JP2000211134A - Ink-jet recording head and ink-jet recording apparatus - Google Patents
Ink-jet recording head and ink-jet recording apparatusInfo
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- JP2000211134A JP2000211134A JP1767399A JP1767399A JP2000211134A JP 2000211134 A JP2000211134 A JP 2000211134A JP 1767399 A JP1767399 A JP 1767399A JP 1767399 A JP1767399 A JP 1767399A JP 2000211134 A JP2000211134 A JP 2000211134A
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- B41J2/135—Nozzles
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- B41J2002/14419—Manifold
Landscapes
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、インク滴を吐出す
るノズル開口と連通する圧力発生室の一部を振動板で構
成し、この振動板を介して圧電素子を設けて、圧電素子
の変位によりインク滴を吐出させるインクジェット式記
録ヘッド及びインクジェット式記録装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a pressure generating chamber which communicates with a nozzle opening for discharging ink droplets, which is constituted by a vibrating plate. TECHNICAL FIELD The present invention relates to an ink jet recording head and an ink jet recording apparatus for ejecting ink droplets by means of a printer.
【0002】[0002]
【従来の技術】インク滴を吐出するノズル開口と連通す
る圧力発生室の一部を振動板で構成し、この振動板を圧
電素子により変形させて圧力発生室のインクを加圧して
ノズル開口からインク滴を吐出させるインクジェット式
記録ヘッドには、圧電素子の軸方向に伸長、収縮する縦
振動モードの圧電アクチュエータを使用したものと、た
わみ振動モードの圧電アクチュエータを使用したものの
2種類が実用化されている。2. Description of the Related Art A part of a pressure generating chamber communicating with a nozzle opening for discharging ink droplets is constituted by a vibrating plate, and the vibrating plate is deformed by a piezoelectric element to pressurize the ink in the pressure generating chamber to pass through the nozzle opening. Two types of ink jet recording heads that eject ink droplets have been commercialized, one using a longitudinal vibration mode piezoelectric actuator that expands and contracts in the axial direction of the piezoelectric element, and the other using a flexural vibration mode piezoelectric actuator. ing.
【0003】前者は圧電素子の端面を振動板に当接させ
ることにより圧力発生室の容積を変化させることができ
て、高密度印刷に適したヘッドの製作が可能である反
面、圧電素子をノズル開口の配列ピッチに一致させて櫛
歯状に切り分けるという困難な工程や、切り分けられた
圧電素子を圧力発生室に位置決めして固定する作業が必
要となり、製造工程が複雑であるという問題がある。In the former method, the volume of the pressure generating chamber can be changed by bringing the end face of the piezoelectric element into contact with the diaphragm, so that a head suitable for high-density printing can be manufactured. There is a problem in that a difficult process of cutting into a comb shape in accordance with the arrangement pitch of the openings and an operation of positioning and fixing the cut piezoelectric element in the pressure generating chamber are required, and the manufacturing process is complicated.
【0004】これに対して後者は、圧電材料のグリーン
シートを圧力発生室の形状に合わせて貼付し、これを焼
成するという比較的簡単な工程で振動板に圧電素子を作
り付けることができるものの、たわみ振動を利用する関
係上、ある程度の面積が必要となり、高密度配列が困難
であるという問題がある。On the other hand, in the latter, a piezoelectric element can be formed on a diaphragm by a relatively simple process of sticking a green sheet of a piezoelectric material according to the shape of a pressure generating chamber and firing the green sheet. In addition, there is a problem that a certain area is required due to the use of flexural vibration, and that high-density arrangement is difficult.
【0005】一方、後者の記録ヘッドの不都合を解消す
べく、特開平5−286131号公報に見られるよう
に、振動板の表面全体に亙って成膜技術により均一な圧
電材料層を形成し、この圧電材料層をリソグラフィ法に
より圧力発生室に対応する形状に切り分けて各圧力発生
室毎に独立するように圧電素子を形成したものが提案さ
れている。On the other hand, in order to solve the latter disadvantage of the recording head, a uniform piezoelectric material layer is formed by a film forming technique over the entire surface of the diaphragm as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-286131. A proposal has been made in which the piezoelectric material layer is cut into a shape corresponding to the pressure generating chambers by a lithography method, and a piezoelectric element is formed so as to be independent for each pressure generating chamber.
【0006】これによれば圧電素子を振動板に貼付ける
作業が不要となって、リソグラフィ法という精密で、か
つ簡便な手法で圧電素子を作り付けることができるばか
りでなく、圧電素子の厚みを薄くできて高速駆動が可能
になるという利点がある。This eliminates the need for attaching the piezoelectric element to the vibration plate, which not only allows the piezoelectric element to be manufactured by a precise and simple method such as lithography, but also reduces the thickness of the piezoelectric element. There is an advantage that it can be made thin and can be driven at high speed.
【0007】また、この場合、圧電材料層は振動板の表
面全体に設けたままで少なくとも上電極のみを各圧力発
生室毎に設けることにより、各圧力発生室に対応する圧
電素子を駆動することができるが、単位駆動電圧当たり
の変位量及び圧力発生室に対向する部分とその外部とを
跨ぐ部分で圧電体層へかかる応力の問題から、圧電体層
及び上電極からなる圧電体能動部を圧力発生室外に出な
いように形成することが望ましい。Further, in this case, the piezoelectric element corresponding to each pressure generating chamber can be driven by providing at least only the upper electrode for each pressure generating chamber while the piezoelectric material layer is provided on the entire surface of the vibration plate. However, due to the problem of the amount of displacement per unit drive voltage and the stress applied to the piezoelectric layer at the part facing the pressure generating chamber and the part straddling the outside, the piezoelectric active part consisting of the piezoelectric layer and the upper electrode is pressurized. It is desirable to form so as not to go out of the generation chamber.
【0008】そこで、各圧力発生室に対応する圧電体能
動部から、例えば、圧電体層及び上電極を圧力発生室外
に延設する構造が提案されている。Therefore, a structure has been proposed in which, for example, a piezoelectric layer and an upper electrode extend from the piezoelectric active portion corresponding to each pressure generating chamber to the outside of the pressure generating chamber.
【0009】[0009]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
構造では、圧電体層及び上電極の引き出し側で振動板の
剛性が低下し、圧力発生室の圧電体能動部端部の応力が
大きくなり、圧電体層が破壊するという問題がある。However, in the above-described structure, the rigidity of the diaphragm is reduced on the side from which the piezoelectric layer and the upper electrode are drawn out, and the stress at the end of the piezoelectric active portion of the pressure generating chamber becomes large. There is a problem that the piezoelectric layer is broken.
【0010】また、ゾル−ゲル法で圧電体層を形成した
場合、下電極除去部周辺で圧電体層の膜厚が薄くなり、
下電極のパターンの端部で圧電体能動部が絶縁破壊を起
こしてしまうという問題がある。In the case where the piezoelectric layer is formed by the sol-gel method, the thickness of the piezoelectric layer is reduced around the lower electrode removing portion,
There is a problem that the piezoelectric active portion causes dielectric breakdown at the end of the pattern of the lower electrode.
【0011】本発明は、このような事情に鑑み、圧電体
層及び上電極を周壁上まで延設し且つ周壁との境界部分
での圧電体層の破壊を防止したインクジェット式記録ヘ
ッド及びインクジェット式記録装置を提供することを課
題とする。In view of such circumstances, the present invention provides an ink jet recording head and an ink jet recording head in which a piezoelectric layer and an upper electrode are extended to a peripheral wall and breakage of the piezoelectric layer at a boundary with the peripheral wall is prevented. It is an object to provide a recording device.
【0012】[0012]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明の第1の態様は、ノズル開口に連通する圧力発生室
と、この圧力発生室に対応する領域に設けられた下電
極、該下電極上に設けられた圧電体層及び該圧電体層の
表面に設けられた上電極からなり、前記圧力発生室に対
向する領域に実質的な駆動部となる圧電体能動部を有す
る圧電素子とを備えるインクジェット式記録ヘッドにお
いて、前記圧電体能動部を構成する前記圧電体層及び前
記上電極が前記圧力発生室に対向する領域内から領域外
まで延設されており、前記圧力発生室の端部と前記周壁
と境界部分に対向する領域の前記圧電体層の下側には、
前記下電極とは不連続の不連続下電極が設けられている
ことを特徴とするインクジェット式記録ヘッドにある。According to a first aspect of the present invention, there is provided a pressure generating chamber communicating with a nozzle opening, a lower electrode provided in a region corresponding to the pressure generating chamber, and a lower electrode provided in a region corresponding to the pressure generating chamber. A piezoelectric element comprising a piezoelectric layer provided on the electrode and an upper electrode provided on the surface of the piezoelectric layer, the piezoelectric element having a piezoelectric active part serving as a substantial driving part in a region facing the pressure generating chamber; In the ink jet recording head, the piezoelectric layer and the upper electrode constituting the piezoelectric active portion extend from an area facing the pressure generation chamber to outside the area, and an end of the pressure generation chamber. On the lower side of the piezoelectric layer in a region opposed to the portion, the peripheral wall and the boundary portion,
In the ink jet recording head, a discontinuous lower electrode that is discontinuous to the lower electrode is provided.
