JP2000246787A - Manufacture of thermoplastic polymer sheet - Google Patents

Manufacture of thermoplastic polymer sheet

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JP2000246787A
JP2000246787A JP11051423A JP5142399A JP2000246787A JP 2000246787 A JP2000246787 A JP 2000246787A JP 11051423 A JP11051423 A JP 11051423A JP 5142399 A JP5142399 A JP 5142399A JP 2000246787 A JP2000246787 A JP 2000246787A
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JP
Japan
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polymer sheet
sheet
thermoplastic polymer
die
metal belt
Prior art date
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JP11051423A
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Japanese (ja)
Inventor
Susumu Arai
進 新井
Junji Tanaka
順二 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Publication date
Application filed by Sumitomo Bakelite Co Ltd filed Critical Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To use a spacer held at an accurate gap with excellent thickness accuracy and small sheet warp by cooling a thermoplastic polymer sheet melt extruded from a T-die or a coating hanger die by a metal belt having a length so that a contact time at a non-curvature part becomes specific in a flowing direction. SOLUTION: An air gap distance until a thermoplastic polymer sheet is brought into contact with a metal belt after the sheet is extruded from a T-die or a coating hanger die having a lip gap of predetermined times as large as a thickness of the sheet is set to a predetermined length. When the gap exceeds a predetermined value, a thickness accuracy is deteriorated, and hence to fall the gap within a predetermined value, a diameter of a roll is reduced, and a lip end of the die is formed in a shape along the roll. A length of the belt is set so as to sufficiently cool the sheet by bringing a cooling time at a position having no curvature to the flowing direction of the sheet into 20 s or above. Thus, a spacer for holding the accurate gap becomes optimum with excellent thickness accuracy and small sheet warp.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、熱可塑性高分子シ
ートの作製方法について、厚み精度に優れ、シートの反
りが少なく、磨耗による重量減少が少ない熱可塑性高分
子シートの製造方法に関するものであり、厚み精度が要
求されるスペーサー等の用途に適しており、例えば、研
磨用のスベーサー、高精度のモーター部の摺動スペーサ
ー、プリンターヘッド等の分野に使用される。研磨用の
スペーサーとしては、Siウエハの研磨、表示デバイス
用のガラスの研磨、アルミ等からなるハードディスクの
研磨等に使用できる。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a thermoplastic polymer sheet, which is excellent in thickness accuracy, has less warpage of the sheet, and has less weight loss due to abrasion. It is suitable for applications such as spacers that require thickness accuracy, and is used, for example, in the fields of polishing spacers, high-precision motor-unit sliding spacers, and printer heads. The polishing spacer can be used for polishing a Si wafer, polishing a glass for a display device, polishing a hard disk made of aluminum or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、溶融押し出し法で熱可塑性高分子
シートを製造する場合、厚み精度が悪く、カールが発生
するため、高精度なギャップを保持するためのスペーサ
ー用途としては信頼性を欠くものであった。例えば、研
磨用スペーサーとしてSiウエハの研磨用スペーサーを
考えた場合、耐磨耗性が要求されているが満足するもの
はなく、発塵等の問題があった。
2. Description of the Related Art Conventionally, when a thermoplastic polymer sheet is manufactured by a melt extrusion method, the thickness accuracy is poor and curling occurs, so that it is unreliable as a spacer application for maintaining a highly accurate gap. Met. For example, when a polishing spacer of a Si wafer is considered as a polishing spacer, abrasion resistance is required, but none is satisfied, and there is a problem such as dust generation.

【0003】高精度なギャップを保持するスペーサー用
途としては、アルミニウムや銅等の金属を使用する場合
があるが、特に、半導体用途のSiウエハ研磨スペーサ
ーとしては、Siウエハの場合と同様に金属スペーサー
が研磨され、その金属粉が後工程でのパターン回路作成
時のコンタミとなり、回路間で短絡するといった不具合
の原因となる。
As a spacer for maintaining a high-precision gap, a metal such as aluminum or copper may be used. In particular, as a polishing spacer for a Si wafer for a semiconductor, a metal spacer is used as in the case of a Si wafer. Is polished, and the metal powder becomes a contaminant at the time of forming a pattern circuit in a later process, and causes a short circuit between the circuits.

【0004】高分子シートでは、厚み精度が難しく、ま
た、カール特性が課題となり高精度なギャップを保持す
るためのスペーサーとしては使用出来なかった。ガラス
フィラーの入ったエポキシ樹脂は、強靱な樹脂ではある
がガラスフィラーを含むため、コンタミとなるフィラー
粉を発生しやすく使用するには注意が必要であった。高
精度なギャップを保持し、後工程で不良の原因となるコ
ンタミを発生しないスペーサーが必要とされている。
In the polymer sheet, the thickness accuracy is difficult, and the curl characteristic is a problem, so that it cannot be used as a spacer for maintaining a highly accurate gap. An epoxy resin containing a glass filler is a tough resin, but contains a glass filler. Therefore, it is necessary to pay attention to using the filler because it tends to generate a filler powder that becomes a contamination. There is a need for a spacer that maintains a high-precision gap and does not generate contamination that may cause a defect in a subsequent process.

