JP2000251782A - Image display device - Google Patents

Image display device

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JP2000251782A
JP2000251782A JP11050598A JP5059899A JP2000251782A JP 2000251782 A JP2000251782 A JP 2000251782A JP 11050598 A JP11050598 A JP 11050598A JP 5059899 A JP5059899 A JP 5059899A JP 2000251782 A JP2000251782 A JP 2000251782A
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JP
Japan
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substrate
metal back
film
fluorescent film
face plate
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Withdrawn
Application number
JP11050598A
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Japanese (ja)
Inventor
Akira Hayama
彰 羽山
Yasuyuki Todokoro
泰之 外處
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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  • Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
  • Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent separation of a metal back and static discharge during image display, by providing a transparent electrode in the same range as that of at least the metal back on the opposite side of the surface of a face plate which faces an electron source, and impressing a voltage satisfying a specific relation. SOLUTION: A second substrate 1017 has a fluorescent film 1018 on the surface on the first substrate 1015 side, a metal back 1019 is provided on the fluorescent film 1018, a transparent electrode 1022 in a range same as that of the metal back 1019 on the opposite side surface to the first substrate 1015 side surface, and a voltage satisfying an equation I, an equation II, and an equation III is impressed on them. V1 is a voltage applied between the first substrate 1015 side surface of the second substrate 1017 and an opposite surface of this surface, V2 is a voltage applied between the first substrate 1015 side surface and the second substrate 1017 side surface of the fluorescent film 1018, and Va is a voltage applied to the metal back 1019. d1, d2 and ρ1, ρ2 respectively represent thicknesses and volume resistances of the second substrate 1017 and the fluorescent film 1018.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電子線放出装置及
びその応用である表示装置等の画像形成に関するもので
ある。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to an electron beam emitting device and an image forming method for a display device or the like as an application thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、電子放出素子として熱陰極素
子と冷陰極素子の2種類が知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, two types of electron emitting devices, a hot cathode device and a cold cathode device, are known.

【0003】このうち冷陰極素子では、たとえば表面伝
導型放出素子や、電界放出型素子(以下FE型と記す)
や、金属/絶縁層/金属型放出素子(以下MIM型と記
す)、などが知られている。
[0003] Among them, a cold cathode device is, for example, a surface conduction type emission device or a field emission type device (hereinafter referred to as FE type).
And a metal / insulating layer / metal type emission element (hereinafter referred to as MIM type).

【0004】表面伝導型放出素子としては、たとえば、
M.I.Elinson,Radio Eng.Ele
ctron Phys.,10,1290,(196
5)や、後述する他の例が知られている。
As a surface conduction type emission element, for example,
M. I. Elinson, Radio Eng. Ele
ctron Phys. , 10, 1290, (196
5) and other examples described later are known.

【0005】表面伝導型放出素子は、基板上に形成され
た小面積の薄膜に、膜面に平行に電流を流すことにより
電子放出が生ずる現象を利用するものである。この表面
伝導型放出素子としては、前記エリンソン等によるSn
O2薄膜を用いたものの他に、Au薄膜によるもの
〔G.Dittmer:”Thin Solid Fi
lms”,9,317(1972)〕や、In2O3/S
nO2 薄膜によるもの〔M.Hartwell and
C.G.Fonstad:”IEEE Trans.
ED Conf.”,519(1975)〕や、カ−ボ
ン薄膜によるもの〔荒木久 他:真空、第26巻、第1
号、22(1983)〕等が報告されている。
[0005] The surface conduction electron-emitting device utilizes a phenomenon in which electron emission occurs when a current flows in a small-area thin film formed on a substrate in parallel with the film surface. As this surface conduction type emission element, Sn described by Elinson et al.
In addition to those using an O2 thin film, those using an Au thin film [G. Dittmer: "Thin Solid Fi
lms ", 9,317 (1972)] and In2O3 / S
nO2 thin film [M. Hartwell and
C. G. FIG. Fonstad: "IEEE Trans.
ED Conf. , 519 (1975)] and those using a carbon thin film [Hisashi Araki et al .: Vacuum, Vol. 26, No. 1,
No. 22, 22 (1983)].

【0006】前記のような電子放出素子を用いた画像形
成装置のうちで、奥行きの薄い平面型表示装置は省スペ
ースかつ軽量であることから、ブラウン管型の表示装置
に置き換わるものとして注目されている。
[0006] Among the image forming apparatuses using the above-mentioned electron-emitting devices, a flat display device having a small depth has attracted attention as a replacement for a cathode ray tube display device because of its space saving and light weight. .

【0007】図1は平面型の画像表示装置をなす表示パ
ネル部の一例を示す斜視図であり、内部構造を示すため
にパネルの一部を切り欠いて示している。図中、311
5はリアプレート、3116は側壁、3117はフェー
スプレートであり、リアプレート3115、側壁311
6およびfフェースプレート3117により、表示パネ
ルの内部を真空に維持するための外囲器(気密容器)を
形成している。リアプレート3115には基板3111
が固定されているが、この基板3111上には冷陰極素
子3112が、NXM個形成されている。(N、Mは2
以上の正の整数であり、目的とする表示画素数に応じて
適宜設定される。)また、前記NXM個の冷陰極素子3
112は、図1に示すとおり、M本の行方向配線311
3とN本の列方向配線3114により配線されている。
これら基板3111、冷陰極素子3112、行方向配線
3113および列方向配線3114によって構成される
部分をマルチ電子ビーム源と呼ぶ。また、行方向配線3
113と列方向配線3114の少なくとも交差する部分
には、両配線間に絶縁層(不図示)が形成されており、電
気的な絶縁が保たれている。
FIG. 1 is a perspective view showing an example of a display panel portion forming a flat-panel image display device, in which a part of the panel is cut away to show the internal structure. In the figure, 311
5 is a rear plate, 3116 is a side wall, 3117 is a face plate, and a rear plate 3115, a side wall 311
The 6 and f face plate 3117 form an envelope (airtight container) for maintaining the inside of the display panel at a vacuum. The rear plate 3115 has a substrate 3111
Are fixed, but NXM cold cathode elements 3112 are formed on the substrate 3111. (N and M are 2
The above positive integer is set as appropriate according to the target number of display pixels. ) Also, the NXM cold cathode devices 3
Reference numeral 112 denotes M row-direction wirings 311 as shown in FIG.
Three and N column-directional wirings 3114 are provided.
The part constituted by the substrate 3111, the cold cathode element 3112, the row direction wiring 3113 and the column direction wiring 3114 is called a multi electron beam source. In addition, the row direction wiring 3
An insulating layer (not shown) is formed between at least the portion where the column 113 and the column direction wiring 3114 intersect, so that electrical insulation is maintained.

【0008】フェースプレート3117の下面には、蛍
光体からなる蛍光膜3118が形成されており、赤
(R)、緑(G)、育(B)の3原色の蛍光体(不図
示)が塗り分けられている。また、蛍光膜3118をな
す上記各色蛍光体の間には黒色体(不図示)が設けてあ
り、さらに蛍光膜3118のリアプレート3115側の
面には、Al等からなるメタルバック3119が形成さ
れている。メタルバックの機能は、(1)比抵抗が一般
に10E10(Eはべき乗を表す)から10E12オーム・c
mと高い蛍光体に電荷が溜まることによる電位の低下の
防止、(2)電子ビームの加速電極としての働き、
(3)蛍光体からの発光のうち装置内面側への光を鏡面
反射することによる輝度の向上、蛍光体が負イオンの衝
突によってダメージを受けることを防ぐ働き、等であ
る。
On the lower surface of the face plate 3117, a phosphor film 3118 made of a phosphor is formed, and phosphors (not shown) of three primary colors of red (R), green (G), and growth (B) are applied. Divided. A black body (not shown) is provided between the phosphors of the respective colors constituting the fluorescent film 3118, and a metal back 3119 made of Al or the like is formed on the surface of the fluorescent film 3118 on the rear plate 3115 side. ing. The function of the metal back is as follows: (1) The specific resistance is generally 10E10 (E is a power) to 10E12 ohm-c.
prevention of potential drop due to accumulation of electric charge in a phosphor having a high m and (2) functioning as an electron beam accelerating electrode,
(3) Improvement of brightness by specular reflection of light emitted from the phosphor toward the inner surface of the device, function of preventing the phosphor from being damaged by collision of negative ions, and the like.