【0013】かかる第1の態様では、圧電体層及び上電
極が圧力発生室外の領域に引き出される部分の振動板の
剛性が高く保持され、この部分での振動板及び圧電体層
の破壊が防止される。In the first aspect, the rigidity of the diaphragm at the portion where the piezoelectric layer and the upper electrode are drawn out to the region outside the pressure generating chamber is maintained high, and the diaphragm and the piezoelectric layer at this portion are prevented from being broken. Is done.
【0014】本発明の第2の態様は、第1の態様におい
て、前記不連続下電極は、前記下電極の前記圧力発生室
の長手方向端部近傍に設けられて少なくとも前記圧力発
生室の並設方向に延びる下電極除去部によって、前記下
電極と不連続となっていることを特徴とするインクジェ
ット式記録ヘッドにある。According to a second aspect of the present invention, in the first aspect, the discontinuous lower electrode is provided near a longitudinal end of the pressure generating chamber of the lower electrode, and is provided at least in parallel with the pressure generating chamber. An ink jet recording head is characterized by being discontinuous with the lower electrode by a lower electrode removing portion extending in the setting direction.
【0015】かかる第2の態様では、不連続下電極と下
電極との間隔が狭くでき、振動板の剛性をより高く保持
される。In the second aspect, the distance between the discontinuous lower electrode and the lower electrode can be reduced, and the rigidity of the diaphragm is kept higher.
【0016】本発明の第3の態様は、第1又は2の態様
において、前記不連続下電極は、何れにも電気的に接続
されていないことを特徴とするインクジェット式記録ヘ
ッドにある。According to a third aspect of the present invention, there is provided an ink jet recording head according to the first or second aspect, wherein the discontinuous lower electrode is not electrically connected to any of them.
【0017】かかる第3の態様では、不連続下電極と下
電極とが確実に絶縁される。According to the third aspect, the discontinuous lower electrode and the lower electrode are reliably insulated.
【0018】本発明の第4の態様は、第1又は2の態様
において、前記不連続下電極は、充電される時定数が駆
動パルスよりも大きくなるように抵抗に接続されている
ことを特徴とするインクジェット式記録ヘッドにある。According to a fourth aspect of the present invention, in the first or second aspect, the discontinuous lower electrode is connected to a resistor so that a time constant to be charged is larger than a driving pulse. And an ink jet recording head.
【0019】かかる第4の態様では、不連続下電極と下
電極とが確実に絶縁されると共に、不連続下電極が過度
の電位を持つのを妨げられる。In the fourth aspect, the discontinuous lower electrode is reliably insulated from the lower electrode, and the discontinuous lower electrode is prevented from having an excessive potential.
【0020】本発明の第5の態様は、第1〜4の何れか
の態様において、前記不連続下電極の前記下電極とは反
対側の前記周壁上には、前記不連続下電極と不連続であ
り且つ一端が外部配線に接続される配線用下電極が前記
各圧電素子毎に設けられており、前記圧電体層及び前記
上電極は前記配線用下電極まで延設され、当該上電極が
前記配線用下電極に接続されていることを特徴とするイ
ンクジェット式記録ヘッドにある。According to a fifth aspect of the present invention, in any one of the first to fourth aspects, the discontinuous lower electrode is connected to the discontinuous lower electrode on the side of the peripheral wall opposite to the lower electrode. A lower electrode for wiring which is continuous and one end of which is connected to an external wiring is provided for each of the piezoelectric elements, and the piezoelectric layer and the upper electrode extend to the lower electrode for wiring, and the upper electrode Is connected to the lower electrode for wiring in the ink jet recording head.
【0021】かかる第5の態様では、圧電体能動部から
配線を容易且つ効率よく引き出すことができる。According to the fifth aspect, the wiring can be easily and efficiently extracted from the piezoelectric active portion.
【0022】本発明の第6の態様は、第1又は2の態様
において、前記不連続下電極が、前記圧力発生室の長手
方向に前記各圧電体能動部毎に分離されており、それぞ
れ前記各圧電体能動部の前記上電極と接続されているこ
とを特徴とするインクジェット式記録ヘッドにある。According to a sixth aspect of the present invention, in the first or second aspect, the discontinuous lower electrode is separated for each of the piezoelectric active portions in a longitudinal direction of the pressure generating chamber. An ink jet recording head is connected to the upper electrode of each piezoelectric active portion.
【0023】かかる第6の態様では、圧電体層及び上電
極が圧力発生室外の領域に引き出される部分の振動板の
剛性が高く保持されると共に、効率よく配線を引き出す
ことができる。According to the sixth aspect, the rigidity of the diaphragm at the portion where the piezoelectric layer and the upper electrode are drawn out to the area outside the pressure generating chamber is kept high, and the wiring can be efficiently drawn out.
【0024】本発明の第7の態様は、第6の態様におい
て、前記各不連続下電極及び前記下電極が、それぞれ絶
縁可能な程度の間隔を有することを特徴とするインクジ
ェット式記録ヘッドにある。According to a seventh aspect of the present invention, there is provided an ink jet recording head according to the sixth aspect, wherein each of the discontinuous lower electrodes and the lower electrode have an interval capable of being insulated. .
【0025】かかる第7の態様では、各圧電能動部が確
実に駆動され、吐出特性を良好に保持される。In the seventh aspect, each of the piezoelectric active portions is reliably driven, and the ejection characteristics are maintained satisfactorily.
【0026】本発明の第8の態様は、第6又は7の態様
において、隣接する前記不連続下電極の間には、何れに
も接続されない中間電極を有することを特徴とするイン
クジェット式記録ヘッドにある。An eighth aspect of the present invention is the ink jet recording head according to the sixth or seventh aspect, further comprising an intermediate electrode connected between the adjacent discontinuous lower electrodes. It is in.
【0027】かかる第8の態様では、下電極膜の除去を
最小限に抑えることができ、より確実に振動板の剛性を
高く保持することができる。In the eighth aspect, the removal of the lower electrode film can be minimized, and the rigidity of the diaphragm can be maintained more reliably.
【0028】本発明の第9の態様は、第1〜8の何れか
の態様において、前記圧電素子に対応する領域以外の前
記下電極膜除去部の少なくとも一部に、前記圧電体層が
残留されていることを特徴とするインクジェット式記録
ヘッドにある。According to a ninth aspect of the present invention, in any one of the first to eighth aspects, the piezoelectric layer remains in at least a part of the lower electrode film removed portion other than a region corresponding to the piezoelectric element. An ink jet recording head is characterized in that:
【0029】かかる第9の態様では、不連続除去部及び
下電極が確実に絶縁され、信頼性を向上することができ
る。In the ninth aspect, the discontinuous portion and the lower electrode are reliably insulated, and the reliability can be improved.
【0030】本発明の第10の態様は、第1〜9の何れ
かの態様において、前記圧力発生室がシリコン単結晶基
板に異方性エッチングにより形成され、前記圧電素子の
各層が薄膜及びリソグラフィ法により形成されたもので
あることを特徴とするインクジェット式記録ヘッドにあ
る。According to a tenth aspect of the present invention, in any one of the first to ninth aspects, the pressure generating chamber is formed on a silicon single crystal substrate by anisotropic etching, and each layer of the piezoelectric element is formed of a thin film and lithography. An ink jet recording head characterized by being formed by a method.
【0031】かかる第10の態様では、高密度のノズル
開口を有するインクジェット式記録ヘッドを大量に且つ
比較的容易に製造することができる。In the tenth aspect, an ink jet recording head having high-density nozzle openings can be manufactured in a large amount and relatively easily.
【0032】本発明の第11の態様は、第1〜10の何
れかの態様のインクジェット式記録ヘッドを具備するこ
とを特徴とするインクジェット式記録装置にある。According to an eleventh aspect of the present invention, there is provided an ink jet recording apparatus comprising the ink jet recording head according to any one of the first to tenth aspects.
【0033】かかる第11の態様では、ヘッドの特性が
向上し、信頼性を向上したインクジェット式記録装置を
実現することができる。According to the eleventh aspect, it is possible to realize an ink jet recording apparatus in which the characteristics of the head are improved and the reliability is improved.
【0034】[0034]
【発明の実施の形態】以下に本発明を実施形態に基づい
て詳細に説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail based on embodiments.
【0035】(実施形態1)図1は、本発明の実施形態
1に係るインクジェット式記録ヘッドを示す分解斜視図
であり、図2は、その平面図及び1つの圧力発生室の長
手方向における断面図である。(Embodiment 1) FIG. 1 is an exploded perspective view showing an ink jet recording head according to Embodiment 1 of the present invention, and FIG. 2 is a plan view thereof and a cross section in the longitudinal direction of one pressure generating chamber. FIG.
