JP2000260562A - Moisture absorptive film and organic el display device - Google Patents

Moisture absorptive film and organic el display device

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JP2000260562A
JP2000260562A JP11065508A JP6550899A JP2000260562A JP 2000260562 A JP2000260562 A JP 2000260562A JP 11065508 A JP11065508 A JP 11065508A JP 6550899 A JP6550899 A JP 6550899A JP 2000260562 A JP2000260562 A JP 2000260562A
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organic
moisture
alkaline earth
absorbing film
electrode layer
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Kazuhide Ota
和秀 太田
Masahiro Yokoi
正裕 横井
Koichi Furuyama
晃一 古山
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Toshima Manufacturing Co Ltd
Toyota Motor Corp
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Toshima Manufacturing Co Ltd
Toyota Motor Corp
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    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80Constructional details
    • H10K59/87Passivation; Containers; Encapsulations
    • H10K59/874Passivation; Containers; Encapsulations including getter material or desiccant

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  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a moisture absorptive film high in purity, high in homogeneity, and high in moisture absorbing performance. SOLUTION: This organic EL display device is equipped with a glass substrate 1 as a transparent substrate, an organic EL element 2 made up of a transparent electrode layer 21 formed on the transparent substrate 1, an EL luminescent layer 22 formed on the transparent electrode layer 21, and a metallic electrode layer 23 formed on the EL luminescent layer 22. and a back glass substrate 3 as a sealing member, with its interior filled with an inert fluid, joined to the transparent substrate 1 so as to cover the organic EL element 2. The inside surface of the back glass substrate 3 is filmed with a moisture absorptive film 6 made of an alkaline earth monoxide (BaO), formed by a PVD method using an alkaline earth peroxide (BaO2) as a target material. By using an alkaline earth peroxide which is stable in the atmosphere as a target material, the moisture absorptive film 6 becomes high in purity, high in homogeneity, and high in moisture absorbing performance.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は吸湿膜及び有機EL
表示装置に関し、詳しくはアルカリ土類一酸化物からな
る吸湿膜及びその吸湿膜を備えた有機EL表示装置に関
する。
The present invention relates to a moisture absorbing film and an organic EL.
More specifically, the present invention relates to a moisture absorbing film made of alkaline earth monoxide and an organic EL display device having the moisture absorbing film.

【0002】[0002]

【従来の技術】表示用ディスプレイデバイスとしては、
ブラウン管(Cathode Ray Tube)、液晶(Liquid Cryst
al)、プラズマ(Plasma)、発光ダイオード(Light Em
ittingDiode)及びEL(Electro Luminescence)など
が従来より知られ、コンピュータ用ディスプレイ、液晶
ディスプレイのバックパネルなどに広く利用されてい
る。
2. Description of the Related Art Display devices for display include:
CRT (Cathode Ray Tube), LCD (Liquid Cryst)
al), plasma (Plasma), light emitting diode (Light Em)
Itting Diode) and EL (Electro Luminescence) are conventionally known and widely used for computer displays, back panels of liquid crystal displays, and the like.

【0003】この中でもELは自発光形であり、また薄
膜とすることができるために薄い表示素子として期待さ
れている。そして薄膜型直流ELとして、低電圧で駆動
できる有機薄膜ELが近年注目を集めている。有機EL
素子は、一般に、透明基板上に形成された透明電極層
と、この透明電極層上に形成された有機EL発光層と、
この有機EL発光層上に形成された金属電極層とから構
成されている。そして、透明電極層及び金属電極層への
通電により、それぞれの電極から注入された正孔と電子
とが有機EL発光層内で再結合し、このときのエネルギ
ーにより発光現象が生じる。この発光現象は、発光ダイ
オードと類似した注入発光であり、発光電圧が10V以
下と低いことが特徴である。
[0003] Among them, EL is a self-luminous type and can be formed into a thin film, so that it is expected as a thin display element. In recent years, an organic thin film EL that can be driven at a low voltage has attracted attention as a thin film DC EL. Organic EL
The device generally includes a transparent electrode layer formed on a transparent substrate, an organic EL light emitting layer formed on the transparent electrode layer,
And a metal electrode layer formed on the organic EL light emitting layer. Then, by applying electricity to the transparent electrode layer and the metal electrode layer, holes and electrons injected from the respective electrodes are recombined in the organic EL light emitting layer, and the energy at this time causes a light emission phenomenon. This light emission phenomenon is injection light emission similar to a light emitting diode, and is characterized by a light emission voltage as low as 10 V or less.

【0004】かかる有機EL素子を利用した有機EL表
示装置としては、上記有機EL素子構造を単位画素とし
て、透明基板上にこの単位画素を平面的に二次元配置し
てマトリクス駆動するものが知られている。これは、透
明基板上にストライプ状の透明電極群を、この透明電極
群上に有機EL発光層を、さらにこの有機EL発光層上
に透明電極群と互いに直交するストライプ状の金属電極
群を順次形成し、透明電極群と金属電極群との交差部分
を単位画素である有機EL素子構造として平面的に二次
元配置したものである。この方式の表示装置では、電圧
のかかった2本のストライプ状電極の交差部分が発光部
となるので、電圧を印加して発光させるストライプを順
次ずらすことで画像を表示することができる。そして、
有機EL発光層から発せられた光は、直接又は金属電極
で反射して透明電極及び透明基板を透過し、該透明基板
の表示側表面から出射して視認される。
As an organic EL display device using such an organic EL element, there is known an organic EL display apparatus in which the organic EL element structure is used as a unit pixel and the unit pixels are two-dimensionally arranged two-dimensionally on a transparent substrate and driven in a matrix. ing. That is, a transparent electrode group having a stripe shape is formed on a transparent substrate, an organic EL light emitting layer is formed on the transparent electrode group, and a metal electrode group having a stripe shape orthogonal to the transparent electrode group is sequentially formed on the organic EL light emitting layer. The transparent electrode group and the metal electrode group are formed and two-dimensionally arranged in a plane as an organic EL element structure as a unit pixel. In this type of display device, the intersection of two voltage-applied stripe-shaped electrodes serves as a light-emitting portion. Therefore, an image can be displayed by sequentially shifting stripes to emit light by applying a voltage. And
The light emitted from the organic EL light emitting layer is transmitted directly or reflected by the metal electrode, passes through the transparent electrode and the transparent substrate, is emitted from the display side surface of the transparent substrate, and is visually recognized.

【0005】ところが、有機EL素子に用いられる有機
発光材料は、耐水性が低く、湿気により寿命が短くなる
という欠点がある。また有機EL素子に用いられるMg
合金などの金属電極層も、水や酸素に対する耐性が低い
という欠点がある。そこで、特開平9−148066号
公報には、有機EL素子を封止部材内に封止するととも
に、この封止部材の内側面に吸湿剤を配設した有機EL
表示装置が開示されている。
However, the organic luminescent material used in the organic EL device has low water resistance and has a short life due to moisture. In addition, Mg used for organic EL elements
Metal electrode layers such as alloys also have the disadvantage of having low resistance to water and oxygen. Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-148066 discloses an organic EL device in which an organic EL element is sealed in a sealing member and a moisture absorbent is provided on the inner surface of the sealing member.
A display device is disclosed.

【0006】この有機EL表示装置は、図6に示すよう
に、透明なガラス基板80と、ガラス基板80上に形成
された透明電極層81a、透明電極層81a上に形成さ
れた有機EL発光層81b及び有機EL発光層81b上
に形成された金属電極層81cからなる有機EL素子8
1とを備え、内部に不活性ガスを封入しつつ有機EL素
子81を被覆するようにガラス基板80に封止剤82を
介して封止部材83が接合されている。そして封止部材
83の内側面には吸湿剤84が粘着剤により固着されて
いる。
As shown in FIG. 6, this organic EL display device has a transparent glass substrate 80, a transparent electrode layer 81a formed on the glass substrate 80, and an organic EL light emitting layer formed on the transparent electrode layer 81a. Organic EL element 8 including a metal electrode layer 81c formed on the organic EL light emitting layer 81b and the organic EL light emitting layer 81b
1 and a sealing member 83 is joined to a glass substrate 80 via a sealing agent 82 so as to cover the organic EL element 81 while enclosing an inert gas therein. A hygroscopic agent 84 is fixed to the inner surface of the sealing member 83 with an adhesive.

