JP2000215832A - Display device - Google Patents

Display device

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JP2000215832A
JP2000215832A JP11013302A JP1330299A JP2000215832A JP 2000215832 A JP2000215832 A JP 2000215832A JP 11013302 A JP11013302 A JP 11013302A JP 1330299 A JP1330299 A JP 1330299A JP 2000215832 A JP2000215832 A JP 2000215832A
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JP
Japan
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substrate
field emission
phosphor
electrode line
display device
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP11013302A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tadashi Nakatani
忠司 中谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
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Publication of JP2000215832A publication Critical patent/JP2000215832A/en
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  • Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
  • Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
  • Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent field emission cathodes from adsorbing gas molecules and to prolong the life by providing phosphors luminescing when receiving irradiation of electrons emitted from the field emission cathodes and a vacuum maintaining getter, and arranging the phosphors and the getter face to face at the prescribed interval. SOLUTION: Electrons emitted from field emission cathodes 3 move toward a second substrate 2. When a proper potential is applied to a getter film 6, the electrons move toward a first substrate 1 with their orbits bent. The electrons are accelerated and enter phosphor films 4 to excite phosphors to luminesce. When the electrons enter the phosphor films 4, gas molecules of hydrogen and H2O are emitted from the phosphors. The gas molecules enter the getter film 6 of the second substrate 2 and are adsorbed without being floated in the vacuum space between the first substrate 1 and the second substrate 2. The emission current of the electrons from the field emission cathodes 3 is not reduced, and a stable display with no luminance deterioration can be obtained.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、電界放出陰極を
利用した表示装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a display device using a field emission cathode.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、微小な電界放出陰極を利用した薄
型表示装置として、FED(Field Emission Display)
の研究開発が活発化している。図10に従来のFEDの
構成図を示す。微小な電界放出陰極は、円錐型の尖った
エミッタティップ101、電子引き出し用のゲート電極
ライン(ゲート給電線)103、エミッタティップに負
の電圧をかけるエミッタ電極ライン(エミッタ給電線)
102、及びゲート電極ラインとエミッタ電極ラインを
隔てる絶縁層104とを、図のようにガラス基板105
上に配置して構成される(ガラス基板を含む基板全体
を、陰極板109と呼ぶ)。一方、陽極板107は、陰
極板109と対向する表面に、平行直線状にR,G,B
の蛍光体膜108が形成される。
2. Description of the Related Art In recent years, as a thin display device using a minute field emission cathode, an FED (Field Emission Display) has been developed.
R & D is active. FIG. 10 shows a configuration diagram of a conventional FED. The minute field emission cathode includes a sharp conical emitter tip 101, a gate electrode line (gate feed line) 103 for extracting electrons, and an emitter electrode line (emitter feed line) for applying a negative voltage to the emitter tip.
102 and an insulating layer 104 separating the gate electrode line and the emitter electrode line from each other as shown in FIG.
The entire substrate including the glass substrate is referred to as a cathode plate 109. On the other hand, the anode plate 107 has R, G, B
Phosphor film 108 is formed.

【0003】エミッタ電極ライン102とゲート電極ラ
イン103とは交差するように配置され、エミッタ電極
ライン上の交差部分に数百から数千個のエミッタティッ
プが形成される。そして、この数百個からなるエミッタ
ティップによって、一つの表示体(例えば画素)106
が構成される。
The emitter electrode line 102 and the gate electrode line 103 are arranged so as to intersect with each other, and hundreds to thousands of emitter tips are formed at intersections on the emitter electrode line. The display tip (for example, pixel) 106 is formed by the emitter tips of several hundreds.
Is configured.

【0004】電界放出陰極を形成した陰極板109と蛍
光体層108を形成した陽極板107は、一定の間隙を
保って向い合せられ、内部を真空にして封止され、これ
によって真空容器が構成される。エミッタ電極ラインと
ゲート電極ラインからなるマトリックス配線に電圧を印
加して電界放出陰極から電子を引出し、陰極板109と
陽極板107の間に印加した電圧で、電子を加速して蛍
光体層108に照射し、蛍光体を励起発光させる。この
励起発光が起こるとき、蛍光体108から酸素などのガ
ス分子が放出される。
[0004] A cathode plate 109 on which a field emission cathode is formed and an anode plate 107 on which a phosphor layer 108 is formed are opposed to each other with a certain gap therebetween, and the inside thereof is sealed with a vacuum, thereby forming a vacuum container. Is done. A voltage is applied to a matrix wiring composed of an emitter electrode line and a gate electrode line to extract electrons from the field emission cathode, and the voltage applied between the cathode plate 109 and the anode plate 107 accelerates the electrons to form a phosphor layer 108. Irradiate to excite the phosphor to emit light. When this excitation light emission occurs, gas molecules such as oxygen are emitted from the phosphor 108.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】真空中での電子線照射
は、一般に試料の脱ガスの手段としてよく用いられてい
る。従来のFEDにおいては、電子が蛍光体に入射する
ことによって蛍光体から放出されるガス分子は陰極板1
09と陽極板107の間のわずかな隙間を通って、表示
領域の周囲に設けられたゲッターに吸着されていた。電
界放出陰極から放出された電子線は広がりながら進むた
め、高精細な表示装置とするためには陰極板109と陽
極板107の間隙は大きくとることができず、通常その
間隔は0.2〜2mm程度に制限される。
Electron beam irradiation in a vacuum is generally used as a means for degassing a sample. In the conventional FED, gas molecules emitted from the phosphor when electrons enter the phosphor are formed on the cathode plate 1.
Through a slight gap between the anode electrode 107 and the anode plate 107, it was adsorbed by the getter provided around the display area. Since the electron beam emitted from the field emission cathode spreads and spreads, the gap between the cathode plate 109 and the anode plate 107 cannot be made large in order to obtain a high-definition display device. It is limited to about 2 mm.