【0005】厚み精度を向上させる手段として、一般的
に、Tダイやコートハンガーダイを使用した溶融押しだ
し法を使用する場合、熱可塑性高分子が通る流路内での
せん断応力や滞留によるダイス出口での圧力ばらつきを
低減する方法や、ダイラインと呼ばれる凹凸筋の原因と
なるダイスの面やリップの精度を向上させる方法、ダイ
スより押し出されたシートの幅方向、厚み方向に於ける
温度分布の改善、ネックインを減少させるために熱風を
吹き付けたり、ガイドロールを設けたりする方法等が挙
げられるが、解決に至っていないのが現状である。
[0005] In general, when a melt extrusion method using a T die or a coat hanger die is used as a means for improving the thickness accuracy, a die exit due to shear stress or stagnation in a flow path through which a thermoplastic polymer passes. Method to reduce the pressure variation in the die, to improve the accuracy of the die surface and lip that causes uneven lines called die line, and to improve the temperature distribution in the width direction and thickness direction of the sheet extruded from the die In order to reduce the neck-in, a method of blowing hot air or providing a guide roll may be used, but it has not been solved yet.

【0006】厚み精度の良好な高分子シートの製造方法
の手段として、熱可塑性高分子を溶剤に溶解させ、フィ
ルムもしくは金属ベルト等にコーティングし乾燥させる
溶剤キャスト法が知られているが、シート厚みが厚くな
った場合の生産性及びシート中の溶剤の残留が問題とな
る。
As a means for producing a polymer sheet having good thickness accuracy, a solvent casting method in which a thermoplastic polymer is dissolved in a solvent, coated on a film or a metal belt and dried is known. When the thickness of the sheet is increased, the productivity and the residual solvent in the sheet become problems.

【0007】寸法を高精度に仕上げた金型に熱可塑性高
分子を封入して成形する射出成形法もCDディスクの成
形で知られるように生産性も問題ないことから有力候補
と考えられるが、射出成形法では数mmオーダーの厚み
のシートが限界であり、数百μmのオーダーの厚みには
対応できない。
The injection molding method in which a thermoplastic polymer is sealed in a mold whose dimensions have been finished with high precision is considered to be a promising candidate because there is no problem in productivity as is known in the molding of CD disks. In the injection molding method, a sheet having a thickness on the order of several mm is the limit, and it cannot cope with a thickness on the order of several hundred μm.

【0008】カール性を向上させるために後加工を行う
ことも知られているが、表面を高精度に仕上げた板で、
ある一定間隔でシートをプレスし、厚み精度を向上さ
せ、カールを改善する方法は生産性が悪く、大量生産に
は向いておらず製造方法としては適していない。シート
の反りについては、一般的に知られている冷却ロールで
の冷却方法は、冷却固化時に冷却ロールの円周を形取る
ことによりシートの反りが発生すると考えられている
が、その解決法として極めて大きな冷却ロールを使用し
曲率を増加させることが考えられるが経済的に適さな
い。
[0008] It is also known to perform post-processing to improve curl properties, but it is a plate whose surface is finished with high precision.
The method of pressing the sheet at a certain interval, improving the thickness accuracy, and improving the curl has poor productivity, is not suitable for mass production, and is not suitable as a manufacturing method. Regarding the sheet warpage, the generally known cooling method using a cooling roll is considered to cause the sheet to be warped by shaping the circumference of the cooling roll during cooling and solidification. It is conceivable to use a very large chill roll to increase the curvature, but this is not economically suitable.

【0009】また、曲率のない平板上で高分子シートを
冷却固化する事により解決が見いだされると考えられる
が、冷却面に接触している高分子シートの表面温度と高
分子シートの反対側の表面温度との差によりシートの反
りが発生し易くなる。このように、厚み精度に優れ、且
つシートの反りが小さく、且つ耐磨耗性の高い熱可塑性
高分子シートを製造することは現状技術では困難であっ
た。
It is considered that a solution can be found by cooling and solidifying the polymer sheet on a flat plate having no curvature. However, the surface temperature of the polymer sheet in contact with the cooling surface and the temperature on the opposite side of the polymer sheet are considered. Warpage of the sheet is likely to occur due to the difference from the surface temperature. As described above, it has been difficult in the state of the art to produce a thermoplastic polymer sheet having excellent thickness accuracy, small sheet warpage, and high abrasion resistance.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的とすると
ころは、高分子シートの厚み精度に優れ、且つ、高分子
シートの反りが小さく、高精度なギャップを保持するた
めのスペーサーとして使用され、例えば研磨用シートと
して問題なく使用できる熱可塑性高分子シートの製造方
法を提供するものである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a polymer sheet which is excellent in thickness accuracy, has a small warpage of the polymer sheet, and is used as a spacer for maintaining a high-precision gap. Another object of the present invention is to provide a method for producing a thermoplastic polymer sheet which can be used as a polishing sheet without any problem.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】従来技術では、到達し得
なかった厚み精度に優れ、且つシートの反りが小さく、
且つ、テーパ磨耗による重量減少が少ない高分子シート
を得んと鋭意検討した結果、Tダイもしくはコートハン
ガーダーから溶融押しだしされた熱可塑性高分子シート
を、ダイから押し出された前記熱可塑性高分子シートの
流れ方向に対し、曲率のない形で接触している時間が2
0秒以上ある長さの金属ベルトを用いて冷却シート化す
る熱可塑性高分子シートの製造方法である。
According to the prior art, the thickness accuracy that could not be attained is excellent, the sheet warpage is small,
In addition, as a result of diligent studies to obtain a polymer sheet having a small weight loss due to taper abrasion, the thermoplastic polymer sheet melt-extruded from a T-die or a coat hanger ladder is used as the thermoplastic polymer sheet extruded from the die. The time of contact without curvature in the flow direction of
This is a method for producing a thermoplastic polymer sheet which is formed into a cooling sheet using a metal belt having a length of 0 second or longer.

