JP2000258309A - Programmed-temperature desorption gas analyzer - Google Patents
Programmed-temperature desorption gas analyzerInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は昇温脱離ガス分析装
置に関する。とくに試料導入ステージ構造と試料交換方
式に関するものである。The present invention relates to a thermal desorption gas analyzer. In particular, it relates to a sample introduction stage structure and a sample exchange method.
【0002】[0002]
【従来の技術】昇温脱離ガス分析装置とは、試料を真空
中で加熱したときに放出される気体を質量分析計により
分析する装置である。従来、この種の装置としては、
「真空、第34巻、第11号、第813−819頁(1
991)」に開示されるものがある。ロードロック方式
を採用しているので、外気が直接加熱部に導入されるこ
とがなく、試料ステージからの脱ガスの影響を抑えるこ
とができ、さらに短時間で加熱用チャンバーを10-9T
orr台に到達させることができる。2. Description of the Related Art A thermal desorption gas analyzer is a device for analyzing a gas released when a sample is heated in a vacuum by a mass spectrometer. Conventionally, as this type of device,
"Vacuum, Vol. 34, No. 11, pp. 813-819 (1
991)). Since the load lock system is adopted, the outside air is not directly introduced into the heating section, the influence of degassing from the sample stage can be suppressed, and the heating chamber can be set to 10 -9 T in a shorter time.
orr can be reached.
【0003】図7は従来の昇温脱離ガス分析装置の構成
図である。ロードロックチャンバー21は、窒素パージ
バルブ19と試料交換口18を接続しているとともに、
試料導入プレート4を有し、ターボ分子ポンプ(TM
P)11とロータリーポンプ(RTP)12を接続して
排気を行なう。また前記ロードロックチャンバー21内
には真空ゲージ(VG)20が設置されている。前記試
料導入プレート4は、試料導入装置(図示せず)により
ロードロックチャンバー21から試料を試料ステージ2
に移動させることができる。前記加熱チャンバー22
は、ゲートバルブ17によって仕切られており、透明石
英ロッド1、試料ステージ2および試料移動機構5を有
している。前記透明石英ロッド1には、試料加熱用の赤
外線加熱ユニット13と、温度制御装置14と、コンピ
ューター16とが接続されている。またターボ分子ポン
プ(TMP)7とロータリーポンプ(RTP)8を接続
して排気を行なう。さらに脱離ガス測定用の質量分析計
9が接続されている。FIG. 7 is a configuration diagram of a conventional thermal desorption gas analyzer. The load lock chamber 21 connects the nitrogen purge valve 19 and the sample exchange port 18, and
It has a sample introduction plate 4 and has a turbo molecular pump (TM
P) 11 and a rotary pump (RTP) 12 are connected to exhaust air. A vacuum gauge (VG) 20 is provided in the load lock chamber 21. The sample introduction plate 4 is configured to transfer a sample from the load lock chamber 21 to the sample stage 2 by a sample introduction device (not shown).
Can be moved to The heating chamber 22
Are separated by a gate valve 17 and include a transparent quartz rod 1, a sample stage 2, and a sample moving mechanism 5. The transparent quartz rod 1 is connected to an infrared heating unit 13 for heating a sample, a temperature controller 14, and a computer 16. In addition, a turbo molecular pump (TMP) 7 and a rotary pump (RTP) 8 are connected to perform exhaust. Further, a mass spectrometer 9 for measuring desorbed gas is connected.
【0004】図7に示されるように、試料ステージ2に
測定のための試料3をセットする。試料3の外部の真空
度は典型的には1×10-8Torr以下であり、加熱時
に真空中に放出される気体を質量分析計9により測定で
きる。As shown in FIG. 7, a sample 3 for measurement is set on a sample stage 2. The degree of vacuum outside the sample 3 is typically 1 × 10 −8 Torr or less, and the gas released into the vacuum during heating can be measured by the mass spectrometer 9.
【0005】試料ステージ2への試料3の移動はつぎの
ように行なう。図8は試料ステージに試料を移動するた
めの試料導入プレートの斜視図である。図9は試料導入
プレートから試料ステージへの試料の移動方法の説明図
である。The movement of the sample 3 to the sample stage 2 is performed as follows. FIG. 8 is a perspective view of a sample introduction plate for moving a sample to a sample stage. FIG. 9 is an explanatory diagram of a method of moving the sample from the sample introduction plate to the sample stage.
