JP2000260800A - Brazing evaluating apparatus - Google Patents

Brazing evaluating apparatus

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JP2000260800A
JP2000260800A JP6170399A JP6170399A JP2000260800A JP 2000260800 A JP2000260800 A JP 2000260800A JP 6170399 A JP6170399 A JP 6170399A JP 6170399 A JP6170399 A JP 6170399A JP 2000260800 A JP2000260800 A JP 2000260800A
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JP
Japan
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brazing
thermal image
solder ball
temperature
brazed
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JP6170399A
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Japanese (ja)
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Kazuya Ueno
一也 上野
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Original Assignee
Toshiba Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a brazing evaluating apparatus capable of nondestructively evaluating the brazed condition of a brazed part and deciding the success or the failure of a joint. SOLUTION: This brazing evaluating apparatus evaluates the soldered condition of a solder ball 8 soldered to a pad of an insulation substrate 7 of a semiconductor device 4, and the semiconductor substrate 4 is mounted on a support stand 4 of a thermal image measuring part 1, and the surface temperature of the solder ball 8, when the soldered part is heated, is photographed by a thermal image measuring camera 2, and an obtained image signal is input to a thermal image analyzer 9 to calculate the increase in the temperatures the surface temperatures of the solder ball 8, and the thermal image analyzer 9 compares it with the temperature increase characteristic set previously, evaluates the solder conditions, and determines the quality of a joint.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体装
置、特にBGA(Ball Grid Array)、
FC(Flip Chip)等の半田ボールの半田付け
部分における半田付け状態の評価に好適するろう付け評
価装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device, for example, a BGA (Ball Grid Array),
The present invention relates to a brazing evaluation apparatus suitable for evaluating a soldering state of a soldering portion of a solder ball such as FC (Flip Chip).

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、半導体装置、例えばBGAパッケ
ージにおける絶縁基板に設けられたパッドに半田ボール
を接合した時の接合状態の良否は、接合強度を、剪断試
験や垂直引っ張り試験等の破壊試験によって測定するこ
とにより行われていた。しかし、こうした試験方法では
必ずしも半田とパッド面あるいは半田と半田ボールの接
合界面で剥離するだけではなく、半田自身の破断によっ
てパッドから半田ボールが取れてしまうことがある。
2. Description of the Related Art Conventionally, the bonding condition when a solder ball is bonded to a pad provided on an insulating substrate in a semiconductor device, for example, a BGA package, is determined by measuring the bonding strength by a destructive test such as a shear test or a vertical tensile test. It was done by measuring. However, in such a test method, not only the peeling at the solder-pad surface or the bonding interface between the solder and the solder ball, but also the solder ball may be detached from the pad due to breakage of the solder itself.

【0003】また接合領域の分布と、剥離のための負荷
を加える荷重の方向によっては、同じ接合面積であって
も剥離荷重がばらついてしまい、正確な接合強度が得ら
れず接合状態を正しく判断することができない。さら
に、試験にあたっては半導体装置等の製品を破壊してし
まうために無駄な部材が生じ、さらにまた製造工程の中
で製品の接合状態の判断を行うことができないために、
工程を流れる中からランダムに抜き取った試験サンプル
の試験結果に基づいて、同じ工程中で製造された製品の
接合状態を推定することになる。
[0003] Further, depending on the distribution of the bonding area and the direction of the load for applying the peeling load, the peeling load varies even in the same bonding area, so that accurate bonding strength cannot be obtained and the bonding state is correctly determined. Can not do it. In addition, in testing, wasteful members are generated because products such as semiconductor devices are destroyed, and furthermore, it is not possible to judge the bonding state of the products in the manufacturing process,
Based on the test results of test samples randomly drawn from the process, the joint state of a product manufactured in the same process is estimated.