【0007】この有機EL表示装置では、内部に不活性
ガスを封入しつつ有機EL素子81を被覆するようにガ
ラス基板80の周縁部に封止部材83が接合されている
ため、有機EL素子1を大気と遮断することができる。
また、封止部材83の内側面に固着された吸湿剤84に
より、封止剤82を介して封入空間内に侵入等した水分
を吸湿することができる。したがって、封入空間内の乾
燥性を高めて、素子寿命を延ばすことができる。
In this organic EL display device, the sealing member 83 is joined to the periphery of the glass substrate 80 so as to cover the organic EL element 81 while sealing the inert gas therein. Can be isolated from the atmosphere.
In addition, the moisture absorbent 84 fixed to the inner surface of the sealing member 83 can absorb moisture that has entered the enclosed space via the sealing agent 82. Therefore, it is possible to enhance the drying property in the sealed space and extend the life of the element.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】ここに、上記吸湿剤の
一つとして、Ca、BaやMg等のアルカリ土類金属の
一酸化物が例示される。そして、このアルカリ土類金属
一酸化物を出発原料に用いて真空蒸着法やスパッタ法等
のPVD法(物理蒸着法)を行い、上記封止基板83の
内側面にアルカリ土類金属一酸化物よりなる吸湿膜を成
膜することもできる。
Here, as one of the above-mentioned hygroscopic agents, monoxides of alkaline earth metals such as Ca, Ba and Mg are exemplified. Using the alkaline earth metal monoxide as a starting material, a PVD method (physical vapor deposition method) such as a vacuum evaporation method and a sputtering method is performed, and the alkaline earth metal monoxide is It is also possible to form a moisture-absorbing film made of the above.

【0009】しかしながら、アルカリ土類金属一酸化物
を出発原料に用いたPVD法によりアルカリ土類金属一
酸化物よりなる吸湿膜を上記封止部材83の内側面に成
膜した場合、以下に示すような問題点がある。すなわ
ち、アルカリ土類金属一酸化物は大気中で不安定であ
り、水和物や炭酸化物に変化し易い。例えば一酸化バリ
ウム(BaO)はCO2 やH2 Oと以下のように反応し
てBaCO3 ・n(H2 O)やBa(OH)2 ・n(H
2 O)の水和物やBaCO3 の炭酸化物に変化する。
However, when a moisture absorbing film made of an alkaline earth metal monoxide is formed on the inner surface of the sealing member 83 by a PVD method using an alkaline earth metal monoxide as a starting material, the following will be described. There is such a problem. That is, the alkaline earth metal monoxide is unstable in the air and easily changes to a hydrate or a carbonate. For example, barium monoxide (BaO) reacts with CO 2 or H 2 O as follows to form BaCO 3 .n (H 2 O) or Ba (OH) 2 .n (H
2 O) varies carbonates hydrates and BaCO 3 in.

【0010】BaO+CO2 →BaCO3 BaCO3 +nH2 O→BaCO3 ・n(H2 O) BaO+H2 O→Ba(OH)2 Ba(OH)2 +nH2 O→Ba(OH)2 ・n(H2
O) このため、アルカリ土類金属一酸化物をそのまま粉末で
出発原料として用いたり、あるいはその粉末を焼結し、
その焼結体を出発原料として用いたりして、PVD法に
より吸湿膜を成膜した場合、出発原料中に水和物や炭酸
化物の不純物が存在するため、安定に成膜することがで
きず、また成膜された膜の品質も不均質で低純度とな
り、均質で純度の高い吸湿膜、すなわち吸湿性能の高い
吸湿膜を成膜することが困難である。
BaO + CO 2 → BaCO 3 BaCO 3 + nH 2 O → BaCO 3 .n (H 2 O) BaO + H 2 O → Ba (OH) 2 Ba (OH) 2 + nH 2 O → Ba (OH) 2 .n (H Two
O) For this reason, alkaline earth metal monoxide is used as a starting material as a powder as it is, or the powder is sintered,
When the sintered body is used as a starting material and a moisture-absorbing film is formed by the PVD method, a stable film cannot be formed due to the presence of hydrate or carbonate impurities in the starting material. In addition, the quality of the formed film becomes heterogeneous and low in purity, and it is difficult to form a uniform and high-purity moisture absorbing film, that is, a moisture absorbing film having high moisture absorbing performance.

【0011】また、封止部材83の内側面に吸湿膜を成
膜した場合、有機EL素子81と吸湿膜との間に封入空
間が介在し、両者間に距離があるため、有機EL素子8
1の有機EL発光層81b等に水分が侵入することを効
果的に防止することが困難である。本発明は上記実情に
鑑みてなされたものであり、高純度及び高均質で吸湿性
能の高い吸湿膜を提供することを解決すべき第1の技術
課題とし、有機EL素子の有機EL発光層等に水分が侵
入することを効果的に防止することのできる吸湿膜を備
えた有機EL表示装置を提供することを解決すべき第2
の技術課題とするものである。
When a moisture-absorbing film is formed on the inner surface of the sealing member 83, an enclosed space is interposed between the organic EL element 81 and the moisture-absorbing film, and there is a distance between the two.
It is difficult to effectively prevent moisture from entering the first organic EL light emitting layer 81b and the like. The present invention has been made in view of the above-described circumstances, and a first technical problem to be solved is to provide a moisture-absorbing film having high purity, high homogeneity, and high moisture-absorbing performance. The second problem to be solved is to provide an organic EL display device having a moisture absorbing film capable of effectively preventing moisture from entering the device.
Technical issues.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】上記第1の課題を解決す
る本発明の吸湿膜は、アルカリ土類過酸化物を出発原料
に用いたPVD法により成膜されたアルカリ土類一酸化
物からなることを特徴とするものである。上記第2の課
題を解決する本発明の有機EL表示装置は、透明基板
と、該透明基板上に形成された透明電極層、該透明電極
層上に形成された有機EL発光層及び該有機EL発光層
上に形成された金属電極層よりなる有機EL素子と、内
部に不活性流体を封入しつつ該有機EL素子を被覆する
ように該透明基板に接合された封止部材とを備えた有機
EL表示装置において、上記有機EL素子上の非発光部
及び上記封止部材の内側面のうちの少なくとも一方に
は、アルカリ土類過酸化物を出発原料として用いたPV
D法により成膜されたアルカリ土類一酸化物からなる吸
湿膜が形成されていることを特徴とするものである。
Means for Solving the Problems The moisture absorbing film of the present invention for solving the above first problem is composed of an alkaline earth monoxide formed by a PVD method using an alkaline earth peroxide as a starting material. It is characterized by becoming. The organic EL display device of the present invention that solves the second problem includes a transparent substrate, a transparent electrode layer formed on the transparent substrate, an organic EL light emitting layer formed on the transparent electrode layer, and the organic EL device. An organic EL device comprising an organic EL device comprising a metal electrode layer formed on a light emitting layer, and a sealing member joined to the transparent substrate so as to cover the organic EL device while sealing an inert fluid therein. In the EL display device, at least one of the non-light-emitting portion on the organic EL element and the inner surface of the sealing member has a PV using alkaline earth peroxide as a starting material.
The method is characterized in that a moisture absorbing film made of an alkaline earth monoxide formed by the method D is formed.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】本発明の吸湿膜は、アルカリ土類
過酸化物を出発原料に用いたPVD法により成膜された
アルカリ土類一酸化物からなる。アルカリ土類過酸化物
は、アルカリ土類一酸化物と違って大気中で安定に保存
することができる。このため、アルカリ土類過酸化物の
粉末を出発原料としたり、あるいはアルカリ土類過酸化
物の粉末を焼結して、この焼結体を出発原料としたりし
て、PVD法によりアルカリ土類一酸化物からなる吸湿
膜を成膜した場合、出発原料中、例えば焼結体の粒界に
水和物や炭酸化物等の不純物が介在することが無いこと
から、均質で純度の高い吸湿膜を成膜することができ
る。したがって、アルカリ土類過酸化物を出発原料に用
いて成膜された本発明の吸湿膜は高い吸湿性能を発揮す
る。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The moisture-absorbing film of the present invention comprises an alkaline earth monoxide formed by a PVD method using an alkaline earth peroxide as a starting material. Alkaline earth peroxides can be stably stored in the atmosphere, unlike alkaline earth monoxides. For this reason, alkaline earth peroxide powder is used as a starting material, or alkaline earth peroxide powder is sintered and this sintered body is used as a starting material. When a moisture-absorbing film composed of a monoxide is formed, a homogeneous and high-purity moisture-absorbing film is used because impurities such as hydrates and carbonates do not intervene in the starting material, for example, at grain boundaries of the sintered body. Can be formed. Therefore, the moisture-absorbing film of the present invention formed using alkaline earth peroxide as a starting material exhibits high moisture-absorbing performance.

