JP2000252389A - Integrated circuit having protrusion simulating solder ball and its manufacture - Google Patents
Integrated circuit having protrusion simulating solder ball and its manufactureInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、全般的に半導体デ
バイス及びプロセスの分野に関し、更に具体的に言え
ば、モールディングされた低コストのボール・グリッド
・アレイ及びチップ・スケール・パッケージと、はんだ
ボールを模擬する隆起部をつくる方法に関連する。FIELD OF THE INVENTION The present invention relates generally to the field of semiconductor devices and processes, and more particularly, to molded low cost ball grid arrays and chip scale packages, and solder balls. The method relates to a method of forming a ridge that simulates the following.
【0002】[0002]
【従来の技術及びその課題】18ヶ月毎にその製品の機
能的な複雑度を2倍にする半導体技術の傾向(ムーアの
法則)は、ここ30年にわたって業界を支配した後の今
日でも、依然として有効であるが、幾つかの暗黙の含意
を持っている。第1に、機能性を2倍にした製品のコス
トが僅かだけ増加するようにして、機能ユニット当りの
コストが複雑度の世代毎に低下すべきである。第2に、
一層高い製品の複雑度は、パッケージの寸法を一定に保
ったまま、主にチップ部品の特徴寸法を縮めることによ
って達成されるようにすべきである。好ましくは、パッ
ケージも縮めるべきである。第3に、高めた機能的な複
雑度と並行して、製品の信頼性も同等に高めるべきであ
る。第4に、と言って大事さが劣る訳ではないが、アプ
リケーションに対して最も融通性のある製品を提供する
とともに、複雑度の目標の達成の点で市場で先行するも
のに、最上の経済的な利益の褒美が約束されている。プ
ラスチックのボール・グリッド・アレイ(BGA)及び
チップ・スケール・パッケージ(CSP)はここ数年で
非常に普及しているが、それらは、多数の欠点のため
に、ムーアの法則を表す傾向に完全に従うには制約があ
る。プラスチック材料の含有量が多いため、並びに製造
プロセス工程の数が一定であるために、BGA及びCP
Sのコストを下げることが困難であることがわかった。
プラスチックのBGA及びCSPの信頼性は、熱−機械
的な応力による影響され易さ並びに湿気の吸収によって
悪くなる。顧客の要求に合わせてパッケージの設計を調
節するのが困難である。そのため、パッケージの設計
は、全般的なアプリケーションの傾向を一層小さなパッ
ケージの外形及び一層薄手のプロファイルに合わせる程
の融通性がない。既知の技術は、リード数(又ははんだ
ボールの数)が多いデバイスに対するBGA及びCSP
パッケージの設計及びプロセスを開発することに関心を
集中していて、リード(又ははんだボール)の数が一層
少ない場合のBGA及びCSPの特定の需要を無視して
いる。従って、巨大なアプリケーション市場で、特には
んだボールの数が少ないことを必要とする機会があるの
に、それに気付かない。現状では、ピン数の少ないプラ
スチック・パッケージは、打抜き又はエッチングによる
リードフレームを使っている。こういうリードフレーム
がこういうパッケージにおける主要材料費である。プラ
スチックのBGA及びCSPは、半導体チップを取付け
る基板としてパターンぎめしたポリイミド・フィルムを
使う。こういうフィルムが、こういうパッケージの主要
材料費である。更に、はんだボール(又はバンプ)をパ
ッケージに取付けるために現在の技術で使われている方
式は、ボールの接着力、ボールが抜けること、又はボー
ルがダブることに関係する問題のために不満足である。
使われる製造プロセスと必要とされる検査が、コストの
削減を邪魔している。BACKGROUND OF THE INVENTION The trend in semiconductor technology (Moore's Law) to double the functional complexity of its products every 18 months still exists today after dominating the industry for the last 30 years. It is valid, but has some implicit implications. First, the cost per functional unit should decrease with each generation of complexity, so that the cost of a doubled product increases only slightly. Second,
Higher product complexity should be achieved mainly by reducing the feature dimensions of the chip components, while keeping the package dimensions constant. Preferably, the package should also be shrunk. Third, along with the increased functional complexity, the reliability of the product should be increased as well. Fourth, while not less important, it offers the most flexible product for the application and the best economy in the market in terms of achieving complexity goals. Rewards for profits are promised. Although plastic ball grid arrays (BGAs) and chip scale packages (CSPs) have become very popular in recent years, they have been completely obscured by Moore's Law due to a number of drawbacks. There are restrictions to follow. Due to the high content of plastic materials and the constant number of manufacturing process steps, BGA and CP
It has been found that it is difficult to reduce the cost of S.
The reliability of plastic BGAs and CSPs is compromised by their susceptibility to thermo-mechanical stresses and moisture absorption. It is difficult to adjust the package design to customer requirements. As a result, the package design is not as versatile as to adapt the general application trends to smaller package geometries and thinner profiles. Known techniques include BGA and CSP for devices with a large number of leads (or number of solder balls).
The focus is on developing package designs and processes, ignoring the specific demands of BGA and CSP when the number of leads (or solder balls) is smaller. Thus, there is an opportunity in a huge application market, especially when there is a need for a low number of solder balls, but it is unnoticed. At present, low pin count plastic packages use stamped or etched lead frames. Such a lead frame is the main material cost in such a package. Plastic BGAs and CSPs use patterned polyimide films as substrates for mounting semiconductor chips. Such a film is the main material cost of such a package. Further, the scheme used in current technology for attaching solder balls (or bumps) to a package is unsatisfactory due to problems associated with ball adhesion, ball detachment, or ball duplication. .
The manufacturing processes used and the required inspections are hindering cost savings.