【0004】このため、半田ボールの半田接合部の接合
状態を非破壊的に評価し、接合の良否を判断することが
でき、また製造工程の中でも接合状態の評価、良否判断
が行えるようにすることが要望されている。
For this reason, it is possible to non-destructively evaluate the joining state of the solder joints of the solder balls to judge the quality of the joining, and to evaluate and judge the joining state even during the manufacturing process. It is desired.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上記のような状況に鑑
みて本発明はなされたもので、その目的とするところは
ろう付け部のろう付け状態を非破壊的に評価することに
よって接合の良否を判断することができるろう付け評価
装置を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to non-destructively evaluate the brazing state of a brazing portion to determine the quality of a joint. The present invention is to provide a brazing evaluation device capable of determining the following.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明のろう付け評価装
置は、ろう付け部にろう付けされた被ろう付け部材のろ
う付け状態を評価するろう付け評価装置において、被ろ
う付け部材とろう付け部のろう付け個所を加熱あるいは
冷却すると共に、加熱あるいは冷却することにより得た
被ろう付け部材の温度変化に基づいてろう付け状態を判
断するようにしたことを特徴とするものであり、さら
に、ろう付け状態の判断が、熱画像によって得た被ろう
付け部材の表面温度の変化に基づいて行われることを特
徴とするものであり、さらに、ろう付け個所を高浸透性
の液体中に浸すと共に、液体を加熱あるいは冷却するよ
うにしたことを特徴とするものであり、さらに、液体
が、エチルアルコールであることを特徴とするものであ
り、さらに、ろう付け部が絶縁基板に設けられたパッド
であり、被ろう付け部材が半田ボールであることを特徴
とするものである。
A brazing evaluation apparatus according to the present invention is a brazing evaluation apparatus for evaluating a brazing state of a brazed member brazed to a brazing portion. Heating or cooling the brazing part of the part, characterized in that the brazing state was determined based on the temperature change of the brazed member obtained by heating or cooling, further, The determination of the brazing state is performed based on a change in the surface temperature of the brazed member obtained by the thermal image, and further, the brazing part is immersed in a highly permeable liquid and , Characterized in that the liquid is heated or cooled, and the liquid is ethyl alcohol. There is a pad provided on an insulating substrate, and is characterized in that the object to be brazed member is a solder ball.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態を、図面
を参照して説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0008】先ず第1の実施形態を図1乃至図5により
説明する。図1は概略構成を一部断面で示す図であり、
図2は半田ボールの温度を示す図で、図2(a)は温度
上昇特性図、図2(b)は測定点を示す平面図であり、
図3は半田ボールの熱画像の例を示す図であり、図4は
半田ボールを加熱した際の熱画像を示す図で、図4
(a)は入熱直後の熱画像を示す図、図4(b)は入熱
24秒後の熱画像を示す図、図4(c)は入熱44秒後
の熱画像を示す図であり、図5は半田ボールの平均温度
特性を示す図で、図5(a)は良好接合時の平均温度上
昇特性を示す図、図5(b)は不良接合時の平均温度上
昇特性を示す図である。
First, a first embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration in a partial cross section.
FIG. 2 is a diagram showing the temperature of the solder ball, FIG. 2 (a) is a temperature rise characteristic diagram, FIG. 2 (b) is a plan view showing measurement points,
FIG. 3 is a view showing an example of a thermal image of the solder ball, and FIG. 4 is a view showing a thermal image when the solder ball is heated.
4A is a diagram showing a thermal image immediately after heat input, FIG. 4B is a diagram showing a thermal image after 24 seconds of heat input, and FIG. 4C is a diagram showing a thermal image after 44 seconds of heat input. FIG. 5 is a view showing an average temperature characteristic of a solder ball, FIG. 5A is a view showing an average temperature rise characteristic at the time of good bonding, and FIG. 5B is a view showing an average temperature rise characteristic at the time of poor bonding. FIG.

