JP2000222720A - Substrate for information recording medium and information recording medium - Google Patents

Substrate for information recording medium and information recording medium

Info

Publication number
JP2000222720A
JP2000222720A JP11020829A JP2082999A JP2000222720A JP 2000222720 A JP2000222720 A JP 2000222720A JP 11020829 A JP11020829 A JP 11020829A JP 2082999 A JP2082999 A JP 2082999A JP 2000222720 A JP2000222720 A JP 2000222720A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
recording medium
magnetic
layer
information recording
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11020829A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kunihiko Yoshino
邦彦 吉野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP11020829A priority Critical patent/JP2000222720A/en
Publication of JP2000222720A publication Critical patent/JP2000222720A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate for an information recording medium having excellent mechanical properties (elasticity, strength, hardness or the like) which can be easily produced, and to provide an information recording medium (such as a magnetic disk, optical disk and magneto-optical disk) having an information recording layer on the substrate and having excellent mechanical properties and recording characteristics. SOLUTION: This substrate for an information recording medium is a nonmagnetic rigid substrate on which coatings of an information recording medium are formed on the surface facing to a recording head. The substrate is produced by forming a Ni-P layer 2 having <=20 nm surface roughness Rmax on a rigid substrate 1 consisting of an oxynitride glass having >=90 GPa Young's modulus and >=0.5 wt.% nitrogen content. Then a laminated body of a base layer 3, a magnetic layer 4, a protective layer 5 and a lubricant layer 6 is formed on the substrate 1, 2 for a magnetic recording medium.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、情報記録媒体用の
基板と、該基板上に情報記録層を設けてなる情報記録媒
体(例えば、磁気ディスク、光ディスク、光磁気ディス
クなど)に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate for an information recording medium and an information recording medium having an information recording layer provided on the substrate (for example, a magnetic disk, an optical disk, a magneto-optical disk, etc.). .

【0002】[0002]

【従来の技術】いわゆる情報記録媒体の一例である磁気
ディスク(磁気記録媒体)用の基板として用いられてい
る磁気記録媒体用基板は近年、情報記録容量の高密度化
にともなって、その表面の平滑性が向上している。ま
た、磁気ディスク装置においては、パソコンの代表的な
外部記録装置として大容量化、小型化及び低価格化が著
しい。
2. Description of the Related Art In recent years, a substrate for a magnetic recording medium used as a substrate for a magnetic disk (magnetic recording medium), which is an example of a so-called information recording medium, has recently been required to have a higher density of information recording capacity. The smoothness has been improved. In a magnetic disk device, as a typical external recording device of a personal computer, the capacity, size, and cost have been remarkably increased.

【0003】かかる磁気ディスク装置の進歩は、情報の
記録・再生を行う磁気ディスクや磁気ヘッドの高性能
化、高精度化などによるところが大きく、装置を構成す
る個別部品の高性能化や個別技術の高度化によりもたら
されている。なかでも、磁気ディスクの高密度化(特に
線記録密度の向上)には、磁性膜の改良と共に磁気ヘッ
ドの低浮上量化による寄与が大きく、最近の磁気ディス
ク装置では、35〜50nm程度の低い浮上量が実現されよう
としている。
The progress of such magnetic disk devices is largely due to the high performance and high accuracy of magnetic disks and magnetic heads for recording and reproducing information. It is brought about by sophistication. Above all, the improvement in the magnetic disk density (especially the improvement in linear recording density) is largely due to the improvement in the magnetic film and the reduction in the flying height of the magnetic head. Recent magnetic disk devices have a low flying height of about 35 to 50 nm. The quantity is about to be realized.

【0004】このような低浮上を実現するために、磁気
ディスク表面は平坦かつ平滑であることが要求されてい
る。即ち、磁気記録媒体用基板は近年、情報記録容量の
高密度化の要求にともない、その表面の平坦性及び平滑
性を向上させることが要求されている。また、磁気記録
媒体用基板には、一般的に下記特性が要求される。 1)表面精度が良好であること 2)高強度、高剛性であること 3)形状・寸法精度がよいこと 4)表面硬度が高いこと 5)化学的安定性にすぐれていること 6)低比重であること 7)磁性を持たないこと 8)低価格であること 磁気記録媒体用基板の中でも高記録密度用の基板では、
表面精度が重要であり、低フライイングハイトを実現さ
せるために、表面が平坦かつ平滑であり、ヘッドクラッ
シュの原因となる異常突起物や急激なうねりの変化がな
いことが求められる。
[0004] In order to realize such low flying height, the surface of the magnetic disk is required to be flat and smooth. In other words, in recent years, a substrate for a magnetic recording medium has been required to have improved surface flatness and smoothness in accordance with a demand for a higher density of information recording capacity. The substrate for a magnetic recording medium is generally required to have the following characteristics. 1) Good surface accuracy 2) High strength and high rigidity 3) Good shape and dimensional accuracy 4) High surface hardness 5) Excellent chemical stability 6) Low specific gravity 7) No magnetism 8) Low cost Among the substrates for magnetic recording media, the substrates for high recording density
The surface accuracy is important, and in order to realize a low flying height, it is required that the surface is flat and smooth, and that there is no abnormal protrusion or sudden change in waviness that causes head crash.

【0005】現在、磁気記録媒体用基板として、アルミ
合金基板、アルミノシリケートガラス製基板、結晶化ガ
ラス製基板などが実際に使用されている。特に最近で
は、より平滑な表面が得られるアルミノシリケートガラ
ス製基板が注目されている。図4に従来使用されている
磁気記録媒体用基板(アルミノシリケートガラス製基
板)を用いた磁気記録ディスクの構成を示す。実際には
図の基板の下面にも、上面と同様な構成の膜が基板8側
から下地膜(層)3、磁性膜(層)4、保護膜(層)
5、潤滑膜(層)6の順番で形成される。
At present, aluminum alloy substrates, aluminosilicate glass substrates, crystallized glass substrates, and the like are actually used as substrates for magnetic recording media. Particularly recently, aluminosilicate glass substrates capable of obtaining a smoother surface have attracted attention. FIG. 4 shows a configuration of a magnetic recording disk using a conventionally used magnetic recording medium substrate (aluminosilicate glass substrate). Actually, on the lower surface of the substrate shown in the figure, a film having the same configuration as the upper surface is provided from the substrate 8 side as a base film (layer) 3, a magnetic film (layer) 4, a protective film (layer).
5, a lubricating film (layer) 6 is formed in this order.

【0006】また、近年、磁気ディスクデバイスの高密
度化に対応して、磁気ディスク回転の高速化が著しく、
ディスク回転数10000 rpm の装置も存在している。
In recent years, in response to the increase in density of magnetic disk devices, the speed of rotation of magnetic disks has been remarkably increased.
Some devices have a disk rotation speed of 10,000 rpm.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】磁気ディスクによく用
いられるアルミノシリケートガラス製基板は、低温イオ
ン交換処理が施されているため、例えばヤング率 85 GP
a、ポアソン比 0.23、ヌープ硬度 660 kgf/mm2 程度で
あり、弾性、強度及び硬度に優れている。しかしながら
前述したように、磁気ディスクデバイスの高密度化に対
応して磁気ディスク回転の高速化が著しく、今後、ディ
スク回転数が10000 rpm 以上となる装置も出現してく
る。
The aluminosilicate glass substrate often used for magnetic disks has been subjected to a low-temperature ion exchange treatment.
a, Poisson's ratio 0.23, a Knoop hardness 660 kgf / mm 2 approximately, has excellent elasticity, strength and hardness. However, as described above, the speed of rotation of the magnetic disk has been remarkably increased in response to the increase in the density of the magnetic disk device, and devices having a disk rotation speed of 10,000 rpm or more will appear in the future.

【0008】そして、この高速回転下では、高速回転に
よる磁気ディスク(基板)のたわみ等の変形が少ないこ
とが要求される。これは、高速回転で基板の変形を抑え
ることがヘッドの浮上量を一定にする為に重要な意味を
持つからである。しかしながら、低温イオン交換処理が
施されたアルミノシリケートガラス製基板では、前記要
求を十分に満たすことができなった。
Under this high-speed rotation, it is required that the magnetic disk (substrate) be less deformed due to the high-speed rotation. This is because suppressing the deformation of the substrate at a high speed is important for keeping the flying height of the head constant. However, the aluminosilicate glass substrate subjected to the low-temperature ion exchange treatment has not been able to sufficiently satisfy the above requirements.

【0009】そこで、弾性、強度、硬度等の機械的性質
が更に優れた磁気記録媒体(磁気ディスク)用基板の材
料としてオキシナイトライドガラスが提案されている。
即ち、窒素をガラス構造中に多量に取り込んだオキシナ
イトライドガラスを磁気記録媒体用基板に用いることに
より、従来よりも機械的強度の優れた特性を有する磁気
ディスクを得ることができる。
Accordingly, oxynitride glass has been proposed as a material for a substrate for a magnetic recording medium (magnetic disk) having further excellent mechanical properties such as elasticity, strength and hardness.
That is, by using an oxynitride glass obtained by incorporating a large amount of nitrogen into a glass structure for a substrate for a magnetic recording medium, it is possible to obtain a magnetic disk having more excellent mechanical strength than conventional ones.

【0010】しかしながら、オキシナイトライドガラス
はその高い硬度のために、表面を精密に研磨する工程に
おいて、アルミノシリケートガラスと比較すると研磨加
工に長時間を要し、しかも研磨工程に用いる研磨パッド
の寿命も短いという問題があり、ディスク用基板を生産
するにあたって大きなデメリットになっている。オキシ
ナイトライドガラスの他にも弾性、強度、硬度等の機械
的性質が優れた磁気ディスク用基板の材料として結晶化
ガラスが提案されている。
However, because of its high hardness, oxynitride glass requires a longer polishing time in the step of precisely polishing the surface compared to aluminosilicate glass, and the life of the polishing pad used in the polishing step is high. Is also short, which is a major disadvantage in producing a disk substrate. In addition to oxynitride glass, crystallized glass has been proposed as a material for a magnetic disk substrate having excellent mechanical properties such as elasticity, strength, and hardness.