【0009】この目的に適した材料としては通常はAl
が用いられている。メタルバックの形成は黒色体である
ブラックストライプと蛍光体のパターン形成後フィルミ
ングと呼ばれる処理(有機膜をブラックストライプと蛍
光体上に塗布する処理)の後、Alを真空装置で形成
し、その後有機膜を焼成除去して行われる。Dx1〜D
xmおよびDy1〜DynおよびHvは、当該表示パネ
ルと不図示の電気回路とを電気的に接続するために設け
た気密構造の電気接続用端子である。Dx1〜Dxmは
マルチ電子ビーム源の行方向配線3113と、Dy1〜
Dynはマルチ電子ビーム源の列方向配線3114と、
Hvはメタルバック3119と各々電気的に接続してい
る。
Materials suitable for this purpose are usually Al
Is used. The metal back is formed by performing a process called filming (a process of applying an organic film on the black stripe and the phosphor) after forming a pattern of the black stripe and the phosphor, which is a black body, and then forming Al using a vacuum apparatus. This is performed by firing and removing the organic film. Dx1-D
xm and Dy1 to Dyn and Hv are electric connection terminals having an airtight structure provided for electrically connecting the display panel to an electric circuit (not shown). Dx1 to Dxm are the row direction wiring 3113 of the multi-electron beam source and Dy1 to Dy1.
Dyn is a column-directional wiring 3114 of the multi-electron beam source,
Hv is electrically connected to the metal back 3119, respectively.

【0010】また、上記気密容器の内部は10のマイナ
ス6乗Torr程度の真空に保持されており、画像表示
装置の表示面積が大きくなるにしたがい、気密容器内部
と外部の気圧差によるリアプレート3115およびフェ
ースプレート3117の変形あるいは破壊を防止する手
段が必要となる。リアプレート3115およびフェース
プレート3116を厚くすることによる方法は、画像表
示装置の重量を増加させるのみならず、斜め方向から見
たときに画像のゆがみや視差を生ずる。これに対し、図
1においては、比較的薄いガラス板からなり大気圧を支
えるための構造支持体(スペーサあるいはリブと呼ばれ
る)3120が設けられている。このようにして、マル
チビーム電子源が形成された基板3111と蛍光膜31
18が形成されたフェースプレート3116間は通常サ
ブミリないし数ミリに保たれ、前述したように気密容器
内部は高真空に保持されている。
The inside of the hermetic container is maintained at a vacuum of about 10 −6 Torr, and as the display area of the image display device increases, the rear plate 3115 due to a pressure difference between the inside of the hermetic container and the outside. Further, means for preventing deformation or destruction of the face plate 3117 is required. The method of increasing the thickness of the rear plate 3115 and the face plate 3116 not only increases the weight of the image display device, but also causes image distortion and parallax when viewed from an oblique direction. On the other hand, in FIG. 1, a structural support (called a spacer or a rib) 3120 made of a relatively thin glass plate and supporting the atmospheric pressure is provided. Thus, the substrate 3111 on which the multi-beam electron source is formed and the fluorescent film 31
The space between the face plates 3116 where the 18 is formed is usually maintained at a sub-millimeter to several millimeters, and the inside of the airtight container is maintained at a high vacuum as described above.

【0011】以上説明した表示パネルを用いた画像表示
装置は、容器外端子Dx1ないしDxm、Dy1ないし
Dynを通じて各冷陰極素子3112に電圧を印加する
と、各冷陰極素子3112から電子が放出される。それ
と同時にメタルバック3119に容器外端子Hvを通じ
て数百〔V〕ないし数〔kV〕の高圧を印加して、上記
放出された電子を加速し、フェースプレート3117の
内面に衝突させる。これにより、蛍光膜3118をなす
各色の蛍光体が励起されて発光し、画像が表示される。
In the image display apparatus using the display panel described above, when a voltage is applied to each cold cathode element 3112 through the external terminals Dx1 to Dxm and Dy1 to Dyn, electrons are emitted from each cold cathode element 3112. At the same time, a high voltage of several hundreds [V] to several [kV] is applied to the metal back 3119 through the external terminal Hv to accelerate the emitted electrons and cause them to collide with the inner surface of the face plate 3117. As a result, the phosphors of each color forming the fluorescent film 3118 are excited and emit light, and an image is displayed.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】以上説明した画像表示
装置の表示パネルにおいては、我々はより高輝度な画像
表示を行う為の検討を行い、以下の課題を見い出した。
In the display panel of the image display device described above, we have studied to display an image with higher luminance, and have found the following problems.

【0013】即ち、冷陰極素子22からの放出電子を加
速するためにマルチビーム電子源とフェースプレート3
117上のメタルバック3119との間(1〜5mm程度
の間隔)に数kV以上好ましくは10kV近い高電圧(即ち、
2kV/mm以上の高電界)が印加されるため、メタルバ
ックには、マルチビーム電子源方向へのクーロン力が大
きく働く。これによって、フェースプレートと蛍光体・
メタルバック間の密着力が不足する場合には、メタルバ
ックが剥れマルチビーム電子源のあるリアプレートに衝
突し、放電の原因となる現象が観測されることがあっ
た。
That is, a multi-beam electron source and a face plate 3 are used to accelerate electrons emitted from the cold cathode device 22.
A high voltage of several kV or more, and preferably close to 10 kV, between the metal back 3119 and the metal back 3119 (interval of about 1 to 5 mm)
Since a high electric field of 2 kV / mm or more is applied, the Coulomb force in the direction of the multi-beam electron source largely acts on the metal back. As a result, the face plate and the phosphor
If the adhesion between the metal backs is insufficient, the metal back may come off, collide with the rear plate having the multi-beam electron source, and a phenomenon causing discharge may be observed.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】本発明は上記従来メタル
バックのごとき部材を設けたときの課題を克服するもの
であり、画像表示時の放電を防止し、良好な表示画像を
得るための画像表示装置を提供するものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention overcomes the above-mentioned problems when a member such as a conventional metal back is provided, and prevents an electric discharge at the time of displaying an image and obtains an image for obtaining a good display image. A display device is provided.

