JP2000223280A - Organic electroluminescent display element - Google Patents

Organic electroluminescent display element

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JP2000223280A
JP2000223280A JP11023606A JP2360699A JP2000223280A JP 2000223280 A JP2000223280 A JP 2000223280A JP 11023606 A JP11023606 A JP 11023606A JP 2360699 A JP2360699 A JP 2360699A JP 2000223280 A JP2000223280 A JP 2000223280A
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JP
Japan
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layer
cathode
film
anode
organic
Prior art date
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JP11023606A
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Japanese (ja)
Inventor
Hideaki Ueda
秀昭 植田
Yoshihisa Terasaka
佳久 寺阪
Keiichi Furukawa
慶一 古川
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Minolta Co Ltd
Original Assignee
Minolta Co Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/19Segment displays

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  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To impart dummy transparency to enhance luminance so as to improve luminous efficiency and thereby to facilitate the manufacturing of an organic electroluminescent display element. SOLUTION: This element A is composed by providing a positive electrode 1, an organic luminescent film La and a negative electrode 5. In this case, the positive electrode 1 is formed of a translucent conductive film, the negative electrode 5 is formed of a metal film containing a metal having a low work function, and a current-carrying laid-around part 10 formed of a translucent conductive film is connected to and formed on the negative electrode 5.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、一対の電極と、該
両電極間の有機発光層を含む有機化合物からなる膜(有
機発光膜)を備えた有機エレクトロルミネッセンス表示
素子に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an organic electroluminescent display device comprising a pair of electrodes and a film (organic light emitting film) made of an organic compound containing an organic light emitting layer between the two electrodes.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、情報機器の多様化に伴って、CR
Tより低消費電力で薄型の平面表示素子のニーズが高ま
っている。このような平面表示素子としては液晶表示素
子、プラズマディスプレイ(PDP)等があるが、特
に、最近は自己発光型で、表示が鮮明で視野角の広いエ
レクトロルミネッセンス素子が注目されている。エレク
トロルミネッセンス素子はそれを構成する材料により無
機エレクトロルミネッセンス素子と有機エレクトロルミ
ネッセンス素子に大別することができ、無機エレクトロ
ルミネッセンス素子は既に実用化され商品として市販さ
れている。
2. Description of the Related Art In recent years, with the diversification of information devices, CR
There is an increasing need for a thin flat display device that consumes less power than T. Such flat display devices include a liquid crystal display device, a plasma display (PDP), and the like. In particular, recently, a self-luminous electroluminescent device having a clear display and a wide viewing angle has been attracting attention. Electroluminescent elements can be broadly classified into inorganic electroluminescent elements and organic electroluminescent elements depending on the materials constituting them, and inorganic electroluminescent elements have already been put to practical use and commercially available as commercial products.

【0003】しかしながら、無機エレクトロルミネッセ
ンス素子の発光は、高電界の印加によって加速された電
子を発光中心に衝突させて発光させるという、いわゆる
衝突型励起発光であるため、該素子の駆動には100V
以上の高電圧の印加が要求される。このため、周辺機器
の高コスト化を招くという問題がある。また、青色発光
の良好な発光体がないためフルカラーの表示ができない
という問題もある。
However, the light emission of the inorganic electroluminescence element is so-called collision excitation light emission, in which electrons accelerated by the application of a high electric field collide with the light emission center to emit light.
The application of the above high voltage is required. Therefore, there is a problem that the cost of the peripheral device is increased. In addition, there is also a problem that a full-color display cannot be performed because there is no luminous body that emits blue light.

【0004】これに対して、有機エレクトロルミネッセ
ンス素子は、陽極及び陰極の両電極から注入された電荷
(正孔及び電子)が発光体中で再結合して励起子を生成
し、それが発光材料の分子を励起して発光するという、
いわゆる注入型発光素子であるため、低電圧で駆動する
ことができる。しかも、発光材料は有機化合物であるた
め発光材料の分子構造を容易に変更することができ、そ
れにより任意の発光色を得ることができる。従って、有
機エレクトロルミネッセンス素子はこれからの表示素子
として非常に有望である。
On the other hand, in an organic electroluminescence element, charges (holes and electrons) injected from both an anode and a cathode are recombined in a luminous body to generate an exciton, which is a luminescent material. That excites the molecule and emits light.
Since it is a so-called injection type light emitting element, it can be driven at a low voltage. In addition, since the light-emitting material is an organic compound, the molecular structure of the light-emitting material can be easily changed, so that an arbitrary color can be obtained. Therefore, the organic electroluminescence element is very promising as a future display element.

【0005】有機エレクトロルミネッセンス素子の原形
は、正孔輸送層と電子輸送層の2層を備えた2層構造の
素子であり、タン(Tang)とバンスライク(VanSlyke)
によって提案された[ C. W. Tang and S. A. VanSlyk
e; Appl. Phys. Lett., 51 (1987) 913 ]。該素子は、
ガラス基板上に積層形成した陽極、正孔輸送層、電子輸
送性発光層及び陰極からなる。
The original form of the organic electroluminescence device is a two-layer device having two layers, a hole transport layer and an electron transport layer, and is composed of Tang and VanSlyke.
[CW Tang and SA VanSlyk
e; Appl. Phys. Lett., 51 (1987) 913]. The element is
It comprises an anode, a hole transport layer, an electron transporting light emitting layer, and a cathode, which are formed on a glass substrate.

【0006】かかる素子では、正孔輸送層が陽極から電
子輸送性発光層へ正孔を注入する働きをするとともに、
陰極から注入された電子が正孔と再結合することなく陽
極へ逃げるのを防ぎ、電子輸送性発光層内に電子を封じ
込める役割をも果たしている。このため、この正孔輸送
層による電子の封じ込め効果により、単層発光体構造の
素子に比べてより効率よく電子と正孔の再結合が起こ
り、駆動電圧の大幅な低下が可能になった。
In such a device, the hole transport layer functions to inject holes from the anode to the electron transporting light emitting layer,
It prevents electrons injected from the cathode from escaping to the anode without recombination with holes, and also serves to confine electrons in the electron-transporting luminescent layer. For this reason, due to the effect of confining electrons by the hole transport layer, recombination of electrons and holes occurs more efficiently than in a device having a single-layer light-emitting structure, and a drastic reduction in driving voltage has become possible.

【0007】また、斎藤らは、2層構造の素子におい
て、電子輸送層だけでなく正孔輸送層も発光層となり得
ることを示した[ C. Adachi, T. Tsutsui and S. Sait
o; Appl. Phys. Lett., 55 (1989) 1489 ]。
Saito et al. Have shown that in a device having a two-layer structure, not only an electron transport layer but also a hole transport layer can serve as a light-emitting layer [C. Adachi, T. Tsutsui and S. Sait.
o; Appl. Phys. Lett., 55 (1989) 1489].

【0008】斉藤らは、2層構造素子の改良として正孔
輸送層と電子輸送層の間に有機発光層が挟まれた3層構
造の素子を提案している[ C. Adachi, S. Tokito, T.
Tsutsui and S. Saito; Jpn. J. Appl. Phys., 27 (198
8) L269 ]。これは、ガラス基板上に積層形成した陽
極、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、陰極からなり、
正孔輸送層が電子を発光層に封じ込める働きをするとと
もに、電子輸送層が正孔を発光層に封じ込める働きをす
るため発光効率がさらに向上している。
Have proposed a three-layer device in which an organic light emitting layer is interposed between a hole transport layer and an electron transport layer as an improvement of the two-layer device [C. Adachi, S. Tokito] , T.
Tsutsui and S. Saito; Jpn. J. Appl. Phys., 27 (198
8) L269]. It consists of an anode, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and a cathode laminated on a glass substrate,
Since the hole transport layer functions to confine electrons in the light emitting layer, and the electron transport layer functions to confine holes in the light emitting layer, the luminous efficiency is further improved.

【0009】ところで有機エレクトロルミネッセンス素
子の陰極は一般的には仕事関数の小さな金属を有機層の
上に100nm程度の膜厚に蒸着して形成されており、
不透明である。有機エレクトロルミネッセンス素子にお
いて陽極とともに陰極も透光性を有する電極を用いた場
合には透光性の自発光素子となり、応用範囲が広がる。
The cathode of an organic electroluminescence device is generally formed by depositing a metal having a small work function on an organic layer to a thickness of about 100 nm.
It is opaque. In the case of using an electrode having a light-transmitting property in both an anode and a cathode in an organic electroluminescent element, the light-emitting element becomes a light-transmitting self-luminous element, and its application range is widened.

【0010】この点、透明な有機エレクトロルミネッセ
ンス素子については、特開平8−185984号公報に
開示されている。同公報が教える素子は、電子輸送層、
発光層及び正孔輸送層からなる有機発光膜と透明導電層
の間に低仕事関数の金属又はその合金の透光性を有する
数nmの薄層を形成し、その上にITO(Indium TinOxi
de)からなる透明導電層(陰極)を形成する一方、正孔
輸送層側にはITOからなる透明導電層(陽極)を設け
たものである。一般に陰極に透明導電層を電極として用
いた場合、陰極と電子輸送層のエネルギーギャップが大
きくなりすぎ有機発光膜への電子注入性が低下し発光効
率は悪くなるが、有機発光膜と透明導電層の間に低仕事
関数の金属又はその合金の数nmの薄層を挿入すること
でこれを解決しようとするものである。
In this regard, a transparent organic electroluminescence device is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 8-185894. The device taught by the publication is an electron transport layer,
A thin layer of a few nm having a low work function metal or an alloy thereof having a light-transmitting property is formed between an organic light-emitting film comprising a light-emitting layer and a hole transport layer and a transparent conductive layer, and ITO (Indium TinOxi) is formed thereon.
A transparent conductive layer (anode) made of ITO is provided on the hole transport layer side while a transparent conductive layer (anode) made of de) is formed. In general, when a transparent conductive layer is used as an electrode for the cathode, the energy gap between the cathode and the electron transport layer becomes too large, and the electron injecting property to the organic light emitting film is reduced and the luminous efficiency is deteriorated. This is intended to solve this by inserting a thin layer of a few nm of a low work function metal or its alloy between them.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
8−185984号公報に記載の構造の素子を作製する
場合、仕事関数の低い金属の薄層を採用する故に次の問
題がある。すなわち、仕事関数の低い金属の薄膜を形成
することは難しく、薄膜が形成できたとしても薄膜の状
態では酸化等が起きやすく非常に不安定であるため、か
かる低仕事関数金属の薄膜上に透明導電層を形成するの
は非常に困難である。
However, when an element having the structure described in Japanese Patent Application Laid-Open No. HEI 8-185894 is manufactured, the following problem arises because a thin metal layer having a low work function is employed. In other words, it is difficult to form a thin film of a metal having a low work function, and even if a thin film can be formed, oxidation or the like is likely to occur in the state of the thin film and it is very unstable. It is very difficult to form a conductive layer.

【0012】そこで本発明は、疑似的に透光性を有し、
高輝度で発光効率がよく、作製容易である有機エレクト
ロルミネッセンス素子を提供することを課題とする。
Therefore, the present invention has a pseudo light-transmitting property,
It is an object of the present invention to provide an organic electroluminescent element which has high luminance, good luminous efficiency, and is easy to manufacture.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明者の研究による
と、有機エレクトロルミネッセンス素子において高輝
度、高発光効率を達成するという観点からすると、陰極
には低仕事関数の金属からなる比較的厚い膜を採用する
ことがよいこと、そのような比較的厚い膜を採用する
と、その部分では透光性が小さくなる又はなくなるもの
の、その部分の、素子の被観察領域全体に占める面積割
合を小さくすれば、疑似的に透光性を達成できる、その
ような疑似的な透光性を有する素子は、例えばカメラの
ファインダー、コンピュータのディスプレイ、テレビ、
その他の表示機器における表示画面、自動者等の車両の
フロントガラスやメータ類の透明カバー、窓ガラス等に
組み込んでも、それらの本来の用途、機能などを妨げる
ことなく、必要に応じて発光させて表示できる。
According to the study of the present inventors, from the viewpoint of achieving high luminance and high luminous efficiency in an organic electroluminescence element, a relatively thick film made of a metal having a low work function is formed on the cathode. If such a relatively thick film is used, the light transmittance is reduced or eliminated in that portion, but if the area ratio of the portion to the entire observation region of the element is reduced, Such pseudo-transparent elements that can achieve pseudo-transparency are, for example, camera viewfinders, computer displays, televisions,
Even if it is incorporated into the display screen of other display devices, the windshield of vehicles such as automobiles, the transparent cover of meters, the window glass, etc., it is possible to emit light as necessary without interfering with their intended use and functions. Can be displayed.

【0014】本発明はかかる知見に基づくもので、前記
課題を解決するため、少なくと陽極、有機発光膜及び陰
極を有する有機エレクトロルミネッセンス表示素子にお
いて、前記陽極が透光性導電性膜からなり、前記陰極が
低仕事関数の金属を含有する金属膜からなり、該陰極に
透光性導電性膜からなる通電用引き回し部分が接続形成
されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセ
ンス表示素子を提供する。
The present invention is based on this finding, and in order to solve the above-mentioned problems, in an organic electroluminescence display element having at least an anode, an organic light-emitting film, and a cathode, the anode comprises a light-transmitting conductive film; An organic electroluminescent display element, wherein the cathode is formed of a metal film containing a metal having a low work function, and a conducting portion formed of a light-transmitting conductive film is connected to the cathode. .

【0015】前記有機発光膜としては次のものを例示で
きる。 陽極側から陰極側へ、正孔移動関連層及び有機発光層
を積層したもの、 陽極側から陰極側へ、正孔移動関連層、有機発光層及
び電子移動関連層を積層したもの、 陽極側から陰極側へ、有機発光層及び電子移動関連層
を積層したもの。 正孔移動関連層や電子移動関連層は、電極の特性や有機
発光層の特性にあわせて必要に応じて設けるようにすれ
ばよい。〜において、正孔移動関連層としては、
a)正孔注入層、b)正孔輸送層、c)正孔注入層及び
正孔輸送層、d)正孔注入輸送層からなる群れより選択
されるいずれかの層とすることができ、電子移動関連層
としては、a)電子注入層、b)電子輸送層、c)電子
注入層及び電子輸送層、d)電子注入輸送層からなる群
れより選択されるいずれかの層とすることができる。こ
れらの各層も、電極の特性や有機発光層の特性に合わせ
て適当なものを選択して設けるようにすればよい。まこ
〜において、有機発光層については、例えば正孔輸
送層や正孔注入輸送層の全部若しくは一部、又は電子輸
送層や電子注入輸送層の全部若しくは一部に、蛍光物質
をドープすることで、これらの層の全部又は一部を発光
層とすることもできる。
The following are examples of the organic light emitting film. From the anode side to the cathode side, a layer in which a hole transfer-related layer and an organic light-emitting layer are laminated. From the anode side to the cathode side, a layer in which a hole transfer-related layer, an organic light-emitting layer, and an electron transfer layer are laminated, from the anode side. An organic light emitting layer and an electron transfer related layer are laminated on the cathode side. The hole transfer related layer and the electron transfer related layer may be provided as needed according to the characteristics of the electrode and the characteristics of the organic light emitting layer. In the above, as the hole transfer-related layer,
a) a hole-injection layer, b) a hole-transport layer, c) a hole-injection layer and a hole-transport layer, and d) a hole-injection-transport layer. The electron transfer-related layer may be any layer selected from the group consisting of a) an electron injection layer, b) an electron transport layer, c) an electron injection layer and an electron transport layer, and d) an electron injection and transport layer. it can. Each of these layers may be appropriately selected and provided according to the characteristics of the electrode and the characteristics of the organic light emitting layer. In the above, for the organic light-emitting layer, for example, all or a part of the hole transport layer or the hole injection transport layer, or all or a part of the electron transport layer or the electron injection transport layer is doped with a fluorescent substance. All or a part of these layers can be used as a light emitting layer.