【0012】更に好ましい形態としては、該熱可塑性高
分子シートが該金属ベルトに接触する最初の部分の金属
ベルトの温度(V1)が、熱可塑性高分子の融点(T
g)に対し、Tg−10≦V1≦Tg+150(℃)の
範囲にあり、熱可塑性高分子シートの流れ方向に対し曲
率の無い前記金属ベルトの温度(V2)が、Tg−30
≦V2≦Tg+50(℃)の範囲にあり、冷却された熱
可塑性高分子シートが、上記金属ベルトから離れる部分
の金属ベルトの温度(V3)が、Tg−50≦V3≦T
g(℃)であり、且つ、V3≦V2≦V1(℃)の範囲
にあり、該金属ベルトに接触している側の該熱可塑性高
分子シートの表面温度と前記高分子シートの反対側の表
面温度をほぼ同じ温度にする熱可塑性高分子シートの製
造方法である。
In a further preferred embodiment, the temperature (V1) of the first portion of the metal belt where the thermoplastic polymer sheet comes into contact with the metal belt is adjusted to the melting point (T.sub.T) of the thermoplastic polymer.
g), the temperature (V2) of the metal belt which is in the range of Tg-10 ≦ V1 ≦ Tg + 150 (° C.) and has no curvature in the flow direction of the thermoplastic polymer sheet is Tg-30.
≦ V2 ≦ Tg + 50 (° C.), and the temperature (V3) of the metal belt at the portion where the cooled thermoplastic polymer sheet is separated from the metal belt is Tg−50 ≦ V3 ≦ T
g (° C.) and in the range of V 3 ≦ V 2 ≦ V 1 (° C.), and the surface temperature of the thermoplastic polymer sheet in contact with the metal belt and the surface temperature of the opposite side of the polymer sheet This is a method for producing a thermoplastic polymer sheet having the same surface temperature.

【0013】更に、該Tダイもしくはコートハンガーダ
イのリップ間隙が該熱可塑性高分子シートの厚みに対
し、3倍以上50倍以下であり、且つ、該熱可塑性高分
子シートがダイのリップから押し出しされた後、金属ベ
ルトに接するまでの距離が10mm以上100mm以下
であり、該Tダイもしくはコートハンガーダイで溶融押
しだしされる該熱可塑性高分子シートが結晶性の樹脂で
あり、且つ、厚みが300μm以上1000μm以下で
あり、高分子シート面内での厚み公差(Rmax)が1
0μm以下であり、300mm角のシートの反り量が5
mm以下であり、テーパ磨耗による重量減少が10mg
/1000回転であり、さらに該熱可塑性高分子シート
が、ポリエーテルエーテルケトンである熱可塑性高分子
シートの製造方法である。
Further, the lip gap of the T die or the coat hanger die is not less than 3 times and not more than 50 times the thickness of the thermoplastic polymer sheet, and the thermoplastic polymer sheet is extruded from the lip of the die. The distance before contact with the metal belt is 10 mm or more and 100 mm or less, and the thermoplastic polymer sheet melt-extruded with the T die or the coat hanger die is a crystalline resin and has a thickness of 300 μm. 1000 μm or less, and the thickness tolerance (Rmax) within the polymer sheet plane is 1
0 μm or less, and the amount of warpage of a 300 mm square sheet is 5
mm or less, and the weight loss due to taper wear is 10 mg
/ 1000 revolutions, and wherein the thermoplastic polymer sheet is a polyetheretherketone.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】詳細に説明すると、熱可塑性高分
子シートの厚みに関しては、300μm以上1000μ
m以下が好ましく、更に好ましくは400μm以上70
0μm以下である。高分子シートの厚みが300μm未
満であると通常の溶融押し出し法にて厚み精度、カール
性を満足するものが得られ、製造方法を限定する必要が
ない。1000μmを越えると機能上好ましくない。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The thickness of a thermoplastic polymer sheet is not less than 300 μm and not more than 1000 μm.
m or less, more preferably 400 μm or more and 70 μm or more.
0 μm or less. When the thickness of the polymer sheet is less than 300 μm, a sheet satisfying the thickness accuracy and curl properties can be obtained by a usual melt extrusion method, and there is no need to limit the production method. If it exceeds 1000 μm, it is not preferable in terms of function.

【0015】高分子シートの面内厚み公差(Rmax)
は、10μm以下が好ましく、更に好ましくは、5μm
以下である。高分子シートの面内厚みの公差(Rma
x)が10μmを越えると、例えば、Siウエハを研磨
する際、高分子シートの厚み公差と同等レベルに研磨さ
れるため、10μm以下が好ましい。
In-plane thickness tolerance (Rmax) of the polymer sheet
Is preferably 10 μm or less, more preferably 5 μm
It is as follows. In-plane thickness tolerance of polymer sheet (Rma
If x) exceeds 10 μm, for example, when polishing a Si wafer, it is polished to the same level as the thickness tolerance of the polymer sheet, so that it is preferably 10 μm or less.

【0016】高分子シートの反りは、300mm角の大
きさで5mm以下が好ましく、更に好ましくは3mm以
下であり、より好ましくは1mm以下である。高分子シ
ートの反りが5mmを越えると、厚み精度が良好であっ
てもその応力により高精度なギャップ保持が困難で、ま
た、取り扱いが難しく生産性が悪化する。
The warp of the polymer sheet is preferably 300 mm square, preferably 5 mm or less, more preferably 3 mm or less, more preferably 1 mm or less. If the warpage of the polymer sheet exceeds 5 mm, even if the thickness accuracy is good, it is difficult to maintain a high-precision gap due to the stress, and handling becomes difficult and productivity is deteriorated.

