JP2000221462A - Production of electro-optic device - Google Patents

Production of electro-optic device

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JP2000221462A
JP2000221462A JP2161899A JP2161899A JP2000221462A JP 2000221462 A JP2000221462 A JP 2000221462A JP 2161899 A JP2161899 A JP 2161899A JP 2161899 A JP2161899 A JP 2161899A JP 2000221462 A JP2000221462 A JP 2000221462A
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electro
rubbing
substrate
polarizing plate
substrates
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Hiromi Saito
広美 斉藤
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To embody a process for producing an electro-optic device capable of improving a display grade by eliminating the offset in the alignment direction of an electro-optic material. SOLUTION: In the process for producing the electro-optic panel 1, a rubbing treatment is executed after the position and direction of an active matrix substrate 30 are aligned on the basis of alignment marks 38A, 38B, 38C and 38D for assembly formed on the active matrix substrate 30. After the active matrix substrate 30 and a counter substrate are bonded to each other on the basis of the alignment marks 38A, 38B, 38C and 38D for assembly, the polarizing plate is bonded on the basis of the alignment marks 38A, 38B, 38C and 38D for assembly or the alignment marks for positioning the polarizing plate.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、一対の基板間に電
気光学物質が保持された電気光学パネルを備える電気光
学装置の製造方法に関するものである。さらに詳しく
は、偏光光を用いて表示を行う電気光学装置の製造技術
に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing an electro-optical device having an electro-optical panel in which an electro-optical material is held between a pair of substrates. More specifically, the present invention relates to a technique for manufacturing an electro-optical device that performs display using polarized light.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶などの電気光学物質を用いた電気光
学パネルを搭載した表示装置(電気光学装置)として
は、アクティブマトリクス駆動方式のもの、パッシブマ
トリクス駆動方式のものなどがあるが、投射型表示装置
においてライトバルブとして用いられる電気光学パネル
ではアクティブマトリクス駆動方式のものが用いられて
いる。
2. Description of the Related Art As a display device (electro-optical device) equipped with an electro-optical panel using an electro-optical material such as a liquid crystal, there are an active matrix drive type and a passive matrix drive type. An electro-optical panel used as a light valve in a display device employs an active matrix driving system.

【0003】このタイプの電気光学パネルでは、図4に
模式的に示すように、画素電極8、配向膜46、画素ス
イッチング用の薄膜トランジスタ(以下、TFTと称
す)10などが形成されたアクティブマトリクス基板3
0と、対向電極32および配向膜47が形成された対向
基板20と、これらの基板間に電気光学物質として封
入、挟持されている液晶39とから概略構成されてい
る。アクティブマトリクス基板30と対向基板20とは
ギャップ材含有のシール材52によって所定の間隙を介
して貼り合わされ、この間隙内に液晶39が封入されて
いる。
In an electro-optical panel of this type, as schematically shown in FIG. 4, an active matrix substrate on which a pixel electrode 8, an alignment film 46, a pixel switching thin film transistor (hereinafter referred to as TFT) 10 and the like are formed. 3
0, a counter substrate 20 on which a counter electrode 32 and an alignment film 47 are formed, and a liquid crystal 39 sealed and sandwiched as an electro-optical material between these substrates. The active matrix substrate 30 and the opposing substrate 20 are bonded to each other with a predetermined gap by a sealing material 52 containing a gap material, and a liquid crystal 39 is sealed in the gap.

【0004】ここで、配向膜46、47は、ポリイミド
膜などの有機薄膜に対して所定方向のラビング処理を行
うことによって形成されたものであり、アクティブマト
リクス基板30と対向基板20との間に液晶39を封入
したときに、液晶39の配向状態を規定する。
Here, the alignment films 46 and 47 are formed by performing a rubbing process in a predetermined direction on an organic thin film such as a polyimide film, and are formed between the active matrix substrate 30 and the counter substrate 20. When the liquid crystal 39 is sealed, the alignment state of the liquid crystal 39 is defined.

【0005】このようなラビング処理においては、通
常、図10(A)に示すように、アクティブマトリクス
基板30に対するラビング方向(矢印Aで示す方向)
と、対向基板20に対するラビング方向(矢印Bで示す
方向)とは、直角をなすように設定される。このため、
液晶39は、電場がかかっていない状態では、アクティ
ブマトリクス基板30および対向基板20の表面近傍に
おいて配向膜46、47からの配向規制力を受け、基板
間で90°の角度をもって捩じれ配向する(TNモー
ド)。このような捩じれ配向は、図10(B)に示すよ
うに、アクティブマトリクス基板30と対向基板20と
の間に電場をかけることによって解放される。従って、
外部から電場を印加するか否かによって、液晶39の配
向状態を制御することができるので、透過型の電気光学
パネル1であれば、光源(図示せず。)からの光Lは、
入射側の偏光板12によって所定の直線偏光光に揃えら
れた後、対向基板20の側から液晶39の層に入射し、
図10(A)に示すように、電場がかけられていない画
素では透過偏光軸が捩じられてアクティブマトリクス基
板30から出射される一方、図10(B)に示すよう
に、電場がかけられた画素では、透過偏光軸が捩じられ
ることなくアクティブマトリクス基板30の側から出射
する。このため、図10(A)、(B)に示すように、
入射側の偏光板12と透過偏光軸が直交するように出射
側の偏光板11を配置しておけば(ノーマリホワイ
ト)、電気光学パネル1の出射側に配置された偏光部材
11を通過するのは、液晶39によって透過偏光軸が捩
じられた方の直線偏光光のみである。これに対して、入
射側の偏光板12と透過偏光軸が平行になるように出射
側の偏光板11を配置しておけば(ノーマリブラッ
ク)、電気光学パネル1の出射側に配置された偏光部材
11を通過するのは、液晶39によって透過偏光軸が捩
じられることのなかった直線偏光光のみである。よっ
て、これらの偏光状態を画素毎に制御することにより所
定の情報を表示することができる。また、電気光学パネ
ル1の出射側に拡大投射光学系を配置しておけば、電気
光学パネル1で形成した画像をスクリーンなどの投射面
に拡大投射できる。
In such a rubbing process, the rubbing direction (direction indicated by arrow A) with respect to the active matrix substrate 30 is usually as shown in FIG.
And the rubbing direction (direction indicated by arrow B) with respect to the opposing substrate 20 are set to be at a right angle. For this reason,
In a state where no electric field is applied, the liquid crystal 39 receives an alignment regulating force from the alignment films 46 and 47 near the surfaces of the active matrix substrate 30 and the counter substrate 20, and twists and aligns at an angle of 90 ° between the substrates (TN). mode). Such a twisted orientation is released by applying an electric field between the active matrix substrate 30 and the counter substrate 20, as shown in FIG. Therefore,
The alignment state of the liquid crystal 39 can be controlled depending on whether or not an external electric field is applied. Therefore, in the case of the transmissive electro-optical panel 1, light L from a light source (not shown)
After being adjusted to predetermined linearly polarized light by the incident side polarizing plate 12, the light enters the liquid crystal 39 layer from the counter substrate 20 side,
As shown in FIG. 10A, in a pixel to which no electric field is applied, the transmission polarization axis is twisted and emitted from the active matrix substrate 30. On the other hand, as shown in FIG. 10B, an electric field is applied. In the pixel, the transmitted polarization axis is emitted from the active matrix substrate 30 without being twisted. Therefore, as shown in FIGS. 10A and 10B,
If the output side polarizing plate 11 is arranged so that the incident side polarizing plate 12 and the transmission polarization axis are orthogonal (normally white), the light passes through the polarizing member 11 arranged on the output side of the electro-optical panel 1. This is only the linearly polarized light whose transmission polarization axis is twisted by the liquid crystal 39. On the other hand, if the output-side polarizing plate 11 is arranged so that the transmission-side polarization axis is parallel to the incident-side polarizing plate 12 (normally black), the output-side polarizing plate 11 is disposed on the output side of the electro-optical panel 1. Only linearly polarized light whose transmission polarization axis is not twisted by the liquid crystal 39 passes through the polarizing member 11. Therefore, predetermined information can be displayed by controlling these polarization states for each pixel. Further, if an enlarged projection optical system is arranged on the emission side of the electro-optical panel 1, an image formed by the electro-optical panel 1 can be enlarged and projected on a projection surface such as a screen.

【0006】このように、電気光学パネル1では偏光光
を利用して表示を行うため、入射側の偏光板12、対向
基板20に対するラビング方向、アクティブマトリクス
基板30に対するラビング方向、出射側の偏光板11の
各向きを所定の条件に合わせておく必要がある。
As described above, in the electro-optical panel 1, since display is performed using polarized light, the polarizing plate 12 on the incident side, the rubbing direction with respect to the counter substrate 20, the rubbing direction with respect to the active matrix substrate 30, and the polarizing plate on the emission side are used. It is necessary to adjust each direction of 11 in accordance with predetermined conditions.

【0007】そこで、従来は、大型の偏光板から電気光
学パネル1に貼ることのできる小型の偏光板11、12
に分割する際には、電気光学パネル1が矩形であるの
で、偏光板11、12も矩形に切り出して、その辺同士
や角同士を基準に偏光板11、12を電気光学パネル1
上で向きを調整した後、接着剤で貼りつけている。ま
た、ラビング処理を行う際には、アクティブマトリクス
基板30および対向基板20がそれぞれ矩形であるの
で、その辺などを基準にしてラビング方向を設定してい
る。
Therefore, conventionally, small polarizing plates 11 and 12 that can be attached to the electro-optical panel 1 from a large polarizing plate.
When the electro-optical panel 1 is divided into rectangular sections, the polarizers 11 and 12 are also cut out into rectangles, and the polarizers 11 and 12 are divided into rectangular sections based on the sides and corners.
After adjusting the direction above, it is pasted with adhesive. Further, when performing the rubbing process, the active matrix substrate 30 and the counter substrate 20 are each rectangular, so that the rubbing direction is set based on the sides and the like.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、電気光
学パネル1を用いた表示装置においては、表示品位の向
上が強く求められており、たとえば、表示の高精彩化を
図ろうとすると、画素スイッチング用のTFTなどのデ
バイスに対するサイズ的な制約が大きくなって、デバイ
ス特性を維持できなくなる。また、投射型表示装置で
は、より輝度の高い表示を行うために光源からの出力を
大きくする傾向にあるが、それに伴って、コントラスト
比の低下が起こっている。このコントラスト比を向上す
るために、デバイス特性の向上、基板同士の貼り合わせ
精度の向上、セル厚精度の向上が検討されているが、未
だ十分なレベルには達成していないのが現状である。
However, in a display device using the electro-optical panel 1, an improvement in display quality is strongly demanded. For example, when an attempt is made to achieve a high definition display, a pixel switching device is required. Size restrictions on devices such as TFTs increase, and device characteristics cannot be maintained. Further, in the projection type display device, the output from the light source tends to be increased in order to perform display with higher brightness, but the contrast ratio is reduced accordingly. In order to improve the contrast ratio, improvement of device characteristics, improvement of bonding accuracy between substrates, and improvement of cell thickness accuracy have been studied, but at present it has not yet been achieved to a sufficient level. .