【0016】いずれにしても、本発明に係る有機エレク
トロルミネッセンス表示素子によると、陰極は低仕事関
数の金属を含有する金属膜からなるから、高輝度、高発
光率の表示を達成できる。そして該陰極がたとえ透光性
を有しない場合でも、陰極に接続形成された通電用の引
回し部分や陽極は透光性導電性膜からなっているから、
該陰極部分のうち、少なくとも発光表示に直接寄与する
部分、すなわち陽極に対向する部分を幅狭く形成した
り、その部分が素子表示画面(素子の被観察領域)に占
める面積割合を小さくしておく等により、本発明に係る
表示素子は疑似的に透光性を有することができ、各種分
野に適用できる。例えば、カメラ、顕微鏡、望遠鏡等の
インファインダー用ディスプレイ、時計の文字盤の照明 窓ガラス、水槽など透明な板面に組み込んだディスプレ
イや照明、自動車、鉄道車両等のヘッドアップディスプ
レイ、車両等のバックミラーやルームミラーに組み込ん
だディスプレイ、他の表示画面に重ねて使用するオーバ
ーレイディスプレイ、トレースタブレットに組み込んだ
ディスプレイ、蛍光表示玩具など、幅広い分野に適用で
きる。
In any case, according to the organic electroluminescence display device of the present invention, the cathode is made of a metal film containing a metal having a low work function, so that a display with high luminance and high luminous efficiency can be achieved. And even if the cathode does not have a light-transmitting property, since the wiring portion and the anode for energization connected to the cathode are made of a light-transmitting conductive film,
Of the cathode portion, at least a portion directly contributing to the light-emitting display, that is, a portion facing the anode is formed to be narrower, or the area occupied by the portion in an element display screen (observed area of the element) is reduced. Accordingly, the display element according to the present invention can have a pseudo-light-transmitting property and can be applied to various fields. For example, displays for infinders such as cameras, microscopes, telescopes, etc., lighting of clock faces, displays and lighting incorporated in transparent plates such as window glasses and water tanks, head-up displays for automobiles, railway cars, etc. It can be applied to a wide range of fields, such as displays incorporated in mirrors and room mirrors, overlay displays used on other display screens, displays incorporated in trace tablets, and fluorescent display toys.

【0017】本発明に係る有機エレクトロルミネッセン
ス表示素子のいずれについても、次の表示素子とするこ
とができる。 ・前記陰極の、発光に直接寄与する部分(有機発光膜の
発光部分に対応する部分、すなわち有機発光膜を介して
陽極と対向する部分)が、そして極端な場合はその部分
のみがマグネシウム又はリチウムを含有する金属膜から
なっている表示素子。 ・前記陽極が透光性の酸化インジウム錫化合物からな
り、前記陰極が非透光性の金属膜からなり、該陰極の周
囲が透光性を有している表示素子。 ・前記有機発光膜が前記陽極側に配置された正孔移動関
連層及び前記陰極側に配置された有機発光層を含んでお
り、前記陽極は透光性の導電性金属酸化物膜からなり、
前記陰極は不透明の金属膜からなり、前記陰極に接続さ
れた引回し部分は透光性の導電性化合物膜からなる表示
素子。
Any of the organic electroluminescent display elements according to the present invention can be the following display elements. A portion of the cathode that directly contributes to light emission (a portion corresponding to the light emitting portion of the organic light emitting film, that is, a portion facing the anode via the organic light emitting film), and in an extreme case, only that portion is magnesium or lithium. A display element comprising a metal film containing: A display element in which the anode is made of a light-transmitting indium tin oxide compound, the cathode is made of a non-light-transmitting metal film, and the periphery of the cathode is light-transmitting; The organic light-emitting film includes a hole-transfer-related layer disposed on the anode side and an organic light-emitting layer disposed on the cathode side, wherein the anode is formed of a translucent conductive metal oxide film;
The display element, wherein the cathode is formed of an opaque metal film, and a routing portion connected to the cathode is formed of a light-transmitting conductive compound film.

【0018】・前記陽極及び該陽極上に接続されるべき
通電用引回し部分がITO(Indium Tin Oxide)膜で透明
基板上にパターンニング形成されており、前記陰極が不
透明金属膜からなる表示素子。 ・前記陽極・陰極間部分の厚さが20nm〜200nm
である表示素子。このような素子の膜厚は、素子のブレ
イクダウンを防ぎつつ、駆動電圧を低くする上で都合が
よい。 ・前記陰極を構成している線の幅が1mm以下である表
示素子。このような陰極線幅は素子を疑似的に透明にす
る上で好ましい。陰極の線幅の下限は特に限定されず、
陰極を形成する際に用いるマスクの精度の許容範囲、例
えば10μm程度まで細くすることも可能である。 ・前記有機発光膜における発光層は蛍光色素がドープさ
れた層である表示素子。ドープする蛍光色素を選択で
き、発光波長の選択、発光効率、素子寿命の点で有利で
ある。 ・前記有機発光膜が前記陰極側から前記陽極側へ電子移
動関連層、発光層、正孔移動関連層を含んでいる表示素
子。
A display element in which the anode and a current-passing portion to be connected to the anode are patterned on a transparent substrate with an ITO (Indium Tin Oxide) film, and the cathode is formed of an opaque metal film; . The thickness of the portion between the anode and the cathode is 20 nm to 200 nm;
A display element. Such a film thickness of the element is convenient for lowering the driving voltage while preventing breakdown of the element. A display element in which the width of a line constituting the cathode is 1 mm or less. Such a cathode line width is preferable for making the device pseudo transparent. The lower limit of the line width of the cathode is not particularly limited,
It is also possible to make the mask used in forming the cathode an allowable range of precision, for example, as thin as about 10 μm. -The display element in which the light emitting layer in the organic light emitting film is a layer doped with a fluorescent dye. A fluorescent dye to be doped can be selected, which is advantageous in terms of selection of emission wavelength, emission efficiency, and device life. A display element in which the organic light-emitting film includes an electron transfer-related layer, a light-emitting layer, and a hole transfer-related layer from the cathode side to the anode side;

【0019】・前記有機発光膜はそれぞれ個別的に発光
パターンが定められた少なくとも二つの発光部分を含ん
でおり、該各発光部分はそれぞれ異なる発光色で表示さ
れる表示素子。 ・2枚のガラス基板の間に封止されている表示素子。 ・2色以上のカラー表示が可能である表示素子。 ・前記有機発光膜における発光部分が占める面積が素子
の被観察領域全体の1/10以下である表示素子。換言
すれば、素子の発光表示部の面積が、発光表示部及び発
光表示部の周囲にある透光性部を含めた被観察領域全体
の面積の1/10以下である表示素子。このような表示素
子は、該表示素子を透して得られる透過像と重ねて表示
する際も、その透過像に対して発光表示部が比較的目障
りにならない点で好ましいものである。 ・前記陽極及び陰極は表示素子を単純マトリクス駆動さ
せるように設けられており、単純マトリクス駆動させ得
る表示素子。この素子は構造が簡単で製作し易くなり、
また、表示画面全体の透過率を上げることができる。
A display element in which the organic light emitting film includes at least two light emitting portions each having a light emitting pattern individually defined, and each of the light emitting portions is displayed in a different light emitting color. -A display element sealed between two glass substrates. A display element capable of displaying two or more colors. A display element in which the area occupied by the light emitting portion in the organic light emitting film is 1/10 or less of the whole observation area of the element. In other words, a display element in which the area of the light-emitting display portion of the element is 1/10 or less of the entire area of the observation region including the light-emitting display portion and the translucent portion surrounding the light-emitting display portion. Such a display element is preferable in that when the display is superimposed on a transmission image obtained through the display element, the light-emitting display portion does not relatively obstruct the transmission image. The anode and the cathode are provided to drive the display element in a simple matrix, and the display element can be driven in a simple matrix. This element has a simple structure and is easy to manufacture.
Further, the transmittance of the entire display screen can be increased.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】以下に本発明実施の形態を図面を
参照して説明する。図1から図5のそれぞれは本発明に
係る有機エレクトロルミネッセンス表示素子の例の概略
構成を模式的に示している。図1に示す表示素子Aは、
透明なガラス等からなる透明基板G上に透明導電性膜か
らなる陽極1、有機発光膜La、低仕事関数の金属を含
有する金属膜からなる陰極5及び透明導電性化合物膜か
らなる通電用の引回し部分10を順次積層形成したもの
である。有機発光膜Laはここでは積層された正孔注入
輸送層2及び有機発光層3から構成されている。正孔注
入輸送層2は陽極1に重ねられており、有機発光層3は
陰極5に重ねられている。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1 to 5 schematically show a schematic configuration of an example of the organic electroluminescent display device according to the present invention. The display element A shown in FIG.
An anode 1 made of a transparent conductive film, an organic light-emitting film La, a cathode 5 made of a metal film containing a metal with a low work function, and a current supply made of a transparent conductive compound film on a transparent substrate G made of a transparent glass or the like. The routing portion 10 is formed by sequentially laminating. Here, the organic light emitting film La is composed of a stacked hole injection / transport layer 2 and organic light emitting layer 3. The hole injection / transport layer 2 is overlaid on the anode 1, and the organic light emitting layer 3 is overlaid on the cathode 5.

【0021】図2に示す表示素子Bは、表示素子Aの変
形例であり、透明基板G上に陽極1、有機発光膜Lb、
陰極5及び通電用の引回し部分10を順次積層形成した
ものである。有機発光膜Lbは順次積層された正孔注入
輸送層2、有機発光層3’及び電子輸送層6からなって
いる。正孔注入輸送層2は陽極1に重ねられており、電
子輸送層6は陰極5に重ねられている。
A display element B shown in FIG. 2 is a modified example of the display element A. An anode 1, an organic light-emitting film Lb,
The cathode 5 and the wiring portion 10 for energization are sequentially laminated. The organic light emitting film Lb includes a hole injection / transport layer 2, an organic light emitting layer 3 ', and an electron transport layer 6, which are sequentially stacked. The hole injection / transport layer 2 is overlaid on the anode 1, and the electron transport layer 6 is overlaid on the cathode 5.

【0022】図3に示す表示素子Cは、透明なガラス等
からなる透明基板G上に透明導電性化合物膜からなる陽
極1、有機発光膜Lc、低仕事関数の金属を含有する金
属膜からなる陰極5及び透明導電性化合物膜からなる通
電用の引回し部分10を順次積層形成したものである。
有機発光膜Lcは順次積層された正孔注入層7、正孔輸
送層8、有機発光層3”、電子輸送層6及び電子注入層
4からなっている。正孔注入層7は陽極1に重ねられて
おり、電子注入層4は陰極5に重ねられている。
The display element C shown in FIG. 3 comprises an anode 1 made of a transparent conductive compound film, an organic light emitting film Lc, and a metal film containing a metal having a low work function on a transparent substrate G made of transparent glass or the like. In this structure, a current-carrying portion 10 composed of a cathode 5 and a transparent conductive compound film is sequentially laminated.
The organic light emitting film Lc includes a hole injection layer 7, a hole transport layer 8, an organic light emitting layer 3 ″, an electron transport layer 6, and an electron injection layer 4 that are sequentially stacked. The electron injection layer 4 is superimposed on the cathode 5.

【0023】図4に示す表示素子Dは、表示素子Cの変
形例であり、透明基板G上に陽極1、有機発光膜Ld、
陰極5及び透明導電性化合物膜からなる通電用の引回し
部分10’を順次積層形成し、さらに引回し部分10’
上に封止膜9を形成したものである。有機発光膜Ldは
図3に示す素子における有機発光膜Lcと同構成のもの
である。図5に示す表示素子Eは、透明なガラス等から
なる透明基板G上に透明導電性化合物膜からなる陽極
1、有機発光膜Le、低仕事関数の金属を含有する金属
膜からなる陰極5及び透明導電性化合物膜からなる通電
用の引回し部分10を順次積層形成したものである。有
機発光膜Leは順次積層された正孔注入輸送層2、有機
発光層30、電子輸送層6及び電子注入層4からなって
いる。正孔注入輸送層2は陽極1に重ねられており、電
子注入層4は陰極5に重ねられている。
A display element D shown in FIG. 4 is a modified example of the display element C. An anode 1, an organic light emitting film Ld,
A lead portion 10 ′ for energization composed of the cathode 5 and the transparent conductive compound film is sequentially laminated, and the lead portion 10 ′ is further formed.
This is one in which a sealing film 9 is formed thereon. The organic light emitting film Ld has the same configuration as the organic light emitting film Lc in the device shown in FIG. The display element E shown in FIG. 5 includes an anode 1 made of a transparent conductive compound film, an organic light emitting film Le, a cathode 5 made of a metal film containing a metal with a low work function, and a transparent substrate G made of a transparent glass or the like. The wiring portion 10 for energization made of a transparent conductive compound film is sequentially laminated. The organic light emitting film Le includes a hole injection transport layer 2, an organic light emitting layer 30, an electron transport layer 6, and an electron injection layer 4 that are sequentially stacked. The hole injection transport layer 2 is overlaid on the anode 1 and the electron injection layer 4 is overlaid on the cathode 5.

【0024】前記いずれの表示素子においても、陽極1
と陰極5に電源PWから所定の電圧を印加することによ
り有機発光層3(又は3’又は3”又は30)が発光す
る。前記いずれの表示素子においても、透明基板Gとし
ては、適度の強度を有し、有機エレクトロルミネッセン
ス表示素子作製時、膜蒸着時等における熱に悪影響を受
けず、透明なものであれば特に限定されないが、そのよ
うなものを例示すると、ガラス基板、透明な樹脂、例え
ばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエーテルサルホ
ン、ポリエーテルエーテルケトン等を挙げることができ
る。
In any of the above display elements, the anode 1
The organic light emitting layer 3 (or 3 ′ or 3 ″ or 30) emits light by applying a predetermined voltage from the power supply PW to the cathode 5 and the cathode 5. In any of the above display elements, the transparent substrate G has an appropriate intensity. Having an organic electroluminescent display element, not adversely affected by heat during film deposition and the like, and is not particularly limited as long as it is transparent.Examples of such a material include a glass substrate, a transparent resin, For example, polyethylene, polypropylene, polyethersulfone, polyetheretherketone and the like can be mentioned.

【0025】図4に示す表示素子では陰極5の上に封止
膜9が設けられているが、この封止膜は有機エレクトロ
ルミネッセンス素子を構成している各層への水分や酸素
の侵入を防止するためのものである。本発明に係る他の
有機エレクトロルミネッセンス表示素子においても係る
封止膜を設けることができる。封止膜の材料としては、
MgO,SiO,SiO2 ,Al2 3 ,GeO,Ni
O,CaO,BaO,Fe2 3 ,Y2 3 ,TiO2
等の金属酸化物、MgF2 ,LiF,AlF3 ,CaF
2 等の金属フッ化物等を例示できるが、前述の導電性酸
化錫等の導電性金属酸化物を用いてもよい。
In the display element shown in FIG. 4, a sealing film 9 is provided on the cathode 5, and this sealing film prevents moisture and oxygen from entering each layer constituting the organic electroluminescence element. It is for doing. The sealing film can also be provided in another organic electroluminescent display element according to the present invention. As a material for the sealing film,
MgO, SiO, SiO 2 , Al 2 O 3 , GeO, Ni
O, CaO, BaO, Fe 2 O 3, Y 2 O 3, TiO 2
Metal oxides such as MgF 2 , LiF, AlF 3 , CaF
Although metal fluorides such as 2 can be exemplified, a conductive metal oxide such as the above-described conductive tin oxide may be used.

