JP2000227649A - Processing method for heat developable photosensitive material - Google Patents

Processing method for heat developable photosensitive material

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JP2000227649A
JP2000227649A JP11029907A JP2990799A JP2000227649A JP 2000227649 A JP2000227649 A JP 2000227649A JP 11029907 A JP11029907 A JP 11029907A JP 2990799 A JP2990799 A JP 2990799A JP 2000227649 A JP2000227649 A JP 2000227649A
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JP
Japan
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group
photothermographic material
processing
silver
silver halide
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Atsushi Aoki
淳 青木
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Konica Minolta Inc
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Konica Minolta Inc
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Publication date
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  • Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
  • Photographic Developing Apparatuses (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a very stable processing method for a heat developable phbtosensitive material. SOLUTION: A heat developable photosensitive material having at least an organic silver salt a silver halide and a reducing agent on the substrate is imagewise exposed and processed with an automatic processing machine. The development temperature and development time are determined as functions of the amount of a residual solvent in the photosensitive material and a processing area developed per unit time or as functions of light exposure on the photosensitive material and a processing area developed per unit time and control is carried out.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は熱現像感光材料の処
理方法に関するものであり、特に熱現像感光材料の処理
において用いる自動現像機の現像温度や現像時間を変え
ることで、処理安定性が著しく改良された処理方法に関
するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for processing a photothermographic material. In particular, the processing stability of the photothermographic material is remarkably changed by changing a developing temperature and a developing time of an automatic developing machine used for processing the photothermographic material. It relates to an improved processing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から印刷製版や医療の分野では、画
像形成材料の湿式処理に伴う廃液が、作業性の上で問題
となっており、近年では環境保全、省スペースの観点か
らも処理廃液の減量が強く望まれている。そこで、レー
ザー・イメージセッターやレーザー・イメージャーによ
り効率的な露光が可能で、高解像度で鮮明な黒色画像を
形成することができる写真技術用途の光熱写真材料に関
する技術が必要とされてきた。
2. Description of the Related Art Conventionally, in the field of printing plate making and medical treatment, waste liquids caused by wet processing of image forming materials have been a problem in terms of workability. There is a strong demand for weight loss. Therefore, there has been a need for a technique relating to photothermographic materials for photographic technology, which enables efficient exposure with a laser imagesetter or laser imager and can form a high-resolution, clear black image.

【0003】このための技術として熱現像処理法を用い
て写真画像を形成する熱現像感光材料は、例えば米国特
許第3,152,904号、同3,457,075号、
及びD.モーガン(Morgan)とB.シェリー(S
hely)による「熱によって処理される銀システム
(Thermally Processed Silv
er Systems)」(イメージング・プロセッシ
ーズ・アンド・マテリアルズ(Imaging Pro
cesses and Materials)Nebl
ette 第8版、スタージ(Sturge)、V.ウ
ォールワース(Walworth)、A.シェップ(S
hepp)編集、第2頁、1969年)に開示されてい
る。
As a technique for this purpose, a photothermographic material for forming a photographic image by using a heat development processing method is disclosed in, for example, US Pat. Nos. 3,152,904 and 3,457,075.
And D. Morgan and B.M. Shelley (S
hely), “Thermally Processed Silver.
er Systems) "(Imaging Pros and Materials (Imaging Pro)
cesses and Materials) Nebl
ette 8th edition, Sturge, V.E. Walworth, A .; Shepp (S
hepp), ed., page 2, 1969).

【0004】しかし、自動現像機で熱現像処理をする際
に、従来のように熱現像写真感光材料の処理面積だけで
現像温度や現像時間を制御する方法で現像処理を行う
と、現像処理条件が不安定な条件で現像処理を行うこと
になり、写真性能等に大きな影響を与えることになる。
[0004] However, when the heat development processing is performed by an automatic developing machine, if the development processing is performed by controlling the development temperature and the development time only by the processing area of the heat-developable photographic photosensitive material as in the related art, the development processing conditions Is subjected to development processing under unstable conditions, which greatly affects photographic performance and the like.

【0005】したがって、処理安定性が大幅に向上した
熱現像感光材料の現像処理方法の開発が強く望まれてい
た。
Therefore, there has been a strong demand for the development of a method for developing a photothermographic material having significantly improved processing stability.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の事情に
鑑みてなされたものであり、その目的は、熱現像感光材
料の極めて安定な現像処理方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide an extremely stable developing method of a photothermographic material.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、 支持体上に少なくとも有機銀塩とハロゲン化銀と還
元剤を有する熱現像感光材料を像様露光後、自動現像機
を用い、現像温度及び現像時間を、該感光材料の残存溶
媒量および単位時間に現像処理される処理面積の関数と
して決定し、制御を行う熱現像感光材料の処理方法、 支持体上に少なくとも有機銀塩とハロゲン化銀と還
元剤を有する熱現像感光材料を像様露光後、自動現像機
を用い、現像温度及び現像時間を、該感光材料の露光量
および単位時間に現像処理される処理面積の関数として
決定し、制御を行う熱現像感光材料の処理方法、及び
、において処理される熱現像感光材料が前記一般式
〔H〕で表されるヒドラジン化合物を含有すること、に
より達成される。
An object of the present invention is to provide a photothermographic material having at least an organic silver salt, a silver halide and a reducing agent on a support, imagewise exposing the same to an image, and developing the resulting image by using an automatic developing machine. Temperature and development time are determined as a function of the amount of residual solvent in the light-sensitive material and the processing area to be processed in a unit time, and a method for processing the heat-developable light-sensitive material, wherein at least an organic silver salt and a halogen are provided on a support. After imagewise exposing the photothermographic material having silver halide and a reducing agent, the developing temperature and the developing time are determined as a function of the exposure amount of the photosensitive material and the processing area to be developed per unit time using an automatic developing machine. This is achieved by a method for controlling a photothermographic material, wherein the photothermographic material to be processed contains the hydrazine compound represented by the general formula [H].

【0008】以下、本発明について詳細に説明する。Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0009】熱現像感光材料の詳細は前述のとおり例え
ば米国特許第3,152,904号、同3,457,0
75号、及びD.モーガン(Morgan)による「ド
ライシルバー写真材料(Dry Silver Pho
tographic Material)」やD.モー
ガン(Morgan)とB.シェリー(Shely)に
よる「熱によって処理される銀システム(Therma
lly Processed SilverSyste
ms)」(イメージング・プロセッシーズ・アンド・マ
テリアルズ(Imaging Processes a
nd Materials)Neblette 第8
版、スタージ(Sturge)、V.ウォールワース
(Walworth)、A.シェップ(Shepp)編
集、第2頁、1969年)等に開示されている。その中
でも本発明においては、感光材料を80〜140℃で熱
現像することで画像を形成させ、定着を行わないことが
特徴である。そのため、未露光部に残ったハロゲン化銀
や有機銀塩は除去されずにそのまま感光材料中に残る。
Details of the photothermographic material are described in, for example, US Pat. Nos. 3,152,904 and 3,457,0.
No. 75; Morgan (Dry Silver Pho)
Graphic Material) "and D.C. Morgan and B.M. "The Silver System Treated by Heat (Therma)" by Shelly
llly Processed SilverSystem
ms) "(Imaging Processes and Materials
nd Materials) Neblette No. 8
Plate, Sturge, V.S. Walworth, A .; Shepp, 2nd page, 1969) and the like. Among them, the present invention is characterized in that an image is formed by thermally developing a photosensitive material at 80 to 140 ° C., and no fixing is performed. Therefore, the silver halide and the organic silver salt remaining in the unexposed area remain in the photosensitive material without being removed.

【0010】本発明の現像処理方法を実施する現像処理
装置は、熱現像写真感光材料の露光量および残存溶媒量
に関して受け取った情報に基づいて、現像温度や現像時
間を計算し供給するコンピューターを有する化学薬品管
理システムを含んでなる。イメージセッターと処理装置
との間で情報の伝達がなされるので、露光量や残存溶媒
量に関する情報を化学薬品システムに供給することが出
来る。また、単位時間に現像処理される熱現像感光材料
の平均的量に関する情報は、所定の時間で現像処理装置
内を通過する所定の面積シートの数を検出するセンサー
から、現像処理装置内で生じさせることができる。本発
明は、自動現像機の現像温度や現像時間を、現像処理さ
れる熱現像感光材料の露光量や残存溶媒量の信号の変化
に応じて決定するものである。
The developing apparatus for carrying out the developing method of the present invention has a computer which calculates and supplies a developing temperature and a developing time based on information received on the exposure amount and the residual solvent amount of the photothermographic material. Comprising a chemical management system. Since information is transmitted between the imagesetter and the processing device, it is possible to supply information on the amount of exposure and the amount of residual solvent to the chemical system. The information on the average amount of the photothermographic material processed in the unit time is generated in the developing device from a sensor that detects the number of sheets having a predetermined area passing through the developing device in a predetermined time. Can be done. According to the present invention, the developing temperature and the developing time of the automatic developing machine are determined according to the change of the signal of the exposure amount and the residual solvent amount of the photothermographic material to be processed.

【0011】処理される感光材料は前記一般式〔H〕で
表されるヒドラジン誘導体を含有するものが好ましい。
The photosensitive material to be processed preferably contains a hydrazine derivative represented by the above general formula [H].