【0009】図1乃至図5において、1は熱画像測定部
で、熱画像測定カメラ2がカメラ固定台3に取り付けら
れており、また熱画像測定カメラ2に対向する位置に
は、上面に載置された測定対象品である半導体装置4を
加熱、冷却可能とした支持台5が設けられている。さら
に、支持台5の上方には、例えば載置され加熱されてい
る半導体装置4の熱画像を熱画像測定カメラ2で撮影す
る際に周囲の影響が加わらないように遮光用囲い6が設
けられている。
1 to 5, reference numeral 1 denotes a thermal image measuring unit. A thermal image measuring camera 2 is mounted on a camera fixing stand 3, and is mounted on an upper surface at a position facing the thermal image measuring camera 2. A support table 5 is provided, which is capable of heating and cooling the semiconductor device 4 to be measured, which is a placed object to be measured. Further, a light-shielding enclosure 6 is provided above the support table 5 so that the thermal image of the semiconductor device 4 placed and heated by the thermal image measurement camera 2 is not affected by the surroundings. ing.

【0010】また、支持台5上には、半導体装置4が絶
縁基板7を下側とし、ろう付け部である絶縁基板7の図
示しないパッドに、ろう材の半田によりろう付けされた
被ろう付け部材である半田ボール8を上側として載置さ
れ、半田ボール8側が熱画像測定カメラ2により撮影さ
れる。なお、固定台3には熱画像測定カメラ2と支持台
5との距離を調節しピント合わせを行うためのピント調
節機能が備えられている。
On the support 5, the semiconductor device 4 is brazed to a pad (not shown) of the insulating substrate 7, which is a brazing portion, by soldering a brazing material, with the insulating substrate 7 on the lower side. The solder ball 8 as a member is placed on the upper side, and the solder ball 8 side is photographed by the thermal image measurement camera 2. The fixed base 3 is provided with a focus adjusting function for adjusting the distance between the thermal image measuring camera 2 and the support base 5 to perform focusing.

【0011】一方、9は熱画像分析器で、熱画像測定カ
メラ2で撮影した画像信号がケーブル10を介して入力
されるようになっている。そして熱画像分析器9では、
入力された画像信号に基づき、ピント合わせが行われた
半田ボール8の各部の温度を算出し、表示画面11にカ
ラーによる温度分布表示等を行うと共に、個々の半田ボ
ール8の平均温度やその変化、あるいは定点における温
度変化を算出するように構成されている。
On the other hand, reference numeral 9 denotes a thermal image analyzer, which receives an image signal taken by the thermal image measuring camera 2 via a cable 10. And in the thermal image analyzer 9,
Based on the input image signal, the temperature of each part of the solder ball 8 on which focusing has been performed is calculated, a temperature distribution display or the like is displayed on the display screen 11 by color, and the average temperature of each solder ball 8 and its change. Alternatively, it is configured to calculate a temperature change at a fixed point.

【0012】さらに、熱画像分析器9は、予め設定した
温度変化と測定した温度変化を比較し、その差が所定範
囲内であるか否か判断してその結果を、例えば良好接
合、不良接合と表示するようになっている。なお、熱画
像分析器9に予め設定する温度変化については、良好な
半田付けが行われている半田ボールについて、加熱した
時の温度変化を測定すると共に破壊試験によって良好な
半田付けであることを確認し、データを得ておき、逆に
ついても、不良の半田付けを準備し、その温度変化の測
定と半田付け状態の確認を行い、そのデータを得ておい
て、これらの各データが予め入力されている。
Further, the thermal image analyzer 9 compares the preset temperature change with the measured temperature change, determines whether or not the difference is within a predetermined range, and determines the result as, for example, good bonding or poor bonding. Is displayed. In addition, regarding the temperature change set in advance in the thermal image analyzer 9, for a solder ball on which good soldering has been performed, the temperature change when heated is measured, and it is confirmed that good soldering is performed by a destructive test. Check and obtain data, and vice versa, prepare for defective soldering, measure the temperature change and check the soldering state, obtain the data, and input these data in advance. Have been.