【0006】一方、電子放出させる前のパネル内は10
-7Torr程度の真空に封止されているので、パネル内
のガス分子の平均自由工程は500m程度である。これ
は両基板間の間隙よりはるかに大きい。したがって、蛍
光体108から放出されたガス分子は互いに衝突するこ
となく直進して、対向する陰極板109に到達し、吸着
する。陰極板109に吸着したガス分子はイオンの衝撃
などにより再びパネル内に放出され、直進して陽極板1
07に到達する。このような挙動を繰り返しながらゲッ
ターに到達した分子だけがゲッターに吸着される。つま
り、蛍光体108から放出されたガス分子は、ゲッター
に吸着される前に必ず陰極板109に吸着する。このう
ちいくつかのガス分子は電界放出陰極に吸着する。
On the other hand, the inside of the panel before emitting electrons is 10
Since it is sealed in a vacuum of about -7 Torr, the mean free path of gas molecules in the panel is about 500 m. This is much larger than the gap between the two substrates. Therefore, the gas molecules emitted from the phosphor 108 travel straight without colliding with each other, reach the opposing cathode plate 109, and are adsorbed. The gas molecules adsorbed on the cathode plate 109 are released again into the panel by ion bombardment and the like, and go straight to the anode plate 1.
07 is reached. While repeating such a behavior, only the molecules that have reached the getter are adsorbed on the getter. That is, the gas molecules released from the phosphor 108 always adsorb to the cathode plate 109 before being adsorbed to the getter. Some of these gas molecules adsorb to the field emission cathode.

【0007】一般に電界放出陰極は、その表面にガス分
子が吸着すると仕事関数が増加して放出電流が低下する
ことが知られている。電界放出陰極を表示装置に応用し
た場合、放出電流が低下すると輝度が低下する。図10
に示す従来のFEDの構造では、電界放出陰極へのガス
分子の吸着が避けられず、そのため真空容器内の真空を
維持して表示装置の信頼性を確保することが非常に困難
であった。この発明は、以上のような事情を考慮してな
されたものであり、電界放出陰極にガス分子が吸着しな
い、長寿命の表示装置を提供することを課題とする。
In general, it is known that, when gas molecules are adsorbed on the surface of a field emission cathode, the work function increases and the emission current decreases. When the field emission cathode is applied to a display device, the brightness decreases as the emission current decreases. FIG.
In the structure of the conventional FED shown in (1), it is inevitable that gas molecules are adsorbed to the field emission cathode, and therefore, it is very difficult to maintain the vacuum in the vacuum vessel and secure the reliability of the display device. The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to provide a long-life display device in which gas molecules are not adsorbed to a field emission cathode.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】この発明は、真空容器の
内部に電界の印加により電子を放出する電界放出陰極
と、電界放出陰極から放出された電子の照射を受けて発
光する蛍光体と、真空維持のゲッターとを備えてなり、
前記蛍光体と前記ゲッターとが、所定の間隔を保持して
対向するように形成されていることを特徴とする表示装
置を提供するものである。ここで、前記電界放出陰極と
前記蛍光体とが第1基板の同一表面上に形成され、前記
ゲッターが第2基板上に形成され、蛍光体が形成された
第1基板の表面とゲッターが形成された第2基板の表面
とが互いに対向するようにしてもよい。この発明によれ
ば、蛍光体から放出されたガス分子はゲッターに吸着さ
れ、電界放出陰極に付着することはないので、高輝度,
高寿命の表示装置を提供することができる。
According to the present invention, there is provided a field emission cathode which emits electrons by applying an electric field into a vacuum vessel, a phosphor which emits light upon irradiation of electrons emitted from the field emission cathode, With getter for maintaining vacuum,
It is an object of the present invention to provide a display device, wherein the phosphor and the getter are formed so as to face each other while maintaining a predetermined interval. Here, the field emission cathode and the phosphor are formed on the same surface of a first substrate, the getter is formed on a second substrate, and the surface of the first substrate on which the phosphor is formed and the getter are formed. The surfaces of the second substrate may be opposed to each other. According to the present invention, the gas molecules emitted from the phosphor are adsorbed by the getter and do not adhere to the field emission cathode, so that high brightness,
A long-life display device can be provided.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】この発明の電界放出陰極は、主と
して、円錐型のエミッタティップ,エミッタテップに負
電圧を供給するエミッタ電極ライン、及び電子を加速す
るためのゲート電極ラインから構成される。エミッタ電
極ラインとゲート電極ラインとはマトリクス状に形成さ
れ、両ラインが交差する領域が画素であり、この画素領
域に、多数のエミッタティップが配置される。真空維持
用のゲッターは、蛍光体等から放出されるガス分子を吸
着する材料で形成され、蒸発型あるいは非蒸発型のもの
が用いられるが、たとえば蒸発型のゲッターとしては、
バリウム膜が用いられる。また、ゲッターには、電界放
出陰極から放出された電子を反発するために、所定の負
電位を印加してもよい。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A field emission cathode according to the present invention mainly comprises a conical emitter tip, an emitter electrode line for supplying a negative voltage to the emitter tip, and a gate electrode line for accelerating electrons. The emitter electrode line and the gate electrode line are formed in a matrix, and a region where both lines intersect is a pixel, and a large number of emitter tips are arranged in this pixel region. The getter for maintaining the vacuum is formed of a material that adsorbs gas molecules emitted from a phosphor or the like, and an evaporable or non-evaporable getter is used.
A barium film is used. Further, a predetermined negative potential may be applied to the getter in order to repel electrons emitted from the field emission cathode.

