JP2000214330A - Transparent conductive polarizing film, touch panel and liquid crystal display device - Google Patents
Transparent conductive polarizing film, touch panel and liquid crystal display deviceInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明はプラスチックフィル
ムを用いた透明導電性偏光フィルム、並びにこれを用い
たタッチパネル、及び液晶表示素子に関するものであ
り、殊にタッチパネルに用いた際の視認性およびペン入
力耐久性に優れた透明導電性偏光フィルム等に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a transparent conductive polarizing film using a plastic film, and a touch panel and a liquid crystal display device using the same. In particular, the present invention relates to visibility and pen input when used in a touch panel. The present invention relates to a transparent conductive polarizing film having excellent durability.
【0002】[0002]
【従来の技術】プラスチックフィルム上に透明かつ低抵
抗な化合物薄膜を形成した透明導電性フィルムは、従
来、その導電性を利用した用途、例えば、液晶ディスプ
レイ、ELディスプレイ、エレクトロクロミックディス
プレイなどの表示素子の電極、太陽電池などの光電変換
素子の窓電極、電磁波シールドの電磁波遮蔽膜、あるい
は透明タッチパネルなどの入力装置の電極として広く使
用される。2. Description of the Related Art Transparent conductive films in which a transparent and low-resistance compound thin film is formed on a plastic film have conventionally been used in applications utilizing their conductivity, for example, display devices such as liquid crystal displays, EL displays and electrochromic displays. Electrode, a window electrode of a photoelectric conversion element such as a solar cell, an electromagnetic wave shielding film of an electromagnetic wave shield, or an electrode of an input device such as a transparent touch panel.
【0003】このような透明導電性フィルムの透明導電
層としては、金、銀、白金、パラジウムなどの貴金属薄
膜と、酸化インジウム、酸化スズ、酸化インジウム−ス
ズ、酸化亜鉛などの酸化物半導体薄膜とが知られてい
る。The transparent conductive layer of such a transparent conductive film includes a noble metal thin film such as gold, silver, platinum, and palladium, and an oxide semiconductor thin film such as indium oxide, tin oxide, indium-tin oxide, and zinc oxide. It has been known.
【0004】一方、近年の携帯情報端末の普及により、
入力や操作性の簡便さが要求され、表示画面上の任意の
点を押圧することにより入力できるペン入力タイプが広
く用いられるようになってきている。ペン入力の方式と
しては、静電容量方式や光センサー方式、タッチパネル
方式が知られている。特に、タッチパネル方式は、位置
検出がアナログ的であり、高分解能であることや、周辺
装置がコンパクトにできることなどの特徴があり、ワー
プロ、パソコン、電子手帳等、携帯用や個人用の情報端
末に多く使われてきている。On the other hand, with the spread of portable information terminals in recent years,
The simplicity of input and operability is required, and a pen input type capable of inputting by pressing an arbitrary point on a display screen has been widely used. As a pen input method, a capacitance method, an optical sensor method, and a touch panel method are known. In particular, the touch panel method has features such as analog position detection, high resolution, and the ability to make peripheral devices compact, and is used in portable and personal information terminals such as word processors, personal computers, and electronic notebooks. It has been widely used.
【0005】上記のタッチパネルの用途に用いられる透
明導電性フィルムは、基本的には導電層(殊にITO
層)/高分子フィルムの層構成を有し、透明タッチパネ
ルとして使用するときは、2枚の透明導電性フィルムの
導電層側をスペーサを介いて対向配置して用いる。[0005] The transparent conductive film used for the above touch panel is basically formed of a conductive layer (particularly, ITO).
When used as a transparent touch panel having a layer structure of (layer) / polymer film, the conductive layers of two transparent conductive films are arranged to face each other via a spacer.
【0006】そして、通常の透明タッチパネルは、液晶
表示素子の最上面に重ね合わせて用いられる。従って、
透明性、機械的性質、表面平滑性、耐溶剤性、耐スクラ
ッチ性、非透湿性、コストなどの総合性能を考慮する必
要があり、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィル
ムが一般的に用いられている。[0006] An ordinary transparent touch panel is used by being superimposed on the uppermost surface of a liquid crystal display element. Therefore,
It is necessary to consider overall performance such as transparency, mechanical properties, surface smoothness, solvent resistance, scratch resistance, moisture permeability, and cost, and biaxially stretched polyethylene terephthalate films are generally used.
【0007】更に、前記のように透明タッチパネルを配
設した液晶表示機器においては、光の反射を少なくする
ことによる視認性の向上、表示装置全体の軽量化、ま
た、ペン入力により位置検出精度が劣化しないなどの耐
久性の向上が要求されている。この様な要求に対し、透
明タッチパネルの光の反射を少なくすることによる視認
性の向上を目的として、透明タッチパネルの上面に更に
反射防止フィルムを設置する方法や、透明導電性フィル
ムの導電層の反対側の面に、反射防止層をドライコート
法やウェットコート法により設ける方法が提案されてい
る。同様に、視認性を向上させるために、例えば、特開
平8−155988号公報、特開平8−161116号
公報等で提案されているような、光等方性を有する透明
導電性フィルムを用いた透明タッチパネルを液晶表示素
子の偏光板の下に設置する方法が提案されている。Further, in the liquid crystal display device provided with the transparent touch panel as described above, the visibility is improved by reducing the reflection of light, the weight of the entire display device is reduced, and the position detection accuracy is improved by pen input. There is a demand for improved durability such as not deteriorating. In response to such demands, in order to improve visibility by reducing light reflection of the transparent touch panel, a method of further installing an anti-reflection film on the upper surface of the transparent touch panel, or a method opposite to the conductive layer of the transparent conductive film. A method has been proposed in which an antireflection layer is provided on the side surface by a dry coating method or a wet coating method. Similarly, in order to improve the visibility, for example, a transparent conductive film having optical isotropy as proposed in JP-A-8-155988 and JP-A-8-161116 was used. A method of installing a transparent touch panel under a polarizing plate of a liquid crystal display element has been proposed.
【0008】次に、耐久特性として特に求められている
特性としては、位置検出回路とタッチパネルの接続に対
する接続部材の耐久性と、ペンによる押圧で透明導電性
フィルムの透明導電性薄膜にクラックや剥離が生じない
という透明導電性薄膜に対する耐久性である。ここで、
通常、位置検出回路とタッチパネルの接続には銀ペース
トが用いられている。Next, the characteristics particularly required as the durability characteristics are the durability of the connection member with respect to the connection between the position detection circuit and the touch panel, and the cracking or peeling of the transparent conductive thin film of the transparent conductive film by pressing with a pen. This is the durability with respect to the transparent conductive thin film that does not occur. here,
Usually, silver paste is used for connecting the position detection circuit to the touch panel.
【0009】銀ペーストと透明導電性薄膜とを強固に接
着するには、透明導電性薄膜上に銀ペースト塗布後の焼
成を150℃以上の高温で行えばよい。しかし、通常の
ポリエステルフィルムを150℃で熱処理すると、オリ
ゴマーの析出によりフィルムが白濁してしまう。そこで
オリゴマー析出防止層として、透明なプラスチックフィ
ルム上に有機ケイ素化合物の加水分解により生成された
層を設け、さらに透明導電性薄膜を積層した透明導電性
フィルム(特開昭60−131711号公報)が提案さ
れている。In order to firmly bond the silver paste and the transparent conductive thin film, the baking after applying the silver paste on the transparent conductive thin film may be performed at a high temperature of 150 ° C. or more. However, when a normal polyester film is heat-treated at 150 ° C., the film becomes cloudy due to precipitation of oligomers. Therefore, as an oligomer precipitation preventing layer, a transparent conductive film (JP-A-60-131711) in which a layer formed by hydrolysis of an organosilicon compound is provided on a transparent plastic film and a transparent conductive thin film is further laminated. Proposed.
【0010】また、ペン入力用タッチパネルに透明導電
性フィルムを用いた場合、スペーサーを介して対向させ
た一対の導電性薄膜同士が、ペン入力による押圧で強く
接触するため、薄膜にクラックや剥離が生じてしまい、
電気抵抗が増大したり、断線を生じたりする。When a transparent conductive film is used for a touch panel for pen input, a pair of conductive thin films opposed to each other via a spacer come into strong contact with each other by pressing with a pen input. It will happen,
Electric resistance may increase or disconnection may occur.
【0011】この様な、ペン入力の耐久特性の向上とし
ては、例えば、120μm以下の厚さの透明プラスチッ
ク上に透明導電性薄膜を形成し、粘着剤層で他の透明基
体と貼りあわせた透明導電性フィルム(特開平2−66
809号)が提案されている。また、加熱処理によりイ
ンジウム酸化物の結晶粒径を0.3μm以下とした透明
導電性フィルム(特許第2525475号公報)が提案
されている。In order to improve the durability of pen input, for example, a transparent conductive thin film is formed on a transparent plastic having a thickness of 120 μm or less, and the transparent conductive thin film is adhered to another transparent substrate with an adhesive layer. Conductive film (JP-A-2-66)
No. 809) has been proposed. In addition, a transparent conductive film (Japanese Patent No. 2525475) in which the crystal grain size of indium oxide is reduced to 0.3 μm or less by heat treatment has been proposed.
【0012】[0012]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記の
様に、タッチパネルを液晶表示素子の最上面に重ね合わ
せて用いる方法では、光の反射を少なくすることによる
視認性の向上には、自ずと限界があり、また、部品点
数、層数の増加による、表示面の輝度の低下、重量増と
いった問題がある。However, as described above, in the method in which the touch panel is superimposed on the uppermost surface of the liquid crystal display element, there is naturally a limit in improving the visibility by reducing the reflection of light. In addition, there is a problem that the luminance of the display surface is reduced and the weight is increased due to an increase in the number of parts and the number of layers.
【0013】また、前述の視認性を向上させるための方
法として提案されている、光等方性を有する透明導電性
フィルムを用い、透明タッチパネルを液晶表示素子の偏
光板の下に設置する方法では、光等方性を有するベース
フィルムを用いる必要があるため、通常の二軸延伸ポリ
エチレンテレフタレートフィルムは用いることができ
ず、製造コストが高くなる。また、基本的にタッチパネ
ル部材を新たに追加することにかわりなく、部品点数、
層数の増加による、表示面の輝度の低下、重量増といっ
た問題がある。[0013] Further, in the above-mentioned method for improving visibility, a method of using a transparent conductive film having optical isotropy and installing a transparent touch panel under a polarizing plate of a liquid crystal display element is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-157,086. Since it is necessary to use a base film having optical isotropy, a normal biaxially stretched polyethylene terephthalate film cannot be used, and the production cost increases. Also, basically, regardless of adding a new touch panel member, the number of parts,
There are problems such as a decrease in the brightness of the display surface and an increase in weight due to an increase in the number of layers.
【0014】また、前述のペン入力の耐久性を向上させ
る方法として提案されている、透明プラスチック上に透
明導電性薄膜を形成し、粘着剤層で他の透明基体と貼り
あわせた透明導電性フィルムを用いる方法では、ペン入
力に対する耐久性が十分ではなく、また、粘着剤を用い
て貼り合わせるため、貼り合わせ時にゴミなどの異物が
混入し、光学欠点の多い透明導電性フィルムとなってし
まう。Further, a transparent conductive film formed by forming a transparent conductive thin film on a transparent plastic and adhering it to another transparent substrate with an adhesive layer has been proposed as a method for improving the durability of pen input described above. In the method using the method, the durability against pen input is not sufficient, and since the bonding is performed using an adhesive, foreign matter such as dust is mixed during bonding, resulting in a transparent conductive film having many optical defects.
【0015】また、透明なプラスチックフィルム上に有
機ケイ素化合物の加水分解により生成された層を設け、
さらに透明導電性薄膜を積層した透明導電性フィルムを
用いる方法では、この透明導電性フィルムは、耐久性を
得るために透明導電性薄膜を製膜した後に、有機ケイ素
化合物の加水分解により生成された層を架橋するために
150℃、10時間もの熱処理が必要である。このた
め、結晶質の透明導電性薄膜となり、タッチパネル作製
時の透明導電性薄膜のエッチング特性が極めて悪く、タ
ッチパネルの製造コストが高いものになる。A layer formed by hydrolysis of an organosilicon compound is provided on a transparent plastic film,
Further, in the method using a transparent conductive film in which a transparent conductive thin film is laminated, the transparent conductive film is formed by hydrolyzing an organosilicon compound after forming the transparent conductive thin film to obtain durability. Heat treatment at 150 ° C. for as long as 10 hours is required to crosslink the layer. For this reason, it becomes a crystalline transparent conductive thin film, the etching characteristics of the transparent conductive thin film at the time of manufacturing the touch panel are extremely poor, and the manufacturing cost of the touch panel becomes high.