【0011】しかしながら、結晶化ガラスを素材とした
磁気ディスク用基板は、素材中の結晶粒が基板表面の研
磨加工中にとれてしまう恐れが大きく(そのため、基板
表面に凹みが生じやすく)、精密な基板表面を得るのが
困難であり問題であった。また、基板表面に生じた凹部
は、その上に磁気記録層(磁性層)を形成したときに欠
陥となり、磁気記録特性に悪影響を及ぼすという問題が
あった。
However, the magnetic disk substrate made of crystallized glass has a high possibility that crystal grains in the material will be removed during the polishing of the substrate surface (therefore, dents are likely to occur on the substrate surface). It is difficult and difficult to obtain a suitable substrate surface. In addition, there is a problem that a concave portion formed on the substrate surface becomes a defect when a magnetic recording layer (magnetic layer) is formed thereon, which adversely affects magnetic recording characteristics.

【0012】さらに、結晶化ガラスを素材とした磁気デ
ィスク用基板は、素材中にアルカリ成分を含有している
ため、基板上に磁気記録層(磁性層)を形成させる工程
(例えば、スパッタリング工程)における基板加熱によ
り、アルカリ成分が磁気記録層(磁性層)中に拡散し、
磁気記録特性に悪影響を及ぼす恐れがあり問題があっ
た。
Further, since a magnetic disk substrate made of crystallized glass contains an alkali component in the material, a step of forming a magnetic recording layer (magnetic layer) on the substrate (for example, a sputtering step) By the substrate heating in the above, the alkali component diffuses into the magnetic recording layer (magnetic layer),
There is a problem that the magnetic recording characteristics may be adversely affected.

【0013】本発明は、かかる問題に鑑みてなされたも
のであり、従来よりも機械的性質(弾性、強度、硬度
等)に優れ、しかも製造しやすい情報記録媒体用の基板
と、該基板上に情報記録層を設けてなる、機械的性質と
記録特性に優れた情報記録媒体(例えば、磁気ディス
ク、光ディスク、光磁気ディスクなど)を提供すること
を目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and a substrate for an information recording medium which has excellent mechanical properties (elasticity, strength, hardness, etc.) and is easy to manufacture, It is an object of the present invention to provide an information recording medium (for example, a magnetic disk, an optical disk, a magneto-optical disk, etc.) having excellent information on mechanical properties and recording characteristics, provided with an information recording layer.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】そのため、本発明は第一
に「記録ヘッドに対向する表面の上に情報記録媒体のコ
ーティングが形成される非磁性体の剛性基板であって、
ヤング率90 GPa以上、窒素含有量0.5 wt%以上のオキシ
ナイトライドガラスにより構成される剛性基板の上に、
表面粗さRmax 20nm以下のNi-P層が形成されてなる情報
記録媒体用基板(請求項1)」を提供する。
Therefore, the present invention firstly provides a non-magnetic rigid substrate having a coating of an information recording medium formed on a surface facing a recording head,
On a rigid substrate composed of oxynitride glass with a Young's modulus of 90 GPa or more and a nitrogen content of 0.5 wt% or more,
An information recording medium substrate (Claim 1) having a Ni-P layer having a surface roughness Rmax of 20 nm or less is provided.

【0015】また、本発明は第二に「記録ヘッドに対向
する表面の上に情報記録媒体のコーティングが形成され
る非磁性体の剛性基板であって、90 GPa以上のヤング率
を有する結晶化ガラスにより構成される剛性基板の上
に、表面粗さRmax 20nm以下のNi-P層が形成されてなる
情報記録媒体用基板(請求項2)」を提供する。また、
本発明は第三に「前記剛性基板のヤング率が160 GPa 以
下であることを特徴とする請求項1または2記載の情報
記録媒体用基板(請求項3)」を提供する。
[0015] The present invention also provides a non-magnetic rigid substrate having a coating of an information recording medium formed on a surface facing a recording head and having a Young's modulus of 90 GPa or more. An information recording medium substrate (Claim 2) comprising a Ni-P layer having a surface roughness Rmax of 20 nm or less formed on a rigid substrate made of glass. Also,
Thirdly, the present invention provides "a substrate for an information recording medium according to claim 1 or 2, wherein the rigid substrate has a Young's modulus of 160 GPa or less".

【0016】また、本発明は第四に「前記剛性基板のヌ
ープ硬度が800 kg/mm2 以上1000 kg/mm2 以下であるこ
とを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の情報記
録媒体用基板(請求項4)」を提供する。また、本発明
は第五に「磁気ヘッドに対向する表面の上に磁気記録媒
体のコーティングが形成される非磁性体の剛性基板であ
って、ヤング率90 GPa以上、窒素含有量0.5 wt%以上の
オキシナイトライドガラスにより構成される剛性基板の
上に、表面粗さRmax 20nm以下のNi-P層が形成されてな
る磁気記録媒体用基板(請求項5)」を提供する。
Further, the present invention fourthly provides "Information according to any one of claims 1 to 3, wherein the Knoop hardness of the rigid substrate is 800 kg / mm 2 or more and 1000 kg / mm 2 or less. A recording medium substrate (claim 4) "is provided. Further, the present invention provides a fifth non-magnetic rigid substrate having a coating of a magnetic recording medium formed on a surface facing a magnetic head, having a Young's modulus of 90 GPa or more and a nitrogen content of 0.5 wt% or more. The present invention provides a magnetic recording medium substrate (Claim 5) in which a Ni-P layer having a surface roughness Rmax of 20 nm or less is formed on a rigid substrate made of oxynitride glass.

【0017】また、本発明は第六に「磁気ヘッドに対向
する表面の上に磁気記録媒体のコーティングが形成され
る非磁性体の剛性基板であって、90 GPa以上のヤング率
を有する結晶化ガラスにより構成される剛性基板の上
に、表面粗さRmax 20nm以下のNi-P層が形成されてなる
磁気記録媒体用基板(請求項6)」を提供する。また、
本発明は第七に「前記剛性基板のヤング率が160 GPa 以
下であることを特徴とする請求項5または6記載の磁気
記録媒体用基板(請求項7)」を提供する。
A sixth aspect of the present invention relates to a non-magnetic rigid substrate having a coating of a magnetic recording medium formed on a surface facing a magnetic head and having a Young's modulus of 90 GPa or more. A magnetic recording medium substrate (Claim 6) comprising a Ni-P layer having a surface roughness Rmax of 20 nm or less formed on a rigid substrate made of glass. Also,
The present invention seventhly provides "a substrate for a magnetic recording medium according to claim 5 or 6, wherein the rigid substrate has a Young's modulus of 160 GPa or less (claim 7)."

【0018】また、本発明は第八に「前記剛性基板のヌ
ープ硬度が800 kg/mm2 以上1000 kg/mm2 以下であるこ
とを特徴とする請求項5〜7のいずれかに記載の磁気記
録媒体用基板(請求項8)」を提供する。また、本発明
は第九に「請求項1〜4のいずれかに記載の基板の上に
少なくとも情報記録層を設けてなる情報記録媒体(請求
項9)」を提供する。
The present invention also provides an eighth aspect of the present invention, wherein the rigid substrate has a Knoop hardness of 800 kg / mm 2 or more and 1000 kg / mm 2 or less. A recording medium substrate (claim 8) "is provided. The present invention ninthly provides an "information recording medium comprising at least an information recording layer provided on the substrate according to any one of claims 1 to 4 (claim 9)".

【0019】また、本発明は第十に「請求項5〜8のい
ずれかに記載の基板の上に少なくとも磁性層を設けてな
る磁気記録媒体(請求項10)」を提供する。また、本発
明は第十一に「基板上に下地層、磁性層、保護層、潤滑
層が設けられていることを特徴とする請求項10記載の磁
気記録媒体(請求項11)」を提供する。
The present invention tenthly provides a "magnetic recording medium comprising at least a magnetic layer provided on the substrate according to any one of claims 5 to 8 (claim 10)". Further, the present invention provides an eleventh aspect, "a magnetic recording medium according to claim 10, wherein an underlayer, a magnetic layer, a protective layer, and a lubricating layer are provided on the substrate (claim 11)." I do.

【0020】[0020]

【発明実施の形態】本発明(請求項1〜8)にかかる情
報記録媒体用基板(例えば、磁気記録媒体用基板)は、
記録ヘッドに対向する表面の上に情報記録媒体(例え
ば、磁気記録媒体)のコーティングが形成される非磁性
体の剛性基板であって、ヤング率90 GPa以上、窒素含有
量0.5 wt%以上のオキシナイトライドガラスにより、或
いは90GPa以上のヤング率を有する結晶化ガラスにより
構成されている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An information recording medium substrate (for example, a magnetic recording medium substrate) according to the present invention (claims 1 to 8) comprises:
A non-magnetic rigid substrate having a coating of an information recording medium (for example, a magnetic recording medium) formed on a surface facing a recording head, and having a Young's modulus of 90 GPa or more and a nitrogen content of 0.5 wt% or more. It is made of nitride glass or crystallized glass having a Young's modulus of 90 GPa or more.

【0021】オキシナイトライドガラスは、窒素をガラ
ス構造中に多量に取り込んだガラスであり、優れた機械
的性質を有する。本発明にかかるオキシナイトライドガ
ラスの種類としては例えば、Si-O-N、Mg-Si-O-N、La-Si
-O-N、Al-Si-O-N、Y-Al-Si-O-N、Ca-Al-Si-O-N、Mg-Al-
Si-O-N、Na-Si-O-N、Na-Ca-Si-O-N等を挙げることがで
きる。
Oxynitride glass is a glass in which nitrogen is incorporated in a glass structure in a large amount and has excellent mechanical properties. As the type of the oxynitride glass according to the present invention, for example, Si-ON, Mg-Si-ON, La-Si
-ON, Al-Si-ON, Y-Al-Si-ON, Ca-Al-Si-ON, Mg-Al-
Si-ON, Na-Si-ON, Na-Ca-Si-ON and the like can be mentioned.