【0009】そこで、本発明の課題は、これまで注目さ
れていなかった電気光学物質の配向方向のずれを解消す
ることにより、表示品位の向上を図ることのできる電気
光学装置の製造方法を提供することにある。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a method of manufacturing an electro-optical device capable of improving display quality by eliminating a shift in the orientation direction of an electro-optical material, which has not been noticed hitherto. It is in.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明では、電気光学物質を挟持するための一対の
基板の表面に形成した薄膜に対して所定方向のラビング
処理を行って当該薄膜を配向膜とするラビング処理工程
と、該ラビング処理工程を行った前記一対の基板を前記
配向膜同士が所定の隙間を介して対向するように貼り合
わせる基板貼り合わせ工程と、該基板貼り合わせ工程で
貼り合わせた一対の基板間に電気光学物質を充填する充
填工程とを有する電気光学装置の製造方法において、前
記ラビング工程では、予め基板に付しておいたマークを
基準に当該基板を所定の向きに合わせた後、ラビング処
理を行うことを特徴とする。
According to the present invention, there is provided a thin film formed on a pair of substrates for sandwiching an electro-optical material by subjecting the thin film to a rubbing process in a predetermined direction. A rubbing process using an alignment film, a substrate bonding process of bonding the pair of substrates having been subjected to the rubbing process so that the alignment films face each other via a predetermined gap, and a substrate bonding process. And a filling step of filling an electro-optical substance between a pair of substrates bonded together in the electro-optical device, in the rubbing step, the substrate is subjected to a predetermined process based on a mark previously attached to the substrate. A rubbing process is performed after the orientation is adjusted.

【0011】本発明では、予め基板に付しておいたマー
クを基準に基板の向きを合わせて、ラビング処理を行う
ので、基板の外形形状を基準に向きを合わせる場合と違
って、大型基板から切り出した際に基板の辺が傾いてし
まっても、ラビング処理を行う際に基板を正確な向きに
配置できる。従って、所定の方向にラビング処理を行う
ことができるので、偏光板を後で適正に貼りつけるだけ
で、偏光板の透過偏光軸を電気光学物質の配向方向に合
わせることができる。よって、本発明によれば、投射型
表示装置などといった電気光学装置において品位の高い
表示を行うことができる。
In the present invention, the rubbing process is performed by aligning the orientation of the substrate with reference to a mark previously attached to the substrate. Even if the side of the substrate is inclined when the substrate is cut out, the substrate can be arranged in an accurate direction when performing the rubbing process. Therefore, since the rubbing treatment can be performed in a predetermined direction, the transmission polarization axis of the polarizing plate can be adjusted to the orientation direction of the electro-optical material only by appropriately attaching the polarizing plate later. Therefore, according to the present invention, high-quality display can be performed in an electro-optical device such as a projection display device.

【0012】本発明において、前記基板貼り合わせ工程
では、前記マークを基準に前記一対の基板を所定の向き
に合わせた後、前記一対の基板を貼り合わせることを特
徴とする。。この形態では、組み立て用のマーク、すな
わち前記マークを基準に前記一対の基板を所定の向きに
合わせた後、そのマークを基準にラビング方向を設定す
るので、基板を貼り合わせたときに、ラビング方向のず
れを抑えることができる。
In the present invention, in the substrate bonding step, the pair of substrates is bonded in a predetermined direction based on the mark, and then the pair of substrates is bonded. . In this embodiment, the rubbing direction is set based on the mark for assembly, that is, after the pair of substrates are aligned in a predetermined direction based on the mark, and then the rubbing direction is set based on the mark. Deviation can be suppressed.

【0013】本発明において、さらに前記一対の基板の
少なくとも一方の基板表面に偏光板を貼付する工程を有
し、前記偏光板を貼付する工程では、前記マークを基準
に前記一対の基板を所定の向きに合わせた後、前記基板
に前記偏光板を貼り合わせてもよい。この形態では、マ
ークを基準にラビング方向を設定するので、偏光板を貼
り合わせたときに、偏光板の透過偏光軸とラビング方向
との間にずれが発生しない。
In the present invention, the method further comprises the step of attaching a polarizing plate to at least one substrate surface of the pair of substrates. In the step of attaching the polarizing plate, the pair of substrates is fixed to a predetermined position based on the mark. After the orientation, the polarizing plate may be attached to the substrate. In this embodiment, since the rubbing direction is set based on the mark, no deviation occurs between the transmission polarization axis of the polarizing plate and the rubbing direction when the polarizing plates are bonded.

【0014】本発明の別の形態では、電気光学物質を挟
持するための一対の基板の表面に形成した薄膜に対して
所定方向のラビング処理を行って当該薄膜を配向膜とす
るラビング処理工程と、該ラビング処理工程を行った前
記一対の基板を前記配向膜同士が所定の隙間を介して対
向するように貼り合わせる基板貼り合わせ工程と、該基
板貼り合わせ工程で貼り合わせた一対の基板間に電気光
学物質を充填する充填工程とを有する電気光学装置の製
造方法において、前記基板に組立て用の第1マークと偏
光板貼付用の第2マークとを同時に同一材料で所定の間
隔で形成する工程を有し、前記ラビング処理工程におい
ては、前記第1と第2マークの少なくとも一方のマーク
を基準に当該基板を所定の向きに合わせた後、ラビング
処理を行うことを特徴とする。
According to another aspect of the present invention, a rubbing process in a predetermined direction is performed on a thin film formed on a surface of a pair of substrates for sandwiching an electro-optical material to make the thin film an alignment film. A substrate bonding step of bonding the pair of substrates having been subjected to the rubbing treatment step such that the alignment films face each other with a predetermined gap therebetween, and between the pair of substrates bonded in the substrate bonding step. Forming a first mark for assembling on the substrate and a second mark for attaching a polarizing plate to the substrate at the same time at a predetermined interval. In the rubbing process, the rubbing process is performed after the substrate is oriented in a predetermined direction based on at least one of the first and second marks. And butterflies.

【0015】本発明のかかる構成によれば、第1マーク
と第2マークとは同一材料で同時に形成されるので、両
マーク間でのずれや傾きがない。またどちらのマークを
基準としてラビング処理を施してもラビングを精度よく
行うことができ、ラビング方向、基板同士の貼り合わせ
と、基板への偏光板の貼付を精度よく行うことができ
る。 本発明の別の形態では、電気光学物質を挟持す
るための一対の基板の表面に形成した薄膜に対して所定
方向のラビング処理を行って当該薄膜を配向膜とするラ
ビング処理工程と、該ラビング処理工程を行った前記一
対の基板を前記配向膜同士が所定の隙間を介して対向す
るように貼り合わせる基板貼り合わせ工程と、該基板貼
り合わせ工程で貼り合わせた一対の基板間に電気光学物
質を充填する充填工程とを有する電気光学装置の製造方
法において、前記ラビング工程では、ラビング処理を行
った方向を示すラビングマークを該ラビング処理動作に
連動して前記基板に付すことを特徴とする。
According to this structure of the present invention, since the first mark and the second mark are formed simultaneously from the same material, there is no displacement or inclination between the two marks. In addition, rubbing can be performed with high accuracy even if rubbing is performed using either mark as a reference, and the rubbing direction, the bonding between the substrates, and the bonding of the polarizing plate to the substrate can be performed with high accuracy. In another embodiment of the present invention, a rubbing process in a predetermined direction is performed on a thin film formed on a surface of a pair of substrates for sandwiching an electro-optical material to make the thin film an alignment film; A substrate bonding step of bonding the pair of substrates having been subjected to the processing step so that the alignment films face each other with a predetermined gap therebetween, and an electro-optical material between the pair of substrates bonded in the substrate bonding step. And a filling step of filling the substrate with a rubbing mark indicating a direction in which the rubbing process has been performed in the rubbing step in conjunction with the rubbing operation.

【0016】本発明では、前記ラビング工程の中でラビ
ング処理を行った方向を示すラビングマークをラビング
処理に連動して基板に付すので、このアライメントメー
クが付された位置を確認すれば、ラビング処理が正常に
行われた否かのを検査などを行うことができる。また、
ラビングマークは実際のラビング方向を示すので、ラビ
ングマークを基準に基板同士の位置合わせや、偏光板の
貼付位置や向きを決めるときの基準にすれば、ラビング
方向にずれがあっても実際に行なったラビング方向を基
準に電気光学装置を構成することができる。すなわち、
ラビング方向のずれを補正することができる。よって、
本発明によれば、投射型表示装置などといった電気光学
装置において品位の高い表示を行うことができる本発明
において、前記基板貼り合わせ工程では、前記ラビング
マークを基準に前記基板同士を所定の向きに合わせた
後、当該基板同士を貼り合わせることが好ましい。本形
態では、ラビングマークを基準に基板を貼り合わせるの
で、実際に行ったラビング方向に対して基板が貼り合わ
されることになる。従って、貼り合わせた基板とラビン
グ方向との間にずれがない。
In the present invention, a rubbing mark indicating the direction in which the rubbing process was performed in the rubbing process is added to the substrate in conjunction with the rubbing process. An inspection or the like can be performed to determine whether or not the operation has been performed normally. Also,
The rubbing mark indicates the actual rubbing direction.Therefore, if the rubbing mark is used as a reference for positioning the substrates and determining the position and orientation of the polarizing plate, even if the rubbing direction is misaligned, The electro-optical device can be configured based on the rubbing direction. That is,
The deviation in the rubbing direction can be corrected. Therefore,
According to the present invention, in the present invention capable of performing high-quality display in an electro-optical device such as a projection display device, in the substrate bonding step, the substrates are oriented in a predetermined direction based on the rubbing mark. After the bonding, the substrates are preferably bonded to each other. In the present embodiment, since the substrates are bonded based on the rubbing marks, the substrates are bonded in the rubbing direction actually performed. Therefore, there is no deviation between the bonded substrate and the rubbing direction.

【0017】また、前記ラビングマークを基準に前記一
対の基板のうちの少なくとも一方の基板に対して偏光板
を位置合わせした後、当該基板と偏光板とを貼り合わせ
ることが好ましい。本形態では、ラビングマークを基準
に偏光板の向きや位置を合わせるので、実際に行ったラ
ビング方向に合わせて偏光板が基板に貼付されることに
なる。従って、貼付した偏光板の透過偏光軸とラビング
方向との間にずれがない。
It is preferable that the polarizing plate is aligned with at least one of the pair of substrates based on the rubbing mark, and then the substrate and the polarizing plate are bonded. In the present embodiment, since the direction and position of the polarizing plate are adjusted based on the rubbing mark, the polarizing plate is attached to the substrate in accordance with the rubbing direction actually performed. Therefore, there is no deviation between the transmission polarization axis of the attached polarizing plate and the rubbing direction.