【0006】ロードロックチャンバー21をN2パージ
したのち、試料3を試料導入プレート4に載せ、真空引
きする。到達真空度が1×10-5Torr以下になった
のち、加熱チャンバー22に試料導入プレート4を移動
させる。ついで試料移動機構5を所定の位置まで移動さ
せたのち、該試料移動機構5のツメ6をFa方向へ試料
3にかかる高さまで引き下げる。さらに、試料ステージ
2の方向(Fb方向)へ試料移動機構5を動かすことに
よって試料3を試料ステージ2の上に設置する。そして
赤外線導入用の透明石英ロッド1を介して赤外線を照射
して試料3を昇温し、そのときに放出された気体を質量
分析計9で測定する。After purging the load lock chamber 21 with N 2 , the sample 3 is placed on the sample introduction plate 4 and evacuated. After the ultimate vacuum reaches 1 × 10 −5 Torr or less, the sample introduction plate 4 is moved to the heating chamber 22. Then, after moving the sample moving mechanism 5 to a predetermined position, the claw 6 of the sample moving mechanism 5 is lowered in the Fa direction to a height corresponding to the sample 3. Further, the sample 3 is set on the sample stage 2 by moving the sample moving mechanism 5 in the direction of the sample stage 2 (Fb direction). Then, the sample 3 is heated by irradiating infrared rays through the transparent quartz rod 1 for introducing infrared rays, and the gas released at that time is measured by the mass spectrometer 9.
【0007】図10は試料ステージ2から試料導入プレ
ート4への試料移動方法の説明図である。まず試料導入
プレート4を加熱チャンバー22に挿入する(図7参
照)。ついで試料移動機構5を所定の位置まで移動させ
たのち、試料移動機構5のツメ6をFa方向へ試料3に
かかる高さまで引き下げる。さらに、試料導入プレート
4の方向(Fc方向)へ試料移動機構5を動かすことに
よって、測定済み試料3を試料導入プレート4の上に設
置する。試料導入プレート4をロードロックチャンバー
内に戻してゲートバルブ17を閉じ、ロードロックチャ
ンバー21をN2パージしたのち、測定済み試料3を試
料交換口18より取り出す。つぎに測定前試料を試料導
入プレート4に載置して試料分析を繰り返す。FIG. 10 is an explanatory view of a method of moving a sample from the sample stage 2 to the sample introduction plate 4. First, the sample introduction plate 4 is inserted into the heating chamber 22 (see FIG. 7). Next, after moving the sample moving mechanism 5 to a predetermined position, the claw 6 of the sample moving mechanism 5 is lowered in the Fa direction to a height corresponding to the sample 3. Further, the measured sample 3 is set on the sample introduction plate 4 by moving the sample moving mechanism 5 in the direction of the sample introduction plate 4 (Fc direction). The sample introduction plate 4 is returned into the load lock chamber, the gate valve 17 is closed, the load lock chamber 21 is purged with N 2, and then the measured sample 3 is taken out from the sample exchange port 18. Next, the sample before measurement is placed on the sample introduction plate 4 and the sample analysis is repeated.
【0008】前記試料導入方式を用いることにより、加
熱チャンバー22の真空度を常に1×10-7Torr以
下に保つことができる。By using the above-described sample introduction method, the degree of vacuum in the heating chamber 22 can always be kept at 1 × 10 −7 Torr or less.
【0009】[0009]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来の昇温脱離ガス分析装置では連続して測定を行なう場
合に、測定済み試料をロードロックチャンバーに戻した
のちに、ロードロックチャンバーを一度N2パージして
測定済み試料を取り出し、ついで測定前試料を試料導入
プレートにセットしてからロードロックチャンバーを真
空引きし、測定前試料を加熱チャンバーに挿入する必要
がある。そのため、測定と同時に次測定試料をロードロ
ックチャンバーで真空引きすることができない。However, in the above-mentioned conventional thermal desorption gas analyzer, when performing a continuous measurement, after the measured sample is returned to the load lock chamber, the load lock chamber is once set to N. (2) It is necessary to purge and remove the measured sample, then set the sample before measurement on the sample introduction plate, evacuate the load lock chamber, and insert the sample before measurement into the heating chamber. Therefore, the next measurement sample cannot be evacuated in the load lock chamber simultaneously with the measurement.
