JP2000235794A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JP2000235794A
JP2000235794A JP3494999A JP3494999A JP2000235794A JP 2000235794 A JP2000235794 A JP 2000235794A JP 3494999 A JP3494999 A JP 3494999A JP 3494999 A JP3494999 A JP 3494999A JP 2000235794 A JP2000235794 A JP 2000235794A
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output buffer
signal
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JP3494999A
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Japanese (ja)
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Masayoshi Hirata
昌義 平田
Sadao Nakayama
貞夫 中山
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device preventing destruction of an input/ output buffer caused by collision of data, even if any one of the control terminal of output control breaks down in a test performed by connecting plural semiconductor devices incorporating plural semiconductor elements where output data terminals are shaved. SOLUTION: A decoder circuit 1 generates an internal address signal of a FLASH memory chip FM based on inputted plural address signals when a signal CEB inputted from a terminal is a 'L' level. A decoder circuit 2 generates an internal address signal of a SRAM chip SM based on inputted plural address signals when a signal CEB inputted from a terminal is a 'L' level. An input/output buffer control circuit 3 controls output states of input/ output buffers OIFO-OIF15 of FLASH memory chip FM based on a signal CEfB, a signal OEB, and a signal WEB. An input/output buffer control circuit 4 controls output states of input/output buffers OISO-OIS15 of SRAM chip SM based on a signal CEsB, a signal OEB, and a signal WEB.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体装置に関し、
特にアドレス端子及びデータ端子が共通に配線された複
数のメモリのデータの同時出力の防止機能を有する半導
体装置に係わるものである。
The present invention relates to a semiconductor device,
In particular, the present invention relates to a semiconductor device having a function of preventing simultaneous output of data from a plurality of memories to which address terminals and data terminals are commonly wired.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子機器の機能の高度化及び電子
機器の携帯化に伴い、半導体装置の実装基板上における
高密度な実装が要求されている。そのため、実装基板上
における半導体装置の実装の高密度化に伴い、半導体装
置の一つとして、パッケージに複数の半導体チップが固
定(マウント)された基板(図15(a))の裏面にハ
ンダボールなどのバンプ電極106を図15(b)に示
す様に整列配置したBGA型半導体装置が用いられてい
る。図15(b)は、図15(a)の半導体装置のA−
A’における線視断面図である。
2. Description of the Related Art In recent years, with the advancement of functions of electronic devices and the portability of electronic devices, high-density mounting of semiconductor devices on mounting substrates has been required. Therefore, with the increase in the density of the mounting of the semiconductor device on the mounting substrate, as one of the semiconductor devices, a solder ball is mounted on the back surface of the substrate (FIG. 15A) on which a plurality of semiconductor chips are fixed (mounted) in a package. A BGA type semiconductor device in which bump electrodes 106 are arranged as shown in FIG. 15B is used. FIG. 15B is a cross-sectional view of the semiconductor device of FIG.
It is sectional drawing in the line A '.

【0003】図15において、101はSRAMチップ
であり、上面側にFLASHメモリチップ102が設置
されている。この重ね合わせの上下関係は、チップサイ
ズが大きい方のチップが下部に来る様になっていればよ
い。このように重ね合わせることで、半導体装置1のサ
イズを大幅に削減できる。例えば、従来のTSOP(T
hin-Small-Out-line-Package)
のSRAMチップ及びFLASHメモリをそれぞれ1個
づつ使用した場合の3割の実装面積となる。
[0005] In FIG. 15, reference numeral 101 denotes an SRAM chip, and a FLASH memory chip 102 is provided on the upper surface side. The vertical relationship of the overlapping may be such that the chip having the larger chip size comes to the lower part. By overlapping in this manner, the size of the semiconductor device 1 can be significantly reduced. For example, a conventional TSOP (T
(hin-Small-Out-line-Package)
30% of the mounting area when one SRAM chip and one FLASH memory are used.

【0004】また、SRAMチップ101とFLASH
メモリチップ102とは、重なり合う部分における互い
のボンディングパッド101A、102Aとの大半が同
一信号となるように設計されている。すなわち、SRA
Mチップ101のボンディングパッド101AとFLA
SHメモリチップ102のボンディングパッド102A
とは、ピン配置及び配線の最適化のため、アドレス信号
やデータ信号を入出力するパッドはほぼ同位置になるよ
うに配置され、RESET信号や、チップイネーブル
(CE)信号などの制御用信号にパッドは、それぞれ別
のパッドに接続できるよう配置している。
Further, the SRAM chip 101 and the FLASH
The memory chip 102 is designed such that most of the bonding pads 101A and 102A in the overlapping portion have the same signal. That is, SRA
Bonding pad 101A of M chip 101 and FLA
Bonding pad 102A of SH memory chip 102
In order to optimize the pin arrangement and wiring, pads for inputting and outputting address signals and data signals are arranged so as to be substantially at the same position, and are used as control signals such as a RESET signal and a chip enable (CE) signal. The pads are arranged so that they can be connected to different pads.

【0005】103は金、銅またはアルミニウム等の導
体で形成されたボンディングワイヤであり、ボンディン
グパッド102Aと基材100表面のボンディングパッ
ド100Bとを電気的に接続している。104は金、銅
またはアルミニウム等の導体で形成されたボンディング
ワイヤであり、ボンディングパッド101Aと基材10
0表面のボンディングパッド100Aとを電気的に接続
している。また、ボンディングパッド100Aとボンデ
ィングパッド100Bとは、基材100上の上面側に形
成された導体(銅、またはニッケルメッキ、錫メッキ、
金メッキのいずれかをメッキしたもの、または銅に前記
メッキを層状に組み合わせたもの等)の配線105を介
して接続されている。
Reference numeral 103 denotes a bonding wire formed of a conductor such as gold, copper, or aluminum, and electrically connects the bonding pad 102A to the bonding pad 100B on the surface of the base material 100. Reference numeral 104 denotes a bonding wire formed of a conductor such as gold, copper, or aluminum.
0 is electrically connected to the bonding pad 100A on the surface. The bonding pad 100A and the bonding pad 100B are formed by a conductor (copper or nickel plating, tin plating,
It is connected via a wiring 105 made of one of gold plating or a combination of copper and the plating in a layered manner.

【0006】106は金属ボールであり、配線105と
電気的に接続され、図示しない実装基板上の配線と配線
105とを電気的に接続する。金属ボール106は、半
田、錫合金、金などの金属材質、または、炭素や導電性
フィルムなど電気的に接続ができる材質で構成される。
また、その形状は、球状に限定されるものではなく、半
球状、円柱状などでもよい。金属ボール106は、ハン
ダ,錫合金,金などの材質で構成される。107は封止
樹脂であり、SRAMチップ101,FLASHメモリ
チップ102,ボンディングワイヤ103及び各ボンデ
ィングパッドを湿気等から保護する。
Reference numeral 106 denotes a metal ball, which is electrically connected to the wiring 105, and electrically connects the wiring on the mounting board (not shown) to the wiring 105. The metal ball 106 is made of a metal material such as solder, tin alloy, or gold, or a material that can be electrically connected, such as carbon or a conductive film.
Further, the shape is not limited to a spherical shape, and may be a hemispherical shape, a cylindrical shape, or the like. The metal ball 106 is made of a material such as solder, tin alloy, and gold. Reference numeral 107 denotes a sealing resin, which protects the SRAM chip 101, the FLASH memory chip 102, the bonding wires 103, and the respective bonding pads from moisture and the like.

【0007】上述したBGA型半導体装置は、チップサ
イズの制限からバンプ電極106の配列数が限られ、複
数の半導体チップのアドレス信号及びデータ信号の端子
を共通化している。例えば、SRAM(Static Randum A
ccess Memory)チップ101とFLASHメモリチップ
102とが積層されたスタックMCPの場合、図16に
示すように、SRAMチップ101及びFLASHメモ
リチップ102のデータ端子及びアドレス端子を共通の
ボンディングパッドへ接続している。
In the above-mentioned BGA type semiconductor device, the number of arranged bump electrodes 106 is limited due to the limitation of the chip size, and terminals of address signals and data signals of a plurality of semiconductor chips are shared. For example, SRAM (Static Randum A
ccess Memory) In the case of a stacked MCP in which the chip 101 and the FLASH memory chip 102 are stacked, as shown in FIG. 16, the data terminals and the address terminals of the SRAM chip 101 and the FLASH memory chip 102 are connected to a common bonding pad. I have.

【0008】すなわち、SRAMチップ101及びFL
ASHメモリチップ102からのデータ信号DQ0〜デ
ータ信号DQ15は、各々共通にボンディングパッドT
DQ0〜ボンディングパッドTDQ15に出力され、S
RAM及びフラッシュメモリのアドレス信号A0〜アド
レス信号A22は、各々共通にボンディングパッドTA
0〜ボンディングパッドTA22から入力されている。
また、SRAMチップ101及びFLASHメモリチッ
プ102それぞれのOEB(アウトプットイネーブルバ
ー)端子も共通にボンディングパッドTOEBに電気的
に接続されている。
That is, the SRAM chip 101 and the FL
The data signals DQ0 to DQ15 from the ASH memory chip 102 are connected to the bonding pads T in common.
DQ0 is output to the bonding pad TDQ15,
The address signals A0 to A22 of the RAM and the flash memory are shared with the bonding pad TA.
0 is input from the bonding pad TA22.
Further, the OEB (output enable bar) terminals of the SRAM chip 101 and the FLASH memory chip 102 are also electrically connected to the bonding pad TOEB in common.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】通常、半導体記憶装置
が出荷される前には、バーインテストが実施されてい
る。このバーインテストは、高温状態で半導体記憶装置
に高電圧を印加する加速試験であり、半導体記憶装置の
初期不良を除去するためのテストである。そして、半導
体記憶装置のバーインテスト時には、複数の半導体記憶
装置を同時に動作させ、テスト時間の短縮を行ってい
る。このとき、パッケージに1つの半導体素子しか封止
されていない場合、図17に示すように半導体記憶装置
UTD1〜半導体記憶装置UTDmを並列に接続して試験
を行う。
Normally, before a semiconductor memory device is shipped, a burn-in test is performed. This burn-in test is an acceleration test in which a high voltage is applied to the semiconductor memory device in a high temperature state, and is a test for removing an initial failure of the semiconductor memory device. Then, at the time of the burn-in test of the semiconductor memory device, a plurality of semiconductor memory devices are simultaneously operated to shorten the test time. At this time, when only one semiconductor element is sealed in the package, a test is performed by connecting the semiconductor memory devices UTD1 to UTDm in parallel as shown in FIG.

【0010】ここで、半導体記憶装置UTD1〜半導体
記憶装置UTDmの各CEB端子は、端子T103に接
続され、「L」レベルに固定され、内部回路の動作が可
能な状態になっている。すなわち、ADRS端子(ボン
ディングパッドTA0〜ボンディングパッドTA22)
から入力されるアドレス信号によりメモリの各アドレス
のアクセスが可能となっており、全メモリにセルに対し
て、順次または一斉にストレスが印加される。
Here, the CEB terminals of the semiconductor memory devices UTD1 to UTDm are connected to the terminal T103, are fixed at "L" level, and are in a state where the internal circuit can operate. That is, the ADRS terminal (bonding pad TA0 to bonding pad TA22)
Each address of the memory can be accessed by an address signal input from the memory device, and stress is applied to all the cells sequentially or simultaneously.

【0011】また、OEB端子は、端子T104へ接続
され、「H」レベルへ固定されており、出力はハイイン
ピーダンス状態になっている。また、別のテストモード
において、各出力端子をテスタと接続することで、半導
体記憶装置の良否を判定することが出来る。
The OEB terminal is connected to the terminal T104 and is fixed at "H" level, and the output is in a high impedance state. In another test mode, the quality of the semiconductor memory device can be determined by connecting each output terminal to a tester.

【0012】ここで、OEB端子が何らかの原因により
「L」レベルとなっても、半導体記憶装置UTD1〜半
導体記憶装置UTDmの出力端子TD10〜出力端子TDm
nがオープンになっているため、各半導体記憶装置UT
D1〜半導体記憶装置UTDmの各データ端子D0〜デー
タ端子Dn(データ端子TD10〜データ端子TD1n,…
…,データ端子TDm0〜データ端子TDmn)に対応する
入出力バッファは、破壊されることはない。
Here, even if the OEB terminal goes to "L" level for some reason, the output terminals TD10 to TDm of the semiconductor memory devices UTD1 to UTDm will be described.
Since n is open, each semiconductor memory device UT
D1 to each data terminal D0 to data terminal Dn of the semiconductor memory device UTDm (data terminal TD10 to data terminal TD1n,...)
.., The input / output buffers corresponding to the data terminals TDm0 to TDmn) are not destroyed.

【0013】しかしながら、スタックMCP型半導体記
憶装置では、従来技術に示したようにパッケージ内部で
データ端子及びアドレス端子が共通化されているため、
複数の半導体記憶装置に同時に制御信号を供給し、複数
の半導体記憶装置を並列に接続し、複数の半導体記憶装
置を同時に動作させて初期不良の半導体記憶装置の除去
を行うバーインテスト時などに以下のような問題を生じ
る。
However, in the stacked MCP type semiconductor memory device, since the data terminal and the address terminal are shared inside the package as shown in the prior art,
A control signal is supplied to a plurality of semiconductor memory devices at the same time, a plurality of semiconductor memory devices are connected in parallel, and a plurality of semiconductor memory devices are simultaneously operated to remove an initial defective semiconductor memory device. The following problems occur.

【0014】図18に示すように、バーインテスト時に
同時に複数の半導体記憶装置UTD1〜半導体記憶装置
UTDmを動作(読みだし)させる場合、全ての半導体
記憶装置のOEB端子を「H」レベルとし、かつ全ての
半導体記憶装置のCEfB端子及びCEsB端子を
「L」レベルとして、動作テストを行っている。また、
半導体記憶装置UTD1〜半導体記憶装置UTDmの各々
のデータ端子TDD1,0〜データ端子TDD1,15,…
…,データ端子TDDm,0〜データ端子TDDm,15(各
々ボンディングパッドTDQ0〜ボンディングパッドT
DQ15に対応)は、それぞれオープン状態となってい
る。
As shown in FIG. 18, when simultaneously operating (reading) a plurality of semiconductor memory devices UTD1 to UTDm during a burn-in test, the OEB terminals of all the semiconductor memory devices are set to "H" level, and The operation test is performed by setting the CEfB terminal and the CEsB terminal of all the semiconductor memory devices to the “L” level. Also,
The data terminals TDD1,0 to TDD1,15,... Of the semiconductor memory devices UTD1 to UTDm, respectively.
..., data terminals TDDm, 0 to data terminals TDDm, 15 (bonding pads TDQ0 to bonding pads T, respectively)
DQ15) are open.

【0015】このとき、共通化されたアドレス端子(ボ
ンディングパッド)TA0からアドレス端子TA22
(図15)へ、端子ADRSを介して入力されるアドレ
ス信号が、SRAMチップ101及びFLASHメモリ
チップ102へ供給される。そして、SRAMチップ1
01及びFLASHメモリチップ102は、内部のアド
レスデコーダにより指定されたメモリセルのデータの読
みだし操作を行う。
At this time, the shared address terminal (bonding pad) TA0 to the address terminal TA22
(FIG. 15), an address signal input via the terminal ADRS is supplied to the SRAM chip 101 and the FLASH memory chip 102. And the SRAM chip 1
01 and the FLASH memory chip 102 perform an operation of reading data of a memory cell designated by an internal address decoder.

【0016】しかし、半導体記憶装置UTD1〜半導体
記憶装置UTDm内の各々のSRAMチップ101及び
FLASHメモリチップ102は、OEB端子が「H」
レベルであるため、データ端子TDD1,0〜データ端子
TDD1,15,……,データ端子TDDm,0〜データ端子
TDDm,15に対してデータの出力動作を行わない。この
ため、SRAMチップ101及びFLASHメモリチッ
プ102のデータ出力信号が衝突せず、半導体記憶装置
の入出力バッファが破壊されることはない。
However, each of the SRAM chip 101 and the FLASH memory chip 102 in the semiconductor memory devices UTD1 to UTDm has the OEB terminal at "H".
, The data output operation is not performed on the data terminals TDD1,0 to TDD1,15,..., The data terminals TDDm, 0 to TDDm, 15. Therefore, the data output signals of the SRAM chip 101 and the FLASH memory chip 102 do not collide, and the input / output buffer of the semiconductor memory device is not destroyed.

【0017】ところが、このスタックMCPは、複数の
半導体記憶装置のいずれか1つが故障し、OEB端子と
接地端子との間のリークが増大したり、OEB端子と接
地端子との間が短絡したりすると、この半導体記憶装置
のOEB端子が「L」レベルとなり、SRAMチップ1
01及びFLASHメモリチップ102各々からデータ
端子TDD1,0〜データ端子TDD1,15(データ端子T
DD2,0〜データ端子TDD2,15,……,データ端子T
DDm,0〜データ端子TDDm,15)へそれぞれデータ信
号DQ0〜データ信号15が出力される。そして、この
とき一方が「H」レベルのデータ出力信号を出力し、他
方が「L」レベルのデータ出力信号を出力した場合、過
大な電流が双方の入出力バッファに流れ、SRAMチッ
プ101及びFLASHメモリチップ102の入出力バ
ッファが破壊される。
However, in this stack MCP, one of the plurality of semiconductor memory devices fails, the leakage between the OEB terminal and the ground terminal increases, or the OEB terminal and the ground terminal short-circuit. Then, the OEB terminal of this semiconductor memory device becomes “L” level, and the SRAM chip 1
01 and the FLASH memory chip 102 from the data terminals TDD1,0 to TDD1,15 (data terminal T
DD2,0 to data terminal TDD2,15, ..., data terminal T
DDm, 0 to data terminals TDDm, 15) are output with data signals DQ0 to DQ15, respectively. Then, at this time, when one outputs a data output signal of “H” level and the other outputs a data output signal of “L” level, an excessive current flows to both input / output buffers, and the SRAM chip 101 and the FLASH The input / output buffer of the memory chip 102 is destroyed.

【0018】そして、前記半導体記憶装置のOEB端子
が「L」レベルとなると同時に、この半導体記憶装置と
並列に接続されている他の半導体記憶装置のOEB端子
も「L」レベルとなり、これら他の半導体記憶装置内の
SRAMチップ101及びFLASHメモリチップ10
2は、上述した破壊された半導体記憶装置においてと同
様にそれぞれのデータ端子TDD1,0〜データ端子TD
D1,15(データ端子TDD2,0〜データ端子TDD2,1
5,……,データ端子TDDm,0〜データ端子TDDm,1
5)へ各々データ信号DQ0〜データ信号DQ15を出
力し、各々の入出力バッファを破壊する。
At the same time as the OEB terminal of the semiconductor memory device goes to "L" level, the OEB terminal of another semiconductor memory device connected in parallel with this semiconductor memory device also goes to "L" level. SRAM chip 101 and FLASH memory chip 10 in semiconductor memory device
2 are data terminals TDD1,0 to data terminal TD in the same manner as in the destroyed semiconductor memory device described above.
D1,15 (data terminal TDD2,0 to data terminal TDD2,1
5,..., Data terminal TDDm, 0 to data terminal TDDm, 1
The data signals DQ0 to DQ15 are output to 5) to destroy each input / output buffer.

【0019】このため、前述した従来のスタックMCP
型の半導体記憶装置には、バーインテスト時に並列に接
続されている複数の半導体記憶装置のいずれか1つ半導
体記憶装置のOEB端子が、破壊されて「L」レベルと
なった場合、全ての半導体記憶装置の入出力バッファが
破壊されてしまう問題がある。
For this reason, the above-described conventional stack MCP
When the OEB terminal of any one of the plurality of semiconductor storage devices connected in parallel at the time of the burn-in test is broken down to the “L” level, There is a problem that the input / output buffer of the storage device is destroyed.

【0020】本発明はこのような背景の下になされたも
ので、データの出力端子が共通に用いられている複数の
チップを内蔵する半導体装置を複数接続して行うテスト
において、他のいずれかの半導体装置のデータを出力す
る入出力バッファの出力制御を行う制御信号端子が故障
しても、この故障により複数のデータの衝突により入出
力バッファが破壊されない半導体装置を提供する事にあ
る。
The present invention has been made under such a background. In a test performed by connecting a plurality of semiconductor devices each including a plurality of chips having a common data output terminal, any one of the other devices is used. An object of the present invention is to provide a semiconductor device in which even if a control signal terminal for performing output control of an input / output buffer for outputting data of the semiconductor device fails, the input / output buffer is not destroyed due to collision of a plurality of data due to the failure.

【0021】[0021]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
半導体装置において、出力端子を共有する複数の半導体
素子が1つのパッケージ内に封止された半導体装置にお
いて、第一の半導体素子と、前記第一の半導体素子に設
けられた第一の出力バッファと共通の出力端子に接続さ
れる第二の出力バッファを有する第二の半導体素子と、
前記第一の半導体素子に供給される第一の制御信号に基
づき、前記第一の出力バッファの出力状態を制御する第
一の出力バッファ制御手段と、前記第二の半導体素子に
供給される第二の制御信号、及び前記第一の制御信号に
基づき、前記第二の出力バッファの出力状態を制御する
第二の出力バッファ制御手段とを具備することを特徴と
する。
According to the first aspect of the present invention,
In a semiconductor device, in a semiconductor device in which a plurality of semiconductor elements sharing an output terminal are sealed in one package, a first semiconductor element, a first output buffer provided in the first semiconductor element, A second semiconductor device having a second output buffer connected to a common output terminal,
First output buffer control means for controlling an output state of the first output buffer based on a first control signal supplied to the first semiconductor element, and a second output buffer control means supplied to the second semiconductor element. And a second output buffer control means for controlling an output state of the second output buffer based on the second control signal and the first control signal.

【0022】請求項2記載の発明は、請求項1記載の半
導体装置において、前記第二の出力バッファ制御手段
が、前記第一の制御信号が第一の出力バッファの出力を
有効としているとき、前記第二の制御信号が前記第二の
出力バッファを有効とする状態となった場合、この第二
の出力バッファの出力状態をハイインピーダンス状態と
することを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, in the semiconductor device according to the first aspect, when the second output buffer control means enables the output of the first output buffer by the first control signal, When the second control signal is in a state of validating the second output buffer, the output state of the second output buffer is set to a high impedance state.

【0023】請求項3記載の発明は、請求項1または請
求項2に記載の半導体装置において、前記第一の制御信
号が前記第一の半導体素子の動作をイネーブル状態とさ
せるか否かを制御する第一の素子選択信号と、前記第一
の出力バッファを有効とするか否かを制御する第一の素
子出力信号とで構成され、前記第二の制御信号が前記第
二の半導体素子の動作をイネーブル状態とさせるか否か
を制御する第二の素子選択信号と、前記第二の出力バッ
ファを有効とするか否かを制御する第二の素子出力信号
とで構成されていることを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, in the semiconductor device according to the first or second aspect, the first control signal controls whether or not the operation of the first semiconductor element is enabled. A first element selection signal, and a first element output signal for controlling whether or not to enable the first output buffer, wherein the second control signal is for the second semiconductor element. A second element selection signal that controls whether or not to enable the operation, and a second element output signal that controls whether to enable the second output buffer. Features.

【0024】請求項4記載の発明は、請求項1ないし請
求項3のいずれかに記載の半導体装置において、前記第
一の入出力制御手段が、前記第一の素子選択信号により
第一の半導体素子がイネーブル状態とされているとき、
前記第一の素子出力信号により第一の出力バッファを有
効とするか否かを制御し、第二の半導体素子がイネーブ
ル状態されているとき、前記第二の素子出力信号及び前
記第一の素子選択信号により第二の出力バッファを有効
とするか否かを制御することを特徴とする。
According to a fourth aspect of the present invention, in the semiconductor device according to any one of the first to third aspects, the first input / output control means controls the first semiconductor device in response to the first element selection signal. When the device is enabled,
The first element output signal controls whether to enable the first output buffer, and when the second semiconductor element is enabled, the second element output signal and the first element It is characterized in that whether to enable the second output buffer is controlled by a selection signal.

【0025】請求項5記載の発明は、半導体装置におい
て、出力端子を共有する複数の半導体素子が1つのパッ
ケージ内に封止された半導体装置において、第一の半導
体素子と、前記第一の半導体素子に設けられた第一の出
力バッファと共通の出力端子に接続される第二の出力バ
ッファを有する第二の半導体素子と、前記第一の半導体
素子に供給される第一の制御信号及び前記第二の半導体
素子に供給される第二の制御信号基づき、前記第一の出
力バッファの出力状態を制御する第一の出力バッファ制
御手段と、前記第一の制御信号及び前記第二の制御信号
に基づき、前記第二の出力バッファの出力状態を制御す
る第二の出力バッファ制御手段とを具備することを特徴
とする。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a semiconductor device in which a plurality of semiconductor elements sharing an output terminal are sealed in a single package. A second semiconductor element having a second output buffer connected to a common output terminal with a first output buffer provided in the element, a first control signal supplied to the first semiconductor element and First output buffer control means for controlling an output state of the first output buffer based on a second control signal supplied to a second semiconductor element; and the first control signal and the second control signal And a second output buffer control means for controlling an output state of the second output buffer based on the above.

【0026】請求項6記載の発明は、請求項5記載の半
導体装置において、前記第一の制御信号が第一の出力バ
ッファの出力を有効とする状態であるとき、前記第二の
制御信号が第二の出力バッファを有効とする状態となっ
た場合、及び前記第二の制御信号が第二の出力バッファ
の出力を有効とする状態であるとき、前記第一の制御信
号が第一の出力バッファを有効とする状態となった場
合、前記第一の出力バッファ制御手段が前記第一の出力
バッファをハイインピーダンス状態とし、前記第二の出
力バッファ制御手段が前記第二の出力バッファの出力状
態をハイインピーダンス状態とすることを特徴とする。
According to a sixth aspect of the present invention, in the semiconductor device according to the fifth aspect, when the first control signal is in a state in which the output of the first output buffer is made valid, the second control signal is output. When the second output buffer is in a state of validating, and when the second control signal is in a state of validating the output of the second output buffer, the first control signal is the first output When the buffer becomes valid, the first output buffer control means sets the first output buffer to a high impedance state, and the second output buffer control means sets the output state of the second output buffer. In a high impedance state.

【0027】請求項7記載の発明は、請求項5記載の半
導体装置において、第一の出力バッファ及び第二の出力
バッファが共にハイインピーダンス状態のとき、先に前
記第一の制御信号が第一の出力バッファの出力を有効と
する状態となった場合、前記第二の出力バッファ制御手
段が前記第二の制御信号が第二の出力バッファを有効と
する状態となっても第二の出力バッファをハイインピー
ダンス状態のままとし、逆に、先に前記第二の制御信号
が第二の出力バッファの出力を有効とする状態となった
場合、前記第一の出力バッファ制御手段が前記第一の制
御信号が第一の出力バッファを有効とする状態となって
も第一の出力バッファをハイインピーダンス状態のまま
とすることを特徴とする。
According to a seventh aspect of the present invention, in the semiconductor device according to the fifth aspect, when the first output buffer and the second output buffer are both in a high impedance state, the first control signal is first applied to the first output buffer. When the output of the output buffer becomes valid, the second output buffer control means may control the second output buffer even when the second control signal makes the second output buffer valid. Is kept in a high-impedance state, and conversely, if the second control signal first makes the output of the second output buffer valid, the first output buffer control means The first output buffer is kept in a high impedance state even when the control signal enables the first output buffer.

【0028】請求項8記載の発明は、請求項7記載の半
導体装置において、前記第一の出力バッファと制御手段
前記第二の出力バッファ制御手段とが、前記第一の制御
信号及び前記第二の制御信号のどちらが先にそれぞれ第
一の出力バッファ及び第二の出力バッファを有効とする
状態となったかを記憶するラッチ回路を各々具備するこ
とを特徴とする。
According to an eighth aspect of the present invention, in the semiconductor device according to the seventh aspect, the first output buffer and the control means are configured to control the first control signal and the second control signal and the second output buffer control means. Are respectively provided with latch circuits for storing which of the control signals (1) and (2) is in a state in which the first output buffer and the second output buffer are respectively enabled first.

【0029】請求項9記載の発明は、請求項5ないし請
求項8のいずれかに記載の半導体装置において、前記第
一の制御信号が前記第一の半導体素子の動作をイネーブ
ル状態とさせるか否かを制御する第一の素子選択信号
と、第一の出力バッファを有効とするか否かを制御する
第一の素子出力信号とで構成され、前記第二の制御信号
が第二の半導体素子の動作をイネーブル状態とさせるか
否かを制御する第二の素子選択信号と、第二の出力バッ
ファを有効とするか否かを制御する第二の素子出力信号
とで構成されていることを特徴とする。
According to a ninth aspect of the present invention, in the semiconductor device according to any one of the fifth to eighth aspects, the first control signal enables or disables the operation of the first semiconductor element. A first element selection signal that controls whether the first output buffer is enabled or not, and a first element output signal that controls whether the first output buffer is enabled. A second element selection signal for controlling whether or not to enable the operation of the second element, and a second element output signal for controlling whether to enable the second output buffer. Features.

【0030】請求項10記載の発明は、請求項5ないし
請求項9のいずれかに記載の半導体装置において、前記
第一の入出力制御手段が、前記第一の素子選択信号によ
り第一の半導体素子がイネーブル状態とされていると
き、前記第一の素子出力信号及び前記第二の素子選択信
号により第一の出力バッファを有効とするか否かを制御
し、第二の半導体素子がイネーブル状態されていると
き、前記第二の素子出力信号及び前記第一の素子選択信
号により第一の出力バッファを有効とするか否かを制御
することを特徴とする。
According to a tenth aspect of the present invention, in the semiconductor device according to any one of the fifth to ninth aspects, the first input / output control means controls the first semiconductor device in response to the first element selection signal. When the device is enabled, the first device output signal and the second device selection signal control whether to enable the first output buffer, and the second semiconductor device is enabled. In this case, whether or not the first output buffer is enabled is controlled by the second element output signal and the first element selection signal.

【0031】[0031]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施形態について説明する。 <第一の実施形態>図1は本発明の第一の実施形態によ
るスタックMCP型の半導体記憶装置(図6における半
導体記憶装置UT1〜半導体記憶装置UTm)の構成を示
すブロック図である。この図において、1はFLASH
メモリチップFMのデコーダ回路であり、端子から入力
されるチップイネーブル信号CEfBが例えば「L」レ
ベルのとき、入力される複数のアドレス信号に基づき、
内部アドレス信号を生成する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. <First Embodiment> FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a stacked MCP type semiconductor memory device (semiconductor memory devices UT1 to UTm in FIG. 6) according to a first embodiment of the present invention. In this figure, 1 is FLASH
This is a decoder circuit of the memory chip FM, and when a chip enable signal CEfB input from a terminal is, for example, “L” level, based on a plurality of input address signals,
Generate an internal address signal.

【0032】すなわち、デコーダ回路1は、チップイネ
ーブル信号が「L」レベルのとき、アドレス端子ADR
Sから入力される複数のアドレス信号に基づき、FLA
SHメモリチップFMにおける前記アドレス信号の指し
示すメモリセルを選択する内部アドレス信号を出力す
る。
That is, when the chip enable signal is at "L" level, the decoder circuit 1
FLA based on a plurality of address signals input from
An internal address signal for selecting a memory cell indicated by the address signal in the SH memory chip FM is output.

【0033】同様に、2はSRAMチップSMのデコー
ダ回路であり、端子から入力されるチップイネーブル信
号CEsB(CS1sB)が例えば「L」レベルのと
き、入力される複数のアドレス信号に基づき、内部アド
レス信号を生成する。
Similarly, reference numeral 2 denotes a decoder circuit of the SRAM chip SM. When the chip enable signal CEsB (CS1sB) input from the terminal is at the "L" level, for example, the internal address is determined based on a plurality of input address signals. Generate a signal.

【0034】すなわち、デコーダ回路2は、チップイネ
ーブル信号が「L」レベルのとき、アドレス端子ADR
S(図16のボンディングパッドTA0〜ボンディング
パッドTA22に対応)から入力される複数のアドレス
信号(図16のボンディングパッドTA0〜ボンディン
グパッドTA22へ入力されるアドレス信号A0〜アド
レス信号A22に対応)に基づき、SRAMチップSM
における前記アドレス信号ADRSの指し示すメモリセ
ルを選択する内部アドレス信号を出力する。
That is, when the chip enable signal is at “L” level, the decoder circuit 2
S (corresponding to the address signals A0 to A22 input to the bonding pads TA0 to TA22 in FIG. 16) input from S (corresponding to the bonding pads TA0 to TA22 in FIG. 16). , SRAM chip SM
Output an internal address signal for selecting a memory cell indicated by the address signal ADRS.

【0035】3はFLASHメモリチップFMの入出力
バッファ制御回路であり、入出力バッファOIF0〜入
出力バッファOIF15の出力状態を制御する。また、入
出力バッファ制御回路3は、端子から入力されるチップ
イネーブル信号CEfBと、端子から入力されるアウト
プットイネーブル信号OEBと、ライトイネーブル信号
WEBに基づき、入出力バッファOIF0〜入出力バッ
ファOIF15への制御信号CTF及び制御信号RDFを
生成し、入出力バッファOIF0〜入出力バッファOI
F15の入出力の制御及びメモリセル部Fの制御を行う。
Reference numeral 3 denotes an input / output buffer control circuit of the FLASH memory chip FM, which controls output states of the input / output buffers OIF0 to OIF15. Further, the input / output buffer control circuit 3 sends the input / output buffers OIF0 to OIF15 to the input / output buffers OIF0 to OIF15 based on the chip enable signal CEfB input from the terminal, the output enable signal OEB input from the terminal, and the write enable signal WEB. Of the input / output buffer OIF0 to the input / output buffer OI0.
It controls the input / output of F15 and the memory cell unit F.

