JP2000265269A - Target exchange timing judging method, and computer- readable recording medium with its program recorded therein - Google Patents

Target exchange timing judging method, and computer- readable recording medium with its program recorded therein

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JP2000265269A
JP2000265269A JP11066470A JP6647099A JP2000265269A JP 2000265269 A JP2000265269 A JP 2000265269A JP 11066470 A JP11066470 A JP 11066470A JP 6647099 A JP6647099 A JP 6647099A JP 2000265269 A JP2000265269 A JP 2000265269A
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sputtering
depth
regions
power
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a target exchange timing judging method capable of judging an exchange timing with excellent accuracy even when a plurality of sputtering of different conditions is achieved and reducing the cost, and a computer-readable recording medium with its program recorded therein. SOLUTION: A target is demarcated into a plurality of areas, and the power used for each sputtering is obtained every time when each sputtering is completed. The erosion depth in each area of the target by each sputtering is obtained with relation to the power, and the total erosion depth is obtained for each area when each sputtering is completed. Whether or not the total erosion depth of at least one area among the plurality of areas reaches the depth preset for the area is judged.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はスパッタリング装置
のメンテナンスに好適なターゲット交換時期判定方法及
びそのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能
な記録媒体に関し、特に、条件が相違する複数のスパッ
タリングが行われる際にも高い精度の判定が可能なター
ゲット交換時期判定方法及びそのプログラムを記録した
コンピュータ読み取り可能な記録媒体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for determining a target replacement time suitable for maintenance of a sputtering apparatus and a computer-readable recording medium storing the program, and more particularly to a method for performing a plurality of sputterings under different conditions. The present invention also relates to a target replacement time determination method capable of determining with high accuracy and a computer-readable recording medium on which the program is recorded.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、半導体装置を製造する際の金属膜
を形成する工程等にスパッタリング装置が使用されてい
る。このスパッタリング装置には、金属膜の原料となる
ターゲットが使用されているが、ターゲットは消耗部材
であるので、使用限度を越える前に交換する必要があ
る。このため、以下の方法によりその交換時期を判定し
ていた。
2. Description of the Related Art Conventionally, a sputtering apparatus has been used in a step of forming a metal film when manufacturing a semiconductor device. In this sputtering apparatus, a target as a raw material of a metal film is used. However, since the target is a consumable member, it must be replaced before the usage limit is exceeded. Therefore, the replacement time has been determined by the following method.

【0003】図4は従来のターゲット交換時期判定方法
を示すフローチャートである。
FIG. 4 is a flowchart showing a conventional method for determining a target replacement time.

【0004】ここでは、ターゲットを交換してからn
(n≧2)回目の動作について説明する。
Here, after replacing the target, n
The (n ≧ 2) -th operation will be described.

【0005】従来の判定方法においては、先ず、前回ま
でのターゲット積算電力をβn-1とする(ステップS2
1)。ターゲット積算電力とは、ターゲットへの供給電
力と供給時間との積分値である。
In the conventional determination method, first, the target integrated power up to the previous time is set to β n-1 (step S2).
1). The target integrated power is an integrated value of the power supplied to the target and the supply time.

【0006】次いで、n回目のスパッタリングのために
スパッタパワー(電力)をオン状態とする(ステップS
22)。このときのパワー(電力)はXn(kW)とす
る。
Next, the sputtering power is turned on for the n-th sputtering (step S).
22). The power at this time is X n (kW).

【0007】スパッタパワー(電力)をオン状態として
からYn秒間経過した後、スパッタパワー(電力)をオ
フ状態とする(ステップS23)。即ち、Xn(kW)
の電力でYn秒間のスパッタリングを行う。
[0007] After a lapse of sputtering power Y n seconds after the (power) and the on-state to the sputtering power (electric power) and off state (step S23). That is, X n (kW)
The sputtering is performed for Y n seconds with the power of.