【0012】一般式〔H〕において、A0で表される脂
肪族基は好ましくは炭素数1〜30のものであり、特に
炭素数1〜20の直鎖、分岐又は環状のアルキル基が好
ましく、例えばメチル基、エチル基、t−ブチル基、オ
クチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基が挙げられ、
これらは更に適当な置換基(例えばアリール基、アルコ
キシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリール
チオ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、スルファモ
イル基、アシルアミノ基、ウレイド基等)で置換されて
いてもよい。
In the general formula [H], the aliphatic group represented by A 0 preferably has 1 to 30 carbon atoms, and particularly preferably a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. For example, methyl group, ethyl group, t-butyl group, octyl group, cyclohexyl group, benzyl group,
These may be further substituted with a suitable substituent (for example, aryl group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, sulfoxy group, sulfonamide group, sulfamoyl group, acylamino group, ureido group, etc.).

【0013】一般式〔H〕において、A0で表される芳
香族基は、単環又は縮合環のアリール基が好ましく、例
えばベンゼン環又はナフタレン環が挙げられ、A0で表
される複素環基としては、単環又は縮合環で窒素、硫
黄、酸素原子から選ばれる少なくとも一つのヘテロ原子
を含む複素環が好ましく、例えばピロリジン環、イミダ
ゾール環、テトラヒドロフラン環、モルホリン環、ピリ
ジン環、ピリミジン環、キノリン環、チアゾール環、ベ
ンゾチアゾール環、チオフェン環、フラン環が挙げら
れ、A0で表される−G0−D0基において、G0は−CO
−基、−COCO−基、−CS−基、−C(=NG
11)−基、−SO−基、−SO2−基又は−P(O)
(G11)−基を表す。G1は単なる結合手、−O−
基、−S−基又は−N(D1)−基を表し、D1は脂肪族
基、芳香族基、複素環基又は水素原子を表し、分子内に
複数のD1が存在する場合、それらは同じであっても異
なってもよい。D0は水素原子、脂肪族基、芳香族基、
複素環基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表し、好ましい
0としては水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ア
ミノ基等が挙げられる。A0として特に好ましいものは
アリール基及び複素環基であり、A0の芳香族基及び複
素環基は置換基を有していてもよく、特に好ましい基と
しては、pKa7〜11の酸性基を有する置換基で具体
的にはスルホンアミド基、ヒドロキシル基、メルカプト
基等が挙げられる。
In the general formula [H], the aromatic group represented by A 0 is preferably a monocyclic or condensed-ring aryl group, such as a benzene ring or a naphthalene ring, and a heterocyclic group represented by A 0. The group is preferably a heterocyclic ring containing at least one heteroatom selected from nitrogen, sulfur, and oxygen atom in a single ring or a condensed ring, for example, a pyrrolidine ring, imidazole ring, tetrahydrofuran ring, morpholine ring, pyridine ring, pyrimidine ring, a quinoline ring, a thiazole ring, a benzothiazole ring, a thiophene ring, a furan ring, and, in -G 0 -D 0 group represented by A 0, G 0 is -CO
Group, -COCO- group, -CS- group, -C (= NG
1 D 1) - group, -SO- group, -SO 2 - group or -P (O)
(G 1 D 1 ) — represents a group. G 1 is a mere bond, -O-
A group, —S— group or —N (D 1 ) — group, wherein D 1 represents an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group or a hydrogen atom, and when a plurality of D 1 are present in the molecule, They can be the same or different. D 0 is a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group,
It represents a heterocyclic group, an amino group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, or an arylthio group, and preferable D 0 includes a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an amino group, and the like. Particularly preferred as A 0 are an aryl group and a heterocyclic group, and the aromatic group and the heterocyclic group of A 0 may have a substituent. Particularly preferred groups include an acidic group having a pKa of 7 to 11. Specific examples of the substituents include a sulfonamide group, a hydroxyl group, and a mercapto group.

【0014】又、一般式〔H〕において、A0は耐拡散
基又はハロゲン化銀吸着基を少なくとも一つ含むことが
好ましい。耐拡散基としてはカプラー等の不動性写真用
添加剤にて常用されるバラスト基が好ましく、バラスト
基としては写真的に不活性であるアルキル基、アルケニ
ル基、アルキニル基、アルコキシ基、フェニル基、フェ
ノキシ基、アルキルフェノキシ基等が挙げられ、置換基
部分の炭素数の合計は8以上であることが好ましい。
In the general formula [H], A 0 preferably contains at least one diffusion-resistant group or a silver halide-adsorbing group. As the diffusion-resistant group, a ballast group commonly used in immobile photographic additives such as couplers is preferable, and as the ballast group, a photographically inert alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, alkoxy group, phenyl group, Examples thereof include a phenoxy group and an alkylphenoxy group, and the total number of carbon atoms in the substituent is preferably 8 or more.

【0015】一般式〔H〕において、ハロゲン化銀吸着
促進基としてはチオ尿素、チオウレタン基、メルカプト
基、チオエーテル基、チオン基、複素環基、チオアミド
複素環基、メルカプト複素環基、或いは特開昭64−9
0439号に記載の吸着基等が挙げられる。
In the general formula [H], examples of the silver halide adsorption promoting group include thiourea, thiourethane group, mercapto group, thioether group, thione group, heterocyclic group, thioamide heterocyclic group, mercapto heterocyclic group, 64-9
No. 0439.

【0016】一般式〔H〕において、B0はブロッキン
グ基を表し、好ましくは−G0−D0基であり、G0は−
CO−基、−COCO−基、−CS−基、−C(=NG
11)−基、−SO−基、−SO2−基又は−P(O)
(G11)−基を表し、好ましいG0としては−CO−
基、−COCO−基で特に好ましくは−COCO−基が
挙げられ、G1は単なる結合手、−O−基、−S−基又
は−N(D1)−基を表し、D1は脂肪族基、芳香族基、
複素環基又は水素原子を表し、分子内に複数のD1が存
在する場合、それらは同じであっても異なってもよい。
0は水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、アミ
ノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基を表し、好ましいD0としては水素
原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基等が挙げら
れ、更に好ましくはフッ素で置換されたアルキル基及び
アミノ基である。A1、A2はともに水素原子、又は一方
が水素原子で他方はアシル基(アセチル基、トリフルオ
ロアセチル基、ベンゾイル基等)、スルホニル基(メタ
ンスルホニル基、トルエンスルホニル基等)、又はオキ
ザリル基(エトキザリル基等)を表す。
In the general formula [H], B 0 represents a blocking group, preferably a -G 0 -D 0 group, and G 0 represents-
CO- group, -COCO- group, -CS- group, -C (= NG
1 D 1) - group, -SO- group, -SO 2 - group or -P (O)
(G 1 D 1 ) — group, and preferred G 0 is —CO—
Group, particularly preferably at -COCO- group -COCO- group and the like, G 1 is a single bond, -O- group, -S- group, or -N (D 1) - represents a group, D 1 is an aliphatic Group, aromatic group,
Represents a heterocyclic group or a hydrogen atom, and when a plurality of D 1 are present in the molecule, they may be the same or different.
D 0 represents a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group, an amino group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, or an arylthio group, and preferred D 0 is a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, Examples include an amino group, and more preferably an alkyl group and an amino group substituted with fluorine. A 1 and A 2 are both hydrogen atoms, or one is a hydrogen atom and the other is an acyl group (acetyl group, trifluoroacetyl group, benzoyl group, etc.), a sulfonyl group (methanesulfonyl group, toluenesulfonyl group, etc.), or an oxalyl group (Such as an ethoxalyl group).

【0017】次に一般式〔H〕で表される化合物の具体
例を以下に示すが、これらに限定されるものではない。
Next, specific examples of the compound represented by the general formula [H] are shown below, but it should not be construed that the invention is limited thereto.

【0018】[0018]

【化2】 Embedded image

【0019】[0019]

【化3】 Embedded image

【0020】[0020]

【化4】 Embedded image

【0021】[0021]

【化5】 Embedded image

【0022】[0022]

【化6】 Embedded image

【0023】その他に好ましく用いることのできるヒド
ラジン誘導体は、米国特許第5,545,505号報カ
ラム11〜カラム20に記載の化合物H−1〜H−2
9、米国特許第5,464,738号報カラム9〜カラ
ム11に記載の化合物1〜12である。
Other hydrazine derivatives that can be preferably used include compounds H-1 to H-2 described in columns 11 to 20 of US Pat. No. 5,545,505.
9, compounds 1 to 12 described in columns 9 to 11 of U.S. Pat. No. 5,464,738.

【0024】これらのヒドラジン誘導体は公知の方法で
合成することができる。
These hydrazine derivatives can be synthesized by a known method.

【0025】ヒドラジン誘導体の添加層は、ハロゲン化
銀乳剤を含む感光層及び/又は感光層に隣接した層であ
る。また添加量はハロゲン化銀粒子の粒径、ハロゲン組
成、化学増感の程度、抑制剤の種類等により最適量は一
様ではないが、ハロゲン化銀1モル当たり10-6モル〜
10-1モル程度、特に10-5モル〜10-2モルの範囲が
好ましい。
The hydrazine derivative-added layer is a photosensitive layer containing a silver halide emulsion and / or a layer adjacent to the photosensitive layer. The optimum amount is not uniform depending on the particle size of the silver halide grains, the halogen composition, the degree of chemical sensitization, the type of the inhibitor, etc., but is preferably from 10 -6 mol per mol of silver halide.
The range is preferably about 10 -1 mol, particularly preferably 10 -5 mol to 10 -2 mol.