【0022】オキシナイトライドガラス中でNはSi-O-Si
のOを置換してSi-N(-Si)-Siの構造をつくるとされて
いる。 ガラスに
Nを含有させると、室温の微小硬度が増大する。La-Si-O
-N系では、ヌープ硬度1220kg / mm2 のものが得られて
おり、Ca-Al-Si-O-N系では、約5.5wt%のNの添加により
ヌープ硬度は 900kg / mm2 になる。
In the oxynitride glass, N is Si-O-Si
Is substituted to form a structure of Si-N (-Si) -Si. On glass
The inclusion of N increases the microhardness at room temperature. La-Si-O
In -N system, which is obtained as the Knoop hardness 1220kg / mm 2, the Ca-Al-Si-ON system, Knoop hardness by the addition of about 5.5 wt% of N becomes 900 kg / mm 2.

【0023】このように、窒素をガラス構造中にとり込
むと硬度が高くなるが、さらにヤング率も大きくなる。
このヤング率の変化は、Nの含有による各性質の変化の
中でも特に顕著である。例えば、Ca-Al-Si-O-N系では、
Nを含まないときにヤング率は約105 GPa であったもの
が約 5.5 wt%のNの添加により約135 GPaとなる。この値
はSiO2 ガラスのヤング率73 GPa、Nを含まない高弾性率
SiO2-Y2O3-Al2O3ガラスのヤング率115GPaと比べて著し
く大きい。
As described above, when nitrogen is incorporated into the glass structure, the hardness increases, but the Young's modulus also increases.
This change in Young's modulus is particularly remarkable among the changes in properties due to the N content. For example, in the Ca-Al-Si-ON system,
The Young's modulus was about 105 GPa when N was not included, but becomes about 135 GPa by adding about 5.5 wt% N. This value is the Young's modulus of SiO 2 glass 73 GPa, high modulus without N
Considerably larger than the SiO 2- Y 2 O 3 -Al 2 O 3 glass Young's modulus 115 GPa.

【0024】この様に窒素をガラス構造中に取り込んだ
オキシナイトライドガラスを用いた、或いは結晶化ガラ
スを用いた、本発明にかかる情報記録媒体用基板(例え
ば、磁気記録媒体用基板)は、従来よりも機械的性質
(弾性、強度、硬度等)に優れている。即ち、本発明に
かかる情報記録媒体用基板(例えば、磁気記録媒体用基
板)は、90 GPa 以上のヤング率を有するので、或いは
高いヌープ強度(窒素含有量0.5 wt%以上に相当)を更
に有するので、情報記録媒体(例えば磁気ディスク)回
転の高速化を考慮した場合、高速回転による基板のたわ
み等の変形が問題となることがない。
The substrate for an information recording medium (for example, a substrate for a magnetic recording medium) according to the present invention using oxynitride glass in which nitrogen is incorporated in a glass structure as described above or using crystallized glass, It has better mechanical properties (elasticity, strength, hardness, etc.) than before. That is, the information recording medium substrate (eg, magnetic recording medium substrate) according to the present invention has a Young's modulus of 90 GPa or more, or further has a high Knoop strength (corresponding to a nitrogen content of 0.5 wt% or more). Therefore, when the speed of rotation of the information recording medium (for example, a magnetic disk) is taken into consideration, deformation such as deflection of the substrate due to the high speed rotation does not pose a problem.

【0025】また、本発明(請求項1〜8)にかかる情
報記録媒体用基板(例えば、磁気記録媒体用基板)は、
90 GPa 以上のヤング率を有する前記剛性基板の上に、
表面粗さRmax 20nm以下のNi-P層が更に形成されてな
る。本発明かかるNi-P層(特に、無電解Ni-Pめっき層)
は、オキシナイトライドガラスや結晶化ガラスに比べて
精密加工性に優れているので、前記剛性基板上にNi-P層
を設けてこれを加工すれば、表面粗さRmax 20nm以下の
精密な基板表面が比較的短時間で容易に得られる(請求
項1〜8)。
Further, the information recording medium substrate (for example, a magnetic recording medium substrate) according to the present invention (claims 1 to 8)
On the rigid substrate having a Young's modulus of 90 GPa or more,
A Ni-P layer having a surface roughness Rmax of 20 nm or less is further formed. Ni-P layer according to the present invention (in particular, electroless Ni-P plating layer)
Is superior in precision workability compared to oxynitride glass or crystallized glass, so if a Ni-P layer is provided on the rigid substrate and processed, a precise substrate with a surface roughness Rmax of 20 nm or less can be obtained. The surface can be easily obtained in a relatively short time (claims 1 to 8).

【0026】例えば、表面粗さRmax 30nm程度に仕上げ
たオキシナイトライドガラス製基板または結晶化ガラス
基板の上に無電解Ni-Pめっき層を形成し、その後表面状
態を整えるために平面精密研磨工程を施すことにより、
比較的短時間で容易に平滑な(表面粗さRmax 20nm以下
の)表面が得られる。この際に、無電解Ni-Pめっき層は
例えば、10μm程度の厚さに形成すればよく、その表
面を仕上げ研磨により1〜2μm削るわけである。最終
的に平面精密研磨工程を施された無電解Ni-P層の表面粗
さはRmax 20nm以下となる。
For example, an electroless Ni-P plating layer is formed on an oxynitride glass substrate or a crystallized glass substrate finished to a surface roughness Rmax of about 30 nm, and then a planar precision polishing process is performed to adjust the surface condition. By applying
A smooth surface (with a surface roughness Rmax of 20 nm or less) can be easily obtained in a relatively short time. At this time, the electroless Ni-P plating layer may be formed to have a thickness of, for example, about 10 μm, and the surface thereof is shaved by 1 to 2 μm by finish polishing. Finally, the surface roughness of the electroless Ni-P layer subjected to the plane precision polishing step becomes Rmax 20 nm or less.

【0027】かかる無電解めっき層を形成するための無
電解めっき法は、金属をはじめガラス、セラミックス、
プラスチック等の材料に対する実用的な被覆方法として
確立している。本発明(請求項1〜8)にかかる情報記
録媒体用基板の表面粗さ(Rmax 20nm以下)は、10Gbit
/ in2 の面記録密度に対応したヘッドの浮上量が50nm以
下であることに対応した値であり、表面粗さRmax 20nm
以下の精密な基板表面を得ることにより、ヘッドと基板
との接触の可能性を極力少なくすることができる。な
お、面記録密度が更に向上すれば、要求される表面粗さ
はRmax 10nm以下のレベルとなる。
The electroless plating method for forming such an electroless plating layer employs metals, glasses, ceramics,
It has been established as a practical coating method for materials such as plastic. The surface roughness (Rmax 20 nm or less) of the information recording medium substrate according to the present invention (claims 1 to 8) is 10 Gbit.
/ in 2 is a value corresponding to the flying height of the head corresponding to the surface recording density of 50 nm or less, the surface roughness Rmax 20 nm
By obtaining the following precise substrate surface, the possibility of contact between the head and the substrate can be minimized. If the surface recording density is further improved, the required surface roughness will be at a level of Rmax 10 nm or less.

【0028】本発明において、結晶化ガラス製基板の上
に無電解Ni-Pめっき層を施した場合には、例えば表面粗
さRmax 30nm程度に仕上げた結晶化ガラス製基板の表面
を無電解Ni-Pめっき層により覆い、その後無電解Ni-Pめ
っき層表面を最終的に研磨するので、最終研磨工程にお
いて、素材中の結晶が基板表面の研磨加工中にとれてし
まう恐れがなくなり、精密に研磨された表面粗さRmax 2
0nm以下の無電解Ni-Pめっき層が被覆された基板表面を
容易に得ることができる。
In the present invention, when the electroless Ni-P plating layer is formed on the crystallized glass substrate, for example, the surface of the crystallized glass substrate finished to have a surface roughness Rmax of about 30 nm may be used. Since the surface of the electroless Ni-P plating layer is finally polished afterwards, there is no danger that crystals in the raw material will be removed during the polishing of the substrate surface during the final polishing process. Polished surface roughness Rmax 2
A substrate surface coated with an electroless Ni-P plating layer of 0 nm or less can be easily obtained.

【0029】また、本発明にかかるNi-Pめっき層(特
に、無電解Ni-Pめっき層)は耐熱性と非磁性特性に優
れ、磁気記録層(磁性層)の成膜時の昇温に対しても非
磁性である。また、本発明にかかるNi-Pめっき層(特
に、無電解Ni-Pめっき層)は、結晶化ガラスのようにア
ルカリ成分が含有されている材料を基板材料として選択
した場合には、成膜時の昇温によって情報記録層に基板
材料中のアルカリ成分が溶出するのを防ぐための保護層
(バリヤー)としての役割を果たすことができる。
Further, the Ni-P plating layer (particularly, the electroless Ni-P plating layer) according to the present invention has excellent heat resistance and non-magnetic properties, and is suitable for increasing the temperature during the formation of the magnetic recording layer (magnetic layer). Also non-magnetic. Further, the Ni-P plating layer according to the present invention (particularly, the electroless Ni-P plating layer) can be formed into a film when a material containing an alkali component such as crystallized glass is selected as a substrate material. It can serve as a protective layer (barrier) for preventing the alkaline component in the substrate material from being eluted into the information recording layer due to the temperature rise.

【0030】本発明にかかる情報記録媒体用基板(例え
ば、磁気記録媒体用基板)は、ヤング率を160 GPa 以下
とすることが好ましい(請求項3、7)。これは、基板
素材のヤング率が160 GPaを越えると硬すぎて、ラッピ
ングや研磨等の加工工程において、加工時間が増大する
という不具合が生じるためである。
The information recording medium substrate (for example, a magnetic recording medium substrate) according to the present invention preferably has a Young's modulus of 160 GPa or less (claims 3 and 7). This is because if the Young's modulus of the substrate material exceeds 160 GPa, the substrate material is too hard, and there is a problem that the processing time increases in the processing steps such as lapping and polishing.