【0015】本発明は、以下の構成を有する画像形成装
置によって達成される。即ち、電子放出素子を備えた第
1の基板と、蛍光膜とメタルバックとを有する第2の基
板と、を有する画像形成装置において、前記第2の基板
は、前記第一の基板側の面上に前記蛍光膜が配され、該
蛍光膜上に前記メタルバックが配され、さらに、前記第
一の基板側の面とは反対側の面上に、少なくとも前記メ
タルバックと同じ領域の透明電極が配されており、前記
第2の基板の厚さをd1、体積抵抗率をρ1、前記蛍光膜
の厚さをd2、体積抵抗率をρ2、前記第2の基板の、前
記第一の基板側の面と前記第一の基板側の面とは反対側
の面との間にかかる電圧をV1、前記蛍光膜の、前記第一
の基板側の面と前記第二の基板側の面との間にかかる電
圧をV2、前記メタルバックに印加する電圧をVa、前記第
1の基板と前記第2の基板との距離をdとしたときに、
The present invention is achieved by an image forming apparatus having the following configuration. That is, in an image forming apparatus including a first substrate having an electron-emitting device and a second substrate having a fluorescent film and a metal back, the second substrate has a surface on the first substrate side. The phosphor film is disposed on the phosphor film, the metal back is disposed on the phosphor film, and a transparent electrode at least in the same region as the metal back is disposed on a surface opposite to the surface on the first substrate side. The thickness of the second substrate is d 1 , the volume resistivity is ρ 1 , the thickness of the phosphor film is d 2 , the volume resistivity is ρ 2 , and the second substrate is The voltage applied between the first substrate side surface and the surface opposite to the first substrate side is V 1 , the fluorescent film, the first substrate side surface and the second The voltage applied to the substrate side surface is V 2 , the voltage applied to the metal back is Va, and the distance between the first substrate and the second substrate is d. When you do

【0016】[0016]

【外2】 の関係が成り立つことを特徴とする。[Outside 2] Is established.

【0017】また、本発明は、さらに、前記第1の基板
と、前記第2の基板との間にスペーサを有することを特
徴とするものである。
The present invention is further characterized in that a spacer is provided between the first substrate and the second substrate.

【0018】以上により、フェースプレートの蛍光体と
反対側表面を接地することにより、メタルバックの剥れ
を防ぐことができ、画像表示時の放電を防止し、良好な
表示画像を得るための画像表示装置を提供するものであ
る。
As described above, by grounding the surface of the face plate opposite to the phosphor, it is possible to prevent the metal back from peeling off, prevent discharge during image display, and obtain an image for obtaining a good display image. A display device is provided.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】次に、本発明を適用した画像形成
装置の表示パネルの構成と製造法について、具体的な例
を示して説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, the configuration and manufacturing method of a display panel of an image forming apparatus to which the present invention is applied will be described with reference to specific examples.

【0020】図2は、本明を適用した表示パネルの一例
の斜視図であり、内部構造を示すためにパネルの一部を
切り欠いて示している。
FIG. 2 is a perspective view of an example of a display panel to which the present invention is applied, and a part of the panel is cut away to show the internal structure.

【0021】図中、1015はリアプレ−ト、1016
は側壁、1017はフェ−スプレ−トであり、1015
〜1017により表示パネルの内部を真空に維持するた
めの気密容器を形成している。気密容器を組み立てるに
あたっては、各部材の接合部に十分な強度と気密性を保
持させるため封着する必要があるが、たとえばフリット
ガラスを接合部に塗布し、大気中あるいは窒素雰囲気中
で、摂氏400〜500度で10分以上焼成することに
より封着を達成した。また、上記気密容器の内部は10
のマイナス6乗〔Torr〕程度の真空に保持されるの
で、大気圧や不意の衝撃などによる気密容器の破壊を防
止する目的で、耐大気圧構造体として、スペーサ102
0が設けられている。
In the figure, 1015 is a rear plate, 1016
Is a side wall, 1017 is a face plate, and 1015 is a side plate.
An airtight container for maintaining the inside of the display panel at a vacuum is formed by 1017 to 1017. When assembling an airtight container, it is necessary to seal the joints of each member to maintain sufficient strength and airtightness.For example, apply frit glass to the joints, and in air or nitrogen atmosphere, Sealing was achieved by baking at 400 to 500 degrees for 10 minutes or more. The inside of the airtight container is 10
Is maintained at a vacuum of about -6th power [Torr], so that the spacer 102 is used as an anti-atmospheric structure in order to prevent breakage of the airtight container due to atmospheric pressure or unexpected impact.
0 is provided.

【0022】フェ−スプレ−ト1017の下面には、蛍
光膜1018が形成されている。本実施態様はカラ−表
示装置であるため、蛍光膜1018の部分にはCRTの
分野で用いられる赤、緑、青、の3原色の蛍光体が塗り
分けられている。各色の蛍光体は、たとえば図3(a)
に示すようにストライプ状に塗り分けられ、蛍光体のス
トライプの間には黒色部材1010が設けてある。黒色
部材1010を設ける目的は、電子ビ−ムの照射位置に
多少のずれがあっても表示色にずれが生じないようにす
る事や、外光の反射を防止して表示コントラストの低下
を防ぐ事などである。
On the lower surface of the face plate 1017, a fluorescent film 1018 is formed. Since this embodiment is a color display device, phosphors of three primary colors of red, green, and blue used in the field of CRT are separately applied to a portion of the fluorescent film 1018. The phosphor of each color is, for example, as shown in FIG.
As shown in FIG. 2, black members 1010 are provided between stripes of the phosphor. The purpose of providing the black member 1010 is to prevent the display color from being shifted even if there is a slight shift in the irradiation position of the electron beam, and to prevent the reflection of external light to prevent the display contrast from being lowered. Things.

【0023】また、3原色の蛍光体の塗り分け方は前記
図3(a)に示したストライプ状の配列に限られるもの
ではなく、たとえば図3(b)に示すようなデルタ状配
列や、それ以外の配列であってもよい。
The method of applying the phosphors of the three primary colors is not limited to the stripe arrangement shown in FIG. 3A, but may be, for example, a delta arrangement as shown in FIG. Other arrangements may be used.

【0024】なお、モノクロ−ムの表示パネルを作成す
る場合には、単色の蛍光体材料を蛍光膜1018に用い
ればよく、また黒色部材は必ずしも用いなくともよい。
When a monochrome display panel is manufactured, a monochromatic phosphor material may be used for the phosphor film 1018, and a black member is not necessarily used.

【0025】また、蛍光膜1018のリアプレ−ト側の
面には、CRTの分野では公知のメタルバック1019
を設けてある。メタルバック1019には、蛍光膜10
18が発する光の一部を鏡面反射して光利用率を向上さ
せる事や、負イオンの衝突から蛍光膜1018を保護す
る事や、電子ビ−ム加速電圧を印加するための電極とし
て作用させる事や、蛍光膜1018を励起した電子の導
電路としての作用がある。メタルバック1019の作製
は、蛍光膜1018をフェ−スプレ−ト基板1017上
に形成した後、蛍光膜表面を平滑化処理し、その上にA
lを真空蒸着する方法により形成した。なお、Al以外
の材料であっても、上記機能を有するものであればよ
い。
A metal back 1019 known in the field of CRTs is provided on the rear plate side surface of the fluorescent film 1018.
Is provided. The metal back 1019 has a fluorescent film 10
A part of the light emitted from the mirror 18 is specularly reflected to improve the light utilization factor, protect the fluorescent film 1018 from collision of negative ions, and act as an electrode for applying an electron beam acceleration voltage. In addition, there is a function as a conductive path for electrons that have excited the fluorescent film 1018. The metal back 1019 is formed by forming a fluorescent film 1018 on a faceplate substrate 1017, smoothing the surface of the fluorescent film, and forming an A
1 was formed by a vacuum deposition method. Note that any material other than Al may be used as long as it has the above function.