【0036】すなわち、入出力バッファ制御回路3は、
例えば端子から入力されるチップイネーブル信号CEf
Bと、端子から入力されるアウトプットイネーブル信号
OEBとが双方ともに「L」レベルであり、端子から入
力されるライトイネーブル信号WEBが「H」レベルで
あるとき、制御信号CTF及び制御信号RDFによりメ
モリセル部Fにおいて内部アドレス信号で選択されたメ
モリセルに記憶されているデータ信号を入出力バッファ
OIF0〜入出力バッファOIF15から出力させる。入
出力バッファOIF0〜入出力バッファOIF15は、各
々ボンディングパッドTDQ0〜ボンディングパッドT
DQ15に接続されている。
That is, the input / output buffer control circuit 3
For example, a chip enable signal CEf input from a terminal
B and the output enable signal OEB input from the terminal are both at the “L” level, and when the write enable signal WEB input from the terminal is at the “H” level, the control signal CTF and the control signal RDF cause In the memory cell section F, the data signal stored in the memory cell selected by the internal address signal is output from the input / output buffers OIF0 to OIF15. The input / output buffers OIF0 to OIF15 are respectively provided with bonding pads TDQ0 to bonding pad T
Connected to DQ15.

【0037】また、入出力バッファ制御回路3は、例え
ば端子から入力されるチップイネーブル信号CEfBが
「L」であるとき、「L」レベルの制御信号TMFをメ
モリセル部Fへ出力し、メモリセル部Fを活性化させ
る。さらに、入出力バッファ制御回路3は、端子から入
力されるチップイネーブル信号CEfBと、端子から入
力されるアウトプットイネーブル信号OEBとが双方と
もに「L」レベルであり、端子から入力されるライトイ
ネーブル信号WEBが「H」レベルであるとき、メモリ
セル部Fをメモリセルに記憶されているデータの読み出
しモードとする。
When, for example, the chip enable signal CEfB input from the terminal is “L”, the input / output buffer control circuit 3 outputs an “L” level control signal TMF to the memory cell unit F, and Activate part F. Further, the input / output buffer control circuit 3 determines that the chip enable signal CEfB input from the terminal and the output enable signal OEB input from the terminal are both at the “L” level, and the write enable signal input from the terminal is When WEB is at the “H” level, the memory cell unit F is set to a mode for reading data stored in the memory cells.

【0038】また、入出力バッファOIF0〜OIF15
は、FLASHメモリチップFMへ外部からのデータ信
号の入力も行う。このデータ信号の入力時において、入
出力バッファOIF0〜OIF15は、外部から入力され
るデータ信号のレベル調整、及び波形整形等を行う。
The input / output buffers OIF0 to OIF15
Also inputs an external data signal to the FLASH memory chip FM. When the data signal is input, the input / output buffers OIF0 to OIF15 perform level adjustment, waveform shaping, and the like of the data signal input from the outside.

【0039】このとき、入出力バッファ制御回路3は、
例えば端子から入力されるチップイネーブル信号CEf
Bと、端子から入力されるライトイネーブル信号WEB
とが双方ともに「L」レベルであり、かつ、端子から入
力されるアウトプットイネーブル信号OEBが「H」レ
ベルであるとき、制御信号CTF及び制御信号RDFに
よりメモリセル部Fにおいて内部アドレス信号で選択さ
れたメモリセルに記憶されているデータを入出力バッフ
ァOIF0〜入出力バッファOIF15から出力させる。
At this time, the input / output buffer control circuit 3
For example, a chip enable signal CEf input from a terminal
B and a write enable signal WEB input from the terminal
Are both at "L" level and the output enable signal OEB input from the terminal is at "H" level, the control signal CTF and the control signal RDF select the memory cell unit F by the internal address signal. The data stored in the selected memory cell is output from the input / output buffers OIF0 to OIF15.

【0040】4はSRAMチップSMの入出力バッファ
制御回路であり、入出力バッファOIS0〜入出力バッ
ファOIS15の出力状態を制御する。また、入出力バッ
ファ制御回路4は、端子から入力されるチップイネーブ
ル信号CEsBと、端子から入力されるチップイネーブ
ル信号CEfBと、端子から入力されるアウトプットイ
ネーブル信号OEBと、端子から入力されるライトイネ
ーブル信号WEBとに基づき、入出力バッファOIS0
〜入出力バッファOIS15への制御信号CTS及び制御
信号RDSを生成し、入出力バッファOIS0〜入出力
バッファOIS15の入出力の制御を行う。
Reference numeral 4 denotes an input / output buffer control circuit of the SRAM chip SM, which controls output states of the input / output buffers OIS0 to OIS15. Further, the input / output buffer control circuit 4 includes a chip enable signal CEsB input from a terminal, a chip enable signal CEfB input from a terminal, an output enable signal OEB input from a terminal, and a write input signal from a terminal. Based on the enable signal WEB, the input / output buffer OIS0
制 御 Generates a control signal CTS and a control signal RDS to the input / output buffer OIS15, and controls input / output of the input / output buffers OIS0 to OIS15.

【0041】すなわち、入出力バッファ制御回路4は、
例えば端子から入力されるチップイネーブル信号CEs
Bと、端子から入力されるアウトプットイネーブル信号
OEBとが双方ともに「L」レベルであり、かつ端子か
ら入力されるチップイネーブル信号CEfBと、ライト
イネーブル信号WEBが「H」レベルであるとき、制御
信号CTS及び制御信号RDSにより、メモリセル部S
Sにおいて内部アドレス信号で選択されたメモリセルに
記憶されているデータを入出力バッファOIF0〜入出
力バッファOIF15から出力させる。入出力バッファO
IS0〜入出力バッファOIS15は、各々ボンディング
パッドTDQ0〜ボンディングパッドTDQ15に接続さ
れている。
That is, the input / output buffer control circuit 4
For example, a chip enable signal CEs input from a terminal
B and the output enable signal OEB input from the terminal are both at the “L” level, and the chip enable signal CEfB input from the terminal and the write enable signal WEB are at the “H” level. The signal CTS and the control signal RDS cause the memory cell unit S
In S, the data stored in the memory cell selected by the internal address signal is output from the input / output buffers OIF0 to OIF15. Input / output buffer O
IS0 to input / output buffer OIS15 are connected to bonding pads TDQ0 to TDQ15, respectively.

【0042】つまり、SRAMチップSMの入出力バッ
ファ制御回路4は、FLASHメモリチップFMが選択
されていないときのみ、すなわちチップイネーブル信号
CEfBが「H」レベルのときに、入出力バッファOI
F0〜入出力バッファOIF15から、アドレス信号AD
RSの指し示す、SRAMチップSMのメモリセル部S
Sに記憶されているデータの出力を許可することが可能
となる。
That is, only when the FLASH memory chip FM is not selected, that is, when the chip enable signal CEfB is at “H” level, the input / output buffer OI
From F0 to the input / output buffer OIF15, the address signal AD
RS indicates the memory cell section S of the SRAM chip SM
It is possible to permit the output of the data stored in S.

【0043】また、入出力バッファ制御回路4は、例え
ば端子から入力されるチップイネーブル信号CEsBが
「L」であるとき、「L」レベルの制御信号TMFをメ
モリセル部Fへ出力し、メモリセル部Fを活性化させ
る。さらに、入出力バッファ制御回路3は、端子から入
力されるチップイネーブル信号CEfBと、端子から入
力されるアウトプットイネーブル信号OEBとが双方と
もに「L」レベルであり、端子から入力されるライトイ
ネーブル信号WEBが「H」レベルであるとき、メモリ
セル部Fをメモリセルに記憶されているデータの読み出
しモードとする。
When, for example, the chip enable signal CEsB input from the terminal is “L”, the input / output buffer control circuit 4 outputs an “L” level control signal TMF to the memory cell unit F, Activate part F. Further, the input / output buffer control circuit 3 determines that the chip enable signal CEfB input from the terminal and the output enable signal OEB input from the terminal are both at the “L” level, and the write enable signal input from the terminal is When WEB is at the “H” level, the memory cell unit F is set to a mode for reading data stored in the memory cells.

【0044】また、入出力バッファOIS0〜OIS15
は、SRAMチップSMへ外部からのデータ信号の入力
も行う。このデータ信号の入力時において、入出力バッ
ファOIS0〜OIS15は、外部から入力されるデータ
信号のレベル調整、及び波形整形等を行う。
The input / output buffers OIS0 to OIS15
Also inputs an external data signal to the SRAM chip SM. When this data signal is input, the input / output buffers OIS0 to OIS15 perform level adjustment, waveform shaping, and the like of the data signal input from the outside.

【0045】このとき、入出力バッファ制御回路4は、
例えば端子から入力されるチップイネーブル信号CEs
Bと、端子から入力されるライトイネーブル信号WEB
とが双方ともに「L」レベルであり、かつ、端子から入
力されるアウトプットイネーブル信号OEBが「H」レ
ベルであるとき、制御信号CTS及び制御信号RDSに
よりメモリセル部SSにおいて内部アドレス信号で選択
されたメモリセルに記憶されているデータを入出力バッ
ファOIS0〜入出力バッファOIS15から出力させ
る。
At this time, the input / output buffer control circuit 4
For example, a chip enable signal CEs input from a terminal
B and a write enable signal WEB input from the terminal
Are both at "L" level and the output enable signal OEB input from the terminal is at "H" level, the memory cell section SS is selected by the internal address signal by the control signal CTS and the control signal RDS. The data stored in the selected memory cell is output from the input / output buffers OIS0 to OIS15.

【0046】ここで、入出力バッファOIF0〜入出力
バッファOIF15の入出力端子からの出力配線と、入出
力バッファOIS0〜入出力バッファOIS15の入出力
端子からの出力配線とは、ボンディングパッドTDQ0
〜ボンディングパッドTDQ15(それぞれ図18のデー
タ端子TDD1,0〜データ端子TDD1,15,……,デー
タ端子TDDm,0〜データ端子TDDm,15に対応)にお
いて接続されている。このため、入出力バッファOIF
0〜入出力バッファOIF15の入出力端子からの各々の
出力信号と、入出力バッファOIS0〜入出力バッファ
OIS15の入出力端子からの各々の出力信号とは、ぞれ
ぞれ出力信号DQ0〜出力信号DQ15としてボンディン
グパッドTDQ0〜ボンディングパッドTDQ15へ出力
される。
Here, the output wiring from the input / output terminals of the input / output buffers OIF0 to OIF15 and the output wiring from the input / output terminals of the input / output buffers OIS0 to OIS15 are defined as bonding pads TDQ0.
To the bonding pads TDQ15 (corresponding to the data terminals TDD1,0 to TDD1,15,..., Data terminals TDDm, 0 to TDDm, 15 in FIG. 18 respectively). Therefore, the input / output buffer OIF
0 to each output signal from the input / output terminal of the input / output buffer OIF15 and each output signal from the input / output terminal of the input / output buffer OIS0 to the input / output buffer OIS15 are output signals DQ0 to output signal, respectively. The signal is output to the bonding pads TDQ0 to TDQ15 as DQ15.

【0047】次に、図2を用いて図1の入出バッファO
IF0(入出力バッファOIF1〜入出力バッファOIF
15,入出力バッファOIS0〜入出力バッファOIS1
5)の一構成例の説明を行う。図2は、入出バッファO
IF0の一構成0を示すブロック図である。
Next, referring to FIG. 2, the input / output buffer O of FIG.
IF0 (input / output buffer OIF1 to input / output buffer OIF
15, I / O buffer OIS0 to I / O buffer OIS1
5) One configuration example will be described. FIG. 2 shows an input / output buffer O
It is a block diagram which shows one structure 0 of IF0.

【0048】この図において、OUTは出力バッファ部
であり、入出力バッファ制御回路3(入出力バッファ制
御回路4)から入力される制御信号CTF(入出力バッ
ファOIS0〜入出力バッファOIS15の場合、制御信
号CTS)により、出力状態が制御される。
In this figure, OUT is an output buffer section, and a control signal CTF (input / output buffer OIS0 to input / output buffer OIS15) input from the input / output buffer control circuit 3 (input / output buffer control circuit 4) is controlled. The output state is controlled by the signal CTS).

【0049】出力バッファ部OUTにおいて、ナンド回
路NAND1は、入力される制御信号CTFと、メモリ
セルから読み出されたデータDTFとの値の否定的論理
積演算を行い、演算結果として信号SPをpチャンネル
トランジスタTPのゲートへ出力する。
In the output buffer OUT, the NAND circuit NAND1 performs a NAND operation on the value of the input control signal CTF and the data DTF read from the memory cell, and outputs the signal SP as the operation result. Output to the gate of the channel transistor TP.

【0050】インバータINV1は、入出力バッファ制
御回路3から入力される制御信号CTFの反転信号をノ
ア回路NOR1へ出力する。ノア回路NOR1は、イン
バータINV1から入力される制御信号CTFの反転信
号と、メモリセルから読み出されたデータDTFとの値
の否定的論理和演算を行い、演算結果として信号SNを
nチャンネルトランジスタTNのゲートへ出力する。
Inverter INV1 outputs an inverted signal of control signal CTF input from input / output buffer control circuit 3 to NOR circuit NOR1. The NOR circuit NOR1 performs a negative OR operation on the value of the inverted signal of the control signal CTF input from the inverter INV1 and the value of the data DTF read from the memory cell, and outputs the signal SN as the operation result to the n-channel transistor TN. Output to the gate.

【0051】pチャンネルトランジスタTPは、ソース
が電源Vddへ接続され、ドレインがnチャンネルトラ
ンジスタTNのドレインと接続されている。また、pチ
ャンネルトランジスタTPは、入力される信号SPによ
りON/OFF制御される。
The p-channel transistor TP has a source connected to the power supply Vdd and a drain connected to the drain of the n-channel transistor TN. The p-channel transistor TP is ON / OFF controlled by an input signal SP.

【0052】ここで、pチャンネルトランジスタTP
は、制御信号CTFが「H」レベルの場合、ナンド回路
NAND1に入力されるデータDTFの値によりON/
OFFされる。すなわち、pチャンネルトランジスタT
Pは、データDTFが「H」レベルのとき、信号SPが
「L」レベルでありON状態となり、データDTFが
「L」レベルのとき、信号SPが「H」レベルでありO
FF状態となる。
Here, the p-channel transistor TP
Is ON / OFF depending on the value of data DTF input to NAND circuit NAND1 when control signal CTF is at “H” level.
It is turned off. That is, the p-channel transistor T
P indicates that when the data DTF is at the “H” level, the signal SP is at the “L” level and is in the ON state, and when the data DTF is at the “L” level, the signal SP is at the “H” level.
The state becomes the FF state.

【0053】一方、pチャンネルトランジスタTPは、
制御信号CTFが「L」レベルの場合、ナンド回路NA
ND1に入力されるデータDTFの値にかかわらずOF
F状態とされる。すなわち、pチャンネルトランジスタ
TPは、データDTFが「H」レベルのとき、及びデー
タDTFが「L」レベルのときも、ナンド回路NAND
1が「L」レベルの制御信号CTFでマスクされてお
り、信号SPが「H」レベルでありOFF状態となる。
On the other hand, the p-channel transistor TP
When the control signal CTF is at “L” level, the NAND circuit NA
OF regardless of the value of data DTF input to ND1
The state is set to the F state. That is, the p-channel transistor TP outputs the NAND circuit NAND even when the data DTF is at the “H” level and when the data DTF is at the “L” level.
1 is masked by the control signal CTF at the “L” level, the signal SP is at the “H” level, and is in the OFF state.

【0054】nチャンネルトランジスタTNは、ソース
が接地され、ドレインがpチャンネルトランジスタTP
のドレインと接続されている。また、また、nチャンネ
ルトランジスタTNは、入力される信号SNによりON
/OFF制御される。
The n-channel transistor TN has a source grounded and a drain p-channel transistor TP.
Connected to the drain. Further, the n-channel transistor TN is turned on by the input signal SN.
/ OFF control.

【0055】ここで、nチャンネルトランジスタTN
は、制御信号CTFが「H」レベルでインバータINV
1から出力される反転信号が「L」レベルの場合、ノア
回路NOR1に入力されるデータDTFの値によりON
/OFFされる。すなわち、nチャンネルトランジスタ
TNは、データDTFが「H」レベルのとき、信号SN
が「L」レベルでありOFF状態となり、データDTF
が「L」レベルのとき、信号SPが「H」レベルであり
ON状態となる。
Here, the n-channel transistor TN
Indicates that the control signal CTF is at “H” level and the inverter INV
When the inversion signal output from 1 is at "L" level, it is turned on by the value of data DTF input to NOR circuit NOR1.
/ OFF. That is, when data DTF is at “H” level, n-channel transistor TN outputs signal SN.
Is at the “L” level and is in the OFF state, and the data DTF
Is at the "L" level, the signal SP is at the "H" level and is in the ON state.

【0056】一方、nチャンネルトランジスタTNは、
制御信号CTFが「L」レベルでインバータINV1か
ら出力される反転信号が「H」レベルの場合、ノア回路
NOR1に入力されるデータDTFの値にかかわらずO
FF状態とされる。すなわち、nチャンネルトランジス
タTNは、データDTFが「H」レベルのとき、及びデ
ータDTFが「L」レベルのときも、ノア回路NOR1
が「H」レベルの制御信号CTFでマスクされており、
信号SNが「L」レベルでありOFF状態となる。
On the other hand, the n-channel transistor TN
When the control signal CTF is at "L" level and the inverted signal output from the inverter INV1 is at "H" level, regardless of the value of the data DTF input to the NOR circuit NOR1, O
The state is set to the FF state. That is, the n-channel transistor TN outputs the NOR circuit NOR1 even when the data DTF is at the “H” level and when the data DTF is at the “L” level.
Are masked by the control signal CTF of “H” level,
The signal SN is at the “L” level and is in the OFF state.

【0057】INは入力部であり、メモリセル部F(メ
モリセル部SS)のメモリセルに書き込むデータ信号D
Q0(データ信号DQ1〜データ信号DQ15)を外部から
入力する。インバータINV2は、外部から入力される
データ信号DQ0の極性を反転し、この反転信号をバッ
ファBUF1に出力する。
IN is an input section, and a data signal D to be written into a memory cell of the memory cell section F (memory cell section SS).
Q0 (data signal DQ1 to data signal DQ15) is externally input. Inverter INV2 inverts the polarity of data signal DQ0 input from the outside, and outputs the inverted signal to buffer BUF1.

【0058】バッファBUF1は、インバータINV2
から入力されるデータ信号DQ0の反転信号を再度反転
し、データDTFとして出力する。また、バッファBU
F1は、トライステートバッファであり、制御信号RD
F(制御信号RDS)が「L」レベルの場合、出力がハ
イインピーダンス状態となる。さらに、バッファBUF
1は、制御信号RDFが「H」レベルの場合、インバー
タとしての動作を行う。
The buffer BUF1 is connected to the inverter INV2.
Again inverts the inverted signal of the data signal DQ0 input from, and outputs it as data DTF. Also, the buffer BU
F1 is a tri-state buffer, and the control signal RD
When F (control signal RDS) is at “L” level, the output is in a high impedance state. Furthermore, the buffer BUF
1 operates as an inverter when the control signal RDF is at “H” level.

【0059】次に、図3を用いて、図1に示す入出力バ
ッファ制御回路3の一構成例を説明する。図3は、入出
力バッファ制御回路3の一構成例を示すブロック図であ
る。この図において、インバータINV3は、入力され
るチップイネーブル信号CEfBを反転し、反転結果の
反転信号をインバータINV4へ出力する。インバータ
INV4は、チップイネーブル信号CEfBの反転信号
を再度反転し、反転結果として制御信号TMFを出力す
る。
Next, an example of the configuration of the input / output buffer control circuit 3 shown in FIG. 1 will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a block diagram illustrating a configuration example of the input / output buffer control circuit 3. In the figure, an inverter INV3 inverts an input chip enable signal CEfB, and outputs an inverted signal of the inversion result to the inverter INV4. Inverter INV4 inverts the inverted signal of chip enable signal CEfB again, and outputs control signal TMF as the inverted result.

【0060】ノア回路NOR2は、入力されるアウトプ
ットイネーブル信号OEBと、インバータINV4から
入力される制御信号TMFとの否定的論理和演算を行
い、演算結果を制御信号CTFとして出力する。すなわ
ち、ノア回路NOR2は、入力されるアウトプットイネ
ーブル信号OEB及び制御信号TMFの双方が「L」レ
ベルであるときのみ制御信号CTFを「H」レベルで出
力する。一方、ノア回路NOR2は、入力されるアウト
プットイネーブル信号OEB及び制御信号TMFのいず
れかが「H」レベルで入力されると、制御信号CTFを
「L」レベルで出力する。
The NOR circuit NOR2 performs a negative OR operation on the input output enable signal OEB and the control signal TMF input from the inverter INV4, and outputs the operation result as a control signal CTF. That is, the NOR circuit NOR2 outputs the control signal CTF at the “H” level only when both the input output enable signal OEB and the control signal TMF are at the “L” level. On the other hand, the NOR circuit NOR2 outputs the control signal CTF at "L" level when any of the input output enable signal OEB and the control signal TMF is input at "H" level.

【0061】ノア回路NOR3は、入力されるライトイ
ネーブル信号WEBと、インバータINV4から入力さ
れる制御信号TMFと、ノア回路NOR2から出力され
る制御信号CTFとの否定的論理和演算を行い、演算結
果を制御信号RDFとして出力する。すなわち、ノア回
路NOR3は、入力されるアウトプットイネーブル信号
OEB,制御信号TMF及び制御信号CTFの全てが
「L」レベルであるときのみ制御信号RDFを「H」レ
ベルで出力する。
The NOR circuit NOR3 performs a negative OR operation on the input write enable signal WEB, the control signal TMF input from the inverter INV4, and the control signal CTF output from the NOR circuit NOR2. As a control signal RDF. That is, the NOR circuit NOR3 outputs the control signal RDF at the "H" level only when all of the input output enable signal OEB, the control signal TMF, and the control signal CTF are at the "L" level.

【0062】一方、ノア回路NOR3は、入力されるア
ウトプットイネーブル信号OEB,制御信号TMF及び
制御信号CTFのいずれかが「H」レベルで入力される
と、制御信号RDFを「L」レベルで出力する。このと
き、制御信号RDFは、アウトプットイネーブル信号O
EBが「H」レベルであり、チップイネーブル信号CE
fB及びライトイネーブル信号WEBが「L」レベルで
あるときのみ「H」レベルで出力され、メモリセル部F
は書き込みモードとなる。
On the other hand, the NOR circuit NOR3 outputs the control signal RDF at "L" level when any of the output enable signal OEB, the control signal TMF and the control signal CTF is input at "H" level. I do. At this time, the control signal RDF becomes the output enable signal O
EB is at “H” level, and chip enable signal CE
Only when fB and the write enable signal WEB are at “L” level, the signal is output at “H” level.
Becomes the write mode.

【0063】次に、図4を用いて、図1に示す入出力バ
ッファ制御回路4の一構成例を説明する。図4は、入出
力バッファ制御回路4の一構成例を示すブロック図であ
る。この図において、インバータINV5は、入力され
るチップイネーブル信号CEsBを反転し、反転結果の
反転信号をインバータINV6へ出力する。インバータ
INV6は、チップイネーブル信号CEsBの反転信号
を再度反転し、反転結果として制御信号TMSを出力す
る。
Next, an example of the configuration of the input / output buffer control circuit 4 shown in FIG. 1 will be described with reference to FIG. FIG. 4 is a block diagram illustrating a configuration example of the input / output buffer control circuit 4. In this figure, an inverter INV5 inverts the input chip enable signal CEsB, and outputs an inverted signal of the inverted result to the inverter INV6. Inverter INV6 inverts the inverted signal of chip enable signal CEsB again, and outputs control signal TMS as an inverted result.

【0064】ノア回路NOR4は、入力されるチップイ
ネーブル信号CEsBと、チップイネーブル信号CEf
Bとの否定的論理和演算を行い、演算結果を信号Cfs
として出力する。すなわち、ノア回路NOR4は、入力
されるチップイネーブル信号CEsB及びチップイネー
ブル信号CEfBの双方が「L」レベルであるときのみ
信号Cfsを「H」レベルで出力する。一方、ノア回路
NOR4は、入力されるチップイネーブル信号CEsB
及びチップイネーブル信号CEfBのいずれかが「H」
レベルで入力されると、信号Cfsを「L」レベルで出
力する。
The NOR circuit NOR4 receives the input chip enable signal CEsB and the chip enable signal CEf.
Performs a logical OR operation with B and outputs the operation result to the signal Cfs
Output as That is, the NOR circuit NOR4 outputs the signal Cfs at the “H” level only when both the input chip enable signal CEsB and the chip enable signal CEfB are at the “L” level. On the other hand, the NOR circuit NOR4 receives the input chip enable signal CEsB.
And one of the chip enable signals CEfB is “H”
When input at the level, the signal Cfs is output at the “L” level.

【0065】ノア回路NOR5は、入力されるアウトプ
ットイネーブル信号OEBと、ノア回路NOR4から入
力される信号Cfsと、インバータINV6から入力さ
れる制御信号TMSとの否定的論理和演算を行い、演算
結果を制御信号CTSとして出力する。すなわち、ノア
回路NOR5は、入力されるアウトプットイネーブル信
号OEB,信号Cfs及び制御信号TMSの全てが
「L」レベルであるときのみ制御信号CTSを「H」レ
ベルで出力する。
The NOR circuit NOR5 performs a negative OR operation of the output enable signal OEB input thereto, the signal Cfs input from the NOR circuit NOR4, and the control signal TMS input from the inverter INV6, and calculates the operation result. As a control signal CTS. That is, NOR circuit NOR5 outputs control signal CTS at "H" level only when all of output enable signal OEB, signal Cfs and control signal TMS are at "L" level.

【0066】一方、ノア回路NOR5は、入力されるア
ウトプットイネーブル信号OEB,信号Cfs及び制御
信号TMSのいずれかが「H」レベルで入力されると、
制御信号CTSを「L」レベルで出力する。従って、制
御信号CTSは、アウトプットイネーブル信号OEB及
びチップイネーブル信号CEsBが「L」レベルであっ
ても、チップイネーブル信号CEfBが「L」である
と、信号Cfsが「H」レベルとなり、「L」レベルと
なる。
On the other hand, when one of the input enable signal OEB, the signal Cfs, and the control signal TMS is input at "H" level, the NOR circuit NOR5 receives the output enable signal OEB.
Outputs control signal CTS at "L" level. Therefore, even if the output enable signal OEB and the chip enable signal CEsB are at “L” level, if the chip enable signal CEfB is at “L”, the signal Cfs becomes “H” level, and the control signal CTS becomes “H” level. Level.

【0067】よって、FLASHメモリチップFMが選
択されている場合に、アウトプットイネーブル信号OE
B及びチップイネーブル信号CEsBが「L」レベルと
なっても、SRAMチップSMの入出力バッファOIS
0〜入出力バッファOIS15は、出力状態とはならな
い。
Therefore, when the FLASH memory chip FM is selected, the output enable signal OE
B and the chip enable signal CEsB become “L” level, the input / output buffer OIS
0-input / output buffer OIS15 does not enter the output state.

【0068】ノア回路NOR6は、入力されるライトイ
ネーブル信号WEBと、インバータINV6から入力さ
れる制御信号TMSと、ノア回路NOR5から出力され
る制御信号CTSとの否定的論理和演算を行い、演算結
果を制御信号RDSとして出力する。すなわち、ノア回
路NOR6は、入力されるライトイネーブル信号WE
B,制御信号TMS及び制御信号CTSの全てが「L」
レベルであるときのみ制御信号RDSを「H」レベルで
出力する。
The NOR circuit NOR6 performs a negative OR operation on the input write enable signal WEB, the control signal TMS input from the inverter INV6, and the control signal CTS output from the NOR circuit NOR5. As a control signal RDS. That is, the NOR circuit NOR6 receives the input write enable signal WE.
B, control signal TMS and control signal CTS are all "L"
Only when the level is at the level, control signal RDS is output at "H" level.

【0069】一方、ノア回路NOR6は、入力されるラ
イトイネーブル信号WEB,制御信号TMS及び制御信
号CTSのいずれかが「H」レベルで入力されると、制
御信号RDSを「L」レベルで出力する。従って、制御
信号RDSは、アウトプットイネーブル信号OEBが
「H」レベルであり、チップイネーブル信号CEsB及
びライトイネーブル信号WEBが「L」レベルであると
きのみ「H」レベルで出力され、メモリセル部Fは書き
込みモードとなる。
On the other hand, when any of the input write enable signal WEB, control signal TMS and control signal CTS is input at "H" level, NOR circuit NOR6 outputs control signal RDS at "L" level. . Therefore, the control signal RDS is output at the "H" level only when the output enable signal OEB is at the "H" level and the chip enable signal CEsB and the write enable signal WEB are at the "L" level. Becomes the write mode.

【0070】また、図16における端子と図1に示す端
子との対応関係、及び各端子の働きを以下に説明する。
ここで、本発明の第一の実施形態(及び後に説明する第
一の実施形態の変形例,第二の実施形態,第三の実施形
態)と従来例とは、以下に示す端子の位置関係が同一で
あり、内部の半導体素子の回路構成が異なっている。図
16において、B2〜B7,C1〜C8,E1〜E8,
F1〜F3,F6〜F8,G1〜G3,G6〜G8、H
1〜H8,I1〜I8,J2〜J7は開口部である。
The correspondence between the terminals in FIG. 16 and the terminals shown in FIG. 1 and the function of each terminal will be described below.
Here, the first embodiment of the present invention (and a modified example of the first embodiment, a second embodiment, and a third embodiment described later) and a conventional example are arranged in the following positional relationship of terminals. And the circuit configuration of the internal semiconductor element is different. In FIG. 16, B2 to B7, C1 to C8, E1 to E8,
F1 to F3, F6 to F8, G1 to G3, G6 to G8, H
1 to H8, I1 to I8, J2 to J7 are openings.

【0071】すなわち、開口部B2〜B7,開口部C1
〜C8,開口部E1〜E8,開口部F1〜F3,開口部
F6〜F8,開口部G1〜G3,開口部G6〜G8、開
口部H1〜H8,開口部I1〜I8,開口部J2〜J7
に対応した下面には、それぞれ金属ボール106(図1
5(b))が接続されている。
That is, the openings B2 to B7 and the opening C1
To C8, openings E1 to E8, openings F1 to F3, openings F6 to F8, openings G1 to G3, openings G6 to G8, openings H1 to H8, openings I1 to I8, openings J2 to J7.
The metal balls 106 (FIG. 1)
5 (b)) are connected.

【0072】また、TA0〜TA22,TDQ0〜TD
Q15,TVSS,TVss,TSA,TNC,TVC
Cf,TVCCs,CIOf,CIOs,TRY/BY
B,TRESETB,TWEB,TUB,TLB,TC
EfB,TCE1sB,TCE2s及びTOEBはボン
ディングパッドであり、例えば図15(a)のボンディ
ングパッド100A及びボンディングパッド100Bに
対応している。
Further, TA0 to TA22, TDQ0 to TD
Q15, TVSS, TVss, TSA, TNC, TVC
Cf, TVCCs, CIOf, CIOs, TRY / BY
B, TRESETB, TWEB, TUB, TLB, TC
EfB, TCE1sB, TCE2s, and TOEB are bonding pads, and correspond to, for example, the bonding pad 100A and the bonding pad 100B in FIG.

【0073】そして、開口部B2〜B7,開口部C1〜
C8,開口部E1〜E8,開口部F1〜F3,開口部F
6〜F8,開口部G1〜G3,開口部G6〜G8、開口
部H1〜H8,開口部I1〜I8,開口部J2〜J7に
対応した下面の金属ボール106は、おのおの配線10
5を介して図16に示すように、ボンディングパッドT
A0〜TA22,ボンディングパッドTDQ0〜TDQ
15,ボンディングパッドTVSS,ボンディングパッ
ドTVss,ボンディングパッドTSA,ボンディング
パッドTNC,ボンディングパッドTVCCf,ボンデ
ィングパッドTVCCs,ボンディングパッドCIO
f,ボンディングパッドCIOs,ボンディングパッド
TRY/BYB,ボンディングパッドTRESETB,
ボンディングパッドTWEB,TUB,ボンディングパ
ッドTLB,ボンディングパッドTCEfB,ボンディ
ングパッドTCE1sB,ボンディングパッドTCE2
s及びボンディングパッドTOEBに電気的に接続され
ている。ここで、上述したボンディングパッドの記号の
最後に「B」がついているものは、入力される信号が負
論理で入力されることを示している。
The openings B2 to B7 and the openings C1 to C7
C8, openings E1 to E8, openings F1 to F3, opening F
6 to F8, the openings G1 to G3, the openings G6 to G8, the openings H1 to H8, the openings I1 to I8, and the metal balls 106 on the lower surfaces corresponding to the openings J2 to J7,
5 through the bonding pad T as shown in FIG.
A0 to TA22, bonding pads TDQ0 to TDQ
15, bonding pad TVSS, bonding pad TVss, bonding pad TSA, bonding pad TNC, bonding pad TVCCf, bonding pad TVCCs, bonding pad CIO
f, bonding pads CIOs, bonding pads TRY / BYB, bonding pads TRESETB,
Bonding pads TWEB, TUB, bonding pad TLB, bonding pad TCefB, bonding pad TCE1sB, bonding pad TCE2
s and the bonding pad TOEB. Here, the symbol “B” at the end of the symbol of the above-mentioned bonding pad indicates that the input signal is input in negative logic.

