JP2000248358A - Vapor deposition device and vapor deposition method - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、蒸着材料を試料
などの被蒸着物に蒸着する蒸着装置および蒸着方法に関
する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an evaporation apparatus and an evaporation method for evaporating an evaporation material onto an object such as a sample.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、平面発光素子として、電界が印加
されると発光する有機ＥＬ（エレクトロルミネッセン
ス）を用いたＥＬ発光素子がある。このＥＬ発光素子
は、透明基板の一面に透明な導電材料からなるアノード
電極を形成し、このアノード電極に電子と正孔とを再結
合して発光する物質からなる有機ＥＬ層を形成し、この
有機ＥＬ層にＭｇやＡｌなどの合金からなるカソード電
極を形成し、これらを絶縁保護層で覆ったものであり、
これらの成膜処理が真空装置内で行われている。2. Description of the Related Art Conventionally, as a planar light emitting device, there is an EL light emitting device using an organic EL (electroluminescence) which emits light when an electric field is applied. In this EL light emitting element, an anode electrode made of a transparent conductive material is formed on one surface of a transparent substrate, and an organic EL layer made of a substance which emits light by recombining electrons and holes is formed on the anode electrode. A cathode electrode made of an alloy such as Mg or Al is formed on the organic EL layer, and these are covered with an insulating protective layer.
These film forming processes are performed in a vacuum device.
【０００３】このようなＥＬ発光素子においてカソード
電極を形成する場合には、有機ＥＬ層にダメージを与え
ず、その特性を維持するために、スパッタリングや電子
ビームなどの蒸着法は使用せずに、熱蒸着法を使用して
いる。この熱蒸着法による蒸着装置は、ＭｇやＡｌなど
の金属からなる蒸着材料をルツボ内に収容し、このルツ
ボを加熱して蒸着材料全体を溶融させ蒸発させることに
より、蒸着材料をＥＬ発光素子の有機ＥＬ層である試料
にカソード電極層として蒸着している。[0003] When a cathode electrode is formed in such an EL light-emitting element, in order to maintain the characteristics without damaging the organic EL layer, a deposition method such as sputtering or an electron beam is not used. The thermal evaporation method is used. An evaporation apparatus using this thermal evaporation method stores an evaporation material made of a metal such as Mg or Al in a crucible, and heats the crucible to melt and evaporate the entire evaporation material, thereby converting the evaporation material to an EL light emitting element. A sample as an organic EL layer is deposited as a cathode electrode layer.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな蒸着装置では、ルツボ内に収容された蒸着材料がＭ
ｇのような昇華性の材料である場合、加熱したルツボの
内面に接触する蒸着材料の特性が変化していくため、長
期的に安定した蒸着が難しい。特に蒸着材料より沸点の
高い不純物が入っている場合、蒸着材料が先に蒸発する
ので、不純物濃度が高くなるに従い不純物が大きな核と
なって、やがてターゲットに形成されると有機ＥＬ素子
のショートの原因になるといった問題が発生した。ま
た、量産性の観点から、ルツボが入ったチャンバー内は
ルツボに蒸着材料の補給無しに連続して長期に亘って稼
働する方が望ましいが、ターゲットに合わせた大きさの
ルツボでは、例えば膜厚が５０００Å程度の蒸着層（カ
ソード電極層）を形成すると、頻繁に蒸着材料が無くな
るため、その度に蒸着装置の稼働を停止し、蒸着材料を
補給しなければならないため、スループットが低いとい
う問題がある。However, in such a vapor deposition apparatus, the vapor deposition material contained in the crucible is M
In the case of a sublimable material such as g, since the characteristics of the vapor deposition material that contacts the inner surface of the heated crucible change, stable vapor deposition over a long period of time is difficult. In particular, when impurities having a boiling point higher than that of the evaporation material are contained, the evaporation material evaporates first. Therefore, as the impurity concentration increases, the impurities become large nuclei, and when they are formed on the target, a short circuit of the organic EL element may occur. There was a problem that caused it. From the viewpoint of mass productivity, it is preferable that the crucible is operated continuously for a long time without replenishing the crucible with the deposition material. When a vapor deposition layer (cathode electrode layer) of about 5000 ° is formed, the vapor deposition material runs out frequently, so that the operation of the vapor deposition apparatus must be stopped and the vapor deposition material must be replenished each time, resulting in low throughput. is there.
【０００５】また、複数の試料に順次連続して蒸着する
ためには、ルツボ全体を蒸発温度に維持して蒸着材料を
蒸発し続けなければならないため、蒸着材料の消耗が多
く、ルツボ内の加熱された蒸着材料を急速に蒸発しない
程度に温度を下げることができないため、シャッタでル
ツボをターゲットから遮ることにより蒸着膜の厚さを制
御するが、このとき蒸着源のシャッタに多量の材料が付
着してしまうなどの問題もある。さらに、１つのルツボ
で互いに沸点の異なる複数の蒸着材料を共に蒸着する際
には、蒸着前の複数の蒸着材料が均一に分散された固相
状態であっても、ルツボで全体を溶融してしまうため
に、沸点の低い材料から先に蒸着してしまい、厚さ方向
に対して均一な組成比で蒸着することが困難であるとい
う問題があった。[0005] Further, in order to successively vapor-deposit a plurality of samples, it is necessary to keep the entire crucible at an evaporating temperature and to continue evaporating the vapor-deposition material. Since the temperature cannot be lowered to the extent that the deposited material does not evaporate rapidly, the thickness of the deposited film is controlled by blocking the crucible from the target with a shutter. At this time, a large amount of material adheres to the shutter of the deposition source. There are also problems such as doing so. Furthermore, when a plurality of deposition materials having different boiling points are deposited together in one crucible, even if the plurality of deposition materials before the deposition are in a solid state in which the deposition materials are uniformly dispersed, the whole is melted in the crucible. For this reason, there is a problem that a material having a low boiling point is vapor-deposited first, and it is difficult to vapor-deposit with a uniform composition ratio in a thickness direction.