【0014】上記アルカリ土類過酸化物とは、アルカリ
土類金属の二酸化物、すなわちアルカリ土類金属の酸化
物のうちO2 2-を有するものをいい、アルカリ土類金属
を空気又は酸素中で熱すること等により生成することが
できる。アルカリ土類金属にはCa、Sr、Ba、R
a、BeやMgがあり、本発明の吸湿膜にはいずれのア
ルカリ土類金属も用いることができるが、コスト、高純
度材料の入手の容易性や実用性等を考慮すればCa、S
r、BaやMgを好適に用いることができる。
The above-mentioned alkaline earth peroxide is an alkaline earth metal dioxide, that is, an oxide of an alkaline earth metal having O 2 2-, and the alkaline earth metal is dissolved in air or oxygen. For example, by heating. Alkaline earth metals include Ca, Sr, Ba, R
There are a, Be and Mg, and any of alkaline earth metals can be used for the moisture absorbing film of the present invention. However, considering the cost, the availability of high-purity materials and the practicality, Ca, S
r, Ba, and Mg can be suitably used.

【0015】このアルカリ土類金属過酸化物からPVD
法によりアルカリ土類一酸化物よりなる吸湿膜を成膜す
るには、アルカリ土類過酸化物の粉末を出発原料とした
り、あるいはこの粉末を焼結した焼結体を出発原料とし
たりしてPVD法を行えばよい。アルカリ土類過酸化物
の粉末の調整条件は特に限定されず通常の条件とするこ
とができる。例えば、BaO2 粉末を得る場合は、Ba
粉末、BaO・n(H2O)粉末又はBaO・CO3
末を酸素雰囲気中、500℃程度で加熱することによ
り、BaO2 粉末とすることができる。
From this alkaline earth metal peroxide, PVD
In order to form a moisture-absorbing film made of alkaline earth monoxide by the method, a powder of alkaline earth peroxide is used as a starting material, or a sintered body obtained by sintering this powder is used as a starting material. The PVD method may be performed. Conditions for adjusting the alkaline earth peroxide powder are not particularly limited, and ordinary conditions can be used. For example, when obtaining BaO 2 powder, Ba
By heating the powder, BaO.n (H 2 O) powder or BaO.CO 3 powder in an oxygen atmosphere at about 500 ° C., BaO 2 powder can be obtained.

【0016】また、アルカリ土類過酸化物の焼結体の焼
結条件は特に限定されず、通常の焼結条件とすることが
できる。例えば、BaO2 粉末の焼結体を得る場合は、
BaO2 の融点が450℃であるため、この温度よりも
若干低い温度(400〜440℃程度)で30〜60分
程度、大気中で焼結することができる。なお、アルカリ
土類一酸化物たる、例えばBaOを焼結する場合は10
00℃程度以上で焼結するため、これと比較してアルカ
リ土類過酸化物を焼結する場合は低温での焼結が可能な
り、コスト面等で有利となる。
The sintering conditions for the alkaline earth peroxide sintered body are not particularly limited, and ordinary sintering conditions can be used. For example, when obtaining a sintered body of BaO 2 powder,
Since BaO 2 has a melting point of 450 ° C., it can be sintered in the atmosphere at a temperature slightly lower than this temperature (about 400 to 440 ° C.) for about 30 to 60 minutes. When sintering an alkaline earth monoxide, for example, BaO, 10
Since sintering is performed at about 00 ° C. or higher, sintering at a low temperature is possible when sintering alkaline earth peroxide, which is advantageous in terms of cost and the like.

【0017】上記PVD法としては特に限定されない
が、電子ビーム加熱法やイオンプレーティング法等の真
空蒸着法やスパッタ法等を好適に採用することができ
る。成膜条件も出発原料や成膜する吸湿膜の膜厚等に応
じて適宜設定することができる。例えば、電子ビーム加
熱法を採用した場合の成膜条件は、 出力 :1〜20kV程度、0.05〜0.3A程度 真空度 :2×10-6Pa以下 成膜速度:0.1〜1.0nm/sec程度 とすることができ、イオンプレーティング法を採用した
場合の成膜条件は、 出力 :1〜20kV程度、0.05〜0.3A程度 真空度 :0.5〜2×10-4Pa程度(アルゴン圧
力) 成膜速度:0.05〜0.3nm/sec程度 とすることができ、スパッタ法を採用した場合の成膜条
件は、 出力 :50〜500W程度 真空度 :1〜8×10-4Pa程度(アルゴン圧力) 成膜速度:5〜40nm/sec程度 とすることができる。
The PVD method is not particularly limited, but a vacuum evaporation method such as an electron beam heating method or an ion plating method, a sputtering method, or the like can be suitably employed. The film forming conditions can be appropriately set according to the starting material, the thickness of the moisture absorbing film to be formed, and the like. For example, when the electron beam heating method is adopted, the film forming conditions are as follows: output: about 1 to 20 kV, about 0.05 to 0.3 A, degree of vacuum: 2 × 10 −6 Pa or less, film forming rate: 0.1 to 1 0.0 nm / sec. The film forming conditions when the ion plating method is adopted are as follows: Output: about 1 to 20 kV, about 0.05 to 0.3 A Vacuum degree: 0.5 to 2 × 10 -4 Pa (Argon pressure) Film forming speed: about 0.05 to 0.3 nm / sec. When the sputtering method is adopted, the film forming conditions are: output: about 50 to 500 W, degree of vacuum: 1 88 × 10 −4 Pa (argon pressure) Film formation rate: about 5 to 40 nm / sec.

【0018】ここに、吸湿膜を有機EL素子上に形成す
る場合は、成膜時における素子の損傷を抑える観点よ
り、電子ビーム加熱法等の真空蒸着法を採用することが
好ましい。上記吸湿膜の膜厚としては特に限定されない
が、膜厚が厚くなればなるほど吸湿性能は高くなるの
で、所望の吸湿性能を発揮しうるように適宜設定するこ
とができる。なお、吸湿膜の膜厚を厚くしすぎると、成
膜コストが上昇したり、吸湿膜が剥離したりするおそれ
がある。このため、有機EL表示装置に適用する場合
は、吸湿膜の膜厚を100μm以下とすることが好まし
く、0.1〜30μm程度とすることがより好ましい。
Here, when the moisture absorbing film is formed on the organic EL element, it is preferable to employ a vacuum evaporation method such as an electron beam heating method from the viewpoint of suppressing damage to the element during film formation. The thickness of the moisture-absorbing film is not particularly limited, but the greater the thickness, the higher the moisture-absorbing performance. Therefore, the thickness can be appropriately set so that the desired moisture-absorbing performance can be exhibited. If the thickness of the moisture-absorbing film is too large, the film-forming cost may increase or the moisture-absorbing film may peel off. Therefore, when applied to an organic EL display device, the thickness of the moisture absorbing film is preferably 100 μm or less, more preferably about 0.1 to 30 μm.

【0019】また、本発明の吸湿膜を有機EL表示装置
に適用する場合、有機EL素子を覆うように透明基板に
接合されて透明基板との間に不活性流体が封入された封
入空間を形成する封止部材の内側面に、この吸湿膜を形
成することもできるが、有機EL発光層等への水分の侵
入をより確実に防ぐ観点から、この吸湿膜は有機EL素
子上に形成することが好ましい。この場合、吸湿膜をP
VD法により成膜する際に有機EL素子の発光部が熱等
により損傷することを防ぐべく、吸湿膜は有機EL素子
上の非発光部に部分的に形成することが好ましい。この
ように有機EL素子上の非発光部に吸湿膜を部分的に形
成した場合は、吸湿膜に吸着された水分や酸素が発光部
の金属電極層等に悪影響を及ぼすことを阻止することが
できるとともに、後述するようにかかる悪影響を防止す
べく金属電極層を安定な保護膜で覆う必要がなく、コス
ト面や生産面で有利となる。なお、吸湿膜を有機EL素
子上の非発光部に部分的に形成する態様は、時計等のセ
グメント表示のように、有機EL素子上に非発光部が多
く存在したり、マスクでパターンが形成できるほど粗い
パターンの場合により好適に適用することができる。
Further, when the moisture absorbing film of the present invention is applied to an organic EL display device, it is bonded to a transparent substrate so as to cover the organic EL element, and forms a sealed space between the transparent substrate and an inert fluid. This moisture absorbing film can be formed on the inner surface of the sealing member to be formed. However, from the viewpoint of more surely preventing the intrusion of moisture into the organic EL light emitting layer and the like, the moisture absorbing film should be formed on the organic EL element. Is preferred. In this case, the moisture absorbing film is
In order to prevent the light emitting portion of the organic EL element from being damaged by heat or the like when forming a film by the VD method, it is preferable to partially form the moisture absorbing film on the non-light emitting portion on the organic EL element. When the moisture absorbing film is partially formed in the non-light emitting portion on the organic EL element as described above, it is possible to prevent moisture or oxygen adsorbed on the moisture absorbing film from adversely affecting the metal electrode layer or the like of the light emitting portion. In addition to this, it is not necessary to cover the metal electrode layer with a stable protective film in order to prevent such adverse effects as described later, which is advantageous in terms of cost and production. Note that the mode in which the moisture absorbing film is partially formed in the non-light-emitting portion on the organic EL element is such that a large number of non-light-emitting portions exist on the organic EL element or a pattern is formed using a mask, as in a segment display such as a clock. This can be more suitably applied to a pattern that is as coarse as possible.

