JP2000208943A - Multilayer wiring board with built-in passive component and manufacture thereof - Google Patents

Multilayer wiring board with built-in passive component and manufacture thereof

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JP2000208943A
JP2000208943A JP11006036A JP603699A JP2000208943A JP 2000208943 A JP2000208943 A JP 2000208943A JP 11006036 A JP11006036 A JP 11006036A JP 603699 A JP603699 A JP 603699A JP 2000208943 A JP2000208943 A JP 2000208943A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a multilayer wiring board with built-in passive component and a method for manufacturing it, wherein the board can be manufactured by unifying and backing simultaneously the passive component and the multilayer wiring board and the passive component has desired characteristics. SOLUTION: In this multilayer wiring board with a built-in passive component, the passive component including a dielectric layer 2 is built in the multilayer wiring board comprising board layers 1a-1d, which are insulators whose main component is inorganic material. An intermediate layer 3, including one oxide selected from magnesium oxide, zinc oxide, and calcium oxide, is interposed between the dielectric layer 2 and the board layers 1b, 1c, so that they are not in contact with each other.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、コンデンサ、イン
ダクタ、抵抗等の受動部品を内蔵した受動部品内蔵多層
配線基板に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a multilayer wiring board with built-in passive components including passive components such as capacitors, inductors and resistors.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子機器の小型化の進展に伴っ
て、半導体ICやその他の部品を多層配線基板上に高密
度に実装することが求められている。これに対応して、
多層配線基板自体にも様々な要求が寄せられている。多
層配線基板は、ガラスエポキシ等の有機系絶縁材料から
なる基板層を使用した有機系基板と、アルミナ等のセラ
ミックスやガラス等の無機系絶縁材料からなる基板層を
使用した無機系基板とに大きく分類される。無機系基板
の製造方法を簡単に説明すると、まず、基板層を構成す
る無機材料を含むシート状成形体を複数作製し、この成
形体を、適宜、配線層およびビアを形成した後、積層す
る。次に、この積層体を、脱バインダ処理した後、高温
で熱処理することにより焼成する。
2. Description of the Related Art In recent years, with the progress of miniaturization of electronic equipment, it has been required to mount semiconductor ICs and other components at high density on a multilayer wiring board. Correspondingly,
Various demands have been placed on the multilayer wiring board itself. Multilayer wiring boards are largely divided into organic substrates using a substrate layer made of an organic insulating material such as glass epoxy and inorganic substrates using a substrate layer made of an inorganic insulating material such as ceramics or glass such as alumina. being classified. Briefly describing the method for manufacturing an inorganic substrate, first, a plurality of sheet-like molded bodies containing an inorganic material constituting a substrate layer are prepared, and the molded bodies are laminated after forming a wiring layer and a via as appropriate. . Next, after performing the binder removal treatment, the laminate is fired by performing a heat treatment at a high temperature.

【0003】また、コンデンサ、インダクタ、抵抗等の
受動部品は、誘電体、磁性体、抵抗体などで構成される
機能層と導体とを含むものであり、機能層には各種のセ
ラミックスが使用されている。受動部品は、無機系多層
配線基板と同様に、機能層を構成する各種無機材料を含
む成形体を作製し、必要に応じてこの成形体表面または
内部に導体を形成した後、焼成することにより作製する
ことができる。
[0003] Passive components such as capacitors, inductors and resistors include a functional layer composed of a dielectric, a magnetic material, a resistor and the like, and a conductor. Various ceramics are used for the functional layer. ing. Passive components, like the inorganic multilayer wiring board, produce a molded body containing various inorganic materials constituting the functional layer, and if necessary, form a conductor on or inside this molded body, and then fire it. Can be made.

【0004】上記のように、無機系基板および受動部品
の作製工程には、無機材料を含む成形体を焼成するとい
う共通の操作が内包されている。従って、基板層成形体
と配線層との積層体の内部に、受動部品を構成する機能
層成形体および導体を予め形成して一体化し、これを同
時焼成することにより、受動部品を内蔵した多層配線基
板を作製することができる。
[0004] As described above, the steps of manufacturing the inorganic substrate and the passive component include a common operation of firing a compact containing an inorganic material. Therefore, a functional layer molded body and a conductor constituting a passive component are previously formed and integrated in a laminate of the substrate layer molded body and the wiring layer, and are integrated and fired at the same time, thereby forming a multilayer having the passive component embedded therein. A wiring substrate can be manufactured.

【0005】しかし、無機系基板を構成する基板層と、
受動部品を構成する機能層とは互いに組成が相違するた
め、基板層と機能層とを接触させた状態で焼成すると、
焼結の進行に伴って各層の成分が相互拡散するため、各
層の焼結性や電気特性が変化するという問題があり、内
蔵させる受動部品に所望の特性を付与することが困難で
あった。この問題を解消するため、基板層と機能層との
間に相互拡散を防ぐための障壁となるバリア層を介在さ
せる方法が提案されている。例えば、特開平9−929
78号公報には、バリア層として各種耐火物粉体(アル
ミナ、マグネシア、ジルコニア、チタニアまたはカルシ
ア)を使用した、コンデンサ内蔵ガラスセラミック基板
が開示されている。
However, a substrate layer constituting the inorganic substrate,
Since the functional layer constituting the passive component has a different composition from each other, if the substrate layer and the functional layer are fired in contact with each other,
Since the components of each layer are interdiffused with the progress of sintering, there is a problem that the sinterability and electrical characteristics of each layer change, and it has been difficult to impart desired characteristics to passive components incorporated therein. To solve this problem, a method has been proposed in which a barrier layer serving as a barrier for preventing interdiffusion is interposed between the substrate layer and the functional layer. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-929
No. 78 discloses a glass-ceramic substrate with a built-in capacitor using various refractory powders (alumina, magnesia, zirconia, titania or calcia) as a barrier layer.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のコンデンサ内蔵ガラスセラミック基板よりも、更に
確実に、内蔵される受動部品に所望の特性を付与し得る
ような受動部品内蔵多層配線基板が求められている。
However, there is a need for a multilayer wiring board with built-in passive components that can more reliably impart desired characteristics to the built-in passive components than the above-mentioned conventional glass-ceramic substrates with built-in capacitors. ing.

【0007】本発明は、受動部品内蔵多層配線基板を構
成する各層間での相互作用を利用して内蔵される受動部
品の特性を向上させた、受動部品内蔵多層配線基板およ
びその製造方法を提供することを目的とする。
The present invention provides a multilayer wiring board with built-in passive components and a method of manufacturing the same, in which the characteristics of the built-in passive components are improved by utilizing the interaction between the layers constituting the multilayer wiring board with built-in passive components. The purpose is to do.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明の受動部品内蔵多層配線基板は、無機材料の
焼結体を主体とする絶縁体である少なくとも1層の基板
層を含む多層配線基板に、無機材料の焼結体を主体とす
る誘電体、磁性体または抵抗体である機能層を含む受動
部品が内蔵されてなる受動部品内蔵多層配線基板であっ
て、前記機能層と前記基板層との間に、前記機能層と前
記基板層とが接触しないように、酸化マグネシウム、酸
化亜鉛および酸化カルシウムから選ばれる少なくとも1
種の酸化物を含む中間層が介在することを特徴とする。
In order to achieve the above object, a multi-layer wiring board with a built-in passive component according to the present invention includes a multi-layer wiring board including at least one substrate layer which is an insulator mainly composed of a sintered body of an inorganic material. A passive component-embedded multilayer wiring board in which a passive component including a functional layer that is a dielectric, a magnetic material, or a resistor mainly including a sintered body of an inorganic material is embedded in the wiring board, wherein the functional layer and the At least one selected from magnesium oxide, zinc oxide and calcium oxide so that the functional layer and the substrate layer do not come into contact with the substrate layer.
It is characterized in that an intermediate layer containing a seed oxide is interposed.

【0009】このような構成によれば、基板層と機能層
との間に特定の中間層が介在するため、受動部品と配線
基板とを一体化して同時焼成して製造する場合におい
て、基板層成分が機能層へ拡散することを効果的に抑制
することができる。加えて、上記成分を含む中間層は、
中間層成分の機能層への拡散が生じ難い。よって、本発
明の受動部品内蔵多層配線基板は、良好な特性を有する
受動部品内蔵多層配線基板であって、受動部品と配線基
板とを同時焼成することによって製造することが可能で
ある。
According to such a configuration, since a specific intermediate layer is interposed between the substrate layer and the functional layer, when the passive component and the wiring substrate are integrated and fired at the same time, the substrate layer is formed. The diffusion of the component into the functional layer can be effectively suppressed. In addition, the intermediate layer containing the above components,
Diffuse diffusion of the intermediate layer component into the functional layer is unlikely to occur. Therefore, the multilayer wiring board with a built-in passive component of the present invention is a multilayer wiring board with a built-in passive component having good characteristics, and can be manufactured by simultaneously firing the passive component and the wiring board.

【0010】前記受動部品内蔵多層配線基板において
は、前記中間層が、酸化マグネシウムおよび酸化亜鉛を
含むことが好ましい。基板層成分および中間層成分の機
能層への拡散を抑制できることに加えて、中間層に高い
機械的強度を付与することができるからである。
In the multilayer wiring board with built-in passive components, the intermediate layer preferably contains magnesium oxide and zinc oxide. This is because, in addition to suppressing the diffusion of the substrate layer component and the intermediate layer component into the functional layer, high mechanical strength can be imparted to the intermediate layer.

【0011】また、前記受動部品内蔵多層配線基板にお
いては、前記中間層が、酸化マグネシウム、酸化亜鉛お
よび酸化カルシウムから選ばれる少なくとも1種の酸化
物を、50〜95重量%含むことが好ましい。50重量
%未満であると、基板層成分および中間層成分の機能層
への拡散を確実に抑制することが困難な場合があり、9
5重量%を超えると、中間層に十分な機械的強度を付与
することが困難だからである。
In the multilayer wiring board with built-in passive components, the intermediate layer preferably contains 50 to 95% by weight of at least one oxide selected from magnesium oxide, zinc oxide and calcium oxide. If the content is less than 50% by weight, it may be difficult to reliably suppress the diffusion of the substrate layer component and the intermediate layer component into the functional layer.
If the content exceeds 5% by weight, it is difficult to impart sufficient mechanical strength to the intermediate layer.

【0012】また、前記受動部品内蔵多層配線基板にお
いては、前記中間層が、前記機能層を構成する無機材料
に対する焼結助剤を含むことが好ましい。機能層の焼結
性を向上させることができ、その結果、内蔵される受動
部品を、より確実に良好な特性を有するものとすること
ができるからである。
In the multilayer wiring board with a built-in passive component, it is preferable that the intermediate layer contains a sintering aid for an inorganic material constituting the functional layer. This is because the sinterability of the functional layer can be improved, and as a result, the built-in passive component can more reliably have good characteristics.

【0013】また、前記中間層は、前記焼結助剤を5〜
50重量%含むことが好ましい。5重量%未満である
と、機能層の焼結性を確実に向上させることが困難とな
り、50重量%を超えると、基板層成分および中間層成
分の機能層への拡散を確実に抑制することが困難な場合
があるからである。
[0013] The intermediate layer may contain the sintering aid in an amount of from 5 to 5.
It is preferred to contain 50% by weight. If it is less than 5% by weight, it is difficult to reliably improve the sinterability of the functional layer. If it exceeds 50% by weight, the diffusion of the substrate layer component and the intermediate layer component into the functional layer is surely suppressed. This is because it may be difficult.

【0014】また、前記受動部品内蔵多層配線基板にお
いては、前記中間層における前記焼結助剤の濃度が、前
記基板層側よりも前記機能層側で高いことが好ましい。
機能層の焼結性をより効果的に向上させることができる
からである。
In the multilayer wiring board with built-in passive components, it is preferable that the concentration of the sintering aid in the intermediate layer is higher on the functional layer side than on the substrate layer side.
This is because the sinterability of the functional layer can be more effectively improved.

【0015】前記焼結助剤としては、前記機能層がPb
系ペロブスカイト化合物を主体とする層である場合、酸
化鉛、酸化銅、酸化バナジウムおよび酸化ビスマスより
選ばれる少なくとも1種の酸化物が使用できる。
[0015] As the sintering aid, the functional layer is composed of Pb.
When the layer is mainly composed of a perovskite compound, at least one oxide selected from lead oxide, copper oxide, vanadium oxide and bismuth oxide can be used.

【0016】特に、前記機能層がPb系ペロブスカイト
化合物を主体とする層である場合、前記中間層が、酸化
マグネシウムおよび酸化亜鉛から選ばれる少なくとも1
種の酸化物を50〜95重量%と、酸化鉛および酸化銅
から選ばれる少なくとも1種の酸化物を5〜50重量%
とを含み、且つ、前記中間層における酸化鉛の含有率は
40重量%以下、酸化銅の含有率は30重量%以下であ
ることが好ましい。この好ましい例によれば、内蔵され
る受動部品を、誘電率が高く、且つ、誘電損失が小さい
という、優れた特性を有するコンデンサとすることがで
きる。
In particular, when the functional layer is a layer mainly composed of a Pb-based perovskite compound, the intermediate layer is formed of at least one selected from magnesium oxide and zinc oxide.
50 to 95% by weight of a kind oxide and 5 to 50% by weight of at least one kind of oxide selected from lead oxide and copper oxide
And the content of lead oxide in the intermediate layer is preferably 40% by weight or less, and the content of copper oxide is preferably 30% by weight or less. According to this preferred example, the built-in passive component can be a capacitor having a high dielectric constant and a small dielectric loss and excellent characteristics.