【０００６】この発明の課題は、蒸着材料の不必要な消
耗を防ぎ、常に安定した蒸着ができるようにすることで
ある。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to prevent unnecessary consumption of a vapor deposition material so that stable vapor deposition can always be performed.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
蒸着装置において、上方に開口部を有し、固体状態の蒸
着材料を収容する収容部と、前記収容部の上方に配置さ
れ、前記蒸着材料を溶融する温度に加熱可能な発熱体
と、前記収容部に収容された前記蒸着材料と前記発熱体
とを接触または接近する所定位置に配置するために前記
収容部に収容された前記蒸着材料または前記発熱体を移
動させる移動手段とを備えたことを特徴とする。この発
明によれば、移動手段により収容部に収容された蒸着材
料と発熱体とを接触または接近する所定位置に配置する
ために蒸着材料または前記発熱体を移動させ、この状態
で発熱体により収容部内に収容された蒸着材料の上面を
加熱するので、蒸着材料をその上面から順次蒸発させる
ことができ、これにより常に安定した蒸着ができるとと
もに、従来のように蒸着材料全体を常に蒸発温度に維持
する必要がなく、蒸着材料の上面のみを順次蒸発させる
ので、蒸着材料の不必要な消耗を防ぐことができる。ま
た、蒸着材料にこの蒸着材料より沸点の高い不純物が混
入していた場合、蒸着が進むに従い蒸着源の不純物濃度
が高くなるといったことがなく、さらに複数種の沸点の
異なる金属からなる合金を蒸着材料とする場合、全体を
溶融することがないので、常に一定の組成比で蒸着する
ことができる。According to the first aspect of the present invention,
In a vapor deposition device, a storage portion having an opening above and storing a solid-state vapor deposition material; a heating element disposed above the storage portion and capable of heating to a temperature at which the vapor deposition material is melted; Moving means for moving the vapor deposition material or the heating element accommodated in the accommodation section in order to arrange the vapor deposition material accommodated in the section and the heating element at a predetermined position in contact with or approaching the heating element. Features. According to the present invention, the vapor deposition material or the heating element is moved to arrange the vapor deposition material stored in the storage unit and the heating element at a predetermined position where the heating element contacts or approaches the moving section, and the heating element is stored in this state. Since the upper surface of the vapor deposition material contained in the section is heated, the vapor deposition material can be sequentially vaporized from the upper surface, whereby stable vapor deposition can be performed at all times, and the vapor deposition material as a whole is always maintained at the vaporizing temperature as in the past. It is not necessary to perform the process, and only the upper surface of the evaporation material is sequentially evaporated, so that unnecessary consumption of the evaporation material can be prevented. In addition, when impurities having a higher boiling point than the vapor deposition material are mixed into the vapor deposition material, the impurity concentration of the vapor deposition source does not increase as the vapor deposition proceeds, and an alloy made of a plurality of types of metals having different boiling points is vapor deposited. In the case where the material is used, since the whole is not melted, it is possible to always deposit with a constant composition ratio.
【０００８】この場合、請求項２に記載のごとく、発熱
体に対する蒸着材料の接触圧、または発熱体に対する蒸
着材料の材料位置を検出する検出部を備え、この検出部
で検出された情報に基づいて移動手段による蒸着材料と
発熱体との位置を制御するすることにより、蒸着中でも
蒸着材料の供給状態および蒸発状態を一定に保つことが
でき、より一層、安定した蒸着ができる。また、請求項
３に記載のごとく、収容部内に収容された蒸着材料の上
面に対して発熱体を接離可能に昇降させる昇降手段を備
え、この昇降手段により発熱体を上昇させて蒸着材料の
上面から離間させることにより、発熱体の温度を変えず
に短時間で蒸発を停止させることができるので、蒸着膜
の膜厚の制御が容易でシャッタが必ずしも必要なく、し
かも発熱体の温度を変えないことにより、発熱体に付着
した蒸着材料を完全に蒸発させることができ、この後発
熱体を冷すことにより長期間繰り返して使用することが
できる。In this case, as described in claim 2, a detecting unit for detecting the contact pressure of the vapor deposition material with respect to the heating element or the material position of the vapor deposition material with respect to the heating element is provided, and based on the information detected by this detecting unit. By controlling the positions of the vapor deposition material and the heating element by the moving means, the supply state and vaporization state of the vapor deposition material can be kept constant during vapor deposition, and more stable vapor deposition can be achieved. Further, as set forth in claim 3, there is provided elevating means for elevating and lowering the heating element so as to be able to contact and separate from the upper surface of the vapor deposition material accommodated in the accommodating portion. By separating from the upper surface, evaporation can be stopped in a short time without changing the temperature of the heating element, so that the thickness of the deposited film can be easily controlled and a shutter is not necessarily required, and the temperature of the heating element can be changed. Since the heating element is not used, the evaporation material attached to the heating element can be completely evaporated, and thereafter, the heating element can be cooled and used repeatedly for a long time.
【０００９】また、請求項４に記載のごとく、発熱体
は、カーボングラファイトからなるヒータを有し、その
ヒータの両端部を除く外表面に熱分解窒化ホウ素からな
る絶縁コートが施されていることにより、蒸着材料とし
てＡｌを用いた場合、カーボングラファイトからなるヒ
ータがＡｌと化学反応を起こしたり、ヒータにＡｌがし
み込んだりするのを防ぐことができ、これにより化学的
および電気的に安定した状態でヒータを保護することが
でき、これによっても長期間に亘る繰り返し使用が可能
になる。さらに、請求項５に記載のごとく、収容部の下
側に回転可能に配置された回転体に固体状態の蒸着材料
を複数配置し、これら複数の蒸着材料のいずれかを回転
体の回転に応じて収容部の下に対応させ、この対応した
固体状態の蒸着材料を移動手段で押し上げることによ
り、この押し上げられた回転体側の蒸着材料を収容部内
に予め収容された蒸着材料の下に積層させて連続的に補
給する材料補給機構を備えていることにより、長期間に
亘って連続して安定した蒸着を行うことができる。According to a fourth aspect of the present invention, the heating element has a heater made of carbon graphite, and an outer surface excluding both ends of the heater is provided with an insulating coat made of pyrolytic boron nitride. Thus, when Al is used as the vapor deposition material, it is possible to prevent the heater made of carbon graphite from causing a chemical reaction with Al and preventing the Al from seeping into the heater, thereby providing a chemically and electrically stable state. To protect the heater, which also enables repeated use over a long period of time. Further, as described in claim 5, a plurality of solid-state vapor deposition materials are arranged on a rotatable member rotatably disposed below the housing portion, and any one of the plurality of vapor-deposited materials is applied according to rotation of the rotatable member. By pressing the corresponding solid-state vapor deposition material by the moving means, the vapor material on the side of the rotating body that has been pushed up is laminated under the vapor deposition material previously stored in the container. By providing a material supply mechanism for continuously supplying, it is possible to perform stable and continuous vapor deposition over a long period of time.
【００１０】請求項６記載の発明は、蒸着方法におい
て、固体状態の蒸着材料と、この蒸着材料の上方に配置
され、蒸着材料を溶融する温度に加熱可能な発熱体と、
を接触または接近する所定位置に配置するために、前記
蒸着材料または前記発熱体を移動させることを特徴とす
る。この発明によれば、蒸着材料をその上面から順次蒸
発させることができ、これにより常に安定した蒸着がで
きるとともに、従来のように蒸着材料全体を常に蒸発温
度に維持する必要がなく、蒸着材料の上面のみを順次蒸
発させるので、蒸着材料の不必要な消耗を防ぐことがで
きる。According to a sixth aspect of the present invention, in the vapor deposition method, a solid-state vapor deposition material, and a heating element disposed above the vapor deposition material and capable of heating to a temperature at which the vapor deposition material is melted,
The vapor deposition material or the heating element is moved in order to dispose at a predetermined position to contact or approach. According to the present invention, the vapor deposition material can be sequentially evaporated from the upper surface, whereby stable vapor deposition can be always performed, and it is not necessary to constantly maintain the entire vapor deposition material at the evaporation temperature as in the related art. Since only the upper surface is sequentially evaporated, unnecessary consumption of the deposition material can be prevented.
