JP2000203143A - Offset printing method and printer - Google Patents

Offset printing method and printer

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JP2000203143A
JP2000203143A JP11009478A JP947899A JP2000203143A JP 2000203143 A JP2000203143 A JP 2000203143A JP 11009478 A JP11009478 A JP 11009478A JP 947899 A JP947899 A JP 947899A JP 2000203143 A JP2000203143 A JP 2000203143A
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printing
temperature
plate
ink
heating
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Japanese (ja)
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Nobufumi Mori
信文 森
Takao Nakayama
隆雄 中山
Takashi Nakamura
隆 中村
Koji Kamiyama
宏二 神山
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Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To incorporate a printing image quality of a practical level having high identifiability between an image part and a non-image part of a printed surface and to repeatedly use a master for printing by simply engraving without necessity of an alkaline developer. SOLUTION: The offset printing method comprises the steps of heating a master for printing constituted of one substance having a specific heat responsive characteristics such as a titanium oxide, a zinc oxide or the like on a surface to a hydrophilic developing temperature (200 deg.C or above) to make the surface hydrophilic, then drawing an image in a heat mode at a hydrophobic developing temperature (50 to 250 deg.C) to form a hydrophobic image area, and receiving a printing ink on the area. The printer for the method is provided. Further, a method for reusing the master comprises the steps of cleaning and removing the ink retaining on a printed surface of the printing plate, and then repeating the above-described operation by using the master.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、一般軽印刷分野、
とくにオフセット印刷、とりわけ簡易に印刷版を製作で
きる新規なオフセット印刷方法及び印刷原板に関するも
のである。その中でもとくに印刷用原板の反復再生使用
を可能にするオフセット印刷方法、その印刷用原板及び
それらによる印刷装置に関するものである。
The present invention relates to the field of general light printing,
In particular, the present invention relates to offset printing, and more particularly to a novel offset printing method and a printing original plate capable of easily producing a printing plate. In particular, the present invention relates to an offset printing method which enables repeated use of a printing plate, a printing plate, and a printing apparatus using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】オフセット印刷法は、数多くの印刷方法
の中でも印刷版の製作工程が簡単であるために、とくに
一般的に用いられてきており、現在の主要な印刷手段と
なっている。この印刷技術は、油と水の非混和性に基づ
いており、画像領域には油性材料つまりインキが、非画
像領域には湿し水が選択的に保持される。したがって印
刷される面と直接あるいはブランケットと称する中間体
を介して間接的に接触させると画像部のインキが転写さ
れて印刷が行われる。
2. Description of the Related Art The offset printing method has been used particularly commonly because of a simple printing plate manufacturing process among many printing methods, and is the main printing method at present. This printing technique is based on the immiscibility of oil and water, with the image areas selectively retaining oily material or ink and the non-image areas selectively retaining fountain solution. Therefore, when the surface to be printed is brought into direct contact with the surface to be printed or indirectly through an intermediate called a blanket, the ink in the image area is transferred and printing is performed.

【0003】オフセット印刷の主な方法は、アルミニウ
ム基板を支持体としてその上にジアゾ感光層を塗設した
PS板である。PS板においては、支持体であるアルミ
ニウム基板の表面に砂目立て、陽極酸化、その他の諸処
理を施して画像領域のインキ受容能と非画像部のインキ
反発性を強め、耐刷力を向上させ、印刷面の精彩化を図
るなどを行い、その表面に印刷用画像を形成させる。し
たがってオフセット印刷は、簡易性に加えて耐刷力や印
刷面の高精細性などの特性も備わってきている。
The main method of offset printing is a PS plate having an aluminum substrate as a support and a diazo photosensitive layer applied thereon. In the PS plate, the surface of the aluminum substrate, which is the support, is subjected to graining, anodic oxidation, and other treatments to enhance the ink receptivity of the image area and the ink repellency of the non-image area, thereby improving the printing durability. Then, the printing surface is refined, and an image for printing is formed on the surface. Therefore, offset printing has been provided with characteristics such as printing durability and high definition of a printing surface in addition to simplicity.

【0004】高精細化によってオフセット印刷法の利用
が拡がって一般印刷分野に普及する一方において、オフ
セット印刷法の一層の簡易化が要望され、数多くの簡易
印刷方法が提案されている。
[0004] While the use of the offset printing method has been widespread and spread in the general printing field due to high definition, further simplification of the offset printing method has been demanded, and many simple printing methods have been proposed.

【0005】その代表例がAgfa-Gevaert社から市販され
たCopyrapid オフセット印刷版をはじめ、米国特許35
11656号、特開平7−56351号などでも開示さ
れている銀塩拡散転写法による印刷版作製に基づく印刷
方法であって、この方法は、1工程で転写画像を作るこ
とができて、かつその画像が親油性であるために、その
まま印刷版とすることができるので、簡易な印刷方法と
して実用されている。しかしながら、簡易とはいいなが
らこの方法もアルカリ現像液による拡散転写現像工程を
必要としている。現像液による現像工程を必要としな
い、しかも簡易な印刷方法が要望されている。
[0005] Representative examples thereof include a Copyrapid offset printing plate commercially available from Agfa-Gevaert, and US Pat.
No. 11656, a printing method based on the preparation of a printing plate by a silver salt diffusion transfer method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-56351 and the like. Since the image is lipophilic and can be directly used as a printing plate, it is practically used as a simple printing method. However, although simple, this method also requires a diffusion transfer development step using an alkaline developer. There is a demand for a simple printing method that does not require a developing step with a developer.

【0006】画像露光を行ったのちのアルカリ現像液に
よる現像工程を省略した簡易印刷版の製作方法の開発
は、上記の背景から行われてきた。現像工程を省略でき
ることから無処理刷版とも呼ばれるこの簡易印刷版の技
術分野では、これまでに主として像様露光による画像
記録面上の照射部の熱破壊による像形成、像様露光に
よる照射部の親油性化による画像形成、同じく照射部
の親油性化であるが、光モード硬化によるもの、ジア
ゾ化合物の光分解による表面性質の変化、画像部のヒ
ートモード溶融熱転写などの諸原理に基づく手段が提案
されている。
[0006] The development of a method for manufacturing a simple printing plate in which the developing step using an alkali developing solution after image exposure has been performed has been developed from the above background. In the technical field of this simple printing plate, which is also called an unprocessed printing plate because the development step can be omitted, the image formation by thermal destruction of the irradiated portion on the image recording surface mainly by imagewise exposure, Image formation by lipophilicity and lipophilicity of the irradiated part are also based on various principles such as photo-mode curing, changes in surface properties due to photolysis of diazo compounds, and heat mode fusion thermal transfer of image areas. Proposed.

【0007】上記の簡易オフセット印刷方法として開示
されている技術には、米国特許第3,506,779
号、同第3,549,733号、同第3,574,65
7号、同第3,739,033号、同第3,832,9
48号、同第3,945,318号、同第3,962,
513号、同第3,964,389号、同第4,03
4,183号、同第4,081,572号、同第4,6
93,958号、同第731,317号、同第5,23
8,778号、同第5,353,705号、同第5,3
85,092号、同第5,395,729号等の米国特
許及び欧州特許第1068号などがある。
The technique disclosed as the above simple offset printing method includes US Pat. No. 3,506,779.
No. 3,549,733 and No. 3,574,65
No. 7, No. 3,739,033, No. 3,832, 9
No. 48, No. 3,945,318, No. 3,962,
Nos. 513, 3,964,389 and 4,03
No. 4,183, No. 4,081,572, No. 4,6
Nos. 93,958, 731,317 and 5,23
No. 8,778, No. 5,353,705, No. 5,3
U.S. Patents Nos. 85,092 and 5,395,729 and European Patent 1068.

【0008】これらは、製版に際して現像液を必要とし
ないように考案されているが、親油性領域と親水性領域
との差異が不十分であること、したがって印刷画像の画
質が劣ること、解像力が劣り、鮮鋭度の優れた印刷画面
が得にくいこと、画像面の機械的強度が不十分で傷がつ
きやすいこと、そのために保護膜を設けるなどによって
却って簡易性が損なわれること、長時間の印刷に耐える
耐久性が不十分なことなどのいずれか一つ以上の欠点を
伴っていて、単にアルカリ現像工程を無くすだけでは実
用性は伴わないことを示している。印刷上必要とされる
諸特性を具備し、かつ簡易に印刷版を製作できる印刷版
作成方法への強い要望は、上記の数々の改良にも係わら
ず、いまだに十分に満たされていない。
[0008] These are designed so as not to require a developing solution at the time of plate making. However, the difference between the lipophilic region and the hydrophilic region is insufficient, so that the image quality of the printed image is inferior and the resolution is poor. Inferior, difficult to obtain a printed screen with excellent sharpness, insufficient mechanical strength of the image surface, and easy to be scratched. This is accompanied by at least one of the drawbacks, such as insufficient durability to withstand, and shows that simply eliminating the alkali development step does not involve practicality. In spite of the above-mentioned many improvements, a strong demand for a printing plate preparation method that has various characteristics required for printing and can easily produce a printing plate has not been sufficiently satisfied.

【0009】上記した無処理型印刷版作成方法の一つに
ジルコニアセラミックが光照射によって親水性化するこ
とを利用した印刷版作製方法が特開平9−169098
号で開示されている。しかし、ジルコニアの光感度は不
十分であり、かつ疎水性から親水性への光変換効果が不
十分のため画像部と非画像部の識別性が不足している。
As one of the above-mentioned methods for preparing a non-processable printing plate, there is disclosed a printing plate manufacturing method utilizing the fact that zirconia ceramics become hydrophilic by light irradiation.
No. However, the light sensitivity of zirconia is insufficient, and the effect of converting light from hydrophobic to hydrophilic is insufficient, so that the discriminability between the image area and the non-image area is insufficient.

【0010】上記した現像液を必要としない簡易な印刷
方法とともに、使用済みの印刷用原板を簡単に再生して
再使用できる手段があれば、コストの低減と廃棄物の軽
減の2面から有利である。印刷用原板の再生使用には、
その再生操作の簡易性が実用価値を左右するが、再生操
作の簡易化は難度の高い課題であり、従来殆ど検討され
きておらず、わずかに上記の特開平9−169098号
でジルコニアセラミックという特殊な原板用材料につい
て開示されているに過ぎない。
If there is a simple printing method that does not require the above-mentioned developer and a means for easily reusing and reusing a used printing original plate, it is advantageous from the two aspects of cost reduction and waste reduction. It is. For recycling of original printing plates,
The simplicity of the reproduction operation affects the practical value, but the simplification of the reproduction operation is a difficult task, and has been hardly studied in the past, and is slightly referred to as zirconia ceramic in JP-A-9-169098. It only discloses a special raw material.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
している課題は、上記事情に鑑みてアルカリ性現像液を
必要とせず、簡易に製版できて、かつ印刷面の画像部と
非画像部の識別性が高く、実用レベルの印刷画質を有
し、さらに印刷用原板を反復して使用することも可能な
オフセット印刷方法を提供することである。本発明の第
2の目的は、上記の印刷方法によって簡易な操作によっ
て実用レベルの印刷品質の印刷を行い、かつ印刷原板を
繰り返して使用することのできる印刷装置を提供するこ
とである。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above circumstances, it is an object of the present invention to eliminate the need for an alkaline developer, to make a plate easily, and to discriminate an image area and a non-image area on a printing surface. It is an object of the present invention to provide an offset printing method which has high print quality, has a practical level of print quality, and is capable of repeatedly using a printing plate. A second object of the present invention is to provide a printing apparatus capable of performing printing at a practical level of print quality by a simple operation using the above-described printing method and repeatedly using a printing original plate.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明者たちは、上記の
目的を達成するために、鋭意検討の結果、ある種の金属
酸化物及び金属の表面は、熱の作用によって表面の疎水
性〜親水性の程度が変化し、かつその変化は加熱条件に
よって疎水性化、親水性化のいずれの方向にも変わりう
る性質を有することを認め、この性質を版面上への印刷
用画像の形成と印刷終了後の版面の画像の消去に利用す
ることによって上記の課題を解決できる可能性を見いだ
し、これに基づいて本発明を完成するに至った。すなわ
ち、本発明は、下記の通りである。
Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies in order to achieve the above object, and as a result, it has been found that the surface of certain metal oxides and metals has a hydrophobic property due to the action of heat. The degree of hydrophilicity is changed, and it is recognized that the change has a property that can be changed in any direction of hydrophobicity and hydrophilicity depending on heating conditions, and this property is considered as the formation of a printing image on a plate surface and It has been found that the above-mentioned problem can be solved by using the image on the printing plate after erasing the printing, and the present invention has been completed based on this possibility. That is, the present invention is as follows.

【0013】1. 印刷用原板を高温親水性発現温度で
加熱することによってその表面を親水性化し、次いで該
原板に疎水性発現温度でヒートモードの描画を施すこと
によって疎水性の画像領域を形成させ、該画像領域を印
刷用インキに接触させることによって画像領域がインキ
を受け入れた印刷面を形成させて印刷を行うことを特徴
とするオフセット印刷方法。
1. The surface of the printing plate is made hydrophilic by heating the plate at a high hydrophilicity developing temperature, and then a hydrophobic image area is formed by applying heat mode drawing to the original plate at a hydrophobicity developing temperature. A printing surface in which an image area accepts the ink by contacting the ink with a printing ink to perform printing.

【0014】2.高温親水性発現温度が200℃以上で
あり、疎水性発現温度が50〜250℃でかつ前記高温
親水性発現温度よりも低い温度であることを特徴とする
請求項1に記載のオフセット印刷方法。
2. 2. The offset printing method according to claim 1, wherein the high-temperature hydrophilicity developing temperature is 200 ° C. or higher, and the hydrophobicity developing temperature is 50 to 250 ° C. and lower than the high-temperature hydrophilicity developing temperature.

【0015】3.印刷に使用した印刷版面上に残存する
インキを洗浄除去したのち、その印刷用原板を用いて上
記1又は2に記載の操作を反復して印刷を行うことを特
徴とする上記1又は2に記載の印刷方法。
[0015] 3. The method according to the above item 1 or 2, wherein after the ink remaining on the printing plate surface used for printing is removed by washing, the operation described in the above item 1 or 2 is repeated using the printing plate. Printing method.

【0016】4.印刷用原板の表面が、周期律表の第3
〜6周期に属していて、かつ0及びVII A(ハロゲン元
素)族以外の元素から選択される金属及びその金属の酸
化物の少なくとも一つによって構成されていることを特
徴とする上記1〜3のいずれか1項に記載のオフセット
印刷方法。
4. The surface of the printing plate is the third in the periodic table
Wherein the metal oxide and the metal oxide are selected from elements other than group 0 and VIIA (halogen element), and are composed of at least one of oxides of the metal. The offset printing method according to any one of the above items.

【0017】5.印刷用原板の表面が、TiO2 、RT
iO3 (Rはアルカリ土類金属原子)、AB2-x x
3-x x 10(Aは水素原子又はアルカリ金属原子、B
はアルカリ土類金属原子又は鉛原子、Cは希土類原子、
Dは周期律表の5A族元素に属する金属原子、Eは同じ
く4A族元素に属する金属原子、xは0〜2の任意の数
値を表す)、SnO2 ,Bi2 3 ,SiO2 ,GeO
2 ,Al2 3 ,ZnO及びFe2 3 から選ばれる金
属酸化物の少なくとも一つによって構成されていること
を特徴とする上記1〜4のいずれか1項に記載のオフセ
ット印刷方法。
5. The surface of the printing plate is TiO 2 , RT
iO 3 (R is an alkaline earth metal atom), AB 2-x C x D
3-x E x O 10 (A is a hydrogen atom or an alkali metal atom, B
Is an alkaline earth metal atom or a lead atom, C is a rare earth atom,
D is a metal atom belonging to a group 5A element of the periodic table, E is a metal atom also belonging to a group 4A element, and x represents any numerical value from 0 to 2), SnO 2 , Bi 2 O 3 , SiO 2 , GeO
2, Al 2 O 3, an offset printing method according to any one of the above 1 to 4, characterized in that it is constituted by at least one metal oxide selected from ZnO and Fe 2 O 3.

【0018】6.印刷用原板の表面が、アルミニウム、
鉄、銅、珪素、ニッケル、ゲルマニウム、亜鉛及び錫か
ら選ばれる金属又は金属合金の少なくとも一つによって
構成されていることを特徴とする上記1〜5のいずれか
1項に記載のオフセット印刷方法。
6. The surface of the printing plate is aluminum,
The offset printing method according to any one of the above items 1 to 5, wherein the offset printing method is constituted by at least one of a metal or a metal alloy selected from iron, copper, silicon, nickel, germanium, zinc and tin.

【0019】7.前記ヒートモードの描画が、感熱転写
記録用ヘッド及び光・熱変換型輻射線から選ばれる描画
手段の一つによって行われることを特徴とする上記1〜
6のいずれか1項に記載のオフセット印刷方法。
[7] Wherein the drawing in the heat mode is performed by one of drawing means selected from a thermal transfer recording head and light-to-heat conversion type radiation.
7. The offset printing method according to any one of 6.

【0020】8.印刷用原版の表面を親水化する加熱温
度が、300〜700℃であることを特徴とする上記1
〜7のいずれか1項に記載のオフセット印刷方法。 9.親水性化した印刷用原板に施すヒートモードの描画
が、有機化合物の存在下で行うことを特徴とする上記1
〜8のいずれか1項に記載のオフセット印刷方法。
[8] (1) The heating temperature for hydrophilizing the surface of the printing original plate is 300 to 700 ° C.
8. The offset printing method according to any one of items 1 to 7, 9. The heat-mode drawing performed on the hydrophilic printing plate is performed in the presence of an organic compound.
The offset printing method according to any one of Items 1 to 8, above.

【0021】10.ヒートモードの描画において存在さ
せる有機化合物が、温度400℃において少なくとも1
mmHg以上の蒸気圧を有し、かつ高温親水性発現温度
において安定な有機化合物であることを特徴とする請求
項9に記載のオフセット印刷方法。
10. When the organic compound to be present in the drawing in the heat mode is at least one at 400 ° C.
10. The offset printing method according to claim 9, wherein the organic compound has a vapor pressure of not less than mmHg and is stable at a high temperature at which hydrophilicity is exhibited.

【0022】11.ヒートモードの描画において存在さ
せる有機化合物が、沸点が30〜400℃の範囲にあっ
て、かつ高温親水性発現温度において安定な有機化合物
であることを特徴とする請求項9又は10に記載のオフ
セット印刷方法。
11. The offset according to claim 9 or 10, wherein the organic compound to be present in the drawing in the heat mode is an organic compound having a boiling point in the range of 30 to 400 ° C and being stable at a high hydrophilicity developing temperature. Printing method.

【0023】12.上記1〜11項のいずれか1項に記
載の方法に使用するオフセット印刷装置であって、印刷
用原板を装着する原板装着部と、該原板を高温親水性発
現温度に加熱してその表面を親水性化する加熱手段と、
該原板に疎水性発現温度でヒートモードの描画を施して
疎水性の画像領域を形成させる描画手段と、該画像領域
に印刷用インキを供給して画像領域がインキを受け入れ
た印刷面を形成させるインキ供給手段と、該印刷面を印
刷される面と接触させて印刷を行う印刷手段と、を有す
ることを特徴とするオフセット印刷装置。
12. An offset printing apparatus used in the method according to any one of the above items 1 to 11, wherein an original plate mounting portion for mounting an original plate for printing, and a surface of the original plate heated to a high-temperature hydrophilic expression temperature by heating the original plate. Heating means for making hydrophilic,
A drawing unit for forming a hydrophobic image area by applying heat mode drawing to the original plate at a hydrophobic development temperature, and supplying a printing ink to the image area to form a printing surface in which the image area has received the ink; An offset printing apparatus comprising: an ink supply unit; and a printing unit that performs printing by bringing the printing surface into contact with a surface to be printed.

【0024】13.印刷終了後、印刷版に残存するイン
キを除去する手段を有することを特徴とする上記12に
記載のオフセット印刷装置。
13. 13. The offset printing apparatus as described in 12 above, further comprising means for removing ink remaining on the printing plate after printing is completed.

【0025】14.少なくとも露光手段、描画手段、イ
ンキ供給手段およびインキ除去手段が、版胴の周囲に配
設されてなることを特徴とする上記12又は12に記載
のオフセット印刷装置。
14. 13. The offset printing apparatus according to the above item 12 or 12, wherein at least the exposing means, the drawing means, the ink supply means and the ink removing means are arranged around the plate cylinder.

【0026】15.印刷用原板が版胴の一部を構成して
おり、少なくとも露光手段、描画手段、インキ供給手段
およびインキ除去手段が、版胴の周囲に配設されてなる
ことを特徴とする上記12〜14のいずれか1項に記載
のオフセット印刷装置。
15. The printing plate comprises a part of the plate cylinder, and at least the exposing means, the drawing means, the ink supply means and the ink removing means are arranged around the plate cylinder. The offset printing apparatus according to any one of claims 1 to 4.

【0027】本発明は、特定の物質(主として上記した
金属酸化物及び金属)の表面物性の特異な熱変化挙動の
発見に基づいてなされたものである。すなわち、この特
定の物質の清浄な表面は、本来親水性であるが、適度
の温度(以後、「疎水性発現温度」という)で加熱を行
うと疎水性に変化すること、さらに高温度(以後、
「高温親水性発現温度」という)に加熱すると再び親水
性となること、及びこれらの表面の性質の変化には履
歴効果があることの発見に基づいている。
The present invention has been made based on the discovery of a unique thermal change behavior of the surface properties of a specific substance (mainly, the above-mentioned metal oxides and metals). That is, the clean surface of this specific substance is inherently hydrophilic, but changes to hydrophobic when heated at an appropriate temperature (hereinafter referred to as “hydrophobic expression temperature”). ,
It is based on the discovery that it becomes hydrophilic again when heated to "hot hydrophilicity onset temperature" and that changes in these surface properties have a hysteretic effect.