【0008】その後、n回目スパッタリングにおける積
算電力αnを下記数式1により計算する(ステップS2
4)。
Thereafter, the integrated power α n in the n-th sputtering is calculated by the following equation (step S2).
4).

【0009】[0009]

【数1】 (Equation 1)

【0010】次に、n回目のスパッタリングが終了した
時点での総ターゲット積算電力βnを(βn-1+αn)か
ら計算する(ステップS25)。
Next, the total target integrated power β n at the time when the n-th sputtering is completed is calculated from (β n-1 + α n ) (step S25).

【0011】そして、総ターゲット積算電力βnが所定
値Kより小さいか否かを判断する(ステップS26)。
このとき、総ターゲット積算電力βnが所定値Kより小
さい場合には、n=n+1とし(ステップS27)、
(n+1)回目の動作を行う。
Then, it is determined whether or not the total target integrated power β n is smaller than a predetermined value K (step S26).
At this time, if the total target integrated power β n is smaller than the predetermined value K, n = n + 1 is set (step S27),
The (n + 1) th operation is performed.

【0012】一方、総ターゲット積算電力βnが所定値
K以上となっている場合には、その時点でアラームを発
生させ(ステップS28)、スパッタリングを停止さ
せ、ターゲットを交換する。
On the other hand, if the total target integrated power β n is equal to or larger than the predetermined value K, an alarm is generated at that time (step S28), the sputtering is stopped, and the target is replaced.

【0013】しかし、この従来のターゲット交換時期判
定方法では、ターゲットエロージョン分布が相違するス
パッタリング条件を併用する場合には、マージンを大き
く設定しなければ、適切な判定を行うことができなかっ
た。
However, in the conventional method for determining the target replacement time, when using sputtering conditions having different target erosion distributions together, an appropriate determination cannot be made unless a large margin is set.

【0014】図5(a)乃至(c)は種々のスパッタリ
ング条件を示す模式図である。スパッタリング条件には
種々のものがあるが、例えば、図5(a)に示すよう
に、ターゲット11aの同心円状に4つの領域を他の領
域より深くするもの、図5(b)に示すように、ターゲ
ット11bの中央部に近づくにつれて深くするもの、図
5(c)に示すように、ターゲット11cの外縁部から
一定の間隔を有する領域を他の領域よりも深くするもの
等がある。
FIGS. 5A to 5C are schematic diagrams showing various sputtering conditions. There are various sputtering conditions. For example, as shown in FIG. 5 (a), four regions are concentrically formed on the target 11a to be deeper than other regions, as shown in FIG. 5 (b). 5A. As shown in FIG. 5C, a region having a certain distance from the outer edge of the target 11c is made deeper than other regions.

【0015】上述の従来の判定方法では、例えば、図5
(b)に示す条件と図5(c)に示す条件とを併用する
場合であって、その使用比率が不明な場合には、全て図
5(b)に示す条件でスパッタリングした場合のターゲ
ット交換積算電力値又は全て図5(c)に示す条件でス
パッタリングした場合のターゲット交換積算電力値のい
ずれか少ない方を事故防止のため設定する必要があっ
た。このため、前述の2つの条件がある比率で併用され
る場合には、片方の条件ではターゲット中央部の減りが
速く、もう一方の条件ではターゲットの外周近傍の減り
が速いため、単独の条件の場合よりも、積算電力的に長
持ちすることは明らかであるが、その場合の利点を活か
すことができない。
In the above-described conventional determination method, for example, FIG.
In the case where the conditions shown in FIG. 5B and the conditions shown in FIG. 5C are used in combination, and when the usage ratio is unknown, all targets are replaced when sputtering is performed under the conditions shown in FIG. It was necessary to set the smaller of the integrated power value and the target replacement integrated power value when sputtering was performed under the conditions shown in FIG. Therefore, when the above two conditions are used together in a certain ratio, the reduction in the central portion of the target is rapid under one of the conditions, and the reduction near the outer periphery of the target is rapid under the other condition. Although it is clear that the integrated power lasts longer than the case, the advantage in that case cannot be utilized.