【0016】また、加熱処理によりインジウム酸化物の
結晶粒径を0.3μm以下とした透明導電性フィルムを
用いる方法でも、透明導電性フィルムは結晶質の透明導
電性薄膜となる。このため、この場合もタッチパネル作
製時の透明導電性薄膜のエッチング特性が極めて悪く、
タッチパネルの製造コストが高いものになる。[0016] Further, even in a method using a transparent conductive film in which the indium oxide has a crystal grain size of 0.3 µm or less by heat treatment, the transparent conductive film becomes a crystalline transparent conductive thin film. For this reason, also in this case, the etching property of the transparent conductive thin film at the time of touch panel production is extremely poor,
The manufacturing cost of the touch panel is high.
【0017】以上の様に、透明タッチパネルの視認性の
向上や、ペン入力に対する耐久性の向上の検討はなされ
ているものの、基本的に、既存のタッチパネルを液晶表
示素子に付加する構成はかわりなく、従来の構成では、
表示装置全体としての視認性、軽量性については不十分
である。また、耐久性についても、不十分である場合
や、また耐久性はあるが、加工性が悪い等、これらの特
性を併せ持つものについては実現できていない。As described above, although the improvement of the visibility of the transparent touch panel and the improvement of the durability against pen input have been studied, basically, the configuration in which the existing touch panel is added to the liquid crystal display element is not changed. In the conventional configuration,
The visibility and lightness of the entire display device are insufficient. Also, the durability cannot be realized for those having both of these characteristics, such as insufficient durability and durability, but poor workability.
【0018】従って、本発明は、上記課題を解決しよう
とするものであり、液晶表示素子にタッチパネル機能を
付与する際、視認性の低下や重量の増加を抑えながら、
かつペン入力耐久性等の性質を兼ね備えることのできる
透明導電性偏光フィルム、並びにこれを用いたタッチパ
ネル、及び液晶表示素子を提供することを目的とする。Accordingly, the present invention is intended to solve the above-mentioned problems, and when providing a touch panel function to a liquid crystal display element, while suppressing a decrease in visibility and an increase in weight,
Further, it is an object of the present invention to provide a transparent conductive polarizing film which can also have properties such as pen input durability, a touch panel using the same, and a liquid crystal display device.
【0019】[0019]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意検討した結果、偏光フィルム上に
特定の透明導電性薄膜を形成した導電性偏光フィルムを
用いることにより、上記目的を達成できることを見出
し、本発明を完成するに至った。Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, by using a conductive polarizing film having a specific transparent conductive thin film formed on a polarizing film, The inventors have found that the object can be achieved, and have completed the present invention.
【0020】即ち、本発明の透明導電性偏光フィルム
は、偏光フィルムの少なくとも片方の面に、非晶質であ
る透明導電性薄膜を形成した透明導電性偏光フィルムで
あって、前記透明導電性薄膜の表面張力が35〜60d
yne/cmであることを特徴とする。That is, the transparent conductive polarizing film of the present invention is a transparent conductive polarizing film in which an amorphous transparent conductive thin film is formed on at least one surface of the polarizing film. Surface tension of 35-60d
yne / cm.
【0021】上記において、前記偏光フィルムと前記透
明導電性薄膜との付着力が10g/15mm以上である
ことが好ましい。In the above, it is preferable that the adhesive force between the polarizing film and the transparent conductive thin film is 10 g / 15 mm or more.
【0022】前記透明導電性薄膜としては、後述のよう
に種々のものが例示されるが、インジウム−スズ複合酸
化物薄膜であり、該薄膜中の酸化スズの含有率が10〜
60重量%であることが好ましい。As the transparent conductive thin film, various ones are exemplified as described below. The transparent conductive thin film is an indium-tin composite oxide thin film, and the content of tin oxide in the thin film is 10 to 10.
Preferably it is 60% by weight.
【0023】また、前記透明導電性偏光フィルムの透明
導電性薄膜を形成していない面に、ハードコート処理層
を積層してあることが好ましい。Further, it is preferable that a hard coat treatment layer is laminated on the surface of the transparent conductive polarizing film on which the transparent conductive thin film is not formed.
【0024】前記透明導電性偏光フィルムの透明導電性
薄膜を形成していない面に、防眩処理層を積層してある
ことが好ましい。It is preferable that an antiglare treatment layer is laminated on the surface of the transparent conductive polarizing film on which the transparent conductive thin film is not formed.
【0025】前記透明導電性偏光フィルムの透明導電性
薄膜を形成していない面に、反射防止処理層を積層して
あることが好ましい。It is preferable that an antireflection treatment layer is laminated on the surface of the transparent conductive polarizing film on which the transparent conductive thin film is not formed.
【0026】一方、本発明のタッチパネルは、透明導電
性薄膜を有する一対のパネル板を、透明導電性薄膜が対
向するようにスペーサーを介して配置してなるタッチパ
ネルにおいて、前記パネル板の少なくとも片方が、上記
のいずれかに記載の透明導電性偏光フィルムからなるこ
とを特徴とする。On the other hand, a touch panel according to the present invention is a touch panel in which a pair of panel plates having a transparent conductive thin film are arranged via a spacer so that the transparent conductive thin films face each other, and at least one of the panel plates is provided. And a transparent conductive polarizing film according to any one of the above.
【0027】他方、本発明の液晶表示素子は、液晶の配
向状態の制御により入射光に光学的変化を与える液晶パ
ネルと、その両側に配置される偏光板とを備えた液晶表
示素子において、視認側に配置される前記偏光板が、上
記のいずれかに記載の透明導電性偏光フィルムであると
共に、前記透明導電性薄膜を一方の電極として、他方の
電極を有する透明パネル板とともにタッチパネルが形成
されていることを特徴とする。On the other hand, the liquid crystal display device of the present invention is a liquid crystal display device including a liquid crystal panel which gives an optical change to incident light by controlling the alignment state of liquid crystal, and polarizing plates disposed on both sides thereof. The polarizing plate disposed on the side is the transparent conductive polarizing film according to any one of the above, and the touch panel is formed with the transparent conductive thin film as one electrode and a transparent panel plate having the other electrode. It is characterized by having.
【0028】〔作用効果〕本発明の透明導電性偏光フィ
ルムによると、偏光フィルムの少なくとも片方の面に透
明導電性薄膜を形成してあるため、これをタッチパネル
の一方の電極としつつ、偏光フィルムが液晶表示素子の
偏光板として機能するので、特にタッチパネル付き液晶
表示素子に用いる際、視認性をあまり低下させることが
なく、また、液晶表示装置全体の重量増を最低限に抑え
ることができる。しかも、透明導電性薄膜が非晶質であ
るため、導電性、透明性およびエッチング特性に優れ
る。また、偏光フィルム上の透明導電性薄膜の表面張力
が35〜60dyne/cmであるため、導電接続のた
めの銀ペーストとの密着性に優れる。その結果、特にタ
ッチパネル付き液晶表示素子に用いる際、視認性の低下
や重量の増加を抑えながら、好適に液晶表示素子にタッ
チパネル機能を付与できる透明導電性偏光フィルムを提
供することができた。[Function and Effect] According to the transparent conductive polarizing film of the present invention, a transparent conductive thin film is formed on at least one surface of the polarizing film. Since it functions as a polarizing plate of a liquid crystal display element, it is possible to minimize a decrease in visibility and minimize an increase in the weight of the entire liquid crystal display device, particularly when used in a liquid crystal display element with a touch panel. Moreover, since the transparent conductive thin film is amorphous, it has excellent conductivity, transparency and etching characteristics. Further, since the surface tension of the transparent conductive thin film on the polarizing film is 35 to 60 dyne / cm, the adhesiveness with the silver paste for conductive connection is excellent. As a result, a transparent conductive polarizing film capable of suitably imparting a touch panel function to a liquid crystal display element while suppressing a decrease in visibility and an increase in weight, particularly when used in a liquid crystal display element with a touch panel, could be provided.
【0029】また、前記偏光フィルムと前記透明導電性
薄膜との付着力が10g/15mm以上である場合、偏
光フィルムと透明導電性薄膜との付着力が非常に強固で
あるため、ペン入力用タッチパネルに用いた際に、ペン
の押圧で対向の透明導電性薄同士が強く接触しても透明
導電性薄膜に剥離、クラックが生じることがなく、ペン
入力耐久性に極めて優れた透明導電性フィルムとなる。When the adhesive force between the polarizing film and the transparent conductive thin film is 10 g / 15 mm or more, the adhesive force between the polarizing film and the transparent conductive thin film is very strong. When used, the transparent conductive thin film that does not peel or crack even when the opposing transparent conductive thin films come into strong contact with the pen by pressing the pen, and has excellent pen input durability, Become.
【0030】前記透明導電性薄膜が、インジウム−スズ
複合酸化物薄膜であり、該薄膜中の酸化スズの含有率が
10〜60重量%である場合、別途活性化処理を行わな
くても表面張力を上記の範囲にすることができ、しかも
十分な導電性を有する薄膜を形成し易い。In the case where the transparent conductive thin film is an indium-tin composite oxide thin film and the content of tin oxide in the thin film is 10 to 60% by weight, the surface tension can be increased without separately performing an activation treatment. In the above range, and it is easy to form a thin film having sufficient conductivity.
【0031】また、前記透明導電性偏光フィルムの透明
導電性薄膜を形成していない面に、ハードコート処理層
を積層してある場合、タッチパネルに用いた際のペンな
どからの傷つきを防止し易くなる。When a hard coat treatment layer is laminated on the transparent conductive polarizing film on which the transparent conductive thin film is not formed, it is easy to prevent damage from a pen or the like when used for a touch panel. Become.
【0032】前記透明導電性偏光フィルムの透明導電性
薄膜を形成していない面に、防眩処理層を積層してある
場合、タッチパネルに用いた際の視認性をさらに向上さ
せることができる。When the anti-glare treatment layer is laminated on the surface of the transparent conductive polarizing film on which the transparent conductive thin film is not formed, the visibility when used for a touch panel can be further improved.
【0033】前記透明導電性偏光フィルムの透明導電性
薄膜を形成していない面に、反射防止処理層を積層して
ある場合、タッチパネルに用いた際の視認性および可視
光線の透過率をさらに向上させることができる。When an antireflection treatment layer is laminated on the surface of the transparent conductive polarizing film on which the transparent conductive thin film is not formed, the visibility and the transmittance of visible light when used in a touch panel are further improved. Can be done.
【0034】一方、本発明のタッチパネルによると、パ
ネル板の少なくとも片方が、上記のいずれかに記載の透
明導電性偏光フィルムからなるため、上記と同様の作用
効果を奏することができる。従って、タッチパネルを配
設後の液晶表示装置のフィルム層数の増加を最低限に抑
えられ、薄型化、軽量化にも貢献することができる。更
には、液晶表示部と位置検出部の間隔が挟められること
により、位置検出精度の向上も図ることができる。On the other hand, according to the touch panel of the present invention, since at least one of the panel plates is made of the transparent conductive polarizing film described in any of the above, the same function and effect as above can be obtained. Therefore, an increase in the number of film layers of the liquid crystal display device after the touch panel is provided can be suppressed to a minimum, which can contribute to a reduction in thickness and weight. Further, since the distance between the liquid crystal display unit and the position detection unit is interposed, the position detection accuracy can be improved.
【0035】他方、本発明の液晶表示素子によると、視
認側に配置される前記偏光板が、上記のいずれかに記載
の透明導電性偏光フィルムであると共に、前記透明導電
性薄膜を一方の電極として、他方の電極を有する透明パ
ネル板とともにタッチパネルが形成されているため、上
記と同様の作用効果を奏することができる。即ち、視認
性の低下や重量の増加を抑えながら、好適に液晶表示素
子にタッチパネル機能を付与でき、好ましくはペン入力
耐久性等の性質を兼ね備えることのできる液晶表示素子
を提供することができた。On the other hand, according to the liquid crystal display device of the present invention, the polarizing plate disposed on the viewing side is the transparent conductive polarizing film described in any of the above, and the transparent conductive thin film is formed on one electrode. Since the touch panel is formed together with the transparent panel plate having the other electrode, the same operation and effect as described above can be obtained. That is, it was possible to provide a liquid crystal display element capable of suitably imparting a touch panel function to the liquid crystal display element and preferably having properties such as pen input durability while suppressing a decrease in visibility and an increase in weight. .