【0017】また、前記機能層がNiZn系スピネルフ
ェライトまたはNiZnCu系スピネルフェライトを主
体とする層である場合、前記焼結助剤としては、酸化
銅、酸化バナジウムおよび酸化銀より選ばれる少なくと
も1種の酸化物が使用できる。
In the case where the functional layer is a layer mainly composed of NiZn-based spinel ferrite or NiZnCu-based spinel ferrite, the sintering aid includes at least one selected from copper oxide, vanadium oxide and silver oxide. Oxides can be used.

【0018】また、前記受動部品内蔵多層配線基板にお
いては、前記中間層が、酸化珪素、酸化アルミニウムお
よび酸化硼素から選ばれる少なくとも1種の酸化物を含
むことが好ましい。中間層の接着強度および機械的強度
を向上させて、受動部品内蔵多層配線基板の強度を向上
させることができるからである。また、前記中間層は、
酸化珪素、酸化アルミニウムおよび酸化硼素から選ばれ
る少なくとも1種の酸化物を、1〜50重量%含むこと
が好ましい。
In the multilayer wiring board with a built-in passive component, the intermediate layer preferably contains at least one oxide selected from silicon oxide, aluminum oxide and boron oxide. This is because the adhesive strength and mechanical strength of the intermediate layer can be improved, and the strength of the multilayer wiring board with a built-in passive component can be improved. Further, the intermediate layer,
It is preferable to contain 1 to 50% by weight of at least one oxide selected from silicon oxide, aluminum oxide and boron oxide.

【0019】前記受動部品内蔵多層配線基板において
は、前記中間層の層厚が、5〜30μmであることが好
ましい。5μm未満であると、基板層成分が機能層へ拡
散することを確実に抑制することが困難であり、30μ
mを超えると、受動部品内蔵多層配線基板の強度が低下
するおそれがあるからである。
In the multilayer wiring board with a built-in passive component, the intermediate layer preferably has a thickness of 5 to 30 μm. If it is less than 5 μm, it is difficult to reliably suppress the diffusion of the component of the substrate layer into the functional layer.
If it exceeds m, the strength of the multilayer wiring board with a built-in passive component may be reduced.

【0020】前記目的を達成するため、本発明の受動部
品内蔵多層配線基板の製造方法は、無機材料の焼結体を
主体とする絶縁体である少なくとも1層の基板層を含む
多層配線基板に、無機材料の焼結体を主体とする誘電
体、磁性体または抵抗体である機能層を含む受動部品が
内蔵された受動部品内蔵多層配線基板の製造方法であっ
て、前記基板層の未焼結体および前記機能層の未焼結体
を含む積層体を形成する工程と、前記積層体を焼成する
工程とを含み、前記積層体を形成する工程において、前
記基板層の未焼結体と前記機能層の未焼結体との間に、
前記機能層の未焼結体と前記基板層の未焼結体とが接触
しないように、酸化マグネシウム、酸化亜鉛および酸化
カルシウムから選ばれる少なくとも1種の酸化物を含む
中間層を介在させることを特徴とする。
In order to achieve the above object, a method of manufacturing a multilayer wiring board with a built-in passive component according to the present invention is directed to a multilayer wiring board including at least one substrate layer which is an insulator mainly composed of a sintered body of an inorganic material. A method for manufacturing a passive component-embedded multilayer wiring board in which a passive component including a functional layer that is a dielectric, a magnetic material, or a resistor mainly composed of a sintered body of an inorganic material is incorporated, wherein the substrate layer is not fired. A step of forming a laminate including a green body and a green body of the functional layer, and a step of firing the laminate, wherein in the step of forming the laminate, the green body of the substrate layer and Between the green body of the functional layer,
Interposing an intermediate layer containing at least one oxide selected from magnesium oxide, zinc oxide and calcium oxide so that the green body of the functional layer does not come into contact with the green body of the substrate layer. Features.

【0021】このような構成によれば、基板層と機能層
との間に特定の中間層を介在させた状態で焼成するた
め、焼成時に基板層成分が機能層へ拡散することを効果
的に抑制できる。また、上記成分を含む中間層は、中間
層成分の機能層への拡散が生じ難い。よって、内蔵され
る受動部品を良好な特性を有するものとすることができ
る。
According to such a configuration, since firing is performed with a specific intermediate layer interposed between the substrate layer and the functional layer, it is possible to effectively prevent the components of the substrate layer from diffusing into the functional layer during firing. Can be suppressed. In the intermediate layer containing the above components, the diffusion of the intermediate layer components into the functional layer is unlikely to occur. Therefore, the built-in passive components can have good characteristics.

【0022】前記製造方法においては、前記積層体を焼
成する工程の前に、前記積層体の少なくとも片面に、前
記積層体を焼成する工程を実施したときの収縮率が5%
以下である最外層を積層する工程を実施し、前記積層体
を焼成する工程の後に、前記最外層の少なくとも一部を
除去する工程を実施することが好ましい。ここで、「収
縮率」とは、焼成前の最外層の寸法をL1、焼成後の最外
層の寸法をL2としたとき、下記式により算出できる値
である。なお、各寸法は、最外層の面方向に測定した寸
法である。
In the above-mentioned manufacturing method, before the step of firing the laminate, the shrinkage rate when performing the step of firing the laminate on at least one surface of the laminate is 5%.
It is preferable that the following step of laminating the outermost layer is performed, and after the step of firing the laminate, a step of removing at least a part of the outermost layer is performed. Here, the “shrinkage ratio” is a value that can be calculated by the following equation, where L 1 is the dimension of the outermost layer before firing and L 2 is the dimension of the outermost layer after firing. In addition, each dimension is a dimension measured in the surface direction of the outermost layer.

【0023】 収縮率(%)=(L1−L2)/L1×100 この好ましい例によれば、焼成によって積層体の水平方
向(積層体を構成する層の面方向)に生じる収縮を抑制
し、受動部品内蔵多層配線基板に反り、歪み、クラック
などの欠陥が生じることを抑制できる。
According to this preferred example, shrinkage (%) = (L 1 −L 2 ) / L 1 × 100 According to this preferred embodiment, shrinkage caused in the horizontal direction (the plane direction of the layers constituting the multilayer body) of the laminate by firing is reduced. It is possible to suppress occurrence of defects such as warpage, distortion, and cracks in the multilayer wiring board with built-in passive components.

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】本発明の受動部品内蔵多層配線基
板について、コンデンサを内蔵した多層配線基板を例に
挙げて説明する。図1は、本実施形態に係るコンデンサ
内蔵多層配線基板の構造を示す断面図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A multilayer wiring board with a built-in passive component according to the present invention will be described by taking a multilayer wiring board with a built-in capacitor as an example. FIG. 1 is a sectional view showing the structure of a multilayer wiring board with a built-in capacitor according to the present embodiment.

【0025】本実施形態に係るコンデンサ内蔵多層配線
基板には、誘電体層2と、誘電体層2を介して対向する
電極層4a、4bとによって構成されるコンデンサが内
蔵されている。なお、コンデンサは、誘電体層と電極層
とが交互に数層積層した積層コンデンサであってもよ
い。
The multilayer wiring board with a built-in capacitor according to this embodiment has a built-in capacitor composed of the dielectric layer 2 and the electrode layers 4a and 4b opposed to each other with the dielectric layer 2 interposed therebetween. Note that the capacitor may be a multilayer capacitor in which several dielectric layers and electrode layers are alternately stacked.

【0026】誘電体層2は、無機材料の焼結体を主体と
する層である。誘電体層を構成する無機材料は、特に限
定するものではなく、従来からコンデンサ用誘電体とし
て知られているものを使用することができ、焼結温度、
誘電率、誘電正接、温度特性などに応じて適宜選択する
ことができる。例えば、Pbを含む複合ぺロブスカイト
化合物系材料、チタン酸バリウム系材料などが挙げられ
る。特に、大きな誘電率を有し、焼結温度が比較的低温
であることから、Pbを含む複合ぺロブスカイト化合物
系材料を使用することが好ましい。Pb系複合ぺロブス
カイト化合物としては、Pb(B12)O3(但し、B1
はCo、Mg、MnまたはNiであり、B2はNb、T
aまたはWである。)で表される化合物およびこれらの
化合物を組み合わせたものを例示することができ、例え
ば、Pb(Mg1/3Nb2/3)O3−Pb(Ni1/21/2
3−PbTiO3などが挙げられる。また、誘電体層2
の層厚は、特に限定するものではないが、通常、5〜5
0μm程度である。
The dielectric layer 2 is a layer mainly composed of a sintered body of an inorganic material. The inorganic material constituting the dielectric layer is not particularly limited, and a material conventionally known as a dielectric for a capacitor can be used.
It can be appropriately selected according to the dielectric constant, dielectric loss tangent, temperature characteristics, and the like. For example, a composite perovskite compound-based material containing Pb, a barium titanate-based material, and the like can be given. In particular, since it has a large dielectric constant and a relatively low sintering temperature, it is preferable to use a composite perovskite compound material containing Pb. Pb-based composite perovskite compounds include Pb (B 1 B 2 ) O 3 (where B 1
Is Co, Mg, Mn or Ni, and B 2 is Nb, T
a or W. )) And those obtained by combining these compounds, for example, Pb (Mg 1/3 Nb 2/3 ) O 3 -Pb (Ni 1/2 W 1/2 )
O 3 —PbTiO 3 and the like. Also, the dielectric layer 2
Is not particularly limited, but is usually 5 to 5
It is about 0 μm.

【0027】電極層4a、4bとしては、特に限定する
ものではないが、例えば、銅、銀、金、パラジウム、白
金、ニッケル及びこれらの合金を使用することができ
る。特に、低抵抗であることから、銅、銀およびこれら
の合金が好ましい。
The electrode layers 4a and 4b are not particularly limited. For example, copper, silver, gold, palladium, platinum, nickel and alloys thereof can be used. Particularly, copper, silver, and alloys thereof are preferable because of their low resistance.

【0028】上記コンデンサには、これを支持または挟
持するように、少なくとも1層の基板層1a〜1dが積
層されている。また、基板層には、その層間または表面
に配線層5a〜5dが形成されており、この配線層間ま
たは配線層と電極層との間を電気的に接続するためのビ
ア6a、6b、6e、6fが形成されている。なお、各
層の層数は特に限定されるものではない。
At least one substrate layer 1a to 1d is laminated on the capacitor so as to support or sandwich the capacitor. In the substrate layer, wiring layers 5a to 5d are formed between the layers or on the surface thereof, and vias 6a, 6b, 6e, 6c for electrically connecting the wiring layers or between the wiring layers and the electrode layers are formed. 6f is formed. Note that the number of layers in each layer is not particularly limited.

【0029】基板層1a〜1dは、無機材料の焼結体を
主体とする層である。基板層を構成する無機材料は特に
限定されるものではなく、例えば、アルミナに代表され
るセラミックス材料や、ガラス−セラミックス複合材料
など、従来から多層配線基板の基板層として使用されて
いる材料を使用することができる。特に、焼結温度が比
較的低く、銅や銀などの低融点の金属を導体として使用
できることから、ガラス−セラミックス複合材料を使用
することが好ましい。ガラス−セラミックス複合材料を
構成するガラス成分としては、酸化鉛、酸化亜鉛、アル
カリ金属酸化物、アルカリ土類金属酸化物などを含有す
るほう珪酸塩ガラスおよびほう珪酸ガラスなどの結晶質
ガラス、並びに、アルミノ珪酸塩ガラスなどの非晶質ガ
ラスが挙げられる。また、セラミックス成分としては、
アルミナ、シリカ、ムライト、フォルステライトなどが
挙げられる。なお、ガラス−セラミックス複合材料にお
ける各成分の組成比は、複合材料の焼結温度、比誘電率
および機械的強度などを考慮して適宜調整することがで
きる。また、基板層1a〜1dの層厚は、特に限定する
ものではないが、通常、30〜300μm程度である。
The substrate layers 1a to 1d are layers mainly composed of a sintered body of an inorganic material. The inorganic material constituting the substrate layer is not particularly limited. For example, a material conventionally used as a substrate layer of a multilayer wiring board, such as a ceramic material represented by alumina or a glass-ceramic composite material, is used. can do. In particular, it is preferable to use a glass-ceramic composite material because the sintering temperature is relatively low and a low melting point metal such as copper or silver can be used as the conductor. As glass components constituting the glass-ceramic composite material, lead oxide, zinc oxide, alkali metal oxides, crystalline glasses such as borosilicate glass and borosilicate glass containing alkaline earth metal oxides, and the like, An amorphous glass such as an aluminosilicate glass may be used. Also, as the ceramic component,
Examples include alumina, silica, mullite, and forsterite. Note that the composition ratio of each component in the glass-ceramic composite material can be appropriately adjusted in consideration of the sintering temperature, relative dielectric constant, mechanical strength, and the like of the composite material. The thickness of the substrate layers 1a to 1d is not particularly limited, but is usually about 30 to 300 μm.

【0030】配線層5a〜5dには、電極層と同様の金
属を使用することができる。また、ビア6a、6b、6
e、6fに充填される導電性材料としては、電極層と同
様の金属を使用することができる。
For the wiring layers 5a to 5d, the same metal as the electrode layer can be used. Also, vias 6a, 6b, 6
The same metal as the electrode layer can be used as the conductive material to be filled in e and 6f.

【0031】本発明に係るコンデンサ内蔵多層配線基板
には、誘電体層2と、基板層1bおよび1cとの間に、
誘電体層2と基板層1b、1cとが接触しないように、
中間層3a、3bが形成されている。また、中間層3
a、3bには、配線層と電極層との間を電気的に接続す
るためのビア6c、6dが形成されている。なお、ビア
6c、6dには、ビア6a、6b、6e、6fに充填さ
れる導電性材料と同様の金属を使用することができる。
In the multilayer wiring board with a built-in capacitor according to the present invention, between the dielectric layer 2 and the substrate layers 1b and 1c,
In order to prevent the dielectric layer 2 from contacting the substrate layers 1b and 1c,
Intermediate layers 3a and 3b are formed. Also, the middle layer 3
Vias 6c and 6d for electrically connecting the wiring layer and the electrode layer are formed in a and 3b. The vias 6c and 6d can be made of the same metal as the conductive material filled in the vias 6a, 6b, 6e and 6f.