【００１１】[0011]
【発明の実施の形態】［第１実施形態］以下、図１〜図
６を参照して、この発明の蒸着装置の第１実施形態につ
いて説明する。図１は蒸着装置の平面図、図２はそのＡ
−Ａ断面図である。この蒸着装置は、固体状態でブロッ
ク形状の蒸着材料１を収容する収容ケース（収容部）２
を備えている。この収容ケース２は、上部および下部が
開放された角筒状に形成され、ターゲットとなる基板の
大きさに適合している。この収容ケース２内に収容され
るブロック形状の蒸着材料１は、試料（被蒸着物）によ
って異なるが、例えばＥＬ発光素子のカソード電極とし
ては、ＭｇＬｉ（Ｌｉを１０重量％含む）などの昇華性
のＭｇ金属を母材とした合金、またはＡｌＬｉなどのＡ
ｌ金属を母材とした合金などであるが、ここでは、Ｍｇ
Ｌｉ合金層の下にコーティング層を積層させて蒸着材料
層を形成し、この蒸着材料層を順次積層させたものを用
いる。この場合、コーティング層の材料としては、Ｍｇ
やＬｉなどに比べて仕事関数の高い（つまり酸化しにく
い）低抵抗の材料、例えばＡｌを用いている。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS [First Embodiment] A first embodiment of a vapor deposition apparatus according to the present invention will be described below with reference to FIGS. FIG. 1 is a plan view of a vapor deposition apparatus, and FIG.
It is -A sectional drawing. The vapor deposition apparatus includes a storage case (housing section) 2 for storing a block-shaped vapor deposition material 1 in a solid state.
It has. The storage case 2 is formed in a rectangular cylindrical shape whose upper and lower parts are open, and is adapted to the size of a substrate serving as a target. The block-shaped deposition material 1 accommodated in the accommodation case 2 varies depending on the sample (deposition target). For example, as a cathode electrode of an EL light emitting element, a sublimation material such as MgLi (containing 10% by weight of Li) is used. Alloy using Mg metal as a base material, or A such as AlLi
1 is an alloy using a metal as a base material.
An evaporation material layer is formed by stacking a coating layer below the Li alloy layer, and the evaporation material layer is sequentially stacked. In this case, the material of the coating layer is Mg
A low-resistance material having a higher work function (that is, less oxidized) than that of Li or Li, for example, Al is used.
【００１２】また、収容ケース２の上部には、発熱体３
が配置されている。この発熱体３は、図３および図４に
示すように、棒状のヒータ４を所定間隔で複数配列し、
その各両端をそれぞれ電極板５上に載置した状態で金属
メッシュ６により可動可能に接合した構成になってい
る。この発熱体３は、その両側の電極板５が収容ケース
２の外面に沿って上下方向にスライド可能に配置され、
これにより複数のヒータ４が収容ケース２の上方におい
て上下方向に移動するように構成されている。複数のヒ
ータ４は、それぞれカーボングラファイトからなり、図
５（ａ）に示すように、その両端部が太く中間部が細く
形成され、その中間部が収容ケース２内の蒸着材料１の
上面に対応し、両側の電極板５上に接触する両端部分を
除いて熱分解窒化ホウ素（ＰＢＮ）からなる絶縁コート
４ａが施されている。この場合、各ヒータ４の両端部近
傍に位置する中間部の下方には、図５（ｂ）の断面図に
示すように、付着し溶融した蒸着材料１がヒータ４の両
端部に流れ込むのを阻止する鍔部４ｂが設けられてい
る。A heating element 3 is provided above the housing case 2.
Is arranged. As shown in FIGS. 3 and 4, the heating element 3 includes a plurality of rod-shaped heaters 4 arranged at predetermined intervals.
Each end is movably joined by a metal mesh 6 while being placed on the electrode plate 5. The heating element 3 is arranged such that the electrode plates 5 on both sides thereof are slidable vertically along the outer surface of the housing case 2,
Thereby, the plurality of heaters 4 are configured to move vertically above the storage case 2. The plurality of heaters 4 are each made of carbon graphite, and as shown in FIG. 5A, both ends are formed thick and an intermediate portion is formed thin, and the intermediate portion corresponds to the upper surface of the vapor deposition material 1 in the storage case 2. Then, an insulating coat 4a made of pyrolytic boron nitride (PBN) is applied except for both end portions that contact the electrode plates 5 on both sides. In this case, as shown in the cross-sectional view of FIG. 5B, the deposited and melted vapor deposition material 1 flows into the both ends of the heater 4 below the intermediate portion located near both ends of each heater 4. A blocking flange 4b is provided.
【００１３】一方、収容ケース２の下側には、図２に示
すように、収容ケース２に収容された蒸着材料１をその
上面が発熱体３の各ヒータ４に接触または接近する所定
位置に押し上げる押上げ部材７が上下方向に移動可能に
設けられている。また、収容ケース２の一側面には、発
熱体３の電極板５に対する接触圧、または電極板５に対
する接触または接近位置を検出することにより、発熱体
３の各ヒータ４に対する蒸着材料１の接触圧、または各
ヒータ４に対する蒸着材料１の材料位置を間接的に検出
する検出部８が設けられている。この検出部８は、検出
したデータを制御部（図示せず）に与える。なお、この
制御部は、検出部８からのデータに基づいて押上げ部材
７による蒸着材料１の押し上げ位置を制御するが、発熱
体３が所定の温度に設定することにより、蒸着材料１の
単位時間当たりの蒸発量が既知であれば、検出部８を駆
動することなく、蒸発量に応じて自動的に押上げ部材７
を押し上げても良い。On the other hand, on the lower side of the housing case 2, as shown in FIG. 2, the vapor deposition material 1 housed in the housing case 2 is placed at a predetermined position where the upper surface thereof contacts or approaches each heater 4 of the heating element 3. A push-up member 7 is provided so as to be able to move up and down. Also, by detecting the contact pressure of the heating element 3 on the electrode plate 5 or the contact or approach position of the electrode plate 5 on one side surface of the housing case 2, the contact of the vapor deposition material 1 with each heater 4 of the heating element 3 is detected. A detection unit 8 that indirectly detects the pressure or the material position of the vapor deposition material 1 with respect to each heater 4 is provided. The detection unit 8 supplies the detected data to a control unit (not shown). The control unit controls the position at which the evaporating material 1 is pushed up by the elevating member 7 based on the data from the detection unit 8, and the unit of the evaporating material 1 is set by setting the heating element 3 to a predetermined temperature. If the amount of evaporation per time is known, the push-up member 7 is automatically driven in accordance with the amount of evaporation without driving the detection unit 8.
May be pushed up.
