JP2000214316A - ファイバグレ―ティングの製造方法及び製造装置 - Google Patents
ファイバグレ―ティングの製造方法及び製造装置Info
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- JP2000214316A JP2000214316A JP11014082A JP1408299A JP2000214316A JP 2000214316 A JP2000214316 A JP 2000214316A JP 11014082 A JP11014082 A JP 11014082A JP 1408299 A JP1408299 A JP 1408299A JP 2000214316 A JP2000214316 A JP 2000214316A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 紫外光干渉パターンを照射してファイバグレ
ーティングを形成する際の迷光の影響を低減する。 【解決手段】 光ファイバ１２の紫外光干渉パターンが
照射される側の反対側に、断面形状が複数の鋭角を含
み、且つ長手方向に一定である光終端を、前記光終端の
断面形状に含まれる鋭角の頂点で形成される複数の稜線
１８ａ〜１８ｆの方向が前記光ファイバの長手方向と平
行となるように配置することにより、光ファイバ１２の
近傍を通過した紫外光、光ファイバ１２を屈折、透過し
た紫外光を前記光終端１７で吸収し、迷光の発生を抑制
し、遮断特性に優れたファイバグレーティングを得る。
ーティングを形成する際の迷光の影響を低減する。 【解決手段】 光ファイバ１２の紫外光干渉パターンが
照射される側の反対側に、断面形状が複数の鋭角を含
み、且つ長手方向に一定である光終端を、前記光終端の
断面形状に含まれる鋭角の頂点で形成される複数の稜線
１８ａ〜１８ｆの方向が前記光ファイバの長手方向と平
行となるように配置することにより、光ファイバ１２の
近傍を通過した紫外光、光ファイバ１２を屈折、透過し
た紫外光を前記光終端１７で吸収し、迷光の発生を抑制
し、遮断特性に優れたファイバグレーティングを得る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ファイバの光導
波領域であるコアの長手方向に周期的屈折率変調を有す
るファイバグレーティングの製造方法及び製造装置に関
する。
波領域であるコアの長手方向に周期的屈折率変調を有す
るファイバグレーティングの製造方法及び製造装置に関
する。
【０００２】
【従来の技術】光ファイバのコアの長手方向に数千層か
ら数万層の周期的屈折率変調を形成したファイバグレー
ティング、とりわけ周期的屈折率変調の周期が長手方向
に一定であるブラッググレーティングは、急峻な反射ス
ペクトルを有するので、複数の異なる波長の光に異なる
信号を載せて伝送する波長多重通信において、異なる波
長の信号光の合波、分波を行う素子を構成する部品とし
て重要である。
ら数万層の周期的屈折率変調を形成したファイバグレー
ティング、とりわけ周期的屈折率変調の周期が長手方向
に一定であるブラッググレーティングは、急峻な反射ス
ペクトルを有するので、複数の異なる波長の光に異なる
信号を載せて伝送する波長多重通信において、異なる波
長の信号光の合波、分波を行う素子を構成する部品とし
て重要である。
【０００３】光ファイバのコアに周期的屈折率変調を形
成する装置の構成は、特開平８−２８６０６６号公報に
示されている。前記公報に示された装置の構成を図５に
示す。図５で、１２は光ファイバ、５２は紫外光干渉パ
ターンの照射光学系、５３はホールダー、５４はφステ
ージ、５５はＹステージ、５６はＸステージ、５７はθ
ステージ、５８は光検出器である。
成する装置の構成は、特開平８−２８６０６６号公報に
示されている。前記公報に示された装置の構成を図５に
示す。図５で、１２は光ファイバ、５２は紫外光干渉パ
ターンの照射光学系、５３はホールダー、５４はφステ
ージ、５５はＹステージ、５６はＸステージ、５７はθ
ステージ、５８は光検出器である。
【０００４】前記装置で、φステージ５４、Ｙステージ
５５、Ｘステージ５６、θステージ５７は光ファイバ１
２と紫外光干渉パターンの照射光学系５２の相対的位置
関係を調整するものであり、光検出器５８は、周期的屈
折率変調の生成をモニターするものである。従って、本
装置の基本的な機能は、ホールダー５３に光ファイバ１
２を保持して、紫外光干渉パターンの照射光学系５２に
より紫外光干渉パターンを光ファイバ１２に照射し、紫
外光干渉パターンの強度分布に比例した屈折率の上昇を
光ファイバ１２のコアに誘起することにより、前記光フ
ァイバのコアに周期的屈折率変調を形成するものであ
る。
５５、Ｘステージ５６、θステージ５７は光ファイバ１
２と紫外光干渉パターンの照射光学系５２の相対的位置
関係を調整するものであり、光検出器５８は、周期的屈
折率変調の生成をモニターするものである。従って、本
装置の基本的な機能は、ホールダー５３に光ファイバ１
２を保持して、紫外光干渉パターンの照射光学系５２に
より紫外光干渉パターンを光ファイバ１２に照射し、紫
外光干渉パターンの強度分布に比例した屈折率の上昇を
光ファイバ１２のコアに誘起することにより、前記光フ
ァイバのコアに周期的屈折率変調を形成するものであ
る。
【０００５】紫外光干渉パターンの照射光学系５２を含
む図５の一部を図６に示す。図６において、１１は紫外
平行光、１３は紫外平行光の進行方向に垂直に配置され
た位相格子であり、これらが紫外光干渉パターンの照射
光学系５２を構成する。１２は光ファイバであり、５３
はホールダーである。紫外平行光１１は位相格子１３を
通過することにより１次回折光１１ａと−１次回折光１
１ｂを発生し、これらの回折光が重畳して紫外光干渉パ
ターンが形成される。光ファイバ１２のコアが酸化ゲル
マニウム等の紫外光の照射光量に概略比例した屈折率の
上昇を生じるドーパントを含む場合は、前記紫外光干渉
パターンの形成空間に光ファイバ１２を保持する事によ
