JP2000223462A - Treating equipment and treating method - Google Patents

Treating equipment and treating method

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JP2000223462A
JP2000223462A JP11020100A JP2010099A JP2000223462A JP 2000223462 A JP2000223462 A JP 2000223462A JP 11020100 A JP11020100 A JP 11020100A JP 2010099 A JP2010099 A JP 2010099A JP 2000223462 A JP2000223462 A JP 2000223462A
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JP
Japan
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processing
tank
processing liquid
liquid
treating
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JP11020100A
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Japanese (ja)
Inventor
Takahiro Yamazaki
貴弘 山崎
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Shibaura Mechatronics Corp
Original Assignee
Shibaura Mechatronics Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide treating equipment, capable of miniaturization and simplification of the equipment in the treating equipment treating an object to be treated by using a treatment liquid. SOLUTION: In this treating equipment which treats an object to be treated by using treating liquid, a treating tank 21 capable of storing the treating liquid inside, a circulating pipe 25 circulating the treating liquid stored in the treating tank and treating the object to be treated which is supplied in the treating tank 21, a drain pipe 24 discharging the treating liquid which is deteriorated by use from the treating tank, an adjusting tank 32 storing the treating liquid which is adjusted according to use conditions and not yet used, and a supply pipe 29 supplying the treating liquid which is stored in the adjusting tank and yet to be used to the treating tank, when the used treating liquid is discharged from the treating tank by the drain pipe are installed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は処理液によって被
処理物を処理する処理装置及び処理方法に関する。
The present invention relates to a processing apparatus and a processing method for processing an object to be processed with a processing liquid.

【0002】[0002]

【従来の技術】たとえば液晶製造装置や半導体製造装置
においては、液晶用ガラス基板や半導体ウエハなどの被
処理物をエッチング液、現像液あるいは洗浄液などの処
理液で処理する工程がある。
2. Description of the Related Art For example, in a liquid crystal manufacturing apparatus or a semiconductor manufacturing apparatus, there is a step of processing an object to be processed such as a liquid crystal glass substrate or a semiconductor wafer with a processing liquid such as an etching liquid, a developing liquid or a cleaning liquid.

【0003】被処理物を処理液で処理する場合、被処理
物を処理槽に供給し、その被処理物に対して処理液を噴
射することで、上記被処理物を処理するようにしてい
る。処理液は使用に伴ない劣化する。したがって、処理
液は所定期間使用したならば新しい処理液に交換され
る。
When processing an object to be processed with a processing liquid, the object to be processed is supplied to a processing tank, and the processing object is processed by injecting the processing liquid onto the processing object. . The processing liquid deteriorates with use. Therefore, the processing liquid is replaced with a new processing liquid after being used for a predetermined period.

【0004】処理液は薬品などの原液を純水などの希釈
液によって所定の濃度に希釈するとともに、使用時の反
応(処理促進)効果を高めるために所定の温度に加熱す
るなどして使用される。そのため、処理液を使用条件に
応じて調整しなければならず、その調整には時間が掛か
るということがある。
The processing solution is used by diluting a stock solution such as a chemical to a predetermined concentration with a diluting solution such as pure water and heating to a predetermined temperature in order to enhance a reaction (processing acceleration) effect at the time of use. You. Therefore, the treatment liquid must be adjusted according to the use conditions, and the adjustment may take time.

【0005】そこで、従来の処理装置は、処理液が使用
に伴なって劣化したならば、その処理液を調整された未
使用の処理液に迅速に交換できるようにしている。すな
わち、従来の処理装置は、図4に示すように処理槽1の
他に第1のタンク2と第2のタンク3とを有する。上記
処理槽1には底部に接続管4が設けられ、この接続管4
には第1の三方弁5が接続されている。この第1の三方
弁5には上記第1のタンク2に連通する第1の連通管6
と、上記第2のタンク3に連通する第2の連通管7とが
接続されている。
[0005] Therefore, in the conventional processing apparatus, if the processing liquid deteriorates with use, the processing liquid can be promptly replaced with an adjusted unused processing liquid. That is, the conventional processing apparatus has a first tank 2 and a second tank 3 in addition to the processing tank 1 as shown in FIG. A connection pipe 4 is provided at the bottom of the processing tank 1.
Is connected to a first three-way valve 5. The first three-way valve 5 has a first communication pipe 6 communicating with the first tank 2.
And a second communication pipe 7 communicating with the second tank 3.