【0031】同様に、ヌープ硬度についても硬さのみな
らず加工工程における加工時間を考慮すると、800kg/mm
2 以上1000kg/mm2 以下とすることが好ましい(請求項
4、8)。また、90 GPa 以上のヤング率を有し、或い
は高いヌープ硬度(0.5 wt%以上の窒素含有量に相当)
を更に有し(優れた機械的強度に対応)、表面粗さRmax
20nm以下の精密な基板表面を有し、情報記録層に基板
材料中のアルカリ成分が溶出するのを防ぐこともできる
(優れた記録特性に対応)、本発明(請求項1〜8)に
かかる情報記録媒体用基板(例えば、磁気記録媒体用基
板)に情報記録層(例えば、磁性層)を設けると、従来
よりも機械的強度と記録特性に優れた情報記録媒体(例
えば、磁気記録媒体)を得ることができる(請求項9〜
11)。
Similarly, the Knoop hardness is 800 kg / mm in consideration of not only the hardness but also the processing time in the processing step.
And a two or more 1000 kg / mm 2 or less (claim 4,8). In addition, it has a Young's modulus of 90 GPa or more or high Knoop hardness (corresponding to a nitrogen content of 0.5 wt% or more)
(Corresponding to excellent mechanical strength), surface roughness Rmax
According to the present invention (claims 1 to 8), having an accurate substrate surface of 20 nm or less and capable of preventing the alkali component in the substrate material from being eluted into the information recording layer (corresponding to excellent recording characteristics). When an information recording layer (for example, a magnetic layer) is provided on an information recording medium substrate (for example, a magnetic recording medium substrate), an information recording medium (for example, a magnetic recording medium) that has better mechanical strength and recording characteristics than before. Can be obtained (claims 9 to 10).
11).

【0032】例えば、請求項5〜8のいずれかに記載の
基板の上に少なくとも磁性層を設けることにより、従来
よりも機械的強度と記録特性に優れた磁気記録媒体(請
求項10)が得られる。かかる磁気記録媒体としては例え
ば、基板上に下地層、磁性層、保護層、潤滑層が設けら
れたもの(請求項11)を挙げることができる。
For example, by providing at least a magnetic layer on the substrate according to any one of claims 5 to 8, a magnetic recording medium having more excellent mechanical strength and recording characteristics than before can be obtained. Can be As such a magnetic recording medium, for example, a magnetic recording medium in which an underlayer, a magnetic layer, a protective layer, and a lubricating layer are provided on a substrate (claim 11) can be mentioned.

【0033】以下、本発明を実施例により具体的に説明
するが、本発明はこの例に限定されるものではない。
Hereinafter, the present invention will be described specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0034】[0034]

【実施例1】本実施例にかかる磁気記録媒体用基板(磁
気ディスク用基板)は、磁気ヘッドに対向する表面の上
に磁気記録媒体のコーティングが形成される非磁性体の
剛性基板であって、ヤング率90 GPa以上、窒素含有量0.
5 wt%以上のオキシナイトライドガラスにより構成さ
れ、精密研磨された剛性基板1の上に、表面粗さRmax 2
0nm以下のNi-P無電解めっき層2が形成されてなる。
Embodiment 1 A substrate for a magnetic recording medium (substrate for a magnetic disk) according to the present embodiment is a non-magnetic rigid substrate having a coating of a magnetic recording medium formed on a surface facing a magnetic head. , Young's modulus 90 GPa or more, nitrogen content 0.
A surface roughness Rmax 2 is formed on a rigid substrate 1 composed of oxynitride glass of 5 wt% or more and polished precisely.
The Ni-P electroless plating layer 2 having a thickness of 0 nm or less is formed.

【0035】また、本実施例にかかる磁気記録媒体(磁
気ディスク)は、前記磁気記録媒体用基板1、2の上
に、下地層3、磁性層4、保護層5、潤滑層6の積層体
が設けられたものであり、その構造を図1に示す。な
お、図1では基板1、2の上面側しか前記積層体が記載
されていないが、実際には基板の下面側にも同様な構成
の積層体が設けられている。
Further, the magnetic recording medium (magnetic disk) according to the present embodiment is a laminate of an underlayer 3, a magnetic layer 4, a protective layer 5, and a lubricating layer 6 on the magnetic recording medium substrates 1, 2. The structure is shown in FIG. Although FIG. 1 shows the laminate only on the upper surfaces of the substrates 1 and 2, a laminate having a similar configuration is actually provided on the lower surface of the substrates.

【0036】以下に、本実施例にかかる磁気記録媒体用
基板(磁気ディスク用基板)及び磁気記録媒体(磁気デ
ィスク)を製造する方法を示す。先ず、磁気ディスク用
基板の素材となるオキシナイトライドガラスを製造する
方法として高温溶融法を選択した。ここで、ガラス原料
として窒化物を使用し、溶融雰囲気は窒素ガスとした。
窒化物は相応する酸化物よりも高融点であるので、溶融
温度を高く設定した。
Hereinafter, a method for manufacturing a magnetic recording medium substrate (magnetic disk substrate) and a magnetic recording medium (magnetic disk) according to this embodiment will be described. First, a high-temperature melting method was selected as a method for producing oxynitride glass as a material for a magnetic disk substrate. Here, a nitride was used as a glass material, and the melting atmosphere was nitrogen gas.
Since the nitride has a higher melting point than the corresponding oxide, the melting temperature was set higher.

【0037】窒化物としてはSi3N4、AlN 等を使用する
が、今回はY-Al-Si-O-N系ガラスを選択した。Y-Al-Si-O
-N系ガラスの組成は、Al(13.3 at%)、Si(13.3 at
%)、Y(13.3 at%)、O(46.7 at%)、N(13.3 at%)と
した。得られたオキシナイトライドガラスのヤング率は
157 GPa、ポアソン比は0.315であった。また、ヌープ硬
度についても、800 kgf/mm2以上を確保できた。
As the nitride, Si 3 N 4 , AlN or the like is used. In this case, Y-Al-Si-ON glass is selected. Y-Al-Si-O
-N glass composition is Al (13.3 at%), Si (13.3 at%)
%), Y (13.3 at%), O (46.7 at%), and N (13.3 at%). The Young's modulus of the obtained oxynitride glass is
157 GPa, Poisson's ratio was 0.315. Also, the Knoop hardness was able to secure 800 kgf / mm 2 or more.

【0038】このようにして、低温イオン交換処理が施
されたアルミノシリケートガラスの磁気ディスク用基板
よりも、弾性、強度、硬度等の機械的性質が更に優れた
磁気ディスク用基板の素材(オキシナイトライドガラ
ス)を得ることができた。次に、この素材を板状にし、
所望の外径に丸め、さらに内径用の孔をあけてブランク
とした。そして、炭化珪素の微粉によりブランクの表面
をラッピング(荒摺り)した後、内外径を所定の寸法、
形状に加工した。
As described above, the material of the magnetic disk substrate (oxynitrite) having more excellent mechanical properties such as elasticity, strength and hardness than the aluminosilicate glass magnetic disk substrate subjected to the low-temperature ion exchange treatment. Ride glass). Next, make this material into a plate shape,
The blank was rounded to a desired outer diameter, and a hole for an inner diameter was further formed. Then, after lapping (roughing) the surface of the blank with fine powder of silicon carbide, the inner and outer diameters are set to predetermined dimensions,
Processed into shape.

【0039】次に、再びブランク表面をラッピング(2
次ラッピング)してから、ブランクに付着した研磨剤や
汚れを超音波洗浄により取り除いた。前記2次ラッピン
グと洗浄を終えたブランクの表面を研磨剤(酸化セリウ
ム)により研磨して、所定の平面度(3〜5μm)に仕
上げた。ここで、研磨は両面加工機を使用して行い、基
板を表面粗さRmax 30nm程度に仕上げた。
Next, the blank surface was wrapped again (2
After the next lapping, the abrasive and the dirt attached to the blank were removed by ultrasonic cleaning. After the secondary lapping and cleaning, the surface of the blank was polished with an abrasive (cerium oxide) to obtain a predetermined flatness (3 to 5 μm). Here, polishing was performed using a double-sided processing machine, and the substrate was finished to a surface roughness Rmax of about 30 nm.

【0040】次に、基板表面に残っている研磨剤等を除
去するために洗浄工程を施してから、最後に表面欠陥を
検査することにより、磁気ディスク用基板(サブストレ
ート)を作製した。次の無電解Ni-Pめっき工程では、前
処理としてサブストレート表面の油脂を非侵食性の脱脂
剤により除去する脱脂と、不均一な自然保護膜を除去す
るエッチングと、置換反応を利用してサブストレート表
面に亜鉛膜を形成する亜鉛置換処理をそれぞれ施した。
Next, a cleaning step was performed to remove abrasives and the like remaining on the substrate surface, and finally, surface defects were inspected to produce a magnetic disk substrate (substrate). In the next electroless Ni-P plating process, as a pretreatment, degreasing to remove oils and fats on the substrate surface with a non-erosive degreasing agent, etching to remove an uneven natural protective film, and substitution reaction are used. A zinc substitution treatment for forming a zinc film on the substrate surface was performed.

【0041】その後、めっき液中にサブストレートを浸
漬して、還元反応によりサブストレート表面に無電解Ni
-Pめっき層を析出させた。この際に、層の厚さは12μ
m程度までに仕上げた。このNi-Pめっき層を形成した基
板をポリウレタンの研磨布で挟み、アルミナ系の研磨剤
を注入しながら、めっき層の表面を仕上げ研磨により1
〜2μm削った。
Thereafter, the substrate is immersed in a plating solution, and the surface of the substrate is electroless Ni
A -P plating layer was deposited. At this time, the thickness of the layer is 12 μm.
Finished to about m. The substrate on which the Ni-P plating layer is formed is sandwiched between polyurethane polishing cloths, and the surface of the plating layer is subjected to final polishing while pouring an alumina-based abrasive.
22 μm.

【0042】そして、無電解Ni-Pめっき層を最表面に持
つこの基板を表面粗さRmax 15nmに仕上げた。ここで、
基板の研磨は、図3に示す様な機構の両面加工機を使用
して行った。特に、最終研磨工程においては、Rmax 20n
m以下に基板表面を研磨するのであるが、高精度の表面
を得るためのラッピング後の研磨工程の加工時間は、従
来の無電解Ni-Pめっき層を被覆しない場合(オキシナイ
トライドガラス製基板そのものの研磨の場合)には12
0分であったものが、本実施例ではラッピング後の研磨
工程の全加工時間が40分に短縮した。
Then, this substrate having an electroless Ni-P plating layer on the outermost surface was finished to a surface roughness Rmax of 15 nm. here,
Polishing of the substrate was performed using a double-sided processing machine having a mechanism as shown in FIG. In particular, in the final polishing step, Rmax 20n
Although the substrate surface is polished to less than m, the processing time of the polishing process after lapping to obtain a high-precision surface is limited to the case where the conventional electroless Ni-P plating layer is not coated (oxynitride glass substrate 12 in case of polishing itself
Although the time was 0 minutes, in the present embodiment, the total processing time of the polishing step after lapping was reduced to 40 minutes.