【0032】中間層3a、3bを構成する無機材料は、
酸化マグネシウム、酸化亜鉛および酸化カルシウムから
選ばれる少なくとも1種の酸化物を含むものである。上
記酸化物は、中間層の50〜95重量%、更には60〜
90重量%を占めることが好ましい。
The inorganic materials constituting the intermediate layers 3a and 3b are as follows:
It contains at least one oxide selected from magnesium oxide, zinc oxide and calcium oxide. The oxide is 50 to 95% by weight of the intermediate layer, more preferably 60 to 95%
It preferably accounts for 90% by weight.

【0033】更に、中間層を構成する無機材料は、以下
に説明するような副成分を含むことが好ましい。副成分
の添加は、中間層の主成分として酸化マグネシウムまた
は酸化カルシウムを使用する場合、特に有効である。中
間層を酸化マグネシウムまたは酸化カルシウムのみで構
成すると、中間層の機械的強度が低くなるおそれがある
からである。尤も、中間層の主成分となる無機成分の種
類を問わず、中間層に下記副成分を添加することは、良
好な特性を有する受動部品内蔵多層配線基板とするうえ
で有効である。
Further, the inorganic material constituting the intermediate layer preferably contains the following subcomponents. The addition of the auxiliary component is particularly effective when magnesium oxide or calcium oxide is used as the main component of the intermediate layer. If the intermediate layer is composed of only magnesium oxide or calcium oxide, the mechanical strength of the intermediate layer may be reduced. However, regardless of the type of inorganic component that is the main component of the intermediate layer, the addition of the following subcomponents to the intermediate layer is effective for obtaining a multilayer wiring board with built-in passive components having good characteristics.

【0034】第1の副成分は、誘電体層を構成する無機
材料の焼結助剤として機能する成分である。このような
成分は、その一部が焼成時に中間層から誘電体層へ拡散
して、誘電体層の焼結性を向上させることができる。こ
のような成分としては、誘電体層の組成に応じて、従来
から焼結助剤として慣用されている成分を使用すること
ができる。例えば、誘電体層がPb系複合ペロブスカイ
ト化合物で構成される場合、酸化鉛、酸化銅、酸化バナ
ジウムおよび酸化ビスマスなどを例示することができ
る。また、焼結助剤として機能する成分の添加量は、中
間層の5〜50重量%、更には10〜40重量%とする
ことが好ましい。更に、この成分は、中間層の基板層側
よりも誘電体層側において高濃度となるように添加され
ていることが好ましい。
The first subcomponent is a component that functions as a sintering aid for the inorganic material constituting the dielectric layer. Such components partially diffuse from the intermediate layer to the dielectric layer at the time of firing, so that the sinterability of the dielectric layer can be improved. As such a component, a component conventionally used as a sintering aid can be used depending on the composition of the dielectric layer. For example, when the dielectric layer is composed of a Pb-based composite perovskite compound, examples thereof include lead oxide, copper oxide, vanadium oxide, and bismuth oxide. Further, the addition amount of the component functioning as a sintering aid is preferably 5 to 50% by weight, more preferably 10 to 40% by weight of the intermediate layer. Further, it is preferable that this component is added so as to have a higher concentration on the dielectric layer side than on the substrate layer side of the intermediate layer.

【0035】第2の副成分は、中間層の接着強度および
機械的強度を向上させる成分である。このような成分と
しては、酸化ケイ素、酸化アルミニウムおよび酸化ホウ
素などが挙げられる。また、この成分の添加量は、中間
層の1〜50重量%、更には5〜30重量%とすること
が好ましい。
The second subcomponent is a component for improving the adhesive strength and mechanical strength of the intermediate layer. Such components include silicon oxide, aluminum oxide, boron oxide, and the like. Further, the addition amount of this component is preferably 1 to 50% by weight, more preferably 5 to 30% by weight of the intermediate layer.

【0036】また、中間層の層厚は、5〜30μm、更
には10〜30μmとすることが好ましい。
The thickness of the intermediate layer is preferably 5 to 30 μm, more preferably 10 to 30 μm.

【0037】なお、図1では、誘電体層および中間層が
基板層の全面に積層された構造を例示しているが、本発
明の受動部品内蔵多層配線基板の構造は、誘電体層と基
板層とが接触しないように両層の間に中間層が介在した
構造であれば、これに限定されるものではない。例え
ば、図2に示すように、誘電体層が基板層面の一部に積
層されており、中間層が誘電体層の周囲を囲い込むよう
に基板層面の一部に形成された構造とすることができ
る。
Although FIG. 1 illustrates a structure in which a dielectric layer and an intermediate layer are laminated on the entire surface of a substrate layer, the structure of the multilayer wiring board with a built-in passive component according to the present invention includes a dielectric layer and a substrate. The structure is not limited to this as long as an intermediate layer is interposed between the two layers so that the layers do not come into contact with each other. For example, as shown in FIG. 2, the dielectric layer is laminated on a part of the substrate layer surface, and the intermediate layer is formed on a part of the substrate layer surface so as to surround the dielectric layer. Can be.

【0038】以上、本発明に係る受動部品内蔵多層配線
基板を、内蔵される受動部品がコンデンサである場合を
例示に説明したが、本発明はこれに限定されるものでは
ない。例えば、内蔵させる受動部品を、コンデンサに代
えて、インダクタまたは抵抗体とすることができる。
As described above, the multilayer wiring board with built-in passive components according to the present invention has been described by way of example in which the built-in passive components are capacitors, but the present invention is not limited to this. For example, the passive component to be built in may be an inductor or a resistor instead of the capacitor.

【0039】本発明に係るインダクタ内蔵多層配線基板
は、機能層が磁性体であり、電極の位置および形状が異
なること以外は、上記コンデンサ内蔵多層配線基板と類
似した構造を有するものである。磁性体層としては、特
に限定するものではなく、従来からインダクタ用磁性体
として知られているものを、焼結温度、透磁率、磁気損
失、温度特性などに応じて適宜選択することができる。
例えば、NiZnCu系、NiZn系、MnZn系、M
gZn系等のスピネルフェライトやガーネットフェライ
トなどを例示することができる。特に、電気抵抗率が大
きく、焼結温度が比較的低温であることから、NiZn
Cu系スピネルフェライトが有用である。また、電極
は、上記コンデンサ内蔵多層配線基板の電極層と同様の
材料を使用することができ、その形状は、線状、スパイ
ラル状、ミアンダ状など用途に応じて選択することがで
きる。
The multilayer wiring board with a built-in inductor according to the present invention has a structure similar to that of the multilayer wiring board with a built-in capacitor, except that the functional layer is a magnetic material and the positions and shapes of the electrodes are different. The magnetic material layer is not particularly limited, and any material conventionally known as a magnetic material for an inductor can be appropriately selected according to the sintering temperature, magnetic permeability, magnetic loss, temperature characteristics, and the like.
For example, NiZnCu, NiZn, MnZn, M
Examples thereof include gZn-based spinel ferrite and garnet ferrite. In particular, since the electric resistivity is large and the sintering temperature is relatively low, NiZn
Cu-based spinel ferrite is useful. The electrodes can be made of the same material as the electrode layers of the multilayer wiring board with a built-in capacitor, and the shape can be selected according to the intended use, such as a linear shape, a spiral shape, and a meander shape.

【0040】以上説明したような、本発明の受動部品内
蔵多層配線基板によれば、受動部品と配線基板とを一体
同時焼成して製造する場合において、基板層成分が機能
層(誘電体層、磁性体層または抵抗体層)へ拡散するこ
とを抑制でき、且つ、中間層成分の機能層への拡散も生
じ難い。よって、良好な特性の受動部品内蔵多層配線基
板とすることができる。
According to the multilayer wiring board with a built-in passive component of the present invention as described above, when the passive component and the wiring board are manufactured by simultaneous firing, the component of the substrate layer is a functional layer (dielectric layer, Diffusion into the magnetic layer or the resistor layer) can be suppressed, and the diffusion of the intermediate layer component into the functional layer hardly occurs. Therefore, a multilayer wiring board with built-in passive components having good characteristics can be obtained.

【0041】次に、本実施形態に係るコンデンサ内蔵多
層配線基板の製造方法の一例を説明する。本発明に係る
コンデンサ内蔵多層配線基板は、基板層前駆体、誘電体
層前駆体および中間層前駆体を、配線層および電極層
(またはそれらの前駆体)とともに、所定の層構造とな
るように積層した後、この積層体を焼成することにより
作製することができる。なお、前駆体とは、各層を構成
する無機材料の未焼結体を意味する。
Next, an example of a method for manufacturing the multilayer wiring board with a built-in capacitor according to this embodiment will be described. The multilayer wiring board with a built-in capacitor according to the present invention comprises a substrate layer precursor, a dielectric layer precursor and an intermediate layer precursor, together with a wiring layer and an electrode layer (or a precursor thereof), having a predetermined layer structure. After lamination, the laminate can be manufactured by firing. In addition, the precursor means an unsintered body of an inorganic material constituting each layer.

【0042】各層の前駆体として、基板層用グリーンシ
ート、誘電体層用グリーンシートおよび中間層用グリー
ンシートを作製する。まず、各層を構成する無機材料の
原料粉体と、有機バインダとを十分に混合してスラリー
を調製する。
As a precursor of each layer, a green sheet for a substrate layer, a green sheet for a dielectric layer, and a green sheet for an intermediate layer are prepared. First, a raw material powder of an inorganic material constituting each layer and an organic binder are sufficiently mixed to prepare a slurry.

【0043】各層を構成する無機材料は、本発明に係る
コンデンサ内蔵多層配線基板について前述した通りであ
り、その原料粉体としては、例えば、基板層用無機粉体
としては、セラミックス粉体や、ガラス粉体とセラミッ
クス原料粉体との混合物を使用することができる。ま
た、誘電体層用無機粉体としては、Pb系複合ペロブス
カイト化合物の原料粉体、チタン酸バリウムの原料粉体
などを使用することができる。また、中間層用無機粉体
としては、酸化マグネシウム、酸化亜鉛および酸化カル
シウムから選ばれる少なくとも1種の金属酸化物を含む
無機粉体を使用することができる。また、更に、誘電体
層用無機粉体の焼結助剤となる成分(例えば、誘電体層
用無機粉体がPb系複合ペロブスカイト化合物の原料粉
体である場合は、酸化鉛、酸化銅、酸化バナジウム、酸
化ビスマス)、中間層の強度を向上させる成分(例え
ば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ホウ素)を含
有することが好ましい。
The inorganic material constituting each layer is as described above for the multilayer wiring board with a built-in capacitor according to the present invention. Examples of the raw material powder include ceramic powder and inorganic powder for the substrate layer. A mixture of glass powder and ceramic raw material powder can be used. As the inorganic powder for the dielectric layer, a raw material powder of a Pb-based composite perovskite compound, a raw material powder of barium titanate, and the like can be used. Further, as the inorganic powder for the intermediate layer, an inorganic powder containing at least one metal oxide selected from magnesium oxide, zinc oxide and calcium oxide can be used. Further, a component serving as a sintering aid for the inorganic powder for a dielectric layer (for example, when the inorganic powder for a dielectric layer is a raw material powder of a Pb-based composite perovskite compound, lead oxide, copper oxide, It is preferable to contain vanadium oxide, bismuth oxide), and components (for example, silicon oxide, aluminum oxide, and boron oxide) that improve the strength of the intermediate layer.

【0044】また、有機バインダとしては、ブチラール
系樹脂、アクリル系樹脂などを使用することができる。
また、混練には、例えば、3本ロールミル、ボールミル
などの慣用の混練機を使用することができる。
As the organic binder, a butyral resin, an acrylic resin, or the like can be used.
For kneading, a conventional kneader such as a three-roll mill or a ball mill can be used.

【0045】上記スラリーを、ベースフィルム表面に塗
布してシート状に成形した後、乾燥することによりグリ
ーンシートが得られる。スラリーのベースフィルムへの
塗布方法としては、例えば、ドクターブレード法、カレ
ンダ法、ロールコーター法などが採用できる。また、ベ
ースフィルムとしては、例えば、ポリエチレン系樹脂、
ポリエステル系樹脂、紙などが使用できる。
The slurry is applied to the surface of a base film, formed into a sheet, and dried to obtain a green sheet. As a method of applying the slurry to the base film, for example, a doctor blade method, a calendar method, a roll coater method, or the like can be employed. Further, as the base film, for example, polyethylene resin,
Polyester resin, paper, etc. can be used.

【0046】次に、配線用および電極用導体ペースト、
ビア用導体ペーストを作製する。各導体ペーストは、金
属または金属前駆体の粉体、有機バインダおよび溶剤を
十分に混合・混練することにより作製できる。金属とし
ては、特に限定するものではなく、例えば、銅、銀、
金、パラジウム、白金、ニッケルまたはそれらの合金な
ど、多層配線基板の製造条件や使用条件に応じて適宜選
択することができる。また、金属前駆体としては、前記
金属の酸化物を使用することができるが、この場合、後
工程としてメタライズ処理が必要となる。また、有機バ
インダとしては、例えば、エチルセルロース系樹脂、ポ
リビニルブチラール樹脂、ポリアクリル系樹脂などが使
用でき、溶剤としては、テルピネオールなどのアルコー
ル類やケトン類などが使用できる。また、適宜、可塑剤
や界面活性剤を添加してもよい。
Next, conductor paste for wiring and electrodes,
A conductor paste for via is prepared. Each conductor paste can be prepared by sufficiently mixing and kneading a powder of a metal or a metal precursor, an organic binder and a solvent. The metal is not particularly limited, for example, copper, silver,
Gold, palladium, platinum, nickel, or alloys thereof can be appropriately selected according to the manufacturing conditions and use conditions of the multilayer wiring board. As the metal precursor, an oxide of the metal can be used, but in this case, a metallizing treatment is required as a subsequent step. In addition, as the organic binder, for example, an ethyl cellulose-based resin, a polyvinyl butyral resin, a polyacryl-based resin, or the like can be used. As the solvent, an alcohol such as terpineol, a ketone, or the like can be used. Further, a plasticizer or a surfactant may be appropriately added.