【0006】上記第1のタンク2には第1のポンプ8の
吸引側が接続され、上記第2のタンク3には第2のポン
プ9の吸引側が接続されている。上記第1のポンプ8と
第2のポンプ9との吐出側はそれぞれ第1の循環管11
と第2の循環管12との一端が接続され、これら循環管
11,12の他端は第2の三方弁13に接続されてい
る。この第2の三方弁13の残りのポートには上記処理
槽1に供給された被処理物Wに向けて処理液Lを噴射す
るノズル14が接続されている。
The suction side of a first pump 8 is connected to the first tank 2, and the suction side of a second pump 9 is connected to the second tank 3. The discharge sides of the first pump 8 and the second pump 9 are respectively connected to a first circulation pipe 11.
And one end of the second circulation pipe 12 is connected, and the other ends of the circulation pipes 11 and 12 are connected to a second three-way valve 13. The other port of the second three-way valve 13 is connected to a nozzle 14 for injecting the processing liquid L toward the workpiece W supplied to the processing tank 1.

【0007】さらに、第1のタンク2には開閉弁15a
を有する第1の排液管15が接続され、第2のタンク3
には開閉弁16aを有する第2の排液管16が接続され
ている。
Further, the first tank 2 has an on-off valve 15a.
Is connected to the first drain pipe 15 having the
Is connected to a second drain pipe 16 having an on-off valve 16a.

【0008】このような構成の処理装置においては、ま
ず、第1のタンク2には濃度や温度などが調整された処
理液Lが収容されている。その状態で、処理槽1に供給
された被処理物Wを処理するには、第1のポンプ8を作
動させる。それによって、上記第1のタンク2に収容さ
れた処理液Lは第1の循環管11および第2の三方弁1
3を通ってノズル14から処理槽1内の被処理物Wに向
けて噴射されるから、その被処理物Wは処理液Lによっ
て所定の処理が行われる。
In the processing apparatus having such a configuration, first, the first tank 2 contains a processing liquid L whose concentration and temperature are adjusted. In this state, to process the workpiece W supplied to the processing tank 1, the first pump 8 is operated. Thereby, the processing liquid L stored in the first tank 2 is supplied to the first circulation pipe 11 and the second three-way valve 1.
Since the liquid W is ejected from the nozzle 14 toward the workpiece W in the processing tank 1 through the nozzle 3, the workpiece W is subjected to predetermined processing by the processing liquid L.

【0009】被処理物Wを処理した処理液Lは処理槽1
の底部に接続管4を介して接続された第1の三方弁5を
通って第1の連通管6から第1のタンク2へ戻される。
したがって、処理液Lは第1のポンプ8によって循環さ
せられながら被処理物Wを処理することになる。
The processing liquid L obtained by processing the workpiece W is supplied to the processing tank 1
Is returned from the first communication pipe 6 to the first tank 2 through a first three-way valve 5 connected to the bottom of the tank via a connection pipe 4.
Therefore, the processing liquid L processes the workpiece W while being circulated by the first pump 8.

【0010】第1のタンク2を使って被処理物Wを処理
している間に、第2のタンク3では新たな処理液Lが調
整される。そして、第1のタンク2の処理液Lが所定時
間使用されることで劣化したならば、第1のポンプ8を
停止してその処理液Lを第1のタンク2に集積させた
後、第1の排液管15に設けられた開閉弁15aを開け
ることで、劣化した処理液Lを排出する。
While processing the workpiece W using the first tank 2, a new processing liquid L is adjusted in the second tank 3. If the processing liquid L in the first tank 2 is deteriorated by being used for a predetermined time, the first pump 8 is stopped, and the processing liquid L is accumulated in the first tank 2. By opening the on-off valve 15a provided in the first drainage pipe 15, the deteriorated processing liquid L is discharged.