【0017】テーパ磨耗による重量減少は、10mg/
1000回以下が好ましく、更に好ましくは、5mg/
1000回である。研磨用のスペーサーとして使用する
場合、研磨によるスペーサー材料のコンタミにより、研
磨精度、及び研磨仕上げ度が悪化し、更には、後工程の
加工時にもコンタミとして作用し、生産性を悪化させ
る。10mg/1000回を越えると、例えば半導体用
のSiウエハ研磨の場合、後工程において精密な回路パ
ターンを作成する際、コンタミがあると不良率が激増
し、更に、導電性があるコンタミの場合には、短絡をも
引き起こす可能性がある。
Weight loss due to taper wear is 10 mg /
It is preferably 1,000 times or less, more preferably 5 mg /
1000 times. When used as a spacer for polishing, contamination of the spacer material by polishing deteriorates the polishing accuracy and the degree of polishing finish, and further acts as a contaminant at the time of processing in a later step, thereby deteriorating productivity. If it exceeds 10 mg / 1000 times, for example, in the case of polishing a Si wafer for a semiconductor, when forming a precise circuit pattern in a post-process, if there is contamination, the defective rate will increase drastically. Can also cause short circuits.

【0018】ダイスのリップ間隙は、シート厚みに対
し、3倍以上50倍以下であることが好ましく、更に好
ましくは、5倍以上40倍以下である。ダイスのリップ
間隙がシート厚みに対し、3倍未満であるとダイスより
溶融押し出しされた高分子シートを引き延ばす作用が少
なくなり、高分子シートの厚み精度が悪化する。50倍
を越えると、厚み調整が難しく、厚みのばらつきが大き
くなる原因になる他、押し出し機の能力次第では、シー
トを押し出すことが出来ないこともある。
The lip gap of the die is preferably 3 times or more and 50 times or less, more preferably 5 times or more and 40 times or less with respect to the sheet thickness. If the lip gap of the die is less than three times the sheet thickness, the effect of stretching the polymer sheet melt-extruded from the die is reduced, and the thickness accuracy of the polymer sheet is deteriorated. If it exceeds 50 times, it is difficult to adjust the thickness, causing a large variation in thickness. In addition, depending on the capacity of the extruder, it may not be possible to extrude the sheet.

【0019】熱可塑性高分子シートがダイのリップから
押し出された後、金属ベルトに接するまでの距離、一般
的にエアギャップと呼ばれる距離は、10mm以上10
0mm以下が好ましく、更に好ましくは、30mm以上
70mm以下である。エアギャップは小さければ小さい
ほど厚み精度が良くなる傾向があるがエアギャップを1
0mm未満にするためには、ロールの径を小さくし、ダ
イスのリップ先端をロールに沿うような形状にする必要
があり、ロールに関しては、金属ベルトのベンディング
ストレスとの関係より、小さくすることに限界がある。
After the thermoplastic polymer sheet is extruded from the lip of the die, the distance until it comes into contact with the metal belt, generally called the air gap, is 10 mm or more.
It is preferably 0 mm or less, more preferably 30 mm or more and 70 mm or less. The smaller the air gap, the better the thickness accuracy tends to be.
In order to make the diameter less than 0 mm, it is necessary to reduce the diameter of the roll and make the tip of the lip of the die along the roll, and the roll should be made smaller than the bending stress of the metal belt. There is a limit.

【0020】ダイスリップの形状に関しては、樹脂圧
力、温度分布等の関係上制約され、10mm未満にする
ことは困難である。また、エアギャップが100mmを
越えると、ネックインが大きく、ネックインの影響によ
り厚み精度が悪くなるほか、大気での冷却が伴い、不均
一な温度分布で延伸、厚み調整されるため、厚み精度が
悪くなる。
The shape of the die slip is restricted due to the resin pressure, temperature distribution, and the like, and it is difficult to reduce the shape to less than 10 mm. When the air gap exceeds 100 mm, the neck-in is large and the thickness accuracy is deteriorated due to the influence of the neck-in. In addition, since the film is cooled in the atmosphere and stretched and adjusted in a non-uniform temperature distribution, the thickness accuracy is increased. Gets worse.

【0021】金属ベルトの長さは、高分子シートの流れ
方向に対し曲率がない位置での冷却時間が20秒以上あ
ることが好ましく、更に好ましくは、30秒以上であ
る。冷却時間が20秒未満となる金属ベルトを使用する
と高分子シートが十分に冷却されず、シートの反りが発
生する原因となる。
The length of the metal belt is preferably at least 20 seconds, more preferably at least 30 seconds, at a position where there is no curvature in the flow direction of the polymer sheet. If a metal belt having a cooling time of less than 20 seconds is used, the polymer sheet will not be sufficiently cooled, causing the sheet to warp.

【0022】ダイスリップから溶融押しだしされた熱可
塑性高分子シートが最初に接触する金属ベルトの温度
(V1)は、熱可塑性高分子のガラス転移点(Tg)に
対し、Tg−10≦V1≦Tg+150(℃)の範囲が
好ましく、更に好ましくは、Tg≦V1≦Tg+120
(℃)である。V1がTg−10℃未満であるとダイス
より溶融押しだしされた高分子シートが急冷され、冷却
シワと呼ばれる外観不良となる他、結晶性の高分子の場
合、結晶化が進行せず、ペーパー磨耗による重量の減少
量が増加する。また、V1がTg+150℃以上である
とダイス温度より高い温度で冷却する不具合の他、高分
子シートが熱分解を起こす可能性がある。
The temperature (V1) of the metal belt that the thermoplastic polymer sheet melt-extruded from the die slip first contacts with the glass transition point (Tg) of the thermoplastic polymer is Tg−10 ≦ V1 ≦ Tg + 150. (° C.), more preferably Tg ≦ V1 ≦ Tg + 120.
(° C.). If V1 is less than Tg-10 ° C., the polymer sheet melt-extruded from the die is rapidly cooled, resulting in poor appearance called cooling wrinkles. In the case of a crystalline polymer, crystallization does not progress and paper abrasion occurs The weight loss due to increases. If V1 is equal to or higher than Tg + 150 ° C., the polymer sheet may be thermally decomposed in addition to cooling at a temperature higher than the die temperature.