【0016】そこで、スパッタ条件が相違する場合にこ
れを考慮してターゲットの交換時期を判定する方法が提
案されている(特開平10−330925号公報)。こ
の公報に記載された判定方法によれば、毎回のスパッタ
リング後における総スパッタ積算電力の計算の際に、そ
の回のスパッタレートとスパッタ電力との比を考慮して
その回のスパッタ積算電力を求めている。
Therefore, there has been proposed a method of judging the replacement time of a target in consideration of the sputter conditions when the sputtering conditions are different (Japanese Patent Laid-Open No. 10-330925). According to the determination method described in this publication, when calculating the total sputter power after each sputtering, the total sputter power is calculated in consideration of the ratio between the sputter rate and the sputter power. ing.

【0017】[0017]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
特開平10−330925号公報によれば、所期の目的
を達成することはできたものの、総スパッタ積算電力を
基準としてターゲットの交換時期を判定しているので、
微妙な判定が困難であるという問題点がある。
However, according to the above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open No. H10-330925, although the intended purpose has been achieved, the target replacement timing is determined based on the total sputter integrated power. So
There is a problem that delicate judgment is difficult.

【0018】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
のであって、条件が相違する複数のスパッタリングを行
う場合であっても高い精度で交換時期を判定することが
でき、コストを低減することができるターゲット交換時
期判定方法及びそのプログラムを記録したコンピュータ
読み取り可能な記録媒体を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of such a problem, and it is possible to determine the replacement time with high accuracy even when performing a plurality of sputterings under different conditions, thereby reducing the cost. It is an object of the present invention to provide a target replacement time determination method and a computer-readable recording medium on which the program is recorded.

【0019】[0019]

【課題を解決するための手段】本発明に係るターゲット
交換時期判定方法は、ターゲットを複数の領域に区画す
る工程と、各回のスパッタリングの終了毎にその回のス
パッタリングに使用された電力を求める工程と、その回
のスパッタリングによる前記ターゲットの前記各領域に
おけるエロージョン深さを前記電力に関連づけて求める
工程と、その回のスパッタリングが終了した時点での総
エロージョン深さを前記各領域について求める工程と、
複数の前記領域のうち少なくとも1つの領域の前記総エ
ロージョン深さがその領域に対して予め設定された予定
深さに達しているか否かを判断する工程と、を有するこ
とを特徴とする。
According to the present invention, there is provided a method of determining a target replacement time, comprising the steps of dividing a target into a plurality of regions, and obtaining power used for the sputtering each time the sputtering is completed. And the step of determining the erosion depth in each region of the target by the current sputtering in association with the power, and the step of determining the total erosion depth at the time when the current sputtering is completed for each of the regions,
Determining whether or not the total erosion depth of at least one of the plurality of regions has reached a predetermined planned depth for the region.

【0020】本発明においては、各回のスパッタリング
毎にそれに使用された電力からその回のエロージョン深
さを複数の領域について求め、更に総エロージョン深さ
を複数の領域について求め、この総エロージョン深さが
予定深さに達しているか否かを判断しているので、複数
のスパッタリングにおいて条件が相違している場合であ
っても、総積算電力に基づいて判定している従来の方法
と比して高い精度での判定が可能である。
In the present invention, the erosion depth of each time is obtained for a plurality of regions from the electric power used for each sputtering, and the total erosion depth is obtained for a plurality of regions. Since it is determined whether or not the scheduled depth has been reached, even if the conditions are different in a plurality of sputtering, it is higher than the conventional method in which the determination is based on the total integrated power. Judgment with accuracy is possible.

【0021】なお、本発明においては、前記予定深さ
は、複数の前記領域について同一の深さであってもよ
い。
In the present invention, the predetermined depth may be the same for a plurality of the regions.