【0074】また、ボンディングパッドTA0〜TA2
2,ボンディングパッドTDQ0〜TDQ15,ボンデ
ィングパッドTVSS,ボンディングパッドTVss,
ボンディングパッドTSA,ボンディングパッドTN
C,ボンディングパッドTVCCf,ボンディングパッ
ドTVCCs,ボンディングパッドCIOf,ボンディ
ングパッドCIOs,ボンディングパッドTRY/BY
B,ボンディングパッドTRESETB,ボンディング
パッドTWEB,TUB,ボンディングパッドTLB,
ボンディングパッドTCEfB,ボンディングパッドT
CE1sB,ボンディングパッドTCE2s及びボンデ
ィングパッドTOEBは、ボンディングパッド100A
及びボンディングパッド100Bに相当し、例えばボン
ディングワイヤ103またはボンディングワイヤ104
を介して(図15(a)参照)、SRAMチップSMの
ボンディングパッド及びFLASHメモリチップFMの
ボンディングパッドと電気的に接続されている。
The bonding pads TA0 to TA2
2, bonding pads TDQ0 to TDQ15, bonding pad TVSS, bonding pad TVss,
Bonding pad TSA, bonding pad TN
C, bonding pad TVCCf, bonding pad TVCCs, bonding pad CIOf, bonding pad CIOs, bonding pad TRY / BY
B, bonding pad TRESETB, bonding pad TWEB, TUB, bonding pad TLB,
Bonding pad TCefB, bonding pad T
CE1sB, the bonding pad TCE2s and the bonding pad TOEB are the bonding pad 100A.
And a bonding pad 100B, for example, a bonding wire 103 or a bonding wire 104.
15 (see FIG. 15A), it is electrically connected to the bonding pad of the SRAM chip SM and the bonding pad of the FLASH memory chip FM.

【0075】さらに、上述した各ボンディングパッド
と、このボンディングパッドに配線105により電気的
に接続される金属ボール106に対応する各開口部は、
開口部と開口部との間に配線105が2本パターンニン
グ出来るように配置されている。
Further, each of the above-described bonding pads and each opening corresponding to the metal ball 106 electrically connected to the bonding pad by the wiring 105 is formed by:
Two wirings 105 are arranged between the openings so that two wirings 105 can be patterned.

【0076】そして、ボンディングパッドTA0〜TA
22は、それぞれSRAMチップSMのアドレス信号A
0〜A22(アドレス信号ADRS)に対応したボンデ
ィングパッドに接続される。同様に、ボンディングパッ
ドTA0〜TA22は、それぞれFLASHメモリチッ
プFMのアドレス信号A0〜A22に対応したボンディ
ングパッドに接続される。半導体記憶装置1に使用され
るメモリ容量により、使用されないボンディングパッド
が出てくるが、例えばアドレス信号A0〜A22とする
と、メモリ容量は128Mビット(4Mビット×16ビ
ット出力×2個)に対応出来る。
Then, the bonding pads TA0 to TA
Reference numeral 22 denotes an address signal A of the SRAM chip SM.
0 to A22 (address signal ADRS) are connected to bonding pads. Similarly, the bonding pads TA0 to TA22 are connected to bonding pads corresponding to the address signals A0 to A22 of the FLASH memory chip FM, respectively. Unused bonding pads appear depending on the memory capacity used in the semiconductor memory device 1. For example, if address signals A0 to A22 are used, the memory capacity can correspond to 128M bits (4M bits × 16 bits output × 2). .

【0077】また、ボンディングパッドTDQ0〜TD
Q15は、それぞれSRAMチップSMのデータ信号D
Q0〜DQ15に対応したボンディングパッドに接続さ
れる。同様に、ボンディングパッドTDQ0〜TDQ1
5は、それぞれFLASHメモリチップFMのデータ信
号DQ0〜DQ15に対応したボンディングパッドに接
続される。
The bonding pads TDQ0 to TDQ0
Q15 is the data signal D of the SRAM chip SM, respectively.
Connected to bonding pads corresponding to Q0 to DQ15. Similarly, bonding pads TDQ0 to TDQ1
5 are connected to bonding pads corresponding to the data signals DQ0 to DQ15 of the FLASH memory chip FM, respectively.

【0078】FLASHメモリチップFMのデータ信号
は、データ信号DQ0〜DQ15の16ビット分ある
が、例えばボンディングパッドTCIOfに対して
「H」レベルの信号を与えるとデータ信号DQ0〜DQ
15の16ビット出力となり、ボンディングパッドTC
IOfに対して「L」レベルの信号を与えるとデータ信
号DQ0〜DQ7の8ビット出力となる。
The data signal of the FLASH memory chip FM has 16 bits of the data signals DQ0 to DQ15. For example, when an "H" level signal is applied to the bonding pad TCIOOf, the data signals DQ0 to DQ15 are provided.
15 16-bit outputs and the bonding pad TC
When an “L” level signal is applied to IOf, 8-bit outputs of data signals DQ0 to DQ7 are obtained.

【0079】同様に、SRAMチップSMのデータ信号
は、データ信号DQ0〜DQ15の16ビット分ある
が、例えばボンディングパッドTCIOsに対して
「H」レベルの信号を与えるとデータ信号DQ0〜DQ
15の16ビット出力となり、ボンディングパッドTC
IOsに対して「L」レベルの信号を与えるとデータ信
号DQ0〜DQ7の8ビット出力となる。
Similarly, the data signals of SRAM chip SM have 16 bits of data signals DQ0 to DQ15. For example, when an "H" level signal is applied to bonding pads TCIOs, data signals DQ0 to DQ15 are provided.
15 16-bit outputs and the bonding pad TC
When an "L" level signal is applied to IOs, 8-bit data signals DQ0 to DQ7 are output.

【0080】ボンディングパッドTCEfBには、FL
ASHメモリチップFMをイネーブルにするかディセー
ブルにするかの設定を行うチップイネーブル信号CEf
Bが供給される。例えば、ボンディングパッドTCEf
Bに「L」レベルのチップイネーブル信号CEfBを与
えると、FLASHメモリチップFMはイネーブルとな
る。一方、ボンディングパッドTCEfBに「H」レベ
ルのチップイネーブル信号CEfBを与えると、FLA
SHメモリチップFMはディセーブル(出力禁止状態)
となる。
FL is applied to the bonding pad TCefB.
Chip enable signal CEf for setting whether to enable or disable the ASH memory chip FM
B is supplied. For example, the bonding pad TCef
When the “L” level chip enable signal CEfB is applied to B, the FLASH memory chip FM is enabled. On the other hand, when “H” level chip enable signal CEfB is applied to bonding pad TCefB, FLA
SH memory chip FM is disabled (output prohibited state)
Becomes

【0081】ボンディングパッドTCE1sBには、S
RAMチップSMをイネーブルにするかディセーブルに
するかの設定を行うチップイネーブル信号CE1sBが
供給される。例えば、ボンディングパッドTCE1sB
に「L」レベルのチップイネーブル信号CE1sBを与
えると、SRAMチップSMはイネーブルとなる。一
方、ボンディングパッドTCE1sBに「H」レベルの
チップイネーブル信号CE1sBを与えると、SRAM
チップSMはディセーブルとなる。
The bonding pad TCE1sB has S
A chip enable signal CE1sB for setting whether to enable or disable the RAM chip SM is supplied. For example, the bonding pad TCE1sB
Is supplied with an "L" level chip enable signal CE1sB, the SRAM chip SM is enabled. On the other hand, when "H" level chip enable signal CE1sB is applied to bonding pad TCE1sB, SRAM
The chip SM is disabled.

【0082】ボンディングパッドTCE2sには、SR
AMチップSMをイネーブルにするかディセーブルにす
るかの設定を行うチップイネーブル信号CE2sが供給
される。例えば、ボンディングパッドTCE2sに
「H」レベルのチップイネーブル信号CE2sを与える
と、SRAMチップSMはイネーブルとなる。一方、ボ
ンディングパッドTCE2sに「L」レベルのチップイ
ネーブル信号CE2sを与えると、SRAMチップSM
はディセーブルとなる。
The bonding pad TCE2s has an SR
A chip enable signal CE2s for setting whether to enable or disable the AM chip SM is supplied. For example, when an “H” level chip enable signal CE2s is applied to the bonding pad TCE2s, the SRAM chip SM is enabled. On the other hand, when an “L” level chip enable signal CE2s is applied to the bonding pad TCE2s, the SRAM chip SM
Is disabled.

【0083】ボンディングパッドTOEBには、FLA
SHメモリチップFMのデータ信号DQ0〜DQ15の
出力をイネーブルにするかディセーブルにするかの設定
を行うアウトプットイネーブル信号OEBが供給され
る。例えば、ボンディングパッドTOEBに「L」レベ
ルのアウトプットイネーブル信号OEBを与えると、F
LASHメモリチップFMのデータ信号DQ0〜DQ1
5の出力はイネーブルとなる。一方、ボンディングパッ
ドTOEBに「H」レベルのアウトプットイネーブル信
号OEBを与えると、FLASHメモリチップFMのデ
ータ信号DQ0〜DQ15の出力はディセーブルとな
る。
The bonding pad TOEB has FLA
An output enable signal OEB for setting whether to enable or disable the output of the data signals DQ0 to DQ15 of the SH memory chip FM is supplied. For example, when an “L” level output enable signal OEB is applied to the bonding pad TOEB,
Data signals DQ0 to DQ1 of the LASH memory chip FM
The output of 5 is enabled. On the other hand, when an “H” level output enable signal OEB is applied to the bonding pad TOEB, the output of the data signals DQ0 to DQ15 of the FLASH memory chip FM is disabled.

【0084】ボンディングパッドTWEBには、SRA
MチップSM及びFLASHメモリチップFMにデータ
を記憶させる時に「L」レベルとするライトイネーブル
信号WEBが供給される。ボンディングパッドTLBB
及びボンディングパッドTUBBには、データ信号DQ
0〜DQ15を、下位バイトのデータ信号DQ0〜DQ
7と上位バイトのデータ信号DQ8〜DQ15とに分け
て使用するときのアドレッシングに対する補助信号であ
る信号LBBと信号UBBとが各々入力される。
The bonding pad TWEB has SRA
When data is stored in the M chip SM and the FLASH memory chip FM, a write enable signal WEB which is set to “L” level is supplied. Bonding pad TLBB
The data signal DQ is applied to the bonding pad TUBB.
0 to DQ15 are converted to lower byte data signals DQ0 to DQ.
7 and an upper byte data signal DQ8 to DQ15, a signal LBB and a signal UBB which are auxiliary signals for addressing when used separately.

【0085】ボンディングパッドTVssとボンディン
グパッドTVSSには、SRAMチップSM及びFLA
SHメモリチップFMに対する電源VSSが供給され
る。ボンディングパッドTVCCfには、FLASHメ
モリチップFMに対する電源VCCが供給される。ボン
ディングパッドTVCCsには、SRAMチップSMに
対する電源VCCが供給される。
The bonding pads TVss and TVSS have the SRAM chip SM and the FLA
The power VSS is supplied to the SH memory chip FM. A power supply VCC for the FLASH memory chip FM is supplied to the bonding pad TVCCf. The power supply VCC for the SRAM chip SM is supplied to the bonding pads TVCs.

【0086】ボンディングパッドTNCには、SRAM
チップSM及びFLASHメモリチップFMに対する特
殊な機能(書き込み禁止、テスト)の信号が入力される
ため、通常の場合には外部配線に接続されない。ボンデ
ィングパッドTRESETBには、SRAMチップSM
及びFLASHメモリチップFMに対するリセット信号
が入力される。例えば、リセット信号を「L」レベルで
入力されると、SRAMチップSM及びFLASHメモ
リチップFMにリセットがかかり初期化される。
The bonding pad TNC has an SRAM
Since a signal of a special function (write inhibit, test) for the chip SM and the FLASH memory chip FM is input, it is not connected to an external wiring in a normal case. The bonding pad RESETB has an SRAM chip SM
And a reset signal for the FLASH memory chip FM. For example, when a reset signal is input at “L” level, the SRAM chip SM and the FLASH memory chip FM are reset and initialized.

【0087】ボンディングパッドTRY・RYBには、
FLASHメモリチップFMから、FLASHメモリチ
ップFMが自動アルゴリズム動作実行中か否かを検出す
るRY・RYB信号が出力される。すなわち、書き込み
または消去動作中、RY・RYB信号は「0」で出力さ
れ、自動アルゴリズム動作待機中、RY・RYB信号は
「1」で出力される。
The bonding pads TRY and RYB have
The RY / RYB signal for detecting whether the FLASH memory chip FM is executing the automatic algorithm operation is output from the FLASH memory chip FM. That is, the RY / RYB signal is output as "0" during the writing or erasing operation, and the RY / RYB signal is output as "1" during the standby for the automatic algorithm operation.

【0088】ボンディングパッドTSAには、SRAM
チップSMのアドレス信号が入力される。SRAMチッ
プSMの入出力が8ビット構成で使用される場合(制御
信号CIOsにより制御)、アドレス信号として用いら
れる信号が入力される。一方、SRAMチップSMのア
ドレス信号が入力される。SRAMチップSMの入出力
が16ビット構成で使用される場合、無効端子となる。
The bonding pad TSA has an SRAM
The address signal of the chip SM is input. When the input / output of the SRAM chip SM is used in an 8-bit configuration (controlled by the control signal CIOs), a signal used as an address signal is input. On the other hand, an address signal of the SRAM chip SM is input. When the input / output of the SRAM chip SM is used in a 16-bit configuration, it becomes an invalid terminal.

【0089】次に、図1,図5及び図18を参照し、上
述した第一の実施形態の動作例を説明する。図5は、図
1に示す半導体記憶装置UT1(半導体記憶装置UT2〜
半導体記憶装置UTm)の動作を示すタイミングチャー
トである。例えば、図18に示すように、半導体記憶装
置UT1〜半導体記憶装置UTmのVDD(電源)端子を端
子T10に接続し、電源電圧を供給する。また、半導体
記憶装置UT1〜半導体記憶装置UTmのGND(接地)
端子を端子T11へ接続して接地する。さらに、半導体
記憶装置UT1〜半導体記憶装置UTmのADRS(アド
レス)端子(図16のボンディングパッドTA0〜ボン
ディングパッドTA22に対応する)が端子T12に接
続され、外部からアドレス信号ADRSが供給される。
Next, an example of the operation of the above-described first embodiment will be described with reference to FIGS. 1, 5 and 18. FIG. 5 shows the semiconductor memory device UT1 (semiconductor memory devices UT2 to UT2) shown in FIG.
6 is a timing chart showing the operation of the semiconductor memory device UTm). For example, as shown in FIG. 18, the VDD (power) terminals of the semiconductor storage devices UT1 to UTm are connected to the terminal T10 to supply a power supply voltage. In addition, the GND (ground) of the semiconductor memory devices UT1 to UTm
The terminal is connected to the terminal T11 and grounded. Further, the ADRS (address) terminals (corresponding to the bonding pads TA0 to TA22 in FIG. 16) of the semiconductor memory devices UT1 to UTm are connected to the terminal T12, and an address signal ADRS is supplied from outside.

【0090】また、半導体記憶装置UT1〜半導体記憶
装置UTmのOEB(アウトプットイネーブル)端子が
端子T15に接続され、アウトプットイネーブル信号O
EBが供給される。ここで、OEB端子に「H」レベル
のアウトプットイネーブル信号OEBが入力されると、
半導体記憶装置UT1〜半導体記憶装置UTmにおけるF
LASHメモリチップFM及びSRAMチップSMは、
読みだし状態のとき、それぞれアドレス信号の指し示す
メモリセル部F、メモリセル部SSからのデータを入出
力バッファOIF0〜入出力バッファOIF15、入出力
バッファOIS0〜入出力バッファOIS15より出力す
ることが不可能な状態となる。
Further, the OEB (output enable) terminals of the semiconductor memory devices UT1 to UTm are connected to the terminal T15, and the output enable signal O is output.
EB is supplied. Here, when an output enable signal OEB of “H” level is input to the OEB terminal,
F in the semiconductor memory devices UT1 to UTm
The LASH memory chip FM and the SRAM chip SM
In the read state, it is impossible to output data from the memory cell unit F and the memory cell unit SS indicated by the address signals from the input / output buffers OIF0 to OIF15 and the input / output buffers OIS0 to OIS15. It becomes a state.

【0091】一方、OEB端子に「L」レベルのアウト
プットイネーブル信号OEBが入力されると、半導体記
憶装置UT1〜半導体記憶装置UTmにおけるFLASH
メモリチップFM及びSRAMチップSMは、読みだし
状態のとき、それぞれメモリセル部F、メモリセル部S
Sのアドレス信号の指し示すメモリセルに記憶されてい
るデータを入出力バッファOIF0〜入出力バッファO
IF15、入出力バッファOIS0〜入出力バッファOI
S15より出力することが可能な状態となる。図示しない
WEB(ライトイネーブル)端子からライトイネーブル
信号WEBが入力される。半導体記憶装置UT1(半導
体記憶装置UT2〜半導体記憶装置UTm)において、チ
ップイネーブル信号CEfBまたはチップイネーブル信
号CEsBが「L」レベルのとき、イネーブル状態のチ
ップは、ライトイネーブル信号WEBが「L」レベルの
場合、書き込み可能となり、「H」レベルの場合、書き
込み不許可となる。
On the other hand, when an "L" level output enable signal OEB is input to the OEB terminal, FLASH in the semiconductor memory devices UT1 to UTm is output.
When the memory chip FM and the SRAM chip SM are in the read state, the memory cells F and S
The data stored in the memory cell pointed to by the address signal of S is input / output buffer OIF0 to input / output buffer O
IF15, I / O buffer OIS0 to I / O buffer OI
It becomes a state where it is possible to output from S15. A write enable signal WEB is input from a WEB (write enable) terminal (not shown). In the semiconductor memory device UT1 (semiconductor memory devices UT2 to UTm), when the chip enable signal CEfB or the chip enable signal CEsB is at the “L” level, the chip in the enabled state has the write enable signal WEB at the “L” level. In this case, writing becomes possible, and in the case of "H" level, writing is not permitted.

【0092】次に、図5のタイミングチャートに従い、
図1の半導体記憶装置UT1(半導体記憶装置UT2〜半
導体記憶装置UTm)の動作を説明する。時刻t0におい
て、例えば、アウトプットイネーブル信号OEBが
「H」レベルであり、ライトイネーブル信号WEBが
「L」レベルであり、チップイネーブル信号CEfB及
びチップイネーブル信号CEsBが「H」であり、制御
信号CTF及び制御信号CTSが「L」レベルであると
する。このとき、FLASHメモリチップFM及びSR
AMチップSMは、共にディセーブル状態であるため、
データ信号DQ0〜データ信号DQ15をハイインピー
ダンス状態としている。
Next, according to the timing chart of FIG.
The operation of the semiconductor storage device UT1 (semiconductor storage devices UT2 to UTm) of FIG. 1 will be described. At time t0, for example, the output enable signal OEB is at “H” level, the write enable signal WEB is at “L” level, the chip enable signals CEfB and CEsB are at “H”, and the control signal CTF And the control signal CTS is at the “L” level. At this time, the FLASH memory chips FM and SR
Since the AM chips SM are both disabled,
The data signals DQ0 to DQ15 are in a high impedance state.

【0093】次に、時刻taにおいて、図示しない外部
機器がアウトプットイネーブル信号OEBを「H」レベ
ルから「L」レベルに、ライトイネーブル信号WEBを
「L」レベルから「H」レベルに遷移させる。また、ア
ドレス信号ADRSが図示しない外部機器から入力され
る。
Next, at time ta, an external device (not shown) causes the output enable signal OEB to transition from "H" level to "L" level and the write enable signal WEB to transition from "L" level to "H" level. The address signal ADRS is input from an external device (not shown).

【0094】これにより、FLASHメモリチップFM
及びSRAMチップSMは、共にそれぞれメモリセルに
記憶されているデータの読み出しモードが指示される。
しかしながら、チップイネーブル信号CEfB及びチッ
プイネーブル信号CEsBが「H」であるため、FLA
SHメモリチップFM及びSRAMチップSMは、外部
機器により選択されておらず、読み出し動作がイネーブ
ル状態とならない。
Thus, the FLASH memory chip FM
For both the SRAM chip SM and the SRAM chip SM, the read mode of the data stored in the memory cell is instructed.
However, since the chip enable signal CEfB and the chip enable signal CEsB are “H”, FLA
The SH memory chip FM and the SRAM chip SM are not selected by the external device, and the read operation is not enabled.

【0095】次に、時刻t1において、図示しない外部
機器がチップイネーブル信号CEfBを「H」レベルか
ら「L」レベルに遷移させる。これにより、FLASH
メモリチップFMは、図示しない外部機器により選択さ
れる。この結果、入出力バッファ制御回路3は、制御信
号CTFを「L」レベルから「H」レベルに遷移させ
る。このとき、入出力バッファ制御回路3は、制御信号
RDFを「L」レベルで、制御信号TMFを「L」レベ
ルで出力している。
Next, at time t1, an external device (not shown) changes the chip enable signal CEfB from "H" level to "L" level. With this, FLASH
The memory chip FM is selected by an external device (not shown). As a result, the input / output buffer control circuit 3 causes the control signal CTF to transition from “L” level to “H” level. At this time, the input / output buffer control circuit 3 outputs the control signal RDF at the “L” level and the control signal TMF at the “L” level.

【0096】そして、FLASHメモリチップFMは、
メモリセル部Fにおけるアドレス信号ADRSが示すメ
モリセルからデータDTF0〜データDTF15を読み出
す。この結果、入出力バッファOIF0〜入出力バッフ
ァOIF15は、制御信号CTFが「L」レベルから
「H」レベルに遷移されたことにより、データDTF0
〜データDTF15をそれぞれデータ信号DQ0〜データ
信号DQ15として出力する。ここで、図5にはデータ信
号DQ0の出力状態(DF1)のみ示されている。
Then, the FLASH memory chip FM
Data DTF0 to data DTF15 are read from the memory cell indicated by the address signal ADRS in the memory cell unit F. As a result, the input / output buffers OIF0 to OIF15 output the data DTF0 due to the transition of the control signal CTF from the “L” level to the “H” level.
To DTF15 are output as data signals DQ0 to DQ15, respectively. Here, FIG. 5 shows only the output state (DF1) of the data signal DQ0.

【0097】一方、図示しない外部機器がチップイネー
ブル信号CEsBを「H」レベルのままとしている。こ
のため、SRAMチップSMは、図示しない外部機器に
より選択されていない。この結果、入出力バッファ制御
回路4は、制御信号CTSを「L」レベルとして出力し
ている。これにより、入出力バッファOIS0〜入出力
バッファOIS15は、出力がハイインピーダンス状態と
なっている。このとき、入出力バッファ制御回路4は、
制御信号RDSを「L」レベルで、制御信号TMSを
「L」レベルで出力している。
On the other hand, an external device (not shown) keeps the chip enable signal CEsB at “H” level. Therefore, the SRAM chip SM has not been selected by an external device (not shown). As a result, the input / output buffer control circuit 4 outputs the control signal CTS as “L” level. As a result, the outputs of the input / output buffers OIS0 to OIS15 are in a high impedance state. At this time, the input / output buffer control circuit 4
The control signal RDS is output at "L" level, and the control signal TMS is output at "L" level.

【0098】次に、時刻t2において、図示しない外部
機器がチップイネーブル信号CEfBを「L」レベルか
ら「H」レベルへ遷移させる。これにより、FLASH
メモリチップFMは、選択状態から非選択状態となる。
この結果、入出力バッファ制御回路3は、制御信号CT
Fを「H」レベルから「L」レベルに遷移させる。そし
て、入出力バッファOIF0〜入出力バッファOIF15
は、出力がハイインピーダンス状態となる。このとき、
入出力バッファ制御回路3は、制御信号RDFを「L」
レベルで、制御信号TMFを「H」レベルで出力してい
る。
Next, at time t2, an external device (not shown) causes the chip enable signal CEfB to transition from "L" level to "H" level. With this, FLASH
The memory chip FM changes from the selected state to the non-selected state.
As a result, the input / output buffer control circuit 3 outputs the control signal CT
F is changed from “H” level to “L” level. Then, the input / output buffers OIF0 to OIF15
Output is in a high impedance state. At this time,
The input / output buffer control circuit 3 sets the control signal RDF to “L”.
At this time, the control signal TMF is output at "H" level.

【0099】次に、時刻t3において、図示しない外部
機器がチップイネーブル信号CEsBを「H」レベルか
ら「L」レベルに遷移させる。これにより、SRAMチ
ップSMは、図示しない外部機器により選択される。こ
の結果、入出力バッファ制御回路4は、制御信号CTS
を「L」レベルから「H」レベルに遷移させる。このと
き、入出力バッファ制御回路4は、制御信号RDSを
「L」レベルで、制御信号TMSを「L」レベルで出力
している。
Next, at time t3, an external device (not shown) causes the chip enable signal CEsB to transition from "H" level to "L" level. Thus, the SRAM chip SM is selected by an external device (not shown). As a result, the input / output buffer control circuit 4 outputs the control signal CTS.
From the “L” level to the “H” level. At this time, the input / output buffer control circuit 4 outputs the control signal RDS at “L” level and the control signal TMS at “L” level.

【0100】そして、SRAMチップSMは、メモリセ
ル部SSにおけるアドレス信号ADRSが示すメモリセ
ルからデータDTS0〜データDTS15を読み出す。こ
の結果、入出力バッファOIS0〜入出力バッファOI
S15は、制御信号CTSが「L」レベルから「H」レベ
ルに遷移されたことにより、データDTS0〜データD
TS15をそれぞれデータ信号DQ0〜データ信号DQ15
として出力する。ここで、図5にはデータ信号DQ0の
出力状態(DS1)のみ示されている。
Then, the SRAM chip SM reads the data DTS0 to DTS15 from the memory cell indicated by the address signal ADRS in the memory cell section SS. As a result, the input / output buffer OIS0 to the input / output buffer OI
In S15, the data DTS0 to data DTS are output when the control signal CTS changes from “L” level to “H” level.
TS15 is connected to data signal DQ0 to data signal DQ15, respectively.
Output as Here, FIG. 5 shows only the output state (DS1) of the data signal DQ0.

【0101】一方、図示しない外部機器がチップイネー
ブル信号CEfBを「H」レベルのままとしている。こ
のため、FLASHメモリチップFMは、図示しない外
部機器により選択されていない。この結果、入出力バッ
ファ制御回路3は、制御信号CTFを「L」レベルとし
て出力している。これにより、入出力バッファOIF0
〜入出力バッファOIF15は、出力がハイインピーダン
ス状態となっている。このとき、入出力バッファ制御回
路3は、制御信号RDFを「L」レベルで、制御信号T
MFを「L」レベルで出力している。
On the other hand, an external device (not shown) keeps the chip enable signal CEfB at “H” level. Therefore, the FLASH memory chip FM has not been selected by an external device (not shown). As a result, the input / output buffer control circuit 3 outputs the control signal CTF as “L” level. Thereby, the input / output buffer OIF0
The output of the input / output buffer OIF15 is in a high impedance state. At this time, the input / output buffer control circuit 3 sets the control signal RDF to "L" level and
MF is output at “L” level.

【0102】次に、時刻t4において、図示しない外部
機器がチップイネーブル信号CEsBを「L」レベルか
ら「H」レベルへ遷移させる。これにより、SRAMチ
ップSMは、選択状態から非選択状態となる。この結
果、入出力バッファ制御回路4は、制御信号CTSを
「H」レベルから「L」レベルに遷移させる。そして、
入出力バッファOIS0〜入出力バッファOIS15は、
出力がハイインピーダンス状態となる。このとき、入出
力バッファ制御回路4は、制御信号RDSを「L」レベ
ルで、制御信号TMSを「H」レベルで出力している。
Next, at time t4, an external device (not shown) changes the chip enable signal CEsB from "L" level to "H" level. As a result, the SRAM chip SM changes from the selected state to the non-selected state. As a result, the input / output buffer control circuit 4 causes the control signal CTS to transition from “H” level to “L” level. And
The input / output buffers OIS0 to OIS15 are
The output goes into a high impedance state. At this time, the input / output buffer control circuit 4 outputs the control signal RDS at "L" level and the control signal TMS at "H" level.

【0103】次に、時刻t5において、図示しない外部
機器がチップイネーブル信号CEfBを「H」レベルか
ら「L」レベルに遷移させる。これにより、FLASH
メモリチップFMは、図示しない外部機器により選択さ
れる。この結果、入出力バッファ制御回路3は、制御信
号CTFを「L」レベルから「H」レベルに遷移させ
る。このとき、入出力バッファ制御回路3は、制御信号
RDFを「L」レベルで、制御信号TMFを「L」レベ
ルで出力している。
Next, at time t5, an external device (not shown) causes the chip enable signal CEfB to transition from "H" level to "L" level. With this, FLASH
The memory chip FM is selected by an external device (not shown). As a result, the input / output buffer control circuit 3 causes the control signal CTF to transition from “L” level to “H” level. At this time, the input / output buffer control circuit 3 outputs the control signal RDF at the “L” level and the control signal TMF at the “L” level.

【0104】そして、FLASHメモリチップFMは、
メモリセル部Fにおけるアドレス信号ADRSが示すメ
モリセルからデータDTF0〜データDTF15を読み出
す。この結果、入出力バッファOIF0〜入出力バッフ
ァOIF15は、制御信号CTFが「L」レベルから
「H」レベルに遷移されたことにより、データDTF0
〜データDTF15をそれぞれデータ信号DQ0〜データ
信号DQ15として出力する。ここで、図5にはデータ信
号DQ0の出力状態(DF2)のみ示されている。
Then, the FLASH memory chip FM
Data DTF0 to data DTF15 are read from the memory cell indicated by the address signal ADRS in the memory cell unit F. As a result, the input / output buffers OIF0 to OIF15 output the data DTF0 due to the transition of the control signal CTF from the “L” level to the “H” level.
To DTF15 are output as data signals DQ0 to DQ15, respectively. Here, FIG. 5 shows only the output state (DF2) of the data signal DQ0.

【0105】一方、図示しない外部機器がチップイネー
ブル信号CEsBを「H」レベルのままとしている。こ
のため、SRAMチップSMは、図示しない外部機器に
より選択されていない。この結果、入出力バッファ制御
回路4は、制御信号CTSを「L」レベルとして出力し
ている。これにより、入出力バッファOIS0〜入出力
バッファOIS15は、出力がハイインピーダンス状態と
なっている。このとき、入出力バッファ制御回路4は、
制御信号RDSを「L」レベルで、制御信号TMSを
「L」レベルで出力している。
On the other hand, an external device (not shown) keeps the chip enable signal CEsB at “H” level. Therefore, the SRAM chip SM has not been selected by an external device (not shown). As a result, the input / output buffer control circuit 4 outputs the control signal CTS as “L” level. As a result, the outputs of the input / output buffers OIS0 to OIS15 are in a high impedance state. At this time, the input / output buffer control circuit 4
The control signal RDS is output at "L" level, and the control signal TMS is output at "L" level.

【0106】次に、時刻t6において、図示しない外部
機器がチップイネーブル信号CEsBを「H」レベルか
ら「L」レベルに遷移させる。これにより、SRAMチ
ップSMは、図示しない外部機器により選択される。し
かしながら、入出力バッファ制御回路4は、チップイネ
ーブル信号CEfBが「L」レベルのため、信号Cfs
が「H」レベルとなり、制御信号CTSが「L」レベル
のままとなる。このとき、入出力バッファ制御回路4
は、制御信号RDSを「L」レベルで、制御信号TMS
を「L」レベルで出力している。
Next, at time t6, an external device (not shown) causes the chip enable signal CEsB to transition from "H" level to "L" level. Thus, the SRAM chip SM is selected by an external device (not shown). However, since the chip enable signal CEfB is at the “L” level, the input / output buffer control circuit 4 outputs the signal Cfs
Becomes "H" level, and control signal CTS remains at "L" level. At this time, the input / output buffer control circuit 4
Sets the control signal RDS to the “L” level and the control signal TMS
At the “L” level.

【0107】このため、SRAMチップSMは、図示し
ない外部機器により選択状態となっているが、制御信号
CTSが「L」レベルのため、入出力バッファOIS0
〜入出力バッファOIS15の出力をハイインピーダンス
のままとする。したがって、FLASHメモリチップF
M及びSRAMチップSMの出力信号は、入出力バッフ
ァOIS0〜入出力バッファOIS15の出力をハイイン
ピーダンスのため、アウトプットイネーブル信号OEB
が「L」レベルとなっても衝突しない。
For this reason, the SRAM chip SM is selected by an external device (not shown). However, since the control signal CTS is at "L" level, the input / output buffer OIS0
~ The output of the input / output buffer OIS15 is kept at high impedance. Therefore, the FLASH memory chip F
Since the output signals of the M and SRAM chips SM have high impedance at the outputs of the input / output buffers OIS0 to OIS15, the output enable signal OEB
Does not collide even if the level becomes "L" level.

【0108】ここで、例えば、バーインテスト中に、図
18に示す半導体記憶装置のうち、半導体記憶装置UT
1のアウトプットイネーブル信号の入力される端子が、
内部で接地された配線とショートする障害により「L」
レベルとなったとする。これにより、端子T15に接続
されている配線が「L」レベルとなる。
Here, for example, during the burn-in test, the semiconductor memory device UT of the semiconductor memory devices shown in FIG.
The terminal to which the output enable signal of 1 is input is
"L" due to failure to short-circuit with internally grounded wiring
Let's say it is level. As a result, the wiring connected to the terminal T15 becomes “L” level.

【0109】しかしながら、上述した入出力バッファ制
御回路3及び入出力バッファ制御回路4により、半導体
記憶装置UT1〜半導体記憶装置UTmの各々の入出力バ
ッファOIF0〜入出力バッファOIF15及び入出力バ
ッファOIS0〜入出力バッファOIS15は、データの
同時出力状態になった場合、入出力バッファOIS0〜
入出力バッファOIS15の出力がハイインピーダンス状
態となるため、データの衝突による破壊から保護され
る。
However, the input / output buffer control circuits 3 and 4 described above use the input / output buffers OIF0 to OIF15 and the input / output buffers OIS0 to OIS0 of the semiconductor memory devices UT1 to UTm. The output buffer OIS15 sets the input / output buffers OIS0 to
Since the output of the input / output buffer OIS15 is in a high impedance state, it is protected from destruction due to data collision.