【0020】ここに、吸湿膜は有機EL素子上に全面に
形成することも可能であり、この場合、この吸湿膜の上
にさらにSiO2 膜や樹脂膜等の保護膜を形成すること
により、封止部材を省くことができる。また、有機EL
素子上の発光部に吸湿膜を形成する場合(有機EL素子
上に全面に吸湿膜を形成する場合を含む)は、吸湿膜に
吸着された水分や酸素が金属電極層等に悪影響を及ぼす
ことを防ぐべく、金属電極層を安定な保護膜(SiO2
膜やMgF膜等)で覆い、その上に吸湿膜を形成するこ
とが好ましい。
Here, the moisture absorbing film can be formed on the entire surface of the organic EL element. In this case, a protective film such as a SiO 2 film or a resin film is further formed on the moisture absorbing film. The sealing member can be omitted. Also, organic EL
When a moisture absorbing film is formed on the light emitting portion on the device (including the case where the moisture absorbing film is formed on the entire surface of the organic EL device), moisture and oxygen adsorbed on the moisture absorbing film adversely affect the metal electrode layer and the like. In order to prevent the metal electrode layer, a stable protective film (SiO 2
It is preferable to cover with a film or a MgF film, and form a moisture absorbing film thereon.

【0021】また、有機EL素子上の非発光部及び封止
部材の内側面の双方に上記吸湿膜を形成することも勿論
可能であり、この場合双方の吸湿膜による吸湿効果によ
り、有機EL素子のさらなる長寿命化を図ることができ
る。このように有機EL素子の上に、アルカリ土類過酸
化物を出発原料として用いたPVD法により成膜された
アルカリ土類一酸化物からなる吸湿膜が、有機EL素子
上の非発光部及び封止部材の内側面のうちの少なくとも
一方に形成された本発明の有機EL表示装置では、吸湿
性能の高い吸湿膜の吸湿効果により有機EL素子の長寿
命化を図ることができる。また、有機EL素子上の非発
光部に上記吸湿膜が形成されていれば、有機EL素子の
有機EL発光層等と吸湿膜との距離が極めて短くなるた
め、該有機EL発光層等に水分が侵入することを吸湿膜
により確実に防ぐことができ、有機EL素子の長寿命化
を効果的に図ることが可能となる。
It is, of course, possible to form the moisture absorbing film on both the non-light emitting portion on the organic EL element and the inner surface of the sealing member. In this case, the moisture absorbing effect of both moisture absorbing films allows the organic EL element to be used. Can be further extended. Thus, on the organic EL element, the moisture-absorbing film made of the alkaline earth monoxide formed by the PVD method using the alkaline earth peroxide as a starting material is used to form the non-light emitting portion on the organic EL element and In the organic EL display device of the present invention formed on at least one of the inner side surfaces of the sealing member, the life of the organic EL element can be extended by the moisture absorbing effect of the moisture absorbing film having high moisture absorbing performance. Further, if the moisture absorbing film is formed in the non-light emitting portion on the organic EL element, the distance between the organic EL light emitting layer or the like of the organic EL element and the moisture absorbing film becomes extremely short. Can be reliably prevented by the moisture absorbing film, and the life of the organic EL element can be effectively extended.

【0022】この有機EL表示装置は、透明基板と、該
透明基板上に形成された透明電極層、該透明電極層上に
形成された有機EL発光層及び該有機EL発光層上に形
成された金属電極層よりなる有機EL素子と、内部に不
活性流体を封入しつつ該有機EL素子を被覆するように
該透明基板に接合された封止部材とを備えたものとする
ことができる。
In this organic EL display device, a transparent substrate, a transparent electrode layer formed on the transparent substrate, an organic EL light emitting layer formed on the transparent electrode layer, and a transparent electrode layer formed on the organic EL light emitting layer are formed. An organic EL device comprising a metal electrode layer and a sealing member joined to the transparent substrate so as to cover the organic EL device while enclosing an inert fluid therein can be provided.

【0023】透明基板としては、通常ガラス基板が用い
られるが、合成樹脂基板を用いることもできる。また、
透明基板として、フレキシブルな合成樹脂フィルムを用
いることも可能である。なお、合成樹脂フィルムを用い
た場合は、この合成樹脂フィルム自身を透過して外部か
ら侵入した水分等を吸湿すべく、合成樹脂フィルムとこ
の合成樹脂フィルム上に形成された透明電極層との間に
も、補助的な吸湿膜を形成することが好ましい。
As the transparent substrate, a glass substrate is usually used, but a synthetic resin substrate can also be used. Also,
It is also possible to use a flexible synthetic resin film as the transparent substrate. When a synthetic resin film is used, the distance between the synthetic resin film and the transparent electrode layer formed on the synthetic resin film is set so as to absorb moisture and the like penetrating from the outside through the synthetic resin film itself. Also, it is preferable to form an auxiliary moisture absorbing film.

【0024】有機EL素子は、従来と同様、透明基板上
に形成された透明電極層と、該透明電極層上に形成され
た有機EL発光層と、該有機EL発光層上に形成された
金属電極層とからなる。透明電極層の材料としては、従
来と同様にITO(インジウム錫酸化物)、AZO(A
l添加ZnO)、SnO2 などが例示される。この透明
電極層はスパッタリングなどの方法により形成すること
ができる。透明電極層のパターンは特に制限されず、ス
トライプ状など従来と同様のパターンに形成することが
できる。
As in the conventional case, the organic EL element comprises a transparent electrode layer formed on a transparent substrate, an organic EL light emitting layer formed on the transparent electrode layer, and a metal formed on the organic EL light emitting layer. And an electrode layer. As a material of the transparent electrode layer, ITO (indium tin oxide), AZO (A
l-added ZnO), SnO 2 and the like. This transparent electrode layer can be formed by a method such as sputtering. The pattern of the transparent electrode layer is not particularly limited, and the transparent electrode layer can be formed in a pattern similar to a conventional one such as a stripe shape.

【0025】有機EL発光層は、正孔輸送層と、正孔輸
送層上に形成された発光体層と、発光体層上に形成され
た電子輸送層とから、従来と同様に構成することができ
る。この有機EL発光層は、真空蒸着法、ラングミュア
ブロジェット蒸着法、ディップコーティング法、スピン
コーティング法、真空気体蒸着法、有機分子線エピタキ
シ法などを用いて形成することができる。
The organic EL light-emitting layer is composed of a hole transport layer, a light-emitting layer formed on the hole transport layer, and an electron-transport layer formed on the light-emitting layer in the same manner as in the prior art. Can be. This organic EL light emitting layer can be formed by using a vacuum evaporation method, a Langmuir-Blodgett evaporation method, a dip coating method, a spin coating method, a vacuum gas evaporation method, an organic molecular beam epitaxy method, or the like.

【0026】金属電極層の材料としては、Mg−Ag合
金、Alなどの導電性金属が例示される。この金属電極
層は、有機EL発光層上に形成するため、スパッタリン
グなどの高温や高エネルギーガスが作用する成膜法を用
いて形成することができない。したがって、金属電極層
の材料は蒸着法などで形成できる材料から選択される。
Examples of the material of the metal electrode layer include a conductive metal such as an Mg-Ag alloy and Al. Since this metal electrode layer is formed on the organic EL light emitting layer, it cannot be formed by a film formation method such as sputtering or the like in which a high-temperature or high-energy gas acts. Therefore, the material of the metal electrode layer is selected from materials that can be formed by an evaporation method or the like.

【0027】封止部材の形状としては、有機EL素子を
封止部材内に気密的に封止しうるものであれば特に限定
されない。例えば、一面に開口をもつ箱状あるいは板状
の封止ガラスや樹脂等を用い、この封止ガラス等の周縁
を透明基板の周縁に接着剤などの封止剤によって接合し
たり、あるいは箱状の封止部材のみで封入空間を構成し
その内部に透明基板及び有機EL素子を配設したりする
ことができる。
The shape of the sealing member is not particularly limited as long as the organic EL element can be hermetically sealed in the sealing member. For example, a box-shaped or plate-shaped sealing glass or resin having an opening on one side is used, and the peripheral edge of the sealing glass or the like is bonded to the peripheral edge of the transparent substrate with a sealing agent such as an adhesive, And the transparent substrate and the organic EL element can be disposed therein.