り周期的屈折率変調１０が形成される。
む図５の一部を図６に示す。図６において、１１は紫外
平行光、１３は紫外平行光の進行方向に垂直に配置され
た位相格子であり、これらが紫外光干渉パターンの照射
光学系５２を構成する。１２は光ファイバであり、５３
はホールダーである。紫外平行光１１は位相格子１３を
通過することにより１次回折光１１ａと−１次回折光１
１ｂを発生し、これらの回折光が重畳して紫外光干渉パ
ターンが形成される。光ファイバ１２のコアが酸化ゲル
マニウム等の紫外光の照射光量に概略比例した屈折率の
上昇を生じるドーパントを含む場合は、前記紫外光干渉
パターンの形成空間に光ファイバ１２を保持する事によ
り周期的屈折率変調１０が形成される。
【０００６】ところで、図５に示す光学系を用いて光フ
ァイバ１２のコアに周期的屈折率変調を形成する際、光
ファイバ１２の近傍を通過した紫外光や光ファイバ１２
を屈折、透過した紫外光がホールダー５３のホールダー
表面５３ａで反射され、再度光ファイバ１２を照射する
ことにより、前記周期的屈折率変調を形成すべき紫外光
干渉パターンに迷光として重畳される。
ァイバ１２のコアに周期的屈折率変調を形成する際、光
ファイバ１２の近傍を通過した紫外光や光ファイバ１２
を屈折、透過した紫外光がホールダー５３のホールダー
表面５３ａで反射され、再度光ファイバ１２を照射する
ことにより、前記周期的屈折率変調を形成すべき紫外光
干渉パターンに迷光として重畳される。
【０００７】紫外光干渉パターンに重畳される迷光は、
位相、振幅の揃った光ではないので、光ファイバ１２の
コアに理想的な周期的屈折率変調を形成することが出来
ず、形成されたブラッググレーティングの特性の劣化を
生じる要因となる。より具体的には、ブラッググレーテ
ィングの周期的屈折率変調の周期に対応したブラッグ波
長以外の波長範囲において反射スペクトルが観測される
こととなり、前記ブラッググレーティングの遮断特性の
劣化を招く。
位相、振幅の揃った光ではないので、光ファイバ１２の
コアに理想的な周期的屈折率変調を形成することが出来
ず、形成されたブラッググレーティングの特性の劣化を
生じる要因となる。より具体的には、ブラッググレーテ
ィングの周期的屈折率変調の周期に対応したブラッグ波
長以外の波長範囲において反射スペクトルが観測される
こととなり、前記ブラッググレーティングの遮断特性の
劣化を招く。
【０００８】一般に、ブラッググレーティング等ファイ
バグレーティングの形成に用いるエキシマレーザからの
紫外平行光の幅は数ｍｍ程度であり、他方、光ファイバ
の外径は通常１２５μｍであり、光ファイバの外径に比
較して紫外平行光の幅が大きいので、光ファイバ１２を
照射する紫外光の大部分は光ファイバ１２の近傍を通過
することとなる。また、光ファイバ１２のクラッドが純
粋石英ガラスで形成されている場合は、紫外平行光１１
は光ファイバ１２のクラッドを屈折、透過することとな
る。これらの光ファイバ１２を照射する紫外光の大部分
を占める前記光ファイバの近傍を通過する紫外光及び前
記光ファイバのクラッドを屈折、透過する紫外光が光フ
ァイバのホールダー表面で反射され、迷光となる。
バグレーティングの形成に用いるエキシマレーザからの
紫外平行光の幅は数ｍｍ程度であり、他方、光ファイバ
の外径は通常１２５μｍであり、光ファイバの外径に比
較して紫外平行光の幅が大きいので、光ファイバ１２を
照射する紫外光の大部分は光ファイバ１２の近傍を通過
することとなる。また、光ファイバ１２のクラッドが純
粋石英ガラスで形成されている場合は、紫外平行光１１
は光ファイバ１２のクラッドを屈折、透過することとな
る。これらの光ファイバ１２を照射する紫外光の大部分
を占める前記光ファイバの近傍を通過する紫外光及び前
記光ファイバのクラッドを屈折、透過する紫外光が光フ
ァイバのホールダー表面で反射され、迷光となる。
【０００９】光ファイバ１２の近傍を通過する紫外光の
挙動は、図５、図６に則して説明すると以下の通りであ
る。紫外平行光１１は、位相格子１３を透過することに
より、１次回折光１１ａと−１次回折光１１ｂに分離さ
れる。１次回折光１１ａの進行方向と紫外平行光１１の
進行方向のなす角度及び−１次回折光１１ｂの進行方向
と紫外平行光１１の進行方向のなす角度は等しい。但
し、１次回折光と−１次回折光の回折される方向は、紫
外平行光１２の進行方向を基準として相反する方向とな
っている。
挙動は、図５、図６に則して説明すると以下の通りであ
る。紫外平行光１１は、位相格子１３を透過することに
より、１次回折光１１ａと−１次回折光１１ｂに分離さ
れる。１次回折光１１ａの進行方向と紫外平行光１１の
進行方向のなす角度及び−１次回折光１１ｂの進行方向
と紫外平行光１１の進行方向のなす角度は等しい。但
し、１次回折光と−１次回折光の回折される方向は、紫
外平行光１２の進行方向を基準として相反する方向とな
っている。
【００１０】前記光ファイバ１２を屈折透過する光の挙
動は以下の通りである。紫外平行光１１は、位相格子１
３を通過した後１次回折光１１ａと−１次回折光１１ｂ
に分離されている。即ち、紫外平行光１１の進行方向を
図５に則してＸ方向とすると、図６に示すように１次回
折光１１ａの進行方向は図５のＸ方向からχ傾いた方
向、−１次回折光の進行方向はχ傾方向から−χ傾いた
方向となっている。これらの光が光ファイバ１２に入射
すると、光ファイバ１２は光ファイバの長手方向、即ち
Ｚ方向には屈折性を有していないので、光ファイバ１２
を透過することによっては、紫外平行光１１のＺ方向の
指向性は失われない。
動は以下の通りである。紫外平行光１１は、位相格子１
３を通過した後１次回折光１１ａと−１次回折光１１ｂ
に分離されている。即ち、紫外平行光１１の進行方向を
図５に則してＸ方向とすると、図６に示すように１次回
折光１１ａの進行方向は図５のＸ方向からχ傾いた方
向、−１次回折光の進行方向はχ傾方向から−χ傾いた
方向となっている。これらの光が光ファイバ１２に入射
すると、光ファイバ１２は光ファイバの長手方向、即ち
Ｚ方向には屈折性を有していないので、光ファイバ１２