【0018】このような電気光学装置の製造方法は、装
置光軸上に、光源と、該光源から出射された光を前記電
気光学パネルに導く集光光学系と、当該電気光学パネル
で光変調した光を拡大投射する拡大投射光学系とを配置
する投射型表示装置を製造するのに適している。
According to the method for manufacturing an electro-optical device, a light source, a condensing optical system for guiding light emitted from the light source to the electro-optical panel, and a light It is suitable for manufacturing a projection display device in which an enlarged projection optical system for enlarging and projecting the generated light is arranged.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】図面を参照して、本発明の実施の
形態を説明する。
Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0020】[投射型表示装置の要部の構成]図1は、
本形態の電気光学パネルの使用例を示す投射型表示装置
(電気光学装置)の全体構成図である。
[Structure of Main Parts of Projection Display Device] FIG.
FIG. 2 is an overall configuration diagram of a projection display device (electro-optical device) showing an example of use of the electro-optical panel of the embodiment.

【0021】図1において、投射型表示装置2001の
ハウジング内には光学ユニット2010が搭載され、こ
の光学ユニット2010内には、光源ランプ2011
(光源)と、微小なレンズの集合体からなるインテグレ
ータレンズ2012、2014、および偏光分離膜とλ
/4波長板との集合体からなる偏光変換素子2016を
備える照明用光学系2015と、この照明用光学系20
15から出射される白色光束を、赤、緑、青の各色光束
R、G、Bに分離する色分離光学系2020と、各色光
束を変調するライトバルブとして、3枚の液晶ライトバ
ルブ2030R、2030G、2030Bと、変調され
た色光束を再合成する色合成光学系としてのダイクロイ
ックプリズムからなるプリズムユニット2042と、合
成された光束をスクリーン上に拡大投射する投射レンズ
ユニット2050(投射光学系)とが構成されている。
光源ランプ2011としては、ハロゲンランプ、メタル
ハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができ
る。この光学ユニット2010では、偏光変換素子20
16において各プリズム体で分離されたP偏光およびS
偏光のうち、P偏光の出射位置にλ/2板を配置した構
成に相当するため、光束をS偏光に揃えることができ
る。
In FIG. 1, an optical unit 2010 is mounted in a housing of the projection display device 2001, and a light source lamp 2011 is installed in the optical unit 2010.
(Light source), integrator lenses 2012 and 2014 formed of an aggregate of minute lenses, and a polarization separation film and λ
An illumination optical system 2015 including a polarization conversion element 2016 formed of an aggregate with a 波長 wavelength plate;
A color separation optical system 2020 that separates a white light beam emitted from 15 into red, green, and blue color light beams R, G, and B, and three liquid crystal light valves 2030R and 2030G as light valves that modulate each color light beam. , 2030B, a prism unit 2042 composed of a dichroic prism as a color synthesizing optical system for re-synthesizing the modulated color light beam, and a projection lens unit 2050 (projection optical system) for enlarging and projecting the synthesized light beam on a screen. It is configured.
As the light source lamp 2011, a halogen lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used. In the optical unit 2010, the polarization conversion element 20
P-polarized light and S separated by each prism body at 16
Since this corresponds to a configuration in which a λ / 2 plate is arranged at the emission position of P-polarized light, the light beam can be aligned with S-polarized light.

【0022】照明用光学系2015は反射ミラー201
7を備えており、照明用光学系2015の中心光軸を装
置前方向に向けて直角に折り曲げるようにしている。色
分離光学系2020には、赤緑反射ダイクロックミラー
2022と、緑反射ダイクロイックミラー2024と、
反射ミラー2026とが配置されている。光源ランプ2
011から出射された白色光束は、照明用光学系201
5を経て、まず、赤緑反射ダイクロイックミラー202
2において、そこに含まれている赤色光束Rおよび緑色
光束Gが直角に反射されて、緑反射ダイクロイックミラ
ー2024の側に向かう。青色光束Bはこの赤緑反射ダ
イクロイックミラー2022を通過して、後方の反射ミ
ラー2026で直角に反射されて、青色光束の出射部か
らプリズムユニット2042の側に出射される。赤緑反
射ダイクロックミラー2022において反射された赤お
よび緑の光束R、Gは、緑反射ダイクロイックミラー2
024において、緑色光束Gのみが直角に反射されて、
緑色光束の出射部からプリズムユニット2042の側に
出射される。これに対して、緑反射ダイクロイックミラ
ー2024を通過した赤色光束Rは、赤色光束の出射部
から導光系2044の側に出射される。色分離光学系2
020における各色光束の出射側には、それぞれ集光レ
ンズ2027R、2027G、2027Bが配置されて
いる。したがって、各出射部から出射した各色光束は、
これらの集光レンズ2027R、2027G、2027
Bに入射して各液晶ライトバルブ2030R、2030
G、2030B(電気光学パネル1)に集光される。こ
のようにして、本形態では、照明用光学系2015、色
分離光学系2020、集光レンズ2027R、2027
G、2027Bおよび導光系2044によって、光源ラ
ンプ2011から出射された光を集光しながら各液晶ラ
イトバルブ2030R、2030G、2030Bに導く
集光光学系が構成されている。
The illumination optical system 2015 includes a reflection mirror 201.
7, the central optical axis of the illumination optical system 2015 is bent at a right angle toward the front of the apparatus. The color separation optical system 2020 includes a red-green reflection dichroic mirror 2022, a green reflection dichroic mirror 2024,
A reflection mirror 2026 is provided. Light source lamp 2
The white light beam emitted from the illumination optical system 201
After passing through No. 5, first, a red-green reflecting dichroic mirror 202
At 2, the red light flux R and the green light flux G contained therein are reflected at a right angle and directed toward the green reflection dichroic mirror 2024. The blue light flux B passes through the red-green reflecting dichroic mirror 2022, is reflected at a right angle by the rear reflecting mirror 2026, and is emitted from the emission part of the blue light flux toward the prism unit 2042. The red and green light fluxes R and G reflected by the red-green reflective dichroic mirror 2022 are combined with the green reflective dichroic mirror 2.
At 024, only the green luminous flux G is reflected at a right angle,
The green light flux is emitted from the emission unit to the prism unit 2042 side. On the other hand, the red light flux R that has passed through the green reflection dichroic mirror 2024 is emitted from the emission part of the red light flux to the light guide system 2044 side. Color separation optical system 2
Condensing lenses 2027R, 2027G, and 2027B are arranged on the emission side of each color light beam at 020, respectively. Therefore, each color light beam emitted from each emission unit is
These condenser lenses 2027R, 2027G, 2027
B and each liquid crystal light valve 2030R, 2030
G, 2030B (electro-optical panel 1). As described above, in the present embodiment, the illumination optical system 2015, the color separation optical system 2020, and the condenser lenses 2027R and 2027
G, 2027B and the light guide system 2044 constitute a light condensing optical system that condenses light emitted from the light source lamp 2011 and guides the light to each of the liquid crystal light valves 2030R, 2030G, and 2030B.

【0023】このように集光された各色光束R、G、B
のうち、青色および緑色の光束B、Gは液晶ライトバル
ブ2030B、2030Gに入射して変調され、各色光
に対応した画像情報(映像情報)が付加される。すなわ
ち、これらのライトバルブは、不図示の駆動手段によっ
て画像情報に応じてスイッチング制御されて、これによ
り、ここを通過する各色光の変調が行われる。このよう
な駆動手段は公知の手段をそのまま使用することができ
る。
The light beams R, G, and B of the respective colors thus condensed
Among them, the blue and green luminous fluxes B and G enter the liquid crystal light valves 2030B and 2030G and are modulated, and image information (video information) corresponding to each color light is added. That is, these light valves are switching-controlled by drive means (not shown) in accordance with the image information, whereby the modulation of each color light passing therethrough is performed. As such a driving means, a known means can be used as it is.

【0024】一方、赤色光束Rは、導光系2044を介
して液晶ライトバルブ2030Rに導かれて、ここにお
いて、同様に画像情報に応じて変調が施される。なお、
導光系2044としては、入射側レンズ2045と、入
射側反射ミラー2046と、出射側反射ミラー2047
と、これらの間に配置した中間レンズ2048とが配置
されている。
On the other hand, the red light flux R is guided to the liquid crystal light valve 2030R via the light guide system 2044, where it is similarly modulated according to image information. In addition,
As the light guide system 2044, the incident side lens 2045, the incident side reflection mirror 2046, and the exit side reflection mirror 2047
And an intermediate lens 2048 disposed therebetween.

【0025】次に、各液晶ライトバルブ2030R、2
030G、2030Bを通って変調された各色光束は、
プリズムユニット2042に入射され、ここで再合成さ
れる。ここで再合成されたカラー画像は、投射レンズユ
ニット2050を介して、所定の位置にあるスクリーン
(投射面)上に拡大投射される。
Next, each liquid crystal light valve 2030R,
Each color light flux modulated through 030G and 2030B is
The light enters the prism unit 2042 and is recombined. The recombined color image is enlarged and projected on a screen (projection surface) at a predetermined position via the projection lens unit 2050.

【0026】[電気光学パネルの全体構成]このように
構成した投射型表示装置2001において、各液晶ライ
トバルブ2030R、2030G、2030Bとして用
いた電気光学パネル1の構成を、図2および図3を参照
して説明する。
[Overall Configuration of Electro-Optical Panel] FIGS. 2 and 3 show the configuration of the electro-optical panel 1 used as each of the liquid crystal light valves 2030R, 2030G, and 2030B in the projection display device 2001 thus configured. I will explain.

【0027】図2および図3はそれぞれ、本形態に係る
電気光学パネルを対向基板の側からみた平面図、および
図2のH−H′線で切断したときの電気光学パネルの断
面図である。
FIGS. 2 and 3 are a plan view of the electro-optical panel according to the present embodiment as viewed from the counter substrate side and a cross-sectional view of the electro-optical panel taken along line HH 'in FIG. .

【0028】図2および図3において、電気光学パネル
1は、画素電極8がマトリクス状に形成されたアクティ
ブマトリクス基板30と、対向電極32が形成された対
向基板20と、これらの基板間に電気光学物質として封
入、挟持されている液晶39とから概略構成されてい
る。アクティブマトリクス基板30と対向基板20と
は、対向基板20の外周縁に沿って形成されたギャップ
材含有のシール材52によって所定の間隙を介して貼り
合わされている。また、アクティブマトリクス基板30
と対向基板20との間には、ギャップ材含有のシール材
52により液晶封入領域40が区画形成され、この液晶
封入領域40内に液晶39が封入されている。シール材
52としては、エポキシ樹脂や各種の紫外線硬化樹脂な
どを用いることができる。
2 and 3, the electro-optical panel 1 has an active matrix substrate 30 on which pixel electrodes 8 are formed in a matrix, an opposing substrate 20 on which opposing electrodes 32 are formed, and an electrical connection between these substrates. A liquid crystal 39 sealed and held as an optical substance is roughly constituted. The active matrix substrate 30 and the counter substrate 20 are bonded to each other via a predetermined gap by a sealing material 52 containing a gap material formed along the outer peripheral edge of the counter substrate 20. The active matrix substrate 30
A liquid crystal enclosing region 40 is defined between the substrate and the counter substrate 20 by a sealing material 52 containing a gap material, and a liquid crystal 39 is sealed in the liquid crystal enclosing region 40. As the sealing material 52, an epoxy resin, various ultraviolet curable resins, or the like can be used.