【0026】フェースプレートの上面(大気側面)に
は、図4のように、少なくとも、メタルバックが存在す
る領域に、ITOを材料とする透明電極1022を設け、
接地してある。これによって、マルチビーム電子源とフ
ェースプレート1017上のメタルバック1019との
間に数kV以上の高電圧(即ち、2kV/mm以上の高電
界)を印加しても、メタルバックには、フェースプレー
ト上面の透明電極1022からのクーロン力が働くので
剥れなくなる。これを定量的に説明する。フェースプレ
ートの厚さと体積抵抗率をそれぞれ、d1、ρ1、とし、
蛍光膜の厚さと体積抵抗率をそれぞれ、d2、ρ2とし、
さらに、フェースプレートの表裏面間にかかる電圧を
V1、蛍光膜のメタルバック側の面とフェースプレート側
の面との間にかかる電圧をV2、メタルバックに印加する
電圧をVa、フェースプレートとリアプレートの距離をd
とすると、フェースプレートと蛍光体が直列抵抗である
とみなせるので、
As shown in FIG. 4, a transparent electrode 1022 made of ITO is provided on at least the region where the metal back exists on the upper surface (atmospheric side surface) of the face plate.
Grounded. Accordingly, even if a high voltage of several kV or more (that is, a high electric field of 2 kV / mm or more) is applied between the multi-beam electron source and the metal back 1019 on the face plate 1017, the face plate is applied to the metal back. Coulomb force from the transparent electrode 1022 on the upper surface acts, so that it does not peel off. This will be described quantitatively. The thickness and volume resistivity of the face plate are d 1 and ρ 1 , respectively,
The thickness and volume resistivity of the phosphor film are d 2 and ρ 2 respectively,
In addition, the voltage applied between the front and back
V 1 , the voltage applied between the metal back side surface of the phosphor film and the face plate side surface is V 2 , the voltage applied to the metal back is Va, and the distance between the face plate and the rear plate is d.
Then, since the face plate and the phosphor can be regarded as a series resistor,

【0027】[0027]

【外3】 の関係が成り立つ。ここで、我々は実験から[Outside 3] Holds. Here, from the experiment

【0028】[0028]

【外4】 と、いう関係が成立するとき、メタルバックが剥れない
ことを見出した。したがって、上記式(1)から式
(3)を同時に満たすようなフェースプレートを作製す
る。あるいは、画像形成装置を駆動させて、画像表示さ
せる際に、上記式(1)から式(3)を同時に満たすよ
うな駆動方法をとることにより、メタルバックが剥がれ
ることによる画像表示時の放電が抑制され、良好な表示
画像を得ることができる。
[Outside 4] And found that the metal back could not be peeled off. Therefore, a face plate that satisfies the above equations (1) to (3) at the same time is manufactured. Alternatively, when the image forming apparatus is driven to display an image, a driving method that simultaneously satisfies Expressions (1) to (3) is employed, so that a discharge at the time of image display due to peeling of the metal back is prevented. Suppressed and a good display image can be obtained.

【0029】なお、上記蛍光膜のρ1は、蛍光膜とし
て、単色の蛍光体を用いる場合は、この蛍光体自身の比
抵抗を意味する、また、赤、青、緑の3原色蛍光体を用
いる場合には、各色の蛍光体自身の比抵抗の平均値を意
味する。
In the case where a monochromatic phosphor is used as the phosphor film, ρ1 of the phosphor film means the specific resistance of the phosphor itself, and three primary color phosphors of red, blue and green are used. In this case, it means the average value of the specific resistance of each color phosphor itself.

【0030】またさらには、前記したように、黒色部材
が蛍光膜に設けられた場合には、黒色部材がメタルバッ
クに接触する場合がある。このような場合には、黒色部
材としては絶縁体が主に用いられ、前記蛍光膜の体積抵
抗率ρ1は、蛍光体の体積抵抗率と、黒色部材の体積抵
抗率との平均を取った値となる。
Further, as described above, when the black member is provided on the fluorescent film, the black member may come into contact with the metal back. In such a case, an insulator is mainly used as the black member, and the volume resistivity ρ1 of the phosphor film is a value obtained by taking the average of the volume resistivity of the phosphor and the volume resistivity of the black member. Becomes

【0031】また、導電性の黒色部材とメタルバックが
接触しないような場合、もしくは、導電性の黒色部材と
メタルバックが接触しているが、接触部の抵抗が高い、
あるいは、黒色部材自体の比抵抗が高いなどして、実質
的に、蛍光膜のメタルバック側の電位と蛍光膜のフェー
スプレート(ガラス気基板)側の上記蛍光膜の電位に差
が生じる場合には、蛍光膜を構成する蛍光体の体積抵抗
率と黒色部材の体積抵抗率との平均値が、前述した体積
抵抗率ρ1として定義される。
When the conductive black member does not contact the metal back, or when the conductive black member contacts the metal back, the resistance of the contact portion is high.
Or, when the specific resistance of the black member itself is high and the potential of the fluorescent film on the metal plate side of the fluorescent film substantially differs from the potential of the fluorescent film on the face plate (glass substrate) side of the fluorescent film. Is the average value of the volume resistivity of the phosphor constituting the phosphor film and the volume resistivity of the black member is defined as the volume resistivity ρ1 described above.

【0032】次に、本発明の画像形成装置に用いること
ができる電子放出素子基板について説明する。
Next, an electron-emitting device substrate that can be used in the image forming apparatus of the present invention will be described.

【0033】本発明の画像形成装置に用いられる電子源
基板は複数の冷陰極素子を基板上に配列することにより
形成される。
The electron source substrate used in the image forming apparatus of the present invention is formed by arranging a plurality of cold cathode devices on the substrate.

【0034】冷陰極素子の配列の方式には、冷陰極素子
を並列に配置し、個々の素子の両端を配線で接続するは
しご型配置(以下、はしご型配置電子源基板と称する)
や、冷陰極素子の一対の素子電極のそれぞれX方向配
線、Y方向配線を接続した単純マトリクス配置(以下、
マトリクス型配置電子源基板と称する)が挙げられる。
なお、はしご型配置電子源基板を有する画像形成装置に
は、電子放出素子からの電子の飛翔を制御する電極であ
る制御電極(グリッド電極)を必要とする。
As a method of arranging the cold cathode elements, a ladder type arrangement in which the cold cathode elements are arranged in parallel and both ends of each element are connected by wiring (hereinafter, referred to as a ladder type arrangement electron source substrate).
Alternatively, a simple matrix arrangement in which the X-direction wiring and the Y-direction wiring of a pair of device electrodes of the cold cathode device are connected (hereinafter, referred to as a simple matrix arrangement)
Matrix-type electron source substrate).
Note that an image forming apparatus having a ladder-type arranged electron source substrate requires a control electrode (grid electrode) which is an electrode for controlling the flight of electrons from the electron-emitting devices.

【0035】リアプレ−ト1015には、基板1011
が固定されているが、該基板上には冷陰極素子1012
がNxM個形成されている。(N,Mは2以上の正の整
数であり、目的とする表示画素数に応じて適宜設定され
る。たとえば、高品位テレビジョンの表示を目的とした
表示装置においては、N=3000,M=1000以上
の数を設定することが望ましい。)前記NxM個の冷陰
極素子は、M本の行方向配線1013とN本の列方向配
線1014により単純マトリクス配線されている。前
記、1011〜1014によって構成される部分をマル
チ電子ビ−ム源と呼ぶ。
The rear plate 1015 has a substrate 1011
Is fixed, but the cold cathode element 1012 is provided on the substrate.
N × M are formed. (N and M are positive integers of 2 or more and are appropriately set according to the target number of display pixels. For example, in a display device for displaying high-definition television, N = 3000, M It is desirable to set the number to be equal to or greater than 1000.) The N × M cold cathode elements are arranged in a simple matrix by M row-directional wirings 1013 and N column-directional wirings 1014. The part constituted by 1011 to 1014 is called a multi-electron beam source.