【0011】それと同時に、第1の三方弁5と第2の三
方弁13とを切り換えるとともに、第2のポンプ9を作
動させて第2のタンク3で調整された新たな処理液Lを
ノズル14から処理槽1へ供給された被処理物Wに向け
て噴射することで、この被処理物Wを処理する。それと
同時に、第1のタンク2では新たな処理液Lが調整され
ることになる。そして、第2のタンク3の処理液Lが劣
化したならば、先程と同様、その処理液Lは排出され、
第1のタンク2で調整された新たな処理液Lが循環供給
されることになる。
At the same time, the first three-way valve 5 and the second three-way valve 13 are switched, and the second pump 9 is operated to supply the new processing liquid L adjusted in the second tank 3 to the nozzle 14. This processing target W is processed by spraying toward the processing target W supplied to the processing tank 1 from. At the same time, a new processing liquid L is adjusted in the first tank 2. Then, if the processing liquid L in the second tank 3 has deteriorated, the processing liquid L is discharged as in the previous case,
The new treatment liquid L adjusted in the first tank 2 is circulated and supplied.

【0012】このように、第1のタンク2と第2のタン
ク3とを備えることで、使用中の処理液Lが劣化したな
らば、その処理液Lを廃棄し、新たに処理液Lを使用で
きるため、生産性を向上させることができるという利点
を有する。
By providing the first tank 2 and the second tank 3 as described above, if the processing liquid L in use is deteriorated, the processing liquid L is discarded, and the processing liquid L is newly added. Since it can be used, there is an advantage that productivity can be improved.

【0013】ところで、このような構成の処理装置にお
いては、処理液Lを循環させるためと、処理液Lを調整
するために、2つのタンク2,3が必要となる。処理装
置に用いられるタンク2,3は比較的大きいため、2つ
のタンク2,3を備えなければならないことによって処
理装置の大型化や複雑化、さらにはコストの上昇を招く
ということがある。
By the way, in the processing apparatus having such a configuration, two tanks 2 and 3 are required for circulating the processing liquid L and adjusting the processing liquid L. Since the tanks 2 and 3 used in the processing apparatus are relatively large, the provision of the two tanks 2 and 3 may increase the size and complexity of the processing apparatus and increase the cost.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】このように、従来の処
理装置は、劣化した処理液の交換を円滑に行えるように
するために2つのタンクを備えるようにしていたので、
装置の大型化や複雑化を招くということがあった。
As described above, the conventional processing apparatus is provided with two tanks so that the deteriorated processing solution can be exchanged smoothly.
In some cases, the size and complexity of the device have been increased.

【0015】この発明は、タンクを2つ用いることな
く、使用中の処理液が劣化したならば、その処理液を新
たな処理液に迅速に交換することができるようにした処
理装置及び処理方法を提供することにある。
According to the present invention, there is provided a processing apparatus and a processing method capable of quickly replacing a processing liquid in use with a new processing liquid if the processing liquid deteriorates without using two tanks. Is to provide.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、被処
理物を処理液によって処理する処理装置において、内部
に上記処理液を貯えることができる処理槽と、上記処理
槽に貯えられた処理液を循環させこの処理槽に供給され
た被処理物を処理する処理液循環手段と、使用に伴ない
劣化した処理液を上記処理槽から排出する排液手段と、
使用条件に応じて調整された未使用の処理液を貯える調
整タンクと、上記排液手段によって上記処理槽から使用
済みの処理液が排出されたならば上記調整タンクに貯え
られた未使用の処理液を上記処理槽へ供給する供給手段
とを具備したことを特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, in a processing apparatus for processing an object to be processed with a processing liquid, a processing tank capable of storing the processing liquid therein, and a processing tank stored in the processing tank. A processing liquid circulating means for circulating the processing liquid and processing the workpiece supplied to the processing tank, and a draining means for discharging the processing liquid deteriorated with use from the processing tank,
An adjusting tank for storing an unused processing liquid adjusted according to use conditions, and an unused processing stored in the adjusting tank if the used processing liquid is discharged from the processing tank by the drainage means. A supply unit for supplying a liquid to the processing tank.

【0017】それによって、処理液を循環させる際には
処理槽をタンクとして利用することができるから、1つ
の調整タンクを設けるだけで、使用中の処理液が劣化し
たならば、その処理液を調整された新たな処理液に交換
する作業を迅速に行うことが可能となる。
Accordingly, when the processing liquid is circulated, the processing tank can be used as a tank. Therefore, if only one adjusting tank is provided, and if the processing liquid being used is deteriorated, the processing liquid can be used. It is possible to quickly perform the work of replacing the processing liquid with the adjusted new processing liquid.