【0026】本発明におけるハロゲン化銀粒子は光セン
サーとして機能するものである。本発明においては、画
像形成後の白濁を低く抑えるため、及び良好な画質を得
るために平均粒子サイズが小さい方が好ましく、平均粒
子サイズが0.1μm以下、より好ましくは0.01μ
m〜0.1μm、特に0.02μm〜0.08μmが好
ましい。ここでいう粒子サイズとは、ハロゲン化銀粒子
が立方体或いは八面体のいわゆる正常晶である場合に
は、ハロゲン化銀粒子の稜の長さをいう。又、正常晶で
ない場合、例えば球状、棒状、或いは平板状の粒子の場
合には、ハロゲン化銀粒子の体積と同等な球を考えたと
きの直径をいう。またハロゲン化銀は単分散であること
が好ましい。ここでいう単分散とは、下記式で求められ
る単分散度が40%以下をいう。更に好ましくは30%
以下であり、特に好ましくは0.1%以上20%以下と
なる粒子である。
The silver halide grains in the present invention function as a light sensor. In the present invention, in order to suppress white turbidity after image formation and to obtain good image quality, it is preferable that the average particle size is small, and the average particle size is 0.1 μm or less, more preferably 0.01 μm or less.
m to 0.1 μm, particularly preferably 0.02 μm to 0.08 μm. The term "grain size" as used herein refers to the length of a ridge of a silver halide grain when the silver halide grain is a cubic or octahedral so-called normal crystal. In the case of non-normal crystals, for example, in the case of spherical, rod-shaped or tabular grains, it refers to the diameter of a sphere equivalent to the volume of silver halide grains. Further, the silver halide is preferably monodispersed. Here, the monodispersion means that the degree of monodispersion determined by the following formula is 40% or less. More preferably 30%
Or less, particularly preferably 0.1% or more and 20% or less.

【0027】単分散度=(粒径の標準偏差)/(粒径の
平均値)×100 ハロゲン化銀粒子の形状については、特に制限はない
が、ミラー指数〔100〕面の占める割合が高いことが
好ましく、この割合が50%以上、更には70%以上、
特に80%以上であることが好ましい。
Monodispersity = (standard deviation of particle size) / (average value of particle size) × 100 The shape of silver halide grains is not particularly limited, but the proportion occupied by the Miller index [100] plane is high. It is preferable that this ratio is 50% or more, further 70% or more,
In particular, it is preferably at least 80%.

【0028】またもう一つの好ましいハロゲン化銀の形
状は、平板粒子である。ここでいう平板粒子とは、投影
面積の平方根を粒径rμmとして垂直方向の厚みhμm
した場合のアスペクト比=r/hが3以上のものをい
う。その中でも好ましくはアスペクト比が3以上50以
下である。また粒径は0.1μm以下であることが好ま
しく、さらに0.01μm〜0.08μmが好ましい。
Another preferred form of silver halide is tabular grains. The term "tabular grain" as used herein means a vertical thickness h μm where the square root of the projected area is a particle size r μm.
Means that the aspect ratio = r / h is 3 or more. Among them, the aspect ratio is preferably 3 or more and 50 or less. The particle size is preferably 0.1 μm or less, more preferably 0.01 μm to 0.08 μm.

【0029】ハロゲン組成としては特に制限はなく、塩
化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀、臭化銀、沃臭化銀、沃化
銀のいずれであってもよい。本発明に用いられる写真乳
剤は酸性法、中性法、アンモニア法等のいずれの方法を
用いて調製してもよい。又可溶性銀塩と可溶性ハロゲン
塩を反応させる形成としては、片側混合法、同時混合
法、それらの組合せ等のいずれを用いてもよい。このハ
ロゲン化銀はいかなる方法で画像形成層に添加されても
よく、このときハロゲン化銀は還元可能な銀源に近接す
るように配置する。又、ハロゲン化銀は有機酸銀とハロ
ゲンイオンとの反応による有機酸銀中の銀の一部又は全
部をハロゲン化銀に変換することによって調製してもよ
いし、ハロゲン化銀を予め調製しておき、これを有機銀
塩を調製するための溶液に添加してもよく、又はこれら
の方法の組み合わせも可能であるが、後者が好ましい。
一般にハロゲン化銀は有機銀塩に対して0.75〜30
重量%の量で含有することが好ましい。
The halogen composition is not particularly limited, and may be any of silver chloride, silver chlorobromide, silver chloroiodobromide, silver bromide, silver iodobromide and silver iodide. The photographic emulsion used in the present invention may be prepared by any method such as an acidic method, a neutral method, and an ammonia method. The formation of the reaction between the soluble silver salt and the soluble halogen salt may be performed by any one of a one-side mixing method, a simultaneous mixing method, and a combination thereof. The silver halide may be added to the image forming layer by any method, in which case the silver halide is arranged close to the reducible silver source. Further, the silver halide may be prepared by converting a part or all of the silver in the organic acid silver by the reaction of the organic acid silver and the halogen ion into silver halide, or may be prepared by preparing silver halide in advance. In advance, this may be added to a solution for preparing an organic silver salt, or a combination of these methods is possible, but the latter is preferred.
Generally, silver halide is 0.75 to 30 with respect to the organic silver salt.
It is preferably contained in an amount of% by weight.

【0030】本発明に用いられるハロゲン化銀には、照
度不軌改良や改良調整のために、元素周期律表の6族か
ら10族に属する金属のイオン又は錯体イオンを含有す
ることが好ましい。上記の金属としては、W、Fe、C
o、Ni、Cu、Ru、Rh、Pd、Re、Os、I
r、Pt、Auが好ましい。
The silver halide used in the present invention preferably contains an ion or a complex ion of a metal belonging to Group 6 to Group 10 of the Periodic Table of the Elements, for the purpose of improving illuminance failure and adjusting the improvement. The above metals include W, Fe, C
o, Ni, Cu, Ru, Rh, Pd, Re, Os, I
r, Pt, and Au are preferred.

【0031】感光性ハロゲン化銀粒子はヌードル法、フ
ロキュレーション法等、当業界で知られている方法の水
洗により脱塩することができるが本発明においては脱塩
してもしなくてもよい。
The photosensitive silver halide grains can be desalted by washing with a method known in the art such as a noodle method or a flocculation method, but in the present invention, they may or may not be desalted. .

【0032】本発明における感光性ハロゲン化銀粒子は
化学増感されていることが好ましい。好ましい化学増感
法としては当業界でよく知られているように硫黄増感
法、セレン増感法、テルル増感法、金化合物や白金、パ
ラジウム、イリジウム化合物等の貴金属増感法や還元増
感法を用いることができる。硫黄増感法、セレン増感
法、テルル増感法に好ましく用いられる化合物としては
公知の化合物を用いることができる。
The photosensitive silver halide grains in the present invention are preferably chemically sensitized. Preferred chemical sensitization methods include sulfur sensitization, selenium sensitization, tellurium sensitization, noble metal sensitization such as gold compounds, platinum, palladium, and iridium compounds, and reduction sensitization, as is well known in the art. Sensitization can be used. As the compound preferably used in the sulfur sensitization method, the selenium sensitization method, and the tellurium sensitization method, known compounds can be used.

【0033】本発明において有機銀塩は還元可能な銀源
であり、還元可能な銀イオン源を含有する有機酸及びヘ
テロ有機酸の銀塩、特に長鎖(10〜30、好ましくは
15〜25の炭素原子数)の脂肪族カルボン酸及び含窒
素複素環が好ましい。配位子が、4.0〜10.0の銀
イオンに対する総安定定数を有する有機又は無機の銀塩
錯体も有用である。好適な銀塩の例は、Researc
h Disclosure第17029及び29963
に記載されており、次のものがある:有機酸の塩(例え
ば、没食子酸、シュウ酸、ベヘン酸、アラキジン酸、ス
テアリン酸、パルミチン酸、ラウリン酸等の塩);銀の
カルボキシアルキルチオ尿素塩(例えば、1−(3−カ
ルボキシプロピル)チオ尿素、1−(3−カルボキシプ
ロピル)−3,3−ジメチルチオ尿素等);アルデヒド
とヒドロキシ置換芳香族カルボン酸とのポリマー反応生
成物の銀錯体(例えば、アルデヒド類(ホルムアルデヒ
ド、アセトアルデヒド、ブチルアルデヒド等)、ヒドロ
キシ置換酸類(例えば、サリチル酸、安息香酸、3,5
−ジヒドロキシ安息香酸、5,5−チオジサリチル
酸)、チオエン類の銀塩又は錯体(例えば、3−(2−
カルボキシエチル)−4−ヒドロキシメチル−4−(チ
アゾリン−2−チオエン、及び3−カルボキシメチル−
4−チアゾリン−2−チオエン)、イミダゾール、ピラ
ゾール、ウラゾール、1,2,4−チアゾール及び1H
−テトラゾール、3−アミノ−5−ベンジルチオ−1,
2,4−トリアゾール及びベンゾトリアゾールから選択
される窒素酸と銀との錯体または塩;サッカリン、5−
クロロサリチルアルドキシム等の銀塩;及びメルカプチ
ド類の銀塩。好ましい銀源はベヘン酸銀、アラキジン酸
銀およびステアリン酸銀である。
In the present invention, the organic silver salt is a reducible silver source, and a silver salt of an organic acid or a heteroorganic acid containing a reducible silver ion source, especially a long chain (10 to 30, preferably 15 to 25) And the nitrogen-containing heterocycle is preferred. Organic or inorganic silver salt complexes wherein the ligand has a total stability constant for silver ions of 4.0 to 10.0 are also useful. Examples of suitable silver salts are Research
h Disclosure Nos. 17029 and 29963
And salts thereof: organic acid salts (eg, salts of gallic acid, oxalic acid, behenic acid, arachidic acid, stearic acid, palmitic acid, lauric acid, etc.); silver carboxyalkylthiourea salts (Eg, 1- (3-carboxypropyl) thiourea, 1- (3-carboxypropyl) -3,3-dimethylthiourea, etc.); a silver complex of a polymer reaction product of an aldehyde and a hydroxy-substituted aromatic carboxylic acid ( For example, aldehydes (formaldehyde, acetaldehyde, butyraldehyde, etc.), hydroxy-substituted acids (eg, salicylic acid, benzoic acid, 3,5
-Dihydroxybenzoic acid, 5,5-thiodisalicylic acid), silver salts or complexes of thioenes (for example, 3- (2-
Carboxyethyl) -4-hydroxymethyl-4- (thiazoline-2-thioene and 3-carboxymethyl-
4-thiazoline-2-thioene), imidazole, pyrazole, urazole, 1,2,4-thiazole and 1H
-Tetrazole, 3-amino-5-benzylthio-1,
Complexes or salts of silver with a nitrogen acid selected from 2,4-triazole and benzotriazole; saccharin, 5-
Silver salts such as chlorosalicylaldoxime; and silver salts of mercaptides. Preferred silver sources are silver behenate, silver arachidate and silver stearate.