【0110】次に、時刻t7において、図示しない外部
機器がチップイネーブル信号CEfBを「L」レベルか
ら「H」レベルへ遷移させる。これにより、FLASH
メモリチップFMは、選択状態から非選択状態となる。
この結果、入出力バッファ制御回路3は、制御信号CT
Fを「H」レベルから「L」レベルに遷移させる。そし
て、入出力バッファOIF0〜入出力バッファOIF15
は、出力がハイインピーダンス状態となる。このとき、
入出力バッファ制御回路3は、制御信号RDFを「L」
レベルで、制御信号TMFを「H」レベルで出力してい
る。
Next, at time t7, an external device (not shown) changes the chip enable signal CEfB from "L" level to "H" level. With this, FLASH
The memory chip FM changes from the selected state to the non-selected state.
As a result, the input / output buffer control circuit 3 outputs the control signal CT
F is changed from “H” level to “L” level. Then, the input / output buffers OIF0 to OIF15
Output is in a high impedance state. At this time,
The input / output buffer control circuit 3 sets the control signal RDF to “L”.
At this time, the control signal TMF is output at "H" level.

【0111】これにより、チップイネーブル信号CEs
Bが「L」レベルであり、SRAMチップSMが図示し
ない外部機器により選択されているため、入出力バッフ
ァ制御回路4は、制御信号CTSを「L」レベルから
「H」レベルに遷移させる。このとき、入出力バッファ
制御回路4は、制御信号RDSを「L」レベルで、制御
信号TMSを「L」レベルで出力している。
As a result, the chip enable signal CEs
Since B is at the “L” level and the SRAM chip SM is selected by an external device (not shown), the input / output buffer control circuit 4 changes the control signal CTS from the “L” level to the “H” level. At this time, the input / output buffer control circuit 4 outputs the control signal RDS at “L” level and the control signal TMS at “L” level.

【0112】そして、SRAMチップSMは、メモリセ
ル部SSにおけるアドレス信号ADRSが示すメモリセ
ルからデータDTS0〜データDTS15を読み出す。こ
の結果、入出力バッファOIS0〜入出力バッファOI
S15は、制御信号CTSが「L」レベルから「H」レベ
ルに遷移されたことにより、データDTS0〜データD
TS15をそれぞれデータ信号DQ0〜データ信号DQ15
として出力する。ここで、図5にはデータ信号DQ0の
出力状態(DS2)のみ示されている。
The SRAM chip SM reads the data DTS0 to DTS15 from the memory cell indicated by the address signal ADRS in the memory cell section SS. As a result, the input / output buffer OIS0 to the input / output buffer OI
In S15, the data DTS0 to data DTS are output when the control signal CTS changes from “L” level to “H” level.
TS15 is connected to data signal DQ0 to data signal DQ15, respectively.
Output as Here, FIG. 5 shows only the output state (DS2) of the data signal DQ0.

【0113】一方、図示しない外部機器がチップイネー
ブル信号CEfBを「L」レベルから「H」レベルへ遷
移した。このため、FLASHメモリチップFMは、図
示しない外部機器により選択されていない。この結果、
入出力バッファ制御回路3は、制御信号CTFを「L」
レベルとして出力している。これにより、入出力バッフ
ァOIF0〜入出力バッファOIF15は、出力がハイイ
ンピーダンス状態となっている。このとき、入出力バッ
ファ制御回路3は、制御信号RDFを「L」レベルで、
制御信号TMFを「L」レベルで出力している。
On the other hand, an external device (not shown) has changed the chip enable signal CEfB from “L” level to “H” level. Therefore, the FLASH memory chip FM has not been selected by an external device (not shown). As a result,
The input / output buffer control circuit 3 sets the control signal CTF to “L”.
Output as level. As a result, the outputs of the input / output buffers OIF0 to OIF15 are in a high impedance state. At this time, the input / output buffer control circuit 3 sets the control signal RDF to “L” level,
The control signal TMF is output at "L" level.

【0114】次に、時刻t8において、図示しない外部
機器がチップイネーブル信号CEsBを「L」レベルか
ら「H」レベルへ遷移させる。これにより、SRAMチ
ップSMは、選択状態から非選択状態となる。この結
果、入出力バッファ制御回路4は、制御信号CTSを
「H」レベルから「L」レベルに遷移させる。そして、
入出力バッファOIS0〜入出力バッファOIS15は、
出力がハイインピーダンス状態となる。このとき、入出
力バッファ制御回路4は、制御信号RDSを「L」レベ
ルで、制御信号TMSを「H」レベルで出力している。
Next, at time t8, an external device (not shown) causes the chip enable signal CEsB to transition from "L" level to "H" level. As a result, the SRAM chip SM changes from the selected state to the non-selected state. As a result, the input / output buffer control circuit 4 causes the control signal CTS to transition from “H” level to “L” level. And
The input / output buffers OIS0 to OIS15 are
The output goes into a high impedance state. At this time, the input / output buffer control circuit 4 outputs the control signal RDS at "L" level and the control signal TMS at "H" level.

【0115】次に、時刻t9において、図示しない外部
機器がチップイネーブル信号CEsBを「H」レベルか
ら「L」レベルに遷移させる。これにより、SRAMチ
ップSMは、図示しない外部機器により選択される。こ
の結果、入出力バッファ制御回路4は、制御信号CTS
を「L」レベルから「H」レベルに遷移させる。このと
き、入出力バッファ制御回路4は、制御信号RDSを
「L」レベルで、制御信号TMSを「L」レベルで出力
している。
Next, at time t9, an external device (not shown) causes the chip enable signal CEsB to transition from "H" level to "L" level. Thus, the SRAM chip SM is selected by an external device (not shown). As a result, the input / output buffer control circuit 4 outputs the control signal CTS.
From the “L” level to the “H” level. At this time, the input / output buffer control circuit 4 outputs the control signal RDS at “L” level and the control signal TMS at “L” level.

【0116】そして、SRAMチップSMは、メモリセ
ル部SSにおけるアドレス信号ADRSが示すメモリセ
ルからデータDTS0〜データDTS15を読み出す。こ
の結果、入出力バッファOIS0〜入出力バッファOI
S15は、制御信号CTSが「L」レベルから「H」レベ
ルに遷移されたことにより、データDTS0〜データD
TS15をそれぞれデータ信号DQ0〜データ信号DQ15
として出力する。ここで、図5にはデータ信号DQ0の
出力状態(DS3)のみ示されている。
Then, the SRAM chip SM reads the data DTS0 to DTS15 from the memory cell indicated by the address signal ADRS in the memory cell section SS. As a result, the input / output buffer OIS0 to the input / output buffer OI
In S15, the data DTS0 to data DTS are output when the control signal CTS changes from “L” level to “H” level.
TS15 is connected to data signal DQ0 to data signal DQ15, respectively.
Output as Here, FIG. 5 shows only the output state (DS3) of the data signal DQ0.

【0117】一方、図示しない外部機器がチップイネー
ブル信号CEfBを「H」レベルのままとしている。こ
のため、FLASHメモリチップFMは、図示しない外
部機器により選択されていない。この結果、入出力バッ
ファ制御回路3は、制御信号CTFを「L」レベルとし
て出力している。これにより、入出力バッファOIF0
〜入出力バッファOIF15は、出力がハイインピーダン
ス状態となっている。このとき、入出力バッファ制御回
路3は、制御信号RDFを「L」レベルで、制御信号T
MFを「L」レベルで出力している。
On the other hand, an external device (not shown) keeps the chip enable signal CEfB at “H” level. Therefore, the FLASH memory chip FM has not been selected by an external device (not shown). As a result, the input / output buffer control circuit 3 outputs the control signal CTF as “L” level. Thereby, the input / output buffer OIF0
The output of the input / output buffer OIF15 is in a high impedance state. At this time, the input / output buffer control circuit 3 sets the control signal RDF to “L” level and
MF is output at “L” level.

【0118】次に、時刻t10において、図示しない外部
機器がチップイネーブル信号CEfBを「H」レベルか
ら「L」レベルに遷移させる。これにより、FLASH
メモリチップFMは、図示しない外部機器により選択さ
れる。この結果、入出力バッファ制御回路3は、制御信
号CTFを「L」レベルから「H」レベルに遷移させ
る。このとき、入出力バッファ制御回路3は、制御信号
RDFを「L」レベルで、制御信号TMFを「L」レベ
ルで出力している。
Next, at time t10, an external device (not shown) causes the chip enable signal CEfB to transition from the "H" level to the "L" level. With this, FLASH
The memory chip FM is selected by an external device (not shown). As a result, the input / output buffer control circuit 3 causes the control signal CTF to transition from “L” level to “H” level. At this time, the input / output buffer control circuit 3 outputs the control signal RDF at the “L” level and the control signal TMF at the “L” level.

【0119】同時に、入出力バッファ制御回路3が制御
信号CTFが「L」レベルから「H」レベルへ遷移した
ため、入出力バッファ制御回路4は、制御信号CTSを
「H」レベルから「L」レベルへ遷移させる。これによ
り、入出力バッファOIS0〜入出力バッファOIS15
の出力は、ハイインピーダンス状態となる。
At the same time, the input / output buffer control circuit 3 changes the control signal CTF from the “L” level to the “H” level, so that the input / output buffer control circuit 4 changes the control signal CTS from the “H” level to the “L” level. Transition to. Thereby, the input / output buffer OIS0 to the input / output buffer OIS15
Is in a high impedance state.

【0120】また、FLASHメモリチップFMは、メ
モリセル部Fにおけるアドレス信号ADRSが示すメモ
リセルからデータDTF0〜データDTF15を読み出
す。この結果、入出力バッファOIF0〜入出力バッフ
ァOIF15は、制御信号CTFが「L」レベルから
「H」レベルに遷移されたことにより、データDTF0
〜データDTF15をそれぞれデータ信号DQ0〜データ
信号DQ15として出力する。ここで、図5にはデータ信
号DQ0の出力状態(DF3)のみ示されている。
The FLASH memory chip FM reads data DTF0 to DTF15 from the memory cell indicated by the address signal ADRS in the memory cell unit F. As a result, the input / output buffers OIF0 to OIF15 output the data DTF0 due to the transition of the control signal CTF from the “L” level to the “H” level.
To DTF15 are output as data signals DQ0 to DQ15, respectively. Here, FIG. 5 shows only the output state (DF3) of the data signal DQ0.

【0121】ここで、例えば、バーインテスト中に、図
18に示す半導体記憶装置のうち、半導体記憶装置UT
1のアウトプットイネーブル信号の入力される端子が、
内部で接地された配線とショートする障害により「L」
レベルとなったとする。これにより、端子T15に接続
されている配線が「L」レベルとなる。
Here, for example, during the burn-in test, the semiconductor memory device UT of the semiconductor memory device shown in FIG.
The terminal to which the output enable signal of 1 is input is
"L" due to failure to short-circuit with internally grounded wiring
Let's say it is level. As a result, the wiring connected to the terminal T15 becomes “L” level.

【0122】しかしながら、上述した入出力バッファ制
御回路3及び入出力バッファ制御回路4により、半導体
記憶装置UT1〜半導体記憶装置UTmの各々の入出力バ
ッファOIF0〜入出力バッファOIF15及び入出力バ
ッファOIS0〜入出力バッファOIS15は、データの
同時出力状態になった場合、入出力バッファOIS0〜
入出力バッファOIS15の出力がハイインピーダンス状
態となるため、データの衝突による破壊から保護され
る。
However, the input / output buffer control circuit 3 and the input / output buffer control circuit 4 described above use the input / output buffers OIF0 to OIF15 and the input / output buffers OIS0 to OIS0 of the semiconductor memory devices UT1 to UTm. The output buffer OIS15 sets the input / output buffers OIS0 to
Since the output of the input / output buffer OIS15 is in a high impedance state, it is protected from destruction due to data collision.

【0123】次に、時刻t11において、図示しない外部
機器がチップイネーブル信号CEsBを「L」レベルか
ら「H」レベルに遷移させる。これにより、SRAMチ
ップSMは、図示しない外部機器により選択されない、
すなわち非選択状態となる。この結果、入出力バッファ
制御回路4は、制御信号CTSを「L」レベル,制御信
号RDSを「L」レベルで、制御信号TMSを「L」レ
ベルで出力している。
Next, at time t11, an external device (not shown) causes the chip enable signal CEsB to transition from "L" level to "H" level. As a result, the SRAM chip SM is not selected by an external device (not shown).
That is, it is in a non-selected state. As a result, the input / output buffer control circuit 4 outputs the control signal CTS at the “L” level, the control signal RDS at the “L” level, and the control signal TMS at the “L” level.

【0124】次に、時刻t12において、図示しない外部
機器がチップイネーブル信号CEfBを「L」レベルか
ら「H」レベルへ遷移させる。これにより、FLASH
メモリチップFMは、選択状態から非選択状態となる。
この結果、入出力バッファ制御回路3は、制御信号CT
Fを「H」レベルから「L」レベルに遷移させる。そし
て、入出力バッファOIF0〜入出力バッファOIF15
は、出力がハイインピーダンス状態となる。このとき、
入出力バッファ制御回路3は、制御信号RDFを「L」
レベルで、制御信号TMFを「H」レベルで出力してい
る。
Next, at time t12, an external device (not shown) changes the chip enable signal CEfB from "L" level to "H" level. With this, FLASH
The memory chip FM changes from the selected state to the non-selected state.
As a result, the input / output buffer control circuit 3 outputs the control signal CT
F is changed from “H” level to “L” level. Then, the input / output buffers OIF0 to OIF15
Output is in a high impedance state. At this time,
The input / output buffer control circuit 3 sets the control signal RDF to “L”.
At this time, the control signal TMF is output at "H" level.

【0125】なお、上述した第一の実施形態の変形例に
おいて、図6に示す半導体記憶装置(UTT1〜UTT
m)は、第一の実施形態と逆にFLASHメモリチップ
FMAの入出力バッファ制御回路3Aにチップイネーブ
ル信号CEfB,チップイネーブル信号CEsB,アウ
トプットイネーブル信号OEBが入力される構成となっ
ている。また、SRAMチップSMAの入出力バッファ
制御回路4Aは、チップイネーブル信号CEsBとアウ
トプットイネーブル信号OEBとに基づき、入出力バッ
ファOIS0〜入出力バッファOIS15のイネーブル/
ディセーブルの制御を行う。
In the modification of the first embodiment, the semiconductor memory devices (UTT1 to UTT1) shown in FIG.
m) is configured such that the chip enable signal CEfB, the chip enable signal CEsB, and the output enable signal OEB are input to the input / output buffer control circuit 3A of the FLASH memory chip FMA, contrary to the first embodiment. Further, the input / output buffer control circuit 4A of the SRAM chip SMA enables / disables the input / output buffers OIS0 to OIS15 based on the chip enable signal CEsB and the output enable signal OEB.
Performs disable control.

【0126】従って、この変形された半導体記憶装置
(UTT1〜UTTm)は、アウトプットイネーブル信号
OEB及びチップイネーブル信号CEfBが「L」レベ
ルであっても、チップイネーブル信号CEsBが「L」
レベルであり、SRAMチップSMAがイネーブル状態
のとき、FLASHメモリチップFMAの入出力バッフ
ァOIF0〜入出力バッファOIF15は、メモリセル部
Fに記憶されているデータを出力可能とする出力イネー
ブルの状態とはならず、ハイインピーダンス状態であ
る。
Therefore, in the modified semiconductor memory device (UTT1 to UTTm), even when the output enable signal OEB and the chip enable signal CEfB are at the "L" level, the chip enable signal CEsB is at the "L" level.
Level, and when the SRAM chip SMA is in the enable state, the input / output buffers OIF0 to OIF15 of the FLASH memory chip FMA are in the output enable state in which the data stored in the memory cell unit F can be output. Instead, it is in a high impedance state.

【0127】また、半導体記憶装置UTT1〜半導体記
憶装置UTTmと半導体記憶装置UT1〜半導体記憶装置
UTmとにおいて、同一の構成については図1と同一の
符号を付して、詳細な説明を省略する。半導体記憶装置
UTT1〜半導体記憶装置UTTmと半導体記憶装置UT
1〜半導体記憶装置UTmとの相違点は、入出力バッファ
制御回路3及び入出力バッファ制御回路4が各々入出力
バッファ制御回路3A及び入出力バッファ制御回路4A
に置き換わったことである。
In the semiconductor memory devices UTT1 to UTTm and the semiconductor memory devices UT1 to UTm, the same components are denoted by the same reference numerals as in FIG. 1, and detailed description is omitted. Semiconductor memory devices UTT1 to UTTm and semiconductor memory device UT
1 to the semiconductor memory device UTm is that the input / output buffer control circuit 3 and the input / output buffer control circuit 4 are respectively
It has been replaced by

【0128】図7を用いて、図6に示す入出力バッファ
3Aの一構成例の説明を行う。図7は、入出力バッファ
制御回路3Aの一構成例を示すブロック図である。この
図において、インバータINV10は、入力されるチッ
プイネーブル信号CEfBを反転し、反転結果の反転信
号をインバータINV11へ出力する。インバータIN
V11は、チップイネーブル信号CEfBの反転信号を
再度反転し、反転結果として制御信号TMFを出力す
る。
An example of the configuration of the input / output buffer 3A shown in FIG. 6 will be described with reference to FIG. FIG. 7 is a block diagram illustrating a configuration example of the input / output buffer control circuit 3A. In this figure, the inverter INV10 inverts the input chip enable signal CEfB, and outputs an inverted signal of the inversion result to the inverter INV11. Inverter IN
V11 inverts the inverted signal of the chip enable signal CEfB again, and outputs the control signal TMF as the inverted result.

【0129】ノア回路NOR10は、入力されるチップ
イネーブル信号CEfBと、チップイネーブル信号CE
sBとの否定的論理和演算を行い、演算結果を信号Cs
fとして出力する。すなわち、ノア回路NOR10は、
入力されるチップイネーブル信号CEfB及びチップイ
ネーブル信号CEsBの双方が「L」レベルであるとき
のみ信号Csfを「H」レベルで出力する。一方、ノア
回路NOR10は、入力されるチップイネーブル信号C
EsB及びチップイネーブル信号CEfBのいずれかが
「H」レベルで入力されると、信号Csfを「L」レベ
ルで出力する。
The NOR circuit NOR10 receives the chip enable signal CEfB and the chip enable signal CE
Performs a negative OR operation with sB and outputs the operation result as a signal Cs
Output as f. That is, the NOR circuit NOR10 is
Only when both the input chip enable signal CEfB and the chip enable signal CEsB are at the “L” level, the signal Csf is output at the “H” level. On the other hand, the NOR circuit NOR10 receives the input chip enable signal C
When any one of EsB and the chip enable signal CEfB is input at “H” level, the signal Csf is output at “L” level.

【0130】ノア回路NOR11は、入力されるアウト
プットイネーブル信号OEBと、ノア回路NOR4から
入力される信号Cfsと、インバータINV11から入
力される制御信号TMFとの否定的論理和演算を行い、
演算結果を制御信号CTFとして出力する。すなわち、
ノア回路NOR11は、入力されるアウトプットイネー
ブル信号OEB,信号Csf及び制御信号TMFの全て
が「L」レベルであるときのみ制御信号CTFを「H」
レベルで出力する。
The NOR circuit NOR11 performs a NOR operation on the output enable signal OEB input, the signal Cfs input from the NOR circuit NOR4, and the control signal TMF input from the inverter INV11,
The calculation result is output as a control signal CTF. That is,
The NOR circuit NOR11 changes the control signal CTF to "H" only when all of the output enable signal OEB, the signal Csf and the control signal TMF are at "L" level.
Output at level.

【0131】一方、ノア回路NOR11は、入力される
アウトプットイネーブル信号OEB,信号Csf及び制
御信号TMFのいずれかが「H」レベルで入力される
と、制御信号CTFを「L」レベルで出力する。従っ
て、制御信号CTFは、アウトプットイネーブル信号O
EB及びチップイネーブル信号CEfBが「L」レベル
であっても、チップイネーブル信号CEsBが「L」で
あると、信号Csfが「H」レベルとなり、「L」レベ
ルとなる。
On the other hand, NOR circuit NOR11 outputs control signal CTF at "L" level when any of input output enable signal OEB, signal Csf and control signal TMF is input at "H" level. . Therefore, the control signal CTF is the output enable signal O
Even if the EB and the chip enable signal CEfB are at the “L” level, if the chip enable signal CEsB is at the “L” level, the signal Csf goes to the “H” level and goes to the “L” level.

【0132】よって、SRAMチップSMAが選択され
ている場合に、アウトプットイネーブル信号OEB及び
チップイネーブル信号CEfBが「L」レベルとなって
も、FLASHメモリチップFMAの入出力バッファO
IF0〜入出力バッファOIF15は、出力状態とはな
らない。
Therefore, when the SRAM chip SMA is selected, even if the output enable signal OEB and the chip enable signal CEfB go to the “L” level, the input / output buffer O of the FLASH memory chip FMA is
IF0 to input / output buffer OIF15 are not in the output state.

【0133】ノア回路NOR12は、入力されるライト
イネーブル信号WEBと、インバータINV11から入
力される制御信号TMFと、ノア回路NOR11から出
力される制御信号CTFとの否定的論理和演算を行い、
演算結果を制御信号RDFとして出力する。すなわち、
ノア回路NOR12は、入力されるライトイネーブル信
号WEB,制御信号TMF及び制御信号CTFの全てが
「L」レベルであるときのみ制御信号RDFを「H」レ
ベルで出力する。
The NOR circuit NOR12 performs a NOR operation on the input write enable signal WEB, the control signal TMF input from the inverter INV11, and the control signal CTF output from the NOR circuit NOR11.
The calculation result is output as a control signal RDF. That is,
The NOR circuit NOR12 outputs the control signal RDF at "H" level only when all of the input write enable signal WEB, control signal TMF, and control signal CTF are at "L" level.

【0134】一方、ノア回路NOR12は、入力される
ライトイネーブル信号WEB,制御信号TMF及び制御
信号CTFのいずれかが「H」レベルで入力されると、
制御信号RDFを「L」レベルで出力する。従って、制
御信号RDFは、アウトプットイネーブル信号OEBが
「H」レベルであり、チップイネーブル信号CEfB及
びライトイネーブル信号WEBが「L」レベルであると
きのみ「H」レベルで出力され、メモリセル部Fは書き
込みモードとなる。
On the other hand, when one of the input write enable signal WEB, control signal TMF, and control signal CTF is input at "H" level, the NOR circuit NOR12 receives the write enable signal WEB.
Outputs control signal RDF at "L" level. Therefore, the control signal RDF is output at the “H” level only when the output enable signal OEB is at the “H” level and the chip enable signal CEfB and the write enable signal WEB are at the “L” level. Becomes the write mode.

【0135】次に、図8を用いて、図6に示す入出力バ
ッファ制御回路4Aの一構成例を説明する。図8は、入
出力バッファ制御回路4Aの一構成例を示すブロック図
である。この図において、インバータINV12は、入
力されるチップイネーブル信号CEsBを反転し、反転
結果の反転信号をインバータINV13へ出力する。イ
ンバータINV13は、チップイネーブル信号CEsB
の反転信号を再度反転し、反転結果として制御信号TM
Sを出力する。
Next, an example of the configuration of the input / output buffer control circuit 4A shown in FIG. 6 will be described with reference to FIG. FIG. 8 is a block diagram illustrating a configuration example of the input / output buffer control circuit 4A. In the figure, the inverter INV12 inverts the input chip enable signal CEsB, and outputs an inverted signal of the inverted result to the inverter INV13. The inverter INV13 has a chip enable signal CEsB
Of the control signal TM as an inversion result.
Output S.

【0136】ノア回路NOR13は、入力されるアウト
プットイネーブル信号OEBと、インバータINV13
から入力される制御信号TMSとの否定的論理和演算を
行い、演算結果を制御信号CTSとして出力する。すな
わち、ノア回路NOR13は、入力されるアウトプット
イネーブル信号OEB及び制御信号TMSの双方が
「L」レベルであるときのみ制御信号CTSを「H」レ
ベルで出力する。一方、ノア回路NOR13は、入力さ
れるアウトプットイネーブル信号OEB及び制御信号T
MSのいずれかが「H」レベルで入力されると、制御信
号CTSを「L」レベルで出力する。
The NOR circuit NOR13 receives the output enable signal OEB and the inverter INV13.
And performs a logical OR operation with the control signal TMS input from the controller, and outputs the operation result as a control signal CTS. That is, NOR circuit NOR13 outputs control signal CTS at "H" level only when both output enable signal OEB and control signal TMS are at "L" level. On the other hand, the NOR circuit NOR13 receives the output enable signal OEB and the control signal T
When any of the MSs is input at the “H” level, the control signal CTS is output at the “L” level.

【0137】ノア回路NOR14は、入力されるライト
イネーブル信号WEBと、インバータINV13から入
力される制御信号TMSと、ノア回路NOR13から出
力される制御信号CTSとの否定的論理和演算を行い、
演算結果を制御信号RDSとして出力する。すなわち、
ノア回路NOR14は、入力されるアウトプットイネー
ブル信号OEB,制御信号TMS及び制御信号CTSの
全てが「L」レベルであるときのみ制御信号RDSを
「H」レベルで出力する。
The NOR circuit NOR14 performs a NOR operation on the input write enable signal WEB, the control signal TMS input from the inverter INV13, and the control signal CTS output from the NOR circuit NOR13,
The calculation result is output as a control signal RDS. That is,
NOR circuit NOR14 outputs control signal RDS at "H" level only when all of output enable signal OEB, control signal TMS and control signal CTS which are input are at "L" level.

【0138】一方、ノア回路NOR14は、入力される
アウトプットイネーブル信号OEB,制御信号TMS及
び制御信号CTSのいずれかが「H」レベルで入力され
ると、制御信号RDSを「L」レベルで出力する。この
とき、制御信号RDSは、アウトプットイネーブル信号
OEBが「H」レベルであり、チップイネーブル信号C
EsB及びライトイネーブル信号WEBが「L」レベル
であるときのみ「H」レベルで出力され、メモリセル部
SSは書き込みモードとなる。
On the other hand, NOR circuit NOR14 outputs control signal RDS at "L" level when any of input output enable signal OEB, control signal TMS and control signal CTS is input at "H" level. I do. At this time, when the output enable signal OEB is at “H” level and the chip enable signal C
Only when the EsB and the write enable signal WEB are at the “L” level, the signal is output at the “H” level, and the memory cell unit SS enters the write mode.

【0139】半導体記憶装置UTT1〜半導体記憶装置
UTTmにおける各々のFLASHメモリチップFM
A,SRAMチップSMA動作は、入出力バッファ3A
が入出力バッファ4と同様であり、入出力バッファ4A
が入出力バッファ3と同様であり、双方の入出力バッフ
ァの構成が各々逆になっている。この結果、図5に示し
たタイミングチャートにおける動作で半導体記憶装置U
T1〜半導体記憶装置UTmにおけるFLASHメモリチ
ップFM,SRAMチップSMとの関係を逆にしたもの
であり、詳細な説明を省略する。
Each FLASH memory chip FM in semiconductor memory devices UTT1 to UTTm
A, SRAM chip SMA operation is performed by the input / output buffer 3A.
Are the same as the input / output buffer 4, and the input / output buffer 4A
Are the same as the input / output buffer 3, and the configuration of both input / output buffers is reversed. As a result, the operation in the timing chart shown in FIG.
The relationship between the FLASH memory chip FM and the SRAM chip SM in the semiconductor memory device UTm from T1 is reversed, and detailed description is omitted.

【0140】従って、上述した半導体記憶装置UT1〜
半導体記憶装置UTm及び半導体記憶装置UTT1〜半導
体記憶装置UTTmは、データの同時出力の状態となっ
た場合、必ず一方のチップイネーブル信号により、他方
の入出力バッファの出力がハイインピーダンス状態とな
るため、入出力バッファOIF0〜入出力バッファOI
F15、及び入出力バッファOIS0〜入出力バッファO
IS15からデータが同時に出力されることがない。この
ため、本発明によれば、データ信号DQ0〜データ信号
DQ15の衝突による、入出力バッファOIF0〜入出力
バッファOIF15、及び入出力バッファOIS0〜入出
力バッファOIS15の破壊を防止できる。
Therefore, the semiconductor memory devices UT1 to UT1 to
When the semiconductor memory device UTm and the semiconductor memory devices UTT1 to UTTm are in a state of simultaneous data output, the output of the other input / output buffer is always in a high impedance state by one chip enable signal. Input / output buffer OIF0 to input / output buffer OI
F15 and input / output buffer OIS0 to input / output buffer O
Data is not output simultaneously from IS15. Therefore, according to the present invention, it is possible to prevent the input / output buffers OIF0 to OIF15 and the input / output buffers OIS0 to OIS15 from being destroyed due to the collision of the data signals DQ0 to DQ15.

【0141】また、上述した第一の実施形態及びこの変
形例の半導体記憶装置UT1〜半導体記憶装置UTm及び
半導体記憶装置UTT1〜半導体記憶装置UTTmは、半
導体素子としてメモリの場合を説明したが、出力端子を
共有する入出力バッファを有しているロジック回路の半
導体素子に対しても有効である。
The semiconductor memory devices UT1 to UTm and the semiconductor memory devices UTT1 to UTTm of the first embodiment and the modification of the first embodiment have been described as being semiconductor devices. It is also effective for a semiconductor element of a logic circuit having an input / output buffer sharing a terminal.

【0142】さらに、上述した第一の実施形態及びこの
変形例による半導体記憶装置UT1〜半導体記憶装置U
Tm及び半導体記憶装置UTT1〜半導体記憶装置UTT
mを、共に、OEB端子が共通化されている場合で説明
したが、OEB端子がそれぞれの半導体素子毎に設けら
れている場合にも、一方の半導体素子のOEB端子が接
地状態となる故障になったとき、他方の半導体素子の入
出力バッファを出力イネーブル状態となることを防止
し、入出力バッファの破壊を防ぐことが出来る。このと
き、他方の半導体素子の出力状態を制御するために、一
方の半導体素子のOEB信号またはCEB信号のいずれ
かを入出力バッファ制御回路に入力させる。
Further, the semiconductor memory devices UT1 to U according to the above-described first embodiment and its modification are described.
Tm and semiconductor memory device UTT1 to semiconductor memory device UTT
m has been described in the case where the OEB terminal is shared, but even when the OEB terminal is provided for each semiconductor element, a failure in which the OEB terminal of one of the semiconductor elements is grounded may occur. When this happens, it is possible to prevent the input / output buffer of the other semiconductor element from being brought into the output enable state, thereby preventing the input / output buffer from being destroyed. At this time, in order to control the output state of the other semiconductor element, either the OEB signal or the CEB signal of one semiconductor element is input to the input / output buffer control circuit.

【0143】また、さらに、上述した第一の実施形態及
びこの変形例による半導体記憶装置UT1〜半導体記憶
装置UTm及び半導体記憶装置UTT1〜半導体記憶装置
UTTmは、テストの場合を例に説明したが、本発明の
半導体記憶装置は、基板に実装した状態においても、他
の半導体素子から入出力バッファが同時に出力状態とな
る影響を受けた場合、入出力バッファの故障を防止でき
る。
Further, the semiconductor memory devices UT1 to UTm and the semiconductor memory devices UTT1 to UTTm according to the first embodiment and the modified example described above have been described by taking a test as an example. The semiconductor memory device of the present invention can prevent a failure of an input / output buffer even when the input / output buffer is simultaneously output from another semiconductor element even when mounted on a substrate.

【0144】さらに、また、上述した第一の実施形態及
びこの変形例による半導体記憶装置UT1〜半導体記憶
装置UTm及びは、半導体素子の出力端子を出力端子D
Q0〜出力端子DQ15の16本で説明したが、出力端子
は何本でも構わない。
Further, in the semiconductor memory devices UT1 to UTm according to the first embodiment and the modified example described above, the output terminal of the semiconductor element is changed to the output terminal D.
Although the description has been made with the sixteen Q0 to output terminals DQ15, any number of output terminals may be used.

【0145】<第二の実施形態>以上、本発明の一実施
形態を図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成は
この実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を
逸脱しない範囲の設計変更等があっても本発明に含まれ
る。ここで、図9に示す第二の実施形態の構成におい
て、第一の実施形態と同様な構成には一実施形態と同一
の符号を付し、詳細な説明を省略する。
<Second Embodiment> An embodiment of the present invention has been described above in detail with reference to the drawings. However, the specific configuration is not limited to this embodiment, and the gist of the present invention will be described. Even a design change or the like within a range not departing from the present invention is included in the present invention. Here, in the configuration of the second embodiment shown in FIG. 9, the same components as those of the first embodiment are denoted by the same reference numerals as those of the first embodiment, and detailed description is omitted.

【0146】また、図15及び図16の構成は、第一の
実施形態と同一であり、内部の半導体素子の回路構成が
異なる。ここで、第一の実施形態半導体記憶装置UT1
〜半導体記憶装置UTmと、図9に示す半導体記憶装置
UTA1〜半導体記憶装置UTAmとの構成の違いは、F
LASHメモリチップFMがFLASHメモリチップF
MAに変更された点である。また、第一の実施形態半導
体記憶装置UT1〜半導体記憶装置UTmと、図9に示す
半導体記憶装置UTA1〜半導体記憶装置UTAmとの他
の構成は同一である。
The configuration of FIGS. 15 and 16 is the same as that of the first embodiment, and the circuit configuration of the internal semiconductor element is different. Here, the first embodiment semiconductor memory device UT1
The difference between the semiconductor memory device UTm and the semiconductor memory devices UTA1 to UTAm shown in FIG.
The LASH memory chip FM is the FLASH memory chip F
This is the point that has been changed to MA. The other configurations of the semiconductor memory devices UT1 to UTm of the first embodiment and the semiconductor memory devices UTA1 to UTAm shown in FIG. 9 are the same.