【0003】[0003]
【課題を達成するための手段及び作用】本発明に従っ
て、集積回路(IC)デバイスに対し、はんだボールを
模擬するのに適当な寸法及び形の隆起部を形成するよう
デバイスを封止するモールディング・プロセスが用いら
れ、これらの隆起部は、それらがICチップの入力/出
力端子に電気的に接続される導電性ではんだ付け可能な
面を有するように構成される。本発明は、高密度IC、
特に入力/出力又はボンド・パッドの数が少ないか中く
らいであるものに関し、更に、ワイヤ・ボンディングに
よってそれらが通常接続される導電性又は金属基板を用
いるデバイス、及び小さなパッケージ外形及び低プロフ
ァイルを必要とするデバイスに関する。これらのIC
は、プロセッサ、デジタル及びアナログ・デバイス、ミ
ックスド・シグナル及びスタンダード・リニア及びロジ
ック製品、電話、RF及び通信デバイス、インテリジェ
ント・パワー・デバイス、及び大面積及び小面積の両方
のチップ・カテゴリーなど多くの半導体デバイス・ファ
ミリに見られる。この発明により、セルラー通信、ペー
ジャ、ハードディスクドライブ、ラップトップ・コンピ
ュータ、及び医療機器などの用途におけるビルトイン品
質及び信頼性が保証される。本発明は、半導体アッセン
ブリ及びパッケージ技術において通常実施されている基
本的なプロセス工程の幾つかの材料の変更および幾つか
の簡略化を提供し、大幅な製造コスト削減が達成されよ
うにする。チップは、約10から75μmの範囲の厚さ
の薄い箔として提供される基板の上に取付けられる。こ
の厚さの範囲では、箔が、従来のトランスファ・モール
ディング・プロセスの間の圧力に応答し、モールド・キ
ャビティの鋼壁にあてつけられ、その壁の面の輪郭に滑
らかに整合する。こうして、はんだ付け可能な面を有す
る導電性材料の小山がつくられ、それらははんだ「ボー
ル」を模擬し、はんだ接合に用いられ得る。もとの平坦
な形状から湾曲した形状に変わるために、或る箔材料が
伸びることのできる量は、この発明によって決定されて
いる。ボールを模擬する隆起部は、厚さ約30から40
μmのアニールした銅箔を用いて、約150から230
μmの高さにつくることができる。本発明の一面は、種
々の異なるボール・グリッド・アレイ及びチップ・スケ
ール・パッケージ、特に「ボール」数が約4から80の
ものに適用できることである。最も頻繁に用いられる範
囲は、「ボール」数が約8から48である。SUMMARY OF THE INVENTION In accordance with the present invention, there is provided a molding device for sealing an integrated circuit (IC) device to form a ridge of a size and shape suitable for simulating a solder ball. A process is used, wherein the ridges are configured such that they have a conductive, solderable surface that is electrically connected to the input / output terminals of the IC chip. The present invention provides a high density IC,
Especially for those with low or medium number of input / output or bond pads, furthermore, need devices with conductive or metal substrates to which they are usually connected by wire bonding, and small package outline and low profile And about the device. These ICs
Include many products such as processors, digital and analog devices, mixed signal and standard linear and logic products, telephones, RF and communications devices, intelligent power devices, and both large and small area chip categories. Found in the semiconductor device family. The present invention ensures built-in quality and reliability in applications such as cellular communications, pagers, hard disk drives, laptop computers, and medical devices. The present invention provides for some material changes and some simplifications of the basic process steps commonly performed in semiconductor assembly and packaging technology, so that significant manufacturing cost savings are achieved. The chip is mounted on a substrate provided as a thin foil with a thickness in the range of about 10 to 75 μm. In this thickness range, the foil responds to the pressure during the conventional transfer molding process and is applied to the steel wall of the mold cavity and smoothly conforms to the contour of the wall surface. In this way, mounds of conductive material having solderable surfaces are created, which simulate solder "balls" and can be used for solder joints. The amount by which a foil material can stretch to change from its original flat shape to a curved shape is determined by the present invention. The bump simulating the ball has a thickness of about 30 to 40
Approximately 150 to 230 using μm annealed copper foil
It can be made to a height of μm. One aspect of the present invention is that it can be applied to a variety of different ball grid arrays and chip scale packages, especially those having a "ball" number of about 4 to 80. The most frequently used range is about 8 to 48 "balls".
【0004】本発明の別の一面は、高周波数用途の製品
において低い「リード」インダクタンスを生成する技術
を提供することである。本発明の別の一面は、パッケー
ジを兼ねる、ボールを模擬する隆起部を生成することに
より、予め製造したはんだボールをデバイス・パッケー
ジに配置する困難さをなくすことである。本発明の別の
一面は、モールディング・コンパウンドと、外界との電
気的接点として用いられる金属箔との間の接着力を改善
することにより、パッケージの信頼性を高めることであ
る。本発明の別の一面は、全体のプロファイルが一層低
く、外形が一層小さいパッケージに向かう傾向に寄与
し、それによってデバイス空間の節約に寄与するような
製造工程を導入することである。本発明の別の一面は、
プロセスを簡略にすることによって製品の品質を改善す
ると共に、熱−機械的応力を制御し、湿気の吸収を最小
限にし、余分のコストをかけずに全般的なイン・プロセ
ス管理をすることにより、信頼性の保証を高めることで
ある。本発明の別の一面は、薄いプロファイルのパッケ
ージに対し、それを半導体製品の多くのファミリに適用
できるように融通性があるものにすると共に、それらを
将来の何世代かの製品に適用できるように一般的である
ようなアッセンブリの考えを導入することである。これ
らの側面が、量産に適した方法に関する本発明の教示に
よって達成される。製品のジオメトリと材料の異なる選
択を満たすため、種々の変更がうまく用いられている。
本発明の一実施例では、ボールを模擬する隆起部の寸法
と、これに従って、この隆起部を達成するのに必要な箔
材料の伸びを用いて、或る低いプロファイルのデバイス
をつくる。本発明の別の実施例では、隆起部の数及び模
擬された「ボール」の行の配列を用いて、小さな外形の
或るボール・グリッド・アレイ及びチップ・スケール・
パッケージのデバイスをつくる。本発明が表わす技術的
な進歩及びそのいろいろな面は、添付の図面及び特許請
求の範囲に記載された新規の特徴に関連して考慮すれ
ば、本発明の好ましい実施例の以下の説明により明らか
となろう。[0004] Another aspect of the present invention is to provide a technique for producing low "lead" inductance in products for high frequency applications. Another aspect of the present invention is to eliminate the difficulty of placing pre-manufactured solder balls in a device package by creating bumps that simulate balls, also serving as packages. Another aspect of the present invention is to improve the reliability of the package by improving the adhesion between the molding compound and the metal foil used as an electrical contact with the outside world. Another aspect of the present invention is to introduce a manufacturing process that contributes to the trend toward lower profile, smaller profile packages, thereby conserving device space. Another aspect of the present invention is:
Improve product quality by simplifying the process, control thermo-mechanical stresses, minimize moisture absorption, and provide overall in-process management without extra cost. , To increase reliability assurance. Another aspect of the invention is to make thin-profile packages flexible so that they can be applied to many families of semiconductor products, and to enable them to be applied to future generations of products. Introducing the idea of assembly that is common in These aspects are achieved by the teachings of the present invention on a method suitable for mass production. Various modifications have been successfully used to satisfy different choices of product geometry and materials.
