chemical formula C 24 H 20 N 4 O, molecular weight 380.45 (solvent) γ-butyrolactone terpineol ( (Dispersant) "NOPCOSPARSE" 092 (manufactured by San Nopco) (Stabilizer) 1,2,3-benzotriazole Next, a photosensitive paste for partition walls was prepared. 100 parts by weight of glass powder (glass (1)) and 0.0 parts of organic dye
It was weighed at a ratio of 8 parts by weight. Sudan was dissolved in acetone, a dispersant was added, and the mixture was homogeneously stirred with a homogenizer. After adding glass powder to this solution and uniformly dispersing and mixing,
Using a rotary evaporator, drying was performed at a temperature of 100 ° C., and acetone was evaporated. In this way, a powder was prepared in which the surface of the glass powder was uniformly coated with the organic dye film.

【0061】ポリマー(1)、モノマー(1)、光重合開始剤
(IC-369)、増感剤、可塑剤、溶媒を37.5:15:
4.8:4.8:2:7.5の重量比で混合し、均質に
溶解させた。その後、この溶液を400メッシュのフィ
ルターを用いて濾過し、有機ビヒクルを得た。
The polymer (1), the monomer (1), the photopolymerization initiator (IC-369), the sensitizer, the plasticizer, and the solvent were used in an amount of 37.5: 15:
The mixture was mixed at a weight ratio of 4.8: 4.8: 2: 7.5 and homogeneously dissolved. Thereafter, this solution was filtered using a 400-mesh filter to obtain an organic vehicle.

【0062】上記ガラス粉末と上記有機ビヒクルをガラ
ス粉末:有機ビヒクル=70:71.6の重量比になる
ように添加し、3本ローラで混合・分散して、隔壁用の
感光性ペーストを調整した。有機成分の屈折率は1.5
9、ガラス粉末の屈折率は1.59であった。
The above-mentioned glass powder and the above-mentioned organic vehicle were added in a weight ratio of glass powder: organic vehicle = 70: 71.6, and mixed and dispersed with three rollers to prepare a photosensitive paste for partition walls. did. The refractive index of the organic component is 1.5
9. The refractive index of the glass powder was 1.59.

【0063】同様にしてガラス(2):フィラー:ポリマ
ー(2)=55:10:35の重量比になる誘電体層用ペ
ーストを作製した。この誘電体ペーストを電極をあらか
じめ形成したガラス基板上に、325メッシュの誘電体
用スクリーン版(1200mm×1200mm)を用い
てスクリーン印刷により、均一に塗布した。
Similarly, a paste for a dielectric layer having a weight ratio of glass (2): filler: polymer (2) = 55: 10: 35 was prepared. This dielectric paste was uniformly applied on a glass substrate on which electrodes were formed in advance by screen printing using a 325 mesh dielectric screen plate (1200 mm × 1200 mm).

【0064】誘電体用スクリーン版は印刷・洗浄を3回
繰り返し行ったものを使用した。洗浄装置は実施例1と
同じものを使用した。洗浄用の溶媒はγ−ブチロラクト
ンを使用した。3回の洗浄および本印刷後の洗浄に使用
した溶媒量は、計1.8Lであり、合計洗浄時間は30
分程度であった。
The screen plate for the dielectric used was obtained by repeating printing and washing three times. The same cleaning device as in Example 1 was used. As a washing solvent, γ-butyrolactone was used. The amount of the solvent used for the three washings and the washing after the main printing was 1.8 L in total, and the total washing time was 30 L.
Minutes.

【0065】塗布した誘電体ペーストは、80℃で40
分乾燥し、550℃で仮焼成して、厚み10μmの誘電
体層を形成した。
The applied dielectric paste is heated at 80.degree.
After drying for a minute, it was calcined at 550 ° C. to form a dielectric layer having a thickness of 10 μm.

【0066】焼成後、誘電体層を光学顕微鏡で調べたと
ころ、印刷抜けや、ふくれの無い、優れた誘電体層が得
られていた。
After the firing, the dielectric layer was examined with an optical microscope. As a result, an excellent dielectric layer free from printing omission and blistering was obtained.

【0067】この誘電体層上に前記隔壁用ペーストをロ
ールコータを用いて、均一に塗布し塗布膜を形成した。
塗布膜を形成後の乾燥は80℃で1時間行った。乾燥後
の塗布膜厚みは150μmであった。
On the dielectric layer, the above-mentioned partition wall paste was uniformly applied using a roll coater to form a coating film.
Drying after forming the coating film was performed at 80 ° C. for 1 hour. The thickness of the coating film after drying was 150 μm.