【0010】本発明は、叙上の事情に鑑み、高真空下に
おける高感度分析を効率的に行なうことができる昇温脱
離ガス分析装置を提供することを目的とする。In view of the circumstances described above, an object of the present invention is to provide a thermal desorption gas analyzer capable of efficiently performing high-sensitivity analysis under a high vacuum.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】本発明の請求項1にかか
わる昇温脱離ガス分析装置は、ロードロックチャンバー
と加熱チャンバーとを備えている昇温脱離ガス分析装置
であって、前記加熱チャンバーの下部に設けられる2個
のバルブにより、加熱チャンバーと大気とから隔離する
ことができる試料取出しチャンバーを備えてなることを
特徴とする。The thermal desorption gas analyzer according to claim 1 of the present invention is a thermal desorption gas analyzer having a load lock chamber and a heating chamber, wherein the thermal desorption gas analyzer includes a load lock chamber and a heating chamber. A heating chamber and a sample removal chamber capable of being isolated from the atmosphere are provided by two valves provided at a lower part of the chamber.
【0012】また本発明の請求項2にかかわる昇温脱離
ガス分析装置は、前記試料取出しチャンバーに投入され
る測定済み試料が該試料取出しチャンバー外に落下する
のを防止するためのスロープを前記加熱チャンバー内に
備えてなることを特徴とする。Further, in the thermal desorption gas analyzer according to claim 2 of the present invention, the slope for preventing the measured sample put into the sample removal chamber from falling out of the sample removal chamber is provided with the slope. It is provided in a heating chamber.
【0013】また本発明の請求項3にかかわる昇温脱離
ガス分析装置は、前記加熱チャンバー内の試料ステージ
の下部と前記試料取出しチャンバーの上部とのあいだ
に、測定済み試料を一時保管するための垂直方向に回転
する受け具を備えてなることを特徴とする。A thermal desorption gas analyzer according to a third aspect of the present invention is to temporarily store a measured sample between a lower portion of a sample stage in the heating chamber and an upper portion of the sample removal chamber. Characterized in that it comprises a receiving member that rotates in the vertical direction.
【0014】さらに本発明の請求項4にかかわる昇温脱
離ガス分析装置は、ロードロックチャンバーと加熱チャ
ンバーとを備えている昇温脱離ガス分析装置であって、
前記ロードロックチャンバーから試料を試料ステージ上
に移動する試料導入装置が、測定前試料と測定済み試料
の両方の積載ができる試料導入プレートを備えており、
該試料導入プレートにより試料取出しと試料挿入を同時
に行なうことを特徴とする。A thermal desorption gas analyzer according to a fourth aspect of the present invention is a thermal desorption gas analyzer having a load lock chamber and a heating chamber.
A sample introduction device that moves the sample from the load lock chamber onto the sample stage includes a sample introduction plate capable of loading both a pre-measurement sample and a measured sample,
It is characterized in that a sample removal and a sample insertion are performed simultaneously by the sample introduction plate.
【0015】[0015]
【発明の実施の形態】以下、添付図面に基づいて本発明
の昇温脱離ガス分析装置を説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A thermal desorption gas analyzer according to the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.
【0016】実施の形態1 図1は本発明の昇温脱離ガス分析装置の第1の実施の形
態を示す構成図である。本発明が適用される昇温脱離ガ
ス分析装置は、図1に示されるように、ロードロック方
式でありロードロックチャンバー21と加熱チャンバー
22とからなり、ゲートバルブ17によって仕切られて
いる。該ロードロックチャンバー21は、窒素パージバ
ルブ19と試料交換口18を接続しているとともに、試
料導入プレート4を有し、ターボ分子ポンプ(TMP)
11とロータリーポンプ(RTP)12を接続して排気
を行なう。また前記ロードロックチャンバー21内には
真空ゲージ(VG)20が設置されている。前記試料導
入プレート4は、試料導入装置(図示せず)によりロー
ドロックチャンバー21から試料を試料ステージ2に移
動させることができる。Embodiment 1 FIG. 1 is a configuration diagram showing a first embodiment of a thermal desorption gas analyzer according to the present invention. As shown in FIG. 1, the thermal desorption gas analyzer to which the present invention is applied is of a load lock type, is composed of a load lock chamber 21 and a heating chamber 22, and is separated by a gate valve 17. The load lock chamber 21 connects the nitrogen purge valve 19 and the sample exchange port 18, has the sample introduction plate 4, and has a turbo molecular pump (TMP).
11 and a rotary pump (RTP) 12 are connected to exhaust air. A vacuum gauge (VG) 20 is provided in the load lock chamber 21. The sample introduction plate 4 can move a sample from the load lock chamber 21 to the sample stage 2 by a sample introduction device (not shown).