【0036】[0036]
【発明の実施の形態】以下、本発明について、透明導電
性偏光フィルム、タッチパネル、液晶表示素子の順で、
詳細に説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in the order of a transparent conductive polarizing film, a touch panel and a liquid crystal display element.
This will be described in detail.
【0037】〔透明導電性偏光フィルム〕本発明の透明
導電性偏光フィルムは、例えば、次の如き材料、方法に
より製造することができる。[Transparent Conductive Polarizing Film] The transparent conductive polarizing film of the present invention can be produced, for example, by the following materials and methods.
【0038】本発明における偏光フィルムは、偏光機能
を有する偏光子と、必要によりその機能を維持するため
の透明保護フィルム等とにより構成される。偏光子とし
ては、偏光機能を有するものであれば特に限定されない
が、例としては、ポリビニルアルコール系フィルムや部
分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチ
レン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親
水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性
物質を吸着させて延伸したフィルム等が挙げられる。ま
た、ポリエン配向フィルムの例としては、ポリビニルア
ルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物
等が挙げられる。なお偏光子の厚さは、一般には5〜8
0μmであるが、これに限定されない。The polarizing film of the present invention comprises a polarizer having a polarizing function and, if necessary, a transparent protective film for maintaining the function. The polarizer is not particularly limited as long as it has a polarizing function.Examples of the polarizer include hydrophilic properties such as a polyvinyl alcohol-based film, a partially formalized polyvinyl alcohol-based film, and an ethylene-vinyl acetate copolymer-based partially saponified film. Examples of the film include a polymer film in which a dichroic substance such as iodine or a dichroic dye is adsorbed and stretched. Examples of the oriented polyene film include dehydration products of polyvinyl alcohol and dehydrochlorination products of polyvinyl chloride. The thickness of the polarizer is generally 5 to 8
0 μm, but not limited to this.
【0039】本発明における透明保護フィルムは、上記
機能を有するものであれば特に限定されないが、例とし
ては、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエーテ
ルスルホン、ポリスルフォン、ポリビニルアルコール、
ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、
ポリアクリロニトリル、ポリフェニレンスルフィド、ポ
リフェニレンオキサイド、ポリスチレン、シンジオタク
チックポリスチレン、ポリエステル、セルロース、ノル
ボルネン系ポリマー(環状ポリオレフィン)などがあげ
られる。なお透明保護フィルムの厚さは、一般には50
〜300μmであるが、これに限定されない。The transparent protective film in the present invention is not particularly limited as long as it has the above-mentioned functions. Examples thereof include polycarbonate, polyarylate, polyether sulfone, polysulfone, polyvinyl alcohol, and the like.
Polyimide, polyamide imide, polyether imide,
Examples thereof include polyacrylonitrile, polyphenylene sulfide, polyphenylene oxide, polystyrene, syndiotactic polystyrene, polyester, cellulose, norbornene-based polymer (cyclic polyolefin), and the like. The thickness of the transparent protective film is generally 50
300300 μm, but is not limited to this.
【0040】本発明における透明導電性薄膜としては、
透明性、及び導電性をあわせもつ材料であれば特に制限
はないが、代表的なものとしては、酸化インジウム、酸
化亜鉛、酸化スズ、インジウム−スズ複合酸化物、スズ
−アンチモン複合酸化物、亜鉛−アルミニウム複合酸化
物、インジウム−亜鉛複合酸化物等の薄膜がある。これ
らの化合物薄膜は、適当な作製条件とすることで、透明
性と導電性をあわせもつ透明導電性薄膜となることが知
られている。As the transparent conductive thin film in the present invention,
There is no particular limitation as long as the material has both transparency and conductivity, but typical examples include indium oxide, zinc oxide, tin oxide, indium-tin composite oxide, tin-antimony composite oxide, and zinc. -Thin films of aluminum composite oxide, indium-zinc composite oxide and the like. It is known that these compound thin films can be made into transparent conductive thin films having both transparency and conductivity under appropriate manufacturing conditions.
【0041】透明導電性薄膜の膜厚としては、40〜8
000Åの範囲が好ましく、さらに好ましくは50〜5
000Åである。透明導電性薄膜の膜厚が40Åよりも
薄い場合、連続した薄膜になりにくく良好な導電性を示
しにくい。また、8000Åよりも厚い場合、透明性が
低下する傾向がある。The thickness of the transparent conductive thin film is 40 to 8
It is preferably in the range of 000 °, more preferably 50 to 5
000. When the thickness of the transparent conductive thin film is smaller than 40 °, it is difficult to form a continuous thin film and to exhibit good conductivity. If the thickness is more than 8000 °, the transparency tends to decrease.
【0042】透明導電性薄膜の作製方法としては、真空
蒸着法、スパッタリング法、CVD法、イオンプレーテ
ィング法、スプレー法、ゾルーゲル法などが知られてお
り、上記材料の種類および必要膜厚に応じて適宜の方法
を用いることが出来る。As a method for producing a transparent conductive thin film, a vacuum evaporation method, a sputtering method, a CVD method, an ion plating method, a spray method, a sol-gel method and the like are known. And an appropriate method can be used.
【0043】例えばスパッタリング法の場合、化合物を
用いた通常のスパッタリング法、あるいは、金属ターゲ
ットを用いた反応性スパッタリング法等が用いられる。
この時、反応性ガスとして、酸素、窒素、水蒸気等を導
入したり、オゾン添加、イオンアシスト等の手段を併用
してもよい。また、本発明の目的を損なわない範囲で、
基板に直流、交流、高周波などのバイアスを印加しても
よい。For example, in the case of the sputtering method, an ordinary sputtering method using a compound, a reactive sputtering method using a metal target, or the like is used.
At this time, oxygen, nitrogen, water vapor or the like may be introduced as a reactive gas, or means such as ozone addition and ion assist may be used in combination. In addition, within a range that does not impair the purpose of the present invention,
A bias such as direct current, alternating current, or high frequency may be applied to the substrate.
【0044】非晶質の透明導電性薄膜を得るには、基板
である偏光フィルムの製膜時の温度を100℃以下にす
るのが好ましい。また、蒸着法、CVD法などの他の作
製方法においても同様である。In order to obtain an amorphous transparent conductive thin film, the temperature at the time of forming the polarizing film as the substrate is preferably 100 ° C. or less. The same applies to other manufacturing methods such as an evaporation method and a CVD method.
【0045】銀ペーストとの接着性を強固なものとする
ためには、透明導電性薄膜の表面張力を35〜60dy
ne/cmにすることが好ましい。透明導電性薄膜の表
面張力を35〜60dyne/cmにすることで、12
0℃程度の焼成温度でも銀ペーストと透明導電性薄膜と
が強固に接着することが可能となる。透明導電性薄膜の
表面張力が35dyne/cmよりも小さい場合は、1
20℃の焼成温度では銀ペーストとの接着性が十分では
ない。また、透明導電性薄膜の表面張力が60dyne
/cmよりも大きい場合は、透明導電性薄膜上に水分な
どの吸着水が増え、やはり銀ペーストとの接着性が十分
ではない。In order to strengthen the adhesion to the silver paste, the surface tension of the transparent conductive thin film should be 35 to 60 dy.
Ne / cm is preferable. By setting the surface tension of the transparent conductive thin film to 35 to 60 dyne / cm, 12
Even at a firing temperature of about 0 ° C., the silver paste and the transparent conductive thin film can be firmly bonded. When the surface tension of the transparent conductive thin film is smaller than 35 dyne / cm, 1
At a firing temperature of 20 ° C., the adhesion to the silver paste is not sufficient. The surface tension of the transparent conductive thin film is 60 dyne.
When it is larger than / cm, the amount of adsorbed water such as moisture increases on the transparent conductive thin film, and the adhesion to the silver paste is still insufficient.
【0046】透明導電性薄膜の表面張力を35〜60d
yne/cmをするには、透明導電性薄膜を酸性もしく
はアルカリ性溶液で処理し表面を活性にする方法、紫外
線、電子線を表面に照射し活性にする方法、コロナ処理
やプラズマ処理を施し活性にする方法が用いられる。The transparent conductive thin film has a surface tension of 35 to 60 d.
In order to obtain yne / cm, a method of treating a transparent conductive thin film with an acidic or alkaline solution to activate the surface, a method of irradiating the surface with ultraviolet rays or electron beams to activate the surface, a method of performing corona treatment or plasma treatment to activate the surface. Is used.
【0047】酸性水溶液による洗浄に用いられる酸は、
塩酸、硫酸、フッ酸、硝酸などの単独酸もしくは混酸が
好ましい。また、アルカリ性水溶液による洗浄に用いら
れるアルカリは、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
炭酸ナトリウム、水酸化カルシウムなどを単独もしくは
混合したものを用いるのが好ましい。また、これらの酸
性もしくはアルカリ性の成分を含んでいる洗浄液を用い
てもよい。The acid used for washing with the acidic aqueous solution is
A single acid or a mixed acid such as hydrochloric acid, sulfuric acid, hydrofluoric acid and nitric acid is preferred. The alkali used for washing with an alkaline aqueous solution is sodium hydroxide, potassium hydroxide,
It is preferable to use sodium carbonate, calcium hydroxide or the like alone or in combination. Further, a cleaning liquid containing these acidic or alkaline components may be used.
【0048】また、低圧もしくは高圧水銀ランプを用い
て、紫外線を照射し空気中の酸素を活性酸素とし、この
活性酸素が透明導電性薄膜表面と反応することで、表面
張力の高い透明導電性薄膜を得ることができる。このと
きの紫外線照射量としては5〜2000mJ/cm2 の
範囲が好ましい。5mJ/cm2 よりも少ない照射量で
は表面を活性にしにくく、2000mJ/cm2 よりも
多い照射量では処理に時間がかかりすぎ、工業的に好ま
しくない。Further, ultraviolet rays are irradiated using a low-pressure or high-pressure mercury lamp to convert oxygen in the air into active oxygen, and this active oxygen reacts with the surface of the transparent conductive thin film to form a transparent conductive thin film having a high surface tension. Can be obtained. The irradiation amount of the ultraviolet rays at this time is preferably in the range of 5 to 2000 mJ / cm 2 . 5 mJ / cm 2 hardly the surface activity at low dose than, too long to process the high dose than 2000 mJ / cm 2, is not industrially preferable.
【0049】また、電子線照射に用いる電子線源として
は、電子発生方式として、熱陰極型、電界放出型、冷陰
極型などを用い、高電圧発生方式としてはコッククロフ
ト・ウォルトン型、変圧器整流型、バンテクラフ型など
を用いるのが好ましい。また、電子線のエネルギーとし
ては、50KeV〜30MeVの範囲が好ましい。50
KeVよりも低いエネルギーでは透明導電性薄膜の表面
活性化の効果が十分ではなく、30MeVよりも高エネ
ルギーの電子線源は非常に高価なものとなり、工業的に
好結果を得にくい。また、照射線量としては、0.1〜
500Mradの範囲が好ましい。0.1Mradより
少ない照射線量では、透明導電性薄膜の表面活性化の効
果が十分ではなく、500Mradよりも多い照射線量
は処理に時間がかかり、工業的に好結果を得にくい。As an electron beam source used for electron beam irradiation, a hot cathode type, a field emission type, a cold cathode type, or the like is used as an electron generating method, and a Cockcroft-Walton type, a transformer rectifier is used as a high voltage generating method. It is preferable to use a mold, a vantechraf mold, or the like. The energy of the electron beam is preferably in the range of 50 KeV to 30 MeV. 50
At an energy lower than KeV, the effect of activating the surface of the transparent conductive thin film is not sufficient, and an electron beam source having an energy higher than 30 MeV is very expensive, and it is difficult to obtain good results industrially. The irradiation dose is 0.1 to
A range of 500 Mrad is preferred. When the irradiation dose is less than 0.1 Mrad, the effect of activating the surface of the transparent conductive thin film is not sufficient. When the irradiation dose is more than 500 Mrad, it takes a long time for the treatment, and it is difficult to obtain good results industrially.