【0047】次に、各層のグリーンシートを所定の層構
造となるように積層してグリーンシート積層体を作製す
るが、各グリーンシートには、積層前または積層後に、
適宜、配線層、電極層およびビアを形成する。電極層、
配線層およびビアの形成は、上記グリーンシート積層体
において、誘電体層用グリーンシート両面に電極層が、
基板層用グリーンシート表面または層間に配線層が各々
形成され、電極層と配線層との間および配線層同士の間
がビアによって電気的に接続されるように実施される。
配線層および電極層の形成は、配線用および電極用導体
ペーストを用いた印刷により実施することができる。ま
た、ビアの形成は、基板層用グリーンシートまたは中間
層用グリーンシートの所定の箇所に、パンチング、ドリ
ル、レーザーなどによってビア孔を形成し、このビア孔
にビア用導体ペーストを充填することにより実施でき
る。
Next, a green sheet laminate is prepared by laminating the green sheets of each layer so as to have a predetermined layer structure.
A wiring layer, an electrode layer, and a via are appropriately formed. Electrode layer,
The formation of the wiring layer and the via, in the green sheet laminate, an electrode layer on both sides of the dielectric layer green sheet,
Wiring layers are respectively formed on the surface or between layers of the green sheet for a substrate layer, and the method is carried out so that the vias electrically connect between the electrode layers and the wiring layers and between the wiring layers.
The wiring layer and the electrode layer can be formed by printing using a conductive paste for wiring and electrodes. The via is formed by forming a via hole at a predetermined position of the green sheet for the substrate layer or the green sheet for the intermediate layer by punching, drilling, laser or the like, and filling the via hole with the conductive paste for the via. Can be implemented.

【0048】上記グリーンシート積層体は、前述した本
発明に係るコンデンサ内蔵多層配線基板の構造に対応す
るような所定の層構造となるように作製される。すなわ
ち、基板層用グリーンシートが1層の場合はその表面
に、基板層用グリーンシートが2層以上存在する場合は
その表面または層間に、誘電体層グリーンシートの両面
に電極層が形成されてなるコンデンサが形成されてお
り、誘電体層用グリーンシートと基板層用グリーンシー
トとの間には、両者が接触しないように中間層用グリー
ンシートが介在するような構造となるように作製され
る。
The green sheet laminate is manufactured so as to have a predetermined layer structure corresponding to the structure of the multilayer wiring board with a built-in capacitor according to the present invention described above. That is, when the green sheet for the substrate layer is one layer, the electrode layer is formed on the surface of the green sheet for the substrate layer when two or more green sheets for the substrate layer are present, and on both surfaces of the green sheet for the dielectric layer. Is formed, and is manufactured so as to have a structure in which a green sheet for an intermediate layer is interposed between a green sheet for a dielectric layer and a green sheet for a substrate layer so that they do not contact each other. .

【0049】このような構造としては、例えば、図1の
構造に対応するような、誘電体層用グリーンシートおよ
び中間層用グリーンシートが基板層用グリーンシートの
全面に配置された構造や、図2の構造に対応するよう
な、誘電体層用グリーンシートが基板層用グリーンシー
トの一部に配置されており、中間層用グリーンシートが
誘電体層用グリーンシートの周囲を囲い込むように基板
層用グリーンシートの一部に配置された構造が例示でき
る。
As such a structure, for example, a structure in which a green sheet for a dielectric layer and a green sheet for an intermediate layer are arranged on the entire surface of a green sheet for a substrate layer, as shown in FIG. The green sheet for the dielectric layer corresponding to the structure 2 is arranged in a part of the green sheet for the substrate layer, and the green sheet for the intermediate layer surrounds the periphery of the green sheet for the dielectric layer. The structure arrange | positioned at a part of layer green sheet can be illustrated.

【0050】上記グリーンシート積層体の少なくとも片
面には、最外層を形成することが好ましい。最外層は、
後に実施される焼成工程における面方向の収縮率が5%
以下の層である。最外層としては、後の焼成工程では実
質的に焼結しない無機粉体を主体とする層、換言すれ
ば、焼結温度が誘電体層、基板層および中間層の各層よ
りも高い無機粉体を主体とする層を使用することができ
る。その他には、既に焼結処理が為された層状の焼結
体、金属箔体などを使用することができる。
It is preferable to form an outermost layer on at least one surface of the green sheet laminate. The outermost layer is
5% shrinkage in the plane direction in the subsequent firing step
The following layers. As the outermost layer, a layer mainly composed of an inorganic powder that is not substantially sintered in the subsequent firing step, in other words, an inorganic powder whose sintering temperature is higher than each of the dielectric layer, the substrate layer, and the intermediate layer Can be used. In addition, a layered sintered body, a metal foil body, or the like that has been subjected to a sintering process can be used.

【0051】各層を積層して熱圧着し、必要に応じて、
脱バインダ処理およびメタライズ処理を実施した後、上
記グリーンシート積層体を焼成する。焼成温度および焼
成時間は、基板層および誘電体層を構成する各無機材料
に応じて適宜設定される。例えば、基板層としてガラス
−アルミナ複合材、誘電体層としてPb系複合ペロブス
カイト化合物を使用する場合、通常、焼成温度は850
〜950℃、焼成時間は0.1〜10.0時間に設定さ
れる。また、処理雰囲気は特に限定するものではなく、
例えば、大気、窒素、水素、水蒸気、二酸化炭素または
それらの混合ガスなどが使用できる。焼成後、必要に応
じて最外層の一部または全部を取り除き、コンデンサ内
蔵多層配線基板を得る。
Each layer is laminated and thermocompression bonded, and if necessary,
After performing the binder removal treatment and the metallization treatment, the green sheet laminate is fired. The firing temperature and the firing time are appropriately set according to each inorganic material constituting the substrate layer and the dielectric layer. For example, when a glass-alumina composite material is used as the substrate layer and a Pb-based composite perovskite compound is used as the dielectric layer, the firing temperature is usually 850.
The firing time is set to 0.1 to 10.0 hours. Also, the processing atmosphere is not particularly limited,
For example, air, nitrogen, hydrogen, steam, carbon dioxide, or a mixed gas thereof can be used. After firing, if necessary, part or all of the outermost layer is removed to obtain a multilayer wiring board with a built-in capacitor.

【0052】なお、上記の説明においては、誘電体層前
駆体および中間層前駆体としてグリーンシートを作製
し、これを基板層用グリーンシートに積層する方法を例
示しているが、本発明の製造方法はこのような方法に限
定されるものではない。例えば、誘電体層前駆体および
中間層前駆体として、各層の無機材料を含むペーストを
作製し、これを基板層用グリーンシート表面などに印刷
する方法を採用することができる。ペーストの調製は、
金属粉体に代えて、各層を構成する無機材料の原料粉体
を使用すること以外は、前述の配線用および電極用導体
ペーストと実質的に同様にして実施することができる。
In the above description, a method is described in which a green sheet is prepared as a dielectric layer precursor and an intermediate layer precursor, and the green sheet is laminated on a green sheet for a substrate layer. The method is not limited to such a method. For example, it is possible to adopt a method in which a paste containing an inorganic material of each layer is prepared as a dielectric layer precursor and an intermediate layer precursor, and the paste is printed on the surface of a green sheet for a substrate layer. Preparation of paste
Except for using the raw material powder of the inorganic material constituting each layer instead of the metal powder, it can be carried out in substantially the same manner as the above-mentioned conductor paste for wiring and electrode.

【0053】以上、本発明に係る受動部品内蔵多層配線
基板の製造方法を、内蔵される受動部品がコンデンサで
ある場合を例示に説明したが、本発明はこれに限定され
るものではない。
As described above, the method of manufacturing the multilayer wiring board with built-in passive components according to the present invention has been described by exemplifying the case where the built-in passive components are capacitors, but the present invention is not limited to this.

【0054】例えば、上記製造方法において、誘電体層
用グリーンシートに代えて、磁性体層用グリーンシート
を作製し、これを用いてグリーンシート積層体を作製す
れば、インダクタ内蔵多層配線基板とすることができ
る。なお、磁性体層用グリーンシートは、無機粉体とし
て、例えば、NiZnCu系、NiZn系、MnZn
系、MgZn系等のスピネルフェライトやガーネットフ
ェライトなどの磁性体の原料粉体を使用すること以外
は、誘電体層用グリーンシートと同様にして作製するこ
とができる。
For example, in the above manufacturing method, a green sheet for a magnetic layer is prepared in place of the green sheet for a dielectric layer, and a green sheet laminate is prepared using the green sheet. be able to. The green sheet for the magnetic layer may be made of, for example, NiZnCu, NiZn, MnZn as an inorganic powder.
Except for using a raw material powder of a magnetic material such as spinel ferrite or garnet ferrite of an Al-based or MgZn-based material, it can be manufactured in the same manner as the green sheet for a dielectric layer.

【0055】以上説明したような、本発明の受動部品内
蔵多層配線基板の製造方法によれば、基板層成分および
中間層成分が誘電体層へ拡散することを効果的に抑制で
き、良好な特性の受動部品内蔵多層配線基板を得ること
ができる。
According to the method for manufacturing a multilayer wiring board with a built-in passive component of the present invention as described above, the diffusion of the substrate layer component and the intermediate layer component into the dielectric layer can be effectively suppressed, and good characteristics can be obtained. Can be obtained.

【0056】[0056]

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。なお、各実施例において作製した試料の特性は、下
記の方法により測定および評価した。 (静電容量、比誘電率および誘電正接)静電容量および
誘電正接は、JIS C 5120に記載の方法に準
じ、LCRメーターにより周波数1kHzの条件で測定
した。また、比誘電率は、試料を切断してその断面観察
により誘電体層の層厚を測定し、前記静電容量と前記層
厚とを用いて算出した。 (インダクタンス)LCRメーターにより周波数1MH
zの条件で測定した。 (破壊モード)試料を三点曲げ破壊により機械的に破壊
し、破壊後の試料の状態を観察した。主な破壊箇所が、
機能層(誘電体層または磁性体層)と基板層との層間で
ある状態を「層間剥離」として記録した。また、破壊が
試料全体で生じており、主な破壊箇所を機能層と基板層
との層間に特定できない状態を、「一体破壊」として記
録した。 (収縮率)焼成前の試料の寸法をL1、焼成後の試料の寸
法をL2とし、下記式により算出した。なお、各寸法
は、試料の水平方向(試料を構成する層の面方向)に測
定した寸法である。
The present invention will be described below in detail with reference to examples. The characteristics of the samples manufactured in the respective examples were measured and evaluated by the following methods. (Capacitance, relative dielectric constant and dielectric loss tangent) The capacitance and the dielectric loss tangent were measured with an LCR meter at a frequency of 1 kHz according to the method described in JIS C5120. The relative dielectric constant was calculated by measuring the thickness of the dielectric layer by cutting a sample and observing the cross section thereof, and using the capacitance and the layer thickness. (Inductance) Frequency 1MH by LCR meter
It was measured under the condition of z. (Destruction Mode) The sample was mechanically broken by three-point bending fracture, and the state of the sample after the fracture was observed. The main destruction point,
The state between the functional layer (dielectric layer or magnetic layer) and the substrate layer was recorded as "delamination". In addition, a state in which destruction occurred in the entire sample and a main destruction location could not be specified between the functional layer and the substrate layer was recorded as “integral destruction”. (Shrinkage ratio) The size of the sample before firing was L 1 , and the size of the sample after firing was L 2 , which was calculated by the following equation. In addition, each dimension is a dimension measured in the horizontal direction of the sample (the surface direction of the layer constituting the sample).

【0057】 収縮率(%)=(L1−L2)/L1×100 (実施例1)まず、導体材料として銀粉体85重量部、
融着用ガラス粉体5重量部、エチルセルロース系樹脂5
重量部およびテルピネオール5重量部を、3本ロールで
十分に混合混練し、配線および電極用導体ペーストを作
製した。また、融着用ガラス粉体を10重量部使用する
こと以外は同様にして、ビア用導体ペーストを作製し
た。
Shrinkage (%) = (L 1 −L 2 ) / L 1 × 100 (Example 1) First, 85 parts by weight of silver powder was used as a conductor material.
5 parts by weight of glass powder for fusion, ethyl cellulose resin 5
Parts by weight and 5 parts by weight of terpineol were sufficiently mixed and kneaded with a three-roll mill to prepare a conductor paste for wiring and electrodes. A conductor paste for via was prepared in the same manner except that 10 parts by weight of the glass powder for fusion was used.