【0017】前記加熱チャンバー22は、透明石英ロッ
ド1、試料ステージ2および試料移動機構5を有し、下
部に試料取出しチャンバー30を備えている。前記加熱
チャンバー22と試料取出しチャンバー30とのあいだ
には、ゲートバルブ31を設置するとともに、該試料取
出しチャンバー30と装置外とのあいだには、試料廃棄
バルブ32を設置して互いに遮蔽される構造となってい
る。前記試料取出しチャンバー30は、ターボポンプ
(TMP)11とロータリーポンプ(RTP)12によ
る真空排気と窒素リークバルブ33からのN2パージが
できる構造となっている。また前記透明石英ロッド1に
は、試料加熱用の赤外線加熱ユニット13と、温度制御
装置14と、コンピューター16とが接続されている。The heating chamber 22 has a transparent quartz rod 1, a sample stage 2, and a sample moving mechanism 5, and has a sample removal chamber 30 at the lower part. A gate valve 31 is provided between the heating chamber 22 and the sample removal chamber 30, and a sample disposal valve 32 is provided between the sample removal chamber 30 and the outside of the apparatus so as to be shielded from each other. It has become. The sample removal chamber 30 has a structure capable of evacuating by a turbo pump (TMP) 11 and a rotary pump (RTP) 12 and purging N 2 from a nitrogen leak valve 33. Further, an infrared heating unit 13 for heating a sample, a temperature controller 14 and a computer 16 are connected to the transparent quartz rod 1.
【0018】本実施の形態の昇温脱離ガス分析装置は、
赤外線導入用の透明石英ロッド1を介して赤外線を照射
して試料34を昇温し、そのときに放出された気体を質
量分析計9で測定する。The thermal desorption gas analyzer of this embodiment is
The sample 34 is heated by irradiating infrared rays through the transparent quartz rod 1 for introducing infrared rays, and the gas released at that time is measured by the mass spectrometer 9.
【0019】測定終了後の試料34は、図2(a)に示
されるように、まずゲートバルブ31を開放したのち、
試料移動機構5のツメ6を測定済み試料34に押し当て
て、該測定済み試料34を試料取出しチャンバー30の
方向に移動させる。ついで試料ステージ2から測定済み
試料34を落下させて、該測定済み試料34を試料取出
しチャンバー30に投入する。これにより、測定済み試
料34をロードロックチャンバー21を介さないで廃棄
できる。As shown in FIG. 2A, after the measurement is completed, the sample 34 is first opened with the gate valve 31 opened.
The claw 6 of the sample moving mechanism 5 is pressed against the measured sample 34 to move the measured sample 34 in the direction of the sample removal chamber 30. Next, the measured sample 34 is dropped from the sample stage 2, and the measured sample 34 is loaded into the sample removal chamber 30. Thus, the measured sample 34 can be discarded without passing through the load lock chamber 21.
【0020】つぎに図2(b)に示されるように、試料
取出しチャンバー30から測定済み試料34を取り出す
ために、まずゲートバルブ31を閉じてから試料取出し
チャンバー30をN2パージする。ついで試料廃棄バル
ブ32を開けて、試料取出しチャンバー30内の測定済
み試料34を取り出す。前記試料取出しチャンバー30
には、複数個の測定済み試料34を保存することができ
るため、測定済み試料34の装置外への取り出しは測定
ごとに行なう必要はない。Next, as shown in FIG. 2B, in order to remove the measured sample 34 from the sample removal chamber 30, the gate valve 31 is first closed and then the sample removal chamber 30 is purged with N 2 . Next, the sample disposal valve 32 is opened, and the measured sample 34 in the sample removal chamber 30 is taken out. The sample removal chamber 30
Can store a plurality of measured samples 34, so that the measured samples 34 need not be taken out of the apparatus for each measurement.
【0021】本実施の形態では、2個のバルブであるゲ
ートバルブ31と試料廃棄バルブ32および試料取出し
チャンバー30を設置しているため、ロードロックチャ
ンバー21を介さず測定済み試料34を取り出すことが
できるとともに、測定と同時にロードロックチャンバー
21で次測定試料の予備排気を行なうことができる。In this embodiment, since the two valves, ie, the gate valve 31, the sample disposal valve 32, and the sample removal chamber 30 are provided, the measured sample 34 can be removed without passing through the load lock chamber 21. In addition to this, the next measurement sample can be pre-evacuated in the load lock chamber 21 simultaneously with the measurement.
【0022】前記構成された昇温脱離ガス分析装置にお
いては、測定と同時に、次測定試料のロードロックチャ
ンバーにおける予備排気を行なうことにより、予備排気
時間を長時間化でき、これによりロードロックチャンバ
ーの到達真空度を時間ロスなしで達成することができ
る。In the thermal desorption spectrometer configured as described above, by performing preliminary evacuation of the next measurement sample in the load lock chamber at the same time as the measurement, the preliminary evacuation time can be lengthened, whereby the load lock chamber can be extended. Can be achieved without time loss.