【0036】図示するように、流路形成基板10は、本
実施形態では面方位(110)のシリコン単結晶基板か
らなる。流路形成基板10としては、通常、150〜3
00μm程度の厚さのものが用いられ、望ましくは18
0〜280μm程度、より望ましくは220μm程度の
厚さのものが好適である。これは、隣接する圧力発生室
間の隔壁の剛性を保ちつつ、配列密度を高くできるから
である。As shown in the figure, the flow path forming substrate 10 is made of a silicon single crystal substrate having a plane orientation (110) in this embodiment. As the flow path forming substrate 10, usually 150 to 3
A thickness of about 00 μm is used.
Those having a thickness of about 0 to 280 μm, more preferably about 220 μm are suitable. This is because the arrangement density can be increased while maintaining the rigidity of the partition wall between the adjacent pressure generating chambers.
【0037】流路形成基板10の一方の面は開口面とな
り、他方の面には予め熱酸化により形成した二酸化シリ
コンからなる、厚さ1〜2μmの弾性膜50が形成され
ている。One surface of the flow path forming substrate 10 is an opening surface, and the other surface is formed with an elastic film 50 having a thickness of 1 to 2 μm and made of silicon dioxide formed in advance by thermal oxidation.
【0038】一方、流路形成基板10の開口面には、シ
リコン単結晶基板を異方性エッチングすることにより、
ノズル開口11、圧力発生室12が形成されている。On the other hand, a silicon single crystal substrate is anisotropically etched on the opening surface of the flow path forming substrate
A nozzle opening 11 and a pressure generating chamber 12 are formed.
【0039】ここで、異方性エッチングは、シリコン単
結晶基板を水酸化カリウム等のアルカリ溶液に浸漬する
と、徐々に侵食されて(110)面に垂直な第1の(1
11)面と、この第1の(111)面と約70度の角度
をなし且つ上記(110)面と約35度の角度をなす第
2の(111)面とが出現し、(110)面のエッチン
グレートと比較して(111)面のエッチングレートが
約1/180であるという性質を利用して行われるもの
である。かかる異方性エッチングにより、二つの第1の
(111)面と斜めの二つの第2の(111)面とで形
成される平行四辺形状の深さ加工を基本として精密加工
を行うことができ、圧力発生室12を高密度に配列する
ことができる。Here, in the anisotropic etching, when the silicon single crystal substrate is immersed in an alkaline solution such as potassium hydroxide, the substrate is gradually eroded and becomes the first (1) perpendicular to the (110) plane.
An (11) plane and a second (111) plane which forms an angle of about 70 degrees with the first (111) plane and forms an angle of about 35 degrees with the (110) plane appear, and (110) This is performed by utilizing the property that the etching rate of the (111) plane is about 1/180 compared to the etching rate of the plane. By such anisotropic etching, precision processing can be performed based on the depth processing of a parallelogram formed by two first (111) planes and two oblique second (111) planes. , The pressure generating chambers 12 can be arranged at a high density.
【0040】本実施形態では、各圧力発生室12の長辺
を第1の(111)面で、短辺を第2の(111)面で
形成している。この圧力発生室12は、流路形成基板1
0をほぼ貫通して弾性膜50に達するまでエッチングす
ることにより形成されている。なお、弾性膜50は、シ
リコン単結晶基板をエッチングするアルカリ溶液に侵さ
れる量がきわめて小さい。In this embodiment, the long side of each pressure generating chamber 12 is formed by the first (111) plane, and the short side is formed by the second (111) plane. The pressure generating chamber 12 is provided on the flow path forming substrate 1.
It is formed by etching until it reaches the elastic film 50 almost through 0. The amount of the elastic film 50 that is attacked by the alkaline solution for etching the silicon single crystal substrate is extremely small.
【0041】一方、各圧力発生室12の一端に連通する
各ノズル開口11は、圧力発生室12より幅狭で且つ浅
く形成されている。すなわち、ノズル開口11は、シリ
コン単結晶基板を厚さ方向に途中までエッチング(ハー
フエッチング)することにより形成されている。なお、
ハーフエッチングは、エッチング時間の調整により行わ
れる。On the other hand, each nozzle opening 11 communicating with one end of each pressure generating chamber 12 is formed narrower and shallower than the pressure generating chamber 12. That is, the nozzle opening 11 is formed by partially etching (half-etching) the silicon single crystal substrate in the thickness direction. In addition,
Half etching is performed by adjusting the etching time.
【0042】ここで、インク滴吐出圧力をインクに与え
る圧力発生室12の大きさと、インク滴を吐出するノズ
ル開口11の大きさとは、吐出するインク滴の量、吐出
スピード、吐出周波数に応じて最適化される。例えば、
1インチ当たり360個のインク滴を記録する場合、ノ
ズル開口11は数十μmの溝幅で精度よく形成する必要
がある。Here, the size of the pressure generating chamber 12 for applying the ink droplet ejection pressure to the ink and the size of the nozzle opening 11 for ejecting the ink droplet depend on the amount of the ejected ink droplet, the ejection speed, and the ejection frequency. Optimized. For example,
When recording 360 ink droplets per inch, the nozzle openings 11 need to be formed with a groove width of several tens of μm with high accuracy.
【0043】また、各圧力発生室12と後述する共通イ
ンク室31とは、後述する封止板20の各圧力発生室1
2の一端部に対応する位置にそれぞれ形成されたインク
供給連通口21を介して連通されており、インクはこの
インク供給連通口21を介して共通インク室31から供
給され、各圧力発生室12に分配される。Further, each pressure generating chamber 12 and a common ink chamber 31 described later are connected to each pressure generating chamber 1 of the sealing plate 20 described later.
The ink is supplied from a common ink chamber 31 through the ink supply communication port 21 formed at a position corresponding to one end of the pressure generation chamber 12. Distributed to
【0044】封止板20は、前述の各圧力発生室12に
対応したインク供給連通口21が穿設された、厚さが例
えば、0.1〜1mmで、線膨張係数が300℃以下
で、例えば2.5〜4.5[×10-6/℃]であるガラ
スセラミックスからなる。なお、インク供給連通口21
は、図3(a),(b)に示すように、各圧力発生室1
2のインク供給側端部の近傍を横断する一のスリット孔
21Aでも、あるいは複数のスリット孔21Bであって
もよい。封止板20は、一方の面で流路形成基板10の
一面を全面的に覆い、シリコン単結晶基板を衝撃や外力
から保護する補強板の役目も果たす。また、封止板20
は、他面で共通インク室31の一壁面を構成する。The sealing plate 20 is provided with an ink supply communication port 21 corresponding to each of the pressure generating chambers 12 described above, and has a thickness of, for example, 0.1 to 1 mm and a linear expansion coefficient of 300 ° C. or less. , For example, 2.5-4.5 [× 10 −6 / ° C.]. In addition, the ink supply communication port 21
Each of the pressure generating chambers 1 is, as shown in FIGS.
It may be one slit hole 21A crossing the vicinity of the second ink supply side end or a plurality of slit holes 21B. The sealing plate 20 entirely covers one surface of the flow path forming substrate 10 on one surface, and also serves as a reinforcing plate for protecting the silicon single crystal substrate from impact and external force. In addition, the sealing plate 20
The other surface constitutes one wall surface of the common ink chamber 31.
【0045】共通インク室形成基板30は、共通インク
室31の周壁を形成するものであり、ノズル開口数、イ
ンク滴吐出周波数に応じた適正な厚みのステンレス板を
打ち抜いて作製されたものである。本実施形態では、共
通インク室形成基板30の厚さは、0.2mmとしてい
る。The common ink chamber forming substrate 30 forms the peripheral wall of the common ink chamber 31, and is formed by punching a stainless steel plate having an appropriate thickness according to the number of nozzles and the ink droplet ejection frequency. . In the present embodiment, the thickness of the common ink chamber forming substrate 30 is 0.2 mm.