【0026】図1から図5に示す表示素子だけでなく、
本発明に係る表示素子の陽極、有機発光膜及び陰極は、
透明基板上に順次積層形成することができる。図1から
図5に示す表示素子だけでなく、本発明に係る表示素子
全般について言えることであるが、図示の陽極1を含
め、陽極は透光性の導電性膜、好ましくは透明導電性膜
で形成する。かかる陽極膜の材料として、4eV程度よ
りも大きい仕事関数を持つ導電性物質を用いることが好
ましい。かかる物質として、炭素、アルミニウム、バナ
ジウム、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、タングス
テン、銀、錫、金等及びそれらを含む合金のような金属
のほか、酸化錫、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸
化亜鉛、酸化ジルコニウム等の金属酸化物及びそれらの
固溶体や混合体などの導電性金属化合物のような導電性
化合物を例示できる。
In addition to the display elements shown in FIGS.
The anode of the display element according to the present invention, the organic light-emitting film and the cathode,
The layers can be sequentially formed on a transparent substrate. It can be said that not only the display element shown in FIGS. 1 to 5 but also the display element according to the present invention in general, the anode including the illustrated anode 1 is a light-transmitting conductive film, preferably a transparent conductive film. Formed. It is preferable to use a conductive substance having a work function greater than about 4 eV as a material for the anode film. Examples of such a substance include metals such as carbon, aluminum, vanadium, iron, cobalt, nickel, copper, zinc, tungsten, silver, tin, gold, and alloys containing them, tin oxide, indium oxide, antimony oxide, and oxides. Examples thereof include conductive compounds such as metal oxides such as zinc and zirconium oxide and conductive metal compounds such as solid solutions and mixtures thereof.

【0027】陽極を形成する場合、透明基板上に、前記
したような導電性物質を用い、蒸着、スパッタリング等
の手法やゾル―ゲル法或いはかかる物質を樹脂等に分散
させて塗布する等の手法を用いて所望の透光性と導電性
が確保されるように形成すればよい。陽極の膜厚は、透
光性を得るために、金属製陽極の場合、1nm〜10n
m程度が好ましく、より好ましくは1nm〜8nm程度
である。また、導電性金属化合物のような導電性化合物
の陽極の場合は10nm〜300nmが好ましい。透明
基板及び陽極として、ガラス基板上に透明電極が形成さ
れたもの、例えばガラス基板上にITO(Indium Tin O
xide)からなる透明電極を設けたもの、NESAガラス
と通称されているコーニング社製の、透明電極をガラス
基板上に形成したもの等を使用してもよい。
When the anode is formed, a method such as vapor deposition and sputtering, a sol-gel method, or a method in which such a substance is dispersed in a resin or the like and applied using a conductive substance as described above on a transparent substrate. It may be formed so that desired translucency and conductivity are ensured by using. The thickness of the anode is 1 nm to 10 n in the case of a metal anode in order to obtain light transmissivity.
m is preferable, and more preferably, about 1 nm to 8 nm. In the case of an anode made of a conductive compound such as a conductive metal compound, the thickness is preferably 10 nm to 300 nm. As a transparent substrate and an anode, a transparent electrode formed on a glass substrate, for example, ITO (Indium Tin O
xide) may be used, or a transparent electrode formed on a glass substrate by Corning, which is commonly called NESA glass, may be used.

【0028】次に図5に示す構成の表示素子Eを例にと
ってその作製について説明する。透明基板G及び陽極1
として前記いずれかのものを採用する。次に、透明基板
Gに陽極1上から正孔注入輸送層2を形成する。図示の
正孔注入輸送層2を含め、本発明に係る表示素子におい
て正孔輸送層或いは正孔注入輸送層の形成のために用い
ることができる正孔輸送材料としては、公知のものが使
用可能である。
Next, the production of the display element E having the structure shown in FIG. 5 will be described. Transparent substrate G and anode 1
Any of the above is adopted. Next, the hole injection transport layer 2 is formed on the transparent substrate G from above the anode 1. As the hole transporting layer or the hole transporting material that can be used for forming the hole injecting and transporting layer in the display element according to the present invention, including the illustrated hole injecting and transporting layer 2, a known material can be used. It is.

【0029】例えばN,N' ―ジフェニル―N,N' ―
ビス(3―メチルフェニル)―1,1' ―ジフェニル―
4,4' ―ジアミン、N,N' ―ジフェニル―N,N'
―ビス(4―メチルフェニル)―1,1' ―ジフェニル
―4,4' ―ジアミン、N,N' ―ジフェニル―N,
N' ―ビス(1―ナフチル)―1,1' ―ジフェニル―
4,4' ―ジアミン、N,N' ―ジフェニル―N,N'
―ビス(2―ナフチル)―1,1' ―ジフェニル―4,
4' ―ジアミン、N,N' ―テトラ(4―メチルフェニ
ル)―1,1' ―ビス(3―メチルフェニル)―4,
4' ―ジアミン、N,N' ―ジフェニル―N,N' ―ビ
ス(3―メチルフェニル)―1,1' ―ビス(3―メチ
ルフェニル)―4,4' ―ジアミン、N,N' ―ビス
(N―カルバゾリル)―1,1' ―ジフェニル―4,
4' ―ジアミン、4,4' ,4”―トリス(N―カルバ
ゾリル)トリフェニルアミン、N,N' ,N" ―トリフ
ェニル―N,N' ,N" ―トリス(3―メチルフェニ
ル)―1,3,5―トリ(4―アミノフェニル)ベンゼ
ン、4,4' ,4”―トリス[N,N' ,N" ―トリフ
ェニル―N,N' ,N" ―トリス(3―メチルフェニ
ル)]トリフェニルアミンなどを挙げることができる。
これらのものは2種以上を混合して使用してもよい。
For example, N, N'-diphenyl-N, N'-
Bis (3-methylphenyl) -1,1'-diphenyl-
4,4'-diamine, N, N'-diphenyl-N, N '
-Bis (4-methylphenyl) -1,1'-diphenyl-4,4'-diamine, N, N'-diphenyl-N,
N'-bis (1-naphthyl) -1,1'-diphenyl-
4,4'-diamine, N, N'-diphenyl-N, N '
-Bis (2-naphthyl) -1,1'-diphenyl-4,
4′-diamine, N, N′-tetra (4-methylphenyl) -1,1′-bis (3-methylphenyl) -4
4'-diamine, N, N'-diphenyl-N, N'-bis (3-methylphenyl) -1,1'-bis (3-methylphenyl) -4,4'-diamine, N, N'- Bis (N-carbazolyl) -1,1′-diphenyl-4,
4'-diamine, 4,4 ', 4 "-tris (N-carbazolyl) triphenylamine, N, N', N" -triphenyl-N, N ', N "-tris (3-methylphenyl)- 1,3,5-tri (4-aminophenyl) benzene, 4,4 ', 4 "-tris [N, N', N" -triphenyl-N, N ', N "-tris (3-methylphenyl )] Triphenylamine and the like.
These may be used as a mixture of two or more.

【0030】正孔注入輸送層2を含め、本発明に係る表
示素子における正孔輸送層或いは正孔注入輸送層は、前
記のような正孔輸送材料を蒸着して形成してもよいし、
正孔輸送材料を溶解した溶液や正孔輸送材料を適当な樹
脂とともに溶解した液を用い、ディップコート法やスピ
ンコート法等の塗布法により形成してもよい。蒸着法で
形成する場合、その厚さは1nm〜500nm程度と
し、塗布法で形成する場合は、その厚さは5nm〜10
00nm程度にすればよい。正孔輸送層或いは正孔注入
輸送層は、その膜厚が厚いほど発光させるための印加電
圧を高くする必要があり発光効率が悪くなり、有機エレ
クトロルミネッセンス表示素子の劣化を招きやすい。ま
た膜厚が薄くなると発光効率はよくなるがブレイクダウ
ンしやすくなり有機エレクトロルミネッセンス素子の寿
命が短くなる。従って、発光効率及び素子の寿命を考慮
して前記の膜厚の範囲で形成すればよい。
The hole transport layer or the hole injection / transport layer in the display element according to the present invention, including the hole injection / transport layer 2, may be formed by vapor-depositing a hole transport material as described above,
A solution in which the hole transport material is dissolved or a solution in which the hole transport material is dissolved together with an appropriate resin may be formed by a coating method such as a dip coating method or a spin coating method. When formed by a vapor deposition method, the thickness is about 1 nm to 500 nm. When formed by a coating method, the thickness is 5 nm to 10 nm.
What is necessary is just to make it about 00 nm. As the hole transporting layer or the hole injecting and transporting layer is thicker, it is necessary to increase the applied voltage for emitting light, the luminous efficiency becomes worse, and the organic electroluminescent display element is liable to be deteriorated. When the film thickness is small, the luminous efficiency is improved, but the breakdown is easy and the life of the organic electroluminescent element is shortened. Therefore, the film may be formed in the above thickness range in consideration of the luminous efficiency and the life of the element.

【0031】次に、正孔注入輸送層2の上に有機発光層
30を形成する。有機発光層30を含め、本発明に係る
表示素子における有機発光層を形成するために用いる有
機発光材料としては、公知のものが使用可能である。例
えばエピドリジン、2,5―ビス[5,7―ジ―t―ペ
ンチル―2―ベンゾオキサゾリル]チオフェン、2,
2' ―(1,4―フェニレンジビニレン)ビスベンゾチ
アゾール、2,2' ―(4,4' ―ビフェニレン)ビス
ベンゾチアゾール、5―メチル―2―{2―[4―(5
―メチル―2―ベンゾオキサゾリル)フェニル]ビニ
ル}ベンゾオキサゾール、2,5―ビス(5―メチル―
2―ベンゾオキサゾリル)チオフェン、アントラセン、
ナフタレン、フェナントレン、ピレン、クリセン、ペリ
レン、ペリノン、1,4―ジフェニルブタジエン、テト
ラフェニルブタジエン、クマリン、アクリジン、スチル
ベン、2―(4―ビフェニル)―6―フェニルベンゾオ
キサゾール、アルミニウムトリスオキシン、マグネシウ
ムビスオキシン、ビス(ベンゾ―8―キノリノール)亜
鉛、ビス(2―メチル―8―キノリノール)アルミニウ
ムオキサイド、インジウムトリスオキシン、アルミニウ
ムトリス(5―メチルオキシン)、リチウムオキシン、
ガリウムトリスオキシン、カルシウムビス(5―クロロ
オキシン)、ポリ亜鉛―ビス(8―ヒドロキシ―5―キ
ノリノリル)メタン、ジリチウムエピンドリジオン、亜
鉛ビスオキシン、1,2―フタロペリノン、1,2―ナ
フタロペリノン、ポリフェリレンビニレン化合物などを
挙げることができる。また、一般的な蛍光染料、例えば
蛍光クマリン染料、蛍光ペリレン染料、蛍光ピラン染
料、蛍光チオピラン染料、蛍光ポリメチン染料、蛍光メ
シアニン染料、蛍光イミダゾール染料等も使用できる。
このうち特に好ましいものとして、キレート化オキシノ
イド化合物を挙げることができる。
Next, the organic light emitting layer 30 is formed on the hole injection transport layer 2. As the organic light emitting material used for forming the organic light emitting layer in the display element according to the present invention, including the organic light emitting layer 30, known materials can be used. For example, epidolidine, 2,5-bis [5,7-di-tert-pentyl-2-benzoxazolyl] thiophene,
2 ′-(1,4-phenylenedivinylene) bisbenzothiazole, 2,2 ′-(4,4′-biphenylene) bisbenzothiazole, 5-methyl-2- {2- [4- (5
-Methyl-2-benzoxazolyl) phenyl] vinyl} benzoxazole, 2,5-bis (5-methyl-
2-benzoxazolyl) thiophene, anthracene,
Naphthalene, phenanthrene, pyrene, chrysene, perylene, perinone, 1,4-diphenylbutadiene, tetraphenylbutadiene, coumarin, acridine, stilbene, 2- (4-biphenyl) -6-phenylbenzoxazole, aluminum trisoxine, magnesium bisoxin , Bis (benzo-8-quinolinol) zinc, bis (2-methyl-8-quinolinol) aluminum oxide, indium trisoxin, aluminum tris (5-methyloxin), lithium oxine,
Gallium trisoxin, calcium bis (5-chlorooxin), polyzinc-bis (8-hydroxy-5-quinolinolyl) methane, dilithium epindridione, zinc bisoxin, 1,2-phthaloperinone, 1,2-naphthaloperinone, Polyferrylene vinylene compounds and the like can be mentioned. In addition, general fluorescent dyes such as fluorescent coumarin dyes, fluorescent perylene dyes, fluorescent pyran dyes, fluorescent thiopyran dyes, fluorescent polymethine dyes, fluorescent mecyanine dyes, fluorescent imidazole dyes, and the like can also be used.
Among them, particularly preferred are chelated oxinoid compounds.

【0032】有機発光層30を含め、本発明に係る表示
素子における有機発光層は、前記のような有機発光材料
を蒸着して形成してもよいし、有機発光材料を溶解した
溶液や有機発光材料を適当な樹脂とともに溶解した液を
用い、ディップコート法やスピンコート法等の塗布法に
より形成してもよい。蒸着法で形成する場合、その厚さ
は1nm〜500nm程度とし、塗布法で形成する場合
は、その厚さは5nm〜1000nm程度にすればよ
い。有機発光層についても、膜厚が厚いほど発光させる
ための印加電圧を高くする必要があり発光効率が悪くな
り、有機エレクトロルミネッセンス表示素子の劣化を招
きやすい。また膜厚が薄くなると発光効率はよくなるが
ブレイクダウンしやすくなり有機エレクトロルミネッセ
ンス表示素子の寿命が短くなる。従って、発光効率及び
素子の寿命を考慮して前記の膜厚の範囲で形成すればよ
い。
The organic light emitting layer including the organic light emitting layer 30 in the display element according to the present invention may be formed by vapor deposition of the organic light emitting material as described above, or a solution in which the organic light emitting material is dissolved or an organic light emitting material. It may be formed by a coating method such as a dip coating method or a spin coating method using a solution in which a material is dissolved together with an appropriate resin. When formed by a vapor deposition method, the thickness may be about 1 nm to 500 nm. When formed by a coating method, the thickness may be about 5 nm to 1000 nm. As for the organic light emitting layer, as the film thickness increases, it is necessary to increase the applied voltage for emitting light, so that the luminous efficiency deteriorates and the organic electroluminescent display element is liable to be deteriorated. When the film thickness is small, the luminous efficiency is improved, but the breakdown is easy and the life of the organic electroluminescent display element is shortened. Therefore, the film may be formed in the above thickness range in consideration of the luminous efficiency and the life of the element.

【0033】なお、有機発光層は前記蛍光物質からなる
単層構成でもよいし、発光の色、発光の強度等の特性を
調整するために、多層構成としてもよい。また、2種以
上の蛍光物質を混合して形成したり、発光物質(例え
ば、ルブレン、クマリン、キナクリドンやキナクリドン
誘導体などの蛍光色素)を、前記の有機発光材料や正孔
輸送材料、又は後述する電子輸送材料にドープしたもの
でもよい。
The organic light-emitting layer may have a single-layer structure made of the above-described fluorescent substance, or may have a multi-layer structure in order to adjust characteristics such as light emission color and light emission intensity. In addition, two or more kinds of fluorescent substances are mixed and formed, or a light-emitting substance (for example, a fluorescent dye such as rubrene, coumarin, quinacridone, or a quinacridone derivative) is used as the organic light-emitting material or the hole-transporting material, or described later. An electron transporting material may be doped.