を透過することによっては、紫外平行光１１のＺ方向の
指向性は失われない。
【００１１】他方、紫外平行光１１のＹ方向、即ち、光
ファイバ１２の長手方向及び紫外平行光１１の照射方向
いずれにも直交する方向の指向性は、位相格子１３を通
過することによって影響を受けないが、光ファイバ１２
のクラッドを透過する際に屈折され、即ち光ファイバ１
２のクラッドが円柱レンズとして働くことにより、光フ
ァイバ１２を線光源とした放射光に変換される。即ち紫
外平行光１１のＹ方向の指向性は、光ファイバ１２のレ
ンズ効果により失われる。
ファイバ１２の長手方向及び紫外平行光１１の照射方向
いずれにも直交する方向の指向性は、位相格子１３を通
過することによって影響を受けないが、光ファイバ１２
のクラッドを透過する際に屈折され、即ち光ファイバ１
２のクラッドが円柱レンズとして働くことにより、光フ
ァイバ１２を線光源とした放射光に変換される。即ち紫
外平行光１１のＹ方向の指向性は、光ファイバ１２のレ
ンズ効果により失われる。
【００１２】以上の結果より、紫外平行光１１は、位相
格子１３、光ファイバ１２を通過することにより、当初
の指向性を失いホールダー表面５３ａに入射し、反射さ
れることにより、広い角度範囲の指向性を有する迷光と
して、光ファイバ１２を照射する。
格子１３、光ファイバ１２を通過することにより、当初
の指向性を失いホールダー表面５３ａに入射し、反射さ
れることにより、広い角度範囲の指向性を有する迷光と
して、光ファイバ１２を照射する。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、光ファイバ
に紫外光干渉パターンを照射して周期的屈折率変調を形
成するファイバグレーティングの製造方法及び製造装置
において、ファイバグレーティングを形成すべき紫外光
のうち前記光ファイバを屈折、透過した紫外光、光ファ
イバ近傍を通過した紫外光が、ホールダー表面で反射さ
れ、迷光として再度光ファイバを照射することにより光
ファイバのコアに前記迷光の強度分布に対応した不規則
な屈折率変調を形成し、本来の位相格子により生成され
た１次回折光と−１次回折光の紫外光干渉パターンが形
成する周期的屈折率変調を乱すことにより、ファイバグ
レーティングの遮断特性を劣化させることの防止を目的
とする。
に紫外光干渉パターンを照射して周期的屈折率変調を形
成するファイバグレーティングの製造方法及び製造装置
において、ファイバグレーティングを形成すべき紫外光
のうち前記光ファイバを屈折、透過した紫外光、光ファ
イバ近傍を通過した紫外光が、ホールダー表面で反射さ
れ、迷光として再度光ファイバを照射することにより光
ファイバのコアに前記迷光の強度分布に対応した不規則
な屈折率変調を形成し、本来の位相格子により生成され
た１次回折光と−１次回折光の紫外光干渉パターンが形
成する周期的屈折率変調を乱すことにより、ファイバグ
レーティングの遮断特性を劣化させることの防止を目的
とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項１に記載
された発明は、光ファイバのコアに紫外光干渉パターン
を照射して、前記光ファイバのコアの長手方向に周期的
屈折率変調を形成するファイバグレーティングの製造方
法において、前記光ファイバの紫外光干渉パターンが照
射される側の反対側に、断面形状が複数の鋭角を含み、
且つ長手方向に一定である光終端を配置し、前記光ファ
イバを屈折、透過した照射光、前記光ファイバ近傍を通
過した照射光を吸収させることを特徴とする。その結
果、前記ホールダー表面で前記光ファイバを屈折、透過
した紫外光、前記光ファイバ近傍を通過した紫外光が反
射され、迷光として再度光ファイバを照射することを防
止するファイバグレーティングの製造方法を提供する。
された発明は、光ファイバのコアに紫外光干渉パターン
を照射して、前記光ファイバのコアの長手方向に周期的
屈折率変調を形成するファイバグレーティングの製造方
法において、前記光ファイバの紫外光干渉パターンが照
射される側の反対側に、断面形状が複数の鋭角を含み、
且つ長手方向に一定である光終端を配置し、前記光ファ
イバを屈折、透過した照射光、前記光ファイバ近傍を通
過した照射光を吸収させることを特徴とする。その結
果、前記ホールダー表面で前記光ファイバを屈折、透過
した紫外光、前記光ファイバ近傍を通過した紫外光が反
射され、迷光として再度光ファイバを照射することを防
止するファイバグレーティングの製造方法を提供する。
【００１５】本発明の請求項２に記載された発明は、請
求項１に記載されたファイバグレーティングの製造方法
において、前記光終端の断面形状に含まれる鋭角の頂点
で形成される複数の稜線の方向を前記光ファイバの長手
方向と平行とすることにより前記光終端の吸収特性を向
上したファイバグレーティングの製造方法を提供する。
求項１に記載されたファイバグレーティングの製造方法
において、前記光終端の断面形状に含まれる鋭角の頂点
で形成される複数の稜線の方向を前記光ファイバの長手
方向と平行とすることにより前記光終端の吸収特性を向
上したファイバグレーティングの製造方法を提供する。
【００１６】本発明の請求項３に記載された発明は、請
求項２に記載されたファイバグレーティングの製造方法
において、前記光終端を構成する複数の稜線を、前記光
ファイバをその中心軸とする同一の仮想円筒体の表面に
位置させることにより、前記光終端の吸収特性を向上し
たファイバグレーティングの製造方法を提供する。
求項２に記載されたファイバグレーティングの製造方法
において、前記光終端を構成する複数の稜線を、前記光
ファイバをその中心軸とする同一の仮想円筒体の表面に
位置させることにより、前記光終端の吸収特性を向上し
たファイバグレーティングの製造方法を提供する。
【００１７】本発明の請求項４に記載された発明は、請
求項１、請求項２または請求項３に記載されたファイバ
グレーティングの製造方法において、前記光終端を金属
体により形成することにより、高輝度の紫外光の照射に
