JP2000211095A - Offset printing method, printing original plate and printing apparatus - Google Patents

Offset printing method, printing original plate and printing apparatus

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JP2000211095A
JP2000211095A JP11014562A JP1456299A JP2000211095A JP 2000211095 A JP2000211095 A JP 2000211095A JP 11014562 A JP11014562 A JP 11014562A JP 1456299 A JP1456299 A JP 1456299A JP 2000211095 A JP2000211095 A JP 2000211095A
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printing
heating
temperature
plate
hydrophobic
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Nobufumi Mori
信文 森
Takao Nakayama
隆雄 中山
Takashi Nakamura
隆 中村
Koji Kamiyama
宏二 神山
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method and apparatus for negative type offset printing by carrying out plate making readily without the necessity of alkaline developer, and having a practical printing image quality of high discrimination in the image part and nonimage part of a printing surface, and also enabling printing paper to be used repeatedly. SOLUTION: The method and apparatus for offset printing is effected such that a printing original plate being composed in its surface of a heat reactive substance such as titanium oxide and zinc oxide is heated at a hydrophobic developing temperature to make a surface hydrophobic before being subjected to image-like heating at a high temperature hydrophilic developing temperature to form an image like distribution of a hydrophilic area and hydrophobic area; which thereby printing ink is accepted in the hydrophobic area. Furthermore, this is the reusing method of a printing original plate employing the printing original plate again by cleaning and removing ink staying on the face of a print-finished printing plate, thus, in particular, improving printing quality by making a hydrophobic property in the presence by a volatile organic compound.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、一般軽印刷分野、
とくにオフセット印刷、とりわけ簡易に印刷版を製作で
きる新規なオフセット印刷方法及び印刷原板に関するも
のである。その中でもとくに印刷用原板の反復再生使用
を可能にするオフセット印刷方法、その印刷用原板及び
それらによる印刷装置に関するものである。
The present invention relates to the field of general light printing,
In particular, the present invention relates to offset printing, and more particularly to a novel offset printing method and a printing original plate capable of easily producing a printing plate. In particular, the present invention relates to an offset printing method which enables repeated use of a printing plate, a printing plate, and a printing apparatus using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】オフセット印刷法は、数多くの印刷方法
の中でも印刷版の製作工程が簡単であるために、とくに
一般的に用いられてきており、現在の主要な印刷手段と
なっている。この印刷技術は、油と水の非混和性に基づ
いており、画像領域には油性材料つまりインキが、非画
像領域には湿し水が選択的に保持される。したがって印
刷される面と直接あるいはブランケットと称する中間体
を介して間接的に接触させると画像部のインキが転写さ
れて印刷が行われる。
2. Description of the Related Art The offset printing method has been used particularly commonly because of a simple printing plate manufacturing process among many printing methods, and is the main printing method at present. This printing technique is based on the immiscibility of oil and water, with the image areas selectively retaining oily material or ink and the non-image areas selectively retaining fountain solution. Therefore, when the surface to be printed is brought into direct contact with the surface to be printed or indirectly through an intermediate called a blanket, the ink in the image area is transferred and printing is performed.

【0003】オフセット印刷の主な方法は、アルミニウ
ム基板を支持体としてその上にジアゾ感光層を塗設した
PS板である。PS板においては、支持体であるアルミ
ニウム基板の表面に砂目立て、陽極酸化、その他の諸処
理を施して画像領域のインキ受容能と非画像部のインキ
反発性を強め、耐刷力を向上させ、印刷面の精細化を図
るなどを行い、その表面に印刷用画像を形成させる。し
たがってオフセット印刷は、簡易性に加えて耐刷力や印
刷面の高精細性などの特性も備わってきている。
The main method of offset printing is a PS plate having an aluminum substrate as a support and a diazo photosensitive layer applied thereon. In the PS plate, the surface of the aluminum substrate, which is the support, is subjected to graining, anodic oxidation, and other treatments to enhance the ink receiving capacity of the image area and the ink repulsion of the non-image area, thereby improving the printing durability. Then, the printing surface is refined, and a printing image is formed on the surface. Therefore, offset printing has been provided with characteristics such as printing durability and high definition of a printing surface in addition to simplicity.

【0004】高精細化によってオフセット印刷法の利用
が拡がって一般印刷分野に普及する一方において、オフ
セット印刷法の一層の簡易化が要望され、数多くの簡易
印刷方法が提案されている。
[0004] While the use of the offset printing method has been widespread and spread in the general printing field due to high definition, further simplification of the offset printing method has been demanded, and many simple printing methods have been proposed.

【0005】その代表例がAgfa-Gevaert社から市販され
たCopyrapid オフセット印刷版をはじめ、米国特許35
11656号、特開平7−56351号などでも開示さ
れている銀塩拡散転写法による印刷版作製に基づく印刷
方法であって、この方法は、1工程で転写画像を作るこ
とができて、かつその画像が親油性であるために、その
まま印刷版とすることができるので、簡易な印刷方法と
して実用されている。しかしながら、簡易とはいいなが
らこの方法もアルカリ現像液による拡散転写現像工程を
必要としている。現像液による現像工程を必要としな
い、しかも簡易な印刷方法が要望されている。
[0005] Representative examples thereof include a Copyrapid offset printing plate commercially available from Agfa-Gevaert, and US Pat.
No. 11656, a printing method based on the preparation of a printing plate by a silver salt diffusion transfer method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-56351 and the like. Since the image is lipophilic and can be directly used as a printing plate, it is practically used as a simple printing method. However, although simple, this method also requires a diffusion transfer development step using an alkaline developer. There is a demand for a simple printing method that does not require a developing step with a developer.

【0006】上記の背景から、画像露光を行ったのちの
アルカリ現像液による現像工程を省略した簡易印刷版の
製作方法の開発が行われてきた。現像工程を省略できる
ことから無処理刷版とも呼ばれるこの簡易印刷版の技術
分野では、これまでに主として像様露光による画像記
録面上の照射部の熱破壊による像形成、像様露光によ
る照射部の親油性化による画像形成、同じく照射部の
親油性化であるが、光モード硬化によるもの、ジアゾ
化合物の光分解による表面性質の変化、画像部のヒー
トモード溶融熱転写などの諸原理に基づく手段が提案さ
れている。
[0006] In view of the above background, a method of manufacturing a simple printing plate has been developed in which a developing step using an alkali developing solution after image exposure is omitted. In the technical field of this simple printing plate, which is also called an unprocessed printing plate because the development step can be omitted, the image formation by thermal destruction of the irradiated portion on the image recording surface mainly by imagewise exposure, Image formation by lipophilicity and lipophilicity of the irradiated part are also based on various principles such as photo-mode curing, changes in surface properties due to photolysis of diazo compounds, and heat mode fusion thermal transfer of image areas. Proposed.

【0007】上記の簡易オフセット印刷方法として開示
されている技術には、米国特許第3,506,779
号、同第3,549,733号、同第3,574,65
7号、同第3,739,033号、同第3,832,9
48号、同第3,945,318号、同第3,962,
513号、同第3,964,389号、同第4,03
4,183号、同第4,081,572号、同第4,6
93,958号、同第731,317号、同第5,23
8,778号、同第5,353,705号、同第5,3
85,092号、同第5,395,729号等の米国特
許及び欧州特許第1068号などがある。
The technique disclosed as the above simple offset printing method includes US Pat. No. 3,506,779.
No. 3,549,733 and No. 3,574,65
No. 7, No. 3,739,033, No. 3,832, 9
No. 48, No. 3,945,318, No. 3,962,
Nos. 513, 3,964,389 and 4,03
No. 4,183, No. 4,081,572, No. 4,6
Nos. 93,958, 731,317 and 5,23
No. 8,778, No. 5,353,705, No. 5,3
U.S. Patents Nos. 85,092 and 5,395,729 and European Patent 1068.

【0008】これらは、製版に際して現像液を必要とし
ないように考案されているが、親油性領域と親水性領域
との差異が不十分であること、したがって印刷画像の画
質が劣ること、解像力が劣り、鮮鋭度の優れた印刷画面
が得にくいこと、画像面の機械的強度が不十分で傷がつ
きやすいこと、そのために保護膜を設けるなどによって
却って簡易性が損なわれること、長時間の印刷に耐える
耐久性が不十分なことなどのいずれか一つ以上の欠点を
伴っていて、単にアルカリ現像工程を無くすだけでは実
用性は伴わないことを示している。印刷上必要とされる
諸特性を具備し、かつ簡易に印刷版を製作できる印刷版
作成方法への強い要望は、上記の数々の改良にも係わら
ず、いまだに十分に満たされていない。
[0008] These are designed so as not to require a developing solution at the time of plate making. However, the difference between the lipophilic region and the hydrophilic region is insufficient, so that the image quality of the printed image is inferior and the resolution is poor. Inferior, difficult to obtain a printed screen with excellent sharpness, insufficient mechanical strength of the image surface, and easy to be scratched. This is accompanied by at least one of the drawbacks, such as insufficient durability to withstand, and shows that simply eliminating the alkali development step does not involve practicality. In spite of the above-mentioned many improvements, a strong demand for a printing plate preparation method that has various characteristics required for printing and can easily produce a printing plate has not been sufficiently satisfied.

【0009】上記した無処理型印刷版作成方法の一つに
ジルコニアセラミックが光照射によって親水性化するこ
とを利用した印刷版作製方法が特開平9−169098
号で開示されている。しかし、ジルコニアの光感度は不
十分であり、かつ疎水性から親水性への光変換効果が不
十分のため画像部と非画像部の識別性が不足している。
As one of the above-mentioned methods for preparing a non-processable printing plate, there is disclosed a printing plate manufacturing method utilizing the fact that zirconia ceramics become hydrophilic by light irradiation.
No. However, the light sensitivity of zirconia is insufficient, and the effect of converting light from hydrophobic to hydrophilic is insufficient, so that the discriminability between the image area and the non-image area is insufficient.

【0010】上記した現像液を必要としない簡易な印刷
方法とともに、使用済みの印刷用原板を簡単に再生して
再使用できる手段があれば、コストの低減と廃棄物の軽
減の2面から有利である。印刷用原板の再生使用には、
その再生操作の簡易性が実用価値を左右するが、再生操
作の簡易化は難度の高い課題であり、従来殆ど検討され
きておらず、わずかに上記の特開平9−169098号
でジルコニアセラミックという特殊な原板用材料につい
て開示されているに過ぎない。
If there is a simple printing method that does not require the above-mentioned developer and a means for easily reusing and reusing a used printing original plate, it is advantageous from the two aspects of cost reduction and waste reduction. It is. For recycling of original printing plates,
The simplicity of the reproduction operation affects the practical value, but the simplification of the reproduction operation is a difficult task, and has been hardly studied in the past, and is slightly referred to as zirconia ceramic in JP-A-9-169098. It only discloses a special raw material.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
している課題は、上記事情に鑑みてアルカリ性現像液を
必要とせず、簡易に製版できて、かつ印刷面の画像部と
非画像部の識別性が改良された実用レベルの印刷画質を
有し、さらに印刷用原板を反復して使用することも可能
なオフセット印刷方法を提供することである。本発明の
第2の目的は、上記の印刷方法によって簡易な操作によ
って実用レベルの印刷品質の印刷を行い、かつ印刷原板
を繰り返して使用することのできる印刷装置を提供する
ことである。さらに、本発明では、ネガ型の製版方式で
あって、かつ上記の目的を満たした印刷方法を提供する
ことを意図している。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above circumstances, it is an object of the present invention to eliminate the need for an alkaline developer, to make a plate easily, and to discriminate an image area and a non-image area on a printing surface. It is an object of the present invention to provide an offset printing method which has a printing quality of a practical level in which the printing quality is improved, and which can use a printing plate repeatedly. A second object of the present invention is to provide a printing apparatus capable of performing printing at a practical level of print quality by a simple operation using the above-described printing method and repeatedly using a printing original plate. Further, the present invention intends to provide a printing method which is a negative type plate making method and satisfies the above object.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明者たちは、上記の
目的を達成するために、鋭意検討の結果、ある種の金属
酸化物及び金属の表面は、熱の作用によって表面の疎水
性〜親水性の程度が変化し、かつその変化は加熱条件に
よって疎水性化、親水性化のいずれの方向にも変わりう
る性質を有することを認め、この性質を版面上への印刷
用画像の形成と印刷終了後の版面の画像の消去に利用し
たネガ型の印刷用画像形成方式に応用して上記の課題を
解決できる可能性を見いだし、これに基づいて本発明を
完成するに至った。すなわち、本発明は、下記の通りで
ある。
Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies in order to achieve the above object, and as a result, it has been found that the surface of certain metal oxides and metals has a hydrophobic property due to the action of heat. The degree of hydrophilicity is changed, and it is recognized that the change has a property that can be changed in any direction of hydrophobicity and hydrophilicity depending on heating conditions, and this property is considered as the formation of a printing image on a plate surface and The present inventors have found the possibility of solving the above-mentioned problem by applying the present invention to a negative-type printing image forming system used for erasing an image on a printing plate after printing is completed, and based on this finding, completed the present invention. That is, the present invention is as follows.

【0013】1.印刷用原板を疎水性発現温度で加熱し
て表面を疎水性化し、次いで該表面を高温親水性発現温
度で像様に加熱を行うことによって親水性領域と疎水性
領域の像様分布を形成させ、疎水性領域を印刷用インキ
に接触させることによって該領域がインキを受け入れた
印刷面を形成させて印刷を行うことを特徴とするオフセ
ット印刷方法。
1. The printing plate is heated at the temperature at which hydrophobicity is developed to make the surface hydrophobic, and then the surface is heated imagewise at the temperature at which high hydrophilicity is developed to form an image-like distribution of hydrophilic regions and hydrophobic regions. An offset printing method comprising: contacting a hydrophobic area with a printing ink to form a printing surface in which the area has received the ink; and performing printing.

【0014】2.疎水性発現温度が50〜250℃であ
ることを特徴とする上記1に記載のオフセット印刷方
法。
2. 2. The offset printing method according to the above item 1, wherein the hydrophobicity development temperature is 50 to 250 ° C.

【0015】3.印刷に使用した印刷版面上に残存する
インキを洗浄除去したのち、その印刷版を印刷用原板と
して上記1又は2に記載の操作を反復して印刷を行うこ
とを特徴とする上記1又は2に記載の印刷方法。
[0015] 3. After washing and removing the ink remaining on the printing plate surface used for printing, the printing plate is used as a printing plate and the operation described in the above item 1 or 2 is repeated to perform printing. The printing method described.

【0016】4.印刷用原板を疎水性発現温度で加熱す
る際に、有機化合物の存在下で加熱することを特徴とす
る上記1〜3のいずれか1項に記載のオフセット印刷方
法。
4. 4. The offset printing method according to any one of the above items 1 to 3, wherein when the printing original plate is heated at a temperature at which hydrophobicity is developed, heating is performed in the presence of an organic compound.

【0017】5.疎水性発現温度で加熱する際に存在さ
せる有機化合物が、温度400℃において少なくとも1
mmHg以上の蒸気圧を有し、かつ疎水性発現温度にお
いて安定な有機化合物であることを特徴とする上記4に
記載のオフセット印刷方法。
5. The organic compound to be present when heated at the hydrophobic development temperature is at least one at 400 ° C.
5. The offset printing method according to the above item 4, wherein the organic compound has a vapor pressure of not less than mmHg and is stable at a temperature at which hydrophobicity is developed.

【0018】6.疎水性発現温度で加熱する際に存在さ
せる有機化合物が、沸点が30〜400℃の範囲である
ことを特徴とする上記4又は5に記載のオフセット印刷
方法。
6. 6. The offset printing method according to the above item 4 or 5, wherein the organic compound to be present when heated at the hydrophobic development temperature has a boiling point in the range of 30 to 400 ° C.

【0019】7.疎水性発現温度で行う加熱及び高温親
水性発現温度で行う像様の加熱の少なくとも一方が、感
熱記録用ヘッド及び光熱変換型輻射線から選ばれる加熱
手段によって行われることを特徴とする上記1〜6のい
ずれか1項に記載のオフセット印刷方法。
[7] At least one of the heating performed at the hydrophobic development temperature and the imagewise heating performed at the high hydrophilic development temperature is performed by a heating unit selected from a thermosensitive recording head and a photothermal conversion type radiation. 7. The offset printing method according to any one of 6.

【0020】8. 印刷用原板の表面が、周期律表の第
3〜6周期に属していて、かつ0及びVII A族(ハロゲ
ン元素)族以外の金属元素から選ばれる金属及び該金属
の酸化物からなる群の少なくとも一つによって構成され
ていることを特徴とする上記1〜7のいずれか1項に記
載のオフセット印刷方法。
[8] The surface of the printing original plate belongs to the third to sixth periods of the periodic table, and includes a metal selected from metal elements other than group 0 and group VIIA (halogen element) and an oxide of the metal. The offset printing method according to any one of the above items 1 to 7, wherein the offset printing method comprises at least one.

【0021】9.印刷用原板の表面が、TiO2 、RT
iO3 (Rはアルカリ土類金属原子)、AB2-x x
3-x x 10(Aは水素原子又はアルカリ金属原子、B
はアルカリ土類金属原子又は鉛原子、Cは希土類原子、
Dは周期律表の5A族元素に属する金属原子、Eは同じ
く4A族元素に属する金属原子、xは0〜2の任意の数
値を表す)、SnO2 ,Bi2 3 ,SiO2 ,GeO
2 ,Al2 3 ,ZnO及びFeOx (x=1〜1.
5)で表される酸化鉄から選ばれる金属酸化物の少なく
とも一つによって構成されていることを特徴とする上記
1〜8のいずれか1項に記載のオフセット印刷方法。
9. The surface of the printing plate is TiO 2 , RT
iO 3 (R is an alkaline earth metal atom), AB 2-x C x D
3-x E x O 10 (A is a hydrogen atom or an alkali metal atom, B
Is an alkaline earth metal atom or a lead atom, C is a rare earth atom,
D is a metal atom belonging to a group 5A element of the periodic table, E is a metal atom also belonging to a group 4A element, and x represents any numerical value from 0 to 2), SnO 2 , Bi 2 O 3 , SiO 2 , GeO
2 , Al 2 O 3 , ZnO and FeO x (x = 1 to 1.
(5) The offset printing method according to any one of (1) to (8) above, wherein the offset printing method is configured by at least one of metal oxides selected from iron oxides.

【0022】10.印刷用原板の表面が、アルミニウ
ム、鉄、銅、ゲルマニウム、ニッケル、亜鉛、錫及び珪
素から選ばれる金属又はその合金の少なくとも一つによ
って構成されていることを特徴とする上記1〜9のいず
れか1項に記載のオフセット印刷方法。
10. The surface of the printing original plate is composed of at least one of a metal selected from aluminum, iron, copper, germanium, nickel, zinc, tin and silicon or an alloy thereof, Item 2. The offset printing method according to Item 1.

【0023】11.上記1〜10のいずれか1項に記載
の方法に使用するオフセット印刷装置であって、印刷用
原板を装着した版胴と、該原板を疎水性発現温度に加熱
してその表面を疎水性化する加熱手段と、該原板に高温
親水性発現温度で像様に加熱を施して親水性領域と疎水
性領域の像様分布を形成させる描画手段と、該疎水性領
域に印刷用インキを供給して該領域がインキを受け入れ
た印刷面を形成させるインキ供給手段と,該印刷面を印
刷される面と接触させて印刷を行う印刷手段と、を有す
ることを特徴とするオフセット印刷装置。
11. An offset printing apparatus used in the method according to any one of the above 1 to 10, wherein a plate cylinder on which a printing original plate is mounted, and the surface of the printing plate are heated to a hydrophobic expression temperature to make the surface hydrophobic. Heating means, and drawing means for applying an imagewise distribution of the hydrophilic area and the hydrophobic area by applying imagewise heating to the original plate at a high hydrophilicity developing temperature, and supplying a printing ink to the hydrophobic area. An offset printing apparatus, comprising: an ink supply means for forming a printing surface in which the area has received ink; and a printing means for performing printing by bringing the printing surface into contact with the surface to be printed.

【0024】12.印刷終了後、印刷版に残存するイン
キを除去する手段を有することを特徴とする上記11に
記載のオフセット印刷装置。
12. 12. The offset printing apparatus according to the above item 11, further comprising means for removing ink remaining on the printing plate after printing is completed.

【0025】13.少なくとも疎水性発現温度で加熱す
る加熱手段、高温親水性発現温度で像様に加熱を施す描
画手段、インキ供給手段およびインキ除去手段が、前記
版胴の周囲に配設されてなることを特徴とする上記11
又は12に記載のオフセット印刷装置。
13. A heating means for heating at least at a hydrophobic development temperature, a drawing means for imagewise heating at a high hydrophilicity development temperature, an ink supply means and an ink removal means are arranged around the plate cylinder. 11 above
Or the offset printing apparatus according to 12.

【0026】14.印刷用原板が版胴の一部を構成して
おり、少なくとも疎水性発現温度で加熱する加熱手段、
高温親水性発現温度で像様に加熱を施す描画手段、イン
キ供給手段およびインキ除去手段が、前記版胴の周囲に
配設されてなることを特徴とする上記11〜13のいず
れか1項に記載のオフセット印刷装置。
14. The printing original plate constitutes a part of the plate cylinder, and heating means for heating at least at a hydrophobic expression temperature,
14. The printing method according to any one of items 11 to 13, wherein a drawing unit, an ink supply unit, and an ink removal unit that perform imagewise heating at a high hydrophilicity developing temperature are disposed around the plate cylinder. An offset printing apparatus as described in the above.

【0027】15.印刷用原板を疎水性発現温度で加熱
して表面を疎水性とする加熱手段が、該原板の表面に有
機化合物の蒸気が接するように有機化合物蒸気供給手段
を配していることを特徴とする上記11〜14のいずれ
か1項に記載のオフセット印刷装置。
15. The heating means for heating the printing original plate at the temperature at which hydrophobicity is exhibited to make the surface hydrophobic is provided with an organic compound vapor supply means so that the vapor of the organic compound is in contact with the surface of the original plate. 15. The offset printing apparatus according to any one of items 11 to 14.

【0028】本発明は、特定の物質(主として上記した
金属酸化物及び金属)の表面物性の特異な熱応答挙動の
発見に基づいてなされたものである。すなわち、この特
定の物質の清浄な表面は、程度の差はあっても本来親水
性であるが、適度の温度(以後、「疎水性発現温度」
という)で加熱を行うと疎水性に変化すること、さら
に高温度(以後、「高温親水性発現温度」という)に加
熱すると再び親水性となること、及びこれらの表面の
性質の変化には履歴効果があることの発見に基づいてい
る。本発明は、この熱応答挙動を効果的に利用したネガ
型方式のオフセット印刷方法と印刷装置である。
The present invention has been made based on the discovery of a unique thermal response behavior of the surface properties of a specific substance (mainly the above-mentioned metal oxides and metals). That is, the clean surface of this particular substance is inherently hydrophilic to varying degrees, but at a moderate temperature (hereinafter referred to as the "hydrophobic expression temperature").
Heating at high temperature (hereinafter referred to as "high hydrophilicity expression temperature"), it becomes hydrophilic again. It is based on the discovery that it works. The present invention is a negative offset printing method and a printing apparatus that effectively utilize the thermal response behavior.