【0050】また、表面張力の高い材料を透明導電性薄
膜に用いてもよい。例えば、透明導電性薄膜として好適
に用いられるインジウム−スズ複合酸化物薄膜のうち、
酸化スズの含有率を多くすることで、表面張力を高くす
ることが可能である。インジウム−スズ複合酸化物薄膜
中の好ましい酸化スズの含有率は10〜60重量%であ
り、より好ましくは15〜50重量%である。酸化スズ
含有率が10重量%よりも少ない場合は、前述の活性化
処理を併用しなければ、表面張力を35〜60dyne
/cmの範囲内としにくく、60重量%を越える含有率
の場合は、導電性が不十分な薄膜となる傾向がある。Further, a material having a high surface tension may be used for the transparent conductive thin film. For example, among indium-tin composite oxide thin films suitably used as a transparent conductive thin film,
The surface tension can be increased by increasing the content of tin oxide. The preferred content of tin oxide in the indium-tin composite oxide thin film is 10 to 60% by weight, more preferably 15 to 50% by weight. When the tin oxide content is less than 10% by weight, the surface tension is reduced to 35 to 60 dyne unless the above-described activation treatment is used together.
/ Cm, and when the content exceeds 60% by weight, a thin film having insufficient conductivity tends to be formed.
【0051】本発明における透明導電性偏光フィルムに
おいて、ペン入力耐久性を向上させるには、偏光フィル
ムと透明導電性薄膜との付着力を10g/15mm以上
にするのが好ましい。In the transparent conductive polarizing film of the present invention, in order to improve the pen input durability, it is preferable that the adhesive force between the polarizing film and the transparent conductive thin film is 10 g / 15 mm or more.
【0052】偏光フィルムと透明導電性薄膜との接着性
を向上させるために、透明導電性薄膜を製膜する前に偏
光フィルム上を表面処理することが有効である。具体的
な手法としては、サンドブラストやエンボス加工により
表面積を増加させる物理的表面粗面化処理や、カルボニ
ル基やカルボキシル基、水酸基をフィルム上に増加する
ために、グローまたはコロナ放電を照射する放電処理、
オゾン処理、水酸基、カルボニル基などの極性基を増加
させるために、酸またはアルカリでフィルムを処理する
化学薬品処理などが挙げられる。用いられる方法として
は、偏光フィルムにより最適な方法が選ばれる。また、
2種以上を併用してもよい。In order to improve the adhesion between the polarizing film and the transparent conductive thin film, it is effective to perform a surface treatment on the polarizing film before forming the transparent conductive thin film. Specific methods include physical surface roughening treatment to increase the surface area by sandblasting and embossing, and discharge treatment to irradiate glow or corona discharge to increase carbonyl group, carboxyl group and hydroxyl group on the film. ,
Ozone treatment, chemical treatment of treating the film with an acid or alkali to increase polar groups such as a hydroxyl group and a carbonyl group, and the like are included. As a method to be used, an optimum method is selected depending on the polarizing film. Also,
Two or more kinds may be used in combination.
【0053】透明導電性薄膜と偏光フィルムとの付着力
を強固にするために、プライマー層を透明導電性薄膜と
偏光フィルムとの中間に設けてもよい。プライマー層に
用いる高分子樹脂は、透明導電性薄膜と偏光フイルムの
双方に卓越した接着性を提供するものであり、具体的に
は、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹
脂、ウレタンアクリル樹脂、シリコンアクリル樹脂、メ
ラミン樹脂、ポリシロキサン樹脂などが好ましく用いら
れる。In order to strengthen the adhesion between the transparent conductive thin film and the polarizing film, a primer layer may be provided between the transparent conductive thin film and the polarizing film. The polymer resin used for the primer layer provides excellent adhesiveness to both the transparent conductive thin film and the polarizing film.Specifically, polyester resins, acrylic resins, methacrylic resins, urethane acrylic resins, silicone acrylics Resins, melamine resins, polysiloxane resins and the like are preferably used.
【0054】プライマー層の厚さは、特に限定されない
が、0.005〜10μmの範囲が好ましく、さらに好
ましくは0.0l〜5μmの範囲である。0.005μ
mより薄い場合は、連続した膜になりにくいため透明導
電性薄膜の付着力が不足し、10μmよりも厚い場合
は、プライマー層の凝集被壊が起りやすくなるため、や
はり透明導電性薄膜の付着力が不足する傾向がある。The thickness of the primer layer is not particularly limited, but is preferably in the range of 0.005 to 10 μm, and more preferably in the range of 0.01 to 5 μm. 0.005μ
When the thickness is less than m, the adhesion of the transparent conductive thin film is insufficient because it is difficult to form a continuous film, and when the thickness is more than 10 μm, the primer layer is likely to be agglomerated and damaged. Tendency tends to be insufficient.
【0055】プライマー層の偏光フィルム上への積層方
法としては、特に限定されないが、コーティング法が好
ましく用いられる。例えばコーティング法としては、エ
アドクタコート法、ナイフコート法、ロッドコート法、
正回転ロールコート法、リバースロールコート法、グラ
ビアコート法、キスコート法、ビードコート法、スリッ
トオリフェスコート法、キャストコート法などが挙げら
れる。また、架橋構造を付与する場合には、コーティン
グ後に加熱もしくは紫外線、電子線照射によりエネルギ
ーを印加する。The method for laminating the primer layer on the polarizing film is not particularly limited, but a coating method is preferably used. For example, as a coating method, an air doctor coating method, a knife coating method, a rod coating method,
Examples include a forward rotation roll coating method, a reverse roll coating method, a gravure coating method, a kiss coating method, a bead coating method, a slit orifice coating method, a cast coating method, and the like. In the case of providing a crosslinked structure, energy is applied by heating or irradiation of ultraviolet rays or electron beams after coating.
【0056】プライマー層をコーティングするに先立
ち、本発明の目的を損なわないかぎりにおいて、偏光フ
ィルムをコロナ放電処理、グロー放電処理などの表面処
理を施してもよい。Prior to coating the primer layer, the polarizing film may be subjected to a surface treatment such as a corona discharge treatment or a glow discharge treatment as long as the object of the present invention is not impaired.
【0057】また、透明導電性偏光フィルムの透明導電
性薄膜を設けた面の反対側の面に、タッチパネルに用い
た際のペンなどからの傷つき防止のために、ハードコー
ト処理層を設けてもよい。このハードコート処理層とし
ては、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル
系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコン系
樹脂、ポリイミド系樹脂などの硬化性樹脂を単体もしく
は混合した架橋性樹脂硬化物層が好ましく用いられる。Further, a hard coat treatment layer may be provided on the surface of the transparent conductive polarizing film opposite to the surface on which the transparent conductive thin film is provided, in order to prevent damage from a pen or the like when used for a touch panel. Good. As the hard coat treatment layer, a curable resin such as a polyester resin, a urethane resin, an acrylic resin, a melamine resin, an epoxy resin, a silicone resin, a polyimide resin, or a mixture of curable resins alone or mixed. Layers are preferably used.
【0058】ハードコート処理層の厚さは、1〜50μ
mの範囲が好ましく、さらに好ましくは、2〜30μm
の範囲である。1μmより薄い場合は、ハードコート処
理の機能が十分発現しない傾向があり、50μmをこえ
る厚さでは、樹脂コーティングの速度が著しく遅くな
り、生産性の面で好ましくない。The thickness of the hard coat treatment layer is 1 to 50 μm.
m is preferable, and more preferably, 2 to 30 μm
Range. When the thickness is less than 1 μm, the function of the hard coat treatment tends not to be sufficiently exhibited, and when the thickness exceeds 50 μm, the speed of resin coating becomes extremely slow, which is not preferable in terms of productivity.
【0059】ハードコート処理層を積層する方法として
は、透明導電性偏光フィルムの透明導電性薄膜を設けた
面の反対側の面に、上記の樹脂をグラビア方式、リバー
ス方式、ダイ方式などでコーティングした後、熱、紫外
線、電子線等のエネルギーを印加することで、硬化させ
る方法が挙げられる。As a method of laminating the hard coat treatment layer, the above-mentioned resin is coated by a gravure method, a reverse method, a die method or the like on the surface of the transparent conductive polarizing film opposite to the surface on which the transparent conductive thin film is provided. After that, a method of curing by applying energy such as heat, ultraviolet rays, and an electron beam may be used.
【0060】また、タッチパネルの視認性向上のため
に、透明導電性偏光フィルムの透明導電性薄膜を設けた
面の反対側の面に、防眩処理層を設けてもよい。防眩処
理層の形成法としては、硬化性樹脂をコーティング、乾
燥後にエンボスロールで表面に凹凸を形成し、この後
熱、紫外線、電子線等のエネルギーを印加することで、
硬化させる方法が挙げられる。硬化性樹脂としては、ポ
リエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、
メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコン系樹脂、ポ
リイミド系樹脂などの単体もしくは混合したものが好ま
しく用いられる。In order to improve the visibility of the touch panel, an anti-glare treatment layer may be provided on the surface of the transparent conductive polarizing film opposite to the surface on which the transparent conductive thin film is provided. As a method of forming the anti-glare treatment layer, a curable resin is coated, and after drying, irregularities are formed on the surface with an embossing roll, and then heat, ultraviolet light, and energy such as an electron beam are applied.
There is a curing method. As the curable resin, polyester resin, urethane resin, acrylic resin,
A simple substance or a mixture of a melamine resin, an epoxy resin, a silicon resin, a polyimide resin, or the like is preferably used.
【0061】また、透明導電性偏光フィルムの透明導電
性薄膜を設けた面の反対側の面に、タッチパネルに用い
た際に視認性および可視光線の透過率をさらに向上させ
るために、反射防止処理層を設けてもよい。この反射防
止処理層には、透明保護フィルムの屈折率とは異なる屈
折率を有する材料を単層もしくは2層以上積層するのが
好ましい。単層構造の場合、透明保護フィルムよりも小
さな屈折率を有する材料を用いるのがよい。また、2層
以上の多層構造とする場合は、透明保護フィルムと隣接
する層は、透明保護フィルムよりも大きな屈折率を有す
る材料を用い、この上の層にはこれよりも小さな屈折率
を有する材料を選ぶのがよい。このような反射防止処理
層を構成する材料としては、有機材料でも無機材料でも
上記の屈折率の関係を満足すれば特に限定されないが、
例えば、CaF2 ,MgF2 ,NaAlF4 ,SiO
2 ,ThF4 ,ZrO2 ,Nd2 O3 ,SnO2 ,Ti
O2,CeO2 ,ZnS,In2 O3 などの誘電体が好
ましく用いられる。In order to further improve the visibility and the transmittance of visible light when used for a touch panel, an antireflection treatment is performed on the surface of the transparent conductive polarizing film opposite to the surface on which the transparent conductive thin film is provided. A layer may be provided. The antireflection treatment layer is preferably made of a material having a refractive index different from that of the transparent protective film in a single layer or two or more layers. In the case of a single-layer structure, a material having a smaller refractive index than the transparent protective film is preferably used. In the case of a multilayer structure having two or more layers, a layer having a refractive index larger than that of the transparent protective film is used for a layer adjacent to the transparent protective film, and a layer above the transparent protective film has a smaller refractive index. It is good to choose the material. The material constituting such an anti-reflection treatment layer is not particularly limited as long as it satisfies the above-mentioned refractive index relationship even with an organic material or an inorganic material.
For example, CaF 2 , MgF 2 , NaAlF 4 , SiO
2, ThF 4, ZrO 2, Nd 2 O 3, SnO 2, Ti
Dielectrics such as O 2 , CeO 2 , ZnS, and In 2 O 3 are preferably used.
【0062】この反射防止処理層を積層する方法として
は、真空蒸着法、スパッタリング法、CVD法、イオン
プレーティング法などのドライコーティングプロセスで
も、グラビア方式、リバース方式、ダイ方式などのウェ
ットコーティングプロセスでもよい。The method of laminating the antireflection treatment layer may be a dry coating process such as a vacuum deposition method, a sputtering method, a CVD method, or an ion plating method, or a wet coating process such as a gravure method, a reverse method, or a die method. Good.
【0063】さらに、このハードコート処理層、防眩処
理層、反射防止処理層の積層に先立って、前処理とし
て、コロナ放電処理、プラズマ処理、スパッタエッチン
グ処理、電子線照射処理、紫外線照射処理、プライマ処
理、易接着処理などの公知の処理を施してもよい。Further, prior to lamination of the hard coat treatment layer, the anti-glare treatment layer, and the anti-reflection treatment layer, as pretreatments, corona discharge treatment, plasma treatment, sputter etching treatment, electron beam irradiation treatment, ultraviolet irradiation treatment, Known processes such as a primer process and an easy adhesion process may be performed.