【0046】インク室側板40は、ステンレス基板から
なり、一方の面で共通インク室31の一壁面を構成する
ものである。また、インク室側板40には、他方の面の
一部にハーフエッチングにより凹部40aを形成するこ
とにより薄肉壁41が形成され、さらに、外部からのイ
ンク供給を受けるインク導入口42が打抜き形成されて
いる。なお、薄肉壁41は、インク滴吐出の際に発生す
るノズル開口11と反対側へ向かう圧力を吸収するため
のもので、他の圧力発生室12に、共通インク室31を
経由して不要な正又は負の圧力が加わるのを防止する。
本実施形態では、インク導入口42と外部のインク供給
手段との接続時等に必要な剛性を考慮して、インク室側
板40を0.2mmとし、その一部を厚さ0.02mm
の薄肉壁41としているが、ハーフエッチングによる薄
肉壁41の形成を省略するために、インク室側板40の
厚さを初めから0.02mmとしてもよい。The ink chamber side plate 40 is made of a stainless steel substrate, and one surface of the ink chamber side plate 40 constitutes one wall surface of the common ink chamber 31. In the ink chamber side plate 40, a thin wall 41 is formed by forming a concave portion 40a by half etching on a part of the other surface, and an ink introduction port 42 for receiving ink supply from the outside is punched and formed. ing. The thin wall 41 is for absorbing pressure generated at the time of ink droplet ejection toward the side opposite to the nozzle opening 11, and is unnecessary for the other pressure generating chambers 12 via the common ink chamber 31. Prevents positive or negative pressure from being applied.
In the present embodiment, the ink chamber side plate 40 is made 0.2 mm in consideration of rigidity required at the time of connection between the ink introduction port 42 and an external ink supply means, and a part of the thickness is 0.02 mm.
The thickness of the ink chamber side plate 40 may be 0.02 mm from the beginning in order to omit the formation of the thin wall 41 by half etching.
【0047】一方、流路形成基板10の開口面とは反対
側の弾性膜50の上には、厚さが例えば、約0.5μm
の下電極膜60と、厚さが例えば、約1μmの圧電体膜
70と、厚さが例えば、約0.1μmの上電極膜80と
が、後述するプロセスで積層形成されて、圧電素子30
0を構成している。ここで、圧電素子300は、下電極
膜60、圧電体膜70、及び上電極膜80を含む部分を
いう。一般的には、圧電素子300の何れか一方の電極
を共通電極とし、他方の電極及び圧電体膜70を各圧力
発生室12毎にパターニングして構成する。そして、こ
こではパターニングされた何れか一方の電極及び圧電体
膜70から構成され、両電極への電圧の印加により圧電
歪みが生じる部分を圧電体能動部320という。本実施
形態では、下電極膜60は圧電素子300の共通電極と
し、上電極膜80を圧電素子300の個別電極としてい
るが、駆動回路や配線の都合でこれを逆にしても支障は
ない。何れの場合においても、各圧力発生室毎に圧電体
能動部が形成されていることになる。また、ここでは、
圧電素子300と当該圧電素子300の駆動により変位
が生じる振動板とを合わせて圧電アクチュエータと称す
る。On the other hand, on the elastic film 50 on the side opposite to the opening surface of the flow path forming substrate 10, a thickness of, for example, about 0.5 μm
A lower electrode film 60, a piezoelectric film 70 having a thickness of, for example, about 1 μm, and an upper electrode film 80 having a thickness of, for example, about 0.1 μm are formed by lamination in a process to be described later.
0. Here, the piezoelectric element 300 refers to a portion including the lower electrode film 60, the piezoelectric film 70, and the upper electrode film 80. Generally, one of the electrodes of the piezoelectric element 300 is used as a common electrode, and the other electrode and the piezoelectric film 70 are patterned for each pressure generating chamber 12. Here, a portion which is constituted by one of the patterned electrodes and the piezoelectric film 70 and in which a piezoelectric strain is generated by applying a voltage to both electrodes is referred to as a piezoelectric active portion 320. In the present embodiment, the lower electrode film 60 is used as a common electrode of the piezoelectric element 300 and the upper electrode film 80 is used as an individual electrode of the piezoelectric element 300. In any case, the piezoelectric active portion is formed for each pressure generating chamber. Also, here
The combination of the piezoelectric element 300 and the vibration plate whose displacement is generated by driving the piezoelectric element 300 is referred to as a piezoelectric actuator.
【0048】ここで、シリコン単結晶基板からなる流路
形成基板10上に、圧電体膜70等を形成するプロセス
を図4〜図6を参照しながら説明する。なお、図4及び
図6は、圧力発生室12の幅方向の断面図であり、図5
は、圧力発生室12の長手方向の断面図である。Here, a process for forming the piezoelectric film 70 and the like on the flow path forming substrate 10 made of a silicon single crystal substrate will be described with reference to FIGS. 4 and 6 are cross-sectional views in the width direction of the pressure generating chamber 12, and FIG.
Is a longitudinal sectional view of the pressure generating chamber 12. FIG.
【0049】まず、図4(a)に示すように、流路形成
基板10となるシリコン単結晶基板のウェハを約110
0℃の拡散炉で熱酸化して二酸化シリコンからなる弾性
膜50を形成する。First, as shown in FIG. 4A, a silicon single crystal substrate wafer to be
Thermal oxidation is performed in a diffusion furnace at 0 ° C. to form an elastic film 50 made of silicon dioxide.
【0050】次に、図4(b)に示すように、スパッタ
リングで下電極膜60を形成する。下電極膜60の材料
としては、白金等が好適である。これは、スパッタリン
グ法やゾル−ゲル法で成膜する後述の圧電体膜70は、
成膜後に大気雰囲気下又は酸素雰囲気下で600〜10
00℃程度の温度で焼成して結晶化させる必要があるか
らである。すなわち、下電極膜60の材料は、このよう
な高温、酸化雰囲気下で導電性を保持できなければなら
ず、殊に、圧電体膜70としてチタン酸ジルコン酸鉛
(PZT)を用いた場合には、酸化鉛の拡散による導電
性の変化が少ないことが望ましく、これらの理由から白
金が好適である。Next, as shown in FIG. 4B, a lower electrode film 60 is formed by sputtering. As a material of the lower electrode film 60, platinum or the like is preferable. This is because a piezoelectric film 70 described later, which is formed by a sputtering method or a sol-gel method,
After film formation, 600 to 10 in an air atmosphere or an oxygen atmosphere
This is because it is necessary to perform crystallization by firing at a temperature of about 00 ° C. That is, the material of the lower electrode film 60 must be able to maintain conductivity under such a high temperature and oxidizing atmosphere. In particular, when the piezoelectric film 70 is made of lead zirconate titanate (PZT), It is desirable that the change in conductivity due to the diffusion of lead oxide is small, and for these reasons, platinum is preferred.
【0051】次に、圧力発生室12の長手方向の断面図
である図5に示すように、下電極膜60を所定の形状に
パターニングする。すなわち、下電極膜60の圧力発生
室12の一端部近傍に対向する領域に、例えば、圧力発
生室12の並設方向に、その側壁に沿って所定幅の下電
極膜除去部330を設けることにより、圧力発生室12
の端部と周壁との境界部分に下電極膜60とは不連続の
不連続下電極膜61を形成する。また、これと共に周壁
に対向する領域の下電極膜60をパターニングして各圧
力発生室12に対応してそれぞれ独立した配線用下電極
膜62を形成する。Next, as shown in FIG. 5, which is a longitudinal sectional view of the pressure generating chamber 12, the lower electrode film 60 is patterned into a predetermined shape. That is, the lower electrode film removing portion 330 having a predetermined width is provided in a region of the lower electrode film 60 opposed to the vicinity of one end of the pressure generating chamber 12, for example, in the direction in which the pressure generating chambers 12 are juxtaposed and along the side wall. The pressure generating chamber 12
A discontinuous lower electrode film 61 that is discontinuous from the lower electrode film 60 is formed at the boundary between the end of the lower electrode film and the peripheral wall. At the same time, the lower electrode film 60 in a region facing the peripheral wall is patterned to form an independent wiring lower electrode film 62 corresponding to each pressure generating chamber 12.
【0052】次に、図4(c)に示すように、圧電体膜
70を成膜する。本実施形態では、金属有機物を溶媒に
溶解・分散したいわゆるゾルを塗布乾燥してゲル化し、
さらに高温で焼成することで金属酸化物からなる圧電体
膜70を得る、いわゆるゾル−ゲル法を用いて形成し
た。圧電体膜70の材料としては、チタン酸ジルコン酸
鉛系の材料がインクジェット式記録ヘッドに使用する場
合には好適である。なお、この圧電体膜70の成膜方法
は、特に限定されず、例えば、スパッタリング法で形成
してもよい。Next, as shown in FIG. 4C, a piezoelectric film 70 is formed. In this embodiment, a so-called sol in which a metal organic substance is dissolved and dispersed in a solvent is applied, dried, and gelled,
Further, the film was formed using a so-called sol-gel method in which a piezoelectric film 70 made of a metal oxide was obtained by firing at a high temperature. As a material of the piezoelectric film 70, a lead zirconate titanate-based material is suitable when used in an ink jet recording head. The method for forming the piezoelectric film 70 is not particularly limited, and may be, for example, a sputtering method.
【0053】さらに、ゾル−ゲル法又はスパッタリング
法等によりチタン酸ジルコン酸鉛の前駆体膜を形成後、
アルカリ水溶液中での高圧処理法にて低温で結晶成長さ
せる方法を用いてもよい。Further, after forming a precursor film of lead zirconate titanate by a sol-gel method or a sputtering method,
A method of growing crystals at a low temperature by a high-pressure treatment method in an alkaline aqueous solution may be used.