【0022】また、前記ターゲットを区画する工程は、
前記ターゲットを複数の同心円状の領域に区画する工程
であってもよい。
Further, the step of partitioning the target includes:
The step of partitioning the target into a plurality of concentric regions may be performed.

【0023】更に、前記各領域における前記エロージョ
ン深さを求める工程は、前記各領域におけるその回のス
パッタリングの条件に関連づけられた係数を前記電力に
乗じる工程を有することができる。
Further, the step of determining the erosion depth in each of the regions may include a step of multiplying the power by a coefficient associated with the condition of the current sputtering in each of the regions.

【0024】本発明に係るターゲット交換時期判定プロ
グラムを記録したコンピュータ読み取り可能か記録媒体
は、前述の工程(手順)をコンピュータに実行させるこ
とを特徴とする。
A computer readable or non-transitory computer readable recording medium having recorded thereon the target replacement time judging program according to the present invention is characterized by causing a computer to execute the above-mentioned steps (procedures).

【0025】[0025]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例に係るター
ゲット交換時期判定方法について、添付の図面を参照し
て具体的に説明する。図1は本発明の実施例に係るター
ゲット交換時期判定方法を示すフローチャートである。
図2はスパッタリングされるターゲットを示す模式図で
ある。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A method for determining a target replacement time according to an embodiment of the present invention will be specifically described below with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a flowchart illustrating a target replacement timing determination method according to the embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a schematic diagram showing a target to be sputtered.

【0026】ここでは、ターゲットを交換してからn
(n≧2)回目の動作について説明する。
Here, after replacing the target, n
The (n ≧ 2) -th operation will be described.

【0027】本実施例においては、図2に示すように、
スパッタリングされるターゲット1を、例えば26個の
エリアA、B、・・・、Zに同心円状に予め区画してお
く。そして、ターゲットを交換してからn回目の動作に
おいては、先ず、各エリアA乃至Zにおける前回までの
スパッタリングによるターゲット1の総エロ−ジョン深
さを夫々An-1乃至Zn-1とする(ステップS1)。
In this embodiment, as shown in FIG.
The target 1 to be sputtered is previously concentrically partitioned into, for example, 26 areas A, B,..., Z. Then, in the n-th operation after exchanging the target, first, the total erosion depth of the target 1 by the previous sputtering in each of the areas A to Z is set to An -1 to Zn -1 respectively. (Step S1).

【0028】次いで、n回目のスパッタリングのために
スパッタパワー(電力)をオン状態とする(ステップS
2)。このときのパワー(電力)はXn(kW)とす
る。
Next, the sputtering power (power) is turned on for the n-th sputtering (step S).
2). The power at this time is X n (kW).

【0029】スパッタパワー(電力)をオン状態として
からYn秒間経過した後、スパッタパワー(電力)をオ
フ状態とする(ステップS3)。即ち、Xn(kW)の
電力でYn秒間のスパッタリングを行う。
[0029] After a lapse of sputtering power Y n seconds after the (power) and the on-state to the sputtering power (electric power) and off state (step S3). That is, the sputtering of Y n seconds at a power of X n (kW).

【0030】その後、n回目のスパッタリングにおける
積算電力αnを数式1と同様にして計算する(ステップ
S4)。
Thereafter, the integrated power α n in the n-th sputtering is calculated in the same manner as in Expression 1 (step S4).

【0031】次に、各エリアA乃至Zにおけるn回目の
スパッタリングによるターゲット1のエロージョン深さ
n’乃至Zn’を下記数式2により計算する(ステップ
S5)。
Next, the erosion depth of the target 1 A n 'to Z n' by n-th sputtering in each area A to Z is calculated by the following equation 2 (step S5).

【0032】[0032]

【数2】 (Equation 2)

【0033】但し、γam乃至γzmは、各エリアA乃至Z
においてスパッタ条件mにより決定されるエリア別ター
ゲットエロージョン分布係数である。
Here, γ am to γ zm are the respective areas A to Z
Is the target erosion distribution coefficient for each area determined by the sputtering condition m.