【0029】対向基板20はアクティブマトリクス基板
30よりも小さく、アクティブマトリクス基板30の周
辺部分は、対向基板20の外周縁よりはみ出た状態に貼
り合わされる。従って、アクティブマトリクス基板30
の駆動回路(走査線駆動回路70やデータ線駆動回路6
0)や入出力端子45は対向基板20から露出した状態
にある。ここで、シール材52は部分的に途切れている
ので、この途切れ部分によって液晶注入口241が構成
されている。このため、対向基板20とアクティブマト
リクス基板30とを貼り合わせた後、シール材52の内
側領域を減圧状態にすれば、液晶注入口241から液晶
39を減圧注入でき、液晶39を封入した後、液晶注入
口241を封止剤242で塞げばよい。なお、対向基板
20には、シール材52の内側において画面表示領域7
を見切りするための遮光膜55も形成されている。ま
た、対向基板20のコーナー部のいずれにも、アクティ
ブマトリクス基板30と対向基板20との間で電気的導
通をとるための上下導通材56が形成されている。
The opposing substrate 20 is smaller than the active matrix substrate 30, and the peripheral portion of the active matrix substrate 30 is bonded so as to protrude from the outer peripheral edge of the opposing substrate 20. Therefore, the active matrix substrate 30
Drive circuits (scanning line drive circuit 70 and data line drive circuit 6)
0) and the input / output terminals 45 are exposed from the counter substrate 20. Here, since the sealing material 52 is partially interrupted, the liquid crystal injection port 241 is formed by the interrupted portion. For this reason, after the opposing substrate 20 and the active matrix substrate 30 are bonded to each other, if the inner region of the sealing material 52 is set in a reduced pressure state, the liquid crystal 39 can be injected under reduced pressure from the liquid crystal injection port 241, and The liquid crystal injection port 241 may be closed with the sealant 242. The counter substrate 20 has a screen display area 7 inside the sealing material 52.
A light-shielding film 55 for cutting off is also formed. In each of the corners of the opposing substrate 20, a vertical conducting material 56 for establishing electric conduction between the active matrix substrate 30 and the opposing substrate 20 is formed.

【0030】また、対向基板20およびアクティブマト
リクス基板30の光入射側の面あるいは光出射側には、
使用する液晶39の種類、すなわち、TN(ツイステッ
ドネマティック)モード、STN(スーパーTN)モー
ド、D−STN(ダブル−STN)モード等々の動作モ
ードや、ノーマリホワイトモード/ノーマリブラックモ
ードの別に応じて、位相差フィルムや偏光部材などが所
定の向きに配置される。
The light incident side surface or the light exit side of the opposing substrate 20 and the active matrix substrate 30 is
The type of the liquid crystal 39 to be used, that is, an operation mode such as a TN (twisted nematic) mode, an STN (super TN) mode, a D-STN (double-STN) mode, and a normally white mode / normally black mode. Thus, a retardation film, a polarizing member, and the like are arranged in a predetermined direction.

【0031】ここで、本形態の電気光学パネル1は、図
1を参照して説明した投射型表示装置(液晶プロジェク
タ)において使用される。この投射型表示装置では、光
源(図示せず。)からの光が入射側の偏光板(図示せ
ず。)によって所定の直線偏光光に揃えられた後、対向
基板20に入射する。このため、図3に示す例では、対
向基板20およびアクティブマトリクス基板30のう
ち、アクティブマトリクス基板30の外側表面301
(出射側)のみにプラスチック製のシート状の偏光部材
11が透光性接着剤211によって貼られている。
Here, the electro-optical panel 1 of the present embodiment is used in the projection display device (liquid crystal projector) described with reference to FIG. In this projection type display device, light from a light source (not shown) is adjusted to predetermined linearly polarized light by a polarizing plate (not shown) on the incident side, and then enters the counter substrate 20. Therefore, in the example shown in FIG. 3, the outer surface 301 of the active matrix substrate 30 out of the opposing substrate 20 and the active matrix substrate 30.
The sheet-like polarizing member 11 made of plastic is adhered only to the (outgoing side) with the translucent adhesive 211.

【0032】また、電気光学パネル1の使用される表示
装置のうち、図1を参照して説明した投射型表示装置で
は、3枚の電気光学パネル1がRGB用のライトバルブ
として各々使用され、各電気光学パネル1の各々には、
RGB色分解用のダイクロイックミラーを介して分解さ
れた各色の光が投射光として各々入射されることにな
る。従って、本形態の電気光学パネル1にはカラーフィ
ルタなどが形成されていない。但し、対向基板20にお
いて各画素電極8に対向する領域にRGBのカラーフィ
ルタをその保護膜とともに形成することにより、投射型
液晶表示以外にも、カラー液晶テレビなどといったカラ
ー電気光学パネルを構成することができる。さらにま
た、対向基板20に何層もの屈折率の異なる干渉層を積
層することにより、光の干渉作用を利用して、RGB色
をつくり出すダイクロイックフィルタを形成してもよ
い。このダイクロイックフィルタ付きの対向基板によれ
ば、より明るいカラー表示を行うことができる。
In the projection display device described with reference to FIG. 1 among the display devices using the electro-optical panel 1, three electro-optical panels 1 are used as RGB light valves, respectively. Each of the electro-optical panels 1 includes:
The light of each color separated via the dichroic mirror for RGB color separation is respectively incident as projection light. Therefore, no color filter or the like is formed on the electro-optical panel 1 of the present embodiment. However, in addition to the projection type liquid crystal display, a color electro-optical panel such as a color liquid crystal television is formed by forming an RGB color filter together with a protective film in a region facing each pixel electrode 8 on the counter substrate 20. Can be. Furthermore, a dichroic filter that creates RGB colors by utilizing the interference effect of light may be formed by laminating a number of interference layers having different refractive indexes on the counter substrate 20. According to the counter substrate with the dichroic filter, a brighter color display can be performed.

【0033】[各基板の構成]図4は、本形態に係る電
気光学パネルに用いたアクティブマトリクス基板と対向
基板との貼り合わせ構造を模式的に示す断面図である。
[Structure of Each Substrate] FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing a structure for bonding an active matrix substrate and a counter substrate used in the electro-optical panel according to the present embodiment.

【0034】図4において、本形態の電気光学パネル1
は、その基本的な構造は従来から用いられているものと
同様な構成を有しているので、詳細な説明を省略する
が、アクティブマトリクス基板30の表面には、走査線
(図示せず。)およびデータ線(図示せず。)に接続す
る画素スイッチング用のTFT10と、このTFT10
に接続する透明な画素電極8とを備える画素がマトリク
ス状に形成されている。また、画素電極8の表面には、
ポリイミド膜に対するラビング処理によって形成された
配向膜46が形成されている。
In FIG. 4, the electro-optical panel 1 of the present embodiment is shown.
Has a basic structure similar to that used conventionally, and a detailed description thereof will be omitted. However, a scanning line (not shown) is provided on the surface of the active matrix substrate 30. ) And a pixel switching TFT 10 connected to a data line (not shown);
And a transparent pixel electrode 8 connected to the pixel are formed in a matrix. Also, on the surface of the pixel electrode 8,
An alignment film 46 formed by rubbing the polyimide film is formed.

【0035】一方、対向基板20の表面には、アクティ
ブマトリクス基板30の各画素同士の境界領域に対応す
る領域に対してクロムなどの金属材料や樹脂ブラックな
どから構成されたブラックマトリクス、あるいはブラッ
クマスクと称せられる遮光膜6、および画像表示領域7
を見切りする遮光膜55が形成され、これらの遮光膜
6、55を覆うように透明な対向電極32が形成されて
いる。また、対向電極32の表面には、ポリイミド膜に
対するラビング処理によって形成された配向膜47が形
成されている。
On the other hand, on the surface of the counter substrate 20, a black matrix made of a metal material such as chromium or resin black or a black mask is formed on a region corresponding to a boundary region between pixels of the active matrix substrate 30. Light-shielding film 6 and image display area 7
A light-shielding film 55 that cuts off is formed, and a transparent counter electrode 32 is formed so as to cover these light-shielding films 6 and 55. On the surface of the counter electrode 32, an alignment film 47 formed by rubbing a polyimide film is formed.

【0036】[電気光学パネル1の製造方法]このよう
に構成した電気光学パネル1の製造方法を説明する。
[Method of Manufacturing Electro-Optical Panel 1] A method of manufacturing the electro-optical panel 1 thus configured will be described.

【0037】(半導体プロセス)まず、周知の半導体プ
ロセスを利用して、図4に示すように、アクティブマト
リクス基板30および対向基板20を形成する。また、
アクティブマトリクス基板30に貼付する偏光板11に
ついては、大型の偏光板から所定の大きさに切り出した
ものを用いるので、この大型の偏光板を準備しておく。
(Semiconductor Process) First, an active matrix substrate 30 and a counter substrate 20 are formed using a well-known semiconductor process, as shown in FIG. Also,
As the polarizing plate 11 to be attached to the active matrix substrate 30, a large-sized polarizing plate cut out to a predetermined size is used, so this large-sized polarizing plate is prepared.

【0038】(ラビング工程)次に、図5(A)に示す
ように、ラビング装置のステージ601の上にアクティ
ブマトリクス基板30を配置する。ここで、アクティブ
マトリクス基板30の四隅には、アクティブマトリクス
基板30と対向基板20とを貼り合わせる際に基板同士
の位置合わせを行うための組み立て用のアライメントマ
ーク38A、38B、38C、38Dが形成されている
ので、たとえばラビング処理を開始する方の辺の側に形
成された2つの組み立て用のアライメントマーク38
B、38Cをカメラなどによって観察し、これらのアラ
イメントマーク38B、38Cを基準にして、アクティ
ブマトリクス基板30の位置や向きを合わせる。ここ
で、組み立て用のアライメントマーク38B、38C
は、アクティブマトリクス基板30に半導体プロセスを
利用してTFTなどを形成していく工程の中で形成され
た薄膜からなり、各画素に対して高い位置精度を有する
位置に形成されている。
(Rubbing Step) Next, as shown in FIG. 5A, the active matrix substrate 30 is arranged on the stage 601 of the rubbing device. Here, at the four corners of the active matrix substrate 30, alignment marks 38A, 38B, 38C, 38D for assembling for aligning the substrates when bonding the active matrix substrate 30 and the counter substrate 20 are formed. Therefore, for example, the two alignment marks 38 for assembly formed on the side of the side on which the rubbing process is started.
B and 38C are observed by a camera or the like, and the position and orientation of the active matrix substrate 30 are adjusted with reference to these alignment marks 38B and 38C. Here, alignment marks 38B and 38C for assembly are used.
Is composed of a thin film formed in a process of forming a TFT or the like on the active matrix substrate 30 using a semiconductor process, and is formed at a position having high positional accuracy for each pixel.

【0039】このようにしてアクティブマトリクス基板
30を所定の位置および向きに配置した後、所定の方向
(ここに示す例では、組み立て用のアライメントマーク
38B、38Cを結ぶ直線L1に対して直角な方向)に
向けて、ラビング用布602が巻かれたローラを移動さ
せ、アクティブマトリクス基板30にラビング処理を施
す。
After arranging the active matrix substrate 30 at a predetermined position and orientation in this manner, a predetermined direction (in the example shown here, a direction perpendicular to the straight line L1 connecting the alignment marks 38B and 38C for assembly). The rubbing treatment is performed on the active matrix substrate 30 by moving the roller around which the rubbing cloth 602 is wound.