【0058】次に、ガラス−アルミナ混合粉体(焼結温
度900℃)50重量部、バインダとしてブチラール系
樹脂10重量部、可塑剤としてベンジルブチルフタレー
ト5重量部、および、溶剤としてブチルカルビトール3
5重量部を、ボールミルで十分に混合混練した後、脱泡
してスラリーを得た。前記スラリーを、離型処理を施し
たベースフィルム(ポリフェニルサルファイド)表面に
ドクターブレード法にて塗布してシート状に成形し、約
200μm厚の基板層用グリーンシートを作製した。
Next, 50 parts by weight of a glass-alumina mixed powder (sintering temperature: 900 ° C.), 10 parts by weight of a butyral resin as a binder, 5 parts by weight of benzyl butyl phthalate as a plasticizer, and butyl carbitol 3 as a solvent
5 parts by weight were sufficiently mixed and kneaded with a ball mill, and then defoamed to obtain a slurry. The slurry was applied to the surface of a base film (polyphenyl sulfide) having been subjected to a mold release treatment by a doctor blade method and formed into a sheet shape to produce a green sheet for a substrate layer having a thickness of about 200 μm.

【0059】ガラス−アルミナ混合粉体に代えて、Pb
系複合ペロブスカイト化合物の原料粉体(組成比Pb
1.0Ca0.03(Mg1/3Nb2/30.8Ti0.14(Ni1/2
1/2)0 .063.03;単独焼成時比誘電率10000、焼
結温度800℃)を使用すること以外は前記基板層用グ
リーンシートと同様にして、誘電体層用グリーンシート
を作製した。
Instead of glass-alumina mixed powder, Pb
Powder (composition ratio Pb)
1.0 Ca 0.03 (Mg 1/3 Nb 2/3 ) 0.8 Ti 0.14 (Ni 1/2
W 1/2) 0 .06 O 3.03; alone fired at dielectric constant 10000, except using the sintering temperature 800 ° C.) in the same manner as the green sheet for the substrate layer, form a green sheet dielectric layer did.

【0060】ガラス−アルミナ混合粉体に代えて、表1
に示す各種の無機材料を使用すること以外は前記基板層
用グリーンシートと同様にして、中間層用グリーンシー
トを作製した。
In place of the glass-alumina mixed powder, Table 1
A green sheet for an intermediate layer was produced in the same manner as the green sheet for a substrate layer except that the various inorganic materials shown in (1) and (2) were used.

【0061】また、ガラス−アルミナ混合粉体に代え
て、アルミナ粉体を使用すること以外は前記基板層用グ
リーンシートと実質的に同様にして、ベースフィルム
(ポリエチレンテレフタレート)表面に、約200μm
厚の最外層用アルミナシートを作製した。
Further, the base film (polyethylene terephthalate) was coated on the base film (polyethylene terephthalate) surface in substantially the same manner as the green sheet for the substrate layer except that alumina powder was used instead of the glass-alumina mixed powder.
A thick outermost alumina sheet was prepared.

【0062】上記の基板層用グリーンシート、誘電体層
用グリーンシートおよび中間層用グリーンシートを、適
宜、電極層、配線層およびビアを形成しながら積層し、
誘電体層グリーンシート両面に電極層が形成されてなる
コンデンサ前駆体を10個含むグリーンシート積層体を
作製した。このとき、前記グリーンシート積層体は、各
コンデンサ前駆体が、基板層用グリーンシートで挟持さ
れ、且つ、誘電体層用グリーンシートと基板層用グリー
ンシートとの間には中間層用グリーンシートが介在する
ように作製した。なお、電極層および配線層の形成は、
各々、電極用および配線用ペーストを用いた印刷により
実施した。また、ビアの形成は、基板層用グリーンシー
トおよび中間層用グリーンシートの所定の箇所に、直径
0.2mmのビア孔をパンチングにより穿孔し、このビ
ア孔にビア用導体ペーストを充填することにより実施し
た。
The above-described green sheet for the substrate layer, the green sheet for the dielectric layer, and the green sheet for the intermediate layer are laminated while appropriately forming an electrode layer, a wiring layer, and a via.
A green sheet laminate including 10 capacitor precursors each having an electrode layer formed on both surfaces of the dielectric layer green sheet was prepared. At this time, in the green sheet laminate, each capacitor precursor is sandwiched between green sheets for the substrate layer, and a green sheet for the intermediate layer is provided between the green sheet for the dielectric layer and the green sheet for the substrate layer. It was made to intervene. Note that the formation of the electrode layer and the wiring layer
Each was performed by printing using paste for electrodes and wiring. The via is formed by punching a via hole having a diameter of 0.2 mm at a predetermined position on the green sheet for the substrate layer and the green sheet for the intermediate layer by punching, and filling the via hole with a conductive paste for the via. Carried out.

【0063】更に、上記グリーンシート積層体両面に最
外層用アルミナシートを積層した後、80℃で熱圧着し
てコンデンサ内蔵多層配線基板の前駆体を得た。この前
駆体を、加熱炉にて大気中600℃の条件で脱バインダ
処理した後、900℃で0.2時間焼成した。焼成後、
最外層用アルミナシートを水洗により除去した。
Further, after laminating an alumina sheet for the outermost layer on both sides of the green sheet laminate, the laminate was thermocompressed at 80 ° C. to obtain a precursor of a multilayer wiring board with a built-in capacitor. This precursor was subjected to binder removal treatment in the air at 600 ° C. in a heating furnace, and then fired at 900 ° C. for 0.2 hours. After firing,
The alumina sheet for the outermost layer was removed by washing with water.

【0064】上記の製造方法により、中間層を構成する
無機材料を種々変化させて、12種のコンデンサ内蔵多
層配線基板を得た(試料No.1〜12)。なお、各試
料の誘電体層の層厚は、約10μmであった。各試料に
ついて、比誘電率および誘電正接を測定した結果を、中
間層を構成する無機材料の種類とともに、表1に示す。
By the above manufacturing method, 12 kinds of multilayer wiring boards with built-in capacitors were obtained by changing various inorganic materials constituting the intermediate layer (Sample Nos. 1 to 12). The thickness of the dielectric layer of each sample was about 10 μm. Table 1 shows the results of measuring the relative permittivity and the dielectric loss tangent of each sample, together with the types of inorganic materials constituting the intermediate layer.

【0065】[0065]

【表1】 [Table 1]

【0066】表1より明らかなように、中間層を形成し
ない場合、比誘電率が極端に低く、容量がほとんど得ら
れなかった(試料No.1)。また、中間層として、M
gO、ZnOおよびCaO以外の各種材料を使用した場
合も、比誘電率は極めて小さかった(試料No.2〜
9)。
As is clear from Table 1, when the intermediate layer was not formed, the relative dielectric constant was extremely low, and almost no capacity was obtained (Sample No. 1). Further, as an intermediate layer, M
Also when various materials other than gO, ZnO and CaO were used, the relative dielectric constant was extremely small (Sample Nos. 2 to 2).
9).

【0067】これに対して、中間層として、MgO、Z
nOまたはCaOを使用した場合、200以上という高
い比誘電率が得られた(試料No.10〜11)。
On the other hand, MgO, Z
When nO or CaO was used, a high relative dielectric constant of 200 or more was obtained (Sample Nos. 10 to 11).

【0068】(実施例2)中間層の組成を種々変化させ
ること以外は実施例1と同様の操作により、12種のコ
ンデンサ内蔵多層配線基板を作製した(試料No.13
〜24)。なお、中間層の層厚は15μmとなるように
調整した。各試料の比誘電率および誘電正接を測定した
結果を、中間層の組成とともに、表2に示す。
(Example 2) Twelve kinds of multilayer wiring boards with built-in capacitors were produced by the same operation as in Example 1 except that the composition of the intermediate layer was variously changed (Sample No. 13).
To 24). The thickness of the intermediate layer was adjusted to be 15 μm. Table 2 shows the measurement results of the relative dielectric constant and the dielectric loss tangent of each sample together with the composition of the intermediate layer.

【0069】[0069]

【表2】 [Table 2]

【0070】表2より明らかなように、PbOおよびC
uOの少なくとも1種を加えた場合(試料No.14〜
24)、これらの成分を添加しない場合(試料No.1
3)に比べて、高い比誘電率が得られた。但し、PbO
量またはCuO量が多すぎる場合(試料No.17およ
び21)や、MgO量が少なすぎる場合(試料No.2
4)、誘電正接(誘電損失)が若干大きくなった。
As is clear from Table 2, PbO and C
When at least one kind of uO is added (Sample Nos. 14 to
24) When these components are not added (Sample No. 1)
A higher dielectric constant was obtained as compared to 3). However, PbO
When the amount or CuO amount is too large (Sample Nos. 17 and 21) or when the MgO amount is too small (Sample No. 2)
4) The dielectric loss tangent (dielectric loss) was slightly increased.

【0071】PbOおよびCuOは、誘電体層に使用し
たPb系複合ペロブスカイト化合物の焼結助剤として機
能すると考えられる成分である。以上の結果より、中間
層が、誘電体層を構成する無機材料の焼結助剤として機
能する成分を含む場合、良好な比誘電率が得られること
が確認できた。特に、中間層が下記の組成を有する場合
(試料No.22および23)、比誘電率を高く、且
つ、誘電損失を小さくすることができ、最良の特性が得
られることが確認できた。
PbO and CuO are components that are considered to function as a sintering aid for the Pb-based composite perovskite compound used for the dielectric layer. From the above results, it was confirmed that when the intermediate layer contains a component functioning as a sintering aid for the inorganic material constituting the dielectric layer, a good relative dielectric constant can be obtained. In particular, when the intermediate layer had the following composition (Sample Nos. 22 and 23), it was confirmed that the relative dielectric constant was high, the dielectric loss was small, and the best characteristics were obtained.

【0072】50重量%≦MgO≦95重量% 5重量%≦(PbO+CuO)≦50重量% 但し、PbOおよびCuOは、各々、0重量%≦PbO
≦40重量%、0重量%≦CuO≦30重量%の範囲で
ある。
50% by weight ≦ MgO ≦ 95% by weight 5% by weight ≦ (PbO + CuO) ≦ 50% by weight However, PbO and CuO are each 0% by weight ≦ PbO
≦ 40% by weight, 0% by weight ≦ CuO ≦ 30% by weight.

【0073】また、MgOに代えてZnOを用いること
以外は同様にして試料を作製し、その特性を評価したと
ころ、MgOに比べて比誘電率が若干小さくはなるもの
の、ほぼ同様の傾向が確認できた。
A sample was prepared in the same manner except that ZnO was used in place of MgO, and its characteristics were evaluated. As a result, although the relative permittivity was slightly smaller than that of MgO, almost the same tendency was confirmed. did it.

【0074】(実施例3)中間層の組成および層厚を種
々変化させること以外は、実施例1と同様の操作によ
り、12種のコンデンサ内蔵多層配線基板を作製した
(試料No.25〜36)。各試料について、比誘電率
および誘電正接の測定と、破壊モードの観察を行った。
結果を、中間層の組成および層厚とともに、表3に示
す。
(Example 3) Twelve kinds of multilayer wiring boards with built-in capacitors were manufactured in the same manner as in Example 1 except that the composition and thickness of the intermediate layer were variously changed (Sample Nos. 25 to 36). ). For each sample, the relative permittivity and the dielectric loss tangent were measured, and the breakdown mode was observed.
Table 3 shows the results together with the composition and thickness of the intermediate layer.

【0075】[0075]

【表3】 [Table 3]

【0076】表3より明らかなように、中間層がZnO
を含まない場合、高い比誘電率が得られるものの、誘電
体層と基板層との層間剥離が生じており、中間層の機械
的強度が低くなった(試料No.25および30)。
As is clear from Table 3, the intermediate layer is made of ZnO.
In the case where no is contained, although a high relative dielectric constant was obtained, delamination between the dielectric layer and the substrate layer occurred, and the mechanical strength of the intermediate layer was low (Sample Nos. 25 and 30).

【0077】それに対して、中間層がZnOを含む場
合、誘電体層と基板層との層間剥離を生じておらず、中
間層の機械的強度が向上し、多層配線基板の強度が向上
することが確認できた(試料No.26〜29および試
料No.31〜34)。特に、中間層がMgO、Zn
O、PbOおよびCuOを同時に含む場合、比誘電率、
強度ともに良好であった(試料No.31〜34)。
On the other hand, when the intermediate layer contains ZnO, delamination between the dielectric layer and the substrate layer does not occur, the mechanical strength of the intermediate layer is improved, and the strength of the multilayer wiring board is improved. Was confirmed (Sample Nos. 26 to 29 and Sample Nos. 31 to 34). In particular, the intermediate layer is made of MgO, Zn
When simultaneously containing O, PbO and CuO, the relative permittivity,
Both strengths were good (Sample Nos. 31 to 34).

【0078】また、試料No.31〜35の比較から明
らかなように、中間層の層厚が大きくなるほど高い比誘
電率が得られた。但し、層厚が30μmを超えると、強
度の低下が見られた(試料No.35および36)。
The sample No. As is clear from the comparison of 31 to 35, the higher the interlayer thickness, the higher the relative dielectric constant was obtained. However, when the layer thickness exceeded 30 μm, a decrease in strength was observed (Sample Nos. 35 and 36).

【0079】(実施例4)中間層の組成を種々変化させ
ること以外は、実施例1と同様の操作により、12種の
コンデンサ内蔵多層配線基板を作製した(試料No.3
7〜48)。各試料について、比誘電率および誘電正接
の測定と、破壊モードの観察を行った。結果を、中間層
の組成とともに、表4に示す。なお、表4においては、
中間層の主成分(MgO)を第1成分として表示し、誘
電体層の焼結助剤として機能する成分(PbO、Cu
O、Bi23およびV25)を第2成分として表示し、
中間層の強度を向上させる成分(SiO2、Al23
よびB23)を第3成分として表示した。
Example 4 Twelve kinds of multilayer wiring boards with built-in capacitors were manufactured in the same manner as in Example 1 except that the composition of the intermediate layer was variously changed (Sample No. 3).
7-48). For each sample, the relative permittivity and the dielectric loss tangent were measured, and the breakdown mode was observed. The results are shown in Table 4 together with the composition of the intermediate layer. In Table 4,
The main component (MgO) of the intermediate layer is indicated as the first component, and the components (PbO, Cu
O, Bi 2 O 3 and V 2 O 5 ) as the second component,
Components that improve the strength of the intermediate layer (SiO 2 , Al 2 O 3 and B 2 O 3 ) are indicated as third components.