In one embodiment of the present invention, a low profile device is created using the dimensions of the ridge simulating a ball and, accordingly, the stretch of foil material required to achieve this ridge. In another embodiment of the present invention, using a number of bumps and an array of simulated "ball" rows, some ball grid arrays of small geometries and chip scale
Make packaged devices. The technical advances represented by the present invention and its various aspects will become apparent from the following description of preferred embodiments of the invention, when considered in conjunction with the accompanying drawings and the novel features set forth in the appended claims. Let's be.
【0005】[0005]
【実施例】本発明は、小さな外形及び低プロファイルの
ボール・グリッド・アレイ(BGA)及びチップ・スケ
ール(CSP)パッケージを有する集積回路(IC)に
関連する。ここで定義するように、「外形」という言葉
は、この発明のICパッケージの全体の幅及び長さに関
する。パッケージの外形はそのパッケージの底面積(fo
otprint)も指す。これは、それが、配線ボード又はア
ッセンブリ・ボード上でパッケージが占める表面積を定
めるためである。「チップ・スケール・パッケージ」と
いう言葉には2つの意味がある。第1の意味では、パッ
ケージは、チップ面積を20%未満だけ増やすような外
形を持っている。チップ自体の寸法しか持たないチップ
・スケール・パッケージは、「チップ・サイズ・パッケ
ージ」と呼ばれることがある。第2の意味では、「チッ
プ・スケール・パッケージ」は、単に小さい寸法のBG
Aを指す。「プロファイル」という言葉は、ICパッケ
ージの厚さ又は高さを指す。この定義は、ボードに取付
けた状態でリフローする前のはんだボールの高さを含ま
ない。この明細書で用いるはんだ「ボール」という言葉
は、はんだ接点が必ずしも球形であることを意味しな
い。これらは、半球形、半ドーム型、切頭円錐形、又は
全般的なバンプなど様々な形状であってもよい。正確な
形は、デポジション方式(蒸着、めっき、又は予め製造
したユニットなど)、及びリフロー方式(赤外線又は放
射熱など)、及び材料の組成の関数である。材料の量及
びリフロー温度の一様性を制御することによって、幾何
学的な形の一貫性を達成するための幾つかの方法を用い
ることができる。はんだ「ボール」は、鉛/錫混合物又
は導電性の接着性コンパウンドで構成され得る。本発明
の好ましい実施例として、図1Aから図1Cは、40個
の接続部を持つ場合の方形のBGAの異なる図を示す。
図1Aは、パッケージの上面図で、全体的に平坦な面1
03を形成するプラスチック封止材料101(典型的に
はトランスファ・モールディング・プロセスで通常用い
られるようなエポキシ・ベースの熱硬化性材料)を示
す。図1Aの例の辺長102は8.0mmであるが、本発
明は、方形又は矩形の外形を持ち、辺長が約4.0から
12.0mmの範囲のBGA及びCSPデバイスに容易に
適用できる。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to an integrated circuit (IC) having a small profile and low profile ball grid array (BGA) and chip scale (CSP) package. As defined herein, the term "outline" relates to the overall width and length of the IC package of the present invention. The package outline is determined by the package bottom area (fo
otprint). This is because it determines the surface area occupied by the package on the wiring board or assembly board. The word "chip-scale package" has two meanings. In a first sense, the package has an outer shape that increases the chip area by less than 20%. A chip scale package having only the dimensions of the chip itself is sometimes called a "chip size package". In a second sense, "chip-scale packages" are simply small-sized BGs.
Point to A. The term "profile" refers to the thickness or height of an IC package. This definition does not include the height of the solder balls before reflow when mounted on the board. As used herein, the term solder "ball" does not mean that the solder contacts are necessarily spherical. These may be of various shapes, such as hemispherical, semi-dome-shaped, frusto-conical, or general bumps. The exact shape is a function of the deposition scheme (such as evaporation, plating, or pre-fabricated units), and the reflow scheme (such as infrared or radiant heat), and the composition of the material. By controlling the amount of material and uniformity of the reflow temperature, several methods can be used to achieve geometric shape consistency. The solder "balls" may be composed of a lead / tin mixture or a conductive adhesive compound. As a preferred embodiment of the present invention, FIGS. 1A to 1C show different views of a rectangular BGA with 40 connections.
FIG. 1A is a top view of the package, showing a generally flat surface 1.
3 shows a plastic encapsulant 101 (typically an epoxy-based thermosetting material as commonly used in transfer molding processes) forming 03. Although the side length 102 in the example of FIG. 1A is 8.0 mm, the present invention is easily applied to BGA and CSP devices having a square or rectangular outer shape and a side length in the range of about 4.0 to 12.0 mm. it can.
