JP2000241615A - Diffraction grating and manufacture for duplicate thereof - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、回折格子およびそ
の複製の製造方法の改良に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an improvement in a method of manufacturing a diffraction grating and its replica.
【０００２】[0002]
【従来の技術】回折格子は現在、ＣＤ，ＭＤ，ＤＶＤ等
において使用されるなど、重要な部品の一つになってい
る。現在の回折格子の製造方法は、切削加工による方法
や、ＩＣ，ＬＳＩ工程を応用した技術、すなわちフォト
リソグラフィーにより製造されている。2. Description of the Related Art Diffraction gratings have become one of important components such as those used in CDs, MDs, DVDs and the like. Currently, a diffraction grating is manufactured by a cutting method or a technique using an IC or LSI process, that is, a photolithography.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】そのため、後者の方法
では半導体と同物質であるＳｉＯ2 （二酸化ケイ素）が
使用され、回折格子製造の最終的な工程であるエッチン
グは、フッ化水素等非常に危険な薬品を使用しなければ
ならない。また、近年ドライエッチングが発展してガス
エッチング，プラズマエッチングで行う場合が多くなっ
てきている。しかしこれらも機器が高価な上に、危険な
ガス等を使用しなければならない。一方、前者の切削加
工では非常に時間がかかるという欠点がある。他の方法
として硝子プレス法も存在するが、プレス機や温度制御
等で非常に大型の機械になってしまい、金型作業等も高
価なものになるという欠点がある。Therefore, in the latter method, SiO 2 (silicon dioxide), which is the same substance as the semiconductor, is used. Etching, which is the final step in the production of a diffraction grating, is very difficult, such as hydrogen fluoride. Dangerous chemicals must be used. In recent years, dry etching has been developed and gas etching and plasma etching are often performed. However, these devices are expensive and must use dangerous gas and the like. On the other hand, the former cutting process has a disadvantage that it takes much time. As another method, there is a glass pressing method, but there is a drawback that a very large machine is required due to a press machine, temperature control, and the like, and the die work is expensive.
【０００４】ところで、現在市販されているフォトリソ
グラフィー用レジストは、最終工程のエッチング時に使
用されるフッ化水素酸等の性質を考慮して耐酸性を重視
して作られている。レジスト工程には、スピンコート→
プリベーク→露光→現像→ポストベーク→エッチング→
レジスト剥離の各工程があるが、現像，剥離はアルカリ
性の液によって行われている。これは、従来、有機溶剤
によって現像し、また剥離には非常に危険な有機溶剤
（フェノール等）を使用していたが、作業環境では有機
溶剤をあまり使用したくない社会的な要請によるもので
ある。有機アルカリ溶液は、揮発性がほとんどないた
め、作業環境には問題が生じることはないからである。Incidentally, resists for photolithography currently on the market are made with an emphasis on acid resistance in consideration of the properties of hydrofluoric acid and the like used at the time of etching in the final step. Spin coating for resist process →
Pre-bake → exposure → development → post-bake → etching →
Although there are various steps of resist stripping, development and stripping are performed with an alkaline liquid. Conventionally, organic solvents were developed using organic solvents, and very dangerous organic solvents (such as phenol) were used for stripping, but this was due to social demands for not using organic solvents in the work environment. is there. This is because the organic alkali solution has almost no volatility, and thus does not cause any problem in the working environment.