【0028】封止部材と有機EL素子の金属電極層又は
吸湿膜との間隔は、一般に10〜150μmとされる。
この間隔が狭すぎると、封止部材と有機EL素子とが接
触して有機EL素子が損傷するおそれがある。また、有
機EL素子部以外の封入空間にスペーサを介在させて、
有機EL素子の損傷を防止することもできる。また封入
空間内に封入される不活性物質としては、有機EL素
子、封止部材及び封止剤に対して不活性なものであれば
よく、窒素ガス、ヘリウムガス、アルゴンガスなどの不
活性ガス、あるいはフッ素系の不活性液体を用いること
ができる。
The distance between the sealing member and the metal electrode layer or the moisture absorbing film of the organic EL element is generally set to 10 to 150 μm.
If the distance is too small, the sealing member may come into contact with the organic EL element and damage the organic EL element. In addition, a spacer is interposed in a sealed space other than the organic EL element portion,
The organic EL element can be prevented from being damaged. The inert substance sealed in the sealing space may be any substance that is inert to the organic EL element, the sealing member and the sealing agent, and may be an inert gas such as a nitrogen gas, a helium gas, or an argon gas. Alternatively, a fluorine-based inert liquid can be used.

【0029】[0029]

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。 (実施例1)図1に示す本実施例1の有機EL表示装置
は、本発明の吸湿膜を封止部材の内側面に設けたもので
ある。
The present invention will be described below in detail with reference to examples. (Embodiment 1) The organic EL display device of Embodiment 1 shown in FIG. 1 has the moisture absorbing film of the present invention provided on the inner surface of a sealing member.

【0030】この有機EL表示装置は、透明基板として
のガラス基板1と、ガラス基板1上に形成されたITO
膜からなる透明電極層21、透明電極層21上に形成さ
れた有機EL発光層22及び有機EL発光層22上に形
成されMg−Ag合金からなる金属電極層23よりなる
有機EL素子2と、内部に不活性流体を封入しつつ有機
EL素子2を被覆するようにガラス基板1に接合された
封止部材としての背面ガラス基板3と、ガラス基板1及
び背面ガラス基板3の周縁同士を接合して両者間に封止
空間4を形成する封止剤としての接着剤5と、背面ガラ
ス基板3の内側面に形成された吸湿膜6とから構成され
ている。
This organic EL display device has a glass substrate 1 as a transparent substrate and an ITO formed on the glass substrate 1.
An organic EL element 2 including a transparent electrode layer 21 made of a film, an organic EL light emitting layer 22 formed on the transparent electrode layer 21 and a metal electrode layer 23 formed on the organic EL light emitting layer 22 and made of an Mg-Ag alloy; A back glass substrate 3 as a sealing member bonded to the glass substrate 1 so as to cover the organic EL element 2 while enclosing an inert fluid therein, and the peripheral edges of the glass substrate 1 and the back glass substrate 3 are bonded together. In addition, the back glass substrate 3 includes an adhesive 5 as a sealing agent that forms a sealing space 4 therebetween, and a moisture absorbing film 6 formed on the inner surface of the back glass substrate 3.

【0031】ガラス基板1及び背面ガラス基板3はソー
ダ石灰ガラスよりなり、板厚はいずれも1.1mmであ
る。透明電極層21は、スパッタリングによりガラス基
板1上にストライプ状に形成され、その厚さは1000
〜2000Åである。また有機EL発光層22は、透明
電極層21上のほぼ全面に形成された正孔輸送層と、正
孔輸送層上に形成された発光体層と、発光体層上に形成
された電子輸送層とから構成され、それぞれ公知の有機
材料から蒸着法により形成されて、全体の厚さは100
0〜1500Åとなっている。
The glass substrate 1 and the rear glass substrate 3 are made of soda-lime glass, and each has a thickness of 1.1 mm. The transparent electrode layer 21 is formed in a stripe shape on the glass substrate 1 by sputtering, and has a thickness of 1000.
Å2000Å. The organic EL light emitting layer 22 includes a hole transport layer formed on almost the entire surface of the transparent electrode layer 21, a light emitting layer formed on the hole transport layer, and an electron transport layer formed on the light emitting layer. And each is formed from a known organic material by a vapor deposition method, and the total thickness is 100
0 to 1500 °.

【0032】そして金属電極層23は、マスクを介して
蒸着法により厚さ1500〜2000Åに形成され、透
明電極層21に対して直交するストライプ状となってい
る。したがってこの有機EL素子2では、ドットマトリ
クス方式で駆動される透明電極層21及び金属電極層2
3を介して有機EL発光層22に直流電圧を印加するこ
とにより発光し、その発光は透明電極層21及びガラス
基板1を透過してガラス基板1の表面から視認される。
また透明電極層21と金属電極層23とで形成されるマ
トリクスの所定点を選択して通電すれば、その点が画素
となるので、ディスプレイとして画像を表示することが
可能となる。
The metal electrode layer 23 is formed to a thickness of 1500 to 2000 ° by a vapor deposition method via a mask, and has a stripe shape orthogonal to the transparent electrode layer 21. Therefore, in the organic EL element 2, the transparent electrode layer 21 and the metal electrode layer 2 driven by the dot matrix method are used.
Light is emitted by applying a DC voltage to the organic EL light emitting layer 22 through the light emitting layer 3, and the light is transmitted through the transparent electrode layer 21 and the glass substrate 1 and is visually recognized from the surface of the glass substrate 1.
If a predetermined point of the matrix formed by the transparent electrode layer 21 and the metal electrode layer 23 is selected and energized, the point becomes a pixel, so that an image can be displayed as a display.

【0033】背面ガラス基板3の内側面に形成された吸
湿膜6は、アルカリ土類過酸化物を出発原料に用いたP
VD法により成膜されたアルカリ土類一酸化物からな
る。吸湿膜6は、具体的に二酸化バリウム(BaO2
粉末を大気中で、440℃×30分の条件で焼結して得
られた焼結体をターゲットとして、イオンプレーティン
グ法により成膜された一酸化バリウム(BaO)からな
るもので、背面ガラス基板3の内側面に膜厚1.0μm
の厚さで成膜されている。以下、吸湿膜6の成膜方法を
詳細に示す。
The moisture-absorbing film 6 formed on the inner surface of the rear glass substrate 3 is made of P using an alkaline earth peroxide as a starting material.
It is composed of an alkaline earth monoxide formed by the VD method. The moisture absorbing film 6 is specifically made of barium dioxide (BaO 2 ).
The target is a sintered body obtained by sintering the powder in air at 440 ° C. for 30 minutes. The target is a barium monoxide (BaO) film formed by an ion plating method. 1.0 μm thick on the inner surface of substrate 3
The thickness is formed as follows. Hereinafter, a method of forming the moisture absorbing film 6 will be described in detail.

【0034】まず、背面ガラス基板3をアルカリ洗浄、
純水洗浄、乾燥窒素でのスピン乾燥、超音波を用いたウ
ェット洗浄及び紫外線によるドライ洗浄を順次行い、純
水による接触角が5°程度となるように表面を浄化し
た。そして、蒸着及びスパッタが可能な装置を用い、真
空度が2.0×10-6Paの下でRF逆スパッタ(Ar
等の気体粒子を基板表面に直接衝突させて洗浄する方
法)を施してから、背面ガラス基板3を250℃に加熱
し、さらに表面を浄化した。そして、背面ガラス基板3
を250℃に加熱した状態で、上記二酸化バリウムの焼
結体をターゲットとしてDCイオンプレーティングを行
って、背面ガラス基板3の表面に一酸化バリウム(Ba
O)よりなる吸湿膜6を成膜した。なおイオンプレーテ
ィングの成膜条件は以下のとおりである。また得られた
吸湿膜6について成分をX線回折及びEPMAにより調
べたところ、吸湿膜6はBaOのみからなり、吸湿膜6
内に不純物の存在は認められなかった。また吸湿膜6の
密度は5.72g/cm3 であり、バルクの密度とほぼ
同一であった。
First, the rear glass substrate 3 is washed with an alkali,
Pure water washing, spin drying with dry nitrogen, wet washing using ultrasonic waves, and dry washing with ultraviolet light were sequentially performed, and the surface was purified so that the contact angle with pure water was about 5 °. Then, using a device capable of vapor deposition and sputtering, RF reverse sputtering (Ar) was performed under a vacuum of 2.0 × 10 −6 Pa.
(A method of cleaning by directly colliding gas particles with the substrate surface), and then heating the rear glass substrate 3 to 250 ° C. to further purify the surface. And the back glass substrate 3
Is heated to 250 ° C., DC ion plating is performed using the above-mentioned barium dioxide sintered body as a target, and barium monoxide (Ba) is formed on the surface of the back glass substrate 3.
O) was formed. The film forming conditions for ion plating are as follows. When the components of the obtained moisture absorbing film 6 were examined by X-ray diffraction and EPMA, the moisture absorbing film 6 was composed of only BaO.
No impurities were found in the sample. The density of the moisture absorbing film 6 was 5.72 g / cm 3 , which was almost the same as the bulk density.