【0013】このように構成されているので、支持台5
上に半導体装置4を載置し、加熱する。そして、加熱過
程でのパッドに半田付けされている半田ボール8の温度
を熱画像測定カメラ2でとらえ、熱画像分析器9で温度
変化を算出し、その算出結果の評価を行う。この時の評
価は、例えば図2に示すように、1つの半田ボール8a
のA点〜H点について測定した温度変化が、図2(a)
のようにA点〜G点については略加熱開始からの温度上
昇の特性線は同じ傾向のものとなっているが、H点につ
いては加熱当初に直ぐに高い温度となり、ある時間経過
した後に他の点と同じ様な温度上昇を示していることか
ら、接合状態が不良であると判断される。
[0013] With such a configuration, the support 5
The semiconductor device 4 is placed thereon and heated. Then, the temperature of the solder ball 8 soldered to the pad in the heating process is detected by the thermal image measuring camera 2, the temperature change is calculated by the thermal image analyzer 9, and the calculation result is evaluated. The evaluation at this time is, for example, as shown in FIG.
The temperature changes measured at points A to H of FIG.
As shown in the graphs, the characteristic lines of the temperature rise from the start of the heating substantially have the same tendency at the points A to G, but at the point H, the temperature immediately becomes high at the beginning of the heating, and after a certain period of time, the other temperature rises. Since a temperature rise similar to that of the point is shown, it is determined that the bonding state is defective.

【0014】その結果、半田ボール8aの接合は、非破
壊状態で不良と判断される。逆に、図示しないがすべて
の測定点における温度上昇の特性線が同じ傾向のものと
なっている半田ボール8は、その接合が非破壊状態で良
好と判断される。また、熱画像分析器9の表示画面11
に表示される半田ボール8の温度分布表示画像12は、
例えば図3に示すようになっており、左側は接合状態が
良好な場合の画像12aであり、右側は接合状態が不良
の場合の画像12bである。
As a result, the joint of the solder ball 8a is determined to be defective in a non-destructive state. Conversely, although not shown, the solder ball 8 in which the characteristic lines of the temperature rise at all the measurement points have the same tendency is judged to be good in the non-destructive state of the joint. Also, the display screen 11 of the thermal image analyzer 9
The temperature distribution display image 12 of the solder ball 8 displayed at
For example, as shown in FIG. 3, the left side is an image 12a when the bonding state is good, and the right side is an image 12b when the bonding state is bad.

【0015】上記では、半田ボール8aの接合の良否判
定は、定点の温度上昇の特性線で行っているが、例えば
図4に示すように熱画像分析器9の表示画面11に表示
される半田ボール8の温度分布表示画像12で、半田ボ
ール8の直径に等しい円領域S内の平均温度を求め、そ
の入熱直後から所定時間経過までの平均温度の上昇率を
算出して接合の良否判定を行ってもよい。すなわち、例
えば図5(a)、図5(b)に示す特性線X,Yのよう
に平均温度が経過する中で、入熱から24秒経過時まで
の温度上昇値Tdx,Tdyを求め、これらの値が所定
の基準値より大きいか小さいかにより接合の良否判定を
行ったり、あるいは他の半田ボール8の温度上昇値と比
べてどうであるかにより接合の良否判定を行う。
In the above description, the quality of the bonding of the solder balls 8a is determined based on the characteristic line of the temperature rise at a fixed point. For example, as shown in FIG. From the temperature distribution display image 12 of the ball 8, the average temperature in the circular area S equal to the diameter of the solder ball 8 is obtained, and the rate of increase in the average temperature from immediately after the heat input to the elapse of a predetermined time is calculated to determine the quality of the joining. May be performed. That is, while the average temperature elapses as shown by the characteristic lines X and Y shown in FIGS. 5A and 5B, the temperature rise values Tdx and Tdy from the input of heat to the elapse of 24 seconds are obtained. The quality of the bonding is determined based on whether these values are larger or smaller than a predetermined reference value, or the quality of the bonding is determined based on how the temperature is compared with the temperature rise value of the other solder balls 8.