【０００５】上記アルカリ現像タイプのレジストは、各
々のレジストで組成構造上ある温度以上に温度を上げる
と、レジスト自体が内部で３次元重合を起こして耐酸性
を向上させる組成になっている。これがポストベークと
呼ばれる工程である。しかしこの３次元重合を完全に行
ってしまうとアルカリ性の剥離剤では完全に剥離できな
くなるという問題が生じる。そこで本件発明者は、３次
元重合を最終的な剥離では剥離できる程度に進め、強ア
ルカリ液でエッチングしてその後レジストを剥離する方
法で回折格子を作成することを考えた。そして、今回の
実験においては、上記のように３次元重合を行うとエッ
チングに使用するＮａＯＨ４８パーセント液では侵され
にくく、それより低いアルカリ液ではある程度簡単に剥
離できることも確認した。The above-mentioned alkali-developing type resist has such a composition that when the temperature is raised to a certain temperature or higher in the composition of each resist, the resist itself undergoes three-dimensional polymerization inside to improve the acid resistance. This is a process called post baking. However, if the three-dimensional polymerization is completely performed, there is a problem that the alkaline stripping agent cannot be completely stripped. Therefore, the present inventor considered that the diffraction grating is formed by a method in which the three-dimensional polymerization is advanced to such an extent that the final peeling can be performed, and the resist is peeled after etching with a strong alkaline solution. In this experiment, it was also confirmed that, when the three-dimensional polymerization was performed as described above, the NaOH 48% solution used for etching hardly eroded, and a lower alkali solution could be easily peeled to some extent.
【０００６】本発明は上記背景に基づくもので、その目
的とするところは、回折格子を危険な薬品ガス等を使用
することなく簡単にしかも安く製造することができる回
折格子の製造方法を提供することにある。本発明の他の
目的は、上記回折格子を母形として、その複製を容易に
作ることができる回折格子の複製の製造方法を提供する
ことにある。The present invention is based on the above background, and an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a diffraction grating that can be manufactured easily and inexpensively without using a dangerous chemical gas or the like. It is in. It is another object of the present invention to provide a method of manufacturing a replica of a diffraction grating that can easily make a replica of the diffraction grating using the above-described diffraction grating as a matrix.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に本発明による回折格子の製造方法は、回折格子の製造
方法において、ガラス基板上に、アルカリ溶液でエッチ
ングできる物質を蒸着し、所定の厚さの膜を形成する蒸
着膜形成工程と、前記蒸着膜に、レジストを所定の厚さ
に塗工する塗工工程と、温風乾燥機などで所定の温度，
時間で乾燥させ、前記レジスト中の溶剤を蒸発させるプ
リベーク工程と、前記プリベーク工程後の塗工したレジ
ストの上にフォトマスクを配置し、紫外線で露光し、専
用現像液で現像してレジストに前記パターンを形成する
レジストパターン形成工程と、パターン形成されたレジ
ストを乾燥させ、レジストの耐酸性を向上させるポスト
ベーク工程と、前記ポストベーク工程後、アルカリ溶液
でエッチングを行い、露出している蒸着膜を取り除く蒸
着膜除去工程と、前記パターン形状の上のレジストを剥
離液で剥離する剥離工程とで構成されている。本発明に
おける前記アルカリ溶液はＮａＯＨまたはＫＯＨの溶液
であり、前記アルカリ溶液でエッチングできる物質は、
Ａｌ2 Ｏ3 またはＭｇＦ2 を用いるものである。また、
本発明は、磁性部材により形成されたマスクをガラス基
板の一面に密着させ、ガラス基板の他面に磁石を配置す
ることにより、前記ガラス基板の一面上に前記マスクを
保持するマスク保持工程と、前記保持されたマスクの上
から所定の厚さの膜を形成し、その後、前記磁石を取り
除き、前記マスクが形成されたガラス基板を取り出す膜
形成工程とで構成されている。本発明における前記磁性
部材はＮｉを用いるものである。前記他の目的を達成す
るために本発明は、前記請求項１，２，３または４の製
造工程で形成された回折格子を母型とし、前記母型の周
縁付近にスペーサを配置し、前記母型とスペーサにより
形成される凹部に感光性または熱硬化性の樹脂を充填す
る充填工程と、前記充填後、前記スペーサの上に平面ガ
ラスを被せ、所定波長の光を照射するか、または熱を加
えることにより前記樹脂を硬化させ、その後、母型，ス
ペーサおよび平面ガラスを取り除き樹脂による回折格子
を形成する硬化形成工程とで構成されている。本発明に
おける前記感光性の樹脂は、紫外線硬化樹脂を用いるも
のである。In order to achieve the above object, a method of manufacturing a diffraction grating according to the present invention is a method of manufacturing a diffraction grating, comprising: depositing a substance which can be etched with an alkaline solution on a glass substrate; A vapor-deposited film forming step of forming a film having a thickness, a coating step of applying a resist to the vapor-deposited film to a predetermined thickness, and a predetermined temperature,