【0023】シート流れ方向に対し曲率の無い金属ベル
トの温度(V2;中間部)は、Tg−30≦V2≦Tg
+50(℃)の範囲が好ましく、更に好ましくは、Tg
−30≦V2≦Tg+30である。V2の温度がTg−
30℃未満であるとV1の温度と同様に冷却シワが発生
してしまい、急冷による結晶化の進行が妨げられ、耐磨
耗性が悪化する。Tg+50℃を越えると、高分子シー
トの固化が十分に行われず、シートの反りが発生するこ
とが問題となる。V2の温度条件は、曲率のない金属ベ
ルト上でシートの流れに対し、温度が低くなるよう変化
をつけても構わない。
The temperature (V2; intermediate portion) of the metal belt having no curvature in the sheet flow direction is Tg−30 ≦ V2 ≦ Tg
+50 (° C.), more preferably Tg
−30 ≦ V2 ≦ Tg + 30. The temperature of V2 is Tg-
When the temperature is lower than 30 ° C., cooling wrinkles are generated as in the case of the temperature of V1, and the progress of crystallization by rapid cooling is hindered, and the wear resistance is deteriorated. If the temperature exceeds Tg + 50 ° C., solidification of the polymer sheet is not sufficiently performed, and there is a problem that sheet warpage occurs. The temperature condition of V2 may be changed so that the temperature decreases with respect to the flow of the sheet on the metal belt having no curvature.

【0024】金属ベルトにより冷却された高分子シート
が金属ベルトから離れる時の金属ベルトの温度(V3)
は、Tg−50≦V3≦Tg(℃)が好ましく、更に好
ましくは、Tg−40≦V3≦Tg−10(℃)であ
る。V3の温度がTg−50℃未満であると、冷却シワ
が発生し、Tg℃を越えると金属ベルトから高分子シー
トを引き離す際に、高分子シートと金属シートが溶融密
着し、外観不良を引き起こす。更に、V1、V2、V3
の温度は、V3≦V2≦V1(℃)の関係にあるのが好
ましく、この関係にないと効率の良い高分子シートの冷
却が行われない。
Temperature of the metal belt when the polymer sheet cooled by the metal belt separates from the metal belt (V3)
Is preferably Tg−50 ≦ V3 ≦ Tg (° C.), and more preferably Tg−40 ≦ V3 ≦ Tg−10 (° C.). When the temperature of V3 is lower than Tg-50 ° C., cooling wrinkles are generated. When the temperature exceeds Tg ° C., when the polymer sheet is separated from the metal belt, the polymer sheet and the metal sheet are melted and adhered to each other, causing poor appearance. . Further, V1, V2, V3
Is preferably in a relationship of V3 ≦ V2 ≦ V1 (° C.), and if not, efficient cooling of the polymer sheet will not be performed.

【0025】また、高分子シートの金属ベルトに接触し
ている面と、その面とは反対側の高分子シートの表面温
度とを金属ベルト側とほぼ同じ温度にすることにより、
高分子シートの厚み方向の温度分布を低減し、熱履歴に
よる高分子シートの反りを改善できる。この場合のほぼ
同じ温度とは、それぞれの温度の差が20℃以内であ
り、好ましくは10℃以内であることをいう。温度差が
20℃を越えると高分子シートに反りが発生する。金属
ベルト及び高分子シートの反対面を加熱する方法として
は、赤外線ヒーター加熱、遠赤外線ヒーター加熱、熱媒
オイル、水蒸気等の加熱方法が考えられるがいずれであ
っても支障はない。
Further, by setting the surface of the polymer sheet in contact with the metal belt and the surface temperature of the polymer sheet on the opposite side to the same temperature as the metal belt side,
The temperature distribution in the thickness direction of the polymer sheet can be reduced, and the warpage of the polymer sheet due to heat history can be improved. In this case, substantially the same temperature means that the difference between the temperatures is within 20 ° C., preferably within 10 ° C. If the temperature difference exceeds 20 ° C., the polymer sheet will be warped. As a method for heating the opposite surfaces of the metal belt and the polymer sheet, infrared heater heating, far-infrared heater heating, a heating medium oil, steam, or the like can be considered, but any method can be used.

【0026】ダイスから溶融押しだしされた高分子シー
トを金属ベルトに密着させるために、金属ベルトと同様
の温度に制御されたエアを吹き付けたり、帯電固定によ
り密着させたり、ロールや金属ベルトで物理的にニップ
してもよい。
In order to adhere the polymer sheet melt-extruded from the die to the metal belt, air controlled at the same temperature as that of the metal belt is blown, or the polymer sheet is brought into close contact by charging and fixed. You may nip.

【0027】このような製造方法で作成された高分子シ
ートは、厚み精度が良好で、カールも少なく、高精度な
ギャップを保持するスペーサーとして使用することが出
来る。また、耐磨耗性が良好でありSiウエハ等の研磨
用のスペーサーとしても十分に使用できる。
The polymer sheet produced by such a production method has good thickness accuracy, has little curl, and can be used as a spacer for maintaining a highly accurate gap. Further, it has good abrasion resistance and can be sufficiently used as a spacer for polishing a Si wafer or the like.

【0028】本発明のシートの光学的物性は次の方法に
より測定した。 (1)シート厚み 接触式のダイヤルゲージで高分子シートの幅方向に20
mm間隔で測定した平均値。 (2)シート面内での厚み公差(Rmax) 接触式のダイヤルゲージで高分子シートの幅方向に20
mm間隔で測定した最大値と最小値の差。
The optical properties of the sheet of the present invention were measured by the following methods. (1) Sheet thickness A contact type dial gauge is used to measure the width of the polymer sheet in the width direction.
Average value measured at mm intervals. (2) Thickness tolerance in the sheet surface (Rmax) A contact type dial gauge is used in the width direction of the polymer sheet.
Difference between maximum and minimum values measured at mm intervals.