【0043】前記最終研磨を行った後に、めっき層表面
に残っている研磨剤を除去するための洗浄を施して、無
電解Ni-Pめっきが施された本実施例にかかる磁気ディス
ク用基板を完成させた。さらに、以下に記述するよう
に、この磁気ディスク用基板の上に磁性層等を形成する
メディア工程により、一般にハードディスクと呼ばれて
いる磁気ディスクを完成させた。
After performing the final polishing, the magnetic disk substrate according to the present embodiment, on which the electroless Ni-P plating is applied, is subjected to cleaning for removing the abrasive remaining on the surface of the plating layer. Completed. Further, as described below, a magnetic disk generally called a hard disk was completed by a media process of forming a magnetic layer and the like on the magnetic disk substrate.

【0044】即ち、メディア工程では、前記磁気ディス
ク用基板の両面に、スパッタリング法を用いて下地層、
磁性層、保護層を順次形成して、さらにデッピング法を
用いて前記保護層の上に潤滑層を形成することにより、
磁気ディスクを完成させた。具体的には先ず、無電解Ni
-Pめっきが施された前記磁気ディスク用基板の上に、ス
パッタリング工程により下地層、磁性層、保護層を順次
形成した。ここで、下地層にはCr膜、磁性層にはCoNiCr
膜、保護層にはC膜を選択した。
That is, in the media process, the underlayer and the underlayer are formed on both surfaces of the magnetic disk substrate by sputtering.
By sequentially forming a magnetic layer and a protective layer, and further forming a lubricating layer on the protective layer using a dipping method,
The magnetic disk was completed. Specifically, first, electroless Ni
A base layer, a magnetic layer, and a protective layer were sequentially formed by a sputtering process on the -P-plated magnetic disk substrate. Here, the underlayer is a Cr film, and the magnetic layer is CoNiCr.
The C film was selected for the film and the protective layer.

【0045】また、前記スパッタリング工程では先ず、
前記磁気ディスク用基板を研磨してから精密洗浄し、そ
の後インライン式のスパッタ装置の基板ホルダーに装着
した。そして、前記基板が装着された基板ホルダーを真
空チャンバー中へ導入し、前記基板ホルダーをヒーター
で加熱することにより、基板温度を200℃まで上昇させ
た。
In the sputtering step, first,
The magnetic disk substrate was polished and precision washed, and then mounted on a substrate holder of an in-line type sputtering apparatus. Then, the substrate holder on which the substrate was mounted was introduced into a vacuum chamber, and the substrate holder was heated by a heater to raise the substrate temperature to 200 ° C.

【0046】次に、基板が装着された基板ホルダーは真
空中でCr膜形成用チャンバーに移動させ、ここで下地層
のCr膜(厚さ100nm)をDCスパッタ法により基板上に
形成した。次に、Cr膜が形成された基板が装着された基
板ホルダーは真空中でCoNiCr膜形成用チャンバーに移動
させ、ここで磁性層であるCoNiCr膜(厚さ60nm)をDC
スパッタ法により前記Cr膜の上に積層した。
Next, the substrate holder on which the substrate was mounted was moved to a Cr film forming chamber in a vacuum, and a Cr film (thickness: 100 nm) as an underlayer was formed on the substrate by DC sputtering. Next, the substrate holder on which the substrate on which the Cr film is formed is moved to a CoNiCr film forming chamber in a vacuum, where the CoNiCr film (thickness: 60 nm), which is a magnetic layer, is subjected to DC.
It was laminated on the Cr film by a sputtering method.

【0047】次に、Cr膜とCoNiCr膜の積層体を有する基
板が装着された基板ホルダーは真空中でC膜形成用チャ
ンバーに移動させ、ここで保護層であるC膜(厚さ30n
m)をDCスパッタ法により前記積層体のCoNiCr膜の上
に形成した。以上の一連のスパッタ工程が終了した後、
真空チャンバーから前記積層体が形成された磁気記録媒
体用基板を取り出してその表面に、研磨材を含んだテー
プによるテープバーニッシュを施した。
Next, the substrate holder on which the substrate having the laminated body of the Cr film and the CoNiCr film is mounted is moved to a C film forming chamber in a vacuum, and the C film (thickness: 30 n) is used as a protective layer.
m) was formed on the CoNiCr film of the laminate by DC sputtering. After the above series of sputtering steps is completed,
The magnetic recording medium substrate on which the laminate was formed was taken out of the vacuum chamber, and the surface thereof was subjected to tape burnishing with a tape containing an abrasive.

【0048】その後、磁気記録媒体用基板の積層体表面
にパーフロロポリエーテル系の潤滑剤をデッピング法に
より塗布して潤滑層を形成することにより、ハードディ
スク(磁気ディスク)を完成させた。この磁気ディスク
の保持力を試料振動式磁力計で計測したところ、2000 O
e以上であった。
Thereafter, a perfluoropolyether-based lubricant was applied to the surface of the laminated body of the magnetic recording medium substrate by dipping to form a lubricating layer, thereby completing a hard disk (magnetic disk). When the holding force of this magnetic disk was measured with a sample vibration magnetometer,
e or more.

【0049】本実施例にかかる磁気記録媒体(磁気ディ
スク)用基板は、90 GPa 以上のヤング率と0.5 wt%以
上の窒素含有量(硬度に対応)を有するので、磁気ディ
スク回転の高速化を考慮した場合、高速回転による基板
のたわみ等の変形が問題となることがない。また、本実
施例にかかる磁気ディスク用基板は、最表面に表面粗さ
Rmax 20nm以下の無電解Ni-Pめっき層が形成されてな
り、この無電解Ni-Pめっき層は、基板材料であるオキシ
ナイトライドガラスに比べて精密加工性に優れているの
で、基板上に無電解Ni-Pめっき層を設けてこれを加工す
れば、表面粗さRmax 20nm以下の精密な基板表面が比較
的短時間で容易に得られる。
The substrate for a magnetic recording medium (magnetic disk) according to the present embodiment has a Young's modulus of 90 GPa or more and a nitrogen content of 0.5 wt% or more (corresponding to hardness). When this is taken into account, deformation such as deflection of the substrate due to high-speed rotation does not pose a problem. Further, the magnetic disk substrate according to the present embodiment has a surface roughness on the outermost surface.
An electroless Ni-P plating layer with a Rmax of 20 nm or less is formed.This electroless Ni-P plating layer is superior in precision workability compared to oxynitride glass, which is a substrate material. If an electroless Ni-P plating layer is provided and processed, a precise substrate surface having a surface roughness Rmax of 20 nm or less can be easily obtained in a relatively short time.

【0050】また、90 GPa 以上のヤング率と0.5 wt%
以上の窒素含有量(硬度に対応)を有し(優れた機械的
強度に対応)、表面粗さRmax 20nm以下の精密な基板表
面を有する(優れた記録特性に対応)本実施例の磁気デ
ィスク用基板に情報記録層(磁性層)を設けた本実施例
の磁気ディスクは、従来よりも機械的強度と記録特性に
優れている。
Further, Young's modulus of 90 GPa or more and 0.5 wt%
The magnetic disk of this example having the above nitrogen content (corresponding to hardness) (corresponding to excellent mechanical strength) and having a precise substrate surface with a surface roughness Rmax of 20 nm or less (corresponding to excellent recording characteristics) The magnetic disk of this embodiment in which the information recording layer (magnetic layer) is provided on the substrate for use has better mechanical strength and recording characteristics than the conventional one.

【0051】[0051]

【実施例2】本実施例にかかる磁気記録媒体用基板(磁
気ディスク用基板)は、磁気ヘッドに対向する表面の上
に磁気記録媒体のコーティングが形成される非磁性体の
剛性基板であって、90 GPa以上のヤング率を有する結晶
化ガラスにより構成され、精密研磨された剛性基板7の
上に、表面粗さRmax 20nm以下のNi-P無電解めっき層2
が形成されてなる。
Embodiment 2 A magnetic recording medium substrate (magnetic disk substrate) according to this embodiment is a nonmagnetic rigid substrate having a magnetic recording medium coating formed on a surface facing a magnetic head. , A Ni-P electroless plating layer 2 having a surface roughness Rmax of 20 nm or less on a rigidly polished rigid substrate 7 made of crystallized glass having a Young's modulus of 90 GPa or more.
Is formed.

【0052】また、本実施例にかかる磁気記録媒体(磁
気ディスク)は、前記磁気記録媒体用基板7、2の上
に、下地層3、磁性層4、保護層5、潤滑層6の積層体
が設けられたものであり、その構造を図2に示す。な
お、図2では基板7、2の上面側しか前記積層体が記載
されていないが、実際には基板の下面側にも同様な構成
の積層体が設けられている。
The magnetic recording medium (magnetic disk) according to the present embodiment has a laminated structure of an underlayer 3, a magnetic layer 4, a protective layer 5, and a lubricating layer 6 on the magnetic recording medium substrates 7, 2. The structure is shown in FIG. In FIG. 2, the laminate is described only on the upper surfaces of the substrates 7 and 2. However, a laminate having the same configuration is actually provided on the lower surface of the substrates.

【0053】以下に、本実施例にかかる磁気記録媒体用
基板(磁気ディスク用基板)及び磁気記録媒体(磁気デ
ィスク)を製造する方法を示す。先ず、磁気ディスク用
基板の素材であり、90 GPa以上のヤング率を有する結晶
化ガラスを用意した。次に、この素材を板状にし、所望
の外径に丸め、さらに内径用の孔をあけてブランクとし
た。そして、炭化珪素の微粉によりブランクの表面をラ
ッピング(荒摺り)した後、内外径を所定の寸法、形状
に加工した。
Hereinafter, a method of manufacturing a magnetic recording medium substrate (magnetic disk substrate) and a magnetic recording medium (magnetic disk) according to this embodiment will be described. First, a crystallized glass having a Young's modulus of 90 GPa or more, which is a material for a magnetic disk substrate, was prepared. Next, this material was formed into a plate shape, rounded to a desired outer diameter, and further, a hole for an inner diameter was made to form a blank. Then, after lapping (roughing) the surface of the blank with fine silicon carbide powder, the inner and outer diameters were processed into predetermined dimensions and shapes.