【0054】次に、図4(d)に示すように、上電極膜
80を成膜する。上電極膜80は、導電性の高い材料で
あればよく、アルミニウム、金、ニッケル、白金等の多
くの金属や、導電性酸化物等を使用できる。本実施形態
では、白金をスパッタリングにより成膜している。Next, as shown in FIG. 4D, an upper electrode film 80 is formed. The upper electrode film 80 only needs to be a material having high conductivity, and can use many metals such as aluminum, gold, nickel, and platinum, and a conductive oxide. In the present embodiment, platinum is formed by sputtering.
【0055】その後、図6(a)に示すように、圧電体
膜70及び上電極膜80のみをエッチングして圧電体能
動部320のパターニングを行う。以上が膜形成プロセ
スである。また、このようにして膜形成を行った後、図
6(b)に示すように、前述したアルカリ溶液によるシ
リコン単結晶基板の異方性エッチングを行い、圧力発生
室12等を形成する。Thereafter, as shown in FIG. 6A, only the piezoelectric film 70 and the upper electrode film 80 are etched to pattern the piezoelectric active portion 320. The above is the film forming process. After forming the film in this manner, as shown in FIG. 6B, the silicon single crystal substrate is subjected to anisotropic etching with the above-described alkali solution to form the pressure generating chamber 12 and the like.
【0056】このように形成されたインクジェット式記
録ヘッドの要部平面及び断面を図7に示す。FIG. 7 shows a plan view and a cross section of a main part of the ink jet recording head thus formed.
【0057】図7に示すように、圧電体能動部320は
基本的には圧力発生室12に対向する領域内に設けら
れ、圧電体膜70及び上電極膜80が圧力発生室12の
長手方向一端部から周壁に対向する領域まで連続的に延
設されている。また、下電極膜60は、並設された複数
の圧力発生室12に対応する領域に亘って設けられてい
る。As shown in FIG. 7, the piezoelectric active portion 320 is basically provided in a region facing the pressure generating chamber 12, and the piezoelectric film 70 and the upper electrode film 80 extend in the longitudinal direction of the pressure generating chamber 12. It extends continuously from one end to a region facing the peripheral wall. The lower electrode film 60 is provided over a region corresponding to the plurality of pressure generating chambers 12 arranged in parallel.
【0058】また、圧力発生室12の圧電体膜70及び
上電極膜80が延設される側の端部近傍には、下電極膜
60が除去された下電極膜除去部330が、例えば、圧
力発生室12の形状に沿ってその並設方向に延びる細溝
状に設けらており、圧力発生室12の端部と周壁との境
界部分の下電極膜は、圧電体能動部の下電極膜60とは
不連続な不連続下電極膜61となっている。In the vicinity of the end of the pressure generating chamber 12 on the side where the piezoelectric film 70 and the upper electrode film 80 are extended, a lower electrode film removing portion 330 from which the lower electrode film 60 has been removed is provided, for example. The lower electrode film is provided in the shape of the pressure generating chamber 12 in a narrow groove extending in the direction in which the pressure generating chamber 12 is arranged. The film 60 is a discontinuous lower electrode film 61 that is discontinuous.
【0059】ここで、下電極膜60と不連続下電極膜6
1とを分離する下電極膜除去部330の幅は、少なくと
も下電極膜60と不連続下電極膜61との絶縁強度を保
持可能な幅とする必要があるが、できるだけ狭い幅とし
て振動板の剛性を保持することが好ましい。Here, the lower electrode film 60 and the discontinuous lower electrode film 6
It is necessary that the width of the lower electrode film removing portion 330 that separates the lower electrode film 1 from the lower electrode film 60 be at least as long as the insulating strength between the lower electrode film 60 and the discontinuous lower electrode film 61 can be maintained. It is preferable to maintain rigidity.
【0060】また、この不連続下電極膜61の圧力発生
室12とは反対側の周壁上には、下電極膜60とは不連
続で、一端が図示しない外部端子に接続されるリード電
極として用いられる配線用下電極膜62が設けられてい
る。この配線用下電極膜62は、下電極膜除去部330
によって不連続下電極61とは不連続となり、各圧電体
能動部320毎にパターニングされている。そして、圧
電体膜70及び上電極膜80がこの配線用下電極膜62
まで延設されており、連結配線90によって上電極膜8
0と配線用下電極膜62とが接続されている。On the peripheral wall of the discontinuous lower electrode film 61 opposite to the pressure generating chamber 12, a lead electrode discontinuous with the lower electrode film 60 and having one end connected to an external terminal (not shown) is provided. A wiring lower electrode film 62 to be used is provided. The lower electrode film for wiring 62 is provided with a lower electrode film removing portion 330.
As a result, the discontinuous lower electrode 61 is discontinuous, and is patterned for each piezoelectric active portion 320. Then, the piezoelectric film 70 and the upper electrode film 80 are formed by the lower electrode film 62 for wiring.
The upper electrode film 8 is extended by the connection wiring 90.
0 and the wiring lower electrode film 62 are connected.
【0061】これにより、不連続下電極膜61は、本実
施形態では、他の何れにも電気的に接続されないフロー
ティング電極となり、下電極膜60上に存在する圧電体
膜70及び上電極膜80が実質的な駆動部となる圧電体
能動部320を構成し、不連続下電極膜61上の圧電体
膜70及び上電極膜80は強く駆動されることがない。Thus, in this embodiment, the discontinuous lower electrode film 61 becomes a floating electrode that is not electrically connected to any other components, and the piezoelectric film 70 and the upper electrode film 80 existing on the lower electrode film 60 are formed. Constitutes a piezoelectric active portion 320 which is a substantial driving portion, and the piezoelectric film 70 and the upper electrode film 80 on the discontinuous lower electrode film 61 are not strongly driven.
【0062】このような構成により、圧力発生室12と
周壁との境界部分は、圧電体能動部320への電圧印加
によっても強く駆動されることがないため、圧力発生室
12の長手方向端部での振動板の剛性が高く、この部分
での振動板の破壊あるいは圧電体膜70の破壊等を防止
することができる。With such a configuration, the boundary between the pressure generating chamber 12 and the peripheral wall is not strongly driven by the application of the voltage to the piezoelectric active portion 320. The rigidity of the diaphragm at this point is high, and it is possible to prevent the breakdown of the diaphragm or the breakdown of the piezoelectric film 70 at this portion.
【0063】なお、本実施形態では、不連続下電極膜6
1を複数の圧力発生室12の並設方向に亘って形成する
ようにしたが、これに限定されず、例えば、図8に示す
ように、各圧電体能動部320毎に分離するようにして
もよい。これにより、不連続下電極61上の圧電体膜7
0及び上電極膜80が完全に駆動されることがなく、振
動板又は圧電体膜70の破壊等をより確実に防止するこ
とができる。In the present embodiment, the discontinuous lower electrode film 6
1 is formed in the direction in which the plurality of pressure generating chambers 12 are juxtaposed, but is not limited to this. For example, as shown in FIG. Is also good. Thus, the piezoelectric film 7 on the discontinuous lower electrode 61
Since the zero and upper electrode films 80 are not completely driven, breakage of the diaphragm or the piezoelectric film 70 can be more reliably prevented.
【0064】また、本実施形態では、不連続下電極膜6
1を、他の部分とは電気的に接続されることのないフロ
ーティング電極としたが、これに限定されず、例えば、
充電される時定数が圧電体能動部320の駆動パルスよ
りも大きくなるように、所定の抵抗値の抵抗を介して電
極層と接続するようにしてもよい。In this embodiment, the discontinuous lower electrode film 6
1 is a floating electrode that is not electrically connected to other parts, but is not limited to this. For example,
It may be connected to the electrode layer via a resistor having a predetermined resistance value so that the charging time constant is larger than the drive pulse of the piezoelectric active section 320.
【0065】以上説明した圧電体能動部320及び圧力
発生室12等の一連の膜形成及び異方性エッチングは、
一枚のウェハ上に多数のチップを同時に形成し、プロセ
ス終了後、図1に示すような一つのチップサイズの流路
形成基板10毎に分割する。また、分割した流路形成基
板10を、封止板20、共通インク室形成基板30、及
びインク室側板40と順次接着して一体化し、インクジ
ェット式記録ヘッドとする。A series of film formation and anisotropic etching of the piezoelectric active portion 320 and the pressure generating chamber 12 described above are performed by:
A large number of chips are simultaneously formed on one wafer, and after completion of the process, the wafer is divided into flow path forming substrates 10 each having one chip size as shown in FIG. Further, the divided flow path forming substrate 10 is sequentially adhered and integrated with the sealing plate 20, the common ink chamber forming substrate 30, and the ink chamber side plate 40 to form an ink jet recording head.