【0040】ここで、ラビング用布602と所定の位置
関係を成す位置でラビング用布602と一体に移動する
一対のマーカ603が形成されており、これらのマーカ
603は、ラビング処理に連動して、図5(B)に示す
ように、アクティブマトリクス基板30に対して、実際
にラビング処理を行った方向(ラビング用布602が実
際に移動した方向)を示すラビングマーク380A、3
80B、380C、380Dを、たとえば組み立て用の
アライメントマーク38A、38B、38C、38Dの
傍に付していく。
Here, a pair of markers 603 are formed which move integrally with the rubbing cloth 602 at a position which forms a predetermined positional relationship with the rubbing cloth 602, and these markers 603 are linked with the rubbing processing. As shown in FIG. 5B, rubbing marks 380A, 380A, 3B, 3C, 3D, 3D, 3D, 3D, 3D, 3D, 3D, 3D
80B, 380C, and 380D are put, for example, near the alignment marks 38A, 38B, 38C, and 38D for assembly.

【0041】このようにしてラビング処理を終えた後
は、たとえば、ラビングマーク380A、380Bを結
ぶ直線L2(あるいはラビングマーク380B、380
Cを結ぶ直線L2)と、組み立て用のアライメントマー
ク38B、38Cを結ぶ直線L1とが直角であるか否か
を検査する。ここで、ラビングマーク380A、380
Bを結ぶ直線L2と、組み立て用のライメントマーク3
8B、38Cを結ぶ直線L1とが直角であれば、正確な
方向にラビング処理を行うことができたものと判定する
ことができる。
After the rubbing process is completed in this way, for example, a straight line L2 (or rubbing marks 380B, 380B) connecting the rubbing marks 380A, 380B is obtained.
It is inspected whether a straight line L2 connecting C and a straight line L1 connecting the alignment marks 38B and 38C for assembly are at right angles. Here, the rubbing marks 380A, 380
A straight line L2 connecting B and a ligament mark 3 for assembly
If the straight line L1 connecting 8B and 38C is at a right angle, it can be determined that the rubbing process has been performed in the correct direction.

【0042】これに対して、対向基板20に対してもラ
ビング処理を行うが、その方法は、アクティブマトリク
ス基板30と同様な方法であるため、説明を省略する。
但し、図10を参照して説明したように、アクティブマ
トリクス基板30と対向基板20との間で液晶を90°
に捩じれ配向させるには、これらの基板に対するラビン
グ方向は直交する方向に設定される。
On the other hand, a rubbing process is also performed on the opposing substrate 20, but the rubbing method is the same as that for the active matrix substrate 30, and a description thereof will be omitted.
However, as described with reference to FIG. 10, the liquid crystal is turned 90 ° between the active matrix substrate 30 and the opposing substrate 20.
The rubbing direction with respect to these substrates is set in a direction orthogonal to the torsional orientation.

【0043】このように、本形態では、アクティブマト
リクス基板30に予め付しておいた組み立て用のアライ
メントマーク38B、38Cを基準にアクティブマトリ
クス基板30の向きを合わせ、組み立て用のアライメン
トマーク38B、38Cを基準にラビング方向を合わせ
るので、所定の方向にラビング処理を行うことができ
る。それ故、大型基板からアクティブマトリクス基板3
0を切り出した際に基板辺が傾いた状態で切り出されて
も、アクティブマトリクス基板30に対して実際に作り
込まれている画素の配列方向に対応する方向のラビング
処理を行うことができる。
As described above, in this embodiment, the orientation of the active matrix substrate 30 is adjusted with reference to the alignment marks 38B and 38C for assembly previously attached to the active matrix substrate 30, and the alignment marks 38B and 38C for assembly are used. Since the rubbing direction is adjusted based on the rubbing direction, the rubbing process can be performed in a predetermined direction. Therefore, from the large substrate to the active matrix substrate 3
Even when the substrate side is inclined when 0 is cut out, the rubbing process can be performed on the active matrix substrate 30 in the direction corresponding to the arrangement direction of the pixels actually formed.

【0044】また、組み立て用のアライメントマーク3
8B、38Cを基準にラビング方向を合わせるので、後
でアクティブマトリクス基板30と対向基板20とを貼
り合わせたときに、貼り合わせた向きとラビング方向と
が一致する。
Also, an alignment mark 3 for assembly
Since the rubbing direction is adjusted based on 8B and 38C, when the active matrix substrate 30 and the counter substrate 20 are bonded later, the bonded direction matches the rubbing direction.

【0045】さらに、ラビングマーク380A、380
B、380C、380Dは、ラビング処理に連動して付さ
れるので、実際のラビング方向を示す。従って、このラ
ビングマーク380A、380B、380C、380Dが
付された位置を確認するだけで、正確な方向にラビング
処理を行うことができたか否かを判定することができる
ので、電気光学パネル1が完成した後でラビング方向の
ずれに起因する不良品や不具合が発生しない。
Further, the rubbing marks 380A, 380
B, 380C and 380D indicate the actual rubbing direction since they are added in conjunction with the rubbing process. Therefore, it is possible to determine whether or not the rubbing process has been performed in an accurate direction only by checking the positions where the rubbing marks 380A, 380B, 380C, and 380D are added. After completion, defective products and defects due to the deviation of the rubbing direction do not occur.

【0046】(別のラビング工程)ここで、図6(A)
に示すように、アクティブマトリクス基板30には、そ
れに貼付する偏光板11の位置を示す偏光板位置合わせ
用のアライメントマーク39A、39B、39C、39
Dが形成されていることがある。このような場合には、
たとえばラビング処理を開始する方の辺の側に形成され
た偏光板位置合わせ用のアライメントマーク39B、3
9Cを基準にしてラビング方向を合わせてもよい。すな
わち、偏光板位置合わせ用のアライメントマーク39
B、39Cをカメラなどによって観察し、これらのアラ
イメントマーク39B、39Cを基準にして、アクティ
ブマトリクス基板30の位置や向きを合わせる。ここ
で、偏光板位置合わせ用のアライメントマーク39B、
39Cも、アクティブマトリクス基板30に半導体プロ
セスを利用してTFTなどを形成していく工程の中で形
成された薄膜からなり、各画素に対して高い位置精度を
有する位置に形成されている。
(Another Rubbing Step) Here, FIG.
As shown in the figure, the active matrix substrate 30 has alignment marks 39A, 39B, 39C, 39 for aligning the polarizing plate, which indicate the position of the polarizing plate 11 to be attached thereto.
D may be formed. In such a case,
For example, alignment marks 39B and 3 for positioning the polarizing plate formed on the side of the side where the rubbing process is started.
The rubbing direction may be adjusted based on 9C. That is, the alignment mark 39 for polarizing plate alignment
B and 39C are observed with a camera or the like, and the position and orientation of the active matrix substrate 30 are adjusted with reference to these alignment marks 39B and 39C. Here, alignment marks 39B for polarizing plate alignment,
39C also includes a thin film formed in a process of forming a TFT or the like on the active matrix substrate 30 using a semiconductor process, and is formed at a position having high positional accuracy for each pixel.

【0047】このようにしてアクティブマトリクス基板
30を所定の位置および向きに配置した後、所定の方向
(ここに示す例では、偏光板位置合わせ用のアライメン
トマーク39B、39Cを結ぶ直線L11に対して直角
な方向)に向けて、ラビング用布602が巻かれたロー
ラを移動させ、アクティブマトリクス基板30にラビン
グ処理を施す。
After arranging the active matrix substrate 30 in a predetermined position and orientation in this manner, in a predetermined direction (in the example shown here, a straight line L11 connecting the alignment marks 39B and 39C for aligning the polarizing plate). The roller around which the rubbing cloth 602 is wound is moved in the direction (perpendicular direction) to perform rubbing on the active matrix substrate 30.

【0048】この場合にも、一対のマーカ603によっ
て、ラビング処理に連動して、図6(B)に示すよう
に、アクティブマトリクス基板30に対して、実際にラ
ビング処理を行った方向(ラビング用布602が実際に
移動した方向)を示すラビングマーク380A、380
B、380C、380Dを、たとえば偏光板位置合わせ
用のアライメントマーク39A、39B、39C、39
Dの傍に付していく。
Also in this case, the direction in which the rubbing process is actually performed on the active matrix substrate 30 (the rubbing direction) is performed by the pair of markers 603 in conjunction with the rubbing process, as shown in FIG. Rubbing mark 380A, 380 indicating the direction in which cloth 602 actually moved)
B, 380C, 380D, for example, alignment marks 39A, 39B, 39C, 39 for polarizing plate alignment.
It will be attached to D.

【0049】このようにしてラビング処理を終えた後
は、たとえば、ラビングマーク380A、380Bを結
ぶ直線L2(あるいはラビングマーク380D、380
Cを結ぶ直線L2)と、偏光板位置合わせ用のアライメ
ントマーク39B、39Cを結ぶ直線L11とが直角で
あるか否かを検査する。ここで、ラビングマーク380
A、380Bを結ぶ直線L2と、偏光板位置合わせ用の
アライメントマーク39B、39Cを結ぶ直線L11と
が直角であれば、正確な方向にラビング処理を行うこと
ができたものと判定することができる。
After the rubbing process is completed in this manner, for example, a straight line L2 (or rubbing marks 380D, 380B) connecting the rubbing marks 380A, 380B is obtained.
It is checked whether a straight line L2 connecting C and a straight line L11 connecting alignment marks 39B and 39C for aligning the polarizing plate are at right angles. Here, the rubbing mark 380
If the straight line L2 connecting A and 380B and the straight line L11 connecting the alignment marks 39B and 39C for aligning the polarizing plate are at right angles, it can be determined that the rubbing process has been performed in the correct direction. .

【0050】このように、本形態では、予めアクティブ
マトリクス基板30に付しておいた偏光板位置合わせ用
のアライメントマーク39B、39Cを基準にアクティ
ブマトリクス基板30の向きを合わせた後、ラビング処
理を行うので、所定の方向にラビング処理を行うことが
できる。それ故、大型基板からアクティブマトリクス基
板30を切り出した際に基板辺が傾いた状態で切り出さ
れても、アクティブマトリクス基板30に対して実際に
作り込まれている画素の配列方向に対応する方向のラビ
ング処理を行うことができる。
As described above, in the present embodiment, the rubbing process is performed after the orientation of the active matrix substrate 30 is adjusted with reference to the alignment marks 39B and 39C for aligning the polarizing plate previously attached to the active matrix substrate 30. Therefore, the rubbing process can be performed in a predetermined direction. Therefore, even if the active matrix substrate 30 is cut out from the large-sized substrate, even if the substrate side is cut out in an inclined state, the active matrix substrate 30 is cut in the direction corresponding to the arrangement direction of the pixels actually formed on the active matrix substrate 30. A rubbing process can be performed.