より損壊を受けない信頼性に優れたファイバグレーティ
ングの製造方法を提供する。
求項１、請求項２または請求項３に記載されたファイバ
グレーティングの製造方法において、前記光終端を金属
体により形成することにより、高輝度の紫外光の照射に
より損壊を受けない信頼性に優れたファイバグレーティ
ングの製造方法を提供する。
【００１８】本発明の請求項５に記載された発明は、光
ファイバのホールダーと、前記光ファイバのホールダー
に保持される光ファイバに紫外光干渉パターンを照射し
て前記光ファイバに周期的屈折率変調を形成する紫外光
干渉パターンの照射光学系と、前記光ファイバを挟んで
前記紫外光干渉パターンの照射光学系に対向する位置に
配置され、断面形状が複数の鋭角を含み、且つ長手方向
に一定である光終端を含んで構成され、前記光ファイバ
を屈折、透過した照射光、前記光ファイバ近傍を通過し
た照射光を吸収させることを特徴とするファイバグレー
ティングの製造装置を提供する。
ファイバのホールダーと、前記光ファイバのホールダー
に保持される光ファイバに紫外光干渉パターンを照射し
て前記光ファイバに周期的屈折率変調を形成する紫外光
干渉パターンの照射光学系と、前記光ファイバを挟んで
前記紫外光干渉パターンの照射光学系に対向する位置に
配置され、断面形状が複数の鋭角を含み、且つ長手方向
に一定である光終端を含んで構成され、前記光ファイバ
を屈折、透過した照射光、前記光ファイバ近傍を通過し
た照射光を吸収させることを特徴とするファイバグレー
ティングの製造装置を提供する。
【００１９】本発明の請求項６に記載された発明は、請
求項５に記載されたファイバグレーティングの製造装置
に置いて、前記光終端の断面形状に含まれる鋭角の頂点
で形成される複数の稜線の方向を前記光ファイバの長手
方向と平行にし、前記光終端の吸収特性を向上したファ
イバグレーティングの製造装置を提供する。
求項５に記載されたファイバグレーティングの製造装置
に置いて、前記光終端の断面形状に含まれる鋭角の頂点
で形成される複数の稜線の方向を前記光ファイバの長手
方向と平行にし、前記光終端の吸収特性を向上したファ
イバグレーティングの製造装置を提供する。
【００２０】本発明の請求項７に記載された発明は、請
求項６に記載されたファイバグレーティングの製造装置
において、前記光終端を構成する複数の稜線を、前記光
ファイバのホールダーに保持されるべき光ファイバを中
心軸とする同一の仮想円筒体の表面に位置させることに
より、前記光終端の吸収特性を向上したファイバグレー
ティングの製造装置を提供する。
求項６に記載されたファイバグレーティングの製造装置
において、前記光終端を構成する複数の稜線を、前記光
ファイバのホールダーに保持されるべき光ファイバを中
心軸とする同一の仮想円筒体の表面に位置させることに
より、前記光終端の吸収特性を向上したファイバグレー
ティングの製造装置を提供する。
【００２１】本発明の請求項８に記載された発明は、請
求項５、請求項６または請求項７に記載されたファイバ
グレーティングの製造装置において、前記光終端を金属
体により形成することにより、高輝度の紫外光の照射に
より損壊を受けない信頼性に優れたファイバグレーティ
ングの製造装置を提供する。
求項５、請求項６または請求項７に記載されたファイバ
グレーティングの製造装置において、前記光終端を金属
体により形成することにより、高輝度の紫外光の照射に
より損壊を受けない信頼性に優れたファイバグレーティ
ングの製造装置を提供する。
【００２２】
【発明の実施の形態】図１に、本発明に係るファイバグ
レーティングの製造方法を示す。紫外平行光１１は、位
相格子１３を透過した後１次回折光１１ａと−１次回折
光１１ｂに分離され、１次回折光１１ａと−１次回折光
１１ｂが位相格子１３の直後で重畳することにより紫外
光干渉パターンを形成する。前記紫外光干渉パターンの
形成空間に光ファイバ１２を保持することにより、紫外
光干渉パターンの強度分布に概略比例した周期的屈折率
変調が光ファイバ１２のコア１４の長手方向に形成され
る。
レーティングの製造方法を示す。紫外平行光１１は、位
相格子１３を透過した後１次回折光１１ａと−１次回折
光１１ｂに分離され、１次回折光１１ａと−１次回折光
１１ｂが位相格子１３の直後で重畳することにより紫外
光干渉パターンを形成する。前記紫外光干渉パターンの
形成空間に光ファイバ１２を保持することにより、紫外
光干渉パターンの強度分布に概略比例した周期的屈折率
変調が光ファイバ１２のコア１４の長手方向に形成され
る。
【００２３】請求項１に記載された、断面形状が複数の
鋭角を含み、且つ長手方向に一定である光終端を実現す
べく、図１では、断面形状がその長手方向に一定である
複数の同一形状の金属体の楔状体１７ａ〜１７ｆが一体
となって光終端１７が形成されている。これが光ファイ
バ１２の紫外光干渉パターンが照射される側の反対側に
配置される。図１では光終端１７を形成する楔状体の個
数は６個であるが、本発明の実施形態は前記楔状体の個
数に限定されるものではない。楔状体１７ａ〜１７ｆの
楔の稜線１８ａ〜１８ｆは、図１に示すように互いに平
行となっている。楔状体の楔の稜線１８ａ〜１８ｆを平
行とするには、例えば楔状体の形状を、楔状体１７ａの
楔を形成する２平面１９ａ、１９ｂに隣接する２平面１
９ｃ、１９ｄを平行とすればよい。その結果、楔状体の
前記平行する面を順次密着することにより楔状体の楔の
稜線１８ａ〜１８ｆを互いに平行とする事が出来る。
鋭角を含み、且つ長手方向に一定である光終端を実現す
べく、図１では、断面形状がその長手方向に一定である
複数の同一形状の金属体の楔状体１７ａ〜１７ｆが一体
となって光終端１７が形成されている。これが光ファイ
バ１２の紫外光干渉パターンが照射される側の反対側に
配置される。図１では光終端１７を形成する楔状体の個
数は６個であるが、本発明の実施形態は前記楔状体の個
数に限定されるものではない。楔状体１７ａ〜１７ｆの
楔の稜線１８ａ〜１８ｆは、図１に示すように互いに平
行となっている。楔状体の楔の稜線１８ａ〜１８ｆを平