【0066】また、このように構成したインクジェット
ヘッドは、図示しない外部インク供給手段と接続したイ
ンク導入口42からインクを取り込み、共通インク室3
1からノズル開口11に至るまで内部をインクで満たし
た後、図示しない外部の駆動回路からの記録信号に従
い、上電極膜80と下電極膜60との間に電圧を印加
し、弾性膜50、下電極膜60及び圧電体膜70をたわ
み変形させることにより、圧力発生室12内の圧力が高
まりノズル開口11からインク滴が吐出する。The ink-jet head thus configured takes in ink from an ink inlet 42 connected to external ink supply means (not shown),
After filling the interior from 1 to the nozzle opening 11 with ink, a voltage is applied between the upper electrode film 80 and the lower electrode film 60 according to a recording signal from an external drive circuit (not shown), By bending and deforming the lower electrode film 60 and the piezoelectric film 70, the pressure in the pressure generating chamber 12 increases, and ink droplets are ejected from the nozzle openings 11.
【0067】(実施形態2)図9は、実施形態2に係る
インクジェット式記録ヘッドの要部断面図である。(Embodiment 2) FIG. 9 is a sectional view of a main part of an ink jet recording head according to Embodiment 2.
【0068】本実施形態では、図9に示すように、不連
続下電極膜61は、圧力発生室12の端部近傍に下電極
膜除去部330が圧力発生室の並設方向に直線的に設け
られて下電極膜60と不連続となっている。また、下電
極膜除去部330は各圧力発生室12の幅方向の周壁上
で圧力発生室12の長手方向に延設されており、不連続
下電極膜61が各圧電体能動部320に対応して分離さ
れている。すなわち、これらの分離された不連続下電極
膜61は、それぞれ、各圧電体能動部320に対応する
配線を構成するようにパターニングされた状態で残存さ
れている。In this embodiment, as shown in FIG. 9, the discontinuous lower electrode film 61 has a lower electrode film removing portion 330 near the end of the pressure generating chamber 12 in the direction in which the pressure generating chambers are juxtaposed. It is provided and is discontinuous with the lower electrode film 60. The lower electrode film removing section 330 extends in the longitudinal direction of the pressure generating chamber 12 on the peripheral wall in the width direction of each pressure generating chamber 12, and the discontinuous lower electrode film 61 corresponds to each piezoelectric active section 320. And have been separated. That is, each of the separated discontinuous lower electrode films 61 is left in a state of being patterned so as to form a wiring corresponding to each piezoelectric active portion 320.
【0069】ここで、各不連続下電極膜61を分離する
下電極膜除去部330の幅は、少なくともこれらの絶縁
強度を保持可能な程度の狭い幅で形成されている。勿
論、下電極膜60及び不連続下電極膜61も、実施形態
1と同様、絶縁強度が保持されている。Here, the width of the lower electrode film removing portion 330 for separating each discontinuous lower electrode film 61 is formed to be narrow enough to maintain at least the insulation strength thereof. Of course, the lower electrode film 60 and the discontinuous lower electrode film 61 also have the same insulation strength as in the first embodiment.
【0070】また、各圧電体能動部320から延設され
た圧電体膜70及び上電極膜80は、この不連続下電極
膜61上まで延設され、上電極膜80と不連続下電極膜
61とが連結配線90によって接続されている。そし
て、この不連続下電極膜61は、その端部近傍で外部配
線と接続されており、リード電極として使用されてい
る。The piezoelectric film 70 and the upper electrode film 80 extending from each of the piezoelectric active portions 320 are extended to above the discontinuous lower electrode film 61, and the upper electrode film 80 and the discontinuous lower electrode film are extended. 61 are connected by a connection wiring 90. The discontinuous lower electrode film 61 is connected to an external wiring near its end, and is used as a lead electrode.
【0071】このような構成では、不連続下電極膜61
を有効に利用することができ、製造工程の簡略化及び製
造コストの低減を図ることができる。勿論、本実施形態
においても、実施形態1と同様の効果を得ることができ
る。In such a configuration, the discontinuous lower electrode film 61
Can be used effectively, and the manufacturing process can be simplified and the manufacturing cost can be reduced. Of course, also in the present embodiment, the same effect as in the first embodiment can be obtained.
【0072】(実施形態3)図10は、実施形態3に係
るインクジェット式記録ヘッドの要部断面図である。(Embodiment 3) FIG. 10 is a sectional view of an essential part of an ink jet recording head according to Embodiment 3.
【0073】本実施形態は、図10に示すように、各不
連続下電極膜61の間に下電極膜除去部330によって
分離され他の何れにも接続されない中間電極膜340が
設けられている以外は、実施形態2と同様の構成であ
る。In this embodiment, as shown in FIG. 10, an intermediate electrode film 340 which is separated by a lower electrode film removing section 330 and is not connected to any other is provided between each discontinuous lower electrode film 61. Except for this, the configuration is the same as that of the second embodiment.
【0074】このような構成により、各不連続下電極膜
61を分離する下電極膜除去部330の幅を狭くするこ
とができる。すなわち、各不連続下電極膜61の間には
中間電極膜340が設けられているため、下電極膜除去
部330の幅を狭くしてもこれらの絶縁強度を確実に保
持することができる。これにより、振動板の剛性がより
高くなり、上述の実施形態と同様、圧力発生室12と周
壁との境界部分で、振動板の破壊あるいは圧電体膜70
の破壊等を防止することができる。With such a configuration, the width of the lower electrode film removing portion 330 separating each discontinuous lower electrode film 61 can be reduced. That is, since the intermediate electrode film 340 is provided between the discontinuous lower electrode films 61, even if the width of the lower electrode film removing portion 330 is reduced, the insulation strength thereof can be reliably maintained. Thereby, the rigidity of the diaphragm is further increased, and the diaphragm is broken or the piezoelectric film 70 is broken at the boundary between the pressure generating chamber 12 and the peripheral wall as in the above-described embodiment.
Can be prevented from being destroyed.
【0075】なお、上述の実施形態では、下電極膜60
及び不連続下電極膜61の間の下電極膜除去部330
は、各下電極膜60及び不連続下電極膜61間の絶縁強
度を保持可能な程度の幅で形成されているが、例えば、
図11に示すように、圧電素子300の幅方向両側等の
絶縁破壊の起こりやすい部分に、例えば、上電極膜80
を除去して、実質的に駆動されない圧電体膜70を残留
させた不活性部350を設けるようにしてもよい。これ
により、さらに確実に絶縁強度を保持することができ
る。なお、勿論、圧電体膜70が駆動されなければ、上
電極膜80を除去しなくてもよいことは言うまでもな
い。In the above embodiment, the lower electrode film 60
And lower electrode film removing section 330 between discontinuous lower electrode film 61
Is formed with a width that can maintain the insulation strength between each lower electrode film 60 and the discontinuous lower electrode film 61.
As shown in FIG. 11, for example, the upper electrode film 80
May be removed to provide an inactive portion 350 in which the piezoelectric film 70 that is not substantially driven remains. Thereby, the insulation strength can be more reliably maintained. Needless to say, if the piezoelectric film 70 is not driven, the upper electrode film 80 need not be removed.
【0076】(他の実施形態)以上、本発明の各実施形
態を説明したが、インクジェット式記録ヘッドの基本的
構成は上述したものに限定されるものではない。(Other Embodiments) The embodiments of the present invention have been described above. However, the basic configuration of the ink jet recording head is not limited to the above.
【0077】例えば、上述した封止板20の他、共通イ
ンク室形成板30をガラスセラミックス製としてもよ
く、さらには、薄肉膜41を別部材としてガラスセラミ
ックス製としてもよく、材料、構造等の変更は自由であ
る。For example, in addition to the sealing plate 20 described above, the common ink chamber forming plate 30 may be made of glass ceramic, and the thin film 41 may be made of glass ceramic as a separate member. Changes are free.
【0078】また、上述した実施形態では、ノズル開口
を流路形成基板10の端面に形成しているが、面に垂直
な方向に突出するノズル開口を形成してもよい。In the above-described embodiment, the nozzle openings are formed on the end surface of the flow path forming substrate 10. However, the nozzle openings may be formed to project in a direction perpendicular to the surface.
【0079】このように構成した実施形態の分解斜視図
を図12、その流路の断面を図13にぞれぞれ示す。こ
の実施形態では、ノズル開口11が圧電振動子とは反対
のノズル基板120に穿設され、これらノズル開口11
と圧力発生室12とを連通するノズル連通口22が、封
止板20,共通インク室形成板30及び薄肉板41A及
びインク室側板40Aを貫通するように配されている。FIG. 12 is an exploded perspective view of the embodiment configured as described above, and FIG. 13 is a cross-sectional view of the flow path. In this embodiment, the nozzle openings 11 are drilled in the nozzle substrate 120 opposite to the piezoelectric vibrator, and these nozzle openings 11
A nozzle communication port 22 for communicating the pressure generating chamber 12 with the pressure generating chamber 12 is provided so as to penetrate the sealing plate 20, the common ink chamber forming plate 30, the thin plate 41A, and the ink chamber side plate 40A.