【0035】出力 :10kV、0.15A 真空度 :1.33×10-2Pa(Ar圧) 成膜速度:50nm/sec 上記のように吸湿膜6が成膜された背面ガラス基板3
と、上記有機EL素子2が形成されたガラス基板1と
は、1気圧の窒素ガス雰囲気内で両者の周縁同士が紫外
線硬化型の接着剤5により接合される。なお、紫外線硬
化型の接着剤を用いることで、接着時に高温となって有
機EL素子2が劣化するような不具合が防止されてい
る。また、接着剤5は、透明電極層21、有機EL発光
層22及び金属電極層23が存在せずに表出するガラス
基板1の表面に設けられている。こうしてガラス基板
1、背面ガラス基板3及び接着剤5により気密な封入空
間4が形成され、この封入空間4内には窒素ガスが封入
されている。なお、窒素ガスの圧力は室温(25℃)に
おいて1気圧となるように設定されている。また封入空
間4への窒素ガスの封入は、予め有機EL素子2を形成
したガラス基板1と背面ガラス基板3とを窒素ガス中で
接着剤6により接合することで行うことができる。
Output: 10 kV, 0.15 A Degree of vacuum: 1.33 × 10 −2 Pa (Ar pressure) Film forming rate: 50 nm / sec Back glass substrate 3 on which the moisture absorbing film 6 was formed as described above.
Then, the glass substrate 1 on which the organic EL element 2 is formed is bonded to each other by an ultraviolet-curable adhesive 5 at the periphery thereof in a nitrogen gas atmosphere at 1 atm. The use of an ultraviolet-curable adhesive prevents a problem that the organic EL element 2 is deteriorated due to a high temperature at the time of bonding. The adhesive 5 is provided on the surface of the glass substrate 1 that is exposed without the transparent electrode layer 21, the organic EL light emitting layer 22, and the metal electrode layer 23. Thus, an airtight sealed space 4 is formed by the glass substrate 1, the rear glass substrate 3, and the adhesive 5, and a nitrogen gas is sealed in the sealed space 4. Note that the pressure of the nitrogen gas is set to be 1 atm at room temperature (25 ° C.). The nitrogen gas can be sealed in the sealing space 4 by bonding the glass substrate 1 on which the organic EL element 2 is formed in advance and the rear glass substrate 3 with an adhesive 6 in a nitrogen gas.

【0036】本実施例の有機EL表示装置では、有機E
L素子2を封止する封止部材としての背面ガラス基板3
の内側面に、アルカリ土類過酸化物(BaO2 )を出発
原料に用いたイオンプレーティング法により成膜された
アルカリ土類一酸化物(BaO)のみからなる吸湿膜6
が形成されている。このように大気中で安定なアルカリ
土類過酸化物をターゲットとして吸湿膜6を成膜してい
るので、この吸湿膜6は均質で純度の高いものとなり、
したがって高い吸湿性能を発揮する。よって、本実施例
の有機EL表示装置では、有機EL素子2の有機EL発
光層22等に水分が侵入することを効果的に防ぐことが
でき、有機EL素子2の長寿命化を図ることができる。
In the organic EL display of this embodiment, the organic EL
Back glass substrate 3 as a sealing member for sealing L element 2
A moisture absorbing film 6 made of only alkaline earth monoxide (BaO) formed by an ion plating method using alkaline earth peroxide (BaO 2 ) as a starting material.
Are formed. Since the moisture-absorbing film 6 is formed using the alkaline earth peroxide which is stable in the atmosphere as described above, the moisture-absorbing film 6 is uniform and has high purity.
Therefore, it exhibits high moisture absorption performance. Therefore, in the organic EL display device of the present embodiment, it is possible to effectively prevent moisture from entering the organic EL light emitting layer 22 and the like of the organic EL element 2, and to extend the life of the organic EL element 2. it can.

【0037】なお、上記実施例1の有機EL表示装置を
製造する場合、大きなガラス基板1及び背面ガラス基板
3を用い、ガラス基板1上に複数個の有機EL素子2を
形成するとともに、背面ガラス基板3の表面全面に又は
マスクを使用して所定部位に複数個の吸湿膜6を形成し
た後、所定部位に接着剤5を塗布して両者を接合し、最
後に分断することにより、複数個の有機EL表示装置を
生産性高く製造することができる。
When the organic EL display device of the first embodiment is manufactured, a large glass substrate 1 and a rear glass substrate 3 are used, a plurality of organic EL elements 2 are formed on the glass substrate 1, and the rear glass is formed. After forming a plurality of moisture-absorbing films 6 on the entire surface of the substrate 3 or on a predetermined site using a mask, an adhesive 5 is applied to the predetermined site to join them together, and finally, the substrate is cut off. Can be manufactured with high productivity.

【0038】(比較例1)アルカリ土類金属過酸化物と
してのBaO2 の代わりに、アルカリ土類金属一酸化物
としてのBaOを出発原料に用いること以外は、上記実
施例1と同様である。 (比較例2)吸湿膜6を形成しないこと以外は上記実施
例1と同様である。
(Comparative Example 1) The same as in Example 1 except that BaO as an alkaline earth metal monoxide was used as a starting material instead of BaO 2 as an alkaline earth metal peroxide. . (Comparative Example 2) Same as Example 1 except that the moisture absorbing film 6 was not formed.

【0039】(評価)上記実施例1並びに比較例1及び
2の有機EL表示装置について、吸湿膜6による吸湿性
能を評価した。これは、この有機EL表示装置を温度が
85℃、相対湿度が85%の高温高湿雰囲気に放置し、
放置前の初期状態に認められた直径8〜15μmのダー
クスポットが成長する様子を観測することにより行っ
た。その観測結果、すなわち放置時間とダークスポット
の直径との関係を図2に示す。なお、図2は試料数30
についての平均観測結果を示すものである。また、ダー
クスポットの直径が大きくなるほど、有機EL素子2内
に水分が侵入していること、すなわち吸湿膜6による吸
湿性能が低下していることを示す。
(Evaluation) With respect to the organic EL display devices of Example 1 and Comparative Examples 1 and 2, the moisture absorbing performance of the moisture absorbing film 6 was evaluated. This is because the organic EL display device is left in a high-temperature and high-humidity atmosphere having a temperature of 85 ° C. and a relative humidity of 85%,
The observation was performed by observing the growth of a dark spot having a diameter of 8 to 15 μm observed in the initial state before standing. FIG. 2 shows the observation result, that is, the relationship between the standing time and the diameter of the dark spot. FIG. 2 shows a sample number of 30.
5 shows the average observation results for. Further, as the diameter of the dark spot increases, it indicates that moisture has penetrated into the organic EL element 2, that is, the moisture absorbing performance of the moisture absorbing film 6 is reduced.

【0040】図2から明らかなように、アルカリ土類金
属一酸化物としてのBaOを出発原料として成膜した吸
湿膜を備えた比較例1の有機EL表示装置と、吸湿膜を
形成していない比較例2の有機EL表示装置とでは、放
置時間に対するダークスポットの成長割合が大きく、有
機EL素子2等が時間とともに大きく劣化している。こ
れに対し、アルカリ土類過酸化物としてのBaO2 を出
発原料として成膜した吸湿膜6を備えた実施例1の有機
EL表示装置では、比較例1及び比較例2のものと比べ
て、ダークスポットの成長割合が極めて小さく、有機E
L素子2等の水分による劣化度合が小さい。したがっ
て、アルカリ土類過酸化物としてのBaO 2 を出発原料
として成膜した吸湿膜6は高い吸湿性能を示すことがわ
かる。
As is apparent from FIG.
A film formed using BaO as a group monoxide as a starting material
The organic EL display device of Comparative Example 1 having a wet film and the moisture absorbing film
In comparison with the organic EL display device of Comparative Example 2 in which no electrode was formed,
The growth rate of dark spots with respect to
The device EL element 2 and the like have significantly deteriorated with time. This
On the other hand, BaO as an alkaline earth peroxideTwoOut
Example 1 having the moisture absorbing film 6 formed as a raw material
In the EL display device, compared with those of Comparative Example 1 and Comparative Example 2,
The growth rate of dark spots is extremely small, and organic E
The degree of deterioration of the L element 2 and the like due to moisture is small. Accordingly
And BaO as alkaline earth peroxide TwoStarting material
It can be seen that the moisture absorbing film 6 formed as
Call