【0010】さらに、電界放出陰極と蛍光体との間に所
定の溝部又は突起部を形成してもよい。このとき溝部又
は突起部は電界放出陰極と蛍光体間の沿面距離を長くす
ることのできる大きさ,形状であればよく、その大き
さ,形状は特に問わない。また、この発明において、前
記第1基板上に、前記電界放出陰極に負電圧を印加する
エミッタ電極ラインと、エミッタ電極ラインと交差しか
つくし形形状にパターニングされたゲート電極ラインと
が形成され、前記ゲート電極ラインのくし形形状のくし
歯部分が、ゲート電極ラインとエミッタ電極ラインとの
交差領域であって電界放出陰極を含む領域に形成され、
かつ前記蛍光体が第1基板上のエミッタ電極ライン及び
ゲート電極ラインとは異なる位置に形成されるようにし
てもよい。ここで、同色の蛍光体は、くし形形状のくし
歯部分の両側に配置してもよく、あるいは、くし歯部分
を取り囲むように配置してもよい。
Further, a predetermined groove or projection may be formed between the field emission cathode and the phosphor. At this time, the groove or the protrusion may have any size and shape that can increase the creeping distance between the field emission cathode and the phosphor, and the size and shape are not particularly limited. Further, in the present invention, an emitter electrode line for applying a negative voltage to the field emission cathode, and a gate electrode line patterned in a cross-shape with the emitter electrode line are formed on the first substrate, A comb-shaped comb portion of the gate electrode line is formed in a region including the field emission cathode, which is an intersection region between the gate electrode line and the emitter electrode line,
Further, the phosphor may be formed on the first substrate at a position different from the emitter electrode line and the gate electrode line. Here, the phosphors of the same color may be arranged on both sides of the comb-shaped comb portion, or may be arranged so as to surround the comb-shaped portion.

【0011】また、この発明において、前記蛍光体が第
1基板上に形成され、前記ゲッターが第2基板上に形成
され、前記電界放出陰極が第3基板上に形成され、前記
第3基板が真空容器を構成する前記第1基板と第2基板
との間であって、かつ第1基板及び第2基板に対して所
定の間隔が保持されるように配置され、前記蛍光体及び
電界放出陰極とが前記ゲッターと対向するようにそれぞ
れ第3基板及び第1基板の表面に形成されるようにして
もよい。ここで、前記第3基板が、スペーサによって第
1基板及び第2基板に対して所定の間隔が保持され、前
記スペーサが画素領域を区画するよう形成された格子形
状または平行直線形状であるように構成してもよい。
In the present invention, the phosphor is formed on a first substrate, the getter is formed on a second substrate, the field emission cathode is formed on a third substrate, and the third substrate is formed on the third substrate. The phosphor and the field emission cathode are arranged between the first substrate and the second substrate constituting a vacuum vessel and so as to be kept at a predetermined distance from the first substrate and the second substrate. May be formed on the surfaces of the third substrate and the first substrate, respectively, so as to face the getter. Here, the third substrate is maintained at a predetermined distance from the first substrate and the second substrate by a spacer, and the spacer has a lattice shape or a parallel linear shape formed so as to divide a pixel region. You may comprise.

【0012】さらに、前記第3基板上に、前記電界放出
陰極に負電圧を印加するエミッタ電極ラインと、エミッ
タ電極ラインと交差しかつくし形形状にパターニングさ
れたゲート電極ラインとが形成され、前記ゲート電極ラ
インのくし形形状のくし歯部分が、ゲート電極ラインと
エミッタ電極ラインとの交差領域であって電界放出陰極
を含む領域に形成され、前記くし歯部分とは異なる位置
に第3基板の上下方向を貫く貫通孔が形成され、前記蛍
光体が前記第1基板上であって前記貫通孔と対向する位
置に形成されるようにしてもよい。ここで、前記ゲッタ
ーが、さらに前記第3基板上であって電界放出陰極が形
成されていない表面に形成されるようにしてもよい。
Further, on the third substrate, an emitter electrode line for applying a negative voltage to the field emission cathode, and a gate electrode line which is crossed with the emitter electrode line and is patterned in a shape of a cross are formed. A comb-shaped comb-shaped portion of the electrode line is formed in a region where the gate electrode line and the emitter electrode line intersect with each other and includes a field emission cathode. A through hole penetrating the direction may be formed, and the phosphor may be formed on the first substrate at a position facing the through hole. Here, the getter may be further formed on a surface of the third substrate on which the field emission cathode is not formed.

【0013】また、この発明は、前記蛍光体が第1基板
上に形成され、前記ゲッターが前記第1基板と対向する
第2基板上に形成され、前記電界放出陰極が前記蛍光体
とゲッターとが対向する領域とは異なる位置に配置され
た第3基板上であって、前記蛍光体とゲッターとで形成
される空間内に電子を放出するように形成されることを
特徴とする表示装置を提供するものである。
[0013] Further, according to the present invention, the phosphor is formed on a first substrate, the getter is formed on a second substrate facing the first substrate, and the field emission cathode is formed of the phosphor and the getter. Is formed on a third substrate disposed at a position different from the facing region, and is configured to emit electrons into a space formed by the phosphor and the getter. To provide.

【0014】以下、図面に示す実施の形態に基づいてこ
の発明を詳述する。なお、これによってこの発明が限定
されるものではない。図1に、この発明の電界放出陰極
を用いた表示装置の一実施例の断面図を示す。図1にお
いて、この発明の表示装置は、主として2枚の基板1,
2とから構成される。ガラス等の透明な材料でできた第
1基板1には、電界放出陰極3と、正電圧を印加する透
明導電膜5と蛍光体膜4とが形成されている。電界放出
陰極3は従来と同様に、エミッタ電極ラインとゲート電
極ラインの交差領域にエミッタティップを配置したマト
リックス素子になっている。対向する第2基板2には、
薄板状のゲッター膜6が一面に形成されている。
Hereinafter, the present invention will be described in detail based on an embodiment shown in the drawings. Note that the present invention is not limited to this. FIG. 1 is a sectional view showing one embodiment of a display device using the field emission cathode of the present invention. In FIG. 1, a display device of the present invention mainly includes two substrates 1 and 2.
And 2. On a first substrate 1 made of a transparent material such as glass, a field emission cathode 3, a transparent conductive film 5 for applying a positive voltage, and a phosphor film 4 are formed. The field emission cathode 3 is a matrix element in which an emitter tip is arranged in an intersection region between an emitter electrode line and a gate electrode line, as in the related art. The opposing second substrate 2 includes
A thin getter film 6 is formed on one surface.

【0015】エミッタ電極ラインとゲート電極ラインに
従来と同様にそれぞれ適当な電位を与えると、電界放出
陰極3から電子が放出され、電子は第2基板2に向かっ
て進む。たとえば、エミッタ電極ラインに−40V,ゲ
ート電極ラインに+40Vの電圧をかける。
When an appropriate potential is applied to the emitter electrode line and the gate electrode line, respectively, as in the prior art, electrons are emitted from the field emission cathode 3 and the electrons travel toward the second substrate 2. For example, a voltage of −40 V is applied to the emitter electrode line and a voltage of +40 V is applied to the gate electrode line.