【0034】次いで、各エリアA乃至Zにおけるn回目
のスパッタリングが終了した時点でのターゲット1の総
エロージョン深さAn乃至Znを下記数式3により計算す
る(ステップS6)。
[0034] Then, compute the total erosion depth A n to the following Equation 3 Z n of the target 1 at the time of n-th sputtering in each area A to Z has been completed (step S6).

【0035】[0035]

【数3】 (Equation 3)

【0036】そして、全てのエリアA乃至Zにおける総
エロージョン深さAn乃至Znが所定値Lより小さいか否
かを判断する(ステップS7)。このとき、全てのエリ
アA乃至Zにおける総エロージョン深さAn乃至Znが所
定値Lより小さい場合には、n=n+1とし(ステップ
S8)、(n+1)回目の動作を行う。
[0036] Then, the total erosion depth A n to Z n in all areas A to Z determines whether the difference is less than a predetermined value L (step S7). At this time, if the total erosion depth A n to Z n in all areas A to Z smaller than the predetermined value L, and n = n + 1 (step S8), performs (n + 1) -th operation.

【0037】一方、エリアA乃至Zのいずれかにおける
総エロージョン深さが所定値L以上となっている場合に
は、その時点でアラームを発生させ(ステップS9)、
スパッタリングを停止させ、ターゲットを交換する。
On the other hand, if the total erosion depth in any of the areas A to Z is equal to or more than the predetermined value L, an alarm is generated at that time (step S9).
Stop sputtering and replace target.

【0038】ターゲットを交換してから最初の動作にお
いては、ステップS1の工程において、前回までのエロ
ージョン深さを0とみなせばよい。
In the first operation after replacing the target, the erosion depth up to the previous time may be regarded as 0 in the step S1.

【0039】このように、本実施例においては、その回
のスパッタリング積算電力値にスパッタ条件によって異
なる複数のエリア別ターゲットエロージョン分布係数を
乗じ、その回のスパッタリングによるターゲットエリア
毎の各エロージョンを計算し、それを積算することによ
ってターゲット交換時期を判定している。即ち、ターゲ
ットエリア毎にその時点での総エロージョンを計算し、
スパッタリング条件毎に相違するターゲットエロージョ
ン分布と各スパッタ条件の使用比率とを加味してターゲ
ット交換時期を判定している。
As described above, in the present embodiment, the integrated power value of the current sputtering is multiplied by the target erosion distribution coefficient for each of a plurality of areas which varies depending on the sputtering conditions, and each erosion for each target area by the current sputtering is calculated. The target replacement time is determined by integrating the values. That is, the total erosion at that time is calculated for each target area,
The target replacement time is determined in consideration of the target erosion distribution that differs for each sputtering condition and the usage ratio of each sputtering condition.

【0040】従って、カソードマグネット位置等のスパ
ッタリング条件がスパッタリング毎に相違している場合
であっても、正確にターゲット交換時期を判定すること
ができる。例えば、図5(a)乃至(c)の中から2つ
の条件が選択されている場合であっても、スパッタリン
グ条件及びターゲットエリアによって異なるターゲット
エロージョン深さを考慮しているので、適正な時期にタ
ーゲット交換の判定を下すことが可能である。このよう
な効果は、条件が2つの場合だけでなく、それ以上のス
パッタリング条件が併用される場合であっても得られる
ものである。
Therefore, even when the sputtering conditions such as the position of the cathode magnet are different for each sputtering, it is possible to accurately determine the target replacement time. For example, even when two conditions are selected from FIGS. 5A to 5C, since different target erosion depths are considered depending on the sputtering conditions and the target area, it is necessary to select a proper timing. It is possible to determine the target exchange. Such an effect can be obtained not only when there are two conditions but also when a combination of more sputtering conditions is used.