【0041】(第2実施例)図3及び図4に示す本実施
例2の有機EL表示装置は、アルカリ土類過酸化物とし
てのBaO2 を出発原料として成膜した上記吸湿膜6を
有機EL素子2の上に非発光部に部分的に形成したもの
である。すなわち、この有機EL表示装置では、上記実
施例1と同様にガラス基板1の上にドットマトリクス方
式で駆動される有機EL素子2を形成した後、マスキン
グ処理を施すことにより、有機EL発光層22の上であ
って金属電極層23が形成されていない周縁部のみに、
上記吸湿膜6を成膜した。なお、図4において、点線斜
線で示す領域Aが金属電極層23が形成された発光部領
域を示し、この領域の周囲の斜線で示す領域Bが非発光
部領域であって吸湿膜6が形成された領域を示す。
(Second Embodiment) The organic EL display device of the second embodiment shown in FIGS. 3 and 4 uses the above-described moisture absorbing film 6 formed by using BaO 2 as an alkaline earth peroxide as a starting material. It is formed partially on the EL element 2 at the non-light emitting portion. That is, in this organic EL display device, the organic EL element 2 driven by the dot matrix method is formed on the glass substrate 1 in the same manner as in the first embodiment, and then a masking process is performed. Only on the periphery where the metal electrode layer 23 is not formed,
The moisture absorbing film 6 was formed. In FIG. 4, an area A indicated by a hatched dotted line indicates a light emitting area where the metal electrode layer 23 is formed, and an area B indicated by an oblique line around this area is a non-light emitting area where the moisture absorbing film 6 is formed. Indicates the region that was performed.

【0042】この吸湿膜6は、上記実施例1と同様、ア
ルカリ土類過酸化物としてのBaO 2 を出発原料として
用いたイオンプレーティング法により成膜したBaOの
みからなるもので、その膜厚は実施例1と同様1μmと
されている。その他の構成は上記実施例1と同様であ
る。この有機EL表示装置では、吸湿膜6が有機EL素
子2の上であって非発光部領域Bに部分的に形成されて
いるため、有機EL素子2の有機EL発光層22等と吸
湿膜6との距離が極めて短くなるため、該有機EL発光
層22等に水分が侵入することを吸湿膜6により確実に
防ぐことができ、有機EL素子2の長寿命化を効果的に
図ることが可能となる。
This moisture absorbing film 6 has the same structure as that of the first embodiment.
BaO as a alkaline earth peroxide TwoAs starting material
Of BaO deposited by ion plating method
And the film thickness was 1 μm as in Example 1.
Have been. Other configurations are the same as in the first embodiment.
You. In this organic EL display device, the moisture absorbing film 6 is formed of an organic EL element.
On the element 2 and partially formed in the non-light emitting area B
Therefore, it absorbs with the organic EL light emitting layer 22 and the like of the organic EL element 2.
Since the distance from the wet film 6 is extremely short, the organic EL light emission
The moisture absorption film 6 ensures that moisture enters the layer 22 and the like.
Can effectively prevent the organic EL element 2 from having a longer life.
It becomes possible to plan.

【0043】また、吸湿膜6は有機EL素子2上の非発
光部領域Bに部分的に形成されているため、吸湿膜6を
成膜する際の熱等により有機EL素子2の発光部領域A
が損傷することを防ぐことができる。さらに、有機EL
素子2上の非発光部領域Bに吸湿膜6が部分的に形成さ
れているため、吸湿膜6に吸着された水分や酸素が発光
部領域Aの金属電極層23等に悪影響を及ぼすことを阻
止することができる。また、かかる悪影響を防止すべく
金属電極層23を安定な保護膜で覆う必要がなく、コス
ト面や生産面で有利となる。
Since the moisture absorbing film 6 is partially formed in the non-light emitting area B on the organic EL element 2, the light emitting area of the organic EL element 2 is heated by heat or the like when the moisture absorbing film 6 is formed. A
Can be prevented from being damaged. In addition, organic EL
Since the moisture-absorbing film 6 is partially formed in the non-light-emitting area B on the element 2, moisture and oxygen adsorbed on the moisture-absorbing film 6 adversely affect the metal electrode layer 23 and the like in the light-emitting area A. Can be blocked. Further, there is no need to cover the metal electrode layer 23 with a stable protective film in order to prevent such adverse effects, which is advantageous in terms of cost and production.

【0044】なお、図5に示すように、セグメント方式
で有機EL素子2を駆動する場合は、有機EL素子2上
であって、図5に斜線で示される非発光部領域Bに吸湿
膜6を形成することができる。
As shown in FIG. 5, when the organic EL element 2 is driven by the segment method, the moisture absorbing film 6 is provided on the organic EL element 2 and in the non-light emitting portion area B shown by oblique lines in FIG. Can be formed.

【0045】[0045]

【発明の効果】以上詳述したように本発明の吸湿膜は、
大気中で安定なアルカリ土類過酸化物を出発原料に用い
たPVD法により成膜されたアルカリ土類一酸化物から
なるので、高純度及び高均質で、したがって吸湿性能の
高いものとなる。また、このように吸湿性能の高い吸湿
膜を備えた本発明の有機EL表示装置は、有機EL素子
の有機EL発光層等に水分が侵入することを効果的に防
止することができ、有機EL素子の長寿命化を図ること
が可能となる。
As described in detail above, the moisture absorbing film of the present invention
Since it is composed of an alkaline earth monoxide formed by a PVD method using an alkaline earth peroxide that is stable in the atmosphere as a starting material, it has high purity and high homogeneity, and thus has high moisture absorption performance. Further, the organic EL display device of the present invention provided with such a moisture absorbing film having a high moisture absorbing performance can effectively prevent moisture from entering the organic EL light emitting layer and the like of the organic EL element. It is possible to extend the life of the element.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例の有機EL表示装置の断面図
である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of an organic EL display device according to one embodiment of the present invention.

【図2】吸湿膜による吸湿性能の評価結果を示し、放置
時間とダークスポット直径との関係を示すグラフであ
る。
FIG. 2 is a graph showing evaluation results of moisture absorption performance by a moisture absorption film and showing a relationship between a standing time and a dark spot diameter.

【図3】本発明の他の実施例の有機EL表示装置の断面
図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view of an organic EL display device according to another embodiment of the present invention.

【図4】上記他の実施例の有機EL表示装置の平面図で
あり、吸湿膜を成膜する非発光部の領域を示す説明図で
ある。
FIG. 4 is a plan view of an organic EL display device according to another embodiment, and is an explanatory diagram showing a region of a non-light emitting portion where a moisture absorbing film is formed.

【図5】本発明のさらに他の実施例の有機EL表示装置
の平面図であり、吸湿膜を成膜する非発光部の領域を示
す説明図である。
FIG. 5 is a plan view of an organic EL display device according to still another embodiment of the present invention, and is an explanatory diagram showing a region of a non-light emitting portion where a moisture absorbing film is formed.

【図6】従来の有機EL表示装置の断面図である。FIG. 6 is a sectional view of a conventional organic EL display device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…ガラス基板(透明基板) 2…有機EL素子 3…背面ガラス基板(封止部材) 4…封入空間 5…接着剤 6…吸湿膜 A…発光部領域 B…非発光部領域 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Glass substrate (transparent substrate) 2 ... Organic EL element 3 ... Back glass substrate (sealing member) 4 ... Enclosed space 5 ... Adhesive 6 ... Moisture absorbing film A ... Light emitting part area B ... Non-light emitting part area

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 横井 正裕 愛知県豊田市トヨタ町1番地 トヨタ自動 車株式会社内 (72)発明者 古山 晃一 埼玉県東松山市大字下野本1414番地 株式 会社豊島製作所内 Fターム(参考) 3K007 AB13 BA06 BB01 BB04 BB05 CA01 CB01 DA01 DB03 EB00 FA01 FA02 4K029 AA09 BA43 BC00 BD00  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Masahiro Yokoi 1 Toyota Town, Toyota City, Aichi Prefecture Inside Toyota Motor Co., Ltd. (72) Inventor Koichi Koyama 1414 Shimonomoto, Oji, Higashimatsuyama City, Saitama F Terms (reference) 3K007 AB13 BA06 BB01 BB04 BB05 CA01 CB01 DA01 DB03 EB00 FA01 FA02 4K029 AA09 BA43 BC00 BD00