Dried in time, a pre-bake step of evaporating the solvent in the resist, placing a photomask on the coated resist after the pre-bake step, exposing with ultraviolet light, developing with a dedicated developer and applying the resist to the resist A resist pattern forming step of forming a pattern, a post-baking step of drying the patterned resist and improving the acid resistance of the resist, and after the post-baking step, etching with an alkali solution to expose an exposed deposited film And a stripping step of stripping the resist on the pattern shape with a stripping liquid. In the present invention, the alkaline solution is a solution of NaOH or KOH, and the substance that can be etched by the alkaline solution includes:
Al 2 O 3 or MgF 2 is used. Also,
The present invention provides a mask holding step of holding the mask on one surface of the glass substrate by closely attaching a mask formed of a magnetic member to one surface of the glass substrate and disposing a magnet on the other surface of the glass substrate, A film forming step of forming a film of a predetermined thickness on the held mask, removing the magnet, and taking out a glass substrate on which the mask is formed. In the present invention, the magnetic member uses Ni. According to another aspect of the present invention, there is provided a diffraction grating formed in the manufacturing process according to claim 1, 2, 3, or 4, wherein the diffraction grating is used as a matrix, and a spacer is arranged near a periphery of the matrix. A filling step of filling a photosensitive or thermosetting resin into a concave portion formed by the matrix and the spacer, and after the filling, cover the spacer with a flat glass and irradiate light of a predetermined wavelength or heat. And curing the resin by removing the matrix, the spacers, and the flat glass, and then forming a diffraction grating by the resin. The photosensitive resin in the present invention uses an ultraviolet curable resin.
【０００８】[0008]
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳しく説明する。図１Ａおよび図１Ｂは、本
発明による回折格子の製造方法の第１の実施の形態を説
明するための工程図である。ガラス基板１の上にアルミ
ナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）の膜を真空蒸着で形成する。圧力を９
×１０-7ｔｏｒｒ，温度を３００°Ｃにそれぞれ設定
し、λ／２（λ＝７８０ｎｍ）の厚さの蒸着膜を作る
（工程（ａ））。Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. 1A and 1B are process diagrams for explaining a first embodiment of a method for manufacturing a diffraction grating according to the present invention. An alumina (Al 2 O 3 ) film is formed on the glass substrate 1 by vacuum evaporation. Pressure 9
A vapor deposition film having a thickness of λ / 2 (λ = 780 nm) is prepared by setting the temperature to 10 -7 torr and the temperature to 300 ° C. (step (a)).
【０００９】レジスト（用品名ＰＭＥＲ−Ｐ 東京応化
工業製）２に対し、ＥＣＡ（エチルセロソロブ アセテ
ート）１の割合で混ぜて希釈したものをスピンコーター
により１０００ｒｐｍでガラス基板１の上に塗工する
（工程（ｂ））。塗布膜厚は５μｍである。膜厚は、３
〜１５μｍの範囲で自由に設定することができるが、エ
ッチング工程での剥がれ等を考慮した場合、５〜１０μ
ｍ程度の厚めにするのが好ましい。塗工手段は、膜厚が
コントロールできる塗工であれば、スピンコーター，バ
ーコーター，ディッピング等、いずれの手段も用いるこ
とができる。A resist (product name: PMER-P, manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) 2 mixed and diluted at a ratio of ECA (ethyl cellosorb acetate) 1 is coated on the glass substrate 1 by a spin coater at 1000 rpm (step). (B)). The applied film thickness is 5 μm. The film thickness is 3
It can be set freely within the range of 15 to 15 μm.
The thickness is preferably as large as about m. As a coating means, any means such as a spin coater, a bar coater, and dipping can be used as long as the coating can control the film thickness.