【0080】なお、本実施形態は、その他、薄肉板41
Aとインク室側板40Aとを別部材とし、インク室側板
40Aに開口40bを形成した以外は、基本的に上述し
た実施形態と同様であり、同一部材には同一符号を付し
て重複する説明は省略する。In this embodiment, the thin plate 41
A is basically the same as the above-described embodiment except that the ink chamber side plate 40A and the ink chamber side plate 40A are separate members, and the opening is formed in the ink chamber side plate 40A. Is omitted.
【0081】勿論、以上説明した各実施形態は、適宜組
み合わせて実施することにより、より一層の効果を奏す
るものであることは言うまでもない。Of course, it is needless to say that the above-described embodiments can be more effective when implemented in combination as appropriate.
【0082】また、以上説明した各実施形態は、成膜及
びリソグラフィプロセスを応用することにより製造でき
る薄膜型のインクジェット式記録ヘッドを例にしたが、
勿論これに限定されるものではなく、例えば、基板を積
層して圧力発生室を形成するもの、あるいはグリーンシ
ートを貼付もしくはスクリーン印刷等により圧電体膜を
形成するもの、又は水熱法等の結晶成長により圧電体膜
を形成するもの等、各種の構造のインクジェット式記録
ヘッドに本発明を採用することができる。In each of the embodiments described above, a thin film type ink jet recording head which can be manufactured by applying a film forming and lithography process is described as an example.
Of course, the present invention is not limited to this. For example, a structure in which substrates are laminated to form a pressure generating chamber, or a structure in which a green sheet is attached or a piezoelectric film is formed by screen printing, or a crystal formed by a hydrothermal method or the like The present invention can be applied to ink jet recording heads of various structures, such as those that form a piezoelectric film by growth.
【0083】このように、本発明は、その趣旨に反しな
い限り、種々の構造のインクジェット式記録ヘッドに応
用することができる。As described above, the present invention can be applied to ink-jet recording heads having various structures, as long as the gist of the present invention is not contradicted.
【0084】また、これら各実施形態のインクジェット
式記録ヘッドは、インクカートリッジ等と連通するイン
ク流路を具備する記録ヘッドユニットの一部を構成し
て、インクジェット式記録装置に搭載される。図14
は、そのインクジェット式記録装置の一例を示す概略図
である。The ink jet recording head according to each of the embodiments constitutes a part of a recording head unit having an ink flow path communicating with an ink cartridge and the like, and is mounted on an ink jet recording apparatus. FIG.
FIG. 1 is a schematic view showing an example of the ink jet recording apparatus.
【0085】図14に示すように、インクジェット式記
録ヘッドを有する記録ヘッドユニット1A及び1Bは、
インク供給手段を構成するカートリッジ2A及び2Bが
着脱可能に設けられ、この記録ヘッドユニット1A及び
1Bを搭載したキャリッジ3は、装置本体4に取り付け
られたキャリッジ軸5に軸方向移動自在に設けられてい
る。この記録ヘッドユニット1A及び1Bは、例えば、
それぞれブラックインク組成物及びカラーインク組成物
を吐出するものとしている。As shown in FIG. 14, the recording head units 1A and 1B having the ink jet recording heads
Cartridges 2A and 2B constituting ink supply means are detachably provided. A carriage 3 on which the recording head units 1A and 1B are mounted is provided on a carriage shaft 5 attached to the apparatus main body 4 so as to be movable in the axial direction. I have. The recording head units 1A and 1B are, for example,
Each of them ejects a black ink composition and a color ink composition.
【0086】そして、駆動モータ6の駆動力が図示しな
い複数の歯車およびタイミングベルト7を介してキャリ
ッジ3に伝達されることで、記録ヘッドユニット1A及
び1Bを搭載したキャリッジ3はキャリッジ軸5に沿っ
て移動される。一方、装置本体4にはキャリッジ3に沿
ってプラテン8が設けられている。このプラテン8は図
示しない紙送りモータの駆動力により回転できるように
なっており、給紙ローラなどにより給紙された紙等の記
録媒体である記録シートSがプラテン8に巻き掛けられ
て搬送されるようになっている。The driving force of the driving motor 6 is transmitted to the carriage 3 via a plurality of gears and a timing belt 7 (not shown), so that the carriage 3 on which the recording head units 1A and 1B are mounted moves along the carriage shaft 5. Moved. On the other hand, the apparatus main body 4 is provided with a platen 8 along the carriage 3. The platen 8 can be rotated by a driving force of a paper feed motor (not shown), and a recording sheet S, which is a recording medium such as paper fed by a paper feed roller, is wound around the platen 8 and conveyed. It has become so.
【0087】[0087]
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、圧
電体能動部から延設される圧電体膜の下側に、圧電体能
動部の下電極膜とは不連続の不連続下電極膜を設けるよ
うにしたので、圧力発生室の端部と周壁との境界部分で
の振動板の剛性が高くなり、この部分での振動板の破壊
あるいは圧電体層の破壊を防止することができる。ま
た、圧電体層の膜厚が均一となり、絶縁耐圧の低下を防
止することができるという効果を奏する。As described above, according to the present invention, a discontinuous lower electrode that is discontinuous with the lower electrode film of the piezoelectric active part is provided below the piezoelectric film extending from the piezoelectric active part. Since the membrane is provided, the rigidity of the diaphragm at the boundary between the end of the pressure generating chamber and the peripheral wall is increased, and the breakage of the diaphragm or the piezoelectric layer at this portion can be prevented. . In addition, the thickness of the piezoelectric layer becomes uniform, and the effect of preventing a decrease in dielectric strength can be prevented.
【図1】本発明の実施形態1に係るインクジェット式記
録ヘッドの分解斜視図である。FIG. 1 is an exploded perspective view of an ink jet recording head according to a first embodiment of the present invention.
【図2】本発明の実施形態1に係るインクジェット式記
録ヘッドを示す図であり、図1の平面図及び断面図であ
る。FIG. 2 is a plan view and a cross-sectional view of the inkjet recording head according to the first embodiment of the present invention, showing the same.
【図3】図1の封止板の変形例を示す斜視図である。FIG. 3 is a perspective view showing a modification of the sealing plate of FIG. 1;
【図4】本発明の実施形態1の薄膜製造工程を示す断面
図である。FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating a thin-film manufacturing process according to the first embodiment of the present invention.
【図5】本発明の実施形態1の薄膜製造工程を示す断面
図である。FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a thin-film manufacturing process according to the first embodiment of the present invention.
【図6】本発明の実施形態1の薄膜製造工程を示す断面
図である。FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a thin-film manufacturing process according to the first embodiment of the present invention.
【図7】本発明の実施形態1に係るインクジェット式記
録ヘッドの要部を示す平面図及び断面図である。FIGS. 7A and 7B are a plan view and a cross-sectional view illustrating a main part of the inkjet recording head according to the first embodiment of the invention.
【図8】本発明の実施形態1に係るインクジェット式記
録ヘッドの変形例を示す平面図である。FIG. 8 is a plan view showing a modified example of the ink jet recording head according to the first embodiment of the present invention.
【図9】本発明の実施形態2に係るインクジェット式記
録ヘッドの要部を示す平面図である。FIG. 9 is a plan view illustrating a main part of an ink jet recording head according to a second embodiment of the present invention.
【図10】本発明の実施形態3に係るインクジェット式
記録ヘッドの要部を示す平面図である。FIG. 10 is a plan view illustrating a main part of an ink jet recording head according to a third embodiment of the invention.
【図11】本発明の他の実施形態に係るインクジェット
式記録ヘッドの要部を示す平面図及び断面図である。FIG. 11 is a plan view and a cross-sectional view illustrating a main part of an inkjet recording head according to another embodiment of the present invention.
【図12】本発明の他の実施形態に係るインクジェット
式記録ヘッドの分解斜視図である。FIG. 12 is an exploded perspective view of an ink jet recording head according to another embodiment of the present invention.
【図13】本発明の他の実施形態に係るインクジェット
式記録ヘッドを示す断面図である。FIG. 13 is a cross-sectional view illustrating an ink jet recording head according to another embodiment of the present invention.
【図14】本発明の一実施形態に係るインクジェット式
記録装置の概略図である。FIG. 14 is a schematic view of an ink jet recording apparatus according to an embodiment of the present invention.