【0023】したがって、次測定試料を加熱チャンバー
に挿入するときの、加熱チャンバーの真空度の低下を抑
えることとなり、従来の昇温脱離ガス分析装置と比べて
高真空化での高感度測定が時間のロスなしでできる。そ
の結果、高真空化における高感度分析をより効率的に実
現できる。Therefore, when the next measurement sample is inserted into the heating chamber, a decrease in the degree of vacuum in the heating chamber is suppressed, and high-sensitivity measurement under a high vacuum can be performed as compared with the conventional thermal desorption gas analyzer. You can do it without wasting time. As a result, high-sensitivity analysis in a high vacuum can be realized more efficiently.
【0024】実施の形態2 前記実施の形態1で示した構造では、測定済み試料34
の落下位置に試料取出しチャンバー30を設置する必要
がある。そのため、試料取出しチャンバー30の設置位
置やゲートバルブ31の内径に制約ができる。Second Embodiment In the structure shown in the first embodiment, the measured sample 34
It is necessary to set the sample removal chamber 30 at the falling position of the sample. Therefore, the installation position of the sample extraction chamber 30 and the inner diameter of the gate valve 31 can be restricted.
【0025】そこで、本実施の形態では、図3に示され
るように、前記試料取出しチャンバー30の上部にスロ
ープ35を設けている。かかるスロープ35を設けるこ
とにより、測定済み試料34が試料取出しチャンバー3
0外に落下することを防ぐことができる。また該スロー
プ35が設けられていることにより、落下された測定済
み試料34が、該スロープ35に沿って確実に試料取出
しチャンバー30へと導かれるため、試料取出しチャン
バー30を任意の場所に設置することができる。Therefore, in the present embodiment, as shown in FIG. 3, a slope 35 is provided above the sample removal chamber 30. By providing such a slope 35, the measured sample 34 is
It can be prevented from falling out of zero. In addition, since the slope 35 is provided, the dropped measured sample 34 is reliably guided to the sample removal chamber 30 along the slope 35, so that the sample removal chamber 30 is installed at an arbitrary place. be able to.
【0026】実施の形態3 図4は本発明の昇温脱離ガス分析装置の他の実施の形態
を示す構成図である。本実施の形態では、試料取出しチ
ャンバー30の上部に受け具36を取り付け、測定済み
試料34を試料移動機構5を用いて受け具36上に落と
して一時保管する。前記受け具36上に溜った測定済み
試料34は、受け具36をSa方向に回転させることに
より、試料取出しチャンバー30内に落下させることが
できる。Embodiment 3 FIG. 4 is a block diagram showing another embodiment of the thermal desorption gas analyzer of the present invention. In the present embodiment, the receiver 36 is attached to the upper part of the sample removal chamber 30, and the measured sample 34 is dropped on the receiver 36 using the sample moving mechanism 5 and temporarily stored. The measured sample 34 collected on the receiving member 36 can be dropped into the sample removal chamber 30 by rotating the receiving member 36 in the Sa direction.
【0027】したがって、本実施の形態では、ゲートバ
ルブ31を閉じた状態で測定し、試料取出しのときに、
ゲートバルブ31を開ける。ついで受け具36を回転さ
せて複数個の測定済み試料34を試料取出しチャンバー
30に移動させる。ついでゲートバルブ31を閉めてか
ら、試料取出しチャンバー30内をN2リークする。つ
ぎに試料廃棄バルブ32を開けて測定済み試料34を取
り出すことができる。Therefore, in the present embodiment, measurement is performed with the gate valve 31 closed, and when taking out a sample,
The gate valve 31 is opened. Next, the receiver 36 is rotated to move the plurality of measured samples 34 to the sample removal chamber 30. Next, after the gate valve 31 is closed, the inside of the sample removal chamber 30 is leaked with N 2 . Next, the sample disposal valve 32 is opened, and the measured sample 34 can be taken out.