【００１０】そして、温風乾燥機で９０°Ｃ５〜６分の
プリベークを行う。これはレジスト中の溶剤を蒸発する
工程であり、温度と時間は７０〜１００°Ｃ，２〜３０
分程度の範囲で行うものである。Then, pre-baking is performed at 90 ° C. for 5 to 6 minutes using a hot air dryer. This is a step of evaporating the solvent in the resist, and the temperature and time are 70-100 ° C., 2-30
It is performed within a range of about a minute.
【００１１】つぎに、塗工したレジスト３の上に回折格
子のパターンのフォトマスク５を置き、露光機でＵＶ光
（紫外線）で露光する（工程（ｃ））。照度は３０ｍＷ
／ｃｍ 2 （λ＝３６５ｎｍ）で１５秒間の露光を行う。
フォトマスク５はエマルジョンマスクを使用し、そのパ
ターンは黒部１０μｍ，白部（透過部）１０μｍのライ
ンとスペースのパターンを用いる。Next, a diffraction grating is formed on the coated resist 3.
Place the photomask 5 of the child pattern and use an exposure machine to
(UV light) (step (c)). Illuminance is 30mW
/ Cm Two (Λ = 365 nm) for 15 seconds.
The photomask 5 uses an emulsion mask.
The turn is 10 μm in black and 10 μm in white (transmission part).
Use a pattern of space and space.
【００１２】次いで露光したガラス基板を専用現像液で
２５°Ｃ約１分間現像してパターン形成する（（ｄ）の
工程）。そして、９０°Ｃで３０分程度ポストベークす
る。この温度，時間設定はポストベークしてレジストを
剥離液で剥離でき、かつエッチング可能な最適な条件で
ある。このポストベークは、８０°Ｃ〜１２０°Ｃ程度
の温度域から、このレジスト（ＰＭＥＲ−Ｐ）３ａの形
状が熱によってだれない程度の温度を選んで行うように
するものである。Next, the exposed glass substrate is developed with a special developing solution at 25 ° C. for about 1 minute to form a pattern (step (d)). Then, post-baking is performed at 90 ° C. for about 30 minutes. These temperature and time settings are optimal conditions under which the resist can be stripped off with a stripping solution by post-baking and etching can be performed. The post-baking is performed by selecting a temperature at which the shape of the resist (PMER-P) 3a is not reduced by heat from a temperature range of about 80 ° C. to 120 ° C.
【００１３】その後、ＮａＯＨ ４８％，５０°Ｃに２
分間浸漬してエッチングを行う（工程（ｅ））。そし
て、水洗いして剥離液に浸漬してレジストを完全に剥離
する（工程（ｆ））。以上によりガラス基板上に回折格
子を形成することができる。[0013] Then, NaOH 48%, 50 ° C 2
Then, the substrate is immersed for 10 minutes to perform etching (step (e)). Then, the resist is completely removed by washing with water and dipping in a stripping solution (step (f)). Thus, a diffraction grating can be formed over a glass substrate.
【００１４】確認のため、その回折格子にレーザ光を照
射して、回折格子の状態を検査した。その結果、十分な
性能を得ることができた。また、電子顕微鏡により、格
子のエッチング状態を観察した結果、矩形のエッチング
形状を確認でき、エッチング部分のＡｌ2 Ｏ3 は完全に
除かれていた。蒸着する物質は、Ａｌ2 Ｏ3 （アルミ
ナ）の他アルカリによってエッチングされるものであれ
ば、どのような物質でもかまわない。またエッチング液
は、ＮａＯＨ４８％に限定されることはなく、ＫＯＨ等
のアルカリ水溶液も使用することができる。For confirmation, the diffraction grating was irradiated with a laser beam to check the state of the diffraction grating. As a result, sufficient performance was obtained. Further, as a result of observing the etching state of the lattice with an electron microscope, a rectangular etched shape could be confirmed, and Al 2 O 3 in the etched portion was completely removed. The substance to be deposited may be any substance as long as it can be etched by an alkali other than Al 2 O 3 (alumina). The etching solution is not limited to NaOH 48%, and an alkaline aqueous solution such as KOH can be used.