10 流路形成基板 12 圧力発生室 50 弾性膜 60 下電極膜 61 不連続下電極膜 62 配線用下電極膜 70 圧電体膜 80 上電極膜 300 圧電素子 320 圧電体能動部 330 下電極膜除去部 340 中間電極膜 350 不活性部 Reference Signs List 10 flow path forming substrate 12 pressure generating chamber 50 elastic film 60 lower electrode film 61 discontinuous lower electrode film 62 lower electrode film for wiring 70 piezoelectric film 80 upper electrode film 300 piezoelectric element 320 piezoelectric active portion 330 lower electrode film removing portion 340 Intermediate electrode film 350 Inactive part
Claims (11)
の圧力発生室に対応する領域に設けられた下電極、該下
電極上に設けられた圧電体層及び該圧電体層の表面に設
けられた上電極からなり、前記圧力発生室に対向する領
域に実質的な駆動部となる圧電体能動部を有する圧電素
子とを備えるインクジェット式記録ヘッドにおいて、 前記圧電体能動部を構成する前記圧電体層及び前記上電
極が前記圧力発生室に対向する領域内から領域外まで延
設されており、前記圧力発生室の端部と前記周壁と境界
部分に対向する領域の前記圧電体層の下側には、前記下
電極とは不連続の不連続下電極が設けられていることを
特徴とするインクジェット式記録ヘッド。1. A pressure generating chamber communicating with a nozzle opening, a lower electrode provided in a region corresponding to the pressure generating chamber, a piezoelectric layer provided on the lower electrode, and a surface provided on the piezoelectric layer. An ink jet recording head comprising: a piezoelectric element having a piezoelectric active portion, which is a substantially driving portion in a region facing the pressure generating chamber, the piezoelectric element comprising the piezoelectric active portion. The body layer and the upper electrode extend from inside a region facing the pressure generating chamber to outside the region, and are disposed below the piezoelectric layer in a region facing an end of the pressure generating chamber and the peripheral wall and a boundary portion. An ink jet recording head, wherein a discontinuous lower electrode that is discontinuous to the lower electrode is provided on the side.
は、前記下電極の前記圧力発生室の長手方向端部近傍に
設けられて少なくとも前記圧力発生室の並設方向に延び
る下電極除去部によって、前記下電極と不連続となって
いることを特徴とするインクジェット式記録ヘッド。2. The lower electrode removing section according to claim 1, wherein the discontinuous lower electrode is provided near a longitudinal end of the pressure generating chamber of the lower electrode and extends at least in a direction in which the pressure generating chambers are arranged. An ink jet recording head which is discontinuous with the lower electrode.
電極は、何れにも電気的に接続されていないことを特徴
とするインクジェット式記録ヘッド。3. The ink jet recording head according to claim 1, wherein the discontinuous lower electrode is not electrically connected to any of the electrodes.
電極は、充電される時定数が駆動パルスよりも大きくな
るように抵抗に接続されていることを特徴とするインク
ジェット式記録ヘッド。4. The ink jet recording head according to claim 1, wherein the discontinuous lower electrode is connected to a resistor so that a charging time constant is larger than a driving pulse.
連続下電極の前記下電極とは反対側の前記周壁上には、
前記不連続下電極と不連続であり且つ一端が外部配線に
接続される配線用下電極が前記各圧電素子毎に設けられ
ており、前記圧電体層及び前記上電極は前記配線用下電
極まで延設され、当該上電極が前記配線用下電極に接続
されていることを特徴とするインクジェット式記録ヘッ
ド。5. The non-continuous lower electrode according to claim 1, wherein:
A wiring lower electrode that is discontinuous with the discontinuous lower electrode and one end of which is connected to an external wiring is provided for each of the piezoelectric elements, and the piezoelectric layer and the upper electrode extend to the wiring lower electrode. An ink jet recording head which is extended and the upper electrode is connected to the lower electrode for wiring.
電極が、前記圧力発生室の長手方向に前記各圧電体能動
部毎に分離されており、それぞれ前記各圧電体能動部の
前記上電極と接続されていることを特徴とするインクジ
ェット式記録ヘッド。6. The piezoelectric active part according to claim 1, wherein the discontinuous lower electrode is separated for each of the piezoelectric active parts in a longitudinal direction of the pressure generating chamber. An ink jet recording head connected to an electrode.
及び前記下電極が、それぞれ絶縁可能な程度の間隔を有
することを特徴とするインクジェット式記録ヘッド。7. The ink-jet recording head according to claim 6, wherein each of the discontinuous lower electrodes and the lower electrodes has an interval capable of being insulated.
不連続下電極の間には、何れにも接続されない中間電極
を有することを特徴とするインクジェット式記録ヘッ
ド。8. The ink-jet recording head according to claim 6, further comprising an intermediate electrode connected between the adjacent discontinuous lower electrodes.
電素子に対応する領域以外の前記下電極膜除去部の少な
くとも一部に、前記圧電体層が残留されていることを特
徴とするインクジェット式記録ヘッド。9. The piezoelectric layer according to claim 1, wherein the piezoelectric layer remains in at least a part of the lower electrode film removed portion other than a region corresponding to the piezoelectric element. Ink jet recording head.
圧力発生室がシリコン単結晶基板に異方性エッチングに
より形成され、前記圧電素子の各層が薄膜及びリソグラ
フィ法により形成されたものであることを特徴とするイ
ンクジェット式記録ヘッド。10. The pressure generating chamber according to claim 1, wherein the pressure generating chamber is formed on a silicon single crystal substrate by anisotropic etching, and each layer of the piezoelectric element is formed by a thin film and a lithography method. An ink jet recording head, characterized in that:
ット式記録ヘッドを具備することを特徴とするインクジ
ェット式記録装置。11. An ink jet recording apparatus comprising the ink jet recording head according to claim 1.
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Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6923528B2 (en) | 2001-08-28 | 2005-08-02 | Seiko Epson Corporation | Liquid-jet head and liquid-jet apparatus |
JP2005238845A (en) * | 2004-02-27 | 2005-09-08 | Samsung Electronics Co Ltd | Piezoelectric actuator for ink-jet printhead and its forming method |
US7226151B2 (en) | 2002-09-17 | 2007-06-05 | Seiko Epson Corporation | Piezoelectric element, liquid ejection head and process for manufacturing them |
JP2009190398A (en) * | 2008-01-17 | 2009-08-27 | Seiko Epson Corp | Liquid jet head and liquid jet apparatus |
US7608983B2 (en) | 2006-07-18 | 2009-10-27 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Piezoelectric actuator, liquid transporting apparatus, and liquid-droplet jetting apparatus |
US7845770B2 (en) | 2007-04-02 | 2010-12-07 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Liquid droplet ejecting head and image forming device |
JP2011083995A (en) * | 2009-10-16 | 2011-04-28 | Seiko Epson Corp | Liquid droplet jetting head and liquid droplet jetting device |
JP2011189523A (en) * | 2010-03-11 | 2011-09-29 | Seiko Epson Corp | Liquid ejecting head and liquid ejecting apparatus |
JP2016055475A (en) * | 2014-09-08 | 2016-04-21 | ブラザー工業株式会社 | Manufacturing method for liquid discharge device and liquid discharge device |
US10252528B2 (en) | 2017-01-06 | 2019-04-09 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Inkjet recording head |
-
1999
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Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6923528B2 (en) | 2001-08-28 | 2005-08-02 | Seiko Epson Corporation | Liquid-jet head and liquid-jet apparatus |
US7226151B2 (en) | 2002-09-17 | 2007-06-05 | Seiko Epson Corporation | Piezoelectric element, liquid ejection head and process for manufacturing them |
JP2005238845A (en) * | 2004-02-27 | 2005-09-08 | Samsung Electronics Co Ltd | Piezoelectric actuator for ink-jet printhead and its forming method |
JP4638750B2 (en) * | 2004-02-27 | 2011-02-23 | サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. | Piezoelectric actuator for ink jet print head and method for forming the same |
US7608983B2 (en) | 2006-07-18 | 2009-10-27 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Piezoelectric actuator, liquid transporting apparatus, and liquid-droplet jetting apparatus |
US7845770B2 (en) | 2007-04-02 | 2010-12-07 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Liquid droplet ejecting head and image forming device |
JP2009190398A (en) * | 2008-01-17 | 2009-08-27 | Seiko Epson Corp | Liquid jet head and liquid jet apparatus |
JP2011083995A (en) * | 2009-10-16 | 2011-04-28 | Seiko Epson Corp | Liquid droplet jetting head and liquid droplet jetting device |
JP2011189523A (en) * | 2010-03-11 | 2011-09-29 | Seiko Epson Corp | Liquid ejecting head and liquid ejecting apparatus |
JP2016055475A (en) * | 2014-09-08 | 2016-04-21 | ブラザー工業株式会社 | Manufacturing method for liquid discharge device and liquid discharge device |
US10357971B2 (en) | 2014-09-08 | 2019-07-23 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing liquid jetting apparatus and liquid jetting apparatus |
US10252528B2 (en) | 2017-01-06 | 2019-04-09 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Inkjet recording head |
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