【0029】(3)高分子シートの反り 高分子シートの流れ方向に300mm長さ、幅方向に3
00mm長さに切り取った正方形のサンプルを、定盤に
対して、高分子シートの表側を上にした場合と下にした
場合の、定盤の面から最大に離れた高分子シートの高さ
を測定し、その最大値をシートの反りとした。
(3) Warpage of the polymer sheet A length of 300 mm in the flow direction of the polymer sheet and 3 in the width direction.
The height of the polymer sheet, which is the largest away from the surface of the surface plate, when the square sample cut to a length of 00 mm is placed with the front side of the polymer sheet up and down with respect to the surface plate, The maximum value was measured as the warpage of the sheet.

【0030】(4)テーパ磨耗による重量減少 1kg荷重にてCS17WHEELの磨耗輪を使用し、
1000回転させた時の重量差を測定。(ATSM−D
1044)
(4) Weight reduction due to taper wear Using a wear wheel of CS17WHEEL with a load of 1 kg,
Measure the weight difference when rotating 1000 times. (ATSM-D
1044)

【0031】[0031]

【実施例】以下本発明を実施例、比較例によって説明す
る。 《実施例1》住友化学工業(株)のポリエーテルエーテ
ルケトン樹脂:ビクトレックスPEEK(Tg=143
℃)をリップ間隙が3mmのダイスを用い、エアギャッ
プを40mmとなるように金属ベルトとダイスを配置
し、ダイから押し出された高分子シートが流れ方向に対
し曲率のない形で接触している金属ベルトの長さが1.
5mの金属ベルトを使用したところ、接触している時間
は22秒であった。金属ベルトの温度(V1)を220
℃、(V2)の温度を130℃、(V3)の温度が10
0℃、高分子シートの金属ベルトに接触している面とは
反対側の面を赤外線ヒーターにより加熱し、金属ベルト
側のシート表面温度とほぼ同じ温度(熱電対で温度を測
定したところ、ベルト側の樹脂温度は132℃、その反
対側は127℃であった)とし、厚みが600μmのシ
ートを成形した。その結果、高分子シート面内での厚み
公差(Rmax)は、3μmであり、300mm角のシ
ートの反り量が2mmであり、且つ、テーパ磨耗による
重量減少が7mg/1000回転である高分子シートを
得ることが出来た。
The present invention will be described below with reference to examples and comparative examples. << Example 1 >> Polyetheretherketone resin manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd .: Victrex PEEK (Tg = 143)
C) using a die with a lip gap of 3 mm, a metal belt and a die arranged so that the air gap is 40 mm, and the polymer sheet extruded from the die is in contact with the flow direction without curvature. The length of the metal belt is 1.
When a 5 m metal belt was used, the contact time was 22 seconds. The temperature (V1) of the metal belt is 220
° C, the temperature of (V2) is 130 ° C, and the temperature of (V3) is 10
At 0 ° C, the surface of the polymer sheet opposite to the surface in contact with the metal belt was heated by an infrared heater, and the temperature was substantially the same as the sheet surface temperature of the metal belt (measured with a thermocouple, The resin temperature on the side was 132 ° C. and the opposite side was 127 ° C.), and a sheet having a thickness of 600 μm was formed. As a result, the thickness tolerance (Rmax) in the plane of the polymer sheet is 3 μm, the amount of warpage of a 300 mm square sheet is 2 mm, and the weight loss due to taper wear is 7 mg / 1000 revolutions. Was obtained.

【0032】《実施例1》で得られた高分子シートを用
いて、半導体用Siウエハを研磨したところ、Siウエ
ハの厚み精度が2μmで研磨することができ、研磨され
た表面は外観上、目視では傷もなく良好であった。ま
た、得られたSiウエハに回路を作成し、導通試験を行
ったところ、短絡は確認されなかった。
When a Si wafer for semiconductors was polished using the polymer sheet obtained in Example 1, the thickness accuracy of the Si wafer could be polished with a thickness of 2 μm. It was good without any scratches visually. When a circuit was formed on the obtained Si wafer and a continuity test was performed, no short circuit was confirmed.

【0033】《比較例1》《実施例1》の条件の内、ダ
イスのリップ間隙を1mmにしたところ、ダイラインと
呼ばれる凹凸筋が発生し、高分子シート面内での厚み公
差(Rmax)が13μmとなった。上記高分子シート
を用いて半導体用Siウエハを研磨したところ、Siウ
エハの厚み精度が18μmとなり、スペーサーとしての
機能を果たすことが出来なかった。
<< Comparative Example 1 >> Under the conditions of <Example 1>, when the lip gap of the die was set to 1 mm, uneven lines called die lines were generated, and the thickness tolerance (Rmax) within the polymer sheet plane was reduced. 13 μm. When the Si wafer for semiconductor was polished by using the above polymer sheet, the thickness accuracy of the Si wafer became 18 μm, and it was not possible to function as a spacer.

【0034】《比較例2》《実施例1》の条件の内、エ
アギャップを130mmとなるようダイスと金属ベルト
を配置したところ、高分子シート面内での厚み公差(R
max)が30μmとなった。上記高分子シートを用い
て半導体用Siウエハを研磨したところ、Siウエハの
厚み精度が25μmとなり、スペーサーとしての機能を
果たすことが出来なかった。
<Comparative Example 2> Under the conditions of <Example 1>, when a die and a metal belt were arranged such that the air gap was 130 mm, the thickness tolerance (R
max) was 30 μm. When a semiconductor Si wafer was polished by using the above polymer sheet, the thickness accuracy of the Si wafer was 25 μm, and the wafer could not function as a spacer.