【００１５】図２は、本発明による回折格子の製造方法
の第２の実施の形態を説明するための工程図である。現
在、回折格子等の微細なパターンを使用する光学素子
は、ＩＣ，ＬＳＩ工程の応用ということもあり、レジス
ト工程という工程を通るか、切削加工をしなければなら
ない。これに対し、この実施の形態における製造方法
は、真空蒸着の膜厚の制御のみで、回折格子を作製する
方法である。FIG. 2 is a process chart for explaining a second embodiment of the method of manufacturing a diffraction grating according to the present invention. At present, an optical element using a fine pattern such as a diffraction grating has to be applied to an IC or LSI process, and must be processed by a resist process or cut. On the other hand, the manufacturing method according to the present embodiment is a method for manufacturing a diffraction grating only by controlling the film thickness of vacuum evaporation.
【００１６】まず、ガラス基板１１にＮｉで作製した金
属製のマスク１２を張りつける（工程（ａ））。この金
属マスク１２は透過部１０μｍ，金属部１０μｍのライ
ンとスペースより成っており、その高さＨは３ｍｍであ
る。ガラス基板１１の大きさは８０ｍｍ口である。。First, a metal mask 12 made of Ni is attached to a glass substrate 11 (step (a)). The metal mask 12 is formed of a line and a space of 10 μm in the transmission part and 10 μm in the metal part, and the height H is 3 mm. The size of the glass substrate 11 is 80 mm. .
【００１７】つぎに金属マスク１２を張りつけたガラス
基板１１を挟み、その裏に磁石１３を対面させることに
より、金属マスク１２をガラス基板１１から動かないよ
うに密着保持する。このように金属マスク１２を保持し
た状態で真空蒸着機にセットする。蒸着物質としてはＡ
ｌ2 Ｏ3 を用い電子ビーム溶融させて９×１０-6ｔｏｒ
ｒ，約３００°Ｃで２０分程度加熱放置することによ
り、ガラス基板の温度が一定になるようにしてからＡｌ
2 Ｏ3 を蒸着する（工程（ｂ））。膜厚は真空蒸着機の
光学膜厚計により制御し、λ／２（λ＝７８０ｎｍ）程
度の厚さに蒸着する。Next, by sandwiching the glass substrate 11 on which the metal mask 12 is adhered and facing the magnet 13 behind the glass substrate 11, the metal mask 12 is held tightly so as not to move from the glass substrate 11. The metal mask 12 is set in a vacuum deposition machine while holding the metal mask 12 in this manner. A as the deposition material
9 × 10 −6 torr by electron beam melting using l 2 O 3
r, leaving the glass substrate at a constant temperature by heating at about 300 ° C. for about 20 minutes,
2 O 3 is deposited (step (b)). The film thickness is controlled by an optical film thickness meter of a vacuum evaporation machine, and the film is deposited to a thickness of about λ / 2 (λ = 780 nm).
【００１８】この後、磁石１３を取り除きマスク１２を
外し、回折格子の形成工程が終了する。確認のため、そ
の回折格子にレーザ光を照射して回折格子の状態を検査
した。その結果、十分な性能を得ることができた。この
実施の形態では、金属マスクとしてＮｉのマスクを使用
したが、ガラス基板１１と完全に密着できるものであれ
ば、他の磁性部材でも良い。また変形例として他の方法
により密着保持できれば、磁石による保持だけでなく、
他の方法により保持しても構わない。真空蒸着によるス
パッタリングにより回折格子を形成したが、他のスパッ
タリング等の成膜手段を用いることもできる。Thereafter, the magnet 13 is removed, the mask 12 is removed, and the step of forming the diffraction grating is completed. For confirmation, the diffraction grating was irradiated with laser light to inspect the state of the diffraction grating. As a result, sufficient performance was obtained. In this embodiment, a Ni mask is used as the metal mask. However, another magnetic member may be used as long as it can completely adhere to the glass substrate 11. In addition, if it can be held tightly by another method as a modification, not only holding by a magnet,
It may be held by another method. Although the diffraction grating is formed by sputtering by vacuum evaporation, other film forming means such as sputtering may be used.