【0068】続いて、360μmピッチのストライプ状
のネガ型クロムマスクを通して、上面から50mJ/c
2出力の超高圧水銀灯で紫外線照射した。露光量は
1.0J/cm2であった。各隔壁の幅は80ミクロン
であった。
Subsequently, a stripe-shaped negative chromium mask having a pitch of 360 μm was used to pass 50 mJ / c from the upper surface.
Ultraviolet irradiation was performed using an ultra-high pressure mercury lamp having an m 2 output. The exposure amount was 1.0 J / cm 2 . The width of each partition was 80 microns.

【0069】次に、35℃に保持したモノエタノールア
ミンの0.2重量%の水溶液をシャワーで170秒間か
けることにより現像し、その後シャワースプレーを用い
て水洗浄した。これにより、光硬化していない部分が除
去され、ガラス基板上にストライプ状の隔壁パターンが
形成された。
Next, a 0.2% by weight aqueous solution of monoethanolamine kept at 35 ° C. was developed by applying a shower for 170 seconds, and then washed with water using a shower spray. As a result, portions that were not photocured were removed, and a stripe-shaped partition pattern was formed on the glass substrate.

【0070】このようにして隔壁パターンが形成された
ガラス基板を、空気中で570℃で15分間焼成し、隔
壁を形成した。
The glass substrate on which the partition pattern was formed was fired in air at 570 ° C. for 15 minutes to form a partition.

【0071】このように形成された隔壁間に、赤、青、
緑に発光する蛍光体ペーストをディスペンサを用いて塗
布し、これらを焼成(500℃、30分)して隔壁の側
面および底部に蛍光体層を形成し、背面板を完成させ
た。
Between the partition walls thus formed, red, blue,
A phosphor paste that emits green light was applied using a dispenser, and the paste was baked (500 ° C., 30 minutes) to form a phosphor layer on the side and bottom of the partition, thereby completing the back plate.

【0072】次に、前面板を以下の工程によって作製し
た。先ず、背面板と同じガラス基板上に、ITOをスパ
ッタ法で形成後、レジストを塗布し、所望のパターンに
露光・現像後、エッチング処理して焼成厚み0.1μ
m、線幅200μmの透明電極を形成した。また、黒色
銀粉末からなる感光性銀ペーストを用いて、フォトリソ
グラフィ法により、焼成後厚み10μmのバス電極を形
成した。電極はピッチ360μm、線幅120μmのも
のを作製した。
Next, a front plate was manufactured by the following steps. First, after forming ITO by sputtering on the same glass substrate as the back plate, applying a resist, exposing and developing into a desired pattern, etching, and firing to a thickness of 0.1 μm.
m, a transparent electrode having a line width of 200 μm was formed. Further, a bus electrode having a thickness of 10 μm was formed after firing by a photolithography method using a photosensitive silver paste composed of black silver powder. Electrodes having a pitch of 360 μm and a line width of 120 μm were prepared.

【0073】さらに、電極形成した前面板上に透明誘電
体ペーストを20μm塗布し、430℃で20分間保持
して焼き付けた。次に、形成した透明電極、黒色電極、
誘電体層を一様に被覆するように電子ビーム蒸着機を用
いて、厚み0.5μmのMgO膜を形成して前面板を完
成させた。
Further, a transparent dielectric paste was applied to a thickness of 20 μm on the front plate on which the electrodes were formed, and baked at 430 ° C. for 20 minutes. Next, the formed transparent electrode, black electrode,
A 0.5 μm thick MgO film was formed using an electron beam evaporator so as to uniformly cover the dielectric layer, thereby completing the front plate.

【0074】ここで、バス電極用ペーストの塗布、透明
誘電体ペーストの塗布はスクリーン印刷法で行った。そ
の際、スクリーン版の洗浄は実施例1の装置を用いて行
った。
Here, the application of the bus electrode paste and the application of the transparent dielectric paste were performed by a screen printing method. At that time, the screen plate was washed using the apparatus of Example 1.

【0075】得られた前面基板を、前記の背面基板と貼
り合わせ封着した後、放電用ガスを封入し、駆動回路を
接合してプラズマディスプレイを作製した。このパネル
に電圧を印加して表示を行った。得られた画像は、鮮明
であり、欠陥のない優れた表示が達成された。
After the obtained front substrate was bonded and sealed to the above-mentioned rear substrate, a discharge gas was sealed therein, and a driving circuit was joined to produce a plasma display. Display was performed by applying a voltage to this panel. The resulting image was clear and excellent display without defects was achieved.