【0051】また、偏光板位置合わせ用のアライメント
マーク39B、39Cを基準にラビング方向を合わせる
ので、後で電気光学パネル1に偏光板11を貼ったとき
に偏光板11の向きとラビング方向とが一致する。
Since the rubbing direction is adjusted based on the alignment marks 39B and 39C for aligning the polarizing plate, when the polarizing plate 11 is pasted on the electro-optical panel 1, the direction of the polarizing plate 11 and the rubbing direction are changed. Matches.

【0052】さらに、ラビングマーク380A、380
B、380C、380Dは、ラビング処理に連動して付
されるので、実際のラビング方向を示す。従って、この
ラビングマーク380A、380B、380C、380
Dが付された位置を確認するだけで、正確な方向にラビ
ング処理を行うことができたか否かを判定することがで
きるので、電気光学パネル1が完成した後でラビング方
向のずれに起因する不良品や不具合が発生しない。
Further, rubbing marks 380A, 380
B, 380C and 380D indicate the actual rubbing direction since they are added in conjunction with the rubbing process. Therefore, the rubbing marks 380A, 380B, 380C, 380
It is possible to determine whether or not the rubbing process has been performed in an accurate direction only by confirming the position where D is added, and therefore, it is caused by the deviation of the rubbing direction after the electro-optical panel 1 is completed. No defective products or defects occur.

【0053】(基板貼り合わせ工程)このようにしてラ
ビング工程を終えたアクティブマトリクス基板30と対
向基板20を、図4に示すようにシール材52によって
所定の隙間を介して貼り合わせる。この際には、アクテ
ィブマトリクス基板30および対向基板20のそれぞれ
にそれぞれ形成されている組み立て用のアライメントマ
ーク38A、38B、38C、38Dを目印にアクティ
ブマトリクス基板30と対向基板20とを所定の位置、
かつ、所定の向きに合わせる。
(Substrate Bonding Step) The active matrix substrate 30 and the opposing substrate 20 that have been subjected to the rubbing step in this manner are bonded together with a predetermined gap by a sealing material 52 as shown in FIG. At this time, the active matrix substrate 30 and the opposing substrate 20 are positioned at predetermined positions using the alignment marks 38A, 38B, 38C, and 38D for assembly formed on the active matrix substrate 30 and the opposing substrate 20, respectively.
In addition, it is set in a predetermined direction.

【0054】このようにして組み立て用のアライメント
マーク38A、38B、38C、38Dを目印にして基
板同士の位置合わせを行うと、アクティブマトリクス基
板30および対向基板20の外形形状を基準にして位置
合わせする方法と比較して、アクティブマトリクス基板
30と対向基板20とを高い精度で貼り合わせることが
できる。
When the substrates are aligned using the alignment marks 38A, 38B, 38C, and 38D for assembly as a mark in this manner, the alignment is performed based on the outer shapes of the active matrix substrate 30 and the counter substrate 20. As compared with the method, the active matrix substrate 30 and the counter substrate 20 can be bonded with high accuracy.

【0055】また、ランビング工程では、組み立て用の
アライメントマーク38B、38Cを基準にラビング方
向を合わせたので、ラビング方向に合った状態でアクテ
ィブマトリクス基板30と対向基板20とを貼り合わせ
ることができる。よって、これらの基板間に液晶を封入
した際には(充填工程)、図10(A)、(B)を参照
して説明したように、液晶を所定の捩じれ配向させるこ
とができる。
In the rubbing step, the rubbing direction is adjusted based on the alignment marks 38B and 38C for assembly, so that the active matrix substrate 30 and the opposing substrate 20 can be bonded together in the rubbing direction. Therefore, when the liquid crystal is sealed between these substrates (filling step), the liquid crystal can be oriented in a predetermined twist as described with reference to FIGS. 10A and 10B.

【0056】(別の基板貼り合わせ工程)また、組み立
て用のアライメントマーク38A、38B、38C、3
8Dに代えて、図5(B)に示すように付したラビング
マーク380A、380B、380C、380Dを基準
にアクティブマトリクス基板30と対向基板20とを位
置合わせして貼り合わせてもよい。このようにして基板
同士を貼り合わせると、実際に行なったラビング方向が
ずれていても、実際にラビング処理を行なった方向を基
準に基板同士を貼り合わせるので、基板間でラビング方
向がずれるということがない。よって、これらの基板間
に液晶を封入した際には(充填工程)、図10(A)、
(B)を参照して説明したように、液晶を所定の捩じれ
配向させることができる。
(Another Substrate Bonding Step) Also, alignment marks 38A, 38B, 38C, 3
Instead of 8D, the active matrix substrate 30 and the opposing substrate 20 may be aligned and bonded based on the rubbing marks 380A, 380B, 380C, 380D provided as shown in FIG. 5B. When the substrates are bonded in this way, even if the rubbing direction actually performed is shifted, the substrates are bonded based on the direction in which the rubbing process was actually performed, so that the rubbing direction is shifted between the substrates. There is no. Therefore, when the liquid crystal is sealed between these substrates (filling step), FIG.
As described with reference to (B), the liquid crystal can be oriented in a predetermined twist.

【0057】(偏光板分割工程)次に、アクティブマト
リクス基板30に対して貼りつける偏光板11(図4を
参照。)を準備する。それには、まず、図7(A)に示
すように、切断装置のステージ(図示せず。)上に偏光
板11を多数取りできる大型の偏光板111を配置す
る。また、大型の偏光板111の上方位置には、透過偏
光軸の方向が既知な基準偏光板112を大型の偏光板1
11と平行に配置する。ここで、基準偏光板112の向
きは、その透過偏光軸が切断装置の打ち抜き用の型材の
向きに合わせておく。
(Polarizing Plate Splitting Step) Next, a polarizing plate 11 (see FIG. 4) to be attached to the active matrix substrate 30 is prepared. First, as shown in FIG. 7A, a large polarizing plate 111 capable of taking many polarizing plates 11 is arranged on a stage (not shown) of a cutting device. In addition, above the large polarizing plate 111, a reference polarizing plate 112 having a known direction of the transmission polarization axis is placed above the large polarizing plate 111.
11 is arranged in parallel. Here, the direction of the reference polarizing plate 112 is adjusted so that the transmission polarization axis thereof is aligned with the direction of the punching die of the cutting device.

【0058】次に、大型の偏光板111の下方位置から
光を照射し、大型の偏光板111および基準偏光板11
2を透過してくる光の強度を観察する。ここで、図7
(A)に示すように、大型の偏光板111の透過偏光軸
と基準偏光板112の透過偏光軸とが同一方向を向いて
おれば、大型の偏光板111および基準偏光板112を
透過してくる光の強度が最大となる。これに対して、大
型の偏光板111の透過偏光軸の向きが基準偏光板11
2の透過偏光軸に対して矢印Cまたは矢印Dの方向にず
れておれば、大型の偏光板111および基準偏光板11
2を透過してくる光の強度が低下する。
Next, light is irradiated from a position below the large polarizing plate 111, and the large polarizing plate 111 and the reference polarizing plate 11 are illuminated.
Observe the intensity of light passing through 2. Here, FIG.
As shown in (A), if the transmission polarization axis of the large polarizing plate 111 and the transmission polarization axis of the reference polarizing plate 112 are in the same direction, the light passes through the large polarizing plate 111 and the reference polarizing plate 112. The intensity of the coming light is maximum. On the other hand, the direction of the transmission polarization axis of the large polarizing plate 111 is changed to the reference polarizing plate 11.
2, the large polarizing plate 111 and the reference polarizing plate 11
The intensity of the light passing through 2 decreases.

【0059】すなわち、図7(B)に示すように、大型
の偏光板111の透過偏光軸が基準偏光板112の透過
偏光軸に対して約45°ずれている状態では、大型の偏
光板111および基準偏光板112を透過してくる光の
強度が低下し、さらに、図7(C)に示すように、大型
の偏光板111の透過偏光軸が基準偏光板112の透過
偏光軸に対して約90°ずれている状態では、大型の偏
光板111および基準偏光板112を透過してくる光の
強度が最小となる。
That is, as shown in FIG. 7B, when the transmission polarization axis of the large polarizing plate 111 is shifted by about 45 ° with respect to the transmission polarization axis of the reference polarizing plate 112, the large polarizing plate 111 In addition, the intensity of light transmitted through the reference polarizing plate 112 is reduced, and the transmission polarization axis of the large polarizing plate 111 is shifted with respect to the transmission polarization axis of the reference polarizing plate 112, as shown in FIG. In a state of being shifted by about 90 °, the intensity of light transmitted through the large polarizing plate 111 and the reference polarizing plate 112 is minimized.

【0060】従って、大型の偏光板111および基準偏
光板112を透過してくる光の強度を監視しながら、ス
テージ上の大型の偏光板111の向きを変えていき、大
型の偏光板111および基準偏光板112を透過してく
る光の強度が最大になった状態にすれば、図8(A)、
(B)に示すように、大型の偏光板111が形状面でい
ずれの方向に向いているとしても、大型の偏光板111
の透過偏光軸は、所定の方向(基準偏光板112の透過
偏光軸の向き)を向いている。それ故、このように大型
の偏光板111の向きを調整した後、図8(A)、
(B)に、実線L30に沿って大型の偏光板111を切
断していけば、大型の偏光板111における実際の透過
偏光軸の方向を基準に偏光板11を切り出すので、偏光
板11では、その辺に対して透過偏光軸が常に平行ある
いは直角であるなど、所定の方向に向いている。
Therefore, while monitoring the intensity of light transmitted through the large polarizing plate 111 and the reference polarizing plate 112, the direction of the large polarizing plate 111 on the stage is changed, and the large polarizing plate 111 and the reference polarizing plate 112 are changed. If the intensity of the light transmitted through the polarizing plate 112 is maximized, FIG.
As shown in (B), regardless of which direction the large polarizing plate 111 faces in shape, the large polarizing plate 111
Are oriented in a predetermined direction (the direction of the transmission polarization axis of the reference polarizer 112). Therefore, after adjusting the orientation of the large polarizing plate 111 in this way, FIG.
(B), if the large polarizing plate 111 is cut along the solid line L30, the polarizing plate 11 is cut out based on the direction of the actual transmission polarization axis of the large polarizing plate 111. It is oriented in a predetermined direction such that the transmission polarization axis is always parallel or perpendicular to that side.

【0061】(偏光板貼付工程)このようにして切り出
した偏光板11では、その辺に対して透過偏光軸が常に
平行あるいは直角であるなど、所定の方向に向いている
ので、図5(A)、(B)を参照して説明したアクティ
ブマトリクス基板30(電気光学パネル1)に偏光板1
1を貼付する際には、図9に示すように、偏光板11の
辺や角をアクティブマトリクス基板30に形成されてい
る組み立て用のアライメントマーク38A、38B、3
8C、38D(図5を参照。)に位置合わせし、しかる
後に貼り合わせる。
(Polarizing Plate Attaching Step) The polarizing plate 11 cut out in this manner is oriented in a predetermined direction such that the transmission polarization axis is always parallel or perpendicular to its side. ) And (B), the polarizing plate 1 is provided on the active matrix substrate 30 (the electro-optical panel 1).
When attaching 1, as shown in FIG. 9, the sides and corners of the polarizing plate 11 are aligned with the alignment marks 38 A, 38 B, 3
8C, 38D (see FIG. 5), and then glue.