【0064】以上の如き本発明の透明導電性偏光フィル
ムの構造を模式的に例示すると、図1〜図4のようにな
る。図1は透明導電性偏光フィルム1が偏光フィルム1
1と透明導電性薄膜12とにより構成される例であり、
図2〜図4は、偏光フィルム11の透明導電性薄膜12
を形成していない面に、それぞれハードコート処理層H
C、防眩処理層AG、又は反射防止処理層ARを積層し
てある例である。FIGS. 1 to 4 schematically show the structure of the transparent conductive polarizing film of the present invention as described above. FIG. 1 shows that the transparent conductive polarizing film 1 is a polarizing film 1.
1 and a transparent conductive thin film 12.
2 to 4 show a transparent conductive thin film 12 of a polarizing film 11.
Are formed on each of the hard coat treatment layers H
C, an example in which an anti-glare treatment layer AG or an anti-reflection treatment layer AR is laminated.
【0065】本発明の透明導電性偏光フィルムは、主に
タッチパネル付き液晶表示素子の用途に使用されること
を前提としているが、偏光機能と透明導電性とが要求さ
れる用途であれば、何れの用途にも使用可能であり、例
えば通常の液晶表示素子、液晶を応用した各種の光学フ
ィルター、光学シャッター等が挙げられる。The transparent conductive polarizing film of the present invention is presumed to be mainly used for a liquid crystal display device with a touch panel. For example, ordinary liquid crystal display devices, various optical filters using liquid crystals, optical shutters, and the like can be used.
【0066】〔タッチパネル〕図5には、本発明の透明
導電性偏光フィルム1を用いた、タッチパネルの例を示
す。この例では、透明導電性薄膜12a,12bを有す
る一対のパネル板を、透明導電性薄膜12a,12bが
対向するようにスペーサー3を介して配置したタッチパ
ネルにおいて、一方のパネル板に本発明の透明導電性偏
光フィルム1を用いたものである。このタッチパネル
は、透明導電性偏光フィルム側より、ペンにより文字入
力したときに、ペンからの押圧により、対向した透明導
電性薄膜12a,12b同士が接触し、電気的にONに
なり、透明導電性薄膜12a,12bの端部からの抵抗
値等を検知することにより、ペンのタッチパネル上での
位置を検出できるようになる。このペン位置を連続的か
つ正確に検出することで、ペンの軌跡から文字を入力で
きる。この際、ペン接触側のパネル板が本発明の透明導
電性偏光フィルムであるため、ペン入力耐久性に優れ、
長期にわたって安定なタッチパネルとなる。上記はアナ
ログ式タッチパネルの場合であるが、マトリックス式タ
ッチパネルの場合には、透明導電性薄膜12a,12b
を所望のパターンにエッチング加工等することにより、
所望の入力が可能になる。[Touch Panel] FIG. 5 shows an example of a touch panel using the transparent conductive polarizing film 1 of the present invention. In this example, in a touch panel in which a pair of panel plates having transparent conductive thin films 12a and 12b are arranged via a spacer 3 so that the transparent conductive thin films 12a and 12b face each other, the transparent plate of the present invention is provided on one panel plate. The conductive polarizing film 1 is used. In this touch panel, when characters are input with the pen from the transparent conductive polarizing film side, the opposing transparent conductive thin films 12a and 12b come into contact with each other due to pressing from the pen, and are electrically turned on. By detecting the resistance value and the like from the ends of the thin films 12a and 12b, the position of the pen on the touch panel can be detected. By continuously and accurately detecting the pen position, characters can be input from the locus of the pen. At this time, since the panel plate on the pen contact side is the transparent conductive polarizing film of the present invention, the pen input durability is excellent,
A stable touch panel for a long time. The above is the case of the analog type touch panel, but in the case of the matrix type touch panel, the transparent conductive thin films 12a, 12b
By etching into a desired pattern, etc.
Desired input becomes possible.
【0067】なお、図5において、もう一方のパネル板
は、プラスチックフィルムやガラス板等の透明基板2の
上に透明導電性薄膜12bを積層したものである。プラ
スチックフィルムやガラス板等の透明基板2としては、
従来のタッチパネルにおける入力しない側のパネル板と
同様の材料が使用可能である。また、当該透明導電性薄
膜12bとしては、本発明の透明導電性偏光フィルムに
使用されるものの他、従来のタッチパネルにおける入力
しない側のパネル板と同様の材料が使用可能である。な
お、スペーサー3も従来と同様のものが使用可能であ
り、例えばエポキシビーズ等の樹脂ビーズや絶縁性の無
機微粒子等を用いることができる。In FIG. 5, the other panel is obtained by laminating a transparent conductive thin film 12b on a transparent substrate 2 such as a plastic film or a glass plate. As a transparent substrate 2 such as a plastic film or a glass plate,
The same material as the panel panel on the non-input side of the conventional touch panel can be used. Further, as the transparent conductive thin film 12b, other than those used for the transparent conductive polarizing film of the present invention, the same material as that of the panel panel on the non-input side in the conventional touch panel can be used. Note that the spacer 3 can be the same as the conventional one, and for example, resin beads such as epoxy beads, insulating inorganic fine particles, and the like can be used.
【0068】〔液晶表示素子〕図6には、液晶の配向状
態の制御により入射光に光学的変化を与える液晶パネル
4と、その両側に配置される偏光板とを備えた液晶表示
素子において、視認側に配置される前記偏光板が、透明
導電性薄膜12aを有する偏光フィルム1であると共
に、その透明導電性薄膜12aを一方の電極として、他
方の電極を有する透明パネル板とともにタッチパネルが
形成されている液晶表示素子が例示されている。この例
では、透明電極4b,4dを有する一対の透明基板4
a,4eを、透明電極4b,4dが対向するようにスペ
ーサー4fを介して配置し、その間隙に液晶層4cを注
入した構造の液晶パネル4が示されている。なお、バッ
クライト側の偏光板は、図示していない。[Liquid Crystal Display Device] FIG. 6 shows a liquid crystal display device including a liquid crystal panel 4 for giving an optical change to incident light by controlling the alignment state of liquid crystal, and polarizing plates disposed on both sides of the liquid crystal panel. The polarizing plate disposed on the viewing side is the polarizing film 1 having the transparent conductive thin film 12a, and a touch panel is formed with the transparent conductive thin film 12a as one electrode and a transparent panel plate having the other electrode. The illustrated liquid crystal display device is illustrated. In this example, a pair of transparent substrates 4 having transparent electrodes 4b and 4d
The liquid crystal panel 4 has a structure in which a and 4e are arranged via a spacer 4f so that the transparent electrodes 4b and 4d face each other, and a liquid crystal layer 4c is injected into a gap therebetween. Note that the polarizing plate on the backlight side is not shown.
【0069】液晶パネル4としては、液晶の配向状態の
制御により入射光に光学的変化を与えるものであれば何
れでも良く、液晶の種類や分子配列形式、配向状態の制
御のための駆動形式などは特に制限されない。また、カ
ラー表示の有無やその表示方式、また、光源の有無や透
過・反射の形式なども特に制限がなく、何れでもよい。
タッチパネルとしては、図5に示すものと同様のものが
例示され、その際、透明導電性薄膜12aを有する偏光
フィルム1としては、本発明の透明導電性偏光フィルム
以外のものでも使用可能であるが、特に偏光フィルム1
が前述の如き本発明の透明導電性偏光フィルムであるも
のが好ましい。The liquid crystal panel 4 may be of any type as long as it gives an optical change to the incident light by controlling the alignment state of the liquid crystal, such as the type of liquid crystal, the molecular arrangement, and the driving type for controlling the alignment. Is not particularly limited. The presence or absence of color display and its display method, the presence or absence of a light source, and the form of transmission and reflection are not particularly limited, and may be any.
As the touch panel, one similar to that shown in FIG. 5 is exemplified. At that time, as the polarizing film 1 having the transparent conductive thin film 12a, a material other than the transparent conductive polarizing film of the present invention can be used. , Especially polarizing film 1
Is preferably the transparent conductive polarizing film of the present invention as described above.
【0070】そして、図6に示す実施形態の他、(1)
透明基板4aをタッチパネルのパネル板と兼用すべく、
透明基板4aの視認側に透明導電性薄膜12bを直接形
成する構造、(2)入力しない側のパネル板を、本発明
の透明導電性偏光フィルムで構成する構造、などが別の
実施形態として例示される。Then, in addition to the embodiment shown in FIG. 6, (1)
In order to use the transparent substrate 4a as a panel plate of the touch panel,
Examples of another embodiment include a structure in which the transparent conductive thin film 12b is directly formed on the viewing side of the transparent substrate 4a, and (2) a structure in which the panel plate on the non-input side is formed of the transparent conductive polarizing film of the present invention. Is done.
【0071】上記(1)によると、層数をより減少させ
ることができ、軽量化や視認性の向上を更に図ることが
できる。According to the above (1), the number of layers can be further reduced, and the weight and the visibility can be further improved.
【0072】[0072]
【実施例】以下、本発明の構成と効果を具体的に示す実
施例等について説明する。なお、「部」とあるのは、特
に断りのない限り重量部を表す。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments and the like specifically showing the configuration and effects of the present invention will be described below. Note that “parts” means “parts by weight” unless otherwise specified.
【0073】実施例1 厚さが210μmの偏光フィルム(サンリッツ(株)
製:LLC2)を用い、この偏光フィルム上に、インジ
ウム−スズ複合酸化物をターゲットに用いて、高周波マ
グネトロンスパッタリング法で、300Å厚、酸化スズ
含有率8重量%のインジウム−スズ複合酸化物薄膜を透
明導電性薄膜として製膜した。この時、真空度はl×1
0-3Torr とし、ガスとしてAr 60sccm,
O2 2sccm流した。また製膜中、偏光フィルムの
温度は20℃とした。Example 1 A polarizing film having a thickness of 210 μm (Sanritz Co., Ltd.)
Co., Ltd .: LLC2), using an indium-tin composite oxide as a target, an indium-tin composite oxide thin film having a thickness of 300 mm and a tin oxide content of 8% by weight was formed on the polarizing film using a high-frequency magnetron sputtering method. It was formed as a transparent conductive thin film. At this time, the degree of vacuum is l × 1
0 -3 Torr, Ar gas of 60 sccm,
O 2 was flowed at 2 sccm. During the film formation, the temperature of the polarizing film was set to 20 ° C.
【0074】このようにして製膜した透明導電性薄膜を
UVオゾン洗浄機(アイグラフィック株式会社製:OC
−250315G)を用い、UVランプ25W、3灯、
照射時間15秒で処理した。The transparent conductive thin film formed in this manner is applied to a UV ozone washing machine (OC manufactured by Eye Graphic Co., Ltd .: OC
-250315G), UV lamp 25W, 3 lamps,
The treatment was performed with an irradiation time of 15 seconds.
【0075】このUVオゾン処理した透明導電性偏光フ
ィルムを一方のパネル板として用い、他方のパネル板と
して、ガラス基板上に上記と同等の方法で400Å厚の
透明導電性薄膜を形成したものを用いた。この2枚のパ
ネル板を透明導電性薄膜が対向するように、直径30μ
mのエポキシビーズを介して、配置しタッチパネルを作
製した。The transparent conductive polarizing film subjected to the UV ozone treatment was used as one panel plate, and the other panel plate was formed by forming a transparent conductive thin film having a thickness of 400 mm on a glass substrate in the same manner as described above. Was. The two panel plates are placed with a diameter of 30 μm so that the transparent conductive thin films face each other.
The touch panel was prepared by arranging through m epoxy beads.
【0076】次に、得られたタッチパネルを用いて、図
6のような液晶表示素子を作製した。その際、液晶パネ
ル等としては、市販の液晶表示装置(透過型,白黒タイ
プ,TN液晶)から偏光板を取り外したものを使用し
た。Next, a liquid crystal display device as shown in FIG. 6 was manufactured using the obtained touch panel. At this time, as the liquid crystal panel and the like, a liquid crystal display device (transmission type, black and white type, TN liquid crystal) from which a polarizing plate was removed was used.
【0077】実施例2 厚さが210μmの偏光フィルム(サンリッツ(株)
製:LLC2)を用い、この偏光フィルム上に、インジ
ウム−スズ複合酸化物をターゲットに用いて、高周波マ
グネトロンスパッタリング法で、300Å厚のインジウ
ム−スズ複合酸化物薄膜を透明導電性薄膜として製膜し
た。この時、酸化スズ含有率が15、25、35、4
5、60重量%であるインジウム−スズ複合酸化物ター
ゲットを用いた。各々のターゲットを用いた際のインジ
ウム−スズ複合酸化物薄膜中の酸化スズ含有率は、1
4、24、33、42、56重量%であった。また、真
空度は1×10-3Torr とし、ガスとしてAr 6
0sccm,O2 2sccm流した。また製膜中、偏
光フィルムの温度は20℃とした。また、この透明導電
性偏光フィルムを用い、実施例1と同様にしてタッチパ
ネル、及び液晶表示素子を作製した。Example 2 A polarizing film having a thickness of 210 μm (Sanritz Co., Ltd.)