【0036】本発明の画像表示装置に用いるマルチ電子
ビ−ム源は、冷陰極素子を単純マトリクス配線もしく
は、はしご型配置した電子源であれば、冷陰極素子の材
料や形状あるいは製法に制限はない。したがって、マル
チ電子ビ−ム源には、たとえば表面伝導型放出素子やF
E型、あるいはMIM型などの冷陰極素子を用いること
ができる。
The multi-electron beam source used in the image display device of the present invention is not limited in the material, shape or manufacturing method of the cold cathode device as long as the cold cathode device is a simple matrix wiring or a ladder-shaped electron source. Absent. Therefore, the multi-electron beam source includes, for example, a surface conduction electron-emitting device and an F
E-type or MIM-type cold cathode devices can be used.

【0037】次に、冷陰極素子として表面伝導型放出素
子を基板上に配列して単純マトリクス配線したマルチ電
子ビ−ム源の構造について述べる。
Next, the structure of a multi-electron beam source in which surface conduction emission devices are arranged as cold cathode devices on a substrate and arranged in a simple matrix will be described.

【0038】図5に示すのは、図2の表示パネルに用い
たマルチ電子ビ−ム源の平面図である。基板1011上
には、表面伝導型放出素子が配列され、これらの素子は
行方向配線電極1013と列方向配線電極1014によ
り単純マトリクス状に配線されている。行方向配線電極
1013と列方向配線電極1014の交差する部分に
は、電極間に絶縁層(不図示)が形成されており、電気
的な絶縁が保たれている。
FIG. 5 is a plan view of the multi-electron beam source used for the display panel of FIG. On the substrate 1011, surface conduction electron-emitting devices are arranged, and these devices are wired in a simple matrix by row-direction wiring electrodes 1013 and column-direction wiring electrodes 1014. An insulating layer (not shown) is formed between the row-directional wiring electrodes 1013 and the column-directional wiring electrodes 1014 at the intersections of the electrodes to maintain electrical insulation.

【0039】なお、このような構造のマルチ電子ビ−ム
源は、あらかじめ基板上に行方向配線電極1013、列
方向配線電極1014、電極間絶縁層(不図示)、およ
び表面伝導型放出素子の素子電極1040と導電性薄膜
を形成した後、行方向配線電極1013および列方向配
線電極1014を介して各素子に給電して通電フォ−ミ
ング処理と通電活性化処理を行うことにより製造した。
The multi-electron beam source having such a structure includes a row-direction wiring electrode 1013, a column-direction wiring electrode 1014, an inter-electrode insulating layer (not shown), and a surface conduction type emission element. After the device electrode 1040 and the conductive thin film were formed, power was supplied to each device via the row-direction wiring electrode 1013 and the column-direction wiring electrode 1014 to perform a current forming process and a current activation process.

【0040】本実施態様においては、気密容器のリアプ
レ−ト1015にマルチ電子ビ−ム源の基板1011を
固定する構成としたが、マルチ電子ビ−ム源の基板10
11が十分な強度を有するものである場合には、気密容
器のリアプレ−トとしてマルチ電子ビ−ム源の基板10
11自体を用いてもよい。
In this embodiment, the substrate 1011 of the multi-electron beam source is fixed to the rear plate 1015 of the airtight container.
When 11 has a sufficient strength, the substrate 10 of the multi-electron beam source is used as a rear plate of the hermetic container.
11 itself may be used.

【0041】また、Dx1〜DxmおよびDy1〜Dynおよび
Hvは、当該表示パネルと不図示の電気回路とを電気的
に接続するために設けた気密構造の電気接続用端子であ
る。Dx1〜Dxmはマルチ電子ビ−ム源の行方向配線10
13と、Dy1〜Dynはマルチ電子ビ−ム源の列方向配線
1014と、Hvはフェ−スプレ−トのメタルバック1
019と電気的に接続している。
Dx1 to Dxm, Dy1 to Dyn, and Hv are electric connection terminals having an airtight structure provided for electrically connecting the display panel to an electric circuit (not shown). Dx1 to Dxm are the row wirings 10 of the multi-electron beam source.
13, Dy1 to Dyn are column-directional wirings 1014 of a multi-electron beam source, and Hv is a metal back 1 of a face plate.
019 electrically.

【0042】次に、スペーサについて、述べていく。Next, the spacer will be described.

【0043】図6は図2のA−A’の断面模式図であ
り、各部の番号は図2に対応している。スペーサ自体に
は、帯電防止のため、表面に高抵抗膜1020cが成膜
され、導電性が付与される。スペーサ1020は、上記
目的を達成するのに必要な数だけ、かつ必要な間隔をお
いて配置され、フェースプレートの内側および基板10
11の表面に接合材1041により固定される。ここで
説明される態様においては、スペーサ1020の形状は
薄板状とし、行方向配線1013に平行に配置され、行
方向配線1013に電気的に接続されている。
FIG. 6 is a schematic sectional view taken along the line AA 'of FIG. 2, and the numbers of the respective parts correspond to those of FIG. A high resistance film 1020c is formed on the surface of the spacer itself to prevent electrification, and is provided with conductivity. The spacers 1020 are arranged in a necessary number and at a necessary interval to achieve the above-mentioned object, and are provided inside the face plate and the substrate 10.
11 is fixed to the surface of the substrate 11 by a bonding material 1041. In the embodiment described here, the shape of the spacer 1020 is a thin plate, is arranged in parallel with the row wiring 1013, and is electrically connected to the row wiring 1013.

【0044】スペーサ1020としては、基板1011
上の行方向配線1013および列方向配線1014とフ
ェースプレート1017内面のメタルバック1019と
の間に印加される高電圧に耐えるだけの絶縁性を有し、
かつスペーサ1020の表面への帯電を防止する程度の
導電性を有する必要がある。この点に関しては、既に述
べた通りである。
As the spacer 1020, the substrate 1011
Has insulating properties enough to withstand high voltage applied between the upper row direction wiring 1013 and column direction wiring 1014 and the metal back 1019 on the inner surface of the face plate 1017;
In addition, it is necessary to have conductivity enough to prevent the surface of the spacer 1020 from being charged. This is as described above.

【0045】スペーサ1020の絶縁性部材1020a
としては、例えば石英ガラス、Na等の不純物含有量を減
少したガラス、ソーダライムガラス、アルミナ等のセラ
ミックス部材等が挙げられる。なお、絶縁性部材102
0aはその熱膨張率が気密容器および基板1011を成
す部材と近いものが好ましい。
The insulating member 1020a of the spacer 1020
Examples thereof include quartz glass, glass having a reduced content of impurities such as Na, soda lime glass, and ceramic members such as alumina. The insulating member 102
It is preferable that Oa has a coefficient of thermal expansion close to that of the member forming the airtight container and the substrate 1011.

【0046】接合材1041はスペーサ1020が行方
向配線1013およびメタルバック1019と電気的に
接続するように、導電性をもたせる必要がある。すなわ
ち、導電性接着材や金属粒子や導電性フィラーを添加し
たフリットガラスが好適である。
The bonding material 1041 needs to have conductivity so that the spacer 1020 is electrically connected to the row wiring 1013 and the metal back 1019. That is, frit glass to which a conductive adhesive, metal particles, or a conductive filler is added is preferable.