【0029】この性質を利用すれば、第1段階としてま
ず上記の性質をもつ特定の物質の表面を疎水性発現温度
に一様に加熱してその物質の表面を疎水性領域とし、つ
ぎに第2段階としてその表面を親水性発現温度で像様に
加熱を行って加熱領域を親水性にして親水性領域と疎水
性領域の像様の分布を形成し、次いで第3段階として疎
水性領域に印刷用インキを、親水性領域に湿し水をそれ
ぞれ保持させてオフセット印刷を行う方法である。さら
に、印刷の終了後に使用済みの印刷版のインキを洗浄除
去して、その版を再び疎水性発現温度に一様に加熱する
と親水性・疎水性の像様分布も消去されて一様の疎水性
表面が得られるので、印刷原板として上記の製版、印刷
過程に再び使用できる。本発明に用いられる上記〜
の特性を持つ物質は、疎水性発現温度で加熱して疎水性
とした表面及び高温親水性発現温度で像様加熱した親水
性の表面のいずれも、室温下においても履歴効果によっ
て実用的に十分な時間その疎水性あるいは親水性が維持
される。以下の記述において、熱に対して、及び
の特性を有する上記物質を「熱応答型物質」と呼ぶ。上
記の熱応答型物質は、金属及び金属酸化物の中に多く認
められており、これらの金属及び金属酸化物をそれぞれ
「熱応答型金属」及び「熱応答型金属酸化物」と呼ぶこ
ととする。熱応答型物質と、その熱応答挙動について
は、後にさらに詳細に説明する。
If this property is utilized, as a first step, the surface of a specific substance having the above-mentioned properties is uniformly heated to a temperature at which hydrophobicity is developed to make the surface of the substance a hydrophobic region. In two steps, the surface is heated imagewise at the temperature of developing hydrophilicity to make the heated area hydrophilic, forming an imagewise distribution of hydrophilic and hydrophobic areas, and then as a third step in the hydrophobic area. This is a method of performing offset printing by holding a dampening solution in a hydrophilic region of a printing ink. Further, after the printing is completed, the used printing plate ink is washed and removed, and the printing plate is uniformly heated again to the temperature at which the hydrophobicity is exhibited. Since a functional surface is obtained, it can be used again as a printing plate in the above-described plate making and printing processes. The above to be used in the present invention ~
Substances with the characteristics described above are both practically sufficient due to the hysteresis effect even at room temperature, for both surfaces that have been rendered hydrophobic by heating at the temperature at which hydrophobicity develops and hydrophilic surfaces that have been imagewise heated at the temperature at which hydrophilicity develops. The hydrophobic or hydrophilic property is maintained for a long time. In the following description, the above-mentioned substance having the property of and against heat is referred to as “thermo-responsive substance”. The above-mentioned thermally responsive materials are often found in metals and metal oxides, and these metals and metal oxides are referred to as “thermally responsive metals” and “thermally responsive metal oxides,” respectively. I do. The heat-responsive substance and its heat-responsive behavior will be described later in more detail.

【0030】[0030]

【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。はじめに、本発明で用いる「熱応答
型物質」について説明する。熱応答型物質は、上記、
及びの特性を具備した物質と定義したが、この定義
の熱応答型物質は、金属及び金属酸化物に広くみられる
が、その中にはセラミック、半導体に属する物質も含ま
れる。熱応答型セラミックは、複合金属酸化物からなっ
ており、熱応答型半導体の多くは、基底順位と伝導体が
近い珪素やゲルマニウムなどの真正半導体と不純物準位
に依存する酸化バナジウムや酸化銅などの仮性半導体と
の両方に見られる。これらセラミック及び半導体は、本
発明に利用する物質の熱応答特性の上では、他の熱応答
型金属や金属酸化物と同じであるので、それらを「熱応
答型金属酸化物」及び「熱応答型金属」に含めて以下に
その順序に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail. First, the “thermoresponsive substance” used in the present invention will be described. The heat-responsive substance is as described above,
Although the material having the characteristics described above is defined, the thermally responsive material defined in this definition is widely used in metals and metal oxides, and includes materials belonging to ceramics and semiconductors. Thermally responsive ceramics are composed of composite metal oxides, and most of thermally responsive semiconductors are based on genuine semiconductors such as silicon and germanium, whose bases and conductors are similar, and vanadium oxide and copper oxide, which depend on impurity levels. And found in both pseudo semiconductors. These ceramics and semiconductors are the same as other heat-responsive metals and metal oxides in terms of the heat-responsive properties of the substances used in the present invention. It will be described below in that order.

【0031】前記した適度の加熱によって疎水性とな
り、さらに加熱すると親水性となる特性を有し、かつ履
歴現象を示す熱応答型金属酸化物として用いることので
きる金属酸化物は、いろいろの形態の金属酸化物に見ら
れ、単一の金属酸化物、複合酸化物のいずれの場合もあ
り、また後者の場合は、固溶体、混晶、多結晶体、非晶
質固溶体、金属酸化物微結晶の混合物のいずれからもこ
の特性を有するものが認められる。このような特性をも
つ金属酸化物は、経験的に周期律表の0と VIIA(ハロ
ゲン元素)族を除く第3〜6周期に属する金属元素の酸
化物に見いだされる。なお、上記金属及び金属酸化物
は、印刷版として使用する際に湿し水に対して過度に溶
解してはならないので、水に対する溶解度は、水100
ミリリットルについて10mg以下、好ましくは5mg
以下、より好ましくは1mg以下である。
The above-mentioned metal oxides which have the property of being rendered hydrophobic by appropriate heating and becoming hydrophilic upon further heating and which can be used as a thermoresponsive metal oxide exhibiting a hysteresis phenomenon include various forms of It is found in metal oxides, and may be either a single metal oxide or a composite oxide.In the latter case, solid solutions, mixed crystals, polycrystals, amorphous solid solutions, and metal oxide microcrystals All of the mixtures have this property. A metal oxide having such characteristics is empirically found as an oxide of a metal element belonging to the third to sixth periods excluding the 0th and VIIA (halogen element) groups in the periodic table. The metal and the metal oxide must not be excessively dissolved in fountain solution when used as a printing plate.
10 mg or less per milliliter, preferably 5 mg
Or less, more preferably 1 mg or less.

【0032】「熱応答型金属酸化物」の中でも、酸化チ
タンと酸化亜鉛は好ましく、これらについてまず説明す
る。これらは、いずれも本発明の印刷版材料として利用
できる。酸化チタンは、イルメナイトやチタンスラグの
硫酸加熱焼成、あるいは加熱塩素化後酸素酸化など既知
の任意の方法で作られたものを使用できる。あるいは後
述するように金属チタンを用いて印刷版製作段階で真空
蒸着によって酸化物皮膜とする方法も用いることができ
る。
Among the "thermally responsive metal oxides", titanium oxide and zinc oxide are preferable, and these will be described first. These can all be used as the printing plate material of the present invention. As the titanium oxide, one made by any known method such as sulfuric acid heating and sintering of ilmenite or titanium slag, or heat chlorination followed by oxygen oxidation can be used. Alternatively, as described later, a method of forming an oxide film by vacuum evaporation in a printing plate manufacturing stage using titanium metal can also be used.

【0033】酸化チタン又は酸化亜鉛を含有する層を原
板の表面に設けるには、たとえば、 酸化チタン微結晶又は酸化亜鉛微結晶の分散物を印刷
版の原板上に塗設する方法、塗設したのち焼成してバ
インダーを減量或いは除去する方法、印刷原板上に蒸
着、スパッタリング、イオンプレーティング、CVDな
どの方法で酸化チタン(又は酸化亜鉛)膜を設ける方
法、例えばチタニウムブトキシドのようなチタン有機
化合物を原板上に塗布したのち、焼成酸化を施して酸化
チタン層とする方法など、既知の任意の方法を用いるこ
とができる。本発明においては、真空蒸着又はスパッタ
リングによる酸化チタン層が特に好ましい。
In order to provide a layer containing titanium oxide or zinc oxide on the surface of the original plate, for example, a method of coating a dispersion of titanium oxide microcrystals or zinc oxide microcrystals on the original plate of a printing plate is applied. A method of reducing or removing the binder by baking afterwards, a method of providing a titanium oxide (or zinc oxide) film on a printing original plate by a method such as vapor deposition, sputtering, ion plating, or CVD, for example, a titanium organic compound such as titanium butoxide Can be applied to the original plate and then subjected to firing oxidation to form a titanium oxide layer, or any other known method. In the present invention, a titanium oxide layer formed by vacuum evaporation or sputtering is particularly preferred.

【0034】上記又はの酸化チタン微結晶を塗設す
る方法には、具体的には無定形酸化チタン微結晶分散物
を塗布したのち、焼成してアナターゼまたはルチル型の
結晶酸化チタン層とする方法、酸化チタンと酸化シリコ
ンの混合分散物を塗布して表面層を形成させる方法、酸
化チタンとオルガノシロキサンなどとの混合物を塗布し
てシロキサン結合を介して支持体と結合した酸化チタン
層を得る方法、酸化物層の中に酸化物と共存するできる
ポリマーバインダーに分散して塗布したのち、焼成して
有機成分を除去する方法などがある。酸化物微粒子のバ
インダ−には、酸化チタン微粒子に対して分散性を有
し、かつ比較的低温で焼成除去が可能なポリマーを用い
ることができる。好ましいバインダーの例としては、ポ
リエチレンなどのポリアルキレン、ポリブタジエン、ポ
リアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル、ポ
リ酢酸ビニル、ポリ蟻酸ビニル、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレンナフタレート、ポリビニルアルコ
ール、部分鹸化ポリビニルアルコール、ポリスチレンな
どの疎水性バインダーが好ましく、それらの樹脂を混合
して使用してもよい。
The method of applying the above-mentioned titanium oxide microcrystals is, for example, a method of applying an amorphous titanium oxide microcrystal dispersion, followed by firing to form an anatase or rutile type crystal titanium oxide layer. A method of applying a mixed dispersion of titanium oxide and silicon oxide to form a surface layer, and a method of applying a mixture of titanium oxide and organosiloxane to obtain a titanium oxide layer bonded to a support through a siloxane bond A method of dispersing and applying a polymer binder capable of coexisting with an oxide in an oxide layer, followed by baking to remove an organic component. As the binder for the oxide fine particles, a polymer having dispersibility with respect to the titanium oxide fine particles and capable of being removed by firing at a relatively low temperature can be used. Examples of preferred binders include polyalkylene such as polyethylene, polybutadiene, polyacrylate, polymethacrylate, polyvinyl acetate, polyvinyl formate, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyvinyl alcohol, partially saponified polyvinyl alcohol, polystyrene and the like. Is preferred, and these resins may be used as a mixture.

【0035】上記の酸化チタンの真空蒸着を行うに
は、通常真空蒸着装置内の蒸着用加熱の熱源に金属チタ
ンを置き、真空度10-5〜10-8Torrで全ガス圧10-2
〜10 -5Torr、酸素分圧比が5〜90%になるようにし
ながら、チタン金属を蒸発させると、蒸着面には酸化チ
タンの蒸着薄膜が形成される。また、スパッタリングに
よる場合は、例えばスパッタ装置内にチタン金属ターゲ
ットをセットしてAr/O2 比が60/40(モル比)
となるようにガス圧を5×10-3Torrに調整したのち、
RFパワー200Wを投入してスパッタリングを行って
酸化チタン薄膜を基板上に形成させる。
In performing the above-mentioned vacuum deposition of titanium oxide,
Is usually used as a heat source for evaporation heating in vacuum evaporation equipment.
And place it in a vacuum of 10-Five-10-810 Torr total gas pressure-2
-10 -FiveTorr, oxygen partial pressure ratio should be 5 ~ 90%
While evaporating titanium metal, titanium oxide
A deposited thin film of tan is formed. Also, for sputtering
In some cases, for example, a titanium metal target
And set Ar / OTwoThe ratio is 60/40 (molar ratio)
Gas pressure to 5 × 10-3After adjusting to Torr,
Apply RF power 200W and perform sputtering
A titanium oxide thin film is formed on a substrate.

【0036】一方、本発明に酸化亜鉛層を使用する場
合、その酸化亜鉛層は既知の任意の方法で作ることがで
きる。とくに金属亜鉛板の表面を電解酸化して酸化皮膜
を形成させる方法と、真空蒸着、スパッタリング、イオ
ンプレーティング,CVDなどによって酸化亜鉛皮膜を
形成させる方法が好ましい。酸化亜鉛の蒸着膜は、上記
の酸化チタンの蒸着と同様に金属亜鉛を酸素ガス存在下
で蒸着して酸化膜を形成させる方法や、酸素のない状態
で亜鉛金属膜を形成させたのち、空気中で温度を約70
0°Cにあげて酸化させる方法を用いることができる。
そのほか、修酸亜鉛の塗布層やセレン化亜鉛の薄層を酸
化性気流中で加熱しても得られる。
On the other hand, when a zinc oxide layer is used in the present invention, the zinc oxide layer can be formed by any known method. In particular, a method of forming an oxide film by electrolytically oxidizing the surface of a metal zinc plate and a method of forming a zinc oxide film by vacuum deposition, sputtering, ion plating, CVD, or the like are preferable. A method of forming an oxide film by depositing metal zinc in the presence of oxygen gas in the same manner as the above-described deposition of titanium oxide, or a method of forming a zinc metal film in the absence of oxygen, In the temperature of about 70
A method of raising the temperature to 0 ° C and oxidizing can be used.
In addition, it can be obtained by heating a coating layer of zinc oxalate or a thin layer of zinc selenide in an oxidizing gas stream.

【0037】蒸着膜の厚みは、酸化チタン層、酸化亜鉛
層いずれの場合も1〜100000オングストロ−ムが
よく、好ましくは10〜10000オングストロ−ムで
ある。さらに好ましくは3000オングストロ−ム以下
として光干渉の歪みを防ぐのがよい。また、光活性化作
用を十分に発現させるには厚みが50オングストローム
以上あることが好都合である。
The thickness of the deposited film is preferably from 1 to 100,000 angstroms, and more preferably from 10 to 10,000 angstroms, for both the titanium oxide layer and the zinc oxide layer. More preferably, the thickness is set to 3000 angstroms or less to prevent distortion of light interference. Further, it is convenient that the thickness is 50 Å or more in order to sufficiently exhibit the photoactivation effect.

【0038】酸化チタンはいずれの結晶形のものも使用
できるが、とくにアナターゼ型のものが感度が高く好ま
しい。アナターゼ型の結晶は、酸化チタンを焼成して得
る過程の焼成条件を選ぶことによって得られることはよ
く知られている。その場合に無定形の酸化チタンやルチ
ル型酸化チタンが共存してもよいが、アナターゼ型結晶
が40%以上、好ましくは60%以上含むものが上記の
理由から好ましい。酸化チタンあるいは酸化亜鉛を主成
分とする層における酸化チタンあるいは酸化亜鉛の体積
率は、それぞれ30〜100%であり、好ましくは50
%以上を酸化物が占めるのがよく、さらに好ましくは酸
化物の連続層つまり実質的に100%であるのがよい。
しかしながら、表面の親水性/親油性変化特性は、酸化
亜鉛を電子写真感光層に用いるときのような著しい純度
による影響はないので、100%に近い純度のもの(例
えば98%)をさらに高純度化する必要はない。それ
は、本発明に利用される物性は、導電性とは関係ない膜
表面の親水性/親油性の性質変化特性、すなわち界面物
性の変化特性であることからも理解できることである。
As the titanium oxide, any crystalline form can be used, but anatase type is particularly preferred because of its high sensitivity. It is well known that anatase-type crystals can be obtained by selecting firing conditions in the process of firing titanium oxide. In this case, amorphous titanium oxide or rutile-type titanium oxide may coexist, but those containing 40% or more, preferably 60% or more of anatase-type crystals are preferable for the above reason. The volume ratio of titanium oxide or zinc oxide in the layer mainly containing titanium oxide or zinc oxide is 30 to 100%, preferably 50 to 100%.
% Or more is preferably occupied by the oxide, more preferably a continuous layer of oxide, ie substantially 100%.
However, since the surface hydrophilicity / lipophilicity change characteristics are not affected by remarkable purity as when zinc oxide is used in an electrophotographic photosensitive layer, a material having a purity close to 100% (for example, 98%) is further purified. There is no need to convert. That is, it can be understood from the fact that the physical properties used in the present invention are the properties of changing the hydrophilic / lipophilic properties of the membrane surface, which are not related to the conductivity, that is, the properties of changing the properties of the interface.

【0039】しかしながら、熱の作用によって表面の親
水性が変化する性質を増進させるためにある種の金属を
ドーピングすることは有効な場合があり、この目的には
イオン化傾向が小さい金属のドーピングが適しており、
Pt,Pd,Au,Ag,Cu,Ni,Fe,Co又は
Crをドーピングするのが好ましい。また、これらの好
ましい金属を複数ドーピングしてもよい。ドーピングを
行った場合も、その注入量は酸化亜鉛や酸化チタン中の
金属成分に対して5モル%以下である。
However, it is sometimes effective to dope a certain metal in order to enhance the property of changing the hydrophilicity of the surface by the action of heat. For this purpose, doping with a metal having a low ionization tendency is suitable. And
It is preferable to dope Pt, Pd, Au, Ag, Cu, Ni, Fe, Co or Cr. Further, a plurality of these preferable metals may be doped. Also in the case where doping is performed, the injection amount is 5 mol% or less based on the metal components in zinc oxide and titanium oxide.

【0040】一方、体積率が低いと層の表面の親水性/
親油性の熱応答挙動の敏感度が低下する。したがって、
層中の酸化物の体積率は、30%以上であることが望ま
しく、とくに実質的に100%であることが好ましい。
On the other hand, if the volume ratio is low, the hydrophilicity /
The sensitivity of the lipophilic thermal response behavior decreases. Therefore,
The volume ratio of the oxide in the layer is desirably 30% or more, particularly preferably substantially 100%.

【0041】次に、本発明に用いることができる別の化
合物である一般式RTiO3 で示したチタン酸金属塩に
ついて記す。一般式RTiO3 において、Rはマグネシ
ウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、ベリリ
ウムなどの周期律表のアルカリ土類元素に属する金属原
子であり、とくにストロンチウムとバリウムが好まし
い。また、2種以上のアルカリ土類金属原子をその合計
が上記の式に化学量論的に整合する限り共存することが
できる。
Next, another compound that can be used in the present invention, that is, a metal titanate represented by the general formula RTiO 3 will be described. In the general formula RTiO 3 , R is a metal atom belonging to an alkaline earth element of the periodic table such as magnesium, calcium, strontium, barium, beryllium, and particularly preferably strontium and barium. Also, two or more alkaline earth metal atoms can coexist as long as the total thereof is stoichiometrically consistent with the above formula.

【0042】次に、一般式AB2-x x 3-x x 10
で表される化合物について説明する。この一般式におい
て、Aは水素原子及びナトリウム、カリウム、ルビジウ
ム、セシウム、リチウムなどのアルカリ金属原子から選
ばれる1価原子で、その合計が上記の式に化学量論的に
整合する限りそれらの2種以上を共存してもよい。B
は、上記のRと同義のアルカリ土類金属原子又は鉛原子
であり、同様に化学量論的に整合する限り2種以上の原
子が共存してもよい。Cは希土類原子であり、好ましく
は、スカンジウム及びイットリウム並びにランタン、セ
リウム、プラセオジウム、ネオジウム、ホルミウム、ユ
ウロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ツリウム、イ
ッテルビウム、ルテチウムなどのランタノイド系元素に
属する原子であり、また、その合計が上記の式に化学量
論的に整合する限りそれらの2種以上を共存してもよ
い。Dは周期律表の5A族元素から選ばれた一種以上
で、バナジウム、ニオブ、タンタルが挙げられる。ま
た、化学量論関係を満たす限り、2種以上の5A族の金
属原子が共存してもよい。Eは同じくチタン、ジルコニ
ウム、ハフニウムなどの4A族元素に属する金属原子で
あり、また、2種以上の4A族の金属原子が共存しても
よい。xは0〜2の任意の数値を表す。
Next, the general formula AB 2-x C x D 3-x E x O 10
The compound represented by is described. In the general formula, A is a monovalent atom selected from a hydrogen atom and an alkali metal atom such as sodium, potassium, rubidium, cesium, and lithium. More than one species may coexist. B
Is an alkaline earth metal atom or a lead atom as defined above for R, and two or more kinds of atoms may coexist as long as they are stoichiometrically matched. C is a rare earth atom, preferably scandium and yttrium, and atoms belonging to lanthanide elements such as lanthanum, cerium, praseodymium, neodymium, holmium, europium, gadolinium, terbium, thulium, ytterbium, and lutetium. May coexist as long as stoichiometrically matches the above formula. D is one or more elements selected from Group 5A elements of the periodic table, and includes vanadium, niobium, and tantalum. Further, as long as the stoichiometric relationship is satisfied, two or more kinds of 5A group metal atoms may coexist. E is a metal atom belonging to a Group 4A element such as titanium, zirconium, or hafnium, and two or more kinds of Group 4A metal atoms may coexist. x represents an arbitrary numerical value of 0 to 2.

【0043】RTiO3 、一般式AB2-x x 3-x
x 10で表される上記化合物、SiO2 ,SnO2 ,B
2 3 ,GeO2 ,Al2 3 ,FeOx (x=1〜
1.5)で表される酸化鉄のいずれの薄膜形成にも、酸
化チタン及び酸化亜鉛を設ける前記の方法を用いること
がでる。すなわち、上記熱応答型金属酸化物の微粒子
の分散物を印刷版の原板上に塗設する方法、塗設した
のち焼成してバインダーを減量或いは除去する方法、
印刷版の原板上に上記酸化物を各種の真空薄膜法で膜形
成する方法、例えば金属元素のアルコレートのような
有機化合物を原板上に塗布したのち、加水分解させ、さ
らに焼成酸化を施して適当な厚みの金属薄膜とする方
法、上記金属を含む塩酸塩、硝酸塩などの水溶液を加
熱スプレーする方法など、既知の任意の方法を用いるこ
とができる。
RTiO 3 , general formula AB 2-x C x D 3-x E
The compound represented by x O 10, SiO 2, SnO 2, B
i 2 O 3 , GeO 2 , Al 2 O 3 , FeO x (x = 1 to
The above method of providing titanium oxide and zinc oxide can be used for forming any thin film of iron oxide represented by 1.5). That is, a method of applying a dispersion of the heat-responsive metal oxide fine particles to a printing plate precursor, a method of applying and then firing to reduce or remove the binder,
A method of forming a film of the above oxide on the original plate of the printing plate by various vacuum thin film methods, for example, after applying an organic compound such as an alcoholate of a metal element on the original plate, hydrolyzing it, and further performing firing oxidation. Any known method such as a method of forming a metal thin film having an appropriate thickness, and a method of heating and spraying an aqueous solution of a hydrochloride or a nitrate containing the above-mentioned metal can be used.

【0044】例えば、上記、の塗設方法によってチ
タン酸バリウム微粒子を塗設するには、チタン酸バリウ
ムとシリコンの混合分散物を塗布して表面層を形成させ
る方法、チタン酸バリウムとオルガノポリシロキサンま
たはそのモノマ−との混合物を塗布する方法などがあ
る。また、酸化チタンの項で述べたように、酸化物層の
中に酸化物と共存できるポリマーバインダーに分散して
塗布した後、焼成して酸化物層とすることもできる。酸
化物微粒子のバインダ−として好ましいポリマーの例
は、酸化チタン層の項で述べたものと同じである。この
方法によって、チタン酸バリウム以外にチタン酸マグネ
シウム、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム
又はそれらの分子間化合物、混合物も同様に薄膜形成可
能である。また、上記の、また明細書中の他の部分にも
用いられる「FeOx 」は、FeO、Fe2 3 、Fe
3 4 などの酸化鉄系の化合物を総称したものである。
For example, in order to apply the barium titanate fine particles by the application method described above, a method of applying a mixed dispersion of barium titanate and silicon to form a surface layer, barium titanate and organopolysiloxane Alternatively, there is a method of applying a mixture with the monomer. Further, as described in the section of titanium oxide, the oxide layer can be formed by dispersing and applying a polymer binder which can coexist with the oxide in the oxide layer, followed by firing. Examples of the preferable polymer as the binder for the oxide fine particles are the same as those described in the section of the titanium oxide layer. By this method, a thin film of magnesium titanate, calcium titanate, strontium titanate or an intermolecular compound or a mixture thereof can be similarly formed in addition to barium titanate. Further, “FeO x ” described above and also used in other parts of the specification is FeO, Fe 2 O 3 , Fe
It is a generic term for iron oxide-based compounds such as 3 O 4 .