【0006】図1Bは、同じBGAの側面図であり、一
部分を断面で示す。パッケージは、全体的に平坦な上面
103及び全体的に平坦な下面116を有する。パッケ
ージの厚さ114は、この例では1.0mmである。断面
(陰の部分115)が示すように、モールディングされ
たプラスチック111は、全体的に平坦な下面116か
ら突き出る全ての隆起部112に入り込む。これらの隆
起部112が、デバイスの封止に用いられるのと同じプ
ラスチック・モールディング・プロセスで形成されると
いうことが、本発明の主要な一面である。これらの隆起
部112は、球の一部分として形作ることができ、この
ためはんだ「ボール」の一部分を模擬し得る。このた
め、これらは「小山」と呼ばれ得る。隆起部112のそ
の他の形としては、切頭円錐、又は切頭角錐、又は現在
製造することのできる任意のその他の3次元の形状が含
まれる。図1Bは、全体的に113で示すこれらの小山
の幾つかのアレイを示す。この小山のメタライゼーショ
ン117及びその厚さ117aは図2で更に詳しく説明
する。BGAパッケージの底面図では、図1Cが、従来
のBGAではんだボールがそうなっているように配置さ
れた2列のこれらの小山121を示す。図1Cの例で
は、合計40個の小山がある。本発明は任意の数の小山
に用いることができるが、好ましい数は4から80であ
る。図1Cの例では、小山の間のピッチ122は1.0
mmであり、小山の間の間隔123は幅が20から200
μmであり得る。本発明は、電気的接続を提供しない
「ダミー」の小山をつくることを含めて、小山の任意の
配置に用いることができる。小山の更なる詳細及び電気
的作用が図2に略図で説明されており、この図は、図1
Bの例のBGAの一部分の断面を示す。モールディング
・プロセス中にモールディング・コンパウンド201に
加えられる圧力が、小山202を形成する。小山の高さ
203は約0.1から0.25mmの範囲であり、半球形
の底面の直径204は約0.5から0.75mmである。FIG. 1B is a side view of the same BGA, partially shown in cross section. The package has a generally flat upper surface 103 and a generally flat lower surface 116. The package thickness 114 is 1.0 mm in this example. As shown by the cross-section (shaded portion 115), the molded plastic 111 penetrates all ridges 112 protruding from the generally flat lower surface 116. It is a major aspect of the present invention that these ridges 112 are formed in the same plastic molding process used to encapsulate the device. These ridges 112 may be shaped as part of a sphere, and thus may simulate a part of a solder "ball". For this reason, they may be referred to as "hills". Other shapes for the ridge 112 include truncated cones, or truncated pyramids, or any other three-dimensional shape that can be manufactured today. FIG. 1B shows several arrays of these mounds, indicated generally at 113. The hill metallization 117 and its thickness 117a are described in more detail in FIG. In a bottom view of the BGA package, FIG. 1C shows two rows of these ridges 121 arranged as solder balls in a conventional BGA. In the example of FIG. 1C, there are a total of 40 mounds. Although the present invention can be used with any number of mounds, the preferred number is from 4 to 80. In the example of FIG. 1C, the pitch 122 between the hills is 1.0
mm, and the interval 123 between the hills is 20 to 200 in width.
μm. The present invention can be used in any arrangement of mounds, including making "dummy" mounds that do not provide electrical connection. Further details and electrical effects of the hill are illustrated schematically in FIG.
3B shows a cross section of a portion of the BGA of Example B. The pressure applied to the molding compound 201 during the molding process forms a ridge 202. The ridge height 203 ranges from about 0.1 to 0.25 mm, and the hemispherical bottom diameter 204 is about 0.5 to 0.75 mm.
【0007】小山の外側が導電性ではんだ付け可能な面
205を持つことが、この発明にとって枢要である。そ
れは、約10から75μmの範囲の厚さ206を持つ金
属箔で構成される。金属箔の好ましい厚さの範囲は約3
0から40μmである。この箔は、銅、銅合金、鉄ニッ
ケル合金、アルミニウム、鋼、及びアンバーから成る群
から選択された材料でつくることができる。適当な銅及
び銅合金の箔が、例えば米国コネチカット州ウォータバ
リーのオーリン・コーポレーションによって製造されて
いる。小山の外側に向いた、箔のはんだ付け可能な面
は、銅、ニッケル、パラジウム、銀、金、及び白金から
成る群から選択される。別の選択として、錫−鉛、錫−
銀、錫−インジウム、及びその他のはんだ合金のデポジ
ット層が小山の外側を覆っていてよい。好ましい実施例
は、マザーボートへの接合のための、きれいな銅及び高
度に活性化したはんだペーストである。材料の選択は、
用いられるはんだリフロー方式(例えば、時間−温度プ
ロセス、はんだペースト又はフラックスの有効性)によ
る。図2は、小山202が、ワイヤ・ボンド207によ
って集積回路の端子に電気的に接続されることを示す
(図3Aから図3Dも参照)。通常行われているワイヤ
・ボンディング方式の後、ボンディング・ワイヤのステ
ッチを小山の金属に取付け、ボンディング・ワイヤのボ
ールをICチップの端子(接点パッド)に取付ける。電
気的に分離するため、小山を覆う金属箔は互いに機械的
に分離しなければならない。これは、溝208で示され
ており、例えば、鋸の刃(saw blade)を用いて機械的
に切断することによってつくられる(幅は約130から
170μm)。半球形の小山は、モールディング・コン
パウンドと金属箔との間の接着面積をかなり増加させ
る。結果として、接着強度が著しく増強され、本発明に
よってつくられたパッケージは、応力又は湿気による層
間剥離の惧れがかなり小さくなる。図3Aから図3D
は、本発明に従ったICデバイスの製造方法を示す。図
3Aは、全体を300で示すモールドを切った簡略断面
図であり、モールドの上半分301、下半分302、及
びキャビティ303を示す。下半分302は、複数の窪
み305を含む全体的に平坦な面の輪郭を特徴としてい
る。これらの窪みは、封止するデバイス上にはんだボー
ルを模擬するモールディングされた隆起部をつくる目的
に見合った寸法及び形を有する。窪み305の縁305
aは、尖った縁を避けるため研磨される。これらの窪み
は、半球形、切頭円錐形、切頭角錐形、及び低コストで
モールドの鋼につくることが可能な関連するジオメトリ
から成る群から選択される形を有し得る。It is essential to the invention that the outside of the mound has a conductive, solderable surface 205. It is composed of a metal foil having a thickness 206 in the range of about 10 to 75 μm. The preferred thickness range for the metal foil is about 3
0 to 40 μm. The foil can be made of a material selected from the group consisting of copper, copper alloys, iron nickel alloys, aluminum, steel, and amber. Suitable copper and copper alloy foils are manufactured, for example, by Olin Corporation of Waterbury, Connecticut, USA. The solderable surface of the foil, facing the outside of the mound, is selected from the group consisting of copper, nickel, palladium, silver, gold, and platinum. Another option is tin-lead, tin-
Deposit layers of silver, tin-indium, and other solder alloys may cover the outside of the mound. The preferred embodiment is clean copper and a highly activated solder paste for joining to a motherboard. The choice of material is
Depending on the solder reflow method used (eg, time-temperature process, effectiveness of solder paste or flux). FIG. 2 shows that ridge 202 is electrically connected to terminals of the integrated circuit by wire bonds 207 (see also FIGS. 3A-3D). After the usual wire bonding method, the stitch of the bonding wire is attached to the metal of the hill, and the ball of the bonding wire is attached to the terminal (contact pad) of the IC chip. In order to be electrically separated, the metal foil covering the ridge must be mechanically separated from each other. This is indicated by groove 208 and is made, for example, by mechanical cutting using a saw blade (approximately 130 to 170 μm in width). The hemispherical hills significantly increase the bonding area between the molding compound and the metal foil. As a result, the bond strength is significantly enhanced and the package made according to the present invention is much less prone to stress or moisture delamination. 3A to 3D
Shows a method for manufacturing an IC device according to the present invention. FIG. 3A is a simplified cross-sectional view of a mold, generally designated 300, showing an upper half 301, a lower half 302, and a cavity 303 of the mold. The lower half 302 features a generally flat surface profile including a plurality of depressions 305. These recesses have a size and shape suitable for the purpose of creating molded bumps simulating solder balls on the device to be sealed. Edge 305 of depression 305
a is polished to avoid sharp edges. These depressions may have a shape selected from the group consisting of hemispheres, truncated cones, truncated pyramids, and related geometries that can be made to the steel of the mold at low cost.