【0047】気密容器内部を真空に排気するには、気密
容器を組み立てた後、不図示の排気管と真空ポンプとを
接続し、気密容器内を10のマイナス7乗〔Torr〕
程度の真空度まで排気する。その後、排気管を封止する
が、気密容器内の真空度を維持するために、封止の直前
あるいは封止後に気密容器内の所定の位置にゲッタ−膜
(不図示)を形成する。ゲッタ−膜とは、たとえばBa
を主成分とするゲッタ−材料をヒ−タ−もしくは高周波
加熱により加熱し蒸着して形成した膜であり、該ゲッタ
−膜の吸着作用により気密容器内は1x10マイナス5
乗ないしは1x10マイナス7乗〔Torr〕の真空度
に維持される。
In order to evacuate the inside of the airtight container, after the airtight container is assembled, an exhaust pipe (not shown) and a vacuum pump are connected, and the inside of the airtight container is raised to the power of 10 −7 [Torr].
Evacuate to a degree of vacuum. Thereafter, the exhaust pipe is sealed, but a getter film (not shown) is formed at a predetermined position in the airtight container immediately before or after the sealing in order to maintain the degree of vacuum in the airtight container. The getter film is, for example, Ba
Is a film formed by heating and vapor-depositing a getter material mainly composed of a heater or high-frequency heating, and the inside of the airtight container is 1 × 10−5 due to the adsorbing action of the getter film.
The pressure is maintained at a vacuum of 1 × 10 −7 [Torr].

【0048】以上説明した表示パネルを用いた画像表示
装置は、容器外端子Dx1ないしDxm、Dy1ないし
Dynを通じて各冷陰極素子1012に電圧を印加する
と、各冷陰極素子1012から電子が放出される。それ
と同時にメタルバック1019に容器外端子Hvを通じ
て数百〔V〕ないし数〔kV〕の高圧を印加して、上記
放出された電子を加速し、フェースプレート1017の
内面に衝突させる。これにより、蛍光膜1018をなす
各色の蛍光体が励起されて発光し、画像が表示される。
In the image display apparatus using the display panel described above, when a voltage is applied to each cold cathode element 1012 through the external terminals Dx1 to Dxm and Dy1 to Dyn, electrons are emitted from each cold cathode element 1012. At the same time, a high voltage of several hundred [V] to several [kV] is applied to the metal back 1019 through the external terminal Hv to accelerate the emitted electrons and collide with the inner surface of the face plate 1017. As a result, the phosphor of each color forming the fluorescent film 1018 is excited and emits light, and an image is displayed.

【0049】通常、冷陰極素子である本発明の表面伝導
型放出素子への1012への印加電圧は12〜16
〔V〕程度、メタルバック1019と冷陰極素子101
2との距離dは1〔mm〕から5〔mm〕程度、メタル
バック1019と冷陰極素子1012間の電圧5〔k
V〕から10〔kV〕程度である。
Normally, the voltage applied to 1012 to the surface conduction electron-emitting device of the present invention, which is a cold cathode device, is 12 to 16
[V] degree, metal back 1019 and cold cathode element 101
The distance d between the metal back 1019 and the cold cathode element 1012 is 5 [k].
V] to about 10 [kV].

【0050】以上、本発明の実施態様の表示パネルの基
本構成と製法、および画像表示装置の概要を説明した。
The basic structure and manufacturing method of the display panel according to the embodiment of the present invention and the outline of the image display device have been described above.

【0051】[0051]

【実施例】以下に述べる実施例においては、マルチ電子
ビーム源として、前述した、電極間の導電性膜に電子放
出部を有する表面伝導型放出素子をNxM個(N=307
2、M=1024)、M本の行方向配線とN本の列方向配
線とによりマトリクス配線(図2参照)したマルチ電子
ビーム源を用いた。
In the embodiment described below, as the multi-electron beam source, NxM (N = 307) surface conduction electron-emitting devices having an electron-emitting portion in the conductive film between the electrodes described above are used.
2, M = 1024), and a multi-electron beam source using matrix wiring (see FIG. 2) with M row-directional wirings and N column-directional wirings was used.

【0052】画像形成部材であるところの蛍光膜は図3
(c)に示すように、各色蛍光体R,G,BがY方向に
のびるストライプ形状を採用し、黒色導電材としては各
色蛍光体間だけでなく、Y方向の画素間を分離しかつス
ペーサ1020を設置するための部分を加えた形状を用
いた。蛍光膜の厚さは、0.02mmである。先に黒色部材1
010を形成し、その間隙部に各色蛍光体を塗布し蛍光
膜を作成した。ガラス基板に蛍光体を塗布する方法はス
ラリー法を用いた。また、蛍光膜の内面側に設けられる
メタルバックは、蛍光膜の作成後、蛍光膜の内面側表面
の平滑化処理(通常フィルミングと呼ばれる)を行い、
その後、Alを真空蒸着する事で作成したそして、フェ
ースプレートの上面、つまり、大気側となる表面に、メ
タルバックを覆う範囲で、ITOの透明電極を設け、これ
を接地した。フェースプレートの厚さは1mmである。
The fluorescent film, which is the image forming member, is shown in FIG.
As shown in (c), each color phosphor R, G, B adopts a stripe shape extending in the Y direction, and the black conductive material separates not only between the color phosphors but also between the pixels in the Y direction and a spacer. A shape including a portion for installing 1020 was used. The thickness of the phosphor film is 0.02 mm. First black member 1
No. 010 was formed, and phosphors of each color were applied to the gaps to form phosphor films. A slurry method was used as a method of applying a phosphor on a glass substrate. In addition, the metal back provided on the inner surface side of the fluorescent film performs a smoothing process (usually called filming) on the inner surface of the fluorescent film after forming the fluorescent film,
Thereafter, a transparent electrode of ITO was provided on the upper surface of the face plate, that is, the surface on the atmosphere side, in a range covering the metal back, and this was grounded. The thickness of the face plate is 1 mm.

【0053】スペーサは、まず、絶縁性部材1020と
して、長さ20mm、高さ2mm、厚み0.2mmのリアプレートと
同質のガラス表面に窒化シリコン膜を0.5μmスパッタ法
により形成したものを用意し、これに、帯電防止膜10
20cとして、酸化クロム膜を厚さ50nm積層した。
次に低抵抗膜1020bとして、フェースプレート、リ
アプレートとの接続部に接続部と平行に30μmの帯状に
0.1μm厚みのAu膜を形成した(図7)。ここで、低抵抗
膜1020bとは、帯電防止膜1020cを高電位側の
フェースプレート1017(メタルバック1019等)
及び低電位側の基板1011(配線1013、1014
等)と電気的に接続する為に設けられたものである。
First, a spacer prepared by forming a silicon nitride film on a glass surface of the same quality as a rear plate having a length of 20 mm, a height of 2 mm and a thickness of 0.2 mm by a 0.5 μm sputtering method as an insulating member 1020 is provided. The antistatic film 10
As 20c, a 50 nm thick chromium oxide film was laminated.
Next, as a low-resistance film 1020b, a 30 μm band parallel to the connection with the face plate and the rear plate is formed at the connection with the face plate and the rear plate.
An Au film having a thickness of 0.1 μm was formed (FIG. 7). Here, the low-resistance film 1020b means that the antistatic film 1020c is a high-potential-side face plate 1017 (eg, a metal back 1019).
And the substrate 1011 (wirings 1013 and 1014) on the low potential side.
Etc.) for electrical connection.

【0054】低抵抗膜1020bは、帯電防止膜102
0cに比べ十分に低い抵抗値を有する材料を選択すれば
よく、Ni,Cr,Au,Mo,W,Pt,Ti,Al,Cu,Pd等の金
属、あるいは合金、及びPd,Ag,Au,RuO2,Pd−Ag等の
金属や金属酸化物とガラス等から構成される印刷導体、
あるいはIn2O3−SnO2等の透明導体及びポリシリコン等
の半導体材料等より適宜選択される。
The low-resistance film 1020b is formed of the antistatic film 102
It is sufficient to select a material having a sufficiently low resistance value as compared with 0c, such as a metal such as Ni, Cr, Au, Mo, W, Pt, Ti, Al, Cu, Pd, or an alloy, and Pd, Ag, Au, Printed conductors composed of glass, such as metals and metal oxides such as RuO2 and Pd-Ag,
Alternatively, it is appropriately selected from a transparent conductor such as In2O3-SnO2 and a semiconductor material such as polysilicon.