【0028】この性質を利用すれば、第1段階としてま
ず親水性発現温度で高温加熱を行ってその物質の表面を
親水性とし、つぎに第2段階としてその表面を画像状に
疎水性発現温度で加熱して疎水性領域を画像状に形成
し、次いで第3段階として疎水性領域に印刷用インキ
を、親水性領域に湿し水をそれぞれ保持させてオフセッ
ト印刷を行うことが可能である。さらに、印刷の終了後
に使用済みの印刷版のインキを洗浄除去して、その版を
再び親水性発現温度に加熱すると印刷済みの画像が消去
されるので、印刷原板として上記の製版、印刷過程に再
び使用できる。なお、言うまでもないが、上記の第1段
階の親水性発現温度での加熱と第2段階の疎水性発現温
度での加熱の間では、自然冷却あるいは強制冷却によっ
てこの物質の表面を疎水性発現温度以下に下げておく必
要がある。本発明に適用される上記の物質は履歴効果が
あって、一旦高温親水性発現温度で親水化された表面は
冷却の過程で疎水性発現温度領域を経ても疎水性に変化
することなく冷却される。疎水性発現温度領域以下まで
冷却された親水性表面を再び疎水性発現温度に加熱する
と疎水性化する。しかも、ヒートモード描画で得られた
原板上の疎水性画像領域は、履歴効果によって室温下に
おいても安定に維持される。以下の記述において、熱に
対して、及びの特性を有する上記物質を「熱応答
型物質」と呼ぶ。上記の熱応答型物質は、金属及び金属
酸化物の中に多く認められており、これらの金属及び金
属酸化物をそれぞれ「熱応答型金属」及び「熱応答型金
属酸化物」と呼ぶこととする。熱応答型物質と、その特
異な熱応答挙動については、後に詳細に説明する。
If this property is utilized, the surface of the substance is made hydrophilic by heating at a high temperature at a hydrophilicity development temperature as a first step, and then the surface is imagewise converted to a hydrophobicity development temperature at a second step. To form an image of the hydrophobic region by heating in the above manner, and then, as a third step, offset printing can be performed by holding the printing ink in the hydrophobic region and the dampening water in the hydrophilic region. Further, after the printing is completed, the used printing plate is washed and removed of ink, and when the plate is heated again to the hydrophilic expression temperature, the printed image is erased. Can be used again. Needless to say, between the above-mentioned heating at the first stage of the hydrophilic expression temperature and the second stage of the heating at the hydrophobic expression temperature, the surface of this substance is subjected to the hydrophobic expression temperature by natural cooling or forced cooling. It is necessary to lower it below. The above-mentioned substance applied to the present invention has a hysteresis effect, and the surface once hydrophilized at a high hydrophilicity developing temperature is cooled without changing to hydrophobicity even after passing through a hydrophobicity developing temperature region in a cooling process. You. When the hydrophilic surface cooled to below the hydrophobic development temperature region is heated again to the hydrophobic development temperature, it becomes hydrophobic. Moreover, the hydrophobic image area on the original obtained by the heat mode drawing is stably maintained even at room temperature by the hysteresis effect. In the following description, the above-mentioned substance having the property of and against heat is referred to as “thermo-responsive substance”. The above-mentioned thermally responsive materials are often found in metals and metal oxides, and these metals and metal oxides are referred to as “thermally responsive metals” and “thermally responsive metal oxides,” respectively. I do. The heat-responsive substance and its unique heat-responsive behavior will be described later in detail.

【0029】[0029]

【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。はじめに、本発明で用いる「熱応答
型物質」について説明する。熱応答型物質は、上記、
及びの特性を具備した物質と定義したが、この特性
は、多くの金属及び金属酸化物に見られ、その中にはセ
ラミック、半導体などの機能性材料として用いられてい
るものも含まれている。熱応答型セラミックは、複合金
属酸化物からなっており、熱応答型半導体の多くは、基
底順位と伝導体が近い珪素やゲルマニウムなどの真正半
導体と不純物準位に依存する酸化バナジウムや酸化銅な
どの仮性半導体との両方に見られる。これらセラミック
及び半導体は、本発明に利用する物質の熱応答特性の上
では、他の金属酸化物及び金属と同様であるので、それ
らを「熱応答型金属酸化物」及び「熱応答型金属」に含
めて以下にその順序に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail. First, the “thermoresponsive substance” used in the present invention will be described. The heat-responsive substance is as described above,
The substance is defined as a substance having the properties of and, but this property is found in many metals and metal oxides, including those used as functional materials such as ceramics and semiconductors. . Thermally responsive ceramics are composed of composite metal oxides, and most of thermally responsive semiconductors are genuine semiconductors, such as silicon and germanium, whose bases and conductors are close to each other, and vanadium oxide and copper oxide, which depend on impurity levels. And found in both pseudo semiconductors. Since these ceramics and semiconductors are similar to other metal oxides and metals in terms of the thermal response characteristics of the substances used in the present invention, they are referred to as “thermoresponsive metal oxides” and “thermoresponsive metals”. And will be described below in that order.

【0030】前記した適度の加熱によって疎水性とな
り、さらに加熱すると親水性となる特性を有しており、
かつ履歴現象を示す熱応答型金属酸化物として用いるこ
とのできる金属及び金属酸化物は、いろいろの形態のも
のがあり、単一の金属や金属酸化物、合金や複合酸化物
のいずれの場合もあり、また後者の場合は、固溶体、混
晶、多結晶体、非晶質固溶体、金属酸化物微結晶の混合
物のいずれからもこの特性を有するものが認められる。
このような特性をもつ金属酸化物は、経験的に周期律表
の0と VIIA(ハロゲン元素)族を除く第3〜6周期に
属する元素の金属やその金属の酸化物に見いだされる。
これらの金属及び金属酸化物は、印刷版として使用する
際に湿し水に対して過度に溶解してはならないので、水
に対する溶解度は、水100ミリリットルについて10
mg以下、好ましくは5mg以下、より好ましくは1m
g以下である。
It has the property of becoming hydrophobic by the above-mentioned moderate heating and becoming hydrophilic by further heating,
Metals and metal oxides that can be used as heat-responsive metal oxides that exhibit a hysteresis phenomenon are in various forms, including single metals and metal oxides, alloys and composite oxides. In the latter case, a solid solution, a mixed crystal, a polycrystal, an amorphous solid solution, and a mixture of metal oxide microcrystals have the above characteristics.
A metal oxide having such characteristics is empirically found in a metal of an element belonging to the third to sixth periods excluding groups 0 and VIIA (halogen element) of the periodic table and an oxide of the metal.
Since these metals and metal oxides must not be excessively dissolved in fountain solution when used as a printing plate, the solubility in water is 10 to 100 ml of water.
mg or less, preferably 5 mg or less, more preferably 1 m
g or less.

【0031】「熱応答型金属酸化物」の中でも好ましい
化合物として、まず、酸化チタンと酸化亜鉛から説明す
る。いずれも熱応答性を具備した印刷版材料として本発
明に利用できるが、特に酸化チタンが感度(つまり表面
性の光変化特性)などの点で好ましい。酸化チタンは、
イルメナイトやチタンスラグの硫酸加熱焼成、あるいは
加熱塩素化後酸素酸化など既知の任意の方法で作られた
ものを使用できる。あるいは後述するように金属チタン
を用いて印刷版製作段階で真空蒸着によって酸化物皮膜
とする方法も用いることができる。
First, titanium oxide and zinc oxide will be described as preferred compounds among the “thermoresponsive metal oxides”. Any of them can be used in the present invention as a printing plate material having thermal responsiveness, but titanium oxide is particularly preferred in terms of sensitivity (that is, light change characteristics of surface properties). Titanium oxide is
It is possible to use ilmenite or titanium slag produced by any known method such as sulfuric acid heating and firing, or heat chlorination and oxygen oxidation. Alternatively, as described later, a method of forming an oxide film by vacuum evaporation in a printing plate manufacturing stage using titanium metal can also be used.

【0032】酸化チタン又は酸化亜鉛を含有する層を原
板の表面に設けるには、たとえば、 酸化チタン微結晶又は酸化亜鉛微結晶の分散物を印刷
版の原板上に塗設する方法、塗設したのち焼成してバ
インダーを減量或いは除去する方法、印刷原板上に蒸
着、スパッタリング、CVD、イオンプレーティングな
どの方法で酸化チタン(又は酸化亜鉛)膜を設ける方
法、例えばチタニウムブトキシドのようなチタン有機
化合物を原板上に塗布したのち、焼成酸化を施して酸化
チタン層とする方法など、既知の任意の方法を用いるこ
とができる。本発明においては、真空蒸着又はスパッタ
リングによる酸化チタン層が特に好ましい。
In order to provide a layer containing titanium oxide or zinc oxide on the surface of the original plate, for example, a method of applying a dispersion of titanium oxide microcrystals or zinc oxide microcrystals on a printing plate original plate is applied. A method of reducing or removing the binder by baking afterwards, a method of providing a titanium oxide (or zinc oxide) film on the printing original plate by a method such as vapor deposition, sputtering, CVD, or ion plating, for example, a titanium organic compound such as titanium butoxide Can be applied to the original plate and then subjected to firing oxidation to form a titanium oxide layer, or any other known method. In the present invention, a titanium oxide layer formed by vacuum evaporation or sputtering is particularly preferred.

【0033】上記又はの酸化チタン微結晶を塗設す
る方法には、具体的には無定形酸化チタン微結晶分散物
を塗布したのち、焼成してアナターゼまたはルチル型の
結晶酸化チタン層とする方法、酸化チタンと酸化シリコ
ンの混合分散物を塗布して表面層を形成させる方法、酸
化チタンとオルガノシロキサンなどとの混合物を塗布し
てシロキサン結合を介して支持体と結合した酸化チタン
層を得る方法、酸化物層の中に酸化物と共存するポリマ
ーバインダーに分散して塗布したのち、焼成して有機成
分を除去する方法などがある。酸化物微粒子のバインダ
−には、酸化チタン微粒子に対して分散性を有し、かつ
比較的低温で焼成除去が可能なポリマーを用いることが
できる。好ましいバインダーの例としては、ポリエチレ
ンなどのポリアルキレン、ポリブタジエン、ポリアクリ
ル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル、ポリ酢酸ビ
ニル、ポリ蟻酸ビニル、ポリエチレンテレフタレート、
ポリエチレンナフタレート、ポリビニルアルコール、部
分鹸化ポリビニルアルコール、ポリスチレンなどの疎水
性バインダーが好ましく、それらの樹脂を混合して使用
してもよい。
The above or the method of applying the titanium oxide microcrystals is, specifically, a method of applying an amorphous titanium oxide microcrystal dispersion, followed by firing to form an anatase or rutile type titanium oxide layer. A method of applying a mixed dispersion of titanium oxide and silicon oxide to form a surface layer, and a method of applying a mixture of titanium oxide and organosiloxane to obtain a titanium oxide layer bonded to a support through a siloxane bond There is a method of dispersing and applying a polymer binder coexisting with an oxide in an oxide layer, followed by baking to remove an organic component. As the binder for the oxide fine particles, a polymer having dispersibility with respect to the titanium oxide fine particles and capable of being removed by firing at a relatively low temperature can be used. Examples of preferred binders include polyalkylene such as polyethylene, polybutadiene, polyacrylate, polymethacrylate, polyvinyl acetate, polyvinyl formate, polyethylene terephthalate,
Hydrophobic binders such as polyethylene naphthalate, polyvinyl alcohol, partially saponified polyvinyl alcohol, and polystyrene are preferred, and these resins may be used as a mixture.

【0034】上記の酸化チタンの真空蒸着を行うに
は、通常真空蒸着装置内の蒸着用加熱の熱源に金属チタ
ンを置き、真空度10-8〜10-5Torrで全ガス圧1
-5〜10-2Torr、酸素分圧比が5〜90%になる
ようにしながら、チタン金属を蒸発させると、蒸着面に
は酸化チタンの蒸着薄膜が形成される。また、スパッタ
リングによる場合は、例えばスパッタ装置内にチタン金
属ターゲットをセットしてAr/O2 比が60/40
(モル比)となるようにガス圧を5×10-3Torrに調整
したのち、RFパワー200Wを投入してスパッタリン
グを行って酸化チタン薄膜を基板上に形成させる。
In order to perform the above-described vacuum deposition of titanium oxide, usually, metal titanium is placed as a heat source for heating for vapor deposition in a vacuum vapor deposition apparatus, and the total gas pressure is 1 at a degree of vacuum of 10 −8 to 10 −5 Torr.
When the titanium metal is evaporated while keeping the oxygen partial pressure ratio at 0 -5 to 10 -2 Torr and the oxygen partial pressure ratio at 5 to 90%, a deposited thin film of titanium oxide is formed on the deposited surface. In the case of sputtering, for example, a titanium metal target is set in a sputtering apparatus and the Ar / O 2 ratio is 60/40.
(Molar ratio), the gas pressure was adjusted to 5 × 10 −3 Torr, and RF power of 200 W was applied to perform sputtering to form a titanium oxide thin film on the substrate.

【0035】一方、本発明に酸化亜鉛層を使用する場
合、その酸化亜鉛層は既知の任意の方法で作ることがで
きる。とくに金属亜鉛板の表面を電解酸化して酸化皮膜
を形成させる方法と、真空蒸着、スパッタリング、CV
D、イオンプレーティングなどによって酸化亜鉛皮膜を
形成させる方法が好ましい。酸化亜鉛の蒸着膜は、上記
の酸化チタンの蒸着と同様に金属亜鉛を酸素ガス存在下
で蒸着して酸化膜を形成させる方法や、酸素のない状態
で亜鉛金属膜を形成させたのち、空気中で温度を約70
0℃にあげて酸化させる方法を用いることができる。そ
のほか、蓚酸亜鉛の塗布層やセレン化亜鉛の薄層を酸化
性気流中で加熱しても得られる。
On the other hand, when a zinc oxide layer is used in the present invention, the zinc oxide layer can be formed by any known method. In particular, the method of electrolytically oxidizing the surface of a metal zinc plate to form an oxide film, vacuum deposition, sputtering, CV
D, a method of forming a zinc oxide film by ion plating or the like is preferable. A method of forming an oxide film by depositing metal zinc in the presence of oxygen gas in the same manner as the above-described deposition of titanium oxide, or a method of forming a zinc metal film in the absence of oxygen, In the temperature of about 70
A method of raising the temperature to 0 ° C and oxidizing can be used. In addition, it can be obtained by heating a coated layer of zinc oxalate or a thin layer of zinc selenide in an oxidizing gas stream.

【0036】蒸着膜の厚みは、酸化チタン層、酸化亜鉛
層いずれの場合も1〜100000オングストロ−ムが
よく、好ましくは10〜10000オングストロ−ムで
ある。さらに好ましくは3000オングストロ−ム以下
として光干渉の歪みを防ぐのがよい。また、光活性化作
用を十分に発現させるには厚みが50オングストローム
以上あることが好都合である。
The thickness of the deposited film is preferably from 1 to 100,000 angstroms, and more preferably from 10 to 10,000 angstroms, for both the titanium oxide layer and the zinc oxide layer. More preferably, the thickness is set to 3000 angstroms or less to prevent distortion of light interference. Further, it is convenient that the thickness is 50 Å or more in order to sufficiently exhibit the photoactivation effect.

【0037】酸化チタンはいずれの結晶形のものも使用
できるが、とくにアナターゼ型のものが感度が高く好ま
しい。アナターゼ型の結晶は、酸化チタンを焼成して得
る過程の焼成条件を選ぶことによって得られることはよ
く知られている。その場合に無定形の酸化チタンやルチ
ル型酸化チタンが共存してもよいが、アナターゼ型結晶
が40%以上、好ましくは60%以上含むものが上記の
理由から好ましい。酸化チタンあるいは酸化亜鉛を主成
分とする層における酸化チタンあるいは酸化亜鉛の体積
率は、それぞれ30〜100%であり、好ましくは50
%以上を酸化物が占めるのがよく、さらに好ましくは酸
化物の連続層つまり実質的に100%であるのがよい。
しかしながら、表面の親水性/親油性変化特性は、酸化
亜鉛を電子写真感光層に用いるときのような著しい純度
による影響はないので、100%に近い純度のもの(例
えば98%)をさらに高純度化する必要はない。それ
は、本発明に利用される物性は、導電性とは関係ない膜
表面の親水性/親油性の性質変化特性、すなわち界面物
性の変化特性であることからも理解できることである。
As the titanium oxide, any crystalline form can be used, but anatase type is particularly preferred because of its high sensitivity. It is well known that anatase-type crystals can be obtained by selecting firing conditions in the process of firing titanium oxide. In this case, amorphous titanium oxide or rutile-type titanium oxide may coexist, but those containing 40% or more, preferably 60% or more of anatase-type crystals are preferable for the above reason. The volume ratio of titanium oxide or zinc oxide in the layer mainly containing titanium oxide or zinc oxide is 30 to 100%, preferably 50 to 100%.
% Or more is preferably occupied by the oxide, more preferably a continuous layer of oxide, ie substantially 100%.
However, since the surface hydrophilicity / lipophilicity change characteristics are not affected by the remarkable purity as when zinc oxide is used in the electrophotographic photosensitive layer, a material having a purity close to 100% (for example, 98%) is further purified. There is no need to convert. That is, it can be understood from the fact that the physical properties used in the present invention are the properties of changing the hydrophilic / lipophilic properties of the membrane surface, which are not related to the conductivity, that is, the properties of changing the properties of the interface.

【0038】しかしながら、熱の作用によって表面の親
水性が変化する性質を増進させるためにある種の金属を
ドーピングすることは有効な場合があり、この目的には
イオン化傾向が小さい金属のドーピングが適しており、
Pt,Pd,Au,Ag,Cu,Ni,Fe,Co又は
Crをドーピングするのが好ましい。また、これらの好
ましい金属を複数ドーピングしてもよい。ドーピングを
行った場合も、その注入量は酸化亜鉛や酸化チタン中の
金属成分に対して5モル%以下である。
However, it is sometimes effective to dope a certain metal in order to enhance the property of changing the hydrophilicity of the surface by the action of heat. For this purpose, doping with a metal having a low ionization tendency is suitable. And
It is preferable to dope Pt, Pd, Au, Ag, Cu, Ni, Fe, Co or Cr. Further, a plurality of these preferable metals may be doped. Also in the case where doping is performed, the injection amount is 5 mol% or less based on the metal components in zinc oxide and titanium oxide.

【0039】一方、体積率が低いと層の表面の親水性/
親油性の熱応答挙動の敏感度が低下する。したがって、
層中の酸化物の体積率は、30%以上であることが望ま
しく、とくに実質的に100%であることが好ましい。
On the other hand, when the volume ratio is low, the hydrophilicity /
The sensitivity of the lipophilic thermal response behavior decreases. Therefore,
The volume ratio of the oxide in the layer is desirably 30% or more, particularly preferably substantially 100%.

【0040】RTiO3 の一般式で示したチタン酸金属
塩模本発明に好ましく適用できる化合物であり、つぎに
この化合物について説明する。一般式RTiO3 におい
て、Rはマグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、
バリウム、ベリリウムなどの周期律表のアルカリ土類元
素に属する金属原子であり、とくにストロンチウムとバ
リウムが好ましい。また、2種以上のアルカリ土類金属
原子をその合計が上記の式に化学量論的に整合する限り
共存することができる。
The metal titanate represented by the general formula of RTiO 3 is a compound preferably applicable to the present invention, and this compound will be described below. In the general formula RTiO 3 , R represents magnesium, calcium, strontium,
It is a metal atom belonging to the alkaline earth element of the periodic table such as barium and beryllium, and strontium and barium are particularly preferable. In addition, two or more alkaline earth metal atoms can coexist as long as the total thereof is stoichiometrically consistent with the above formula.

【0041】次に、一般式AB2-x x 3-x x 10
で表される化合物について説明する。この一般式におい
て、Aは水素原子及びナトリウム、カリウム、ルビジウ
ム、セシウム、リチウムなどのアルカリ金属原子から選
ばれる1価原子で、その合計が上記の式に化学量論的に
整合する限りそれらの2種以上を共存してもよい。B
は、上記のRと同義のアルカリ土類金属原子又は鉛原子
であり、同様に化学量論的に整合する限り2種以上の原
子が共存してもよい。Cは希土類原子であり、好ましく
は、スカンジウム及びイットリウム並びにランタン、セ
リウム、プラセオジウム、ネオジウム、ホルミウム、ユ
ウロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ツリウム、イ
ッテルビウム、ルテチウムなどのランタノイド系元素に
属する原子であり、また、その合計が上記の式に化学量
論的に整合する限りそれらの2種以上を共存してもよ
い。Dは周期律表の5A族元素から選ばれた一種以上
で、バナジウム、ニオブ、タンタルが挙げられる。ま
た、化学量論関係を満たす限り、2種以上の5A族の金
属原子が共存してもよい。Eは同じくチタン、ジルコニ
ウム、ハフニウムなどの4A族元素に属する金属原子で
あり、また、2種以上の4A族の金属原子が共存しても
よい。xは0〜2の任意の数値を表す。
Next, the general formula AB 2-x C x D 3-x E x O 10
The compound represented by is described. In the general formula, A is a monovalent atom selected from a hydrogen atom and an alkali metal atom such as sodium, potassium, rubidium, cesium, and lithium. More than one species may coexist. B
Is an alkaline earth metal atom or a lead atom as defined above for R, and two or more kinds of atoms may coexist as long as they are stoichiometrically matched. C is a rare earth atom, preferably scandium and yttrium, and atoms belonging to lanthanide elements such as lanthanum, cerium, praseodymium, neodymium, holmium, europium, gadolinium, terbium, thulium, ytterbium, and lutetium. May coexist as long as stoichiometrically matches the above formula. D is one or more elements selected from Group 5A elements of the periodic table, and includes vanadium, niobium, and tantalum. Further, as long as the stoichiometric relationship is satisfied, two or more kinds of 5A group metal atoms may coexist. E is a metal atom belonging to a Group 4A element such as titanium, zirconium, or hafnium, and two or more kinds of Group 4A metal atoms may coexist. x represents an arbitrary numerical value of 0 to 2.