【0028】前記受け具36は、測定済み試料34を保
管し易く、かつ、試料取出しチャンバー30にスムーズ
に移動できる形状であれば、本発明においては、とくに
限定されるものではないが、たとえば図5(a)に示さ
れるように、回転方向Saに開口を有するV字状の受け
具とすることができる。または図5(b)に示されるよ
うに、回転方向Saに開口を有する円錐状の受け具とす
ることもできる。受け具36を図5(a)または図5
(b)の受け具にすることにより、試料移動機構5で落
下された測定済み試料34が受け具36上に導かれるよ
うにするとともに、受け具36外に落下するのを防ぐこ
とができる。The receiving device 36 is not particularly limited in the present invention as long as it can easily store the measured sample 34 and can move smoothly into the sample extracting chamber 30. As shown in FIG. 5A, a V-shaped receiver having an opening in the rotation direction Sa can be provided. Alternatively, as shown in FIG. 5B, a conical receiver having an opening in the rotation direction Sa can be used. FIG. 5A or FIG.
By using the receiving device of (b), the measured sample 34 dropped by the sample moving mechanism 5 can be guided onto the receiving device 36 and can be prevented from falling out of the receiving device 36.
【0029】本実施の形態では、前記受け具36を用い
ることにより、試料取出しチャンバー30と加熱チャン
バー22とのあいだのゲートバルブ31を閉じた状態で
の測定ができるため、測定中にゲートバルブ31を開け
ることによる加熱チャンバー22内の真空度の低下を防
ぐことができる。In the present embodiment, by using the receiver 36, the measurement can be performed with the gate valve 31 between the sample removal chamber 30 and the heating chamber 22 closed. Can be prevented from lowering the degree of vacuum in the heating chamber 22 due to opening.
【0030】実施の形態4 本発明の他の昇温脱離ガス分析装置を説明する。本実施
の形態では、図6に示されるように、前記試料導入プレ
ート4が、試料挿入プレート37と、試料取出し用プレ
ート38と、両プレート37、38を連結するフレーム
40と、該フレーム40を操作する操作機構(図示せ
ず)とからなっている。まず図6(a)に示されるよう
に、前記試料挿入用プレート37には、次測定試料(測
定前試料)39を載せ、試料取出し用プレート38は空
の状態で加熱チャンバーに挿入する。ついで試料取出し
用プレート38は、試料ステージ2に接する状態とし
て、前記試料移動機構により測定済み試料34を試料取
出し用プレート38上に載せる。ついで図6(b)に示
されるように、前記操作機構によりフレーム40を下方
に回転させて、試料取出し用プレート38を試料挿入用
プレート37の下部に下げたのち、前記試料導入装置に
より試料導入プレート4を前進させる。そして試料挿入
用プレート37が試料ステージ2に接する状態にして、
次測定試料39を前記試料移動機構5により試料ステー
ジ2上に移動させる。Embodiment 4 Another thermal desorption gas analyzer according to the present invention will be described. In the present embodiment, as shown in FIG. 6, the sample introduction plate 4 includes a sample insertion plate 37, a sample removal plate 38, a frame 40 connecting the two plates 37 and 38, and a frame 40. And an operating mechanism (not shown) for operating. First, as shown in FIG. 6A, the next measurement sample (sample before measurement) 39 is placed on the sample insertion plate 37, and the sample removal plate 38 is inserted into the heating chamber in an empty state. Next, the sample removal plate 38 is placed in a state of being in contact with the sample stage 2, and the measured sample 34 is placed on the sample removal plate 38 by the sample moving mechanism. Then, as shown in FIG. 6 (b), the frame 40 is rotated downward by the operating mechanism to lower the sample removing plate 38 below the sample inserting plate 37, and then the sample introducing device introduces the sample. The plate 4 is advanced. Then, the sample insertion plate 37 is brought into contact with the sample stage 2, and
The next measurement sample 39 is moved onto the sample stage 2 by the sample moving mechanism 5.
【0031】本実施の形態では、図6に示される試料導
入プレート4を用いることにより、加熱チャンバーへの
試料挿入と試料取出しを同時に行なうことができる。In the present embodiment, the use of the sample introduction plate 4 shown in FIG. 6 allows simultaneous insertion and removal of a sample from the heating chamber.
【0032】[0032]
【発明の効果】以上のように、本発明の請求項1にかか
わる昇温脱離ガス分析装置は、加熱チャンバーの下部に
設けられる2個のバルブにより、加熱チャンバーと大気
とから隔離することができる試料取出しチャンバーを備
えているので、測定と同時にロードロックチャンバーで
次測定試料39の予備排気ができ、時間ロスなしで高真
空中での測定を実現できる。その結果、高真空下におけ
る高感度分析を効率的に行なうことができる。As described above, in the thermal desorption gas analyzer according to the first aspect of the present invention, the heating chamber and the atmosphere can be isolated from each other by the two valves provided below the heating chamber. Since the sample extraction chamber is provided, the next measurement sample 39 can be preliminarily evacuated in the load lock chamber simultaneously with the measurement, and the measurement in a high vacuum can be realized without time loss. As a result, high-sensitivity analysis under high vacuum can be performed efficiently.