【0008】図3Aは、キャビティ303が、予め組立
てられたICチップ306を保持することを示す。本発
明の別の実施例において、複数のICチップ及び/又は
その他の電子部品を予め組立てることができる。チップ
306は、導電性のあるシート状基板307の第1の面
307a上に取付けられる。本発明に従って、この基板
は、厚さ約10から75μmの金属箔であることが好ま
しい。基板307の第2の面307bは、それがはんだ
付け可能になるようにつくられる。チップの取付けは、
接着性エポキシ又はポリイミド・フィルムによって行わ
れる。チップ306の入力/出力端子は、好ましくはワ
イヤ308によって、基板307に接続される。典型的
には、ワイヤ308は、ボール・ボンディングによって
チップ端子に接続され、ステッチ・ボンディングによっ
て基板に接続されるが、ワイヤの両端のウェッジ・ボン
ディングでも代替し得る。基板の上に予め組立てられた
チップが、モールドの下半分302の上に配置され、ワ
イヤが基板307上に溶接された位置309が、モール
ドの下半分の窪み305のそれぞれの位置に関して整合
される。この整合は、図3Bに示すように、全体的に3
10として示す。その後、モールドを閉じる(図3B参
照)。図3Cに示すように、そのキャビティが材料で満
たされるまで、封止材料311がキャビティ303に圧
入される。好ましくは、エポキシ・ベースのモールディ
ング・コンパウンドと共に、確立されたトランスファ・
モールディング工程及び制御が用いられる(トランスフ
ァ温度は、通常は約170から180℃であり、トラン
スファ時間は、約6から18秒である)。典型的なラム
圧力は約500から700psiの範囲であり、これによ
って、モールド・キャビティに(キャビティの寸法によ
るが)約800から1600psiの圧力が発生する。こ
の発明では、モールディング・プロセス及びこれらの圧
力で、箔307は、モールドの下半分302の面の輪郭
に対して、特にモールドの窪み305に対して当てつけ
られることが重要である。その後、モールディング温度
を低下させておく。約90から130秒以内に、モール
ディング・コンパウンドは凝固し、少なくとも部分的に
重合して、モールドを開くことができるようになる。こ
うして、凝固した封止材料の本体に、小山の外面が箔3
07によって取り囲まれたモールディングされた小山3
12が生成される。図3Cに示すように、各々の小山
は、それをチップ306のそれぞれの端子に接続するワ
イヤ・ボンドを有する。FIG. 3A shows that cavity 303 holds pre-assembled IC chip 306. In another embodiment of the present invention, multiple IC chips and / or other electronic components can be pre-assembled. The chip 306 is mounted on the first surface 307a of the conductive sheet-like substrate 307. According to the invention, this substrate is preferably a metal foil having a thickness of about 10 to 75 μm. The second side 307b of the substrate 307 is made so that it can be soldered. Tip mounting
This is done with an adhesive epoxy or polyimide film. The input / output terminals of chip 306 are connected to substrate 307, preferably by wires 308. Typically, the wires 308 are connected to the chip terminals by ball bonding and to the substrate by stitch bonding, but wedge bonding at both ends of the wires could be substituted. A chip pre-assembled on the substrate is placed on the lower half 302 of the mold, and the locations 309 where the wires are welded on the substrate 307 are aligned with respect to the respective positions of the recesses 305 in the lower half of the mold. . This alignment, as shown in FIG.
Shown as 10. Thereafter, the mold is closed (see FIG. 3B). As shown in FIG. 3C, sealing material 311 is pressed into cavity 303 until the cavity is filled with material. Preferably, with an epoxy-based molding compound, an established transfer
Molding steps and controls are used (transfer temperature is usually about 170-180 ° C., transfer time is about 6-18 seconds). Typical ram pressures range from about 500 to 700 psi, which creates a pressure in the mold cavity of about 800 to 1600 psi (depending on the dimensions of the cavity). In the present invention, it is important that in the molding process and at these pressures, the foil 307 is applied to the contour of the face of the lower half 302 of the mold, in particular to the recess 305 of the mold. Thereafter, the molding temperature is lowered. Within about 90 to 130 seconds, the molding compound solidifies and at least partially polymerizes so that the mold can be opened. Thus, the outer surface of the hill is covered with the foil 3 on the solidified sealing material body.
Molded hill 3 surrounded by 07
12 is generated. As shown in FIG. 3C, each mound has a wire bond connecting it to a respective terminal of chip 306.