【0034】有機銀塩化合物は、水溶性銀化合物と銀と
錯形成する化合物を混合することにより得られるが、正
混合法、逆混合法、同時混合法、特開平9−12764
3号に記載されている様なコントロールドダブルジェッ
ト法等が好ましく用いられる。例えば、有機酸にアルカ
リ金属塩(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
など)を加えて有機酸アルカリ金属塩ソープ(例えば、
ベヘン酸ナトリウム、アラキジン酸ナトリウムなど)を
作製した後に、コントロールダブルジェットにより、前
記ソープと硝酸銀などを添加して有機銀塩の結晶を作製
する。その際にハロゲン化銀粒子を混在させてもよい。
The organic silver salt compound can be obtained by mixing a water-soluble silver compound and a compound which forms a complex with silver, and includes a forward mixing method, a reverse mixing method, a simultaneous mixing method, and a method described in JP-A-9-12764.
A controlled double jet method as described in No. 3 is preferably used. For example, an organic acid alkali metal salt soap (eg, sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc.)
After preparing sodium behenate and sodium arachidate, the above-mentioned soap and silver nitrate are added by a control double jet to prepare crystals of an organic silver salt. At that time, silver halide grains may be mixed.

【0035】本発明においては有機銀塩は平均粒径が2
μm以下でありかつ単分散であることが好ましい。有機
銀塩の平均粒径とは、有機銀塩の粒子が例えば球状、棒
状、或いは平板状の粒子の場合には、有機銀塩粒子の体
積と同等な球を考えたときの直径をいう。平均粒径は好
ましくは0.05μm〜1.5μm、特に0.05μm
〜1.0μmが好ましい。また単分散とは、ハロゲン化
銀の場合と同義であり、好ましくは単分散度が1〜30
である。また、本発明においては、有機銀塩は平板状粒
子が全有機銀の60%以上有することが好ましい。本発
明において平板状粒子とは平均粒径と厚さの比、いわゆ
る下記式で表されるアスペクト比(ARと略す)が3以
上のものをいう。
In the present invention, the organic silver salt has an average particle size of 2
It is preferably not more than μm and monodispersed. The average particle size of the organic silver salt refers to the diameter of a sphere equivalent to the volume of the organic silver salt particles when the particles of the organic silver salt are, for example, spherical, rod-shaped, or tabular particles. The average particle size is preferably 0.05 μm to 1.5 μm, particularly 0.05 μm
~ 1.0 µm is preferred. Monodispersion has the same meaning as that of silver halide, and preferably has a monodispersity of 1 to 30.
It is. In the present invention, the organic silver salt preferably has tabular grains having 60% or more of the total organic silver. In the present invention, the tabular grains mean those having an aspect ratio (abbreviated as AR) of 3 or more, which is a ratio between the average particle diameter and the thickness, that is, the following formula.

【0036】AR=平均粒径(μm)/厚さ(μm) 有機銀をこれらの形状にするためには、前記有機銀結晶
をバインダーや界面活性剤などをボールミルなどで分散
粉砕することで得られる。この範囲にすることで形成さ
れる画像の濃度が高く、かつ画像保存性に優れる。
AR = average particle size (μm) / thickness (μm) In order to form organic silver into these shapes, the organic silver crystals are obtained by dispersing and pulverizing a binder, a surfactant and the like with a ball mill or the like. Can be Within this range, the density of the formed image is high and the image storability is excellent.

【0037】本発明においては感光材料の失透を防ぐた
めには、ハロゲン化銀及び有機銀塩の総量は、銀量に換
算して1m2当たり0.5g以上2.2g以下であるこ
とが好ましい。この範囲にすることで硬調な画像が得ら
れる。また銀総量に対するハロゲン化銀の量は、重量比
で50%以下、好ましくは25%以下、更に好ましくは
0.1%〜15%の間である。
In the present invention, in order to prevent devitrification of the light-sensitive material, the total amount of silver halide and organic silver salt is preferably from 0.5 g to 2.2 g per m 2 in terms of silver. . With this range, a high-contrast image can be obtained. The amount of silver halide relative to the total amount of silver is at most 50% by weight, preferably at most 25%, more preferably between 0.1% and 15%.

【0038】本発明の熱現像感光材料には還元剤を内蔵
させる。好適な還元剤の例は、米国特許第3,770,
448号、同第3,773,512号、同第3,59
3,863号、及びResearch Disclos
ure第17029及び29963に記載されている
が、特に好ましい還元剤はヒンダードフェノール類であ
る。ヒンダードフェノール類としては下記一般式(A)
で表される化合物が挙げられる。
The photothermographic material of the present invention contains a reducing agent. Examples of suitable reducing agents are described in US Pat.
No. 448, No. 3,773, 512, No. 3,59
No. 3,863, and Research Disclos
ures 17029 and 29996, particularly preferred reducing agents are hindered phenols. As the hindered phenols, the following general formula (A)
The compound represented by these is mentioned.

【0039】[0039]

【化7】 Embedded image

【0040】式中、Rは水素原子、又は炭素原子数1〜
10のアルキル基(例えば、−C49、2,4,4−ト
リメチルペンチル)を表し、R′及びR″は炭素原子数
1〜5のアルキル基(例えば、メチル、エチル、t−ブ
チル)を表す。
In the formula, R is a hydrogen atom or a group having 1 to 1 carbon atoms.
10 alkyl group (e.g., -C 4 H 9, 2,4,4-trimethyl pentyl) represents, R 'and R "is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms (e.g., methyl, ethyl, t- butyl ).

【0041】一般式(A)で表される化合物の具体例を
以下に示す。ただし、本発明は、以下の化合物に限定さ
れるものではない。
Specific examples of the compound represented by formula (A) are shown below. However, the present invention is not limited to the following compounds.

【0042】[0042]

【化8】 Embedded image

【0043】[0043]

【化9】 Embedded image

【0044】前記一般式(A)で表される化合物を始め
とする還元剤の使用量は好ましくは銀1モル当り1×1
-2〜10モル、特に1×10-2〜1.5モルである。
The amount of the reducing agent including the compound represented by the formula (A) is preferably 1 × 1 per mol of silver.
It is from 0 -2 to 10 mol, especially from 1 x 10 -2 to 1.5 mol.

【0045】本発明の熱現像感光材料に好適なバインダ
ーは透明又は半透明で、一般に無色であり、天然ポリマ
ー合成樹脂やポリマー及びコポリマー、その他フィルム
を形成する媒体、例えば:ゼラチン、アラビアゴム、ポ
リ(ビニルアルコール)、ヒドロキシエチルセルロー
ス、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチ
レート、ポリ(ビニルピロリドン)、カゼイン、デンプ
ン、ポリ(アクリル酸)、ポリ(メチルメタクリル
酸)、ポリ(塩化ビニル)、ポリ(メタクリル酸)、コ
ポリ(スチレン−無水マレイン酸)、コポリ(スチレン
−アクリロニトリル)、コポリ(スチレン−ブタジエ
ン)、ポリ(ビニルアセタール)類(例えば、ポリ(ビ
ニルホルマール)及びポリ(ビニルブチラール))、ポ
リ(エステル)類、ポリ(ウレタン)類、フェノキシ樹
脂、ポリ(塩化ビニリデン)、ポリ(エポキシド)類、
ポリ(カーボネート)類、ポリ(ビニルアセテート)、
セルロースエステル類、ポリ(アミド)類がある。親水
性でも疎水性でもよいが、本発明においては、熱現像後
のカブリを低減させるために、疎水性透明バインダーを
使用することが好ましい。好ましいバインダーとして
は、ポリビニルブチラール、セルロースアセテート、セ
ルロースアセテートブチレート、ポリエステル、ポリカ
ーボネート、ポリアクリル酸、ポリウレタンなどがあげ
られる。その中でもポリビニルブチラール、セルロース
アセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリエ
ステルは特に好ましく用いられる。
Binders suitable for the photothermographic material of the present invention are transparent or translucent, generally colorless, and include natural polymer synthetic resins, polymers and copolymers, and other film-forming media such as: gelatin, gum arabic, and polystyrene. (Vinyl alcohol), hydroxyethyl cellulose, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, poly (vinyl pyrrolidone), casein, starch, poly (acrylic acid), poly (methyl methacrylic acid), poly (vinyl chloride), poly (methacrylic acid) Copoly (styrene-maleic anhydride), copoly (styrene-acrylonitrile), copoly (styrene-butadiene), poly (vinyl acetal) s (eg, poly (vinyl formal) and poly (vinyl butyral)), poly (ester) Kind, poly ( Urethane), phenoxy resin, poly (vinylidene chloride), poly (epoxides),
Poly (carbonate) s, poly (vinyl acetate),
There are cellulose esters and poly (amides). Although it may be hydrophilic or hydrophobic, in the present invention, it is preferable to use a hydrophobic transparent binder in order to reduce fog after thermal development. Preferred binders include polyvinyl butyral, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, polyester, polycarbonate, polyacrylic acid, polyurethane and the like. Among them, polyvinyl butyral, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, and polyester are particularly preferably used.