【0034】次に有機発光層30の上に電子輸送層6を
形成する。電子輸送層6を含め、本発明に係る表示素子
における電子輸送層(或いは電子注入輸送層)を形成す
るための電子輸送材料としては、公知のものが使用可能
である。例えば、2−(4―ビフェニルイル)−5−
(4−tert―ブチルフェニル)―1,3,4―オキ
サジアゾール、2―(1―ナフチル)―5―(4―te
rt―ブチルフェニル)―1,3,4―オキサジアゾー
ル、1,4―ビス{2―[5―(4―tertブチルフ
ェニル)―1,3,4―オキサジアゾリル]}ベンゼ
ン、1,3―ビス{2―[5―(4―tert―ブチル
フェニル)―1,3,4―オキサジアゾリル]}ベンゼ
ン、4,4' ―ビス{2―[5―(4―tert―ブチ
ルフェニル)―1,3,4―オキサジアゾリル]}ビフ
ェニル、2―(4―ビフェニルイル)―5―(4―te
rt―ブチルフェニル)―1,3,4―チアジアゾー
ル、2―(1―ナフチル)―5―(4―tert―ブチ
ルフェニル)―1,3,4―チアジアゾール、1,4―
ビス{2―[5―(4―tert―ブチルフェニル)―
1,3,4―チアジアゾリル]}ベンゼン、1,3―ビ
ス{2―[5―(4―tert―ブチルフェニル)―
1,3,4―チアジアゾリル]}ベンゼン、4,4' ―
ビス{2―[5―(4―tert―ブチルフェニル)―
1,3,4―チアジアゾリル]}ビフェニル、3―(4
―ビフェニルイル)―4―フェニル―5―(4―ter
t―ブチルフェニル)―1,2,4―トリアゾール、3
―(1―ナフチル)―4―フェニル―5―(4―ter
t―ブチルフェニル)―1,2,4―トリアゾール、
1,4―ビス{3―[4―フェニル―5―(4―ter
t―ブチルフェニル)―1,2,4―トリアゾリル]}
ベンゼン、1,3―ビス{2―[1―フェニル―5―
(4―tert―ブチルフェニル)―1,3,4―トリ
アゾリル]}ベンゼン、4,4' ―ビス{2―[1―フ
ェニル―5―(4―tert―ブチルフェニル)―1,
3,4―トリアゾリル]}ビフェニル、1,3,5―ト
リス{2―[5―(4―tert―ブチルフェニル)―
1,3,4―オキサジアゾリル]}ベンゼンなどを挙げ
ることができる。これらのものは、2種以上を混合して
使用してもよい。また、アルミニウムトリスオキシンな
ど有機発光材料として用いられる物質のうち比較的電子
輸送能の高いものを用いることもできる。
Next, the electron transport layer 6 is formed on the organic light emitting layer 30. As the electron transporting material for forming the electron transporting layer (or the electron injecting and transporting layer) in the display element according to the present invention, including the electron transporting layer 6, known materials can be used. For example, 2- (4-biphenylyl) -5
(4-tert-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole, 2- (1-naphthyl) -5- (4-te
rt-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole, 1,4-bis {2- [5- (4-tertbutylphenyl) -1,3,4-oxadiazolyl]} benzene, 1,3- Bis {2- [5- (4-tert-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazolyl]} benzene, 4,4′-bis {2- [5- (4-tert-butylphenyl) -1, 3,4-oxadiazolyl] @biphenyl, 2- (4-biphenylyl) -5- (4-te
rt-butylphenyl) -1,3,4-thiadiazole, 2- (1-naphthyl) -5- (4-tert-butylphenyl) -1,3,4-thiadiazole, 1,4-
Bis @ 2- [5- (4-tert-butylphenyl)-
1,3,4-thiadiazolyl] {benzene, 1,3-bis} 2- [5- (4-tert-butylphenyl)-
1,3,4-thiadiazolyl]} benzene, 4,4 '―
Bis @ 2- [5- (4-tert-butylphenyl)-
1,3,4-thiadiazolyl]} biphenyl, 3- (4
-Biphenylyl) -4-phenyl-5- (4-ter
t-butylphenyl) -1,2,4-triazole, 3
-(1-Naphthyl) -4-phenyl-5- (4-ter
t-butylphenyl) -1,2,4-triazole,
1,4-bis @ 3- [4-phenyl-5- (4-ter
t-butylphenyl) -1,2,4-triazolyl]}
Benzene, 1,3-bis @ 2- [1-phenyl-5-
(4-tert-butylphenyl) -1,3,4-triazolyl] {benzene, 4,4′-bis} 2- [1-phenyl-5- (4-tert-butylphenyl) -1,
3,4-Triazolyl] {biphenyl, 1,3,5-tris} 2- [5- (4-tert-butylphenyl)-
[1,3,4-oxadiazolyl]} benzene. These may be used as a mixture of two or more. Further, among substances used as an organic light emitting material such as aluminum trisoxine, a substance having a relatively high electron transporting ability can be used.

【0035】電子輸送層6を含め、本発明に係る表示素
子における電子輸送層或いは電子注入輸送層は、前記の
ような電子輸送材料を蒸着して形成してもよいし、電子
輸送材料を溶解した溶液や電子輸送材料を適当な樹脂と
ともに溶解した液を用い、ディップコート法やスピンコ
ート法等の塗布法により形成してもよい。蒸着法で形成
する場合、その厚さは1nm〜500nm程度とし、塗
布法で形成する場合は、5nm〜1000nm程度に形
成すればよい。電子輸送層或いは電子注入輸送層につい
ても、膜厚が厚いほど発光させるための印加電圧を高く
する必要があり発光効率が悪くなり、有機エレクトロル
ミネッセンス表示素子の劣化を招きやすい。また膜厚が
薄くなると発光効率はよくなるがブレイクダウンしやす
くなり有機エレクトロルミネッセンス表示素子の寿命が
短くなる。従って、発光効率及び素子の寿命を考慮して
前記の膜厚の範囲で形成すればよい。
The electron transporting layer or the electron injecting and transporting layer in the display device according to the present invention, including the electron transporting layer 6, may be formed by depositing the above-described electron transporting material or by dissolving the electron transporting material. It may be formed by a coating method such as a dip coating method and a spin coating method using a solution obtained by dissolving the electron transport material together with an appropriate resin. The thickness may be about 1 nm to 500 nm when formed by an evaporation method, and about 5 nm to 1000 nm when formed by a coating method. As for the electron transporting layer or the electron injecting / transporting layer, as the film thickness increases, it is necessary to increase the applied voltage for emitting light, so that the luminous efficiency is deteriorated and the organic electroluminescent display element is liable to be deteriorated. When the film thickness is small, the luminous efficiency is improved, but the breakdown is easy and the life of the organic electroluminescent display element is shortened. Therefore, the film may be formed in the above thickness range in consideration of the luminous efficiency and the life of the element.

【0036】次に電子輸送層6の上に電子注入層4を形
成する。電子注入層4を含め、本発明に係る表示素子に
おける電子注入層を形成するための電子注入材料には従
来公知の各種の電子注入材料を用いることができるが、
好ましくは、 アルカリ金属若しくはアルカリ土類金属の有機金属錯
体、 アルカリ金属若しくはアルカリ土類金属の有機金属
塩、 アルカリ金属若しくはアルカリ土類金属と有機金属錯
体との混合物、 アルカリ金属若しくはアルカリ土類金属の酸化物、又
は アルカリ金属若しくはアルカリ土類金属のハロゲン化
物(例えばフッ化物)を用いる。 これらの有機金属錯体、有機金属塩、酸化物、ハロゲン
化物等に含有されるアルカリ金属又はアルカリ土類金属
としては、リチウム、ベリリウム、ナトリウム、マグネ
シウム、カリウム、カルシウム、ルビジウム、バリウ
ム、ストロンチウム、セシウム等を挙げることができる
が、中でもリチウム、マグネシウム、カリウム、カルシ
ウム、セシウムが電子注入性が良好なため特に好まし
い。
Next, the electron injection layer 4 is formed on the electron transport layer 6. As the electron injection material for forming the electron injection layer in the display element according to the present invention, including the electron injection layer 4, various conventionally known electron injection materials can be used.
Preferably, an organic metal complex of an alkali metal or an alkaline earth metal, an organic metal salt of an alkali metal or an alkaline earth metal, a mixture of an alkali metal or an alkaline earth metal and an organic metal complex, an alkali metal or an alkaline earth metal An oxide or an alkali metal or alkaline earth metal halide (eg, fluoride) is used. Examples of the alkali metal or alkaline earth metal contained in these organometallic complexes, organic metal salts, oxides, halides and the like include lithium, beryllium, sodium, magnesium, potassium, calcium, rubidium, barium, strontium, cesium and the like. Among them, lithium, magnesium, potassium, calcium, and cesium are particularly preferable because of good electron injecting property.

【0037】有機金属塩又は有機金属錯体としては、か
かる金属を含有するアセチルアセトナート錯体、エチレ
ンジアミン錯塩、グリシン錯塩、オキシン錯体、アルフ
ァーニトロソベーターナフトール錯体、サリチル酸塩、
サリチルアルドキシム錯体、クペロン錯体、ベンゾイン
オキシム錯体、ビピリジン錯体、フェナントロリン錯
体、クラウン錯体、プロリン錯体、ベンゾイルアセトン
錯体、二価カルボン酸塩、脂肪族カルボン酸塩等が挙げ
られる。これらの中でもアセチルアセトナート錯体、オ
キシン錯体、サリチル酸塩、サリチルアルドキシム錯
体、二価カルボン酸塩、脂肪族カルボン酸塩が電子注入
性が良好なため特に好ましい。
Examples of the organometallic salt or organometallic complex include acetylacetonate complex, ethylenediamine complex salt, glycine complex salt, oxine complex, alpha-nitrosobetanaphthol complex, salicylate,
Examples include a salicylaldoxime complex, a cupron complex, a benzoin oxime complex, a bipyridine complex, a phenanthroline complex, a crown complex, a proline complex, a benzoylacetone complex, a divalent carboxylate, and an aliphatic carboxylate. Among these, acetylacetonate complexes, oxine complexes, salicylates, salicylaldoxime complexes, divalent carboxylate salts, and aliphatic carboxylate salts are particularly preferred because of their good electron injectability.

【0038】電子注入層は、蒸着、スパッタリング等の
方法で形成できる。蒸着法で形成する場合、その厚さは
0.1nm〜20nm程度とする。電子注入層はその膜
厚が薄いほど電子注入効率を向上させ得るが、薄すぎる
と電子注入むらやダークスポットの原因となる。また膜
厚が厚くなるとかえって発光効率が悪くなり有機エレク
トロルミネッセンス表示素子の寿命が短くなる。従っ
て、電子注入効率、発光効率及び素子の寿命等を考慮し
て前記の膜厚の範囲で形成すればよい。
The electron injection layer can be formed by a method such as vapor deposition or sputtering. When it is formed by an evaporation method, its thickness is about 0.1 nm to 20 nm. Although the electron injection layer can improve the electron injection efficiency as the film thickness is thinner, it causes uneven electron injection and dark spots if it is too thin. On the other hand, when the film thickness is increased, the luminous efficiency is rather deteriorated and the life of the organic electroluminescent display element is shortened. Therefore, the film may be formed in the above thickness range in consideration of the electron injection efficiency, the light emission efficiency, the life of the device, and the like.

【0039】次に電子注入層4の上に陰極5を形成す
る。陰極5を含め、本発明に係る表示素子における陰極
は低仕事関数の金属を含有する金属膜から形成する。か
かる陰極の材料としては、4eV以下の仕事関数の金属
を含有するものがよく、マグネシウム、カルシウム、チ
タニウム、イットリウム、リチウム、ガドリニウム、イ
ッテルビウム、ルテニウム、マンガン及びそれらを含有
する合金を例示でき、かかる金属を用い、蒸着、スパッ
タリング等の手法によって陰極を形成すればよい。陰極
の膜厚は10nm〜500nm、より好ましくは50n
m〜500nmの範囲が導電性および製造安定性の点か
ら好ましい。
Next, a cathode 5 is formed on the electron injection layer 4. The cathode including the cathode 5 in the display element according to the present invention is formed of a metal film containing a metal having a low work function. As the material of the cathode, those containing a metal having a work function of 4 eV or less are preferable, and examples of the material include magnesium, calcium, titanium, yttrium, lithium, gadolinium, ytterbium, ruthenium, manganese and alloys containing them. And a cathode may be formed by a technique such as vapor deposition or sputtering. The thickness of the cathode is 10 nm to 500 nm, more preferably 50 nm.
The range of m to 500 nm is preferable in view of conductivity and production stability.

【0040】既述のとおり陰極5には部分的に接続した
通電用の透明導電性膜からなる引き回し部分10を設け
るが、該引回し部分10を含め、本発明に係る表示素子
における陰極用引回し部分を形成する透明導電性膜の材
料としては、4eV程度よりも大きい仕事関数を持つも
のがよく、アルミニウム、バナジウム、鉄、コバルト、
ニッケル、銅、亜鉛、タングステン、銀、錫、金等及び
それらの合金のような金属のほか、酸化錫、酸化インジ
ウム、酸化アンチモン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等
の金属酸化物及びそれらの固溶体や混合体などの導電性
金属化合物のような導電性化合物を例示できる。
As described above, the cathode 5 is provided with the routing portion 10 made of a transparent conductive film for conduction, which is partially connected. The cathode portion 5 including the routing portion 10 in the display element according to the present invention is provided. As a material of the transparent conductive film forming the turning portion, a material having a work function larger than about 4 eV is preferable, and aluminum, vanadium, iron, cobalt,
In addition to metals such as nickel, copper, zinc, tungsten, silver, tin, gold, and their alloys, metal oxides such as tin oxide, indium oxide, antimony oxide, zinc oxide, zirconium oxide, and solid solutions and mixtures thereof A conductive compound such as a conductive metal compound such as a body can be exemplified.

【0041】かかる導電性物質を用い、蒸着、スパッタ
リング等の手法やゾル―ゲル法、或いはかかる物質を樹
脂等に分散させて塗布する等の手法を用いて所望の透光
性と導電性が確保されるように引回し部分を形成すれば
よい。引回し部分の厚さは、透光性を得るために、金属
製引回し部分については、1nm〜30nm程度が好ま
しく、導電性金属化合物のような導電性化合物からなる
場合は1nm〜300nmが好ましい。
Using such a conductive substance, desired translucency and conductivity are ensured by a technique such as vapor deposition and sputtering, a sol-gel method, or a technique such as dispersing and coating such a substance in a resin or the like. What is necessary is just to form the routing part so that it may be performed. The thickness of the routing portion is preferably about 1 nm to 30 nm for the metal routing portion in order to obtain light transmissivity, and is preferably 1 nm to 300 nm in the case of a conductive compound such as a conductive metal compound. .

【0042】陽極についても必要に応じ、陰極用引き回
し部分の材料と同様の材料で、通電用の引き回し部分を
設けることかできる。陰極5と陽極1からなる各組の電
極は、各電極に透明導電性膜からなる電極引き回し部分
を設け、その端部にニクロム線、金線、銅線、白金線等
の適当なリード線11を接続し、該リード線を介して両
電極に適当な電圧を印加することにより表示素子が発光
する。
If necessary, the anode may be provided with a current-carrying portion using the same material as the material for the cathode portion. Each set of electrodes composed of the cathode 5 and the anode 1 is provided with an electrode lead portion made of a transparent conductive film at each electrode, and an appropriate lead wire 11 such as a nichrome wire, a gold wire, a copper wire, a platinum wire, etc. Is connected, and an appropriate voltage is applied to both electrodes via the lead wires, so that the display element emits light.