【0054】次に、再びブランク表面をラッピング(2
次ラッピング)してから、ブランクに付着した研磨剤や
汚れを超音波洗浄により取り除いた。前記2次ラッピン
グと洗浄を終えたブランクの表面を研磨剤(酸化セリウ
ム)により研磨して、所定の平面度(3〜5μm)に仕
上げた。ここで、研磨は両面加工機を使用して行い、基
板を表面粗さRmax 30nm程度に仕上げた。
Next, the blank surface was wrapped again (2
After the next lapping, the abrasive and the dirt attached to the blank were removed by ultrasonic cleaning. After the secondary lapping and cleaning, the surface of the blank was polished with an abrasive (cerium oxide) to obtain a predetermined flatness (3 to 5 μm). Here, polishing was performed using a double-sided processing machine, and the substrate was finished to a surface roughness Rmax of about 30 nm.

【0055】次に、基板表面に残っている研磨剤等を除
去するために洗浄工程を施してから、最後に表面欠陥を
検査することにより、結晶化ガラス製の磁気ディスク用
基板(サブストレート)を作製した。次の無電解Ni-Pめ
っき工程では、前処理としてサブストレート表面の油脂
を非侵食性の脱脂剤により除去する脱脂と、不均一な自
然保護膜を除去するエッチングと、置換反応を利用して
サブストレート表面に亜鉛膜を形成する亜鉛置換処理を
それぞれ施した。
Next, a cleaning process is performed to remove abrasives and the like remaining on the surface of the substrate, and finally, surface defects are inspected. Was prepared. In the next electroless Ni-P plating process, as a pretreatment, degreasing to remove oils and fats on the substrate surface with a non-erosive degreasing agent, etching to remove an uneven natural protective film, and substitution reaction are used. A zinc substitution treatment for forming a zinc film on the substrate surface was performed.

【0056】その後、めっき液中にサブストレートを浸
漬して、還元反応によりサブストレート表面に無電解Ni
-Pめっき層を析出させた。この際に、層の厚さは12μ
m程度までに仕上げた。このNi-Pめっき層を形成した基
板をポリウレタンの研磨布で挟み、アルミナ系の研磨剤
を注入しながら、めっき層の表面を仕上げ研磨により1
〜2μm削った。
Thereafter, the substrate is immersed in a plating solution, and a non-electrolytic Ni
A -P plating layer was deposited. At this time, the thickness of the layer is 12 μm.
Finished to about m. The substrate on which the Ni-P plating layer is formed is sandwiched between polyurethane polishing cloths, and the surface of the plating layer is subjected to final polishing while pouring an alumina-based abrasive.
22 μm.

【0057】そして、無電解Ni-Pめっき層を最表面に持
つこの基板を表面粗さRmax 15nmに仕上げた。ここで、
基板の研磨は、図3に示す様な機構の両面加工機を使用
して行った。前記研磨を行った後に、めっき層表面に残
っている研磨剤を除去するための洗浄を施して、無電解
Ni-Pめっきが施された本実施例にかかる磁気ディスク用
基板を完成させた。
Then, this substrate having an electroless Ni-P plating layer on the outermost surface was finished to a surface roughness Rmax of 15 nm. here,
Polishing of the substrate was performed using a double-sided processing machine having a mechanism as shown in FIG. After performing the polishing, a cleaning is performed to remove the abrasive remaining on the plating layer surface, and the electroless
The magnetic disk substrate according to the present example on which Ni-P plating was performed was completed.

【0058】さらに、以下に記述するように、この磁気
ディスク用基板の上に磁性層等を形成するメディア工程
により、一般にハードディスクと呼ばれている磁気ディ
スクを完成させた。即ち、メディア工程では、磁気ディ
スク用基板の両面に、スパッタリング法を用いて下地
層、磁性層、保護層を順次形成して、さらにデッピング
法を用いて保護層上に潤滑層を形成することにより、磁
気ディスクを完成させた。
Further, as described below, a magnetic disk generally called a hard disk was completed by a media process of forming a magnetic layer and the like on the magnetic disk substrate. That is, in the media process, an underlayer, a magnetic layer, and a protective layer are sequentially formed on both surfaces of a magnetic disk substrate by using a sputtering method, and further a lubricating layer is formed on the protective layer by using a dipping method. Completed the magnetic disk.

【0059】具体的には先ず、無電解Ni-Pめっきが施さ
れた前記磁気ディスク用基板の上に、スパッタリング工
程により下地層、磁性層、保護層を順次形成した。ここ
で、下地層にはCr膜、磁性層にはCoNiCr膜、保護層には
C膜を選択した。また、前記スパッタリング工程では先
ず、前記磁気ディスク用基板を研磨してから精密洗浄
し、その後インライン式のスパッタ装置の基板ホルダー
に装着した。
Specifically, first, an underlayer, a magnetic layer, and a protective layer were sequentially formed on the magnetic disk substrate on which electroless Ni-P plating had been applied by a sputtering process. Here, the underlayer is a Cr film, the magnetic layer is a CoNiCr film, and the protective layer is a
C membrane was selected. In the sputtering step, first, the magnetic disk substrate was polished and precision cleaned, and then mounted on a substrate holder of an in-line type sputtering apparatus.

【0060】そして、前記基板が装着された基板ホルダ
ーを真空チャンバー中へ導入し、前記基板ホルダーをヒ
ーターで加熱することにより、基板温度を200℃まで上
昇させた。次に、基板が装着された基板ホルダーは真空
中でCr膜形成用チャンバーに移動させ、ここで下地層の
Cr膜(厚さ100nm)をDCスパッタ法により基板上に形
成した。
Then, the substrate holder on which the substrate was mounted was introduced into a vacuum chamber, and the substrate temperature was raised to 200 ° C. by heating the substrate holder with a heater. Next, the substrate holder on which the substrate is mounted is moved to a chamber for forming a Cr film in a vacuum, where the underlying layer is formed.
A Cr film (thickness: 100 nm) was formed on the substrate by DC sputtering.

【0061】次に、Cr膜が形成された基板が装着された
基板ホルダーは真空中でCoNiCr膜形成用チャンバーに移
動させ、ここで磁性層であるCoNiCr膜(厚さ60nm)をD
Cスパッタ法により前記Cr膜の上に積層した。次に、Cr
膜とCoNiCr膜の積層体を有する基板が装着された基板ホ
ルダーは真空中でC膜形成用チャンバーに移動させ、こ
こで保護層であるC膜(厚さ30nm)をDCスパッタ法に
より前記積層体のCoNiCr膜の上に形成した。
Next, the substrate holder on which the substrate on which the Cr film was formed was mounted was moved to a CoNiCr film forming chamber in a vacuum, and the CoNiCr film (thickness: 60 nm) as the magnetic layer was deposited on the substrate holder.
It was laminated on the Cr film by the C sputtering method. Next, Cr
The substrate holder on which the substrate having the laminate of the film and the CoNiCr film is mounted is moved to a chamber for forming a C film in a vacuum, and the C film (thickness: 30 nm) as a protective layer is deposited by DC sputtering on the laminate. Formed on the CoNiCr film.

【0062】以上の一連のスパッタ工程が終了した後、
真空チャンバーから前記積層体が形成された磁気記録媒
体用基板を取り出してその表面に、研磨材を含んだテー
プによるテープバーニッシュを施した。その後、磁気記
録媒体用基板の積層体表面にパーフロロポリエーテル系
の潤滑剤をデッピング法により塗布して潤滑層を形成す
ることにより、ハードディスク(磁気ディスク)を完成
させた。
After the above series of sputtering steps is completed,
The magnetic recording medium substrate on which the laminate was formed was taken out of the vacuum chamber, and the surface thereof was subjected to tape burnishing with a tape containing an abrasive. Thereafter, a perfluoropolyether-based lubricant was applied to the surface of the laminated body of the magnetic recording medium substrate by a dipping method to form a lubricating layer, thereby completing a hard disk (magnetic disk).

【0063】この磁気ディスクの保持力を試料振動式磁
力計で計測したところ、2000 Oe以上であった。本実施
例にかかる磁気記録媒体(磁気ディスク)用基板は、90
GPa 以上のヤング率を有するので、磁気ディスク回転
の高速化を考慮した場合、高速回転による基板のたわみ
等の変形が問題となることがない。
When the holding force of the magnetic disk was measured by a sample vibration magnetometer, it was 2,000 Oe or more. The substrate for a magnetic recording medium (magnetic disk) according to the present embodiment is 90
Since it has a Young's modulus equal to or higher than GPa, deformation of the substrate due to high-speed rotation does not pose a problem when considering high-speed rotation of the magnetic disk.

【0064】また、本実施例にかかる磁気ディスク用基
板は、最表面に表面粗さRmax 20nm以下の無電解Ni-Pめ
っき層が形成されてなり、この無電解Ni-Pめっき層は、
基板材料である結晶化ガラスに比べて精密加工性に優れ
ているので、基板上に無電解Ni-Pめっき層を設けてこれ
を加工すれば、表面粗さRmax 20nm以下の精密な基板表
面が比較的短時間で容易に得られる。
Further, the magnetic disk substrate according to this embodiment has an electroless Ni-P plating layer having a surface roughness Rmax of 20 nm or less formed on the outermost surface.
Since it has better precision workability than crystallized glass as a substrate material, if an electroless Ni-P plating layer is provided on the substrate and processed, a precise substrate surface with a surface roughness Rmax of 20 nm or less can be obtained. It is easily obtained in a relatively short time.