【0041】なお、上述の実施例においては、ターゲッ
トをエリアA乃至Zの26個の領域に区画しているが、
その区画個数は特に限定されるものではない。また、そ
の区画される領域の形状は同心円のドーナツ状に特に限
定されるものではない。前述の実施例で同心円のドーナ
ツ状としたのは、ターゲットエロージョンが同心円状に
分布するとの仮定によるものである。
In the above embodiment, the target is divided into 26 areas A to Z.
The number of sections is not particularly limited. Further, the shape of the partitioned area is not particularly limited to a concentric donut shape. The concentric donut shape in the above embodiment is based on the assumption that the target erosion is distributed concentrically.

【0042】また、前述の実施例においては、ステップ
S7の工程において、各エリアA乃至Zの判定基準を同
一の所定値Lとしているが、判定基準がエリア毎に相違
していてもよい。例えば、エリアAの判定基準をLa、
・・・、エリアZの判定基準をLzのようにすることが
できる。このように判定基準を設定することにより、部
位により厚さが相違している特殊なターゲットを使用す
る場合、及び使いかけのターゲットを再度使用する場合
等にも適用することが可能となる。
In the above-described embodiment, in the process of step S7, the criterion for each of the areas A to Z is set to the same predetermined value L. However, the criterion may be different for each area. For example, the criterion of the area A is La,
.., The determination criterion for the area Z can be set to Lz. By setting the determination criterion in this way, it is possible to apply the present invention to a case where a special target having a different thickness depending on a part is used, or a case where a used target is used again.

【0043】更に、交換時期を判定される部材は、使用
により摩耗する部材又は材質が変化する部位が相違する
部材等の消耗部材であれば、特にターゲットに限定され
るものではない。図3は消耗部材一般に適用した本発明
の実施例を示すフローチャートである。
Further, the member for which the replacement time is determined is not particularly limited to the target as long as it is a consumable member such as a member that is worn by use or a member whose material changes in different parts. FIG. 3 is a flowchart showing an embodiment of the present invention applied to a general consumable member.

【0044】消耗部材一般に適用する場合、使用により
消耗する部材1を、例えば26個のエリアA、B、・・
・、Zに予め区画しておき、部材を交換してからn回目
の動作においては、先ず、各エリアA乃至Zにおける前
回までの使用による部材の総エロ−ジョン深さを夫々A
n-1乃至Zn-1とする(ステップS11)。
When generally applied to a consumable member, the member 1 consumable by use is divided into, for example, 26 areas A, B,.
, Z, and beforehand, in the n-th operation after the replacement of the member, first, the total erosion depth of the member in each of the areas A to Z by the previous use is A
n-1 to Zn -1 (step S11).

【0045】次いで、n回目の使用のために放電パワー
(電力)をオン状態とする(ステップS12)。このと
きのパワー(電力)はXn(kW)とする。
Next, the discharge power (power) is turned on for the n-th use (step S12). The power at this time is X n (kW).

【0046】放電パワー(電力)をオン状態としてから
n秒間経過した後、放電パワー(電力)をオフ状態と
する(ステップS13)。即ち、Xn(kW)の電力で
n秒間の放電を行う。
[0046] After a lapse of a discharge power (electric power) from the ON state Y n seconds, discharge power (electric power) and off state (step S13). That is, the discharge of Y n seconds at a power of X n (kW).

【0047】その後、n回目の放電における積算電力α
nを数式1と同様にして計算する(ステップS14)。
Thereafter, the integrated power α in the n-th discharge
n is calculated in the same manner as Expression 1 (step S14).

【0048】次に、各エリアA乃至Zにおけるn回目の
放電による部材のエロージョン深さAn’乃至Zn’を数
式2により計算する(ステップS15)。
Next, the erosion depths A n ′ to Z n ′ of the members caused by the n-th discharge in the areas A to Z are calculated by Expression 2 (step S15).

【0049】次いで、各エリアA乃至Zにおけるn回目
の放電が終了した時点での部材の総エロージョン深さA
n乃至Znを数式3により計算する(ステップS16)。
Next, the total erosion depth A of the member at the time when the n-th discharge in each of the areas A to Z is completed.
The n or Z n is calculated by Equation 3 (step S16).