【0043】なお、本発明に係る有機エレクトロルミネ
ッセンス表示素子において、正孔の注入、輸送につき、
機能分離させて、例えば図3、図4に示すように正孔注
入層と正孔輸送層とを重ねて用いる場合、正孔注入層
は、正孔注入材料を蒸着して形成してもよいし、正孔注
入材料を溶解した溶液や正孔注入材料を適当な樹脂とと
もに溶解した溶液を用いてディップコート法やスピンコ
ート法等の塗布法により形成してもよい。正孔注入層を
蒸着法で形成する場合、その厚さは、1nm〜20nm
程度とし、塗布法で形成する場合、その厚さは1nm〜
50nm程度にすればよい。正孔注入層を形成するため
の正孔注入材料としては、銅フタロシアニン等のポルフ
ォリン環化合物やインダンスレン顔料、カーボン膜、ポ
リアニリン、ポリチオフェン等の導電性高分子膜、4,
4’,4”−トリス(N−カルバゾリ)トリアミノトリ
フェニルアミン、N,N’,N”−トリフェニル−N,
N’,N”−トリス(3−メチルフェニル)−1,3,
5−トリ(4−アミノフェニル)ベンゼン、4,4’,
4”−トリス〔N,N’,N”−トリフェニル−N,
N’,N”−トリス(3−メチルフェニル)〕トリアミ
ノトリフェニルアミン等のスターバースト型化合物等を
例示できる。なお、図1〜図4に示すような他の構成の
素子についても、上述と同様の方法で各層を順次形成し
てゆくことで、有機エレクトロルミネッセンス素子を形
成することができる。また、上述したのとは逆に、透明
基板上にまず陰極を形成し、その上に有機発光層を含む
他の層を順次形成し、最後に陽極を形成して有機エレク
トロルミネッセンス素子を作製するようにしてもよい。
In the organic electroluminescent display device according to the present invention, the injection and transport of holes are
When the hole injecting layer and the hole transporting layer are used by being overlapped with each other as shown in FIGS. 3 and 4, for example, the hole injecting layer may be formed by evaporating a hole injecting material. Then, a solution in which the hole injecting material is dissolved or a solution in which the hole injecting material is dissolved together with an appropriate resin may be formed by a coating method such as a dip coating method or a spin coating method. When the hole injection layer is formed by an evaporation method, its thickness is 1 nm to 20 nm.
When formed by a coating method, the thickness is 1 nm to
What is necessary is just to make it about 50 nm. Examples of hole injection materials for forming the hole injection layer include porpholine ring compounds such as copper phthalocyanine and indanthrene pigments, carbon films, polyaniline, and conductive polymer films such as polythiophene;
4 ', 4 "-tris (N-carbazoly) triaminotriphenylamine, N, N', N" -triphenyl-N,
N ′, N ″ -tris (3-methylphenyl) -1,3,
5-tri (4-aminophenyl) benzene, 4,4 ',
4 "-tris [N, N ', N" -triphenyl-N,
N ′, N ″ -tris (3-methylphenyl)] triaminotriphenylamine and the like. Examples of devices having other configurations as shown in FIGS. An organic electroluminescent element can be formed by sequentially forming each layer in the same manner as described above, and, conversely, a cathode is first formed on a transparent substrate, and an organic electroluminescent element is formed thereon. Another layer including a light emitting layer may be sequentially formed, and finally, an anode may be formed to manufacture an organic electroluminescent element.

【0044】以上説明した有機エレクトロルミネッセン
ス表示素子は、各種の表示装置乃至ディスプレイ装置等
に適用可能である。例えばカメラ・顕微鏡・望遠鏡等の
インファインダー用ディスプレイ、時計のガラス上の表
示、窓ガラス・水槽など透明な面に組み込んだディスプ
レイや照明、自動車・鉄道車両等の窓用ディスプレイ、
バックミラー・ルームミラーに組み込んだディスプレ
イ、他の表示画面に重ねて用いるオーバーレイディスプ
レイ、トレースタブレットに組み込んだディスプレイ、
蛍光表示玩具など、幅広い応用が考えられる。
The organic electroluminescent display device described above can be applied to various display devices and display devices. For example, displays for infinders such as cameras, microscopes, telescopes, etc., displays on watch glass, displays and lights incorporated in transparent surfaces such as window glasses and water tanks, and displays for windows of automobiles and railway vehicles,
Display incorporated in the rearview mirror and rearview mirror, overlay display used on other display screens, display incorporated in the trace tablet,
A wide range of applications such as fluorescent display toys are conceivable.

【0045】以下に本発明の実施例をその製造方法とと
もに説明する。 ・実施例1 透明ガラス基板100上に陽極及びそれに接続されるべ
き通電用の引回し部のパターンを打ち抜いたメタルマス
クをセットし、スパッタ装置を用いて、ITO焼結体タ
ーゲット(In2 3 −10wt%SnO2 含有)をス
パッタリングし、該メタルマスク上から、基板100上
に50nmの導電性ITO膜を形成した。このITO膜
により、図6(A)に示すように、並列された二組の7
セグメント形式の陽極101とこれに接続された引回し
部102を得た。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described together with a manufacturing method thereof. Example 1 A metal mask in which a pattern of an anode and a wiring portion for current supply to be connected to the anode was punched was set on a transparent glass substrate 100, and an ITO sintered body target (In 2 O 3 ) was formed using a sputtering apparatus. -10 wt% of SnO 2 ) was sputtered, and a 50 nm conductive ITO film was formed on the substrate 100 from above the metal mask. By this ITO film, as shown in FIG.
A segment-type anode 101 and a routing portion 102 connected to the anode 101 were obtained.

【0046】次に、該ITO膜上に矩形開口を形成した
メタルマスクをセットし、真空蒸着法により、正孔注入
層として、4,4' ,4" −トリス[N,N' ,N" −
トリフェニル−N,N' ,N" −トリス(3−メチルフ
ェニル)]トリフェニルアミンの薄膜を厚さ15nmに
形成した。次に、同じメタルマスクを用い、正孔輸送層
として、N,N' −ジフェニル−N,N' −ビス(1−
ナフチル)−1,1' −ジフェニル−4,4' −ジアミ
ンの薄膜を真空蒸着法により正孔輸送層の上に重ねて厚
さ55nmに形成した。
Next, a metal mask having a rectangular opening formed on the ITO film is set, and 4,4 ', 4 "-tris [N, N', N" is formed as a hole injection layer by a vacuum evaporation method. −
A thin film of triphenyl-N, N ′, N ″ -tris (3-methylphenyl)] triphenylamine was formed to a thickness of 15 nm. Next, using the same metal mask, N, N was formed as a hole transport layer. '-Diphenyl-N, N'-bis (1-
A thin film of (naphthyl) -1,1′-diphenyl-4,4′-diamine was formed on the hole transport layer by vacuum evaporation to a thickness of 55 nm.

【0047】さらに同じメタルマスクを用い、正孔輸送
層の上に有機発光層として、アルミニウムトリスオキシ
ンにルブレンを5重量%ドープさせたものを共蒸着によ
り厚さ20nmの薄膜になるように形成した。さらに同
じメタルマスクを用い、有機発光層の上に電子輸送層と
して、アルミニウムトリスオキシンの薄膜を真空蒸着法
により50nmの厚さに形成し、その上に電子注入層と
してリチウムアセチルアセトネートの薄膜を抵抗加熱に
よる蒸着法にて2nmの厚さに形成した。
Further, using the same metal mask, an organic light-emitting layer formed by doping aluminum trisoxine with 5% by weight of rubrene was formed on the hole-transporting layer by co-evaporation to form a thin film having a thickness of 20 nm. . Further, using the same metal mask, a thin film of aluminum trisoxine is formed on the organic light emitting layer as an electron transport layer to a thickness of 50 nm by a vacuum evaporation method, and a thin film of lithium acetylacetonate is formed thereon as an electron injection layer. It was formed to a thickness of 2 nm by an evaporation method using resistance heating.

【0048】かくして図6(B)に示すように、正孔注
入層、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層及び電子注
入層を順次積層した構造の有機発光膜L1を形成した。
次に、前記陽極101に対応するパターンの陰極パター
ンを打ち抜いたメタルマスクを有機発光膜L1上に重
ね、その上から、マグネシウムと銀を共蒸着により1
0:1の原子比で80nmの厚さになるように蒸着さ
せ、図6(C)に示すパターンの薄膜(陰極)103を
形成した。さらに、その上に陰極用引回し部のパターン
を打ち抜いたメタルマスクを重ね、前記と同様のITO
ターゲットを採用し、スパッタ装置を用いて厚さ100
nmになるように薄膜を形成し、陰極103に対応する
図6(D)に示すパターンの引回し部104を得た。最
後に、図6(E)に示すように、周縁部に封止用のエポ
キシ樹脂105aを塗ったガラス基板105を前記のと
おり形成した薄膜の上に載せ、熱硬化により封止した。
図6(E)中2点鎖線で示す部分は発光領域である。こ
のようにして、発光部のみが不透明の有機エレクトロル
ミネッセンス表示素子を作製した。
Thus, as shown in FIG. 6B, an organic light emitting film L1 having a structure in which a hole injection layer, a hole transport layer, an organic light emitting layer, an electron transport layer and an electron injection layer were sequentially laminated was formed.
Next, a metal mask formed by punching a cathode pattern having a pattern corresponding to the anode 101 is overlaid on the organic light-emitting film L1.
The thin film (cathode) 103 having the pattern shown in FIG. 6C was formed by vapor deposition so as to have a thickness of 80 nm at an atomic ratio of 0: 1. Further, a metal mask formed by punching a pattern of a wiring portion for a cathode is overlaid thereon, and the same ITO
The target is adopted and the thickness is 100
A thin film was formed so as to have a thickness of nm, and a wiring portion 104 having a pattern shown in FIG. Finally, as shown in FIG. 6E, a glass substrate 105 having a peripheral portion coated with an epoxy resin for sealing 105a was placed on the thin film formed as described above, and sealed by thermosetting.
In FIG. 6E, a portion indicated by a two-dot chain line is a light emitting region. Thus, an organic electroluminescent display element in which only the light emitting portion was opaque was manufactured.

【0049】・実施例2 市販のインジウムスズ酸化物被覆ガラスの基板上に陽極
及びそれに接続されるべき通電用の引回し部のパターン
を描いたスクリーン印刷用マスクをセットし、スクリー
ン印刷によりレジストを塗布し硬化させた後、レジスト
に覆われていない透明電極部分を酸でエッチングし、そ
の後レジストを溶剤で溶解させた。その基板を中性洗
剤、有機溶剤で洗浄し、表面を紫外線(UV)/オゾン
(O 3 )洗浄した。かくして図7(A)に示すように、
ガラス基板100’上に並列された二組の7セグメント
形式の、ITOからなる陽極101とこれに接続された
引回し部102を形成した。なお、かかるレジストとし
て、クラリアント社製ポジ型レジストAZ−RFPAを
用いた。
Example 2 An anode was placed on a commercially available indium tin oxide coated glass substrate.
And the pattern of the wiring part for electricity to be connected to it
Set the screen printing mask on which
After applying and curing the resist by
Etch the transparent electrode part not covered with acid with acid,
After that, the resist was dissolved with a solvent. Neutral wash the substrate
Cleaning agent and organic solvent, the surface is ultraviolet (UV) / ozone
(O Three) Washed. Thus, as shown in FIG.
Two sets of 7 segments arranged on a glass substrate 100 '
Anode 101 made of ITO and connected to it
The routing part 102 was formed. In addition, such a resist
And a positive resist AZ-RFPA manufactured by Clariant
Using.

【0050】次に、該ITO膜上に矩形孔を形成したメ
タルマスクをセットし、真空蒸着法により、正孔注入層
として、銅フタロシアニンの薄膜を厚さ10nmに形成
した。次に、同じメタルマスクを用い、該正孔注入層の
上に、有機発光層として、N,N' −ジフェニル−N,
N' −ビス(4−メチルフェニル)−1,1' −ビス
(3−メチルフェニル)−4,4' −ジアミンにルブレ
ンを5重量%ドープさせたものを共蒸着により、厚さ4
5nmの薄膜に形成した。さらに同じメタルマスクを用
い、該発光層上に、電子輸送層として、アルミニウムト
リスオキシンを蒸着させ、60nmの厚さになるように
薄膜を形成した。さらに同じメタルマスクを用い、該電
子輸送層上に、電子注入層として、カリウムアセチルア
セトネートの薄膜を抵抗加熱による蒸着法にて2nmの
厚さに形成した。
Next, a metal mask having a rectangular hole formed on the ITO film was set, and a thin film of copper phthalocyanine was formed to a thickness of 10 nm as a hole injection layer by a vacuum evaporation method. Next, using the same metal mask, N, N'-diphenyl-N,
N′-bis (4-methylphenyl) -1,1′-bis (3-methylphenyl) -4,4′-diamine doped with 5% by weight of rubrene was co-evaporated to a thickness of 4%.
It was formed into a thin film of 5 nm. Further, using the same metal mask, aluminum trisoxine was vapor-deposited as an electron transport layer on the light-emitting layer to form a thin film having a thickness of 60 nm. Further, using the same metal mask, a thin film of potassium acetylacetonate was formed as an electron injecting layer to a thickness of 2 nm on the electron transporting layer by an evaporation method using resistance heating.

【0051】かくして図7(B)に示すように、正孔注
入層、有機発光層、電子輸送層及び電子注入層を順次積
層した構造の有機発光膜L2を形成した。次に、前記陽
極101に対応するパターンの陰極パターンを打ち抜い
たメタルマスクを有機発光膜L2上に重ね、その上か
ら、Ag−Mg合金( Mg:10at%) をスパッタタ
ーゲットとしてスパッタ装置により100nmの厚さの
薄膜を形成し、図7(C)に示すパターンの陰極10
3’を形成した。さらに、その上に陰極用引回し部のパ
ターンを打ち抜いたメタルマスクを重ね、RFスパッタ
装置によりIn2 3 にZnOを5%ドープしたものを
スパッタターゲットに採用して180nmの厚さとなる
ように薄膜を形成し、陰極103’に対応する図7
(D)に示すパターンの引回し部104’を得た。最後
に、図7(E)に示すように、周縁部に封止用のエポキ
シ樹脂105aを塗ったガラス基板105を以上形成し
た薄膜の上に載せ、熱硬化により封止した。図7(E)
中2点鎖線で示す部分は発光領域である。このようにし
て、発光部のみが不透明の有機エレクトロルミネッセン
ス表示素子を作製した。
Thus, as shown in FIG. 7B, an organic light emitting film L2 having a structure in which a hole injection layer, an organic light emitting layer, an electron transport layer and an electron injection layer were sequentially laminated was formed. Next, a metal mask formed by punching a cathode pattern corresponding to the anode 101 is overlaid on the organic light-emitting film L2, and a 100-nm-thick metal mask (Ag—Mg alloy (Mg: 10 at%)) is sputtered thereon using a sputtering target. A thin film having a thickness is formed, and the cathode 10 having the pattern shown in FIG.
3 'was formed. Further, a metal mask in which a pattern of a cathode drawing portion is punched is superposed thereon, and a material obtained by doping In 2 O 3 with 5% of ZnO by an RF sputtering apparatus is used as a sputtering target so as to have a thickness of 180 nm. After forming a thin film, FIG.
A routing section 104 'of the pattern shown in (D) was obtained. Finally, as shown in FIG. 7 (E), a glass substrate 105 coated with a sealing epoxy resin 105a on the periphery was placed on the thin film formed above and sealed by thermosetting. FIG. 7 (E)
The portion indicated by the two-dot chain line is the light emitting region. Thus, an organic electroluminescent display element in which only the light emitting portion was opaque was manufactured.

【0052】・実施例3 ガラス基板100上に陽極及びそれに接続されるべき通
電用の引回し部のパターンを打ち抜いたメタルマスクを
セットし、スパッタ装置を用いて、ITO焼結体ターゲ
ット(In2 3 −10wt%SnO2 含有)をスパッ
タリングし、該メタルマスク上から、基板100上に厚
さ50nmの導電性ITO膜を形成した。このITO膜
により、図8(A)に示すように、並列された二組の7
セグメント形式の陽極101とこれに接続された引回し
部102を得た。
Example 3 A metal mask on which a pattern of an anode and a wiring portion for energization to be connected to the anode was punched was set on a glass substrate 100, and an ITO sintered body target (In 2 O 3 -10 wt% of SnO 2 ) was sputtered to form a conductive ITO film having a thickness of 50 nm on the substrate 100 from above the metal mask. By this ITO film, as shown in FIG.
A segment-type anode 101 and a routing portion 102 connected to the anode 101 were obtained.

【0053】次に、該ITO膜上に前記陽極全体を覆う
面積の矩形孔を形成したメタルマスクをセットし、着真
空蒸着法により、正孔注入層として、インダンスロンの
薄膜を厚さ10nmに形成した。さらに、同じメタルマ
スクを用い、該正孔注入層の上に、正孔輸送層として、
N,N' −ジフェニル−N,N' −ビス(1−ナフチ
ル)−1,1' −ジフェニル−4,4' −ジアミンの薄
膜を真空蒸着法により厚さ50nmに形成した。かくし
て図8(B)に示すように、前記導電性ITO膜上に、
正孔注入層及び正孔輸送層からなる積層膜Loを形成し
た。
Next, a metal mask having a rectangular hole having an area covering the entire anode was set on the ITO film, and a thin film of indanthrone was formed to a thickness of 10 nm as a hole injection layer by vacuum deposition. Formed. Further, using the same metal mask, on the hole injection layer, as a hole transport layer,
A thin film of N, N'-diphenyl-N, N'-bis (1-naphthyl) -1,1'-diphenyl-4,4'-diamine was formed to a thickness of 50 nm by a vacuum evaporation method. Thus, as shown in FIG. 8B, on the conductive ITO film,
A laminated film Lo composed of a hole injection layer and a hole transport layer was formed.