【００１９】図３は、本発明による回折格子の複製の製
造方法の実施の形態を説明するための工程図である。従
前では回折格子のレプリカを取るには、電着でＮｉスタ
ンパーを作製してそれを成形機に組み込んで成形してい
る。本発明では、紫外線硬化樹脂を充填して紫外線を照
射するだけで複製を作ることができる。FIG. 3 is a process chart for explaining an embodiment of a method of manufacturing a replica of a diffraction grating according to the present invention. Conventionally, in order to obtain a replica of a diffraction grating, a Ni stamper is manufactured by electrodeposition, and the Ni stamper is incorporated into a molding machine and molded. In the present invention, it is possible to make a copy only by filling an ultraviolet curable resin and irradiating ultraviolet rays.
【００２０】最初、図１Ａ，１Ｂの工程で作製した回折
格子の母型２３の周縁に０．１５ｍｍのスペーサ２２を
置き、紫外線硬化樹脂２４を充填しその上に平板のガラ
ス２０を載せる。母型２３とガラス２０に圧力をかけて
スペーサ２２により作られる高さを０．１ｍｍ程度の厚
さにする。樹脂の収縮による「す」が入らないようにす
るためである。First, a spacer 22 of 0.15 mm is placed on the periphery of the matrix 23 of the diffraction grating manufactured in the steps of FIGS. 1A and 1B, filled with an ultraviolet curing resin 24, and a flat glass 20 is placed thereon. Pressure is applied to the matrix 23 and the glass 20 to make the height formed by the spacer 22 about 0.1 mm thick. This is in order to prevent "smear" due to resin shrinkage from entering.
【００２１】次にＵＶ光を最初、１０秒程度，５ｍＷ／
ｃｍ2 の照度で照射し、その後２〜３分間は３０ｍＷ／
ｃｍ2 以上の照度で照射する（工程（ａ））。最初の１
０秒ではある程度ゆっくり硬化させて収縮による「す」
を防止し、さらにその後の２〜３分照射では完全に硬化
させる。紫外線硬化樹脂は、ハイブリッドレンズに使用
されているものを使用する。Next, UV light is first applied for about 10 seconds at 5 mW /
Irradiation with illuminance of 2 cm, then 30 mW /
Irradiate with illuminance of not less than cm 2 (step (a)). First one
At 0 seconds, it cures slowly to some extent and shrinks.
And it is completely cured by the subsequent irradiation for 2 to 3 minutes. The ultraviolet curing resin used is the one used for the hybrid lens.
【００２２】その後、母型２３，硝子２０およびスペー
サ２２を外し硬化した樹脂を取り出すことにより複製回
折格子２４ａの製造工程が終了する（工程（ｂ））。こ
のように完成した複製の回折格子にレーザ光を照射して
回折格子の状態を検査した。その結果、十分な性能が得
られた。紫外線硬化樹脂のかわりに熱硬化樹脂（プラス
チックレンズ用 例えばＣＲ−３９等）を用いて成形し
ても可能である。Thereafter, the matrix 23, the glass 20, and the spacer 22 are removed, and the cured resin is taken out, thereby completing the manufacturing process of the duplicated diffraction grating 24a (step (b)). The duplicated diffraction grating thus completed was irradiated with laser light to inspect the state of the diffraction grating. As a result, sufficient performance was obtained. It is also possible to mold using a thermosetting resin (for example, CR-39 for plastic lenses) instead of the ultraviolet curing resin.
【００２３】[0023]
【発明の効果】以上説明したように本発明による製造方
法によれば、回折格子およびその複製を危険な薬品ガス
等を使用することなく簡単にしかも安く製造することが
できるという効果がある。As described above, according to the manufacturing method of the present invention, there is an effect that the diffraction grating and its copy can be easily and inexpensively manufactured without using a dangerous chemical gas or the like.