【0050】そして、全てのエリアA乃至Zにおける総
エロージョン深さAn乃至Znが所定値Lより小さいか否
かを判断する(ステップS17)。このとき、全てのエ
リアA乃至Zにおける総エロージョン深さAn乃至Zn
所定値Lより小さい場合には、n=n+1とし(ステッ
プS18)、(n+1)回目の動作を行う。
[0050] Then, the total erosion depth A n to Z n in all areas A to Z determines whether the difference is less than a predetermined value L (step S17). At this time, if the total erosion depth A n to Z n in all areas A to Z smaller than the predetermined value L, and n = n + 1 (step S18), performs the (n + 1) -th operation.

【0051】一方、エリアA乃至Zのいずれかにおける
総エロージョン深さが所定値L以上となっている場合に
は、その時点でアラームを発生させ(ステップS1
9)、放電を停止させ、部材を交換する。
On the other hand, if the total erosion depth in any of the areas A to Z is equal to or larger than the predetermined value L, an alarm is generated at that point (step S1).
9) Stop the discharge and replace the member.

【0052】なお、これらのターゲット交換時期判定方
法をコンピュータ読み取り可能な記録媒体に記録させ、
コンピュータにこの方法を実行させてもよい。
Note that these target replacement time determination methods are recorded on a computer-readable recording medium,
A computer may perform this method.

【0053】[0053]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
各回のスパッタリング毎にそれに使用された電力からそ
の回のエロージョン深さを複数の領域について求め、更
に総エロージョン深さを複数の領域について求め、この
総エロージョン深さが予定深さに達しているか否かを判
断しているので、複数のスパッタリングにおいて条件が
相違している場合であっても、高い精度での判定を行う
ことができる。このため、ターゲットのコストを低減す
ることができる。
As described in detail above, according to the present invention,
For each sputtering, the erosion depth of the current time is determined for a plurality of regions from the power used for the sputtering, and the total erosion depth is determined for a plurality of regions. Whether or not the total erosion depth has reached a predetermined depth Therefore, even when the conditions are different in a plurality of sputterings, the determination can be performed with high accuracy. Therefore, the cost of the target can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施例に係るターゲット交換時期判定
方法を示すフローチャートである。
FIG. 1 is a flowchart illustrating a target replacement timing determination method according to an embodiment of the present invention.

【図2】スパッタリングされるターゲットを示す模式図
である。
FIG. 2 is a schematic view showing a target to be sputtered.

【図3】消耗部材一般に適用した本発明の実施例を示す
フローチャートである。
FIG. 3 is a flowchart showing an embodiment of the present invention applied to a general consumable member.

【図4】従来のターゲット交換時期判定方法を示すフロ
ーチャートである。
FIG. 4 is a flowchart illustrating a conventional target replacement time determination method.

【図5】(a)乃至(c)は種々のスパッタリング条件
を示す模式図である。
FIGS. 5A to 5C are schematic diagrams showing various sputtering conditions.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、11a、11b、11c;ターゲット A、B、Z;エリア 1, 11a, 11b, 11c; Targets A, B, Z; Area