【0035】《比較例3》《実施例1》の条件の内、V
1の温度を120℃としたところ、急冷されたため冷却
じわによる外観不良が発生し、また、結晶化が進行せ
ず、テーパ磨耗試験を実施したところ12mg/100
0回の結果となった。上記の高分子シートを用いて、半
導体用Siウエハを研磨したところ、Siウエハの厚み
精度が6μで研磨することができたが、PEEKフィル
ムが共に研磨された状態で、再現性、信頼性のおけるも
のではなかった。また、外観上、研磨方向に若干の傷が
目視により確認された。得られたSiウエハに回路を作
成し、導通試験を行ったところ、短絡は確認されなかっ
た。
<< Comparative Example 3 >> Under the conditions of << Example 1, >> V
When the temperature of Sample No. 1 was set to 120 ° C., the appearance was deteriorated due to cooling wrinkles due to rapid cooling, and crystallization did not proceed.
The result was 0 times. When the Si wafer for semiconductors was polished using the above polymer sheet, the thickness accuracy of the Si wafer could be polished at 6 μm. However, the reproducibility and reliability of the PEEK film were polished together. It wasn't something you could do. In addition, some scratches were visually observed in the polishing direction in appearance. When a circuit was formed on the obtained Si wafer and a continuity test was performed, no short circuit was confirmed.

【0036】《比較例4》《実施例1》の条件の内、V
2の温度を220℃としたところ、300mm角のシー
トの反り量が15mmとなった。上記の高分子シートを
用いて、半導体用Siウエハを研磨しようとしたところ
高分子シート反りが原因となって、Siウェハが定常の
位置に納めることが困難であった。また、その状態でS
iウエハを研磨したところ、研磨後のウエハに位置ずれ
が生じ、生産性に問題があった。 《比較例5》《実施例1》の条件の内、V2の温度を1
00℃としたところ、冷却じわが発生した。また、テー
パ磨耗試験を実施したところ、15mg/1000回と
悪化していた。
<< Comparative Example 4 >> Of the conditions of << Example 1, >> V
When the temperature of No. 2 was set to 220 ° C., the warpage of the 300 mm square sheet became 15 mm. When an attempt was made to polish a Si wafer for semiconductor using the above polymer sheet, it was difficult to put the Si wafer in a regular position due to the warpage of the polymer sheet. In that state, S
When the i-wafer was polished, the polished wafer was displaced, and there was a problem in productivity. << Comparative Example 5 >> Within the conditions of << Example 1, >> the temperature of V2 was set to 1
When the temperature was set to 00 ° C., cooling wrinkles occurred. Further, when a taper abrasion test was performed, it was deteriorated to 15 mg / 1000 times.

【0037】《比較例6》《実施例1》の条件の内、V
3の温度を160℃としたところ、金属ベルトからシー
トが離れる際に部分的に融着し、外観不良となったほ
か、300mm角のシートの反り量が10mmとなっ
た。上記の高分子シートを用いて、半導体用Siウエハ
を研磨しようとしたところ高分子シート反りが原因とな
って、Siウェハが定常の位置に納めることが困難であ
った。また、その状態でSiウエハを研磨したところ、
研磨後のウエハに位置ずれが生じ、生産性に問題があっ
た。 《比較例7》《実施例1》の条件の内、V3温度を60
℃としたところ、冷却じわが発生し、また、冷却じわが
原因で金属ベルトからシートが浮き、滑りが発生し、フ
ィルム表面にその際の傷が確認された。
<< Comparative Example 6 >> Of the conditions of << Example 1, >> V
When the temperature of No. 3 was set to 160 ° C., the sheet was partially fused when the sheet was separated from the metal belt, resulting in poor appearance, and a 300 mm square sheet having a warpage of 10 mm. When an attempt was made to polish a Si wafer for semiconductor using the above-mentioned polymer sheet, it was difficult to put the Si wafer in a steady position due to the warpage of the polymer sheet. When the Si wafer was polished in that state,
A positional shift occurs in the polished wafer, which causes a problem in productivity. << Comparative Example 7 >> Under the conditions of <Example 1>, the V3 temperature was set to 60.
When the temperature was set to ° C., cooling wrinkles occurred, and the sheet floated from the metal belt due to the cooling wrinkles, slipping occurred, and scratches on the film surface were confirmed.

【0038】《比較例8》《実施例1》の条件の内、高
分子シートの金属ベルトが接触している面とは反対側の
面の赤外線ヒーターを使用しなかったところ、300m
m角のシートの反り量が8mmとなった。上記の高分子
シートを用いて、半導体用Siウエハを研磨しようとし
たところ高分子シート反りが原因となって、Siウェハ
が定常の位置に納めることが困難であった。また、その
状態でSiウエハを研磨したところ、研磨後のウエハに
位置ずれが生じ、生産性に問題があった。
<< Comparative Example 8 >> Under the conditions of <Example 1>, the infrared heater on the surface opposite to the surface of the polymer sheet in contact with the metal belt was not used.
The amount of warpage of the m-square sheet was 8 mm. When an attempt was made to polish a Si wafer for semiconductor using the above-mentioned polymer sheet, it was difficult to put the Si wafer in a steady position due to the warpage of the polymer sheet. In addition, when the Si wafer was polished in this state, the polished wafer was displaced, and there was a problem in productivity.