行とするには、例えば楔状体の形状を、楔状体１７ａの
楔を形成する２平面１９ａ、１９ｂに隣接する２平面１
９ｃ、１９ｄを平行とすればよい。その結果、楔状体の
前記平行する面を順次密着することにより楔状体の楔の
稜線１８ａ〜１８ｆを互いに平行とする事が出来る。
【００２４】以上の説明は、複数の楔状体を一体化し
て、その稜線が互いに平行となる光終端を形成する一方
法を示したものであるが、一体の金属ブロックから加工
により図１の光終端１７を形成しても勿論構わない。
て、その稜線が互いに平行となる光終端を形成する一方
法を示したものであるが、一体の金属ブロックから加工
により図１の光終端１７を形成しても勿論構わない。
【００２５】光終端１７を形成する楔状体１７ａ〜１７
ｆの楔の稜線１８ａ〜１８ｆの方向が光ファイバ１２の
長手方向と直交していなければ、光終端１７は光ファイ
バ１２を屈折、透過した照射光、光ファイバ１２の近傍
を通過した照射光を吸収する効果を奏するが、光ファイ
バを屈折、透過した照射光の吸収効果を最大とするに
は、光終端１７を形成する楔状体１７ａ〜１７ｆの楔の
稜線１８ａ〜１８ｆの方向を光ファイバ１２の長手方向
と一致させる必要がある。光終端１７は、図１には図示
されていないが、光ファイバ１２のホールダーと一体に
固定しても、光ファイバ１２のホールダーと別に固定し
ても構わない。また、楔状体を金属体により形成し、高
輝度の紫外光の照射により損壊を受けないようにするこ
とにより、信頼性に優れたファイバグレーティングの製
造方法を提供する。
ｆの楔の稜線１８ａ〜１８ｆの方向が光ファイバ１２の
長手方向と直交していなければ、光終端１７は光ファイ
バ１２を屈折、透過した照射光、光ファイバ１２の近傍
を通過した照射光を吸収する効果を奏するが、光ファイ
バを屈折、透過した照射光の吸収効果を最大とするに
は、光終端１７を形成する楔状体１７ａ〜１７ｆの楔の
稜線１８ａ〜１８ｆの方向を光ファイバ１２の長手方向
と一致させる必要がある。光終端１７は、図１には図示
されていないが、光ファイバ１２のホールダーと一体に
固定しても、光ファイバ１２のホールダーと別に固定し
ても構わない。また、楔状体を金属体により形成し、高
輝度の紫外光の照射により損壊を受けないようにするこ
とにより、信頼性に優れたファイバグレーティングの製
造方法を提供する。
【００２６】先に説明したように、紫外平行光１１は、
位相格子１３を通過する事により、その指向性は変化せ
ずに１次回折光１１ａと−１次回折光１１ｂに分岐し、
さらに前記１次回折光と−１次回折光のうち光ファイバ
１２を透過した紫外光は、前記光ファイバのクラッド１
５のレンズ効果により屈折し、指向性が弱められる。即
ち、紫外平行光１１は、位相格子１３、光ファイバ１２
により、広い指向性を有する事になるので、前記楔状体
の集合体である光終端１７の楔状体を形成した側の面
は、前記位相格子、光ファイバにより広い指向性を有す
ることとなった紫外光の照射範囲を実質的に含む必要が
ある。
位相格子１３を通過する事により、その指向性は変化せ
ずに１次回折光１１ａと−１次回折光１１ｂに分岐し、
さらに前記１次回折光と−１次回折光のうち光ファイバ
１２を透過した紫外光は、前記光ファイバのクラッド１
５のレンズ効果により屈折し、指向性が弱められる。即
ち、紫外平行光１１は、位相格子１３、光ファイバ１２
により、広い指向性を有する事になるので、前記楔状体
の集合体である光終端１７の楔状体を形成した側の面
は、前記位相格子、光ファイバにより広い指向性を有す
ることとなった紫外光の照射範囲を実質的に含む必要が
ある。
【００２７】光ファイバ１２を屈折、透過又は光ファイ
バの近傍を通過した紫外光は、最早光ファイバ１２に周
期的屈折率変調を形成する機能を有していないので、光
終端１７で吸収されることが望ましい。図１の光終端１
７で紫外光を吸収するには、光終端を形成する隣接する
楔状体の面が形成する谷部に入射した光が再度光終端か
ら出射するまでにそれぞれの楔状体の楔を形成する平面
で複数回反射させ、その反射の度に紫外光を楔状体に吸
収されればよい。
バの近傍を通過した紫外光は、最早光ファイバ１２に周
期的屈折率変調を形成する機能を有していないので、光
終端１７で吸収されることが望ましい。図１の光終端１
７で紫外光を吸収するには、光終端を形成する隣接する
楔状体の面が形成する谷部に入射した光が再度光終端か
ら出射するまでにそれぞれの楔状体の楔を形成する平面
で複数回反射させ、その反射の度に紫外光を楔状体に吸
収されればよい。
【００２８】図２に、楔状体に入射した光の挙動を示
す。楔状体の谷部に入射した光がその楔状体から出射す
るまでの反射回数Ｎは、楔状体の楔の頂角を２α、入射
光と楔状体の稜線が形成する平面の垂線とのなす角度を
βとすると、Ｉ［（π−β＋α）／２α］で与えられ
る。ここでＩ［ｘ］は、ｘを超えない自然数を表す。
す。楔状体の谷部に入射した光がその楔状体から出射す
るまでの反射回数Ｎは、楔状体の楔の頂角を２α、入射
光と楔状体の稜線が形成する平面の垂線とのなす角度を
βとすると、Ｉ［（π−β＋α）／２α］で与えられ
る。ここでＩ［ｘ］は、ｘを超えない自然数を表す。
【００２９】平行光が楔状体の稜線が形成する表面に垂
直に入射する場合は、楔状体の谷部に入射した光が出射
するまでの反射回数Ｎ０は、楔状体の楔の頂角を２αと
すると、Ｉ［（π＋α）／２α］で与えられる。従っ
て、光が楔状体の稜線が形成する平面に垂直に入射する
場合に比較して楔状体の稜線が形成する面に傾いて入射
する場合は、入射光が楔状体から出射するまでに楔状体
の楔を形成する面で反射する回数が減じる。従って、光
が光終端を形成する楔状体の稜線が形成する面に傾いて
入射する場合に光が楔状体の稜線が形成する面に垂直に
入射する場合と同一の反射回数を確保して所定の光吸収
を達成するには、楔状体の楔の頂角２αを小さくする必
要がある。
直に入射する場合は、楔状体の谷部に入射した光が出射
するまでの反射回数Ｎ０は、楔状体の楔の頂角を２αと
すると、Ｉ［（π＋α）／２α］で与えられる。従っ
て、光が楔状体の稜線が形成する平面に垂直に入射する