【0018】請求項2の発明は請求項1の発明におい
て、上記処理槽には、上記排液手段によって排出される
処理液のレベルと、上記供給手段によって供給される処
理液のレベルとを検出する検出手段が設けられているこ
とを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the level of the processing liquid discharged by the drainage means and the level of the processing liquid supplied by the supply means are detected in the processing tank. Detecting means is provided.

【0019】それによって、処理槽からの劣化した処理
液の排出と、処理槽への新たな処理液の供給とを、迅速
かつ確実に行うことが可能となる。
This makes it possible to discharge the deteriorated processing liquid from the processing tank and supply a new processing liquid to the processing tank quickly and reliably.

【0020】請求項3の発明は、処理槽に供給された被
処理物を処理液によって処理する処理方法において、上
記処理槽に貯えられた処理液を循環させこの処理槽に供
給された被処理物を処理する処理工程と、処理工程と同
時に調整タンクで使用条件にい応じた処理液を調整する
調整工程と、使用に伴ない劣化した処理液を上記処理槽
から排出する排液工程と、排液工程によって上記処理槽
から使用済みの処理液が排出されたならば上記調整タン
クで調整された未使用の処理液を上記処理槽へ供給する
供給工程とを具備したことを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a processing method for processing an object to be processed supplied to a processing tank with a processing liquid, wherein the processing liquid stored in the processing tank is circulated and the processing liquid supplied to the processing tank is circulated. A processing step of processing the object, an adjustment step of adjusting the processing liquid according to the use conditions in the adjustment tank at the same time as the processing step, and a draining step of discharging the processing liquid deteriorated with use from the processing tank, A supplying step of supplying the unused processing liquid adjusted by the adjusting tank to the processing tank when the used processing liquid is discharged from the processing tank in the draining step.

【0021】それによって、処理液を循環させる際には
処理槽をタンクとして利用することができるから、1つ
の調整タンクを用いるだけで、劣化した処理液の排出
と、新たな処理液の供給とを迅速に行うことが可能とな
る。
Thus, when the processing liquid is circulated, the processing tank can be used as a tank. Therefore, the discharge of the deteriorated processing liquid and the supply of a new processing liquid can be achieved by using only one adjustment tank. Can be performed quickly.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面を参照して説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0023】図1と図2はこの発明の第1の実施の形態
野処理装置を示し、図1に示すこの処理装置は処理槽2
1を備えている。この処理槽21には液晶用ガラス基板
や半導体ウエハなどの被処理物Wが図示しない搬送ロー
ラなどの搬入手段によって供給されるようになってい
る。なお、処理槽21内に搬入された被処理物Wは処理
液Lを噴射されながら搬送され、前記搬送手段により処
理槽21より搬出されるようになっている。
FIGS. 1 and 2 show a processing apparatus according to a first embodiment of the present invention. This processing apparatus shown in FIG.
1 is provided. A processing object W such as a glass substrate for liquid crystal or a semiconductor wafer is supplied to the processing tank 21 by carrying-in means such as a conveying roller (not shown). The workpiece W carried into the processing tank 21 is transported while being sprayed with the processing liquid L, and is carried out of the processing tank 21 by the transport means.

【0024】上記処理槽21の底部には排液弁23を有
する排液管24の一端が接続されている。この排液管2
4の他端は図示しない排液槽に導かれている。さらに、
処理槽21の底部は循環管25の一端が接続されてい
る。この循環管25の中途部には循環ポンプ26が設け
られ、他端は電動式の三方切換弁27の第1のポート2
7aに接続されている。
One end of a drain pipe 24 having a drain valve 23 is connected to the bottom of the processing tank 21. This drain pipe 2
The other end of 4 is guided to a drain tank (not shown). further,
One end of a circulation pipe 25 is connected to the bottom of the processing tank 21. A circulation pump 26 is provided at an intermediate portion of the circulation pipe 25, and the other end is connected to a first port 2 of an electric three-way switching valve 27.
7a.

【0025】上記三方切換弁27の第2のポート27b
には上記処理槽21内に保持された被処理物Wに向けて
処理液Lを噴射するノズル28が接続され、第3のポー
ト27cには供給管29の一端が接続されている。この
供給管29の他端は供給ポンプ31を介して調整タンク
32に接続されている。
The second port 27b of the three-way switching valve 27
Is connected to a nozzle 28 for injecting the processing liquid L toward the workpiece W held in the processing tank 21, and one end of a supply pipe 29 is connected to the third port 27 c. The other end of the supply pipe 29 is connected to an adjustment tank 32 via a supply pump 31.