【0042】RTiO3 や一般式AB2-x x 3-x
x 10で表される上記化合物を原板の表面に設ける場合
も、酸化チタン及び酸化亜鉛を設ける前記の方法を用い
ることが好ましい。すなわち、上記熱応答型金属酸化
物の微粒子の分散物を印刷版の原板上に塗設する方法、
塗設したのち焼成してバインダーを減量或いは除去す
る方法、印刷版の原板上に上記酸化物を各種の真空薄
膜法で膜形成する方法、例えば金属元素のアルコレー
トのような有機化合物を原板上に塗布したのち、加水分
解させ、さらに焼成酸化を施して適当な厚みの金属薄膜
とする方法、上記金属を含む塩酸塩、硝酸塩などの水
溶液を加熱スプレーする方法など、既知の任意の方法を
用いることができる。
RTiO 3 or the general formula AB 2-x C x D 3-x E
also providing the compounds represented by x O 10 on the surface of the original plate, it is preferable to use the method of providing a titanium oxide and zinc oxide. That is, a method of applying a dispersion of the heat-responsive metal oxide fine particles on a printing plate original,
A method of reducing or removing the binder by coating and baking, a method of forming a film of the above oxide on the original plate of the printing plate by various vacuum thin film methods, for example, an organic compound such as a metal element alcoholate is formed on the original plate. After being applied to, a known arbitrary method such as a method of subjecting to hydrolysis and further calcination and oxidation to form a metal thin film of an appropriate thickness, a method of heating and spraying an aqueous solution of a hydrochloride or a nitrate containing the above-mentioned metal, or the like is used. be able to.

【0043】例えば、上記、の塗設方法によってチ
タン酸バリウム微粒子を塗設するには、チタン酸バリウ
ムとシリコンの混合分散物を塗布して表面層を形成させ
る方法、チタン酸バリウムとオルガノポリシロキサンま
たはそのモノマ−との混合物を塗布する方法などがあ
る。また、酸化チタンの項で述べたように、酸化物層の
中に酸化物と共存できるポリマーバインダーに分散して
塗布した後、焼成して酸化物層とすることもできる。酸
化物微粒子のバインダ−として好ましいポリマーの例
は、酸化チタン層の項で述べたものと同じである。この
方法の場合にはチタン酸バリウム以外にチタン酸マグネ
シウム、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム
又はそれらの分子間化合物、混合物も同様に薄膜形成可
能である。
For example, in order to apply the barium titanate fine particles by the above-mentioned application method, a method of applying a mixed dispersion of barium titanate and silicon to form a surface layer, barium titanate and organopolysiloxane Alternatively, there is a method of applying a mixture with the monomer. Further, as described in the section of titanium oxide, the oxide layer can be formed by dispersing and applying a polymer binder which can coexist with the oxide in the oxide layer, followed by firing. Examples of the preferable polymer as the binder for the oxide fine particles are the same as those described in the section of the titanium oxide layer. In this method, in addition to barium titanate, magnesium titanate, calcium titanate, strontium titanate, or an intermolecular compound or mixture thereof can be similarly formed into a thin film.

【0044】同様にして上記、の塗設方法によって
CsLa2 NbTi2 10微粒子を塗設することも可能
である。CsLa2 NbTi2 10微粒子は、その化学
量論に対応するCs2 CO3 , La2 3 , NbO5 ,
TiO2 を乳鉢で微粉砕して、白金るつぼに入れ、13
0℃ で5時間焼成し、それを冷却してから乳鉢に入れ
て数ミクロン以下の微粒子に粉砕する。このCsLa2
NbTi2 10微粒子を前記のチタン酸バリウムと同様
にバインダーの中に分散し、塗布して薄膜を形成した。
この方法は、CsLa2 NbTi2 10型微粒子に限ら
ず、HCa1.5La0.5 Nb2.5 Ti0.5 10,HLa
2 NbTi2 10など前述のAB2-x x 3-x x
10、(0≦x≦2)に適用される。
Similarly, according to the above coating method,
CsLaTwoNbTiTwoOTenFine particles can be applied
It is. CsLaTwoNbTiTwoOTenThe fine particles, their chemical
Cs corresponding to stoichiometryTwoCOThree, LaTwoOThree, NbOFive,
TiOTwoPulverize in a mortar, put in a platinum crucible, 13
Bake at 0 ° C for 5 hours, cool it and put it in a mortar
To fine particles of several microns or less. This CsLaTwo
NbTiTwoOTenFine particles similar to the above barium titanate
Was dispersed in a binder and applied to form a thin film.
This method uses CsLaTwoNbTiTwoOTenLimited to fine particles
Without, HCa1.5La0.5Nb2.5Ti0.5OTen, HLa
TwoNbTiTwoOTenAB mentioned above2-xC xD3-xExO
Ten, (0 ≦ x ≦ 2).

【0045】上記の真空薄膜形成法を用いた熱応答型
金属酸化物層の形成方法としては、一般的にはスパッタ
リング法あるいは真空薄膜形成法が用いられる。スパッ
タリング法では、あらかじめ単一もしくは複合型の酸化
物ターゲットを準備する。例えば、チタン酸バリウムタ
ーゲットを用いて蒸着膜用の支持体の温度を450℃以
上に保ち、アルゴン/酸素混合雰囲気中でRFスパッタ
リングを行うことによりチタン酸バリウム結晶薄膜が得
られる。結晶性の制御には必要に応じてポストアニーリ
ングを300〜900℃で行えばよい。本方法は前述の
RTiO3 (Rはアルカリ土類金属原子)をはじめ他の
前記熱応答型金属酸化物にも、結晶制御に最適な基板温
度を調整すれば同様の考え方で薄膜形成が可能である。
例えば酸化錫薄膜を設ける場合には基板温度120℃、
アルゴン/酸素混合雰囲気中でRFスパッタリングを行
うことにより酸化錫結晶の本目的に沿う薄膜が得られ
る。
As a method for forming the thermally responsive metal oxide layer using the above-described vacuum thin film forming method, a sputtering method or a vacuum thin film forming method is generally used. In the sputtering method, a single or composite oxide target is prepared in advance. For example, a barium titanate crystal thin film can be obtained by performing RF sputtering in an argon / oxygen mixed atmosphere while maintaining the temperature of the support for the deposited film at 450 ° C. or higher using a barium titanate target. For controlling the crystallinity, post-annealing may be performed at 300 to 900 ° C. as necessary. This method can form a thin film on the above-mentioned RTiO 3 (R is an alkaline earth metal atom) and other heat-responsive metal oxides by adjusting the substrate temperature optimal for crystal control in the same way. is there.
For example, when providing a tin oxide thin film, the substrate temperature is 120 ° C.
By performing RF sputtering in an argon / oxygen mixed atmosphere, a thin film of a tin oxide crystal for the purpose is obtained.

【0046】上記の金属アルコレートを用いる方法
も、バインダーを使用しないで目的の薄膜形成が可能な
方法である。チタン酸バリウムの薄膜を形成するにはバ
リウムエトキシドとチタニウムブトキシドの混合アルコ
ール溶液を表面にSiO2 を有するシリコン基板上に塗
布し、その表面を加水分解したのち、200℃以上に加
熱してチタン酸バリウムの薄膜を形成することが可能で
ある。本方式の方法も前述した他のRTiO3 (Rはア
ルカリ土類金属原子)、AB2-x x 3-x x
10(A,B,C,D,Eはそれぞれ前記の定義の内容を
表す)、SnO2 ,SiO2 ,Bi2 3 、SeO2
GeO2 ,Al2 3 及びFe2 3 の薄膜形成に適用
することができる。
The above method using a metal alcoholate is also a method capable of forming a desired thin film without using a binder. To form a thin film of barium titanate, a mixed alcohol solution of barium ethoxide and titanium butoxide is applied on a silicon substrate having SiO 2 on its surface, and the surface is hydrolyzed. It is possible to form a thin film of barium acid. Other RTiO 3 which method was also described above in the scheme (R is an alkaline earth metal atom), AB 2-x C x D 3-x E x O
10 (A, B, C, D and E respectively represent the contents of the above definition), SnO 2 , SiO 2 , Bi 2 O 3 , SeO 2 ,
It can be applied to the formation of thin films of GeO 2 , Al 2 O 3 and Fe 2 O 3 .

【0047】上記によって熱応答性機能を発現する金
属酸化物薄膜を形成させる方法も、バインダーを含まな
い系の薄膜の形成が可能である。SnO2 の薄膜を形成
するにはSnCl4 の塩酸水溶液を200℃以上に加熱
した石英又は結晶性ガラス表面に吹きつけて薄膜を生成
することができる。本方式は、SnO2 薄膜のほか,前
述したRTiO3 (Rはアルカリ土類金属原子)、AB
2-x x 3-x x 10(A,B,C,D,Eはそれぞ
れ前記の定義の内容を表す)、SiO2 ,Bi 2 3
SeO2 ,GeO2 ,Al2 3 及びFe2 3 のいず
れの薄膜形成にも適用することができる。
Gold which exhibits a thermoresponsive function as described above
The method of forming a metal oxide thin film also does not include a binder.
It is possible to form a thin film of a system. SnOTwoForm a thin film of
To do it, SnClFourHeat the aqueous hydrochloric acid solution above 200 ° C
Sprays on quartz or crystalline glass surfaces to form thin films
can do. This method uses SnOTwoIn addition to thin film
RTiO mentionedThree(R is an alkaline earth metal atom), AB
2-xCxD3-xExO Ten(A, B, C, D, E are each
Represents the content of the above definition), SiOTwo, Bi TwoOThree,
SeOTwo, GeOTwo, AlTwoOThreeAnd FeTwoOThreeNozomi
It can also be applied to the formation of these thin films.

【0048】金属酸化物薄膜の厚みは、上記のいずれの
場合も1〜100000オングストロ−ムがよく、好ま
しくは10〜10000オングストロ−ムである。さら
に好ましくは3000オングストロ−ム以下として光干
渉の歪みを防ぐのがよい。また、光活性化作用を十分に
発現させるには厚みが50オングストローム以上あるこ
とが好都合である。
In any of the above cases, the thickness of the metal oxide thin film is preferably from 1 to 100,000 angstroms, and more preferably from 10 to 10,000 angstroms. More preferably, the thickness is set to 3000 angstroms or less to prevent distortion of light interference. Further, it is convenient that the thickness is 50 Å or more in order to sufficiently exhibit the photoactivation effect.

【0049】バインダーを使用した場合の上記熱応答型
金属酸化物の薄層において、金属酸化物の体積率は50
〜100%であり、好ましくは90%以上を酸化物が占
めるのがよく、さらに好ましくは酸化物の連続層つまり
実質的に100%であるのがよい。以上で「熱応答型金
属酸化物」及びそれを原板表面に設ける方法についての
説明を終わり、次に「熱応答型金属」について説明す
る。
In the thin layer of the above-mentioned thermoresponsive metal oxide when a binder is used, the volume ratio of the metal oxide is 50%.
It is preferable that the oxide occupy 90% or more, more preferably 90% or more, and more preferably a continuous layer of the oxide, that is, substantially 100%. This concludes the description of the “thermally responsive metal oxide” and the method of providing the same on the surface of the original plate. Next, the “thermally responsive metal oxide” will be described.

【0050】熱応答型金属として用いることのできる金
属は、前記した適度の加熱によて疎水性となり、さらに
加熱すると親水性となる特性を有しており、かつ履歴現
象を示す金属であれば、いずれの金属でもよく、このよ
うな特性をもつ金属は、経験的に周期律表の0族と VII
A(ハロゲン元素)族を除く第3〜6周期に属する金属
元素に見いだされる。また、周期律表の上記した範囲の
金属の中から見いだされる熱応答特性を有する金属は、
単一組成の金属であっても、複合組成つまり合金であっ
ても本発明に使用することができる。合金の場合は、金
属固溶体、金属間化合物、金属微結晶混合物のいずれで
もよい。また、ステンレススチール(以下、SUSと記
述する)に見られるように、表面に不働体性の酸化皮膜
が生成していてもよい。また、単一の金属や合金の純度
に関しては、特別な制約はなく、通常の一般的な用途に
用いられているものであれば、本発明に適用できる。
The metal which can be used as the heat-responsive metal has a property that it becomes hydrophobic by the above-mentioned appropriate heating, becomes hydrophilic when further heated, and exhibits a hysteresis phenomenon. Any metal may be used. A metal having such properties is empirically determined to be a group VII and a VII of the periodic table.
It is found in metal elements belonging to the third to sixth periods except for the group A (halogen element). Further, a metal having a thermal response characteristic found among the metals in the above range of the periodic table,
Either single composition metals or composite compositions or alloys can be used in the present invention. In the case of an alloy, any of a metal solid solution, an intermetallic compound, and a metal microcrystal mixture may be used. Further, as seen in stainless steel (hereinafter referred to as SUS), a passive oxide film may be formed on the surface. Further, there is no particular restriction on the purity of a single metal or alloy, and the present invention can be applied to any single metal or alloy that is used for ordinary general purposes.

【0051】好ましい金属は、アルミニウム、鉄、珪
素、ニッケル、亜鉛、ゲルマニウム、錫及び銅並びにそ
れらの合金である。とくに好ましい金属は、アルミニウ
ムである。アルミニウムを用いる場合は、後に説明する
原板用支持体であるアルミニウム板を直接使用すること
が好ましく、したがって、機械的な砂目立てや電解粗面
化などによって表面の親水性を強化したり、陽極酸化を
施したりしたアルミニウム板が用いられる。
Preferred metals are aluminum, iron, silicon, nickel, zinc, germanium, tin and copper and their alloys. A particularly preferred metal is aluminum. When aluminum is used, it is preferable to directly use an aluminum plate, which is a support for an original plate described later. Therefore, the surface hydrophilicity is enhanced by mechanical graining or electrolytic surface roughening, or anodic oxidation is performed. Or the like is used.

【0052】熱応答型金属の使用形態としては、金属板
をそのまま使用することもできるが、また適当なプラス
チックフィルムあるいは他の金属板を支持体としてその
上に電気メッキ、貼り合わせなどによって設けてもよ
い。支持体上の金属板の厚みは、支持体よりも薄い任意
の厚みを用いることができるが、好ましい厚みは、0.
01mm〜0.4mm程度、より好ましくは0.02mm〜
0.2mmである。
As a mode of use of the heat-responsive metal, a metal plate can be used as it is, or a suitable plastic film or other metal plate is used as a support and provided thereon by electroplating, bonding, or the like. Is also good. As the thickness of the metal plate on the support, any thickness smaller than the thickness of the support can be used.
About 01 mm to 0.4 mm, more preferably 0.02 mm to
0.2 mm.

【0053】印刷原板の熱応答性を高めるには、断熱層
を画像形成層の下層に設けることが有効である。光熱変
換による描画を行う場合には、その光に対して機能性表
面が透明である場合には下層に光熱変換層を設けてもよ
い。以上で本発明に用いる熱応答型物質とくに熱応答型
金属酸化物及び金属についての説明を終わる。
In order to enhance the thermal responsiveness of the original printing plate, it is effective to provide a heat insulating layer below the image forming layer. When drawing by light-to-heat conversion is performed, a light-to-heat conversion layer may be provided as a lower layer when the functional surface is transparent to the light. This concludes the description of the thermoresponsive substance used in the present invention, particularly the thermoresponsive metal oxide and metal.

【0054】次に本発明に使用する印刷用原板の形態に
ついて述べる。本発明に係わる印刷原板は、いろいろの
形態と材料を用いることができる。例えば、熱応答型物
質の薄層を印刷機の版胴の基体表面に蒸着、浸漬あるい
は塗布するなど上記した方法で直接設ける方法、支持体
に担持された熱応答型物質や、あるいは支持体を持たな
い熱応答型物質の薄板を版胴の基体に巻き付けて印刷版
とする方法などを用いることができる。また、勿論版胴
上で製版する上記形態以外に、一般的に行われているよ
うに、製版を行った印刷版を輪転式あるいは平台式印刷
機に装着する形態を採ってもよい。
Next, the form of the printing plate used in the present invention will be described. Various forms and materials can be used for the printing plate according to the present invention. For example, a method in which a thin layer of a thermoresponsive material is directly provided by the above-described method such as vapor deposition, immersion or coating on a substrate surface of a plate cylinder of a printing press, a thermoresponsive material supported on a support, or a support. For example, a method in which a thin plate of a thermally responsive material having no such material is wound around a substrate of a plate cylinder to form a printing plate can be used. Of course, in addition to the above-described form of making a plate on a plate cylinder, a form in which the plate is made may be mounted on a rotary or flatbed printing press, as is generally performed.

【0055】熱応答型物質が支持体上に設けられる場
合、使用される支持体は、高温親水性発現温度でも熱分
解せず、寸度的にも安定な板状物であり、アルミニウム
板、SUS鋼板、ニッケル板、銅板などの金属板が好ま
しく、特に可撓性(フレキシブル)の金属板を用いるこ
とが好ましい。また、ポリエステル類やセルローズエス
テル類などのフレキシブルなプラスチック支持体も用い
ることが出来る。防水加工紙、ポリエチレン積層紙、含
浸紙などの支持体上に酸化物層を設けてもよく、それを
印刷版として使用してもよい。
When the heat-responsive substance is provided on a support, the support used is a plate which is not thermally decomposed even at a high hydrophilicity developing temperature and is dimensionally stable. A metal plate such as a SUS steel plate, a nickel plate, and a copper plate is preferable, and a flexible metal plate is particularly preferable. In addition, flexible plastic supports such as polyesters and cellulose esters can also be used. An oxide layer may be provided on a support such as waterproofed paper, polyethylene laminated paper, or impregnated paper, and it may be used as a printing plate.

【0056】具体的には、紙、プラスチックシート(例
えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド等のシ
ート)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミ
ニウム、亜鉛、銅、ステンレス等)、プラスチックフィ
ルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、
プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セ
ルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリイミド、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポ
リビニルアセタール等)、上記のごとき金属がラミネー
ト、もしくは蒸着された紙、もしくはプラスチックフィ
ルム等が挙げられる。
Specifically, paper, paper laminated with a plastic sheet (eg, a sheet of polyethylene terephthalate, polyimide, etc.), a metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, stainless steel, etc.), a plastic film (eg, Cellulose acetate, cellulose triacetate,
Cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyimide, polystyrene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), and paper or a plastic film on which a metal as described above is laminated or evaporated.

【0057】好ましい支持体は、ポリエステルフィル
ム、ポリイミドフィルム、アルミニウム、又は印刷版上
で腐食しにくいSUS板であり、その中でも寸法安定性
がよく、比較的安価であるアルミニウム板と、製版工程
における高温加熱操作に対して安定性の高いポリイミド
フィルムは特に好ましい。
A preferred support is a polyester film, a polyimide film, aluminum, or a SUS plate which is hardly corroded on a printing plate. A polyimide film having high stability to the heating operation is particularly preferable.

【0058】好適なポリイミドフィルムは、ピロメリッ
ト酸無水物とm−フェニレンジアミンを重合させたの
ち、環状イミド化したポリイミド樹脂フィルムであり、
このフィルムは市販されている(例えば、東レ・デュポ
ン社製の「カプトン」)。
A preferable polyimide film is a polyimide resin film obtained by polymerizing pyromellitic anhydride and m-phenylenediamine and then performing cyclic imidization.
This film is commercially available (eg, "Kapton" manufactured by Dupont Toray).

【0059】好適なアルミニウム板は、純アルミニウム
板およびアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含
む合金板であり、更にアルミニウムがラミネートもしく
は蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニ
ウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガ
ン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッ
ケル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は高
々10重量%以下である。本発明において特に好適なア
ルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋な
アルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅か
に異元素を含有するものでもよい。このように本発明に
適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるも
のではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板
を適宜に利用することができる。本発明で用いられる金
属支持体の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程度、好ま
しくは0.15mm〜0.4mm、特に好ましくは0.2mm
〜0.3mmであり、プラスチックや加工紙などその他の
支持体の厚みはおよそ0.1mm〜2.0mm程度、好まし
くは0.2mm〜1.0mmである。
Preferred aluminum plates are a pure aluminum plate and an alloy plate containing aluminum as a main component and a trace amount of a different element, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, titanium and the like. The content of the foreign element in the alloy is at most 10% by weight or less. Aluminum which is particularly preferred in the present invention is pure aluminum. However, completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and therefore may contain a slightly different element. As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate of a conventionally known and used material can be appropriately used. The thickness of the metal support used in the present invention is about 0.1 mm to 0.6 mm, preferably 0.15 mm to 0.4 mm, particularly preferably 0.2 mm
The thickness of other supports such as plastic and processed paper is about 0.1 mm to 2.0 mm, preferably 0.2 mm to 1.0 mm.

【0060】アルミニウム支持体を用いる場合は、表面
を粗面化して用いることが好ましい。その場合、所望に
より、粗面化に先立って表面の圧延油を除去するため
の、例えば界面活性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶
液などによる脱脂処理が行われる。アルミニウム板の表
面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例え
ば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解
粗面化する方法および化学的に表面を選択溶解させる方
法により行われる。機械的方法としては、ボール研磨
法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの
公知の方法を用いることができる。また、電気化学的な
粗面化法としては塩酸または硝酸電解液中で交流または
直流により行うなど公知の方法を利用することができ
る。また、粗面化されたアルミニウム板は、必要に応じ
てアルカリエッチング処理および中和処理された後、所
望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸
化処理が施される。陽極酸化の電解質の濃度は電解質の
種類によって適宜決められる。
When an aluminum support is used, it is preferable to use a roughened surface. In this case, if desired, a degreasing treatment with a surfactant, an organic solvent, an alkaline aqueous solution, or the like is performed to remove the rolling oil on the surface prior to the surface roughening. The surface roughening treatment of the surface of the aluminum plate is performed by various methods, for example, a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving the surface, and a method of selectively dissolving the surface chemically. It is performed by the method of causing. As a mechanical method, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, and a buff polishing method can be used. In addition, as the electrochemical surface roughening method, a known method such as performing an alternating or direct current in a hydrochloric acid or nitric acid electrolyte can be used. Further, the roughened aluminum plate is subjected to an alkali etching treatment and a neutralization treatment as required, and then subjected to an anodic oxidation treatment, if necessary, in order to increase the water retention and abrasion resistance of the surface. The concentration of the anodic oxidation electrolyte is appropriately determined depending on the type of the electrolyte.