場合に比較して楔状体の稜線が形成する面に傾いて入射
する場合は、入射光が楔状体から出射するまでに楔状体
の楔を形成する面で反射する回数が減じる。従って、光
が光終端を形成する楔状体の稜線が形成する面に傾いて
入射する場合に光が楔状体の稜線が形成する面に垂直に
入射する場合と同一の反射回数を確保して所定の光吸収
を達成するには、楔状体の楔の頂角２αを小さくする必
要がある。
【００３０】光終端を形成する楔状体として、炭素鋼を
素材とした剃刀の刃を１００枚集積一体化したものを用
いた。剃刀の刃の頂角、即ち図２の２αは１５度であ
る。楔状体の稜線に相当する剃刀の刃先が形成する面と
光ファイバの距離は、約５０ｍｍである。位相格子によ
り形成された１次回折光と−１次回折光のなす角度は約
２６度である。紫外光源として、波長２４８ｎｍのエキ
シマレーザを用いた。
素材とした剃刀の刃を１００枚集積一体化したものを用
いた。剃刀の刃の頂角、即ち図２の２αは１５度であ
る。楔状体の稜線に相当する剃刀の刃先が形成する面と
光ファイバの距離は、約５０ｍｍである。位相格子によ
り形成された１次回折光と−１次回折光のなす角度は約
２６度である。紫外光源として、波長２４８ｎｍのエキ
シマレーザを用いた。
【００３１】コアが酸化ゲルマニウム添加石英ガラス、
クラッドが純粋石英ガラスからなる１．５５μｍ帯単一
モードファイバに１．５５μｍ帯の遮断波長を有するブ
ラッググレーティングを形成した。ブラッググレーティ
ングの遮断特性を示す特性値として、帯域外反射最悪値
を定義した。帯域外反射最悪値は、ブラッグ波長の反射
レベルを基準にブラッグ波長の長波長側及び短波長側そ
れぞれにブラッグ波長から１．６ｎｍ離れた波長からブ
ラッグ波長から１５ｎｍ離れた波長の間の領域での反射
レベルの最悪値をデシベルで表したもので、波長多重通
信において、他の通信波長へのクロストークを示す値と
して重要である。帯域外反射最悪値の絶対値が大きいほ
どブラッググレーティングの特性は良好である。
クラッドが純粋石英ガラスからなる１．５５μｍ帯単一
モードファイバに１．５５μｍ帯の遮断波長を有するブ
ラッググレーティングを形成した。ブラッググレーティ
ングの遮断特性を示す特性値として、帯域外反射最悪値
を定義した。帯域外反射最悪値は、ブラッグ波長の反射
レベルを基準にブラッグ波長の長波長側及び短波長側そ
れぞれにブラッグ波長から１．６ｎｍ離れた波長からブ
ラッグ波長から１５ｎｍ離れた波長の間の領域での反射
レベルの最悪値をデシベルで表したもので、波長多重通
信において、他の通信波長へのクロストークを示す値と
して重要である。帯域外反射最悪値の絶対値が大きいほ
どブラッググレーティングの特性は良好である。
【００３２】前記楔状体を用いて形成した光終端を用い
た場合と用いない場合について、帯域外反射最悪値を比
較した結果を図３に示す。光終端を用いた場合は、光終
端を形成する楔状体の楔の稜線の方向を光ファイバの長
手方向と一致させた。帯域外反射最悪値は、前記光終端
を用いた場合は、最悪の場合でも−２８ｄＢ以下のレベ
ルにとどまっているのに対して前記光終端を用いない場
合は、−２２ｄＢを超える場合があり、前記光終端を用
いない場合に比較して、前記光終端を用いた場合の効果
が顕著に認められた。
た場合と用いない場合について、帯域外反射最悪値を比
較した結果を図３に示す。光終端を用いた場合は、光終
端を形成する楔状体の楔の稜線の方向を光ファイバの長
手方向と一致させた。帯域外反射最悪値は、前記光終端
を用いた場合は、最悪の場合でも−２８ｄＢ以下のレベ
ルにとどまっているのに対して前記光終端を用いない場
合は、−２２ｄＢを超える場合があり、前記光終端を用
いない場合に比較して、前記光終端を用いた場合の効果
が顕著に認められた。
【００３３】尚、一般に金属体は、周波数の増加、即ち
波長が短波長領域になるに従って吸収領域、反射領域、
透明領域とその物性が変化することが知られている。但
し、これらの領域は厳密に区別されるものではなく、反
射領域においても透過に伴う吸収が発生する。従って楔
状体を用いて、入射光を所定の反射回数が満たされるま
で閉じ込めておく事は反射光を抑制するという目的を達
成するために重要である。しかし、楔状体への入射光を
楔状体に閉じ込めておく間に前記入射光に十分な減衰を
与えるには、前記入射光の波長に対して、楔状体を形成
する物質が吸収領域にあることが望ましい。
波長が短波長領域になるに従って吸収領域、反射領域、
透明領域とその物性が変化することが知られている。但
し、これらの領域は厳密に区別されるものではなく、反
射領域においても透過に伴う吸収が発生する。従って楔
状体を用いて、入射光を所定の反射回数が満たされるま
で閉じ込めておく事は反射光を抑制するという目的を達
成するために重要である。しかし、楔状体への入射光を
楔状体に閉じ込めておく間に前記入射光に十分な減衰を
与えるには、前記入射光の波長に対して、楔状体を形成
する物質が吸収領域にあることが望ましい。
【００３４】楔状体に入射した光が再度楔状体から出射
するまでに楔状体内部で反射する回数は、楔状体の稜線
が形成する面に垂直に光が入射した場合が最も多くな
る。即ち、楔状体に入射した光に出来るだけ減衰を与え
るには、楔状体の稜線が形成する面に入射光が垂直とな
る必要がある。ところで、光ファイバに入射した紫外平
行光は、光ファイバが円柱体であることに起因するレン
ズ効果により拡散する。従って、図１に示す光終端の楔
状体の楔の稜線が形成する面が平面である場合には、光
ファイバの近傍を通過する紫外光を除いて、光終端への
入射光が楔状体の楔の稜線が形成する面に垂直となる条
件は満たされていない。
するまでに楔状体内部で反射する回数は、楔状体の稜線
が形成する面に垂直に光が入射した場合が最も多くな
る。即ち、楔状体に入射した光に出来るだけ減衰を与え
るには、楔状体の稜線が形成する面に入射光が垂直とな
る必要がある。ところで、光ファイバに入射した紫外平
行光は、光ファイバが円柱体であることに起因するレン
ズ効果により拡散する。従って、図１に示す光終端の楔