【0026】なお、上記排液管24は上記供給管29に
比べて十分に大径に設定されている。それによって、後
述するように処理槽21に貯えられた処理液Lの排出を
短時間で行うことができるようになっている。
The drain pipe 24 is set to have a sufficiently larger diameter than the supply pipe 29. Thereby, the processing liquid L stored in the processing tank 21 can be discharged in a short time as described later.

【0027】上記処理槽21にはレベルスイッチ30が
設けられている。このレベルスイッチ30は処理槽21
内の処理液Lが排出された所定のレベルになったことを
検出する下部接点30aと、調整タンク32から供給さ
れる処理液Lが所定のレベルになったことを検出する上
部接点30bとが設けられている。
The processing tank 21 is provided with a level switch 30. This level switch 30 is connected to the processing tank 21.
A lower contact 30a that detects that the processing liquid L in the inside has reached a predetermined level discharged, and an upper contact 30b that detects that the processing liquid L supplied from the adjustment tank 32 has reached a predetermined level. Is provided.

【0028】上記調整タンク32には原液供給管33か
ら処理液Lの原液と、希釈管34から上記原液を所定の
濃度に希釈するための希釈液とが供給されるようになっ
ている。さらに、調整タンク32には所定の濃度に調整
された処理液Lを所定の温度に加熱するための電熱式の
ヒータ35が設けられている。
The adjusting tank 32 is supplied with a stock solution of the processing liquid L from a stock solution supply pipe 33 and a diluent for diluting the stock solution to a predetermined concentration from a dilution pipe 34. Further, the adjustment tank 32 is provided with an electrothermal heater 35 for heating the processing liquid L adjusted to a predetermined concentration to a predetermined temperature.

【0029】上記排液弁23、循環ポンプ26、三方切
換弁27、上記レベルスイッチ30、供給ポンプ31及
びヒータ35は制御装置36に電気的に接続されてい
る。そして、制御装置36は、後述するように上記各ポ
ンプ26,31を発停制御したり、各弁24,27を開
閉制御するようになっている。
The drain valve 23, the circulation pump 26, the three-way switching valve 27, the level switch 30, the supply pump 31, and the heater 35 are electrically connected to a controller 36. The control device 36 controls the start and stop of the pumps 26 and 31 and controls the opening and closing of the valves 24 and 27 as described later.

【0030】つぎに、上記構成の処理装置によって被処
理物Wを処理する場合の動作について説明する。
Next, a description will be given of an operation in the case where the processing object W is processed by the processing apparatus having the above configuration.

【0031】まず、調整タンク32で処理液Lが所定の
濃度及び温度に調整されたならば、供給ポンプ31が作
動して調整タンク32内の処理液Lを供給管29、第3
のポート27cと第2のポート27bとが連通する状態
に切り換えられた三方切換弁27及びノズル28を介し
て処理槽21に供給する。処理槽21の底部に設けられ
た排液弁23は閉じられているから、処理槽21は処理
液Lを貯えるタンクとして機能することになる。この時
の処理液Lの流れを図2(a)に矢印で示す。
First, when the processing liquid L is adjusted to a predetermined concentration and temperature in the adjusting tank 32, the supply pump 31 is operated to supply the processing liquid L in the adjusting tank 32 to the supply pipe 29 and the third pipe.
Is supplied to the processing tank 21 via the three-way switching valve 27 and the nozzle 28 which are switched to a state where the port 27c and the second port 27b communicate with each other. Since the drain valve 23 provided at the bottom of the processing tank 21 is closed, the processing tank 21 functions as a tank for storing the processing liquid L. The flow of the processing liquid L at this time is indicated by an arrow in FIG.

【0032】そして、処理槽21への処理液Lのレベル
がレベルスイッチ30の上部接点30bに達すると、こ
のレベルスイッチ30からの検出信号によって上記供給
ポンプ31の運転が停止される。
When the level of the processing liquid L to the processing tank 21 reaches the upper contact 30b of the level switch 30, the operation of the supply pump 31 is stopped by a detection signal from the level switch 30.