【0016】図5では、入熱から24秒経過時までの温
度上昇値を見ると、図5(a)の特性線Xの温度上昇値
Tdxが図5(b)の特性線Yの温度上昇値Tdyより
も小さく、図5(a)の特性線Xの温度上昇値Tdxが
良好接合の場合であり、図5(b)の特性線Yの温度上
昇値Tdyが不良接合の場合となる。これは良好接合で
は接合界面を介して熱が基板等に拡散して温度上昇が緩
やかになるからであり、逆に不良接合では接合界面を介
して熱が拡散して行かず、当該半田ボール8が主として
加熱されるからである。
In FIG. 5, the temperature rise value Tdx of the characteristic line X shown in FIG. 5A is seen from the temperature rise value up to 24 seconds after the heat input, and the temperature rise value of the characteristic line Y shown in FIG. This is a case where the temperature rise value Tdx of the characteristic line X in FIG. 5A is smaller than the value Tdy and the junction is good, and the temperature rise value Tdy of the characteristic line Y in FIG. This is because in good bonding, heat diffuses through the bonding interface to the substrate or the like, and the temperature rise becomes gentle. Conversely, in poor bonding, heat does not diffuse through the bonding interface and the solder ball 8 Is mainly heated.

【0017】次に、第2の実施形態を図6により説明す
る。図6は概略構成を一部断面で示す図である。なお、
第1の実施形態と同一部分には同一符号を付して説明を
省略し、第1の実施形態と異なる本実施形態の構成につ
いて説明する。
Next, a second embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 6 is a diagram showing a schematic configuration in a partial cross section. In addition,
The same parts as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted. The configuration of the present embodiment that is different from the first embodiment will be described.

【0018】図6において、13は熱画像測定部で、こ
こにはカメラ固定台3に取り付けられた熱画像測定カメ
ラ2に対向して液槽14が所定距離を間に設けて配置さ
れており、液槽14内には浸透性の高い液体、例えばエ
チルアルコール15が溜められている。そして液槽14
内には半導体装置4が半導体ボール8側を熱画像測定カ
メラ2に向けるようにしてエチルアルコール15に浸漬
されるようにして配置される。
In FIG. 6, reference numeral 13 denotes a thermal image measuring section, in which a liquid tank 14 is arranged at a predetermined distance in opposition to the thermal image measuring camera 2 attached to the camera fixing base 3. A highly permeable liquid, for example, ethyl alcohol 15 is stored in the liquid tank 14. And the liquid tank 14
The semiconductor device 4 is arranged so that the semiconductor ball 8 is directed toward the thermal image measurement camera 2 so as to be immersed in ethyl alcohol 15.

【0019】また、液槽14の半導体装置4は図示しな
い熱源によって加熱可能となっている。そして、絶縁基
板7のパッドに半田付けされたエチールアルコール15
中の半田ボール8の温度が、熱画像測定カメラ2により
撮影され、得られた熱画像に基づき熱画像分析器9で算
出、測定される。また第1の実施形態と同様に、表示画
面11にカラーによる温度分布表示等が行われ、個々の
半田ボール8の平均温度やその変化、あるいは定点にお
ける温度変化も算出されるように構成されている。
The semiconductor device 4 in the liquid tank 14 can be heated by a heat source (not shown). Then, ethyl alcohol 15 soldered to the pad of the insulating substrate 7
The temperature of the solder ball 8 inside is photographed by the thermal image measuring camera 2, and is calculated and measured by the thermal image analyzer 9 based on the obtained thermal image. In the same manner as in the first embodiment, a color temperature distribution display or the like is performed on the display screen 11, and the average temperature of each solder ball 8 and its change, or the temperature change at a fixed point are calculated. I have.