【0009】上述のように、小山の形成により、モール
ディング・コンパウンドと小山の箔との間の表面積はか
なり増加し、その結果、モールディング・コンパウンド
と金属箔の間の接着力が増強され、これは、完成された
デバイスの応力及び湿気に対する影響され易さを少なく
し、その信頼性を高める。図3Dは、完成されたデバイ
スを全体的に320で示す。このデバイスでは、小山3
12は、開口313によって互いに電気的に分離され
る。これらの開口は、高速鋸、集束レーザ、高圧液体ジ
ェット、又は任意のその他の低コストの方式で切断され
得る。小山の形成により、導電性の箔をダイシング動作
中生じる高剪断帯(high-shear zone)から離し、それ
により製造されるデバイスを高品質にすることができる
ことが、本発明の重要な利点である。キャビティ303
の中に1つより多くのユニットを配置する場合、それら
のユニットは、典型的には、(垂直の)縁314に沿っ
てのこ引きすることによって、互いに機械的に単独にす
ることができる。この方法により、従来のはんだボール
を模擬するとともにはんだ付け可能な面315を有する
小山312を持つ、320に示したのと同様な複数個の
デバイスを低コストの方法で製造することができる。図
3Dでは、直径316及び高さ317によって表される
小山312の寸法は、主に金属箔307の機械的な性質
によって決定される。適当な微細結晶特性及び機械的及
び熱的な経歴があれば、厚さ約30から40μmの銅箔
は、約15から22%伸びることができる。これは、約
0.7mmの所望の小山の直径に対し、約0.2mmの小山
の高さを達成することができることを意味する。この高
さにすると、全体の厚さの中に「ボール」の高さを含む
1.0mmのプロファイルを持つBGA及びCSPデバイ
スを製造することができる。この発明を図示の実施例に
ついて説明したが、この説明はこの発明を制約する意味
に解してはならない。種々の変更及び図示の実施例の組
合せ、並びにこの発明のその他の実施例は、以上の説明
を参照すれば当業者に明らかであろう。例えば、半導体
チップの材料は、シリコン、シリコン・ゲルマニウム、
砒化ガリウム、又は製造に使われる任意のその他の半導
体材料で構成されてもよい。別の例として、適当に可撓
性を持つ箔を使うことにより、「ボール」を模擬するモ
ールディングされた隆起部の形を細長い構造に変えるこ
とができる。従って、特許請求の範囲は、このようなあ
らゆる変更又は実施例を含むことを承知されたい。[0009] As mentioned above, the formation of the mound significantly increases the surface area between the molding compound and the mound foil, thereby increasing the adhesion between the molding compound and the metal foil, Reduce the susceptibility of the completed device to stress and moisture and increase its reliability. FIG. 3D shows the completed device generally at 320. In this device, Koyama 3
12 are electrically separated from one another by openings 313. These apertures can be cut with a high speed saw, focused laser, high pressure liquid jet, or any other low cost manner. It is an important advantage of the present invention that the formation of the ridges allows the conductive foil to be separated from the high-shear zone created during the dicing operation, thereby resulting in high quality devices manufactured. . Cavity 303
If more than one unit is placed in the units, they can typically be mechanically isolated from each other by sawing along edge (vertical) 314 . In this manner, a plurality of devices similar to that shown at 320, simulating conventional solder balls and having mounds 312 having solderable surfaces 315, can be manufactured in a low cost manner. In FIG. 3D, the size of the ridge 312 represented by the diameter 316 and the height 317 is determined mainly by the mechanical properties of the metal foil 307. With appropriate microcrystalline properties and mechanical and thermal history, a copper foil about 30 to 40 μm thick can grow about 15 to 22%. This means that for a desired ridge diameter of about 0.7 mm, a ridge height of about 0.2 mm can be achieved. At this height, BGA and CSP devices can be manufactured with a 1.0 mm profile that includes the height of the "ball" in the overall thickness. Although the invention has been described with reference to the illustrated embodiments, this description should not be construed as limiting the invention. Various modifications and combinations of the illustrative embodiments, as well as other embodiments of the invention, will be apparent to persons skilled in the art upon reference to the description. For example, the material of the semiconductor chip is silicon, silicon germanium,
It may be composed of gallium arsenide, or any other semiconductor material used in manufacturing. As another example, by using a suitably flexible foil, the shape of the molded ridge simulating a "ball" can be changed to an elongated structure. It is therefore intended that the appended claims encompass any such modifications or embodiments.