【００１４】さらに、収容ケース２の他側面には、収容
ケース２内に収容された蒸着材料１の上面に対して発熱
体３を接離可能に昇降させる昇降部材９が設けられてい
る。この昇降部材９は、シリンダなどであり、制御部か
らの制御指令によってピストンロッド９ａが押し出され
たときに、図６に示すように、電極板５を押し上げるこ
とにより、発熱体３を蒸着材料１の上方に移動して離間
させ、これにより蒸発を停止させるように構成されてい
る。なお、発熱体３の上方には、蒸着材料１の蒸発状態
が安定した状態で、蒸着を開始または停止させるシャッ
タ（図示せず）が開閉可能に設けられている。Further, on the other side surface of the housing case 2, there is provided an elevating member 9 for elevating and lowering the heating element 3 so as to be able to approach and separate from the upper surface of the vapor deposition material 1 housed in the housing case 2. The elevating member 9 is a cylinder or the like. When the piston rod 9a is extruded by a control command from the control unit, as shown in FIG. Are moved upward to separate them, thereby stopping the evaporation. Note that a shutter (not shown) for starting or stopping vapor deposition is provided above the heating element 3 in such a manner that the vapor deposition material 1 starts or stops vapor deposition in a stable state.
【００１５】次に、このような蒸着装置により蒸着材料
１をターゲットに蒸着する場合について説明する。予
め、蒸着装置を真空装置内に配置し、この蒸着装置の上
方に試料を配置する。そして、蒸着装置の収容ケース２
内に固体状態の蒸着材料１を収容し、その下側から押上
げ部材７により蒸着材料１を押し上げ、その蒸着材料１
の上面を発熱体３の各ヒータ４に接触または接近する所
定位置に配置する。ヒータ４は、両端の電極板５を通電
することにより所定温度に加熱されている。Next, a case where the vapor deposition material 1 is vapor-deposited on a target by such a vapor deposition apparatus will be described. A vapor deposition device is placed in a vacuum device in advance, and a sample is placed above the vapor deposition device. And the storage case 2 of the vapor deposition device
The vapor deposition material 1 in a solid state is accommodated in the inside, and the vapor deposition material 1 is pushed up by a push-up member 7 from below the vapor deposition material 1.
Is arranged at a predetermined position in contact with or approaching each heater 4 of the heating element 3. The heater 4 is heated to a predetermined temperature by energizing the electrode plates 5 at both ends.
【００１６】この状態で、発熱体３の各ヒータ４により
収容ケース２内に収容された蒸着材料１の上面を加熱す
ると、所定間隔で配列された各ヒータ４間を通して蒸着
材料１がその上面から順次蒸発し、その上方に配置され
たターゲットに蒸着される。このとき、蒸着材料１のう
ち、溶融し蒸発している部分は上方のみで、それ以外は
固体状態を維持している。このため、収容ケース２に収
容されている蒸着材料１の合金の組成比は常に一定であ
り、ターゲットに蒸着された蒸着物の組成比も一定にす
ることができる。そして、収容されている蒸着材料１の
蒸発していない部分は溶融する程度に加熱されないの
で、加熱エネルギー効率が良い。このように、常に安定
した蒸着ができ、膜厚が１０００〜５０００Å程度のカ
ソード電極層となる蒸着層を精度良く形成することがで
き、しかも従来のように蒸着材料１全体を常に蒸発温度
に維持する必要がなく、蒸着材料１の上面のみを加熱す
るだけあるから、蒸着材料１の不必要な消耗を防ぐこと
ができる。さらに、蒸着材料１に含有される不純物も高
濃度に濃縮されることがないので、大きな不純物の核が
ターゲットに形成されることもない。In this state, when the upper surface of the vapor deposition material 1 housed in the housing case 2 is heated by the heaters 4 of the heating element 3, the vapor deposition material 1 passes from the upper surface through the heaters 4 arranged at predetermined intervals. It evaporates sequentially and is deposited on a target placed above it. At this time, the portion of the vapor deposition material 1 that has melted and evaporated is only the upper portion, and the other portions maintain a solid state. Therefore, the composition ratio of the alloy of the vapor deposition material 1 stored in the storage case 2 is always constant, and the composition ratio of the vapor deposited on the target can also be constant. Since the non-evaporated portion of the contained evaporation material 1 is not heated to the extent that it is melted, the heating energy efficiency is high. In this manner, a stable vapor deposition can be always performed, a vapor deposition layer having a thickness of about 1000 to 5000 ° can be formed with high accuracy, and the entire vapor deposition material 1 is always maintained at the vaporization temperature as in the related art. It is not necessary to perform the heating, and only the upper surface of the deposition material 1 is heated. Therefore, unnecessary consumption of the deposition material 1 can be prevented. Further, since impurities contained in the evaporation material 1 are not concentrated at a high concentration, a large impurity nucleus is not formed on the target.
【００１７】このときには、特に、検出部８により発熱
体３の電極板５に対する接触圧、または電極板５に対す
る接触または接近位置を検出することにより、発熱体３
の各ヒータ４に対する蒸着材料１の接触圧、または各ヒ
ータ４に対する蒸着材料１の材料位置を間接的に検出
し、この検出した情報に基づいて押上げ部材７による蒸
着材料１の押し上げ位置を制御しているので、蒸着中で
も蒸着材料１の供給状態および蒸発状態を一定に保つこ
とができ、より一層、安定した蒸着ができる。なお、蒸
着材料１の蒸発状態は、各ヒータ４への電力供給量によ
っても制御することができる。このようにして、蒸着材
料１が蒸発するときには、各ヒータ４と蒸着材料１の上
面とが接触していても良いが、各ヒータ４と蒸着材料１
の上面との間に僅かな隙間をもたせても良く、この状態
で各ヒータ４に過剰な電力を供給することにより、蒸発
温度の異なる物質を同時に蒸発させることができる。At this time, in particular, the detection unit 8 detects the contact pressure of the heating element 3 on the electrode plate 5 or the position of contact or approach to the electrode plate 5, thereby detecting the heating element 3.
The indirect detection of the contact pressure of the vapor deposition material 1 with respect to each heater 4 or the material position of the vapor deposition material 1 with respect to each heater 4 is performed, and based on the detected information, the position where the vapor deposition material 1 is pushed up by the push-up member 7 is controlled. As a result, the supply state and the evaporation state of the evaporation material 1 can be kept constant during the evaporation, and more stable evaporation can be performed. Note that the evaporation state of the evaporation material 1 can also be controlled by the amount of power supplied to each heater 4. In this way, when the vapor deposition material 1 evaporates, each heater 4 and the upper surface of the vapor deposition material 1 may be in contact with each other.
A small gap may be provided between the heater 4 and the upper surface of the heater 4. In this state, by supplying excessive power to each heater 4, substances having different evaporation temperatures can be simultaneously evaporated.