【0046】また感光材料の表面を保護したり擦り傷を
防止するために、感光性層の外側に非感光性層を有する
ことができる。これらの非感光性層に用いられるバイン
ダーは感光性層に用いられるバインダーと同じ種類でも
異なった種類でもよい。
In order to protect the surface of the light-sensitive material and prevent abrasion, a non-light-sensitive layer may be provided outside the light-sensitive layer. The binder used for these non-photosensitive layers may be the same or different from the binder used for the photosensitive layers.

【0047】本発明においては、熱現像の速度を速める
ために感光性層のバインダー量は1.5〜10g/m2
であることが好ましい。さらに好ましくは1.7〜8g
/m2である。1.5g/m2未満では未露光部の濃度が
大幅に上昇し、使用に耐えない場合がある。
In the present invention, the amount of the binder in the photosensitive layer is 1.5 to 10 g / m 2 in order to increase the speed of thermal development.
It is preferred that More preferably, 1.7 to 8 g
/ M 2 . If it is less than 1.5 g / m 2 , the density of the unexposed portion will increase significantly and may not be usable.

【0048】本発明においては、感光性層側にマット剤
を含有することが好ましく、熱現像後の画像の傷つき防
止のためには、感光材料の表面にマット剤を配すること
が好ましく、そのマット剤を感光層側の全バインダーに
対し、重量比で0.5〜30%含有することが好まし
い。また、支持体をはさみ感光層の反対側に非感光層を
設ける場合は、非感光層側の少なくとも1層中にマット
剤を含有することが好ましく、感光材料のすべり性や指
紋付着防止のためにも感光材料の表面にマット剤を配す
ることが好ましく、そのマット剤を感光層側の反対側の
層の全バインダーに対し、重量比で0.5〜40%含有
することが好ましい。
In the present invention, a matting agent is preferably contained on the photosensitive layer side, and in order to prevent damage to the image after thermal development, it is preferable to provide a matting agent on the surface of the photosensitive material. It is preferable that the matting agent is contained in a weight ratio of 0.5 to 30% based on all binders on the photosensitive layer side. When a non-photosensitive layer is provided on the opposite side of the photosensitive layer with the support interposed therebetween, it is preferable that at least one layer on the non-photosensitive layer side contains a matting agent to prevent slippage of the photosensitive material and prevention of fingerprint adhesion. Also, it is preferable to provide a matting agent on the surface of the photosensitive material, and it is preferable that the matting agent is contained in a weight ratio of 0.5 to 40% with respect to all binders in the layer on the side opposite to the photosensitive layer side.

【0049】マット剤の形状は、定形、不定形どちらで
も良いが、好ましくは定形で、球形が好ましく用いられ
る。マット剤の粒径は球形換算した直径のこととし、平
均粒径が0.5μm〜10μmであることが好ましく、
更に好ましくは1.0μm〜8.0μmである。又、粒
子サイズ分布の変動係数としては、50%以下であるこ
とが好ましく、更に好ましくは40%以下であり、特に
好ましくは30%以下となるマット剤である。
The shape of the matting agent may be either regular or irregular, but is preferably regular and spherical. The particle diameter of the matting agent is a diameter converted into a sphere, and the average particle diameter is preferably 0.5 μm to 10 μm,
More preferably, it is 1.0 μm to 8.0 μm. The matting agent has a coefficient of variation of the particle size distribution of preferably 50% or less, more preferably 40% or less, and particularly preferably 30% or less.

【0050】ここで、粒子サイズ分布の変動係数は、下
記の式で表される値である。
Here, the variation coefficient of the particle size distribution is a value represented by the following equation.

【0051】 (粒径の標準偏差)/(粒径の平均値)×100 本発明の熱現像感光材料は支持体上に少なくとも一層の
感光性層を有している。支持体の上に感光性層のみを形
成しても良いが、感光性層の上に少なくとも1層の非感
光性層を形成することが好ましい。感光性層に通過する
光の量又は波長分布を制御するために感光性層と同じ側
にフィルター染料層および/又は反対側にアンチハレー
ション染料層、いわゆるバッキング層を形成しても良い
し、感光性層に染料又は顔料を含ませても良い。用いら
れる染料としては所望の波長範囲で目的の吸収を有する
ものであれば良い。
(Standard deviation of particle size) / (Average value of particle size) × 100 The photothermographic material of the invention has at least one photosensitive layer on a support. Although only a photosensitive layer may be formed on the support, it is preferable to form at least one non-photosensitive layer on the photosensitive layer. In order to control the amount or wavelength distribution of light passing through the photosensitive layer, a filter dye layer on the same side as the photosensitive layer and / or an antihalation dye layer, a so-called backing layer, may be formed on the opposite side. A dye or a pigment may be included in the active layer. Any dye may be used as long as it has a desired absorption in a desired wavelength range.

【0052】またこれらの非感光性層には前記のバイン
ダーやマット剤を含有することが好ましく、さらにポリ
シロキサン化合物やワックスや流動パラフィンのような
スベリ剤を含有してもよい。
The non-photosensitive layer preferably contains the binder or matting agent described above, and may further contain a slip agent such as a polysiloxane compound, wax or liquid paraffin.

【0053】また熱現像感光材料には、塗布助剤として
各種の界面活性剤を用いることができる。その中でもフ
ッ素系界面活性剤が、帯電特性を改良したり、斑点状の
塗布故障を防ぐために好ましく用いられる。
In the photothermographic material, various surfactants can be used as a coating aid. Among them, a fluorine-based surfactant is preferably used for improving charging characteristics and preventing spot-like coating failure.

【0054】感光性層は複数層にしても良く、また階調
の調節のため感度を高感層/低感層又は低感層/高感層
にしても良い。
The light-sensitive layer may be composed of a plurality of layers, and the sensitivity may be changed to a high-sensitivity layer / low-sensitivity layer or a low-sensitivity layer / high-sensitivity layer for adjusting the gradation.

【0055】本発明の熱現像感光材料は、熱現像処理に
て写真画像を形成するもので、還元可能な銀源(有機銀
塩)、感光性ハロゲン化銀、還元剤及び必要に応じて銀
の色調を抑制する色調剤を通常(有機)バインダーマト
リックス中に分散した状態で含有している。これは常温
で安定であるが、露光後高温(例えば、80℃〜140
℃)に加熱することで現像される。加熱することで有機
銀塩(酸化剤として機能する)と還元剤との間の酸化還
元反応を通じて銀を生成する。この酸化還元反応は露光
でハロゲン化銀に発生した潜像の触媒作用によって促進
される。露光領域中の有機銀塩の反応によって生成した
銀は黒色画像を提供し、これは非露光領域と対照をな
し、画像の形成がなされる。この反応過程は、外部から
水等の処理液を供給することなしで進行する。
The photothermographic material of the present invention, which forms a photographic image by heat development, comprises a reducible silver source (organic silver salt), a photosensitive silver halide, a reducing agent and, if necessary, silver. Is usually contained in a (organic) binder matrix in a dispersed state. This is stable at normal temperature, but is high after exposure (for example,
(° C.). Heating generates silver through an oxidation-reduction reaction between an organic silver salt (functioning as an oxidizing agent) and a reducing agent. This oxidation-reduction reaction is accelerated by the catalytic action of the latent image generated on the silver halide upon exposure. The silver formed by the reaction of the organic silver salt in the exposed areas provides a black image, which contrasts with the unexposed areas, resulting in the formation of an image. This reaction process proceeds without supplying a processing liquid such as water from the outside.

【0056】本発明に用いられる好適な色調剤の例はR
esearch Disclosure第17029号
に開示されている。
Examples of suitable toning agents used in the present invention are R
essearch Disclosure No. 17029.

【0057】また現像を抑制あるいは促進させ現像を制
御するため、分光増感効率を向上させるため、現像前後
の保存性を向上させるためなどにメルカプト化合物、ジ
スルフィド化合物、チオン化合物を含有させることがで
きる。
Further, a mercapto compound, a disulfide compound, and a thione compound can be contained in order to suppress or promote the development to control the development, to improve the spectral sensitization efficiency, and to improve the storage stability before and after the development. .

【0058】本発明の熱現像感光材料中にはかぶり防止
剤が含まれて良い。
The photothermographic material of the present invention may contain an antifoggant.

【0059】本発明の熱現像感光材料には増感色素が使
用できる。特に各種スキャナー光源の分光特性に適した
分光感度を有する増感色素を有利に選択することができ
る。例えば特開平9−34078号、同9−54409
号、同9−80679号に記載の化合物が好ましく用い
られる。
A sensitizing dye can be used in the photothermographic material of the present invention. In particular, a sensitizing dye having a spectral sensitivity suitable for the spectral characteristics of various scanner light sources can be advantageously selected. For example, JP-A-9-34078 and JP-A-9-54409
And compounds described in JP-A-9-80679 are preferably used.