【0147】次に、図9,図10及び図18を参照し、
上述した第一の実施形態の動作例を説明する。図10
は、図9に示す半導体記憶装置UTA1(半導体記憶装
置UTA2〜半導体記憶装置UTAm)の動作を示すタイ
ミングチャートである。例えば、図18に示すように、
半導体記憶装置UTA1〜半導体記憶装置UTAmのVDD
(電源)端子を端子T10に接続し、電源電圧を供給す
る。また、半導体記憶装置UT1〜半導体記憶装置UTm
のGND(接地)端子を端子T11へ接続して接地す
る。さらに、半導体記憶装置UTA1〜半導体記憶装置
UTAmのADRS(アドレス)端子が端子T12に接
続され、外部からアドレス信号ADRSが供給される。
Next, referring to FIG. 9, FIG. 10 and FIG.
An operation example of the first embodiment described above will be described. FIG.
10 is a timing chart showing the operation of the semiconductor memory device UTA1 (semiconductor memory devices UTA2 to UTAm) shown in FIG. For example, as shown in FIG.
VDD of semiconductor memory devices UTA1 to UTAm
A (power) terminal is connected to the terminal T10 to supply a power voltage. Further, the semiconductor storage devices UT1 to UTm
(Ground) terminal is connected to the terminal T11 and grounded. Further, the ADRS (address) terminals of the semiconductor memory devices UTA1 to UTAm are connected to the terminal T12, and an address signal ADRS is supplied from outside.

【0148】また、半導体記憶装置UTA1〜半導体記
憶装置UTAmのOEB(アウトプットイネーブル)端
子が端子T15に接続され、アウトプットイネーブル信
号OEBが供給される。ここで、OEB端子に「H」レ
ベルのアウトプットイネーブル信号OEBが入力される
と、半導体記憶装置UTA1〜半導体記憶装置UTAmに
おけるFLASHメモリチップFMA及びSRAMチッ
プSMは、読みだし状態のとき、それぞれアドレス信号
の指し示すメモリセル部F、メモリセル部SSからのデ
ータを入出力バッファOIF0〜入出力バッファOIF1
5、入出力バッファOIS0〜入出力バッファOIS15よ
り出力することが不可能な状態となる。
Further, the OEB (output enable) terminals of the semiconductor memory devices UTA1 to UTAm are connected to the terminal T15, and the output enable signal OEB is supplied. Here, when the output enable signal OEB at the “H” level is input to the OEB terminal, the FLASH memory chip FMA and the SRAM chip SM in the semiconductor memory devices UTA1 to UTAm are in the read state, respectively. The data from the memory cell unit F and the memory cell unit SS indicated by the signal are input / output buffers OIF0 to OIF1.
5. It becomes impossible to output from the input / output buffers OIS0 to OIS15.

【0149】一方、OEB端子に「L」レベルのアウト
プットイネーブル信号OEBが入力されると、半導体記
憶装置UTA1〜半導体記憶装置UTAmにおけるFLA
SHメモリチップFMA及びSRAMチップSMは、読
みだし状態のとき、それぞれメモリセル部F、メモリセ
ル部SSのアドレス信号の指し示すメモリセルに記憶さ
れているデータを入出力バッファOIF0〜入出力バッ
ファOIF15、入出力バッファOIS0〜入出力バッフ
ァOIS15より出力することが可能な状態となる。
On the other hand, when the output enable signal OEB at the "L" level is input to the OEB terminal, the FLA in the semiconductor memory devices UTA1 to UTAm is output.
When in the read state, the SH memory chip FMA and the SRAM chip SM transfer the data stored in the memory cells indicated by the address signals of the memory cell unit F and the memory cell unit SS to the input / output buffers OIF0 to OIF15, A state is now possible in which data can be output from the input / output buffers OIS0 to OIS15.

【0150】次に、図10のタイミングチャートに従
い、図9の半導体記憶装置UTA1(半導体記憶装置U
TA2〜半導体記憶装置UTAm)の動作を説明する。こ
こで、図10において使用されている時刻t1〜時刻t1
2は、図5で使用されている時刻t1〜時刻t12と異なる
ものである。
Next, according to the timing chart of FIG. 10, the semiconductor memory device UTA1 (semiconductor memory device UTA1) of FIG.
The operation of TA2 to semiconductor memory device UTAm) will be described. Here, time t1 to time t1 used in FIG.
2 is different from time t1 to time t12 used in FIG.

【0151】時刻t0において、例えば、アウトプット
イネーブル信号OEBが「H」レベルであり、ライトイ
ネーブル信号WEBが「L」レベルであり、チップイネ
ーブル信号CEfB及びチップイネーブル信号CEsB
が「H」であり、制御信号CTF及び制御信号CTSが
「L」レベルであるとする。このとき、FLASHメモ
リチップFMA及びSRAMチップSMは、共にディセ
ーブル状態であるため、データ信号DQ0〜データ信号
DQ15をハイインピーダンス状態としている。
At time t0, for example, the output enable signal OEB is at the “H” level, the write enable signal WEB is at the “L” level, and the chip enable signal CEfB and the chip enable signal CEsB.
Is “H”, and the control signal CTF and the control signal CTS are at “L” level. At this time, since the FLASH memory chip FMA and the SRAM chip SM are both disabled, the data signals DQ0 to DQ15 are in a high impedance state.

【0152】次に、時刻taにおいて、図示しない外部
機器がアウトプットイネーブル信号OEBを「H」レベ
ルから「L」レベルに、ライトイネーブル信号WEBを
「L」レベルから「H」レベルに遷移させる。また、ア
ドレス信号ADRSが図示しない外部機器から入力され
る。
Next, at time ta, an external device (not shown) causes the output enable signal OEB to transition from “H” level to “L” level, and the write enable signal WEB to transition from “L” level to “H” level. The address signal ADRS is input from an external device (not shown).

【0153】これにより、FLASHメモリチップFM
及びSRAMチップSMは、共にそれぞれメモリセルに
記憶されているデータの読み出しモードが指示される。
しかしながら、チップイネーブル信号CEfB及びチッ
プイネーブル信号CEsBが「H」であるため、FLA
SHメモリチップFMA及びSRAMチップSMは、外
部機器により選択されておらず、読み出し動作がイネー
ブル状態とならない。
As a result, the FLASH memory chip FM
For both the SRAM chip SM and the SRAM chip SM, the read mode of the data stored in the memory cell is instructed.
However, since the chip enable signal CEfB and the chip enable signal CEsB are “H”, FLA
The SH memory chip FMA and the SRAM chip SM are not selected by the external device, and the read operation is not enabled.

【0154】次に、時刻t1において、図示しない外部
機器がチップイネーブル信号CEfBを「H」レベルか
ら「L」レベルに遷移させる。これにより、FLASH
メモリチップFMAは、図示しない外部機器により選択
される。この結果、入出力バッファ制御回路3Aは、チ
ップイネーブル信号CEsBが「H」レベルであるた
め、制御信号CTFを「L」レベルから「H」レベルに
遷移させる。このとき、入出力バッファ制御回路3は、
制御信号RDFを「L」レベルで、制御信号TMFを
「L」レベルで出力している。
Next, at time t1, an external device (not shown) changes the chip enable signal CEfB from "H" level to "L" level. With this, FLASH
The memory chip FMA is selected by an external device (not shown). As a result, the input / output buffer control circuit 3A changes the control signal CTF from the “L” level to the “H” level because the chip enable signal CEsB is at the “H” level. At this time, the input / output buffer control circuit 3
The control signal RDF is output at "L" level, and the control signal TMF is output at "L" level.

【0155】そして、FLASHメモリチップFMA
は、メモリセル部Fにおけるアドレス信号ADRSが示
すメモリセルからデータDTF0〜データDTF15を読
み出す。この結果、入出力バッファOIF0〜入出力バ
ッファOIF15は、制御信号CTFが「L」レベルから
「H」レベルに遷移されたことにより、データDTF0
〜データDTF15をそれぞれデータ信号DQ0〜データ
信号DQ15として出力する。ここで、図10にはデータ
信号DQ0の出力状態(DF1)のみ示されている。
Then, the FLASH memory chip FMA
Reads data DTF0 to data DTF15 from the memory cell indicated by the address signal ADRS in the memory cell unit F. As a result, the input / output buffers OIF0 to OIF15 output the data DTF0 due to the transition of the control signal CTF from the “L” level to the “H” level.
To DTF15 are output as data signals DQ0 to DQ15, respectively. Here, FIG. 10 shows only the output state (DF1) of the data signal DQ0.

【0156】一方、図示しない外部機器がチップイネー
ブル信号CEsBを「H」レベルのままとしている。こ
のため、SRAMチップSMは、図示しない外部機器に
より選択されていない。この結果、入出力バッファ制御
回路4は、制御信号CTSを「L」レベルとして出力し
ている。これにより、入出力バッファOIS0〜入出力
バッファOIS15は、出力がハイインピーダンス状態と
なっている。このとき、入出力バッファ制御回路4は、
制御信号RDSを「L」レベルで、制御信号TMSを
「L」レベルで出力している。
On the other hand, an external device (not shown) keeps the chip enable signal CEsB at “H” level. Therefore, the SRAM chip SM has not been selected by an external device (not shown). As a result, the input / output buffer control circuit 4 outputs the control signal CTS as “L” level. As a result, the outputs of the input / output buffers OIS0 to OIS15 are in a high impedance state. At this time, the input / output buffer control circuit 4
The control signal RDS is output at "L" level, and the control signal TMS is output at "L" level.

【0157】次に、時刻t2において、図示しない外部
機器がチップイネーブル信号CEfBを「L」レベルか
ら「H」レベルへ遷移させる。これにより、FLASH
メモリチップFMAは、選択状態から非選択状態とな
る。この結果、入出力バッファ制御回路3Aは、制御信
号CTFを「H」レベルから「L」レベルに遷移させ
る。そして、入出力バッファOIF0〜入出力バッファ
OIF15は、出力がハイインピーダンス状態となる。こ
のとき、入出力バッファ制御回路3Aは、制御信号RD
Fを「L」レベルで、制御信号TMFを「H」レベルで
出力している。
Next, at time t2, an external device (not shown) changes the chip enable signal CEfB from "L" level to "H" level. With this, FLASH
The memory chip FMA changes from the selected state to the non-selected state. As a result, the input / output buffer control circuit 3A causes the control signal CTF to transition from “H” level to “L” level. The outputs of the input / output buffers OIF0 to OIF15 enter a high impedance state. At this time, the input / output buffer control circuit 3A outputs the control signal RD
F is output at "L" level, and control signal TMF is output at "H" level.

【0158】次に、時刻t3において、図示しない外部
機器がチップイネーブル信号CEsBを「H」レベルか
ら「L」レベルに遷移させる。これにより、SRAMチ
ップSMは、図示しない外部機器により選択される。こ
の結果、入出力バッファ制御回路4は、チップイネーブ
ル信号CEfBが「H」レベルであるため、制御信号C
TSを「L」レベルから「H」レベルに遷移させる。こ
のとき、入出力バッファ制御回路4は、制御信号RDS
を「L」レベルで、制御信号TMSを「L」レベルで出
力している。
Next, at time t3, an external device (not shown) causes the chip enable signal CEsB to transition from "H" level to "L" level. Thus, the SRAM chip SM is selected by an external device (not shown). As a result, the input / output buffer control circuit 4 outputs the control signal CfB since the chip enable signal CEfB is at the “H” level.
TS is changed from “L” level to “H” level. At this time, the input / output buffer control circuit 4 outputs the control signal RDS
At the "L" level, and the control signal TMS at the "L" level.

【0159】そして、SRAMチップSMは、メモリセ
ル部SSにおけるアドレス信号ADRSが示すメモリセ
ルからデータDTS0〜データDTS15を読み出す。こ
の結果、入出力バッファOIS0〜入出力バッファOI
S15は、制御信号CTSが「L」レベルから「H」レベ
ルに遷移されたことにより、データDTS0〜データD
TS15をそれぞれデータ信号DQ0〜データ信号DQ15
として出力する。ここで、図5にはデータ信号DQ0の
出力状態(DS1)のみ示されている。
Then, the SRAM chip SM reads the data DTS0 to DTS15 from the memory cell indicated by the address signal ADRS in the memory cell section SS. As a result, the input / output buffer OIS0 to the input / output buffer OI
In S15, the data DTS0 to data DTS are output when the control signal CTS changes from “L” level to “H” level.
TS15 is connected to data signal DQ0 to data signal DQ15, respectively.
Output as Here, FIG. 5 shows only the output state (DS1) of the data signal DQ0.

【0160】一方、図示しない外部機器がチップイネー
ブル信号CEfBを「H」レベルのままとしている。こ
のため、FLASHメモリチップFMAは、図示しない
外部機器により選択されていない。この結果、入出力バ
ッファ制御回路3Aは、制御信号CTFを「L」レベル
として出力している。これにより、入出力バッファOI
F0〜入出力バッファOIF15は、出力がハイインピー
ダンス状態となっている。このとき、入出力バッファ制
御回路3Aは、制御信号RDFを「L」レベルで、制御
信号TMFを「L」レベルで出力している。
On the other hand, an external device (not shown) keeps the chip enable signal CEfB at “H” level. For this reason, the FLASH memory chip FMA has not been selected by an external device (not shown). As a result, the input / output buffer control circuit 3A outputs the control signal CTF as “L” level. Thereby, the input / output buffer OI
The outputs from F0 to the input / output buffer OIF15 are in a high impedance state. At this time, the input / output buffer control circuit 3A outputs the control signal RDF at "L" level and the control signal TMF at "L" level.

【0161】次に、時刻t4において、図示しない外部
機器がチップイネーブル信号CEsBを「L」レベルか
ら「H」レベルへ遷移させる。これにより、SRAMチ
ップSMは、選択状態から非選択状態となる。この結
果、入出力バッファ制御回路4は、制御信号CTSを
「H」レベルから「L」レベルに遷移させる。そして、
入出力バッファOIS0〜入出力バッファOIS15は、
出力がハイインピーダンス状態となる。このとき、入出
力バッファ制御回路4は、制御信号RDSを「L」レベ
ルで、制御信号TMSを「H」レベルで出力している。
Next, at time t4, an external device (not shown) changes the chip enable signal CEsB from "L" level to "H" level. As a result, the SRAM chip SM changes from the selected state to the non-selected state. As a result, the input / output buffer control circuit 4 causes the control signal CTS to transition from “H” level to “L” level. And
The input / output buffers OIS0 to OIS15 are
The output goes into a high impedance state. At this time, the input / output buffer control circuit 4 outputs the control signal RDS at "L" level and the control signal TMS at "H" level.

【0162】次に、時刻t5において、図示しない外部
機器がチップイネーブル信号CEfBを「H」レベルか
ら「L」レベルに遷移させる。これにより、FLASH
メモリチップFMAは、図示しない外部機器により選択
される。この結果、入出力バッファ制御回路3Aは、チ
ップイネーブル信号CEsBが「H」レベルであるた
め、制御信号CTFを「L」レベルから「H」レベルに
遷移させる。このとき、入出力バッファ制御回路3A
は、制御信号RDFを「L」レベルで、制御信号TMF
を「L」レベルで出力している。
Next, at time t5, an external device (not shown) causes the chip enable signal CEfB to transition from "H" level to "L" level. With this, FLASH
The memory chip FMA is selected by an external device (not shown). As a result, the input / output buffer control circuit 3A changes the control signal CTF from the “L” level to the “H” level because the chip enable signal CEsB is at the “H” level. At this time, the input / output buffer control circuit 3A
Sets the control signal RDF to the “L” level and the control signal TMF
At the “L” level.

【0163】そして、FLASHメモリチップFMA
は、メモリセル部Fにおけるアドレス信号ADRSが示
すメモリセルからデータDTF0〜データDTF15を読
み出す。この結果、入出力バッファOIF0〜入出力バ
ッファOIF15は、制御信号CTFが「L」レベルから
「H」レベルに遷移されたことにより、データDTF0
〜データDTF15をそれぞれデータ信号DQ0〜データ
信号DQ15として出力する。ここで、図5にはデータ信
号DQ0の出力状態(DF2)のみ示されている。
Then, the FLASH memory chip FMA
Reads data DTF0 to data DTF15 from the memory cell indicated by the address signal ADRS in the memory cell unit F. As a result, the input / output buffers OIF0 to OIF15 output the data DTF0 due to the transition of the control signal CTF from the “L” level to the “H” level.
To DTF15 are output as data signals DQ0 to DQ15, respectively. Here, FIG. 5 shows only the output state (DF2) of the data signal DQ0.

【0164】一方、図示しない外部機器がチップイネー
ブル信号CEsBを「H」レベルのままとしている。こ
のため、SRAMチップSMは、図示しない外部機器に
より選択されていない。この結果、入出力バッファ制御
回路4は、制御信号CTSを「L」レベルとして出力し
ている。これにより、入出力バッファOIS0〜入出力
バッファOIS15は、出力がハイインピーダンス状態と
なっている。このとき、入出力バッファ制御回路4は、
制御信号RDSを「L」レベルで、制御信号TMSを
「L」レベルで出力している。
On the other hand, an external device (not shown) keeps the chip enable signal CEsB at “H” level. Therefore, the SRAM chip SM has not been selected by an external device (not shown). As a result, the input / output buffer control circuit 4 outputs the control signal CTS as “L” level. As a result, the outputs of the input / output buffers OIS0 to OIS15 are in a high impedance state. At this time, the input / output buffer control circuit 4
The control signal RDS is output at "L" level, and the control signal TMS is output at "L" level.

【0165】次に、時刻t6において、図示しない外部
機器がチップイネーブル信号CEsBを「H」レベルか
ら「L」レベルに遷移させる。これにより、SRAMチ
ップSMは、図示しない外部機器により選択される。し
かしながら、入出力バッファ制御回路4は、チップイネ
ーブル信号CEfBが「L」レベルのため、信号Cfs
が「H」レベルとなり、制御信号CTSが「L」レベル
のままとなる。このとき、入出力バッファ制御回路4
は、制御信号RDSを「L」レベルで、制御信号TMS
を「L」レベルで出力している。
Next, at time t6, an external device (not shown) causes the chip enable signal CEsB to transition from "H" level to "L" level. Thus, the SRAM chip SM is selected by an external device (not shown). However, since the chip enable signal CEfB is at the “L” level, the input / output buffer control circuit 4 outputs the signal Cfs
Becomes "H" level, and control signal CTS remains at "L" level. At this time, the input / output buffer control circuit 4
Sets the control signal RDS to the “L” level and the control signal TMS
At the “L” level.

【0166】このため、SRAMチップSMは、図示し
ない外部機器により選択状態となっているが、制御信号
CTSが「L」レベルのため、入出力バッファOIS0
〜入出力バッファOIS15の出力をハイインピーダンス
のままとする。また、チップイネーブル信号CEsBが
「L」レベルに遷移されると、入出力バッファ制御回路
3Aは、信号Csfが「L」レベルから「H」レベルと
なるため、制御信号CTFを「H」レベルから「L」レ
ベルへ遷移させる。
For this reason, the SRAM chip SM is selected by an external device (not shown). However, since the control signal CTS is at "L" level, the input / output buffer OIS0
~ The output of the input / output buffer OIS15 is kept at high impedance. When the chip enable signal CEsB changes to the “L” level, the input / output buffer control circuit 3A changes the control signal CTF from the “H” level because the signal Csf changes from the “L” level to the “H” level. Transition to the “L” level.

【0167】これにより、FLASHメモリチップFM
Aの入出力バッファOIF0〜入出力バッファOIF15
は、出力がハイインピーダンス状態となる。したがっ
て、FLASHメモリチップFM及びSRAMチップS
Mの出力信号は、入出力バッファOIS0〜入出力バッ
ファOIS15の出力をハイインピーダンスのため、アウ
トプットイネーブル信号OEBが「L」レベルとなって
もデータの衝突がない。
As a result, the FLASH memory chip FM
A input / output buffer OIF0 to A / O buffer OIF15
Output is in a high impedance state. Therefore, the FLASH memory chip FM and the SRAM chip S
Since the output signal of M has high impedance at the outputs of the input / output buffers OIS0 to OIS15, there is no data collision even when the output enable signal OEB is at the "L" level.

【0168】ここで、例えば、バーインテスト中に、図
18に示す半導体記憶装置のうち、半導体記憶装置UT
A1のアウトプットイネーブル信号の入力される端子
が、内部で接地された配線とショートする障害により
「L」レベルとなったとする。これにより、端子T15
に接続されている配線が「L」レベルとなる。
Here, for example, during the burn-in test, the semiconductor memory device UT of the semiconductor memory device shown in FIG.
It is assumed that the terminal to which the output enable signal A1 is input has been set to the “L” level due to a fault that short-circuits with the internally grounded wiring. Thereby, the terminal T15
Is at the "L" level.

【0169】しかしながら、上述した入出力バッファ制
御回路3A及び入出力バッファ制御回路4により、半導
体記憶装置UTA1〜半導体記憶装置UTAmの各々の入
出力バッファOIF0〜入出力バッファOIF15及び入
出力バッファOIS0〜入出力バッファOIS15は、デ
ータ同時出力状態になった場合、双方の出力状態がハイ
インピーダンス状態となるため、データの衝突による破
壊から保護される。
However, the input / output buffer control circuit 3A and the input / output buffer control circuit 4 described above use the input / output buffers OIF0 to OIF15 and the input / output buffers OIS0 to OIS0 of the semiconductor memory devices UTA1 to UTAm. When the output buffer OIS15 is in the data simultaneous output state, both output states are in a high-impedance state, so that the output buffer OIS15 is protected from destruction due to data collision.

【0170】次に、時刻t7において、図示しない外部
機器がチップイネーブル信号CEfBを「L」レベルか
ら「H」レベルへ遷移させる。これにより、FLASH
メモリチップFMAは、選択状態から非選択状態とな
る。この結果、入出力バッファ制御回路3Aは、制御信
号CTFを「H」レベルから「L」レベルに遷移させ
る。そして、入出力バッファOIF0〜入出力バッファ
OIF15は、出力がハイインピーダンス状態となる。こ
のとき、入出力バッファ制御回路3は、制御信号RDF
を「L」レベルで、制御信号TMFを「H」レベルで出
力している。
Next, at time t7, an external device (not shown) causes the chip enable signal CEfB to transition from "L" level to "H" level. With this, FLASH
The memory chip FMA changes from the selected state to the non-selected state. As a result, the input / output buffer control circuit 3A causes the control signal CTF to transition from “H” level to “L” level. The outputs of the input / output buffers OIF0 to OIF15 enter a high impedance state. At this time, the input / output buffer control circuit 3 outputs the control signal RDF
Are output at "L" level and the control signal TMF is output at "H" level.

【0171】これにより、チップイネーブル信号CEs
Bが「L」レベルであり、SRAMチップSMが図示し
ない外部機器により選択されているため、入出力バッフ
ァ制御回路4は、制御信号CTSを「L」レベルから
「H」レベルに遷移させる。このとき、入出力バッファ
制御回路4は、制御信号RDSを「L」レベルで、制御
信号TMSを「L」レベルで出力している。
As a result, the chip enable signal CEs
Since B is at the “L” level and the SRAM chip SM is selected by an external device (not shown), the input / output buffer control circuit 4 changes the control signal CTS from the “L” level to the “H” level. At this time, the input / output buffer control circuit 4 outputs the control signal RDS at “L” level and the control signal TMS at “L” level.

【0172】そして、SRAMチップSMは、メモリセ
ル部SSにおけるアドレス信号ADRSが示すメモリセ
ルからデータDTS0〜データDTS15を読み出す。こ
の結果、入出力バッファOIS0〜入出力バッファOI
S15は、制御信号CTSが「L」レベルから「H」レベ
ルに遷移されたことにより、データDTS0〜データD
TS15をそれぞれデータ信号DQ0〜データ信号DQ15
として出力する。ここで、図5にはデータ信号DQ0の
出力状態(DS2)のみ示されている。
Then, the SRAM chip SM reads data DTS0 to data DTS15 from the memory cell indicated by the address signal ADRS in the memory cell section SS. As a result, the input / output buffer OIS0 to the input / output buffer OI
In S15, the data DTS0 to data DTS are output when the control signal CTS changes from “L” level to “H” level.
TS15 is connected to data signal DQ0 to data signal DQ15, respectively.
Output as Here, FIG. 5 shows only the output state (DS2) of the data signal DQ0.

【0173】一方、図示しない外部機器がチップイネー
ブル信号CEfBを「L」レベルから「H」レベルへ遷
移した。このため、FLASHメモリチップFMAは、
図示しない外部機器により選択されていない。この結
果、入出力バッファ制御回路3Aは、制御信号CTFを
「L」レベルとして出力している。これにより、入出力
バッファOIF0〜入出力バッファOIF15は、出力が
ハイインピーダンス状態となっている。このとき、入出
力バッファ制御回路3Aは、制御信号RDFを「L」レ
ベルで、制御信号TMFを「L」レベルで出力してい
る。
On the other hand, an external device (not shown) has changed the chip enable signal CEfB from “L” level to “H” level. For this reason, the FLASH memory chip FMA
Not selected by an external device (not shown). As a result, the input / output buffer control circuit 3A outputs the control signal CTF as “L” level. As a result, the outputs of the input / output buffers OIF0 to OIF15 are in a high impedance state. At this time, the input / output buffer control circuit 3A outputs the control signal RDF at "L" level and the control signal TMF at "L" level.

【0174】次に、時刻t8において、図示しない外部
機器がチップイネーブル信号CEsBを「L」レベルか
ら「H」レベルへ遷移させる。これにより、SRAMチ
ップSMは、選択状態から非選択状態となる。この結
果、入出力バッファ制御回路4は、制御信号CTSを
「H」レベルから「L」レベルに遷移させる。そして、
入出力バッファOIS0〜入出力バッファOIS15は、
出力がハイインピーダンス状態となる。このとき、入出
力バッファ制御回路4は、制御信号RDSを「L」レベ
ルで、制御信号TMSを「H」レベルで出力している。
Next, at time t8, an external device (not shown) changes the chip enable signal CEsB from "L" level to "H" level. As a result, the SRAM chip SM changes from the selected state to the non-selected state. As a result, the input / output buffer control circuit 4 causes the control signal CTS to transition from “H” level to “L” level. And
The input / output buffers OIS0 to OIS15 are
The output goes into a high impedance state. At this time, the input / output buffer control circuit 4 outputs the control signal RDS at "L" level and the control signal TMS at "H" level.

【0175】次に、時刻t9において、図示しない外部
機器がチップイネーブル信号CEsBを「H」レベルか
ら「L」レベルに遷移させる。これにより、SRAMチ
ップSMは、図示しない外部機器により選択される。こ
の結果、入出力バッファ制御回路4は、制御信号CTS
を「L」レベルから「H」レベルに遷移させる。このと
き、入出力バッファ制御回路4は、制御信号RDSを
「L」レベルで、制御信号TMSを「L」レベルで出力
している。
Next, at time t9, an external device (not shown) causes the chip enable signal CEsB to transition from "H" level to "L" level. Thus, the SRAM chip SM is selected by an external device (not shown). As a result, the input / output buffer control circuit 4 outputs the control signal CTS.
From the “L” level to the “H” level. At this time, the input / output buffer control circuit 4 outputs the control signal RDS at “L” level and the control signal TMS at “L” level.

【0176】そして、SRAMチップSMは、メモリセ
ル部SSにおけるアドレス信号ADRSが示すメモリセ
ルからデータDTS0〜データDTS15を読み出す。こ
の結果、入出力バッファOIS0〜入出力バッファOI
S15は、制御信号CTSが「L」レベルから「H」レベ
ルに遷移されたことにより、データDTS0〜データD
TS15をそれぞれデータ信号DQ0〜データ信号DQ15
として出力する。ここで、図5にはデータ信号DQ0の
出力状態(DS3)のみ示されている。
The SRAM chip SM reads the data DTS0 to DTS15 from the memory cell indicated by the address signal ADRS in the memory cell section SS. As a result, the input / output buffer OIS0 to the input / output buffer OI
In S15, the data DTS0 to data DTS are output when the control signal CTS changes from “L” level to “H” level.
TS15 is connected to data signal DQ0 to data signal DQ15, respectively.
Output as Here, FIG. 5 shows only the output state (DS3) of the data signal DQ0.

【0177】一方、図示しない外部機器がチップイネー
ブル信号CEfBを「H」レベルのままとしている。こ
のため、FLASHメモリチップFMAは、図示しない
外部機器により選択されていない。この結果、入出力バ
ッファ制御回路3Aは、制御信号CTFを「L」レベル
として出力している。これにより、入出力バッファOI
F0〜入出力バッファOIF15は、出力がハイインピー
ダンス状態となっている。このとき、入出力バッファ制
御回路3Aは、制御信号RDFを「L」レベルで、制御
信号TMFを「L」レベルで出力している。
On the other hand, an external device (not shown) keeps the chip enable signal CEfB at “H” level. For this reason, the FLASH memory chip FMA has not been selected by an external device (not shown). As a result, the input / output buffer control circuit 3A outputs the control signal CTF as “L” level. Thereby, the input / output buffer OI
The outputs from F0 to the input / output buffer OIF15 are in a high impedance state. At this time, the input / output buffer control circuit 3A outputs the control signal RDF at "L" level and the control signal TMF at "L" level.

【0178】次に、時刻t10において、図示しない外部
機器がチップイネーブル信号CEfBを「H」レベルか
ら「L」レベルに遷移させる。これにより、FLASH
メモリチップFMAは、図示しない外部機器により選択
される。この結果、入出力バッファ制御回路4は、チッ
プイネーブル信号CEfBが「L」レベルとなり、信号
Cfsが「H」レベルとなるため、制御信号CTSを
「H」レベルから「L」レベルに遷移させる。
Next, at time t10, an external device (not shown) causes the chip enable signal CEfB to transition from "H" level to "L" level. With this, FLASH
The memory chip FMA is selected by an external device (not shown). As a result, the input / output buffer control circuit 4 changes the control signal CTS from the “H” level to the “L” level because the chip enable signal CEfB goes to the “L” level and the signal Cfs goes to the “H” level.

【0179】これにより、入出力バッファOIS0〜入
出力バッファOIS15の出力は、ハイインピーダンス状
態となる。このとき、入出力バッファ制御回路4は、制
御信号RDSを「L」レベルで、制御信号TMSを
「L」レベルで出力している。
As a result, the outputs of the input / output buffers OIS0 to OIS15 enter a high impedance state. At this time, the input / output buffer control circuit 4 outputs the control signal RDS at “L” level and the control signal TMS at “L” level.

【0180】同様に、入出力バッファ制御回路3Aは、
チップイネーブル信号CEfBが「H」レベルから
「L」レベルに遷移されたが、チップイネーブル信号C
EfBが「L」レベルのため、信号Csfが「H」レベ
ルであり、制御信号CTFを「L」レベルで出力する。
これにより、入出力バッファOIF0〜入出力バッファ
OIF15の出力は、ハイインピーダンス状態となる。
Similarly, the input / output buffer control circuit 3A
Although the chip enable signal CEfB has transitioned from “H” level to “L” level, the chip enable signal C
Since EfB is at "L" level, signal Csf is at "H" level and control signal CTF is output at "L" level.
As a result, the outputs of the input / output buffers OIF0 to OIF15 enter a high impedance state.

【0181】ここで、例えば、バーインテスト中に、図
18に示す半導体記憶装置のうち、半導体記憶装置UT
1のアウトプットイネーブル信号の入力される端子が、
内部で接地された配線とショートする障害により「L」
レベルとなったとする。これにより、端子T15に接続
されている配線が「L」レベルとなる。
Here, for example, during the burn-in test, the semiconductor memory device UT of the semiconductor memory device shown in FIG.
The terminal to which the output enable signal of 1 is input is
"L" due to failure to short-circuit with internally grounded wiring
Let's say it is level. As a result, the wiring connected to the terminal T15 becomes “L” level.

【0182】しかしながら、上述した入出力バッファ制
御回路3A及び入出力バッファ制御回路4により、半導
体記憶装置UTA1〜半導体記憶装置UTAmの各々の入
出力バッファOIF0〜入出力バッファOIF15及び入
出力バッファOIS0〜入出力バッファOIS15は、デ
ータ同時出力状態になった場合、双方の出力状態がハイ
インピーダンス状態となるため、データの衝突による破
壊から保護される。
However, the input / output buffer control circuit 3A and the input / output buffer control circuit 4 described above use the input / output buffers OIF0 to OIF15 and the input / output buffers OIS0 to OIS0 of the semiconductor memory devices UTA1 to UTAm. When the output buffer OIS15 is in the data simultaneous output state, both output states are in a high-impedance state, so that the output buffer OIS15 is protected from being destroyed by data collision.

【0183】次に、時刻t11において、図示しない外部
機器がチップイネーブル信号CEsBを「L」レベルか
ら「H」レベルに遷移させる。これにより、SRAMチ
ップSMは、図示しない外部機器により選択されない、
すなわち非選択状態となる。この結果、入出力バッファ
制御回路4は、制御信号CTSを「L」レベル,制御信
号RDSを「L」レベルで、制御信号TMSを「L」レ
ベルで出力している。
Next, at time t11, an external device (not shown) changes the chip enable signal CEsB from the "L" level to the "H" level. As a result, the SRAM chip SM is not selected by an external device (not shown).
That is, it is in a non-selected state. As a result, the input / output buffer control circuit 4 outputs the control signal CTS at the “L” level, the control signal RDS at the “L” level, and the control signal TMS at the “L” level.

【0184】これにより、入出力バッファ制御回路3A
は、チップイネーブル信号CEsBが「H」レベルとな
ることにより、信号Csfが「L」レベルとなり、制御
信号CTFを「L」レベルから「H」レベルへ遷移させ
る。このとき、入出力バッファ制御回路3Aは、制御信
号RDFを「L」レベルで、制御信号TMFを「L」レ
ベルで出力している。
Thus, the input / output buffer control circuit 3A
When the chip enable signal CEsB goes to the “H” level, the signal Csf goes to the “L” level, causing the control signal CTF to transition from the “L” level to the “H” level. At this time, the input / output buffer control circuit 3A outputs the control signal RDF at "L" level and the control signal TMF at "L" level.