【００１８】例えば、この第１実施形態では、蒸着材料
１がＭｇＬｉ合金層で構成されているから、ＭｇＬｉ合
金が蒸発した後、コーティング層のＡｌが蒸発すること
になる。すなわち、ＭｇＬｉ合金が蒸発するときには、
真空装置内の気圧を例えば１０-5Ｔｏｒｒ程度に設定す
ると、Ｍｇの蒸発温度が５００〜６００℃程度で、Ｌｉ
の蒸発温度が５８０℃程度であるから、ＭｇとＬｉを同
時に蒸発させることができ、このためＬｉが酸化しにく
く、しかもＭｇは昇華性の金属であるからそのまま蒸発
するが、Ｌｉは溶融してから蒸発するため、ＭｇＬｉ合
金層の中に不純物が混入していても、この不純物を拡散
させることができる。このため、ＥＬ発光素子の有機Ｅ
Ｌ層であるターゲットに形成されるカソード電極層とな
る蒸着層に不純物を核とする大きなパーティクルの生成
を防ぐことができ、精度良く、良好にアノード電極とシ
ョートすることのないＭｇＬｉ合金の蒸着層を形成する
ことができる。また、蒸着材料１をＭｇＬｉ合金層とそ
の下層のＡｌ層との積層構造としても良い。この場合、
酸化されやすいＭｇＬｉ合金層を先に蒸着させてから、
それを覆うようにＡｌを蒸着することができる。なお、
Ａｌは１０-5Ｔｏｒｒ程度で１１００℃程度で蒸発する
ので、ＭｇＬｉＡｌの合金層としても同様の効果を得る
ことができる。For example, in the first embodiment, since the vapor deposition material 1 is composed of an MgLi alloy layer, Al in the coating layer evaporates after the MgLi alloy evaporates. That is, when the MgLi alloy evaporates,
When the air pressure in the vacuum apparatus is set to, for example, about 10 −5 Torr, the evaporation temperature of Mg is about 500 to 600 ° C., and Li
Since the evaporation temperature is about 580 ° C., Mg and Li can be evaporated at the same time, so that Li is not easily oxidized, and since Mg is a sublimable metal, it evaporates as it is. Therefore, even if impurities are mixed in the MgLi alloy layer, the impurities can be diffused. For this reason, the organic E of the EL light emitting element is used.
A deposition layer of an MgLi alloy, which can prevent generation of large particles having impurities as nuclei in a deposition layer serving as a cathode electrode layer formed on a target serving as an L layer and which does not short-circuit with an anode electrode with good precision. Can be formed. Further, the vapor deposition material 1 may have a laminated structure of an MgLi alloy layer and an Al layer thereunder. in this case,
After first depositing a MgLi alloy layer that is easily oxidized,
Al can be deposited so as to cover it. In addition,
Since Al evaporates at about 1-5 ° C. at about 10 −5 Torr, the same effect can be obtained as an MgLiAl alloy layer.
【００１９】このようにして、ＭｇＬｉ合金の蒸着層に
連続してコーティング層のＡｌが蒸着され、この酸化し
にくいＡｌによりＭｇＬｉ合金の蒸着層をコーティング
することができ、これによりカソード電極層である蒸着
層が形成される。このＡｌの蒸発時には、発熱体３の各
ヒータ４にＰＢＮからなる絶縁コート４ａが施されてい
るので、カーボングラファイトからなるヒータ４がＡｌ
と化学反応を起こしたり、ヒータ４にＡｌがしみ込んだ
りするのを防ぐことができ、これにより化学的および電
気的（電気抵抗的）に安定した状態でヒータ４を保護す
ることができ、これによっても長期間（数千回以上）の
繰り返し使用が可能になる。このように、この蒸着装置
では、１つの収容ケース２に蒸着材料１を収容した単一
蒸着源により多元素の蒸着ができる。In this manner, Al of the coating layer is vapor-deposited continuously on the vapor-deposited layer of the MgLi alloy, and the vapor-deposited layer of the MgLi alloy can be coated with this hardly oxidized Al, thereby forming the cathode electrode layer. An evaporation layer is formed. At the time of the evaporation of Al, since the heater 4 of the heating element 3 is coated with the insulating coat 4a made of PBN, the heater 4 made of carbon graphite is
, And soaking of Al into the heater 4 can be prevented, whereby the heater 4 can be protected in a chemically and electrically (electrically resistive) stable state. Can be used for a long time (thousands of times). As described above, in this vapor deposition apparatus, multi-element vapor deposition can be performed by a single vapor deposition source in which the vapor deposition material 1 is stored in one storage case 2.
【００２０】ところで、このような蒸着装置による蒸着
中には、各ヒータ４が熱膨張するが、各ヒータ４の両端
部が電極板５に金属メッシュ６により可動可能に接合さ
れているので、各ヒータ４の熱膨張が金属メッシュ６に
より吸収され、熱膨張による各ヒータ４の破損を防ぐこ
とができる。また、各ヒータ４の加熱により蒸着材料
１、特に粘度の低いＡｌが各ヒータ４に付着してその両
端部側に流れても、図５（ｂ）に示すように、各ヒータ
４の両端部の近傍に鍔部４ｂが設けられているので、付
着した蒸着材料１がヒータ４の両端部に流れ込むのを阻
止することができる。また、蒸着を一旦停止させる場合
には、昇降部材９により発熱体３を上昇させて各ヒータ
４を蒸着材料１の上面から離間させることにより、ヒー
タ４の温度を変えずに短時間で蒸発を停止させることが
でき、これによっても蒸着層を精度良く形成できるとと
もに、蒸着材料１の不必要な消耗を防ぐことができる。
このとき、ヒータ４の温度はそのままであるから、ヒー
タ４に付着した蒸着材料１を完全に蒸発させることがで
き、この後ヒータ４を冷すことにより同じヒータ４で異
なる蒸着材料を連続して使用することができる。By the way, during the vapor deposition by such a vapor deposition apparatus, each heater 4 thermally expands. However, since both ends of each heater 4 are movably joined to the electrode plate 5 by the metal mesh 6, each heater 4 is expanded. The thermal expansion of the heaters 4 is absorbed by the metal mesh 6, and damage to each heater 4 due to the thermal expansion can be prevented. Further, even if the evaporation material 1, particularly Al having a low viscosity, adheres to each heater 4 and flows to both ends by heating of each heater 4, as shown in FIG. Is provided in the vicinity of the heater 4, the attached vapor deposition material 1 can be prevented from flowing into both ends of the heater 4. When the vapor deposition is temporarily stopped, the heating element 3 is raised by the elevating member 9 to separate each heater 4 from the upper surface of the vapor deposition material 1 so that the vaporization can be performed in a short time without changing the temperature of the heater 4. The deposition can be stopped, whereby the deposition layer can be formed with high accuracy, and unnecessary consumption of the deposition material 1 can be prevented.
At this time, since the temperature of the heater 4 is kept as it is, the vapor deposition material 1 attached to the heater 4 can be completely evaporated. Can be used.
【００２１】［第２実施形態］次に、図７〜図９を参照
して、この発明の蒸着装置の第２実施形態について説明
する。なお、図１〜図６に示された第１実施形態と同一
部分には同一符号を付し、その説明は省略する。この蒸
着装置は、収容ケース２の下側に蒸着材料１を連続的に
補給する材料補給機構１０を設けた構成になっており、
これ以外は第１実施形態と同じ構成になっている。すな
わち、この材料補給機構１０は、リボルバー方式のもの
であり、図７および図８に示すように、収容ケース２の
下側に回転可能に配置された回転体１１を備えている。
この回転体１１は、その中心部に回転軸１２が取り付け
られ、この回転軸１２と共に回転するように構成されて
いる。また、この回転体１１の周縁部における所定箇
所、つまり回転体１１の回転に応じて収容ケース２が順
次対応する箇所には、ブロック形状の蒸着材料１を収容
する収容孔１３が所定間隔で複数設けられている。これ
ら各収容孔１３は、それぞれ上下方向に開放され、その
下端部に落下防止用の突起１４が設けられている。ま
た、収容ケース２に対応した収容孔１３の下側には、そ
の収容孔１３内に収容されたブロック形状の蒸着材料１
を収容ケース２内に向けて押し上げる押上げ部材７が設
けられている。[Second Embodiment] Next, a second embodiment of the vapor deposition apparatus of the present invention will be described with reference to FIGS. The same parts as those in the first embodiment shown in FIGS. 1 to 6 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted. This vapor deposition apparatus has a configuration in which a material supply mechanism 10 for continuously supplying the vapor deposition material 1 is provided below the storage case 2.