【0020】このように構成されているので、液槽14
内で加熱過程にある半導体装置4のパッドに半田付けさ
れている半田ボール8の温度を熱画像測定カメラ2でと
らえ、熱画像分析器9で温度変化を算出し、その算出結
果の評価を行う。その結果、第1の実施形態と同様に非
破壊状態で半田付け状態の良否の評価、判断を行うこと
ができる。
Since the liquid tank 14 is constructed as described above,
The temperature of the solder ball 8 soldered to the pad of the semiconductor device 4 in the heating process is captured by the thermal image measurement camera 2, the temperature change is calculated by the thermal image analyzer 9, and the calculation result is evaluated. . As a result, it is possible to evaluate and judge the quality of the soldering state in a non-destructive state as in the first embodiment.

【0021】なお、上記実施形態においては、加熱過程
におかれた半田ボール8の温度上昇から半田付け状態の
評価、判断を行うようにしているが、一度加熱した半田
ボール8の自然放熱等による温度下降、あるいは冷却す
ることによる温度下降時の熱画像により半田付け状態の
評価、判断を行うようにしてもよい。
In the above embodiment, the soldering state is evaluated and judged based on the temperature rise of the solder ball 8 in the heating process. The evaluation and determination of the soldering state may be performed based on a thermal image at the time of temperature decrease due to temperature decrease or cooling.

【0022】また、図示しないが支持台5あるいは液槽
14を製造工程の中で移動するように設け、さらに熱画
像測定カメラ2を支持台5あるいは液槽14に同期させ
て移動させ、半田ボール8の熱画像を撮影し、熱画像分
析器9で温度変化を算出し、その算出結果に基づき半田
付け状態の評価を行うようにすれば、余分な部品を要さ
ずに工程に直結して評価できる。
Although not shown, the support table 5 or the liquid tank 14 is provided so as to be moved in the manufacturing process, and the thermal image measuring camera 2 is moved in synchronization with the support table 5 or the liquid tank 14 so that the solder ball 8, the temperature change is calculated by the thermal image analyzer 9, and the evaluation of the soldering state is performed based on the calculation result. Can be evaluated.

【0023】あるいはまた、図示しないが支持台5ある
いは液槽14を製造工程の中で移動するように設け、そ
の移動方向に離間して熱画像測定カメラ2を複数台配置
し、それぞれの熱画像測定カメラ2による画像信号を熱
画像分析器9に入力し、各熱画像測定カメラ2の画像信
号を組み合わせることで温度変化を算出し、その算出結
果に基づき半田付け状態の評価を行うようにすれば、同
じく余分な部品を要さずに工程に直結して評価できる。
Alternatively, although not shown, the support table 5 or the liquid tank 14 is provided so as to move during the manufacturing process, and a plurality of thermal image measuring cameras 2 are arranged apart from each other in the moving direction. An image signal from the measuring camera 2 is input to the thermal image analyzer 9, a temperature change is calculated by combining the image signals from the thermal image measuring cameras 2, and a soldering state is evaluated based on the calculation result. In other words, it is possible to directly evaluate the process without using extra parts.

【0024】[0024]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、ろう付け部のろう付け状態を非破壊的に評価
することができると共に、合わせてろう付け部分の接合
の良否を判断することができ、さらに、ろう付け状態の
確認のために余分な部品を用意する必要がない等の効果
を奏する。
As is apparent from the above description, according to the present invention, it is possible to non-destructively evaluate the brazing state of the brazing portion and to judge the quality of the joint of the brazing portion. In addition, there is an effect that there is no need to prepare an extra part for checking the brazing state.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施形態の概略構成を一部断面
で示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a first embodiment of the present invention in a partial cross section.

【図2】本発明の第1の実施形態に係る半田ボールの温
度を示す図で、図2(a)は温度上昇特性図、図2
(b)は測定点を示す平面図である。
FIG. 2 is a diagram showing a temperature of a solder ball according to the first embodiment of the present invention. FIG.
(B) is a plan view showing measurement points.