Production: LLC2), a 300 mm thick indium-tin composite oxide thin film was formed as a transparent conductive thin film on this polarizing film by high-frequency magnetron sputtering using indium-tin composite oxide as a target. . At this time, the tin oxide content was 15, 25, 35, 4
An indium-tin composite oxide target of 5, 60% by weight was used. The tin oxide content in the indium-tin composite oxide thin film when each target was used was 1
4, 24, 33, 42, and 56% by weight. The degree of vacuum is 1 × 10 −3 Torr, and Ar 6 is used as a gas.
0 sccm and O 2 were flowed at 2 sccm. During the film formation, the temperature of the polarizing film was set to 20 ° C. Further, using this transparent conductive polarizing film, a touch panel and a liquid crystal display element were produced in the same manner as in Example 1.
【0078】実施例3 厚さが210μmの偏光フィルム(サンリッツ(株)
製:LLC2)を用い、この偏光フィルムをアルカリ性
洗浄剤(第一工業製薬(株)製:スキャット20−X)
10部、純水90部からなる洗浄液中で30秒間浸漬洗
浄した。Example 3 A polarizing film having a thickness of 210 μm (Sanritz Co., Ltd.)
Manufactured by LLC2) and an alkaline detergent (Scat 20-X manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.)
The substrate was immersed and washed in a cleaning solution consisting of 10 parts and 90 parts of pure water for 30 seconds.
【0079】この洗浄した偏光フィルム上に、インジウ
ム−スズ複合酸化物をターゲットに用いて、高周波マグ
ネトロンスパッタリング法で、300Å厚、酸化スズ含
有率20重量%のインジウム−スズ複合酸化物薄膜を透
明導電性薄膜として製膜した。このターゲットを用いた
際のインジウム−スズ複合酸化物薄膜中の酸化スズ含有
率は、18重量%であった。また真空度は1×10-3T
orr とし、ガスとしてAr 40sccm,O2
1sccm流した。また製膜中、偏光フィルムの温度は
20℃とした。この透明導電性偏光フィルムを用い、実
施例1と同様にしてタッチパネル、及び液晶表示素子を
作製した。Using the indium-tin composite oxide as a target, an indium-tin composite oxide thin film having a thickness of 300 mm and a tin oxide content of 20% by weight was formed on the washed polarizing film by a high-frequency magnetron sputtering method. It was formed as a conductive thin film. The tin oxide content in the indium-tin composite oxide thin film when using this target was 18% by weight. The degree of vacuum is 1 × 10 -3 T
orr and a gas of Ar 40 sccm, O 2
The flow was 1 sccm. During the film formation, the temperature of the polarizing film was set to 20 ° C. Using this transparent conductive polarizing film, a touch panel and a liquid crystal display element were produced in the same manner as in Example 1.
【0080】実施例4 厚さが210μmの偏光フィルム(サンリッツ(株)
製:LLC2)を用い、この偏光フィルムの面上にプラ
イマー層として、ポリエステル樹脂(東洋紡績(株)
製:バイロン280)3部をメチルエチルケトン50
部、トルエン50部、架橋剤(日本ポリウレタン工業
(株)製:コロネートL)1部で溶解した塗液を、グラ
ビア法でコートした。子備乾燥120℃、1分間処理し
た後、さらに硬化のために130℃、5分加熱処理し
た。硬化後のプライマー層の厚さは0.08μmであっ
た。Example 4 A polarizing film having a thickness of 210 μm (Sanritz Co., Ltd.)
Polyester resin (Toyobo Co., Ltd.) as a primer layer on the surface of the polarizing film using LLC2).
3 parts of methyl ethyl ketone 50
Parts, 50 parts of toluene and 1 part of a crosslinking agent (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd .: Coronate L) were coated with a gravure method. After drying at 120 ° C. for 1 minute, it was further heated at 130 ° C. for 5 minutes for curing. The thickness of the cured primer layer was 0.08 μm.
【0081】このプライマー面上に、インジウム−スズ
複合酸化物をターゲットに用いて、高周波マグネトロン
スパッタリング法で、300Å厚、酸化スズ含有率20
重量%のインジウム−スズ複合酸化物薄膜を透明導電性
薄膜として製膜した。このターゲットを用いた際のイン
ジウム−スズ複合酸化物薄膜中の酸化スズ含有率は、1
8重量%であった。また真空度は1×10-3Torrと
し、ガスとしてAr40sccm,O2 1sccm流
した。また製膜中、偏光フィルムの温度は20℃とし
た。この透明導電性偏光フィルムを用い、実施例1と同
様にしてタッチパネル、及び液晶表示素子を作製した。On this primer surface, using an indium-tin composite oxide as a target, a high-frequency magnetron sputtering method was used to obtain a 300-mm-thick tin oxide content of 20%.
A weight percent indium-tin composite oxide thin film was formed as a transparent conductive thin film. When this target was used, the tin oxide content in the indium-tin composite oxide thin film was 1
It was 8% by weight. The degree of vacuum was 1 × 10 −3 Torr, and a flow of 40 sccm of Ar and 1 sccm of O 2 was flown as a gas. During the film formation, the temperature of the polarizing film was set to 20 ° C. Using this transparent conductive polarizing film, a touch panel and a liquid crystal display element were produced in the same manner as in Example 1.
【0082】実施例5 実施例4と同様にして作製した透明導電性偏光フィルム
を用い、この透明導電性偏光フィルムをUVオゾン洗浄
機(アイグラフィック株式会社製:OC−250315
G)を用い、UVランプ25W、3灯、照射時間15秒
で処理し、実施例1と同様にしてタッチパネル、及び液
晶表示素子を作製した。Example 5 Using a transparent conductive polarizing film produced in the same manner as in Example 4, this transparent conductive polarizing film was washed with a UV ozone washing machine (OC-250315, manufactured by Eye Graphic Co., Ltd.).
Using G), treatment was performed with a UV lamp of 25 W, three lamps, and an irradiation time of 15 seconds, and a touch panel and a liquid crystal display element were produced in the same manner as in Example 1.
【0083】実施例6 実施例2と同様にして作製した偏光フィルム/インジウ
ム−スズ複合酸化物薄膜からなる積層体のインジウム−
スズ複合酸化物薄膜を形成した面と反対側の面上にハー
ドコート処理層(HC)を設けた。ハードコート剤とし
ては、エポキシアクリル樹脂100部にベンゾフェノン
4部を加えた紫外線硬化型樹脂組成物を用い、リバース
コート法で成膜後、80℃、5分の予備乾燥、500m
J/cm 2 の紫外線照射により硬化させた。硬化後の厚
さは5μmである。また、この透明導電性偏光フィルム
を用い、実施例1と同様にしてタッチパネル、及び液晶
表示素子を作製した。但し、インジウム−スズ複合酸化
物ターゲットには、酸化スズ含有率20重量%のものを
使用した。Example 6 A polarizing film / indium film prepared in the same manner as in Example 2
Indium in a laminate composed of a thin film of tin oxide
On the surface opposite to the surface on which the tin composite oxide thin film was formed,
A coated layer (HC) was provided. As a hard coat agent
Benzophenone in 100 parts of epoxy acrylic resin
Using an ultraviolet curable resin composition to which 4 parts have been added, reverse
After film formation by coating method, pre-drying at 80 ° C for 5 minutes, 500m
J / cm Two Was cured by UV irradiation. Thickness after curing
The length is 5 μm. Also, this transparent conductive polarizing film
And a touch panel and a liquid crystal in the same manner as in Example 1.
A display element was manufactured. However, indium-tin composite oxidation
The target is a tin oxide content of 20% by weight.
used.
【0084】実施例7 実施例2と同様にして作製した偏光フィルム/インジウ
ム−スズ複合酸化物薄膜からなる積層体のインジウム−
スズ複合酸化物薄膜を形成した面と反対側の面上に防眩
処理層 (AG)を設けた。コート剤としては、エポキ
シアクリル樹脂100部にベンゾフェノン2部を加えた
紫外線硬化型樹脂組成物を用い、リバースコート法で成
膜後、80℃、5分の予備乾燥し、エンボスロールで表
面に凹凸を形成し500mJ/cm2 の紫外線照射によ
り硬化させた。硬化後の厚さは5μmである。また、こ
の透明導電性偏光フィルムを用い、実施例1と同様にし
てタッチパネル、及び液晶表示素子を作製した。但し、
インジウム−スズ複合酸化物ターゲットには、酸化スズ
含有率20重量%のものを使用した。Example 7 Indium of a laminate composed of a polarizing film / indium-tin composite oxide thin film produced in the same manner as in Example 2
An antiglare treatment layer (AG) was provided on the surface opposite to the surface on which the tin composite oxide thin film was formed. As a coating agent, an ultraviolet curable resin composition obtained by adding 2 parts of benzophenone to 100 parts of an epoxy acrylic resin is used. The film is formed by reverse coating, preliminarily dried at 80 ° C. for 5 minutes, and the surface is embossed with an emboss roll. Was formed and cured by irradiation with 500 mJ / cm 2 of ultraviolet light. The thickness after curing is 5 μm. Further, using this transparent conductive polarizing film, a touch panel and a liquid crystal display element were produced in the same manner as in Example 1. However,
As the indium-tin composite oxide target, a target having a tin oxide content of 20% by weight was used.
【0085】実施例8 実施例2と同様にして作製した偏光フィルム/インジウ
ム−スズ複合酸化物薄膜からなる積層体のインジウム−
スズ複合酸化物薄膜を形成した面と反対側の面上に厚さ
730Åで屈折率1.89のY2 O3 を設け、さらに厚
さ1200Åで屈折率2.3のTiO2 を設け、さらに
厚さ940Åで屈析率1.46のSiO 2 を、それぞれ
高周波スパッタリング法で製膜し、反射防止処理層(A
R)とした。この各々の誘電体薄膜を製膜する時、いず
れも真空度は1×10-3Torrとし、ガスとしてAr
55sccm,O2 5sccm流した。また、基板
は製膜中、加熱もしくは冷却せず、室温のままとした。
また、この透明導電性偏光フィルムを用い、実施例1と
同様にしてタッチパネル、及び液晶表示素子を作製し
た。但し、インジウム−スズ複合酸化物ターゲットに
は、酸化スズ含有率20重量%のものを使用した。Example 8 A polarizing film / indium film produced in the same manner as in Example 2
Indium in a laminate composed of a thin film of tin oxide
Thickness on the surface opposite to the surface on which the tin composite oxide thin film was formed
Y with a refractive index of 1.89 at 730 °Two OThree And thicker
TiO with a refractive index of 2.3 at 1200 °Two And further
SiO with a thickness of 940 ° and a refractive index of 1.46 Two And
A film is formed by a high frequency sputtering method, and an antireflection treatment layer (A
R). When forming each of these dielectric thin films,
The degree of vacuum is 1 × 10-3Torr and Ar gas
55sccm, OTwo The flow was 5 sccm. Also, the substrate
Was kept at room temperature without heating or cooling during film formation.
Further, using this transparent conductive polarizing film,
In the same way, a touch panel and a liquid crystal display
Was. However, indium-tin composite oxide target
Used a tin oxide content of 20% by weight.
【0086】比較例1 UVオゾン処理を行わなかった以外は、実施例1と同様
にして、透明導電性偏光フィルムを作製した。また、こ
の透明導電性偏光フィルムを用いて、実施例1と同様に
してタッチパネル、及び液晶表示素子を作製した。Comparative Example 1 A transparent conductive polarizing film was produced in the same manner as in Example 1 except that the UV ozone treatment was not performed. Using this transparent conductive polarizing film, a touch panel and a liquid crystal display element were produced in the same manner as in Example 1.
【0087】比較例2 酸化スズ含有率が70、80、90重量%であるターゲ
ットを用いた以外は、実施例2と同様にして透明導電性
偏光フィルムを作製した。また、この透明導電性偏光フ
ィルムを用いて、実施例1と同様にしてタッチパネル、
及び液晶表示素子を作製した。Comparative Example 2 A transparent conductive polarizing film was produced in the same manner as in Example 2 except that a target having a tin oxide content of 70, 80 and 90% by weight was used. Further, using this transparent conductive polarizing film, a touch panel
And a liquid crystal display element.