【0033】処理液Lが貯えられた処理槽21には被処
理物Wが供給される。被処理物Wが処理槽21内に図示
せぬ搬送装置によって搬入されると、三方切換弁27が
第1のポート27aと第2のポート27bとが連通する
よう切り換えられてから、循環ポンプ26が作動する。
それによって、処理槽21内に貯えられた処理液Lが循
環管25を通ってノズル28から被処理物Wに向けて噴
射されるから、この被処理物Wが処理されることにな
る。この時の処理液の流れを図2(b)に示す。
The workpiece W is supplied to the processing tank 21 in which the processing liquid L is stored. When the workpiece W is carried into the processing tank 21 by a transport device (not shown), the three-way switching valve 27 is switched so that the first port 27a and the second port 27b communicate with each other. Operates.
Thereby, the processing liquid L stored in the processing tank 21 is jetted from the nozzle 28 toward the processing target W through the circulation pipe 25, so that the processing target W is processed. The flow of the processing liquid at this time is shown in FIG.

【0034】このように、処理された被処理物Wが搬送
装置により処理槽21から搬出され、未処理の被処理物
Wが搬入されて処理工程が繰り返される。
As described above, the processed object W is carried out of the processing tank 21 by the transfer device, the unprocessed object W is carried in, and the processing steps are repeated.

【0035】このような処理が繰り返して行われること
で処理槽21に貯えられた処理液Lが劣化したならば、
排液弁23が開放され、処理槽21内の処理液Lが排出
される。処理槽21内の処理液Lのレベルがレベルセン
サ30の下部接点30aによって検出される位置まで低
下すると、三方切換弁27が第3のポート27cと第2
のポート27bとが連通する状態に切り換えられると同
時に、供給ポンプ31が作動され、調整タンク32で調
整された処理液Lが供給管29を通じてノズル28から
処理槽21へ供給される。
If the processing liquid L stored in the processing tank 21 deteriorates due to the repetition of such processing,
The drain valve 23 is opened, and the processing liquid L in the processing tank 21 is discharged. When the level of the processing liquid L in the processing tank 21 decreases to a position detected by the lower contact 30a of the level sensor 30, the three-way switching valve 27 connects the third port 27c to the second port 27c.
Is switched to the state of communication with the port 27b, and at the same time, the supply pump 31 is operated, and the processing liquid L adjusted in the adjustment tank 32 is supplied from the nozzle 28 to the processing tank 21 through the supply pipe 29.

【0036】供給ポンプ31が作動する時点、つまり処
理槽21内の処理液Lがレベルセンサ30の下部接点3
0aで検知される時点では処理槽21内には劣化した処
理液Lが残留している。
When the supply pump 31 operates, that is, when the processing liquid L in the processing tank 21 is
At the point of time when it is detected as 0a, the degraded processing liquid L remains in the processing tank 21.

【0037】しかしながら、排液管24による排液速度
は供給管29による供給速度に比べて十分に速いから、
調整タンク32から処理槽21に供給される未使用の処
理液Lが処理槽21に残留する劣化した処理液Lに混合
するのを防止できる。そして、レベルセンサ30の下部
接点30aが処理液Lのレベルを検出してから所定時間
後、つまり劣化した処理液Lが処理槽21から排出され
終わると、排液弁23が閉じられ、調整タンク32から
供給された新たな処理液Lが処理槽21に貯えられるこ
とになる。
However, since the drainage speed of the drainage pipe 24 is sufficiently higher than the supply speed of the supply pipe 29,
It is possible to prevent the unused processing liquid L supplied from the adjustment tank 32 to the processing tank 21 from being mixed with the deteriorated processing liquid L remaining in the processing tank 21. Then, a predetermined time after the lower contact point 30a of the level sensor 30 detects the level of the processing liquid L, that is, when the deteriorated processing liquid L is completely discharged from the processing tank 21, the drain valve 23 is closed and the adjustment tank is closed. The new processing liquid L supplied from 32 is stored in the processing tank 21.