【0055】スペーサはX方向配線上およびフェースプ
レート上のメタルバックと導電性フリットガラスを用い
て接続されている。導電性フリットガラスはフリットガ
ラスに、表面を金コーティングしたフィラーを混合した
ものを使用し、スペーサ表面の帯電防止膜とX方向配線
あるいはフェースプレートと電気的に接続してある。
The spacer is connected to the metal back on the X-direction wiring and the face plate using conductive frit glass. As the conductive frit glass, a mixture of frit glass and a filler whose surface is coated with gold is used, and is electrically connected to the antistatic film on the spacer surface and the X-direction wiring or face plate.

【0056】本実施例では、前述した図7に示すスペー
サ1020を配置した表示パネルを作製した。以下、図
2および図7を用いて詳述する。まず、あらかじめ基板
上に行方向配線電極1013、列方向配線電極101
4、電極間絶縁層(不図示)、および表面伝導型放出素
子の素子電極1040と導電性薄膜を形成した基板10
11を、リアプレート1015に固定した。次に、前述
のスペーサを基板1011の行方向配線1013上に等
間隔で、行方向配線1013と平行に固定した。その
後、基板1011の2mm上方に、内面に蛍光膜1018
とメタルバック1019が付設されたフェースプレート
1017を側壁1016を介し配置し、リアプレ一卜1
015、フェースプレート1017、側壁1016およ
びスペーサ1020の各接合部を固定した。基板101
1とリアプレート1015の接合部、リアプレート10
15と側壁1016の接合部、およびフェースプレート
1017と側壁1016の接合部は、フリットガラス
(不図示)を塗布し、大気中で400℃乃至500℃で10分
以上焼成することで封着した。
In this embodiment, a display panel on which the spacer 1020 shown in FIG. Hereinafter, this will be described in detail with reference to FIGS. First, a row direction wiring electrode 1013 and a column direction wiring electrode 101 are previously formed on a substrate.
4. an inter-electrode insulating layer (not shown), a substrate 10 on which a device electrode 1040 of a surface conduction electron-emitting device and a conductive thin film are formed
11 was fixed to the rear plate 1015. Next, the above-mentioned spacers were fixed on the row wirings 1013 of the substrate 1011 at regular intervals in parallel with the row wirings 1013. Thereafter, the fluorescent film 1018 is applied on the inner surface 2 mm above the substrate 1011.
And a face plate 1017 provided with a metal back 1019 via a side wall 1016, and a rear plate 1
015, the face plate 1017, the side wall 1016 and the spacer 1020 were fixed. Substrate 101
1 and rear plate 1015, rear plate 10
Flit glass (not shown) was applied to the joint between the side wall 1016 and the side wall 1016, and the joint between the side wall 1016 and the face plate 1017 was sealed by firing at 400 ° C. to 500 ° C. for 10 minutes or more in the atmosphere.

【0057】また、スペーサ1020は、基板1011
側では行方向配線1013(線幅300〔μm〕)上に、フ
ェースプレート1017側ではメタルバック1019面
上に、導電性のフィラーあるいは金属等の導電材を混合
した導電性フリットガラス(不図示)を介して配置し、
上記気密容器の封着と同時に、大気中で400℃乃至500℃
で10分以上焼成することで、接着しかつ電気的な接続
も行った。
The spacer 1020 is formed on the substrate 1011.
A conductive frit glass (not shown) in which conductive material such as conductive filler or metal is mixed on the row direction wiring 1013 (line width 300 [μm]) on the side and on the metal back 1019 surface on the face plate 1017 side. Placed through,
400 ° C to 500 ° C in air at the same time as sealing the airtight container
By baking for 10 minutes or more, bonding and electrical connection were also performed.

【0058】なお、本実施例においては、スペーサ10
20は、行方向(X方向)に平行な黒色の導電体(線幅
300〔μm〕)内にメタルバック1019を介して配置さ
れた。なお、前述の封着を行う際には、各色蛍光体と基
板1011上に配置された各素子とを対応させなくては
いけないため、リアプレート1015、フェースプレー
ト1017およびスペーサ1020は十分な位置合わせ
を行った。
In this embodiment, the spacer 10
20 is a black conductor (line width) parallel to the row direction (X direction)
300 [μm]) via a metal back 1019. When the above-described sealing is performed, the phosphors of each color must correspond to the elements arranged on the substrate 1011. Therefore, the rear plate 1015, the face plate 1017, and the spacer 1020 are sufficiently aligned. Was done.

【0059】以上のようにして完成した気密容器内を排
気管(不図示)を通じ真空ポンプにて排気し、十分な真
空度に達した後、容器外端子Dx1〜DxmとDy1〜Dynを通
じ、行方向配線電極1013および列方向配線電極10
14を介して各素子に給電して前述の通電フォ−ミング
処理と通電活性化処理を行うことによりマルチ電子ビー
ム源を製造した。
The interior of the hermetically sealed container completed as described above is evacuated by a vacuum pump through an exhaust pipe (not shown), and after reaching a sufficient degree of vacuum, the container is closed through terminals Dx1 to Dxm and Dy1 to Dyn. Direction wiring electrode 1013 and column direction wiring electrode 10
The multi-electron beam source was manufactured by supplying power to each element through the above-mentioned and performing the above-described energization forming process and energization activation process.

【0060】次に、10のマイナス6乗〔Torr〕程度の
真空度で、不図示の排気管をガスバーナーで熱すること
で溶着し外囲器(気密容器)の封止を行った。
Then, the exhaust pipe (not shown) was welded by heating with a gas burner at a degree of vacuum of about 10 −6 [Torr] to seal the envelope (airtight container).

【0061】最後に、封止後の真空度を維持するため
に、ゲッター処理を行った。
Finally, gettering was performed to maintain the degree of vacuum after sealing.

【0062】以上のように完成した、図2および図7に
示されるような表示パネルを用いた画像表示装置におい
て、各冷陰極素子(表面伝導型放出素子)1012に
は、容器外端子Dx1〜Dxm、Dy1〜Dynを通じ、走査信号及
び変調信号を不図示の信号発生手段よりそれぞれ印加す
ることにより電子を放出させ、メタルバック1019に
は、高圧端子Hvを通じて高圧を印加することにより放
出電子ビームを加速し、蛍光膜1018に電子を衝突さ
せ、各色蛍光体(R、G、B)を励起・発光させることで
画像を表示した。各配線1013、1014間への印加
電圧Vfは14〔V〕とした。高圧端子Hvへの印加電
圧Vaを12〔kV〕である。このとき、蛍光体とフェ
ースプレートの境界の電位(V1)を測定したところ、20
〔V〕であった。これを、
In the image display apparatus using the display panel as shown in FIGS. 2 and 7 completed as described above, each cold cathode element (surface conduction type emission element) 1012 has external terminals Dx1 to Dx1. Through Dxm and Dy1 to Dyn, a scanning signal and a modulation signal are applied from signal generation means (not shown) to emit electrons, and a metal back 1019 is applied with a high voltage through a high voltage terminal Hv to emit an electron beam. The image was displayed by accelerating and causing electrons to collide with the fluorescent film 1018 to excite and emit phosphors of each color (R, G, B). The applied voltage Vf between the wirings 1013 and 1014 was 14 [V]. The applied voltage Va to the high voltage terminal Hv is 12 [kV]. At this time, when the potential (V1) at the boundary between the phosphor and the face plate was measured,
[V]. this,

【0063】[0063]

【外5】 に代入すると、[Outside 5] Substituting into

【0064】[0064]

【外6】 となっており、確かに式を満たしている。比較例とし
ては、以前、フェースプレートの表面を接地していない
時は、フェースプレートとリアプレートの距離が2mm、
高圧端子Hvへの印加電圧Vaが8〔kV〕ないし10
〔kV〕ではがれる例があった。
[Outside 6] It certainly satisfies the formula. As a comparative example, when the surface of the face plate was not grounded before, the distance between the face plate and the rear plate was 2 mm,
The applied voltage Va to the high voltage terminal Hv is 8 [kV] to 10
There was an example of peeling at [kV].