【0010】以上の説明に関し、更に以下の項目を開示
する。 (1) 半導体デバイスであって、少なくとも1つの入
力/出力端子を有する集積回路チップ、前記チップの周
りをモールディングする封止材料の本体であって、はん
だボールを模擬するのに適当な寸法及び形を有する少な
くとも1つの小山を含む全体的に平坦な面を形成する基
板と、前記端子に接続される導電性ではんだ付け可能な
面を有する前記小山とを含む半導体デバイス。 (2) 第1項に記載のデバイスであって、更に、前記
小山に取付けられるはんだの層を有するデバイス。 (3) 第1項に記載のデバイスであって、前記小山は
直径が約0.5から0.75mmで高さが約0.1から
0.25mmの寸法を有するデバイス。 (4) 第1項に記載のデバイスであって、前記小山の
前記導電性の面は、約10から75μmの厚さを有する
金属箔を含むデバイス。 (5) 第4項に記載のデバイスであって、前記小山の
前記導電性の面は、約30から40μmの厚さを有する
金属箔を含むデバイス。 (6) 第4項に記載のデバイスであって、前記箔は、
銅、銅合金、鉄ニッケル合金、アルミニウム、鋼、及び
アンバーから成る群から選択された材料を含むデバイ
ス。 (7) 第6項に記載のデバイスであって、前記箔は、
更に、銅、ニッケル、パラジウム、銀、金、白金、錫−
鉛、錫−銀、錫−インジウム及びその他のはんだ合金か
ら成る群から選択された前記小山の前記外側に向いたは
んだ付け可能な面を有するデバイス。 (8) 第1項に記載の半導体デバイスにおいて、前記
小山の前記導電性の面が、ある長さのボンディング・ワ
イヤによって前記チップ端子に接続されており、前記長
さの1端が前記面に取付けられ、他端が前記端子に取付
けられている半導体デバイス。 (9) 第1項に記載の半導体デバイスにおいて、前記
小山が半球形、切頭円錐形、及び切頭角錐形から成る群
から選択された形を有する半導体デバイス。 (10) 第1項に記載の半導体デバイスにおいて、前
記小山が、前記チップを封止するためのモールディング
・プロセスで形成される半導体デバイス。With respect to the above description, the following items are further disclosed. (1) A semiconductor device, an integrated circuit chip having at least one input / output terminal, a body of a sealing material for molding around the chip, having dimensions and shapes suitable for simulating solder balls. A semiconductor device comprising: a substrate forming a generally flat surface including at least one ridge having: and a ridge having a conductive and solderable surface connected to the terminal. (2) The device according to item 1, further comprising a layer of solder attached to the mound. 3. The device of claim 1, wherein the mound has a size of about 0.5 to 0.75 mm in diameter and about 0.1 to 0.25 mm in height. The device of claim 1, wherein the conductive surface of the mound comprises a metal foil having a thickness of about 10 to 75 μm. The device of claim 4, wherein the conductive surface of the mound comprises a metal foil having a thickness of about 30 to 40 μm. (6) The device according to item 4, wherein the foil is:
A device comprising a material selected from the group consisting of copper, copper alloys, iron nickel alloys, aluminum, steel, and amber. (7) The device according to item 6, wherein the foil is:
Furthermore, copper, nickel, palladium, silver, gold, platinum, tin
A device having the outwardly solderable surface of the ridge selected from the group consisting of lead, tin-silver, tin-indium and other solder alloys. (8) The semiconductor device according to (1), wherein the conductive surface of the mound is connected to the chip terminal by a length of a bonding wire, and one end of the length is connected to the surface. A semiconductor device mounted and the other end mounted to the terminal. (9) The semiconductor device according to (1), wherein the ridge has a shape selected from the group consisting of a hemisphere, a truncated cone, and a truncated pyramid. (10) The semiconductor device according to (1), wherein the ridge is formed by a molding process for sealing the chip.
【0011】(11) 半導体デバイスを製造する方法
において、何れも複数の入力/出力端子を有する複数の
集積回路チップを提供し、第1及び第2の面を持ち、前
記第2の面がはんだ付け可能である導電性のシート状基
板を提供し、前記チップを前記基板の前記第1の面に取
付けるとともに、前記端子をワイヤ・ボンディングによ
って前記面に接続することにより、ワイヤ・ボンドが溶
接された複数の基板の場所を形成し、何れも半導体デバ
イスを保持するキャビティを持つ上半分及び下半分を有
するモールドを提供し、前記下半分は、はんだボールに
見合う寸法及び形を有する複数の窪みを含む全体的に平
坦な面の輪郭を持っており、各々の前記ワイヤ・ボンド
の場所がそれぞれ1つの前記窪みと整合するように、前
記基板を前記下半分の中に配置し、前記モールドを閉じ
るとともに、前記モールドの中に封止材料を圧入して、
前記材料が前記基板を前記モールドの下半分の前記面の
輪郭に押しつけることにより、凝固した時、ワイヤ・ボ
ンドが前記基板に取付けられた各々の場所で、前記封止
材料の本体の中に小山が形成されるようにする工程を含
む方法。 (12) 第11項に記載の方法であって、更に、前記
モールドを開き、前記小山を互いに電気的に隔離し、前
記チップを互いに機械的に単独にすることにすることに
より、封止された半導体デバイスが形成されるようにす
る工程を含む方法。 (13) 第12項に記載の方法において、更に、前記
小山を覆う基板の前記第2の面の上にはんだ材料をデポ
ジットする工程を含む方法。 (14) 第12項に記載の方法において、前記電気的
な隔離は、前記小山を取り囲む前記基板材料を切断する
ことを含む方法。(11) In a method of manufacturing a semiconductor device, a plurality of integrated circuit chips each having a plurality of input / output terminals are provided, the first and second surfaces are provided, and the second surface is soldered. Providing a conductive sheet-like substrate that is attachable, attaching the chip to the first surface of the substrate, and connecting the terminals to the surface by wire bonding so that the wire bond is welded. Forming a mold having upper and lower halves each having a cavity for holding a semiconductor device, the lower half having a plurality of depressions having dimensions and shapes compatible with the solder balls. The lower half of the substrate such that each wire bond location is aligned with a respective one of the recesses. Placed in, and closing the mold, press-fit a sealing material into the mold,
When the material solidifies by pressing the substrate against the contour of the face of the lower half of the mold, a mound is introduced into the body of the encapsulant at each location where a wire bond is attached to the substrate. A method comprising the step of: (12) The method according to (11), further comprising the steps of: opening the mold, electrically isolating the ridges from each other, and mechanically separating the chips from each other, thereby sealing. A semiconductor device formed. (13) The method according to (12), further comprising depositing a solder material on the second surface of the substrate covering the ridge. 14. The method of claim 12, wherein the electrical isolation comprises cutting the substrate material surrounding the ridge.
【0012】(15) 半導体デバイスを製造する装置
において、予め組立てられた半導体チップを導電性の面
の上に保持するキャビティをそれぞれ持つ上半分及び下
半分を有するモールドを含み、前記半分の1つは、はん
だボールを模擬するのに見合った寸法及び形を有する複
数の窪みを含む全体的に平坦な面の輪郭を持っている装
置。 (16) 第15項に記載の装置であって、前記窪みは
直径が約0.5から0.75mmで深さが約0.1から
0.25mmの寸法を有する装置。 (17) 第15項に記載の装置において、前記窪み
が、半球形、切頭円錐形、及び切頭角錐形から成る群か
ら選択された形を有する装置。 (18) 半導体デバイス、特にボール・グリッド・ア
レイ又はチップ・スケール・パッケージであって、少な
くとも1つの入力/出力端子を有する集積回路チップ
と、前記チップの周りにモールディングされ、はんだボ
ールを模擬するのに適当な寸法及び形を有する少なくと
も1つの小山を含む全体的に平坦な面を形成する封止材
料の本体とを含み、前記小山は前記端子に接続された導
電性ではんだ付け可能な面を有する半導体デバイス。(15) An apparatus for manufacturing a semiconductor device, comprising a mold having an upper half and a lower half each having a cavity for holding a pre-assembled semiconductor chip on a conductive surface, wherein one of the halves is provided. Is a device having a generally flat surface profile including a plurality of depressions having dimensions and shapes commensurate with simulating solder balls. (16) The apparatus according to paragraph 15, wherein the depression has a size of about 0.5 to 0.75 mm in diameter and about 0.1 to 0.25 mm in depth. (17) The device according to paragraph 15, wherein the depression has a shape selected from the group consisting of a hemisphere, a truncated cone, and a truncated pyramid. (18) A semiconductor device, particularly a ball grid array or chip scale package, having an integrated circuit chip having at least one input / output terminal, and being molded around said chip to simulate solder balls. A body of encapsulant forming a generally flat surface including at least one ridge having a suitable size and shape, said ridge defining a conductive, solderable surface connected to said terminal. Semiconductor device.