【0054】次に図8(A)に示す右側の7セグメント
陽極を覆う面積の矩形孔を形成したメタルマスクを前記
積層膜Lo上に重ね、該積層膜Lo上に、有機発光層と
して、アルミニウムトリスオキシンに蛍光色素DCMを
1重量%ドープさせたものを共蒸着させて厚さ20nm
の、図8(C)に示すパターンの薄膜S1を形成した。
さらに、図8(A)に示す左側の7セグメント陽極を覆
う面積の矩形孔を形成したメタルマスクを該薄膜S1の
上から重ね、もう一つの有機発光層として、アルミニウ
ムトリスオキシンにジメチルキナクリドンを1重量%ド
ープさせたものを共蒸着により蒸着させて厚さ20nm
の、図8(D)に示すパターンの薄膜S2を形成した。
Next, a metal mask having a rectangular hole having an area covering the right-hand seven-segment anode shown in FIG. 8A is superimposed on the laminated film Lo, and aluminum is used as an organic light emitting layer on the laminated film Lo. Trisoxin doped with 1% by weight of a fluorescent dye DCM is co-evaporated to a thickness of 20 nm.
A thin film S1 having a pattern shown in FIG. 8C was formed.
Further, a metal mask having a rectangular hole having an area covering the left 7-segment anode shown in FIG. 8A is overlaid on the thin film S1. As another organic light-emitting layer, dimethylquinacridone is added to aluminum trisoxin in 1 part. 20% by weight is deposited by co-deposition.
A thin film S2 having a pattern shown in FIG. 8D was formed.

【0055】次に、前記陽極全体を覆う面積の矩形孔を
形成したメタルマスクを以上形成した薄膜上にセット
し、蒸着法により、電子輸送層として、アルミニウムト
リスオキシンを蒸着させ、50nmの厚さの薄膜を形成
し、さらに同じマスクを用いて、該電子輸送層上に、電
子注入層として、リチウムオキシンを抵抗加熱による蒸
着法にて2nmの厚さになるように薄膜を形成した。次
に、前記陽極101に対応するパターンの陰極パターン
を打ち抜いたメタルマスクを以上形成した薄膜上に重
ね、その上から、マグネシウムと銀を共蒸着にて10:
1の原子比で80nmの厚さになるように蒸着させ、図
8(E)に示すパターンの薄膜(陰極)103を形成し
た。
Next, a metal mask having a rectangular hole having an area covering the entire anode was set on the thin film formed above, and aluminum trisoxin was deposited as an electron transporting layer by a vapor deposition method. Using the same mask, a thin film of lithium oxine was formed as an electron injecting layer on the electron transporting layer so as to have a thickness of 2 nm by an evaporation method using resistance heating. Next, a metal mask formed by punching a cathode pattern having a pattern corresponding to the anode 101 is overlaid on the thin film formed above, and magnesium and silver are co-deposited thereon from the metal mask by 10:
The thin film (cathode) 103 having the pattern shown in FIG. 8E was formed by vapor deposition so as to have a thickness of 80 nm at an atomic ratio of 1.

【0056】さらに、その上に陰極用引回し部のパター
ンを打ち抜いたメタルマスクを重ね、スパッタ装置によ
り、実施例1の場合と同じスパッタターゲットに採用し
て100nmの厚さとなるように薄膜を形成し、陰極1
03に対応する図8(F)に示すパターンの引回し部1
04を得た。最後に、図8(G)に示すように、周縁部
に封止用のエポキシ樹脂105aを塗ったガラス基板1
05を以上形成した薄膜の上に載せ、熱硬化により封止
した。図8(G)中2点鎖線で示す部分は発光領域であ
る。このようにして、発光部のみが不透明で発光場所に
よって発光色が異なる有機エレクトロルミネッセンス表
示素子を作製した。
Further, a metal mask formed by punching a pattern of a cathode wiring portion is superposed thereon, and a thin film is formed by a sputtering apparatus to a thickness of 100 nm using the same sputtering target as in the first embodiment. And cathode 1
Route 1 of the pattern shown in FIG.
04 was obtained. Finally, as shown in FIG. 8 (G), the glass substrate 1 having a peripheral portion coated with an epoxy resin 105a for sealing is used.
05 was placed on the thin film formed above and sealed by thermosetting. A portion shown by a two-dot chain line in FIG. 8G is a light emitting region. In this way, an organic electroluminescent display element in which only the light emitting portion was opaque and the light emission color varied depending on the light emitting place was produced.

【0057】・実施例4 市販のインジウムスズ酸化物被覆ガラスの基板上に陽極
及びそれに接続されるべき通電用の引回し部のパターン
を描いたスクリーン印刷用マスクをセットし、スクリー
ン印刷により、実施例2で採用したものと同じレジスト
を塗布し硬化させた後、レジストに覆われていない透明
電極部分を酸でエッチングし、その後レジストを溶剤で
溶解させた。その基板を中性洗剤、有機溶剤で洗浄し、
表面を紫外線(UV)/オゾン(O 3 )洗浄した。かく
して図9(A)に示すように、ガラス基板100’上に
ITOからなる陽極106a、その左右の陽極106
b、さらにその左右の陽極106cとこれら接続された
引回し部107を形成した。
Example 4 Anode on Commercial Indium Tin Oxide Coated Glass Substrate
And the pattern of the wiring part for electricity to be connected to it
Set the screen printing mask on which
The same resist as that used in Example 2
After coating and curing, clear not covered with resist
Etch the electrode with acid and then resist with solvent
Dissolved. Wash the substrate with a neutral detergent and organic solvent,
UV (UV) / ozone (O Three) Washed. Scratch
Then, as shown in FIG. 9A, on a glass substrate 100 ′
Anode 106a made of ITO, anodes 106 on the left and right sides thereof
b and the anodes 106c on the left and right sides thereof and
The routing part 107 was formed.

【0058】次いで、該ITO膜の上に該陽極全体を覆
う面積の矩形孔を形成したメタルマスクをセットし、正
孔注入層として、銅フタロシアニンを蒸着させて厚さ1
0nmの薄膜を形成した。次に、同じメタルマスクを用
いて該正孔注入層上に、正孔輸送層として、N,N' −
ジフェニル−N,N' −ビス(1−ナフチル)−1,
1' −ジフェニル−4,4' −ジアミンを蒸着させ、厚
さ50nmの薄膜を形成した。かくして図9(B)に示
すように、正孔注入層と正孔輸送層とが積層された膜L
pを形成した。さらにその上に、中央の点状の陽極10
6aを覆う位置をとり、面積を有する矩形開口を形成し
たメタルマスクを重ね、有機発光層として、アルミニウ
ムトリスオキシンに蛍光色素DCMを1重量%ドープさ
せたものを共蒸着により蒸着させ、図9(C)に示すパ
ターンの厚さ20nmの薄膜S3を形成した。
Next, a metal mask having a rectangular hole having an area covering the entire anode was set on the ITO film, and copper phthalocyanine was deposited as a hole injecting layer to a thickness of 1 mm.
A 0 nm thin film was formed. Next, using the same metal mask, an N, N ′ − layer was formed on the hole injection layer as a hole transport layer.
Diphenyl-N, N'-bis (1-naphthyl) -1,
1′-diphenyl-4,4′-diamine was deposited to form a thin film having a thickness of 50 nm. Thus, as shown in FIG. 9B, a film L in which a hole injection layer and a hole transport layer are stacked
p was formed. Furthermore, a central point-like anode 10
6a, a metal mask having a rectangular opening having an area formed thereon is overlapped, and aluminum trisoxin doped with 1% by weight of a fluorescent dye DCM is co-evaporated as an organic light emitting layer. A thin film S3 having a pattern shown in C) and having a thickness of 20 nm was formed.

【0059】また、その上から、左右の陽極106bを
覆う位置をとり、面積を有する左右の矩形開口を形成し
たメタルマスクを用いてもう一種の有機発光層として、
アルミニウムトリスオキシンにジメチルキナクリドンを
1重量%ドープさせたものを共蒸着させ、図9(D)に
示すパターンの厚さ20nmの薄膜S4を形成した。さ
らに、その上から、左右の陽極106cを覆う位置をと
り、面積を有する左右の矩形開口を形成したメタルマス
クを用いて、さらにもう一種の有機発光層として、アル
ミニウムトリスオキシンにルブレンを3重量%ドープさ
せたものを共蒸着により蒸着させ、、図9(E)に示す
パターンの厚さ20nmの厚さになるように薄膜S5を
形成した。
From above, a position covering the left and right anodes 106b is taken, and another organic light emitting layer is formed by using a metal mask having left and right rectangular openings having an area.
A thin film S4 having a pattern shown in FIG. 9D and having a thickness of 20 nm was formed by co-evaporation of aluminum trisoxin doped with 1% by weight of dimethylquinacridone. Further, from above, a position covering the left and right anodes 106c is taken, and a metal mask having left and right rectangular openings having an area is formed. As another organic light emitting layer, rubrene is added to aluminum trisoxin by 3% by weight. The doped layer was deposited by co-evaporation to form a thin film S5 having a pattern thickness of 20 nm as shown in FIG.

【0060】次いで、以上形成した膜上に、陽極全体を
覆う面積の矩形開口を形成したメタルマスクをセット
し、電子輸送層として、アルミニウムトリスオキシンを
蒸着させて厚さ60nmの厚さになるように薄膜を形成
し、さらにその上に続けて、電子注入層として、リチウ
ムアセチルアセトネートを抵抗加熱による蒸着法にて蒸
着させ、厚さ3nmの薄膜を形成した。次に、前記陽極
106a、106b、106cに対応するパターンの陰
極パターンを打ち抜いたメタルマスクを前記有機発光層
上に重ね、その上から、スパッタ装置を用いてAl−L
i合金(Li:1wt%)をスパッタターゲットとして
スパッタリングし、厚さ100nmの、図9(F)に示
すパターンの薄膜(陰極)107a、107b、107
cを形成した。
Next, a metal mask having a rectangular opening having an area covering the entire anode is set on the film formed as described above, and aluminum trisoxin is deposited as an electron transporting layer so as to have a thickness of 60 nm. A thin film having a thickness of 3 nm was formed thereon by depositing lithium acetylacetonate as an electron injection layer by an evaporation method using resistance heating. Next, a metal mask in which a cathode pattern of a pattern corresponding to the anodes 106a, 106b, and 106c was punched was overlaid on the organic light emitting layer, and an Al-L layer was formed thereon using a sputtering apparatus.
A thin film (cathode) 107a, 107b, 107 having a thickness of 100 nm and a pattern shown in FIG. 9F is sputtered using an i-alloy (Li: 1% by weight) as a sputtering target.
c was formed.

【0061】さらに、その上に陰極用引回し部のパター
ンを打ち抜いたメタルマスクを重ね、RFスパッタ装置
によりIn2 3 にZnOを5%ドープしたものをスパ
ッタターゲットに採用して180nmの厚さとなるよう
に薄膜を形成し、陰極に対応する図9(G)に示すパタ
ーンの引回し部108を得た。最後に、図9(H)に示
すように、周縁部に封止用のエポキシ樹脂105aを塗
ったガラス基板105を以上形成した薄膜の上に載せ、
熱硬化により封止した。図9(H)中2点鎖線で示す部
分は発光領域である。このようにして、発光部のみが不
透明で3色の発光部分を有する有機エレクトロルミネッ
センス表示素子を作製した。
Further, a metal mask punched out of a pattern of a cathode drawing portion is superposed thereon, and a material obtained by doping ZnO into In 2 O 3 by 5% by an RF sputtering apparatus is adopted as a sputtering target to have a thickness of 180 nm. A thin film was formed so as to obtain a wiring portion 108 having a pattern shown in FIG. 9G corresponding to the cathode. Finally, as shown in FIG. 9 (H), a glass substrate 105 coated with an epoxy resin 105a for sealing on the periphery is placed on the thin film formed above,
Sealed by thermosetting. In FIG. 9H, a portion indicated by a two-dot chain line is a light emitting region. In this way, an organic electroluminescent display element in which only the light emitting portion was opaque and had light emitting portions of three colors was produced.

【0062】・実施例5 ガラス基板100上に陽極及びそれに接続されるべき通
電用の引回し部のパターンを打ち抜いたメタルマスクを
セットし、スパッタ装置を用いて、ITO焼結体ターゲ
ット(In2 3 −10wt%SnO2 含有)をスパッ
タリングし、該メタルマスク上から、基板100上に厚
さ50nmの導電性ITO膜を形成した。このITO膜
により、図10(A)に示すように、ITOからなる陽
極106a、その左右の陽極106b、さらにその左右
の陽極106cとこれら接続された引回し部107を形
成した。次いで、該ITO膜の上に該陽極全体を覆う面
積の矩形開口を形成したメタルマスクをセットし、正孔
注入層として、4,4' ,4" −トリス[N,N' ,
N" −トリフェニル−N,N' ,N" −トリス(3−メ
チルフェニル)]トリフェニルアミンを真空蒸着装置に
よる真空蒸着法により蒸着させ、厚さ15nmの薄膜を
形成した。
Example 5 A metal mask in which a pattern of an anode and a wiring portion for energization to be connected thereto was punched was set on a glass substrate 100, and an ITO sintered body target (In 2 O 3 -10 wt% of SnO 2 ) was sputtered to form a conductive ITO film having a thickness of 50 nm on the substrate 100 from above the metal mask. As shown in FIG. 10A, an anode 106a made of ITO, its left and right anodes 106b, its left and right anodes 106c, and the connected parts 107 connected to these were formed by this ITO film. Next, a metal mask having a rectangular opening having an area covering the entire anode is set on the ITO film, and 4,4 ′, 4 ″ -tris [N, N ′,
N "-triphenyl-N, N ', N" -tris (3-methylphenyl)] triphenylamine was deposited by a vacuum deposition method using a vacuum deposition apparatus to form a thin film having a thickness of 15 nm.

【0063】さらにその上に、正孔輸送層として、N,
N' −ジフェニル−N,N' −ビス(1−ナフチル)−
1,1' −ジフェニル−4,4' −ジアミンを蒸着さ
せ、厚さ55nmの薄膜を形成した。かくして図10
(B)に示すように、正孔注入層と正孔輸送層を積層し
た膜Lqを形成した。さらにその上に、中央の点状の陽
極106aを覆う位置をとり、面積を有する矩形開口を
形成したメタルマスクを重ね、有機発光層として、アル
ミニウムトリスオキシンに蛍光色素DCMを1重量%ド
ープさせたものを共蒸着により蒸着させ、図10(C)
に示すパターンの厚さ20nmの薄膜S3を形成した。
また、その上から、左右の陽極106b、106cを覆
う位置をとり、面積を有する左右の矩形開口を形成した
メタルマスクを用いてもう一種の有機発光層として、ア
ルミニウムトリスオキシンにジメチルキナクリドンを1
重量%ドープさせたものを共蒸着させ、図10(D)に
示すパターンの厚さ20nmの薄膜S6を形成した。
Further, as a hole transport layer, N,
N'-diphenyl-N, N'-bis (1-naphthyl)-
1,1′-Diphenyl-4,4′-diamine was deposited to form a thin film having a thickness of 55 nm. Thus, FIG.
As shown in (B), a film Lq in which a hole injection layer and a hole transport layer were stacked was formed. Further, a metal mask having a rectangular opening having an area was placed thereon at a position covering the central point-like anode 106a, and aluminum trisoxine was doped with 1% by weight of a fluorescent dye DCM as an organic light emitting layer. Are deposited by co-evaporation, and FIG.
The thin film S3 having a pattern shown in FIG.
From above, a position covering the left and right anodes 106b and 106c is taken, and dimethylquinacridone is added to aluminum trisoxin as another organic light emitting layer using a metal mask having left and right rectangular openings having an area.
A 20% -thick thin film S6 having a pattern shown in FIG.