【0045】同様にして上記、の塗設方法によって
CsLa2 NbTi2 10微粒子を塗設することも可能
である。CsLa2 NbTi2 10微粒子は、その化学
量論に対応するCs2 CO3,La2 3,NbO5,TiO
2 を乳鉢で微粉砕して、白金るつぼに入れ、130°C
で5時間焼成し、それを冷却してから乳鉢に入れて数ミ
クロン以下の微粒子に粉砕する。このCsLa2 NbT
2 10微粒子を前記のチタン酸バリウムと同様にバイ
ンダーの中に分散し、塗布して薄膜を形成した。この方
法は、CsLa2 NbTi2 10型微粒子に限らず、H
Ca1.5 La0. 5 Nb2.5 Ti0.5 10,HLa2 Nb
Ti2 10など前述のAB2-x x 3- x x 10
(0≦x≦2)に適用される。
Similarly, CsLa 2 NbTi 2 O 10 fine particles can be coated by the above-described coating method. CsLa 2 NbTi 2 O 10 fine particles correspond to the stoichiometry of Cs 2 CO 3 , La 2 O 3 , NbO 5 , TiO 2
Finely pulverize 2 in a mortar and put in a platinum crucible, 130 ° C
For 5 hours, and after cooling, put in a mortar and pulverize to fine particles of several microns or less. This CsLa 2 NbT
The i 2 O 10 fine particles were dispersed in a binder in the same manner as the above barium titanate, and coated to form a thin film. This method is not limited to CsLa 2 NbTi 2 O 10 type fine particles.
Ca 1.5 La 0. 5 Nb 2.5 Ti 0.5 O 10, HLa 2 Nb
Ti 2 O 10, etc. described above AB 2-x C x D 3- x E x O 10,
(0 ≦ x ≦ 2).

【0046】上記の真空薄膜形成法を用いた熱応答型
金属酸化物層の形成方法としては、一般的にはスパッタ
リング法あるいは真空薄膜形成法が用いられる。スパッ
タリング法では、あらかじめ単一もしくは複合型の酸化
物ターゲットを準備する。例えば、チタン酸バリウムタ
ーゲットを用いて蒸着膜用の支持体の温度を450°C
以上に保ち、アルゴン/酸素混合雰囲気中でRFスパッ
タリングを行うことによりチタン酸バリウム結晶薄膜が
得られる。結晶性の制御には必要に応じてポストアニー
リングを300〜900°Cで行えばよい。本方法は前
述のRTiO3(Rはアルカリ土類金属原子)をはじめ
他の前記熱応答型金属酸化物にも、結晶制御に最適な基
板温度を調整すれば同様の考え方で薄膜形成が可能であ
る。例えば酸化錫薄膜を設ける場合には基板温度120
°C、アルゴン/酸素比50/50の混合雰囲気中でR
Fスパッタリングを行うことにより酸化錫結晶の本目的
に沿う薄膜が得られる。
As a method for forming the thermally responsive metal oxide layer using the above-described vacuum thin film forming method, a sputtering method or a vacuum thin film forming method is generally used. In the sputtering method, a single or composite oxide target is prepared in advance. For example, using a barium titanate target to raise the temperature of the support for the deposited film to 450 ° C.
By keeping the above conditions and performing RF sputtering in an argon / oxygen mixed atmosphere, a barium titanate crystal thin film can be obtained. For controlling the crystallinity, post-annealing may be performed at 300 to 900 ° C. as necessary. This method can form a thin film on the above-mentioned RTiO 3 (R is an alkaline earth metal atom) and other heat-responsive metal oxides by adjusting the substrate temperature optimal for crystal control in the same way. is there. For example, when a tin oxide thin film is provided, a substrate temperature of 120
C in a mixed atmosphere of 50/50 argon / oxygen ratio
By performing F sputtering, a thin film of the tin oxide crystal for the purpose is obtained.

【0047】上記の金属アルコレートを用いる方法
も、バインダーを使用しないで目的の薄膜形成が可能な
方法である。チタン酸バリウムの薄膜を形成するにはバ
リウムエトキシドとチタニウムブトキシドの混合アルコ
ール溶液を表面にSiO2 を有するシリコン基板上に塗
布し、その表面を加水分解したのち、200°C以上に
加熱してチタン酸バリウムの薄膜を形成することが可能
である。本方式の方法も前述した他のRTiO3 (Rは
アルカリ土類金属原子)、AB2-x x 3-x x 10
(A,B,C,D,Eはそれぞれ前記の定義の内容を表
す)、SnO2 ,SiO2 ,Bi2 3 ,GeO2 ,A
2 3 及びFeOx (x=1〜1.5)の薄膜形成に
適用することができる。
Method using the above metal alcoholate
Also, the desired thin film can be formed without using a binder
Is the way. To form a barium titanate thin film
Mixed alcohol of lium ethoxide and titanium butoxide
Solution on the surface with SiOTwoOn a silicon substrate with
Cloth, after hydrolyzing the surface, 200 ℃ or more
Heating to form barium titanate thin film
It is. The method of this method is also similar to the other RTiO described above.Three(R is
Alkaline earth metal atom), AB2-xCxD3-xE xOTen
(A, B, C, D, and E represent the contents of the above definitions, respectively.
), SnOTwo, SiOTwo, BiTwoOThree, GeOTwo, A
lTwoOThreeAnd FeOx(X = 1 to 1.5)
Can be applied.

【0048】上記によって熱応答性機能を発現する金
属酸化物薄膜を形成させる方法も、バインダーを含まな
い系の薄膜の形成が可能である。SnO2 の薄膜を形成
するにはSnCl4 の塩酸水溶液を200°C以上に加
熱した石英又は結晶性ガラス表面に吹きつけて薄膜を生
成することができる。本方式も、SnO2 薄膜のほか,
前述したRTiO3 (Rはアルカリ土類金属原子)、A
2-x x 3-x x10(A,B,C,D,Eはそれ
ぞれ前記の定義の内容を表す)、SiO2 ,SnO2
Bi2 3 ,GeO2 ,Al2 3 及びFeOx (x=
1〜1.5)で表される酸化鉄のいずれの薄膜形成にも
適用することができる。
As described above, the method of forming a metal oxide thin film exhibiting a thermoresponsive function can also form a binder-free thin film. In order to form a thin film of SnO 2, an aqueous solution of hydrochloric acid of SnCl 4 can be sprayed onto the surface of quartz or crystalline glass heated to 200 ° C. or higher to form a thin film. This method also uses SnO 2 thin film,
RTiO 3 (R is an alkaline earth metal atom), A
B 2-x C x D 3 -x E x O 10 (A, represents B, C, D, the contents of the definition of each E the), SiO 2, SnO 2,
Bi 2 O 3 , GeO 2 , Al 2 O 3 and FeO x (x =
1 to 1.5) can be applied to the formation of any thin film of iron oxide.

【0049】金属酸化物薄膜の厚みは、上記のいずれの
場合も1〜100000オングストロ−ムがよく、好ま
しくは10〜10000オングストロ−ムである。さら
に好ましくは3000オングストロ−ム以下として光干
渉の歪みを防ぐのがよい。また、光活性化作用を十分に
発現させるには厚みが50オングストローム以上あるこ
とが好都合である。
In any of the above cases, the thickness of the metal oxide thin film is preferably from 1 to 100,000 angstroms, and more preferably from 10 to 10,000 angstroms. More preferably, the thickness is set to 3000 angstroms or less to prevent distortion of light interference. Further, it is convenient that the thickness is 50 Å or more in order to sufficiently exhibit the photoactivation effect.

【0050】バインダーを使用した場合の上記熱応答型
金属酸化物の薄層において、金属酸化物の体積率は50
〜100%であり、好ましくは90%以上を酸化物が占
めるのがよく、さらに好ましくは酸化物の連続層つまり
実質的に100%であるのがよい。
In the thin layer of the above-mentioned heat-responsive metal oxide when a binder is used, the volume ratio of the metal oxide is 50%.
It is preferable that the oxide occupy 90% or more, more preferably 90% or more, and more preferably a continuous layer of the oxide, that is, substantially 100%.

【0051】以上で「熱応答型金属酸化物」及びそれを
原板表面に設ける方法についての説明を終わり、次に
「熱応答型金属」について説明する。熱応答型金属とし
て本発明に用いることのできる金属は、適度の加熱によ
って疎水性となり、さらに加熱すると親水性となる特性
を有しており、かつ履歴現象を示す金属であれば、いず
れの金属でもよく、このような特性をもつ金属は、経験
的に周期律表の0族と VIIA(ハロゲン元素)族を除く
第3〜6周期に属する金属元素に見いだされる。また、
周期律表の上記した範囲の金属の中から見いだされる熱
応答特性を有する金属は、単一組成の金属であっても、
複合組成つまり合金であっても本発明に使用することが
できる。合金の場合は、金属固溶体、金属間化合物、金
属微結晶混合物のいずれでもよい。また、ステンレスス
チール(以下、SUSと記述する)に見られるように、
表面に不働体性の酸化皮膜が生成していてもよい。さら
に陽極酸化のように、積極的に酸化皮膜を形成する処理
を施してもよい。また、単一種の金属や合金の純度に関
しては、特別な制約はなく、通常の一般的な用途に用い
られているものであれば、本発明に適用できる。また、
金属酸化物の項で述べたように、印刷原板の反復再使用
のために、金属についても水に対する溶解度が低いこと
が望ましいことはいうまでもない。水100ミリリット
ル当たりの溶解量が1mg/L以下であれば問題はな
い。
The description of the “thermally responsive metal oxide” and the method of providing the same on the surface of the original plate has been completed, and the “thermally responsive metal” will now be described. Any metal that can be used in the present invention as a heat-responsive metal has the property of becoming hydrophobic by moderate heating, has the property of becoming hydrophilic when further heated, and is a metal that exhibits a hysteresis phenomenon. However, a metal having such characteristics is empirically found in a metal element belonging to the third to sixth periods except for the group 0 and the group VIIA (halogen element) in the periodic table. Also,
Metals having thermal response characteristics found among the metals in the above range of the periodic table, even if a single composition metal,
Even composite compositions or alloys can be used in the present invention. In the case of an alloy, any of a metal solid solution, an intermetallic compound, and a metal microcrystal mixture may be used. Also, as seen in stainless steel (hereinafter referred to as SUS),
A passive oxide film may be formed on the surface. Further, a process of forming an oxide film positively, such as anodic oxidation, may be performed. Further, there is no particular restriction on the purity of a single kind of metal or alloy, and the purity of a single kind of metal or alloy can be applied to the present invention as long as it is used for ordinary general use. Also,
As described in the section on metal oxides, it is needless to say that it is desirable that metals have low solubility in water for repeated reuse of printing original plates. There is no problem if the amount dissolved per 100 ml of water is 1 mg / L or less.

【0052】好ましい金属は、アルミニウム、鉄、珪
素、ニッケル、亜鉛、ゲルマニウム、錫及び銅並びにそ
れらの合金である。とくに好ましい金属は、アルミニウ
ムである。アルミニウムを用いる場合は、後に説明する
原板用支持体であるアルミニウム板を直接使用すること
が好ましく、したがって、機械的な砂目立てや電解粗面
化などによって表面の親水性を強化したり、陽極酸化を
施したりしたアルミニウム板が用いられる。
Preferred metals are aluminum, iron, silicon, nickel, zinc, germanium, tin and copper and their alloys. A particularly preferred metal is aluminum. When aluminum is used, it is preferable to directly use an aluminum plate, which is a support for an original plate described later. Therefore, the surface hydrophilicity is enhanced by mechanical graining or electrolytic surface roughening, or anodic oxidation is performed. Or the like is used.

【0053】熱応答型金属の使用形態としては、金属板
をそのまま使用することもできるが、また適当なプラス
チックフィルムあるいは他の金属板を支持体としてその
上に電気メッキ、貼り合わせなどによって設けてもよ
い。支持体上の金属板の厚みは、支持体よりも薄い任意
の厚みを用いることができるが、好ましい厚みは、0.
01mm〜0.4mm程度、より好ましくは0.02mm〜
0.2mmである。以上で本発明に用いる熱応答型物質、
とくに熱応答型金属酸化物及び金属についての説明を終
わる。
As a form of use of the heat-responsive metal, a metal plate can be used as it is, or a suitable plastic film or another metal plate is used as a support and provided on the support by electroplating, bonding, or the like. Is also good. As the thickness of the metal plate on the support, any thickness smaller than the thickness of the support can be used.
About 01 mm to 0.4 mm, more preferably 0.02 mm to
0.2 mm. Above, the thermoresponsive substance used in the present invention,
The description of the heat-responsive metal oxide and the metal is particularly ended.

【0054】次に本発明に使用する印刷用原板の形態に
ついて述べる。本発明に係わる印刷原板は、いろいろの
形態と材料を用いることができる。例えば、熱応答型物
質の薄層を印刷機の版胴の基体表面に蒸着、浸漬あるい
は塗布するなど上記した方法で直接設ける方法、支持体
に担持された熱応答型物質や、あるいは支持体を持たな
い熱応答型物質の薄板を版胴の基体に巻き付けて印刷版
とする方法などを用いることができる。また、勿論版胴
上で製版する上記形態以外に、一般的に行われているよ
うに、製版を行った印刷版を輪転式あるいは平台式印刷
機に装着する形態を採ってもよい。
Next, the form of the printing plate used in the present invention will be described. Various forms and materials can be used for the printing plate according to the present invention. For example, a method in which a thin layer of a thermoresponsive material is directly provided by the above-described method such as vapor deposition, immersion or coating on a substrate surface of a plate cylinder of a printing press, a thermoresponsive material supported on a support, or a support. For example, a method in which a thin plate of a thermally responsive material having no such material is wound around a substrate of a plate cylinder to form a printing plate can be used. Of course, in addition to the above-described form of making a plate on a plate cylinder, a form in which the plate is made may be mounted on a rotary or flatbed printing press, as is generally performed.

【0055】熱応答型物質が支持体上に設けられる場
合、使用される支持体は、疎水性発現温度でも熱分解せ
ず、寸度的にも安定な板状物であり、アルミニウム板、
SUS鋼板、ニッケル板、銅板などの金属板が好まし
く、特に可撓性(フレキシブル)の金属板を用いること
が好ましい。また、ポリエステル類やセルローズエステ
ル類などのフレキシブルなプラスチック支持体も用いる
ことが出来る。防水加工紙、ポリエチレン積層紙、含浸
紙などの支持体上に酸化物層を設けてもよく、それを印
刷版として使用してもよい。
When the heat-responsive substance is provided on a support, the support used is a plate that is not thermally decomposed even at the temperature at which hydrophobicity is developed and is dimensionally stable.
A metal plate such as a SUS steel plate, a nickel plate, and a copper plate is preferable, and a flexible (flexible) metal plate is particularly preferable. In addition, flexible plastic supports such as polyesters and cellulose esters can also be used. An oxide layer may be provided on a support such as waterproofed paper, polyethylene laminated paper, or impregnated paper, and it may be used as a printing plate.

【0056】具体的には、紙、プラスチックシート(例
えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド等のシ
ート)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミ
ニウム、亜鉛、銅、ステンレス等)、プラスチックフィ
ルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、
プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セ
ルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリイミド、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポ
リビニルアセタール等)、上記のごとき金属がラミネー
ト、もしくは蒸着された紙、もしくはプラスチックフィ
ルム等が挙げられる。
Specifically, paper, paper laminated with a plastic sheet (eg, a sheet of polyethylene terephthalate, polyimide, etc.), a metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, stainless steel, etc.), a plastic film (eg, Cellulose acetate, cellulose triacetate,
Cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyimide, polystyrene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), and paper or a plastic film on which a metal as described above is laminated or evaporated.

【0057】好ましい支持体は、ポリエステルフィル
ム、ポリイミドフィルム、アルミニウム、又は印刷版上
で腐食しにくいSUS板であり、その中でも寸法安定性
がよく、比較的安価であるアルミニウム板と、製版工程
における加熱操作に対して安定性の高いポリイミドフィ
ルムは特に好ましい。
A preferred support is a polyester film, a polyimide film, aluminum, or a SUS plate which is hardly corroded on a printing plate. Among these, an aluminum plate which has good dimensional stability and is relatively inexpensive, Polyimide films that are highly stable to operation are particularly preferred.

【0058】好適なポリイミドフィルムは、ピロメリッ
ト酸無水物とm−フェニレンジアミンを重合させたの
ち、環状イミド化したポリイミド樹脂フィルムであり、
このフィルムは市販されている(例えば、東レ・デュポ
ン社製の「カプトン」)。
A preferable polyimide film is a polyimide resin film obtained by polymerizing pyromellitic anhydride and m-phenylenediamine and then performing cyclic imidization.
This film is commercially available (eg, "Kapton" manufactured by Dupont Toray).

【0059】好適なアルミニウム板は、純アルミニウム
板およびアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含
む合金板であり、更にアルミニウムがラミネートもしく
は蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニ
ウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガ
ン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッ
ケル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は高
々10重量%以下である。本発明において特に好適なア
ルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋な
アルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅か
に異元素を含有するものでもよい。このように本発明に
適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるも
のではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板
を適宜に利用することができる。本発明で用いられる金
属支持体の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程度、好ま
しくは0.15mm〜0.4mm、特に好ましくは0.2mm
〜0.3mmであり、プラスチックや加工紙などその他の
支持体の厚みはおよそ0.1mm〜2.0mm程度、好まし
くは0.2mm〜1.0mmである。
Preferred aluminum plates are a pure aluminum plate and an alloy plate containing aluminum as a main component and a trace amount of a different element, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, titanium and the like. The content of the foreign element in the alloy is at most 10% by weight or less. Aluminum which is particularly preferred in the present invention is pure aluminum. However, completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and therefore may contain a slightly different element. As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate of a conventionally known and used material can be appropriately used. The thickness of the metal support used in the present invention is about 0.1 mm to 0.6 mm, preferably 0.15 mm to 0.4 mm, particularly preferably 0.2 mm
The thickness of other supports such as plastic and processed paper is about 0.1 mm to 2.0 mm, preferably 0.2 mm to 1.0 mm.

【0060】アルミニウム支持体を用いる場合は、表面
を粗面化して用いることが好ましい。その場合、所望に
より、粗面化に先立って表面の圧延油を除去するため
の、例えば界面活性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶
液などによる脱脂処理が行われる。アルミニウム板の表
面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例え
ば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解
粗面化する方法および化学的に表面を選択溶解させる方
法により行われる。機械的方法としては、ボール研磨
法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの
公知の方法を用いることができる。また、電気化学的な
粗面化法としては塩酸または硝酸電解液中で交流または
直流により行うなど公知の方法を利用することができ
る。また、粗面化されたアルミニウム板は、必要に応じ
てアルカリエッチング処理および中和処理された後、所
望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸
化処理が施される。陽極酸化の電解質の濃度は電解質の
種類によって適宜決められる。
When an aluminum support is used, it is preferable to use a roughened surface. In this case, if desired, a degreasing treatment with a surfactant, an organic solvent, an alkaline aqueous solution, or the like is performed to remove the rolling oil on the surface prior to the surface roughening. The surface roughening treatment of the surface of the aluminum plate is performed by various methods, for example, a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving the surface, and a method of selectively dissolving the surface chemically. It is performed by the method of causing. As a mechanical method, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, and a buff polishing method can be used. In addition, as the electrochemical surface roughening method, a known method such as performing an alternating or direct current in a hydrochloric acid or nitric acid electrolyte can be used. Further, the roughened aluminum plate is subjected to an alkali etching treatment and a neutralization treatment as required, and then subjected to an anodic oxidation treatment, if necessary, in order to increase the water retention and abrasion resistance of the surface. The concentration of the anodic oxidation electrolyte is appropriately determined depending on the type of the electrolyte.

【0061】陽極酸化の処理条件は、用いる電解質によ
り種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電
解質の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、
電流密度5〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解時間
10秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜
の量が1.0g/m2より少ないと、耐刷性が不十分であっ
たり、平板印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、印
刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」
が生じ易くなる。
The conditions of the anodizing treatment vary depending on the electrolyte used, and thus cannot be specified unconditionally. In general, the concentration of the electrolyte is a 1 to 80% by weight solution, and the liquid temperature is 5 to 70 ° C.
It is appropriate that the current density is 5 to 60 A / dm 2 , the voltage is 1 to 100 V, and the electrolysis time is 10 seconds to 5 minutes. If the amount of the anodic oxide film is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient or the non-image area of the lithographic printing plate is easily scratched, and the ink adheres to the scratched area during printing. So-called "scratch dirt"
Is more likely to occur.

【0062】以上で本発明の印刷方法に使用する熱応答
物質を使用したネガ型方式の印刷原板の構成について説
明したので、次に本発明のオフセット印刷方法及び印刷
装置についての具体的態様を図を用いて述べる。
The configuration of the negative printing plate using the thermally responsive material used in the printing method of the present invention has been described above. It is described using.

【0063】はじめに、熱応答物質の表面の熱応答性を
さらに図で示しておく。図1は、前記した〜の熱応
答性を説明するための実験結果の一例を示す図であっ
て、酸化チタンをそれぞれの温度で5分間加熱したとき
の酸化チタン表面の水に対する接触角を協和界面科学
(株)製の接触角測定装置CA−Dを用いて得た測定値
を温度に対してプロットして得た温度・接触角関係を示
す。加熱は、室温から200℃までは小型高温チャンバ
ーST−110(タバイエスペック社製)によって行
い、200℃以上では電気炉KM−100((株)東洋
製作所製)によって加熱した。
First, the thermal responsiveness of the surface of the thermally responsive substance is further shown in the figure. FIG. 1 is a diagram showing an example of an experimental result for explaining the above-mentioned thermal responsiveness. The contact angle of water on the surface of titanium oxide when titanium oxide is heated at each temperature for 5 minutes is shown in FIG. The relationship between temperature and contact angle obtained by plotting measured values obtained using a contact angle measuring device CA-D manufactured by Interface Science Co., Ltd. against temperature is shown. Heating was performed from room temperature to 200 ° C. by using a small high-temperature chamber ST-110 (manufactured by Tabai Espec Corporation), and heating was performed by using an electric furnace KM-100 (manufactured by Toyo Seisakusho) at 200 ° C. or higher.

【0064】言うまでもなく、表面が親水性であるか、
疎水性であるかの尺度は、水に対する接触角の大きさに
よって表すことができ、接触角が大きいほど疎水性であ
り、疎水性は親油性又は親インキ性と言い換えることも
できる。図1は、酸化チタンを加熱して行くと、表面接
触角が増加して行き、温度が210°Cのとき極大に達
し、さらに加熱すると接触角が低下することを示してい
る。
Needless to say, whether the surface is hydrophilic,
The measure of hydrophobicity can be represented by the magnitude of the contact angle with water. The larger the contact angle, the more hydrophobic the hydrophobicity, and the hydrophobicity can be rephrased as lipophilicity or ink-philicity. FIG. 1 shows that as the titanium oxide is heated, the surface contact angle increases, reaches a maximum at a temperature of 210 ° C., and further increases the contact angle.