【0038】つまり、処理液Lの供給速度と排出速度に
応じてレベルセンサ30の下部接点30aの高さを設定
しておくことで、処理槽21から劣化した処理液Lが全
て排出されるのを待たずに新たな処理液Lを供給するこ
とができるから、処理液Lの排出と供給とに要する時間
を短縮することができる。
That is, by setting the height of the lower contact 30a of the level sensor 30 in accordance with the supply speed and the discharge speed of the processing liquid L, all the deteriorated processing liquid L is discharged from the processing tank 21. Since the new processing liquid L can be supplied without waiting, the time required for discharging and supplying the processing liquid L can be reduced.

【0039】供給タンク32から処理槽21に供給され
る処理液Lのレベルが所定の高さに達し、そのことがレ
ベルセンサ30の上部接点30bによって検出される
と、その検出信号で供給ポンプ31が停止される。つま
り、処理槽21には未使用の処理液Lが所定量供給され
たことになる。
When the level of the processing liquid L supplied from the supply tank 32 to the processing tank 21 reaches a predetermined level and is detected by the upper contact 30b of the level sensor 30, the detection signal indicates that the supply pump 31 Is stopped. That is, a predetermined amount of the unused processing liquid L is supplied to the processing tank 21.

【0040】処理槽21に新たな処理液Lが供給され終
わると、この処理槽21には未処理の被処理物Wが搬入
された後、上述したように処理液Lが循環させられてそ
の被処理物Wの処理が行われることになる。
When the supply of the new processing liquid L to the processing tank 21 is completed, the unprocessed workpiece W is carried into the processing tank 21, and then the processing liquid L is circulated and circulated as described above. The processing of the workpiece W is performed.

【0041】このように、被処理物Wを処理するための
処理液Lを処理槽21に貯えるようにしたことで、その
処理液Lを貯えるためのタンクが不要となる。つまり、
従来は2つのタンクが必要であったが、この発明によれ
ば、処理液Lを調整するための調整タンク32だけを備
えるようにすればよい。
As described above, since the processing liquid L for processing the workpiece W is stored in the processing tank 21, a tank for storing the processing liquid L becomes unnecessary. That is,
Conventionally, two tanks were required, but according to the present invention, only the adjustment tank 32 for adjusting the processing liquid L may be provided.

【0042】したがって、従来に比べて装置を小型化す
ることができるばかりか、構成も簡略化することができ
るから、これらのことによってコストを低減することが
可能となる。
Therefore, not only can the device be miniaturized as compared with the conventional one, but also the structure can be simplified, so that it is possible to reduce the cost.

【0043】図3はこの発明の第2の実施の形態であ
る。この第2の実施の形態は、処理槽21の底部に設け
られる排液管24に三方切換弁41を設け、その残りの
ポートに循環管25の一端を接続するようにしたもので
あって、このような構成でも、上記第1の実施の形態と
同様、処理液Lの循環や排出を確実に行うことが可能で
ある。なお、この第2の実施例において、上記第1の実
施例と同一部分には同一記号を付して説明を省略する。
FIG. 3 shows a second embodiment of the present invention. In the second embodiment, a three-way switching valve 41 is provided in a drain pipe 24 provided at the bottom of a processing tank 21, and one end of a circulation pipe 25 is connected to the remaining port. Even with such a configuration, it is possible to reliably circulate and discharge the processing liquid L, similarly to the first embodiment. In the second embodiment, the same parts as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.

【0044】[0044]

【発明の効果】請求項1と請求項3の発明によれば、処
理液を循環させる際には処理槽をタンクとして利用する
ため、1つの調整タンクを設けるだけで、処理液を循環
させたり、使用中の処理液が劣化したならば、その処理
液を上記調整タンクで予め調整された新たな処理液に交
換することが可能となる。
According to the first and third aspects of the present invention, since the processing tank is used as a tank when circulating the processing liquid, the processing liquid can be circulated only by providing one adjusting tank. If the used processing solution is deteriorated, the processing solution can be replaced with a new processing solution prepared in advance in the adjustment tank.

【0045】つまり、従来は処理液を循環させるための
タンクと、処理液を予め調整しておくためのタンクとが
用いられていたが、この発明によれば1つのタンクです
むため、装置の小型化や構成の簡略化を計ることができ
る。
That is, conventionally, a tank for circulating the processing liquid and a tank for adjusting the processing liquid in advance have been used. However, according to the present invention, only one tank is required. It is possible to reduce the size and simplify the configuration.