【0064】次いで、以上形成した膜上に、陽極全体を
覆う面積の矩形開口を形成したメタルマスクをセット
し、電子輸送層として、アルミニウムトリスオキシンを
蒸着させて厚さ50nmの厚さになるように薄膜を形成
し、さらにその上に続けて、電子注入層として、リチウ
ムアセチルアセトネートを抵抗加熱による蒸着法にて蒸
着させ、厚さ2nmの薄膜を形成した。かくして図10
(E)に示すように、電子輸送層と電子注入層を積層し
た膜Lrを形成した。さらに、前記陽極106a、10
6b、106cに対応するパターンの陰極パターンを打
ち抜いたメタルマスクを前記膜Lr上に重ね、その上か
ら、マグネシウムと銀を共蒸着にて10:1の原子比で
80nmの厚さになるように蒸着させ、図10(F)に
示すパターンの薄膜(陰極)109a、109b、10
9cを形成した。
Next, a metal mask having a rectangular opening having an area covering the entire anode is set on the film formed above, and aluminum trisoxine is deposited as an electron transporting layer so as to have a thickness of 50 nm. Then, lithium acetylacetonate was deposited thereon as an electron injection layer by an evaporation method using resistance heating to form a thin film having a thickness of 2 nm. Thus, FIG.
As shown in (E), a film Lr in which an electron transport layer and an electron injection layer were laminated was formed. Further, the anodes 106a, 10a
A metal mask formed by punching a cathode pattern corresponding to the patterns 6b and 106c is overlaid on the film Lr, and magnesium and silver are co-deposited on the film so as to have a thickness of 80 nm at an atomic ratio of 10: 1. The thin films (cathodes) 109a, 109b, and 10 having the pattern shown in FIG.
9c was formed.

【0065】その上に陰極用引回し部のパターンを打ち
抜いたメタルマスクを重ね、スパッタ装置を用い、前記
と同じ焼結体ターゲットをスパッタリングし、該メタル
マスク上から、厚さ100nmの導電性ITO引回し部
108’を形成した。最後に、図10(H)に示すよう
に、周縁部に封止用のエポキシ樹脂105aを塗ったガ
ラス基板105を以上形成した薄膜の上に載せ、熱硬化
により封止した。図10(H)中2点鎖線で示す部分は
発光領域である。このようにして、発光部のみが不透明
で2色の発光部分を有する有機エレクトロルミネッセン
ス表示素子を作製した。
A metal mask punched out of a pattern of a cathode wiring portion was superposed thereon, and the same sintered target as described above was sputtered using a sputtering apparatus, and a 100 nm-thick conductive ITO was formed on the metal mask. The routing part 108 'was formed. Finally, as shown in FIG. 10H, a glass substrate 105 coated with an epoxy resin 105a for sealing on the periphery was placed on the thin film formed above and sealed by thermosetting. A portion shown by a two-dot chain line in FIG. In this way, an organic electroluminescent display element having only a light emitting portion which was opaque and had light emitting portions of two colors was produced.

【0066】・実施例6 市販のインジウムスズ酸化物被覆ガラスの基板の全面に
実施例2で採用したものと同じレジストをスピンコート
し、該レジスト膜上に陽極及びそれに接続されるべき通
電用の引回し部のパターンを打ち抜いたマスクをセット
し、その上から露光した。その後、溶剤を用いて、露光
されたレジスト部分、すなわち、陽極及びそれに接続さ
れるべき通電用の引回し部に対応する部分を溶解させ
た。
Example 6 The same resist as that used in Example 2 was spin-coated on the entire surface of a commercially available indium tin oxide-coated glass substrate, and an anode and an electric current to be connected to the anode were connected to the resist film. A mask in which the pattern of the routing portion was punched was set, and exposure was performed from above. Thereafter, the exposed resist portion, that is, the portion corresponding to the anode and the wiring portion to be connected to the anode to be connected thereto was dissolved using a solvent.

【0067】その後、基板を中性洗剤、有機溶剤で洗浄
し、表面を紫外線(UV)/オゾン(O3 )洗浄した。
かくして図11(A)に示すように、ガラス基板上に並
列された二組の7セグメント形式の、ITOからなる陽
極101’とこれに接続された引回し部102’、並び
にレジストからなる絶縁膜110を形成した。次いで、
該陽極等の上に、発光層として、下記式〔化1〕で示さ
れるポリフェリレンビニレン化合物をスピンコートによ
り塗布し、厚さ50nmの薄膜を形成した。
Thereafter, the substrate was washed with a neutral detergent and an organic solvent, and the surface was washed with ultraviolet (UV) / ozone (O 3 ).
Thus, as shown in FIG. 11 (A), two sets of 7-segment anodes 101 'made of ITO, wiring portions 102' connected thereto, and insulating films made of resist are arranged in parallel on a glass substrate. 110 was formed. Then
On the anode and the like, a polyferylenevinylene compound represented by the following formula [Formula 1] was applied by spin coating as a light emitting layer to form a thin film having a thickness of 50 nm.

【化1】 Embedded image

【0068】次いで、陽極全体を覆う面積の矩形開口を
形成したメタルマスクを該発光層の上に重ね、電子注入
輸送層として、アルミニウムトリスオキシンを蒸着さ
せ、図11(B)に示すパターンの厚さ50nmの薄膜
S7を形成した。次に、前記陽極101’に対応するパ
ターンの陰極パターンを打ち抜いたメタルマスクを電子
注入輸送層S7上に重ね、その上から、蒸着装置を用い
てAl−Li合金(Li 1wt%)を厚さ100nm
蒸着させ、さらにその上にAlを蒸着装置により厚さ1
00nm蒸着させ、かくして図11(C)に示すパター
ンの薄膜(陰極)107’を形成した。
Next, a metal mask having a rectangular opening having an area covering the entire anode is overlaid on the light emitting layer, aluminum trisoxin is deposited as an electron injection / transport layer, and the thickness of the pattern shown in FIG. A thin film S7 having a thickness of 50 nm was formed. Next, a metal mask in which a cathode pattern of a pattern corresponding to the anode 101 'was punched is overlaid on the electron injection / transport layer S7, and an Al-Li alloy (Li 1 wt%) was deposited thereon using an evaporation apparatus. 100nm
Al was deposited thereon, and Al was further deposited thereon to a thickness of 1 by an evaporation apparatus.
Then, a thin film (cathode) 107 ′ having a pattern shown in FIG. 11C was formed.

【0069】さらに、その上に陰極用引回し部のパター
ンを打ち抜いたメタルマスクを重ね、ヘリコンスパッタ
装置を用いて、In2 3 にZnOを5%ドープしたも
のをスパッタターゲットに採用して180nmの厚さと
なるように薄膜を形成し、陰極に対応する図11(D)
に示すパターンの引回し部108’を得た。最後に、図
11(E)に示すように、周縁部に封止用のエポキシ樹
脂105aを塗ったガラス基板105を以上形成した薄
膜の上に載せ、熱硬化により封止した。図11(E)中
2点鎖線で示す部分は発光領域である。このようにし
て、発光部のみが不透明の有機エレクトロルミネッセン
ス表示素子を作製した。
Further, a metal mask in which a pattern of a wiring portion for a cathode was punched was superposed thereon, and a material obtained by doping ZnO into In 2 O 3 by 5% was used as a sputtering target by using a helicon sputtering device to obtain 180 nm. FIG. 11 (D) corresponding to the cathode by forming a thin film to have a thickness of
In this case, a pattern routing portion 108 'having the pattern shown in FIG. Finally, as shown in FIG. 11E, a glass substrate 105 coated with an epoxy resin 105a for sealing on the periphery was placed on the thin film formed above and sealed by thermosetting. A portion shown by a two-dot chain line in FIG. Thus, an organic electroluminescent display element in which only the light emitting portion was opaque was manufactured.

【0070】実施例1〜実施例6のいずれの有機有機エ
レクトロルミネッセンス表示素子も陽極及び陰極間に電
圧を印加することで、高輝度に発光効率よく発光した。
In each of the organic organic electroluminescent display elements of Examples 1 to 6, light was emitted with high luminance and high luminous efficiency by applying a voltage between the anode and the cathode.

【0071】次に本発明に係る表示素子の応用例を説明
する。 ・応用例1 本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス表示素子を
カメラのインファインダーに組み込んだ例を図12に示
す。図12に示す例では、カメラファインダーFで観察
される被写体に重ねて、本発明に係る表示素子DL1が
見えている。表示素子DL1をカメラのインファインダ
ーに組み込むことで発光型による鮮明な表示とカラー表
示による注意の喚起やユーザーに対するカメラの撮影情
報を表示することができる。
Next, an application example of the display element according to the present invention will be described. Application Example 1 FIG. 12 shows an example in which the organic electroluminescence display element according to the present invention is incorporated in an infinder of a camera. In the example shown in FIG. 12, the display element DL1 according to the present invention can be seen over the subject observed by the camera finder F. By incorporating the display element DL1 into the camera's infinder, it is possible to display a clear display by a light emitting type, draw attention by color display, and display photographing information of the camera to the user.

【0072】・応用例2 本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス表示素子を
時計の透明表面カバーガラスに組み込んだ例を図13に
示す。図13に示す例では、本発明に係る表示素子DL
2が、時計WTの指針による表示部の上側に設けられた
2枚の透明カバーガラスCG1とCG2の間に挟着され
てガラス枠WFに組み込まれており、それにより該カバ
ーガラスの部分に例えばカレンダーCAが表示されてい
る状態を示している。このように、時計に本発明に係る
有機エレクトロルミネッセンス表示素子を組み込み、日
付けや地図等の表示を行うことができる。また、夜間に
発光させることもできる。また電池交換等の注意を喚起
するための警告表示にも用いることができる。
Application Example 2 FIG. 13 shows an example in which the organic electroluminescence display element according to the present invention is incorporated in a transparent surface cover glass of a timepiece. In the example shown in FIG. 13, the display element DL according to the present invention is
2 is sandwiched between two transparent cover glasses CG1 and CG2 provided on the upper side of the display unit according to the hands of the watch WT, and is incorporated in the glass frame WF. This shows a state where the calendar CA is displayed. As described above, the timepiece incorporating the organic electroluminescent display element according to the present invention can display dates, maps, and the like. It can also emit light at night. Further, it can also be used for a warning display for calling attention such as battery replacement.

【0073】・応用例3 本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示素子を窓ガ
ラスに組み込んだ例を図14に示す。図14に示すよう
に、窓ガラスWGに重ねて本発明に係る有機エレクトロ
ルミネッセンス表示素子DL3を組み込み、例えば広告
の表示やイルミネーション、夜の照明等に用いることが
できる。
Application Example 3 FIG. 14 shows an example in which the organic electroluminescence display element of the present invention is incorporated in a window glass. As shown in FIG. 14, the organic electroluminescent display element DL3 according to the present invention is incorporated so as to be overlaid on a window glass WG, and can be used for, for example, display of advertisements, illumination, and night illumination.

【0074】・応用例4 本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示素子を自動
車のヘッドアップディスプレイに用いた例を図15に示
す。図15に示すように、例えば自動車のフロントガラ
スAGに重ねて本発明に係る有機エレクトロルミネッセ
ンス表示素子DL4、DL5を組み込み、例えば走行速
度表示やナビゲーション装置のディスプレイとして利用
できる。また、自動車の車載用ヘッドアップディスプレ
イとして用いることにより、駆動電位が低く、自動車の
バッテリーに負担をかけず、カラー表示や運転者に注意
を促す表示をすることができる。また、有機エレクトロ
ルミネッセンス表示素子がフロントガラスの視認性を妨
げないので、通常の運転には支障を生じず、発光するた
め注意を喚起しやすい。
Application Example 4 FIG. 15 shows an example in which the organic electroluminescence display device of the present invention is used for a head-up display of an automobile. As shown in FIG. 15, the organic electroluminescent display elements DL4 and DL5 according to the present invention are incorporated, for example, over a windshield AG of an automobile, and can be used as, for example, a display of a traveling speed or a navigation device. In addition, when used as an in-vehicle head-up display for an automobile, the driving potential is low, and a color display or a display that alerts the driver can be performed without imposing a burden on the automobile battery. In addition, since the organic electroluminescent display element does not hinder the visibility of the windshield, it does not hinder normal operation and emits light to easily draw attention.

【0075】・応用例5 本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示素子をオー
バーレイディスプレイに用いた例を図16に示す。図1
6はコンピュータの表示画面CPに重ねて本発明に係る
表示素子DL6を組み込んだ例を示している。本発明に
係る有機エレクトロルミネッセンス表示素子を液晶パネ
ルやCRTの窓枠内に組み込むことで、重複させた表示
をする時に発光型で見やすく、注意等を喚起しやすい。
また、チャンネル表示や時計表示をさせ、使用者の利便
を図ることができる。
Application Example 5 FIG. 16 shows an example in which the organic electroluminescence display device of the present invention is used for an overlay display. FIG.
6 shows an example in which the display element DL6 according to the present invention is incorporated so as to overlap the display screen CP of the computer. By incorporating the organic electroluminescent display element according to the present invention into a window frame of a liquid crystal panel or a CRT, it is easy to see the light-emitting type when displaying overlapped images, and it is easy to call attention.
In addition, a channel display and a clock display are displayed, so that user convenience can be achieved.

【0076】[0076]

【発明の効果】以上説明したように本発明によると、疑
似的に透光性を有し、高輝度で発光効率がよく、作製容
易である有機エレクトロルミネッセンス素子を提供する
ことができる。
As described above, according to the present invention, it is possible to provide an organic electroluminescent device which has a pseudo-light-transmitting property, high luminance, good luminous efficiency, and is easy to manufacture.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス表
示素子の1例の概略構成を示す側面図である。
FIG. 1 is a side view showing a schematic configuration of an example of an organic electroluminescence display element according to the present invention.

【図2】本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス表
示素子の他の例の概略構成を示す側面図である。
FIG. 2 is a side view showing a schematic configuration of another example of the organic electroluminescence display element according to the present invention.

【図3】本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス表
示素子のさらに他の例の概略構成を示す側面図である。
FIG. 3 is a side view showing a schematic configuration of still another example of the organic electroluminescence display element according to the present invention.

【図4】本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス表
示素子のさらに他の例の概略構成を示す側面図である。
FIG. 4 is a side view showing a schematic configuration of still another example of the organic electroluminescence display element according to the present invention.

【図5】本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス表
示素子のさらに他の例の概略構成を示す側面図である。
FIG. 5 is a side view showing a schematic configuration of still another example of the organic electroluminescence display element according to the present invention.

【図6】図6は実施例1の表示素子を作製する手順を示
すもので、図6(A)は基板上に陽極及び該陽極のため
の引回し部分形成した状態の平面図、図6(B)は陽極
上に有機発光膜を形成した状態の平面図、図6(C)は
陰極パターンの平面図、図6(D)は陰極用引回し部の
パターンを示す平面図、図6(E)は完成した表示素子
の平面図である。
6A and 6B show a procedure for manufacturing the display element of Example 1; FIG. 6A is a plan view showing a state in which an anode and a wiring portion for the anode are formed on a substrate; 6B is a plan view showing a state in which an organic light-emitting film is formed on the anode, FIG. 6C is a plan view of a cathode pattern, FIG. 6D is a plan view showing a pattern of a cathode drawing section, FIG. (E) is a plan view of the completed display element.

【図7】図7は実施例2の表示素子を作製する手順を示
すもので、図7(A)は基板上に陽極及び該陽極のため
の引回し部分形成した状態の平面図、図7(B)は陽極
上に有機発光膜を形成した状態の平面図、図7(C)は
陰極パターンの平面図、図7(D)は陰極用引回し部の
パターンを示す平面図、図7(E)は完成した表示素子
の平面図である。
7A and 7B show a procedure for manufacturing a display element of Example 2; FIG. 7A is a plan view showing a state in which an anode and a wiring portion for the anode are formed on a substrate; 7B is a plan view showing a state in which an organic light-emitting film is formed on the anode, FIG. 7C is a plan view of a cathode pattern, FIG. 7D is a plan view showing a pattern of a cathode lead portion, FIG. (E) is a plan view of the completed display element.