【0088】比較例3 UVオゾン処理を行わなかった以外は、実施例5と同様
にして、透明導電性偏光フィルムを作製した。また、こ
の透明導電性偏光フィルムを用いて、実施例1と同様に
してタッチパネル、及び液晶表示素子を作製した。但
し、インジウム−スズ複合酸化物ターゲットには、酸化
スズ含有率9重量%のものを使用した。Comparative Example 3 A transparent conductive polarizing film was produced in the same manner as in Example 5, except that the UV ozone treatment was not performed. Using this transparent conductive polarizing film, a touch panel and a liquid crystal display element were produced in the same manner as in Example 1. However, an indium-tin composite oxide target having a tin oxide content of 9% by weight was used.
【0089】比較例4 厚さが210μmの偏光フィルム(サンリッツ(株)
製:LLC2)を用い、この偏光フィルムの一方の面に
有機ケイ素化合物のブタノール、イソプロパノール混合
アルコール系溶液(濃度1重量%)を塗工した後、10
0℃、1分で乾燥した。この後、有機ケイ素化合物上に
実施例2と同様にして、インジウム−スズ複合酸化物薄
膜からなる透明導電性薄膜を基板温度120℃で製膜し
た。この積層体をさらに150℃、10時間で加熱処理
を行った。また、この透明導電性偏光フィルムを用い、
実施例1と同様にしてタッチパネル、及び液晶表示素子
を作製した。但し、インジウム−スズ複合酸化物ターゲ
ットには、酸化スズ含有率20重量%のものを使用し
た。Comparative Example 4 A polarizing film having a thickness of 210 μm (Sanritz Co., Ltd.)
Co., Ltd .: LLC2) was applied to one surface of the polarizing film with an alcoholic solution (concentration: 1% by weight) of a mixture of butanol and isopropanol of an organosilicon compound.
Dried at 0 ° C. for 1 minute. Thereafter, a transparent conductive thin film made of an indium-tin composite oxide thin film was formed on the organosilicon compound at a substrate temperature of 120 ° C in the same manner as in Example 2. This laminate was further subjected to a heat treatment at 150 ° C. for 10 hours. Also, using this transparent conductive polarizing film,
In the same manner as in Example 1, a touch panel and a liquid crystal display element were manufactured. However, a target having a tin oxide content of 20% by weight was used as the indium-tin composite oxide target.
【0090】比較例5 基材フィルムとして、188μmのポリエチレンテレフ
タレート(東洋紡績(株)製:A4100)を用い、実
施例3の条件で透明導電性薄膜を形成し、透明導電性フ
ィルムを作製した。この透明導電性フィルムを実施例1
の導電性偏光フィルムの代わりに用い、タッチパネルを
作製した。次に得られたタッチパネルを用い、下側から
液晶パネル、サンリッツ(株)製の偏光フィルム、タッ
チパネルの順に積層し、液晶表示素子を作製した。Comparative Example 5 A 188 μm polyethylene terephthalate (A4100, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) was used as a substrate film, and a transparent conductive thin film was formed under the conditions of Example 3 to produce a transparent conductive film. This transparent conductive film was used in Example 1
Was used in place of the conductive polarizing film described above to produce a touch panel. Next, using the obtained touch panel, a liquid crystal panel, a polarizing film manufactured by Sanritz Co., Ltd., and a touch panel were laminated in this order from the lower side to produce a liquid crystal display element.
【0091】以上の実施例1〜8および比較例1〜5に
ついて、透明導電性薄膜中の組成分析、透明導電性薄膜
のエッチング時間、透明導電性薄膜の電子線回析像、光
線透過率、透明導電性薄膜の表面張力、透明導電性薄膜
の表面抵抗率、透明導電性薄膜の付着力、銀ペーストと
透明導電性薄膜との密着性を下記の方法で測定した。ま
た、透明導電性偏光フィルムを用いて作製したタッチパ
ネルについて、ペン入力耐久性試験を、さらにタッチパ
ネルを組み込んだ液晶表示素子について視認性の評価を
実施した。In Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 5, the composition analysis in the transparent conductive thin film, the etching time of the transparent conductive thin film, the electron diffraction image of the transparent conductive thin film, the light transmittance, The surface tension of the transparent conductive thin film, the surface resistivity of the transparent conductive thin film, the adhesive force of the transparent conductive thin film, and the adhesion between the silver paste and the transparent conductive thin film were measured by the following methods. In addition, a pen input durability test was performed on a touch panel manufactured using the transparent conductive polarizing film, and a visibility evaluation was performed on a liquid crystal display element incorporating the touch panel.
【0092】<透明導電性薄膜中の組成分析>インジウ
ム−スズ複合酸化物薄膜中の酸化スズの重量%は、薄膜
中のインジウムとスズの組成を原子吸光分析で求め、イ
ンジウムとスズが薄膜中で完全酸化物であると仮定して
In2 O3 、SnO2 の比重(In2 O3 は7.18、
SnO 2 は6.95)を用いて算出した値である。<Analysis of Composition in Transparent Conductive Thin Film>
The weight percentage of tin oxide in the mu-tin composite oxide thin film
The composition of indium and tin in the steel was determined by atomic absorption spectroscopy.
Assuming that indium and tin are perfect oxides in the thin film
InTwo OThree , SnOTwo Specific gravity (InTwo OThree Is 7.18,
SnO Two Is a value calculated using 6.95).
【0093】<表面抵抗率>三菱化学(株)製:Lot
est AMCP−T400を用い、JIS K719
4に準拠した4端子法にて測定した。<Surface resistivity> Lot, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation
EST AMCP-T400 and JIS K719
The measurement was carried out by a four-terminal method in accordance with No. 4.
【0094】<光線透過率>日本電色工業(株)製:N
DH−1001DPを用い、JIS K 7105に準
拠した積分球式光線透過率法にて測定した。<Light transmittance> Nippon Denshoku Industries Co., Ltd .: N
Using DH-1001DP, it was measured by an integrating sphere light transmittance method based on JIS K 7105.
【0095】<表面張力>表面張力が既知である水、お
よびヨウ化メチレンの透明導電性薄膜に対する接触角:
θw、θyを接触角計(協和界面科学株式会社製:CA
−X型)を用い、25℃、50%RHの条件下で測定し
た。これらの測定値を用い、以下のようにして、透明導
電性薄膜の表面張力γsを算出した。<Surface Tension> Contact angle of water and methylene iodide with known surface tension to transparent conductive thin film:
θw and θy are measured with a contact angle meter (Kyowa Interface Science Co., Ltd .: CA
-X type) under the conditions of 25 ° C. and 50% RH. Using these measured values, the surface tension γs of the transparent conductive thin film was calculated as follows.
【0096】透明導電性薄膜の表面張力γsは、分散性
成分γsdと極性成分γspとの和である。すなわち、 γs=γsd十γsp (式l) また、Youngの式より、 γs=γsw+γw・cosθw (式2) γs=γsy+γy・cosθy (式3) ここで、γswは透明導電性薄膜(12)と水との間に
働く張力、γswは透明導電性薄膜(12)とヨウ化メ
チレンとの関に働く張力、γwは水の表面張力、γyは
ヨウ化メチレンの表面張力である。The surface tension γs of the transparent conductive thin film is the sum of the dispersive component γsd and the polar component γsp. Γs = γsd + γy · cosθw (Formula 2) From the Young's formula, γs = γsw + γw · cosθw (Formula 2) where γsw is the transparent conductive thin film (12) and water Γsw is the tension acting between the transparent conductive thin film (12) and methylene iodide, γw is the surface tension of water, and γy is the surface tension of methylene iodide.
【0097】また、Fowkesの式より γsw=γs+γw−2(γsd・γwd)1/2 ‐2(γsp・γwp) 1/2 (式4) γsy=γs+γy−2(γsd・γyd)1/2 ‐2(γsp・γyp) 1/2 (式5) である。ここで、γwdは水の表面張力の分散性成分、
γwpは水の表面張力の極性成分、γydはヨウ化メチ
レンの表面張力の分散性成分、γypはヨウ化メチレン
の表面張力の極性成分である。From Fowkes' equation, γsw = γs + γw−2 (γsd · γwd) 1 / 2− (γsp · γwp) 1/2 (Equation 4) γsy = γs + γy-2 (γsd · γyd) 1 / 2− 2 (γsp · γyp) 1/2 (Equation 5). Here, γwd is a dispersive component of the surface tension of water,
γwp is a polar component of the surface tension of water, γyd is a dispersive component of the surface tension of methylene iodide, and γyp is a polar component of the surface tension of methylene iodide.
【0098】式1から式5の連立方程式を解くことによ
り、透明導電性薄膜の表面張力γs=γsd十γspを
算出できる。この時、水の表面張力(γw):72.8
dyne/cm、ヨウ化メチレンの表面張力(γy):
50.5dyne/cm、水の表面張力の分散性成分
(γwd):21.8dyne/cm、水の表面張力の
極性成分(γwp):51.0dyne/cm、ヨウ化
メチレンの表面張力の分散性成分(γyd):49.5
dyne/cm、ヨウ化メチレンの表面張力の極性成分
(γyp):1.3dyne/cmを用いた。By solving the simultaneous equations of Expressions 1 to 5, the surface tension γs of the transparent conductive thin film can be calculated as γs = γsd + γsp. At this time, the surface tension of water (γw): 72.8
dyne / cm, surface tension of methylene iodide (γy):
50.5 dyne / cm, dispersibility component of surface tension of water (γwd): 21.8 dyne / cm, polar component of surface tension of water (γwp): 51.0 dyne / cm, dispersibility of surface tension of methylene iodide Component (γyd): 49.5
dyne / cm, a polar component (γyp) of the surface tension of methylene iodide: 1.3 dyne / cm.
【0099】<付着力>厚さ40μmのアイオノマーフ
ィルムとポリエステル系接着剤を用いて、厚さ75μm
のポリエチレンテレフタレートフィルムにラミネートし
た付着力測定用積層体を作製した。この付着力測定用積
層体のアイオノマー面と透明導電性偏光フィルムの透明
導電性薄膜面を対向させ、130℃でヒートシールし
た。この積層体を付着力測定用積層体と透明導電性偏光
フィルムとを180度剥離法で剥離し、この剥離力を付
着力とした。この時の剥離速度は1000mm/分とし
た。 <結晶構造(電子線回析)>プラスチックフィルムおよ
び硬化性高分子硬化層を溶解し、透明導電性薄膜の単独
膜を得るために、透明導電性偏光フィルムを構成する基
材フィルムの溶解する溶剤中に2日間浸漬する。溶液中
の透明導電性薄膜をマイクログリッドに乗せ、溶液を乾
燥させるために1日間風乾した。この試料の電子線回析
像を透過型電子顧微鏡(日本電子(株)製:JEM−2
010)にて測定した。電子線の条件は、加速電圧20
0kV、波長0.0025nmで行った。この回析像か
ら透明導電性薄膜が結晶質であるか、非晶質であるかを
測定した。<Adhesive force> Using an ionomer film having a thickness of 40 μm and a polyester-based adhesive, a thickness of 75 μm was used.
To produce a laminate for measuring adhesive force, which was laminated on a polyethylene terephthalate film. The ionomer surface of the laminate for measuring adhesive force was opposed to the transparent conductive thin film surface of the transparent conductive polarizing film, and heat-sealed at 130 ° C. The laminate was separated from the laminate for measuring adhesive force and the transparent conductive polarizing film by a 180 ° peeling method, and the peeling force was defined as the adhesive force. The peeling speed at this time was 1000 mm / min. <Crystal Structure (Electron Beam Diffraction)> In order to dissolve the plastic film and the curable polymer cured layer and obtain a single transparent conductive thin film, a solvent in which the base film constituting the transparent conductive polarizing film is soluble Immerse in it for 2 days. The transparent conductive thin film in the solution was placed on a microgrid and air-dried for one day to dry the solution. An electron beam diffraction image of this sample is transmitted through a transmission electron microscope (JEM-2, manufactured by JEOL Ltd.).
010). The condition of the electron beam is as follows:
The measurement was performed at 0 kV and a wavelength of 0.0025 nm. From this diffraction image, it was determined whether the transparent conductive thin film was crystalline or amorphous.