【図1】本発明の実施例に従った40個の「ボール」を
有するボール・グリッド・アレイ・デバイスの簡略図。
Aは、ボール・グリッド・アレイ・デバイスの上面図。
Bは、本発明に従ったボール・グリッド・アレイ・パッ
ケージの側面図と部分的な断面図を組合わせた簡略図。
Cは、本発明に従ったボール・グリッド・アレイ・パッ
ケージの簡略した底面図。FIG. 1 is a simplified diagram of a ball grid array device having forty “balls” according to an embodiment of the present invention.
A is a top view of the ball grid array device.
B is a simplified diagram combining a side view and a partial cross-sectional view of a ball grid array package according to the present invention.
C is a simplified bottom view of the ball grid array package according to the present invention.
【図2】本発明に従ったボール・グリッド・アレイの一
部分の簡略した断面図。FIG. 2 is a simplified cross-sectional view of a portion of a ball grid array according to the present invention.
【図3】本発明に従ってデバイスをつくるプロセスを示
す。A,B,Cはその際のモールド・キャビティの簡略
断面図。Dは、製造されたデバイスの断面の簡略図。FIG. 3 illustrates a process for making a device according to the present invention. A, B, and C are simplified cross-sectional views of the mold cavity at that time. D is a simplified diagram of a cross section of the manufactured device.
306 チップ 307 基板 308 ワイヤ 312 小山 313 開口 314 縁 315 面 316 直径 317 高さ 320 デバイス 306 Chip 307 Substrate 308 Wire 312 Mound 313 Opening 314 Edge 315 Surface 316 Diameter 317 Height 320 Device
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 デビッド アール、キー アメリカ合衆国 テキサス、リチャードソ ン、 アムブルサイド 1513 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on front page (72) Inventor David Earl, Key United States Texas, Richardson, Ambleside 1513
Claims (3)
プ、 前記チップの周りをモールディングする封止材料の本体
であって、はんだボールを模擬するのに適当な寸法及び
形を有する少なくとも1つの小山を含む全体的に平坦な
面を形成する基板と、 前記端子に接続される導電性ではんだ付け可能な面を有
する前記小山とを含む半導体デバイス。1. A semiconductor device, comprising: an integrated circuit chip having at least one input / output terminal; a body of encapsulant molding around the chip, the dimensions being suitable for simulating solder balls. A semiconductor device comprising: a substrate forming a generally flat surface including at least one ridge having a shape; and the ridge having a conductive, solderable surface connected to the terminal.
て、 何れも複数の入力/出力端子を有する複数の集積回路チ
ップを提供し、 第1及び第2の面を持ち、前記第2の面がはんだ付け可
能である導電性のシート状基板を提供し、 前記チップを前記基板の前記第1の面に取付けるととも
に、前記端子をワイヤ・ボンディングによって前記面に
接続することにより、ワイヤ・ボンドが溶接された複数
の基板の場所を形成し、 何れも半導体デバイスを保持するキャビティを持つ上半
分及び下半分を有するモールドを提供し、前記下半分
は、はんだボールに見合う寸法及び形を有する複数の窪
みを含む全体的に平坦な面の輪郭を持っており、 各々の前記ワイヤ・ボンドの場所がそれぞれ1つの前記
窪みと整合するように、前記基板を前記下半分の中に配
置し、 前記モールドを閉じるとともに、前記モールドの中に封
止材料を圧入して、前記材料が前記基板を前記モールド
の下半分の前記面の輪郭に押しつけることにより、凝固
した時、ワイヤ・ボンドが前記基板に取付けられた各々
の場所で、前記封止材料の本体の中に小山が形成される
ようにする工程を含む方法。2. A method of manufacturing a semiconductor device, comprising: providing a plurality of integrated circuit chips, each having a plurality of input / output terminals, having first and second surfaces, wherein said second surface is soldered. Providing a conductive sheet-like substrate capable of attaching the chip to the first surface of the substrate and connecting the terminals to the surface by wire bonding, whereby the wire bonds are welded. Forming a plurality of substrate locations, providing a mold having an upper half and a lower half, each having a cavity for holding a semiconductor device, the lower half including a plurality of depressions having dimensions and shapes compatible with the solder balls. The substrate in the lower half such that each wire bond has a generally flat surface profile and each wire bond location is aligned with one of the depressions. Disposing, closing the mold and pressing a sealing material into the mold, when the material solidifies by pressing the substrate against the contour of the surface of the lower half of the mold, a wire bond is formed. Forming a mound in the body of the sealing material at each location attached to the substrate.
て、 予め組立てられた半導体チップを導電性の面の上に保持
するキャビティをそれぞれ持つ上半分及び下半分を有す
るモールドを含み、 前記半分の1つは、はんだボールを模擬するのに見合っ
た寸法及び形を有する複数の窪みを含む全体的に平坦な
面の輪郭を持っている装置。3. An apparatus for manufacturing a semiconductor device, comprising: a mold having upper and lower halves each having a cavity for holding a pre-assembled semiconductor chip on a conductive surface, wherein one of the halves is one of: A device having a generally flat surface profile including a plurality of depressions having dimensions and shapes commensurate with simulating solder balls.
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