【図8】図8は実施例3の表示素子を作製する手順を示
すもので、図8(A)は基板上に陽極及び該陽極のため
の引回し部分形成した状態の平面図、図8(B)は陽極
上に有機発光膜の一部を形成した状態の平面図、図8
(C)及び(D)はそれぞれ有機発光膜の残部のパター
ンの平面図、図8(E)は陰極パターンの平面図、図8
(F)は陰極用引回し部のパターンを示す平面図、図8
(G)は完成した表示素子の平面図である。
8A and 8B show a procedure for manufacturing a display element of Example 3; FIG. 8A is a plan view showing a state in which an anode and a wiring portion for the anode are formed on a substrate; 8B is a plan view showing a state in which a part of the organic light emitting film is formed on the anode, and FIG.
8 (C) and (D) are plan views of the remaining pattern of the organic light emitting film, respectively, FIG. 8 (E) is a plan view of the cathode pattern, and FIG.
FIG. 8F is a plan view showing a pattern of a wiring portion for a cathode, and FIG.
(G) is a plan view of the completed display element.

【図9】図9は実施例4の表示素子を作製する手順を示
すもので、図9(A)は基板上に陽極及び該陽極のため
の引回し部分形成した状態の平面図、図9(B)は陽極
上に有機発光膜の一部を形成した状態の平面図、図9
(C)、(D)及び(E)はそれぞれ有機発光膜の残部
のパターンの平面図、図9(F)は陰極パターンの平面
図、図9(G)は陰極用引回し部のパターンを示す平面
図、図9(H)は完成した表示素子の平面図である。
9A and 9B show a procedure for manufacturing the display element of Example 4; FIG. 9A is a plan view showing a state in which an anode and a wiring portion for the anode are formed on a substrate; FIG. 9B is a plan view showing a state in which a part of the organic light emitting film is formed on the anode, and FIG.
(C), (D) and (E) are plan views of the remaining pattern of the organic light-emitting film, FIG. 9 (F) is a plan view of the cathode pattern, and FIG. 9 (G) is the pattern of the cathode wiring section. FIG. 9H is a plan view of the completed display element.

【図10】図10は実施例5の表示素子を作製する手順
を示すもので、図10(A)は基板上に陽極及び該陽極
のための引回し部分形成した状態の平面図、図10
(B)は陽極上に有機発光膜の一部を形成した状態の平
面図、図10(C)、(D)及び(E)はそれぞれ有機
発光膜の残部のパターンの平面図、図10(F)は陰極
パターンの平面図、図10(G)は陰極用引回し部のパ
ターンを示す平面図、図10(H)は完成した表示素子
の平面図である。
FIG. 10 shows a procedure for manufacturing a display element of Example 5, and FIG. 10 (A) is a plan view showing a state in which an anode and a wiring portion for the anode are formed on a substrate;
10B is a plan view showing a state in which a part of the organic light emitting film is formed on the anode, FIGS. 10C, 10D, and 10E are plan views of the remaining pattern of the organic light emitting film, respectively, and FIG. F) is a plan view of a cathode pattern, FIG. 10 (G) is a plan view showing a pattern of a cathode lead portion, and FIG. 10 (H) is a plan view of a completed display element.

【図11】図11は実施例6の表示素子を作製する手順
を示すもので、図10(A)は基板上に陽極、引回し部
分及びそれらを囲むレジストからなる電気絶縁性膜を形
成した状態の平面図、図10(B)は陽極上に形成した
有機発光膜のパターンを示す図、図10(C)は陰極パ
ターンの平面図、図10(D)は陰極用引回し部のパタ
ーンを示す平面図、図10(E)は完成した表示素子の
平面図である。
FIG. 11 shows a procedure for manufacturing the display element of Example 6, and FIG. 10 (A) shows an example in which an electrically insulating film composed of an anode, a wiring portion, and a resist surrounding them was formed on a substrate. FIG. 10B is a diagram showing a pattern of an organic light emitting film formed on an anode, FIG. 10C is a plan view of a cathode pattern, and FIG. 10D is a pattern of a cathode wiring portion. FIG. 10E is a plan view of the completed display element.

【図12】本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス
表示素子をカメラのインファインダーに組み込んだ例を
示す図である。
FIG. 12 is a view showing an example in which the organic electroluminescence display element according to the present invention is incorporated in an infinder of a camera.

【図13】本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス
表示素子をカバーガラスに組み込んだ時計例の一部の斜
視図である。
FIG. 13 is a perspective view of a part of an example of a timepiece in which the organic electroluminescent display element according to the present invention is incorporated in a cover glass.

【図14】本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス
表示素子を組み込んだ窓ガラス例の斜視図である。
FIG. 14 is a perspective view of an example of a window glass incorporating the organic electroluminescence display element according to the present invention.

【図15】本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス
表示素子をフロントガラスに組み込んだ自動車例の一部
を示す図である。
FIG. 15 is a diagram showing a part of an example of an automobile in which the organic electroluminescence display element according to the present invention is incorporated in a windshield.

【図16】本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス
表示素子をコンピュータ表示画面のオーバーレイディス
プレイとして用いた例を示す図である。
FIG. 16 is a diagram showing an example in which the organic electroluminescence display element according to the present invention is used as an overlay display of a computer display screen.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

G 透明基板 1 陽極 2 正孔注入輸送層 3、3’、3”、30 有機発光層 4 電子注入層 5 陰極 6 電子注入層 7 正孔注入層 8 正孔輸送層 9 電源 10、10’ 引回し部分 La、Lb、Lc、Ld、Le 有機発光膜 PW 電源 100、100’ 透明ガラス基板 101 陽極 102 引回し部分 L1、L2 有機発光膜 103、103’ 陰極 104、104’ 引回し部分 105 ガラス基板 105a エポキシ樹脂 Lo 正孔注入層及び正孔輸送層からなる積層膜 S1、S2 薄膜(有機発光層) 106a、106b、106c 陽極 107 引回し部分 Lp 正孔注入層と正孔輸送層とが積層された膜 S3、S4、S5 薄膜(有機発光層) 107a、107b、107c 陰極 108 引回し部分 Lq 正孔注入層と正孔輸送層を積層した膜 S6 薄膜(有機発光層) Lr 電子輸送層と電子注入層を積層した膜 109a、109b、109c 陰極 108’ 引回し部分 101’陽極 102’引回し部分 110 レジストからなる絶縁膜 S7 薄膜(発光層と電子注入輸送層の積層膜) 107’ 陰極 108’引回し部分 DL1〜DL6 有機エレクトロルミネッセンス表示素
子 F カメラのインファインダー WT 指針式時計 CG1、CG2 透明ガラスカバー WF ガラス枠 CA カレンダー WG 窓ガラス AG 自動車のフロントガラス CP コンピュータの表示画面
G transparent substrate 1 anode 2 hole injecting and transporting layer 3, 3 ', 3 ", 30 organic light emitting layer 4 electron injecting layer 5 cathode 6 electron injecting layer 7 hole injecting layer 8 hole transporting layer 9 power source 10, 10' Turning part La, Lb, Lc, Ld, Le Organic light emitting film PW power supply 100, 100 ′ Transparent glass substrate 101 Anode 102 Drawing part L1, L2 Organic light emitting film 103, 103 ′ Cathode 104, 104 ′ Drawing part 105 Glass substrate 105a Epoxy resin Lo Laminated film composed of hole injection layer and hole transport layer S1, S2 Thin film (organic light emitting layer) 106a, 106b, 106c Anode 107 Routed portion Lp Hole injection layer and hole transport layer are laminated Films S3, S4, S5 Thin film (organic light emitting layer) 107a, 107b, 107c Cathode 108 Wired portion Lq Film in which hole injection layer and hole transport layer are laminated S6 Film (organic light emitting layer) Lr Film laminated with an electron transport layer and an electron injection layer 109a, 109b, 109c Cathode 108 'Wired portion 101' Anode 102 'Wired portion 110 Insulating film made of resist S7 Thin film (light emitting layer and electron 107 ′ cathode 108 ′ wiring part DL1 to DL6 organic electroluminescence display element F camera infinder WT pointer-type clock CG1, CG2 transparent glass cover WF glass frame CA calendar WG window glass AG Front of automobile Display screen of glass CP computer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 古川 慶一 大阪市中央区安土町二丁目3番13号 大阪 国際ビル ミノルタ株式会社内 Fターム(参考) 3K007 AB02 AB03 AB12 AB13 AB18 BA06 BB01 CA01 CB01 DA00 DB03 EB00 FA01 FA03  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Keiichi Furukawa 2-3-1-13 Azuchicho, Chuo-ku, Osaka-shi Osaka International Building Minolta Co., Ltd. F term (reference) 3K007 AB02 AB03 AB12 AB13 AB18 BA06 BB01 CA01 CB01 DA00 DB03 EB00 FA01 FA03

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】少なくと陽極、有機発光膜及び陰極を有す
る有機エレクトロルミネッセンス表示素子において、前
記陽極が透光性導電性膜からなり、前記陰極が低仕事関
数の金属を含有する金属膜からなり、該陰極に透光性導
電性膜からなる通電用引き回し部分が接続形成されてい
ることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示
素子。
1. An organic electroluminescent display device having at least an anode, an organic light-emitting film, and a cathode, wherein the anode comprises a light-transmitting conductive film, and the cathode comprises a metal film containing a metal having a low work function. An organic electroluminescent display element, wherein a current-passing portion formed of a light-transmitting conductive film is connected to the cathode.
【請求項2】前記陰極の、発光に直接寄与する部分がマ
グネシウム又はリチウムを含有する金属膜からなってい
る請求項1記載の有機エレクトロルミネッセンス表示素
子。
2. The organic electroluminescent display device according to claim 1, wherein a portion of the cathode which directly contributes to light emission is made of a metal film containing magnesium or lithium.
【請求項3】前記陽極が透光性の酸化インジウム錫化合
物からなり、前記陰極が不透明の金属膜からなり、該陰
極の周囲が透光性を有している請求項1又は2記載の有
機エレクトロルミネッセンス表示素子。
3. The organic material according to claim 1, wherein the anode is made of a light-transmitting indium tin oxide compound, the cathode is made of an opaque metal film, and the periphery of the cathode is light-transmitting. Electroluminescence display element.
【請求項4】前記有機発光膜が前記陽極側に配置された
正孔移動関連層及び前記陰極側に配置された有機発光層
を含んでおり、前記陽極は透光性の導電性金属酸化物膜
からなり、前記陰極は不透明の金属膜からなり、前記陰
極に接続された引回し部分は透光性の導電性化合物膜か
らなる請求項1、2又は3記載の有機エレクトロルミネ
ッセンス表示素子。
4. The organic light-emitting film according to claim 1, wherein said organic light-emitting film includes a hole transfer-related layer disposed on said anode side and an organic light-emitting layer disposed on said cathode side, wherein said anode is a light-transmitting conductive metal oxide. 4. The organic electroluminescent display element according to claim 1, wherein the cathode is formed of an opaque metal film, and a wiring portion connected to the cathode is formed of a translucent conductive compound film.
【請求項5】前記正孔移動関連層が、正孔注入層、正孔
輸送層、正孔注入層及び正孔輸送層、正孔注入輸送層か
らなる群れより選択されたいずれかの層である請求項4
記載の有機エレクトロルミネッセンス表示素子。
5. The layer according to claim 1, wherein the hole transport-related layer is a layer selected from the group consisting of a hole injection layer, a hole transport layer, a hole injection layer, a hole transport layer, and a hole injection transport layer. Claim 4
The organic electroluminescent display element according to any one of the preceding claims.
【請求項6】前記陽極及び該陽極に接続されるべき通電
用引回し部分がITO膜で透明基板上にパターンニング
形成されており、前記陰極は不透明金属膜からなる請求
項1から5のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッ
センス表示素子。
6. The anode according to claim 1, wherein the anode and a current-carrying portion to be connected to the anode are formed by patterning an ITO film on a transparent substrate, and the cathode is formed of an opaque metal film. An organic electroluminescent display device according to any one of the above.
【請求項7】前記陽極・陰極間部分の厚さが20nm〜
200nmである請求項1から6のいずれかに記載の有
機エレクトロルミネッセンス表示素子。
7. The thickness of the portion between the anode and the cathode is 20 nm or more.
The organic electroluminescent display element according to claim 1, wherein the thickness is 200 nm.
【請求項8】前記陰極を構成している線の幅が1mm以
下である請求項1から7のいずれかに記載の有機エレク
トロルミネッセンス表示素子。
8. The organic electroluminescent display device according to claim 1, wherein the width of the line constituting the cathode is 1 mm or less.
【請求項9】前記有機発光膜における発光層は蛍光色素
がドープされた層である請求項1から8のいずれかに記
載の有機エレクトロルミネッセンス表示素子。
9. The organic electroluminescent display device according to claim 1, wherein the light emitting layer in the organic light emitting film is a layer doped with a fluorescent dye.
【請求項10】前記有機発光膜が前記陰極側から前記陽
極側へ電子移動関連層、発光層、正孔移動関連層を含ん
でいる請求項1から9のいずれかに記載の有機エレクト
ロルミネッセンス表示素子。
10. The organic electroluminescence display according to claim 1, wherein the organic light emitting film includes an electron transfer-related layer, a light-emitting layer, and a hole transfer-related layer from the cathode side to the anode side. element.
【請求項11】前記電子移動関連層が、電子注入層、電
子輸送層、電子注入層及び電子輸送層、電子注入輸送層
からなる群れより選択されたいずれかの層であり、前記
正孔移動関連層が、正孔注入層、正孔輸送層、正孔注入
層及び正孔輸送層、正孔注入輸送層からなる群れより選
択されたいずれかの層である請求項10記載の有機エレ
クトロルミネッセンス表示素子。
11. The electron transport related layer is any one selected from the group consisting of an electron injection layer, an electron transport layer, an electron injection layer and an electron transport layer, and an electron injection transport layer. The organic electroluminescence according to claim 10, wherein the related layer is any one selected from the group consisting of a hole injection layer, a hole transport layer, a hole injection layer, a hole transport layer, and a hole injection transport layer. Display element.
【請求項12】前記有機発光膜はそれぞれ個別的に発光
パターンが定められた少なくとも二つの発光部分を含ん
でおり、該各発光部分はそれぞれ異なる発光色で表示さ
れる請求項1から11のいずれかに記載の有機エレクト
ロルミネッセンス表示素子。
12. The organic light-emitting film according to claim 1, wherein the organic light-emitting film includes at least two light-emitting portions each having a light-emitting pattern individually defined, and each light-emitting portion is displayed in a different light-emitting color. An organic electroluminescent display device according to any one of the above.
【請求項13】2枚のガラス基板の間に封止されている
請求項1から12のいずれかに記載の有機エレクトロル
ミネッセンス表示素子。
13. The organic electroluminescent display device according to claim 1, wherein the organic electroluminescent display device is sealed between two glass substrates.
【請求項14】2色以上のカラー表示が可能である請求
項1から13のいずれかに記載の有機エレクトロルミネ
ッセンス表示素子。
14. The organic electroluminescent display device according to claim 1, wherein two or more colors can be displayed.
【請求項15】前記有機発光膜における発光部分が占め
る面積は素子の被観察領域全体の1/10以下である請
求項1から14のいずれかに記載の有機エレクトロルミ
ネッセンス表示素子。
15. The organic electroluminescent display device according to claim 1, wherein an area occupied by a light emitting portion in said organic light emitting film is 1/10 or less of an entire observation region of said device.
【請求項16】前記陽極及び陰極は表示素子を単純マト
リクス駆動させるように設けられており、単純マトリク
ス駆動させ得る請求項1から15のいずれかに記載の有
機エレクトロルミネッセンス表示素子。
16. The organic electroluminescent display device according to claim 1, wherein the anode and the cathode are provided so as to drive the display element in a simple matrix, and can be driven in a simple matrix.
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