【0080】[0080]

【表4】 [Table 4]

【0081】表4に示すように、中間層に、誘電体層の
焼結助剤として機能する成分を添加した場合(試料N
o.38〜41および試料No.45〜48)、高い比
誘電率が得られた。また、中間層に、中間層の強度を向
上させる成分を添加した場合(試料No.42〜48)
は、試料の強度が向上した。また、両者を同時に含む場
合(試料No.45〜48)は、高い比誘電率と高い強
度が得られ、特に良好な試料が得られた。
As shown in Table 4, when a component functioning as a sintering aid for the dielectric layer was added to the intermediate layer (sample N
o. 38-41 and sample no. 45 to 48), and a high relative dielectric constant was obtained. When a component for improving the strength of the intermediate layer is added to the intermediate layer (Sample Nos. 42 to 48)
In the sample, the strength of the sample was improved. When both were simultaneously contained (Sample Nos. 45 to 48), a high relative dielectric constant and a high strength were obtained, and a particularly good sample was obtained.

【0082】(実施例5)中間層の原料粉体として、M
gO:PbO=80:20(重量比)の混合粉体を使用
した。前記混合粉体50重量部、ブチラール系樹脂15
重量部、ベンジルブチルフタレート5重量部およびブチ
ルカルビトール30重量部を十分に混合混練してスラリ
ーを調製した。前記スラリーを、離型処理を施したベー
スフィルム表面にドクターブレード法にて塗布し、40
℃の温度条件で乾燥して、厚さ約20μmの中間層用グ
リーンシートAを作製した。また、乾燥温度を10℃と
すること以外は同様にして、中間層用グリーンシートB
を作製した。各中間層用グリーンシートの組成を分析し
たところ、中間層用グリーンシートAは、その表裏面で
PbO濃度に実質的な相違はなかった。一方、中間層用
グリーンシートBは、表面におけるPbO濃度が、裏面
におけるPbO濃度よりも高かった。
(Example 5) As a raw material powder for the intermediate layer, M
A mixed powder of gO: PbO = 80: 20 (weight ratio) was used. 50 parts by weight of the mixed powder, butyral resin 15
Parts by weight, 5 parts by weight of benzyl butyl phthalate and 30 parts by weight of butyl carbitol were sufficiently mixed and kneaded to prepare a slurry. The slurry was applied to the surface of the base film subjected to the release treatment by a doctor blade method.
The resultant was dried under a temperature condition of ° C. to prepare a green sheet A for an intermediate layer having a thickness of about 20 μm. Further, except that the drying temperature was set to 10 ° C., the green sheet B for the intermediate layer was prepared in the same manner.
Was prepared. When the composition of each intermediate layer green sheet was analyzed, there was no substantial difference in PbO concentration between the front and back surfaces of the intermediate layer green sheet A. On the other hand, in the intermediate layer green sheet B, the PbO concentration on the front surface was higher than the PbO concentration on the back surface.

【0083】上記の中間層グリーンシートを用いること
以外は、実施例1と同様にして、3種の試料を作製し
た。試料Aは、中間層用グリーンシートAを使用して作
製した。また、試料B−1は、中間層用グリーンシート
Bを使用し、シート表面(PbO濃度の高い面)が基板
層側、シート裏面(PbO濃度の低い面)が誘電体層側
となるように作製した。試料B−2は、中間層用グリー
ンシートBを使用し、シート表面(PbO濃度の高い
面)が誘電体層側、シート裏面(PbO濃度の低い面)
が基板層側となるように作製した。
Three samples were prepared in the same manner as in Example 1 except that the above-mentioned intermediate green sheet was used. Sample A was produced using the green sheet A for an intermediate layer. Sample B-1 uses an intermediate layer green sheet B such that the sheet surface (the surface with a high PbO concentration) is on the substrate layer side and the sheet back surface (the surface with a low PbO concentration) is on the dielectric layer side. Produced. Sample B-2 uses the green sheet B for the intermediate layer, and the sheet surface (the surface with a high PbO concentration) is on the dielectric layer side, and the back surface of the sheet (the surface with a low PbO concentration).
Was formed on the substrate layer side.

【0084】各試料について、コンデンサ部の比誘電率
を測定したところ、試料B−2が比誘電率10080と
最も高く、次いで試料Aが比誘電率8320とこれに続
き、試料B−1が比誘電率6530と最も低かった。
When the relative permittivity of the capacitor portion of each sample was measured, the relative permittivity of sample B-2 was the highest at 10080, then the relative permittivity of sample A was 8320, followed by the relative permittivity of sample B320. It was the lowest with a dielectric constant of 6530.

【0085】以上の結果から、中間層において、誘電体
層の焼結助剤となる成分の平均濃度が同等である場合、
前記成分の濃度に勾配があり、誘電体層側に誘電体層の
焼結助剤となる成分が多い方が、良好な特性が得られる
ことが確認できた。
From the above results, when the average concentration of the component serving as the sintering aid of the dielectric layer in the intermediate layer is the same,
It was confirmed that there was a gradient in the concentration of the components, and the more the components serving as the sintering aid for the dielectric layer were on the dielectric layer side, the better the characteristics could be obtained.

【0086】(実施例6)NiZnCu系フェライト原
料粉体50重量部、ブチラール系樹脂15重量部、ベン
ジルブチルフタレート5重量部およびブチルカルビトー
ル30重量部を、ボールミルで十分に混合混練した後、
脱泡してスラリーを得た。前記スラリーを、離型処理を
施したベースフィルム(ポリフェニルサルファイド)表
面にドクターブレード法にて塗布してシート状に成形
し、磁性体層用グリーンシートを作製した。なお、Ni
ZnCu系フェライト原料粉体としては、NiO=7.
5mol%、ZnO=32.5mol%、CuO=1
1.0mol%、Fe23=9.0mol%を配合した
もの(仮焼温度700℃、焼結温度900℃)を用い
た。
(Example 6) 50 parts by weight of NiZnCu-based ferrite raw material powder, 15 parts by weight of butyral-based resin, 5 parts by weight of benzyl butyl phthalate and 30 parts by weight of butyl carbitol were thoroughly mixed and kneaded by a ball mill.
Defoaming was performed to obtain a slurry. The slurry was applied to the surface of a base film (polyphenyl sulfide) that had been subjected to a release treatment by a doctor blade method and formed into a sheet shape to produce a green sheet for a magnetic layer. Note that Ni
As the ZnCu-based ferrite raw material powder, NiO = 7.
5 mol%, ZnO = 32.5 mol%, CuO = 1
A mixture of 1.0 mol% and Fe 2 O 3 = 9.0 mol% (calcination temperature 700 ° C., sintering temperature 900 ° C.) was used.

【0087】次に、NiZnCu系フェライト原料粉体
に代えて、表5に示す各無機粉体を使用すること以外は
前記磁性体層用グリーンシートと同様にして、中間層用
グリーンシートを作製した。
Next, a green sheet for an intermediate layer was prepared in the same manner as the green sheet for the magnetic layer except that the inorganic powder shown in Table 5 was used instead of the NiZnCu-based ferrite raw material powder. .

【0088】また、実施例1と同様にして、基板層用グ
リーンシート、最外層用アルミナシートおよび導体ペー
ストを作製した。
In the same manner as in Example 1, a green sheet for the substrate layer, an alumina sheet for the outermost layer, and a conductive paste were prepared.

【0089】上記の基板層用グリーンシート、磁性体層
用グリーンシートおよび中間層用グリーンシートを、適
宜、配線層およびビアを形成しながら積層し、配線層が
磁性体層用グリーンシートに挟持されてなるインダクタ
前駆体を含むグリーンシート積層体を作製した。このと
き、前記グリーンシート積層体は、磁性体層用グリーン
シートと基板層用グリーンシートとの間に中間層用グリ
ーンシートが介在するように作製した。なお、配線層お
よびのビアの形成は、実施例1と実質的に同様にして実
施した。
The green sheet for the substrate layer, the green sheet for the magnetic layer, and the green sheet for the intermediate layer are appropriately laminated while forming a wiring layer and a via, and the wiring layer is sandwiched between the green sheets for the magnetic layer. A green sheet laminate including an inductor precursor was prepared. At this time, the green sheet laminate was prepared such that the intermediate layer green sheet was interposed between the magnetic layer green sheet and the substrate layer green sheet. The formation of the wiring layer and the via was performed in substantially the same manner as in Example 1.

【0090】更に、上記グリーンシート積層体両面に最
外層用アルミナシートを積層した後、80℃で熱圧着し
てインダクタ内蔵多層配線基板の前駆体を得た。この前
駆体を、加熱炉にて大気中600℃の条件で脱バインダ
処理した後、920℃で0.5時間焼成した。焼成後、
最外層用アルミナシートを水洗により除去した。
Further, an alumina sheet for the outermost layer was laminated on both sides of the green sheet laminate, and then thermocompression bonded at 80 ° C. to obtain a precursor of a multilayer wiring board with a built-in inductor. The precursor was subjected to a binder removal treatment in a heating furnace at 600 ° C. in the air, and then fired at 920 ° C. for 0.5 hour. After firing,
The alumina sheet for the outermost layer was removed by washing with water.

【0091】上記の製造方法により、中間層の組成を種
々変化させて、12種のインダクタ内蔵多層配線基板を
得た(試料No.49〜60)。各試料について、イン
ダクタンスの測定および破壊モードの観察を行った。結
果を、中間層の組成とともに、表5に示す。
By the above-mentioned manufacturing method, the composition of the intermediate layer was changed variously to obtain 12 kinds of multilayer wiring boards with built-in inductors (Sample Nos. 49 to 60). For each sample, the inductance was measured and the destruction mode was observed. Table 5 shows the results together with the composition of the intermediate layer.

【0092】[0092]

【表5】 [Table 5]

【0093】表5より明らかなように、中間層を形成し
ない場合、インダクタンスが極めて小さかった。(試料
No.49)。また、中間層として、焼結温度が磁性体
層と同温である材料を使用した場合も、インダクタンス
は極めて小さかった(試料No.50)。
As apparent from Table 5, when the intermediate layer was not formed, the inductance was extremely small. (Sample No. 49). Also, when a material having the same sintering temperature as the magnetic layer was used as the intermediate layer, the inductance was extremely small (Sample No. 50).

【0094】これに対して、中間層として、MgOを含
む無機材料を使用した場合、高いインダクタンスが得ら
れた(試料No.51〜60)。特に、中間層が磁性体
層の焼結助剤として機能する成分(CuO、Ag2Oま
たはV25)を含む場合、良好なインダクタンスが得ら
れた(試料No.52〜54、59および60)。ま
た、中間層の強度を向上させる成分(ZnO、Si
2、Al23またはB23)を含む場合、試料の強度
が向上した(試料No.55〜60)。特に、両者を含
む場合、インダクタンスおよび強度の両特性において、
良好な結果が得られた(試料No.59および60)。
On the other hand, when an inorganic material containing MgO was used as the intermediate layer, high inductance was obtained (Sample Nos. 51 to 60). In particular, if the intermediate layer contains a component which functions as a sintering aid of the magnetic layer (CuO, Ag 2 O or V 2 O 5), good inductance was obtained (Sample No.52~54,59 and 60). In addition, components (ZnO, Si
When O 2 , Al 2 O 3 or B 2 O 3 ) was included, the strength of the sample was improved (Sample Nos. 55 to 60). In particular, when both are included, in both characteristics of inductance and strength,
Good results were obtained (Sample Nos. 59 and 60).

【0095】(実施例7)抵抗体原料粉体としてRuO
2粉体80重量部、融着用ガラス粉体5重量部、エチル
セルロース系樹脂8重量部およびテルピネオール7重量
部を、3本ロールで十分に混合混練し、抵抗体用ペース
トを作製した。
Example 7 RuO was used as a raw material powder for a resistor.
(2) 80 parts by weight of powder, 5 parts by weight of glass powder for fusion, 8 parts by weight of ethyl cellulose resin and 7 parts by weight of terpineol were sufficiently mixed and kneaded with a three-roll mill to prepare a paste for a resistor.

【0096】また、MgO:ZnO=60:40(重量
比)の混合粉体を使用すること以外は実施例1と同様に
して、中間層用グリーンシートを作製した。また、実施
例1と同様にして、基板層用グリーンシート、最外層用
アルミナシートおよび導体ペーストを作製した。
A green sheet for an intermediate layer was prepared in the same manner as in Example 1 except that a mixed powder of MgO: ZnO = 60: 40 (weight ratio) was used. In the same manner as in Example 1, a green sheet for the substrate layer, an alumina sheet for the outermost layer, and a conductive paste were produced.

【0097】上記の基板層用グリーンシートおよび中間
層用グリーンシートを、適宜、抵抗体層前駆体、配線層
およびビアを形成しながら積層し、抵抗体層前駆体に配
線層が形成されてなる抵抗体前駆体を含む積層体を作製
した。このとき、前記積層体は、抵抗体層前駆体と基板
層用グリーンシートとの間に中間層用グリーンシートが
介在するように作製した。なお、抵抗体層前駆体の形成
は、抵抗体層用ペーストを用いた印刷により実施した。
また、配線層およびビアの形成は、実施例1と実質的に
同様にして実施した。
The above-described green sheet for the substrate layer and the green sheet for the intermediate layer are appropriately laminated while forming a resistor layer precursor, a wiring layer and a via, and a wiring layer is formed on the resistor layer precursor. A laminate including the resistor precursor was produced. At this time, the laminate was manufactured such that the intermediate layer green sheet was interposed between the resistor layer precursor and the substrate layer green sheet. The resistor layer precursor was formed by printing using a resistor layer paste.
The formation of the wiring layer and the via was performed in substantially the same manner as in Example 1.