状体の楔の稜線が形成する面が平面である場合には、光
ファイバの近傍を通過する紫外光を除いて、光終端への
入射光が楔状体の楔の稜線が形成する面に垂直となる条
件は満たされていない。
【００３５】光ファイバの外径は通常１２５μｍである
のに対して、楔状体により形成される光終端と光ファイ
バの距離は数１０ｍｍ程度とすることが可能である。従
って、光ファイバの寸法は楔状体により形成される光終
端と光ファイバの距離に比較すると十分に小さいので、
図４に示すように光ファイバ１２を中心軸とした仮想円
筒体を描き、その仮想円筒体の表面に楔状体の楔の稜線
２１ａ〜２１ｈが含まれるようにする事、即ち、楔状体
の楔の稜線２１ａ〜２１ｈが全体として光ファイバ１２
を中心軸とする仮想円筒体の表面の一部を形成するよう
にすれば、光ファイバを屈折、透過した紫外光は楔状体
の楔の稜線が形成する面の各部分と直交する事となるの
で、楔状体内部での紫外光の反射回数を図１の構成の場
合に比較して増加させ、楔状体からの出射光、即ち迷光
を抑制する事が出来る。
のに対して、楔状体により形成される光終端と光ファイ
バの距離は数１０ｍｍ程度とすることが可能である。従
って、光ファイバの寸法は楔状体により形成される光終
端と光ファイバの距離に比較すると十分に小さいので、
図４に示すように光ファイバ１２を中心軸とした仮想円
筒体を描き、その仮想円筒体の表面に楔状体の楔の稜線
２１ａ〜２１ｈが含まれるようにする事、即ち、楔状体
の楔の稜線２１ａ〜２１ｈが全体として光ファイバ１２
を中心軸とする仮想円筒体の表面の一部を形成するよう
にすれば、光ファイバを屈折、透過した紫外光は楔状体
の楔の稜線が形成する面の各部分と直交する事となるの
で、楔状体内部での紫外光の反射回数を図１の構成の場
合に比較して増加させ、楔状体からの出射光、即ち迷光
を抑制する事が出来る。
【００３６】尚、この場合は、光ファイバの近傍を通過
する光についても概略楔状体の楔の稜線が形成する面と
前記光ファイバの近傍を通過する光が直交するという条
件が満たされることが望ましいので、光ファイバを照射
する紫外平行光の幅をスリット等により十分狭めておく
ことが好ましい。
する光についても概略楔状体の楔の稜線が形成する面と
前記光ファイバの近傍を通過する光が直交するという条
件が満たされることが望ましいので、光ファイバを照射
する紫外平行光の幅をスリット等により十分狭めておく
ことが好ましい。
【００３７】
【発明の効果】以上述べたように、光ファイバに紫外光
干渉パターンを照射して光ファイバのコアに周期的屈折
率変調を形成するファイバグレーティングの製造方法に
おいて、周期的屈折率変調の形成に寄与する紫外光干渉
パターン以外の迷光が併せて光ファイバに照射される
と、形成される周期的屈折率変調を乱し、ファイバグレ
ーティングの遮断特性を劣化させる。この迷光は、光フ
ァイバを屈折通過した紫外光及び光ファイバ近傍を通過
した紫外光のホールダー表面での反射光が主たる部分を
占めるので、前記光ファイバを挟んで前記紫外光干渉パ
ターンが照射される側の反対側に、断面形状が複数の鋭
角を含み、且つ長手方向に一定である光終端を望ましく
は前記光終端の断面形状に含まれる鋭角の頂点で形成さ
れる複数の稜線の方向が前記光ファイバの長手方向と平
行となるように配置する事により、前記光ファイバを屈
折、透過した紫外光及び光ファイバ近傍を通過した紫外
光を前記光終端で吸収させ、前記迷光の逓減を図り、形
成されたファイバグレーティングの遮断特性の改善を図
る事が出来る。
干渉パターンを照射して光ファイバのコアに周期的屈折
率変調を形成するファイバグレーティングの製造方法に
おいて、周期的屈折率変調の形成に寄与する紫外光干渉
パターン以外の迷光が併せて光ファイバに照射される
と、形成される周期的屈折率変調を乱し、ファイバグレ
ーティングの遮断特性を劣化させる。この迷光は、光フ
ァイバを屈折通過した紫外光及び光ファイバ近傍を通過
した紫外光のホールダー表面での反射光が主たる部分を
占めるので、前記光ファイバを挟んで前記紫外光干渉パ
ターンが照射される側の反対側に、断面形状が複数の鋭
角を含み、且つ長手方向に一定である光終端を望ましく
は前記光終端の断面形状に含まれる鋭角の頂点で形成さ
れる複数の稜線の方向が前記光ファイバの長手方向と平
行となるように配置する事により、前記光ファイバを屈
折、透過した紫外光及び光ファイバ近傍を通過した紫外
光を前記光終端で吸収させ、前記迷光の逓減を図り、形
成されたファイバグレーティングの遮断特性の改善を図
る事が出来る。
【００３８】また、光ファイバを屈折、透過する紫外光
が、前記光ファイバのクラッドに起因するレンズ効果に
より、あたかも前記光ファイバを線光源として放射状に
拡散する事に着目し、前記光終端を構成する楔状体の楔
の各稜線を前記光ファイバを中心軸とした同一の仮想円
筒体の表面に位置させることにより、前記放射光を楔状
体の楔を形成する平面の集合により形成された谷部に閉
じ込め吸収する効果をより顕著に発揮させる事が出来
る。
が、前記光ファイバのクラッドに起因するレンズ効果に
より、あたかも前記光ファイバを線光源として放射状に
拡散する事に着目し、前記光終端を構成する楔状体の楔
の各稜線を前記光ファイバを中心軸とした同一の仮想円
筒体の表面に位置させることにより、前記放射光を楔状
体の楔を形成する平面の集合により形成された谷部に閉
じ込め吸収する効果をより顕著に発揮させる事が出来
る。
【図１】本発明に係るファイバグレーティングの製造方
法を示す図である。
法を示す図である。
【図２】本発明に係る光終端での光の挙動を示す図であ
る。
る。
【図３】ファイバグレーティングの特性の比較図であ
る。
る。
【図４】本発明に係るファイバグレーティングの製造方
法を示す図である。
法を示す図である。
【図５】従来技術によるファイバグレーティングの製造
方法を示す図である。
方法を示す図である。
【図６】従来技術によるファイバグレーティングの製造
方法の要部を示す図である。
方法の要部を示す図である。