【0033】また本発明の請求項2にかかわる昇温脱離
ガス分析装置は、前記試料取出しチャンバーに投入され
る測定済み試料が該試料取出しチャンバー外に落下する
のを防止するためのスロープを加熱チャンバー内に備え
ているので、測定済み試料が試料取出しチャンバー外に
落下することを防ぐことができる。In the thermal desorption gas analyzer according to a second aspect of the present invention, the slope for preventing the measured sample placed in the sample removal chamber from falling out of the sample removal chamber is heated. Since it is provided in the chamber, it is possible to prevent the measured sample from falling out of the sample removal chamber.
【0034】また本発明の請求項3にかかわる昇温脱離
ガス分析装置は、前記加熱チャンバー内の試料ステージ
の下部と前記試料取出しチャンバーの上部とのあいだ
に、測定済み試料を一時保管するための垂直方向に回転
する受け具を備えているので、試料取出しチャンバーと
加熱チャンバーとのあいだのゲートバルブを閉じた状態
での測定ができるため、測定ごとにゲートバルブを開け
ることによる加熱チャンバー内の真空度の低下を防ぐこ
とができる。In the thermal desorption gas analyzer according to a third aspect of the present invention, the measured sample is temporarily stored between a lower portion of the sample stage in the heating chamber and an upper portion of the sample removal chamber. The receiver is rotated vertically so that the measurement can be performed with the gate valve closed between the sample removal chamber and the heating chamber. A decrease in the degree of vacuum can be prevented.
【0035】さらに本発明の請求項4にかかわる昇温脱
離ガス分析装置は、ロードロックチャンバーから試料を
試料ステージ上に移動する試料導入装置が、測定前試料
と測定済み試料の両方の積載ができる試料導入プレート
を備えているので、該試料導入プレートにより試料取出
しと試料挿入を同時に行なうことができる。Further, in the thermal desorption gas analyzer according to a fourth aspect of the present invention, the sample introduction device for moving the sample from the load lock chamber onto the sample stage is capable of loading both the pre-measurement sample and the measured sample. Since the sample introduction plate is provided, sample removal and sample insertion can be performed simultaneously by the sample introduction plate.
【図1】 本発明の第1の実施の形態の昇温脱離分析装
置を示す構成図である。FIG. 1 is a configuration diagram illustrating a thermal desorption analyzer according to a first embodiment of the present invention.
【図2】 本発明の第1の実施の形態の昇温脱離ガス分
析装置における試料取出し方法の説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram of a sample removal method in the thermal desorption gas analyzer according to the first embodiment of the present invention.
【図3】 本発明の第2の実施の形態の昇温脱離ガス分
析装置における加熱チャンバーを示す構成図である。FIG. 3 is a configuration diagram showing a heating chamber in a thermal desorption gas analyzer according to a second embodiment of the present invention.
【図4】 本発明の第3の実施の形態の昇温脱離ガス分
析装置における加熱チャンバーを示す構成図である。FIG. 4 is a configuration diagram showing a heating chamber in a thermal desorption gas analyzer according to a third embodiment of the present invention.
【図5】 図4における受け具の例を示す斜視図であ
る。FIG. 5 is a perspective view showing an example of a receiver in FIG. 4;
【図6】 本発明の第4の実施の形態の試料導入プレー
トの構成と試料交換方法を説明する図である。FIG. 6 is a diagram illustrating a configuration of a sample introduction plate and a sample replacement method according to a fourth embodiment of the present invention.
【図7】 従来の昇温脱離ガス分析装置の一例を示す構
成図である。FIG. 7 is a configuration diagram illustrating an example of a conventional thermal desorption gas analyzer.
【図8】 図7における昇温脱離ガス分析装置の試料導
入プレートを示す構成図である。8 is a configuration diagram showing a sample introduction plate of the thermal desorption gas analyzer in FIG.
【図9】 図8における昇温脱離ガス分析装置の試料導
入プレートから試料ステージへの試料移動方法を説明す
る図である。9 is a diagram illustrating a method of moving a sample from a sample introduction plate to a sample stage in the thermal desorption gas analyzer in FIG.
【図10】 図8における昇温脱離ガス分析装置の試料
ステージから試料導入プレートへの試料移動方法を説明
する図である。10 is a diagram illustrating a method of moving a sample from a sample stage to a sample introduction plate of the thermal desorption gas analyzer in FIG.