【0098】更に、上記グリーンシート積層体両面に最
外層用アルミナシートを積層した後、80℃で熱圧着し
て抵抗体内蔵多層配線基板の前駆体を得た。この前駆体
を、加熱炉にて大気中600℃の条件で脱バインダ処理
した後、900℃で0.2時間焼成した。焼成後、最外
層用アルミナシートを水洗により除去し、抵抗体内蔵多
層配線基板を得た(試料C)。
Further, an alumina sheet for the outermost layer was laminated on both sides of the green sheet laminate, and then thermocompression-bonded at 80 ° C. to obtain a precursor of a multilayer wiring board with built-in resistors. This precursor was subjected to binder removal treatment in the air at 600 ° C. in a heating furnace, and then fired at 900 ° C. for 0.2 hours. After firing, the alumina sheet for the outermost layer was removed by washing with water to obtain a multilayer wiring board with a built-in resistor (sample C).

【0099】比較例として、中間層を形成しないこと以
外は同様にして、基板層と抵抗体層とが直接接触した構
造の抵抗体内蔵多層配線基板を作製した(試料D)。ま
た、白金板上に、同一形状の抵抗体層および配線層を形
成し、これを大気中600℃の条件で脱バインダ処理し
た後、900℃で0.2時間焼成して抵抗体を作製し
た。
As a comparative example, a resistor built-in multilayer wiring board having a structure in which the substrate layer and the resistor layer were in direct contact was prepared in the same manner except that the intermediate layer was not formed (sample D). Further, a resistor layer and a wiring layer having the same shape were formed on a platinum plate, and after removing the binder layer under the condition of 600 ° C. in the air, firing was performed at 900 ° C. for 0.2 hours to produce a resistor. .

【0100】各試料について、抵抗体の電気抵抗を測定
したところ、中間層を備えた試料Cに内蔵された抵抗体
の抵抗値は、白金板上に形成した抵抗体と実質的に同等
であり、所望の抵抗値が得られた。一方、中間層を備え
ていない試料Dに内蔵された抵抗体の抵抗値は、白金板
上に形成した抵抗体の3倍程度高い値であり、所望の抵
抗値が得られなかった。
When the electric resistance of the resistor was measured for each sample, the resistance value of the resistor built in Sample C provided with the intermediate layer was substantially equal to that of the resistor formed on the platinum plate. The desired resistance was obtained. On the other hand, the resistance value of the resistor built in the sample D having no intermediate layer was about three times higher than that of the resistor formed on the platinum plate, and a desired resistance value could not be obtained.

【0101】(実施例8)導体材料(または前駆体)と
して銀、銅または酸化銅を使用すること以外は実施例1
と同様にして、配線用および電極用導体ペーストおよび
ビア用ペーストを、各々3種作製した。
Example 8 Example 1 was repeated except that silver, copper or copper oxide was used as the conductor material (or precursor).
In the same manner as described above, three types of conductive pastes for wiring and electrodes and pastes for vias were produced.

【0102】次に、MgO:ZnO:PbO:CuO=
50:30:20:10(重量比)の混合粉体を使用す
ること以外は実施例1と同様にして、中間層用グリーン
シートを作製した。また、前記混合粉体75重量部、エ
チルセルロース系樹脂15重量部およびテルピネオール
10重量部を十分に混合混練して、中間層用ペーストを
作製した。
Next, MgO: ZnO: PbO: CuO =
A green sheet for an intermediate layer was prepared in the same manner as in Example 1 except that a mixed powder of 50: 30: 20: 10 (weight ratio) was used. Also, 75 parts by weight of the mixed powder, 15 parts by weight of ethyl cellulose resin and 10 parts by weight of terpineol were sufficiently mixed and kneaded to prepare a paste for an intermediate layer.

【0103】また、バインダとしてアクリル系樹脂を使
用すること以外は実施例1と同様にして、基板層用グリ
ーンシート、誘電体層用グリーンシートを作製した。な
お、各グリーンシートの厚さは約200μmとした。
A green sheet for a substrate layer and a green sheet for a dielectric layer were prepared in the same manner as in Example 1 except that an acrylic resin was used as a binder. The thickness of each green sheet was about 200 μm.

【0104】実施例1と同様にして、約200μm厚の
最外層用アルミナシートを作製した。また、アルミナ粉
体に代えて銅粉体を使用すること以外は同様にして、約
100μm厚の最外層用銅シートを作製した。更に、表
面粗化処理をした約50μm厚の最外層用銅箔を用意し
た。
An alumina sheet for the outermost layer having a thickness of about 200 μm was prepared in the same manner as in Example 1. An outermost copper sheet having a thickness of about 100 μm was prepared in the same manner except that copper powder was used instead of alumina powder. Further, a copper foil for an outermost layer having a surface roughness of about 50 μm was prepared.

【0105】上記の各種グリーンシートおよび各種ペー
ストを用いて、誘電体層グリーンシート両面に電極層が
形成されてなるコンデンサ前駆体を含み、且つ、誘電体
層用グリーンシートと基板層用グリーンシートとの間に
は中間層前駆体が介在する積層体を作製した。なお、コ
ンデンサの内蔵形態としては、下記のような2種の形態
(形態Iおよび形態II)を採用した。
Using the above-mentioned various green sheets and various pastes, a capacitor precursor obtained by forming an electrode layer on both surfaces of a dielectric layer green sheet is included, and a dielectric layer green sheet and a substrate layer green sheet are formed. A laminate having an intermediate layer precursor interposed therebetween was produced. The following two forms (Form I and Form II) were adopted as the built-in form of the capacitor.

【0106】形態Iは、図1に対応するような形態であ
り、コンデンサ前駆体および中間層前駆体が、基板層グ
リーンシートの全面に配置された形態である。すなわ
ち、誘電体層用グリーンシートおよび中間層前駆体の面
積を、基板層用グリーンシートの面積と同等とした形態
である。この場合、積層体の形成方法は、実施例1と実
質的に同様であり、中間層前駆体として中間層用グリー
ンシートを使用し、これと基板層用グリーンシートおよ
び誘電体層用グリーンシートとを、適宜、電極層、配線
層およびビアを形成し、積層した。
Mode I is a mode corresponding to FIG. 1, in which the capacitor precursor and the intermediate layer precursor are arranged on the entire surface of the green sheet of the substrate layer. That is, the area of the dielectric layer green sheet and the area of the intermediate layer precursor are made equal to the area of the substrate layer green sheet. In this case, the method of forming the laminate is substantially the same as that of Example 1, using a green sheet for an intermediate layer as an intermediate layer precursor, and using a green sheet for a substrate layer and a green sheet for a dielectric layer. Were appropriately formed with an electrode layer, a wiring layer, and a via, and laminated.

【0107】形態IIは、図2に対応するような形態であ
り、コンデンサ前駆体および中間層前駆体が、基板層グ
リーンシートの一部に配置された形態である。すなわ
ち、誘電体層用グリーンシートの面積を基板層用グリー
ンシートの面積よりも小さくなるように調整し、中間層
前駆体を誘電体層用グリーンシートの周囲を囲むように
形成した形態である。この場合、積層体の形成方法は、
適宜、電極層、配線層およびビアを形成しながら、基板
層用グリーンシートの一部に、下記の要領で中間層前駆
体および誘電体層用前駆体を形成する方法を採用した。
中間層前駆体の形成は、中間層用ペーストを基板層用グ
リーンシート表面に印刷することにより実施した。ま
た、誘電体層前駆体は、誘電体層用グリーンシートを、
所定の面積となるように一部をベースフィルムから除去
した状態で、積層体の所定の位置(中間層前駆体を形成
した位置)に積層した後、ベースフィルムを剥がして転
写することにより実施した。なお、中間層前駆体および
誘電体層前駆体の層厚は、焼成後の各層の層厚が、中間
層が10μm、誘電体層が8μmとなるように各々調整
した。
Form II is a form corresponding to FIG. 2, in which the capacitor precursor and the intermediate layer precursor are arranged on a part of the substrate layer green sheet. That is, the area of the dielectric layer green sheet is adjusted to be smaller than the area of the substrate layer green sheet, and the intermediate layer precursor is formed so as to surround the dielectric layer green sheet. In this case, the method of forming the laminate is as follows:
A method of forming an intermediate layer precursor and a dielectric layer precursor on a part of the substrate layer green sheet as described below while appropriately forming the electrode layer, the wiring layer, and the via was employed.
The intermediate layer precursor was formed by printing the intermediate layer paste on the surface of the substrate layer green sheet. Also, the dielectric layer precursor is a dielectric layer green sheet,
In a state where a part was removed from the base film so as to have a predetermined area, after laminating at a predetermined position (position where the intermediate layer precursor was formed) of the laminate, the base film was peeled off and transferred. . The thicknesses of the intermediate layer precursor and the dielectric layer precursor were adjusted such that the thickness of each layer after firing was 10 μm for the intermediate layer and 8 μm for the dielectric layer.

【0108】なお、いずれの形態を採用する場合におい
ても、電極層、配線層およびビアの形成は、導体ペース
トを上記3種から選択して使用すること以外は、実施例
1と実質的に同様にして実施した。
In any case, the formation of the electrode layer, the wiring layer, and the via is substantially the same as that of the first embodiment except that the conductive paste is selected from the above three types. Was carried out.

【0109】また、最外層を用いる場合は、最外層を上
記3種から選択し、これを積層体の両面に積層した。
When the outermost layer was used, the outermost layer was selected from the above three types and was laminated on both sides of the laminate.

【0110】作製した積層体を80℃で熱圧着した後、
脱バインダ処理した。脱バインダ処理は、導体ペースト
として、銀系または酸化銅系導体ペーストを使用した試
料については、大気中600℃の条件で実施し、銅系導
体ペーストを使用した試料については、酸素50ppm
を含む窒素中700℃の条件で実施した。また、導体ペ
ーストとして酸化銅系導体ペーストを使用した試料につ
いては、脱バインダ処理後、10%の水素を含む窒素中
で300℃の条件で、メタライズ処理を施した。
After the produced laminate was thermocompressed at 80 ° C.,
The binder was removed. The binder removal treatment is performed at 600 ° C. in the atmosphere for a sample using a silver-based or copper oxide-based conductor paste as a conductor paste, and 50 ppm of oxygen for a sample using a copper-based conductor paste.
In nitrogen containing 700 ° C. In addition, the sample using a copper oxide-based conductor paste as the conductor paste was subjected to a metallization treatment at 300 ° C. in nitrogen containing 10% hydrogen after the binder removal treatment.

【0111】次いで、上記積層体を、窒素中900℃の
条件で0.15時間焼成し、コンデンサ内蔵多層配線基
板を得た。また、最外層を用いた試料については、焼成
後、最外層の少なくとも一部を除去した。最外層の除去
は、最外層用シートとしてアルミナシートを使用した試
料は洗浄により全てを除去し、銅シートまたは銅箔を使
用した試料はエッチングにより一部を除去した。
Next, the laminate was fired in nitrogen at 900 ° C. for 0.15 hours to obtain a multilayer wiring board with a built-in capacitor. In the sample using the outermost layer, at least a part of the outermost layer was removed after firing. For the removal of the outermost layer, all the samples using the alumina sheet as the outermost layer sheet were removed by washing, and the samples using the copper sheet or copper foil were partially removed by etching.

【0112】上記製造方法において、製造条件(コンデ
ンサの内蔵形態、最外層の有無および種類、導体ペース
トの種類)を種々変化させて、10種のコンデンサ内蔵
多層配線基板を作製した(試料No.61から70)。
各試料について、面方向の収縮率の測定および外観の観
察を行なった。また、各試料に内蔵されたコンデンサの
静電容量および誘電正接を測定した。結果を、各試料の
製造条件とともに、表6に示す。なお、コンデンサの内
蔵形態については、図1に対応するような、コンデンサ
が基板層全面に配置された形態を「I」と表示し、図2
に対応するような、コンデンサが基板層の一部に配置さ
れた形態を「II」と表示した。
In the above manufacturing method, ten kinds of multilayer wiring boards with built-in capacitors were manufactured by changing manufacturing conditions (the built-in form of the capacitor, the presence / absence and type of the outermost layer, and the type of the conductive paste) variously (Sample No. 61). To 70).
For each sample, the shrinkage in the plane direction was measured and the appearance was observed. In addition, the capacitance and the dielectric loss tangent of the capacitor built in each sample were measured. The results are shown in Table 6 together with the production conditions for each sample. As for the built-in form of the capacitor, the form in which the capacitor is arranged on the entire surface of the substrate layer as shown in FIG.
The form in which the capacitor is disposed in a part of the substrate layer, which corresponds to the above, is indicated as “II”.

【0113】[0113]

【表6】 [Table 6]

【0114】表6より明らかなように、中間層を設けな
い場合(試料No.61および70)、最外層の有無に
かかわらず、静電容量が得られなかった。
As is clear from Table 6, when no intermediate layer was provided (Sample Nos. 61 and 70), no capacitance was obtained regardless of the presence or absence of the outermost layer.

【0115】これに対して、中間層を設けた場合(試料
No.62〜69)は静電容量が得られた。特に、最外
層を設けた場合(試料No.62〜66)、焼成による
水平方向の収縮率が小さく、静電容量および誘電正接と
いった電気的特性についても良好であった。
On the other hand, when the intermediate layer was provided (Sample Nos. 62 to 69), the capacitance was obtained. In particular, when the outermost layer was provided (Sample Nos. 62 to 66), the shrinkage in the horizontal direction due to firing was small, and the electrical characteristics such as capacitance and dielectric loss tangent were good.