【0046】請求項2の発明によれば、処理液を排出す
るときのレベルと、新たな処理液を供給するときのレベ
ルとを検出するようにした。そのため、処理槽からの劣
化した処理液の排出と、処理槽への新たな処理液の供給
とを、迅速かつ確実に行うことが可能となる。
According to the second aspect of the present invention, the level when the processing liquid is discharged and the level when the new processing liquid is supplied are detected. For this reason, it is possible to quickly and reliably discharge the deteriorated processing liquid from the processing tank and supply a new processing liquid to the processing tank.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の第1の実施の形態を示す処理装置の
概略的構成図。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a processing apparatus according to a first embodiment of the present invention.

【図2】同じく処理液の流れを説明するための図。FIG. 2 is a view for explaining a flow of a processing liquid.

【図3】この発明の第2の実施の形態を示す処理装置の
概略的構成図。
FIG. 3 is a schematic configuration diagram of a processing apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図4】従来の処理装置を示す概略的構成図。FIG. 4 is a schematic configuration diagram showing a conventional processing apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

21…処理槽 23…排液弁(排液手段) 24…排液管(排液手段) 25…循環管(処理液循環手段) 26…循環ポンプ(処理液循環手段) 29…供給管 31…供給ポンプ(供給手段) 32…調整タンク(供給手段) DESCRIPTION OF SYMBOLS 21 ... Treatment tank 23 ... Drainage valve (drainage means) 24 ... Drainage pipe (drainage means) 25 ... Circulation pipe (treatment liquid circulation means) 26 ... Circulation pump (treatment liquid circulation means) 29 ... Supply pipe 31 ... Supply pump (supply means) 32 ... Adjustment tank (supply means)

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 被処理物を処理液によって処理する処理
装置において、 内部に上記処理液を貯えることができる処理槽と、 上記処理槽に貯えられた処理液を循環させこの処理槽に
供給された被処理物を処理する処理液循環手段と、 使用に伴ない劣化した処理液を上記処理槽から排出する
排液手段と、 使用条件に応じて調整された未使用の処理液を貯える調
整タンクと、 上記排液手段によって上記処理槽から使用済みの処理液
が排出されたならば上記調整タンクに貯えられた未使用
の処理液を上記処理槽へ供給する供給手段とを具備した
ことを特徴とする処理装置。
1. A processing apparatus for processing an object to be processed with a processing liquid, comprising: a processing tank capable of storing the processing liquid therein; a processing liquid stored in the processing tank being circulated and supplied to the processing tank. Processing liquid circulation means for processing the processed object, drainage means for discharging the processing liquid deteriorated due to use from the processing tank, and an adjustment tank for storing an unused processing liquid adjusted according to use conditions And supplying means for supplying unused processing liquid stored in the adjustment tank to the processing tank when used processing liquid is discharged from the processing tank by the drainage means. Processing equipment.
【請求項2】 上記処理槽には、上記排液手段によって
排出される処理液のレベルと、上記供給手段によって供
給される処理液のレベルとを検出する検出手段が設けら
れていることを特徴とする請求項1記載の処理装置。
2. The apparatus according to claim 1, wherein said processing tank is provided with a detecting means for detecting a level of the processing liquid discharged by said discharging means and a level of the processing liquid supplied by said supplying means. The processing device according to claim 1.
【請求項3】 処理槽に供給された被処理物を処理液に
よって処理する処理方法において、 上記処理槽に貯えられた処理液を循環させこの処理槽に
供給された被処理物を処理する処理工程と、 処理工程と同時に調整タンクで使用条件にい応じた処理
液を調整する調整工程と、 使用に伴ない劣化した処理液を上記処理槽から排出する
排液工程と、 排液工程によって上記処理槽から使用済みの処理液が排
出されたならば上記調整タンクで調整された未使用の処
理液を上記処理槽へ供給する供給工程とを具備したこと
を特徴とする処理方法。
3. A processing method for processing an object supplied to a processing tank with a processing liquid, wherein the processing liquid stored in the processing tank is circulated to process the object supplied to the processing tank. An adjusting step of adjusting the processing liquid according to the use conditions in the adjusting tank at the same time as the processing step; a draining step of discharging the processing liquid deteriorated due to use from the processing tank; Supplying the unused processing liquid adjusted by the adjustment tank to the processing tank when the used processing liquid is discharged from the processing tank.
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