【0061】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質
の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、電流
密度5〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解時間10
秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜の量
が1.0g/m2より少ないと耐刷性が不十分であったり、
平板印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、印刷時に
傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」が生じ
易くなる。
The conditions of the anodizing treatment vary depending on the electrolyte to be used, and thus cannot be specified unconditionally. / dm 2 , voltage 1-100V, electrolysis time 10
A range of seconds to 5 minutes is appropriate. If the amount of the anodic oxide film is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient,
The non-image portion of the lithographic printing plate is easily scratched, and so-called "scratch stain" in which ink adheres to the scratched portion during printing is likely to occur.

【0062】以上で本発明の印刷方法に使用する印刷原
板の構成について説明したので、次に本発明のオフセッ
ト印刷方法及び印刷装置についての具体的態様を図を用
いて述べる。
The configuration of the printing plate used in the printing method of the present invention has been described above. Next, specific embodiments of the offset printing method and the printing apparatus of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0063】はじめに、熱応答型金属酸化物及び熱応答
型金属などの本発明に用いる熱応答型物質の表面の熱応
答性をさらに説明する。図1は、前記した〜の熱応
答性を説明するための実験結果の一例を示す図であっ
て、酸化チタンをそれぞれの温度で5分間加熱したとき
の酸化チタン表面の水に対する接触角を協和界面科学
(株)製の接触角測定装置CA−Dを用いて得た測定値
を温度に対してプロットして得た温度・接触角関係を示
す。加熱は、室温から200℃までは小型高温チャンバ
ーST−110(タバイエスペック社製)によって行
い、200℃以上では電気炉KM−100((株)東洋
製作所製)によって加熱した。
First, the thermal responsiveness of the surface of the thermally responsive material used in the present invention, such as a thermally responsive metal oxide and a thermally responsive metal, will be further described. FIG. 1 is a diagram showing an example of an experimental result for explaining the above-mentioned thermal responsiveness. The contact angle of water on the surface of titanium oxide when titanium oxide is heated at each temperature for 5 minutes is shown in FIG. The relationship between temperature and contact angle obtained by plotting measured values obtained using a contact angle measuring device CA-D manufactured by Interface Science Co., Ltd. against temperature is shown. Heating was performed from room temperature to 200 ° C. by using a small high-temperature chamber ST-110 (manufactured by Tabai Espec Corporation), and heating was performed by using an electric furnace KM-100 (manufactured by Toyo Seisakusho) at 200 ° C. or higher.

【0064】言うまでもなく、表面が親水性であるか、
疎水性であるかの尺度は、水に対する接触角の大きさに
よって表すことができ、接触角が大きいほど疎水性であ
り、疎水性は親油性又は親インキ性と言い換えることも
できる。図1は、酸化チタンを加熱して行くと、表面接
触角が増加して行き、温度が210℃のとき極大に達
し、さらに加熱すると接触角が低下することを示してい
る。
Needless to say, whether the surface is hydrophilic,
The measure of hydrophobicity can be represented by the magnitude of the contact angle with water. The larger the contact angle, the more hydrophobic the hydrophobicity, and the hydrophobicity can be rephrased as lipophilicity or ink-philicity. FIG. 1 shows that as the titanium oxide is heated, the surface contact angle increases, reaches a maximum when the temperature is 210 ° C., and decreases as the temperature is further increased.

【0065】すなわち、酸化チタンの表面温度を高めて
前述の「疎水性発現温度」に至ると疎水性となり、さら
に温度を高めて前述の「高温親水性発現温度」に至ると
再び親水性となる。表面の全面を高温親水性発現温度に
加熱することによって表面は製版に適した清浄で安定な
親水性表面となるので、再現性の高い印刷版作製を行う
ことができる。高温加熱の手段は、とくに限定されない
が、電熱による加熱が容易であり、制御も行い易い。ま
た、赤外線やレーザー光などの輻射線によるヒートモー
ド加熱も好ましい加熱手段である。
That is, when the surface temperature of the titanium oxide is increased to reach the above-mentioned “hydrophobic temperature”, the titanium oxide becomes hydrophobic. . By heating the entire surface to a high-temperature hydrophilicity-expressing temperature, the surface becomes a clean and stable hydrophilic surface suitable for plate making, so that a printing plate with high reproducibility can be produced. The means for high-temperature heating is not particularly limited, but heating by electric heating is easy and control is also easy. Heat mode heating using radiation such as infrared rays or laser light is also a preferable heating means.

【0066】高温親水性発現温度の領域は、熱応答型金
属酸化物及び金属の種類や加熱速度によって異なるが、
通常200℃以上であり、金属酸化物及び金属の種類な
どによってはさらに高い温度となる。親水性とするため
の加熱温度の上限は、金属酸化物及び金属に不都合な化
学的、構造的変化が起こらなければ高くてもよいが、実
用的な親水性が得られるかぎり、さらに温度を高くする
必要はない。また、熱応答型金属酸化物に酸化チタンを
用いる場合には、酸化チタンの相変化を防止するために
700℃以下とするのがよく、原板の支持体にポリイミ
ドフィルムを用いた場合にはその熱変成を防止するため
に400℃以下とするのがよい。
The range of the high-temperature hydrophilicity developing temperature differs depending on the type of the heat-responsive metal oxide and the metal and the heating rate.
The temperature is usually 200 ° C. or higher, and may be higher depending on the type of metal oxide and metal. The upper limit of the heating temperature for making the material hydrophilic may be high as long as no adverse chemical or structural change occurs in the metal oxide and metal, but as long as practical hydrophilicity is obtained, the temperature may be further increased. do not have to. When titanium oxide is used as the heat-responsive metal oxide, the temperature is preferably set to 700 ° C. or less in order to prevent a phase change of the titanium oxide. The temperature is preferably set to 400 ° C. or less in order to prevent thermal denaturation.

【0067】前記した熱応答性の説明において、「疎水
性発現温度」の領域は、具体的には接触角の極大値に対
してその両側の接触角の低下が20度以内の領域を指し
ており、インキを受容する実用的疎水性の領域に相当す
る。図1の実験例では、接触角の極大値は50度で、そ
の両側20度の疎水性発現温度領域は、155〜240
℃であるが、一般に熱応答型金属酸化物又は金属並びに
その他の熱応答物質の種類、加熱速度、加熱雰囲気によ
って異なる。例えば、同じ加熱速度と同じ加熱雰囲気に
おいても、酸化チタン、酸化亜鉛、チタン酸バリウムな
ど金属酸化物によって接触角の極大値は異なり、その両
側20度の範囲に対応する温度範囲も異なっている。ま
た加熱速度を速くするとこの温度範囲は変化する。この
ような多少の相違はあるものの、一般に疎水性発現温度
は、50〜250℃であり、多くは100〜250℃の
温度領域にある。したがって、ヒートモードの描画をこ
の温度領域で行うことによって画像領域と非画像領域の
疎水性と親水性の相違を大きくすることが可能で、した
がって画像部と非画像部との識別性を増大させ、印刷面
の品質を向上させることができることが本発明の特徴で
ある。
In the above description of the thermal responsiveness, the region of “hydrophobic expression temperature” specifically refers to a region where the contact angle on both sides of the maximum value of the contact angle is within 20 degrees. And corresponds to a practical hydrophobic region for receiving ink. In the experimental example of FIG. 1, the maximum value of the contact angle is 50 degrees, and the hydrophobicity development temperature range of 20 degrees on both sides is 155 to 240.
° C, but generally depends on the type of heat-responsive metal oxide or metal and other heat-responsive substances, the heating rate, and the heating atmosphere. For example, even at the same heating rate and the same heating atmosphere, the maximum value of the contact angle differs depending on the metal oxide such as titanium oxide, zinc oxide, and barium titanate, and the temperature range corresponding to the range of 20 degrees on both sides also differs. This temperature range changes when the heating rate is increased. Despite such slight differences, the hydrophobicity development temperature is generally in the range of 50 to 250 ° C, and most in the temperature range of 100 to 250 ° C. Therefore, by performing the heat mode drawing in this temperature region, it is possible to increase the difference between the hydrophobicity and the hydrophilicity of the image region and the non-image region, thereby increasing the discrimination between the image portion and the non-image portion. It is a feature of the present invention that the quality of the printed surface can be improved.

【0068】疎水性の画像部を印刷原板上に形成させる
加熱手段には、赤外線を放射する固体レーザー、又は赤
外線域、可視域光を放射する半導体レーザー、赤外線灯
光、キセノン放電灯、大容量コンデンサーからの放電に
よるフラッシュ光による光・熱変換描画装置、熱融解型
及び昇華型感熱色素転写などの感熱記録ヘッド等による
直接画像記録手段が用いられる。加熱温度を適当な疎水
性発現温度に調節するには、加熱に用いる光源の光強度
を制御したり、感熱記録ヘッドの供給電力や描画速度を
制御することによって行われる。
The heating means for forming the hydrophobic image area on the printing original plate may be a solid laser emitting infrared light, a semiconductor laser emitting infrared light or visible light, an infrared lamp, a xenon discharge lamp, a large capacity condenser. A direct image recording means such as a light-to-heat conversion drawing apparatus using a flash light generated by a discharge from the apparatus, a thermal recording head such as a thermal melting type or sublimation type thermal dye transfer, or the like is used. The heating temperature can be adjusted to an appropriate hydrophobicity developing temperature by controlling the light intensity of a light source used for heating or by controlling the power supplied to the thermal recording head and the drawing speed.

【0069】画像の書き込みは、面露光方式、走査方式
のいずれでもよい。前者の場合は、赤外線照射方式や、
キセノン放電灯の高照度の短時間光をマスク画像を通し
て原板上に照射して光・熱変換によって熱を発生させる
方式である。赤外線灯などの面露光光源を使用する場合
には、その照度によっても好ましい露光量は変化する
が、通常は、印刷用画像で変調する前の面露光強度が
0.1〜10J/cm2 の範囲であることが好ましく、0.
3〜1J/cm2 の範囲であることがより好ましい。支持体
が透明である場合は、支持体の裏側から支持体とマスク
画像を通して露光することもできる。その露光時間は、
0.01〜1msec、好ましくは0.01〜0.1m
secの照射で上記の露光強度が得られるように露光照
度を選択するのが好ましい。照射時間が長い場合には、
熱エネルギーの生成速度と生成した熱エネルギーの拡散
速度の競争関係から露光強度を増加させる必要が生じ
る。
The writing of an image may be performed by either a surface exposure method or a scanning method. In the former case, an infrared irradiation method,
This is a method of irradiating a short time light of high illuminance of a xenon discharge lamp onto a master plate through a mask image to generate heat by light-heat conversion. When using a surface exposure light source such as an infrared lamp is preferred exposure amount varies by this illumination, usually, the surface exposure intensity before modulation by printing image of 0.1~10J / cm 2 It is preferably in the range,
More preferably, it is in the range of 3 to 1 J / cm 2 . When the support is transparent, exposure can be performed through the support and the mask image from the back side of the support. The exposure time is
0.01 to 1 msec, preferably 0.01 to 0.1 m
It is preferable to select the exposure illuminance so that the above-described exposure intensity can be obtained by the irradiation for sec. If the irradiation time is long,
It is necessary to increase the exposure intensity due to the competition between the heat energy generation rate and the generated heat energy diffusion rate.

【0070】後者の場合には、赤外線成分を多く含むレ
ーザー光源を使用して、レーザービームを画像で変調し
て原板上を走査する方式が行われる。レーザー光源の例
として、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、ヘ
リウムカドミウムレーザー、YAGレーザーを挙げるこ
とができる。レーザー出力が0.1〜300Wのレーザ
ーで照射をすることができる。また、パルスレーザーを
用いる場合には、ピーク出力が1000W、好ましくは
2000Wのレーザーを照射するのが好ましい。この場
合の露光量は、印刷用画像で変調する前の面露光強度が
0.1〜10J/cm2 の範囲であることが好ましく、0.
3〜1J/cm2 の範囲であることがより好ましい。支持体
が透明である場合は、支持体の裏側から支持体を通して
露光することもできる。光で加熱する場合は、例えば印
刷原板に光熱変換層を設けて、その層に光エネルギーを
吸収させ、熱を発生させることができる。あるいは、熱
応答型物質それ自体が光を吸収して自ら発熱することに
より加熱することもできる。
In the latter case, a method is used in which a laser light source containing a large amount of infrared components is used to modulate a laser beam with an image and scan the original plate. Examples of the laser light source include a semiconductor laser, a helium neon laser, a helium cadmium laser, and a YAG laser. Irradiation can be performed with a laser having a laser output of 0.1 to 300 W. When a pulse laser is used, it is preferable to irradiate a laser having a peak output of 1000 W, preferably 2000 W. In this case, the exposure amount is preferably such that the surface exposure intensity before modulation with the printing image is in the range of 0.1 to 10 J / cm 2 .
More preferably, it is in the range of 3 to 1 J / cm 2 . When the support is transparent, exposure can be performed through the support from the back side of the support. When heating with light, for example, a light-to-heat conversion layer may be provided on a printing original plate, and the layer may absorb light energy to generate heat. Alternatively, the heat-responsive substance itself can be heated by absorbing light and generating heat by itself.

【0071】さらに疎水性発現温度に加熱を行うに際し
て、加熱雰囲気中に混入している微量の不純物や故意に
混合させた有機化合物蒸気などが極大接触角の値とその
温度及び疎水性発現温度の領域に影響を与える。とくに
注目されるのは、接触角が増大する現象である。したが
って、有機化合物蒸気の存在下でヒートモード記録を行
うことによって接触角が増加し、親水性と疎水性の識別
効果を向上させることができる。この作用機構は不明で
あるが、おそらく加熱された原板表面に有機化合物が吸
着して疎水性の皮膜を形成するのではないかと推定して
いる。
Further, when heating to the hydrophobic development temperature, a trace amount of impurities mixed in the heating atmosphere or organic compound vapor intentionally mixed are used to determine the maximum contact angle, the temperature of the maximum contact angle and the temperature and the hydrophobic development temperature. Affect the area. Of particular note is the phenomenon of increasing the contact angle. Therefore, by performing the heat mode recording in the presence of the vapor of the organic compound, the contact angle is increased, and the effect of discriminating hydrophilicity and hydrophobicity can be improved. Although the mechanism of this action is unknown, it is presumed that the organic compound is likely to be adsorbed on the heated original plate surface to form a hydrophobic film.

【0072】このような、優れた効果をもつ好ましい有
機化合物は、温度400℃における蒸気圧が少なくとも
1mmHgで、かつ蒸気圧が1mmHgとなる温度にお
いて安定な有機化合物である。この程度の蒸気圧を有し
ている有機化合物であればヒートモードの描画を行う際
に存在させることによって、画像部の接触角が増加して
親水性と疎水性の識別性が向上する。より好ましくは、
温度300℃における蒸気圧が少なくとも1mmHg
で、かつ蒸気圧が1mmHgとなる温度において安定な
有機化合物である。さらに好ましくは、沸点が30〜4
00℃にあって、かつ30〜400℃の温度範囲で安定
な有機化合物であり、中でも好ましい沸点範囲は50〜
350℃である。この温度範囲の沸点をもつ有機化合物
は、具体的には脂肪族及び芳香族炭化水素、脂肪族及び
芳香族カルボン酸、脂肪族及び芳香族アルコール、脂肪
族及び芳香族エステル、脂肪族及び芳香族エーテル、有
機アミン類、有機珪素化合物、印刷用インキに添加でき
ることが知られている各種溶剤や可塑剤類の中に見られ
る。
Preferred organic compounds having such excellent effects are those having a vapor pressure of at least 1 mmHg at a temperature of 400 ° C. and stable at a temperature at which the vapor pressure is 1 mmHg. If an organic compound having such a vapor pressure is present when performing drawing in the heat mode, the contact angle of the image area is increased and the discrimination between hydrophilicity and hydrophobicity is improved. More preferably,
The vapor pressure at a temperature of 300 ° C is at least 1 mmHg
And is an organic compound that is stable at a temperature at which the vapor pressure becomes 1 mmHg. More preferably, the boiling point is 30-4.
It is an organic compound which is stable at a temperature of 00 ° C and in a temperature range of 30 to 400 ° C.
350 ° C. Organic compounds having a boiling point in this temperature range include aliphatic and aromatic hydrocarbons, aliphatic and aromatic carboxylic acids, aliphatic and aromatic alcohols, aliphatic and aromatic esters, aliphatic and aromatic It is found in ethers, organic amines, organic silicon compounds, and various solvents and plasticizers that are known to be able to be added to printing inks.

【0073】好ましい脂肪族炭化水素は、炭素数8〜3
0の、より好ましくは炭素数8〜20の脂肪族炭化水素
であり、好ましい芳香族炭化水素は、炭素数6〜40
の、より好ましくは炭素数6〜20の芳香族炭化水素で
ある。好ましい脂肪族アルコールは、炭素数2〜30
の、より好ましくは炭素数2〜18の脂肪族アルコール
であり、好ましい芳香族アルコールは、炭素数6〜30
の、より好ましくは炭素数6〜18の芳香族アルコール
である。好ましい脂肪族カルボン酸は、炭素数2〜24
の脂肪族カルボン酸であり、より好ましくは炭素数2〜
20の脂肪族モノカルボン酸及び炭素数4〜12の脂肪
族ポリカルボン酸であり、また、好ましい芳香族カルボ
ン酸は、炭素数6〜30の、より好ましくは炭素数6〜
18の芳香族カルボン酸である。好ましい脂肪族エステ
ルは、炭素数2〜30の、より好ましくは炭素数2〜1
8の脂肪酸エステルであり、好ましい芳香族エステル
は、炭素数8〜30の、より好ましくは炭素数8〜18
の芳香族カルボン酸エステルである。好ましい脂肪族エ
ーテルは、炭素数8〜36の、より好ましくは炭素数8
〜18の芳香族エーテルであり、好ましい芳香族エーテ
ルは、炭素数7〜30の、より好ましくは炭素数7〜1
8の芳香族エーテルである。そのほか、炭素数7〜30
の、より好ましくは炭素数7〜18の脂肪族あるいは芳
香族アミドも用いることができる。
Preferred aliphatic hydrocarbons are those having 8 to 3 carbon atoms.
0, more preferably an aliphatic hydrocarbon having 8 to 20 carbon atoms, and a preferred aromatic hydrocarbon has 6 to 40 carbon atoms.
And more preferably an aromatic hydrocarbon having 6 to 20 carbon atoms. Preferred aliphatic alcohols have 2 to 30 carbon atoms.
Are more preferably aliphatic alcohols having 2 to 18 carbon atoms, and preferred aromatic alcohols are those having 6 to 30 carbon atoms.
And more preferably an aromatic alcohol having 6 to 18 carbon atoms. Preferred aliphatic carboxylic acids have 2 to 24 carbon atoms.
Aliphatic carboxylic acid, more preferably having 2 to 2 carbon atoms
Preferred are aliphatic monocarboxylic acids having 20 and aliphatic polycarboxylic acids having 4 to 12 carbon atoms, and preferred aromatic carboxylic acids are those having 6 to 30 carbon atoms, and more preferably having 6 to 30 carbon atoms.
18 aromatic carboxylic acids. Preferred aliphatic esters have 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 1 carbon atoms.
And preferred aromatic esters are those having 8 to 30 carbon atoms, more preferably 8 to 18 carbon atoms.
Is an aromatic carboxylate. Preferred aliphatic ethers are those having 8 to 36 carbon atoms, more preferably 8 carbon atoms.
To 18 aromatic ethers, and preferred aromatic ethers are those having 7 to 30 carbon atoms, more preferably 7 to 1 carbon atoms.
8 aromatic ethers. In addition, carbon number 7-30
And more preferably an aliphatic or aromatic amide having 7 to 18 carbon atoms.

【0074】具体例としては、2,2,4−トリメチル
ペンタン(イソオクタン)、ノナン、デカン、n−ヘキ
サデカン、オクタデカン、エイコサン、メチルヘプタ
ン、2,2−ジメチルヘキサン、2−メチルオクタンな
どの脂肪族炭化水素;ベンゼン、トルエン、キシレン、
クメン、ナフタレン、アントラセン、スチレンなどの芳
香族炭化水素;ドデシルアルコール、オクチルアルコー
ル、n−オクタデシルアルコール、2−オクタノール、
ラウリルアルコールなどの1価アルコール;プロピレン
グリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレン
グリコール、グリセリン、ヘキシレングリコール、ジプ
ロピレングリコールなどの多価アルコール;ベンジルア
ルコール、4−ヒドロキシトルエン、フェネチルアルコ
ール、1−ナフトール、2−ナフトール、カテコール、
フェノールなどの芳香族アルコール;酢酸、プロピオン
酸、酪酸、カプロン酸、アクリル酸、クロトン酸、カプ
リン酸、ステアリン酸、オレイン酸などの脂肪族1価カ
ルボン酸;しゅう酸、琥珀酸、アジピン酸、マレイン
酸、グルタール酸などの多価脂肪族カルボン酸;安息香
酸、2−メチル安息香酸、4−メチル安息香酸などの芳
香族カルボン酸;酢酸エチル、酢酸イソブチル、酢酸−
n−ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチ
ル、酪酸メチル、アクリル酸メチル、しゅう酸ジメチ
ル、琥珀酸ジメチル、クロトン酸メチルなどの脂肪族エ
ステル;安息香酸メチル、2−メチル安息香酸メチルな
どの芳香族カルボン酸エステル;イミダゾール、トリエ
タノールアミン、ジエタノールアミン、シクロヘキシル
アミン、ヘキサメチレンテトラミン、トリエチレンテト
ラミン、アニリン、オクチルアミン、アニリン、フェネ
チルアミンなどの有機アミン;アセトン、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン、ベンゾフェノンなど
のケトン及びメトキシベンゼン、エトキシベンゼン、メ
トキシトルエン、ラウリルメチルエーテル、ステアリル
メチルエーテルなどのエーテル類、ステアリルアミド、
ベンゾイルアミド、アセトアミドなどのアミド類が挙げ
られる。
Specific examples include aliphatic aliphatics such as 2,2,4-trimethylpentane (isooctane), nonane, decane, n-hexadecane, octadecane, eicosane, methylheptane, 2,2-dimethylhexane and 2-methyloctane. Hydrocarbons: benzene, toluene, xylene,
Aromatic hydrocarbons such as cumene, naphthalene, anthracene and styrene; dodecyl alcohol, octyl alcohol, n-octadecyl alcohol, 2-octanol,
Monohydric alcohols such as lauryl alcohol; polyhydric alcohols such as propylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, glycerin, hexylene glycol, dipropylene glycol; benzyl alcohol, 4-hydroxytoluene, phenethyl alcohol, 1-naphthol, -Naphthol, catechol,
Aromatic alcohols such as phenol; acetic acid, propionic acid, butyric acid, caproic acid, acrylic acid, crotonic acid, capric acid, stearic acid, oleic acid and other aliphatic monocarboxylic acids; oxalic acid, succinic acid, adipic acid, maleic acid Polyvalent aliphatic carboxylic acids such as acid and glutaric acid; aromatic carboxylic acids such as benzoic acid, 2-methylbenzoic acid and 4-methylbenzoic acid; ethyl acetate, isobutyl acetate, acetic acid-
Aliphatic esters such as n-butyl, methyl propionate, ethyl propionate, methyl butyrate, methyl acrylate, dimethyl oxalate, dimethyl succinate and methyl crotonate; aromatics such as methyl benzoate and methyl 2-methylbenzoate Carboxylic acid esters; organic amines such as imidazole, triethanolamine, diethanolamine, cyclohexylamine, hexamethylenetetramine, triethylenetetramine, aniline, octylamine, aniline, phenethylamine; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, benzophenone, and methoxy Ethers such as benzene, ethoxybenzene, methoxytoluene, lauryl methyl ether, stearyl methyl ether, stearyl amide,
Amides such as benzoylamide and acetamide are exemplified.