【0116】[0116]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の受動部品
内蔵多層配線基板によれば、無機材料の焼結体を主体と
する絶縁体である少なくとも1層の基板層を含む多層配
線基板に、無機材料の焼結体を主体とする誘電体、磁性
体または抵抗体である機能層を含む受動部品が内蔵され
てなる受動部品内蔵多層配線基板であって、前記機能層
と前記基板層との間に、前記機能層と前記基板層とが接
触しないように、酸化マグネシウム、酸化亜鉛および酸
化カルシウムから選ばれる少なくとも1種の酸化物を含
む中間層が介在するため、基板層成分が機能層へ拡散す
ることを抑制することが可能な、良好な特性を有する受
動部品内蔵多層配線基板とすることができる。
As described above, according to the multilayer wiring board with a built-in passive component of the present invention, a multilayer wiring board including at least one substrate layer which is an insulator mainly composed of a sintered body of an inorganic material is provided. A passive component built-in multilayer wiring board including a passive component containing a functional layer that is a dielectric, a magnetic material, or a resistor mainly composed of a sintered body of an inorganic material, wherein the functional layer and the substrate layer are An intermediate layer containing at least one oxide selected from magnesium oxide, zinc oxide and calcium oxide is interposed between the functional layer and the substrate layer so that the functional layer does not contact the substrate layer. It is possible to provide a multilayer wiring board with built-in passive components having good characteristics and capable of suppressing diffusion to the substrate.

【0117】また、本発明の受動部品内蔵多層配線基板
の製造方法によれば、無機材料の焼結体を主体とする絶
縁体である少なくとも1層の基板層を含む多層配線基板
に、無機材料の焼結体を主体とする誘電体、磁性体また
は抵抗体である機能層を含む受動部品が内蔵された受動
部品内蔵多層配線基板の製造方法であって、前記基板層
の未焼結体および前記機能層の未焼結体を含む積層体を
形成する工程と、前記積層体を焼成する工程とを含み、
前記積層体を形成する工程において、前記基板層の未焼
結体と前記機能層の未焼結体との間に、前記機能層の未
焼結体と前記基板層の未焼結体とが接触しないように、
酸化マグネシウム、酸化亜鉛および酸化カルシウムから
選ばれる少なくとも1種の酸化物を含む中間層を介在さ
せるため、焼成時に基板層成分が機能層へ拡散すること
を抑制し、良好な特性を有する受動部品内蔵多層配線基
板を製造することができる。
Further, according to the method for manufacturing a multilayer wiring board with a built-in passive component of the present invention, a multilayer wiring board including at least one substrate layer, which is an insulator mainly composed of a sintered body of an inorganic material, is provided with an inorganic material. A method for manufacturing a passive component built-in multilayer wiring board having a built-in passive component including a functional layer that is a dielectric, a magnetic material or a resistor mainly composed of a sintered body, comprising: A step of forming a laminate including a green body of the functional layer, and a step of firing the laminate,
In the step of forming the laminate, between the green body of the substrate layer and the green body of the functional layer, the green body of the functional layer and the green body of the substrate layer are To avoid contact
Since an intermediate layer containing at least one oxide selected from magnesium oxide, zinc oxide and calcium oxide is interposed, the diffusion of the substrate layer component into the functional layer during firing is suppressed, and the passive component having good characteristics is built in. A multilayer wiring board can be manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明に係る受動部品内蔵基板の構造の一例
を示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating an example of the structure of a substrate with a built-in passive component according to the present invention.

【図2】 本発明に係る受動部品内蔵基板の構造の別の
一例を示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing another example of the structure of the substrate with built-in passive components according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1a、1b、1c、1d 基板層 2 誘電体層 3、3a、3b 中間層 4a、4b 電極層 5a、5b、5c、5d 配線層 6a、6b、6c、6d、6e、6f ビア 7a、7b 最外層 1a, 1b, 1c, 1d Substrate layer 2 Dielectric layer 3, 3a, 3b Intermediate layer 4a, 4b Electrode layer 5a, 5b, 5c, 5d Wiring layer 6a, 6b, 6c, 6d, 6e, 6f Via 7a, 7b Outer layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 加藤 純一 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 5E001 AB03 AC09 AE00 AE04 AF03 AH01 AH05 AH09 AJ01 AJ02 AZ00 AZ01 5E082 AB03 EE04 EE23 EE26 EE27 EE35 FG06 FG26 FG27 FG54 GG08 GG11 GG21 HH43 JJ15 JJ23 KK01 LL01 LL02 LL35 MM22 MM24 PP03 PP09 PP10 5E346 AA11 AA12 AA13 AA14 AA15 AA23 AA24 BB01 BB20 CC16 CC18 CC21 CC25 CC31 CC32 CC38 CC39 CC60 EE24 EE25 EE29 FF45 GG03 GG08 GG09 HH11  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Junichi Kato 1006 Kazuma Kadoma, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. F-term (reference) EE26 EE27 EE35 FG06 FG26 FG27 FG54 GG08 GG11 GG21 HH43 JJ15 JJ23 KK01 LL01 LL02 LL35 MM22 MM24 PP03 PP09 PP10 5E346 AA11 AA12 AA13 AA14 AA15 AA23 AA24 BB01 CC25 CC31 CC25 CC30 CC18

Claims (14)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 無機材料の焼結体を主体とする絶縁体で
ある少なくとも1層の基板層を含む多層配線基板に、無
機材料の焼結体を主体とする誘電体、磁性体または抵抗
体である機能層を含む受動部品が内蔵されてなる受動部
品内蔵多層配線基板であって、前記機能層と前記基板層
との間に、前記機能層と前記基板層とが接触しないよう
に、酸化マグネシウム、酸化亜鉛および酸化カルシウム
から選ばれる少なくとも1種の酸化物を含む中間層が介
在することを特徴とする受動部品内蔵多層配線基板。
A multilayer wiring board including at least one substrate layer which is an insulator mainly composed of a sintered body of an inorganic material, and a dielectric, a magnetic body or a resistor mainly composed of a sintered body of an inorganic material. A passive component built-in multilayer wiring board having a built-in passive component including a functional layer, wherein the oxidation is performed between the functional layer and the substrate layer so that the functional layer and the substrate layer do not come into contact with each other. A multilayer wiring board with a built-in passive component, wherein an intermediate layer containing at least one oxide selected from magnesium, zinc oxide and calcium oxide is interposed.
【請求項2】 前記中間層が、酸化マグネシウムおよび
酸化亜鉛を含む請求項1に記載の受動部品内蔵多層配線
基板。
2. The multilayer wiring board with a built-in passive component according to claim 1, wherein the intermediate layer contains magnesium oxide and zinc oxide.
【請求項3】 前記中間層が、酸化マグネシウム、酸化
亜鉛および酸化カルシウムから選ばれる少なくとも1種
の酸化物を、50〜95重量%含む請求項1または2に
記載の受動部品内蔵多層配線基板。
3. The multilayer wiring board with built-in passive components according to claim 1, wherein the intermediate layer contains 50 to 95% by weight of at least one oxide selected from magnesium oxide, zinc oxide and calcium oxide.
【請求項4】 前記中間層が、前記機能層を構成する無
機材料に対する焼結助剤を含む請求項1〜3のいずれか
に記載の受動部品内蔵多層配線基板。
4. The multilayer wiring board with a built-in passive component according to claim 1, wherein said intermediate layer contains a sintering aid for an inorganic material constituting said functional layer.
【請求項5】 前記中間層が、前記焼結助剤を5〜50
重量%含む請求項4に記載の受動部品内蔵多層配線基
板。
5. The method according to claim 5, wherein the intermediate layer comprises the sintering aid in an amount of from 5 to 50.
The multilayer wiring board with a built-in passive component according to claim 4, wherein the weight of the multilayer wiring board is included.
【請求項6】 前記中間層における前記焼結助剤の濃度
が、前記基板層側よりも前記機能層側で高い請求項4ま
たは5に記載の受動部品内蔵多層配線基板。
6. The multilayer wiring board with built-in passive components according to claim 4, wherein the concentration of the sintering aid in the intermediate layer is higher on the functional layer side than on the substrate layer side.
【請求項7】 前記機能層がPb系ペロブスカイト化合
物を主体とする層であり、前記焼結助剤が、酸化鉛、酸
化銅、酸化バナジウムおよび酸化ビスマスより選ばれる
少なくとも1種の酸化物である請求項4〜6のいずれか
に記載の受動部品内蔵多層配線基板。
7. The functional layer is a layer mainly composed of a Pb-based perovskite compound, and the sintering aid is at least one oxide selected from lead oxide, copper oxide, vanadium oxide and bismuth oxide. The multilayer wiring board with a built-in passive component according to claim 4.
【請求項8】 前記機能層がPb系ペロブスカイト化合
物を主体とする層であり、前記中間層が、酸化マグネシ
ウムおよび酸化亜鉛から選ばれる少なくとも1種の酸化
物を50〜95重量%と、酸化鉛および酸化銅から選ば
れる少なくとも1種の酸化物を5〜50重量%とを含
み、且つ、前記中間層における酸化鉛の含有率が40重
量%以下であり、酸化銅の含有率が30重量%以下であ
る請求項1〜7のいずれかに記載の受動部品内蔵多層配
線基板。
8. The functional layer is a layer mainly composed of a Pb-based perovskite compound, and the intermediate layer contains 50 to 95% by weight of at least one oxide selected from magnesium oxide and zinc oxide, and lead oxide. And at least one oxide selected from copper oxide and 5 to 50% by weight, and the content of lead oxide in the intermediate layer is 40% by weight or less, and the content of copper oxide is 30% by weight. The multilayer wiring board with a built-in passive component according to claim 1, wherein:
【請求項9】 前記機能層がNiZn系スピネルフェラ
イトまたはNiZnCu系スピネルフェライトを主体と
する層であり、前記焼結助剤が、酸化銅、酸化バナジウ
ムおよび酸化銀より選ばれる少なくとも1種の酸化物で
ある請求項4〜6のいずれかに記載の受動部品内蔵多層
配線基板。
9. The functional layer is a layer mainly composed of NiZn-based spinel ferrite or NiZnCu-based spinel ferrite, and the sintering aid is at least one oxide selected from copper oxide, vanadium oxide and silver oxide. The multilayer wiring board with a built-in passive component according to any one of claims 4 to 6.
【請求項10】 前記中間層が、酸化珪素、酸化アルミ
ニウムおよび酸化硼素から選ばれる少なくとも1種の酸
化物を含む請求項1〜9のいずれかに記載の受動部品内
蔵多層配線基板。
10. The multilayer wiring board with a built-in passive component according to claim 1, wherein said intermediate layer contains at least one oxide selected from silicon oxide, aluminum oxide and boron oxide.
【請求項11】 前記中間層が、酸化珪素、酸化アルミ
ニウムおよび酸化硼素から選ばれる少なくとも1種の酸
化物を、1〜50重量%含む請求項10に記載の受動部
品内蔵多層配線基板。
11. The multilayer wiring board with built-in passive components according to claim 10, wherein the intermediate layer contains 1 to 50% by weight of at least one oxide selected from silicon oxide, aluminum oxide and boron oxide.
【請求項12】 前記中間層の層厚が、5〜30μmで
ある請求項1〜11のいずれかに記載の受動部品内蔵多
層配線基板。
12. The multilayer wiring board with built-in passive components according to claim 1, wherein said intermediate layer has a thickness of 5 to 30 μm.
【請求項13】 無機材料の焼結体を主体とする絶縁体
である少なくとも1層の基板層を含む多層配線基板に、
無機材料の焼結体を主体とする誘電体、磁性体または抵
抗体である機能層を含む受動部品が内蔵された受動部品
内蔵多層配線基板の製造方法であって、前記基板層の未
焼結体および前記機能層の未焼結体を含む積層体を形成
する工程と、前記積層体を焼成する工程とを含み、前記
積層体を形成する工程において、前記基板層の未焼結体
と前記機能層の未焼結体との間に、前記機能層の未焼結
体と前記基板層の未焼結体とが接触しないように、酸化
マグネシウム、酸化亜鉛および酸化カルシウムから選ば
れる少なくとも1種の酸化物を含む中間層を介在させる
ことを特徴とする受動部品内蔵多層配線基板の製造方
法。
13. A multilayer wiring board including at least one substrate layer which is an insulator mainly composed of a sintered body of an inorganic material,
A method for manufacturing a passive component built-in multilayer wiring board in which a passive component including a functional layer which is a dielectric, a magnetic material or a resistor mainly composed of a sintered body of an inorganic material is incorporated, wherein the substrate layer is not sintered. Forming a laminate including a green body and a green body of the functional layer, and firing the laminate, wherein in the step of forming the laminate, the green body of the substrate layer and At least one selected from magnesium oxide, zinc oxide and calcium oxide such that the green body of the functional layer and the green body of the substrate layer do not come into contact with the green body of the functional layer. A method for producing a multilayer wiring board with a built-in passive component, characterized by interposing an intermediate layer containing an oxide.
【請求項14】 前記積層体を焼成する工程の前に、前
記積層体の少なくとも片面に、前記積層体を焼成する工
程を実施したときの収縮率が5%以下である最外層を積
層する工程を実施し、前記積層体を焼成する工程の後
に、前記最外層の少なくとも一部を除去する工程を実施
する請求項13に記載の受動部品内蔵多層配線基板の製
造方法。
14. A step of laminating an outermost layer having a shrinkage ratio of 5% or less when performing the step of firing the laminate on at least one surface of the laminate before the step of firing the laminate. The method for manufacturing a multilayer wiring board with a built-in passive component according to claim 13, wherein a step of removing at least a part of the outermost layer is performed after the step of firing the laminate.
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