【図3】本発明の第1の実施形態に係る半田ボールの熱
画像の例を示す図である。
FIG. 3 is a diagram illustrating an example of a thermal image of a solder ball according to the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第1の実施形態に係る半田ボールを加
熱した際の熱画像を示す図で、図4(a)は入熱直後の
熱画像を示す図、図4(b)は入熱24秒後の熱画像を
示す図、図4(c)は入熱44秒後の熱画像を示す図で
ある。
FIG. 4 is a diagram showing a thermal image when the solder ball according to the first embodiment of the present invention is heated, FIG. 4 (a) is a diagram showing a thermal image immediately after heat input, and FIG. FIG. 4C is a diagram illustrating a thermal image 24 seconds after heat input, and FIG. 4C is a diagram illustrating a thermal image 44 seconds after heat input.

【図5】本発明の第1の実施形態に係る半田ボールの平
均温度上昇特性を示す図で、図5(a)は良好接合時の
平均温度上昇特性を示す図、図5(b)は不良接合時の
平均温度上昇特性を示す図である。
5A and 5B are diagrams showing average temperature rise characteristics of the solder ball according to the first embodiment of the present invention, FIG. 5A is a diagram showing average temperature rise characteristics at the time of good bonding, and FIG. FIG. 9 is a diagram showing an average temperature rise characteristic at the time of defective bonding.

【図6】本発明の第2の実施形態の概略構成を一部断面
で示す図である。
FIG. 6 is a view showing a schematic configuration of a second embodiment of the present invention in a partial cross section.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,13…熱画像測定部 2…熱画像測定カメラ 4…半導体装置 5…支持台 7…絶縁基板 8…半田ボール 9…熱画像分析器 14…液槽 15…エチルアルコール Reference Signs List 1, 13: thermal image measurement section 2: thermal image measurement camera 4: semiconductor device 5: support base 7: insulating substrate 8: solder ball 9: thermal image analyzer 14: liquid tank 15: ethyl alcohol

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // B23K 101:40 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) // B23K 101: 40

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ろう付け部にろう付けされた被ろう付け
部材のろう付け状態を評価するろう付け評価装置におい
て、前記被ろう付け部材と前記ろう付け部のろう付け個
所を加熱あるいは冷却すると共に、加熱あるいは冷却す
ることにより得た前記被ろう付け部材の温度変化に基づ
いてろう付け状態を判断するようにしたことを特徴とす
るろう付け評価装置。
1. A brazing evaluation apparatus for evaluating a brazing state of a brazed member brazed to a brazing portion, wherein the brazing portion of the brazed member and the brazing portion of the brazing portion are heated or cooled. A brazing state determination unit that determines a brazing state based on a temperature change of the brazed member obtained by heating or cooling.
【請求項2】 ろう付け状態の判断が、熱画像によって
得た被ろう付け部材の表面温度の変化に基づいて行われ
ることを特徴とする請求項1記載のろう付け評価装置。
2. The brazing evaluation apparatus according to claim 1, wherein the determination of the brazing state is performed based on a change in the surface temperature of the brazed member obtained from the thermal image.
【請求項3】 ろう付け個所を高浸透性の液体中に浸す
と共に、前記液体を加熱あるいは冷却するようにしたこ
とを特徴とする請求項1及び請求項2記載のろう付け評
価装置。
3. The brazing evaluation apparatus according to claim 1, wherein the brazing portion is immersed in a highly permeable liquid, and the liquid is heated or cooled.
【請求項4】 液体が、エチルアルコールであることを
特徴とする請求項3記載のろう付け評価装置。
4. The brazing evaluation device according to claim 3, wherein the liquid is ethyl alcohol.
【請求項5】 ろう付け部が絶縁基板に設けられたパッ
ドであり、被ろう付け部材が半田ボールであることを特
徴とする請求項1及び請求項2記載のろう付け評価装
置。
5. The brazing evaluation apparatus according to claim 1, wherein the brazing portion is a pad provided on the insulating substrate, and the member to be brazed is a solder ball.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007095992A (en) * 2005-09-29 2007-04-12 Kyushu Nogeden:Kk Nondestructive inspection method for solder ball joint state
JP2009264919A (en) * 2008-04-25 2009-11-12 Hioki Ee Corp Short-circuit position detector

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