【0060】各種の添加剤は感光性層、非感光性層、又
はその他の形成層のいずれに添加しても良い。本発明の
熱現像感光材料には例えば、界面活性剤、酸化防止剤、
安定化剤、可塑剤、紫外線吸収剤、被覆助剤等を用いて
も良い。これらの添加剤及び上述したその他の添加剤は
Research Disclosure Item1
7029(1978年6月p.9〜15)に記載されて
いる化合物を好ましく用いることができる。
Various additives may be added to any of the photosensitive layer, the non-photosensitive layer, and other forming layers. In the photothermographic material of the present invention, for example, a surfactant, an antioxidant,
Stabilizers, plasticizers, ultraviolet absorbers, coating aids, and the like may be used. These additives and the other additives mentioned above are Research Disclosure Item 1
Compounds described in No. 7029 (pp. 9-15, June 1978) can be preferably used.

【0061】本発明で用いられる支持体は、現像処理後
に所定の光学濃度を得るため、及び現像処理後の画像の
変形を防ぐためにプラスチックフィルム(例えば、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリイミ
ド、ナイロン、セルローストリアセテート、ポリエチレ
ンナフタレート)であることが好ましい。その中でも好
ましい支持体としては、ポリエチレンテレフタレート
(以下PETと略す)及びシンジオタクチック構造を有
するスチレン系重合体を含むプラスチック(以下SPS
と略す)の支持体が挙げられる。支持体の厚みとしては
50〜300μm程度、好ましくは70〜180μmで
ある。また熱処理したプラスチック支持体を用いること
もできる。
The support used in the present invention may be a plastic film (for example, polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyimide, nylon, cellulose triacetate) in order to obtain a predetermined optical density after development and to prevent deformation of the image after development. , Polyethylene naphthalate). Among them, preferred supports include plastics (hereinafter SPS) containing polyethylene terephthalate (hereinafter abbreviated as PET) and a styrene-based polymer having a syndiotactic structure.
Abbreviated). The thickness of the support is about 50 to 300 μm, preferably 70 to 180 μm. A heat-treated plastic support can also be used.

【0062】本発明においては帯電性を改良するために
金属酸化物および/または導電性ポリマーなどの導電性
化合物を構成層中に含ませることができる。
In the present invention, a conductive compound such as a metal oxide and / or a conductive polymer can be contained in the constituent layer in order to improve the chargeability.

【0063】[0063]

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されない。
EXAMPLES The present invention will be described below in detail with reference to examples, but embodiments of the present invention are not limited thereto.

【0064】実施例1 〈下引済みPET支持体の作製〉市販の2軸延伸熱固定
済みの厚さ175μmの青色着色したPETフィルムの
両面に8W/m2・分のコロナ放電処理を施し、一方の
面に下記下引塗布液a−1を乾燥膜厚0.8μmになる
ように塗設し乾燥させて下引層A−1とし、また反対側
の面に下記帯電防止加工下引塗布液b−1を乾燥膜厚
0.8μmになるように塗設し乾燥させて帯電防止加工
下引層B−1とした。
Example 1 <Preparation of Subbed PET Support> A corona discharge treatment of 8 W / m 2 · min. Was performed on both sides of a commercially available biaxially stretched and heat-fixed 175 μm thick blue colored PET film. On one surface, the following undercoating coating solution a-1 is applied so as to have a dry film thickness of 0.8 μm and dried to form an undercoating layer A-1. The solution b-1 was applied so as to have a dry film thickness of 0.8 μm and dried to obtain an antistatic-processed undercoat layer B-1.

【0065】 《下引塗布液a−1》 ブチルアクリレート(30重量%) t−ブチルアクリレート(20重量%) スチレン(25重量%) 2−ヒドロキシエチルアクリレート(25重量%) の共重合体ラテックス液(固形分30%) 270g (C−1) 0.6g ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア) 0.8g 水で1Lに仕上げる 《下引塗布液b−1》 ブチルアクリレート(40重量%) スチレン(20重量%) グリシジルアクリレート(40重量%) の共重合体ラテックス液(固形分30%) 270g (C−1) 0.6g ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア) 0.8g 水で1Lに仕上げる 引き続き、下引層A−1及び下引層B−1の上表面に、
8W/m2・分のコロナ放電を施し、下引層A−1の上
には、下記下引上層塗布液a−2を乾燥膜厚0.1μm
になる様に下引層A−2として、下引層B−1の上には
下記下引上層塗布液b−2を乾燥膜厚0.8μmになる
様に帯電防止機能をもつ下引上層B−2として塗設し
た。
<< Undercoat Coating Solution a-1 >> Butyl acrylate (30% by weight) t-butyl acrylate (20% by weight) Styrene (25% by weight) Copolymer latex liquid of 2-hydroxyethyl acrylate (25% by weight) (Solid content: 30%) 270 g (C-1) 0.6 g hexamethylene-1,6-bis (ethylene urea) 0.8 g Finish to 1 L with water << Subtraction coating solution b-1 >> Butyl acrylate (40% by weight) ) Styrene (20% by weight) Glycidyl acrylate (40% by weight) copolymer latex liquid (solid content 30%) 270 g (C-1) 0.6 g Hexamethylene-1,6-bis (ethylene urea) 0.8 g Finish to 1L with water Then, on the upper surface of the undercoat layer A-1 and the undercoat layer B-1,
A corona discharge of 8 W / m 2 · min. Was performed, and the following lower coating liquid a-2 was coated on the lower coating layer A-1 with a dry film thickness of 0.1 μm.
As the undercoating layer A-2, the undercoating layer B-1 is coated with the following undercoating upper layer coating solution b-2 so as to have a dry film thickness of 0.8 μm. Coated as B-2.

【0066】 《下引上層塗布液a−2》 ゼラチン 0.4g/m2になる重量 (C−1) 0.2g (C−2) 0.2g (C−3) 0.1g シリカ粒子(平均粒径3μm) 0.1g 水で1Lに仕上げる 《下引上層塗布液b−2》 (C−4) 60g (C−5)を成分とするラテックス液(固形分20%) 80g 硫酸アンモニウム 0.5g (C−6) 12g ポリエチレングリコール(重量平均分子量600) 6g 水で1Lに仕上げる<< Coating Solution a-2 for Subbing Upper Layer >> Gelatin 0.4 g / m 2 Weight (C-1) 0.2 g (C-2) 0.2 g (C-3) 0.1 g Silica particles ( (Average particle size: 3 μm) 0.1 g Finished to 1 L with water << Lower upper coating liquid b-2 >> (C-4) 60 g Latex liquid containing (C-5) as a component (solid content: 20%) 80 g Ammonium sulfate 5g (C-6) 12g Polyethylene glycol (weight average molecular weight 600) 6g Finish to 1L with water

【0067】[0067]

【化10】 Embedded image

【0068】[0068]

【化11】 Embedded image

【0069】(支持体の熱処理)上記の下引済み支持体
の下引乾燥工程において、支持体を140℃で加熱し、
その後徐々に冷却した。
(Heat Treatment of Support) In the above-described undercoat drying step of the support, the support was heated at 140 ° C.
Thereafter, it was gradually cooled.

【0070】(乳剤Aの調製)水900ml中にイナー
トゼラチン7.5g及び臭化カリウム10mgを溶解し
て温度35℃、pHを3.0に合わせた後、硝酸銀74
gを含む水溶液370mlと(98/2)のモル比の臭
化カリウムと沃化カリウムを含む水溶液及び〔Ir(N
O)Cl5〕塩を銀1モル当たり1×10-6モル及び塩
化ロジウム塩を銀1モル当たり1×10-6モルを、pA
g7.7に保ちながらコントロールドダブルジェット法
で添加した後、pH8.7、pAg6.5にして還元増
感を行った。その後4−ヒドロキシ−6−メチル−1,
3,3a,7−テトラザインデンを添加しNaOHでp
Hを5に調整して平均粒子サイズ0.06μm、単分散
度10%の投影直径面積の変動係数8%、〔100〕面
比率87%の立方体沃臭化銀粒子を得た。この乳剤にゼ
ラチン凝集剤を用いて凝集沈降させ脱塩処理後フェノキ
シエタノール0.1gを加え、pH5.9、pAg7.
5に調整して、ハロゲン化銀乳剤Aを得た。
(Preparation of Emulsion A) In 900 ml of water, 7.5 g of inert gelatin and 10 mg of potassium bromide were dissolved and adjusted to a temperature of 35 ° C. and a pH of 3.0.
g of an aqueous solution containing potassium bromide and potassium iodide in a molar ratio of (98/2) and [Ir (N
O) Cl 5 ] salt was added in an amount of 1 × 10 -6 mole per silver mole and rhodium chloride salt in an amount of 1 × 10 -6 mole per silver mole, pA
After the addition by the controlled double jet method while maintaining the g at 7.7, reduction sensitization was performed at pH 8.7 and pAg 6.5. Thereafter, 4-hydroxy-6-methyl-1,
Add 3,3a, 7-tetrazaindene and add NaOH to p.
By adjusting H to 5, cubic silver iodobromide grains having an average grain size of 0.06 μm, a monodispersity of 10%, a variation coefficient of projected diameter area of 8%, and a [100] face ratio of 87% were obtained. This emulsion was subjected to coagulation sedimentation using a gelatin coagulant and desalting treatment, followed by addition of 0.1 g of phenoxyethanol, pH 5.9 and pAg7.
Adjusted to 5 to obtain a silver halide emulsion A.