１０：周期的屈折率変調 １１：紫外平行光 １１ａ：１次回折光 １１ｂ：−１次回折光 １２：光ファイバ １３：位相格子 １４：コア １５：クラッド １７：光終端 １７ａ〜１７ｆ：楔状体 １８ａ〜１８ｆ：楔状体の楔の稜線 １９ａ、１９ｂ：楔状体の楔を形成する平面 １９ｃ、１９ｄ：楔状体の楔を形成する平面に隣接する
平面 ２０：光終端 ２１ａ〜２１ｈ：楔状体の楔の稜線 ５２：紫外光干渉パターンの照射光学系 ５３：ホールダー ５３ａ：ホールダー表面 ５４：φステージ ５５：Ｙステージ ５６：Ｘステージ ５７：θステージ ５８：光検出器
平面 ２０：光終端 ２１ａ〜２１ｈ：楔状体の楔の稜線 ５２：紫外光干渉パターンの照射光学系 ５３：ホールダー ５３ａ：ホールダー表面 ５４：φステージ ５５：Ｙステージ ５６：Ｘステージ ５７：θステージ ５８：光検出器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 井上 享 神奈川県横浜市栄区田谷町１番地 住友電 気工業株式会社横浜製作所内 (72)発明者 守屋 知巳 神奈川県横浜市栄区田谷町１番地 住友電 気工業株式会社横浜製作所内 Ｆターム(参考） 2H049 AA03 AA18 AA45 AA51 2H050 AC82 AC84 AD00
Claims (8)
- 【請求項１】 光ファイバのコアに紫外光干渉パターン
を照射して、前記光ファイバのコアの長手方向に周期的
屈折率変調を形成するファイバグレーティングの製造方
法において、前記光ファイバの紫外光干渉パターンが照
射される側の反対側に、断面形状が複数の鋭角を含み、
且つ長手方向に一定である光終端を配置し、前記光ファ
イバを屈折、透過した照射光、前記光ファイバ近傍を通
過した照射光を吸収させることを特徴とするファイバグ
レーティングの製造方法 - 【請求項２】 前記光終端の断面形状に含まれる鋭角の
頂点で形成される複数の稜線の方向が前記光ファイバの
長手方向と平行であることを特徴とする請求項１に記載
のファイバグレーティングの製造方法 - 【請求項３】 前記光終端を構成する複数の稜線が、前
記光ファイバをその中心軸とする同一の仮想円筒体の表
面に位置することを特徴とする請求項２に記載のファイ
バグレーティングの製造方法 - 【請求項４】 前記光終端が金属体により形成されてい
ることを特徴とする請求項１、請求項２または請求項３
に記載のファイバグレーティングの製造方法 - 【請求項５】 光ファイバのホールダーと、前記光ファ
イバのホールダーに保持される光ファイバに紫外光干渉
パターンを照射して前記光ファイバに周期的屈折率変調
を形成する紫外光干渉パターンの照射光学系と、前記光
ファイバを挟んで前記紫外光干渉パターンの照射光学系
に対向する位置に配置され、断面形状が複数の鋭角を含
み、且つ長手方向に一定である光終端を含んで構成さ
れ、前記光ファイバを屈折、透過した照射光、前記光フ
ァイバ近傍を通過した照射光を吸収させることを特徴と
するファイバグレーティングの製造装置 - 【請求項６】 前記光終端の断面形状に含まれる鋭角の
頂点で形成される複数の稜線の方向が、前記光ファイバ
の長手方向と平行であることを特徴とする請求項５に記
載のファイバグレーティングの製造装置 - 【請求項７】 前記光終端を構成する複数の稜線が、前
記光ファイバのホールダーに保持されるべき光ファイバ
を中心軸とする同一の仮想円筒体の表面に位置すること
を特徴とする請求項６に記載のファイバグレーティング
の製造装置 - 【請求項８】 前記光終端が金属体により形成されてい
ることを特徴とする請求項５、請求項６または請求項７
に記載のファイバグレーティングの製造装置
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11014082A JP2000214316A (ja) | 1999-01-22 | 1999-01-22 | ファイバグレ―ティングの製造方法及び製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11014082A JP2000214316A (ja) | 1999-01-22 | 1999-01-22 | ファイバグレ―ティングの製造方法及び製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000214316A true JP2000214316A (ja) | 2000-08-04 |
Family
ID=11851195
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11014082A Pending JP2000214316A (ja) | 1999-01-22 | 1999-01-22 | ファイバグレ―ティングの製造方法及び製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000214316A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7099552B1 (en) * | 2003-02-18 | 2006-08-29 | Kilolambda Technologies Ltd. | Optical terminator |
-
1999
- 1999-01-22 JP JP11014082A patent/JP2000214316A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7099552B1 (en) * | 2003-02-18 | 2006-08-29 | Kilolambda Technologies Ltd. | Optical terminator |
| WO2004074874A3 (en) * | 2003-02-18 | 2006-10-19 | Kilolambda Tech Ltd | Optical terminator |
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