【0076】[0076]

【発明の効果】本発明はスクリーン版を溶媒を用いて洗
浄する方法、洗浄装置およびプラズマディスプレイパネ
ル用部材の製造方法に関するものである。
The present invention relates to a method for cleaning a screen plate using a solvent, a cleaning apparatus, and a method for manufacturing a member for a plasma display panel.

【0077】本発明においては、スクリーン版上に溶媒
を供給しながら溶媒を吸引することによりスクリーン版
を洗浄することを特徴としており、ペーストになじんだ
溶媒を直ちに吸引することで効率的にスクリーン版を洗
浄することができる。従って、簡易な装置で溶媒の使用
量を少なくスクリーン版の洗浄が可能となる。
The present invention is characterized in that the screen plate is washed by sucking the solvent while supplying the solvent onto the screen plate, and the screen plate is efficiently sucked by immediately sucking the solvent that has been adapted to the paste. Can be washed. Therefore, the screen plate can be washed with a simple device using a small amount of solvent.

【0078】本発明の方法により洗浄されたスクリーン
版のスクリーン面は清浄であり、該スクリーン版を用い
ることで、高品質のプラズマディスプレイパネル用部材
を製造することができる。
The screen surface of the screen plate cleaned by the method of the present invention is clean, and by using the screen plate, a high quality member for a plasma display panel can be manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の洗浄装置の概略図FIG. 1 is a schematic diagram of a cleaning apparatus of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 溶媒タンク 2 コック 3 洗浄用ヘッド 4 吐出ノズル 5 吸引ノズル 6 洗浄液受け 7 排気 Reference Signs List 1 solvent tank 2 cock 3 cleaning head 4 discharge nozzle 5 suction nozzle 6 cleaning liquid receiver 7 exhaust

フロントページの続き (72)発明者 山田 久義 滋賀県大津市園山1丁目1番1号 東レ株 式会社滋賀事業場内 Fターム(参考) 2C035 AA06 2C250 FA06 FB02 FB23 5C027 AA01 AA09 AA10 5C040 JA23 JA25 JA40 MA25 Continuation of front page (72) Inventor Hisayoshi Yamada 1-1-1 Sonoyama, Otsu-shi, Shiga F-term (reference) in Toga Corporation Shiga Plant 2C035 AA06 2C250 FA06 FB02 FB23 5C027 AA01 AA09 AA10 5C040 JA23 JA25 JA40 MA25

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】溶媒をスクリーン版上に供給しながら溶媒
を吸引することにより洗浄することを特徴とするスクリ
ーン版の洗浄方法。
1. A method for cleaning a screen plate, wherein the cleaning is performed by sucking the solvent while supplying the solvent onto the screen plate.
【請求項2】スクリーン版上に溶媒および気体を供給し
ながら溶媒を吸引することにより洗浄することを特徴と
するスクリーン版の洗浄方法。
2. A method for cleaning a screen plate, wherein the cleaning is performed by sucking the solvent while supplying a solvent and a gas onto the screen plate.
【請求項3】スクリーン版がプラズマディスプレイ部材
の製造用スクリーン版である請求項1または2記載のス
クリーン版の洗浄方法。
3. The method for cleaning a screen plate according to claim 1, wherein the screen plate is a screen plate for manufacturing a plasma display member.
【請求項4】溶媒供給装置および溶媒吸引装置を備えた
ことを特徴とするスクリーン版の洗浄装置。
4. A screen plate cleaning device comprising a solvent supply device and a solvent suction device.
【請求項5】溶媒供給装置、気体供給装置および溶媒吸
引装置を備えたことを特徴とするスクリーン版の洗浄装
置。
5. A screen plate cleaning device comprising a solvent supply device, a gas supply device and a solvent suction device.
【請求項6】スクリーン版がプラズマディスプレイ部材
の製造用スクリーン版である請求項4または5記載のス
クリーン版の洗浄装置。
6. The screen plate cleaning apparatus according to claim 4, wherein the screen plate is a screen plate for manufacturing a plasma display member.
【請求項7】基板上にペーストをスクリーン印刷する工
程を含むプラズマディスプレイ部材の製造方法であっ
て、スクリーン版の洗浄を、溶媒をスクリーン版上に供
給しながら溶媒を吸引することにより洗浄することを特
徴とするプラズマディスプレイ部材の製造方法。
7. A method for manufacturing a plasma display member including a step of screen-printing a paste on a substrate, wherein the screen plate is cleaned by sucking the solvent while supplying the solvent onto the screen plate. A method for manufacturing a plasma display member, comprising:
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2010253757A (en) * 2009-04-23 2010-11-11 Mitsubishi Electric Corp Screen printing method and screen printing device

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