【0075】また、印刷用インキの成分であるアマニ
油、大豆油、けし油、サフラワー油などの油脂類、燐酸
トリブチル、燐酸トリクレシル、フタール酸ジブチル、
ラウリン酸ブチル、フタール酸ジオクチル、パラフィン
ワックスなどの可塑剤も挙げられる。
Also, oils and fats such as linseed oil, soybean oil, poppy oil, safflower oil, etc., which are components of the printing ink, tributyl phosphate, tricresyl phosphate, dibutyl phthalate,
Plasticizers such as butyl laurate, dioctyl phthalate, and paraffin wax are also included.

【0076】そのほか、沸点が前記の好ましい範囲にあ
るエチレングリコールモノエチルエーテル、シクロヘキ
サノン、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソ
ルブアセテート、1,4−ジオキサン、ジメチルホルム
アミド、アクリロニトリルなどの有機溶剤も使用するこ
とができる。
In addition, organic solvents such as ethylene glycol monoethyl ether, cyclohexanone, methyl cellosolve, butyl cellosolve, cellosolve acetate, 1,4-dioxane, dimethylformamide and acrylonitrile having a boiling point within the above preferred range can also be used.

【0077】好ましい有機珪素化合物は、ジメチルシリ
コーンオイル、メチルフェニリシリコーンオイルなどで
代表されるオルガノポリシロキサン化合物であり、とく
に重合度が12以下のオルガノポリシロキサン類であ
る。これらの好ましいオルガノポリシロキサンはシロキ
サン結合単位当たり1〜2個の有機基が結合しており、
その有機基は炭素数が1〜18のアルキル基及びアルコ
キシ基、炭素数が2〜18のアルケニル基及びアルキニ
ル基、炭素数が6〜18のアリール基、炭素数が7〜1
8のアラルキル基、炭素数が5〜20の脂環式基であ
る。また、これらの有機置換基には、さらにハロゲン原
子、カルボキシル基、ヒドロキシ基が置換してもよい。
また、アリール基、アラルキル基、脂環式基には、上記
の炭素数の範囲でメチル基、エチル基又はプロピル基な
どの低級アルキル基がさらに置換していてもよい。
Preferred organosilicon compounds are organopolysiloxane compounds typified by dimethyl silicone oil, methylphenylsilicone oil and the like, especially organopolysiloxanes having a degree of polymerization of 12 or less. These preferred organopolysiloxanes have one to two organic groups attached per siloxane bond unit,
The organic group includes an alkyl group and an alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group and an alkynyl group having 2 to 18 carbon atoms, an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, and a 7-1 to 1 carbon atom.
And an alicyclic group having 5 to 20 carbon atoms. Further, these organic substituents may be further substituted with a halogen atom, a carboxyl group, or a hydroxy group.
Further, the aryl group, the aralkyl group and the alicyclic group may be further substituted with a lower alkyl group such as a methyl group, an ethyl group or a propyl group within the above-mentioned carbon number range.

【0078】本発明に使用できる好ましい有機珪素化合
物の具体例は、下記の化合物であるが、本発明はこれら
に限定されるものではない。
Specific examples of preferred organosilicon compounds that can be used in the present invention are the following compounds, but the present invention is not limited thereto.

【0079】好ましいポリオルガノシロキサン類として
は、炭素数1〜5のアルキル基を有するジアルキルシロ
キサン基、炭素数1〜5のアルコキシ基を有するジアル
コキシシロキサンを繰り返し単位として端末が炭素数1
〜5のアルキル基、アミノ基、ヒドロキシ基、炭素数1
〜5のヒドロキアルキル基又は炭素数1〜5のアルコキ
シ基である重合度2〜12のポリシロキサン、メトキシ
エトキシシロキサンを繰り返し単位として端末がヒドロ
キシ基、メトキシ基又はエトキシ基である重合度2〜1
2のポリシロキサンが挙げられる。具体的には、重合度
が2〜10のジメチルシロキサン、重合度が2〜10の
ジメチルシロキサン−メチルフェニルシロキサン共重合
物、重合度が2〜8のジメチルシロキサン−ジフェニル
シロキサン共重合物、重合度が2〜8のジメチルシロキ
サン−モノメチルシロキサン共重合物でこれらのシリコ
ーン油の端末はトリメチルシラン基である。そのほか、
1,3−ビス(3−アミノプロピル)テトラメチルジシ
ロキサン、1,5−ビス(3−アミノプロピル)ヘキサ
メチルトリシロキサン、1,3−ジブチル−1,1,
3,3−テトラメチルジシロキサン、1,5−ジブチル
−1,1,3,3,5,5−ヘキサエチルトリシロキサ
ン、1,1,3,3,5,5−ヘキサエチル−1,5−
ジクロロトリシロキサン、3−(3,3,3−トリフル
オロプロピル)−1,1,3,3,5,5,5−ヘプタ
メチル−トリシロキサン、デカメチルテトラシロキサン
などが挙げられる。
Preferred polyorganosiloxanes include a dialkylsiloxane group having an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms and a dialkoxysiloxane having an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms as a repeating unit and having a terminal having 1 carbon atom.
To 5 alkyl groups, amino groups, hydroxy groups, 1 carbon atoms
Polysiloxane having a polymerization degree of 2 to 12 which is a hydroxyalkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, and a polymerization unit having a terminal having a hydroxy group, a methoxy group or an ethoxy group having a terminal of a hydroxy group, a methoxy group or an ethoxy group having methoxyethoxysiloxane as a repeating unit.
2 polysiloxane. Specifically, dimethylsiloxane having a polymerization degree of 2 to 10, dimethylsiloxane-methylphenylsiloxane copolymer having a polymerization degree of 2 to 10, dimethylsiloxane-diphenylsiloxane copolymer having a polymerization degree of 2 to 8, Are 2 to 8 dimethylsiloxane-monomethylsiloxane copolymers, and the terminals of these silicone oils are trimethylsilane groups. others,
1,3-bis (3-aminopropyl) tetramethyldisiloxane, 1,5-bis (3-aminopropyl) hexamethyltrisiloxane, 1,3-dibutyl-1,1,1
3,3-tetramethyldisiloxane, 1,5-dibutyl-1,1,3,3,5,5-hexaethyltrisiloxane, 1,1,3,3,5,5-hexaethyl-1,5-
Examples include dichlorotrisiloxane, 3- (3,3,3-trifluoropropyl) -1,1,3,3,5,5,5-heptamethyl-trisiloxane, decamethyltetrasiloxane, and the like.

【0080】特に好ましい化合物として、いわゆるシリ
コーンオイルがあり、ジメチルシリコーンオイル(市販
品では、例えばシリコーンKF96(信越化学工業
(株)製)、メチルフェニルシリコーンオイル(市販品
では、例えばシリコーンKF50(信越化学工業(株)
製)、メチルハイドロジェンシリコーンオイル(市販品
では、例えばシリコーンKF99(信越化学工業(株)
製)が挙げられる。
Particularly preferred compounds include so-called silicone oils, such as dimethyl silicone oil (commercially available, for example, silicone KF96 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)) and methylphenyl silicone oil (commercially available, for example, silicone KF50 (Shin-Etsu Chemical) Industrial Co., Ltd.
Methyl Hydrogen Silicone Oil (a commercially available product such as Silicone KF99 (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
Manufactured).

【0081】そのほか、n−デシルトリメトキシシラ
ン、n−デシルトリ−t−ブトキシシラン、n−オクタ
デシルトリメトキシシラン、n−オクタデシルトリエト
キシシラン、ジメトキシジエトキシシランなどのシラン
化合物も挙げらることができる。
In addition, silane compounds such as n-decyltrimethoxysilane, n-decyltri-t-butoxysilane, n-octadecyltrimethoxysilane, n-octadecyltriethoxysilane and dimethoxydiethoxysilane can also be mentioned. .

【0082】有機化合物の雰囲気のもとで疎水性発現温
度に加熱を行うには、原板表面を覆う加熱部の外套内に
有機化合物充填容器を置いて、加熱時間中に有機化合物
の蒸気を外套内に存在させるのがよい。また、有機化合
物を含浸させた紙や布を外套内に挿入して加熱するのも
よい。
In order to carry out heating to a temperature at which hydrophobicity is exhibited in an atmosphere of an organic compound, an organic compound-filled container is placed in a jacket of a heating section covering the surface of the original plate, and the vapor of the organic compound is jacketed during the heating time. It is good to exist in. Alternatively, paper or cloth impregnated with an organic compound may be inserted into the jacket and heated.

【0083】以上で本発明における印刷原板の熱応答特
性及び熱応答物質について説明した。つぎにこの原板を
装着して行う印刷方法および装置について説明する。
The heat response characteristics and the heat response material of the printing plate according to the present invention have been described above. Next, a printing method and an apparatus for mounting the original plate will be described.

【0084】印刷原板は、熱応答型物質の表面に親油性
の画像を付与したのち、現像処理することなく、そのま
まオフセット印刷工程に送ることができる。従って通常
の公知の平版印刷法に比較して簡易性を中心に多くの利
点を有する。すなわち上記したようにアルカリ現像液に
よる化学処理が不要であり、それに伴うワイピング、ブ
ラッシングの操作も不要であり、さらに現像廃液の排出
による環境負荷も伴わない。また、画像形成手段の選択
範囲が広く、上記したような簡易な画像記録手段から容
易に印刷を行うことも利点である。
The printing original plate can be sent to the offset printing step without development after the lipophilic image is provided on the surface of the thermoresponsive substance. Therefore, it has many advantages, mainly simplicity, as compared with the known lithographic printing method. That is, as described above, the chemical treatment with the alkaline developer is unnecessary, and the accompanying wiping and brushing operations are not required, and further, there is no environmental load due to the discharge of the waste developer. Another advantage is that the selection range of the image forming means is wide, and printing is easily performed from the simple image recording means as described above.

【0085】熱応答型物質から得られた平版印刷版の非
画像部は十分に親水性化しているが、所望により、水洗
水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや
澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理してもよい。本発
明の画像記録材料を印刷用版材として使用する場合の後
処理としては、これらの処理を種々組み合わせて用いる
ことができる。その方法としては、該整面液を浸み込ま
せたスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布する
か、整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布
する方法や、自動コーターによる塗布などが適用され
る。また、塗布した後でスキージーローラーでその塗布
量を均一にすることは、より好ましい結果を与えること
もある。整面液の塗布量は一般に0.03〜0.8g/m2
(乾燥重量)が適当である。この様な処理によって得ら
れた平版印刷版は、オフセット印刷機等にかけられ、あ
るいは印刷機上で製版され、多数枚の印刷に用いられ
る。
The non-image area of the lithographic printing plate obtained from the heat-responsive substance is sufficiently hydrophilic. However, if desired, washing water, a rinsing liquid containing a surfactant, a gum arabic or a starch derivative may be used. It may be post-treated with a desensitizing solution containing the same. As the post-processing when the image recording material of the present invention is used as a printing plate material, these processings can be used in various combinations. As a method, a sponge or absorbent cotton impregnated with the surface conditioning liquid is applied on a lithographic printing plate, or a method in which the printing plate is immersed in a vat filled with the surface conditioning solution and applied, Application by an automatic coater or the like is applied. Further, making the application amount uniform with a squeegee roller after the application may give more preferable results. The application amount of the surface conditioning liquid is generally 0.03 to 0.8 g / m 2.
(Dry weight) is appropriate. The lithographic printing plate obtained by such a process is set on an offset printing press or the like, or is made on a printing press, and used for printing a large number of sheets.

【0086】次に印刷を終えた印刷版の再生工程につい
て記す。印刷終了後の印刷版は疎水性の石油系溶剤を用
いて付着しているインキを洗い落とす。溶剤としては市
販の印刷用インキ溶解液として芳香族炭化水素、例えば
ケロシン、アイソパ−などがあり、そのほかベンゾー
ル、トルオール、キシロール、アセトン、メチルエチル
ケトン及びそれらの混合溶剤を用いてもよい。画像物質
が溶解しない場合には、布などを用いて軽く拭き取る。
また、トルエン/ダイクリーンの1/1混合溶媒を用い
るとよいこともある。
Next, the process of reproducing the printing plate after printing will be described. After printing, the printing plate is washed away with a hydrophobic petroleum-based solvent to remove attached ink. Examples of the solvent include aromatic hydrocarbons such as kerosene and isoper as a commercially available printing ink solution, and benzol, toluene, xylol, acetone, methyl ethyl ketone, and a mixed solvent thereof may be used. If the image substance does not dissolve, gently wipe it with a cloth.
In some cases, a 1/1 mixed solvent of toluene / Daiclean may be used.

【0087】インキを洗浄除去した印刷版を高温親水性
発現温度に加熱することによって版面全体にわたって均
一に親水性を回復する。この加熱温度は、200℃以上
で、かつ疎水性発現温度の上限を超えた温度で行われる
が、加熱時間は、疎水性発現温度の上限温度の僅かに上
では10分以上、50℃上では5分、100℃上では2
分程度の熱処理時間が好ましい。熱処理時間を延長して
も支障はないが、表面の親水性が回復したのちは時間を
延長してもさらなる利点は生まれない。
The printing plate from which the ink has been washed away is heated to a high-temperature hydrophilicity developing temperature to restore the hydrophilicity uniformly over the entire plate surface. The heating temperature is 200 ° C. or higher and the temperature is higher than the upper limit of the hydrophobicity developing temperature. 5 minutes, 2 at 100 ° C
A heat treatment time on the order of minutes is preferred. There is no problem even if the heat treatment time is extended, but after the hydrophilicity of the surface is restored, even if the time is extended, no further advantage is produced.

【0088】再生に用いる熱源は、上記した温度と時間
の条件を満たすものであれば任意の手段を利用できる。
加熱手段の例をあげると、直接赤外線照射による放射加
熱、印刷版表面に黒色カーボン紙などの熱線吸収シート
を接触させた間接赤外線照射、温度設定した空気恒温槽
への挿入、ホットプレートその他の熱板との接触加熱、
加熱ローラーとのコンタクトなどが挙げられる。このよ
うにして使用済みの印刷版から再生された印刷用原板
は、活性光への暴露を避けて貯蔵されて次の印刷に備え
る。
As the heat source used for regeneration, any means can be used as long as it satisfies the above-mentioned conditions of temperature and time.
Examples of heating means include radiant heating by direct infrared irradiation, indirect infrared irradiation with a heat absorbing sheet such as black carbon paper contacting the printing plate surface, insertion into a temperature-controlled air bath, hot plate and other heat sources. Contact heating with the plate,
Examples include contact with a heating roller. The printing plate regenerated from the used printing plate in this way is stored so as to avoid exposure to actinic light and is ready for the next printing.

【0089】本発明に係わる印刷原板の反復再生可能回
数は、完全に把握できていないが、少なくとも15回以
上であり、おそらく反面の除去不能な汚れ、修復が実際
的でない刷面の傷や、版材の機械的な変形(ひずみ)な
どによって制約されるものと思われる。
Although the number of repetitive reproductions of the printing plate according to the present invention has not been completely grasped, it is at least 15 times or more. It is considered that it is restricted by mechanical deformation (strain) of the plate material.

【0090】本発明における印刷原板の加熱操作につい
て説明した。次にこの原板を装着して印刷を行う方法及
び装置を、図によって説明する。熱応答型物質を表面に
もつ印刷用原板は、版胴の構成部材として固定されてい
てもよく、また着脱自在であってもよい。以下図2以降
の説明では、本発明の簡易性を顕著に発揮する前者すな
わち版胴が印刷原板となっている例について説明する。
The operation of heating the printing plate in the present invention has been described. Next, a method and an apparatus for performing printing by mounting the original plate will be described with reference to the drawings. The printing plate having the heat-responsive substance on the surface may be fixed as a component of the plate cylinder, or may be detachable. Hereinafter, in the description after FIG. 2, the former in which the simplicity of the present invention is remarkably exhibited, that is, an example in which the plate cylinder is a printing original plate will be described.

【0091】図2は、本発明の第1の実施形態によるオ
フセット印刷装置の構成を示す図である。図2に示すよ
うに本発明の第1の実施形態によるオフセット印刷装置
は、酸化チタンや酸化亜鉛など前記した熱応答型物質を
表面に有する版胴1と、版胴1に対して高温親水性発現
温度で加熱して全面親水性とする高温加熱部2と、必要
に応じて設けてある高温加熱した版胴を疎水性発現温度
以下に冷却する冷却部19と、加熱により全面親水性化
された版胴1に対して疎水性発現温度でヒートモードの
描画を行うための感熱記録部5と、ヒートモードの描画
がなされた版胴1にインキおよび湿し水を供給するイン
キ・湿し水供給部3と、印刷終了後に版胴1に残存する
インキを除去するインキ洗浄部4と、版胴1に保持され
たインキを用紙に転写するための中間体としてのブラン
ケット6と、ブランケット6とともに給送された用紙を
保持する圧胴7とを備え、これらの部材が本体8内に収
容されてなるものである。
FIG. 2 is a diagram showing the configuration of the offset printing apparatus according to the first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 2, the offset printing apparatus according to the first embodiment of the present invention includes a plate cylinder 1 having the above-described thermoresponsive material such as titanium oxide or zinc oxide on its surface, and a high-temperature hydrophilic property for the plate cylinder 1. A high-temperature heating unit 2 that is heated at the developing temperature to make the entire surface hydrophilic, a cooling unit 19 that is provided as needed to cool the high-temperature heated plate cylinder to a temperature lower than the hydrophobic developing temperature, and that the entire surface is made hydrophilic by heating. A thermal recording section 5 for performing drawing in a heat mode on the plate cylinder 1 at a hydrophobic development temperature, and an ink / fountain solution for supplying ink and dampening solution to the plate cylinder 1 on which the drawing in the heat mode is performed. A supply unit 3, an ink washing unit 4 for removing ink remaining on the plate cylinder 1 after printing, a blanket 6 as an intermediate for transferring the ink held on the plate cylinder 1 to paper, and a blanket 6 Holds fed paper A impression cylinder 7 that, these members are made of housed within the body 8.

【0092】次いで、感熱記録部5について説明する。
全面が均一に親水化された版胴1に親油性の画像領域を
形成するには、版胴1の表面を感熱記録部5により画像
様に疎水性発現温度に加熱することによって行われる。
この画像様に加熱する手段としては、前記したように、
赤外線灯、レーザー光、接触加熱などの方法を選択でき
る。
Next, the thermosensitive recording section 5 will be described.
In order to form an oleophilic image area on the plate cylinder 1 whose entire surface is uniformly hydrophilized, the surface of the plate cylinder 1 is heated imagewise to a hydrophobic development temperature by the heat-sensitive recording unit 5.
As a means for heating like this image, as described above,
Methods such as infrared light, laser light, and contact heating can be selected.

【0093】図3は、感熱記録部の典型的な例である感
熱記録ヘッドを用いた感熱記録部の要素構成図である。
図3に示す接触加熱方式の感熱記録部5は、版胴1の表
面に密着してヒートモードによる描画を行う感熱ヘッド
18と、編集・レイアウトW/S20において印刷すべ
き画像から信号化されて記録部に入力される画像信号S
に基づいて、感熱ヘッド18を駆動して版胴1の表面に
ヒートモードによる描画を行うための感熱ヘッド駆動部
19とからなる。感熱ヘッド18は複数の微細な発熱体
が版胴1の回転軸方向にアレイ状またはマトリクス状に
延在しており、1ラインまたは複数ラインごとに版胴1
にヒートモードによる描画を行うものである。そして、
版胴1が回転することにより、版胴1の表面にヒートモ
ードによる描画がなされ、版胴1における描画がなされ
なかった部分が親水性の非画像領域とされ、描画された
部分が親油性の画像領域とされるものである。
FIG. 3 is an element configuration diagram of a thermal recording section using a thermal recording head which is a typical example of the thermal recording section.
The thermal recording unit 5 of the contact heating type shown in FIG. 3 is signalized from a thermal head 18 that performs drawing in a heat mode in close contact with the surface of the plate cylinder 1 and an image to be printed in the editing / layout W / S20. Image signal S input to the recording unit
And a thermal head driving unit 19 for driving the thermal head 18 to draw on the surface of the plate cylinder 1 in the heat mode. The thermal head 18 has a plurality of fine heating elements extending in an array or matrix in the direction of the rotation axis of the plate cylinder 1.
The drawing is performed in the heat mode. And
When the plate cylinder 1 rotates, drawing in the heat mode is performed on the surface of the plate cylinder 1, a portion of the plate cylinder 1 where drawing is not performed is a hydrophilic non-image area, and a drawn portion is lipophilic. This is an image area.