Otherwise, the configuration is the same as that of the first embodiment. That is, the material supply mechanism 10 is of a revolver type, and includes a rotating body 11 rotatably disposed below the storage case 2 as shown in FIGS.
The rotating body 11 has a rotating shaft 12 attached to the center thereof, and is configured to rotate with the rotating shaft 12. A plurality of accommodation holes 13 for accommodating the block-shaped deposition material 1 are provided at a predetermined interval in a predetermined location in the peripheral portion of the rotating body 11, that is, a location where the storage case 2 sequentially corresponds to the rotation of the rotating body 11. Is provided. Each of these accommodation holes 13 is opened in the vertical direction, and a projection 14 for preventing falling is provided at the lower end thereof. A block-shaped vapor deposition material 1 accommodated in the accommodation hole 13 is provided below the accommodation hole 13 corresponding to the accommodation case 2.
A push-up member 7 that pushes up the inside of the housing case 2 is provided.
【００２２】このような蒸着装置では、材料補給機構１
０を備えているので、回転体１１に設けられた複数の収
容孔１３内にそれぞれブロック形状の蒸着材料１を収容
し、この状態で回転体１１を回転させて収容された複数
の蒸着材料１のいずれかを収容ケース２の下に対応さ
せ、この対応したブロック形状の蒸着材料１を押上げ部
材７で押し上げることにより、図９（ａ）に示すよう
に、収容ケース２内に予め収容された蒸着材料１の下に
回転体１１側の蒸着材料１を積層させた状態で、蒸着の
進行に応じて徐々に押し上げることができる。この状態
で、収容ケース２内に予め収容された蒸着材料１が完全
に消費されると、図９（ｂ）に示すように、回転体１１
側の蒸着材料１が収容ケース２内に連続して収容される
ので、この蒸着材料１が連続して加熱されることにな
る。この後、押上げ部材７が回転体１１の下側に引き下
げられ、図９（ｃ）に示すように、回転体１１が回転し
て他の収容孔１３に収容された蒸着材料１が収容ケース
２の下に対応し、この対応したブロック形状の蒸着材料
１が押上げ部材７で押し上げられることになる。これに
より、連続的に蒸着材料１を収容ケース２内に補給する
ことができ、このため長期間に亘って連続して安定した
蒸着ができる。In such a vapor deposition apparatus, the material supply mechanism 1
0, the block-shaped deposition material 1 is stored in each of the plurality of storage holes 13 provided in the rotating body 11, and in this state, the rotating body 11 is rotated to store the plurality of deposition materials 1. Is made to correspond to the lower part of the storage case 2, and the corresponding block-shaped deposition material 1 is pushed up by the push-up member 7 so as to be stored in the storage case 2 in advance as shown in FIG. In a state where the vapor deposition material 1 on the rotating body 11 side is stacked under the vapor deposition material 1, the pressure can be gradually raised as the vapor deposition progresses. In this state, when the evaporation material 1 previously stored in the storage case 2 is completely consumed, as shown in FIG.
Since the vapor deposition material 1 on the side is continuously stored in the storage case 2, the vapor deposition material 1 is continuously heated. Thereafter, the push-up member 7 is pulled down to the lower side of the rotating body 11, and as shown in FIG. 9C, the rotating body 11 rotates to deposit the vapor deposition material 1 housed in the other housing hole 13. 2, the corresponding block-shaped deposition material 1 is pushed up by the push-up member 7. Thereby, the vapor deposition material 1 can be continuously supplied into the storage case 2, and therefore, stable vapor deposition can be continuously performed over a long period of time.
【００２３】なお、上記実施形態では、１つの収容ケー
ス２内に蒸着材料１を収容した単一蒸着源により複数の
蒸着物質（元素）を蒸着する場合について述べたが、こ
れに限らず、例えば、図１０に示すように、複数の蒸着
源２０により複数の物質をそれぞれ蒸着するようにして
も良い。この場合には、各蒸着源２０の上方にそれぞれ
シャッタ２１を開閉可能に設ける必要がある。すなわ
ち、これらシャッタ２１は、これらの開閉状態を制御し
ながら蒸着する際、シャッタ２１が開いた蒸着源２０か
ら蒸発した物質が他の蒸着源２０内に付着して、他の蒸
着源２０が汚染されないようにするためのものである。
このため、シャッタ２１は、他の蒸着源２０から蒸発し
た物質に汚染されることなく、それ自体の蒸着源２０か
ら蒸発した物質を高純度で回収し、再利用可能とするた
めに、内部が半球状にくり抜かれた鍋形状に形成されて
いる。このようにすれば、他の蒸着源２０から蒸発した
物質をシャッタ２１の外面に、それ自体の蒸着源２０か
ら蒸発した物質をシャッタ２１の内面に分別して付着さ
せることができ、これにより、それ自体の蒸着源２０か
ら蒸発した物質を高純度のまま簡単に回収することがで
きる。In the above embodiment, the case where a plurality of deposition materials (elements) are deposited by a single deposition source in which the deposition material 1 is stored in one storage case 2 is described. As shown in FIG. 10, a plurality of substances may be deposited by a plurality of deposition sources 20, respectively. In this case, it is necessary to open and close the shutters 21 above the respective vapor deposition sources 20. That is, when vapor deposition is performed while controlling the opening / closing state of the shutters 21, the substance evaporated from the vapor deposition source 20 with the shutter 21 opened adheres to the other vapor deposition sources 20, and the other vapor deposition sources 20 become contaminated. This is to prevent that.
For this reason, the inside of the shutter 21 recovers the substance evaporated from its own evaporation source 20 with high purity without being contaminated by the substance evaporated from the other evaporation source 20, and makes the inside of the shutter 21 reusable. It is formed in a pot shape hollowed out in a hemisphere. In this way, the material evaporated from the other evaporation source 20 can be separated and attached to the outer surface of the shutter 21 and the material evaporated from the evaporation source 20 itself can be separated and attached to the inner surface of the shutter 21. The substance evaporated from its own evaporation source 20 can be easily recovered with high purity.
【００２４】また、上記各実施形態では、蒸着源として
有機Ｅｌ素子のカソード電極のような金属であったが、
これに限らず、有機ＥＬ層材料を蒸着しても良い。さら
に、上記実施形態では、収容ケース２や回転体１１の位
置を固定し、押上げ部材７が蒸着材料１を押し上げて収
容ケース２に固定配置された発熱体３のヒータ４に接触
させて蒸着していたが、押上げ部材７で押し上げること
なく、固定された収容ケースから露出した蒸着材料１に
対して、その上方に配置された発熱体３のヒータ４を下
方に移動させて接触させて蒸着しても良い。In each of the above embodiments, a metal such as a cathode electrode of an organic El element is used as a vapor deposition source.