【0071】(ベヘン酸Na溶液の調製)945mlの
純水にベヘン酸32.4g、アラキジン酸9.9g、ス
テアリン酸5.6gを90℃で溶解した。次に高速で撹
拌しながら1.5Mの水酸化ナトリウム水溶液98ml
を添加した。次に濃硝酸0.93mlを加えた後、55
℃に冷却して30分撹拌させてベヘン酸Na溶液を得
た。
(Preparation of Na Behenate Solution) In 945 ml of pure water, 32.4 g of behenic acid, 9.9 g of arachidic acid and 5.6 g of stearic acid were dissolved at 90 ° C. Next, while stirring at a high speed, 98 ml of a 1.5 M aqueous sodium hydroxide solution
Was added. Next, 0.93 ml of concentrated nitric acid was added.
C. and stirred for 30 minutes to obtain a sodium behenate solution.

【0072】(ベヘン酸銀とハロゲン化銀乳剤Aのプレ
フォーム乳剤の調製)上記のベヘン酸Na溶液に前記ハ
ロゲン化銀乳剤Aを15.1g添加し水酸化ナトリウム
溶液でpH8.1に調整した後に1Mの硝酸銀溶液14
7mlを7分間かけて加え、さらに20分撹拌し限外濾
過により水溶性塩類を除去した。できたベヘン酸銀は平
均粒子サイズ0.8μm、単分散度8%の粒子であっ
た。分散物のフロックを形成後、水を取り除き、更に6
回の水洗と水の除去を行った後乾燥させた。
(Preparation of Preform Emulsion of Silver Behenate and Silver Halide Emulsion A) 15.1 g of the silver halide emulsion A was added to the above sodium behenate solution, and the pH was adjusted to 8.1 with a sodium hydroxide solution. Later, 1M silver nitrate solution 14
7 ml was added over 7 minutes, the mixture was further stirred for 20 minutes, and water-soluble salts were removed by ultrafiltration. The resulting silver behenate was grains having an average grain size of 0.8 μm and a monodispersity of 8%. After the floc of the dispersion has formed, the water is removed and an additional 6
After washing with water and removing water several times, it was dried.

【0073】(感光性乳剤の調製)できあがったプレフ
ォーム乳剤にポリビニルブチラール(平均分子量300
0)のメチルエチルケトン溶液(17wt%)544g
とトルエン107gを徐々に添加して混合した後に、4
000psiで分散させた。
(Preparation of Photosensitive Emulsion) Polybutyral (average molecular weight: 300
544 g of 0) methyl ethyl ketone solution (17 wt%)
And 107 g of toluene were gradually added and mixed.
Dispersed at 000 psi.

【0074】〈バック面側塗布〉以下の組成のバック層
塗布液を、押し出しコーターでウェット膜厚30μmに
なるように塗布し、60℃で3分乾燥した。
<Coating on Back Side> A back layer coating solution having the following composition was applied by an extrusion coater to a wet film thickness of 30 μm, and dried at 60 ° C. for 3 minutes.

【0075】 バック層塗布液: セルロースアセテートブチレート (10%メチルエチルケトン溶液) 15ml/m2 染料−B 7mg/m2 染料−C 7mg/m2 マット剤:単分散度15%、平均粒子サイズ8μmの単分散シリカ 30mg/m2917−C64−SO3Na 10mg/m2 Back layer coating solution: cellulose acetate butyrate (10% methyl ethyl ketone solution) 15 ml / m 2 dye-B 7 mg / m 2 dye-C 7 mg / m 2 Matting agent: monodispersity 15%, average particle size 8 μm monodisperse silica 30mg / m 2 C 9 F 17 -C 6 H 4 -SO 3 Na 10mg / m 2

【0076】[0076]

【化12】 Embedded image

【0077】〈感光層面側塗布〉以下の組成の感光層塗
布液とその上に保護層塗布液を、押し出しコーターで毎
分20mの速度で重層塗布した。その際、塗布銀量が
2.4g/m2になる様に調整して塗布した。その後、
55℃で15分乾燥を行った。
<Coating on the Photosensitive Layer Side> A coating solution for a photosensitive layer having the following composition and a coating solution for a protective layer were applied thereon in a multilayer coating at a speed of 20 m / min by an extrusion coater. At this time, the silver was applied such that the amount of silver applied was 2.4 g / m 2 . afterwards,
Drying was performed at 55 ° C. for 15 minutes.

【0078】 感光層塗布液: プレフォーム乳剤 240g 増感色素−1(0.1%メタノール溶液) 1.7ml ピリジニウムプロミドペルブロミド(6%メタノール溶液) 3ml 臭化カルシウム(0.1%メタノール溶液) 1.7ml カブリ防止剤−2(10%メタノール溶液) 1.2ml ヒドラジン化合物−表1に記載(5%メタノール溶液) 2ml 2−4−クロロベンゾイル安息香酸(12%メタノール溶液) 9.2ml 2−メルカプトベンズイミダゾール(1%メタノール溶液) 11ml トリブロモメチルスルホキノリン(5%メタノール溶液) 17ml A−2(20%メタノール溶液) 29.5ml フタラジン 0.6g 4−メチルフタル酸 0.25g テトラクロロフタル酸 0.2g 表面保護層塗布液: アセトン 5ml/m2 メチルエチルケトン 21ml/m2 セルロースアセテートブチレート 2.3g/m2 メタノール 7ml/m2 フタラジン 250mg/m2 マット剤:単分散度10%、平均粒子サイズ4μmの単分散シリカ 70mg/m2 CH2=CHSO2CH2CH2OCH2CH2SO2CH=CH2 35mg/m2 斑点防止剤 50mg/m2917−C64−SO3Na 10mg/m2 Photosensitive layer coating solution: Preform emulsion 240 g Sensitizing dye-1 (0.1% methanol solution) 1.7 ml Pyridinium bromide perbromide (6% methanol solution) 3 ml Calcium bromide (0.1% methanol solution) 1.7 ml Antifoggant-2 (10% methanol solution) 1.2 ml Hydrazine compound-described in Table 1 (5% methanol solution) 2 ml 2-Chlorobenzoylbenzoic acid (12% methanol solution) 9.2 ml 2 -Mercaptobenzimidazole (1% methanol solution) 11 ml tribromomethylsulfoquinoline (5% methanol solution) 17 ml A-2 (20% methanol solution) 29.5 ml phthalazine 0.6 g 4-methylphthalic acid 0.25 g tetrachlorophthalic acid 0.2g Surface protective layer coating solution: Acetone 5 l / m 2 methyl ethyl ketone 21 ml / m 2 Cellulose acetate butyrate 2.3 g / m 2 methanol 7 ml / m 2 phthalazine 250 mg / m 2 Matting agent: monodisperse degree of 10% monodisperse silica having an average particle size 4 [mu] m 70 mg / m 2 CH 2 CHCHSO 2 CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 SO 2 CH = CH 2 35 mg / m 2 Spot inhibitor 50 mg / m 2 C 9 H 17 -C 6 H 4 -SO 3 Na 10 mg / m 2

【0079】[0079]

【化13】 Embedded image

【0080】《露光及び現像処理》 処理方法A:上記で作製した熱現像感光材料に810n
mの半導体レーザーを有するイメージャーで露光した。
その後 ヒートドラムを有する自動現像機を用いて、熱
現像感光材料の露光量、残存溶媒量にかかわらず、11
0℃で15秒熱現像処理した。その際、露光及び現像は
23℃、50%RHに調湿した部屋で行った。
<< Exposure and Development Processing >> Processing Method A: 810 n was added to the photothermographic material prepared above.
Exposure was performed with an imager having a m semiconductor laser.
Then, using an automatic developing machine having a heat drum, regardless of the exposure amount of the photothermographic material and the amount of residual solvent, 11
The film was thermally developed at 0 ° C. for 15 seconds. At that time, exposure and development were performed in a room conditioned at 23 ° C. and 50% RH.

【0081】処理方法B:処理方法Aに対し、処理温度
をイメージャーの露光量の信号により以下のように変化
させた。このとき処理時間は15秒と一定にした。な
お、自動現像機は下記条件で処理できるように改造を加
えた。
Processing method B: In comparison with processing method A, the processing temperature was changed as follows by the signal of the exposure amount of the imager. At this time, the processing time was fixed at 15 seconds. The automatic developing machine was modified so that it could be processed under the following conditions.

【0082】 処理方法C:処理方法Aに対し、処理時間をイメージャ
ーの露光量の信号により以下のように変化させた。この
とき処理温度は110℃と一定にした。なお、自動現像
機は下記条件で処理できるように改造を加えた。
[0082] Processing method C: The processing time was changed as follows with respect to processing method A by the signal of the exposure amount of the imager. At this time, the processing temperature was kept constant at 110 ° C. The automatic developing machine was modified so that it could be processed under the following conditions.

【0083】 上記で作製した熱現像感光材料をそれぞれの処理方法
で、黒化率5、20、30、40、50%の順番に連続
200枚の熱現像ランニング処理を行い、ランニング前
とランニング後とでの性能の差を評価した。
[0083] The photothermographic material prepared as described above was subjected to thermal development running processing of 200 sheets continuously in the order of blackening ratio 5, 20, 30, 40, and 50% by the respective processing methods, and before and after running. The difference in performance was evaluated.

【0084】《写真性能の評価》得られた画像の評価を
濃度計により行った。感度の評価はカブリ濃度+3.0
の透過濃度を与える露光量の逆数を感度とし、試料N
o.1の感度を100としたときの相対感度とした。こ
こでいうカブリ濃度とは、網点0%の露光をした部分の
濃度をいう、値の小さいもの程良い。また、特性曲線で
濃度0.3と3.0の点を結ぶ直線の傾きを階調γとし
て示した。
<< Evaluation of Photographic Performance >> The obtained images were evaluated with a densitometer. Evaluation of sensitivity is fog density +3.0
The reciprocal of the exposure amount that gives the transmission density of
o. The relative sensitivity when the sensitivity of 1 was 100. The fog density here refers to the density of a portion where halftone dots are exposed to 0%, and the smaller the value, the better. Also, the gradient of a straight line connecting the points of density 0.3 and 3.0 on the characteristic curve is shown as gradation γ.