【0094】図4は、感熱記録部5の別の構成例であ
る。図4に示す別の構成例における感熱記録部5は、レ
ーザー光を出射して版胴1に照射するレーザー光源21
と、編集・レイアウトW/S20において印刷すべき画
像から信号化されて記録部に入力される画像信号Sに基
づいて、レーザー光源21を駆動してレーザー光を変調
させて版胴1の表面にヒートモードによる描画を行うた
めのレーザー光源駆動部22とからなる。光源21は出
射されるレーザー光を版胴1の回転軸方向に版胴1に対
して相対的に移動して版胴1上を走査するよう構成され
ており、版胴1が回転することにより、版胴1の表面が
変調されたレーザー光により露光され、版胴1における
レーザー光が照射されなかった部分が親水性の非画像領
域とされ、レーザー光が照射された部分が親油性の画像
領域とされて、ヒートモードによる描画がなされるもの
である。レーザーは、赤外線レーザーが好ましいが、印
刷原板に光熱変換機構が組み込まれていれば、必ずしも
赤外線レーザーでなくてもよい。
FIG. 4 shows another example of the structure of the thermal recording section 5. A thermal recording unit 5 in another configuration example shown in FIG.
The laser light source 21 is driven to modulate the laser light based on the image signal S which is converted from the image to be printed in the editing / layout W / S 20 and input to the recording unit, so that the laser light is modulated on the surface of the plate cylinder 1. And a laser light source driving unit 22 for performing drawing in the heat mode. The light source 21 is configured to move the emitted laser light relative to the plate cylinder 1 in the direction of the rotation axis of the plate cylinder 1 to scan over the plate cylinder 1. The surface of the plate cylinder 1 is exposed to the modulated laser light, the portion of the plate cylinder 1 not irradiated with the laser light is made a hydrophilic non-image area, and the part irradiated with the laser light is the lipophilic image. The area is used for drawing in the heat mode. The laser is preferably an infrared laser, but may not necessarily be an infrared laser as long as the light-to-heat conversion mechanism is incorporated in the printing plate.

【0095】ヒートモードの画像記録を有機化合物の存
在下で行う場合には、図3及び図4に示した感熱記録部
に有機化合物の蒸気を導入するための有機化合物蒸気供
給手段、例えば有機溶剤を満たした蒸発用の容器、さら
にはそれに散気孔を取り付けてあるもの、あるいは簡単
な加熱手段も付属しているものなど、が設けられる。
When image recording in the heat mode is performed in the presence of an organic compound, an organic compound vapor supply means for introducing an organic compound vapor into the heat-sensitive recording section shown in FIGS. 3 and 4, for example, an organic solvent A container for evaporation filled with the above, and further provided with a diffuser, or provided with a simple heating means.

【0096】なお、ここではレーザーを直接変調する方
式を示したが、レーザーと音響光学素子のような外部変
調素子との組み合わせによっても同様に描画できること
はもちろんである。
Although the method of directly modulating the laser has been described here, it goes without saying that the image can be similarly drawn by a combination of the laser and an external modulating element such as an acousto-optical element.

【0097】また、本発明においては、感熱記録部5と
しては、感熱記録ヘッドやレーザー光のみではなく、赤
外線灯の光などの熱線を熱線不透過性の画像マスクを通
して照射する光・熱変換加熱方式、大容量コンデンサー
を用いる高照度瞬間フラッシュを画像マスクを通して行
う光・熱変換加熱方式も採用することができる。
Further, in the present invention, the heat-sensitive recording section 5 includes not only a heat-sensitive recording head and a laser beam but also a light-heat conversion heating device for irradiating a heat ray such as light from an infrared lamp through an image mask impermeable to heat rays. A light-to-heat conversion heating method in which a high-illuminance instant flash using a large-capacity condenser is performed through an image mask can also be adopted.

【0098】次いで、第1の実施形態の動作について説
明する。まず、高温加熱部2を回転しながら通過する版
胴1の部分は、高温加熱部2の発熱抵抗体からの放熱に
よって版胴1の加熱部を通過した全面が加熱され、これ
により、版胴1の表面は親油性から親水性に変化する。
そして、高温加熱が終了すると、親水性化した版胴は、
疎水性発現温度以下に冷却されるが、この冷却には、放
熱による自然冷却方式のほかに、高温加熱部2を加熱す
ると同時に又は加熱終了後に冷却部9の冷却用ジャケッ
トにも冷水を通し、回転する版胴の高温加熱部2を通過
して親水性化した部分を冷却部9で冷却する強制冷却方
式も用いられる。感熱記録部5では、疎水性発現温度へ
の加熱によってヒートモードによる描画が行われる。像
様の加熱が行われた領域は親油性を有する画像領域とな
り、加熱が行われなかった領域は親水性を有する非画像
領域とされる。そして、ヒートモードによる描画が終了
すると、次いで、インキ・湿し水供給部3よりインキお
よび湿し水が版胴1に供給される。これにより、版胴1
の親油性の画像領域にはインキが保持され、親水性の非
画像領域にはインキが保持されることなく湿し水が保持
される。
Next, the operation of the first embodiment will be described. First, the portion of the plate cylinder 1 that passes while rotating the high-temperature heating unit 2 is heated over the entire surface of the plate cylinder 1 that has passed through the heating unit of the plate cylinder 1 due to heat radiation from the heating resistor of the high-temperature heating unit 2. The surface of No. 1 changes from lipophilic to hydrophilic.
When the high-temperature heating is completed, the plate cylinder that has been made hydrophilic is
It is cooled to a temperature not higher than the hydrophobicity development temperature. In addition to the natural cooling method by heat radiation, the cooling is performed by heating the high-temperature heating unit 2 or passing cooling water to the cooling jacket of the cooling unit 9 at the same time or after the heating, A forced cooling system is also used in which a cooling section 9 cools a portion of the rotating plate cylinder that has passed through the high-temperature heating section 2 and has been rendered hydrophilic. In the heat-sensitive recording unit 5, drawing in a heat mode is performed by heating to a temperature at which hydrophobicity is exhibited. The area where imagewise heating is performed is an image area having lipophilicity, and the area where heating is not performed is a non-image area having hydrophilicity. When the drawing in the heat mode is completed, the ink and dampening solution are supplied to the plate cylinder 1 from the ink / fountain solution supply unit 3. Thereby, plate cylinder 1
The lipophilic image area holds ink, and the hydrophilic non-image area holds fountain solution without holding ink.

【0099】その後、ブランケット6と圧胴7との間に
矢印Aに示すように用紙を供給し、版胴1に保持された
インキをブランケット5を介して用紙に転写することに
よりオフセット印刷が行われる。
Thereafter, a sheet is supplied between the blanket 6 and the impression cylinder 7 as shown by an arrow A, and the ink held in the plate cylinder 1 is transferred to the sheet via the blanket 5 to perform offset printing. Is

【0100】印刷終了後、インキ洗浄部4により版胴1
に残存するインキを除去する。その後、版胴1を高温加
熱部2を通して加熱することにより、版胴1の像様の親
油性領域は消去されて、ヒートモードによる描画前の状
態に戻る。
After printing is completed, the ink cylinder 4 is used by the ink washing unit 4.
The remaining ink is removed. Then, by heating the plate cylinder 1 through the high-temperature heating unit 2, the image-like lipophilic area of the plate cylinder 1 is erased, and the state before drawing in the heat mode is returned.

【0101】このように、本発明によるオフセット印刷
装置によれば、全面にわたる高温加熱およびヒートモー
ドによる描画のみで版胴1に印刷画面を形成することが
でき、これにより現像が不要でかつ印刷面の鮮鋭性が保
たれたオフセット印刷を行うことができる。また、版胴
1を洗浄して再度高温加熱することにより元の状態に戻
すことができるため、版胴1を反復使用することがで
き、これにより印刷物を低コストで提供することができ
ることとなる。さらに、印刷装置から版胴1を取り外す
必要がないため、従来のPS版のように印刷装置に組み
込む際にゴミなどが付着することもなくなり、これによ
り、印刷品質を向上させることができる。
As described above, according to the offset printing apparatus of the present invention, a printing screen can be formed on the plate cylinder 1 only by high-temperature heating and drawing in the heat mode over the entire surface. Offset printing in which the sharpness of the image is maintained. In addition, since the original state can be returned by washing the plate cylinder 1 and heating it again at a high temperature, the plate cylinder 1 can be used repeatedly, whereby the printed matter can be provided at low cost. . Further, since there is no need to remove the plate cylinder 1 from the printing apparatus, dust and the like do not adhere to the printing apparatus as in the case of a conventional PS plate, thereby improving print quality.

【0102】また、印刷用原板として版胴1を使用し、
版胴1の周囲に高温加熱部2、インキ・湿し水供給部
3、インキ洗浄部4および感熱記録部5を配設すること
により、単に版胴1を回転させるのみで、原板の全面親
水性化、ヒートモードによる描画およびインキおよび湿
し水の供給、さらには印刷終了後のインキ洗浄を行うこ
とができるため、装置をコンパクトに構成することがで
き、これにより省スペース化を図ることができる。 以
下に本発明の上記の態様にしたがって行われた実施例1
について記す。
Further, the plate cylinder 1 was used as a printing original plate,
By arranging the high-temperature heating unit 2, the ink / fountain solution supply unit 3, the ink washing unit 4, and the thermal recording unit 5 around the plate cylinder 1, simply rotating the plate cylinder 1 makes the entire surface of the original plate hydrophilic. Since it is possible to perform printing in the heat mode, supply ink and dampening water, and further perform ink washing after printing, the apparatus can be made compact and space can be saved. it can. Example 1 performed below in accordance with the above aspect of the present invention
Is described.

【0103】〔実施例1〕上記実施形態1による実施例
を示す。99.5重量%アルミニウムに、銅を0.01
重量%、チタンを0.03重量%、鉄を0.3重量%、
ケイ素を0.1重量%含有するJISA1050アルミ
ニウム材の厚み0.30mm圧延板を、400メッシュの
パミストン(共立窯業製)の20重量%水性懸濁液と、
回転ナイロンブラシ(6,10−ナイロン)とを用いて
その表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。これを
15重量%水酸化ナトリウム水溶液(アルミニウム4.
5重量%含有)に浸漬してアルミニウムの溶解量が5g/
m2になるようにエッチングした後、流水で水洗した。更
に、1重量%硝酸で中和し、次に0.7重量%硝酸水溶
液(アルミニウム0.5重量%含有)中で、陽極時電圧
10.5ボルト、陰極時電圧9.3ボルトの矩形波交番
波形電圧(電流比r=0.90、特公昭58−5796
号公報実施例に記載されている電流波形)を用いて16
0クローン/dm2の陽極時電気量で電解粗面化処理を行
った。水洗後、35℃の10重量%水酸化ナトリウム水
溶液中に浸漬して、アルミニウム溶解量が1g/m2になる
ようにエッチングした後、水洗した。次に、50℃、3
0重量%の硫酸水溶液中に浸漬し、デスマットした後、
水洗した。
[Example 1] An example according to the first embodiment will be described. Copper is added to 99.5% by weight aluminum.
Weight%, titanium 0.03 weight%, iron 0.3 weight%,
A 0.30 mm-thick rolled sheet of JIS A1050 aluminum material containing 0.1% by weight of silicon was mixed with a 20% by weight aqueous suspension of pumicestone (manufactured by Kyoritsu Ceramics) of 400 mesh,
The surface was grained using a rotating nylon brush (6,10-nylon), and then thoroughly washed with water. This was treated with a 15% by weight aqueous sodium hydroxide solution (aluminum 4.
5% by weight) and the amount of aluminum dissolved is 5 g /
After etching to m 2 , it was washed with running water. Further, it is neutralized with 1% by weight nitric acid, and then, in a 0.7% by weight aqueous nitric acid solution (containing 0.5% by weight of aluminum), a rectangular wave having a voltage of 10.5 volts at the time of anode and a voltage of 9.3 volts at the time of cathode. Alternating waveform voltage (current ratio r = 0.90, Japanese Patent Publication No. 58-5796)
Using the current waveform described in the embodiment of
Electrolytic surface-roughening treatment was carried out at an anode charge of 0 clones / dm 2 . After washing with water, it was immersed in a 10% by weight aqueous solution of sodium hydroxide at 35 ° C., etched so that the amount of aluminum dissolved was 1 g / m 2 , and then washed with water. Next, at 50 ° C, 3
After immersing in 0% by weight sulfuric acid aqueous solution and desmutting,
Washed with water.

【0104】さらに、35℃の硫酸20重量%水溶液
(アルミニウム0.8重量%含有)中で直流電流を用い
て、多孔性陽極酸化皮膜形成処理を行った。即ち電流密
度13A/dm2で電解を行い、電解時間の調節により陽極
酸化皮膜重量2.7g/m2とした。この支持体を水洗後、
70℃のケイ酸ナトリウムの3重量%水溶液に30秒間
浸漬処理し、水洗乾燥した。以上のようにして得られた
アルミニウム支持体は、マクベスRD920反射濃度計
で測定した反射濃度は0.30で、中心線平均粗さは
0.58μmであった。次いでこのアルミニウム支持体
を真空蒸着装置内に入れて、全圧1.5x10 -4Torrに
なるように分圧70%の酸素ガスの条件下でチタン金属
片を電熱加熱して、アルミニウム支持体上に蒸着して酸
化チタン薄膜を形成した。この薄膜の結晶成分はX線解
析法によって無定型/アナターゼ/ルチル結晶構造の比
が1.5/6.5/2であり、TiO2薄膜の厚さは900
オングストロームであった。これを版胴1の基体に巻き
付けて機上印刷用の原板とした。
Further, a 20% by weight aqueous solution of sulfuric acid at 35 ° C.
DC current in (aluminum 0.8% by weight)
Then, a porous anodic oxide film forming treatment was performed. That is, current density
Degree 13A / dmTwoPerform electrolysis with the anode and adjust the electrolysis time
Oxide film weight 2.7g / mTwoAnd After washing this support with water,
30 seconds in a 3% by weight aqueous solution of sodium silicate at 70 ° C
It was immersed, washed and dried. Obtained as above
Aluminum support is Macbeth RD920 reflection densitometer
Is 0.30, and the center line average roughness is
It was 0.58 μm. Then this aluminum support
Into a vacuum evaporation apparatus, and a total pressure of 1.5 × 10 -FourTorr
Titanium metal under the condition of oxygen gas with a partial pressure of 70%
The piece is heated electrically to deposit it on an aluminum
A titanium oxide thin film was formed. X-ray solution
Amorphous / anatase / rutile crystal structure ratio by precipitation method
Is 1.5 / 6.5 / 2 and TiOTwoThe thickness of the thin film is 900
Angstrom. This is wound around the substrate of plate cylinder 1
This was used as an original plate for on-press printing.

【0105】高温加熱部2の発熱抵抗体に通電して、原
板を巻き付けた版胴1をゆっくり回転させた。発熱部を
通過する原板の温度が300°C以上(最高380°
C)となる加熱域の通過時間が2分であった。通電を停
止し、自然放置して版胴の温度が室温に戻ってから、協
和界面科学株式会社製CONTACT-ANGLE METER CA-Dを用い
て空中水滴法で表面の水に対する接触角を測定したとこ
ろ、いずれの部分も7〜9度の間にあった。
The heating resistor of the high-temperature heating section 2 was energized to slowly rotate the plate cylinder 1 around which the original plate was wound. The temperature of the original sheet passing through the heating section is 300 ° C or higher (up to 380 °
The passing time in the heating zone as C) was 2 minutes. The energization was stopped and the plate cylinder was allowed to cool to room temperature. , And each part was between 7 and 9 degrees.

【0106】次に、感熱記録部5のTa-SiO2 発熱抵抗体
上にサイアロン耐磨耗保護層を設けた150μmx15
0μmのサーマルヘッドを250μm間隔に並べた発熱
体アレイを用いて、酸化チタン表面層と接触させて昇温
印字を行った。使用したサーマルヘッドは、5msec
通電によって210°Cに、10msec通電によって
450°Cに達するが、熱伝導度の低い陽極酸化皮膜表
面を2.5m/secで走査しながら連続通電する場合
には、その表面はほぼ210°Cに保たれることを別途
温度測定を行って確認した。記録速度は、2.5m/s
ecで行った。このとき、接触角は、図1に示した実験
例から,協和界面科学株式会社製CONTACT-ANGLE METER
CA-Dを用いて空中水滴法で測定した水に対する接触角は
50度とみなすことができる。
Next, a 150 μm × 15 layer having a sialon wear-resistant protective layer provided on the Ta—SiO 2 heating resistor of the thermal recording section 5 was prepared.
Using a heating element array in which thermal heads of 0 μm are arranged at intervals of 250 μm, the prints were heated by bringing them into contact with the titanium oxide surface layer. The used thermal head is 5msec
It reaches 210 ° C. by energization and reaches 450 ° C. by energization for 10 msec. Temperature was separately confirmed by temperature measurement. Recording speed is 2.5m / s
ec. At this time, the contact angle was determined from the experimental example shown in FIG. 1 by CONTACT-ANGLE METER manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.
The contact angle with water measured by the air drop method using CA-D can be regarded as 50 degrees.

【0107】この版胴1をサクライ社製オリバー52片
面印刷機に使用して、インキ・湿し水供給部3において
湿し水を純水、インキを大日本インキ化学工業社製Newc
hampion Fグロス85墨を用いて1000枚オフセット
印刷を行った。スタートから終了まで鮮明な印刷物が得
られ、版胴1の損傷も認められなかった。
The plate cylinder 1 is used for a single-sided printing machine of Oliver 52 manufactured by Sakurai Co., and the dampening water is supplied to the ink / fountain solution supply unit 3 by using pure water, and the ink is supplied by Newc manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.
Offset printing was performed on 1,000 sheets using hampion F gloss 85 ink. A clear printed matter was obtained from the start to the end, and no damage to the plate cylinder 1 was observed.

【0108】次いで洗浄部4において、版胴1の表面を
印刷用インキ洗浄液ダイクリーンR(発売元;大日本イ
ンキ化学工業社)とトルエンの1/1混合液をウエスに
しみ込ませて丁寧に洗浄してインキを除去した。再び高
温加熱部2を通電して前と同じ条件で加熱した後、室温
まで冷えた状態で前と同様の方法で接触角を測定した。
版表面のどの部分も7〜9度の間にあった。
Next, in the washing section 4, the surface of the plate cylinder 1 is thoroughly washed by impregnating a 1/1 mixed solution of printing ink washing liquid Daiclean R (released by Dainippon Ink and Chemicals) and toluene into a waste cloth. To remove the ink. After energizing the high-temperature heating unit 2 again and heating it under the same conditions as before, the contact angle was measured by the same method as before while cooling to room temperature.
Every part of the plate surface was between 7 and 9 degrees.

【0109】次いで、この版胴1の表面に上記と同一の
条件でサーマルヘッドによって前とは異なる描画を行っ
た。この版胴1をサクライ社製オリバー52片面印刷機
に使用して、インキ・湿し水供給部3において湿し水を
純水、インキを大日本インキ化学工業社製Newchampion
Fグロス85墨を用いて1000枚オフセット印刷を行
った。スタートから終了まで鮮明な印刷物が得られ、版
胴1の損傷も認められなかった。
Next, on the surface of the plate cylinder 1, a different drawing was performed by a thermal head under the same conditions as described above. The plate cylinder 1 is used for a single-sided printing press of Oliver 52 manufactured by Sakurai Co., Ltd., and the dampening solution is supplied to the ink / fountain solution supply unit 3 by pure water and the ink is supplied by Dainippon Ink and Chemicals, Newchampion.
Offset printing was performed on 1000 sheets using F gloss 85 ink. A clear printed matter was obtained from the start to the end, and no damage to the plate cylinder 1 was observed.

【0110】以上の繰り返しを5回実施したところ、高
温加熱後の接触角の値、加熱による接触角の回復スピー
ド及び印刷面の画像の鮮明さの変化は認められなかっ
た。この結果から、酸化チタン層をアルミニウム支持体
上に設けた印刷原板を使用し、形態1の印刷装置を用い
て高温加熱とヒートモード印字によって印刷が可能であ
り、しかもインキの洗浄除去のみで印刷原板を反復再生
使用できることが示された。
When the above repetition was performed 5 times, no change was observed in the contact angle value after heating at a high temperature, the contact angle recovery speed due to heating, and the sharpness of the image on the printed surface. From these results, it is possible to print by high-temperature heating and heat mode printing using a printing plate of form 1 using a printing original plate provided with a titanium oxide layer on an aluminum support, and printing only by washing and removing the ink. It was shown that the original could be reused repeatedly.

【0111】〔実施例2〕真空蒸着装置中に100ミク
ロン厚みのSUS板をセットして全圧5x10-3Torrの
真空下でセレン化亜鉛を1000オングストロームの厚
みに蒸着した。これを空気中600°Cで2時間酸化処
理してSUS板の片面に酸化亜鉛の薄膜を形成させた。
Example 2 A SUS plate having a thickness of 100 μm was set in a vacuum vapor deposition apparatus, and zinc selenide was vapor-deposited to a thickness of 1000 Å under a vacuum of a total pressure of 5 × 10 −3 Torr. This was oxidized in air at 600 ° C. for 2 hours to form a zinc oxide thin film on one surface of the SUS plate.

【0112】この酸化亜鉛皮膜付き100ミクロンSU
S板を実施例1と同じく、実施形態1の印刷装置の版胴
1の基体に巻き付けて機上製版型の原板とした。
100 micron SU with zinc oxide coating
The S plate was wound around the substrate of the plate cylinder 1 of the printing apparatus of the first embodiment in the same manner as in the first embodiment to obtain an on-press plate making type original plate.

【0113】高温加熱部2の発熱抵抗体に通電して、原
板を巻き付けた版胴1をゆっくり回転させた。発熱部を
通過する原板の温度が300°C以上(最高380°
C)となる加熱域の通過時間が2分であった。通電を停
止し、自然放置して版胴の温度が室温に戻ってから、協
和界面科学株式会社製CONTACT-ANGLE METER CA-Dを用い
て空中水滴法で表面の水に対する接触角を測定したとこ
ろ、いずれの部分も15〜18度の間にあった。
Electric current was supplied to the heating resistor of the high-temperature heating section 2 to slowly rotate the plate cylinder 1 around which the original plate was wound. The temperature of the original sheet passing through the heating section is 300 ° C or higher (up to 380 °
The passing time in the heating zone as C) was 2 minutes. The energization was stopped and the plate cylinder was allowed to cool to room temperature. , Both parts were between 15 and 18 degrees.