【0065】このように、蛍光体の裏面にはメタルバッ
クが有るため、メタルバックの目的である、電位の低下
の防止、加速電極としての働き、蛍光体からの発光を鏡
面反射することによる輝度の向上、蛍光体が負イオンの
衝突によってダメージを受けることを防ぐ等を果たすこ
とができる。それとともに、フェースプレートの表面は
透明電極を介して接地されているため、メタルバックが
フェースプレートから剥れるのを防ぐことができた。そ
の結果、メタルバックの膜剥がれに起因すると思われる
放電現象は観察されなかったため、長時間に渡り、高輝
度な画像が安定して得られた。
As described above, since the metal back is provided on the back surface of the phosphor, the purpose of the metal back is to prevent a decrease in potential, function as an accelerating electrode, and emit light from the phosphor by specular reflection. And the phosphor can be prevented from being damaged by collision of negative ions. At the same time, since the surface of the face plate was grounded via the transparent electrode, it was possible to prevent the metal back from peeling off from the face plate. As a result, a discharge phenomenon that was considered to be caused by the peeling of the metal back film was not observed, so that a high-luminance image was stably obtained for a long time.

【0066】[0066]

【発明の効果】以上、説明したように本発明によれば、
電子源を備えたリアプレートと、電子源と対向する表面
に、電子源より放出された電子によって発光する蛍光体
と、蛍光体上に電子源より放出された電子を制御するメ
タルバックを備えたフェースプレートを有する画像形成
装置において、フェースプレートが電子源と対向する表
面の反対側表面に、少なくともメタルバックと同じ範囲
で、透明電極を設け、高圧よりも電子源電圧に近い電圧
を印加することによって、メタルバックがはがれるのを
防ぎ、画像表示時の放電を防止し、良好な表示画像を得
るための画像表示装置を提供することが可能となった。
As described above, according to the present invention,
A rear plate with an electron source, a phosphor on the surface facing the electron source that emits light by electrons emitted from the electron source, and a metal back on the phosphor that controls the electrons emitted from the electron source. In an image forming apparatus having a face plate, a transparent electrode is provided on a surface opposite to a surface where the face plate faces the electron source, at least in the same range as the metal back, and a voltage closer to the electron source voltage than a high voltage is applied. Accordingly, it has become possible to provide an image display device for preventing a metal back from peeling, preventing discharge during image display, and obtaining a good display image.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】従来の画像表示装置の、表示パネルの一部を切
り欠いて示した斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view of a conventional image display device with a display panel partially cut away.

【図2】本発明の実施態様である画像表示装置の、表示
パネルの一部を切り欠いて示した斜視図である。
FIG. 2 is a perspective view of an image display device according to an embodiment of the present invention, in which a part of a display panel is cut away.

【図3】表示パネルのフェースプレートの蛍光体配列を
例示した断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a phosphor array of a face plate of a display panel.

【図4】本発明の実施態様である表示パネルの断面図で
ある。
FIG. 4 is a cross-sectional view of a display panel according to an embodiment of the present invention.

【図5】本発明の実施態様である画像表示装置の、マル
チ電子ビーム源の平面図である。
FIG. 5 is a plan view of a multi-electron beam source of the image display device according to the embodiment of the present invention.

【図6】本発明の実施態様である表示パネルの断面図で
ある。
FIG. 6 is a cross-sectional view of a display panel according to an embodiment of the present invention.

【図7】実施例1のなかの画像形成装置の、表示パネル
の断面図である。
FIG. 7 is a sectional view of a display panel of the image forming apparatus according to the first embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

3111、1011 基板 3112、1012 冷陰極素子 3113、1013 行方向配線 3114、1014 列方向配線 3115、1015 リアプレート 3116、1016 側壁 3117、1017 フェースプレート 3118、1018 蛍光膜 3119、1019 メタルバック 3120、1020 構造支持体(スペーサあるいはリ
ブと呼ばれる) 1022 透明電極 1020a スペーサ1020の絶縁性部材 1020b スペーサ1020の低抵抗膜 1020c スペーサ1020の高抵抗膜 1040 電子放出素子の素子電極 1041 接合材 1010 黒色導電体
3111, 1011 substrate 3112, 1012 cold cathode element 3113, 1013 row direction wiring 3114, 1014 column direction wiring 3115, 1015 rear plate 3116, 1016 side wall 3117, 1017 face plate 3118, 1018 fluorescent film 3119, 1019 metal back 3120, 1020 structure Support (referred to as spacer or rib) 1022 Transparent electrode 1020a Insulating member of spacer 1020 1020b Low-resistance film of spacer 1020 1020c High-resistance film of spacer 1020 1040 Element electrode of electron-emitting device 1041 Bonding material 1010 Black conductor

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 電子放出素子を備えた第1の基板と、蛍
光膜とメタルバックとを有する第2の基板と、を有する
画像形成装置において、 前記第2の基板は、前記第一の基板側の面上に前記蛍光
膜が配され、該蛍光膜上に前記メタルバックが配され、
さらに、前記第一の基板側の面とは反対側の面上に、少
なくとも前記メタルバックと同じ領域の透明電極が配さ
れており、 前記第2の基板の厚さをd1、体積抵抗率をρ1、前記蛍
光膜の厚さをd2、体積抵抗率をρ2、 前記第2の基板の、前記第一の基板側の面と前記第一の
基板側の面とは反対側の面との間にかかる電圧をV1、前
記蛍光膜の、前記第一の基板側の面と前記第二の基板側
の面との間にかかる電圧をV2、前記メタルバックに印加
する電圧をVa、前記第1の基板と前記第2の基板との距
離をdとしたときに、 【外1】 の関係が成り立つことを特徴とする画像形成装置。
1. An image forming apparatus comprising: a first substrate having an electron-emitting device; and a second substrate having a fluorescent film and a metal back, wherein the second substrate is the first substrate. The fluorescent film is disposed on the side surface, the metal back is disposed on the fluorescent film,
Further, a transparent electrode at least in the same region as the metal back is disposed on a surface opposite to the surface on the first substrate side, wherein the thickness of the second substrate is d 1 , the volume resistivity is Ρ 1 , the thickness of the phosphor film is d 2 , the volume resistivity is ρ 2 , and the second substrate has a surface on the first substrate side and a surface opposite to the surface on the first substrate side. the voltage applied between the surface V 1, the fluorescent film, V 2 the voltage applied between the first substrate side surface and the second substrate-side surface, the voltage to be applied to the metal back Is Va and the distance between the first substrate and the second substrate is d. An image forming apparatus characterized in that the following relationship is satisfied.
【請求項2】 前記第1の基板と、前記第2の基板との間
にスペーサを有することを特徴とする請求項1に記載の
画像形成装置。
2. The image forming apparatus according to claim 1, further comprising a spacer between the first substrate and the second substrate.
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