1 透明石英ロッド、2 試料ステージ、4 試料導入
プレート、5 試料移動機構、6 ツメ、9 質量分析
計、11 ターボ分子ポンプ、12 ロータリーポン
プ、13 赤外線加熱ユニット、14 温度制御装置、
16 コンピューター、17 ゲートバルブ、18 試
料交換口、19 窒素パージバルブ、20 真空ゲー
ジ、21 ロードロックチャンバー、22 加熱チャン
バー、30 試料取出しチャンバー、31 ゲートバル
ブ、32 試料廃棄バルブ、33 窒素リークバルブ、
34 測定済み試料、35 スロープ、36 受け具、
37 試料挿入用プレート、38 試料取出し用プレー
ト、39 次測定試料(測定前試料)。Reference Signs List 1 transparent quartz rod, 2 sample stage, 4 sample introduction plate, 5 sample moving mechanism, 6 claws, 9 mass spectrometer, 11 turbo molecular pump, 12 rotary pump, 13 infrared heating unit, 14 temperature control device,
16 computer, 17 gate valve, 18 sample exchange port, 19 nitrogen purge valve, 20 vacuum gauge, 21 load lock chamber, 22 heating chamber, 30 sample removal chamber, 31 gate valve, 32 sample disposal valve, 33 nitrogen leak valve,
34 measured sample, 35 slope, 36 holder,
37 sample insertion plate, 38 sample removal plate, 39th measurement sample (sample before measurement).
Claims (4)
ーとを備えている昇温脱離ガス分析装置であって、前記
加熱チャンバーの下部に設けられる2個のバルブによ
り、加熱チャンバーと大気とから隔離することができる
試料取出しチャンバーを備えてなる昇温脱離ガス分析装
置。1. A thermal desorption gas analyzer comprising a load lock chamber and a heating chamber, wherein the heating chamber and the atmosphere are isolated from each other by two valves provided below the heating chamber. Temperature desorption gas analyzer equipped with a sample removal chamber capable of performing pressure reduction.
測定済み試料が該試料取出しチャンバー外に落下するの
を防止するためのスロープを前記加熱チャンバー内に備
えてなる請求項1記載の昇温脱離ガス分析装置。2. The thermal desorption according to claim 1, wherein a slope for preventing a measured sample put into the sample removal chamber from falling out of the sample removal chamber is provided in the heating chamber. Gas analyzer.
下部と前記試料取出しチャンバーの上部とのあいだに、
測定済み試料を一時保管するための垂直方向に回転する
受け具を備えてなる請求項1または2記載の昇温脱離ガ
ス分析装置。3. A method according to claim 1, wherein a portion between a lower portion of the sample stage in the heating chamber and an upper portion of the sample removing chamber is provided.
3. The thermal desorption spectrometer according to claim 1, further comprising a vertically rotating receiver for temporarily storing the measured sample.
ーとを備えている昇温脱離ガス分析装置であって、前記
ロードロックチャンバーから試料を試料ステージ上に移
動する試料導入装置が、測定前試料と測定済み試料の両
方の積載ができる試料導入プレートを備えており、該試
料導入プレートにより試料取出しと試料挿入を同時に行
なう昇温脱離ガス分析装置。4. A thermal desorption gas analyzer comprising a load lock chamber and a heating chamber, wherein the sample introduction device for moving a sample from the load lock chamber onto a sample stage comprises: A thermal desorption gas analyzer equipped with a sample introduction plate capable of loading both of a finished sample and simultaneously taking out and inserting a sample with the sample introduction plate.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11066617A JP2000258309A (en) | 1999-03-12 | 1999-03-12 | Programmed-temperature desorption gas analyzer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP11066617A JP2000258309A (en) | 1999-03-12 | 1999-03-12 | Programmed-temperature desorption gas analyzer |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000258309A true JP2000258309A (en) | 2000-09-22 |
Family
ID=13321046
Family Applications (1)
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---|---|---|---|
JP11066617A Pending JP2000258309A (en) | 1999-03-12 | 1999-03-12 | Programmed-temperature desorption gas analyzer |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000258309A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020507759A (en) * | 2017-12-04 | 2020-03-12 | エルジー・ケム・リミテッド | Automated sample pyrolysis equipment |
-
1999
- 1999-03-12 JP JP11066617A patent/JP2000258309A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020507759A (en) * | 2017-12-04 | 2020-03-12 | エルジー・ケム・リミテッド | Automated sample pyrolysis equipment |
US11614389B2 (en) | 2017-12-04 | 2023-03-28 | Lg Energy Solution, Ltd. | Automated apparatus for sample pyrolysis |
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