【0065】この酸化チタンの例が示すように、表面温
度を室温から高めて行き、「疎水性発現温度」の領域に
至ると疎水性となり、さらに温度を高めて「高温親水性
発現温度」に至ると再び親水性となるのが、熱応答型物
質の特性である。この特性を把握して、高温親水性発現
温度を避けた適切な疎水性発現温度の範囲内で加熱を行
って、表面の全面を疎水性とし、その表面に高温親水性
発現温度の像様の加熱を行うと、像様加熱領域が親水性
となったネガ型の疎水性・親水性の像様分布が得られ
る。熱応答性を利用して、疎水性発現温度に適合させた
加熱と、高温親水性発現温度の像様加熱によって、均一
性の高い疎水性表面と、疎水性と親水性の優れた識別効
果と、さらに原板の保管中の履歴に影響されない優れた
再現性を有するネガ型の製版方式であることが本発明の
特徴であって、これらの特徴が相まって画像領域と非画
像領域の識別性の高い印刷版を再現性よく製作すること
ができる。
As shown in this example of titanium oxide, the surface temperature is increased from room temperature, and becomes hydrophobic when it reaches the region of “hydrophobic expression temperature”. It is the property of the thermo-responsive material that it becomes hydrophilic again. By grasping this characteristic, heating is performed within the range of the appropriate hydrophobic expression temperature avoiding the high temperature hydrophilic expression temperature to make the entire surface hydrophobic, and the surface has an image-like high temperature hydrophilic expression temperature. When heating is performed, a negative type hydrophobic / hydrophilic image-like distribution in which the image-wise heated area becomes hydrophilic is obtained. By utilizing the thermal response, heating adapted to the temperature at which hydrophobicity is developed and imagewise heating at the temperature at which hydrophilicity is developed, a highly uniform hydrophobic surface and an excellent discrimination effect between hydrophobicity and hydrophilicity are obtained. The feature of the present invention is that it is a negative type plate making method having excellent reproducibility not affected by the history during storage of the original plate, and these features are combined with high discriminability between the image area and the non-image area. Printing plates can be manufactured with good reproducibility.

【0066】さらなる利点としては、一様加熱と像様加
熱の2段階熱処理のみで、印刷版を作製できる簡易性を
挙げることができる。さらに付け加えるべきことは、疎
水性発現温度の雰囲気に有機化合物(後述する)を存在
させると、疎水性化が促進されて親水性と疎水性の識別
効果がさらに向上し、印刷版の品質を高めることができ
ることである。
A further advantage is the simplicity that a printing plate can be prepared only by two-step heat treatment of uniform heating and imagewise heating. It should be further added that the presence of an organic compound (described later) in an atmosphere at a hydrophobic development temperature promotes hydrophobicity, further improving the effect of discriminating between hydrophilicity and hydrophobicity, and improving the quality of the printing plate. That is what you can do.

【0067】「疎水性発現温度」の領域は、具体的には
接触角の極大値に対してその両側の接触角の低下が20
度以内の領域を指しており、インキを受容する実用的疎
水性の領域に相当する。図1の実験例では、接触角の極
大値は50度で、その両側20度の疎水性発現温度の領
域は、155〜240℃であるが、一般に熱応答型物質
の種類、加熱速度、加熱雰囲気によって異なる。また、
同じ加熱速度と同じ加熱雰囲気においても、酸化チタ
ン、酸化亜鉛、チタン酸バリウムなど熱応答型物質によ
って接触角の極大値は異なり、その両側20度の範囲に
対応する温度範囲も変化する。また加熱速度を速くして
もこの温度範囲は変化する。このような多少の相違はあ
るものの、一般に疎水性発現温度は、50〜250°C
であり、とりわけ100〜250°Cの温度領域にあ
る。この温度領域で一様な加熱を行うことによって表面
の疎水性を均一かつ高いレベルにたもつことが可能で、
したがって画像部と非画像部との識別性を増大させ、印
刷面の品質を向上させることができる。
In the region of “hydrophobic expression temperature”, specifically, the decrease in the contact angle on both sides of the maximum value of the contact angle is 20%.
This indicates an area within a degree, which corresponds to a practical hydrophobic area for receiving ink. In the experimental example of FIG. 1, the maximum value of the contact angle is 50 degrees, and the region of the hydrophobic expression temperature of 20 degrees on both sides is 155 to 240 ° C. In general, the type of the thermoresponsive substance, the heating rate, and the heating rate It depends on the atmosphere. Also,
Even at the same heating rate and the same heating atmosphere, the maximum value of the contact angle differs depending on the thermally responsive material such as titanium oxide, zinc oxide, barium titanate, and the temperature range corresponding to the range of 20 degrees on both sides also changes. This temperature range changes even if the heating rate is increased. Despite these slight differences, the hydrophobicity development temperature is generally 50-250 ° C.
And especially in the temperature range of 100-250 ° C. By performing uniform heating in this temperature range, it is possible to have a uniform and high level of surface hydrophobicity,
Therefore, the discriminability between the image portion and the non-image portion can be increased, and the quality of the printed surface can be improved.

【0068】疎水性発現温度への加熱手段には、ニクロ
ム線や発熱抵抗体などの電熱加熱手段、赤外線を放射す
る固体レーザー、又は赤外線域の光を放射する半導体レ
ーザー、赤外線灯、キセノン放電灯や可視域の光を放射
する半導体レーザー(被加熱部に光・熱変換機能を組み
込んだ場合)、大容量コンデンサーからの放電によって
フラッシュ光を発する光・熱変換発熱装置などが用いら
れる。その中では、電熱加熱手段や赤外線灯が疎水性発
現温度範囲内への温度の制御が容易であること、均一な
加熱面が広く取れること及びコストが安いことにより好
ましい。また、感熱記録用ヘッドを走査して全面疎水性
化してもよい。
The means for heating to the temperature at which hydrophobicity is exhibited include electric heating means such as a nichrome wire or a heating resistor, a solid laser emitting infrared light, or a semiconductor laser emitting infrared light, an infrared lamp, a xenon discharge lamp. And a semiconductor laser that emits light in the visible region (when a light-to-heat conversion function is incorporated in a heated portion), and a light-to-heat conversion heating device that emits flash light by discharging from a large-capacity capacitor. Among them, the electrothermal heating means and the infrared lamp are preferable because the temperature can be easily controlled within the temperature range in which hydrophobicity is exhibited, a uniform heating surface can be widely obtained, and the cost is low. Further, the entire surface may be made hydrophobic by scanning the thermal recording head.

【0069】疎水性発現温度に加熱を行うに際して、前
記したように加熱雰囲気中に有機化合物蒸気を存在させ
ると、疎水性化の速度と極大接触角が増加し、接触角が
極大となる温度及び疎水性となる温度領域も変化する。
その結果、親水性と疎水性の識別効果を向上させること
ができる。この作用機構は不明であるが、おそらく加熱
された原板表面に有機化合物が吸着して疎水性の皮膜を
形成するのではないかと推定している。
When the organic compound vapor is present in the heating atmosphere as described above when heating to the hydrophobic development temperature, the rate of hydrophobicity and the maximum contact angle increase, and the temperature and the temperature at which the contact angle becomes maximum are increased. The temperature region that becomes hydrophobic also changes.
As a result, the effect of distinguishing between hydrophilicity and hydrophobicity can be improved. Although the mechanism of this action is unknown, it is presumed that the organic compound is likely to be adsorbed on the heated original plate surface to form a hydrophobic film.

【0070】このような、好都合な効果をもつ好ましい
有機化合物は、温度400℃における蒸気圧が少なくと
も1mmHgで、かつ蒸気圧が1mmHgとなる温度に
おいて安定な有機化合物である。つまり、この程度の蒸
気圧を有している有機化合物が加熱雰囲気中に存在する
と親水性と疎水性の識別性の向上が引き起こされる。よ
り好ましくは、温度300℃における蒸気圧が少なくと
も1mmHgで、かつ蒸気圧が1mmHgとなる温度に
おいて安定な有機化合物である。さらに好ましくは、沸
点が30〜400℃にあって、かつ30〜400℃の温
度範囲で安定な有機化合物であり、中でも好ましい沸点
範囲は50〜350°Cである。この温度範囲の沸点を
もつ有機化合物は、具体的には脂肪族及び芳香族炭化水
素、脂肪族及び芳香族カルボン酸、脂肪族及び芳香族ア
ルコール、脂肪族及び芳香族エステル、脂肪族及び芳香
族エーテル、有機アミン類、有機珪素化合物、印刷用イ
ンキに添加できることが知られている各種溶剤や可塑剤
類の中に見られる。
Preferred organic compounds having such advantageous effects are those which have a vapor pressure of at least 1 mmHg at a temperature of 400 ° C. and are stable at a temperature at which the vapor pressure is 1 mmHg. That is, when an organic compound having such a vapor pressure is present in the heated atmosphere, the discrimination between hydrophilicity and hydrophobicity is improved. More preferably, it is an organic compound which has a vapor pressure of at least 1 mmHg at a temperature of 300 ° C. and is stable at a temperature at which the vapor pressure becomes 1 mmHg. More preferably, it is an organic compound having a boiling point of 30 to 400 ° C. and stable in a temperature range of 30 to 400 ° C., and a particularly preferable boiling point is 50 to 350 ° C. Organic compounds having a boiling point in this temperature range include aliphatic and aromatic hydrocarbons, aliphatic and aromatic carboxylic acids, aliphatic and aromatic alcohols, aliphatic and aromatic esters, aliphatic and aromatic It is found in ethers, organic amines, organic silicon compounds, and various solvents and plasticizers that are known to be able to be added to printing inks.

【0071】好ましい脂肪族炭化水素は、炭素数8〜3
0の、より好ましくは炭素数8〜20の脂肪族炭化水素
であり、好ましい芳香族炭化水素は、炭素数6〜40
の、より好ましくは炭素数6〜20の芳香族炭化水素で
ある。好ましい脂肪族アルコールは、炭素数2〜30
の、より好ましくは炭素数2〜18の脂肪族アルコール
であり、好ましい芳香族アルコールは、炭素数6〜30
の、より好ましくは炭素数6〜18の芳香族アルコール
である。好ましい脂肪族カルボン酸は、炭素数2〜24
の脂肪族カルボン酸であり、より好ましくは炭素数2〜
20の脂肪族モノカルボン酸及び炭素数4〜12の脂肪
族ポリカルボン酸であり、また、好ましい芳香族カルボ
ン酸は、炭素数6〜30の、より好ましくは炭素数6〜
18の芳香族カルボン酸である。好ましい脂肪族エステ
ルは、炭素数2〜30の、より好ましくは炭素数2〜1
8の脂肪酸エステルであり、好ましい芳香族エステル
は、炭素数8〜30の、より好ましくは炭素数8〜18
の芳香族カルボン酸エステルである。好ましい脂肪族エ
ーテルは、炭素数8〜36の、より好ましくは炭素数8
〜18の芳香族エーテルであり、好ましい芳香族エーテ
ルは、炭素数7〜30の、より好ましくは炭素数7〜1
8の芳香族エーテルである。そのほか、炭素数7〜30
の、より好ましくは炭素数7〜18の脂肪族あるいは芳
香族アミドも用いることができる。
Preferred aliphatic hydrocarbons are those having 8 to 3 carbon atoms.
0, more preferably an aliphatic hydrocarbon having 8 to 20 carbon atoms, and a preferred aromatic hydrocarbon has 6 to 40 carbon atoms.
And more preferably an aromatic hydrocarbon having 6 to 20 carbon atoms. Preferred aliphatic alcohols have 2 to 30 carbon atoms.
Are more preferably aliphatic alcohols having 2 to 18 carbon atoms, and preferred aromatic alcohols are those having 6 to 30 carbon atoms.
And more preferably an aromatic alcohol having 6 to 18 carbon atoms. Preferred aliphatic carboxylic acids have 2 to 24 carbon atoms.
Aliphatic carboxylic acid, more preferably having 2 to 2 carbon atoms
Preferred are aliphatic monocarboxylic acids having 20 and aliphatic polycarboxylic acids having 4 to 12 carbon atoms, and preferred aromatic carboxylic acids are those having 6 to 30 carbon atoms, and more preferably having 6 to 30 carbon atoms.
18 aromatic carboxylic acids. Preferred aliphatic esters have 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 1 carbon atoms.
And preferred aromatic esters are those having 8 to 30 carbon atoms, more preferably 8 to 18 carbon atoms.
Is an aromatic carboxylate. Preferred aliphatic ethers are those having 8 to 36 carbon atoms, more preferably 8 carbon atoms.
To 18 aromatic ethers, and preferred aromatic ethers are those having 7 to 30 carbon atoms, more preferably 7 to 1 carbon atoms.
8 aromatic ethers. In addition, carbon number 7-30
And more preferably an aliphatic or aromatic amide having 7 to 18 carbon atoms.

【0072】具体例としては、2,2,4−トリメチル
ペンタン(イソオクタン)、ノナン、デカン、n−ヘキ
サデカン、オクタデカン、エイコサン、メチルヘプタ
ン、2,2−ジメチルヘキサン、2−メチルオクタンな
どの脂肪族炭化水素;ベンゼン、トルエン、キシレン、
クメン、ナフタレン、アントラセン、スチレンなどの芳
香族炭化水素;ドデシルアルコール、オクチルアルコー
ル、n−オクタデシルアルコール、2−オクタノール、
ラウリルアルコールなどの1価アルコール;プロピレン
グリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレン
グリコール、グリセリン、ヘキシレングリコール、ジプ
ロピレングリコールなどの多価アルコール;ベンジルア
ルコール、4−ヒドロキシトルエン、フェネチルアルコ
ール、1−ナフトール、2−ナフトール、カテコール、
フェノールなどの芳香族アルコール;酢酸、プロピオン
酸、酪酸、カプロン酸、アクリル酸、クロトン酸、カプ
リン酸、ステアリン酸、オレイン酸などの脂肪族1価カ
ルボン酸;しゅう酸、琥珀酸、アジピン酸、マレイン
酸、グルタール酸などの多価脂肪族カルボン酸;安息香
酸、2−メチル安息香酸、4−メチル安息香酸などの芳
香族カルボン酸;酢酸エチル、酢酸イソブチル、酢酸−
n−ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチ
ル、酪酸メチル、アクリル酸メチル、しゅう酸ジメチ
ル、琥珀酸ジメチル、クロトン酸メチルなどの脂肪族エ
ステル;安息香酸メチル、2−メチル安息香酸メチルな
どの芳香族カルボン酸エステル;イミダゾール、トリエ
タノールアミン、ジエタノールアミン、シクロヘキシル
アミン、ヘキサメチレンテトラミン、トリエチレンテト
ラミン、アニリン、オクチルアミン、アニリン、フェネ
チルアミンなどの有機アミン;アセトン、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン、ベンゾフェノンなど
のケトン類、メトキシベンゼン、エトキシベンゼン、メ
トキシトルエン、ラウリルメチルエーテル、ステアリル
メチルエーテルなどのエーテル及びステアリルアミド、
ベンゾイルアミド、アセトアミドなどのアミド類が挙げ
られる。
Specific examples include aliphatic aliphatics such as 2,2,4-trimethylpentane (isooctane), nonane, decane, n-hexadecane, octadecane, eicosane, methylheptane, 2,2-dimethylhexane, and 2-methyloctane. Hydrocarbons: benzene, toluene, xylene,
Aromatic hydrocarbons such as cumene, naphthalene, anthracene and styrene; dodecyl alcohol, octyl alcohol, n-octadecyl alcohol, 2-octanol,
Monohydric alcohols such as lauryl alcohol; polyhydric alcohols such as propylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, glycerin, hexylene glycol, dipropylene glycol; benzyl alcohol, 4-hydroxytoluene, phenethyl alcohol, 1-naphthol, -Naphthol, catechol,
Aromatic alcohols such as phenol; acetic acid, propionic acid, butyric acid, caproic acid, acrylic acid, crotonic acid, capric acid, stearic acid, oleic acid and other aliphatic monocarboxylic acids; oxalic acid, succinic acid, adipic acid, maleic acid Polyvalent aliphatic carboxylic acids such as acid and glutaric acid; aromatic carboxylic acids such as benzoic acid, 2-methylbenzoic acid and 4-methylbenzoic acid; ethyl acetate, isobutyl acetate, acetic acid-
Aliphatic esters such as n-butyl, methyl propionate, ethyl propionate, methyl butyrate, methyl acrylate, dimethyl oxalate, dimethyl succinate and methyl crotonate; aromatics such as methyl benzoate and methyl 2-methylbenzoate Carboxylic acid esters; organic amines such as imidazole, triethanolamine, diethanolamine, cyclohexylamine, hexamethylenetetramine, triethylenetetramine, aniline, octylamine, aniline, and phenethylamine; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and benzophenone; Ethers such as methoxybenzene, ethoxybenzene, methoxytoluene, lauryl methyl ether, stearyl methyl ether and stearyl amide;
Amides such as benzoylamide and acetamide are exemplified.

【0073】また、印刷用インキの成分であるアマニ
油、大豆油、けし油、サフラワー油などの油脂類、燐酸
トリブチル、燐酸トリクレシル、フタール酸ジブチル、
ラウリン酸ブチル、フタール酸ジオクチル、パラフィン
ワックスなどの可塑剤も挙げられる。
Further, oils and fats such as linseed oil, soybean oil, poppy oil, and safflower oil which are components of the printing ink, tributyl phosphate, tricresyl phosphate, dibutyl phthalate,
Plasticizers such as butyl laurate, dioctyl phthalate, and paraffin wax are also included.

【0074】そのほか、沸点が前記の好ましい範囲にあ
るエチレングリコールモノエチルエーテル、シクロヘキ
サノン、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソ
ルブアセテート、1,4−ジオキサン、ジメチルホルム
アミド、アクリロニトリルなどの有機溶剤も使用するこ
とができる。
In addition, organic solvents having a boiling point within the above preferred range, such as ethylene glycol monoethyl ether, cyclohexanone, methyl cellosolve, butyl cellosolve, cellosolve acetate, 1,4-dioxane, dimethylformamide and acrylonitrile can also be used.

【0075】好ましい有機珪素化合物は、ジメチルシリ
コーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイルなどで
代表されるオルガノポリシロキサン化合物であり、とく
に重合度が12以下のオルガノポリシロキサン類であ
る。これらの好ましいオルガノポリシロキサンはシロキ
サン結合単位当たり1〜2個の有機基が結合しており、
その有機基は、炭素数が1〜18のアルキル基及びアル
コキシ基、炭素数が2〜18のアルケニル基及びアルキ
ニル基、炭素数が6〜18のアリール基、炭素数が7〜
18のアラルキル基、炭素数が5〜20の脂環式基であ
る。また、これらの有機置換基には、さらにハロゲン原
子、カルボキシル基、ヒドロキシ基が置換してもよい。
また、上記のアリール基、アラルキル基、脂環式基に
は、上記の炭素数の範囲でメチル基、エチル基又はプロ
ピル基などの低級アルキル基がさらに置換していてもよ
い。
Preferred organosilicon compounds are organopolysiloxane compounds typified by dimethyl silicone oil, methylphenyl silicone oil and the like, especially organopolysiloxanes having a polymerization degree of 12 or less. These preferred organopolysiloxanes have one to two organic groups attached per siloxane bond unit,
The organic group includes an alkyl group and an alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group and an alkynyl group having 2 to 18 carbon atoms, an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, and a carbon atom having 7 to 18 carbon atoms.
An aralkyl group of 18 and an alicyclic group having 5 to 20 carbon atoms. Further, these organic substituents may be further substituted with a halogen atom, a carboxyl group, or a hydroxy group.
Further, the above-mentioned aryl group, aralkyl group and alicyclic group may be further substituted with a lower alkyl group such as a methyl group, an ethyl group or a propyl group within the above-mentioned carbon number range.

【0076】本発明に使用できる好ましい有機珪素化合
物の具体例は、下記の化合物であるが、本発明はこれら
に限定されるものではない。
Specific examples of preferred organosilicon compounds that can be used in the present invention are the following compounds, but the present invention is not limited thereto.

【0077】好ましいポリオルガノシロキサン類として
は、炭素数1〜5のアルキル基を有するジアルキルシ
ロキサン基、炭素数1〜5のアルコキシ基を有するジ
アルコキシシロキサン基、炭素数1〜5のアルコキシ
基とフェニル基を有するアルコキシフェニルシロキサン
基及びエトキシメトキシシロキサン基又はメトキシエ
トキシシロキサン基のうち、少なくとも一つを繰り返し
単位として含み、重合度が2〜12、より好ましくは2
〜10のポリオルガノシロキサンである。また、その端
末基は、炭素数1〜5のアルキル基、アミノ基、ヒドロ
キシ基、炭素数1〜5のヒドロキアルキル基又は炭素数
1〜5のアルコキシ基である。より好ましい端末基は、
メチル基、エチル基、イソプロピル基、n−プロピル
基、n−ブチル基、t−ブチル基、メトキシ基及びエト
キシ基である。その中でも好ましいシロキサン化合物
は、重合度が2〜10のジメチルポリシロキサン、重合
度が2〜10のジメチルシロキサン−メチルフェニルシ
ロキサン共重合物、重合度が2〜8のジメチルシロキサ
ン−ジフェニルシロキサン共重合物、重合度が2〜8の
ジメチルシロキサン−モノメチルシロキサン共重合物で
これらのポリシロキサン化合物の端末はトリメチルシラ
ン基である。そのほか、1,3−ビス(3−アミノプロ
ピル)テトラメチルジシロキサン、1,5−ビス(3−
アミノプロピル)ヘキサメチルトリシロキサン、1,3
−ジブチル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサ
ン、1,5−ジブチル−1,1,3,3,5,5−ヘキ
サエチルトリシロキサン、1,1,3,3,5,5−ヘ
キサエチル−1,5−ジクロロトリシロキサン、3−
(3,3,3−トリフルオロプロピル)−1,1,3,
3,5,5,5−ヘプタメチル−トリシロキサン、デカ
メチルテトラシロキサンなどが挙げられる。
Preferred polyorganosiloxanes include a dialkylsiloxane group having an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a dialkoxysiloxane group having an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, and phenyl. A repeating unit containing at least one of an alkoxyphenylsiloxane group having a group and an ethoxymethoxysiloxane group or a methoxyethoxysiloxane group, and having a degree of polymerization of 2 to 12, more preferably 2
10 to 10 polyorganosiloxanes. The terminal group is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an amino group, a hydroxy group, a hydroxyalkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms. More preferred terminal groups are
A methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, a t-butyl group, a methoxy group and an ethoxy group. Among them, preferred siloxane compounds are dimethylpolysiloxane having a polymerization degree of 2 to 10, dimethylsiloxane-methylphenylsiloxane copolymer having a polymerization degree of 2 to 10, and dimethylsiloxane-diphenylsiloxane copolymer having a polymerization degree of 2 to 8 Dimethylsiloxane-monomethylsiloxane copolymer having a polymerization degree of 2 to 8; the terminal of these polysiloxane compounds is a trimethylsilane group. In addition, 1,3-bis (3-aminopropyl) tetramethyldisiloxane, 1,5-bis (3-
Aminopropyl) hexamethyltrisiloxane, 1,3
-Dibutyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, 1,5-dibutyl-1,1,3,3,5,5-hexaethyltrisiloxane, 1,1,3,3,5,5 -Hexaethyl-1,5-dichlorotrisiloxane, 3-
(3,3,3-trifluoropropyl) -1,1,3
3,5,5,5-heptamethyl-trisiloxane, decamethyltetrasiloxane and the like.

【0078】特に好ましい汎用化合物として、いわゆる
シリコーンオイルがあり、ジメチルシリコーンオイル
(市販品では、例えばシリコーンKF96(信越化学工
業(株)製)、メチルフェニルシリコーンオイル(市販
品では、例えばシリコーンKF50(信越化学工業
(株)製)、メチルハイドロジェンシリコーンオイル
(市販品では、例えばシリコーンKF99(信越化学工
業(株)製)が挙げられる。
Particularly preferred general-purpose compounds include so-called silicone oils, such as dimethyl silicone oil (commercially available, for example, silicone KF96 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)) and methylphenyl silicone oil (commercially available, for example, silicone KF50 (Shin-Etsu) Chemical Industry Co., Ltd.) and methyl hydrogen silicone oil (commercially available, for example, silicone KF99 (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)).

【0079】そのほか、n−デシルトリメトキシシラ
ン、n−デシルトリ−t−ブトキシシラン、n−オクタ
デシルトリメトキシシラン、n−オクタデシルトリエト
キシシラン、ジメトキシジエトキシシランなどのシラン
化合物も挙げらる。
Other examples include silane compounds such as n-decyltrimethoxysilane, n-decyltri-t-butoxysilane, n-octadecyltrimethoxysilane, n-octadecyltriethoxysilane, and dimethoxydiethoxysilane.