【0065】また、本実施例にかかる無電解Ni-Pめっき
層は、メディア工程における成膜時の昇温によって磁気
記録膜(磁性膜)に結晶化ガラス基板中のアルカリ成分
が溶出するのを防ぐための保護膜(バリヤー)としての
役割を果たすことができる。また、90 GPa 以上のヤン
グ率を有し(優れた機械的強度に対応)、表面粗さRmax
20nm以下の精密な基板表面を有し、情報記録層(磁性
層)に基板材料中のアルカリ成分が溶出するのを防ぐこ
ともできる(優れた記録特性に対応)本実施例の磁気デ
ィスク用基板に情報記録層(磁性層)を設けた本実施例
の磁気ディスクは、従来よりも機械的強度と記録特性に
優れている。
Further, the electroless Ni-P plating layer according to the present embodiment is intended to prevent the alkali component in the crystallized glass substrate from being eluted into the magnetic recording film (magnetic film) due to the temperature rise during the film formation in the media process. It can serve as a protective film (barrier) for prevention. It has a Young's modulus of 90 GPa or more (corresponding to excellent mechanical strength), and has a surface roughness Rmax
It has a precise substrate surface of 20 nm or less and can prevent the alkali component in the substrate material from being eluted into the information recording layer (magnetic layer) (corresponding to excellent recording characteristics). The magnetic disk of the present embodiment, in which an information recording layer (magnetic layer) is provided, has better mechanical strength and recording characteristics than the conventional one.

【0066】[0066]

【発明の効果】本発明(請求項1〜8)にかかる情報記
録媒体用基板(例えば、磁気記録媒体用基板)は、90
GPa 以上のヤング率を有するので、或いは高いヌープ強
度(窒素含有量0.5 wt%以上に相当)を更に有するの
で、情報記録媒体(例えば磁気ディスク)回転の高速化
を考慮した場合、高速回転による基板のたわみ等の変形
が問題となることがない。
According to the present invention (claims 1 to 8), a substrate for an information recording medium (for example, a substrate for a magnetic recording medium) is
Since it has a Young's modulus of GPa or higher, or further has a high Knoop strength (corresponding to a nitrogen content of 0.5 wt% or more), when considering a high-speed rotation of an information recording medium (for example, a magnetic disk), the substrate by high-speed rotation Deformation such as deflection does not pose a problem.

【0067】本発明かかるNi-P層(特に、無電解Ni-Pめ
っき層)は、オキシナイトライドガラスや結晶化ガラス
に比べて精密加工性に優れているので、前記剛性基板上
にNi-P層を設けてこれを加工すれば、表面粗さRmax 20n
m以下の精密な基板表面が比較的短時間で容易に得られ
る(請求項1〜8)。例えば、表面粗さRmax 30nm程度
に仕上げたオキシナイトライドガラス製基板または結晶
化ガラス基板の上に無電解Ni-Pめっき層を形成し、その
後表面状態を整えるために平面精密研磨工程を施すこと
により、比較的短時間で容易に平滑な(表面粗さRmax 2
0nm以下の)表面が得られる。
The Ni-P layer (particularly, the electroless Ni-P plating layer) according to the present invention is superior in precision workability as compared with oxynitride glass or crystallized glass, and thus Ni-P layer is formed on the rigid substrate. If a P layer is provided and processed, the surface roughness Rmax 20n
A precise substrate surface of m or less can be easily obtained in a relatively short time (claims 1 to 8). For example, forming an electroless Ni-P plating layer on an oxynitride glass substrate or crystallized glass substrate finished to a surface roughness Rmax of about 30 nm, and then performing a plane precision polishing process to adjust the surface state Makes it easy and smooth (surface roughness Rmax 2
A surface (less than 0 nm) is obtained.

【0068】また、本発明において、結晶化ガラス製基
板の上に無電解Ni-Pめっき層を施した場合には、例えば
表面粗さRmax 30nm程度に仕上げた結晶化ガラス製基板
の表面を無電解Ni-Pめっき層により覆い、その後無電解
Ni-Pめっき層表面を最終的に研磨するので、最終研磨工
程において、素材中の結晶が基板表面の研磨加工中にと
れてしまう恐れがなくなり、精密に研磨された表面粗さ
Rmax 20nm以下の無電解Ni-Pめっき層が被覆された基板
表面を容易に得ることができる。
In the present invention, when an electroless Ni-P plating layer is formed on a crystallized glass substrate, for example, the surface of the crystallized glass substrate finished to have a surface roughness Rmax of about 30 nm can be used. Covered with electrolytic Ni-P plating layer, then electroless
Since the Ni-P plating layer surface is finally polished, there is no danger that crystals in the material will be removed during the polishing of the substrate surface in the final polishing process, and the precisely polished surface roughness
A substrate surface coated with an electroless Ni-P plating layer having a Rmax of 20 nm or less can be easily obtained.

【0069】また、本発明にかかるNi-Pめっき層(特
に、無電解Ni-Pめっき層)は耐熱性と非磁性特性に優
れ、磁気記録層の成膜時の昇温に対しても非磁性であ
る。また、本発明にかかるNi-Pめっき層(特に、無電解
Ni-Pめっき層)は、結晶化ガラスのようにアルカリ成分
が含有されている材料を基板材料として選択した場合に
は、成膜時の昇温によって情報記録層に基板材料中のア
ルカリ成分が溶出するのを防ぐための保護層(バリヤ
ー)としての役割を果たすことができる。
The Ni-P plating layer (particularly, the electroless Ni-P plating layer) according to the present invention is excellent in heat resistance and non-magnetic properties, and is not affected by temperature rise during the formation of the magnetic recording layer. It is magnetic. In addition, the Ni-P plating layer according to the present invention (especially, electroless
When a material containing an alkali component, such as crystallized glass, is selected as the substrate material for the Ni-P plating layer, the alkali component in the substrate material is added to the information recording layer by increasing the temperature during film formation. It can serve as a protective layer (barrier) for preventing elution.

【0070】本発明にかかる情報記録媒体用基板(例え
ば、磁気記録媒体用基板)は、ヤング率を90 GPa 以上
160 GPa 以下とすれば、基板素材が硬すぎてラッピング
や研磨等の加工工程において、加工時間が増大するとい
う不具合が生じない(請求項3、7)。また、本発明に
かかる情報記録媒体用基板(例えば、磁気記録媒体用基
板)は、ヌープ硬度を800kg/mm2 以上1000kg/mm2 以下
とすれば、基板素材が硬すぎてラッピングや研磨等の加
工工程において、加工時間が増大するという不具合が生
じない(請求項4、8)。
The information recording medium substrate (eg, magnetic recording medium substrate) according to the present invention has a Young's modulus of 90 GPa or more.
When the pressure is 160 GPa or less, there is no problem that the processing time is increased in processing steps such as lapping and polishing because the substrate material is too hard (claims 3 and 7). Further, the information recording medium substrate (for example, a magnetic recording medium substrate) according to the present invention, if the Knoop hardness is 800 kg / mm 2 or more and 1000 kg / mm 2 or less, the substrate material is too hard, such as lapping or polishing. In the processing step, there is no problem that the processing time increases (claims 4 and 8).

【0071】また、90 GPa 以上のヤング率を有し、或
いは高いヌープ硬度(0.5 wt%以上の窒素含有量に相
当)を更に有し(優れた機械的強度に対応)、表面粗さ
Rmax 20nm以下の精密な基板表面を有し、情報記録層に
基板材料中のアルカリ成分が溶出するのを防ぐこともで
きる(優れた記録特性に対応)、本発明(請求項1〜
8)にかかる情報記録媒体用基板(例えば、磁気記録媒
体用基板)に情報記録層(例えば、磁性層)を設ける
と、従来よりも機械的強度と記録特性に優れた情報記録
媒体(例えば、磁気記録媒体)を得ることができる(請
求項9〜11)。
Further, it has a Young's modulus of 90 GPa or more, or further has a high Knoop hardness (corresponding to a nitrogen content of 0.5 wt% or more) (corresponding to excellent mechanical strength), and has a surface roughness
The present invention has a precise substrate surface of Rmax of 20 nm or less, and can prevent the alkali component in the substrate material from being eluted into the information recording layer (corresponding to excellent recording characteristics).
When an information recording layer (for example, a magnetic layer) is provided on the information recording medium substrate (for example, a magnetic recording medium substrate) according to 8), an information recording medium (for example, Magnetic recording medium) can be obtained (claims 9 to 11).

【0072】例えば、請求項5〜8のいずれかに記載の
基板の上に少なくとも磁性層を設けることにより、従来
よりも機械的強度と記録特性に優れた磁気記録媒体(請
求項10)が得られる。かかる磁気記録媒体としては例え
ば、基板上に下地層、磁性層、保護層、潤滑層が設けら
れたもの(請求項11)を挙げることができる。
For example, by providing at least a magnetic layer on the substrate according to any one of claims 5 to 8, a magnetic recording medium having better mechanical strength and recording characteristics than before can be obtained. Can be As such a magnetic recording medium, for example, a magnetic recording medium in which an underlayer, a magnetic layer, a protective layer, and a lubricating layer are provided on a substrate (claim 11) can be mentioned.

【0073】本発明によれば、剛性、硬度の高いオキシ
ナイトライドガラスや結晶化ガラスの基板に無電解Ni-P
めっきを施し、その後、表面状態を整えるために無電解
Ni-Pめっき層に平面精密研磨工程を施すことにより、比
較的短時間で平滑な表面が得られる。即ち、無電解Ni-P
めっき層は、オキシナイトライドガラスや結晶化ガラス
に比べて精密加工性に優れており、結果として、表面粗
さRmax 20nm以下の精密な基板表面をもつ剛性、硬度の
高い磁気ディスク用基板が容易に短時間で得らる。よっ
て、本発明によれば、磁気ディスクの機械的強度が向上
し、ディスク回転数10000 rpm 以上のハードディスクド
ライブ装置にも搭載可能となり、磁気ディスクデバイス
の高密度化に対応できるようになった。また、本発明に
おいて、結晶化ガラス基板の上に無電解Ni-Pめっき層を
施した場合には、最終研磨工程により、表面に凹部のな
い平滑な基板表面を持つ磁気ディスク用基板が得られ
る。
According to the present invention, electroless Ni-P is applied to a substrate of oxynitride glass or crystallized glass having high rigidity and hardness.
Plating and then electroless to condition the surface
By performing the planar precision polishing process on the Ni-P plating layer, a smooth surface can be obtained in a relatively short time. That is, electroless Ni-P
The plating layer is superior in precision workability compared to oxynitride glass and crystallized glass, and as a result, a substrate for a magnetic disk with high rigidity and hardness having a precise substrate surface with a surface roughness Rmax of 20 nm or less is easy. In a short time. Therefore, according to the present invention, the mechanical strength of the magnetic disk is improved, and the magnetic disk can be mounted on a hard disk drive device having a disk rotation speed of 10,000 rpm or more, and it is possible to cope with a high density magnetic disk device. Further, in the present invention, when an electroless Ni-P plating layer is applied on a crystallized glass substrate, a substrate for a magnetic disk having a smooth substrate surface without concave portions can be obtained by the final polishing step. .