【図１Ａ】本発明による回折格子の製造方法の第１の実
施の形態を説明するための図で、前半部分の工程図であ
る。FIG. 1A is a diagram for describing a first embodiment of a method for manufacturing a diffraction grating according to the present invention, and is a process diagram of the first half.
【図１Ｂ】本発明による回折格子の製造方法の第１の実
施の形態を説明するための図で、後半部分の工程図であ
る。FIG. 1B is a diagram for describing the first embodiment of the method for manufacturing a diffraction grating according to the present invention, and is a process diagram of the latter half.
【図２】本発明による回折格子の製造方法の第２の実施
の形態を説明するための工程図である。FIG. 2 is a process chart for explaining a second embodiment of the method for manufacturing a diffraction grating according to the present invention.
【図３】本発明による回折格子の複製の製造方法の実施
の形態を説明するための工程図である。FIG. 3 is a process chart for explaining an embodiment of a method of manufacturing a replica of a diffraction grating according to the present invention.
１，１１，２６…ガラス基板 ２，２ａ…アルミナ ３，３ａ…レジスト ４，２１…紫外線 ５…フォトマスク １２…マスク １３…磁石 １４…回折格子 ２０…ガラス ２２…スペーサ ２３…母型 ２４…紫外線硬化樹脂（ＵＶ硬化樹脂） ２４ａ…複製された回折格子 ２５…蒸着膜 1,11,26 ... glass substrate 2,2a ... alumina 3,3a ... resist 4,21 ... ultraviolet light 5 ... photomask 12 ... mask 13 ... magnet 14 ... diffraction grating 20 ... glass 22 ... spacer 23 ... matrix 24 ... ultraviolet light Cured resin (UV curable resin) 24a: Duplicated diffraction grating 25: Evaporated film
Claims (6)
板上に、アルカリ溶液でエッチングできる物質を蒸着
し、所定の厚さの膜を形成する蒸着膜形成工程と、前記
蒸着膜に、レジストを所定の厚さに塗工する塗工工程
と、温風乾燥機などで所定の温度，時間で乾燥させ、前
記レジスト中の溶剤を蒸発させるプリベーク工程と、前
記プリベーク工程後の塗工したレジストの上にフォトマ
スクを配置し、紫外線で露光し、専用現像液で現像して
レジストに前記パターンを形成するレジストパターン形
成工程と、パターン形成されたレジストを乾燥させ、レ
ジストの耐酸性を向上させるポストベーク工程と、前記
ポストベーク工程後、アルカリ溶液でエッチングを行
い、露出している蒸着膜を取り除く蒸着膜除去工程と、
前記パターン形状の上のレジストを剥離液で剥離する剥
離工程と、で構成されたことを特徴とする回折格子の製
造方法。1. A method for manufacturing a diffraction grating, comprising: depositing a substance which can be etched with an alkali solution on a glass substrate to form a film having a predetermined thickness; A pre-baking step of drying at a predetermined temperature and time by a hot air drier or the like to evaporate a solvent in the resist, and a pre-baking step of coating the resist after the pre-baking step. A resist pattern forming step of forming a pattern on the resist by exposing a photomask to the ultraviolet light and developing with a dedicated developing solution and a post-baking step of drying the patterned resist and improving the acid resistance of the resist And a post-baking step, after the post-baking step, etching with an alkaline solution to remove the exposed deposited film, a deposited film removing step,
A stripping step of stripping the resist on the pattern shape with a stripping liquid.
Ｈの溶液であり、前記アルカリ溶液でエッチングできる
物質は、Ａｌ2 Ｏ3 またはＭｇＦ2 を用いることを特徴
とする請求項１記載の回折格子の製造方法。2. The method according to claim 1, wherein the alkaline solution is NaOH or KO.
2. The method according to claim 1, wherein the substance which is a solution of H and which can be etched with the alkaline solution is Al 2 O 3 or MgF 2 .