【0062】このように、組み立て用のアライメントマ
ーク38A、38B、38C、38Dを基準に偏光板1
1を貼付すると、アクティブマトリクス基板30の辺や
角などといった外形形状を基準にして偏光板11を位置
合わせする方法と比較して、偏光板11の貼付位置や向
きがアクティブマトリクス基板30の外形形状の精度に
左右されることがない。従って、アクティブマトリクス
基板30(電気光学パネル1)に対する偏光板11の位
置や向きを高い精度に合わせることができる。
As described above, the polarizing plate 1 is set based on the alignment marks 38A, 38B, 38C, 38D for assembly.
When the polarizing plate 11 is attached, the position and the orientation of the polarizing plate 11 are different from those of the method of aligning the polarizing plate 11 based on the outer shape such as the side or corner of the active matrix substrate 30. Is not affected by the accuracy of Therefore, the position and orientation of the polarizing plate 11 with respect to the active matrix substrate 30 (electro-optical panel 1) can be adjusted with high accuracy.

【0063】また、本形態では、図5(A)を参照して
説明したように、組み立て用のアライメントマーク38
B、38Cを基準にランビング方向を合わせたので、偏
光板11の透過偏光軸の向きをアクティブマトリクス基
板30へのラビング方向に合わせることができる。
Further, in the present embodiment, as described with reference to FIG.
Since the rubbing direction is adjusted with reference to B and 38C, the direction of the transmission polarization axis of the polarizing plate 11 can be adjusted to the rubbing direction to the active matrix substrate 30.

【0064】(別の偏光板貼付工程)また、図6
(A)、(B)を参照して説明したアクティブマトリク
ス基板30(電気光学パネル1)に偏光板11を貼付す
る際には、図9に示すように、偏光板11の辺や角をア
クティブマトリクス基板30に形成されている偏光板位
置合わせ用のアライメントマーク39A、39B、39
C、39D(図6参照)に位置合わせし、しかる後に貼
り合わせる。
(Another Polarizing Plate Sticking Step) FIG.
When attaching the polarizing plate 11 to the active matrix substrate 30 (electro-optical panel 1) described with reference to (A) and (B), as shown in FIG. Alignment marks 39A, 39B, 39 for positioning the polarizing plate formed on the matrix substrate 30
C, 39D (see FIG. 6), and then glue.

【0065】このように、偏光板位置合わせ用のアライ
メントマーク39A、39B、39C、39Dを基準に
偏光板11を貼付すると、アクティブマトリクス基板3
0の辺や角などといった外形形状を基準にして偏光板1
1を位置合わせする方法と比較して、偏光板11の貼付
位置や向きがアクティブマトリクス基板30の外形形状
の精度に左右されることがない。従って、アクティブマ
トリクス基板30(電気光学パネル1)に対する偏光板
11の位置や向きを高い精度に合わせることができる。
As described above, when the polarizing plate 11 is stuck on the basis of the alignment marks 39A, 39B, 39C and 39D for aligning the polarizing plate, the active matrix substrate 3
Polarizing plate 1 based on the external shape such as the side or corner of 0
Compared with the method of aligning 1, the position and the orientation of the polarizing plate 11 are not affected by the accuracy of the outer shape of the active matrix substrate 30. Therefore, the position and orientation of the polarizing plate 11 with respect to the active matrix substrate 30 (electro-optical panel 1) can be adjusted with high accuracy.

【0066】また、本形態では、図6(A)を参照して
説明したように、偏光板位置合わせ用のアライメントマ
ーク39B、39Cを基準にランビング方向を合わせた
ので、偏光板11の透過偏光軸の向きをアクティブマト
リクス基板30へのラビング方向に合わせることができ
る。
In the present embodiment, as described with reference to FIG. 6A, the lambing direction is adjusted with reference to the alignment marks 39B and 39C for aligning the polarizing plate. The direction of the axis can be matched with the rubbing direction to the active matrix substrate 30.

【0067】(さらに別の偏光板貼付工程)また、図5
(B)または図6(B)を参照して説明したアクティブ
マトリクス基板30(電気光学パネル1)に偏光板11
を貼付する際には、図9に示すように、組み立て用のア
ライメントマーク38A、38B、38C、38D(図
5参照)および偏光板位置合わせ用のアライメントマー
ク39A、39B、39C、39Dに代えて、ラビング
工程の際にラビング処理に連動して付されたラビングマ
ーク380A、380B、380C、380Dを基準に
偏光板11を貼付すると、アクティブマトリクス基板3
0の辺や角などといった外形形状を基準にして偏光板1
1を位置合わせする方法と比較して、偏光板11の貼付
位置や向きがアクティブマトリクス基板30の外形形状
の精度に左右されることがない。従って、アクティブマ
トリクス基板30(電気光学パネル1)に対する偏光板
11の位置や向きを高い精度に合わせることができる。
(Still Another Polarizing Plate Adhering Step)
(B) or the active matrix substrate 30 (electro-optical panel 1) described with reference to FIG.
As shown in FIG. 9, when affixing is performed, instead of alignment marks 38A, 38B, 38C, and 38D for assembly (see FIG. 5) and alignment marks 39A, 39B, 39C, and 39D for aligning the polarizing plate, as shown in FIG. When the polarizing plate 11 is attached based on the rubbing marks 380A, 380B, 380C, and 380D that are provided in conjunction with the rubbing process in the rubbing process, the active matrix substrate 3
Polarizing plate 1 based on the external shape such as the side or corner of 0
Compared with the method of aligning 1, the position and the orientation of the polarizing plate 11 are not affected by the accuracy of the outer shape of the active matrix substrate 30. Therefore, the position and orientation of the polarizing plate 11 with respect to the active matrix substrate 30 (electro-optical panel 1) can be adjusted with high accuracy.

【0068】また、本形態では、実際に行われたラビン
グ方向に合わせて偏光板11の向きや位置を決定するの
で、アクティブマトリクス基板30に対して実際に行っ
たラビング処理の方向に合った向きに基板同士を貼り合
わせることができる。
In this embodiment, since the direction and position of the polarizing plate 11 are determined in accordance with the rubbing direction actually performed, the orientation matching the direction of the rubbing process actually performed on the active matrix substrate 30 is performed. The substrates can be bonded together.

【0069】偏光板11の向きを電気光学パネル1に合
わせる際には、偏光板位置合わせ用のアライメントマー
ク39に代えて、ラビング工程においてアクティブマト
リクス基板30に付されたラビングマーク380A、3
80B、380C、380D(図8を参照。)に対して
偏光板11の辺や角を合わせると、ラビング方向(電気
光学物質の配向方向)に偏光板11の透過偏光軸の向き
を高い精度で合わせることができる。
When aligning the orientation of the polarizing plate 11 with the electro-optical panel 1, the rubbing marks 380 A, 380 A, 3 B
When the sides and angles of the polarizing plate 11 are aligned with 80B, 380C and 380D (see FIG. 8), the direction of the transmission polarization axis of the polarizing plate 11 in the rubbing direction (orientation direction of the electro-optical material) can be adjusted with high accuracy. Can be matched.

【0070】さらに、組立て用のアライメントマークと
偏光板貼付用のアライメントマークとを同時に同一材料
で所定の間隔で形成しておき、ラビング処理工程におい
ては、組立て用のアライメントマークと偏光板貼付用の
アライメントマークの少なくとも一方のマークを基準に
当該基板を所定の向きに合わせた後、ラビング処理を行
ってもよい。かかる構成によれば、組立て用のアライメ
ントマークと偏光板貼付用アライメントマークとは同一
材料で同時に形成されるので、両マーク間でのずれや傾
きがない。またどちらのマークを基準としてラビング処
理を施してもラビングを精度よく行うことができ、ラビ
ング方向、基板同士の貼り合わせと、基板への偏光板の
貼付を精度よく行うことができる。
Further, the alignment mark for assembling and the alignment mark for attaching the polarizing plate are simultaneously formed at a predetermined interval from the same material, and in the rubbing process, the alignment mark for assembling and the polarizing plate are attached. After aligning the substrate in a predetermined direction with reference to at least one of the alignment marks, a rubbing process may be performed. According to this configuration, since the alignment mark for assembling and the alignment mark for attaching the polarizing plate are formed simultaneously with the same material, there is no displacement or inclination between the two marks. In addition, rubbing can be performed with high accuracy even if rubbing is performed using either mark as a reference, and the rubbing direction, the bonding between the substrates, and the bonding of the polarizing plate to the substrate can be performed with high accuracy.

【0071】[0071]

【発明の効果】以上のとおり、本発明に係る電気光学装
置およびその製造方法では、偏光板の透過偏光軸を電気
光学パネル上で所定の向きに合わせるので、コントラス
ト比を向上させることができるなど、表示品位の向上を
図ることができる。
As described above, in the electro-optical device and the method of manufacturing the same according to the present invention, since the transmission polarization axis of the polarizing plate is oriented in a predetermined direction on the electro-optical panel, the contrast ratio can be improved. In addition, the display quality can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】電気光学パネルの使用例を示す投射型表示装置
(電気光学装置)の全体構成図である。
FIG. 1 is an overall configuration diagram of a projection display device (electro-optical device) showing an example of use of an electro-optical panel.

【図2】電気光学パネルを対向基板の側からみた平面図
である。
FIG. 2 is a plan view of the electro-optical panel viewed from a counter substrate side.

【図3】図2のH−H′線で切断したときの電気光学パ
ネルの断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view of the electro-optical panel taken along line HH ′ in FIG.

【図4】本発明を適用した電気光学パネルに用いたアク
ティブマトリクス基板と対向基板との貼り合わせ構造を
拡大して示す電気光学パネルの断面図である。
FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view of the electro-optical panel, illustrating a bonding structure of an active matrix substrate and a counter substrate used in the electro-optical panel to which the present invention is applied.

【図5】(A)、(B)はいずれも、本発明を適用した
電気光学装置の製造方法において、基板に対するラビン
グ工程を示す説明図である。
FIGS. 5A and 5B are explanatory views showing a rubbing step for a substrate in a method of manufacturing an electro-optical device to which the present invention is applied.

【図6】(A)、(B)はいずれも、本発明を適用した
電気光学装置の製造方法において、基板に対する別のラ
ビング工程を示す説明図である。
FIGS. 6A and 6B are explanatory views showing another rubbing step for a substrate in a method of manufacturing an electro-optical device to which the present invention is applied.

【図7】(A)〜(C)はいずれも、本発明を適用した
電気光学装置の製造方法において、大型の偏光板を分割
する偏光板分割工程で偏光板を所定の向きに配置するた
めの方法を示す説明図である。
FIGS. 7A to 7C are diagrams for explaining a method of manufacturing an electro-optical device to which the present invention is applied, in which a polarizing plate is arranged in a predetermined direction in a polarizing plate dividing step of dividing a large polarizing plate. FIG. 4 is an explanatory diagram showing the method.