【0016】また、ゲッター膜6に適当な電位(たとえ
ば−40V)を与えておくと、ゲッター膜6の手前で電
子は反発され、軌道を曲げて今度は第1基板1に向かっ
て進む(図1の符号7で示す軌道)。蛍光体膜4の下の
透明導電膜5には電界放出陰極3に対して正電位(+2
00V)を与える。これにより電子は加速されて蛍光体
膜4に入射し、蛍光体を励起発光させる。利用者は、蛍
光体により励起された光を、図1のように第1基板の下
方から見ることになる。
When an appropriate potential (for example, -40 V) is applied to the getter film 6, the electrons are repelled before the getter film 6, and the orbit is bent and proceeds toward the first substrate 1 (see FIG. 1). 1 orbit 7). The transparent conductive film 5 below the phosphor film 4 has a positive potential (+2
00V). Thereby, the electrons are accelerated and enter the phosphor film 4 to excite the phosphor to emit light. The user sees the light excited by the phosphor from below the first substrate as shown in FIG.

【0017】図1において、電子が蛍光体膜4に入射す
ると、蛍光体から酸素やH2O等のガス分子が放出され
る。このガス分子は、図1の上方に直進して第2基板2
のゲッター膜6に入射して吸着される。したがって、ガ
ス分子は第1基板と第2基板の間の真空空間に浮遊する
こともなく、電界放出陰極3へ付着することもないの
で、電界放出陰極3からの電子の放出電流は低下せず輝
度劣化することのない安定した表示が得られる。すなわ
ち高輝度,長寿命の表示装置を提供できる。
In FIG. 1, when electrons enter the phosphor film 4, gas molecules such as oxygen and H 2 O are emitted from the phosphor. The gas molecules travel straight upward in FIG.
And is absorbed by the getter film 6. Therefore, since the gas molecules do not float in the vacuum space between the first substrate and the second substrate and do not adhere to the field emission cathode 3, the emission current of electrons from the field emission cathode 3 does not decrease. A stable display without luminance degradation can be obtained. That is, a display device with high luminance and long life can be provided.

【0018】さらに表示装置の絶縁耐圧特性の改善のた
めに、次に示すような溝や突起を第1基板表面に設けて
もよい。図2に、第1基板1上で、蛍光体膜4と電界放
出陰極3との間に溝11を設けた表示装置の実施例の断
面図を示す。溝11の左右方向の幅は10μm,深さは
100μm程度とすればよい。また、図3に、第1基板
1上で、蛍光体膜4と電界放出陰極3との間に突起12
を設けた表示装置の実施例の断面図を示す。突起12の
幅は10μm,高さは100μm程度とすればよい。図
2の溝及び図3の突起は、サンドブラスト法で基板を加
工することにより形成できる。
Further, in order to improve the withstand voltage characteristics of the display device, the following grooves and projections may be provided on the surface of the first substrate. FIG. 2 shows a sectional view of an embodiment of a display device in which a groove 11 is provided between the phosphor film 4 and the field emission cathode 3 on the first substrate 1. The width of the groove 11 in the left-right direction may be about 10 μm, and the depth may be about 100 μm. FIG. 3 shows a projection 12 between the phosphor film 4 and the field emission cathode 3 on the first substrate 1.
1 shows a cross-sectional view of an embodiment of a display device provided with. The width of the protrusion 12 may be about 10 μm, and the height may be about 100 μm. The grooves in FIG. 2 and the protrusions in FIG. 3 can be formed by processing the substrate by a sandblast method.

【0019】このように電界放出陰極3と蛍光体膜4の
間に図2のような溝11、あるいは図3のような突起1
2を設けると、電界放出陰極3と蛍光体膜4との間の沿
面距離が長くなるので、溝や突起を設けないときに比べ
て絶縁耐圧が約5倍に向上する。したがって蛍光体に1
kV以上という高電圧を印加できるようになる。印加電
圧を高くするほど蛍光体の発光効率は向上し、また蛍光
体膜にメタルバック処理が使用可能になるので、輝度が
高くなり、明るい表示装置が得られる。
Thus, the groove 11 as shown in FIG. 2 or the protrusion 1 as shown in FIG. 3 is provided between the field emission cathode 3 and the phosphor film 4.
When 2 is provided, the creepage distance between the field emission cathode 3 and the phosphor film 4 is increased, so that the withstand voltage is improved about 5 times as compared with the case where no groove or projection is provided. Therefore, 1
A high voltage of kV or more can be applied. As the applied voltage is increased, the luminous efficiency of the phosphor is improved, and the metal film can be used for the phosphor film, so that the luminance is increased and a bright display device can be obtained.

【0020】図4に、図1に示したこの発明の表示装置
の第1基板を上から見た平面図を示す。エミッタ電極ラ
イン21は図4の上下方向に、ゲート電極ライン22は
左右方向に伸びている。ゲート電極ライン22はくし形
にパターニングされており、くし歯部分23に電界放出
陰極3が形成される。
FIG. 4 is a plan view of the first substrate of the display device of the present invention shown in FIG. 1 as viewed from above. The emitter electrode line 21 extends in the vertical direction in FIG. 4, and the gate electrode line 22 extends in the horizontal direction. The gate electrode lines 22 are patterned in a comb shape, and the field emission cathodes 3 are formed in the comb teeth 23.

【0021】カラー表示装置の場合、電界放出陰極3の
左右両側に同じ色の蛍光体膜4が形成される。図中のB
は青色の蛍光体膜が形成される領域を示し、さらにRは
赤色,Gは緑色の蛍光体膜が形成される領域を示してい
る。電界放出陰極3から出た電子は図1の符号7で示す
ような軌道をえがいて、左右の蛍光体膜4に入射する。
また、蛍光体膜4は、図5に示すように、電界放出陰極
3が形成されているくし歯部分23を取り囲むように形
成してもよい。
In the case of a color display device, phosphor films 4 of the same color are formed on both left and right sides of the field emission cathode 3. B in the figure
Indicates a region where a blue phosphor film is formed, R indicates a region where a red phosphor film is formed, and G indicates a region where a green phosphor film is formed. The electrons emitted from the field emission cathode 3 take a trajectory indicated by reference numeral 7 in FIG. 1 and enter the left and right phosphor films 4.
In addition, as shown in FIG. 5, the phosphor film 4 may be formed so as to surround the comb teeth 23 on which the field emission cathodes 3 are formed.