【0080】有機化合物の雰囲気のもとで疎水性発現温
度に加熱を行うには、原板表面に接するように設けられ
た加熱部の外套内に有機化合物充填容器を置いて、加熱
時間中に有機化合物の蒸気を外套内に存在させるのがよ
い。また、有機化合物を含浸させた紙、布、ゼオライ
ト、珪草土などを外套内に挿入して加熱するのもよい。
In order to carry out heating to a temperature at which hydrophobicity is exhibited in an atmosphere of an organic compound, an organic compound-filled container is placed inside a jacket of a heating section provided so as to be in contact with the surface of the original plate, and the organic compound is heated during the heating time. The compound vapor may be present in the mantle. Alternatively, paper, cloth, zeolite, diatomaceous earth, or the like impregnated with an organic compound may be inserted into the jacket and heated.

【0081】以上で疎水性発現温度での加熱方法及び走
査の説明を終わり、このようにして疎水性化した表面を
高温親水性発現温度での像様加熱による印刷用画像の付
与について説明する。親水性領域を印刷原板上に形成さ
せる加熱手段には、一つには赤外線を放射する固体レー
ザー、又は赤外線域や可視域の光を放射する半導体レー
ザー、赤外線灯、キセノン放電灯、大容量コンデンサー
からの放電によってフラッシュ光を発する光・熱変換描
画機構などの光加熱方式と、他の一つには熱融解型及び
昇華型感熱色素転写による熱記録ヘッド等の接触加熱方
式が用いられる。加熱温度を疎水性発現温度よりも高い
高温親水性発現温度の範囲に調節するには、加熱に用い
る光の強度を制御したり、あるいは熱記録用の加熱ヘッ
ドへの供給電力を制御するなどの方法が取られる。
The heating method and scanning at the temperature at which the hydrophobicity is developed have been described above, and the application of the printing image by imagewise heating at the high temperature at which the surface has been rendered hydrophobic at the high hydrophilicity is described. Heating means for forming a hydrophilic region on a printing plate include a solid-state laser that emits infrared light, or a semiconductor laser that emits infrared or visible light, an infrared lamp, a xenon discharge lamp, and a large-capacity capacitor. A light heating method such as a light-to-heat conversion drawing mechanism that emits flash light by discharge from the substrate, and a contact heating method such as a thermal recording head using a thermal melting type and sublimation type thermal dye transfer are used as the other. In order to adjust the heating temperature to a range of high-temperature hydrophilicity expression temperature higher than the hydrophobicity expression temperature, it is necessary to control the intensity of light used for heating or to control the power supply to the heating head for thermal recording. The method is taken.

【0082】光加熱方式の像様加熱は、面露光方式、走
査方式のいずれでもよい。前者の場合は、赤外線照射方
式や、キセノン放電灯の高照度の短時間光をマスク画像
を通して原板上に照射して光・熱変換によって熱を発生
させる方式である。赤外線灯などの面露光光源を使用す
る場合には、その照度によっても好ましい露光量は変化
するが、通常は、印刷用画像で変調する前の面露光強度
が0.1〜10J/cm2の範囲であることが好ましく、
0.3〜1J/cm2 の範囲であることがより好ましい。支
持体が透明である場合は、支持体の裏側から支持体とマ
スク画像を通して露光することもできる。その露光時間
は、0.01μsec〜10msec、好ましくは0.
1μsec〜1msecの照射で上記の露光強度が得ら
れるように露光照度を選択するのが好ましい。照射時間
が長い場合には、熱エネルギーの生成速度と生成した熱
エネルギーの拡散速度の競争関係から露光強度を増加さ
せる必要が生じる。
The image heating of the light heating system may be any of a surface exposure system and a scanning system. In the former case, an infrared irradiation method or a method of irradiating a short time light of high illuminance of a xenon discharge lamp onto a master plate through a mask image to generate heat by light-heat conversion is used. When a surface exposure light source such as an infrared lamp is used, the preferable exposure amount changes depending on the illuminance, but usually, the surface exposure intensity before being modulated with a print image is 0.1 to 10 J / cm 2 . Preferably within the range,
More preferably, it is in the range of 0.3 to 1 J / cm 2 . When the support is transparent, exposure can be performed through the support and the mask image from the back side of the support. The exposure time is 0.01 μsec to 10 msec, preferably 0.1 μsec.
It is preferable to select the exposure illuminance so that the above-described exposure intensity can be obtained by irradiation of 1 μsec to 1 msec. When the irradiation time is long, it is necessary to increase the exposure intensity due to the competition between the heat energy generation rate and the generated heat energy diffusion rate.

【0083】後者、すなわち走査方式の場合には、赤外
線レーザー光源を使用して、レーザービームを画像で変
調して原板上を走査する方式が行われる。レーザー光源
の例として、近赤外線、赤外線の成分の多い半導体レー
ザー、ガスレーザー、ヘリウムカドミウムレーザー、Y
AGレーザーを挙げることができる。レーザー出力が
0.1〜300Wのレーザーで照射をすることができ
る。また、パルスレーザーを用いる場合には、ピーク出
力が1000W、好ましくは2000Wのレーザーを照
射するのが好ましい。支持体が透明である場合は、支持
体の裏側から支持体を通して露光することもできる。光
で加熱する場合は、例えば印刷原板に光熱変換層を設け
て、その層に光エネルギーを吸収させ、熱を発生させる
ことができる。あるいは、熱応答型物質それ自体が光を
吸収して自ら発熱することにより加熱することもでき
る。
In the latter case, that is, in the case of the scanning method, a method of modulating a laser beam with an image using an infrared laser light source and scanning the original plate is performed. Examples of laser light sources include semiconductor lasers, gas lasers, helium cadmium lasers,
An AG laser can be mentioned. Irradiation can be performed with a laser having a laser output of 0.1 to 300 W. When a pulse laser is used, it is preferable to irradiate a laser having a peak output of 1000 W, preferably 2000 W. When the support is transparent, exposure can be performed through the support from the back side of the support. When heating with light, for example, a light-to-heat conversion layer may be provided on a printing original plate, and the layer may absorb light energy to generate heat. Alternatively, the heat-responsive substance itself can be heated by absorbing light and generating heat by itself.

【0084】接触加熱方式では、公知の任意の接触型熱
記録装置、例えば熱融解型及び昇華型感熱色素転写法の
熱記録ヘッドが用いられる。それらは、単一の熱記録素
子を二次元に駆動させる方式、熱記録素子を線状に配列
したアレイを直角方向に走査して描画する方式あるいは
二次元配列した記録素子を用いる高速描画方式など公知
の熱記録素子を用いることができる。なお、本明細書で
感熱記録と加熱記録は、同義でともに像様記録に関して
用いている。
In the contact heating method, any known contact-type thermal recording apparatus, for example, a thermal recording head of a thermal melting type and a sublimation type thermal dye transfer method is used. These include a method in which a single thermal recording element is driven two-dimensionally, a method in which an array of linearly arranged thermal recording elements is scanned in a perpendicular direction and drawing, or a high-speed drawing method using a two-dimensionally arranged recording element. A known thermal recording element can be used. In the present specification, the heat-sensitive recording and the heat recording are synonymous and are used for image-like recording.

【0085】以上で本発明における印刷原板の熱応答特
性及び熱応答型物質ならびにそれらを用いる画像形成の
ための加熱方法について説明した。つぎにこの原板を装
着して行う印刷方法および装置について説明する。
In the above, the heat response characteristic and the heat response type material of the printing original plate and the heating method for forming an image using the same have been described. Next, a printing method and an apparatus for mounting the original plate will be described.

【0086】印刷原板は、熱応答型物質の表面にネガ型
方式の親油性・親水性の画像状分布を形成させたのち、
現像処理することなく、そのままオフセット印刷工程に
送ることができる。従って通常の公知の平版印刷法に比
較して簡易性を中心に多くの利点を有する。すなわち上
記したようにアルカリ現像液による化学処理が不要であ
り、それに伴うワイピング、ブラッシングの操作も不要
であり、さらに現像廃液の排出による環境負荷も伴わな
い。また、上記したような簡易な画像記録手段から容易
に印刷を行うことも利点である。
The original printing plate is formed by forming a negative type lipophilic / hydrophilic image-like distribution on the surface of a heat-responsive material.
It can be sent to the offset printing process without any development processing. Therefore, it has many advantages, mainly simplicity, as compared with the known lithographic printing method. That is, as described above, the chemical treatment with the alkaline developer is unnecessary, and the accompanying wiping and brushing operations are not required, and further, there is no environmental load due to the discharge of the waste developer. It is also an advantage that printing is easily performed from the simple image recording means as described above.

【0087】熱応答型物質から得られた平版印刷版の像
様の高温加熱領域は、十分に親水性化しているが、所望
により、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、ア
ラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理して
もよい。本発明の画像記録材料を印刷用版材として使用
する場合の後処理としては、これらの処理を種々組み合
わせて用いることができる。その方法としては、該整面
液を浸み込ませたスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上
に塗布するか、整面液を満たしたバット中に印刷版を浸
漬して塗布する方法や、自動コーターによる塗布などが
適用される。また、塗布した後でスキージー、あるい
は、スキージーローラーで、その塗布量を均一にするこ
とは、より好ましい結果を与える。整面液の塗布量は一
般に0.03〜0.8g/m2(乾燥重量)が適当である。
この様な処理によって得られた平版印刷版は、オフセッ
ト印刷機等にかけられ、あるいは印刷機上で製版され、
多数枚の印刷に用いられる。
The imagewise high-temperature heating area of the lithographic printing plate obtained from the heat-responsive material is sufficiently hydrophilic. Post-treatment with a desensitizing solution containing a starch or a starch derivative. As the post-processing when the image recording material of the present invention is used as a printing plate material, these processings can be used in various combinations. As a method, a sponge or absorbent cotton impregnated with the surface conditioning liquid is applied on a lithographic printing plate, or a method in which the printing plate is immersed in a vat filled with the surface conditioning solution and applied, Application by an automatic coater or the like is applied. Further, it is more preferable that the application amount is made uniform by using a squeegee or a squeegee roller after the application. In general, it is appropriate that the application amount of the surface conditioning liquid is 0.03 to 0.8 g / m 2 (dry weight).
The lithographic printing plate obtained by such a process is applied to an offset printing machine or the like, or is made on a printing machine,
Used for printing many sheets.

【0088】次に印刷を終えた印刷版の再生工程につい
て記す。印刷終了後の印刷版は疎水性の石油系溶剤を用
いて付着しているインキを洗い落とす。溶剤としては市
販の印刷用インキ溶解液として芳香族炭化水素、例えば
ケロシン、アイソパ−などがあり、そのほかベンゾー
ル、トルオール、キシロール、アセトン、メチルエチル
ケトン及びそれらの混合溶剤を用いてもよい。画像物質
が溶解しない場合には、布などを用いて軽く拭き取る。
また、トルエン/ダイクリーンの1/1混合溶媒を用い
るとよいこともある。
Next, the process of reproducing the printing plate after printing will be described. After printing, the printing plate is washed away with a hydrophobic petroleum-based solvent to remove attached ink. Examples of the solvent include aromatic hydrocarbons such as kerosene and isoper as a commercially available printing ink solution, and benzol, toluene, xylol, acetone, methyl ethyl ketone, and a mixed solvent thereof may be used. If the image substance does not dissolve, gently wipe it with a cloth.
In some cases, a 1/1 mixed solvent of toluene / Daiclean may be used.

【0089】インキを洗浄除去した印刷版は、前記した
方法で疎水性発現温度で加熱を行うことによって版面全
体にわたって均一に疎水性を回復する。この加熱操作
は、印刷インキを洗浄除去してから次の製版作業におい
て活性光の像様照射を行うまでの間の任意の時期におこ
なってよいが、その原板を次の製版工程に再使用する際
に行うのが原板の保管中の履歴の影響を排除できる点で
好ましい。
The printing plate from which the ink has been washed away is heated at the temperature at which hydrophobicity is developed by the above-described method to uniformly restore the hydrophobicity over the entire plate surface. This heating operation may be performed at any time between washing and removal of the printing ink and imagewise irradiation with actinic light in the next plate-making operation. It is preferable to carry out this step because the influence of the history during storage of the original plate can be eliminated.

【0090】本発明に係わる印刷原板の反復再生可能回
数は、完全に把握できていないが、少なくとも15回以
上であり、おそらく反面の除去不能な汚れ、修復が実際
的でない刷面の傷や、版材の機械的な変形(ひずみ)な
どによって制約されるものと思われる。
Although the number of reproducible printings of the printing plate according to the present invention has not been completely grasped, it is at least 15 times or more. It is considered that it is restricted by mechanical deformation (strain) of the plate material.

【0091】本発明における印刷原板の構成材料及び製
版操作について説明した。次にこの原板を装着して印刷
を行う方法及び装置を、図によって説明する。熱応答型
物質を表面にもつ印刷用原板は、版胴の構成部材として
固定されていてもよく、また着脱自在であってもよい。
以下図2以降の説明では、本発明の簡易性を顕著に発揮
する前者を例に、すなわち版胴上に印刷原板が固定され
ている例について説明する。
The constituent materials of the printing original plate and the plate making operation in the present invention have been described. Next, a method and an apparatus for performing printing by mounting the original plate will be described with reference to the drawings. The printing plate having the heat-responsive substance on the surface may be fixed as a component of the plate cylinder, or may be detachable.
In the description after FIG. 2, the former, which remarkably demonstrates the simplicity of the present invention, will be described as an example, that is, an example in which a printing original plate is fixed on a plate cylinder will be described.

【0092】図2は、本発明の第1の実施形態によるオ
フセット印刷装置の構成を示す図である。図2に示すよ
うに本発明の第1の実施形態によるオフセット印刷装置
は、酸化チタンや酸化亜鉛など前記した熱応答型物質を
表面に有する版胴1と、版胴1に対して疎水性発現温度
の加熱を行って原板表面を全面疎水性化する加熱部2
と、全面疎水性化された版胴1に対して高温親水性発現
温度で像様の加熱を行って親水性領域と疎水性領域の像
様分布を形成させる高温加熱記録部5と、その版胴1に
インキおよび湿し水を供給するインキ・湿し水供給部3
と、印刷終了後に版胴1に残存するインキを除去するイ
ンキ洗浄部4と、版胴1に保持されたインキを用紙に転
写するための中間体としてのブランケット6と、ブラン
ケット6とともに給送された用紙を保持する圧胴7とを
備え、これらの部材が本体8内に収容されてなるもので
ある。なお、本体8には、後述するように印刷原稿を焼
き付けて現像済みのリスフィルム9を供給するためのフ
ィルム供給部10が設けられている。
FIG. 2 is a diagram showing the configuration of the offset printing apparatus according to the first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 2, the offset printing apparatus according to the first embodiment of the present invention includes a plate cylinder 1 having the above-described heat-responsive material such as titanium oxide or zinc oxide on the surface thereof, and exhibiting hydrophobicity with respect to the plate cylinder 1. Heating unit 2 that heats the surface to make the entire surface of the original plate hydrophobic.
And a high-temperature heating recording section 5 for performing imagewise heating at a high-temperature and hydrophilicity developing temperature on the plate cylinder 1 which has been entirely made hydrophobic to form an imagewise distribution of hydrophilic regions and hydrophobic regions; Ink / fountain solution supply unit 3 for supplying ink and fountain solution to cylinder 1
And an ink washing unit 4 for removing ink remaining on the plate cylinder 1 after printing, a blanket 6 as an intermediate for transferring the ink held on the plate cylinder 1 to paper, and a blanket 6 and fed. And an impression cylinder 7 for holding the sheet. These members are accommodated in a main body 8. The main body 8 is provided with a film supply unit 10 for supplying a squirrel film 9 which has been printed and developed by printing a printing document, as described later.

【0093】加熱部2は、温度調節装置付きの電熱加熱
器が装備されており、版胴の表面は疎水性発現温度の範
囲内に保たれる。この加熱手段は、電熱加熱方式が適し
ているが、同様に均一な面加熱方式でかつ温度調節も容
易な赤外線灯による熱線加熱を採用することもでき、ま
たその他前記した加熱方式を採用することができる。
The heating section 2 is equipped with an electric heater equipped with a temperature control device, and the surface of the plate cylinder is kept within the range of the hydrophobicity developing temperature. As this heating means, an electric heating method is suitable, but it is also possible to employ a uniform surface heating method and heat ray heating with an infrared lamp which is also easy to adjust the temperature, and to adopt the other heating methods described above. Can be.

【0094】図3は、加熱部2の態様の一つで、有機化
合物の蒸気を含んだ雰囲気中で印刷用原板表面を加熱し
て疎水性化を促進する有機化合物蒸気供給手段を設けた
加熱部である。
FIG. 3 shows an embodiment of the heating unit 2 in which an organic compound vapor supply means for heating the surface of a printing original plate in an atmosphere containing organic compound vapor to promote hydrophobicity is provided. Department.

【0095】図3において、有機化合物蒸気供給手段2
9では、空気取り入れ口24より空気が取り入れられ
て、内径約30mmの分液ろ斗タイプの硝子管を横向き
に配置した蒸発室26にコック25を経て導かれる。蒸
発室には有機化合物27(斜線で示す)が容積率が例え
ば50%になるように満たされていて、有機化合物27
の内部及び表面を空気が通過する間に必要量の有機化合
物の蒸発気体を取り込んでから、版胴1上の印刷用原板
表面に導かれ、この空気・蒸発気体の混合雰囲気中で描
画が行われる構造となっている。
In FIG. 3, the organic compound vapor supply means 2
In 9, air is taken in from the air intake port 24, and is led through the cock 25 to the evaporation chamber 26 in which a separatory funnel type glass tube having an inner diameter of about 30 mm is arranged horizontally. The evaporating chamber is filled with an organic compound 27 (shown by oblique lines) so that the volume ratio becomes, for example, 50%.
After a necessary amount of the vapor of the organic compound is taken in while the air passes through the inside and the surface of the plate, it is guided to the surface of the printing plate on the plate cylinder 1, and drawing is performed in the mixed atmosphere of the air and the vapor. The structure is

【0096】加熱部2の外套の内部の加熱領域は、電熱
ヒーター31により、蒸発室26は電熱ヒーター30に
よりそれぞれ加熱され、その加熱温度は加熱領域及び蒸
発室26にそれぞれ配した温度センサー32、33と温
度制御装置34によって所定温度に制御される。また、
有機化合物27の蒸気の取り込み量は、制御部34にお
いて印刷用原板の加熱温度を所定の疎水性発現温度に設
定したときに、その疎水性が強化されるに足りる量であ
り、その量になるように蒸発室26の温度が設定され
る。蒸発室の温度は、例えば、揮発し易い低沸点の有機
化合物(例えば、メチルエチルケトンやメチルセロソル
ブ)の場合は、蒸発室の下部に有機化合物27を満たす
だけで加熱する必要はないが、それでは不十分の沸点の
やや高い化合物(例えば、ヘキシレングリコール)の場
合には、空隙率の大きい硅草土、シリカ粒子、沸石粒子
などを有機化合物27とともに蒸発室内に入れて取り入
れた空気と有機化合物との接触度を高める措置が取られ
る。また、有機化合物27がナフタレンのような固形物
の場合は、蒸発質26に適当な空隙率で充填される。さ
らに沸点が高い有機化合物の場合には、温度制御部3
4、電熱ヒーター30及びセンサー31によって蒸発室
26内部の温度を蒸発に適した温度に調節できる機構と
なっている。例えば、シリコーンオイルを使用する場合
には、シリコーンオイルを含浸させた珪草土が容積率が
50%となるように硝子管の下半分に空気と接するよう
に置かれ、空気の温度は取り入れ口24では室温で、こ
の管を通過中に例えば190℃に上昇するように電熱ヒ
ーター30によって加熱される。なお、図には示してな
いが、当然のことながら蒸気を含んだ空気は、屋外排気
される。また、必要があれば、排気の前に空気浄化も行
われる。加熱部2において表面の疎水性化が行われた原
板には、高温加熱記録部5で高温親水性発現温度の像様
加熱が行われる。
The heating area inside the jacket of the heating section 2 is heated by the electric heater 31 and the evaporating chamber 26 is heated by the electric heater 30, and the heating temperature is determined by the temperature sensors 32 disposed in the heating area and the evaporating chamber 26, respectively. The temperature is controlled to a predetermined temperature by the temperature controller 33 and the temperature controller 34. Also,
The amount of vapor taken in by the organic compound 27 is an amount that is sufficient to enhance the hydrophobicity when the heating temperature of the printing original plate is set to a predetermined hydrophobic expression temperature in the control unit 34, and is the amount. The temperature of the evaporation chamber 26 is set as described above. For example, in the case of a low-boiling organic compound (for example, methyl ethyl ketone or methyl cellosolve) which is easy to volatilize, the temperature of the evaporating chamber does not need to be heated just by filling the organic compound 27 in the lower part of the evaporating chamber, but it is not sufficient. In the case of a compound having a slightly higher boiling point (e.g., hexylene glycol), air and organic compounds containing air having high porosity, such as silica earth, silica particles, and zeolite particles, are introduced together with the organic compound 27 into the evaporation chamber. Measures will be taken to increase the degree of contact. When the organic compound 27 is a solid such as naphthalene, the evaporant 26 is filled with an appropriate porosity. In the case of an organic compound having a higher boiling point, the temperature controller 3
4. A mechanism capable of adjusting the temperature inside the evaporation chamber 26 to a temperature suitable for evaporation by the electric heater 30 and the sensor 31. For example, when using silicone oil, diatomaceous earth impregnated with silicone oil is placed in contact with air in the lower half of the glass tube so that the volume ratio is 50%. At 24, the tube is heated by an electric heater 30 at room temperature, for example, to 190 ° C. while passing through the tube. Although not shown, air containing steam is naturally exhausted outside. If necessary, air purification is performed before exhausting. The original plate having its surface rendered hydrophobic in the heating unit 2 is subjected to imagewise heating at a high-temperature hydrophilicity developing temperature in a high-temperature heating recording unit 5.

【0097】図2に戻って、本形態では、高温加熱記録
部5は、感熱記録ヘッドを用いているが、その他の公知
の任意の接触加熱描画装置を用いてもよい。本形態で
は、タンタル・シリカ発熱抵抗体上にサイアロン耐磨耗
保護層を設けたサーマルヘッドを版胴の回転方向に対し
て直角方向に配列させた熱記録ユニットを用いて、版胴
の回転に伴って版胴表面に加熱描画を行う。サーマルヘ
ッドは、20msec通電によって450°に達するの
で、高温親水性発現温度での描画が可能である。接触加
熱による描画方式には、本形態の一次元ユニットの直角
方向走査による二次元描画のほか、加熱素子の二次元走
査方式や一次元ブロックユニットの利用などの方法も採
用できる。
Returning to FIG. 2, in the present embodiment, the high-temperature heating recording unit 5 uses a thermal recording head, but any other known contact heating drawing apparatus may be used. In this embodiment, a thermal recording unit in which a sialon abrasion protection layer is provided on a tantalum-silica heating resistor and arranged in a direction perpendicular to the rotation direction of the plate cylinder is used to rotate the plate cylinder. At the same time, heating drawing is performed on the plate cylinder surface. Since the thermal head reaches 450 ° by energizing for 20 msec, it is possible to perform drawing at a high hydrophilicity developing temperature. As the drawing method using contact heating, in addition to the two-dimensional drawing using the one-dimensional unit in the perpendicular direction scanning of this embodiment, a method such as a two-dimensional scanning method using a heating element or a one-dimensional block unit can be used.