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 アルカリ土類過酸化物を出発原料に用い
たPVD法により成膜されたアルカリ土類一酸化物から
なることを特徴とする吸湿膜。
1. A moisture absorbing film comprising an alkaline earth monoxide formed by a PVD method using an alkaline earth peroxide as a starting material.
【請求項2】 透明基板と、該透明基板上に形成された
透明電極層、該透明電極層上に形成された有機EL発光
層及び該有機EL発光層上に形成された金属電極層より
なる有機EL素子と、内部に不活性流体を封入しつつ該
有機EL素子を被覆するように該透明基板に接合された
封止部材とを備えた有機EL表示装置において、 上記有機EL素子上の非発光部及び上記封止部材の内側
面のうちの少なくとも一方には、アルカリ土類過酸化物
を出発原料として用いたPVD法により成膜されたアル
カリ土類一酸化物からなる吸湿膜が形成されていること
を特徴とする有機EL表示装置。
2. A transparent substrate, comprising a transparent electrode layer formed on the transparent substrate, an organic EL light emitting layer formed on the transparent electrode layer, and a metal electrode layer formed on the organic EL light emitting layer. An organic EL display device comprising: an organic EL element; and a sealing member joined to the transparent substrate so as to cover the organic EL element while enclosing an inert fluid therein. At least one of the light-emitting portion and the inner surface of the sealing member is provided with a moisture-absorbing film made of an alkaline earth monoxide formed by a PVD method using an alkaline earth peroxide as a starting material. An organic EL display device comprising:
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Cited By (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002063929A1 (en) * 2001-02-08 2002-08-15 Nec Corporation Organic el device
EP1261043A2 (en) * 2001-05-23 2002-11-27 SAES GETTERS S.p.A. Precursory system of water-absorbing devices for electroluminescent screens, production process and method of use thereof
KR20020089596A (en) * 2001-05-23 2002-11-30 오리온전기 주식회사 Organic electroluminescence device
WO2003103069A2 (en) * 2002-06-03 2003-12-11 Saes Getters S.P.A. Assembly comprising at least one support with deposit of getter material for use in electroluminescent organic screens
US6673436B2 (en) 2000-05-17 2004-01-06 Dynic Corporation Moisture absorbing formed article
US6717052B2 (en) * 2001-12-28 2004-04-06 Delta Optoelectronics, Inc. Housing structure with multiple sealing layers
KR20040070976A (en) * 2003-02-05 2004-08-11 주식회사 엘리아테크 An Organic Electro Luminescence Display Panel using a sticker type encapsulated film with getter and manufacturing method thereof
JP2004259696A (en) * 2003-02-07 2004-09-16 Seiko Epson Corp Electroluminescent device and manufacturing method of the same, and electronic device
JP2005071639A (en) * 2003-08-27 2005-03-17 Chi Mei Electronics Corp Organic el display and its manufacturing method
KR100477101B1 (en) * 2000-10-06 2005-03-17 삼성에스디아이 주식회사 Organic Luminescence
JP2005123083A (en) * 2003-10-17 2005-05-12 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Coating composition and method for manufacturing organic el element
US6909175B2 (en) 2002-06-14 2005-06-21 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. EL device sealing plate, multiple sealing plate-producing mother glass substrate, and EL device
KR100621861B1 (en) * 2001-09-19 2006-09-13 엘지전자 주식회사 Organic Electro Luminescence Device and Method Fabricating Thereof
US7178927B2 (en) 2000-11-14 2007-02-20 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Electroluminescent device having drying agent
JP2007165110A (en) * 2005-12-14 2007-06-28 Hitachi Displays Ltd Organic light-emitting display panel
JP2007258188A (en) * 2000-11-14 2007-10-04 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Light-emitting device, electrical apparatus and lighting device
CN100380703C (en) * 2001-05-18 2008-04-09 皇家菲利浦电子有限公司 Moisture-absorption sheet
KR100900445B1 (en) 2004-10-26 2009-06-02 엘지전자 주식회사 Organic Electro Luminescence Display Device And Fabricating Method Thereof
WO2011108020A1 (en) * 2010-03-01 2011-09-09 パナソニック株式会社 Organic el device and method for manufacturing same
JP2013065549A (en) * 2011-08-26 2013-04-11 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Light emitting module, light emitting device, method of manufacturing light emitting module, and method of manufacturing light emitting device
US9040998B2 (en) 2011-06-24 2015-05-26 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light-emitting device

Cited By (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6673436B2 (en) 2000-05-17 2004-01-06 Dynic Corporation Moisture absorbing formed article
KR100477101B1 (en) * 2000-10-06 2005-03-17 삼성에스디아이 주식회사 Organic Luminescence
US7178927B2 (en) 2000-11-14 2007-02-20 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Electroluminescent device having drying agent
US8557324B2 (en) 2000-11-14 2013-10-15 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device
JP2007258188A (en) * 2000-11-14 2007-10-04 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Light-emitting device, electrical apparatus and lighting device
JP4679549B2 (en) * 2000-11-14 2011-04-27 株式会社半導体エネルギー研究所 Light emitting device, electric appliance and lighting equipment
WO2002063929A1 (en) * 2001-02-08 2002-08-15 Nec Corporation Organic el device
JP2002237390A (en) * 2001-02-08 2002-08-23 Nec Corp Organic el device
US7465963B2 (en) 2001-02-08 2008-12-16 Samsung Sdi Co., Ltd. Organic EL device
CN100380703C (en) * 2001-05-18 2008-04-09 皇家菲利浦电子有限公司 Moisture-absorption sheet
EP1261043A3 (en) * 2001-05-23 2004-01-02 SAES GETTERS S.p.A. Precursory system of water-absorbing devices for electroluminescent screens, production process and method of use thereof
KR20020089596A (en) * 2001-05-23 2002-11-30 오리온전기 주식회사 Organic electroluminescence device
EP1261043A2 (en) * 2001-05-23 2002-11-27 SAES GETTERS S.p.A. Precursory system of water-absorbing devices for electroluminescent screens, production process and method of use thereof
KR100621861B1 (en) * 2001-09-19 2006-09-13 엘지전자 주식회사 Organic Electro Luminescence Device and Method Fabricating Thereof
US6717052B2 (en) * 2001-12-28 2004-04-06 Delta Optoelectronics, Inc. Housing structure with multiple sealing layers
WO2003103069A2 (en) * 2002-06-03 2003-12-11 Saes Getters S.P.A. Assembly comprising at least one support with deposit of getter material for use in electroluminescent organic screens
JP2005528761A (en) * 2002-06-03 2005-09-22 サエス ゲッターズ ソチエタ ペル アツィオニ Assembly comprising at least one support deposited with getter material for use in an organic electroluminescent material screen
WO2003103069A3 (en) * 2002-06-03 2004-01-29 Getters Spa Assembly comprising at least one support with deposit of getter material for use in electroluminescent organic screens
US6909175B2 (en) 2002-06-14 2005-06-21 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. EL device sealing plate, multiple sealing plate-producing mother glass substrate, and EL device
KR20040070976A (en) * 2003-02-05 2004-08-11 주식회사 엘리아테크 An Organic Electro Luminescence Display Panel using a sticker type encapsulated film with getter and manufacturing method thereof
JP2004259696A (en) * 2003-02-07 2004-09-16 Seiko Epson Corp Electroluminescent device and manufacturing method of the same, and electronic device
JP2005071639A (en) * 2003-08-27 2005-03-17 Chi Mei Electronics Corp Organic el display and its manufacturing method
JP4534064B2 (en) * 2003-08-27 2010-09-01 奇美電子股▲ふん▼有限公司 Manufacturing method of organic EL display
JP2005123083A (en) * 2003-10-17 2005-05-12 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Coating composition and method for manufacturing organic el element
KR100900445B1 (en) 2004-10-26 2009-06-02 엘지전자 주식회사 Organic Electro Luminescence Display Device And Fabricating Method Thereof
JP2007165110A (en) * 2005-12-14 2007-06-28 Hitachi Displays Ltd Organic light-emitting display panel
CN102326448A (en) * 2010-03-01 2012-01-18 松下电器产业株式会社 Organic EL device and method for manufacturing same
WO2011108020A1 (en) * 2010-03-01 2011-09-09 パナソニック株式会社 Organic el device and method for manufacturing same
US8604490B2 (en) 2010-03-01 2013-12-10 Panasonic Corporation Organic light-emitting device and method of manufacturing the same
US9040998B2 (en) 2011-06-24 2015-05-26 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light-emitting device
JP2013065549A (en) * 2011-08-26 2013-04-11 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Light emitting module, light emitting device, method of manufacturing light emitting module, and method of manufacturing light emitting device
US9577219B2 (en) 2011-08-26 2017-02-21 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light-emitting module, light-emitting device, method of manufacturing the light-emitting module, and method of manufacturing the light-emitting device

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