ス基板の一面に密着させ、ガラス基板の他面に磁石を配
置することにより、前記ガラス基板の一面上に前記マス
クを保持するマスク保持工程と、前記保持されたマスク
の上から所定の厚さの膜を形成し、その後、前記磁石を
取り除き、前記マスクが形成されたガラス基板を取り出
す膜形成工程と、で構成されたことを特徴とする回折格
子の製造方法。A mask holding step of holding the mask on one surface of the glass substrate by adhering a mask formed of a magnetic member to one surface of the glass substrate and disposing a magnet on the other surface of the glass substrate; Forming a film of a predetermined thickness from above the held mask, and then removing the magnet, and taking out the glass substrate on which the mask is formed. Manufacturing method of diffraction grating.
とする請求項３記載の回折格子の製造方法。4. The method according to claim 3, wherein the magnetic member uses Ni.
程で形成された回折格子を母型とし、前記母型の周縁付
近にスペーサを配置し、前記母型とスペーサにより形成
される凹部に感光性または熱硬化性の樹脂を充填する充
填工程と、前記充填後、前記スペーサの上に平面ガラス
を被せ、所定波長の光を照射するか、または熱を加える
ことにより前記樹脂を硬化させ、その後、母型，スペー
サおよび平面ガラスを取り除き樹脂による回折格子を形
成する硬化形成工程と、で構成されたことを特徴とする
回折格子の複製の製造方法。5. The diffraction grating formed in the manufacturing process according to claim 1, 2, 3, or 4 is used as a matrix, and a spacer is arranged near the periphery of the matrix, and formed by the matrix and the spacer. A filling step of filling the concave portion with a photosensitive or thermosetting resin, and after the filling, a flat glass is placed on the spacer, and the resin is cured by irradiating light of a predetermined wavelength or applying heat. And a hardening forming step of removing the matrix, the spacer, and the flat glass to form a diffraction grating using a resin, and thereafter, a method of manufacturing a replica of the diffraction grating.
を用いることを特徴とする請求項５記載の回折格子の複
製の製造方法。6. The method according to claim 5, wherein the photosensitive resin is an ultraviolet curable resin.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11040745A JP2000241615A (en) | 1999-02-19 | 1999-02-19 | Diffraction grating and manufacture for duplicate thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11040745A JP2000241615A (en) | 1999-02-19 | 1999-02-19 | Diffraction grating and manufacture for duplicate thereof |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000241615A true JP2000241615A (en) | 2000-09-08 |
Family
ID=12589182
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11040745A Pending JP2000241615A (en) | 1999-02-19 | 1999-02-19 | Diffraction grating and manufacture for duplicate thereof |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000241615A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7935262B2 (en) | 2006-11-28 | 2011-05-03 | Cheil Industries, Inc. | Method of manufacturing fine patterns |
| CN111272458A (en) * | 2020-02-20 | 2020-06-12 | 台州市产品质量安全检测研究院 | Warm air dryer test system and method |
| CN117945664A (en) * | 2024-03-26 | 2024-04-30 | 山东利福特玻璃科技股份有限公司 | Intelligent mirror plate glass coating system |
-
1999
- 1999-02-19 JP JP11040745A patent/JP2000241615A/en active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7935262B2 (en) | 2006-11-28 | 2011-05-03 | Cheil Industries, Inc. | Method of manufacturing fine patterns |
| CN111272458A (en) * | 2020-02-20 | 2020-06-12 | 台州市产品质量安全检测研究院 | Warm air dryer test system and method |
| CN111272458B (en) * | 2020-02-20 | 2022-01-04 | 台州市产品质量安全检测研究院 | Warm air dryer test system and method |
| CN117945664A (en) * | 2024-03-26 | 2024-04-30 | 山东利福特玻璃科技股份有限公司 | Intelligent mirror plate glass coating system |
| CN117945664B (en) * | 2024-03-26 | 2024-05-28 | 山东利福特玻璃科技股份有限公司 | Intelligent mirror plate glass coating system |
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