【0085】結果を表1に示す。Table 1 shows the results.

【0086】[0086]

【表1】 [Table 1]

【0087】これにより、熱現像感光材料の黒化率に応
じて処理温度や処理時間を変化させると、ランニング前
後での性能の変化が少ないことが判る。
Thus, when the processing temperature and the processing time are changed in accordance with the blackening ratio of the photothermographic material, the change in performance before and after running is small.

【0088】実施例2 実施例1と同様に作製した熱現像感光材料に以下のよう
な処理方法で熱現像処理を行い、実施例1と同様に感
度、カブリ、γの評価を行った。
Example 2 A photothermographic material prepared in the same manner as in Example 1 was subjected to heat development by the following processing method, and the sensitivity, fog and γ were evaluated in the same manner as in Example 1.

【0089】処理方法D:処理方法Aに対し、処理温
度、処理時間ををイメージャーの露光量の信号により以
下のように変化させた。なお、自動現像機は下記条件で
処理できるように改造を加えた。
Processing method D: The processing temperature and the processing time were changed as follows in accordance with the exposure amount signal of the imager. The automatic developing machine was modified so that it could be processed under the following conditions.

【0090】 評価した結果を表2に示す。[0090] Table 2 shows the results of the evaluation.

【0091】[0091]

【表2】 [Table 2]

【0092】これにより、熱現像感光材料の黒化率に応
じて処理温度と処理時間を両方変化させると、ランニン
グ前後での性能の変化がさらに少ないことが判る。
Thus, when both the processing temperature and the processing time are changed in accordance with the blackening ratio of the photothermographic material, the change in performance before and after running is further reduced.

【0093】実施例3 実施例1と同様に作製した熱現像感光材料に以下のよう
な処理方法で熱現像処理を行い、実施例1と同様に感
度、カブリ、γの評価を行った。
Example 3 A photothermographic material prepared in the same manner as in Example 1 was subjected to a heat development treatment by the following processing method, and the sensitivity, fog and γ were evaluated in the same manner as in Example 1.

【0094】処理方法E:処理方法Aに対し、処理温度
をイメージャーの残存溶媒量の信号の変化により以下の
ように変化させた。このとき処理時間は15秒と一定に
した。なお、自動現像機は下記条件で処理できるように
改造を加えた。
Processing method E: In comparison with processing method A, the processing temperature was changed as follows by changing the signal of the residual solvent amount of the imager. At this time, the processing time was fixed at 15 seconds. The automatic developing machine was modified so that it could be processed under the following conditions.

【0095】 残存溶媒量(mg/m2) 処理温度 処理時間 30 90℃ 15秒 50 100℃ 15秒 100 110℃ 15秒 150 120℃ 15秒 200 130℃ 15秒 処理方法F:処理方法Aに対し、処理時間をイメージャ
ーの残存溶媒量の信号により以下のように変化させた。
このとき処理温度は110℃と一定にした。なお、自動
現像機は下記条件で処理できるように改造を加えた。
Residual solvent amount (mg / m 2 ) Processing temperature Processing time 30 90 ° C. 15 seconds 50 100 ° C. 15 seconds 100 110 ° C. 15 seconds 150 120 ° C. 15 seconds 200 130 ° C. 15 seconds Processing method F: For processing method A The processing time was changed as follows according to the signal of the residual solvent amount of the imager.
At this time, the processing temperature was kept constant at 110 ° C. The automatic developing machine was modified so that it could be processed under the following conditions.

【0096】 残存溶媒量(mg/m2) 処理温度 処理時間 30 110℃ 10秒 50 110℃ 12秒 100 110℃ 15秒 150 110℃ 18秒 200 110℃ 20秒 結果を表3に示す。Residual solvent amount (mg / m 2 ) Treatment temperature Treatment time 30 110 ° C. 10 seconds 50 110 ° C. 12 seconds 100 110 ° C. 15 seconds 150 110 ° C. 18 seconds 200 110 ° C. 20 seconds The results are shown in Table 3.

【0097】[0097]

【表3】 [Table 3]

【0098】これにより、熱現像感光材料の残存溶媒量
に応じて処理温度や処理時間を変化させると、ランニン
グ前後での性能の変化が少ないことが判る。
Thus, when the processing temperature and the processing time are changed in accordance with the amount of the residual solvent in the photothermographic material, the change in performance before and after running is small.

【0099】実施例4 実施例1と同様に作製した熱現像感光材料に以下のよう
な処理方法で熱現像処理を行い、実施例1と同様に感
度、カブリ、γの評価を行った。
Example 4 A photothermographic material produced in the same manner as in Example 1 was subjected to heat development by the following processing method, and the sensitivity, fog and γ were evaluated in the same manner as in Example 1.

【0100】処理方法G:処理方法Aに対し、処理温
度、処理時間ををイメージャーの残存溶媒量の信号によ
り以下のように変化させた。なお、自動現像機は下記条
件で処理できるように改造を加えた。
Processing method G: The processing temperature and the processing time were changed as follows from the processing method A by the signal of the residual solvent amount of the imager. The automatic developing machine was modified so that it could be processed under the following conditions.

【0101】 残存溶媒量(mg/m2) 処理温度 処理時間 30 90℃ 10秒 50 100℃ 12秒 100 110℃ 15秒 150 120℃ 18秒 200 130℃ 20秒 結果を表4に示す。Residual solvent amount (mg / m 2 ) Processing temperature Processing time 30 90 ° C. 10 seconds 50 100 ° C. 12 seconds 100 110 ° C. 15 seconds 150 120 ° C. 18 seconds 200 130 ° C. 20 seconds The results are shown in Table 4.

【0102】[0102]

【表4】 [Table 4]

【0103】これにより、熱現像感光材料の残存溶媒量
に応じて処理温度と処理時間を両方変化させることによ
り、ランニング前後での性能の変化がさらに少ないこと
が判る。
Thus, it can be seen that by changing both the processing temperature and the processing time according to the amount of the residual solvent in the photothermographic material, the change in performance before and after running is further reduced.

【0104】[0104]

【発明の効果】本発明によれば、極めて安定に熱現像感
光材料を現像処理することができる。
According to the present invention, a photothermographic material can be extremely stably developed.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上に少なくとも有機銀塩とハロゲ
ン化銀と還元剤を有する熱現像感光材料を像様露光後、
自動現像機を用い、現像温度及び現像時間を、該感光材
料の残存溶媒量および単位時間に現像処理される処理面
積の関数として決定し、制御を行うことを特徴とする熱
現像感光材料の処理方法。
An imagewise exposure of a photothermographic material having at least an organic silver salt, silver halide and a reducing agent on a support,
Processing of a photothermographic material, wherein an automatic developing machine is used to determine and control a developing temperature and a developing time as a function of a residual solvent amount of the photosensitive material and a processing area developed in a unit time. Method.
【請求項2】 支持体上に少なくとも有機銀塩とハロゲ
ン化銀と還元剤を有する熱現像感光材料を像様露光後、
自動現像機を用い、現像温度及び現像時間を、該感光材
料の露光量および単位時間に現像処理される処理面積の
関数として決定し、制御を行うことを特徴とする熱現像
感光材料の処理方法。
2. A photothermographic material having at least an organic silver salt, a silver halide and a reducing agent on a support after imagewise exposure,
A method for processing a photothermographic material, comprising determining and controlling a developing temperature and a developing time as a function of an exposure amount of the photosensitive material and a processing area to be developed in a unit time by using an automatic developing machine. .
【請求項3】 処理される熱現像感光材料が下記一般式
〔H〕で表されるヒドラジン化合物を含有することを特
徴とする請求項1又は2に記載の熱現像感光材料の処理
方法。 【化1】 〔式中、A0はそれぞれ置換基を有してもよい脂肪族
基、芳香族基、複素環基又は−G0−D0基を、B0はブ
ロッキング基を表し、A1、A2はともに水素原子、又は
一方が水素原子で他方はアシル基、スルホニル基又はオ
キザリル基を表す。G0は−CO−基、−COCO−
基、−CS−基、−C(=NG11)−基、−SO−
基、−SO2−基又は−P(O)(G11)−基を表
し、G1は単なる結合手、−O−基、−S−基又は−N
(D1)−基を表し、D1は脂肪族基、芳香族基、複素環
基又は水素原子を表し、分子内に複数のD1が存在する
場合、それらは同じであっても異なってもよい。D0
水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、アミノ基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、ア
リールチオ基を表す。〕
3. The method for processing a photothermographic material according to claim 1, wherein the photothermographic material to be processed contains a hydrazine compound represented by the following general formula [H]. Embedded image [In the formula, A 0 represents an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group or a -G 0 -D 0 group which may have a substituent, B 0 represents a blocking group, and A 1 and A 2 Each represents a hydrogen atom, or one represents a hydrogen atom and the other represents an acyl group, a sulfonyl group, or an oxalyl group. G 0 is a -CO- group, -COCO-
Group, -CS- group, -C (= NG 1 D 1 )-group, -SO-
A —SO 2 — group or —P (O) (G 1 D 1 ) — group, where G 1 is a mere bond, a —O— group, a —S— group, or a —N
Represents a (D 1 ) — group, wherein D 1 represents an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group or a hydrogen atom, and when a plurality of D 1 are present in a molecule, they may be the same or different. Is also good. D 0 is a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group, an amino group,
Represents an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, or an arylthio group. ]
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