【0022】図5の符号41,42はそれぞれ色の異な
る蛍光体膜を示している。図5に示した各部分の長さは
たとえば次のような数値で構成できる。a1=300μ
m,a2=220μm,a3=50μm,a4=10μ
m,a5=10μm,a6=100μm,a7=30μ
m,a8=30μm,a9=190μmである。1つの
色の蛍光体膜41は、縦300μm,横100μmの領
域を形成している。このような赤色Rと青色Bと緑色G
の3つの蛍光体膜が一組となり、一つの画素を形成す
る。したがって、この場合1画素は、300μm×30
0μmの領域を占めることになる。
Reference numerals 41 and 42 in FIG. 5 indicate phosphor films of different colors. The length of each part shown in FIG. 5 can be constituted by the following numerical values, for example. a1 = 300μ
m, a2 = 220 μm, a3 = 50 μm, a4 = 10 μ
m, a5 = 10 μm, a6 = 100 μm, a7 = 30 μ
m, a8 = 30 μm and a9 = 190 μm. The phosphor film 41 of one color forms an area of 300 μm in length and 100 μm in width. Such red R, blue B and green G
Are combined into one set to form one pixel. Therefore, in this case, one pixel is 300 μm × 30
It occupies an area of 0 μm.

【0023】さらに、図4に示すように、第1基板1と
第2基板2とにかかる大気圧を支えるために、スペーサ
24を平行直線形状に形成する。また、隣接する画素へ
の電子の流れ込みを防止するため、スペーサ24は縦横
に延びた格子形状としてもよい。従来の表示装置のパネ
ル構造では、排気コンダクタンスを確保するために、柱
状形状のスペーサが使用されていたが、この発明による
構成では排気コンダクタンスは十分に確保できるので、
平行直線形状や格子形状のスペーサを利用できる。すな
わち柱状形状に比べアスペクト比の高いスペーサの形成
が容易である。また格子形状のスペーサを形成する場合
に、第1基板と第2基板にそれぞれ平行直線形状のスペ
ーサを互いに直交する方向に形成してそれらを張合わせ
てもよい。
Further, as shown in FIG. 4, in order to support the atmospheric pressure applied to the first substrate 1 and the second substrate 2, the spacer 24 is formed in a parallel linear shape. Further, in order to prevent electrons from flowing into adjacent pixels, the spacers 24 may have a lattice shape extending vertically and horizontally. In the panel structure of the conventional display device, a columnar spacer was used in order to secure the exhaust conductance. However, in the configuration according to the present invention, the exhaust conductance can be sufficiently secured.
Parallel linear or lattice shaped spacers can be used. That is, it is easier to form a spacer having a higher aspect ratio than a columnar shape. In the case of forming lattice-shaped spacers, parallel-linear spacers may be formed on the first substrate and the second substrate, respectively, in directions orthogonal to each other, and then bonded together.

【0024】図6に、3枚基板構成のこの発明の表示装
置の実施例の断面図を示す。ここで、蛍光体膜4は第1
基板31に、電界放出陰極3は中間基板33に、ゲッタ
ー膜6は第2基板32にそれぞれ形成する。また、中間
基板33には電子の通路となる貫通孔34を設ける。貫
通孔34は、電界放出陰極3の両側に設け、第1基板3
1上に形成される蛍光体膜4は、この貫通孔34のちょ
うど真下になるように配置する。また、貫通孔34は図
4に示す蛍光体膜4の位置に、これと同程度の面積とな
るように設ければよい。したがって、図6の表示装置に
おいては、その平面図は、ほぼ図4と同じである。
FIG. 6 is a sectional view of an embodiment of the display device of the present invention having a three-substrate configuration. Here, the phosphor film 4 is the first
The field emission cathode 3 is formed on the intermediate substrate 33, and the getter film 6 is formed on the second substrate 32, respectively. Further, the intermediate substrate 33 is provided with a through hole 34 serving as an electron passage. The through holes 34 are provided on both sides of the field emission cathode 3, and the first substrate 3
The phosphor film 4 formed on 1 is arranged just below the through hole 34. Further, the through-hole 34 may be provided at the position of the phosphor film 4 shown in FIG. Therefore, the plan view of the display device of FIG. 6 is substantially the same as that of FIG.

【0025】また、中間基板33には、図4で説明した
のと同様に、エミッタ電極ライン及びゲート電極ライン
が設けられ、それぞれ適当な負電極及び正電位が印加さ
れる。また、ゲッター膜6にも、同様に、適当な負電位
を印加する。電界放出陰極3から放出された電子はゲッ
ター膜6の電位で反発され、貫通孔34を通って蛍光体
膜4に入射する。
The intermediate substrate 33 is provided with an emitter electrode line and a gate electrode line in the same manner as described with reference to FIG. 4, and appropriate negative electrodes and positive potentials are respectively applied. Similarly, an appropriate negative potential is applied to the getter film 6. Electrons emitted from the field emission cathode 3 are repelled by the potential of the getter film 6 and enter the phosphor film 4 through the through holes 34.