【0098】高温加熱記録部5の別の態様としては、感
熱記録ヘッドなどの接触加熱記録方式の代わりに、光熱
変換性の輻射線に画像情報を担持させて原板表面を照射
する方式が用いられる。この方式でとくに好ましいの
は、赤外線レーザー光によるヒートモード描画方式であ
る。図4は、その例で画像情報を担持した赤外線レーザ
ー光による描画の例の構成例である。高温加熱記録部
(図2の5)は、赤外線レーザー光を出射して版胴1に
照射する赤外線レーザー光源21と、編集・レイアウト
W/S20において印刷すべき画像から信号化されて記
録部に入力される画像信号Sに基づいて、赤外線レーザ
ー光源21を駆動して赤外線レーザー光を変調させて版
胴1の表面に描画を行うためのレーザー光源駆動部22
とからなる。光源21は出射される赤外線レーザー光を
版胴1の回転軸方向に版胴1に対して相対的に移動して
版胴1上を走査するよう構成されており、版胴1が回転
することにより、版胴1の表面が変調された赤外線レー
ザー光により露光され、版胴1における赤外線レーザー
光が照射されなかった部分が疎水性の非画像領域とさ
れ、赤外線レーザー光が照射された部分が親水性の画像
領域とされて、ネガ型方式による描画がなされるもので
ある。なお、レーザーは、赤外線を発振するものであれ
ば、半導体レーザー、固体レーザーそのほか任意のレー
ザーを用いることが出来る。また、言うまでもなく照射
を受ける原板が、光熱変換性の光吸収物質を含有してい
ることが望ましい。
As another embodiment of the high-temperature heating recording section 5, instead of a contact heating recording method such as a thermal recording head, a method of irradiating the surface of an original plate by carrying image information on photothermal conversion radiation is used. . Particularly preferred in this method is a heat mode drawing method using infrared laser light. FIG. 4 is a configuration example of an example of drawing by an infrared laser beam carrying image information in that example. The high-temperature heating recording unit (5 in FIG. 2) emits an infrared laser beam and irradiates the plate cylinder 1 with an infrared laser light source 21. A laser light source driving unit 22 for driving an infrared laser light source 21 based on the input image signal S to modulate the infrared laser light and draw on the surface of the plate cylinder 1
Consists of The light source 21 is configured to scan the plate cylinder 1 by moving the emitted infrared laser light relative to the plate cylinder 1 in the rotation axis direction of the plate cylinder 1, and to rotate the plate cylinder 1. Thus, the surface of the plate cylinder 1 is exposed to the modulated infrared laser light, the portion of the plate cylinder 1 not irradiated with the infrared laser light is made a hydrophobic non-image area, and the portion irradiated with the infrared laser light is The image is formed as a hydrophilic image area and is drawn in a negative type. Note that a semiconductor laser, a solid-state laser, or any other laser can be used as long as it emits infrared light. Needless to say, it is desirable that the original plate to be irradiated contains a light-absorbing light-absorbing substance.

【0099】なお、ここでは赤外線レーザーを直接変調
する方式を示したが、赤外線レーザーと音響光学素子の
ような外部変調素子との組み合わせによっても同様に描
画できることはもちろんである。
Although the method of directly modulating the infrared laser has been described here, it goes without saying that the image can be similarly drawn by a combination of the infrared laser and an external modulating element such as an acousto-optical element.

【0100】次いで、第1の実施形態の動作について説
明する。まず、疎水性温度に加熱する加熱部2を回転し
ながら通過する版胴1の表面部分は、加熱によって親水
性から疎水性に変化する。加熱部の温度は、温度制御部
34によって疎水性発現温度の範囲内に制御されてい
る。また、加熱雰囲気中に有機化合物を存在させる場合
は、有機化合物供給手段29によって加熱雰囲気中に有
機化合物蒸気を含ませる。全面が疎水性化した版胴は、
高温加熱記録部5で感熱記録ユニットによる接触加熱に
より、又は画像情報で変調させた赤外線レーザーの照射
により、加熱を受けた領域が親水性で、加熱を受けなか
った領域は疎水性を有する親水性・疎水性の画像状分布
が得られる。高温親水性発現温度の像様加熱が終了する
と、次いで、インキ・湿し水供給部3よりインキおよび
湿し水が版胴1に供給される。これにより、版胴1の疎
水性の画像領域にはインキが保持され、親水性の非画像
領域にはインキが保持されることなく湿し水が保持され
る。
Next, the operation of the first embodiment will be described. First, the surface portion of the plate cylinder 1 that passes while rotating the heating unit 2 that heats to a hydrophobic temperature changes from hydrophilic to hydrophobic by heating. The temperature of the heating section is controlled by the temperature control section 34 within the range of the hydrophobicity development temperature. When the organic compound is present in the heating atmosphere, the organic compound vapor is contained in the heating atmosphere by the organic compound supply means 29. The plate cylinder, whose entire surface has been made hydrophobic,
In the high-temperature heating recording section 5, the area heated by the contact heating by the thermal recording unit or the irradiation of the infrared laser modulated with image information is hydrophilic, and the area not heated is hydrophobic. A hydrophobic image-like distribution is obtained. When the imagewise heating at the high-temperature hydrophilicity developing temperature is completed, the ink and fountain solution are supplied to the plate cylinder 1 from the ink / fountain solution supply unit 3. As a result, the ink is held in the hydrophobic image area of the plate cylinder 1, and the fountain solution is held in the hydrophilic non-image area without holding the ink.

【0101】その後、ブランケット6と圧胴7との間に
矢印Aに示すように用紙を供給し、版胴1に保持された
インキをブランケット5を介して用紙に転写することに
よりオフセット印刷が行われる。
Thereafter, a sheet is supplied between the blanket 6 and the impression cylinder 7 as shown by an arrow A, and the ink held in the plate cylinder 1 is transferred to the sheet via the blanket 5 to perform offset printing. Will be

【0102】印刷終了後、インキ洗浄部4により版胴1
に残存するインキを除去する。その後、版胴1を疎水性
温度の加熱部2を通して疎水性化することにより、版胴
1の像様の親水性領域は消去されて、高温親水性化の加
熱前の状態に戻る。
After the printing is completed, the plate cylinder 1 is printed by the ink washing section 4.
The remaining ink is removed. Thereafter, the plate cylinder 1 is rendered hydrophobic through the heating section 2 having a hydrophobic temperature, whereby the image-like hydrophilic region of the plate cylinder 1 is erased, and the state returns to the state before high-temperature hydrophilicity heating.

【0103】このように、本発明によるオフセット印刷
装置によれば、全面加熱による疎水性の均一表面の形成
と高温親水性化温度の像様加熱のみで版胴1にネガ型方
式の印刷画面を形成することができ、これにより現像が
不要でかつ印刷面の鮮鋭性が保たれたオフセット印刷を
行うことができる。また、版胴1を洗浄して再度全面疎
水性発現温度で加熱することにより元の状態に戻すこと
ができるため、版胴1を反復使用することができ、これ
により印刷物を低コストで提供することができることと
なる。さらに、印刷装置から版胴1を取り外す必要がな
いため、従来のPS版のように印刷装置に組み込む際に
ゴミなどが付着することもなくなり、これにより、印刷
品質を向上させることができる。
As described above, according to the offset printing apparatus of the present invention, a negative-type printing screen is formed on the plate cylinder 1 only by forming a uniform hydrophobic surface by heating the entire surface and imagewise heating at a high hydrophilicity temperature. This makes it possible to perform offset printing that does not require development and maintains the sharpness of the printed surface. Further, since the plate cylinder 1 can be returned to the original state by washing the plate cylinder 1 and heating the whole surface again at the temperature at which hydrophobicity is exhibited, the plate cylinder 1 can be used repeatedly, thereby providing printed matter at low cost. You can do it. Further, since there is no need to remove the plate cylinder 1 from the printing apparatus, dust and the like do not adhere to the printing apparatus as in the case of a conventional PS plate, thereby improving print quality.

【0104】また、印刷用原板として版胴1を使用し、
版胴1の周囲に疎水性温度での加熱部2、インキ・湿し
水供給部3、インキ洗浄部4および高温加熱記録部5を
配設することにより、単に版胴1を回転させるのみで、
原板の全面疎水性化、活性光による像様照射およびイン
キと湿し水の供給、さらには印刷終了後のインキ洗浄を
行うことができるため、装置をコンパクトに構成するこ
とができ、これにより省スペース化を図ることができ
る。
Further, the plate cylinder 1 was used as a printing original plate,
By arranging the heating section 2 at the hydrophobic temperature, the ink / fountain solution supply section 3, the ink washing section 4 and the high-temperature heating recording section 5 around the plate cylinder 1, the plate cylinder 1 is simply rotated. ,
Since the entire surface of the original plate can be made hydrophobic, imagewise irradiation with actinic light, supply of ink and dampening water, and ink washing after printing can be performed, the apparatus can be made compact, thereby saving energy. Space can be achieved.

【0105】さらに、ネガ型の簡易な製版方式の中で
も、加熱温度を制御して全面疎水性化してから高温親水
性発現温度で像様加熱を行う本発明が、加熱操作を行わ
ないで又は行っても加熱温度の制御を行わないで、活性
光の像様照射を行う方式に比較して、均一性の高い疎
水性表面が得られること、疎水性化に続いて直ちによ
り高温の像様加熱を実行できて簡単迅速化が図れるこ
と、履歴に影響されず、再現性がよいことなどの利点
を有している。その結果、画像領域と非画像領域の識別
性の高い印刷版を再現性よく製作することができるとい
う利点がある。さらなる利点としては、有機化合物の存
在下で疎水性化の加熱を行うことによって疎水性化が促
進されて親水性と疎水性の識別効果が一層高められ、印
刷版の品質を高めることができることである。また、印
刷原板用材料は、熱応答特性を有する材料であればよ
く、必ずしも光触媒能を必要としないので材料選択の範
囲を広くなる。
Further, among the simple negative plate-making methods, the present invention in which the heating temperature is controlled to make the entire surface hydrophobic and then the imagewise heating is performed at the high-temperature hydrophilicity developing temperature is performed without or with the heating operation. Even if the heating temperature is not controlled, a highly uniform hydrophobic surface can be obtained compared to the method in which imagewise irradiation with actinic light is performed. Can be executed to simplify and speed up, and the reproducibility is good without being affected by the history. As a result, there is an advantage that a printing plate having high discrimination between an image area and a non-image area can be manufactured with high reproducibility. As a further advantage, by performing the heating of the hydrophobization in the presence of the organic compound, the hydrophobization is promoted, the effect of discriminating the hydrophilicity and the hydrophobicity is further enhanced, and the quality of the printing plate can be improved. is there. Further, the printing plate material may be a material having a thermal response characteristic, and does not necessarily require a photocatalytic ability, so that the range of material selection is widened.

【0106】〔実施例1〕上記実施形態1による実施例
を示す。99.5重量%アルミニウムに、銅を0.01
重量%、チタンを0.03重量%、鉄を0.3重量%、
ケイ素を0.1重量%含有するJISA1050アルミ
ニウム材の厚み0.30mm圧延板を、400メッシュの
パミストン(共立窯業製)の20重量%水性懸濁液と、
回転ナイロンブラシ(6,10−ナイロン)とを用いて
その表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。これを
15重量%水酸化ナトリウム水溶液(アルミニウム4.
5重量%含有)に浸漬してアルミニウムの溶解量が5g/
m2になるようにエッチングした後、流水で水洗した。更
に、1重量%硝酸で中和し、次に0.7重量%硝酸水溶
液(アルミニウム0.5重量%含有)中で、陽極時電圧
10.5ボルト、陰極時電圧9.3ボルトの矩形波交番
波形電圧(電流比r=0.90、特公昭58−5796
号公報実施例に記載されている電流波形)を用いて16
0クローン/dm2の陽極時電気量で電解粗面化処理を行
った。水洗後、35℃の10重量%水酸化ナトリウム水
溶液中に浸漬して、アルミニウム溶解量が1g/m2になる
ようにエッチングした後、水洗した。次に、50℃、3
0重量%の硫酸水溶液中に浸漬し、デスマットした後、
水洗した。
[Example 1] An example according to the first embodiment will be described. Copper is added to 99.5% by weight aluminum.
Weight%, titanium 0.03 weight%, iron 0.3 weight%,
A 0.30 mm-thick rolled sheet of JIS A1050 aluminum material containing 0.1% by weight of silicon was mixed with a 20% by weight aqueous suspension of pumicestone (manufactured by Kyoritsu Ceramics) of 400 mesh,
The surface was grained using a rotating nylon brush (6,10-nylon), and then thoroughly washed with water. This was treated with a 15% by weight aqueous sodium hydroxide solution (aluminum 4.
5% by weight) and the amount of aluminum dissolved is 5 g /
After etching to m 2 , it was washed with running water. Further, it is neutralized with 1% by weight nitric acid, and then, in a 0.7% by weight aqueous nitric acid solution (containing 0.5% by weight of aluminum), a rectangular wave having a voltage of 10.5 volts at the time of anode and a voltage of 9.3 volts at the time of cathode. Alternating waveform voltage (current ratio r = 0.90, Japanese Patent Publication No. 58-5796)
Using the current waveform described in the embodiment of
Electrolytic surface-roughening treatment was carried out at an anode charge of 0 clones / dm 2 . After washing with water, it was immersed in a 10% by weight aqueous solution of sodium hydroxide at 35 ° C., etched so that the amount of aluminum dissolved was 1 g / m 2 , and then washed with water. Next, at 50 ° C, 3
After immersing in 0% by weight sulfuric acid aqueous solution and desmutting,
Washed with water.

【0107】さらに、35℃の硫酸20重量%水溶液
(アルミニウム0.8重量%含有)中で直流電流を用い
て、多孔性陽極酸化皮膜形成処理を行った。即ち電流密
度13A/dm2で電解を行い、電解時間の調節により陽極
酸化皮膜重量2.7g/m2とした。この支持体を水洗後、
70℃のケイ酸ナトリウムの3重量%水溶液に30秒間
浸漬処理し、水洗乾燥した。以上のようにして得られた
アルミニウム支持体は、マクベスRD920反射濃度計
で測定した反射濃度は0.30で、中心線平均粗さは
0.58μmであった。
Further, a porous anodic oxide film forming treatment was performed in a 20% by weight aqueous sulfuric acid solution (containing 0.8% by weight of aluminum) at 35 ° C. using a direct current. That is, electrolysis was performed at a current density of 13 A / dm 2 , and the anodic oxide film weight was adjusted to 2.7 g / m 2 by adjusting the electrolysis time. After washing this support with water,
It was immersed in a 3% by weight aqueous solution of sodium silicate at 70 ° C. for 30 seconds, washed with water and dried. The aluminum support obtained as described above had a reflection density measured by a Macbeth RD920 reflection densitometer of 0.30 and a center line average roughness of 0.58 μm.

【0108】次いでこのアルミニウム支持体を真空蒸着
装置内に入れて、全圧1.5x10 -4Torrになるように
分圧70%の酸素ガスの条件下でチタン金属片を電熱加
熱して、アルミニウム支持体上に蒸着して酸化チタン薄
膜を形成した。この薄膜の結晶成分はX線解析法によっ
て無定型/アナターゼ/ルチル結晶構造の比が1.5/
6.5/2であり、TiO2薄膜の厚さは900オングスト
ロームであった。これを版胴1の基体に巻き付けて機上
印刷用の原板とした。
Next, the aluminum support was vacuum-deposited.
Put in the device, total pressure 1.5x10 -FourTo become Torr
Heating titanium metal pieces under the condition of oxygen gas with a partial pressure of 70%
Heat and deposit on an aluminum support to remove titanium oxide
A film was formed. The crystal component of this thin film is determined by X-ray analysis.
And the ratio of amorphous / anatase / rutile crystal structure is 1.5 /
6.5 / 2, TiOTwo900 Å thin film
It was ROHM. This is wound around the substrate of the plate cylinder 1 and
An original plate for printing was used.

【0109】図3に示した態様の加熱部を使用して(た
だし、蒸発室には、有機化合物は充填しないで)、加熱
温度を200℃に制御した電熱加熱による加熱を行っ
た。加熱部の通過時間が2分となる回転速度で版胴を回
転させた。加熱後の原板表面の水に対する接触角をCont
act Angle Meter CA-D(協和界面科学(株)製)を用い
て空中水滴法で表面の水に対する接触角を測定したとこ
ろ、いずれの部分も48〜55度の間にあった。
Using the heating unit of the embodiment shown in FIG. 3 (however, the evaporation chamber was not filled with an organic compound), heating was performed by electric heating with the heating temperature controlled at 200 ° C. The plate cylinder was rotated at a rotation speed at which the passage time of the heating unit was 2 minutes. Cont is the contact angle of water on the original plate surface after heating.
When the contact angle of the surface with water was measured by act Angle Meter CA-D (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.) by the aerial water drop method, each part was between 48 and 55 degrees.

【0110】次に、高温感熱記録部5のTa-SiO2 発熱抵
抗体上にサイアロン耐磨耗保護層を設けた150μmx
150μmのサーマルヘッドを250μm間隔に並べた
発熱体アレイを用いて、酸化チタン表面層と接触させて
昇温印字を行った。使用したサーマルヘッドは、2ms
ec通電によって220°Cに、5msec通電によっ
て490°Cに達するが、熱伝導度の低い陽極酸化皮膜
表面を2.5m/secで走査しながら連続通電する場
合には、その表面はほぼ480°Cに保たれることを別
途温度測定を行って確認した。記録速度は、2.5m/
secで行った。このとき、接触角は、図1に示した実
験例から高温親水性発現域では10度以下とみなすこと
ができるが、実際に、サーマルヘッドによる印字記録後
の原板表面の水に対する接触角をContact Angle Meter
CA-D(協和界面科学(株)製)を用いて空中水滴法で表
面の水に対する接触角を測定したところ、サーマルヘッ
ドが一様に走査した領域では、7〜9度の間にあった。
Next, a 150 μm × 100 μm sialon wear-resistant protective layer was provided on the Ta—SiO 2 heating resistor of the high-temperature thermal recording section 5.
Using a heating element array in which thermal heads of 150 μm were arranged at intervals of 250 μm, they were brought into contact with the surface layer of titanium oxide to perform heating printing. The used thermal head is 2ms
The temperature reaches 220 ° C. by ec current supply and reaches 490 ° C. by 5 msec current supply. However, when the surface of the anodic oxide film having low thermal conductivity is continuously energized while scanning at 2.5 m / sec, the surface becomes almost 480 °. It was confirmed that the temperature was maintained at C by separately performing temperature measurement. The recording speed is 2.5m /
sec. At this time, from the experimental example shown in FIG. 1, the contact angle can be considered to be 10 degrees or less in the high-temperature hydrophilicity development region. Angle Meter
When the contact angle of the surface with water was measured by the aerial water droplet method using CA-D (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.), it was between 7 and 9 degrees in the region where the thermal head scanned uniformly.

【0111】この版胴1をサクライ社製オリバー52片
面印刷機に使用して、インキ・湿し水供給部3において
湿し水を純水、インキを大日本インキ化学工業社製Newc
hampion Fグロス85墨を用いて1000枚オフセット
印刷を行った。スタートから終了まで鮮明な印刷物が得
られ、版胴1の損傷も認められなかった。
The plate cylinder 1 is used in a single-sided printing machine of Oliver 52 manufactured by Sakurai Co., Ltd., and the dampening water is supplied to the ink / fountain solution supply unit 3 by using pure water, and the ink is supplied by Newc manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.
Offset printing was performed on 1,000 sheets using hampion F gloss 85 ink. A clear printed matter was obtained from the start to the end, and no damage to the plate cylinder 1 was observed.

【0112】次いで洗浄部4において、版胴1の表面を
印刷用インキ洗浄液ダイクリーンR(発売元;大日本イ
ンキ化学工業社)とトルエンの1/1混合液をウエスに
しみ込ませて丁寧に洗浄してインキを除去した。再び加
熱部2において200℃で加熱を行った。前と同じ方法
で接触角を測定した。版表面のどの部分も48〜55度
の間にあった。
Next, in the washing section 4, the surface of the plate cylinder 1 is thoroughly washed by soaking a 1/1 mixed solution of a printing ink washing liquid Daiclean R (released by Dainippon Ink and Chemicals) and toluene into a waste cloth. To remove the ink. The heating was performed again at 200 ° C. in the heating unit 2. The contact angle was measured in the same way as before. Every part of the plate surface was between 48 and 55 degrees.

【0113】次いで、この版胴1の表面に上記と同一の
条件でサーマルヘッドによる像様加熱を行った。この版
胴1をサクライ社製オリバー52片面印刷機に使用し
て、インキ・湿し水供給部3において湿し水を純水、イ
ンキを大日本インキ化学工業社製Newchampion Fグロス
85墨を用いて1000枚オフセット印刷を行った。ス
タートから終了まで鮮明な印刷物が得られ、版胴1の損
傷も認められなかった。
Next, the surface of the plate cylinder 1 was imagewise heated by a thermal head under the same conditions as described above. The plate cylinder 1 is used in a single-sided printing press of Oliver 52 manufactured by Sakurai Co., and the dampening water is supplied to the ink / fountain water supply unit 3 using pure water and the ink using Newchampion F gloss 85 black manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc. And 1000 sheets of offset printing were performed. A clear printed matter was obtained from the start to the end, and no damage to the plate cylinder 1 was observed.

【0114】以上の繰り返しを5回実施したところ、サ
ーマルヘッドによる加熱記録後の接触角の値、疎水性発
現温度での加熱による接触角の回復スピード及び印刷面
の画像の鮮明さの変化は認められなかった。この結果か
ら、酸化チタン層をアルミニウム支持体上に設けた印刷
原板を使用し、実施形態1の印刷装置を用いて疎水性発
現温度への加熱とサーマルヘッドによる像様加熱によっ
てネガ方式の製版による印刷が可能であり、しかもイン
キの洗浄除去のみで印刷原板を反復再生使用できること
が示された。
When the above-described repetition was performed five times, changes in the contact angle value after heating and recording by the thermal head, the recovery speed of the contact angle by heating at the hydrophobic development temperature, and the sharpness of the image on the printed surface were recognized. I couldn't. From these results, using a printing original plate provided with a titanium oxide layer on an aluminum support, using the printing apparatus of Embodiment 1, heating to a hydrophobic development temperature and imagewise heating with a thermal head were performed to produce a negative type plate making. It was shown that printing was possible, and that the original printing plate could be repeatedly reused only by washing and removing the ink.

【0115】〔実施例2〕真空蒸着装置中に100ミク
ロン厚みのSUS板をセットして全圧5×10-3Torrの
真空下でセレン化亜鉛を1000オングストロームの厚
みに蒸着した。これを空気中600°Cで2時間酸化処
理してSUS板の片面に酸化亜鉛の薄膜を形成させた。
Example 2 A SUS plate having a thickness of 100 μm was set in a vacuum vapor deposition apparatus, and zinc selenide was vapor deposited to a thickness of 1000 Å under a vacuum of a total pressure of 5 × 10 −3 Torr. This was oxidized in air at 600 ° C. for 2 hours to form a zinc oxide thin film on one surface of the SUS plate.

【0116】この酸化亜鉛皮膜付き100ミクロンSU
S板を実施例1と同じく、実施形態1の印刷装置の版胴
1の基体に巻き付けて機上製版型の原板とした。
100 micron SU with this zinc oxide film
The S plate was wound around the substrate of the plate cylinder 1 of the printing apparatus of the first embodiment in the same manner as in the first embodiment to obtain an on-press plate making type original plate.

【0117】実施例1と同じ方法で、加熱温度を200
℃に制御した電熱加熱による加熱を行った。加熱部の通
過時間が1分となる回転速度で版胴を回転させた。加熱
後の原板表面の水に対する接触角をContact Angle Mete
r CA-D(協和界面科学(株)製)を用いて空中水滴法で
表面の水に対する接触角を測定したところ、いずれの部
分も50〜57度の間にあった。
The heating temperature was set to 200 in the same manner as in Example 1.
Heating was performed by electrothermal heating controlled at ℃. The plate cylinder was rotated at a rotation speed at which the passage time of the heating unit was 1 minute. Contact Angle Mete
r The contact angle of the surface with water was measured by the air drop method using CA-D (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.).