【0100】<エッチング時間>10cm×1cmのサ
イズに切り出した透明導電性フィルムの両端にテスター
を接続し、抵抗を測定しながら、40℃、20%硫酸水
溶液中に浸漬し、抵抗が10MΩ以上となる時間をエッ
チング時間とした。<Etching time> A tester was connected to both ends of a transparent conductive film cut out to a size of 10 cm × 1 cm, and the resistance was measured and immersed in a 20% sulfuric acid aqueous solution at 40 ° C. to obtain a resistance of 10 MΩ or more. This time was taken as the etching time.
【0101】<銀ペーストの密着性>ステンレス製のス
クリーンメッシュ 200mesh/inchを用い、
銀ペースト(東洋紡績株式会社製:DW‐250H−
5)を透明導電性薄膜上に塗布し、120℃、30分で
焼成した。焼成後の銀ペーストの厚さは20μmであ
る。銀ペーストと透明導電性薄膜の密着性をJIS D
0202準拠しクロスカット密着法を用い、5枚の試験
片について測定しその平均値を算出した。<Adhesion of Silver Paste> Using a stainless screen mesh 200 mesh / inch,
Silver paste (Toyobo Co., Ltd .: DW-250H-
5) was applied on a transparent conductive thin film and baked at 120 ° C. for 30 minutes. The thickness of the silver paste after firing is 20 μm. JIS D for adhesion between silver paste and transparent conductive thin film
The measurement was performed on five test pieces using a cross-cut adhesion method in accordance with No. 0202, and the average value was calculated.
【0102】<ペン入力耐久性>まず、ペン入力試験前
のリニアリティ測定を以下のようにして実施した。<Pen Input Durability> First, the linearity measurement before the pen input test was performed as follows.
【0103】本発明の透明導電性偏光フィルムを100
mm×100mmに切り出し、透明導電性薄膜形成面の
両端辺に幅5mmの電極を銀ペーストを塗布して作製し
た。この電極間に定電圧電源により5Vを印加し、サン
プルの中心部50mm×50mmの範囲を縦横1mm間
隔で(x1,y1)〜(x50,y50)の2500点
について電圧Vi,j(i,j=1〜50)を測定し
た。The transparent conductive polarizing film of the present invention was
An electrode having a width of 5 mm was formed by applying a silver paste to both sides of the transparent conductive thin film forming surface. A voltage of 5 V is applied between the electrodes by a constant voltage power supply, and a voltage of Vi, j (i, j) is applied to 2500 points of (x1, y1) to (x50, y50) at an interval of 1 mm vertically and horizontally in a range of 50 mm × 50 mm at the center of the sample. = 1 to 50).
【0104】各電圧測定点での理論電圧Ui,j=V
1,1+(V50,50‐V1,1)/50×(j−
1)からのズレを△i,j=(Vi,j−Ui,j)/
Ui,jで定義し、この△i,jの絶対値の最大値をリ
ニアリティと定義した。Theoretical voltage Ui, j = V at each voltage measurement point
1,1+ (V50,50−V1,1) / 50 × (j−
The deviation from 1) is expressed as △ i, j = (Vi, j−Ui, j) /
Ui, j, and the maximum absolute value of △ i, j was defined as linearity.
【0105】ペン入力試験前のリニアリティを測定した
透明導電性偏光フィルムを用い、実施例および比較例に
記載されているようにしてタッチパネルを作製した。透
明導電性偏光フィルムで構成されたパネル板側から、ポ
リアセタール樹脂からなるペン先半径0.8mmのタッ
チペンを用いて、リニアリティ測定を行った部位に、プ
ロッタ(ローランド(株)製:DXY−1150)によ
り、2cm角サイズのカタカナのア〜ンまでの文字を2
00,000字の筆記を行い、ペン入力試験を行った。
この時、ペン荷重250gf、文字筆記速度2,000
字/時間とした。Using the transparent conductive polarizing film whose linearity was measured before the pen input test, touch panels were prepared as described in Examples and Comparative Examples. A plotter (Roland Corp .: DXY-1150) was applied to the part where the linearity was measured using a touch pen with a nib radius of 0.8 mm made of polyacetal resin from the panel plate side composed of a transparent conductive polarizing film. With this, 2cm square katakana characters from A to N
Writing of 000 characters was performed, and a pen input test was performed.
At this time, the pen load was 250 gf and the character writing speed was 2,000.
Characters / hour.
【0106】ペン入力試験後の透明導電性フィルムのリ
ニアリティを前述と同様の手法で測定し、リニアリティ
が3%を越えた筆記字数をペン入力耐久性とした。The linearity of the transparent conductive film after the pen input test was measured by the same method as described above, and the number of written characters whose linearity exceeded 3% was defined as the pen input durability.
【0107】<視認性>液晶表示素子としての視認性に
ついて、目視試験により相対的に評価した。<Visibility> The visibility as a liquid crystal display element was relatively evaluated by a visual test.
【0108】実施例1〜8、および比較例1〜5につい
ての測定結果を表1に示す。Table 1 shows the measurement results for Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 5.
【0109】[0109]
【表1】 表1の結果が示すように、本発明の実施例によると、表
面抵抗が小さく、エッチング時間が短く、銀ペーストと
の密着性、ペン入力耐久性、及び視認製に優れる偏光フ
ィルム、タッチパネル等が得られた。[Table 1] As shown in the results of Table 1, according to the example of the present invention, a polarizing film, a touch panel, and the like having excellent surface resistance, short etching time, adhesion with silver paste, pen input durability, and visual recognition are excellent. Obtained.
【0110】これに対して、透明導電性薄膜の表面張力
の小さい比較例1や比較例3では、銀ペーストとの密着
性が劣っていた。また、酸化スズの含有量が高く表面張
力が大き過ぎる比較例2−1〜3では、銀ペーストとの
密着性が劣ると共に、エッチング時間が長くなった。結
晶性の透明導電性薄膜を形成した比較例4では、エッチ
ング時間が極端に長くなった。ポリエチレンテレフタレ
ートを基材フィルムとする通常のタッチパネルを用いた
比較例5では、ペン入力耐久性と視認性が劣っていた。On the other hand, in Comparative Examples 1 and 3 in which the surface tension of the transparent conductive thin film was small, the adhesion to the silver paste was poor. In Comparative Examples 2-1 to 3 in which the tin oxide content was too high and the surface tension was too large, the adhesion to the silver paste was poor and the etching time was long. In Comparative Example 4 in which a crystalline transparent conductive thin film was formed, the etching time was extremely long. In Comparative Example 5 using a normal touch panel using polyethylene terephthalate as the base film, the pen input durability and visibility were poor.
【図1】本発明の導電性偏光フィルムの例を模式的に示
した断面図FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an example of a conductive polarizing film of the present invention.
【図2】本発明の導電性偏光フィルムの例を模式的に示
した断面図FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing an example of a conductive polarizing film of the present invention.
【図3】本発明の導電性偏光フィルムの例を模式的に示
した断面図FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing an example of the conductive polarizing film of the present invention.
【図4】本発明の導電性偏光フィルムの例を模式的に示
した断面図FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing an example of the conductive polarizing film of the present invention.
【図5】本発明の導電性偏光フィルムを用いて作製した
タッチパネルの一例を模式的に示した断面図FIG. 5 is a cross-sectional view schematically illustrating an example of a touch panel manufactured using the conductive polarizing film of the present invention.
【図6】本発明のタッチパネルを組み込んだ液晶表示素
子の一例を模式的に示した断面図FIG. 6 is a cross-sectional view schematically showing one example of a liquid crystal display device incorporating the touch panel of the present invention.
1 透明導電性偏光フィルム 2 ガラス板 3 ビーズ 4 液晶パネル 11 偏光フィルム 12 透明導電性薄膜 HC ハードコート処理層 AG 防眩処理層 AR 反射防止処理層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent conductive polarizing film 2 Glass plate 3 Bead 4 Liquid crystal panel 11 Polarizing film 12 Transparent conductive thin film HC hard coat processing layer AG Anti-glare processing layer AR Anti-reflection processing layer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 横山 誠一郎 滋賀県大津市堅田二丁目1番1号 東洋紡 績株式会社総合研究所内 Fターム(参考) 2H049 BA02 BA26 BA27 BB43 BB62 BB65 BC22 2H091 FA08X FA08Z FA37X FA50X FB02 FC23 FD06 GA03 GA16 LA02 LA11 LA12 LA16 2H093 NA71 NC72 ND42 ND54 ND60 NE06 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Seiichiro Yokoyama 2-1-1 Katata, Otsu-shi, Shiga F-term in Toyobo Co., Ltd. Research Laboratory 2H049 BA02 BA26 BA27 BB43 BB62 BB65 BC22 2H091 FA08X FA08Z FA37X FA50X FB02 FC23 FD06 GA03 GA16 LA02 LA11 LA12 LA16 2H093 NA71 NC72 ND42 ND54 ND60 NE06
Claims (8)
の面に、非晶質である透明導電性薄膜(12)を形成し
た透明導電性偏光フィルム(1)であって、前記透明導
電性薄膜(12)の表面張力が35〜60dyne/c
mであることを特徴とする透明導電性偏光フィルム。1. A transparent conductive polarizing film (1) in which an amorphous transparent conductive thin film (12) is formed on at least one surface of a polarizing film (11), wherein said transparent conductive thin film ( 12) Surface tension of 35 to 60 dyne / c
m.
電性薄膜(12)との付着力が10g/15mm以上で
ある請求項1に記載の透明導電性偏光フィルム。2. The transparent conductive polarizing film according to claim 1, wherein the adhesive force between the polarizing film (11) and the transparent conductive thin film (12) is 10 g / 15 mm or more.
ム−スズ複合酸化物薄膜であり、該薄膜中の酸化スズの
含有率が10〜60重量%である請求項1または2に記
載の透明導電性偏光フィルム。3. The transparent conductive film according to claim 1, wherein the transparent conductive thin film (12) is an indium-tin composite oxide thin film, and the content of tin oxide in the thin film is 10 to 60% by weight. Conductive polarizing film.
明導電性薄膜(12)を形成していない面に、ハードコ
ート処理層(HC)を積層してある請求項1〜3のいず
れかに記載の透明導電性偏光フィルム。4. A hard coat treatment layer (HC) is laminated on a surface of the transparent conductive polarizing film (1) where the transparent conductive thin film (12) is not formed. 4. The transparent conductive polarizing film according to item 1.
明導電性薄膜(12)を形成していない面に、防眩処理
層(AG)を積層してある請求項1〜3のいずれかに記
載の透明導電性偏光フィルム。5. The anti-glare treatment layer (AG) is laminated on a surface of the transparent conductive polarizing film (1) where the transparent conductive thin film (12) is not formed. 4. The transparent conductive polarizing film according to item 1.
明導電性薄膜(12)を形成していない面に、反射防止
処理層(AR)を積層してある請求項1〜3のいずれか
に記載の透明導電性偏光フィルム。6. The anti-reflection treatment layer (AR) is laminated on a surface of the transparent conductive polarizing film (1) on which the transparent conductive thin film (12) is not formed. 4. The transparent conductive polarizing film according to item 1.
パネル板を、透明導電性薄膜(12)が対向するように
スペーサーを介して配置してなるタッチパネルにおい
て、 前記パネル板の少なくとも片方が、請求項1〜6のいず
れかに記載の透明導電性偏光フィルム(1)からなるこ
とを特徴とするタッチパネル。7. A touch panel in which a pair of panel plates having a transparent conductive thin film (12) are arranged via a spacer so that the transparent conductive thin films (12) face each other, wherein at least one of the panel plates is disposed. A touch panel comprising the transparent conductive polarizing film (1) according to any one of claims 1 to 6.
学的変化を与える液晶パネル(4)と、その両側に配置
される偏光板とを備えた液晶表示素子において、 視認側に配置される前記偏光板が、請求項1〜6のいず
れかに記載の透明導電性偏光フィルム(1)であると共
に、 前記透明導電性薄膜(12)を一方の電極として、他方
の電極を有する透明パネル板とともにタッチパネルが形
成されていることを特徴とする液晶表示素子。8. A liquid crystal display device comprising a liquid crystal panel (4) for giving an optical change to incident light by controlling the alignment state of the liquid crystal, and polarizing plates disposed on both sides of the liquid crystal panel. The said polarizing plate is the transparent conductive polarizing film (1) in any one of Claims 1-6, and the transparent panel board which has the said transparent conductive thin film (12) as one electrode and the other electrode. A liquid crystal display element comprising a touch panel and a touch panel.
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JP1799199A JP2000214330A (en) | 1999-01-27 | 1999-01-27 | Transparent conductive polarizing film, touch panel and liquid crystal display device |
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