【0026】第1基板31と中間基板33とは、貫通孔
34が蛍光体膜4のちょうど真上の位置にくるようにス
ペーサ36を介して接着する。図6の構造では、電界放
出陰極3と蛍光体膜4の間の沿面距離は従来構造に比べ
て長いので、アスペクト比の高いスペーサ36を形成す
る必要がない。したがって図6においても、形成が容易
である平行直線形状あるいは格子形状のスペーサ36を
用いればよい。ゲッター膜6は、薄板状の非蒸発型ゲッ
ターを用いる。ゲッター膜6は第2基板の一方の表面全
体に貼り付ける。図6において、第2基板32と中間基
板33との間にも平行直線形状又は格子形状のスペーサ
35を設ける。
The first substrate 31 and the intermediate substrate 33 are bonded via the spacer 36 such that the through hole 34 is located right above the phosphor film 4. In the structure of FIG. 6, since the creepage distance between the field emission cathode 3 and the phosphor film 4 is longer than that of the conventional structure, it is not necessary to form the spacer 36 having a high aspect ratio. Accordingly, also in FIG. 6, a spacer 36 having a parallel linear shape or a lattice shape, which can be easily formed, may be used. As the getter film 6, a thin plate non-evaporable getter is used. The getter film 6 is attached to one entire surface of the second substrate. In FIG. 6, a spacer 35 having a parallel linear shape or a lattice shape is provided between the second substrate 32 and the intermediate substrate 33.

【0027】これらの基板を用いて表示装置を構成する
場合には、まず、中間基板33と第1基板31とを前記
したように位置合わせしてスペーサ36を介して接着し
た後、これをゲッター膜6を貼り付けた第2基板32に
スペーサ35を介して張り合わせる。さらに450℃で
10分間真空中で加熱してフリットシールを軟化させて
封止する。このときゲッター膜6も同時に加熱されるの
で、ゲッター膜6は活性化されてガス分子を吸着しはじ
める。
When a display device is constructed by using these substrates, first, the intermediate substrate 33 and the first substrate 31 are aligned and bonded via the spacer 36 as described above, and then this is The second substrate 32 to which the film 6 is attached is bonded via a spacer 35. Furthermore, it heats in a vacuum at 450 degreeC for 10 minutes, softens a frit seal, and seals it. At this time, the getter film 6 is also heated at the same time, so that the getter film 6 is activated and starts to adsorb gas molecules.

【0028】あるいは、ゲッター膜6としては、蒸発型
のものを用いてもよい。この場合には、真空中で第2基
板32の方向に向けて蒸発型ゲッターを活性化し、バリ
ウム膜を形成する。そしてこれをそのまま真空中で第1
基板31と中間基板33の構造物に張合わせて封止すれ
ばよい。このような図6の構成においても、ガス分子が
電界放出陰極に吸着することがないので、高輝度,高寿
命の表示装置を提供できる。ゲッター膜6を、中間基板
33の表面であって、電界放出陰極3の形成されていな
い表面(図6では、中間基板33の下方表面)に設けて
もよい。この構成によれば、さらに高輝度,高寿命の表
示装置を提供できる。
Alternatively, the getter film 6 may be of an evaporation type. In this case, the evaporable getter is activated toward the second substrate 32 in a vacuum to form a barium film. And this is the first in vacuum
What is necessary is just to adhere | attach and seal the structure of the board | substrate 31 and the intermediate board | substrate 33. In the configuration of FIG. 6 as well, gas molecules do not adsorb to the field emission cathode, so that a display device with high luminance and long life can be provided. The getter film 6 may be provided on the surface of the intermediate substrate 33 where the field emission cathode 3 is not formed (in FIG. 6, the lower surface of the intermediate substrate 33). According to this configuration, a display device with higher luminance and longer life can be provided.

【0029】図7に、電界放出電極3を、蛍光体膜4と
ゲッター膜6とが対向する領域外に形成した実施例の表
示装置の断面図を示す。この構造の表示装置は、液晶デ
ィスプレイのバックライトなどの平面状光源としても利
用できる。図7において、蛍光体層4を形成した第1基
板71と、ゲッター膜6を形成した第2基板72とが対
向して配置される。この第1基板71及び第2基板72
の構造は、図6に示すものと同様のものを用いればよ
い。
FIG. 7 is a cross-sectional view of a display device according to an embodiment in which the field emission electrode 3 is formed outside a region where the phosphor film 4 and the getter film 6 face each other. The display device having this structure can also be used as a planar light source such as a backlight of a liquid crystal display. In FIG. 7, a first substrate 71 on which the phosphor layer 4 is formed and a second substrate 72 on which the getter film 6 is formed are arranged to face each other. The first substrate 71 and the second substrate 72
May be the same as that shown in FIG.

【0030】また、電界放出陰極3を形成した第3基板
73は、第1基板71と第2基板72との間であって、
対向する蛍光体膜4とゲッター膜6とで形成される空間
の外部の位置に設けられる。ここで、電界放出陰極3
は、そのエミッタティップから放出される電子が、蛍光
体膜4とゲッター膜6とで形成される空間内に放出され
るように、第3基板73の一方の表面上に形成される。
この第3基板73はスペーサとしての役割も兼ねてお
り、またその材料は第1基板と同様にガラスを用いれば
よい。なお、図7の場合も、利用者は、第1基板側から
表示を見ることになる。
The third substrate 73 on which the field emission cathode 3 is formed is located between the first substrate 71 and the second substrate 72,
It is provided at a position outside the space formed by the opposing phosphor film 4 and getter film 6. Here, the field emission cathode 3
Is formed on one surface of the third substrate 73 so that electrons emitted from the emitter tip are emitted into a space formed by the phosphor film 4 and the getter film 6.
The third substrate 73 also serves as a spacer, and its material may be glass as in the first substrate. In addition, also in the case of FIG. 7, the user views the display from the first substrate side.

【0031】図8に、図7に示した表示装置の斜視図を
示し、図9に、その断面図を示す。電界放出領域を形成
した第3基板73は、平行直線状に複数枚配置される。
また、第3基板73は、厚さ(a15)50μm,高さ
(a13)200μm,画面サイズが対角5インチの場
合は2mm間隔(a16)で配置すればよい。さらに第
1基板の厚さ(a12)は0.5mm,第2基板の厚さ
(a14)は0.5mm程度とすると、この表示装置全
体の厚さは1.2mm程度とすることができる。これ
は、従来用いられている高輝度用のバックライトの厚さ
の約1/4である。
FIG. 8 is a perspective view of the display device shown in FIG. 7, and FIG. 9 is a sectional view thereof. A plurality of third substrates 73 on which the field emission regions are formed are arranged in parallel straight lines.
Further, the third substrates 73 may be arranged at a distance of 2 mm (a16) when the thickness (a15) is 50 μm, the height (a13) is 200 μm, and the screen size is 5 inches diagonally. Further, when the thickness (a12) of the first substrate is about 0.5 mm and the thickness (a14) of the second substrate is about 0.5 mm, the thickness of the entire display device can be about 1.2 mm. This is about 4 of the thickness of a conventionally used backlight for high luminance.