【0039】[0039]

【発明の効果】本発明により厚み精度に優れ、基板の反
りが少なく、耐磨耗性が高い熱可塑性高分子シートが開
発できた。また、本発明により得られたシートは高精度
のギャップ保持を行うスペーサー用として最適で、半導
体用のSiウエハの研磨、表示デバイス用のガラスの研
磨等のスペーサーとして有用である。
According to the present invention, a thermoplastic polymer sheet having excellent thickness accuracy, less warpage of the substrate, and high abrasion resistance has been developed. Further, the sheet obtained by the present invention is most suitable for a spacer for maintaining a gap with high precision, and is useful as a spacer for polishing a Si wafer for a semiconductor, polishing a glass for a display device, and the like.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 Tダイもしくはコートハンガーダーから
溶融押しだしされた熱可塑性高分子シートを、ダイから
押し出された前記熱可塑性高分子シートの流れ方向に対
し、曲率のない形で接触している時間が20秒以上ある
長さの金属ベルトを用いて冷却シート化することを特徴
とする熱可塑性高分子シートの製造方法。
1. A time period in which a thermoplastic polymer sheet melt-extruded from a T-die or a coat hanger is in contact with a flow direction of the thermoplastic polymer sheet extruded from a die without any curvature. A method for producing a thermoplastic polymer sheet, comprising forming a cooling sheet using a metal belt having a length of 20 seconds or more.
【請求項2】 該熱可塑性高分子シートが該金属ベルト
に接触する最初の部分の金属ベルトの温度(V1)が、
熱可塑性高分子の融点(Tg)に対し、Tg−10≦V
1≦Tg+150(℃)の範囲にあり、熱可塑性高分子
シートの流れ方向に対し曲率の無い前記金属ベルトの温
度(V2)が、Tg−30≦V2≦Tg+50(℃)の
範囲にあり、冷却された熱可塑性高分子シートが、前記
金属ベルトから離れる部分の金属ベルトの温度(V3)
が、Tg−50≦V3≦Tg(℃)であり、且つ、V3
≦V2≦V1(℃)の範囲にある請求項1記載の熱可塑
性高分子シートの製造方法。
2. The temperature (V1) of the metal belt in the first portion where the thermoplastic polymer sheet comes into contact with the metal belt is:
Tg−10 ≦ V with respect to the melting point (Tg) of the thermoplastic polymer
The temperature (V2) of the metal belt, which is in the range of 1 ≦ Tg + 150 (° C.) and has no curvature in the flow direction of the thermoplastic polymer sheet, is in the range of Tg−30 ≦ V2 ≦ Tg + 50 (° C.). The temperature (V3) of the portion of the metal belt where the separated thermoplastic polymer sheet is separated from the metal belt
Is Tg-50 ≦ V3 ≦ Tg (° C.), and V3
The method for producing a thermoplastic polymer sheet according to claim 1, wherein ≤ V2 ≤ V1 (° C).
【請求項3】 該金属ベルトに接触している側の該熱可
塑性高分子シートの表面温度と前記高分子シートの反対
側の表面温度をほぼ同じ温度にする請求項1又は2記載
の熱可塑性高分子シートの製造方法。
3. The thermoplastic resin according to claim 1, wherein the surface temperature of the thermoplastic polymer sheet in contact with the metal belt and the surface temperature on the opposite side of the polymer sheet are substantially the same. A method for producing a polymer sheet.
【請求項4】 該Tダイもしくはコートハンガーダイの
リップ間隙が該熱可塑性高分子シートの厚みに対し、3
倍以上50倍以下であり、且つ、該熱可塑性高分子シー
トがダイのリップから押し出しされた後、金属ベルトに
接するまでの距離が10mm以上100mm以下である
ことを特徴とする請求項1記載の熱可塑性高分子シート
の製造方法。
4. The lip gap of the T-die or the coat hanger die is 3 to the thickness of the thermoplastic polymer sheet.
2. The method according to claim 1, wherein the distance from when the thermoplastic polymer sheet is extruded from the lip of the die to when it contacts the metal belt is from 10 mm to 100 mm. A method for producing a thermoplastic polymer sheet.
【請求項5】 該Tダイもしくはコートハンガーダイで
溶融押しだしされる該熱可塑性高分子シートが結晶性の
樹脂であり、且つ、厚みが300μm以上1000μm
以下であり、高分子シート面内での厚み公差(Rma
x)が10μm以下であり、300mm角のシートの反
り量が5mm以下であり、テーパ磨耗による重量減少が
10mg/1000回転以下である請求項1記載の熱可
塑性高分子シートの製造方法。
5. The thermoplastic polymer sheet melt-extruded by the T die or the coat hanger die is a crystalline resin, and has a thickness of 300 μm or more and 1000 μm or more.
The thickness tolerance in the plane of the polymer sheet (Rma
2. The method for producing a thermoplastic polymer sheet according to claim 1, wherein x) is 10 μm or less, the amount of warpage of a 300 mm square sheet is 5 mm or less, and weight loss due to taper wear is 10 mg / 1000 rotations or less.
【請求項6】 該熱可塑性高分子シートが、ポリエーテ
ルエーテルケトンである請求項1又は5記載の熱可塑性
高分子シートの製造方法。
6. The method for producing a thermoplastic polymer sheet according to claim 1, wherein the thermoplastic polymer sheet is a polyetheretherketone.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003025412A (en) * 2001-07-13 2003-01-29 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Acrylic resin film and method for manufacturing the same
JP2011131602A (en) * 2011-03-22 2011-07-07 Kaneka Corp Acrylic resin film
JP2013209452A (en) * 2012-03-30 2013-10-10 Mitsubishi Chemicals Corp Polycarbonate resin non-oriented film and method of manufacturing the same
JP2015007255A (en) * 2014-10-01 2015-01-15 株式会社カネカ Acrylic resin film

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