【0118】次に、感熱記録部5のTa-SiO2 発熱抵抗体
上にサイアロン耐磨耗保護層を設けた150μmx15
0μmのサーマルヘッドを250μm間隔に並べた発熱
体アレイを用いて、酸化亜鉛表面層と接触させて昇温印
字を行った。使用したサーマルヘッドは、実施例1に用
いたものと同じであり、走査速度は、2.5m/sec
で行った。この走査速度では、酸化亜鉛表面層と接する
場合の表面温度は450°Cであることが別の測定で判
っている。照射後の原板表面の水に対する接触角をCont
act Angle Meter CA-Dを用いて空中水滴法で表面の水に
対する接触角を測定したところ、いずれの照射領域も1
0〜13度の間にあった。
Next, a 150 μm × 15 layer having a sialon wear-resistant protective layer provided on the Ta—SiO 2 heating resistor of the thermal recording section 5 was prepared.
Using a heating element array in which thermal heads of 0 μm were arranged at intervals of 250 μm, the prints were heated by bringing them into contact with the zinc oxide surface layer. The thermal head used was the same as that used in Example 1, and the scanning speed was 2.5 m / sec.
I went in. At this scanning speed, another measurement shows that the surface temperature in contact with the zinc oxide surface layer is 450 ° C. Cont determines the contact angle of the original plate surface with water after irradiation.
Using the act Angle Meter CA-D, the contact angle of water on the surface was measured by the air drop method.
It was between 0 and 13 degrees.

【0119】この版胴1をサクライ社製オリバー52片
面印刷機に使用して、インキ・湿し水供給部3において
湿し水を純水、インキを大日本インキ化学工業社製Newc
hampion Fグロス85墨を用いて1000枚オフセット
印刷を行った。スタートから終了まで鮮明な印刷物が得
られ、版胴1の損傷も認められなかった。
The plate cylinder 1 was used for a single-sided printing machine of Oliver 52 manufactured by Sakurai Co., Ltd., and the dampening water was supplied to the ink / fountain solution supply unit 3 by using pure water and the ink was supplied by Newc manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.
Offset printing was performed on 1,000 sheets using hampion F gloss 85 ink. A clear printed matter was obtained from the start to the end, and no damage to the plate cylinder 1 was observed.

【0120】次いで洗浄部4において、版胴1の表面を
印刷用インキ洗浄液ダイクリーンR(発売元;大日本イ
ンキ化学工業社)とトルエンの1/1混合液をウエスに
しみ込ませて丁寧に洗浄してインキを除去した。再び加
熱部2を通電して前と同じ条件で加熱した後、室温まで
冷えた状態で前と同様の方法で接触角を測定した。版表
面のどの部分も50〜57度の間にあった。
Next, in the washing section 4, the surface of the plate cylinder 1 is thoroughly washed by impregnating a 1/1 mixed solution of printing ink washing liquid Daiclean R (released by Dainippon Ink and Chemicals) and toluene into a waste cloth. To remove the ink. After the heating unit 2 was energized again and heated under the same conditions as before, the contact angle was measured by the same method as before while cooling to room temperature. Every part of the plate surface was between 50 and 57 degrees.

【0121】次いで、実施例1と同じサーマルヘッドの
感熱記録装置を用いて同じ条件で、現像済みフィルムを
通して原板表面に感熱記録を行った。感熱記録後の原板
表面の水に対する接触角をContact Angle Meter CA-Dを
用いて空中水滴法で表面の水に対する接触角を測定した
ところ、いずれの感熱記録領域も10〜13度の間にあ
った。
Next, thermal recording was performed on the surface of the original plate through the developed film under the same conditions using the same thermal recording apparatus with a thermal head as in Example 1. The contact angle of water on the surface of the original plate after the thermal recording was measured by a water drop method in the air using Contact Angle Meter CA-D.

【0122】この版胴1をサクライ社製オリバー52片
面印刷機に使用して、インキ・湿し水供給部3において
湿し水を純水、インキを大日本インキ化学工業社製Newc
hampion Fグロス85墨を用いて1000枚オフセット
印刷を行った。スタートから終了まで鮮明な印刷物が得
られ、版胴1の損傷も認められなかった。
The plate cylinder 1 was used in a single-sided printing machine of Oliver 52 manufactured by Sakurai Co., Ltd., and the dampening water was supplied to the ink / fountain solution supply unit 3 by using pure water and the ink was supplied by Newc manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.
Offset printing was performed on 1,000 sheets using hampion F gloss 85 ink. A clear printed matter was obtained from the start to the end, and no damage to the plate cylinder 1 was observed.

【0123】この結果から、酸化亜鉛層をSUS支持体
上に設けた印刷原板を使用し、態様1の印刷装置を用い
て疎水性発現温度での全面加熱とヒートモード印字によ
って印刷が可能であり、しかもインキの洗浄除去のみで
印刷原板を反復再生使用できることが示された。
From the above results, it is possible to perform printing by heating the entire surface at a temperature at which hydrophobicity is exhibited and heat mode printing using the printing plate of Embodiment 1 using a printing original plate provided with a zinc oxide layer on a SUS support. Moreover, it was shown that the printing original plate can be repeatedly reproduced and used only by washing and removing the ink.

【0124】〔実施例3〕実施例1と同様にして陽極酸
化処理したアルミニウム支持体をCsLa2 NbTi2
10の化学量論比に相当するセシウムエトキシド、チタ
ンブトキシド、ランタンイソブトキシド、ニオブエトキ
シドを含む20%のエタノール溶液に浸漬して表面を加
水分解したのち280°Cに加熱してアルミニウム支持
体表面にCsLa2 NbTi2 10の厚み1000オン
グストロームの薄膜を形成させた。
[Example 3] An aluminum support anodized in the same manner as in Example 1 was replaced with CsLa 2 NbTi 2
The surface was hydrolyzed by immersion in a 20% ethanol solution containing cesium ethoxide, titanium butoxide, lanthanum isobutoxide, and niobium ethoxide corresponding to the stoichiometric ratio of O 10 , and the surface was hydrolyzed. A thin film of CsLa 2 NbTi 2 O 10 having a thickness of 1000 Å was formed on the body surface.

【0125】この複合金属酸化物薄膜付きアルミニウム
支持体を版胴の基体に巻き付けて原板とした以外は、実
施例1と同じ製版、印刷及びインキ洗浄除去、再印刷を
行った。加熱後の疎水性領域の水に対する接触角は、1
回目及び2回目とも45〜50度であり、また、ヒート
モード記録領域の接触角は、10〜14度であった。印
刷面の品質も1回目及び2回目とも地汚れはなく、画像
領域と非画像領域の識別性も十分であった。
The same plate making, printing, washing with ink, and reprinting were performed in the same manner as in Example 1 except that the aluminum support with the composite metal oxide thin film was wound around the base of the plate cylinder to form an original plate. The contact angle of the hydrophobic region to water after heating is 1
The first and second times were 45 to 50 degrees, and the contact angle of the heat mode recording area was 10 to 14 degrees. The quality of the printed surface was also free from background contamination in the first and second runs, and the discrimination between the image area and the non-image area was sufficient.

【0126】〔実施例4〕実施例1で使用したものと同
じ粗面化処理と陽極酸化処理を施したアルミニウム支持
体を使用してチタン酸バリウムを熱応答性金属酸化物と
した原板を作製した。すなわち、上記アルミニウム支持
体をスパッタリング装置内にセットし、5.0×10-7
Torrまで真空排気する。支持体を200°Cに加熱し、
Ar/O 2 が90/10(モル比)となるようにガス圧
を5×10-3Torrに設定し、SiO2 のターゲットにR
Fパワー200Wを投入してSiO2 の1μmの薄層を
形成した。続いてArのガス圧を5×10-3Torrに設定
し、SiのターゲットにRFパワー200Wを投入して
Siの1μmの薄膜を形成した。続いてArのガス圧を
5×10-3Torrに設定し、6インチφのチタン酸バリウ
ムの焼結ターゲットにRFパワー200Wを投入して膜
厚1000Åのチタン酸バリウム薄膜を形成した。X線
解析法によれば、この薄膜は多結晶体であった。
Example 4 The same as that used in Example 1
Aluminum support with roughening and anodizing
Using barium titanate as a thermo-responsive metal oxide
An original plate was produced. That is, the above aluminum support
The body was set in a sputtering apparatus and 5.0 × 10-7
Evacuate to Torr. Heating the support to 200 ° C.,
Ar / O TwoGas pressure so as to be 90/10 (molar ratio)
Is 5 × 10-3Set to Torr, SiOTwoR target
F power 200W is input and SiOTwo1μm thin layer of
Formed. Subsequently, the Ar gas pressure was set to 5 × 10-3Set to Torr
Then, apply RF power 200W to the Si target
A 1 μm thin film of Si was formed. Then the gas pressure of Ar
5 × 10-3Torr, 6 inch φ barium titanate
RF power 200W is applied to the sintering target
A barium titanate thin film having a thickness of 1000 ° was formed. X-ray
According to the analysis method, this thin film was polycrystalline.

【0127】このチタン酸バリウム薄膜付きアルミニウ
ム支持体を版胴の基体に巻き付けて原板として使用した
ことと、感熱記録部に感熱記録ヘッドの代わりに赤外線
レーザー光記録装置を使用した以外は、実施例1と同じ
製版、印刷及びインキ洗浄除去、再印刷を行った。赤外
線レーザー光記録装置は、出力500mWの固体赤外線
レーザー光をビーム幅45ミクロンに絞って走査露光に
よって描画を行った。この場合、照射した赤外線光をS
iが吸収するので、この薄層が光エネルギーを熱エネル
ギーに変換する役目を果たす。すなわち、赤外線を照射
することで、Si層が発熱するのでチタン酸バリウム層
を加熱できる。なお、別に行った測定によって、上記の
条件で赤外線レーザー描画を行った時のSi層上のチタ
ン酸バリウム層の温度は、360℃であることが判って
いる。紫外線照射による親水性化領域の水に対する接触
角は、1回目及び2回目とも14〜20度であり、ま
た、印刷面の品質も1回目及び2回目とも地汚れはな
く、画像領域と非画像領域の識別性も十分であった。
Except that this aluminum support with a barium titanate thin film was wound around the base of a plate cylinder and used as an original plate, and that an infrared laser light recording device was used in place of the thermal recording head in the thermal recording section, The same plate making, printing, ink washing and removal, and reprinting were performed as in Example 1. In the infrared laser light recording apparatus, drawing was performed by scanning exposure with a beam width of 45 μm of a solid infrared laser light having an output of 500 mW. In this case, the irradiated infrared light is S
As i absorbs, this thin layer serves to convert light energy to heat energy. That is, since the Si layer generates heat by irradiating infrared rays, the barium titanate layer can be heated. In addition, it is known from a measurement performed separately that the temperature of the barium titanate layer on the Si layer when performing infrared laser drawing under the above conditions is 360 ° C. The contact angle of water to the hydrophilic region by ultraviolet irradiation is 14 to 20 degrees in both the first and second times, and the quality of the printed surface is free from background contamination in both the first and second times. The discrimination of the regions was also sufficient.

【0128】〔実施例5〕厚み100ミクロンのポリイ
ミド(無水ピロメリット酸・m−フェニレンジアミン共
重合物)フィルム(商品名;カプトン、東レ・デュポン
社製)を使用して実施例4と同様に光熱変換層を設けて
その上に二酸化チタン薄膜を設けた試料を作製した。す
なわち、上記ポリイミドフィルム支持体をスパッタリン
グ装置内にセットし、5.0×10-7Torrまで真空排気
する。支持体を200℃に加熱し、Ar/O2 が90/
10(モル比)となるようにガス圧を5×10-3Torrに
設定し、SiO2 のターゲットにRFパワー200Wを
投入してSiO2 の1μmの薄層を形成した。続いてA
rのガス圧を5×10-3Torrに設定し、Siのターゲッ
トにRFパワー200Wを投入してSiの1μmの薄膜
を形成した。さらに、Ar/O2 が60/40(モル
比)となるようにガス圧を5×10-3Torrに設定し、ガ
ス圧を5×10-3Torrに設定し、チタン金属のターゲッ
トにRFパワー200Wを投入して二酸化チタン薄膜を
蒸着形成した。この薄膜の結晶成分はX線解析法によっ
て無定型/アナターゼ/ルチル結晶構造の比が1.5/
6.5/2であり、二酸化チタン薄膜の厚さは900オ
ングストロームであった。この二酸化チタン薄膜と光熱
変換性のSi薄膜及びSiO2 の断熱層を載せたポリイ
ミド支持体を版胴の基体に巻き付けて原板として使用し
たことと、感熱記録部に感熱記録ヘッドの代わりに赤外
線レーザー光記録装置を使用した以外は、実施例1と同
じ製版、印刷及びインキ洗浄除去、再印刷を行った。赤
外線レーザー光記録装置は、出力500mWの固体赤外
線レーザー光をビーム幅45ミクロンに絞って走査露光
によって描画を行った。高温加熱による親水性化領域の
水に対する接触角は、1回目及び2回目とも11〜17
度であり、また、印刷面の品質も1回目及び2回目とも
地汚れはなく、画像領域と非画像領域の識別性も十分で
あった。
Example 5 A polyimide (pyromellitic anhydride / m-phenylenediamine copolymer) film (trade name; Kapton, manufactured by Du Pont-Toray Co., Ltd.) having a thickness of 100 μm was used in the same manner as in Example 4. A sample was prepared in which a light-to-heat conversion layer was provided and a titanium dioxide thin film was provided thereon. That is, the above-mentioned polyimide film support is set in a sputtering apparatus and evacuated to 5.0 × 10 −7 Torr. The support was heated to 200 ° C. and the Ar / O 2 was 90 /
10 become as the gas pressure (molar ratio) was set to 5 × 10 -3 Torr, to form a thin layer of SiO 2 of 1μm by supplying an RF power 200W to SiO 2 target. Then A
The gas pressure of r was set to 5 × 10 −3 Torr, and RF power of 200 W was applied to a Si target to form a 1 μm thin film of Si. Further, the gas pressure as Ar / O 2 is 60/40 (molar ratio) was set to 5 × 10 -3 Torr, and setting the gas pressure to 5 × 10 -3 Torr, RF to titanium metal target At a power of 200 W, a titanium dioxide thin film was formed by vapor deposition. The crystal component of this thin film was determined by X-ray analysis to have an amorphous / anatase / rutile crystal structure ratio of 1.5 /
6.5 / 2, and the thickness of the titanium dioxide thin film was 900 Å. The polyimide support on which the titanium dioxide thin film, the light-heat converting Si thin film and the heat insulating layer of SiO 2 were mounted was wound around the substrate of the plate cylinder and used as an original plate, and an infrared laser was used instead of the thermal recording head in the thermal recording section. Except that an optical recording apparatus was used, the same plate making, printing, ink washing and removal, and reprinting were performed as in Example 1. In the infrared laser light recording apparatus, drawing was performed by scanning exposure with a beam width of 45 μm of a solid infrared laser light having an output of 500 mW. The contact angle of water to the hydrophilic region by high-temperature heating was 11 to 17 for the first and second times.
In addition, the quality of the printing surface was not stained in the first and second times, and the discrimination between the image area and the non-image area was sufficient.

【0129】〔実施例6〕図3に示した加熱部と同じ装
置を使用して次の試験を行った。空気取り入れ口に内径
約30mmの硝子管(分液ろ斗を転用)を横向きに配置
し、加熱部内の空気がこの硝子管内を通過して加熱部の
内部に取り込まれる構造とした。シリコーンオイル〔商
品名シリコーンKF99(信越化学工業(株)製〕を含
浸させた珪草土を容積率が50%となるように硝子管の
下半分に流しこんだ。空気取り入れ口の温度は、この管
を通過中に室温から150℃に上昇する。シリコーンK
F99は、この温度では少なくとも1mmHg以上の蒸
気圧を持つので、加熱部の内部に取り入れられた空気
は、シリコーンKF99の蒸気を含んでいる。空間部の
内容積が2リットルの管熱記録部における空気交換速度
は、毎分10vol%であった。加熱部にこのオルガノ
ポリシロキサン化合物の蒸気を導入して雰囲気のもとで
疎水性化の加熱を行う以外は、実施例1と同じ原板と同
じ装置を使用して、同じ条件で製版し、印刷を行い、使
用済みの印刷版を同じ方法で再生して再度印刷を行っ
た。加熱後の疎水性領域の水に対する極大接触角は、1
90℃に現れ、その接触角の値は、70度であった。一
方、活性光の像様照射を行った親水性領域の水に対する
接触角は、9〜11度であり、シリコーン蒸気の影響は
受けていなかった。この結果を実施例1で得た結果と比
較すると、疎水性発現温度での加熱を有機珪素化合物蒸
気の存在下で行うことによって、接触角が極大となる温
度が高温側に移動するが、同時に接触角が著しく増加し
て親油性〜親水性の識別性が向上したことが判る。
Example 6 The following test was performed using the same apparatus as the heating section shown in FIG. A glass tube with an inner diameter of about 30 mm (a diversion filter was diverted) was disposed sideways at the air intake, and the air in the heating unit was passed through this glass tube and taken into the heating unit. The diatomaceous earth impregnated with silicone oil [trade name: Silicone KF99 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)] was poured into the lower half of the glass tube so that the volume ratio became 50%. The temperature rises from room temperature to 150 ° C. while passing through the tube.
Since F99 has a vapor pressure of at least 1 mmHg at this temperature, the air introduced into the heating section contains the vapor of silicone KF99. The air exchange rate in the tube heat recording unit having the internal volume of the space of 2 liters was 10 vol% per minute. Except that the vapor of this organopolysiloxane compound is introduced into the heating section and heating for hydrophobization is carried out under an atmosphere, the same plate and the same apparatus as in Example 1 are used, and the plate is made under the same conditions and printed. The used printing plate was reproduced in the same manner and printing was performed again. The maximum contact angle of water in the hydrophobic region after heating is 1
Appearing at 90 ° C., the contact angle value was 70 degrees. On the other hand, the contact angle with water of the hydrophilic region subjected to the imagewise irradiation of the active light was 9 to 11 degrees, and was not affected by silicone vapor. When this result is compared with the result obtained in Example 1, the temperature at which the contact angle becomes maximum moves to the higher temperature side by performing the heating at the hydrophobic development temperature in the presence of the organosilicon compound vapor, but at the same time, It can be seen that the contact angle was significantly increased and the lipophilicity-hydrophilicity distinctiveness was improved.

【0130】ついで、この印刷版を使用して、1000
枚のオフセット印刷を行った。実施例1と同様にスター
トから終了まで鮮明な印刷物が得られたが、さらに印刷
を続けて5000枚の印刷を行ったときには、シリコー
ンKF99を存在させないで印刷した実施例1において
は、目視で認められるインキ汚れが生じたが、シリコー
ンKF99の存在下で印刷を行った実施例6では、イン
キ汚れは認められず、版胴1の損傷も認められなかっ
た。
Then, using this printing plate, 1000
Offset printing of one sheet was performed. A clear printed matter was obtained from the start to the end as in Example 1. However, when printing was continued and 5000 sheets were printed, in Example 1 in which the silicone KF99 was used and printing was performed, it was visually recognized. However, in Example 6 in which printing was performed in the presence of silicone KF99, no ink stain was found and no damage to the plate cylinder 1 was found.

【0131】次いで、本発明の第2の実施形態について
説明する。 〔実施形態2〕図5は本発明の第2の実施形態によるオ
フセット印刷装置の構成を示す図である。図5に示すオ
フセット印刷装置は、図2に示すオフセット印刷装置を
印刷ユニット11Y,11M,11C,11Bとして4
台直列に本体12内に配置して構成されるものであり、
それぞれ、Y(イエロー)、M(マゼンタ)、C(シア
ン)、B(ブラック)のインキを使用してカラー印刷を
行うものである。
Next, a second embodiment of the present invention will be described. [Embodiment 2] FIG. 5 is a view showing the configuration of an offset printing apparatus according to a second embodiment of the present invention. The offset printing apparatus shown in FIG. 5 is similar to the offset printing apparatus shown in FIG.
It is configured by being arranged in series in the main body 12,
Color printing is performed using inks of Y (yellow), M (magenta), C (cyan), and B (black), respectively.

【0132】各印刷ユニット11Y,11M,11C,
11Bの構成および動作は上述した図2に示すオフセッ
ト印刷装置と同一であるため、詳細な説明は省略する。
第2の実施形態においては、各印刷ユニット11Y,1
1M,11C,11Bのインキ・湿し水供給部において
供給されるインキの色が、それぞれ、Y(イエロー)、
M(マゼンタ)、C(シアン)、B(ブラック)である
点が異なるものである。
The printing units 11Y, 11M, 11C,
Since the configuration and operation of 11B are the same as those of the offset printing apparatus shown in FIG. 2 described above, detailed description will be omitted.
In the second embodiment, each printing unit 11Y, 1
The colors of the inks supplied in the 1M, 11C and 11B ink / fountain solution supply units are Y (yellow),
M (magenta), C (cyan), and B (black) are different.

【0133】次いで、第2の実施形態の動作について説
明する。まず、印刷ユニット11Y,11M,11C,
11Bにおいて版胴1をゆっくり回転させながら疎水性
発現温度での加熱部2を通過する原板表面の疎水性化を
行う。加熱部の構造は図3に説明したので省略するが、
加熱雰囲気の温度、及び有機化合物を存在させる場合
は、蒸発室の温度は制御部(図3の34)で制御される
ので、有機化合物の有無、有機化合物の種類及び原板表
面の熱応答物質の種類に応じて最適の条件が選択され
る。十分の加熱時間で通過する速度で回転し、版胴全面
を疎水性にした後に、図2の高温加熱記録部5による像
様加熱により各色を表す描画が行われる。そして、各印
刷ユニット11Y,11M,11C,11Bのインキ・
湿し水供給部からY,M,C,Bそれぞれの色のインキ
を供給して、各印刷ユニット11Y,11M,11C,
11Bの版胴1にインキおよび湿し水を保持する。その
後、図5の矢印Bに示すように用紙を供給して、各印刷
ユニット11Y,11M,11C,11Bのインキを用
紙に転写する。すなわち、印刷ユニット11Yにおいて
はYのインキが転写され、印刷ユニット11Mにおいて
はMのインキが転写され、印刷ユニット11Cにおいて
はCのインキが転写され、印刷ユニット11Bにおいて
はBのインキが転写される。これにより、用紙にはカラ
ー画像がネガ型の方式で印刷されることとなる。
Next, the operation of the second embodiment will be described. First, the printing units 11Y, 11M, 11C,
In 11B, while the plate cylinder 1 is slowly rotated, the surface of the original sheet passing through the heating unit 2 at the hydrophobicity developing temperature is made hydrophobic. The structure of the heating unit has been described with reference to FIG.
When the temperature of the heating atmosphere and the organic compound are present, the temperature of the evaporation chamber is controlled by the control unit (34 in FIG. 3). Optimal conditions are selected according to the type. After rotating at a passing speed for a sufficient heating time to make the entire surface of the plate cylinder hydrophobic, drawing representing each color is performed by imagewise heating by the high-temperature heating recording unit 5 in FIG. The printing units 11Y, 11M, 11C, 11B
Ink of each color of Y, M, C, and B is supplied from the dampening solution supply unit, and each printing unit 11Y, 11M, 11C,
The ink and fountain solution are held in the plate cylinder 1B of 11B. Thereafter, the paper is supplied as shown by the arrow B in FIG. 5, and the ink of each of the printing units 11Y, 11M, 11C and 11B is transferred to the paper. That is, in the printing unit 11Y, the Y ink is transferred, in the printing unit 11M, the M ink is transferred, in the printing unit 11C, the C ink is transferred, and in the printing unit 11B, the B ink is transferred. . As a result, the color image is printed on the paper in the negative type.