【図8】(A)、(B)はいずれも、図7に示す方法で
向きを合わせた大型の偏光板を分割する様子を示す説明
図である。
8 (A) and 8 (B) are explanatory views showing how a large polarizing plate oriented in the manner shown in FIG. 7 is divided.

【図9】本発明を適用した電気光学装置の製造方法にお
いて、偏光板を電気光学パネルに貼りつける偏光板貼付
工程を示す説明図である。
FIG. 9 is an explanatory diagram showing a polarizing plate attaching step of attaching a polarizing plate to an electro-optical panel in a method of manufacturing an electro-optical device to which the present invention is applied.

【図10】(A)、(B)はいずれも、ノーマリホワイ
トモードの電気光学パネルの構成および動作を示す説明
図である。
FIGS. 10A and 10B are explanatory diagrams showing the configuration and operation of an electro-optical panel in a normally white mode.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 電気光学パネル 6 対向基板側の遮光膜 7 画面表示領域 8 画素電極 10 画素スイッチング用のTFT 11、12 偏光部材 20 対向基板 30 アクティブマトリクス基板 32 対向電極 38A、38B、38C、38D 組み立て用のアライ
メントマーク 39A、39B、39C、39D 偏光板位置合わせ用
のアライメントマーク 39 液晶(電気光学物質) 46,47 配向膜 380A、380B、380C、380D ラビングマ
ーク 2001 投射型表示装置(電気光学装置) 2011 光源ランプ(光源)
REFERENCE SIGNS LIST 1 electro-optical panel 6 light-shielding film on counter substrate side 7 screen display area 8 pixel electrode 10 TFT for pixel switching 11, 12 polarizing member 20 counter substrate 30 active matrix substrate 32 counter electrode 38 A, 38 B, 38 C, 38 D Assembly alignment Mark 39A, 39B, 39C, 39D Alignment mark for polarizing plate alignment 39 Liquid crystal (electro-optical material) 46, 47 Alignment film 380A, 380B, 380C, 380D Rubbing mark 2001 Projection display device (electro-optical device) 2011 Light source lamp (light source)

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Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 電気光学物質を挟持するための一対の基
板の表面に形成した薄膜に対して所定方向のラビング処
理を行って当該薄膜を配向膜とするラビング処理工程
と、該ラビング処理工程を行った前記一対の基板を前記
配向膜同士が所定の隙間を介して対向するように貼り合
わせる基板貼り合わせ工程と、該基板貼り合わせ工程で
貼り合わせた一対の基板間に電気光学物質を充填する充
填工程とを有する電気光学装置の製造方法において、 前記ラビング工程では、予め基板に付しておいたマーク
を基準に当該基板を所定の向きに合わせた後、ラビング
処理を行うことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
A rubbing process in which a thin film formed on the surface of a pair of substrates for sandwiching an electro-optical material is rubbed in a predetermined direction to make the thin film an alignment film; A substrate bonding step of bonding the pair of substrates so that the alignment films face each other with a predetermined gap therebetween, and filling an electro-optical material between the pair of substrates bonded in the substrate bonding step. A method of manufacturing an electro-optical device having a filling step, wherein in the rubbing step, the substrate is aligned in a predetermined direction based on a mark previously attached to the substrate, and then a rubbing process is performed. A method for manufacturing an electro-optical device.
【請求項2】 請求項1において、前記基板貼り合わせ
工程では、前記マークを基準に前記一対の基板を所定の
向きに合わせた後、前記一対の基板を貼り合わせること
を特徴とする電気光学装置の製造方法。
2. The electro-optical device according to claim 1, wherein in the substrate bonding step, the pair of substrates is bonded in a predetermined direction based on the mark, and then the pair of substrates is bonded. Manufacturing method.
【請求項3】 請求項1又は2において、さらに前記一
対の基板の少なくとも一方の基板表面に偏光板を貼付す
る工程を有し、前記偏光板を貼付する工程では、前記マ
ークを基準に前記一対の基板を所定の向きに合わせた
後、前記基板に前記偏光板を貼り合わせることを特徴と
する電気光学装置の製造方法。
3. The method according to claim 1, further comprising the step of attaching a polarizing plate to at least one substrate surface of the pair of substrates, wherein the attaching the polarizing plate is performed based on the mark. A method of manufacturing an electro-optical device, comprising: aligning the substrate in a predetermined direction; and bonding the polarizing plate to the substrate.
【請求項4】 電気光学物質を挟持するための一対の基
板の表面に形成した薄膜に対して所定方向のラビング処
理を行って当該薄膜を配向膜とするラビング処理工程
と、該ラビング処理工程を行った前記一対の基板を前記
配向膜同士が所定の隙間を介して対向するように貼り合
わせる基板貼り合わせ工程を有し、該基板貼り合わせ工
程で貼り合わせた一対の基板間に電気光学物質を充填す
る充填工程とを有する電気光学装置の製造方法におい
て、 前記基板に組立て用の第1マークと偏光板貼付用の第2
マークとを同時に同一材料で所定の間隔で形成する工程
と、前記ラビング処理工程においては、前記第1と第2
マークの少なくとも一方のマークを基準に当該基板を所
定の向きに合わせた後、ラビング処理を行うことを特徴
とする電気光学装置の製造方法。
4. A rubbing process in which a rubbing process in a predetermined direction is performed on a thin film formed on a surface of a pair of substrates for sandwiching an electro-optical material to make the thin film an alignment film; A substrate bonding step of bonding the pair of substrates so that the alignment films face each other with a predetermined gap therebetween, wherein the electro-optical material is applied between the pair of substrates bonded in the substrate bonding step. A method for manufacturing an electro-optical device having a filling step of filling a first mark for assembling on the substrate and a second mark for attaching a polarizing plate to the substrate.
In the step of simultaneously forming marks with the same material at predetermined intervals, and in the rubbing step, the first and second marks are formed.
A method for manufacturing an electro-optical device, comprising: performing a rubbing process after aligning a substrate in a predetermined direction with reference to at least one of the marks.
【請求項5】 電気光学物質を挟持するための一対の基
板の表面に形成した薄膜に対して所定方向のラビング処
理を行って当該薄膜を配向膜とするラビング処理工程
と、該ラビング処理工程を行った前記一対の基板を前記
配向膜同士が所定の隙間を介して対向するように貼り合
わせる基板貼り合わせ工程と、該基板貼り合わせ工程で
貼り合わせた一対の基板間に電気光学物質を充填する充
填工程とを有する電気光学装置の製造方法において、 前記ラビング工程では、ラビング処理行った方向を示す
ラビングマークを該ラビング処理動作に連動して該基板
に付すことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
5. A rubbing process in which a rubbing process in a predetermined direction is performed on a thin film formed on a surface of a pair of substrates for sandwiching an electro-optical material to make the thin film an alignment film; A substrate bonding step of bonding the pair of substrates so that the alignment films face each other with a predetermined gap therebetween, and filling an electro-optical material between the pair of substrates bonded in the substrate bonding step. A method of manufacturing an electro-optical device, comprising: filling a rubbing mark indicating a rubbing direction on the substrate in conjunction with the rubbing operation in the rubbing step. Method.
【請求項6】 請求項5において、前記ラビングマーク
によってラビング処理が正常に行われた否かを検査する
ことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
6. The method for manufacturing an electro-optical device according to claim 5, wherein an inspection is performed as to whether or not rubbing processing has been normally performed using the rubbing mark.
【請求項7】 請求項5または6において、前記基板張
り合わせ工程においては、前記ラビングマークを基準に
前記一対の基板を対向するように貼り合わせることを特
徴とする電気光学装置の製造方法。
7. The method for manufacturing an electro-optical device according to claim 5, wherein in the substrate bonding step, the pair of substrates are bonded to each other with the rubbing mark as a reference.
【請求項8】 請求項5乃至7のいずれか一項におい
て、前記一対の基板の少なくとも一方の基板に対して偏
光板を貼り合わせる工程をさらに有し、前記偏光板を貼
り合わせる工程においては、前記ラビングマークを基準
に前記一対の基板のうちの少なくとも一方の基板に対し
て偏光板を位置合わせした後、当該基板と偏光板とを貼
り合わせることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
8. The method according to claim 5, further comprising: attaching a polarizing plate to at least one of the pair of substrates, wherein the attaching the polarizing plate includes: A method of manufacturing an electro-optical device, comprising: after positioning a polarizing plate with respect to at least one of the pair of substrates based on the rubbing mark, bonding the substrate and the polarizing plate.
【請求項9】 請求項1ないし8のいずれかにおいて、
装置光軸上には、光源と、該光源から出射された光を前
記電気光学パネルに導く集光光学系と、当該電気光学パ
ネルで光変調した光を拡大投射する拡大投射光学系とを
配置することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
9. The method according to claim 1, wherein
A light source, a condensing optical system for guiding light emitted from the light source to the electro-optical panel, and an enlarged projection optical system for enlarging and projecting light modulated by the electro-optical panel are arranged on the optical axis of the device. A method for manufacturing an electro-optical device.
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004219932A (en) * 2003-01-17 2004-08-05 Seiko Epson Corp Electro-optic device, method of manufacturing electro-optic device and electronic equipment
JP2008287059A (en) * 2007-05-18 2008-11-27 Nec Lcd Technologies Ltd Liquid crystal display device and method for manufacturing the same
US7719637B2 (en) 2005-06-27 2010-05-18 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal display device and manufacturing method thereof
JP2010271691A (en) * 2009-04-22 2010-12-02 Toshiba Mobile Display Co Ltd Liquid crystal display device
CN102393568A (en) * 2011-12-13 2012-03-28 昆山龙腾光电有限公司 Contraposition system used in stereo display device and contraposition method thereof
CN107589570A (en) * 2017-09-25 2018-01-16 京东方科技集团股份有限公司 A kind of diaphragm and its alignment method, display module
WO2019223584A1 (en) * 2018-05-24 2019-11-28 京东方科技集团股份有限公司 Positioning jig

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004219932A (en) * 2003-01-17 2004-08-05 Seiko Epson Corp Electro-optic device, method of manufacturing electro-optic device and electronic equipment
US7719637B2 (en) 2005-06-27 2010-05-18 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal display device and manufacturing method thereof
KR101183374B1 (en) * 2005-06-27 2012-09-21 엘지디스플레이 주식회사 Liquid crystal display device and method of lcd thereof
US8436966B2 (en) 2005-06-27 2013-05-07 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal display device and manufacturing method thereof
JP2008287059A (en) * 2007-05-18 2008-11-27 Nec Lcd Technologies Ltd Liquid crystal display device and method for manufacturing the same
JP2010271691A (en) * 2009-04-22 2010-12-02 Toshiba Mobile Display Co Ltd Liquid crystal display device
CN102393568A (en) * 2011-12-13 2012-03-28 昆山龙腾光电有限公司 Contraposition system used in stereo display device and contraposition method thereof
CN107589570A (en) * 2017-09-25 2018-01-16 京东方科技集团股份有限公司 A kind of diaphragm and its alignment method, display module
WO2019223584A1 (en) * 2018-05-24 2019-11-28 京东方科技集团股份有限公司 Positioning jig

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