【0032】また、前記した図1等の実施例と同様に蛍
光体膜から放出されたガス分子が、電界放出陰極に吸着
することはほとんどないので、図7の表示装置を光源と
して用いた場合には、1万時間以上の寿命を持つ高性能
の光源が実現できる。したがって、図7のような構成に
よれば、薄型,高輝度,長寿命の光源が実現できる。
Also, as in the case of the embodiment of FIG. 1 and the like, gas molecules emitted from the phosphor film hardly adsorb to the field emission cathode, so that the display device of FIG. 7 is used as a light source. Can realize a high-performance light source having a lifetime of 10,000 hours or more. Therefore, according to the configuration as shown in FIG. 7, a thin, high-brightness, long-life light source can be realized.

【0033】[0033]

【発明の効果】この発明によれば、電界放出領域からの
電子の照射により蛍光体から放出されたガス分子は、直
進してゲッター膜に入射し吸着される。したがって、電
界放出陰極にはガス分子が到達しないので、放出電流は
低下せず、輝度劣化の無い安定した表示が得られる。ま
た、蛍光体膜と電界放出陰極との間に溝または突起を設
けること、あるいは電界放出陰極を中間基板上に配置し
てその上下方向に蛍光体膜,ゲッター膜を配置した基板
を対向させた構成とすることによって、電界放出陰極と
蛍光体膜との沿面距離が長くなるので、蛍光体膜と電界
放出陰極の間の絶縁耐圧が高くなり、より一層の高寿命
化が図れる。その結果スペーサのアスペクト比を高くし
なくても高輝度表示が可能になる。
According to the present invention, gas molecules emitted from the phosphor by irradiation of electrons from the field emission region travel straight and enter the getter film and are adsorbed. Therefore, since gas molecules do not reach the field emission cathode, the emission current does not decrease, and a stable display without luminance degradation can be obtained. Further, a groove or a projection is provided between the phosphor film and the field emission cathode, or the field emission cathode is arranged on the intermediate substrate, and the substrate on which the phosphor film and the getter film are arranged is vertically opposed. With this configuration, the creepage distance between the field emission cathode and the phosphor film is increased, so that the withstand voltage between the phosphor film and the field emission cathode is increased, and the life is further extended. As a result, high-luminance display is possible without increasing the aspect ratio of the spacer.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の電界放出陰極を用いた表示装置の一
実施例の断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of one embodiment of a display device using a field emission cathode of the present invention.

【図2】この発明の表示装置において、第1基板上に溝
を設けた実施例の断面図である。
FIG. 2 is a sectional view of an embodiment in which a groove is provided on a first substrate in the display device of the present invention.

【図3】この発明の表示装置において、第1基板上に突
起を設けた実施例の断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view of an embodiment in which a projection is provided on a first substrate in the display device of the present invention.

【図4】この発明において、図1に示した表示装置の平
面図である。
FIG. 4 is a plan view of the display device shown in FIG. 1 in the present invention.

【図5】この発明において、電界放出陰極を取り囲んだ
形状の蛍光体膜を持つ表示装置の平面図である。
FIG. 5 is a plan view of a display device having a phosphor film in a shape surrounding a field emission cathode in the present invention.

【図6】この発明において、3枚基板構成の表示装置の
実施例の断面図である。
FIG. 6 is a sectional view of an embodiment of a display device having a three-substrate configuration according to the present invention.

【図7】この発明において、電界放出陰極を蛍光体膜と
ゲッター膜とが対向する領域外に形成した表示装置の断
面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view of a display device in which a field emission cathode is formed outside a region where a phosphor film and a getter film face each other in the present invention.

【図8】図7に示した表示装置の斜視図である。8 is a perspective view of the display device shown in FIG.

【図9】図7に示した表示装置の断面図である。9 is a cross-sectional view of the display device shown in FIG.

【図10】従来のFEDの構成図である。FIG. 10 is a configuration diagram of a conventional FED.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 第1基板 2 第2基板 3 電界放出陰極 4 蛍光体膜 5 透明導電膜 6 ゲッター膜 7 電子の軌道 11 溝 12 突起 21 エミッタ電極ライン 22 ゲート電極ライン 23 くし歯部分 24 スペーサ 31 第1基板 32 第2基板 33 中間基板 34 貫通孔 35 スペーサ 36 スペーサ 71 第1基板 72 第2基板 73 第3基板 74 フリットシール DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 1st board | substrate 2 2nd board | substrate 3 Field emission cathode 4 Phosphor film 5 Transparent conductive film 6 Getter film 7 Electron orbit 11 Groove 12 Projection 21 Emitter electrode line 22 Gate electrode line 23 Comb part 24 Spacer 31 First substrate 32 Second substrate 33 Intermediate substrate 34 Through hole 35 Spacer 36 Spacer 71 First substrate 72 Second substrate 73 Third substrate 74 Frit seal