【0114】次に、感熱記録部5のTa-SiO2 発熱抵抗体
上にサイアロン耐磨耗保護層を設けた150μmx15
0μmのサーマルヘッドを250μm間隔に並べた発熱
体アレイを用いて、酸化チタン表面層と接触させて昇温
印字を行った。使用したサーマルヘッドの走査速度を、
2.5m/secとしたときに通電によって酸化亜鉛の
表面は210°Cに保たれることを別途温度測定を行っ
て確認した。記録速度は、2.5m/secで行った。
Next, a 150 μm × 15 sialon wear-resistant protective layer was provided on the Ta—SiO 2 heating resistor of the thermal recording section 5.
Using a heating element array in which thermal heads of 0 μm are arranged at intervals of 250 μm, the prints were heated by bringing them into contact with the titanium oxide surface layer. Set the scanning speed of the used thermal head to
It was confirmed by separately performing temperature measurement that the surface of zinc oxide was kept at 210 ° C. by energization at 2.5 m / sec. The recording speed was 2.5 m / sec.

【0115】この版胴1をサクライ社製オリバー52片
面印刷機に使用して、インキ・湿し水供給部3において
湿し水を純水、インキを大日本インキ化学工業社製Newc
hampion Fグロス85墨を用いて1000枚オフセット
印刷を行った。スタートから終了まで鮮明な印刷物が得
られ、版胴1の損傷も認められなかった。
The plate cylinder 1 is used in a single-sided printing machine of Oliver 52 manufactured by Sakurai Co., Ltd., and the dampening water is supplied to the ink / fountain solution supply unit 3 by pure water, and the ink is supplied by Newc manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.
Offset printing was performed on 1,000 sheets using hampion F gloss 85 ink. A clear printed matter was obtained from the start to the end, and no damage to the plate cylinder 1 was observed.

【0116】次いで洗浄部4において、版胴1の表面を
印刷用インキ洗浄液ダイクリーンR(発売元;大日本イ
ンキ化学工業社)とトルエンの1/1混合液をウエスに
しみ込ませて丁寧に洗浄してインキを除去した。再び高
温加熱部5を通電して前と同じ条件で加熱した後、室温
まで冷えた状態で前と同様の方法で接触角を測定した。
版表面のどの部分も15〜18度の間にあった。
Next, in the washing section 4, the surface of the plate cylinder 1 is thoroughly washed by soaking a 1/1 mixture of a printing ink washing liquid Daiclean R (released by Dainippon Ink and Chemicals) and toluene into a waste cloth. To remove the ink. After energizing the high-temperature heating unit 5 again to heat it under the same conditions as before, the contact angle was measured by the same method as before while cooling to room temperature.
Every part of the plate surface was between 15 and 18 degrees.

【0117】次いで、この版胴1の表面に上記と同一の
条件でサーマルヘッドによって前とは異なる描画を行っ
た。この版胴1をサクライ社製オリバー52片面印刷機
に使用して、インキ・湿し水供給部3において湿し水を
純水、インキを大日本インキ化学工業社製Newchampion
Fグロス85墨を用いて1000枚オフセット印刷を行
った。スタートから終了まで鮮明な印刷物が得られ、版
胴1の損傷も認められなかった。
Next, a different image was drawn on the surface of the plate cylinder 1 with a thermal head under the same conditions as described above. The plate cylinder 1 is used for a single-sided printing press of Oliver 52 manufactured by Sakurai Co., Ltd., and the dampening solution is supplied to the ink / fountain solution supply unit 3 by pure water and the ink is supplied by Dainippon Ink and Chemicals, Newchampion.
Offset printing was performed on 1000 sheets using F gloss 85 ink. A clear printed matter was obtained from the start to the end, and no damage to the plate cylinder 1 was observed.

【0118】この結果から、酸化亜鉛層をSUS支持体
上に設けた印刷原板を使用し、態様1の印刷装置を用い
て高温加熱とヒートモード印字によって印刷が可能であ
り、しかもインキの洗浄除去のみで印刷原板を反復再生
使用できることが示された。
From these results, it is possible to perform printing by high-temperature heating and heat mode printing using the printing plate of Embodiment 1 using a printing original plate provided with a zinc oxide layer on a SUS support, and furthermore, washing and removing the ink. It was shown that only the original printing plate could be reused repeatedly.

【0119】〔実施例3〕実施例1と同様にして陽極酸
化処理したアルミニウム支持体をCsLa2 NbTi2
10の化学量論比に相当するセシウムエトキシド、チタ
ンブトキシド、ランタンイソブトキシド、ニオブエトキ
シドを含む20%のエタノール溶液に浸漬して表面を加
水分解したのち280°Cに加熱してアルミニウム支持
体表面にCsLa2 NbTi2 10の厚み1000オン
グストロームの薄膜を形成させた。
[Example 3] An aluminum support anodized in the same manner as in Example 1 was replaced with CsLa 2 NbTi 2.
The surface was hydrolyzed by immersion in a 20% ethanol solution containing cesium ethoxide, titanium butoxide, lanthanum isobutoxide, and niobium ethoxide corresponding to the stoichiometric ratio of O 10 , and the surface was hydrolyzed. A thin film of CsLa 2 NbTi 2 O 10 having a thickness of 1000 Å was formed on the body surface.

【0120】この複合金属酸化物薄膜付きアルミニウム
支持体を版胴の基体に巻き付けて原板とした以外は、実
施例1と同じ製版、印刷及びインキ洗浄除去、再印刷を
行った。高温加熱による親水性化領域の水に対する接触
角は、1回目及び2回目とも15〜22度であり、ま
た、印刷面の品質も1回目及び2回目とも地汚れはな
く、画像領域と非画像領域の識別性も十分であった。
The same plate making, printing, washing with ink, and reprinting were performed in the same manner as in Example 1 except that the aluminum support with the composite metal oxide thin film was wound around the base of the plate cylinder to form an original plate. The contact angle of water to the hydrophilic region by the high-temperature heating is 15 to 22 degrees for the first and second times, and the quality of the printed surface is free from background smear for both the first and second times. The discrimination of the regions was also sufficient.

【0121】〔実施例4〕実施例1で使用したものと同
じ粗面化処理と陽極酸化処理を施したアルミニウム支持
体を使用してチタン酸バリウムを熱応答性金属酸化物と
した原板を作製した。すなわち、上記アルミニウム支持
体をスパッタリング装置内にセットし、5.0x10-7
Torrまで真空排気する。支持体を200°Cに加熱し、
Ar/O2が90/10(モル比)となるようにガス圧
を5x10-3Torrに設定し、SiO 2 のターゲットにR
Fパワー200Wを投入してSiO2 の1μmの薄層を
形成した。続いてArのガス圧を5x10-3Torrに設定
し、SiのターゲットにRFパワー200Wを投入して
Siの1μmの薄膜を形成した。続いてArのガス圧を
5x10-3Torrに設定し、6インチφのチタン酸バリウ
ムの焼結ターゲットにRFパワー200Wを投入して膜
厚1000Åのチタン酸バリウム薄膜を形成した。X線
解析法によれば、この薄膜は多結晶体であった。
Example 4 Same as that used in Example 1.
Aluminum support with roughening and anodizing
Using barium titanate as a thermo-responsive metal oxide
An original plate was produced. That is, the above aluminum support
The body was set in a sputtering apparatus and 5.0 × 10-7
Evacuate to Torr. Heating the support to 200 ° C.,
Ar / OTwoGas pressure so as to be 90/10 (molar ratio)
To 5x10-3Set to Torr, SiO TwoR target
F power 200W is input and SiOTwo1μm thin layer of
Formed. Subsequently, the Ar gas pressure was set to 5 × 10-3Set to Torr
Then, apply RF power 200W to the Si target
A 1 μm thin film of Si was formed. Then the gas pressure of Ar
5x10-3Torr, 6 inch φ barium titanate
RF power 200W is applied to the sintering target
A barium titanate thin film having a thickness of 1000 ° was formed. X-ray
According to the analysis method, this thin film was polycrystalline.

【0122】このチタン酸バリウム薄膜と光熱変換性の
Si薄膜及びSiO2 の断熱層を載せたアルミニウム支
持体を版胴の基体に巻き付けて原板として使用したこと
と、感熱記録部に感熱記録ヘッドの代わりに赤外線レー
ザー光記録装置を使用した以外は、実施例1と同じ製
版、印刷及びインキ洗浄除去、再印刷を行った。赤外線
レーザー光記録装置は、出力500mWの固体赤外線レ
ーザー光をビーム幅45ミクロンに絞って走査露光によ
って描画を行った。この場合、照射した赤外線光をSi
層が吸収して発熱するのでチタン酸バリウム層を加熱で
きる。なお、感熱ヘッドとの接触によって測定した試験
との比較によって、上記の条件で赤外線レーザー描画を
行った時の光照射部のチタン酸バリウム層の温度は、2
50℃であることが判っている。高温加熱による親水性
化領域の水に対する接触角は、1回目及び2回目とも1
4〜20度であり、また、印刷面の品質も1回目及び2
回目とも地汚れはなく、画像領域と非画像領域の識別性
も十分であった。
The barium titanate thin film and the aluminum support on which the light-to-heat converting Si thin film and the heat insulating layer of SiO 2 were mounted were wound around the base of the plate cylinder and used as a master plate. The same plate making, printing, ink washing and removal, and reprinting were performed as in Example 1 except that an infrared laser light recording device was used instead. In the infrared laser light recording apparatus, drawing was performed by scanning exposure with a beam width of 45 μm of a solid infrared laser light having an output of 500 mW. In this case, the irradiated infrared light is
Since the layer absorbs heat and generates heat, the barium titanate layer can be heated. The temperature of the barium titanate layer in the light-irradiated portion when performing infrared laser drawing under the above conditions was determined by comparison with a test measured by contact with the thermal head.
It has been found to be 50 ° C. The contact angle of water to the hydrophilic region by high-temperature heating was 1 for both the first and second times.
4 to 20 degrees, and the quality of the printed surface
There were no background stains at each time, and the discrimination between the image area and the non-image area was sufficient.

【0123】〔実施例5〕厚み100ミクロンのポリイ
ミド(無水ピロメリット酸・m−フェニレンジアミン共
重合物)フィルム(商品名;カプトン、東レ・デュポン
社製)を使用して実施例4と同様に光熱変換層を設けて
その上に二酸化チタン薄膜を設けた試料を作製した。す
なわち、上記アルミニウム支持体をスパッタリング装置
内にセットし、5.0x10-7Torrまで真空排気する。
支持体を200℃に加熱し、Ar/O2 が90/10
(モル比)となるようにガス圧を5×10-3Torrに設定
し、SiO2 のターゲットにRFパワー200Wを投入
してSiO2 の1μmの薄層を形成した。続いてArの
ガス圧を5×10-3Torrに設定し、Siのターゲットに
RFパワー200Wを投入してSiの1μmの薄膜を形
成した。さらに、Ar/O2 が60/40(モル比)と
なるようにガス圧を5×10-3Torrに設定し、ガス圧を
5×10-3Torrに設定し、チタン金属のターゲットにR
Fパワー200Wを投入して二酸化チタン薄膜を蒸着形
成した。この薄膜の結晶成分はX線解析法によって無定
型/アナターゼ/ルチル結晶構造の比が1.5/6.5
/2であり、二酸化チタン薄膜の厚さは900オングス
トロームであった。この二酸化チタン薄膜と光熱変換性
のSi薄膜及びSiO2 の断熱層を載せたポリイミド支
持体を版胴の基体に巻き付けて原板として使用したこと
と、感熱記録部に感熱記録ヘッドの代わりに赤外線レー
ザー光記録装置を使用した以外は、実施例1と同じ製
版、印刷及びインキ洗浄除去、再印刷を行った。赤外線
レーザー光記録装置は、出力500mWの固体赤外線レ
ーザー光をビーム幅45ミクロンに絞って走査露光によ
って描画を行った。高温加熱による親水性化領域の水に
対する接触角は、1回目及び2回目とも11〜17度で
あり、また、印刷面の品質も1回目及び2回目とも地汚
れはなく、画像領域と非画像領域の識別性も十分であっ
た。
Example 5 A polyimide (pyromellitic anhydride / m-phenylenediamine copolymer) film (trade name: Kapton, manufactured by Dupont Toray Co., Ltd.) having a thickness of 100 μm was used in the same manner as in Example 4. A sample was prepared in which a light-to-heat conversion layer was provided and a titanium dioxide thin film was provided thereon. That is, the aluminum support is set in a sputtering apparatus, and evacuated to 5.0 × 10 −7 Torr.
The support was heated to 200 ° C. and the Ar / O 2 was 90/10
The gas pressure so that the molar ratio was set to 5 × 10 -3 Torr, to form a thin layer of SiO 2 of 1μm by supplying an RF power 200W to SiO 2 target. Subsequently, the gas pressure of Ar was set to 5 × 10 −3 Torr, and RF power of 200 W was applied to a Si target to form a 1 μm thin film of Si. Further, to set the gas pressure so as Ar / O 2 is 60/40 (molar ratio) to 5 × 10 -3 Torr, the gas pressure was set to 5 × 10 -3 Torr, R a titanium metal target
An F power of 200 W was applied to form a titanium dioxide thin film by vapor deposition. The crystal component of this thin film was determined to have an amorphous / anatase / rutile crystal structure ratio of 1.5 / 6.5 by X-ray analysis.
/ 2, and the thickness of the titanium dioxide thin film was 900 Å. The polyimide support on which the titanium dioxide thin film, the light-heat converting Si thin film and the heat insulating layer of SiO 2 were mounted was wound around the substrate of the plate cylinder and used as an original plate, and an infrared laser was used instead of the thermal recording head in the thermal recording section. Except that an optical recording apparatus was used, the same plate making, printing, ink washing and removal, and reprinting were performed as in Example 1. In the infrared laser light recording apparatus, drawing was performed by scanning exposure with a beam width of 45 μm of a solid infrared laser light having an output of 500 mW. The contact angle of water to the hydrophilic region by the high-temperature heating is 11 to 17 degrees in the first and second times, and the quality of the printed surface is free from background smear in the first and second times. The discrimination of the regions was also sufficient.

【0124】〔実施例6〕感熱記録部の空気取り入れ口
に内径約30mmの硝子管(分液ろ斗を転用)を横向き
に配置し、室内の空気がこの硝子管内を通過して感熱記
録部の内部に取り込まれる構造とした。シリコーンオイ
ル〔商品名シリコーンKF99(信越化学工業(株)
製〕を含浸させた珪草土を容積率が50%となるように
硝子管の下半分に流しこんだ。空気取り入れ口の温度
は、この管を通過中に室温から150℃に上昇する。シ
リコーンKF99は、この温度では少なくとも1mmH
g以上の蒸気圧を持つので、感熱記録部の内部に取り入
れられた空気は、シリコーンKF99の蒸気を含んでい
る。空間部の内容積が2リットルの管熱記録部における
空気交換速度は、毎分10vol%であった。このオル
ガノポリシロキサン化合物の蒸気を導入する以外は、実
施例1と同じ原板と同じ装置を使用して、同じ条件で製
版し、印刷を行い、使用済みの印刷版を同じ方法で再生
して再度印刷を行った。ヒートモード記録した画像領域
の水に対する極大接触角は、190℃に現れ、その水に
対する接触角の値(協和界面科学株式会社製CONTACT-AN
GLE METER CA-Dを用いて空中水滴法で測定)は、73度
であった。この結果を実施例1で得た結果と比較する
と、疎水性発現温度での加熱を有機珪素化合物蒸気の存
在下で行うことによって、接触角が極大となる温度が変
化するが、同時に接触角が著しく増加して親油性〜親水
性の識別性が向上したことが判る。
[Example 6] A glass tube having an inner diameter of about 30 mm (a diversion filter was diverted) was placed sideways at the air intake of the thermal recording unit, and the air in the room passed through the glass tube and passed through the thermal recording unit. The structure is taken into the inside of the. Silicone oil [Product name: Silicone KF99 (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
) Was poured into the lower half of the glass tube so that the volume ratio became 50%. The temperature of the air intake rises from room temperature to 150 ° C. while passing through the tube. Silicone KF99 has at least 1 mmH
Since the air has a vapor pressure of not less than g, the air introduced into the heat-sensitive recording section contains the vapor of silicone KF99. The air exchange rate in the tube heat recording unit having the internal volume of the space of 2 liters was 10 vol% per minute. Except that the vapor of the organopolysiloxane compound is introduced, plate making and printing are performed under the same conditions using the same original plate and the same apparatus as in Example 1, and the used printing plate is reproduced by the same method and re-used. Printing was done. The maximum contact angle with water of the image area recorded in the heat mode appears at 190 ° C., and the value of the contact angle with water (CONTACT-AN manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.)
GLE METER CA-D as measured by the air drop method) was 73 degrees. When this result is compared with the result obtained in Example 1, the temperature at which the contact angle is maximized changes by performing the heating at the hydrophobic development temperature in the presence of the organosilicon compound vapor. It can be seen that the lipophilicity-hydrophilicity discrimination property was remarkably increased.

【0125】ついで、この印刷版を使用して、1000
枚のオフセット印刷を行った。実施例1と同様にスター
トから終了まで鮮明な印刷物が得られたが、さらに印刷
を続けて5000枚の印刷を行ったときには、シリコー
ンKF99を存在させないで印刷した実施例1において
は、目視で認められるインキ汚れが生じたが、シリコー
ンKF99の存在下で印刷を行った実施例6では、イン
キ汚れは認められず、版胴1の損傷も認められなかっ
た。
Next, using this printing plate, 1000
Offset printing of one sheet was performed. A clear printed matter was obtained from the start to the end as in Example 1. However, when printing was continued and 5000 sheets were printed, in Example 1 in which the silicone KF99 was used and printing was performed, it was visually recognized. However, in Example 6 in which printing was performed in the presence of silicone KF99, no ink stain was found and no damage to the plate cylinder 1 was found.

【0126】次いで、本発明の第2の実施形態について
説明する。 〔実施形態2〕図5は本発明の第2の実施形態によるオ
フセット印刷装置の構成を示す図である。図5に示すオ
フセット印刷装置は、図2に示すオフセット印刷装置を
印刷ユニット11Y,11M,11C,11Bとして4
台直列に本体12内に配置して構成されるものであり、
それぞれ、Y(イエロー)、M(マゼンタ)、C(シア
ン)、B(ブラック)のインキを使用してカラー印刷を
行うものである。
Next, a second embodiment of the present invention will be described. [Embodiment 2] FIG. 5 is a view showing the configuration of an offset printing apparatus according to a second embodiment of the present invention. The offset printing apparatus shown in FIG. 5 is similar to the offset printing apparatus shown in FIG.
It is configured by being arranged in series in the main body 12,
Color printing is performed using inks of Y (yellow), M (magenta), C (cyan), and B (black), respectively.

【0127】各印刷ユニット11Y,11M,11C,
11Bの構成および動作は、図2に示すオフセット印刷
装置と同一であるため、詳細な説明は省略する。第2の
実施形態においては、各印刷ユニット11Y,11M,
11C,11Bのインキ・湿し水供給部において供給さ
れるインキの色が、それぞれ、Y(イエロー)、M(マ
ゼンタ)、C(シアン)、B(ブラック)である点が異
なるものである。
Each of the printing units 11Y, 11M, 11C,
Since the configuration and operation of 11B are the same as those of the offset printing apparatus shown in FIG. 2, detailed description will be omitted. In the second embodiment, each of the printing units 11Y, 11M,
The difference is that the colors of the inks supplied in the ink / fountain solution supply units 11C and 11B are Y (yellow), M (magenta), C (cyan), and B (black), respectively.

【0128】次いで、第2の実施形態の動作について説
明する。まず、印刷ユニット11Y,11M,11C,
11Bにおいて版胴1をゆっくり回転させながら高温加
熱部の発熱抵抗体に通電することによって版胴1の全面
を350℃の高温加熱部を2分間で通過させることによ
り、版胴全面を親水性にした後に、実施例1に記した感
熱ヘッドによる感熱記録により各色を表す画像をヒート
モードによって描画する。そして、各印刷ユニット11
Y,11M,11C,11Bのインキ・湿し水供給部か
らY,M,C,Bそれぞれの色のインキを供給して、各
印刷ユニット11Y,11M,11C,11Bの版胴1
にインキおよび湿し水を保持する。その後、図5の矢印
Bに示すように用紙を供給して、各印刷ユニット11
Y,11M,11C,11Bのインキを用紙に転写す
る。すなわち、印刷ユニット11YにおいてはYのイン
キが転写され、印刷ユニット11MにおいてはMのイン
キが転写され、印刷ユニット11CにおいてはCのイン
キが転写され、印刷ユニット11BにおいてはBのイン
キが転写される。これにより、用紙にはカラー画像が印
刷されることとなる。
Next, the operation of the second embodiment will be described. First, the printing units 11Y, 11M, 11C,
In 11B, the entire surface of the plate cylinder 1 is made hydrophilic by passing the entire surface of the plate cylinder 1 through the high-temperature heating unit at 350 ° C. for 2 minutes by applying a current to the heating resistor of the high-temperature heating unit while slowly rotating the plate cylinder 1 in 11B. After that, an image representing each color is drawn in the heat mode by the thermal recording using the thermal head described in the first embodiment. And each printing unit 11
Y, M, C, and B inks are supplied from ink / fountain solution supply units of Y, 11M, 11C, and 11B, and the plate cylinders 1 of the printing units 11Y, 11M, 11C, and 11B are supplied.
Hold the ink and fountain solution. Thereafter, paper is supplied as shown by arrow B in FIG.
The Y, 11M, 11C, and 11B inks are transferred to paper. That is, in the printing unit 11Y, the Y ink is transferred, in the printing unit 11M, the M ink is transferred, in the printing unit 11C, the C ink is transferred, and in the printing unit 11B, the B ink is transferred. . As a result, a color image is printed on the sheet.