【0185】そして、FLASHメモリチップFMA
は、メモリセル部Fにおけるアドレス信号ADRSが示
すメモリセルからデータDTF0〜データDTF15を読
み出す。この結果、入出力バッファOIF0〜入出力バ
ッファOIF15は、制御信号CTFが「L」レベルから
「H」レベルに遷移されたことにより、データDTF0
〜データDTF15をそれぞれデータ信号DQ0〜データ
信号DQ15として出力する。ここで、図5にはデータ信
号DQ0の出力状態(DF3)のみ示されている。
Then, the FLASH memory chip FMA
Reads data DTF0 to data DTF15 from the memory cell indicated by the address signal ADRS in the memory cell unit F. As a result, the input / output buffers OIF0 to OIF15 output the data DTF0 due to the transition of the control signal CTF from the “L” level to the “H” level.
To DTF15 are output as data signals DQ0 to DQ15, respectively. Here, FIG. 5 shows only the output state (DF3) of the data signal DQ0.

【0186】一方、図示しない外部機器がチップイネー
ブル信号CEsBを「H」レベルのままとしている。こ
のため、SRAMチップSMは、図示しない外部機器に
より選択されていない。この結果、入出力バッファ制御
回路4は、制御信号CTSを「L」レベルとして出力し
ている。これにより、入出力バッファOIS0〜入出力
バッファOIS15は、出力がハイインピーダンス状態と
なっている。このとき、入出力バッファ制御回路4は、
制御信号RDSを「L」レベルで、制御信号TMSを
「L」レベルで出力している。
On the other hand, an external device (not shown) keeps the chip enable signal CEsB at “H” level. Therefore, the SRAM chip SM has not been selected by an external device (not shown). As a result, the input / output buffer control circuit 4 outputs the control signal CTS as “L” level. As a result, the outputs of the input / output buffers OIS0 to OIS15 are in a high impedance state. At this time, the input / output buffer control circuit 4
The control signal RDS is output at "L" level, and the control signal TMS is output at "L" level.

【0187】次に、時刻t12において、図示しない外部
機器がチップイネーブル信号CEfBを「L」レベルか
ら「H」レベルへ遷移させる。これにより、FLASH
メモリチップFMは、選択状態から非選択状態となる。
この結果、入出力バッファ制御回路3は、制御信号CT
Fを「H」レベルから「L」レベルに遷移させる。そし
て、入出力バッファOIF0〜入出力バッファOIF15
は、出力がハイインピーダンス状態となる。このとき、
入出力バッファ制御回路3は、制御信号RDFを「L」
レベルで、制御信号TMFを「H」レベルで出力してい
る。
Next, at time t12, an external device (not shown) causes the chip enable signal CEfB to transition from "L" level to "H" level. With this, FLASH
The memory chip FM changes from the selected state to the non-selected state.
As a result, the input / output buffer control circuit 3 outputs the control signal CT
F is changed from “H” level to “L” level. Then, the input / output buffers OIF0 to OIF15
Output is in a high impedance state. At this time,
The input / output buffer control circuit 3 sets the control signal RDF to “L”.
At this time, the control signal TMF is output at "H" level.

【0188】従って、半導体記憶装置UTA1〜半導体
記憶装置UTAm内の入出力バッファOIF0〜入出力バ
ッファOIF15、及び入出力バッファOIS0〜入出力
バッファOIS15は、データが同時に出力される状態の
場合、双方ともに出力がハイインピーダンス状態とな
る。このため、第二の実施形態による半導体記憶装置U
TA1〜半導体記憶装置UTAmは、入出力バッファOI
F0〜入出力バッファOIF15、及び入出力バッファO
IS0〜入出力バッファOIS15からの各々の出力信号
の衝突、すなわちデータ信号DQ0〜データ信号DQ15
の衝突による入出力バッファの破壊を防止できる。
Therefore, the input / output buffers OIF0 to OIF15 and the input / output buffers OIS0 to OIS15 in the semiconductor memory devices UTA1 to UTAm are both in the state where data is output simultaneously. The output goes into a high impedance state. Therefore, the semiconductor memory device U according to the second embodiment
TA1 to the semiconductor memory device UTAm include an input / output buffer OI
F0 to input / output buffer OIF15 and input / output buffer O
IS0 to collision of each output signal from input / output buffer OIS15, that is, data signal DQ0 to data signal DQ15
The input / output buffer can be prevented from being destroyed due to the collision of data.

【0189】また、上述した第二の実施形態による半導
体記憶装置UTA1〜半導体記憶装置UTAmは、半導体
素子としてメモリの場合を説明したが、出力端子を共有
する入出力バッファを有しているロジック回路の半導体
素子に対しても有効である。
The semiconductor memory devices UTA1 to UTAm according to the second embodiment have been described as the case where memories are used as semiconductor elements. However, a logic circuit having an input / output buffer sharing an output terminal is described. It is also effective for the semiconductor device of the above.

【0190】さらに、上述した第二の実施形態による半
導体記憶装置UTA1〜半導体記憶装置UTAmを、共
に、OEB端子が共通化されている場合で説明したが、
OEB端子がそれぞれの半導体素子毎に設けられている
場合にも、一方の半導体素子のOEB端子が接地状態と
なる故障になったとき、双方の半導体素子の入出力バッ
ファを出力イネーブル状態となることを防止し、入出力
バッファの破壊を防ぐことが出来る。このとき、双方の
半導体素子の出力状態を制御するために、半導体素子の
OEB信号またはCEB信号のいずれかを互いの入出力
バッファ制御回路に入力させる。
Further, the semiconductor memory devices UTA1 to UTAm according to the above-described second embodiment have been described in the case where the OEB terminal is shared.
Even when the OEB terminal is provided for each semiconductor element, when the OEB terminal of one semiconductor element is grounded, the input / output buffers of both semiconductor elements are set to the output enable state. And the destruction of the input / output buffer can be prevented. At this time, in order to control the output state of both the semiconductor elements, either the OEB signal or the CEB signal of the semiconductor elements is input to the respective input / output buffer control circuits.

【0191】また、さらに、上述した第二の実施形態の
半導体記憶装置UTA1〜半導体記憶装置UTAmは、テ
ストの場合を例に説明したが、本発明の半導体記憶装置
は、基板に実装した状態においても、他の半導体素子か
ら入出力バッファが同時に出力状態となる影響を受けた
場合、入出力バッファの故障を防止できる。
Further, the semiconductor memory devices UTA1 to UTAm of the second embodiment described above have been described by taking a test as an example. However, the semiconductor memory device of the present invention is mounted on a substrate. In addition, when the input / output buffer is simultaneously output from another semiconductor element, the input / output buffer can be prevented from failing.

【0192】さらに、また、上述した第二の実施形態の
半導体記憶装置UTA1〜半導体記憶装置UTAmは、半
導体素子の出力端子を出力端子DQ0〜出力端子DQ15
の16本で説明したが、出力端子は何本でも構わない。
Further, in the semiconductor memory devices UTA1 to UTAm of the second embodiment described above, the output terminals of the semiconductor elements are connected to the output terminals DQ0 to DQ15.
However, any number of output terminals may be used.

【0193】<第三の実施形態>以上、本発明の一実施
形態を図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成は
この実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を
逸脱しない範囲の設計変更等があっても本発明に含まれ
る。ここで、図11に示す第三の実施形態の構成におい
て、第一の実施形態と同様な構成には一実施形態と同一
の符号を付し、詳細な説明を省略する。
<Third Embodiment> While one embodiment of the present invention has been described in detail with reference to the drawings, the specific configuration is not limited to this embodiment, and the gist of the present invention will be described. Even a design change or the like within a range not departing from the present invention is included in the present invention. Here, in the configuration of the third embodiment shown in FIG. 11, the same components as those of the first embodiment are denoted by the same reference numerals as those of the first embodiment, and detailed description is omitted.

【0194】また、図15及び図16の構成は、第一の
実施形態と同一であり、内部の半導体素子の回路構成が
異なる。ここで、第一の実施形態の半導体記憶装置UT
1〜半導体記憶装置UTmと、図11に示す半導体記憶装
置UTB1〜半導体記憶装置UTBmとの構成の違いは、
FLASHメモリチップFMがFLASHメモリチップ
FMBに、SRAMチップSMがSRAMチップSMB
へ変更された点である。また、第一の実施形態の半導体
記憶装置UT1〜半導体記憶装置UTmと、図11に示す
半導体記憶装置UTB1〜半導体記憶装置UTBmとの他
の構成は同一である。
The configuration of FIGS. 15 and 16 is the same as that of the first embodiment, and the circuit configuration of the internal semiconductor element is different. Here, the semiconductor memory device UT of the first embodiment
1 to the semiconductor memory device UTBm and the semiconductor memory devices UTB1 to UTBm shown in FIG.
The FLASH memory chip FM is replaced by the FLASH memory chip FMB, and the SRAM chip SM is replaced by the SRAM chip SMB.
It has been changed to The other configurations of the semiconductor storage devices UT1 to UTm of the first embodiment are the same as those of the semiconductor storage devices UTB1 to UTBm shown in FIG.

【0195】次に、図12を用いて、図11に示す入出
力バッファ制御回路3Bの一構成例を説明する。図12
は、入出力バッファ制御回路3Bの一構成例を示すブロ
ック図である。この図において、インバータINV20
は、入力されるチップイネーブル信号CEfBを反転
し、反転結果の反転信号をインバータINV21へ出力
する。インバータINV21は、チップイネーブル信号
CEfBの反転信号を再度反転し、反転結果として制御
信号TMFを出力する。
Next, an example of the configuration of the input / output buffer control circuit 3B shown in FIG. 11 will be described with reference to FIG. FIG.
Is a block diagram illustrating a configuration example of an input / output buffer control circuit 3B. In this figure, the inverter INV20
Inverts the input chip enable signal CEfB, and outputs an inverted signal of the inverted result to the inverter INV21. Inverter INV21 inverts the inverted signal of chip enable signal CEfB again, and outputs control signal TMF as the inverted result.

【0196】ラッチLT1は、端子Sに入力されるチッ
プイネーブル信号CEfBが「H」レベルで、端子Rに
入力されるチップイネーブル信号CEsBが「L」レベ
ルである場合、データがセットされて端子Qから「H」
レベルの信号Cfが出力される。逆に、ラッチLT1
は、端子Sに入力されるチップイネーブル信号CEfB
が「L」レベルで、端子Rに入力されるチップイネーブ
ル信号CEsBが「H」レベルである場合、データがセ
ットされて端子Qから「L」レベルの信号Cfが出力さ
れる。
When the chip enable signal CEfB input to the terminal S is at the “H” level and the chip enable signal CEsB input to the terminal R is at the “L” level, data is set to the latch LT1. From "H"
A level signal Cf is output. Conversely, the latch LT1
Is the chip enable signal CEfB input to the terminal S
Is at the “L” level and the chip enable signal CEsB input to the terminal R is at the “H” level, the data is set, and the “L” level signal Cf is output from the terminal Q.

【0197】また、ラッチLT1は、端子Sに入力され
るチップイネーブル信号CEfBが「L」レベルで、端
子Rに入力されるチップイネーブル信号CEsBが
「L」レベルである場合、端子Qから出力される信号C
fのレベルは変化しない。さらに、ラッチLT1は、端
子Rに入力される「H」レベルの信号が優先され、端子
Sに入力されるチップイネーブル信号CEfBが「H」
レベルで、端子Rに入力されるチップイネーブル信号C
EsBが「H」レベルである場合、データがセットされ
て端子Qから「L」レベルの信号Cfが出力される。
When the chip enable signal CEfB input to the terminal S is at the “L” level and the chip enable signal CEsB input to the terminal R is at the “L” level, the latch LT1 is output from the terminal Q. Signal C
The level of f does not change. Further, in the latch LT1, the “H” level signal input to the terminal R is given priority, and the chip enable signal CEfB input to the terminal S is set to “H”.
Level, the chip enable signal C input to the terminal R
When EsB is at the “H” level, data is set and an “L” level signal Cf is output from terminal Q.

【0198】ノア回路NOR20は、入力されるアウト
プットイネーブル信号OEBと、ラッチLT1から入力
される信号Cfと、インバータINV21から入力され
る制御信号TMFとの否定的論理和演算を行い、演算結
果を制御信号CTFとして出力する。すなわち、ノア回
路NOR20は、入力されるアウトプットイネーブル信
号OEB,信号Cf及び制御信号TMFの全てが「L」
レベルであるときのみ制御信号CTFを「H」レベルで
出力する。一方、ノア回路NOR20は、入力されるア
ウトプットイネーブル信号OEB,信号Cf及び制御信
号TMFのいずれか一つでも「H」レベルで入力される
と、制御信号CTFを「L」レベルで出力する。
NOR circuit NOR20 performs a negative OR operation on input enable signal OEB, signal Cf input from latch LT1, and control signal TMF input from inverter INV21, and outputs the operation result. Output as control signal CTF. That is, in the NOR circuit NOR20, all of the output enable signal OEB, the signal Cf, and the control signal TMF that are input are “L”.
The control signal CTF is output at the “H” level only when the level is at the “H” level. On the other hand, when any one of the input enable signal OEB, the signal Cf, and the control signal TMF is input at “H” level, the NOR circuit NOR20 outputs the control signal CTF at “L” level.

【0199】ノア回路NOR21は、入力されるライト
イネーブル信号WEBと、インバータINV4から入力
される制御信号TMFと、ノア回路NOR20から出力
される制御信号CTFとの否定的論理和演算を行い、演
算結果を制御信号RDFとして出力する。すなわち、ノ
ア回路NOR3は、入力されるアウトプットイネーブル
信号OEB,制御信号TMF及び制御信号CTFの全て
が「L」レベルであるときのみ制御信号RDFを「H」
レベルで出力する。
The NOR circuit NOR21 performs a negative OR operation on the input write enable signal WEB, the control signal TMF input from the inverter INV4, and the control signal CTF output from the NOR circuit NOR20. As a control signal RDF. That is, the NOR circuit NOR3 sets the control signal RDF to "H" only when all of the input output enable signal OEB, the control signal TMF, and the control signal CTF are at "L" level.
Output at level.

【0200】一方、ノア回路NOR21は、入力される
アウトプットイネーブル信号OEB,制御信号TMF及
び制御信号CTFのいずれかが「H」レベルで入力され
ると、制御信号RDFを「L」レベルで出力する。この
とき、制御信号RDFは、アウトプットイネーブル信号
OEBが「H」レベルであり、チップイネーブル信号C
EfB及びライトイネーブル信号WEBが「L」レベル
であるときのみ「H」レベルで出力され、メモリセル部
Fは書き込みモードとなる。
On the other hand, when any of the output enable signal OEB, the control signal TMF, and the control signal CTF is input at "H" level, the NOR circuit NOR21 outputs the control signal RDF at "L" level. I do. At this time, when the output enable signal OEB is at the “H” level and the chip enable signal C
Only when EfB and the write enable signal WEB are at the “L” level, the signal is output at the “H” level, and the memory cell unit F enters the write mode.

【0201】次に、図13を用いて、図11に示す入出
力バッファ制御回路4Bの一構成例を説明する。図13
は、入出力バッファ制御回路4Bの一構成例を示すブロ
ック図である。この図において、インバータINV22
は、入力されるチップイネーブル信号CEsBを反転
し、反転結果の反転信号をインバータINV23へ出力
する。インバータINV23は、チップイネーブル信号
CEsBの反転信号を再度反転し、反転結果として制御
信号TMSを出力する。
Next, an example of the configuration of the input / output buffer control circuit 4B shown in FIG. 11 will be described with reference to FIG. FIG.
Is a block diagram illustrating a configuration example of an input / output buffer control circuit 4B. In this figure, the inverter INV22
Inverts the input chip enable signal CEsB, and outputs an inverted signal of the inverted result to the inverter INV23. Inverter INV23 inverts the inverted signal of chip enable signal CEsB again, and outputs control signal TMS as an inverted result.

【0202】ラッチLT2は、端子Sに入力されるチッ
プイネーブル信号CEsBが「H」レベルで、端子Rに
入力されるチップイネーブル信号CEfBが「L」レベ
ルである場合、データがセットされて端子Qから「H」
レベルの信号Csが出力される。逆に、ラッチLT2
は、端子Sに入力されるチップイネーブル信号CEsB
が「L」レベルで、端子Rに入力されるチップイネーブ
ル信号CEfBが「H」レベルである場合、データがセ
ットされて端子Qから「L」レベルの信号Csが出力さ
れる。
When the chip enable signal CEsB input to the terminal S is at the “H” level and the chip enable signal CEfB input to the terminal R is at the “L” level, data is set to the latch LT2. From "H"
The level signal Cs is output. Conversely, the latch LT2
Is the chip enable signal CEsB input to the terminal S
Is "L" level, and the chip enable signal CEfB input to the terminal R is at "H" level, data is set and the terminal Q outputs the "L" level signal Cs.

【0203】また、ラッチLT2は、端子Sに入力され
るチップイネーブル信号CEsBが「L」レベルで、端
子Rに入力されるチップイネーブル信号CEfBが
「L」レベルである場合、端子Qから出力される信号C
sのレベルは変化しない。さらに、ラッチLT2は、端
子Rに入力される「H」レベルの信号が優先され、端子
Sに入力されるチップイネーブル信号CEsBが「H」
レベルで、端子Rに入力されるチップイネーブル信号C
EfBが「H」レベルである場合、データがセットされ
て端子Qから「L」レベルの信号Csが出力される。
When the chip enable signal CEsB input to the terminal S is at the “L” level and the chip enable signal CEfB input to the terminal R is at the “L” level, the latch LT2 outputs the signal from the terminal Q. Signal C
The level of s does not change. Further, in the latch LT2, the “H” level signal input to the terminal R is given priority, and the chip enable signal CEsB input to the terminal S is set to “H”.
Level, the chip enable signal C input to the terminal R
When EfB is at the “H” level, data is set and an “L” level signal Cs is output from terminal Q.

【0204】ノア回路NOR22は、入力されるアウト
プットイネーブル信号OEBと、ラッチLT2から入力
される信号Csと、インバータINV23から入力され
る制御信号TMSとの否定的論理和演算を行い、演算結
果を制御信号CTSとして出力する。すなわち、ノア回
路NOR22は、入力されるアウトプットイネーブル信
号OEB,信号Cs及び制御信号TMSの全てが「L」
レベルであるときのみ制御信号CTSを「H」レベルで
出力する。一方、ノア回路NOR22は、入力されるア
ウトプットイネーブル信号OEB,信号Cs及び制御信
号TMSのいずれか一つでも「H」レベルで入力される
と、制御信号CTSを「L」レベルで出力する。
The NOR circuit NOR22 performs a negative OR operation on the input output enable signal OEB, the signal Cs input from the latch LT2, and the control signal TMS input from the inverter INV23, and outputs the operation result. Output as control signal CTS. That is, in the NOR circuit NOR22, all of the output enable signal OEB, the signal Cs, and the control signal TMS that are input are “L”.
Only when the level is at the level, the control signal CTS is output at the “H” level. On the other hand, when any one of the input enable signal OEB, the signal Cs, and the control signal TMS is input at “H” level, the NOR circuit NOR22 outputs the control signal CTS at “L” level.

【0205】ノア回路NOR23は、入力されるライト
イネーブル信号WEBと、インバータINV23から入
力される制御信号TMSと、ノア回路NOR22から出
力される制御信号CTSとの否定的論理和演算を行い、
演算結果を制御信号RDSとして出力する。すなわち、
ノア回路NOR23は、入力されるアウトプットイネー
ブル信号OEB,制御信号TMS及び制御信号CTSの
全てが「L」レベルであるときのみ制御信号RDSを
「H」レベルで出力する。
The NOR circuit NOR23 performs a NOR operation on the input write enable signal WEB, the control signal TMS input from the inverter INV23, and the control signal CTS output from the NOR circuit NOR22,
The calculation result is output as a control signal RDS. That is,
The NOR circuit NOR23 outputs the control signal RDS at "H" level only when all of the output enable signal OEB, the control signal TMS, and the control signal CTS are at "L" level.

【0206】一方、ノア回路NOR23は、入力される
アウトプットイネーブル信号OEB,制御信号TMS及
び制御信号CTSのいずれかが「H」レベルで入力され
ると、制御信号RDSを「L」レベルで出力する。この
とき、制御信号RDSは、アウトプットイネーブル信号
OEBが「H」レベルであり、チップイネーブル信号C
EsB及びライトイネーブル信号WEBが「L」レベル
であるときのみ「H」レベルで出力され、メモリセル部
SSは書き込みモードとなる。
On the other hand, NOR circuit NOR23 outputs control signal RDS at "L" level when any of input output enable signal OEB, control signal TMS and control signal CTS is input at "H" level. I do. At this time, when the output enable signal OEB is at “H” level and the chip enable signal C
Only when the EsB and the write enable signal WEB are at the “L” level, the signal is output at the “H” level, and the memory cell unit SS enters the write mode.

【0207】次に、図11,図12,図13,図14及
び図18を参照し、上述した第三の実施形態の動作例を
説明する。図14は、図11に示す半導体記憶装置UT
B1(半導体記憶装置UTB2〜半導体記憶装置UTB
m)の動作を示すタイミングチャートである。例えば、
図18に示すように、半導体記憶装置UTB1〜半導体
記憶装置UTBmのVDD(電源)端子を端子T10に接
続し、電源電圧を供給する。また、半導体記憶装置UT
1〜半導体記憶装置UTmのGND(接地)端子を端子T
11へ接続して接地する。さらに、半導体記憶装置UT
1〜半導体記憶装置UTmのADRS(アドレス)端子が
端子T12に接続され、外部からアドレス信号ADRS
が供給される。
Next, an example of the operation of the third embodiment will be described with reference to FIGS. 11, 12, 13, 14, and 18. FIG. FIG. 14 shows the semiconductor memory device UT shown in FIG.
B1 (semiconductor storage device UTB2 to semiconductor storage device UTB)
6 is a timing chart showing the operation of m). For example,
As shown in FIG. 18, the VDD (power) terminals of the semiconductor memory devices UTB1 to UTBm are connected to the terminal T10 to supply a power voltage. In addition, the semiconductor storage device UT
1 to terminal T of the semiconductor memory device UTm
Connect to 11 and ground. Further, the semiconductor storage device UT
1 to the ADRS (address) terminal of the semiconductor memory device UTm are connected to the terminal T12, and an address signal ADRS
Is supplied.

【0208】また、半導体記憶装置UTB1〜半導体記
憶装置UTBmのOEB(アウトプットイネーブル)端
子が端子T15に接続され、アウトプットイネーブル信
号OEBが供給される。ここで、OEB端子に「H」レ
ベルのアウトプットイネーブル信号OEBが入力される
と、半導体記憶装置UTB1〜半導体記憶装置UTBmに
おけるFLASHメモリチップFMB及びSRAMチッ
プSMBは、読みだし状態のとき、それぞれアドレス信
号の指し示すメモリセル部F、メモリセル部SSからの
データを入出力バッファOIF0〜入出力バッファOI
F15、入出力バッファOIS0〜入出力バッファOIS1
5より出力することが不可能な状態となる。
The OEB (output enable) terminals of the semiconductor memory devices UTB1 to UTBm are connected to the terminal T15, and the output enable signal OEB is supplied. Here, when the output enable signal OEB at the “H” level is input to the OEB terminal, the FLASH memory chip FMB and the SRAM chip SMB in the semiconductor memory devices UTB1 to UTBm are respectively set to the address in the read state. The data from the memory cell unit F and the memory cell unit SS indicated by the signal are transferred to the input / output buffers OIF0 to OI0.
F15, I / O buffer OIS0 to I / O buffer OIS1
It becomes impossible to output from 5.

【0209】一方、OEB端子に「L」レベルのアウト
プットイネーブル信号OEBが入力されると、半導体記
憶装置UTB1〜半導体記憶装置UTBmにおけるFLA
SHメモリチップFMB及びSRAMチップSMBは、
読みだし状態のとき、それぞれメモリセル部F、メモリ
セル部SSのアドレス信号の指し示すメモリセルに記憶
されているデータを入出力バッファOIF0〜入出力バ
ッファOIF15、入出力バッファOIS0〜入出力バッ
ファOIS15より出力することが可能な状態となる。
On the other hand, when the output enable signal OEB at the "L" level is input to the OEB terminal, FLA in the semiconductor memory devices UTB1 to UTBm is output.
The SH memory chip FMB and the SRAM chip SMB
In the read state, the data stored in the memory cells indicated by the address signals of the memory cell unit F and the memory cell unit SS are read from the input / output buffers OIF0 to OIF15 and the input / output buffers OIS0 to OIS15. It is possible to output.

【0210】次に、図5のタイミングチャートに従い、
図1の半導体記憶装置UTB1(半導体記憶装置UTB2
〜半導体記憶装置UTBm)の動作を説明する。ここ
で、図14において使用されている時刻t0から時刻t1
2は、図5及び図10で使用されている時刻t0から時刻
t12と異なるものである。
Next, according to the timing chart of FIG.
The semiconductor memory device UTB1 (semiconductor memory device UTB2) of FIG.
The operation of the semiconductor memory device UTBm) will be described. Here, from time t0 to time t1 used in FIG.
2 is different from time t0 to time t12 used in FIG. 5 and FIG.

【0211】時刻t0において、例えば、アウトプット
イネーブル信号OEBが「H」レベルであり、ライトイ
ネーブル信号WEBが「L」レベルであり、チップイネ
ーブル信号CEfB及びチップイネーブル信号CEsB
が「H」であり、制御信号CTF及び制御信号CTSが
「L」レベルであるとする。このとき、FLASHメモ
リチップFMB及びSRAMチップSMBは、共にディ
セーブル状態であるため、データ信号DQ0〜データ信
号DQ15をハイインピーダンス状態としている。
At time t 0, for example, the output enable signal OEB is at “H” level, the write enable signal WEB is at “L” level, and the chip enable signal CEfB and the chip enable signal CEsB
Is “H”, and the control signal CTF and the control signal CTS are at “L” level. At this time, since the FLASH memory chip FMB and the SRAM chip SMB are both disabled, the data signals DQ0 to DQ15 are in a high impedance state.

【0212】次に、時刻taにおいて、図示しない外部
機器がアウトプットイネーブル信号OEBを「H」レベ
ルから「L」レベルに、ライトイネーブル信号WEBを
「L」レベルから「H」レベルに遷移させる。また、ア
ドレス信号ADRSが図示しない外部機器から入力され
る。
Next, at time ta, an external device (not shown) causes the output enable signal OEB to transition from “H” level to “L” level, and the write enable signal WEB to transition from “L” level to “H” level. The address signal ADRS is input from an external device (not shown).

【0213】これにより、FLASHメモリチップFM
B及びSRAMチップSMBは、共にそれぞれメモリセ
ルに記憶されているデータの読み出しモードが指示され
る。しかしながら、チップイネーブル信号CEfB及び
チップイネーブル信号CEsBが「H」であるため、F
LASHメモリチップFMB及びSRAMチップSMB
は、外部機器により選択されておらず、読み出し動作が
イネーブル状態とならない。
As a result, the FLASH memory chip FM
The read mode of data stored in the memory cell is instructed for each of the B and SRAM chips SMB. However, since the chip enable signal CEfB and the chip enable signal CEsB are “H”, F
LASH memory chip FMB and SRAM chip SMB
Is not selected by the external device, and the read operation is not enabled.

【0214】次に、時刻t1において、図示しない外部
機器がチップイネーブル信号CEfBを「H」レベルか
ら「L」レベルに遷移させる。これにより、FLASH
メモリチップFMBは、図示しない外部機器により選択
される。この結果、ラッチLT1の端子Sに入力される
チップイネーブル信号CEfBが「L」レベルとなり、
端子Rに入力されるチップイネーブル信号CEsBが
「H」レベルであるため、ラッチLT1は信号Cfを
「L」レベルで出力する。
Next, at time t1, an external device (not shown) causes the chip enable signal CEfB to transition from "H" level to "L" level. With this, FLASH
The memory chip FMB is selected by an external device (not shown). As a result, the chip enable signal CEfB input to the terminal S of the latch LT1 becomes “L” level,
Since the chip enable signal CEsB input to the terminal R is at “H” level, the latch LT1 outputs the signal Cf at “L” level.

【0215】これにより、入出力バッファ制御回路3B
は、入力されるアウトプットイネーブル信号OEB,信
号Cf及び制御信号TMFが「L」レベルとなるため、
制御信号CTFを「L」レベルから「H」レベルに遷移
させる。また、このとき、入出力バッファ制御回路3B
は、制御信号RDFを「L」レベルで、制御信号TMF
を「L」レベルで出力している。
As a result, the input / output buffer control circuit 3B
Since the output enable signal OEB, the signal Cf, and the control signal TMF to be input are at the “L” level,
The control signal CTF is changed from “L” level to “H” level. At this time, the input / output buffer control circuit 3B
Sets the control signal RDF to the “L” level and the control signal TMF
At the “L” level.

【0216】そして、FLASHメモリチップFMB
は、メモリセル部Fにおけるアドレス信号ADRSが示
すメモリセルからデータDTF0〜データDTF15を読
み出す。この結果、入出力バッファOIF0〜入出力バ
ッファOIF15は、制御信号CTFが「L」レベルから
「H」レベルに遷移されたことにより、データDTF0
〜データDTF15をそれぞれデータ信号DQ0〜データ
信号DQ15として出力する。ここで、図14にはデータ
信号DQ0の出力状態(DF1)のみ示されている。
Then, the FLASH memory chip FMB
Reads data DTF0 to data DTF15 from the memory cell indicated by the address signal ADRS in the memory cell unit F. As a result, the input / output buffers OIF0 to OIF15 output the data DTF0 due to the transition of the control signal CTF from the “L” level to the “H” level.
To DTF15 are output as data signals DQ0 to DQ15, respectively. Here, FIG. 14 shows only the output state (DF1) of the data signal DQ0.

【0217】一方、図示しない外部機器がチップイネー
ブル信号CEsBを「H」レベルのままとしている。こ
のため、SRAMチップSMBは、図示しない外部機器
により選択されていない。この結果、入出力バッファ制
御回路4Bは、制御信号CTSを「L」レベルとして出
力している。
On the other hand, an external device (not shown) keeps the chip enable signal CEsB at “H” level. For this reason, the SRAM chip SMB has not been selected by an external device (not shown). As a result, the input / output buffer control circuit 4B outputs the control signal CTS as “L” level.

【0218】ここで、ラッチLT2は、端子Sに入力さ
れるチップイネーブル信号CEsBが「H」レベルであ
り、端子Rに入力されるチップイネーブル信号CEfB
が「L」レベルであるため、信号Csを「H」レベルで
出力する。これにより、入出力バッファOIS0〜入出
力バッファOIS15は、出力がハイインピーダンス状態
となっている。このとき、入出力バッファ制御回路4
は、制御信号RDSを「L」レベルで、制御信号TMS
を「L」レベルで出力している。
Here, in the latch LT2, when the chip enable signal CEsB input to the terminal S is at the “H” level and the chip enable signal CEfB input to the terminal R
Is at the "L" level, the signal Cs is output at the "H" level. As a result, the outputs of the input / output buffers OIS0 to OIS15 are in a high impedance state. At this time, the input / output buffer control circuit 4
Sets the control signal RDS to the “L” level and the control signal TMS
At the “L” level.

【0219】次に、時刻t2において、図示しない外部
機器がチップイネーブル信号CEfBを「L」レベルか
ら「H」レベルへ遷移させる。これにより、FLASH
メモリチップFMBは、選択状態から非選択状態とな
る。この結果、ラッチLT1の端子Sに入力されるチッ
プイネーブル信号CEfBが「H」レベルとなり、端子
Rに入力されるチップイネーブル信号CEsBが「H」
レベルであるため、ラッチLT1は信号Cfを「L」レ
ベルのままとする。
Next, at time t2, an external device (not shown) causes the chip enable signal CEfB to transition from "L" level to "H" level. With this, FLASH
The memory chip FMB changes from the selected state to the non-selected state. As a result, the chip enable signal CEfB input to the terminal S of the latch LT1 becomes “H” level, and the chip enable signal CEsB input to the terminal R becomes “H”.
Therefore, the latch LT1 keeps the signal Cf at the “L” level.

【0220】これにより、入出力バッファ制御回路3B
は、入力されるチップイネーブル信号CEfBが「H」
レベルとなるため、制御信号CTFを「H」レベルから
「L」レベルに遷移させる。そして、入出力バッファO
IF0〜入出力バッファOIF15は、出力がハイインピ
ーダンス状態となる。このとき、入出力バッファ制御回
路3Bは、制御信号RDFを「L」レベルで、制御信号
TMFを「H」レベルで出力している。
Thereby, the input / output buffer control circuit 3B
Indicates that the input chip enable signal CEfB is “H”
Therefore, the control signal CTF changes from “H” level to “L” level. And the input / output buffer O
The outputs of IF0 to input / output buffer OIF15 are in a high impedance state. At this time, the input / output buffer control circuit 3B outputs the control signal RDF at "L" level and the control signal TMF at "H" level.

【0221】次に、時刻t3において、図示しない外部
機器がチップイネーブル信号CEsBを「H」レベルか
ら「L」レベルに遷移させる。これにより、SRAMチ
ップSMBは、図示しない外部機器により選択される。
この結果、ラッチLT2の端子Sに入力されるチップイ
ネーブル信号CEsBが「L」レベルとなり、端子Rに
入力されるチップイネーブル信号CEfBが「H」レベ
ルであるため、ラッチLT2は信号Csを「L」レベル
で出力する。
Next, at time t3, an external device (not shown) causes the chip enable signal CEsB to transition from "H" level to "L" level. Thus, the SRAM chip SMB is selected by an external device (not shown).
As a result, the chip enable signal CEsB input to the terminal S of the latch LT2 becomes “L” level, and the chip enable signal CEfB input to the terminal R is at “H” level, so that the latch LT2 changes the signal Cs to “L”. Output at the "level.