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 真空容器の内部に電界の印加により電子
を放出する電界放出陰極と、電界放出陰極から放出され
た電子の照射を受けて発光する蛍光体と、真空維持のゲ
ッターとを備えてなり、前記蛍光体と前記ゲッターと
が、所定の間隔を保持して対向するように形成されてい
ることを特徴とする表示装置。
1. A field emission cathode, which emits electrons by applying an electric field to a vacuum vessel, a phosphor which emits light by receiving irradiation of electrons emitted from the field emission cathode, and a getter for maintaining a vacuum. Wherein the phosphor and the getter are formed so as to face each other while maintaining a predetermined interval.
【請求項2】 前記電界放出陰極と前記蛍光体とが真空
容器を構成する第1基板の同一表面上に形成され、前記
ゲッターが真空容器を構成する第2基板上に形成されて
いることを特徴とする請求項1記載の表示装置。
2. The method according to claim 1, wherein the field emission cathode and the phosphor are formed on the same surface of a first substrate forming a vacuum container, and the getter is formed on a second substrate forming a vacuum container. The display device according to claim 1, wherein:
【請求項3】 前記第1基板表面上であって、前記電界
放出陰極と蛍光体との間に、所定の大きさの溝部または
突起部が形成されていることを特徴とする請求項2記載
の表示装置。
3. The semiconductor device according to claim 2, wherein a groove or a protrusion having a predetermined size is formed on the surface of the first substrate and between the field emission cathode and the phosphor. Display device.
【請求項4】 前記第1基板上に、前記電界放出陰極に
負電圧を印加するエミッタ電極ラインと、エミッタ電極
ラインと交差しかつくし形形状にパターニングされたゲ
ート電極ラインとが形成され、前記ゲート電極ラインの
くし形形状のくし歯部分が、ゲート電極ラインとエミッ
タ電極ラインとの交差領域であって電界放出陰極を含む
領域に形成され、かつ前記蛍光体がエミッタ電極ライン
及びゲート電極ラインとは異なる位置に形成されること
を特徴とする請求項2記載の表示装置。
4. An emitter electrode line for applying a negative voltage to the field emission cathode, and a gate electrode line crossed with the emitter electrode line and patterned in a cross-shape on the first substrate; A comb-shaped comb portion of the electrode line is formed in a region including the field emission cathode, which is an intersection region between the gate electrode line and the emitter electrode line, and the phosphor is different from the emitter electrode line and the gate electrode line. The display device according to claim 2, wherein the display device is formed at different positions.
【請求項5】 前記蛍光体のうち同色の蛍光体が、前記
ゲート電極ラインのくし形形状のくし歯部分の両側に配
置されたことを特徴とする請求項4記載の表示装置。
5. The display device according to claim 4, wherein the phosphors of the same color among the phosphors are arranged on both sides of a comb-shaped comb portion of the gate electrode line.
【請求項6】 前記蛍光体が第1基板上に形成され、前
記ゲッターが第2基板上に形成され、前記電界放出陰極
が第3基板上に形成され、前記第3基板が真空容器を構
成する前記第1基板と第2基板との間であって、かつ第
1基板及び第2基板に対して所定の間隔が保持されるよ
うに配置され、前記蛍光体及び電界放出陰極とが前記ゲ
ッターと対向するようにそれぞれ第3基板及び第1基板
の表面に形成されたことを特徴とする請求項1記載の表
示装置。
6. The phosphor is formed on a first substrate, the getter is formed on a second substrate, the field emission cathode is formed on a third substrate, and the third substrate constitutes a vacuum container. The first substrate and the second substrate are disposed so as to be maintained at a predetermined distance from the first substrate and the second substrate, and the phosphor and the field emission cathode are disposed in the getter. 2. The display device according to claim 1, wherein the display device is formed on the surface of the third substrate and the surface of the first substrate, respectively, so as to face the substrate.
【請求項7】 前記第3基板が、スペーサによって第1
基板及び第2基板に対して所定の間隔が保持され、前記
スペーサが画素領域を区画するよう形成された格子形状
または平行直線形状であることを特徴とする請求項6記
載の表示装置。
7. The method according to claim 1, wherein the third substrate is firstly provided by a spacer.
7. The display device according to claim 6, wherein a predetermined distance is maintained with respect to the substrate and the second substrate, and the spacer has a lattice shape or a parallel linear shape formed so as to divide a pixel region.
【請求項8】 前記第3基板上に、前記電界放出陰極に
負電圧を印加するエミッタ電極ラインと、エミッタ電極
ラインと交差しかつくし形形状にパターニングされたゲ
ート電極ラインとが形成され、前記ゲート電極ラインの
くし形形状のくし歯部分が、ゲート電極ラインとエミッ
タ電極ラインとの交差領域であって電界放出陰極を含む
領域に形成され、前記くし歯部分とは異なる位置に第3
基板の上下方向を貫く貫通孔が形成され、前記蛍光体が
前記第1基板上であって前記貫通孔と対向する位置に形
成されることを特徴とする請求項6記載の表示装置。
8. An emitter electrode line for applying a negative voltage to the field emission cathode, and a gate electrode line crossed with the emitter electrode line and patterned in a cross-shape on the third substrate; A comb-shaped comb-shaped portion of the electrode line is formed in a region where the gate electrode line and the emitter electrode line intersect and includes the field emission cathode, and a third portion is formed at a position different from the comb-shaped portion.
7. The display device according to claim 6, wherein a through-hole penetrating in a vertical direction of the substrate is formed, and the phosphor is formed on the first substrate at a position facing the through-hole.
【請求項9】 前記蛍光体が、赤,青,緑の色をそれぞ
れ発色する部分に区分けされ、前記スペーサが、区分け
された各領域を隔離するように形成された格子形状また
は平行直線形状であることを特徴とする請求項8記載の
表示装置。
9. The phosphor is divided into portions that emit red, blue, and green colors, respectively, and the spacer is formed in a grid shape or a parallel linear shape formed to isolate each of the divided regions. 9. The display device according to claim 8, wherein:
【請求項10】 前記ゲッターが、さらに前記第3基板
上であって電界放出陰極が形成されていない表面に形成
されることを特徴とする請求項6,7,8または9記載
の表示装置。
10. The display device according to claim 6, wherein the getter is further formed on a surface of the third substrate on which no field emission cathode is formed.
【請求項11】 前記蛍光体が第1基板上に形成され、
前記ゲッターが前記第1基板と対向する第2基板上に形
成され、前記電界放出陰極が前記蛍光体とゲッターとが
対向する領域とは異なる位置に配置された第3基板上で
あって、前記蛍光体とゲッターとで形成される空間内に
電子を放出するように形成されることを特徴とする請求
項1記載の表示装置。
11. The phosphor is formed on a first substrate,
The getter is formed on a second substrate facing the first substrate, and the field emission cathode is on a third substrate located at a position different from a region where the phosphor and the getter face each other. The display device according to claim 1, wherein the display device is formed so as to emit electrons into a space formed by the phosphor and the getter.
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