【0129】印刷終了後、各印刷ユニット11Y,11
M,11C,11Bのインキ洗浄部により版胴に残存す
るインキを除去する。その後、版胴1をゆっくり回転さ
せながら高温加熱部の発熱抵抗体に通電することによっ
て版胴1の全面を350℃で15秒間加熱することによ
り、版胴1はヒートモードによる描画前の状態に戻る。
After the printing, the printing units 11Y and 11Y
The ink remaining on the plate cylinder is removed by the ink cleaning units M, 11C and 11B. Thereafter, the entire surface of the plate cylinder 1 is heated at 350 ° C. for 15 seconds by energizing the heating resistor of the high-temperature heating unit while slowly rotating the plate cylinder 1, so that the plate cylinder 1 is brought into a state before drawing in the heat mode. Return.

【0130】〔実施形態3〕次いで、本発明の第3の実
施形態について説明する。図6は本発明の第3の実施形
態によるオフセット印刷装置の構成を示す図であり、図
7は図6の要部拡大図である。図6に示すオフセット印
刷装置は、図2に示すオフセット印刷装置を印刷ステー
ション14Y,14M,14C,14Bとして本体15
内において圧胴7の周囲に配置して構成されるものであ
り、それぞれ、Y(イエロー)、M(マゼンタ)、C
(シアン)、B(ブラック)のインキを使用してカラー
印刷を行うものである。
[Embodiment 3] Next, a third embodiment of the present invention will be described. FIG. 6 is a diagram showing a configuration of an offset printing apparatus according to a third embodiment of the present invention, and FIG. 7 is an enlarged view of a main part of FIG. The offset printing apparatus shown in FIG. 6 has the main body 15 as the printing stations 14Y, 14M, 14C and 14B using the offset printing apparatus shown in FIG.
And arranged around the impression cylinder 7 in Y, yellow (Y), M (magenta), and C, respectively.
The color printing is performed by using (cyan) and B (black) inks.

【0131】各印刷ステーション14Y,14M,14
C,14Bの構成は同一であり、印刷ステーション14
Yで代表させて図7に示す。図7に示すように、印刷ス
テーション14Yは、第1の実施形態と同様に、酸化チ
タンや酸化亜鉛などの熱応答型物質を主成分とする表面
を有する版胴1と、版胴1を疎水性発現温度よりも高い
高温親水性発現温度に加熱する高温加熱部2と、高温加
熱によって親水性化された版胴1に対してヒートモード
の描画を行うための感熱記録部5と、ヒートモードの描
画がなされた版胴1にインキおよび湿し水を供給するイ
ンキ・湿し水供給部3と、印刷終了後に版胴1に残存す
るインキを除去するインキ洗浄部4と、版胴1に保持さ
れたインキを用紙に転写するための中間体として圧胴7
に接触するブランケット6とが設けられている。また、
高温加熱ののちに版胴を強制的に冷却するための例えば
水冷式ジャケットからなる冷却部19を設けてもよい。
Each printing station 14Y, 14M, 14
C and 14B have the same configuration.
This is shown in FIG. As shown in FIG. 7, as in the first embodiment, the printing station 14Y includes a plate cylinder 1 having a surface mainly composed of a thermally responsive material such as titanium oxide or zinc oxide, and a plate cylinder 1 having a hydrophobic surface. A high-temperature heating unit 2 for heating to a high-temperature hydrophilicity-expressing temperature higher than the hydrophilicity-expressing temperature; a heat-sensitive recording unit 5 for performing heat-mode drawing on the plate cylinder 1 hydrophilicized by high-temperature heating; An ink / fountain solution supply unit 3 for supplying ink and fountain solution to the plate cylinder 1 on which an image is drawn, an ink washing unit 4 for removing ink remaining on the plate cylinder 1 after printing is completed, Impression cylinder 7 as an intermediate for transferring the retained ink to paper
And a blanket 6 that comes into contact with. Also,
A cooling unit 19 composed of, for example, a water-cooled jacket for forcibly cooling the plate cylinder after high-temperature heating may be provided.

【0132】なお、印刷ステーション14Y,14M,
14C,14Bの動作は上述した図2に示すオフセット
印刷装置と同一であるため、詳細な説明は省略する。第
3の実施形態においては、各印刷ステーション14Y,
14M,14C,14Bのインキ・湿し水供給部におい
て供給されるインキの色が、それぞれ、Y(イエロ
ー)、M(マゼンタ)、C(シアン)、B(ブラック)
である点が異なるものである。
Note that the printing stations 14Y, 14M,
Since the operations of 14C and 14B are the same as those of the offset printing apparatus shown in FIG. 2 described above, detailed description will be omitted. In the third embodiment, each printing station 14Y,
The colors of the inks supplied in the ink / fountain solution supply units 14M, 14C, and 14B are Y (yellow), M (magenta), C (cyan), and B (black), respectively.
Is different.

【0133】次いで、第3の実施形態の動作について説
明する。まず、印刷ステーション14Y,14M,14
C,14Bにおいて版胴を高温加熱部で中間レベルの加
熱温度以上の高温度に加熱して全面を親水性化したの
ち、感熱記録部により疎水性発現温度において各色を表
す画像をヒートモードで描画する。そして、各印刷ステ
ーション14Y,14M,14C,14Bのインキ・湿
し水供給部からY,M,C,Bそれぞれの色のインキを
供給して、各印刷ステーション14Y,14M,14
C,14Bの版胴1にインキを保持する。その後、図5
の矢印Cに示すように用紙を供給して、圧胴7の周囲に
おいて用紙を搬送し、各印刷ステーション14Y,14
M,14C,14Bのインキを用紙に転写する。すなわ
ち、印刷ステーション14YにおいてはYのインキが転
写され、印刷ステーション14MにおいてはMのインキ
が転写され、印刷ステーション14CにおいてはCのイ
ンキが転写され、印刷ステーション14BにおいてはB
のインキが転写される。これにより、用紙にはカラー画
像が印刷されることとなる。
Next, the operation of the third embodiment will be described. First, the printing stations 14Y, 14M, 14
In C and 14B, the plate cylinder is heated to a high temperature not lower than the intermediate heating temperature by a high-temperature heating unit to make the entire surface hydrophilic, and then an image representing each color is rendered in a heat mode by a heat-sensitive recording unit at a hydrophobic expression temperature. I do. Then, the inks of the respective colors Y, M, C, and B are supplied from the ink / fountain solution supply units of the printing stations 14Y, 14M, 14C, and 14B, and the printing stations 14Y, 14M, and 14B are supplied.
The ink is held on the plate cylinder 1 of C and 14B. Then, FIG.
The paper is supplied as shown by the arrow C in FIG.
The M, 14C, and 14B inks are transferred to paper. That is, the Y ink is transferred at the printing station 14Y, the M ink is transferred at the printing station 14M, the C ink is transferred at the printing station 14C, and the B ink is transferred at the printing station 14B.
Is transferred. As a result, a color image is printed on the sheet.

【0134】印刷終了後、各印刷ステーション14Y,
14M,14C,14Bのインキ洗浄部により版胴に残
存するインキを除去する。その後、版胴を上記と同じ条
件で高温加熱することにより、版胴はヒートモードによ
る描画前の状態に戻る。
After printing, each printing station 14Y,
The ink remaining on the plate cylinder is removed by the ink cleaning sections 14M, 14C and 14B. Thereafter, the plate cylinder is heated to a high temperature under the same conditions as described above, whereby the plate cylinder returns to a state before drawing in the heat mode.

【0135】なお、上記第2および第3の実施形態にお
いては、4つの印刷ユニット11Y,11M,11C,
11Bあるいは4つの印刷ステーション14Y,14
M,14C,14Bを用いてカラー印刷を行っている
が、5つあるいはそれ以上の印刷ユニットまたは印刷ス
テーションを設けてカラー印刷を行うようにしてもよ
い。
In the second and third embodiments, the four printing units 11Y, 11M, 11C,
11B or four printing stations 14Y, 14
Although color printing is performed using M, 14C, and 14B, color printing may be performed by providing five or more printing units or printing stations.

【0136】なお、上記第1〜第3の実施形態において
は、版胴1を使用しているが、これに限定されるのもで
はなく、シート状の印刷用原板を使用してオフセット印
刷を行うものであっても、本発明を適用することができ
るのはもちろんである。
In the first to third embodiments, the plate cylinder 1 is used. However, the present invention is not limited to this, and offset printing can be performed using a sheet-like printing original plate. It goes without saying that the present invention can be applied even if it is performed.

【0137】また、上記第1〜第3の実施形態において
は、高温加熱部2から時計回りにインキ洗浄部4、イン
キ・湿し水供給部3および感熱記録部5を配置している
が、これに限定されるものではなく、任意の順序にて配
置することができる。
In the first to third embodiments, the ink washing unit 4, the ink / fountain solution supply unit 3, and the thermal recording unit 5 are arranged clockwise from the high-temperature heating unit 2. It is not limited to this, and can be arranged in any order.

【0138】さらに、上記の各実施形態及び実施例にお
いては、酸化チタンおよび酸化亜鉛を使用した例を説明
したが、これに限定されるものではなく、前記した任意
の熱応答型金属酸化物又は金属を使用することができ
る。
Further, in each of the above embodiments and examples, an example using titanium oxide and zinc oxide has been described. However, the present invention is not limited to this, and any of the above-mentioned heat-responsive metal oxides or Metals can be used.

【0139】[0139]

【発明の効果】本発明の熱応答型物質とくに明細書本文
中に記載の熱応答型金属及び金属酸化物を画像形成層と
した印刷用原板を高温親水性発現温度に加熱して表面を
親水性として、その表面に疎水性発現温度でヒートモー
ドの描画を行って印刷版を作成する印刷方法は、現像な
どの処理を必要とせず、直接印刷版を作成することがで
き、かつ印刷終了後、印刷版のインキを除去して印刷原
板を再生して反復使用することができる。また、原板を
印刷機の版胴に装着し、印刷機上で、親水性化、ヒート
モード描画、インキ・湿し水供給及び印刷後の原板再生
を行う印刷装置を用いて簡易で安価なオフセット印刷を
行うことができる。
The heat-responsive substance of the present invention, in particular, a printing plate having the heat-responsive metal and metal oxide described in the specification as an image forming layer, is heated to a high-temperature hydrophilicity developing temperature to make the surface hydrophilic. As a property, the printing method of making a printing plate by performing drawing in a heat mode at the surface at which hydrophobicity is exhibited on the surface to create a printing plate does not require processing such as development, and can directly create a printing plate, and after printing is completed. In addition, the printing plate can be reused by removing the printing plate ink to regenerate the printing plate. In addition, the original plate is mounted on the plate cylinder of a printing press, and a simple and inexpensive offset is performed on the printing press using a printing device that performs hydrophilicity, heat mode drawing, ink / fountain solution supply, and regenerating the original plate after printing. Printing can be performed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に関わる酸化チタン表面の温度・接触角
の関係を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing the relationship between temperature and contact angle on the surface of titanium oxide according to the present invention.

【図2】本発明の第1の実施形態によるオフセット印刷
装置の構成を示す図である。
FIG. 2 is a diagram illustrating a configuration of an offset printing apparatus according to the first embodiment of the present invention.

【図3】感熱記録部の詳細な構成を示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating a detailed configuration of a thermal recording unit.

【図4】感熱記録部の詳細な構成を示す図である。FIG. 4 is a diagram illustrating a detailed configuration of a thermal recording unit.

【図5】本発明の第2の実施形態によるオフセット印刷
装置の構成を示す図である。
FIG. 5 is a diagram illustrating a configuration of an offset printing apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第3の実施形態によるオフセット印刷
装置の構成を示す図である。
FIG. 6 is a diagram illustrating a configuration of an offset printing apparatus according to a third embodiment of the present invention.

【図7】図6の要部拡大図である。FIG. 7 is an enlarged view of a main part of FIG. 6;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 版胴 2 高温加熱部 3 インキ・湿し水供給部 4 インキ洗浄部 5 感熱記録部 6 ブランケット 7 圧胴 8 12,15 本体 9 冷却部 11Y,11M,11C,11B 印刷ユニット 14Y,14M,14C,14B 印刷ステーション 18 感熱ヘッド 19 感熱ヘッド駆動部 20 編集・レイアウトW/S 21 赤外線レーザー光源 22 赤外線レーザー光源駆動部 S 画像信号 Reference Signs List 1 plate cylinder 2 high temperature heating unit 3 ink / fountain solution supply unit 4 ink washing unit 5 thermal recording unit 6 blanket 7 impression cylinder 8 12, 15 body 9 cooling unit 11Y, 11M, 11C, 11B printing unit 14Y, 14M, 14C , 14B printing station 18 thermal head 19 thermal head drive 20 editing / layout 21 infrared laser light source 22 infrared laser light source drive S image signal

フロントページの続き (72)発明者 中村 隆 神奈川県足柄上郡開成町宮台798 富士写 真フイルム株式会社内 (72)発明者 神山 宏二 神奈川県足柄上郡開成町宮台798 富士写 真フイルム株式会社内 Fターム(参考) 2C034 AA09 BA02 2H084 AA13 AA14 AA16 AA36 AA38 AA40 AE05 BB02 BB13 CC05 2H113 AA01 AA02 BA05 BB02 DA04 DA07 DA15 DA66 EA02 FA08 FA42 FA44 FA48 2H114 AA04 AA24 AA27 BA05 BA06 BA10 DA04 DA05 DA07 EA04 GA01 GA29 GA32 GA33 Continued on the front page (72) Inventor Takashi Nakamura 798 Miyadai, Kaisei-cho, Ashigara-gun, Kanagawa Prefecture Inside Fujisha Shin Film Co., Ltd. (Ref.)

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 印刷用原板を高温親水性発現温度で加熱
することによってその表面を親水性化し、次いで該原板
に疎水性発現温度でヒートモードの描画を施すことによ
って疎水性の画像領域を形成させ、該画像領域を印刷用
インキに接触させることによって画像領域がインキを受
け入れた印刷面を形成させて印刷を行うことを特徴とす
るオフセット印刷方法。
1. A printing original plate is heated at a high temperature at which hydrophilicity is exhibited to make its surface hydrophilic, and then the original plate is subjected to heat mode drawing at a temperature at which hydrophobicity is exhibited to form a hydrophobic image area. And printing the image area by contacting the image area with a printing ink to form a printing surface in which the image area has received the ink.
【請求項2】 高温親水性発現温度が200℃以上であ
り、疎水性発現温度が50〜250℃でかつ前記高温親
水性発現温度よりも低い温度であることを特徴とする請
求項1に記載のオフセット印刷方法。
2. The high-temperature hydrophilicity developing temperature is 200 ° C. or higher, and the hydrophobicity developing temperature is 50 to 250 ° C. and lower than the high-temperature hydrophilicity developing temperature. Offset printing method.
【請求項3】 印刷に使用した印刷版面上に残存するイ
ンキを洗浄除去したのち、その印刷用原板を用いて請求
項1又は2に記載の操作を反復して印刷を行うことを特
徴とする請求項1又は2に記載の印刷方法。
3. The method according to claim 1, wherein after the ink remaining on the printing plate used for printing is removed by washing, the operation according to claim 1 or 2 is repeated using the printing original plate. The printing method according to claim 1.
【請求項4】 印刷用原板の表面が、周期律表の第3〜
6周期に属していて、かつ0及びVII A族(ハロゲン元
素)族以外の元素から選択される金属及び該金属の酸化
物の群の少なくとも一つから構成されていることを特徴
とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のオフセット
印刷方法。
4. The surface of a printing original plate corresponds to any one of the third to fourth tables of the periodic table.
6. The composition according to claim 6, wherein the metal belongs to six periods and is at least one selected from the group consisting of a metal selected from elements other than Group 0 and Group VIIA (halogen element) and an oxide of the metal. The offset printing method according to any one of claims 1 to 3.
【請求項5】 印刷用原板の表面が、TiO2 、RTi
3 (Rはアルカリ土類金属原子)、AB2-x x
3-x x 10(Aは水素原子又はアルカリ金属原子、B
はアルカリ土類金属原子又は鉛原子、Cは希土類原子、
Dは周期律表の5A族元素に属する金属原子、Eは同じ
く4A族元素に属する金属原子、xは0〜2の任意の数
値を表す)、SnO2 ,Bi2 3 ,SiO2 ,GeO
2 ,Al 2 3 ,ZnO及びFe2 3 から選ばれる金
属酸化物の少なくとも一つによって構成されていること
を特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載のオフ
セット印刷方法。
5. The surface of a printing plate is made of TiO.Two, RTi
OThree(R is an alkaline earth metal atom), AB2-xCxD
3-xExOTen(A is a hydrogen atom or an alkali metal atom, B
Is an alkaline earth metal atom or a lead atom, C is a rare earth atom,
D is a metal atom belonging to Group 5A element of the periodic table, and E is the same
A metal atom belonging to Group 4A element, x is any number from 0 to 2
Value), SnOTwo, BiTwoOThree, SiOTwo, GeO
Two, Al TwoOThree, ZnO and FeTwoOThreeGold selected from
Be composed of at least one of the group oxides
The off-state according to any one of claims 1 to 5, characterized in that:
Set printing method.
【請求項6】 印刷用原板の表面が、アルミニウム、
鉄、銅、珪素、ニッケル、ゲルマニウム、亜鉛及び錫か
ら選ばれる金属又は金属合金の少なくとも一つによって
構成されていることを特徴とする請求項1〜5のいずれ
か1項に記載のオフセット印刷方法。
6. The printing original plate is made of aluminum,
The offset printing method according to any one of claims 1 to 5, wherein the offset printing method is configured by at least one of a metal or a metal alloy selected from iron, copper, silicon, nickel, germanium, zinc, and tin. .
【請求項7】 前記ヒートモードの描画が、感熱転写記
録用ヘッド及び光・熱変換型輻射線から選ばれる描画手
段の一つによって行われることを特徴とする請求項1〜
6のいずれか1項に記載のオフセット印刷方法。
7. The image forming apparatus according to claim 1, wherein the drawing in the heat mode is performed by one of a drawing unit selected from a thermal transfer recording head and light-to-heat conversion type radiation.
7. The offset printing method according to any one of 6.
【請求項8】 印刷用原版の表面を親水化する加熱温度
が、300〜700℃であることを特徴とする請求項1
〜7のいずれか1項に記載のオフセット印刷方法。
8. The method according to claim 1, wherein the heating temperature for hydrophilizing the surface of the printing original plate is 300 to 700 ° C.
8. The offset printing method according to any one of items 1 to 7,
【請求項9】 親水性化した印刷用原板に施すヒートモ
ードの描画が、有機化合物の存在下で行うことを特徴と
する請求項1〜8のいずれか1項に記載のオフセット印
刷方法。
9. The offset printing method according to claim 1, wherein drawing in a heat mode applied to the hydrophilic printing plate is performed in the presence of an organic compound.
【請求項10】 ヒートモードの描画において存在させ
る有機化合物が、温度400℃において少なくとも1m
mHg以上の蒸気圧を有し、かつ高温親水性発現温度に
おいて安定な有機化合物であることを特徴とする請求項
9に記載のオフセット印刷方法。
10. The method according to claim 1, wherein the organic compound present in the drawing in the heat mode is at least 1 m at a temperature of 400 ° C.
The offset printing method according to claim 9, wherein the organic compound has a vapor pressure of mHg or more and is stable at a high temperature at which hydrophilicity is exhibited.
【請求項11】 ヒートモードの描画において存在させ
る有機化合物が、沸点が30〜400℃の範囲にあっ
て、かつ高温親水性発現温度において安定な有機化合物
であることを特徴とする請求項9又は10に記載のオフ
セット印刷方法。
11. The organic compound present in the drawing in the heat mode is an organic compound having a boiling point in the range of 30 to 400 ° C. and being stable at a high hydrophilicity developing temperature. 11. The offset printing method according to item 10.
【請求項12】 請求項1〜11項のいずれか1項に記
載の方法に使用するオフセット印刷装置であって、 印刷用原板を装着する原板装着部と、 該原板を高温親水性発現温度に加熱してその表面を親水
性化する加熱手段と、 該原板に疎水性発現温度でヒートモードの描画を施して
疎水性の画像領域を形成させる描画手段と、 該画像領域に印刷用インキを供給して画像領域がインキ
を受け入れた印刷面を形成させるインキ供給手段と、 該印刷面を印刷される面と接触させて印刷を行う印刷手
段と、を有することを特徴とするオフセット印刷装置。
12. An offset printing apparatus used in the method according to any one of claims 1 to 11, wherein: an original plate mounting section for mounting a printing original plate; Heating means for heating to make the surface hydrophilic, drawing means for performing heat mode drawing on the original plate at a temperature at which hydrophobicity is developed to form a hydrophobic image area, and supplying printing ink to the image area An offset printing apparatus, comprising: an ink supply unit that forms a printing surface in which an image area receives ink, and a printing unit that performs printing by bringing the printing surface into contact with the surface to be printed.
【請求項13】 印刷終了後、印刷版に残存するインキ
を除去する手段を有することを特徴とする請求項12に
記載のオフセット印刷装置。
13. The offset printing apparatus according to claim 12, further comprising means for removing ink remaining on the printing plate after printing is completed.
【請求項14】 少なくとも露光手段、描画手段、イン
キ供給手段およびインキ除去手段が、版胴の周囲に配設
されてなることを特徴とする請求項12又は13に記載
のオフセット印刷装置。
14. The offset printing apparatus according to claim 12, wherein at least the exposing means, the drawing means, the ink supply means, and the ink removing means are arranged around the plate cylinder.
【請求項15】 印刷用原板が版胴の一部を構成してお
り、少なくとも露光手段、描画手段、インキ供給手段お
よびインキ除去手段が、版胴の周囲に配設されてなるこ
とを特徴とする請求項12〜14のいずれか1項に記載
のオフセット印刷装置。
15. The printing original plate forms a part of a plate cylinder, and at least an exposure unit, a drawing unit, an ink supply unit, and an ink removal unit are arranged around the plate cylinder. The offset printing apparatus according to any one of claims 12 to 14, wherein
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