【0222】これにより、入出力バッファ制御回路4B
は、入力されるアウトプットイネーブル信号OEB,信
号Cs及び制御信号TMSが「L」レベルとなるため、
制御信号CTSを「L」レベルから「H」レベルに遷移
させる。このとき、入出力バッファ制御回路4Bは、制
御信号RDSを「L」レベルで、制御信号TMSを
「L」レベルで出力している。
Thus, the input / output buffer control circuit 4B
Since the output enable signal OEB, the signal Cs, and the control signal TMS that are input become “L” level,
The control signal CTS is changed from “L” level to “H” level. At this time, the input / output buffer control circuit 4B outputs the control signal RDS at "L" level and the control signal TMS at "L" level.

【0223】そして、SRAMチップSMBは、メモリ
セル部SSにおけるアドレス信号ADRSが示すメモリ
セルからデータDTS0〜データDTS15を読み出す。
この結果、入出力バッファOIS0〜入出力バッファO
IS15は、制御信号CTSが「L」レベルから「H」レ
ベルに遷移されたことにより、データDTS0〜データ
DTS15をそれぞれデータ信号DQ0〜データ信号DQ1
5として出力する。ここで、図14にはデータ信号DQ0
の出力状態(DS1)のみ示されている。
Then, the SRAM chip SMB reads the data DTS0 to DTS15 from the memory cell indicated by the address signal ADRS in the memory cell section SS.
As a result, the input / output buffer OIS0 to the input / output buffer O
IS15 changes data DTS0 to data DTS15 from data signal DQ0 to data signal DQ1 when control signal CTS transitions from "L" level to "H" level.
Output as 5. Here, FIG. 14 shows the data signal DQ0.
Is shown only in the output state (DS1).

【0224】一方、図示しない外部機器がチップイネー
ブル信号CEfBを「H」レベルのままとしている。こ
のため、FLASHメモリチップFMBは、図示しない
外部機器により選択されていない。この結果、入出力バ
ッファ制御回路3Bは、制御信号CTFを「L」レベル
として出力している。これにより、入出力バッファOI
F0〜入出力バッファOIF15は、出力がハイインピー
ダンス状態となっている。このとき、入出力バッファ制
御回路3Bは、制御信号RDFを「L」レベルで、制御
信号TMFを「L」レベルで出力している。
On the other hand, an external device (not shown) keeps the chip enable signal CEfB at “H” level. Therefore, the FLASH memory chip FMB has not been selected by an external device (not shown). As a result, the input / output buffer control circuit 3B outputs the control signal CTF as “L” level. Thereby, the input / output buffer OI
The outputs from F0 to the input / output buffer OIF15 are in a high impedance state. At this time, the input / output buffer control circuit 3B outputs the control signal RDF at "L" level and the control signal TMF at "L" level.

【0225】次に、時刻t4において、図示しない外部
機器がチップイネーブル信号CEsBを「L」レベルか
ら「H」レベルへ遷移させる。これにより、SRAMチ
ップSMBは、選択状態から非選択状態となる。この結
果、ラッチLT2の端子Sに入力されるチップイネーブ
ル信号CEsBが「H」レベルとなり、端子Rに入力さ
れるチップイネーブル信号CEfBが「H」レベルであ
るため、ラッチLT2は信号Cfを「L」レベルのまま
とする。
Next, at time t 4, an external device (not shown) changes the chip enable signal CEsB from “L” level to “H” level. As a result, the SRAM chip SMB changes from the selected state to the non-selected state. As a result, the chip enable signal CEsB input to the terminal S of the latch LT2 becomes “H” level, and the chip enable signal CEfB input to the terminal R is “H” level, so that the latch LT2 changes the signal Cf to “L”. Level.

【0226】これにより、入出力バッファ制御回路4B
は、入力されるチップイネーブル信号CEsBが「H」
レベルとなるため、制御信号CTSを「H」レベルから
「L」レベルに遷移させる。そして、入出力バッファO
IS0〜入出力バッファOIS15は、出力がハイインピ
ーダンス状態となる。このとき、入出力バッファ制御回
路4Bは、制御信号RDSを「L」レベルで、制御信号
TMSを「H」レベルで出力している。
Thus, the input / output buffer control circuit 4B
Indicates that the input chip enable signal CEsB is “H”.
Therefore, the control signal CTS is changed from “H” level to “L” level. And the input / output buffer O
The outputs of the IS0 to the input / output buffer OIS15 are in a high impedance state. At this time, the input / output buffer control circuit 4B outputs the control signal RDS at "L" level and the control signal TMS at "H" level.

【0227】次に、時刻t5において、図示しない外部
機器がチップイネーブル信号CEfBを「H」レベルか
ら「L」レベルに遷移させる。これにより、FLASH
メモリチップFMBは、図示しない外部機器により選択
される。この結果、ラッチLT1の端子Sに入力される
チップイネーブル信号CEfBが「L」レベルとなり、
端子Rに入力されるチップイネーブル信号CEsBが
「H」レベルであるため、ラッチLT1は信号Cfを
「L」レベルで出力する。
Next, at time t5, an external device (not shown) causes the chip enable signal CEfB to transition from "H" level to "L" level. With this, FLASH
The memory chip FMB is selected by an external device (not shown). As a result, the chip enable signal CEfB input to the terminal S of the latch LT1 becomes “L” level,
Since the chip enable signal CEsB input to the terminal R is at “H” level, the latch LT1 outputs the signal Cf at “L” level.

【0228】これにより、入出力バッファ制御回路3B
は、入力されるアウトプットイネーブル信号OEB,信
号Cf及び制御信号TMFが「L」レベルとなるため、
制御信号CTFを「L」レベルから「H」レベルに遷移
させる。このとき、入出力バッファ制御回路3Bは、制
御信号RDFを「L」レベルで、制御信号TMFを
「L」レベルで出力している。
Thus, input / output buffer control circuit 3B
Since the output enable signal OEB, the signal Cf, and the control signal TMF to be input are at the “L” level,
The control signal CTF is changed from “L” level to “H” level. At this time, the input / output buffer control circuit 3B outputs the control signal RDF at "L" level and the control signal TMF at "L" level.

【0229】そして、FLASHメモリチップFMB
は、メモリセル部Fにおけるアドレス信号ADRSが示
すメモリセルからデータDTF0〜データDTF15を読
み出す。この結果、入出力バッファOIF0〜入出力バ
ッファOIF15は、制御信号CTFが「L」レベルから
「H」レベルに遷移されたことにより、データDTF0
〜データDTF15をそれぞれデータ信号DQ0〜データ
信号DQ15として出力する。ここで、図14にはデータ
信号DQ0の出力状態(DF2)のみ示されている。
Then, the FLASH memory chip FMB
Reads data DTF0 to data DTF15 from the memory cell indicated by the address signal ADRS in the memory cell unit F. As a result, the input / output buffers OIF0 to OIF15 output the data DTF0 due to the transition of the control signal CTF from the “L” level to the “H” level.
To DTF15 are output as data signals DQ0 to DQ15, respectively. Here, FIG. 14 shows only the output state (DF2) of the data signal DQ0.

【0230】一方、図示しない外部機器がチップイネー
ブル信号CEsBを「H」レベルのままとしている。こ
のため、SRAMチップSMBは、図示しない外部機器
により選択されていない。この結果、入出力バッファ制
御回路4Bは、制御信号CTSを「L」レベルとして出
力している。これにより、入出力バッファOIS0〜入
出力バッファOIS15は、出力がハイインピーダンス状
態となっている。このとき、入出力バッファ制御回路4
Bは、制御信号RDSを「L」レベルで、制御信号TM
Sを「L」レベルで出力している。
On the other hand, an external device (not shown) keeps the chip enable signal CEsB at “H” level. For this reason, the SRAM chip SMB has not been selected by an external device (not shown). As a result, the input / output buffer control circuit 4B outputs the control signal CTS as “L” level. As a result, the outputs of the input / output buffers OIS0 to OIS15 are in a high impedance state. At this time, the input / output buffer control circuit 4
B sets the control signal RDS to the “L” level and sets the control signal TM
S is output at the “L” level.

【0231】次に、時刻t6において、図示しない外部
機器がチップイネーブル信号CEsBを「H」レベルか
ら「L」レベルに遷移させる。これにより、SRAMチ
ップSMBは、図示しない外部機器により選択される。
しかしながら、ラッチLT2は、端子Sに入力されるチ
ップイネーブル信号CEsBが「L」レベルとなるが、
端子Rに入力されるチップイネーブル信号CEfBがす
でに「L」レベルであったため、端子Qから出力される
信号Csを「H」レベルで保持する。
Next, at time t 6, an external device (not shown) changes the chip enable signal CEsB from “H” level to “L” level. Thus, the SRAM chip SMB is selected by an external device (not shown).
However, in the latch LT2, although the chip enable signal CEsB input to the terminal S becomes “L” level,
Since the chip enable signal CEfB input to the terminal R has already been at the “L” level, the signal Cs output from the terminal Q is held at the “H” level.

【0232】これにより、入出力バッファ制御回路4B
は、チップイネーブル信号CEfB及びチップイネーブ
ル信号CEsBが「L」レベルのため、信号Csが
「H」レベルで保持されるため、制御信号CTSを
「L」レベルのままで出力する。このとき、入出力バッ
ファ制御回路4Bは、制御信号RDSを「L」レベル
で、制御信号TMSを「L」レベルで出力している。
Thus, the input / output buffer control circuit 4B
Since the chip enable signal CEfB and the chip enable signal CEsB are at the “L” level and the signal Cs is held at the “H” level, the control signal CTS is output at the “L” level. At this time, the input / output buffer control circuit 4B outputs the control signal RDS at "L" level and the control signal TMS at "L" level.

【0233】このため、SRAMチップSMBは、図示
しない外部機器により選択状態となっているが、制御信
号CTSが「L」レベルのため、入出力バッファOIS
0〜入出力バッファOIS15の出力をハイインピーダン
スのままとする。したがって、FLASHメモリチップ
FMB及びSRAMチップSMBの出力信号は、入出力
バッファOIS0〜入出力バッファOIS15の出力をハ
イインピーダンスのため、アウトプットイネーブル信号
OEBが「L」レベルとなっても衝突しない。
Therefore, the SRAM chip SMB has been selected by an external device (not shown). However, since the control signal CTS is at "L" level, the input / output buffer OIS
0 to keep the output of the input / output buffer OIS15 at high impedance. Therefore, the output signals of the FLASH memory chip FMB and the SRAM chip SMB have high impedance at the outputs of the input / output buffers OIS0 to OIS15, and therefore do not collide even if the output enable signal OEB is at the "L" level.

【0234】ここで、例えば、バーインテスト中に、図
18に示す半導体記憶装置のうち、半導体記憶装置UT
B1のアウトプットイネーブル信号の入力される端子
が、内部で接地された配線とショートする障害により
「L」レベルとなったとする。これにより、端子T15
に接続されている配線が「L」レベルとなる。
Here, for example, during the burn-in test, the semiconductor memory device UT of the semiconductor memory device shown in FIG.
It is assumed that the terminal to which the output enable signal B1 is input has been set to the "L" level due to a fault that short-circuits with the internally grounded wiring. Thereby, the terminal T15
Is at the "L" level.

【0235】しかしながら、上述した入出力バッファ制
御回路3B及び入出力バッファ制御回路4Bにより、半
導体記憶装置UTB1〜半導体記憶装置UTBmの各々の
入出力バッファOIF0〜入出力バッファOIF15及び
入出力バッファOIS0〜入出力バッファOIS15は、
データの同時出力状態になった場合、入出力バッファO
IS0〜入出力バッファOIS15の出力がハイインピー
ダンス状態となるため、データの衝突による破壊から保
護される。
However, the input / output buffer control circuit 3B and the input / output buffer control circuit 4B described above use the input / output buffers OIF0 to OIF15 and the input / output buffers OIS0 to OIS0 of the semiconductor memory devices UTB1 to UTBm. The output buffer OIS15 is
When data is output simultaneously, the input / output buffer
Since the outputs of IS0 to input / output buffer OIS15 are in a high impedance state, they are protected from destruction due to data collision.

【0236】次に、時刻t7において、図示しない外部
機器がチップイネーブル信号CEfBを「L」レベルか
ら「H」レベルへ遷移させる。これにより、FLASH
メモリチップFMBは、選択状態から非選択状態とな
る。この結果、ラッチLT1の端子Sに入力されるチッ
プイネーブル信号CEfBが「H」レベルとなり、端子
Rに入力されるチップイネーブル信号CEsBが「H」
レベルであるため、ラッチLT1は信号Cfを「L」レ
ベルのままとする。
Next, at time t7, an external device (not shown) changes the chip enable signal CEfB from "L" level to "H" level. With this, FLASH
The memory chip FMB changes from the selected state to the non-selected state. As a result, the chip enable signal CEfB input to the terminal S of the latch LT1 becomes “H” level, and the chip enable signal CEsB input to the terminal R becomes “H”.
Therefore, the latch LT1 keeps the signal Cf at the “L” level.

【0237】これにより、入出力バッファ制御回路3B
は、入力されるチップイネーブル信号CEfBが「H」
レベルとなるため、制御信号CTFを「H」レベルから
「L」レベルに遷移させる。そして、入出力バッファO
IF0〜入出力バッファOIF15は、出力がハイインピ
ーダンス状態となる。このとき、入出力バッファ制御回
路3Bは、制御信号RDFを「L」レベルで、制御信号
TMFを「H」レベルで出力している。
As a result, the input / output buffer control circuit 3B
Indicates that the input chip enable signal CEfB is “H”
Therefore, the control signal CTF changes from “H” level to “L” level. And the input / output buffer O
The outputs of IF0 to input / output buffer OIF15 are in a high impedance state. At this time, the input / output buffer control circuit 3B outputs the control signal RDF at "L" level and the control signal TMF at "H" level.

【0238】そして、SRAMチップSMBが図示しな
い外部機器により選択されているため、ラッチLT2
は、端子Sに入力されるチップイネーブル信号CEsB
が「L」レベルであり、端子Rに入力されるチップイネ
ーブル信号CEfBが「H」レベルとなるためにリセッ
トされ、端子Qから出力される信号Csを「H」レベル
から「L」レベルへ遷移させる。
Since the SRAM chip SMB has been selected by an external device (not shown), the latch LT2
Is the chip enable signal CEsB input to the terminal S
Is at “L” level, the chip enable signal CEfB input to the terminal R is reset to “H” level, and the signal Cs output from the terminal Q is changed from “H” level to “L” level. Let it.

【0239】これにより、入出力バッファ制御回路4B
は、入力されるチップイネーブル信号CEsB,制御信
号TMS及び信号Csが全て「L」レベルとなるため、
制御信号CTSを「L」レベルから「H」レベルに遷移
させる。このとき、入出力バッファ制御回路4Bは、制
御信号RDSを「L」レベルで、制御信号TMSを
「L」レベルで出力している。
Thus, the input / output buffer control circuit 4B
Since all of the input chip enable signal CEsB, control signal TMS, and signal Cs are at the “L” level,
The control signal CTS is changed from “L” level to “H” level. At this time, the input / output buffer control circuit 4B outputs the control signal RDS at "L" level and the control signal TMS at "L" level.

【0240】そして、SRAMチップSMBは、メモリ
セル部SSにおけるアドレス信号ADRSが示すメモリ
セルからデータDTS0〜データDTS15を読み出す。
この結果、入出力バッファOIS0〜入出力バッファO
IS15は、制御信号CTSが「L」レベルから「H」レ
ベルに遷移されたことにより、データDTS0〜データ
DTS15をそれぞれデータ信号DQ0〜データ信号DQ1
5として出力する。ここで、図14にはデータ信号DQ0
の出力状態(DS2)のみ示されている。
The SRAM chip SMB reads data DTS0 to DTS15 from the memory cell indicated by the address signal ADRS in the memory cell section SS.
As a result, the input / output buffer OIS0 to the input / output buffer O
IS15 changes data DTS0 to data DTS15 from data signal DQ0 to data signal DQ1 when control signal CTS transitions from "L" level to "H" level.
Output as 5. Here, FIG. 14 shows the data signal DQ0.
Is shown only in the output state (DS2).

【0241】一方、図示しない外部機器がチップイネー
ブル信号CEfBを「L」レベルから「H」レベルへ遷
移した。このため、FLASHメモリチップFMBは、
図示しない外部機器により選択されていない。この結
果、入出力バッファ制御回路3Bは、制御信号CTFを
「L」レベルとして出力している。これにより、入出力
バッファOIF0〜入出力バッファOIF15は、出力が
ハイインピーダンス状態となっている。このとき、入出
力バッファ制御回路3Bは、制御信号RDFを「L」レ
ベルで、制御信号TMFを「L」レベルで出力してい
る。
On the other hand, an external device (not shown) has changed the chip enable signal CEfB from “L” level to “H” level. Therefore, the FLASH memory chip FMB
Not selected by an external device (not shown). As a result, the input / output buffer control circuit 3B outputs the control signal CTF as “L” level. As a result, the outputs of the input / output buffers OIF0 to OIF15 are in a high impedance state. At this time, the input / output buffer control circuit 3B outputs the control signal RDF at "L" level and the control signal TMF at "L" level.

【0242】次に、時刻t8において、図示しない外部
機器がチップイネーブル信号CEsBを「L」レベルか
ら「H」レベルへ遷移させる。これにより、SRAMチ
ップSMBは、選択状態から非選択状態となる。この結
果、ラッチLT2の端子Sに入力されるチップイネーブ
ル信号CEsBが「H」レベルとなり、端子Rに入力さ
れるチップイネーブル信号CEfBが「H」レベルであ
るため、ラッチLT2は信号Cfを「L」レベルのまま
とする。
Next, at time t8, an external device (not shown) causes the chip enable signal CEsB to transition from "L" level to "H" level. As a result, the SRAM chip SMB changes from the selected state to the non-selected state. As a result, the chip enable signal CEsB input to the terminal S of the latch LT2 becomes “H” level, and the chip enable signal CEfB input to the terminal R is “H” level, so that the latch LT2 changes the signal Cf to “L”. Level.

【0243】これにより、入出力バッファ制御回路4B
は、入力されるチップイネーブル信号CEsBが「H」
レベルとなるため、制御信号CTSを「H」レベルから
「L」レベルに遷移させる。そして、入出力バッファO
IS0〜入出力バッファOIS15は、出力がハイインピ
ーダンス状態となる。このとき、入出力バッファ制御回
路4Bは、制御信号RDSを「L」レベルで、制御信号
TMSを「H」レベルで出力している。
As a result, the input / output buffer control circuit 4B
Indicates that the input chip enable signal CEsB is “H”.
Therefore, the control signal CTS is changed from “H” level to “L” level. And the input / output buffer O
The outputs of the IS0 to the input / output buffer OIS15 are in a high impedance state. At this time, the input / output buffer control circuit 4B outputs the control signal RDS at "L" level and the control signal TMS at "H" level.

【0244】次に、時刻t9において、図示しない外部
機器がチップイネーブル信号CEsBを「H」レベルか
ら「L」レベルに遷移させる。これにより、SRAMチ
ップSMBは、図示しない外部機器により選択される。
この結果、ラッチLT2の端子Sに入力されるチップイ
ネーブル信号CEsBが「L」レベルとなり、端子Rに
入力されるチップイネーブル信号CEfBが「H」レベ
ルであるため、ラッチLT2は信号Csを「L」レベル
で出力する。
Next, at time t9, an external device (not shown) causes the chip enable signal CEsB to transition from "H" level to "L" level. Thus, the SRAM chip SMB is selected by an external device (not shown).
As a result, the chip enable signal CEsB input to the terminal S of the latch LT2 becomes “L” level, and the chip enable signal CEfB input to the terminal R is at “H” level, so that the latch LT2 changes the signal Cs to “L”. Output at the "level.

【0245】これにより、入出力バッファ制御回路4B
は、入力されるアウトプットイネーブル信号OEB,信
号Cs及び制御信号TMSが「L」レベルとなるため、
制御信号CTSを「L」レベルから「H」レベルに遷移
させる。このとき、入出力バッファ制御回路4Bは、制
御信号RDSを「L」レベルで、制御信号TMSを
「L」レベルで出力している。
Thus, the input / output buffer control circuit 4B
Since the output enable signal OEB, the signal Cs, and the control signal TMS that are input become “L” level,
The control signal CTS is changed from “L” level to “H” level. At this time, the input / output buffer control circuit 4B outputs the control signal RDS at "L" level and the control signal TMS at "L" level.

【0246】そして、SRAMチップSMBは、メモリ
セル部SSにおけるアドレス信号ADRSが示すメモリ
セルからデータDTS0〜データDTS15を読み出す。
この結果、入出力バッファOIS0〜入出力バッファO
IS15は、制御信号CTSが「L」レベルから「H」レ
ベルに遷移されたことにより、データDTS0〜データ
DTS15をそれぞれデータ信号DQ0〜データ信号DQ1
5として出力する。ここで、図14にはデータ信号DQ0
の出力状態(DS3)のみ示されている。
Then, the SRAM chip SMB reads the data DTS0 to DTS15 from the memory cell indicated by the address signal ADRS in the memory cell section SS.
As a result, the input / output buffer OIS0 to the input / output buffer O
IS15 changes data DTS0 to data DTS15 from data signal DQ0 to data signal DQ1 when control signal CTS transitions from "L" level to "H" level.
Output as 5. Here, FIG. 14 shows the data signal DQ0.
Is shown only in the output state (DS3).

【0247】一方、図示しない外部機器がチップイネー
ブル信号CEfBを「H」レベルのままとしている。こ
のため、FLASHメモリチップFMBは、図示しない
外部機器により選択されていない。この結果、入出力バ
ッファ制御回路3Bは、制御信号CTFを「L」レベル
として出力している。これにより、入出力バッファOI
F0〜入出力バッファOIF15は、出力がハイインピー
ダンス状態となっている。このとき、入出力バッファ制
御回路3Bは、制御信号RDFを「L」レベルで、制御
信号TMFを「L」レベルで出力している。
On the other hand, an external device (not shown) keeps the chip enable signal CEfB at “H” level. Therefore, the FLASH memory chip FMB has not been selected by an external device (not shown). As a result, the input / output buffer control circuit 3B outputs the control signal CTF as “L” level. Thereby, the input / output buffer OI
The outputs from F0 to the input / output buffer OIF15 are in a high impedance state. At this time, the input / output buffer control circuit 3B outputs the control signal RDF at "L" level and the control signal TMF at "L" level.

【0248】次に、時刻t10において、図示しない外部
機器がチップイネーブル信号CEfBを「H」レベルか
ら「L」レベルに遷移させる。これにより、FLASH
メモリチップFMBは、図示しない外部機器により選択
される。しかしながら、ラッチLT1は、端子Sに入力
されるチップイネーブル信号CEfBが「L」レベルと
なるが、端子Rに入力されるチップイネーブル信号CE
sBがすでに「L」レベルであったため、端子Qから出
力される信号Cfを「H」レベルで保持する。
Next, at time t10, an external device (not shown) changes the chip enable signal CEfB from the "H" level to the "L" level. With this, FLASH
The memory chip FMB is selected by an external device (not shown). However, the latch LT1 outputs the chip enable signal CEfB input to the terminal R while the chip enable signal CEfB input to the terminal S goes to the “L” level.
Since sB is already at the “L” level, the signal Cf output from the terminal Q is held at the “H” level.

【0249】これにより、入出力バッファ制御回路3B
は、チップイネーブル信号CEfB及びチップイネーブ
ル信号CEsBが「L」レベルのため、信号Cfが
「H」レベルで保持されるため、制御信号CTFを
「L」レベルのままで出力する。このとき、入出力バッ
ファ制御回路3Bは、制御信号RDFを「L」レベル
で、制御信号TMFを「L」レベルで出力している。
Thus, input / output buffer control circuit 3B
Since the chip enable signal CEfB and the chip enable signal CEsB are at the “L” level, the signal Cf is maintained at the “H” level, so that the control signal CTF is output at the “L” level. At this time, the input / output buffer control circuit 3B outputs the control signal RDF at "L" level and the control signal TMF at "L" level.

【0250】このため、FLASHメモリチップFMB
は、図示しない外部機器により選択状態となっている
が、制御信号CTFが「L」レベルのため、入出力バッ
ファOIF0〜入出力バッファOIF15の出力をハイイ
ンピーダンスのままとする。したがって、FLASHメ
モリチップFMB及びSRAMチップSMBの出力信号
は、入出力バッファOIF0〜入出力バッファOIF15
の出力がハイインピーダンスのため、アウトプットイネ
ーブル信号OEBが「L」レベルとなっても衝突しな
い。
Therefore, the FLASH memory chip FMB
Is selected by an external device (not shown), but since the control signal CTF is at "L" level, the outputs of the input / output buffers OIF0 to OIF15 remain at high impedance. Therefore, the output signals of the FLASH memory chip FMB and the SRAM chip SMB are output from the input / output buffers OIF0 to OIF15.
Does not collide even if the output enable signal OEB becomes "L" level.

【0251】ここで、例えば、バーインテスト中に、図
18に示す半導体記憶装置のうち、半導体記憶装置UT
B1のアウトプットイネーブル信号の入力される端子
が、内部で接地された配線とショートする障害により
「L」レベルとなったとする。これにより、端子T15
に接続されている配線が「L」レベルとなる。
Here, for example, during the burn-in test, the semiconductor memory device UT of the semiconductor memory device shown in FIG.
It is assumed that the terminal to which the output enable signal B1 is input has been set to the "L" level due to a fault that short-circuits with the internally grounded wiring. Thereby, the terminal T15
Is at the "L" level.

【0252】しかしながら、上述した入出力バッファ制
御回路3B及び入出力バッファ制御回路4Bにより、半
導体記憶装置UTB1〜半導体記憶装置UTBmの各々の
入出力バッファOIF0〜入出力バッファOIF15及び
入出力バッファOIS0〜入出力バッファOIS15は、
データの同時出力状態になった場合、入出力バッファO
IF0〜入出力バッファOIF15の出力がハイインピー
ダンス状態となるため、データの衝突による破壊から保
護される。
However, the input / output buffer control circuit 3B and the input / output buffer control circuit 4B described above use the input / output buffers OIF0 to OIF15 and the input / output buffers OIS0 to OIS0 of the semiconductor memory devices UTB1 to UTBm. The output buffer OIS15 is
When data is output simultaneously, the input / output buffer
Since the outputs of IF0 to input / output buffer OIF15 are in a high impedance state, they are protected from destruction due to data collision.

【0253】次に、時刻t11において、図示しない外部
機器がチップイネーブル信号CEsBを「L」レベルか
ら「H」レベルに遷移させる。これにより、SRAMチ
ップSMBは、図示しない外部機器により選択されな
い、すなわち非選択状態となる。この結果、ラッチLT
2の端子Sに入力されるチップイネーブル信号CEsB
が「H」レベルとなり、端子Rに入力されるチップイネ
ーブル信号CEfBが「H」レベルであるため、ラッチ
LT2は信号Csを「L」レベルのままとする。
Next, at time t11, an external device (not shown) causes the chip enable signal CEsB to transition from "L" level to "H" level. As a result, the SRAM chip SMB is not selected by an external device (not shown), that is, is in a non-selected state. As a result, the latch LT
Chip enable signal CEsB input to the terminal S
Becomes "H" level, and the chip enable signal CEfB input to the terminal R is at "H" level, so that the latch LT2 keeps the signal Cs at "L" level.

【0254】これにより、入出力バッファ制御回路4B
は、入力されるチップイネーブル信号CEsBが「H」
レベルとなるため、制御信号CTSを「H」レベルから
「L」レベルへ遷移させる。そして、入出力バッファO
IS0〜入出力バッファOIS15は、出力がハイインピ
ーダンス状態となる。このとき、入出力バッファ制御回
路4Bは、制御信号RDSを「L」レベルで、制御信号
TMSを「L」レベルで出力している。
Thus, the input / output buffer control circuit 4B
Indicates that the input chip enable signal CEsB is “H”.
Therefore, the control signal CTS is changed from “H” level to “L” level. And the input / output buffer O
The outputs of the IS0 to the input / output buffer OIS15 are in a high impedance state. At this time, the input / output buffer control circuit 4B outputs the control signal RDS at "L" level and the control signal TMS at "L" level.

【0255】そして、FLASHメモリチップFMBが
図示しない外部機器により選択されているため、ラッチ
LT1は、端子Sに入力されるチップイネーブル信号C
EfBが「L」レベルであり、端子Rに入力されるチッ
プイネーブル信号CEsBが「H」レベルとなるために
リセットされ、端子Qから出力される信号Cfを「H」
レベルから「L」レベルへ遷移させる。
Since the FLASH memory chip FMB is selected by an external device (not shown), the latch LT1 outputs the chip enable signal C input to the terminal S.
EfB is at the “L” level, the chip enable signal CEsB input to the terminal R is reset to the “H” level, and the signal Cf output from the terminal Q is reset to the “H” level.
A transition is made from the level to the “L” level.

【0256】これにより、入出力バッファ制御回路3B
は、入力されるチップイネーブル信号CEfB,制御信
号TMF及び信号Cfが全て「L」レベルとなるため、
制御信号CTFを「L」レベルから「H」レベルに遷移
させる。このとき、入出力バッファ制御回路3Bは、制
御信号RDFを「L」レベルで、制御信号TMFを
「L」レベルで出力している。
Thus, input / output buffer control circuit 3B
Since the input chip enable signal CEfB, control signal TMF, and signal Cf all have the “L” level,
The control signal CTF is changed from “L” level to “H” level. At this time, the input / output buffer control circuit 3B outputs the control signal RDF at "L" level and the control signal TMF at "L" level.

【0257】そして、FLASHメモリチップFMB
は、メモリセル部Fにおけるアドレス信号ADRSが示
すメモリセルからデータDTF0〜データDTF15を読
み出す。この結果、入出力バッファOIF0〜入出力バ
ッファOIF15は、制御信号CTFが「L」レベルから
「H」レベルに遷移されたことにより、データDTF0
〜データDTF15をそれぞれデータ信号DQ0〜データ
信号DQ15として出力する。ここで、図14にはデータ
信号DQ0の出力状態(DF3)のみ示されている。
Then, the FLASH memory chip FMB
Reads data DTF0 to data DTF15 from the memory cell indicated by the address signal ADRS in the memory cell unit F. As a result, the input / output buffers OIF0 to OIF15 output the data DTF0 due to the transition of the control signal CTF from the “L” level to the “H” level.
To DTF15 are output as data signals DQ0 to DQ15, respectively. Here, FIG. 14 shows only the output state (DF3) of the data signal DQ0.

【0258】一方、図示しない外部機器がチップイネー
ブル信号CEsBを「L」レベルから「H」レベルへ遷
移した。このため、SRAMチップSMBは、図示しな
い外部機器により選択されていない。この結果、入出力
バッファ制御回路4Bは、制御信号CTSを「L」レベ
ルとして出力している。これにより、入出力バッファO
IS0〜入出力バッファOIS15は、出力がハイインピ
ーダンス状態となっている。このとき、入出力バッファ
制御回路4Bは、制御信号RDSを「L」レベルで、制
御信号TMSを「L」レベルで出力している。
On the other hand, an external device (not shown) has changed the chip enable signal CEsB from “L” level to “H” level. For this reason, the SRAM chip SMB has not been selected by an external device (not shown). As a result, the input / output buffer control circuit 4B outputs the control signal CTS as “L” level. Thereby, the input / output buffer O
The outputs of IS0 to input / output buffer OIS15 are in a high impedance state. At this time, the input / output buffer control circuit 4B outputs the control signal RDS at "L" level and the control signal TMS at "L" level.

【0259】次に、時刻t12において、図示しない外部
機器がチップイネーブル信号CEfBを「L」レベルか
ら「H」レベルへ遷移させる。これにより、FLASH
メモリチップFMBは、選択状態から非選択状態とな
る。この結果、ラッチLT1の端子Sに入力されるチッ
プイネーブル信号CEfBが「H」レベルとなり、端子
Rに入力されるチップイネーブル信号CEsBが「H」
レベルであるため、ラッチLT1は信号Cfを「L」レ
ベルのままとする。
Next, at time t12, an external device (not shown) changes the chip enable signal CEfB from the "L" level to the "H" level. With this, FLASH
The memory chip FMB changes from the selected state to the non-selected state. As a result, the chip enable signal CEfB input to the terminal S of the latch LT1 becomes “H” level, and the chip enable signal CEsB input to the terminal R becomes “H”.
Therefore, the latch LT1 keeps the signal Cf at the “L” level.

【0260】これにより、入出力バッファ制御回路3B
は、入力されるチップイネーブル信号CEfBが「H」
レベルとなるため、制御信号CTFを「H」レベルから
「L」レベルに遷移させる。そして、入出力バッファO
IF0〜入出力バッファOIF15は、出力がハイインピ
ーダンス状態となる。このとき、入出力バッファ制御回
路3Bは、制御信号RDFを「L」レベルで、制御信号
TMFを「H」レベルで出力している。
Thus, input / output buffer control circuit 3B
Indicates that the input chip enable signal CEfB is “H”
Therefore, the control signal CTF changes from “H” level to “L” level. And the input / output buffer O
The outputs of IF0 to input / output buffer OIF15 are in a high impedance state. At this time, the input / output buffer control circuit 3B outputs the control signal RDF at "L" level and the control signal TMF at "H" level.