【0074】さらに、本発明によれば、結晶化ガラスの
基板材料中に含有されているアルカリ成分の磁気記録層
(磁性層)中への溶出も防ぐことができ、磁気記録特性
の良好な磁気記録媒体を得ることができる。
Further, according to the present invention, it is possible to prevent the alkali component contained in the substrate material of the crystallized glass from being eluted into the magnetic recording layer (magnetic layer), and to obtain a magnetic recording layer having good magnetic recording characteristics. A recording medium can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】は、実施例1の磁気ディスクを示す概略構成図
である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram illustrating a magnetic disk according to a first embodiment.

【図2】は、実施例2の磁気ディスクを示す概略構成図
である。
FIG. 2 is a schematic configuration diagram illustrating a magnetic disk according to a second embodiment.

【図3】は、情報記録媒体用基板の研磨加工に用いられ
る研磨機を示す概念図である。
FIG. 3 is a conceptual diagram showing a polishing machine used for polishing an information recording medium substrate.

【図4】は、従来の磁気ディスクを示す概略構成図であ
る。
FIG. 4 is a schematic configuration diagram showing a conventional magnetic disk.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・オキシナイトライドガラス製の磁気記録媒体用基
板 2・・無電解Ni-Pめっき層 3・・下地層 4・・磁性層 5・・保護層 6・・潤滑層 7・・結晶化ガラス製の磁気記録媒体用基板 8・・磁気記録媒体用ガラス基板 9・・研磨材 10・・上定盤 11・・下定盤 以上
1. substrate for oxynitride glass magnetic recording medium 2. electroless Ni-P plating layer 3. underlayer 4. magnetic layer 5. protective layer 6. lubrication layer 7. crystallized glass For magnetic recording media made of glass 8. Glass substrate for magnetic recording media 9. Abrasive material 10. Upper surface plate 11. Lower surface plate

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 記録ヘッドに対向する表面の上に情報記
録媒体のコーティングが形成される非磁性体の剛性基板
であって、ヤング率90 GPa以上、窒素含有量0.5 wt%以
上のオキシナイトライドガラスにより構成される剛性基
板の上に、表面粗さRmax 20nm以下のNi-P層が形成され
てなる情報記録媒体用基板。
An oxynitride having a Young's modulus of 90 GPa or more and a nitrogen content of 0.5 wt% or more, comprising a nonmagnetic rigid substrate having a coating of an information recording medium formed on a surface facing a recording head. An information recording medium substrate in which a Ni-P layer having a surface roughness Rmax of 20 nm or less is formed on a rigid substrate made of glass.
【請求項2】 記録ヘッドに対向する表面の上に情報記
録媒体のコーティングが形成される非磁性体の剛性基板
であって、90 GPa以上のヤング率を有する結晶化ガラス
により構成される剛性基板の上に、表面粗さRmax 20nm
以下のNi-P層が形成されてなる情報記録媒体用基板。
2. A non-magnetic rigid substrate having a coating of an information recording medium formed on a surface facing a recording head, wherein the rigid substrate is made of crystallized glass having a Young's modulus of 90 GPa or more. Surface roughness Rmax 20nm
An information recording medium substrate on which the following Ni-P layer is formed.
【請求項3】 前記剛性基板のヤング率が160 GPa 以下
であることを特徴とする請求項1または2記載の情報記
録媒体用基板。
3. The information recording medium substrate according to claim 1, wherein the rigid substrate has a Young's modulus of 160 GPa or less.
【請求項4】 前記剛性基板のヌープ硬度が800 kg/mm
2 以上1000 kg/mm2以下であることを特徴とする請求項
1〜3のいずれかに記載の情報記録媒体用基板。
4. The rigid substrate has a Knoop hardness of 800 kg / mm.
Substrate for an information recording medium according to claim 1, characterized in that 2 or more 1000 kg / mm 2 or less.
【請求項5】 磁気ヘッドに対向する表面の上に磁気記
録媒体のコーティングが形成される非磁性体の剛性基板
であって、ヤング率90 GPa以上、窒素含有量0.5 wt%以
上のオキシナイトライドガラスにより構成される剛性基
板の上に、表面粗さRmax 20nm以下のNi-P層が形成され
てなる磁気記録媒体用基板。
5. A nonmagnetic rigid substrate having a coating of a magnetic recording medium formed on a surface facing a magnetic head, wherein the oxynitride has a Young's modulus of 90 GPa or more and a nitrogen content of 0.5 wt% or more. A magnetic recording medium substrate in which a Ni-P layer having a surface roughness Rmax of 20 nm or less is formed on a rigid substrate made of glass.
【請求項6】 磁気ヘッドに対向する表面の上に磁気記
録媒体のコーティングが形成される非磁性体の剛性基板
であって、90 GPa以上のヤング率を有する結晶化ガラス
により構成される剛性基板の上に、表面粗さRmax 20nm
以下のNi-P層が形成されてなる磁気記録媒体用基板。
6. A non-magnetic rigid substrate having a coating of a magnetic recording medium formed on a surface facing a magnetic head, wherein the rigid substrate is made of crystallized glass having a Young's modulus of 90 GPa or more. Surface roughness Rmax 20nm
A magnetic recording medium substrate on which the following Ni-P layer is formed.
【請求項7】 前記剛性基板のヤング率が160 GPa 以下
であることを特徴とする請求項5または6記載の磁気記
録媒体用基板。
7. The magnetic recording medium substrate according to claim 5, wherein the rigid substrate has a Young's modulus of 160 GPa or less.
【請求項8】 前記剛性基板のヌープ硬度が800 kg/mm
2 以上1000 kg/mm2以下であることを特徴とする請求項
5〜7のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板。
8. The rigid substrate has a Knoop hardness of 800 kg / mm.
Substrate for a magnetic recording medium according to any one of claims 5-7, characterized in that 2 or more 1000 kg / mm 2 or less.
【請求項9】 請求項1〜4のいずれかに記載の基板の
上に少なくとも情報記録層を設けてなる情報記録媒体。
9. An information recording medium comprising at least an information recording layer provided on the substrate according to claim 1.
【請求項10】 請求項5〜8のいずれかに記載の基板の
上に少なくとも磁性層を設けてなる磁気記録媒体。
10. A magnetic recording medium comprising at least a magnetic layer provided on the substrate according to claim 5.
【請求項11】 基板上に下地層、磁性層、保護層、潤滑
層が設けられていることを特徴とする請求項10記載の磁
気記録媒体。
11. The magnetic recording medium according to claim 10, wherein an underlayer, a magnetic layer, a protective layer, and a lubricating layer are provided on the substrate.
JP11020829A 1999-01-28 1999-01-28 Substrate for information recording medium and information recording medium Pending JP2000222720A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11020829A JP2000222720A (en) 1999-01-28 1999-01-28 Substrate for information recording medium and information recording medium

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11020829A JP2000222720A (en) 1999-01-28 1999-01-28 Substrate for information recording medium and information recording medium

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000222720A true JP2000222720A (en) 2000-08-11

Family

ID=12037945

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11020829A Pending JP2000222720A (en) 1999-01-28 1999-01-28 Substrate for information recording medium and information recording medium

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000222720A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110121745A (en) * 2016-12-28 2019-08-13 东洋钢钣株式会社 Hand disk wafer and the hard disk device for using the hand disk wafer

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110121745A (en) * 2016-12-28 2019-08-13 东洋钢钣株式会社 Hand disk wafer and the hard disk device for using the hand disk wafer
CN110121745B (en) * 2016-12-28 2021-01-15 东洋钢钣株式会社 Hard disk substrate and hard disk device using the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0941973B1 (en) Crystallized glass substrate, and information recording medium using the crystallized glass substrate
US7015161B2 (en) Substrate for information recording medium and magnetic recording medium composed of crystallized glass
JP3996294B2 (en) Substrate for information recording medium made of crystallized glass and information recording medium
JP3568888B2 (en) Glass substrate for information recording medium, information recording medium, and method for producing them
SG178005A1 (en) Glass substrate for magnetic disk and manufacturing method of the same
JPH11221742A (en) Grinding method, grinding device, glass substrate for magnetic recording medium and magnetic recording medium
JPH1079122A (en) Method for selecting material suitable for substrate of information recording medium, material selected by using the method, and substrate and magnetic disk using the material
WO2007111149A1 (en) Method for manufacturing glass substrate for magnetic disk and method for manufacturing magnetic disk
JP4562274B2 (en) Manufacturing method of glass substrate for information recording medium and manufacturing method of information recording medium
JP3254157B2 (en) Glass substrate for recording medium, and recording medium using the substrate
JP4074027B2 (en) Substrate for information recording medium made of crystallized glass and information recording medium
JP3554476B2 (en) Glass substrate for information recording medium, method of manufacturing the same, magnetic recording medium using the substrate, and method of manufacturing the same
KR100628825B1 (en) Ph adjustment of a melt for use in microetching glass substrates
JPH10241134A (en) Glass substrate for information-recording medium and magnetic recording medium using the same
US20050172670A1 (en) Method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk and method of manufacturing a magnetic disk
JP2000222720A (en) Substrate for information recording medium and information recording medium
JPH02285508A (en) Magnetic recording medium
JP3078230B2 (en) Glass substrate for recording medium, magnetic recording medium using the substrate, and method of manufacturing the same
JP3793401B2 (en) Substrate for information recording medium made of crystallized glass and information recording medium
JP2998952B2 (en) Glass substrate for recording medium and method for producing recording medium
US20030203244A1 (en) Magnetic recording medium and method of producing the same
JP4771981B2 (en) Manufacturing method of glass substrate for magnetic disk and manufacturing method of magnetic disk
JP4347146B2 (en) Manufacturing method of glass substrate for magnetic disk and manufacturing method of magnetic disk
JP3793003B2 (en) Crystallized glass substrate for information recording media
JP3600767B2 (en) Glass substrate for information recording medium, method of manufacturing the same, magnetic recording medium using the substrate, and method of manufacturing the same