【0134】印刷終了後、各印刷ユニット11Y,11
M,11C,11Bのインキ洗浄部により版胴に残存す
るインキを除去する。その後、版胴1をゆっくり回転さ
せながら加熱部2によって加熱を行い、版胴1の全面を
疎水性化して、版胴1は描画前の状態に戻る。ただし、
この疎水性化工程は、次の印刷を行う直前に行う方が履
歴の影響を避けるためには好ましい。
After the printing is completed, each of the printing units 11Y, 11Y
The ink remaining on the plate cylinder is removed by the ink cleaning units M, 11C and 11B. Thereafter, heating is performed by the heating unit 2 while slowly rotating the plate cylinder 1 to make the entire surface of the plate cylinder 1 hydrophobic, and the plate cylinder 1 returns to a state before drawing. However,
This hydrophobizing step is preferably performed immediately before the next printing to avoid the influence of the history.

【0135】〔実施形態3〕次いで、本発明の第3の実
施形態について説明する。図6は本発明の第3の実施形
態によるオフセット印刷装置の構成を示す図であり、図
7は図6の要部拡大図である。図6に示すオフセット印
刷装置は、図2に示すオフセット印刷装置を印刷ステー
ション14Y,14M,14C,14Bとして本体15
内において圧胴7の周囲に配置して構成されるものであ
り、それぞれ、Y(イエロー)、M(マゼンタ)、C
(シアン)、B(ブラック)のインキを使用してカラー
印刷を行うものである。
[Embodiment 3] Next, a third embodiment of the present invention will be described. FIG. 6 is a diagram showing a configuration of an offset printing apparatus according to a third embodiment of the present invention, and FIG. 7 is an enlarged view of a main part of FIG. The offset printing apparatus shown in FIG. 6 has the main body 15 as the printing stations 14Y, 14M, 14C and 14B using the offset printing apparatus shown in FIG.
And arranged around the impression cylinder 7 in Y, yellow (Y), M (magenta), and C, respectively.
The color printing is performed by using (cyan) and B (black) inks.

【0136】各印刷ステーション14Y,14M,14
C,14Bの構成は同一であり、印刷ステーション14
Yで代表させて図7に示す。図7に示すように、印刷ス
テーション14Yは、第1の実施形態と同様に、酸化チ
タンや酸化亜鉛などの熱応答型物質を主成分とする表面
を有する版胴1と、条件制御された加熱によって版胴1
の表面を疎水性にする加熱部2と、疎水性化された版胴
1に対して高温親水性発現温度の像様加熱を行うための
高温加熱記録部5と、像様加熱がなされた版胴1にイン
キおよび湿し水を供給するインキ・湿し水供給部3と、
印刷終了後に版胴1に残存するインキを除去するインキ
洗浄部4と、版胴1に保持されたインキを用紙に転写す
るための中間体として圧胴7に接触するブランケット6
とが設けられている。
Each printing station 14Y, 14M, 14
C and 14B have the same configuration.
This is shown in FIG. As shown in FIG. 7, as in the first embodiment, the printing station 14Y includes a plate cylinder 1 having a surface mainly composed of a thermo-responsive material such as titanium oxide or zinc oxide, and a condition-controlled heating. By plate cylinder 1
A heating unit 2 for making the surface of the plate hydrophobic, a high-temperature heating recording unit 5 for performing imagewise heating of the plate cylinder 1 that has been rendered hydrophobic at a high-temperature hydrophilicity developing temperature, and a plate on which imagewise heating has been performed. An ink / fountain solution supply unit 3 for supplying ink and fountain solution to the cylinder 1;
An ink washing unit 4 for removing ink remaining on the plate cylinder 1 after printing is completed, and a blanket 6 which comes into contact with an impression cylinder 7 as an intermediate for transferring the ink held on the plate cylinder 1 to paper.
Are provided.

【0137】なお、印刷ステーション14Y,14M,
14C,14Bの動作は上述した図2に示すオフセット
印刷装置と同一であるため、詳細な説明は省略する。第
3の実施形態においては、各印刷ステーション14Y,
14M,14C,14Bのインキ・湿し水供給部におい
て供給されるインキの色が、それぞれ、Y(イエロ
ー)、M(マゼンタ)、C(シアン)、B(ブラック)
である点が異なるものである。
The print stations 14Y, 14M,
Since the operations of 14C and 14B are the same as those of the offset printing apparatus shown in FIG. 2 described above, detailed description will be omitted. In the third embodiment, each printing station 14Y,
The colors of the inks supplied in the ink / fountain solution supply units 14M, 14C, and 14B are Y (yellow), M (magenta), C (cyan), and B (black), respectively.
Is different.

【0138】次いで、第3の実施形態の動作について説
明する。まず、印刷ステーション14Y,14M,14
C,14Bにおいて版胴を加熱部において温度制御され
た加熱によって全面を疎水性化したのち、高温加熱記録
部により像様の加熱親水性化により各色を表す画像をネ
ガモードで描画する。そして、各印刷ステーション14
Y,14M,14C,14Bのインキ・湿し水供給部か
らY,M,C,Bそれぞれの色のインキを供給して、各
印刷ステーション14Y,14M,14C,14Bの版
胴1にインキを保持する。その後、図5の矢印Cに示す
ように用紙を供給して、圧胴7の周囲において用紙を搬
送し、各印刷ステーション14Y,14M,14C,1
4Bのインキを用紙に転写する。すなわち、印刷ステー
ション14YにおいてはYのインキが転写され、印刷ス
テーション14MにおいてはMのインキが転写され、印
刷ステーション14CにおいてはCのインキが転写さ
れ、印刷ステーション14BにおいてはBのインキが転
写される。これにより、用紙にはカラー画像が印刷され
ることとなる。
Next, the operation of the third embodiment will be described. First, the printing stations 14Y, 14M, 14
In C and 14B, the entire surface of the plate cylinder is rendered hydrophobic by heating the temperature of the plate cylinder in a heating unit, and then an image representing each color is rendered in a negative mode by imagewise heating hydrophilicity by a high-temperature heating recording unit. And each printing station 14
Y, M, C, and B color inks are supplied from the Y, M, C, and B ink / fountain solution supply units, and the ink is applied to the plate cylinders 1 of the printing stations 14Y, 14M, 14C, and 14B. Hold. Thereafter, as shown by an arrow C in FIG. 5, the paper is supplied, the paper is conveyed around the impression cylinder 7, and each printing station 14Y, 14M, 14C, 1
Transfer 4B ink to paper. That is, the Y ink is transferred at the printing station 14Y, the M ink is transferred at the printing station 14M, the C ink is transferred at the printing station 14C, and the B ink is transferred at the printing station 14B. . As a result, a color image is printed on the sheet.

【0139】印刷終了後、各印刷ステーション14Y,
14M,14C,14Bのインキ洗浄部により版胴に残
存するインキを除去する。その後、版胴を上記と同じ条
件で加熱を行うことにより、版胴は加熱による描画前の
状態に戻る。
After the printing is completed, each printing station 14Y,
The ink remaining on the plate cylinder is removed by the ink cleaning sections 14M, 14C and 14B. Thereafter, the plate cylinder is heated under the same conditions as described above, whereby the plate cylinder returns to a state before drawing by heating.

【0140】なお、上記第2および第3の実施形態にお
いては、4つの印刷ユニット11Y,11M,11C,
11Bあるいは4つの印刷ステーション14Y,14
M,14C,14Bを用いてカラー印刷を行っている
が、5つあるいはそれ以上の印刷ユニットまたは印刷ス
テーションを設けてカラー印刷を行うようにしてもよ
い。
In the second and third embodiments, the four printing units 11Y, 11M, 11C,
11B or four printing stations 14Y, 14
Although color printing is performed using the M, 14C, and 14B, color printing may be performed by providing five or more printing units or printing stations.

【0141】なお、上記第1から第3の実施形態におい
ては、版胴1を使用しているが、これに限定されるのも
ではなく、シート上の印刷用原板を使用してオフセット
印刷を行うものであっても、本発明を適用することがで
きるのはもちろんである。
In the first to third embodiments, the plate cylinder 1 is used. However, the present invention is not limited to this, and offset printing is performed using a printing original plate on a sheet. It goes without saying that the present invention can be applied even if it is performed.

【0142】また、上記第1から第3の実施形態におい
ては、加熱部2から時計回りにインキ洗浄部4、インキ
・湿し水供給部3および高温加熱記録部5を配置してい
るが、これに限定されるものではなく、任意の順序にて
配置することができる。
In the first to third embodiments, the ink washing unit 4, the ink / fountain solution supply unit 3, and the high-temperature heating recording unit 5 are arranged clockwise from the heating unit 2. It is not limited to this, and can be arranged in any order.

【0143】さらに、上記の各実施形態及び実施例は、
本発明がこれらの例に記載された熱応答型物質に限定さ
れるものではなく、前記した任意の熱応答型物質を使用
することができる。
Further, each of the above embodiments and examples is as follows.
The present invention is not limited to the heat-responsive materials described in these examples, and any of the heat-responsive materials described above can be used.

【0144】[0144]

【発明の効果】本発明の熱応答型物質、中でも熱応答型
金属及び金属酸化物を画像形成層とした印刷用原板を疎
水性発現温度で加熱してその表面を疎水性として、その
表面に高温親水性化温度で像様加熱して、親水性と疎水
性の像様分布を形成させて印刷版を作成する印刷方法
は、現像などの処理を必要とせず、直接印刷版を作成す
ることができ、かつ印刷終了後、印刷版のインキを除去
して印刷原板を再生して反復使用することができる。ま
た、原板を印刷機の版胴に装着し、印刷機上で、親水性
化、ヒートモード描画、インキ・湿し水供給及び印刷後
の原板再生を行う印刷装置を用いて簡易で安価なオフセ
ット印刷を行うことができる。この方法及び装置は、ネ
ガ型の製版方式であって、かつ原板に直接活性光の像様
照射を行う製版・印刷方法や、疎水性発現領域に調整せ
ずに加熱してから活性光の像様照射を行う製版・印刷方
法に比べて、画像領域と非画像領域との識別性が高く、
印刷品質を向上させることができる。そのほか、活性光
照射設備も不要であり、また画像形成材料も光触媒能を
有する必要がないので選択範囲が広いという利点もあ
る。
The heat-responsive substance of the present invention, in particular, a printing plate having the heat-responsive metal and metal oxide as an image forming layer is heated at a temperature for exhibiting hydrophobicity to make the surface hydrophobic, and the surface is rendered hydrophobic. The printing method of forming a printing plate by forming an imagewise distribution of hydrophilicity and hydrophobicity by imagewise heating at a high hydrophilicity temperature does not require processing such as development, and directly creates a printing plate. After the printing is completed, the printing plate is deinked and the printing plate is regenerated and reused. In addition, the original plate is mounted on the plate cylinder of a printing press, and a simple and inexpensive offset is performed on the printing press using a printing device that performs hydrophilicity, heat mode drawing, ink / fountain solution supply, and regenerating the original plate after printing. Printing can be performed. This method and apparatus are a negative type plate making method, and a plate making / printing method of directly irradiating the original plate with an image of actinic light, or an image of actinic light after heating without adjusting the hydrophobic expression area. Higher discrimination between image areas and non-image areas,
Printing quality can be improved. In addition, there is no need for active light irradiation equipment, and there is also an advantage that the image forming material does not need to have a photocatalytic ability, so that the selection range is wide.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に関わる酸化チタン表面の温度・接触角
の関係を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing the relationship between temperature and contact angle on the surface of titanium oxide according to the present invention.

【図2】本発明の第1の実施形態によるオフセット印刷
装置の構成を示す図である。
FIG. 2 is a diagram illustrating a configuration of an offset printing apparatus according to the first embodiment of the present invention.

【図3】有機化合物蒸気供給手段を設けた加熱部の一態
様の構成を示す図である。
FIG. 3 is a diagram illustrating a configuration of one embodiment of a heating unit provided with an organic compound vapor supply unit.

【図4】高温加熱記録部の一態様の構成を示す図であ
る。
FIG. 4 is a diagram illustrating a configuration of one embodiment of a high-temperature heating recording unit.

【図5】本発明の第2の実施形態によるオフセット印刷
装置の構成を示す図である。
FIG. 5 is a diagram illustrating a configuration of an offset printing apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第3の実施形態によるオフセット印刷
装置の構成を示す図である。
FIG. 6 is a diagram illustrating a configuration of an offset printing apparatus according to a third embodiment of the present invention.

【図7】図6の要部拡大図である。FIG. 7 is an enlarged view of a main part of FIG. 6;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 版胴 2 疎水性発現温度への加熱部 3 インキ・湿し水供給部 4 インキ洗浄部 5 高温加熱記録部 6 ブランケット 7 圧胴 8 12,15 本体 11Y,11M,11C,11B 印刷ユニット 14Y,14M,14C,14B 印刷ステーション 21 赤外線レーザー光源 22 赤外線レーザー光源駆動部 20 編集・レイアウトW/S 24 空気取り入れ口 25 切替えコック 26 蒸発室 27 有機化合物 29 有機化合物供給手段 30 電熱ヒーター 31 電熱ヒーター 32 温度センサー 33 温度センサー 34 温度制御部 Reference Signs List 1 plate cylinder 2 heating unit to hydrophobicity manifestation temperature 3 ink / fountain solution supply unit 4 ink washing unit 5 high temperature heating recording unit 6 blanket 7 impression cylinder 8 12,15 body 11Y, 11M, 11C, 11B printing unit 14Y, 14M, 14C, 14B Printing station 21 Infrared laser light source 22 Infrared laser light source drive unit 20 Editing / layout W / S 24 Air intake 25 Switching cock 26 Evaporation chamber 27 Organic compound 29 Organic compound supply means 30 Electric heater 31 Electric heater 32 Temperature Sensor 33 Temperature sensor 34 Temperature controller

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中村 隆 神奈川県足柄上郡開成町宮台798 富士写 真フイルム株式会社内 (72)発明者 神山 宏二 神奈川県足柄上郡開成町宮台798 富士写 真フイルム株式会社内 Fターム(参考) 2C034 AA12 2H084 AA13 AE05 BB02 BB16 CC05 2H096 AA06 BA13 BA20 EA04 EA23 EA27 2H114 AA04 AA14 AA22 AA24 BA06 DA04 DA08 DA73 EA03 EA05 GA03 GA09 GA33 GA38  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Takashi Nakamura 798 Miyadai, Kaisei-cho, Ashigaruga-gun, Kanagawa Prefecture Inside Fujisha Shin Film Co., Ltd. F term (reference) 2C034 AA12 2H084 AA13 AE05 BB02 BB16 CC05 2H096 AA06 BA13 BA20 EA04 EA23 EA27 2H114 AA04 AA14 AA22 AA24 BA06 DA04 DA08 DA73 EA03 EA05 GA03 GA09 GA33 GA38

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 印刷用原板を疎水性発現温度で加熱して
表面を疎水性化し、次いで該表面を高温親水性発現温度
で像様に加熱を行うことによって親水性領域と疎水性領
域の像様分布を形成させ、疎水性領域を印刷用インキに
接触させることによって該領域がインキを受け入れた印
刷面を形成させて印刷を行うことを特徴とするオフセッ
ト印刷方法。
An image of a hydrophilic region and a hydrophobic region is obtained by heating a printing plate at a temperature at which hydrophobicity is developed to make the surface hydrophobic, and then heating the surface imagewise at a temperature at which high-temperature hydrophilicity is developed. Offset printing method in which a uniform distribution is formed and a hydrophobic area is brought into contact with a printing ink to form a printing surface in which the area has received the ink, and printing is performed.
【請求項2】 疎水性発現温度が50〜250℃である
ことを特徴とする請求項1に記載のオフセット印刷方
法。
2. The offset printing method according to claim 1, wherein the hydrophobicity development temperature is 50 to 250 ° C.
【請求項3】 印刷に使用した印刷版面上に残存するイ
ンキを洗浄除去したのち、その印刷版を印刷用原板とし
て請求項1又は2に記載の操作を反復して印刷を行うこ
とを特徴とする請求項1又は2に記載の印刷方法。
3. The method according to claim 1, wherein after the ink remaining on the printing plate surface used for printing is removed by washing, the printing plate is used as a printing plate and the operation according to claim 1 or 2 is repeated to perform printing. The printing method according to claim 1, wherein the printing method is performed.
【請求項4】 印刷用原板を疎水性発現温度で加熱する
際に、有機化合物の存在下で加熱することを特徴とする
請求項1〜3のいずれか1項に記載のオフセット印刷方
法。
4. The offset printing method according to claim 1, wherein the printing original plate is heated in the presence of an organic compound when the printing plate is heated at a hydrophobic development temperature.
【請求項5】 疎水性発現温度で加熱する際に存在させ
る有機化合物が、温度400℃において少なくとも1m
mHg以上の蒸気圧を有し、かつ疎水性発現温度におい
て安定な有機化合物であることを特徴とする請求項4に
記載のオフセット印刷方法。
5. The method according to claim 1, wherein the organic compound present at the time of heating at the hydrophobic development temperature is at least 1 m at a temperature of 400 ° C.
The offset printing method according to claim 4, wherein the organic compound has a vapor pressure of mHg or more and is stable at a temperature at which hydrophobicity is exhibited.
【請求項6】 疎水性発現温度で加熱する際に存在させ
る有機化合物が、沸点が30〜400℃の範囲であるこ
とを特徴とする請求項4又は5に記載のオフセット印刷
方法。
6. The offset printing method according to claim 4, wherein the organic compound to be present when heated at the hydrophobic development temperature has a boiling point in the range of 30 to 400 ° C.
【請求項7】 疎水性発現温度で行う加熱及び高温親水
性発現温度で行う像様の加熱の少なくとも一方が、感熱
記録用ヘッド及び光熱変換型輻射線から選ばれる加熱手
段によって行われることを特徴とする請求項1〜6のい
ずれか1項に記載のオフセット印刷方法。
7. At least one of heating performed at a hydrophobic development temperature and imagewise heating performed at a high hydrophilic development temperature is performed by a heating means selected from a thermosensitive recording head and a photothermal conversion type radiation. The offset printing method according to any one of claims 1 to 6, wherein
【請求項8】 印刷用原板の表面が、周期律表の第3〜
6周期に属していて、かつ0及びVII A族(ハロゲン元
素)族以外の元素から選ばれる金属及び該金属の酸化物
からなる群の少なくとも一つによって構成されているこ
とを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載のオ
フセット印刷方法。
8. The surface of the printing original plate may be any of the third to the third tables of the periodic table.
6. A material which belongs to 6 periods and is constituted by at least one of the group consisting of a metal selected from elements other than Group 0 and Group VIIA (halogen element) and an oxide of the metal. The offset printing method according to any one of claims 1 to 7.
【請求項9】 印刷用原板の表面が、TiO2 、RTi
3 (Rはアルカリ土類金属原子)、AB2-x x
3-x x 10(Aは水素原子又はアルカリ金属原子、B
はアルカリ土類金属原子又は鉛原子、Cは希土類原子、
Dは周期律表の5A族元素に属する金属原子、Eは同じ
く4A族元素に属する金属原子、xは0〜2の任意の数
値を表す)、SnO2 ,Bi2 3 ,SiO2 ,GeO
2 ,Al 2 3 ,ZnO及びFeOx (x=1〜1.
5)で表される酸化鉄から選ばれる金属酸化物の少なく
とも一つによって構成されていることを特徴とする請求
項1〜8のいずれか1項に記載のオフセット印刷方法。
9. The surface of a printing original plate is made of TiO.Two, RTi
OThree(R is an alkaline earth metal atom), AB2-xCxD
3-xExOTen(A is a hydrogen atom or an alkali metal atom, B
Is an alkaline earth metal atom or a lead atom, C is a rare earth atom,
D is a metal atom belonging to Group 5A element of the periodic table, and E is the same
A metal atom belonging to Group 4A element, x is any number from 0 to 2
Value), SnOTwo, BiTwoOThree, SiOTwo, GeO
Two, Al TwoOThree, ZnO and FeOx(X = 1 to 1.
5) Fewer metal oxides selected from iron oxides
Claims characterized by being constituted by both
Item 9. The offset printing method according to any one of Items 1 to 8.
【請求項10】 印刷用原板の表面が、アルミニウム、
鉄、銅、ゲルマニウム、ニッケル、亜鉛、錫及び珪素か
ら選ばれる金属又はその合金の少なくとも一つによって
構成されていることを特徴とする請求項1〜9のいずれ
か1項に記載のオフセット印刷方法。
10. The printing plate has a surface made of aluminum,
The offset printing method according to any one of claims 1 to 9, wherein the offset printing method is configured of at least one of a metal selected from iron, copper, germanium, nickel, zinc, tin, and silicon or an alloy thereof. .
【請求項11】 請求項1〜10のいずれか1項に記載
の方法に使用するオフセット印刷装置であって、 印刷用原板を装着した版胴と、 該原板を疎水性発現温度に加熱してその表面を疎水性化
する加熱手段と、 該原板に高温親水性発現温度で像様に加熱を施して親水
性領域と疎水性領域の像様分布を形成させる描画手段
と、 該疎水性領域に印刷用インキを供給して該領域がインキ
を受け入れた印刷面を形成させるインキ供給手段と,該
印刷面を印刷される面と接触させて印刷を行う印刷手段
と、を有することを特徴とするオフセット印刷装置。
11. An offset printing apparatus used in the method according to any one of claims 1 to 10, wherein the printing cylinder is provided with a printing plate, and the plate is heated to a hydrophobic expression temperature. Heating means for rendering the surface hydrophobic; drawing means for applying imagewise heating to the original plate at a high temperature at which hydrophilicity is exhibited to form an imagewise distribution of hydrophilic regions and hydrophobic regions; An ink supply unit for supplying a printing ink to form a printing surface in which the region has received the ink, and a printing unit for performing printing by bringing the printing surface into contact with the surface to be printed. Offset printing device.
【請求項12】 印刷終了後、印刷版に残存するインキ
を除去する手段を有することを特徴とする請求項11に
記載のオフセット印刷装置。
12. The offset printing apparatus according to claim 11, further comprising means for removing ink remaining on the printing plate after printing is completed.
【請求項13】 少なくとも疎水性発現温度で加熱する
加熱手段、高温親水性発現温度で像様に加熱を施す描画
手段、インキ供給手段およびインキ除去手段が、前記版
胴の周囲に配設されてなることを特徴とする請求項11
又は12に記載のオフセット印刷装置。
13. A heating means for heating at least at a hydrophobic development temperature, a drawing means for imagewise heating at a high hydrophilicity developing temperature, an ink supply means and an ink removing means are provided around the plate cylinder. 12. The method of claim 11, wherein
Or the offset printing apparatus according to 12.
【請求項14】 印刷用原板が版胴の一部を構成してお
り、少なくとも疎水性発現温度で加熱する加熱手段、高
温親水性発現温度で像様に加熱を施す描画手段、インキ
供給手段およびインキ除去手段が、前記版胴の周囲に配
設されてなることを特徴とする請求項11〜13のいず
れか1項に記載のオフセット印刷装置。
14. A printing original plate constitutes a part of a plate cylinder, a heating unit for heating at least at a hydrophobic development temperature, a drawing unit for imagewise heating at a high hydrophilic expression temperature, an ink supply unit, and The offset printing apparatus according to any one of claims 11 to 13, wherein an ink removing unit is provided around the plate cylinder.
【請求項15】 印刷用原板を疎水性発現温度で加熱し
て表面を疎水性とする加熱手段が、該原板の表面に有機
化合物の蒸気が接するように有機化合物蒸気供給手段を
配していることを特徴とする請求項11〜14のいずれ
か1項に記載のオフセット印刷装置。
15. A heating means for heating a printing original plate at a temperature at which hydrophobicity is developed to make the surface hydrophobic, and an organic compound vapor supply means for disposing an organic compound vapor on the surface of the original plate. The offset printing apparatus according to any one of claims 11 to 14, wherein:
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