The present invention is not limited to this, and an organic EL layer material may be deposited. Further, in the above embodiment, the positions of the housing case 2 and the rotating body 11 are fixed, and the push-up member 7 pushes up the vapor deposition material 1 and contacts the heater 4 of the heating element 3 fixedly arranged in the housing case 2 to perform vapor deposition. However, the heater 4 of the heating element 3 disposed above is moved downward to contact the vapor-deposited material 1 exposed from the fixed storage case without being pushed up by the push-up member 7. It may be deposited.
【００２５】[0025]
【発明の効果】以上説明したように、請求項１記載の発
明によれば、移動手段により収容部に収容された蒸着材
料と発熱体とを接触または接近する所定位置に配置する
ために蒸着材料または前記発熱体を移動させ、この状態
で発熱体により収容部内に収容された蒸着材料の上面を
加熱するので、蒸着材料をその上面から順次蒸発させる
ことができ、これにより常に安定した蒸着ができるとと
もに、従来のように蒸着材料全体を常に蒸発温度に維持
する必要がなく、蒸着材料の上面のみを順次蒸発させる
ので、蒸着材料の不必要な消耗を防ぐことができる。ま
た、蒸着材料にこの蒸着材料より沸点の高い不純物が混
入していた場合、蒸着が進むに従い蒸着源の不純物濃度
が高くなるといったことがなく、さらに複数種の沸点の
異なる金属からなる合金を蒸着材料とする場合、全体を
溶融することがないので、常に一定の組成比で蒸着する
ことができる。As described above, according to the first aspect of the present invention, the vapor deposition material accommodated in the container by the moving means and the heating element are arranged at a predetermined position where they come into contact with or approach each other. Alternatively, the heating element is moved, and in this state, the heating element heats the upper surface of the vapor deposition material accommodated in the accommodating portion, so that the vapor deposition material can be sequentially evaporated from the upper surface, whereby stable vapor deposition can be always performed. In addition, unlike the related art, it is not necessary to constantly maintain the entire vapor deposition material at the evaporation temperature, and only the upper surface of the vapor deposition material is sequentially vaporized, so that unnecessary consumption of the vapor deposition material can be prevented. In addition, when impurities having a higher boiling point than the vapor deposition material are mixed into the vapor deposition material, the impurity concentration of the vapor deposition source does not increase as the vapor deposition proceeds, and an alloy made of a plurality of types of metals having different boiling points is vapor deposited. In the case where the material is used, since the whole is not melted, it is possible to always deposit with a constant composition ratio.
【００２６】この場合、発熱体に対する蒸着材料の接触
圧、または発熱体に対する蒸着材料の材料位置を検出す
る検出部を備え、この検出部で検出された情報に基づい
て移動手段による蒸着材料と発熱体との位置を制御する
することにより、蒸着中でも蒸着材料の供給状態および
蒸発状態を一定に保つことができ、より一層、安定した
蒸着ができる。また、収容部内に収容された蒸着材料の
上面に対して発熱体を接離可能に昇降させる昇降手段を
備え、この昇降手段により発熱体を上昇させて蒸着材料
の上面から離間させることにより、発熱体の温度を変え
ずに短時間で蒸発を停止させることができるので、蒸着
膜の膜厚の制御が容易でシャッタが必ずしも必要なく、
しかも発熱体の温度を変えないことにより、発熱体に付
着した蒸着材料を完全に蒸発させることができ、この後
発熱体を冷すことにより長期間繰り返して使用すること
ができる。In this case, there is provided a detector for detecting the contact pressure of the vapor deposition material with respect to the heating element or the material position of the vapor deposition material with respect to the heating element. By controlling the position with respect to the body, the supply state and the evaporation state of the evaporation material can be kept constant even during the evaporation, and more stable evaporation can be performed. In addition, the apparatus includes elevating means for elevating and lowering the heating element with respect to the upper surface of the vapor deposition material accommodated in the accommodating portion. Since evaporation can be stopped in a short time without changing the temperature of the body, it is easy to control the thickness of the deposited film, and a shutter is not necessarily required.
In addition, by keeping the temperature of the heating element unchanged, the vapor deposition material attached to the heating element can be completely evaporated, and then the heating element can be cooled and used repeatedly for a long time.
【００２７】さらに、発熱体は、カーボングラファイト
からなるヒータを有し、そのヒータの両端部を除く外表
面に熱分解窒化ホウ素からなる絶縁コートが施されてい
ることにより、蒸着材料としてＡｌを用いた場合、カー
ボングラファイトからなるヒータがＡｌと化学反応を起
こしたり、ヒータにＡｌがしみ込んだりするのを防ぐこ
とができ、これにより化学的および電気的に安定した状
態でヒータを保護することができ、これによっても長期
間に亘る繰り返し使用が可能になる。また、収容部の下
側に回転可能に配置された回転体に固体状態の蒸着材料
を複数配置し、これら複数の蒸着材料のいずれかを回転
体の回転に応じて収容部の下に対応させ、この対応した
固体状態の蒸着材料を移動手段で押し上げることによ
り、この押し上げられた回転体側の蒸着材料を収容部内
に予め収容された蒸着材料の下に積層させて連続的に補
給する材料補給機構を備えていることにより、長期間に
亘って連続して安定した蒸着を行うことができる。Further, the heating element has a heater made of carbon graphite, and the outer surface of the heater except for both ends is coated with an insulating coat made of pyrolytic boron nitride. In this case, it is possible to prevent the heater made of carbon graphite from causing a chemical reaction with Al and from infiltrating Al into the heater, thereby protecting the heater in a chemically and electrically stable state. This also enables repeated use over a long period of time. In addition, a plurality of solid-state deposition materials are arranged on a rotating body rotatably arranged below the storage unit, and any one of the plurality of deposition materials is made to correspond to the lower part of the storage unit according to the rotation of the rotating body. A material replenishing mechanism for continuously replenishing the corresponding solid-state vapor deposition material by pushing up the corresponding solid-state vapor deposition material below the vapor deposition material previously stored in the storage section by pushing up the raised rotary body-side vapor deposition material. Is provided, it is possible to continuously perform stable vapor deposition over a long period of time.
【００２８】請求項６記載の発明によれば、固体状態の
蒸着材料と、この蒸着材料の上方に配置され、蒸着材料
を溶融する温度に加熱可能な発熱体と、を接触または接
近する所定位置に配置するために、蒸着材料または発熱
体を移動させるので、蒸着材料をその上面から順次蒸発
させることができ、これにより常に安定した蒸着ができ
るとともに、従来のように蒸着材料全体を常に蒸発温度
に維持する必要がなく、蒸着材料の上面のみを順次蒸発
させるので、蒸着材料の不必要な消耗を防ぐことができ
る。According to the sixth aspect of the present invention, the predetermined position where the solid-state vapor deposition material is brought into contact with or close to the heating element which is disposed above the vapor deposition material and can be heated to a temperature at which the vapor deposition material is melted. Since the vapor deposition material or the heating element is moved in order to arrange the vapor deposition material, the vapor deposition material can be sequentially vaporized from the upper surface thereof, whereby stable vapor deposition can be always performed, and the vapor deposition material as a whole can always be vaporized as in the related art. , And only the upper surface of the evaporation material is sequentially evaporated, so that unnecessary consumption of the evaporation material can be prevented.