【0261】従って、半導体記憶装置UTB1〜半導体
記憶装置UTBm内の入出力バッファOIF0〜入出力バ
ッファOIF15、及び入出力バッファOIS0〜入出力
バッファOIS15は、データが同時に出力される状態の
場合、先にチップイネーブル信号が「L」レベルとなっ
た方の出力状態がイネーブルとなる。そして、後からチ
ップイネーブル信号が「L」レベルとなった方の入出力
バッファの出力状態がハイインピーダンス状態となる。
このため、第三の実施形態による半導体記憶装置UTB
1〜半導体記憶装置UTBmは、入出力バッファOIF0
〜入出力バッファOIF15、及び入出力バッファOIS
0〜入出力バッファOIS15からの各々の出力信号の衝
突、すなわちデータ信号DQ0〜データ信号DQ15の衝
突による入出力バッファの破壊を防止できる。
Accordingly, the input / output buffers OIF0 to OIF15 and the input / output buffers OIS0 to OIS15 in the semiconductor memory devices UTB1 to UTBm are not connected to the input / output buffers OIS0 to OIS15 at the same time. The output state in which the chip enable signal becomes the “L” level is enabled. Then, the output state of the input / output buffer for which the chip enable signal has become the “L” level later becomes the high impedance state.
For this reason, the semiconductor memory device UTB according to the third embodiment
1 to the semiconductor storage device UTBm
~ I / O buffer OIF15 and I / O buffer OIS
The collision of each output signal from 0 to the input / output buffer OIS15, that is, the destruction of the input / output buffer due to the collision of the data signals DQ0 to DQ15 can be prevented.

【0262】また、上述した第三の実施形態による半導
体記憶装置UTB1〜半導体記憶装置UTBmは、半導体
素子としてメモリの場合を説明したが、出力端子を共有
する入出力バッファを有しているロジック回路の半導体
素子に対しても有効である。
Although the semiconductor memory devices UTB1 to UTBm according to the third embodiment have been described as memories as semiconductor elements, a logic circuit having an input / output buffer sharing an output terminal is described. It is also effective for the semiconductor device of the above.

【0263】さらに、上述した第三の実施形態による半
導体記憶装置UTB1〜半導体記憶装置UTBmを、共
に、OEB端子が共通化されている場合で説明したが、
OEB端子がそれぞれの半導体素子毎に設けられている
場合にも、一方の半導体素子のOEB端子が接地状態と
なる故障になったとき、双方の半導体素子の入出力バッ
ファを出力イネーブル状態となることを防止し、入出力
バッファの破壊を防ぐことが出来る。このとき、双方の
半導体素子の出力状態を制御するために、半導体素子の
OEB信号またはCEB信号のいずれかを互いの入出力
バッファ制御回路に入力させる。
Further, the semiconductor memory devices UTB1 to UTBm according to the third embodiment have been described in the case where the OEB terminals are shared.
Even when the OEB terminal is provided for each semiconductor element, when the OEB terminal of one semiconductor element is grounded, the input / output buffers of both semiconductor elements are set to the output enable state. And the destruction of the input / output buffer can be prevented. At this time, in order to control the output state of both the semiconductor elements, either the OEB signal or the CEB signal of the semiconductor elements is input to the respective input / output buffer control circuits.

【0264】また、さらに、上述した第三の実施形態の
半導体記憶装置UTB1〜半導体記憶装置UTBmは、テ
ストの場合を例に説明したが、本発明の半導体記憶装置
は、基板に実装した状態においても、他の半導体素子か
ら入出力バッファが同時に出力状態となる影響を受けた
場合、入出力バッファの故障を防止できる。
Further, the semiconductor memory devices UTB1 to UTBm of the third embodiment described above have been described by taking a test as an example. However, the semiconductor memory device of the present invention is mounted on a substrate. In addition, when the input / output buffer is simultaneously output from another semiconductor element, the input / output buffer can be prevented from failing.

【0265】さらに、また、上述した第三の実施形態の
半導体記憶装置UTB1〜半導体記憶装置UTBmは、半
導体素子の出力端子を出力端子DQ0〜出力端子DQ15
の16本で説明したが、出力端子は何本でも構わない。
Further, in the semiconductor memory devices UTB1 to UTBm of the third embodiment described above, the output terminals of the semiconductor elements are changed from the output terminals DQ0 to DQ15.
However, any number of output terminals may be used.

【0266】[0266]

【発明の効果】請求項1記載の発明によれば、出力端子
を共有する複数の半導体素子が1つのパッケージ内に封
止された半導体装置において、第一の半導体素子と、前
記第一の半導体素子に設けられた第一の出力バッファと
共通の出力端子に接続される第二の出力バッファを有す
る第二の半導体素子と、前記第一の半導体素子に供給さ
れる第一の制御信号に基づき、前記第一の出力バッファ
の出力状態を制御する第一の出力バッファ制御手段と、
前記第二の半導体素子に供給される第二の制御信号、及
び前記第一の制御信号に基づき、前記第二の出力バッフ
ァの出力状態を制御する第二の出力バッファ制御手段と
を具備するため、前記第一の出力バッファの制御状態に
応じて、前記第二の出力バッファの制御をおこなうの
で、第一の出力バッファと第二の出力バッファとを同時
に出力が有効な状態とする事を防止し、出力端子におけ
る複数のデータの衝突を防ぎ、第一の出力バッファと第
二の出力バッファとがデータの衝突により破壊されるこ
とを防止する効果がある。
According to the first aspect of the present invention, in a semiconductor device in which a plurality of semiconductor elements sharing an output terminal are sealed in one package, the first semiconductor element and the first semiconductor element are provided. A second semiconductor element having a second output buffer connected to a common output terminal with a first output buffer provided on the element, and a first control signal supplied to the first semiconductor element. A first output buffer control means for controlling an output state of the first output buffer,
A second control signal supplied to the second semiconductor element, and a second output buffer control means for controlling an output state of the second output buffer based on the first control signal. Since the second output buffer is controlled in accordance with the control state of the first output buffer, it is possible to prevent the first output buffer and the second output buffer from being in a state where output is simultaneously enabled. This has the effect of preventing collision of a plurality of data at the output terminal and preventing the first output buffer and the second output buffer from being destroyed by the data collision.

【0267】請求項2記載の発明によれば、前記第二の
出力バッファ制御手段が、前記第一の制御信号が前記第
一の出力バッファの出力を有効としているとき、前記第
二の制御信号が前記第二の出力バッファを有効とする状
態となった場合、この第二の出力バッファの出力状態を
ハイインピーダンス状態とするため、第一の出力バッフ
ァと第二の出力バッファとを同時に出力が有効な状態と
する事を防止し、出力端子における複数のデータの衝突
を防ぎ、第一の出力バッファと第二の出力バッファとが
データの衝突により破壊されることを防止する効果があ
る。
According to the second aspect of the present invention, when the second output buffer control means enables the output of the first output buffer by the first control signal, the second control signal is output from the second control signal. When the second output buffer is enabled, the output state of the second output buffer is set to a high impedance state, so that the first output buffer and the second output buffer are simultaneously output. This has the effect of preventing the valid state, preventing the collision of a plurality of data at the output terminal, and preventing the first output buffer and the second output buffer from being destroyed by the data collision.

【0268】請求項3記載の発明によれば、前記第一の
制御信号が前記第一の半導体素子の動作をイネーブル状
態とさせるか否かを制御する第一の素子選択信号と、前
記第一の出力バッファを有効とするか否かを制御する第
一の素子出力信号とで構成され、前記第二の制御信号が
前記第二の半導体素子の動作をイネーブル状態とさせる
か否かを制御する第二の素子選択信号と、前記第二の出
力バッファを有効とするか否かを制御する第二の素子出
力信号とで構成されているため、第一の素子選択信号に
基づき第二の出力バッファ制御手段が第二の出力バッフ
ァの出力状態を制御するので、第一の出力バッファと第
二の出力バッファとを同時に出力状態とする事を防止
し、出力端子における複数のデータの衝突を防ぎ、第一
の出力バッファと第二の出力バッファとがデータの衝突
により破壊する事を防止する効果がある。
According to the third aspect of the present invention, the first control signal controls whether or not the operation of the first semiconductor element is enabled, and the first element selection signal, And a first element output signal for controlling whether to enable or disable the output buffer of the second semiconductor element, and controls whether or not the second control signal enables the operation of the second semiconductor element. Since the second element selection signal and the second element output signal for controlling whether to validate the second output buffer, the second output based on the first element selection signal Since the buffer control means controls the output state of the second output buffer, it is possible to prevent the first output buffer and the second output buffer from being in the output state at the same time and to prevent collision of a plurality of data at the output terminal. , The first output buffer and the second The effect of the output buffer is prevented from broken by collision of the data.

【0269】請求項4記載の発明によれば、前記第一の
入出力制御手段が、前記第一の素子選択信号により第一
の半導体素子がイネーブル状態とされているとき、前記
第一の素子出力信号により第一の出力バッファを有効と
するか否かを制御し、第二の半導体素子がイネーブル状
態されているとき、前記第二の素子出力信号及び前記第
一の素子選択信号により第二の出力バッファを有効とす
るか否かを制御するため、第一の素子選択信号に基づき
第二の出力バッファ制御手段が第二の出力バッファの出
力状態を制御するので、第一の出力バッファと第二の出
力バッファとを同時に出力状態とする事を防止し、出力
端子における複数のデータの衝突を防ぎ、第一の出力バ
ッファと第二の出力バッファとがデータの衝突により破
壊する事を防止する効果がある。
According to the fourth aspect of the present invention, the first input / output control means controls the first element when the first semiconductor element is enabled by the first element selection signal. An output signal controls whether or not to enable the first output buffer, and when the second semiconductor element is enabled, the second element output signal and the second element selection signal enable the second semiconductor element to be activated. Since the second output buffer control means controls the output state of the second output buffer based on the first element selection signal to control whether or not to enable the output buffer of the first output buffer, Prevents the second output buffer from being in the output state at the same time, prevents multiple data collisions at the output terminal, and prevents the first output buffer and the second output buffer from being destroyed due to data collision. You There is an effect.

【0270】請求項5記載の発明によれば、出力端子を
共有する複数の半導体素子が1つのパッケージ内に封止
された半導体装置において、第一の半導体素子と、前記
第一の半導体素子に設けられた第一の出力バッファと共
通の出力端子に接続される第二の出力バッファを有する
第二の半導体素子と、前記第一の半導体素子に供給され
る第一の制御信号及び前記第二の半導体素子に供給され
る第二の制御信号基づき、前記第一の出力バッファの出
力状態を制御する第一の出力バッファ制御手段と、前記
第一の制御信号及び前記第二の制御信号に基づき、前記
第二の出力バッファの出力状態を制御する第二の出力バ
ッファ制御手段とを具備するため、前記第一の出力バッ
ファの制御状態に応じて、前記第二の出力バッファの制
御をおこない、または前記第二の出力バッファの制御状
態に応じて、前記第一の出力バッファの制御をおこなう
ので、第一の出力バッファと第二の出力バッファとを同
時に出力が有効な状態とされる事を防止し、出力端子に
おける複数のデータの衝突を防ぎ、第一の出力バッファ
と第二の出力バッファとがデータの衝突により破壊され
ることを防止する効果がある。
According to the fifth aspect of the present invention, in a semiconductor device in which a plurality of semiconductor elements sharing an output terminal are sealed in a single package, the first semiconductor element and the first semiconductor element may be provided. A second semiconductor element having a second output buffer connected to a common output terminal provided by the first output buffer provided, a first control signal supplied to the first semiconductor element, and the second semiconductor element; Based on a second control signal supplied to the semiconductor element, a first output buffer control means for controlling the output state of the first output buffer, based on the first control signal and the second control signal A second output buffer control means for controlling the output state of the second output buffer, to control the second output buffer according to the control state of the first output buffer, Ma Performs the control of the first output buffer according to the control state of the second output buffer, so that the output of the first output buffer and the second output buffer is simultaneously enabled. Thus, there is an effect that the first output buffer and the second output buffer are prevented from being destroyed due to the data collision.

【0271】請求項6記載の発明によれば、前記第一の
制御信号が第一の出力バッファの出力を有効とする状態
であるとき、前記第二の制御信号が第二の出力バッファ
を有効とする状態となった場合、及び前記第二の制御信
号が第二の出力バッファの出力を有効とする状態である
とき、前記第一の制御信号が第一の出力バッファを有効
とする状態となった場合、前記第一の出力バッファ制御
手段が前記第一の出力バッファをハイインピーダンス状
態とし、前記第二の出力バッファ制御手段が前記第二の
出力バッファの出力状態をハイインピーダンス状態とす
るため、双方の出力バッファが有効状態となるとき、双
方の出力バッファをハイインピーダンス状態とするの
で、第一の出力バッファと第二の出力バッファとを同時
に出力が有効な状態とされる事を防止し、出力端子にお
ける複数のデータの衝突を防ぎ、第一の出力バッファと
第二の出力バッファとがデータの衝突により破壊される
ことを防止する効果がある。
According to the sixth aspect of the present invention, when the first control signal enables the output of the first output buffer, the second control signal enables the second output buffer. And when the second control signal is in a state of validating the output of the second output buffer, when the first control signal is in a state of validating the first output buffer The first output buffer control means sets the first output buffer to a high impedance state, and the second output buffer control means sets the output state of the second output buffer to a high impedance state. When both output buffers are in a valid state, both output buffers are in a high impedance state, so that the first output buffer and the second output buffer are simultaneously in a state in which output is valid. Is the possible to prevent, prevent collision of a plurality of data at the output terminal, the first output buffer and the second output buffer is effective to prevent being damaged by a collision of the data.

【0272】請求項7記載の発明によれば、請求項5記
載の半導体装置において、第一の出力バッファ及び第二
の出力バッファが共にハイインピーダンス状態のとき、
先に前記第一の制御信号が第一の出力バッファの出力を
有効とする状態となった場合、前記第二の出力バッファ
制御手段が前記第二の制御信号が第二の出力バッファを
有効とする状態となっても第二の出力バッファをハイイ
ンピーダンス状態のままとし、逆に、先に前記第二の制
御信号が第二の出力バッファの出力を有効とする状態と
なった場合、前記第一の出力バッファ制御手段が前記第
一の制御信号が第一の出力バッファを有効とする状態と
なっても第一の出力バッファをハイインピーダンス状態
のままとするため、例えば先に第一の出力バッファが第
一の制御信号により有効とされると、その後に第一の制
御信号により第二の出力バッファを有効としようとして
も、第二の出力バッファがハイインピーダンス状態のた
め、第一の出力バッファと第二の出力バッファとを同時
に出力が有効な状態とされる事を防止し、出力端子にお
ける複数のデータの衝突を防ぎ、第一の出力バッファと
第二の出力バッファとがデータの衝突により破壊される
ことを防止する効果がある。
According to the seventh aspect of the present invention, in the semiconductor device according to the fifth aspect, when both the first output buffer and the second output buffer are in a high impedance state,
If the first control signal is in a state where the output of the first output buffer is made valid first, the second output buffer control means sets the second control signal to enable the second output buffer. The second output buffer is kept in a high impedance state even when the state of the second output buffer is in the state where the output of the second output buffer is made valid first. One output buffer control means keeps the first output buffer in a high impedance state even when the first control signal makes the first output buffer valid. If the buffer is enabled by the first control signal, and the second output buffer is subsequently enabled by the first control signal, since the second output buffer is in a high impedance state, the first output Ba The output of the first output buffer and the second output buffer are prevented from being simultaneously enabled, the collision of a plurality of data at the output terminal is prevented, and the first output buffer and the second output buffer collide with each other. Has the effect of preventing it from being destroyed.

【0273】請求項8記載の発明によれば、請求項7記
載の半導体装置において、前記第一の出力バッファと制
御手段前記第二の出力バッファ制御手段とが、前記第一
の制御信号及び前記第二の制御信号のどちらが先にそれ
ぞれ第一の出力バッファ及び第二の出力バッファを有効
とする状態となったかを記憶するラッチ回路を各々具備
するため、例えば他方の第一の出力バッファが有効状態
となったことを、第二の出力バッファ制御手段内のラッ
チ回路が記憶しているので、第二の出力バッファを有効
とする第二の制御信号が入力されても、第二の出力バッ
ファが出力状態をハイインピーダンスのままとするた
め、第一の出力バッファと第二の出力バッファとを同時
に出力が有効な状態とされる事を防止し、出力端子にお
ける複数のデータの衝突を防ぎ、第一の出力バッファと
第二の出力バッファとがデータの衝突により破壊される
ことを防止する効果がある。
According to an eighth aspect of the present invention, in the semiconductor device according to the seventh aspect, the first output buffer and the control means are configured to control the first control signal and the second Since each of the second control signals includes a latch circuit for storing which of the first output buffer and the second output buffer is enabled first, for example, the other first output buffer is enabled. Since the latch state is stored in the second output buffer control means in the second output buffer control means, even if a second control signal for enabling the second output buffer is input, the second output buffer Keeps the output state at high impedance, thereby preventing the first output buffer and the second output buffer from being in an output valid state at the same time, and transmitting a plurality of data at the output terminal. Prevent collision, the first output buffer and the second output buffer is effective to prevent being damaged by a collision of the data.

【0274】請求項9記載の発明によれば、前記第一の
制御信号が前記第一の半導体素子の動作をイネーブル状
態とさせるか否かを制御する第一の素子選択信号と、第
一の出力バッファを有効とするか否かを制御する第一の
素子出力信号とで構成され、前記第二の制御信号が第二
の半導体素子の動作をイネーブル状態とさせるか否かを
制御する第二の素子選択信号と、第二の出力バッファを
有効とするか否かを制御する第二の素子出力信号とで構
成されているため、第一の素子選択信号に基づき第二の
出力バッファ制御手段が第二の出力バッファの出力状態
を制御し、第二の素子選択信号に基づき第一の出力バッ
ファ制御手段が第一の出力バッファの出力状態を制御す
るので、第一の出力バッファと第二の出力バッファとを
同時に出力状態とする事を防止し、出力端子における複
数のデータの衝突を防ぎ、第一の出力バッファと第二の
出力バッファとがデータの衝突により破壊する事を防止
する効果がある
According to the ninth aspect, the first control signal controls whether or not the operation of the first semiconductor element is enabled, A first element output signal for controlling whether to enable the output buffer, and a second element for controlling whether the second control signal enables the operation of the second semiconductor element. And the second output buffer control means based on the first element selection signal because the second output buffer control means Controls the output state of the second output buffer, and the first output buffer control means controls the output state of the first output buffer based on the second element selection signal. Output buffer and output state simultaneously To prevent that that prevents a collision of a plurality of data at the output terminal, the first output buffer and the second output buffer is effective to prevent from being destroyed by a collision of the data

【0275】請求項10記載の発明によれば、前記第一
の入出力制御手段が、前記第一の素子選択信号により第
一の半導体素子がイネーブル状態とされているとき、前
記第一の素子出力信号及び前記第二の素子選択信号によ
り第一の出力バッファを有効とするか否かを制御し、第
二の半導体素子がイネーブル状態されているとき、前記
第二の素子出力信号及び前記第一の素子選択信号により
第一の出力バッファを有効とするか否かを制御するた
め、第一の素子選択信号に基づき第二の出力バッファ制
御手段が第二の出力バッファの出力状態を制御し、第二
の素子選択信号に基づき第一の出力バッファ制御手段が
第一の出力バッファの出力状態を制御するので、第一の
出力バッファと第二の出力バッファとを同時に出力状態
とする事を防止し、出力端子における複数のデータの衝
突を防ぎ、第一の出力バッファと第二の出力バッファと
がデータの衝突により破壊する事を防止する効果があ
る。
According to the tenth aspect, when the first semiconductor element is enabled by the first element selection signal, the first input / output control means sets the first element. The output signal and the second element selection signal controls whether to enable the first output buffer, and when the second semiconductor element is enabled, the second element output signal and the second In order to control whether or not to enable the first output buffer by one element selection signal, the second output buffer control means controls the output state of the second output buffer based on the first element selection signal. Since the first output buffer control means controls the output state of the first output buffer based on the second element selection signal, the first output buffer and the second output buffer are simultaneously set to the output state. Prevent, Preventing collision of a plurality of data in the force terminal, a first output buffer and the second output buffer is effective to prevent from being destroyed by a collision of the data.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の一実施形態による半導体記憶装置の
構成を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention.

【図2】 図1に示す出力バッファOIF0(OIF1〜
OIF15,OIS0〜OIS15)の構成を示すブロック
図である。
FIG. 2 shows an output buffer OIF0 (OIF1 to
FIG. 2 is a block diagram showing a configuration of OIF15, OIS0 to OIS15).

【図3】 図1(図6,図9,図11)に示す入出力バ
ッファ制御回路3の構成を示すブロック図である。
FIG. 3 is a block diagram showing a configuration of the input / output buffer control circuit 3 shown in FIG. 1 (FIGS. 6, 9, and 11).

【図4】 図1に示す入出力バッファ制御回路4の構成
を示すブロック図である。
FIG. 4 is a block diagram showing a configuration of an input / output buffer control circuit 4 shown in FIG.

【図5】 本発明の第一の実施形態による半導体記憶装
置の動作を示すフローチャートである。
FIG. 5 is a flowchart showing an operation of the semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention.

【図6】 本発明の第一の実施形態による半導体記憶装
置の変形例の構成を示すブロック図である。
FIG. 6 is a block diagram showing a configuration of a modification of the semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention.

【図7】 図6に示す入出力バッファ制御回路3Aの構
成を示すブロック図である。
FIG. 7 is a block diagram showing a configuration of an input / output buffer control circuit 3A shown in FIG.

【図8】 図6に示す入出力バッファ制御回路4Aの構
成を示すブロック図である。
8 is a block diagram showing a configuration of an input / output buffer control circuit 4A shown in FIG.

【図9】 本発明の第二の実施形態による半導体記憶装
置の構成を示すブロック図である。
FIG. 9 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention.

【図10】 本発明の第二の実施形態による半導体記憶
装置の動作を示すフローチャートである。
FIG. 10 is a flowchart showing an operation of the semiconductor memory device according to the second embodiment of the present invention.

【図11】 本発明の第三の実施形態による半導体記憶
装置の構成を示すブロック図である。
FIG. 11 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to a third embodiment of the present invention.

【図12】 図11に示す入出力バッファ制御回路3B
の構成を示すブロック図である。
FIG. 12 shows an input / output buffer control circuit 3B shown in FIG.
FIG. 3 is a block diagram showing the configuration of FIG.

【図13】 図11に示す入出力バッファ制御回路4B
の構成を示すブロック図である。
FIG. 13 shows an input / output buffer control circuit 4B shown in FIG.
FIG. 3 is a block diagram showing the configuration of FIG.

【図14】 本発明の第三の実施形態による半導体記憶
装置の動作を示すフローチャートである。
FIG. 14 is a flowchart showing the operation of the semiconductor memory device according to the third embodiment of the present invention.

【図15】 スタックMCP型半導体記憶装置の内部の
構造を示す概念図である。
FIG. 15 is a conceptual diagram showing an internal structure of a stacked MCP type semiconductor memory device.

【図16】 金属ボール106と、SRAMチップ10
1(SM,SMA,SMB)のボンディングパッド及び
FLASHメモリチップ102(FM,FMA,FM
B)のボンディングパッドとの電気的な接続を示すパタ
ーン図である。
FIG. 16 shows a metal ball 106 and an SRAM chip 10
1 (SM, SMA, SMB) bonding pad and FLASH memory chip 102 (FM, FMA, FM)
FIG. 4B is a pattern diagram showing an electrical connection with a bonding pad of FIG.

【図17】 従来の半導体記憶装置のバーインテストに
おける接続を示す概念図である。
FIG. 17 is a conceptual diagram showing a connection in a burn-in test of a conventional semiconductor memory device.

【図18】 スタックMCP型半導体記憶装置のバーイ
ンテストにおける接続を示す概念図である。
FIG. 18 is a conceptual diagram showing a connection in a burn-in test of the stacked MCP type semiconductor memory device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,2 アドレスデコーダ 3,4,3A,4A,3B,4B 入出力バッファ制御
回路 F,SS メモリセル部 FM,FMA,FMB FLASHメモリチップ SM,SMA,SMB SRAMチップ OIF0,…,OIF15 入出力バッファ OIS0,…,OIS15 入出力バッファ UT1,UT2,…,UTm 半導体記憶装置 UTT1,UTT2,…,UTTm 半導体記憶装置 UTA1,UTA2,…,UTAm 半導体記憶装置 UTB1,UTB2,…,UTBm 半導体記憶装置
1, 2 address decoder 3, 4, 3A, 4A, 3B, 4B input / output buffer control circuit F, SS memory cell unit FM, FMA, FMB FLASH memory chip SM, SMA, SMB SRAM chip OIF0, ..., OIF15 input / output buffer OIS0,..., OIS15 I / O buffer UT1, UT2,..., UTm Semiconductor storage device UTT1, UTT2,.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5B015 HH01 JJ18 JJ44 KB33 RR07 5B025 AA01 AA07 AD05 AD15 AE09 5L106 AA02 AA10 DD01 DD35 EE03 GG05  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 5B015 HH01 JJ18 JJ44 KB33 RR07 5B025 AA01 AA07 AD05 AD15 AE09 5L106 AA02 AA10 DD01 DD35 EE03 GG05

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 出力端子を共有する複数の半導体素子が
1つのパッケージ内に封止された半導体装置において、 第一の半導体素子と、 前記第一の半導体素子に設けられた第一の出力バッファ
と共通の出力端子に接続される第二の出力バッファを有
する第二の半導体素子と、 前記第一の半導体素子に供給される第一の制御信号に基
づき、前記第一の出力バッファの出力状態を制御する第
一の出力バッファ制御手段と、 前記第二の半導体素子に供給される第二の制御信号、及
び前記第一の制御信号に基づき、前記第二の出力バッフ
ァの出力状態を制御する第二の出力バッファ制御手段と
を具備することを特徴とする半導体装置。
1. A semiconductor device in which a plurality of semiconductor elements sharing an output terminal are sealed in one package, wherein: a first semiconductor element; and a first output buffer provided in the first semiconductor element. A second semiconductor device having a second output buffer connected to a common output terminal, and an output state of the first output buffer based on a first control signal supplied to the first semiconductor device. A first output buffer control means for controlling a second control signal supplied to the second semiconductor element, and an output state of the second output buffer based on the first control signal. A semiconductor device comprising: a second output buffer control unit.
【請求項2】 前記第二の出力バッファ制御手段が、前
記第一の制御信号が第一の出力バッファの出力を有効と
しているとき、前記第二の制御信号が前記第二の出力バ
ッファを有効とする状態となった場合、この第二の出力
バッファの出力状態をハイインピーダンス状態とするこ
とを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
2. The second output buffer control means, wherein the second control signal activates the second output buffer when the first control signal activates the output of the first output buffer. 2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the output state of the second output buffer is set to a high-impedance state when the state described above is satisfied.
【請求項3】 前記第一の制御信号が前記第一の半導体
素子の動作をイネーブル状態とさせるか否かを制御する
第一の素子選択信号と、前記第一の出力バッファを有効
とするか否かを制御する第一の素子出力信号とで構成さ
れ、前記第二の制御信号が前記第二の半導体素子の動作
をイネーブル状態とさせるか否かを制御する第二の素子
選択信号と、前記第二の出力バッファを有効とするか否
かを制御する第二の素子出力信号とで構成されているこ
とを特徴とする請求項1または請求項2に記載の半導体
装置。
3. A first element selection signal for controlling whether or not the first control signal enables the operation of the first semiconductor element, and whether the first output buffer is enabled. A first element output signal that controls whether or not the second element selection signal controls whether or not the second control signal enables the operation of the second semiconductor element. 3. The semiconductor device according to claim 1, further comprising a second element output signal for controlling whether or not the second output buffer is enabled.
【請求項4】 前記第一の入出力制御手段が、前記第一
の素子選択信号により第一の半導体素子がイネーブル状
態とされているとき、前記第一の素子出力信号により第
一の出力バッファを有効とするか否かを制御し、第二の
半導体素子がイネーブル状態されているとき、前記第二
の素子出力信号及び前記第一の素子選択信号により第二
の出力バッファを有効とするか否かを制御することを特
徴とする請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の半
導体装置。
4. The first output buffer according to the first element output signal when the first semiconductor element is enabled by the first element selection signal. Whether the second output buffer is enabled by the second element output signal and the first element selection signal when the second semiconductor element is enabled. 4. The semiconductor device according to claim 1, wherein the control is performed.
【請求項5】 出力端子を共有する複数の半導体素子が
1つのパッケージ内に封止された半導体装置において、 第一の半導体素子と、 前記第一の半導体素子に設けられた第一の出力バッファ
と共通の出力端子に接続される第二の出力バッファを有
する第二の半導体素子と、 前記第一の半導体素子に供給される第一の制御信号及び
前記第二の半導体素子に供給される第二の制御信号基づ
き、前記第一の出力バッファの出力状態を制御する第一
の出力バッファ制御手段と、 前記第一の制御信号及び前記第二の制御信号に基づき、
前記第二の出力バッファの出力状態を制御する第二の出
力バッファ制御手段とを具備することを特徴とする半導
体装置。
5. A semiconductor device in which a plurality of semiconductor elements sharing an output terminal are sealed in one package, wherein: a first semiconductor element; and a first output buffer provided in the first semiconductor element. A second semiconductor element having a second output buffer connected to a common output terminal, and a first control signal supplied to the first semiconductor element and a second control signal supplied to the second semiconductor element. Based on the second control signal, first output buffer control means for controlling the output state of the first output buffer, based on the first control signal and the second control signal,
A semiconductor device comprising: a second output buffer control unit that controls an output state of the second output buffer.
【請求項6】 前記第一の制御信号が第一の出力バッフ
ァの出力を有効とする状態であるとき、前記第二の制御
信号が第二の出力バッファを有効とする状態となった場
合、及び前記第二の制御信号が第二の出力バッファの出
力を有効とする状態であるとき、前記第一の制御信号が
第一の出力バッファを有効とする状態となった場合、前
記第一の出力バッファ制御手段が前記第一の出力バッフ
ァをハイインピーダンス状態とし、前記第二の出力バッ
ファ制御手段が前記第二の出力バッファの出力状態をハ
イインピーダンス状態とすることを特徴とする請求項5
記載の半導体装置。
6. When the first control signal is in a state of validating the output of the first output buffer, and when the second control signal is in a state of validating the second output buffer, And when the second control signal is in the state of validating the output of the second output buffer, when the first control signal is in the state of validating the first output buffer, the first control signal 6. The output buffer control means sets the first output buffer to a high impedance state, and the second output buffer control means changes the output state of the second output buffer to a high impedance state.
13. The semiconductor device according to claim 1.
【請求項7】 第一の出力バッファ及び第二の出力バッ
ファが共にハイインピーダンス状態のとき、先に前記第
一の制御信号が第一の出力バッファの出力を有効とする
状態となった場合、前記第二の出力バッファ制御手段が
前記第二の制御信号が第二の出力バッファを有効とする
状態となっても第二の出力バッファをハイインピーダン
ス状態のままとし、逆に、先に前記第二の制御信号が第
二の出力バッファの出力を有効とする状態となった場
合、前記第一の出力バッファ制御手段が前記第一の制御
信号が第一の出力バッファを有効とする状態となっても
第一の出力バッファをハイインピーダンス状態のままと
することを特徴とする請求項5記載の半導体装置。
7. When both the first output buffer and the second output buffer are in a high-impedance state, and the first control signal first makes the output of the first output buffer valid, The second output buffer control means keeps the second output buffer in a high impedance state even when the second control signal makes the second output buffer valid, and conversely, When the second control signal is in a state of validating the output of the second output buffer, the first output buffer control means is in a state in which the first control signal validates the first output buffer. 6. The semiconductor device according to claim 5, wherein the first output buffer remains in a high impedance state.
【請求項8】 前記第一の出力バッファと制御手段前記
第二の出力バッファ制御手段とが、前記第一の制御信号
及び前記第二の制御信号のどちらが先にそれぞれ第一の
出力バッファ及び第二の出力バッファを有効とする状態
となったかを記憶するラッチ回路を各々具備することを
特徴とする請求項7記載の半導体装置。
8. The first output buffer and the control means, wherein the second output buffer control means determines which one of the first control signal and the second control signal is to be transmitted first to the first output buffer and the second control signal, respectively. 8. The semiconductor device according to claim 7, further comprising a latch circuit for storing whether the second output buffer is enabled.
【請求項9】 前記第一の制御信号が前記第一の半導体
素子の動作をイネーブル状態とさせるか否かを制御する
第一の素子選択信号と、第一の出力バッファを有効とす
るか否かを制御する第一の素子出力信号とで構成され、
前記第二の制御信号が第二の半導体素子の動作をイネー
ブル状態とさせるか否かを制御する第二の素子選択信号
と、第二の出力バッファを有効とするか否かを制御する
第二の素子出力信号とで構成されていることを特徴とす
る請求項5ないし請求項8のいずれかに記載の半導体装
置。
9. A first element selection signal for controlling whether or not the first control signal enables an operation of the first semiconductor element, and whether or not to enable a first output buffer. And a first element output signal for controlling the
A second element selection signal for controlling whether the second control signal enables the operation of the second semiconductor element and a second element for controlling whether to enable the second output buffer; 9. The semiconductor device according to claim 5, wherein the semiconductor device comprises:
【請求項10】 前記第一の入出力制御手段が、前記第
一の素子選択信号により第一の半導体素子がイネーブル
状態とされているとき、前記第一の素子出力信号及び前
記第二の素子選択信号により第一の出力バッファを有効
とするか否かを制御し、第二の半導体素子がイネーブル
状態されているとき、前記第二の素子出力信号及び前記
第一の素子選択信号により第一の出力バッファを有効と
するか否かを制御することを特徴とする請求項5ないし
請求項9のいずれかに記載の半導体装置。
10. The first element output signal and the second element when the first semiconductor element is enabled by the first element selection signal. A control signal controls whether or not to enable the first output buffer. When the second semiconductor device is enabled, the first output buffer is enabled by the second device output signal and the first device selection signal. 10. The semiconductor device according to claim 5, wherein whether the output buffer is enabled is controlled.
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