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ターゲットを複数の領域に区画する工程
と、各回のスパッタリングの終了毎にその回のスパッタ
リングに使用された電力を求める工程と、その回のスパ
ッタリングによる前記ターゲットの前記各領域における
エロージョン深さを前記電力に関連づけて求める工程
と、その回のスパッタリングが終了した時点での総エロ
ージョン深さを前記各領域について求める工程と、複数
の前記領域のうち少なくとも1つの領域の前記総エロー
ジョン深さがその領域に対して予め設定された予定深さ
に達しているか否かを判断する工程と、を有することを
特徴とするターゲット交換時期判定方法。
1. A step of dividing a target into a plurality of regions, a step of obtaining power used for each sputtering each time a sputtering is completed, and an erosion of the target in each region by the sputtering. Determining a depth in association with the power, determining a total erosion depth at the time of completion of the current sputtering for each of the regions, and determining the total erosion depth of at least one of a plurality of the regions. Determining whether or not the target depth has reached a predetermined scheduled depth for the area.
【請求項2】 前記予定深さは、複数の前記領域につい
て同一の深さであることを特徴とする請求項1に記載の
ターゲット交換時期判定方法。
2. The method according to claim 1, wherein the predetermined depth is the same depth for a plurality of the regions.
【請求項3】 前記ターゲットを区画する工程は、前記
ターゲットを複数の同心円状の領域に区画する工程であ
ることを特徴とする請求項1又は2に記載のターゲット
交換時期判定方法。
3. The method according to claim 1, wherein the step of partitioning the target is a step of partitioning the target into a plurality of concentric regions.
【請求項4】 前記各領域における前記エロージョン深
さを求める工程は、前記各領域におけるその回のスパッ
タリングの条件に関連づけられた係数を前記電力に乗じ
る工程を有することを特徴とする請求項1乃至3のいず
れか1項に記載されたターゲット交換時期判定方法。
4. The method according to claim 1, wherein the step of determining the erosion depth in each of the regions includes a step of multiplying the power by a coefficient associated with a condition of the current sputtering in each of the regions. 3. The method for determining a target replacement time according to any one of 3.
【請求項5】 ターゲットを複数の領域に区画する手順
と、各回のスパッタリングの終了毎にその回のスパッタ
リングに使用された電力を求める手順と、その回のスパ
ッタリングによる前記ターゲットの前記各領域における
エロージョン深さを前記電力に関連づけて求める手順
と、その回のスパッタリングが終了した時点での総エロ
ージョン深さを前記各領域について求める手順と、複数
の前記領域のうち少なくとも1つの領域の前記総エロー
ジョン深さがその領域に対して予め設定された予定深さ
に達しているか否かを判断する手順と、をコンピュータ
に実行させるためのターゲット交換時期判定プログラム
を記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
5. A step of partitioning a target into a plurality of regions, a step of obtaining power used for each sputtering every time each sputtering is completed, and an erosion of the target in each region by the sputtering each time. A procedure for determining a depth in association with the power, a procedure for determining a total erosion depth at the time when the current sputtering is completed for each of the regions, and a procedure for determining the total erosion depth of at least one of a plurality of the regions. And a computer-readable recording medium for recording a target replacement time determination program for causing a computer to execute a procedure for determining whether or not a predetermined depth has been reached for the area.
【請求項6】 前記予定深さは、複数の前記領域につい
て同一の深さであることを特徴とする請求項5に記載の
ターゲット交換時期判定プログラムを記録したコンピュ
ータ読み取り可能な記録媒体。
6. The computer-readable recording medium according to claim 5, wherein the predetermined depth is the same for a plurality of the areas.
【請求項7】 前記ターゲットを区画する手順は、前記
ターゲットを複数の同心円状の領域に区画する手順であ
ることを特徴とする請求項5又は6に記載のターゲット
交換時期判定プログラムを記録したコンピュータ読み取
り可能な記録媒体。
7. The computer according to claim 5, wherein the step of partitioning the target is a step of partitioning the target into a plurality of concentric regions. A readable recording medium.
【請求項8】 前記各領域における前記エロージョン深
さを求める手順は、前記各領域におけるその回のスパッ
タリングの条件に関連づけられた係数を前記電力に乗じ
る手順を有することを特徴とする請求項5乃至7のいず
れか1項に記載されたターゲット交換時期判定プログラ
ムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
8. The method according to claim 5, wherein the step of obtaining the erosion depth in each of the regions includes a step of multiplying the power by a coefficient associated with a condition of the current sputtering in each of the regions. A computer-readable recording medium recording the target replacement time determination program according to any one of claims 7 to 13.
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