【図１】この発明の蒸着装置の第１実施形態を示した平
面図。FIG. 1 is a plan view showing a first embodiment of a vapor deposition apparatus of the present invention.
【図２】図１のＡ−Ａ断面図。FIG. 2 is a sectional view taken along line AA of FIG.
【図３】図１の発熱体の平面図。FIG. 3 is a plan view of the heating element of FIG. 1;
【図４】図３のＢ−Ｂ断面図。FIG. 4 is a sectional view taken along line BB of FIG. 3;
【図５】図５は図４のヒータを示し、（ａ）はその正面
図、（ｂ）はその要部の拡大断面図。5 shows the heater of FIG. 4, wherein FIG. 5 (a) is a front view thereof, and FIG. 5 (b) is an enlarged sectional view of a main part thereof.
【図６】図２の発熱体を蒸着材料の上方に移動させて離
間させた状態を示した断面図。FIG. 6 is a cross-sectional view showing a state in which the heating element of FIG. 2 is moved above a deposition material and separated therefrom.
【図７】この発明の蒸着装置の第２実施形態を示した概
略断面図。FIG. 7 is a schematic sectional view showing a second embodiment of the vapor deposition apparatus of the present invention.
【図８】図７を概略的に示した斜視図。FIG. 8 is a perspective view schematically showing FIG. 7;
【図９】図７の材料補給機構の動作状態を示し、（ａ）
は収容ケース内の蒸着材料の減少に応じて回転体側の蒸
着材料の一部が収容ケース内に押し上げられた状態を示
した図、（ｂ）は収容ケース内の蒸着材料が完全に無く
なって回転体側の蒸着材料が収容ケース内に収容された
状態を示した図、（ｃ）は収容ケース内に蒸着材料が収
容された状態で押上げ部材を引き下げ、回転体を回転さ
せて回転体側の他の蒸着材料を収容ケースの下に対応さ
せた状態を示した図。9 shows an operation state of the material supply mechanism of FIG. 7, and (a)
FIG. 4B shows a state in which a part of the vapor deposition material on the rotating body side is pushed up into the storage case in accordance with a decrease in the vapor deposition material in the storage case. FIG. The figure which showed the state where the vapor deposition material of the body side was accommodated in the accommodation case, FIG.3 (c) pulls down the push-up member in the state where the vapor deposition material was accommodated in the accommodation case, and rotated the rotating body, and rotated the other rotating body side. The figure which showed the state which made the vapor deposition material correspond under the accommodation case.
【図１０】この発明の蒸着装置の変形例を示した概略
図。FIG. 10 is a schematic view showing a modification of the vapor deposition apparatus of the present invention.
１ 蒸着材料 ２ 収容ケース ３ 発熱体 ４ ヒータ ４ａ 絶縁コート ７ 押上げ部材 ８ 検出部 ９ 昇降部材 １０ 材料補給機構 １１ 回転体 １３ 収容孔 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Deposition material 2 Storage case 3 Heating element 4 Heater 4a Insulation coat 7 Push-up member 8 Detector 9 Elevating member 10 Material supply mechanism 11 Rotating body 13 Housing hole
Claims (6)
を収容する収容部と、 前記収容部の上方に配置され、前記蒸着材料を溶融する
温度に加熱可能な発熱体と、 前記収容部に収容された前記蒸着材料と前記発熱体とを
接触または接近する所定位置に配置するために、前記収
容部に収容された前記蒸着材料または前記発熱体を移動
させる移動手段とを備えたことを特徴とする蒸着装置。A container having an opening above and containing a solid-state vapor deposition material; a heating element disposed above the container and heatable to a temperature at which the vapor deposition material is melted; Moving means for moving the vapor deposition material or the heating element accommodated in the accommodation section in order to arrange the vapor deposition material accommodated in the accommodation section and the heating element at a predetermined position for contacting or approaching; A vapor deposition apparatus characterized by the above-mentioned.
圧、または前記発熱体に対する前記蒸着材料の材料位置
を検出する検出部を備え、 この検出部で検出された情報に基づいて前記移動手段に
よる前記蒸着材料と前記発熱体との位置を制御すること
を特徴とする請求項１記載の蒸着装置。A detecting unit for detecting a contact pressure of the vapor deposition material with respect to the heating element or a material position of the vapor deposition material with respect to the heating element, wherein the moving unit detects the pressure based on information detected by the detection unit. The vapor deposition apparatus according to claim 1, wherein the position of the vapor deposition material and the heating element is controlled.
上面に対して前記発熱体を接離可能に昇降させる昇降手
段を備えたことを特徴とする請求項１また２記載の蒸着
装置。3. The vapor deposition apparatus according to claim 1, further comprising elevating means for elevating and lowering the heating element so as to be able to approach and separate from the upper surface of the vapor deposition material accommodated in the accommodation section.
なるヒータを有し、このヒータの両端部を除く外表面に
熱分解窒化ホウ素からなる絶縁コートが施されているこ
とを特徴とする請求項１記載の蒸着装置。4. The heating element has a heater made of carbon graphite, and an outer surface excluding both ends of the heater is coated with an insulating coat made of pyrolytic boron nitride. The vapor deposition apparatus according to the above.
回転体に前記固体状態の蒸着材料を複数配置し、これら
複数の蒸着材料のいずれかを前記回転体の回転に応じて
前記収容部の下に対応させ、この対応した固体状態の蒸
着材料を前記移動手段で押し上げることにより、この押
し上げられた前記回転体側の前記蒸着材料を前記収容部
内に予め収容された前記蒸着材料の下に積層させて連続
的に補給する材料補給機構を備えていることを特徴とす
る請求項１記載の蒸着装置。5. A plurality of said solid-state vapor deposition materials are arranged on a rotatable member rotatably disposed below said storage portion, and any one of said plurality of vapor deposition materials is set in accordance with rotation of said rotary member. By making the corresponding solid state vapor deposition material be pushed up by the moving means, the vapor deposition material on the rotating body side which has been pushed up is placed under the vapor deposition material previously accommodated in the container. 2. The vapor deposition apparatus according to claim 1, further comprising a material supply mechanism for continuously supplying the material by stacking the materials.
方に配置され、蒸着材料を溶融する温度に加熱可能な発
熱体と、を接触または接近する所定位置に配置するため
に、前記蒸着材料または前記発熱体を移動させることを
特徴とする蒸着方法。6. The method according to claim 1, further comprising the step of: disposing the vapor-deposited material in a solid state and a heating element disposed above the vapor-deposited material and capable of heating the vapor-deposited material to a temperature at which the vapor-deposited material is melted. A vapor deposition method characterized by moving a material or the heating element.
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